JP6881954B2 - Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods - Google Patents

Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods Download PDF

Info

Publication number
JP6881954B2
JP6881954B2 JP2016223347A JP2016223347A JP6881954B2 JP 6881954 B2 JP6881954 B2 JP 6881954B2 JP 2016223347 A JP2016223347 A JP 2016223347A JP 2016223347 A JP2016223347 A JP 2016223347A JP 6881954 B2 JP6881954 B2 JP 6881954B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
base
optical device
chamber
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016223347A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018081201A (en
JP2018081201A5 (en
Inventor
裕紀 矢田
裕紀 矢田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2016223347A priority Critical patent/JP6881954B2/en
Publication of JP2018081201A publication Critical patent/JP2018081201A/en
Publication of JP2018081201A5 publication Critical patent/JP2018081201A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6881954B2 publication Critical patent/JP6881954B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置、及び物品製造方法に関する。 The present invention relates to an optical device, a projection optical system, an exposure device, and a method for manufacturing an article.

近年の半導体デバイスや液晶表示装置等における線幅の微細化に伴い、露光装置の高精細化が求められている。この高精細化を実現するため、露光装置内に可変鏡装置を搭載することが提案されている。可変鏡装置は、ミラー形状を変化させ収差補正を行う光学系であり、例えば天文分野において星を観察する際に大気のゆらぎによる像の分解能の低下を抑えるための技術として用いられている。可変鏡装置は、典型的には、可変鏡であるミラー、アクチュエータ、アクチュエータを保持するベース、変形量を検出するセンサ等を含み、ミラー裏面をアクチュエータで駆動することでミラー形状を変形させている。 With the recent miniaturization of line widths in semiconductor devices, liquid crystal display devices, and the like, there is a demand for higher definition exposure devices. In order to realize this high definition, it has been proposed to mount a variable mirror device in the exposure apparatus. The variable mirror device is an optical system that changes the mirror shape to correct aberrations, and is used as a technique for suppressing a decrease in image resolution due to atmospheric fluctuations when observing stars in the astronomical field, for example. The variable mirror device typically includes a mirror that is a variable mirror, an actuator, a base that holds the actuator, a sensor that detects the amount of deformation, and the like, and deforms the mirror shape by driving the back surface of the mirror with the actuator. ..

特許文献1には、可変鏡装置を露光装置に適用し、目標の形状からのずれ量を計測し、その計測値に基づいて制御部から複数のアクチュエータへそれぞれ指令を出してミラーを変形させることにより結像面を補正する構成が開示されている。可変鏡装置を搭載することで結像性能の向上が見込まれるが、ミラーの駆動時にはアクチュエータのコイルが発熱するため、その対処が必要になる。コイルで発生した熱はミラーやベースに伝わり、ミラーの温度およびその周辺の空気温度が上昇する。このような温度上昇への対策として、非特許文献1には、冷却プレートに結合した銅棒の端部にコイルを設けて、コイルの発熱を銅棒で回収する構成が開示されている。 In Patent Document 1, a variable mirror device is applied to an exposure device, the amount of deviation from a target shape is measured, and a command is issued from a control unit to a plurality of actuators based on the measured value to deform the mirror. Discloses a configuration for correcting the image plane. It is expected that the imaging performance will be improved by installing the variable mirror device, but since the coil of the actuator generates heat when the mirror is driven, it is necessary to deal with it. The heat generated by the coil is transferred to the mirror and base, and the temperature of the mirror and the air temperature around it rises. As a countermeasure against such a temperature rise, Non-Patent Document 1 discloses a configuration in which a coil is provided at the end of a copper rod coupled to a cooling plate and the heat generated by the coil is recovered by the copper rod.

また、露光装置の高精細化を実現するため、露光空間の温度管理を行う技術も存在する。露光装置では、露光処理が長時間に及ぶと、投影光学系内部の光学素子が露光光の一部を吸収し、吸収された光のエネルギーが熱に変換され、その光学素子や、該光学素子の保持部材、及びそれらを取り巻く気体の温度が次第に上昇する。光学経路上の気体の温度が上昇するとその空間の屈折率が変化し、結像性能に影響を及ぼす。 Further, in order to realize high definition of the exposure apparatus, there is also a technique for controlling the temperature of the exposure space. In an exposure apparatus, when the exposure process takes a long time, the optical element inside the projection optical system absorbs a part of the exposure light, and the energy of the absorbed light is converted into heat, and the optical element and the optical element are converted into heat. The temperature of the holding members and the gas surrounding them gradually rises. When the temperature of the gas on the optical path rises, the refractive index of the space changes, which affects the imaging performance.

この気体温度の影響を低減するために、投影光学系を収容するチャンバの内部空間に、温度制御された気体を循環させる技術が提案されている。例えば、特許文献2には、投影光学系内に構成された複数の光学要素の表面を空冷することで、露光エネルギーの吸収による熱的変化を軽減させる投影光学装置が開示されている。 In order to reduce the influence of the gas temperature, a technique for circulating a temperature-controlled gas in the internal space of the chamber accommodating the projection optical system has been proposed. For example, Patent Document 2 discloses a projection optical device that reduces thermal changes due to absorption of exposure energy by air-cooling the surfaces of a plurality of optical elements configured in the projection optical system.

特開2016−092309号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-09230 特開昭60−79358号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-79358

VLT Deformable Secondary Mirror: integration and electromechanical tests results, SPIE 8447, Adaptive Optics Systems III, 84472G (2012年9月13日)VLT Deformable Secondary Mirror: integration and electromechanical tests results, SPIE 8447, Adaptive Optics Systems III, 84472G (September 13, 2012)

可変鏡装置を温度制御された空間に対して搭載する際に、可変鏡装置で発生した熱による空間への悪影響を抑制する必要がある。一般に、可変鏡装置のアクチュエータにより発生した熱は、水冷等で回収されるが全てを取りきることはできず、残った熱は空間へと放出される。その熱が温度制御された空間へ流出し、その空間の屈折率が変化し、結像性能に影響を及ぼす可能性がある。 When mounting the variable mirror device in a temperature-controlled space, it is necessary to suppress the adverse effect on the space due to the heat generated by the variable mirror device. Generally, the heat generated by the actuator of the variable mirror device is recovered by water cooling or the like, but cannot be completely removed, and the remaining heat is released into the space. The heat may flow out into a temperature-controlled space, changing the refractive index of that space and affecting imaging performance.

本発明は、ミラーの反射面を変形させる際に発生する熱の回収性能の点で有利な技術を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an advantageous technique in terms of heat recovery performance generated when the reflecting surface of a mirror is deformed.

本発明の一側面によれば、光を反射する反射面および該反射面の反対側の裏面を有するミラーと、前記ミラーの前記裏面と対向する第1面と該第1面の反対側の第2面を有するベースと、前記裏面の一部を前記第1面の一部に固定する固定部材と、前記ミラーと前記ベースとの間に設けられ前記裏面に力を加えて前記反射面を変形させるアクチュエータと、前記ミラーおよび前記ベースを収容するチャンバであって、前記ミラーより前記反射面側の位置に形成された給気口と、前記ベースより前記第2面側の位置に形成された排気口とを備えるチャンバと、前記反射面側の気体と、前記裏面と前記第1面と前記固定部材とによって形成された空間内の気体とを、前記排気口へ誘引する誘引部とを有することを特徴とする光学装置が提供される。
According to one aspect of the present invention, a mirror having a reflecting surface that reflects light and a back surface on the opposite side of the reflecting surface, and a first surface of the mirror facing the back surface and a second surface on the opposite side of the first surface. A base having two surfaces, a fixing member for fixing a part of the back surface to a part of the first surface, and a reflecting surface provided between the mirror and the base and applying a force to the back surface to deform the reflecting surface. An actuator for accommodating the mirror and a chamber for accommodating the mirror, an air supply port formed at a position on the reflection surface side of the mirror, and an exhaust formed at a position on the second surface side of the base. It has a chamber provided with a port, an attraction portion that attracts the gas on the reflection surface side, and the gas in the space formed by the back surface, the first surface, and the fixing member to the exhaust port. An optical device characterized by the above is provided.

本発明によれば、ミラーの反射面を変形させる際に発生する熱の回収性能の点で有利な技術が提供される。 According to the present invention, there is provided an advantageous technique in terms of the ability to recover heat generated when the reflecting surface of the mirror is deformed.

実施形態に係る可変鏡装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the variable mirror apparatus which concerns on embodiment. 可変鏡装置を搭載した露光装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the exposure apparatus equipped with the variable mirror apparatus. 従来の可変鏡装置を搭載した露光装置の課題を説明する図。The figure explaining the problem of the exposure apparatus equipped with the conventional variable mirror apparatus. 実施形態に係るガイド部を有する可変鏡装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the variable mirror apparatus which has the guide part which concerns on embodiment. 実施形態2を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating Embodiment 2. FIG. 実施形態3を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating Embodiment 3. 実施形態に係るガイド部の具体的な構成例を示す図。The figure which shows the specific configuration example of the guide part which concerns on embodiment.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、以下の実施形態は本発明の実施の具体例を示すにすぎない。また、以下の実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の課題解決のために必須のものであるとは限らない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments merely show specific examples of the embodiment of the present invention. In addition, not all combinations of features described in the following embodiments are essential for solving the problems of the present invention.

<第1実施形態>
(光学装置)
図1は、本実施形態に係る可変鏡装置100の構成を示す図である。光学装置である可変鏡装置100は、ミラー101の反射面の形状を変化させることができるように構成されている。構成の概略は以下の通りである。
<First Embodiment>
(Optical device)
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a variable mirror device 100 according to the present embodiment. The variable mirror device 100, which is an optical device, is configured so that the shape of the reflecting surface of the mirror 101 can be changed. The outline of the configuration is as follows.

ミラー101は薄鏡であり、光を反射する反射面101aとその反対側の裏面101bを有する。ベース106は、ミラー101の裏面101bと対向する第1面106aとその反対側の第2面106bを有する。ミラー101の裏面101bの例えば中心を含む一部が、固定部材102によってベース106の第1面106aの例えば中心を含む一部に固定されている。ミラー101には、熱歪による形状誤差の発生を抑えるために、例えば低熱膨張光学ガラスが用いられうる。反射面101aには、使用する光の波長に適したコーティングが施されている。ベース106は、固定部材102を介してミラー101を支持するとともに、変位センサ108、およびアクチュエータ固定用のホルダ107を保持する。 The mirror 101 is a thin mirror and has a reflecting surface 101a that reflects light and a back surface 101b on the opposite side thereof. The base 106 has a first surface 106a facing the back surface 101b of the mirror 101 and a second surface 106b on the opposite side. A part of the back surface 101b of the mirror 101 including the center, for example, is fixed to a part of the first surface 106a of the base 106 including the center by the fixing member 102. For the mirror 101, for example, low thermal expansion optical glass may be used in order to suppress the occurrence of shape error due to thermal strain. The reflective surface 101a is coated with a coating suitable for the wavelength of light used. The base 106 supports the mirror 101 via the fixing member 102, and also holds the displacement sensor 108 and the holder 107 for fixing the actuator.

可変鏡装置100は、ミラー101とベース106との間に設けられミラー101の裏面101bに力を加えて反射面101aを変形させるアクチュエータ103を有する。アクチュエータ103は、例えば、磁石104とコイル105で構成されるボイスコイルモータ(VCM)である。例えば、磁石104は、ミラー101の裏面101bに配置され、コイル105は、磁石104と対向するように、ホルダ107に保持されることでベース106に固定される。アクチュエータ103は、ミラー101の全面にわたって複数配置されうるが、本発明は、特定のアクチュエータ103の数や配置の仕方に限定されるものではない。また、アクチュエータ103はボイスコイルモータ以外のアクチュエータであってもよい。 The variable mirror device 100 has an actuator 103 that is provided between the mirror 101 and the base 106 and deforms the reflecting surface 101a by applying a force to the back surface 101b of the mirror 101. The actuator 103 is, for example, a voice coil motor (VCM) composed of a magnet 104 and a coil 105. For example, the magnet 104 is arranged on the back surface 101b of the mirror 101, and the coil 105 is fixed to the base 106 by being held by the holder 107 so as to face the magnet 104. A plurality of actuators 103 may be arranged over the entire surface of the mirror 101, but the present invention is not limited to the number and arrangement of specific actuators 103. Further, the actuator 103 may be an actuator other than the voice coil motor.

ベース106の内部には水冷機構として流路109が形成されており、この流路10には不図示の温調装置から温度制御された冷媒が供給される。冷媒には水を使用してもよいし、その他の液体を使用してもよい。冷媒が流路109を循環することにより、アクチュエータ103で発した熱が伝熱棒110を介して冷却され、ミラー101への熱伝導が低減される。これによりベース106の温度が一定に保たれ、ミラー101の熱歪の影響を低減することができる。 A flow path 109 is formed inside the base 106 as a water cooling mechanism, and a temperature-controlled refrigerant is supplied to the flow path 10 from a temperature control device (not shown). Water may be used as the refrigerant, or other liquids may be used. As the refrigerant circulates in the flow path 109, the heat generated by the actuator 103 is cooled via the heat transfer rod 110, and the heat conduction to the mirror 101 is reduced. As a result, the temperature of the base 106 is kept constant, and the influence of the thermal strain of the mirror 101 can be reduced.

可変鏡装置100は、アクチュエータ103を制御するコントローラ120を含みうる。光学性能の誤差を補正するためのミラー101の目標形状のデータが、コントローラ120に入力される。演算部121は、入力されたデータに応じて、各アクチュエータに対する駆動指令値をドライバ122に送信する。ドライバ122は、受信した駆動指令値をそれぞれ対応するアクチュエータ103に送る。これに応じて各アクチュエータは、受信した駆動指令値に応じた力を発生する。これによりミラー101の表面形状が変形し、光学性能の誤差が補正されうる。 The variable mirror device 100 may include a controller 120 that controls the actuator 103. The data of the target shape of the mirror 101 for correcting the error of the optical performance is input to the controller 120. The calculation unit 121 transmits a drive command value for each actuator to the driver 122 according to the input data. The driver 122 sends the received drive command value to the corresponding actuator 103. In response to this, each actuator generates a force according to the received drive command value. As a result, the surface shape of the mirror 101 is deformed, and an error in optical performance can be corrected.

また、可変鏡装置100は、図2を参照して後述するように、ミラー101およびベース106を収容するチャンバを含みうる。
上記した可変鏡装置100は、露光装置や天体望遠鏡などに使用されることが想定される。以下では、可変鏡装置100を露光装置に使用する実施形態を説明する。
Further, the variable mirror device 100 may include a chamber that houses the mirror 101 and the base 106, as will be described later with reference to FIG.
The variable mirror device 100 described above is expected to be used in an exposure device, an astronomical telescope, and the like. Hereinafter, an embodiment in which the variable mirror device 100 is used as an exposure device will be described.

(露光装置)
図2は、上記の可変鏡装置100を搭載した露光装置200の構成を示す図である。露光装置200は、基板の上のレジストをマスク(原版)を介して露光することによって該レジストにマスクのパターンに対応する潜像を形成する装置である。露光方式としてはステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・リピート方式があるが、ここではステップ・アンド・スキャン方式を採用するものとする。ただし、本発明は、特定の露光方式に限定されるものではない。露光装置200は、照明光学系201と、位置合わせ用顕微鏡202と、パターンが形成されたマスクMを保持するマスクステージ203と、投影光学系204と、基板W(例えばガラスプレート)を保持する基板ステージ205とを備えうる。また、露光装置200は、露光処理を統括的に制御する制御装置230を含みうる。
(Exposure device)
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an exposure apparatus 200 equipped with the variable mirror apparatus 100. The exposure apparatus 200 is an apparatus that forms a latent image corresponding to the pattern of the mask on the resist by exposing the resist on the substrate through a mask (original plate). As the exposure method, there are a step-and-scan method and a step-and-repeat method, but here, the step-and-scan method is adopted. However, the present invention is not limited to a specific exposure method. The exposure apparatus 200 includes an illumination optical system 201, an alignment microscope 202, a mask stage 203 that holds a mask M on which a pattern is formed, a projection optical system 204, and a substrate that holds a substrate W (for example, a glass plate). It may be equipped with a stage 205. Further, the exposure apparatus 200 may include a control device 230 that controls the exposure process in an integrated manner.

照明光学系201は、光源を有し、マスクステージ203に保持されたマスクMに対して露光光を照射する。位置合わせ用顕微鏡202は、マスクMと基板Wとに形成された位置合わせ用のアライメントマークを観察する光学系である。露光装置200は、マスクMと基板Wとを同期させて走査露光を行うことで、マスクM上のパターンをレジストの塗布された基板W上に転写することができる。 The illumination optical system 201 has a light source and irradiates the mask M held on the mask stage 203 with exposure light. The alignment microscope 202 is an optical system for observing alignment marks formed on the mask M and the substrate W. The exposure apparatus 200 can transfer the pattern on the mask M onto the resist-coated substrate W by performing scanning exposure in synchronization with the mask M and the substrate W.

投影光学系204は、マスクMに形成されたパターンの像を、基板ステージ205に保持された基板Wに投影する光学系であり、上記した可変鏡装置100を含む。ここで、可変鏡装置100のミラー101は凹面ミラーを構成している。照明光学系201から出射し、マスクMを透過した露光光は、平面ミラー207により光路を折り曲げられ、凹面ミラーであるミラー101の反射面101aに入射する。ミラー101の反射面101aにおいて反射した露光光は、凸面ミラー208において反射し、再びミラー101の反射面101aに入射する。ミラー101の反射面101aにおいて反射した露光光は、平面ミラー207により光路を折り曲げられ、基板W上に結像する。ここで、露光装置200における制御装置230は、可変鏡装置100におけるアクチュエータ103を制御するためのコントローラ120を含むように構成されていてもよい。 The projection optical system 204 is an optical system that projects an image of a pattern formed on the mask M onto the substrate W held on the substrate stage 205, and includes the variable mirror device 100 described above. Here, the mirror 101 of the variable mirror device 100 constitutes a concave mirror. The exposure light emitted from the illumination optical system 201 and transmitted through the mask M has an optical path bent by the plane mirror 207 and is incident on the reflecting surface 101a of the mirror 101 which is a concave mirror. The exposure light reflected by the reflecting surface 101a of the mirror 101 is reflected by the convex mirror 208 and is incident on the reflecting surface 101a of the mirror 101 again. The exposure light reflected by the reflecting surface 101a of the mirror 101 is formed on the substrate W by bending the optical path by the plane mirror 207. Here, the control device 230 in the exposure device 200 may be configured to include a controller 120 for controlling the actuator 103 in the variable mirror device 100.

ミラー101の反射面101aを変形させることにより、投影光学系204の結像位置を変化させることが可能である。例えば、基板Wの凹凸に応じてアクチュエータ103を駆動し結像位置を変化させることで、基板Wの形状に関わらず高い結像性能を維持することができる。 By deforming the reflecting surface 101a of the mirror 101, it is possible to change the imaging position of the projection optical system 204. For example, by driving the actuator 103 according to the unevenness of the substrate W and changing the imaging position, high imaging performance can be maintained regardless of the shape of the substrate W.

上述したように、可変鏡装置100は、ミラー101およびベース106を収容するチャンバを含みうるが、本実施形態においては、このチャンバは、投影光学系204を収容するチャンバ210として実現される。チャンバ210の筐体における、ミラー101の反射面側かつミラー101の上下近くの位置には、給気口210aおよび排気口210bが形成されている。給気口210aおよび排気口210bにはそれぞれ、チャンバ210内の温度安定化のための給気機構211および排気機構212が接続されうる。空調機213で温調された気体(例えば空気)は、給気機構211により給気口210aを介してチャンバ210内に送り込まれ、排気機構212により排気口210bを介して排気される。露光時には露光光により各光学素子が発熱するが、この吸排気によってチャンバ210の内部空間が適切な温度に保たれうる。 As described above, the variable mirror device 100 may include a chamber accommodating the mirror 101 and the base 106, but in the present embodiment, this chamber is realized as a chamber 210 accommodating the projection optical system 204. An air supply port 210a and an exhaust port 210b are formed on the reflection surface side of the mirror 101 and near the top and bottom of the mirror 101 in the housing of the chamber 210. An air supply mechanism 211 and an exhaust mechanism 212 for stabilizing the temperature in the chamber 210 may be connected to the air supply port 210a and the exhaust port 210b, respectively. The gas (for example, air) temperature-controlled by the air conditioner 213 is sent into the chamber 210 by the air supply mechanism 211 via the air supply port 210a, and is exhausted through the exhaust port 210b by the exhaust mechanism 212. At the time of exposure, each optical element generates heat due to the exposure light, and the intake and exhaust can keep the internal space of the chamber 210 at an appropriate temperature.

図3(A)は、従来の露光装置における熱と気流の流れを例示する図である。可変鏡装置100の周囲空間には給気機構211により空調機213で温調された空気が給気口210aを介して供給され、排気機構212により排気口210bを介して排気される。図3(A)の従来例においては、給気口210aおよび排気口210bはともに、チャンバ210の筐体における、ミラー101の反射面側かつミラー101の上下付近の位置に形成されている。 FIG. 3A is a diagram illustrating the flow of heat and airflow in a conventional exposure apparatus. The air temperature-controlled by the air conditioner 213 by the air supply mechanism 211 is supplied to the surrounding space of the variable mirror device 100 through the air supply port 210a, and is exhausted by the exhaust mechanism 212 through the exhaust port 210b. In the conventional example of FIG. 3A, both the air supply port 210a and the exhaust port 210b are formed on the reflection surface side of the mirror 101 and near the top and bottom of the mirror 101 in the housing of the chamber 210.

露光時においては、ミラー101に露光光301が照射される。ミラー101には反射膜が形成されており露光光301の多くは反射されるが、残った僅かな露光光は吸収され熱に変わる。ミラー101の熱により温度が高められた空気302は、給気機構211により給気口210aを介して給気された空気の流れに乗って、排気機構212により排気口210bを介して排気される。 At the time of exposure, the mirror 101 is irradiated with the exposure light 301. A reflective film is formed on the mirror 101, and most of the exposure light 301 is reflected, but the remaining slight exposure light is absorbed and converted into heat. The air 302 whose temperature has been raised by the heat of the mirror 101 rides on the flow of air supplied through the air supply port 210a by the air supply mechanism 211, and is exhausted through the exhaust port 210b by the exhaust mechanism 212. ..

また、可変鏡装置100のベース106からは、水冷機構で取りきれなかったアクチュエータ103の熱が放出される。ベース106の熱により温度が高められた空気303は、排気機構212に向かい、露光光301を横切るように進み、排気口210bを介して排気される。このとき、露光光301は、ベース106の熱により温度が高められた空気303の影響を受け、屈折率が変化しうる。可変鏡装置100を搭載していない露光装置の場合には、凹面ミラーからの熱のみの影響であったが、可変鏡装置100を搭載することにより、ベース106の熱の影響も受けることになる。それにより、投影光学系204の結像位置が意図せず変化するため、安定した性能を維持することが困難になる。 Further, the heat of the actuator 103 that cannot be completely removed by the water cooling mechanism is released from the base 106 of the variable mirror device 100. The air 303 whose temperature has been raised by the heat of the base 106 travels toward the exhaust mechanism 212, crosses the exposure light 301, and is exhausted through the exhaust port 210b. At this time, the refractive index of the exposure light 301 may change due to the influence of the air 303 whose temperature has been raised by the heat of the base 106. In the case of an exposure apparatus not equipped with the variable mirror device 100, only the heat from the concave mirror was affected, but by mounting the variable mirror device 100, the heat of the base 106 is also affected. .. As a result, the imaging position of the projection optical system 204 changes unintentionally, which makes it difficult to maintain stable performance.

これに対し、図3(B)は、排気口210bを、チャンバ210の筐体における、ベース106の第2面106bと対向する位置(「ベース106の裏面側の位置」ともいう。)に形成し、そこに排気機構212を配置した従来例を示している。なお図3(B)においては、排気口210bと排気機構212が複数配置されている。排気機構212をベース106の裏面側の位置に設けることにより、ベース106の熱で温度が高められた空気303を効果的に排気することができる。 On the other hand, in FIG. 3B, the exhaust port 210b is formed at a position facing the second surface 106b of the base 106 (also referred to as “the position on the back surface side of the base 106”) in the housing of the chamber 210. However, a conventional example in which the exhaust mechanism 212 is arranged there is shown. In FIG. 3B, a plurality of exhaust ports 210b and exhaust mechanisms 212 are arranged. By providing the exhaust mechanism 212 at a position on the back surface side of the base 106, the air 303 whose temperature has been raised by the heat of the base 106 can be effectively exhausted.

その一方で、ミラー101の熱で温度が高められた空気302は、排気機構212からの距離が離れているため流速が遅くなり、露光光301付近の空間に帯留しがちになる。露光光301は、滞留している温度の高い空気302の影響を受け、屈折率が変化しうる。それにより、投影光学系204の結像位置が変化するため、依然として安定した性能を維持することが困難である。 On the other hand, the air 302 whose temperature has been raised by the heat of the mirror 101 tends to stay in the space near the exposure light 301 because the flow velocity becomes slow because the air 302 is far from the exhaust mechanism 212. The refractive index of the exposure light 301 can change due to the influence of the stagnant high-temperature air 302. As a result, the imaging position of the projection optical system 204 changes, so that it is still difficult to maintain stable performance.

これに対する本実施形態の構成例を図4に示す。図4において、チャンバ210の内部空間における、ミラー101の反射面側の空間を第1空間S1という。また、ミラー101の裏面101bとベース106の第1面106aとの間の空間を第2空間S2という。また、ベース106の第2面106bと該第2面106bと対向するチャンバ210の筐体との間の空間を第3空間S3という。本実施形態ではまず、図3(B)と同様に、チャンバ210の筐体におけるベース106の第2面106bと対向する位置に排気口210bが形成され、そこに排気機構212が設置される。さらに、第1空間S1と、第2空間S2とを、第3空間S3に連通させる流路401を設ける。 FIG. 4 shows a configuration example of the present embodiment with respect to this. In FIG. 4, the space on the reflection surface side of the mirror 101 in the internal space of the chamber 210 is referred to as the first space S1. The space between the back surface 101b of the mirror 101 and the first surface 106a of the base 106 is referred to as a second space S2. Further, the space between the second surface 106b of the base 106 and the housing of the chamber 210 facing the second surface 106b is referred to as a third space S3. In the present embodiment, first, as in FIG. 3B, an exhaust port 210b is formed at a position facing the second surface 106b of the base 106 in the housing of the chamber 210, and the exhaust mechanism 212 is installed there. Further, a flow path 401 for communicating the first space S1 and the second space S2 with the third space S3 is provided.

流路401は、後述するような流路形成部材によって形成される。流路形成部材は、ミラー101の外周部に沿う開口402を形成する。開口402の断面積は、流路401の他の部分の断面積に対して小さいものとする。一般に、露光装置内に存在する空気は非圧縮性流体と考えてよいため、断面積と流速は反比例の関係になる。そのため、開口402は、第1空間S1および第2空間S2の気体を誘引するオリフィスとして機能し、開口402で流速が一時的に増加する。それにより、ミラー101の熱で温度が高められた空気302は、開口402を介して流路401内に回収され排気口210bへと流れていく。これにより、ミラー101の熱で温度が高められた空気302が露光光301の光路付近で滞留することが防止される。よって、ミラー101の熱で温度が高められた空気302およびベース106の熱で温度が高められた空気303が露光光301が通過する空間に対して与える影響を小さくすることができる。こうして、露光装置の結像性能を安定的に維持することが可能になる。 The flow path 401 is formed by a flow path forming member as described later. The flow path forming member forms an opening 402 along the outer peripheral portion of the mirror 101. The cross-sectional area of the opening 402 shall be smaller than the cross-sectional area of other parts of the flow path 401. In general, the air existing in the exposure apparatus can be considered as an incompressible fluid, so that the cross-sectional area and the flow velocity are inversely proportional to each other. Therefore, the opening 402 functions as an orifice for attracting gas in the first space S1 and the second space S2, and the flow velocity temporarily increases at the opening 402. As a result, the air 302 whose temperature has been raised by the heat of the mirror 101 is collected in the flow path 401 through the opening 402 and flows to the exhaust port 210b. This prevents the air 302 whose temperature has been raised by the heat of the mirror 101 from staying in the vicinity of the optical path of the exposure light 301. Therefore, it is possible to reduce the influence of the air 302 whose temperature has been increased by the heat of the mirror 101 and the air 303 whose temperature has been increased by the heat of the base 106 on the space through which the exposure light 301 passes. In this way, it becomes possible to stably maintain the imaging performance of the exposure apparatus.

図4及び図7を参照して、流路401の具体的な構成例を説明する。図7は、可変鏡装置100周辺のミラー101の裏面側から見た斜視図である。流路401は、流路形成部材である隔壁401aおよびプレート401bによって形成される。隔壁401aは、チャンバ210内において、第1空間S1を反射面101aに入射する光の光路を横切る方向に仕切るように配置される。隔壁401aには、反射面101aに入射する光を通過させるための、ミラー101の径と同等もしくはそれより大きな開口部Kが形成されている。ここで、ミラー101と隔壁401aとの間には隙間が生じるよう、ミラー101は隔壁401aからベース106の裏面側に所定距離(例えば数100mm)離して設置される。プレート401bは、ベース106の第1面106aと第2面106bとをつなぐ側面106cに沿って、複数配置されている。複数のプレート401bは、例えば隔壁401aに結合される。オリフィスとして機能する開口402は、上記したミラー101と隔壁401aとの間の隙間を、複数のプレート401bで一部塞ぐことによって形成されうる。 A specific configuration example of the flow path 401 will be described with reference to FIGS. 4 and 7. FIG. 7 is a perspective view of the mirror 101 around the variable mirror device 100 as viewed from the back surface side. The flow path 401 is formed by a partition wall 401a and a plate 401b, which are flow path forming members. The partition wall 401a is arranged in the chamber 210 so as to partition the first space S1 in a direction crossing the optical path of the light incident on the reflection surface 101a. The partition wall 401a is formed with an opening K equal to or larger than the diameter of the mirror 101 for passing light incident on the reflecting surface 101a. Here, the mirror 101 is installed at a predetermined distance (for example, several hundred mm) from the partition wall 401a on the back surface side of the base 106 so that a gap is formed between the mirror 101 and the partition wall 401a. A plurality of plates 401b are arranged along the side surface 106c connecting the first surface 106a and the second surface 106b of the base 106. The plurality of plates 401b are coupled to, for example, the partition wall 401a. The opening 402 that functions as an orifice can be formed by partially closing the gap between the mirror 101 and the partition wall 401a described above with a plurality of plates 401b.

なお、本実施形態において、ベース106は、ベース106の側面106cに沿って延びる複数(例えば3個)の支持部材703によって支持されうる。ここで、複数の支持部材703は、それぞれ隔壁401aに結合されている。ただし、このような専用の支持部材のかわりに、複数のプレート401bを用いてベース106を支持する構成としてもよい。 In this embodiment, the base 106 can be supported by a plurality of (for example, three) support members 703 extending along the side surface 106c of the base 106. Here, the plurality of support members 703 are each coupled to the partition wall 401a. However, instead of such a dedicated support member, a plurality of plates 401b may be used to support the base 106.

給気口211から供給された空気は、開口402を通過し、排気機構212に回収される。上記したように、この空気は開口402を通過する際に流速が一時的に増加するため、ミラー101周辺の流速が増加し、熱を回収する効果が高まる。 The air supplied from the air supply port 211 passes through the opening 402 and is collected by the exhaust mechanism 212. As described above, since the flow velocity of this air temporarily increases as it passes through the opening 402, the flow velocity around the mirror 101 increases, and the effect of recovering heat is enhanced.

オリフィスとして機能する開口402は、例えば、第1空間内、すなわち、ミラー101の反射面101aの位置よりも光路側、に形成される。発明者は、シミュレーションにより、開口402を第1空間内に形成した場合の方が、第2空間側に設けた場合よりもミラー101周辺の排気効果が高いことを確認している。 The opening 402 that functions as an orifice is formed, for example, in the first space, that is, on the optical path side of the position of the reflection surface 101a of the mirror 101. The inventor has confirmed by simulation that the exhaust effect around the mirror 101 is higher when the opening 402 is formed in the first space than when it is provided on the second space side.

<第2実施形態>
第1実施形態では、隔壁401aとプレート401bとで形成した流路401により排気効率を促進するようにした。これに対し、第2実施形態では、コアンダ効果を利用して排気効率を促進させる。図5に示されるように、第1空間S1における流路401の入口には、隔壁401aのかわりに、圧縮気体を排気機構212側に噴出するノズル501が設けられる。圧縮気体は、不図示の圧縮気体供給装置から配管502を介して供給される。なお、本発明は、設置されるノズル501の特定の種類や個数に限定されるものではない。ノズル501から圧縮気体を排気機構212側に噴出することで、第1空間S1および第2空間S2の気体を誘引するコアンダ効果により、噴出した圧縮気体の流量の数倍の流量の気体を巻き込んで排気機構212へ送り込むことができる。
<Second Embodiment>
In the first embodiment, the exhaust efficiency is promoted by the flow path 401 formed by the partition wall 401a and the plate 401b. On the other hand, in the second embodiment, the exhaust efficiency is promoted by utilizing the Coanda effect. As shown in FIG. 5, at the inlet of the flow path 401 in the first space S1, instead of the partition wall 401a, a nozzle 501 for ejecting compressed gas to the exhaust mechanism 212 side is provided. The compressed gas is supplied from a compressed gas supply device (not shown) via a pipe 502. The present invention is not limited to the specific type and number of nozzles 501 to be installed. By ejecting the compressed gas from the nozzle 501 to the exhaust mechanism 212 side, the coanda effect that attracts the gas in the first space S1 and the second space S2 entrains the gas at a flow rate several times the flow rate of the ejected compressed gas. It can be sent to the exhaust mechanism 212.

<第3実施形態>
第1実施形態では、流路401を隔壁401aとプレート401bとで形成したが、このかわりに、図6に示されるように、ベース106の表裏を貫く貫通孔601を設けてもよい。この貫通孔601の断面積は、貫通孔601を通過する空気の流速が一時的に増加するような広さにされる。ここで、隔壁401aとプレート401bは、ベース106とチャンバ210との隙間を埋めるように設置される。給気機構211から供給された空気は、貫通孔601を通り、排気機構212に回収される。貫通孔601は断面積が小さく流速が速いため、ミラー101の熱により温度が高まった空気302も回収することができる。
<Third Embodiment>
In the first embodiment, the flow path 401 is formed by the partition wall 401a and the plate 401b, but instead, as shown in FIG. 6, a through hole 601 penetrating the front and back surfaces of the base 106 may be provided. The cross-sectional area of the through hole 601 is widened so that the flow velocity of the air passing through the through hole 601 temporarily increases. Here, the partition wall 401a and the plate 401b are installed so as to fill the gap between the base 106 and the chamber 210. The air supplied from the air supply mechanism 211 passes through the through hole 601 and is collected by the exhaust mechanism 212. Since the through hole 601 has a small cross-sectional area and a high flow velocity, the air 302 whose temperature has increased due to the heat of the mirror 101 can also be recovered.

<物品製造方法の実施形態>
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
<Embodiment of Article Manufacturing Method>
The article manufacturing method according to the embodiment of the present invention is suitable for manufacturing articles such as microdevices such as semiconductor devices and elements having a fine structure, for example. In the article manufacturing method of the present embodiment, a latent image pattern is formed on a photosensitive agent applied to a substrate by using the above-mentioned exposure apparatus (a step of exposing the substrate), and a latent image pattern is formed in such a step. Includes the process of developing the substrate. Further, such a manufacturing method includes other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, flattening, etching, resist peeling, dicing, bonding, packaging, etc.). The article manufacturing method of the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of the article as compared with the conventional method.

100:可変鏡装置、101:ミラー、102:固定部材、103:アクチュエータ、106:ベース 100: Variable mirror device, 101: Mirror, 102: Fixing member, 103: Actuator, 106: Base

Claims (14)

光を反射する反射面および該反射面の反対側の裏面を有するミラーと、
前記ミラーの前記裏面と対向する第1面と該第1面の反対側の第2面を有するベースと、
前記裏面の一部を前記第1面の一部に固定する固定部材と、
前記ミラーと前記ベースとの間に設けられ前記裏面に力を加えて前記反射面を変形させるアクチュエータと、
前記ミラーおよび前記ベースを収容するチャンバであって、前記ミラーより前記反射面側の位置に形成された給気口と、前記ベースより前記第2面側の位置に形成された排気口とを備えるチャンバと、
前記反射面側の気体と、前記裏面と前記第1面と前記固定部材とによって形成された空間内の気体とを、前記排気口へ誘引する誘引部材と、
を有することを特徴とする光学装置。
A mirror having a reflecting surface that reflects light and a back surface opposite the reflecting surface,
A base having a first surface facing the back surface of the mirror and a second surface opposite to the first surface,
A fixing member that fixes a part of the back surface to a part of the first surface,
An actuator provided between the mirror and the base and applying a force to the back surface to deform the reflecting surface.
A chamber that houses the mirror and the base, and includes an air supply port formed at a position on the reflection surface side of the mirror and an exhaust port formed at a position on the second surface side of the base. With the chamber
An attracting member that attracts the gas on the reflecting surface side and the gas in the space formed by the back surface, the first surface, and the fixing member to the exhaust port.
An optical device characterized by having.
前記排気口は、前記第2面と対向する前記チャンバの第1壁面に形成され、前記給気口は、前記第1壁面と直交する前記チャンバの第2壁面に形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。The exhaust port is formed on the first wall surface of the chamber facing the second surface, and the air supply port is formed on the second wall surface of the chamber orthogonal to the first wall surface. The optical device according to claim 1. 前記誘引部材は、オリフィスを形成していることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学装置。 The optical device according to claim 1 or 2, wherein the attracting member forms an orifice. 前記誘引部材は、
前記ミラーの前記反射面側に配置され、前記ミラーの前記反射面に入射する光の光路を横切る方向に仕切る隔壁であって前記ミラーの前記反射面に入射する光を通過させるための開口部が形成された隔壁と、
それぞれ前記ベースの側面に沿って配置される複数のプレートと、
を含み、
前記オリフィスは、前記ミラーと前記隔壁との間の隙間を、前記複数のプレートで一部塞ぐことによって形成されている
ことを特徴とする請求項3に記載の光学装置。
The attracting member is
A partition wall arranged on the reflecting surface side of the mirror and partitioning in a direction crossing an optical path of light incident on the reflecting surface of the mirror, and an opening for passing light incident on the reflecting surface of the mirror. With the formed partition wall
A plurality of plates, each arranged along the side surface of the base,
Including
The optical device according to claim 3, wherein the orifice is formed by partially closing a gap between the mirror and the partition wall with the plurality of plates.
それぞれ前記隔壁に結合され前記ベースの側面に沿って延び、前記ベースを支持する複数の支持部材を更に有することを特徴とする請求項4に記載の光学装置。 The optical device according to claim 4, wherein each of the optical devices is coupled to the partition wall, extends along the side surface of the base, and further has a plurality of support members for supporting the base. 前記誘引部材は
れぞれ前記ベースの側面に沿って配置される複数のプレートと、
前記ミラーの前記反射面側の気体に加えて、前記ミラーの前記裏面と前記第1面との間の気体を、前記排気口へと誘引するためのノズルと、
を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学装置。
The attractant member,
A plurality of plates which are disposed along their respective said base sides,
In addition to the gas on the reflection surface side of the mirror, a nozzle for attracting gas between the back surface and the first surface of the mirror to the exhaust port, and
The optical device according to claim 1 or 2, wherein the optical device comprises.
前記ミラーの前記反射面側の気体と、前記ミラーの前記裏面と前記第1面との間の気体は、コアンダ効果によって前記排気口へと誘引されることを特徴とする請求項6に記載の光学装置。 The sixth aspect of claim 6, wherein the gas on the reflection surface side of the mirror and the gas between the back surface and the first surface of the mirror are attracted to the exhaust port by the Coanda effect. Optical device. 前記ノズルは、前記チャンバと前記プレートとの間に配置されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の光学装置。 The optical device according to claim 6 or 7, wherein the nozzle is arranged between the chamber and the plate. 前記誘引部材は、それぞれ前記ベースの側面に沿って配置される複数のプレートであり、
前記ベースには前記第1面と前記第2面を貫く貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学装置。
The attracting member is a plurality of plates, each of which is arranged along the side surface of the base.
The optical device according to claim 1 or 2, wherein the base is provided with a through hole penetrating the first surface and the second surface.
光を反射する反射面および該反射面の反対側の裏面を有するミラーと、A mirror having a reflecting surface that reflects light and a back surface opposite the reflecting surface,
前記ミラーの前記裏面と対向する第1面と該第1面の反対側の第2面を有するベースと、A base having a first surface facing the back surface of the mirror and a second surface opposite to the first surface,
前記ミラーと前記ベースとの間に設けられ前記裏面に力を加えて前記反射面を変形させるアクチュエータと、An actuator provided between the mirror and the base and applying a force to the back surface to deform the reflecting surface.
前記ミラーおよび前記ベースを収容するチャンバであって、前記ミラーより前記反射面側の位置に形成された給気口と、前記ベースより前記第2面側の位置に形成された排気口とを備えるチャンバと、A chamber that houses the mirror and the base, and includes an air supply port formed at a position on the reflection surface side of the mirror and an exhaust port formed at a position on the second surface side of the base. With the chamber
前記ミラーの前記反射面側の気体を、前記排気口へ誘引する誘引部材と、An attracting member that attracts gas on the reflective surface side of the mirror to the exhaust port,
を有し、Have,
前記誘引部材は、The attracting member is
それぞれ前記ベースの側面に沿って配置される複数のプレートと、A plurality of plates, each arranged along the side surface of the base,
前記ミラーの前記反射面側の気体に加えて、前記ミラーの前記裏面と前記第1面との間の気体を、前記排気口へと誘引するためのノズルと、In addition to the gas on the reflection surface side of the mirror, a nozzle for attracting gas between the back surface and the first surface of the mirror to the exhaust port, and
を含むことを特徴とする光学装置。An optical device comprising.
光を反射する反射面および該反射面の反対側の裏面を有するミラーと、A mirror having a reflecting surface that reflects light and a back surface opposite the reflecting surface,
前記ミラーの前記裏面と対向する第1面と該第1面の反対側の第2面を有するベースと、A base having a first surface facing the back surface of the mirror and a second surface opposite to the first surface,
前記ミラーと前記ベースとの間に設けられ前記裏面に力を加えて前記反射面を変形させるアクチュエータと、An actuator provided between the mirror and the base and applying a force to the back surface to deform the reflecting surface.
前記ミラーおよび前記ベースを収容するチャンバであって、前記ミラーより前記反射面側の位置に形成された給気口と、前記ベースより前記第2面側の位置に形成された排気口とを備えるチャンバと、A chamber that houses the mirror and the base, and includes an air supply port formed at a position on the reflection surface side of the mirror and an exhaust port formed at a position on the second surface side of the base. With the chamber
前記ミラーの前記反射面側の気体を、前記排気口へ誘引する誘引部材と、An attracting member that attracts gas on the reflective surface side of the mirror to the exhaust port,
を有し、Have,
前記誘引部材は、それぞれ前記ベースの側面に沿って配置される複数のプレートであり、The attracting member is a plurality of plates, each of which is arranged along the side surface of the base.
前記ベースには前記第1面と前記第2面を貫く貫通孔が設けられている、The base is provided with through holes penetrating the first surface and the second surface.
ことを特徴とする光学装置。An optical device characterized by that.
マスク形成されたパターンの像を基板に投影する投影光学系であって、
請求項1乃至11のいずれか1項に記載の光学装置を含むことを特徴とする投影光学系。
An image of a pattern formed on a mask to a projection optical system for projecting the substrate,
A projection optical system comprising the optical device according to any one of claims 1 to 11.
基板を露光する露光装置であって、
請求項1に記載の投影光学系を含むことを特徴とする露光装置。
An exposure device that exposes a substrate
Exposure apparatus comprising a projection optical system according to claim 1 2.
請求項1に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
A step of exposing a substrate using an exposure apparatus according to claim 1 3,
Including a step of developing the substrate exposed in the step.
A method for producing an article, which comprises producing an article from the developed substrate.
JP2016223347A 2016-11-16 2016-11-16 Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods Active JP6881954B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223347A JP6881954B2 (en) 2016-11-16 2016-11-16 Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223347A JP6881954B2 (en) 2016-11-16 2016-11-16 Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018081201A JP2018081201A (en) 2018-05-24
JP2018081201A5 JP2018081201A5 (en) 2019-12-12
JP6881954B2 true JP6881954B2 (en) 2021-06-02

Family

ID=62198886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016223347A Active JP6881954B2 (en) 2016-11-16 2016-11-16 Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6881954B2 (en)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103299249B (en) * 2007-10-09 2015-08-26 卡尔蔡司Smt有限责任公司 For the device of the temperature of control both optical element
JP5287204B2 (en) * 2008-12-12 2013-09-11 株式会社ニコン Light source apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2015050353A (en) * 2013-09-02 2015-03-16 キヤノン株式会社 Optical device, projection optical system, exposure device, and manufacturing method of article
JP2016161923A (en) * 2015-03-05 2016-09-05 キヤノン株式会社 Exposure device, and method for manufacturing article

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018081201A (en) 2018-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4526516B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing clean air movement to reduce contamination
US20100033704A1 (en) Deformable mirror, mirror apparatus, and exposure apparatus
TWI305608B (en) Lithographic apparatus and method of manufacturing a device involving fine structures
JPWO2009125511A1 (en) Spatial light modulation unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR102393140B1 (en) Exposure apparatus and method of manufacturing article
JP2015050353A (en) Optical device, projection optical system, exposure device, and manufacturing method of article
US20140176931A1 (en) Intermittent temperature control of movable optical elements
JP2016161923A (en) Exposure device, and method for manufacturing article
JP2008085328A (en) Liquid immersion objective optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, and border optical element
TWI631430B (en) Optical device, projection optical system, exposure device, and article manufacturing method
JP6881954B2 (en) Optical equipment, projection optics, exposure equipment, and article manufacturing methods
JP6463087B2 (en) Exposure apparatus and article manufacturing method
JPWO2009078224A1 (en) Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2008292761A (en) Exposure apparatus and method for manufacturing device
JP5428375B2 (en) Holding apparatus, optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
TW201400994A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2006287158A (en) Gas supplying apparatus, exposure apparatus and method of manufacturing device
JP2012033921A (en) Exposure apparatus, and method for manufacturing device
JP2009170793A (en) Temperature regulator, optical system, lithographic exposure apparatus, and method of manufacturing device
JP6866131B2 (en) Optical equipment, exposure equipment equipped with it, and manufacturing method of goods
JP6742717B2 (en) Optical device, exposure apparatus including the same, and article manufacturing method
JP2005136004A (en) Aligner and manufacturing method for device
JP2012033922A (en) Exposure apparatus, and method for manufacturing device
JP2004309688A (en) Optical element holding/cooling unit and exposing device
WO2024038537A1 (en) Light source unit, illumination unit, exposure device, and exposure method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191029

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191029

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201009

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201201

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20210103

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210113

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210405

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210506

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6881954

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151