JP6873654B2 - A semiconductor light emitting device including a curable polysiloxane composition, a sealing material for a semiconductor light emitting device containing the curable polysiloxane composition, and a cured product of the sealing material. - Google Patents

A semiconductor light emitting device including a curable polysiloxane composition, a sealing material for a semiconductor light emitting device containing the curable polysiloxane composition, and a cured product of the sealing material. Download PDF

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Description

本発明は、新規な硬化性ポリシロキサン組成物、それを用いた半導体発光装置用封止材及び、該封止材の硬化物を備えた半導体発光装置に関する。詳しくは、耐熱性、耐光性、耐水熱性、耐UV性、特に耐クラック性に優れ、さらに発泡性の低い脱水素縮合型の硬化性ポリシロキサン組成物に関する。 The present invention relates to a novel curable polysiloxane composition, a sealing material for a semiconductor light emitting device using the same, and a semiconductor light emitting device provided with a cured product of the sealing material. More specifically, the present invention relates to a dehydrogenation condensation type curable polysiloxane composition having excellent heat resistance, light resistance, water heat resistance, UV resistance, particularly crack resistance, and low foaming property.

半導体発光デバイス、特に発光ダイオード(light emitting diode:以下適宜「LED」と略する。)や半導体レーザー等の半導体発光デバイスにおいては、半導体発光素子を透明の樹脂等の部材(半導体発光デバイス用部材)によって封止したものが一般的である。
この半導体発光デバイス用部材としては、例えばエポキシ樹脂が用いられている。また、このエポキシ樹脂等の中に蛍光体などの顔料を含有させることによって、半導体発光素子からの発光波長を変換するものなどが知られている。
In semiconductor light emitting devices, particularly light emitting diodes (hereinafter, appropriately abbreviated as "LED") and semiconductor light emitting devices such as semiconductor lasers, the semiconductor light emitting element is a member such as a transparent resin (member for semiconductor light emitting device). It is generally sealed with a diode.
For example, an epoxy resin is used as the member for the semiconductor light emitting device. Further, there are known ones that convert the emission wavelength from a semiconductor light emitting element by containing a pigment such as a phosphor in the epoxy resin or the like.

しかし、エポキシ樹脂は吸湿性が高いので、半導体発光デバイスを長時間使用した際に生ずる半導体発光素子からの熱によってクラックが生じたり、また水分の浸入により蛍光体や発光素子が劣化したりする課題があった。
また近年、LEDの発光波長の短波長化に伴いエポキシ樹脂が劣化して着色するために、長時間の点灯及び高出力での使用においては半導体発光デバイスの輝度が著しく低下するという課題もあった。
However, since epoxy resin has high hygroscopicity, there is a problem that cracks occur due to heat from the semiconductor light emitting element generated when the semiconductor light emitting device is used for a long time, and the phosphor and the light emitting element deteriorate due to the infiltration of moisture. was there.
Further, in recent years, since the epoxy resin deteriorates and is colored as the emission wavelength of the LED is shortened, there is also a problem that the brightness of the semiconductor light emitting device is remarkably lowered in long-time lighting and use at high output. ..

これらの課題に対して、エポキシ樹脂の代替品として耐熱性、紫外耐光性に優れるシリコーン樹脂が使用されるようになった。即ち、耐熱性、紫外耐光性に優れた材料として、シリコーン樹脂(ポリシロキサン組成物)を用いた半導体発光デバイスが提案されている。シリコーン樹脂は、硬化のメカニズムにより分類すると、付加重合硬化タイプ、縮重合硬化タイプ、紫外線硬化タイプ、パーオキサイド架硫タイプなどのポリオルガノシロキサンを挙げることができ、半導体発光デバイス用部材、特にLED素子封止用としては、アルケニル基含有ポリオルガノシロキサンとポリオルガノハイドロジェンシロキサンとを白金系触媒の存在下、ヒドロシリル化反応により硬化させる付加硬化タイプと、シラノール基含有ポリオルガノシロキサンのシラノール基間の縮合反応により硬化させる脱水縮合硬化タイプがよく知られている。 In response to these problems, silicone resins having excellent heat resistance and ultraviolet light resistance have come to be used as alternatives to epoxy resins. That is, as a material having excellent heat resistance and ultraviolet light resistance, a semiconductor light emitting device using a silicone resin (polysiloxane composition) has been proposed. The silicone resin can be classified according to the curing mechanism, and examples thereof include polyorganosiloxanes such as addition polymerization curing type, polycondensation curing type, ultraviolet curing type, and peroxide sulfide type, and members for semiconductor light emitting devices, particularly LED elements. For sealing, an addition curing type in which an alkenyl group-containing polyorganosiloxane and a polyorganohydrogensiloxane are cured by a hydrosilylation reaction in the presence of a platinum-based catalyst, and a condensation between the silanol groups of the silanol group-containing polyorganosiloxane. A dehydration condensation curing type that cures by reaction is well known.

一方、シラノール基含有ポリオルガノシロキサンと、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンと、を脱水素反応を促進する触媒で硬化させる脱水素縮合タイプのポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサン発泡材として、例えば、特許文献1に開示されている。脱水素縮合型のポリオルガノシロキサンは、架橋時にアルキレン鎖が導入されないので耐熱性、耐光性に優れ、また残存シラノール基により接着性の点でも優れているが、LED素子封止用途への適用は難しかった。 On the other hand, a dehydrogenation condensation type polyorganosiloxane in which a silanol group-containing polyorganosiloxane and a polyorganohydrogensiloxane are cured with a catalyst that promotes a dehydrogenation reaction is a polyorganosiloxane foaming material, for example, Patent Document 1. It is disclosed in. The dehydrogenation condensation type polyorganosiloxane is excellent in heat resistance and light resistance because an alkylene chain is not introduced at the time of cross-linking, and is also excellent in adhesiveness due to the residual silanol group. was difficult.

特許文献2のポリシロキサン組成物はLED素子封用樹脂組成物として使用されうるゲル状物質であるが、ゲル状のものはLED点灯時にその性状が安定せず、発光素子を保護するという目的を封止用硬化性樹脂組成物が担うべきであることを鑑みれば好適とは言えない。さらに、内在的に脱水素型の反応で硬化する系であることから、副生する水素ガスの影響によって発泡を生じてしまうという決定的な問題があった。 The polysiloxane composition of Patent Document 2 is a gel-like substance that can be used as a resin composition for sealing an LED element, but the gel-like substance is not stable in its properties when the LED is lit, and has the purpose of protecting the light emitting element. It cannot be said that it is suitable in view of the fact that the curable resin composition for sealing should bear the burden. Further, since the system is internally cured by a dehydrogenation type reaction, there is a decisive problem that foaming occurs due to the influence of hydrogen gas produced as a by-product.

また特許文献3には、2−エチルヘキサン酸の希土類塩を添加したシリコーンゴム組成物を使用し、アルケニル基とヒドロシリル基の反応を利用した付加型のシリコーン樹脂組成物を用いたシリコーンゴム組成物に関する発明が記載されている。 Further, in Patent Document 3, a silicone rubber composition to which a rare earth salt of 2-ethylhexanoic acid is added is used, and a silicone rubber composition using an addition type silicone resin composition utilizing the reaction of an alkenyl group and a hydrosilyl group is used. The invention is described.

特開2002−188009号公報JP-A-2002-18809 特許第3277749号Patent No. 32777949 特許第5422755号Patent No. 5422755

近年、半導体発光デバイスの使用環境は拡大し、要求性能は高くなる一方である。封止材に関しても、耐熱性、硬度、特性の経時変化が小さくなること、耐クラック性などの要求特性は高くなる一方であり、より優れたものが求められている。本発明は、このような高い要求に耐え得る封止材として使用し得る硬化性ポリシロキサン組成物を提供することを課題とする。 In recent years, the usage environment of semiconductor light emitting devices has expanded, and the required performance has been increasing. As for the sealing material, the required characteristics such as heat resistance, hardness, and changes in characteristics with time are becoming smaller, and crack resistance is becoming higher, and more excellent ones are required. An object of the present invention is to provide a curable polysiloxane composition that can be used as a sealing material that can withstand such high demands.

そこで本発明者らは鋭意検討の結果、脱水素縮合型のシリコーン樹脂に、白金族金属触媒と、有機カルボン酸金属塩及びセリウム化合物からなる群から選択される1種以上の化合物と、を併用することにより、発泡の問題をおさえつつ耐クラック性能等を大きく向上させることができることを見出し、本発明に到達した。 Therefore, as a result of diligent studies, the present inventors have used a platinum group metal catalyst and one or more compounds selected from the group consisting of an organic carboxylic acid metal salt and a cerium compound in combination with a dehydrogenation condensation type silicone resin. By doing so, it has been found that the crack resistance and the like can be greatly improved while suppressing the problem of foaming, and the present invention has been reached.

すなわち本発明の要旨は、以下に存する。
(1)(A)シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物、(B)ヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物、(C)白金族金属触媒、並びに、(D)有機カルボン酸金属塩、及びセリウム化合物からなる群から選択される1種以上の化合物、を含有し、前記(B)の化合物の有するヒドロシリル基の合計と、前記(A)の化合物の有するシラノール基の合計と、のモル比SiH/SiOHが1〜20であり、前記(D)の化合物における金属の含有量が、(A)の化合物と(B)の化合物の合計重量に対し1ppm以上であることを特徴とする硬化性ポリシロキサン組成物。
That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) (A) a siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule, (B) a siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups in one molecule, (C) a platinum group metal catalyst, and ( D) It contains an organic carboxylic acid metal salt and one or more compounds selected from the group consisting of a cerium compound, and has the total number of hydrosilyl groups of the compound of (B) and the compound of (A). The total molar ratio of silanol groups to SiH / SiOH is 1 to 20, and the metal content in the compound (D) is 1 ppm or more with respect to the total weight of the compound (A) and the compound (B). A curable polysiloxane composition.

より好ましくは、
(2)更に(E)反応抑制剤を含有することを特徴とする(1)に記載の硬化性ポリシロキサン組成物;
(3) 前記(D)の化合物が、2−エチルヘキサン酸もしくはオクチル酸の金属塩を含むことを特徴とする(1)又は(2)に記載の硬化性ポリシロキサン組成物;
(4)前記(D)の化合物が、2-エチルヘキサン酸セリウムを含むことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の硬化性ポリシロキサン組成物;
(5)温度20℃での屈折率が、1.46以下である(1)〜(4)のいずれかに記載の硬化性ポリシロキサン組成物;
(6)前記(D)の化合物が有機カルボン酸金属塩を含み、該有機カルボン酸金属塩と有機カルボン酸とを組成物中で共存させることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の硬化性ポリシロキサン組成物;
(7)(1)〜(6)のいずれかに記載の硬化性ポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする半導体発光装置用封止材;
(8)(7)に記載の封止材の硬化物を備えた半導体発光装置;である。
More preferably
(2) The curable polysiloxane composition according to (1), which further contains (E) a reaction inhibitor;
(3) The curable polysiloxane composition according to (1) or (2), wherein the compound (D) contains a metal salt of 2-ethylhexanoic acid or octyl acid;
(4) The curable polysiloxane composition according to any one of (1) to (3), wherein the compound (D) contains cerium 2-ethylhexanoate;
(5) The curable polysiloxane composition according to any one of (1) to (4), wherein the refractive index at a temperature of 20 ° C. is 1.46 or less;
(6) Any of (1) to (5), wherein the compound (D) contains an organic carboxylic acid metal salt, and the organic carboxylic acid metal salt and the organic carboxylic acid coexist in the composition. The curable polysiloxane composition described in the above;
(7) A sealing material for a semiconductor light emitting device, which comprises the curable polysiloxane composition according to any one of (1) to (6);
(8) A semiconductor light emitting device provided with a cured product of the sealing material according to (7).

本発明により、耐熱性、耐光性、耐水熱性、耐UV性、特に耐クラック性に優れ、さらに発泡が抑制された脱水素縮合型の硬化性ポリシロキサン組成物を得ることが出来る。
また、本発明の硬化性ポリシロキサン組成物の硬化物は、光線透過性(透明性)、耐光性、耐熱性、耐クラック性等が高く、発泡が抑制されているため、種々の光学部材に好適に用いることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a dehydrogenation condensation type curable polysiloxane composition which is excellent in heat resistance, light resistance, water heat resistance, UV resistance, particularly crack resistance, and further suppresses foaming.
Further, the cured product of the curable polysiloxane composition of the present invention has high light transmittance (transparency), light resistance, heat resistance, crack resistance, etc., and foaming is suppressed, so that it can be used for various optical members. It can be preferably used.

半導体発光装置の一実施形態を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows one Embodiment of the semiconductor light emitting device.

以下、本発明を実施形態に即して詳細に説明する。ただし、本発明は本明細書に明示的又は黙示的に記載された実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail according to an embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiments described expressly or implicitly herein.

<1.(A)シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物>
本実施形態においては、(A)成分として、シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物を用いる。
シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物とは、ヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物と脱水素縮合反応により組成物を硬化させる主剤として作用するものであり、1分子中に少なくとも2個以上のシラノール基を有する直鎖状、分岐状、3次元ネット状のオルガノポリシロキサンである。
<1. (A) A siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule>
In the present embodiment, as the component (A), a siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule is used.
A siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule acts as a main agent for curing the composition by a dehydrogenation condensation reaction with a siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups in one molecule. It is a linear, branched, three-dimensional net-like organopolysiloxane having at least two or more silanol groups in one molecule.

3次元ネット状のオルガノポリシロキサンにはM単位ケイ素とQ単位ケイ素からなるMQレジンやD単位ケイ素とT単位ケイ素からなるDTレジン等も含まれる。このシロキサン化合物の置換基としては後述のオルガノハイドロジェンポリシロキサンと同様の置換基を用いることが出来るが、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さないものが良い。中でも一般式(1)で表される化合物を好ましく用いることが出来る。 The three-dimensional net-shaped organopolysiloxane also includes an MQ resin composed of M unit silicon and Q unit silicon, a DT resin composed of D unit silicon and T unit silicon, and the like. As the substituent of this siloxane compound, the same substituents as those of the organohydrogenpolysiloxane described later can be used, but those having no aliphatic unsaturated bond are preferable. Among them, the compound represented by the general formula (1) can be preferably used.

Figure 0006873654
Figure 0006873654

一般式(1)中、Rは、互いに同一でも異なっていてもよい、非置換または置換の一価の炭化水素基及び水酸基からなる群から選択される。一価の炭化水素として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、デシルのようなアルキル基、ビニル、アリルのようなアルケニル基、フェニルのようなアリール基、2−フェニルエチルのようなアラルキル基などが挙げられる。さらに、これらの炭化水素基中の水素原子の一部が他の原子又は置換基で置換されたもの、すなわち、クロロメチルのようなハロゲン化アルキル基、クロロフェニルのようなハロゲン化アリール基、3−メトキシプロピルのようなアルコキシアルキル基、3−シアノプロピルのようなシアノアルキル基などの置換炭化水素基が挙げられる。これらの中でも、好ましいものとしては、フェニル基、メチル基等が挙げられる。上記式中Rのうちの6
5%程度以上がメチル基であることが好ましく、上記式中Rのうちの80%以上がメチル基であることがより好ましい。特に耐UV性が要求される場合には、水酸基を除く全有機基中99%以上がメチル基であることがより好ましい。
In the general formula (1), R is selected from the group consisting of unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon groups and hydroxyl groups, which may be the same or different from each other. Monovalent hydrocarbons include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, cyclohexyl, octyl, nonyl, decyl, alkenyl groups such as vinyl and allyl, and aryls such as phenyl. Groups, aralkyl groups such as 2-phenylethyl and the like can be mentioned. Furthermore, some of the hydrogen atoms in these hydrocarbon groups are substituted with other atoms or substituents, namely alkyl halides such as chloromethyl, aryl halides such as chlorophenyl, 3-. Examples thereof include a substituted hydrocarbon group such as an alkoxyalkyl group such as methoxypropyl and a cyanoalkyl group such as 3-cyanopropyl. Among these, preferred ones include a phenyl group, a methyl group and the like. 6 of R in the above formula
About 5% or more is preferably a methyl group, and more preferably 80% or more of R in the above formula is a methyl group. In particular, when UV resistance is required, it is more preferable that 99% or more of all organic groups excluding hydroxyl groups are methyl groups.

具体的には、ヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサンなどが挙げられ、これらシラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物は市販のものを使用することができる。例えば、Momentive Performance Materials社製ヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサンC96−723、XF3905、YF3057、YF3800、YF3802、YF3807、YF3897などが挙げられる。 Specific examples thereof include hydroxy-terminal polydimethylsiloxane, and commercially available siloxane compounds containing two or more of these silanol groups in one molecule can be used. For example, hydroxy-terminal polydimethylsiloxane C96-723, XF3905, YF3057, YF3800, YF3802, YF3807, YF3897, etc. manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd. can be mentioned.

前記シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常500以上、好ましくは1000以上、さらに好ましくは5000以上、また、通常150000以下、好ましくは100000以下、さらに好ましくは80000以下である。この範囲を下回ると、硬化物が固く脆くなる可能性がある。また、この範囲を上回ると組成物が硬化しづらくなる可能性がある。 The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule is usually 500 or more, preferably 1000 or more, more preferably 5000 or more, and usually 150,000 or less, preferably 100,000 or less. More preferably, it is 80,000 or less. Below this range, the cured product may become hard and brittle. Further, if it exceeds this range, the composition may be difficult to cure.

前記シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
また(A)成分と(B)成分の合計重量に対する(A)成分の重量比の上限は、通常99%、好ましくは97%、より好ましくは95%であり、下限は通常20%、好ましくは40%、より好ましくは、60%である。(A)成分の(A)成分と(B)成分の合計重量に対する重量比が大きすぎると、組成物の硬化が遅くなったり、硬化物の硬度が低く機械強度が小さくなるおそれがあり、(A)成分の(A)成分と(B)成分の合計重量に対する重量比が小さすぎると、硬化物が脆くなる傾向にある。
As the siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule, one type may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.
The upper limit of the weight ratio of the component (A) to the total weight of the component (A) and the component (B) is usually 99%, preferably 97%, more preferably 95%, and the lower limit is usually 20%, preferably. It is 40%, more preferably 60%. If the weight ratio of the component (A) to the total weight of the component (A) and the component (B) is too large, the curing of the composition may be slowed down, or the hardness of the cured product may be low and the mechanical strength may be reduced. If the weight ratio of the component (A) to the total weight of the component (A) and the component (B) is too small, the cured product tends to be brittle.

<2.(B)ヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物>
本実施形態において(B)成分として使用されるヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物とは、1分子中に少なくとも2個、好ましくは3個以上のSiH結合を有するオルガノハイドロジェンシラン又は直鎖状、分岐状、3次元ネット状のオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。なかでもオルガノハイドロジェンポリシロキサンが硬化時に揮発しにくく好ましい。このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの置換基としては後述の基を用いることが出来るが、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さないものが良い。
<2. (B) A siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups in one molecule>
The siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups used as the component (B) in the present embodiment is an organohydrogen having at least two, preferably three or more SiH bonds in one molecule. Silane or linear, branched, three-dimensional net-like organohydrogenpolysiloxane. Of these, organohydrogenpolysiloxane is preferable because it does not easily volatilize during curing. As the substituent of this organohydrogenpolysiloxane, a group described later can be used, but one having no aliphatic unsaturated bond is preferable.

前記オルガノハイドロジェンポリシロキサンにおいて、ケイ素原子に結合した置換又は非置換の一価炭化水素基としては、通常、炭素数1〜12、好ましくは1〜8程度のものが挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基やシアノエチル基等が挙げられる。また、3wt%以内の炭素数1〜3のアルコキシ基が含まれていてもよい。 In the organohydrogenpolysiloxane, examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group bonded to the silicon atom usually include those having 1 to 12 carbon atoms, preferably about 1 to 8 carbon atoms, and specifically, those having about 1 to 8 carbon atoms can be mentioned. Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and other alkyl groups and phenyl groups. , Aryl group such as tolyl group, xsilyl group, naphthyl group, aralkyl group such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl Alkenyl groups such as groups and octenyl groups, and those in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are replaced with halogen atoms such as fluorine, bromine and chlorine, cyano groups and the like, for example, chloromethyl group, chloropropyl group and bromoethyl. Examples thereof include a halogen-substituted alkyl group such as a group and a trifluoropropyl group and a cyanoethyl group. Further, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms within 3 wt% may be contained.

上記オルガノハイドロジェンシラン及びオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、(CH)SiH、(CHSiH、(C)SiH、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン
、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位と(C)SiO3/2単位とからなる共重合体などが挙げられる。
中でも前記一般式(2)で表される化合物を好ましく用いることが出来る。
Examples of the organohydrogensilane and organohydrogenpolysiloxane include (CH 3 ) SiH 3 , (CH 3 ) 2 SiH 2 , (C 6 H 5 ) SiH 3 , 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane. , 1,3,5,7-Tetramethylcyclotetrasiloxane, both-terminal trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, both-terminal trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, both-terminal dimethylhydrogensiloxy Base-blocking dimethylpolysiloxane, both-terminal dimethylhydrogensiloxy group-blocking dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, both-terminal trimethylsiloxy group-blocking methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane copolymer, both-terminal trimethylsiloxy group-blocking methylhydro Gensiloxane / diphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 unit and SiO 4/2 unit copolymer, (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 unit and SiO 4/2 Examples thereof include a copolymer composed of a unit and (C 6 H 5 ) SiO 3/2 unit.
Above all, the compound represented by the general formula (2) can be preferably used.

Figure 0006873654
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一般式(2)中、R〜RおよびR〜Rは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、およびR101112Siから選ばれる基を示す。R、R〜R12は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、およびアリール基から選ばれる基を示す。lは、2以上の整数を示す。mは、0以上の整数を示す。
〜R12のうち、少なくとも80mol%以上、好ましくは95mol%以上、さらに好ましくは99mol%以上がメチル基であることが好ましい。
In the general formula (2), R 1 to R 3 and R 5 to R 8 each independently have a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and R 10 R 11 R 12 Si. Shown. R 4 and R 9 to R 12 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group. l represents an integer of 2 or more. m represents an integer of 0 or more.
Of R 1 to R 12 , at least 80 mol% or more, preferably 95 mol% or more, still more preferably 99 mol% or more is a methyl group.

前記ヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常300以上、好ましくは500以上、さらに好ましくは1000以上、また、通常50000以下、好ましくは20000以下、さらに好ましくは10000以下である。この範囲を下回ると、組成物の硬化物が固く脆くなるという可能性がある。また、この範囲を上回ると、組成物全体が均一に硬化しづらくなる可能性がある。
前記ヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物中のヒドロシリル基含有量の上限は、通常20mmol/g、好ましくは15mmol/g、より好ましくは10mmol/g、下限は通常0.1mmol/g、好ましくは1mmol/g、より好ましくは、3mmol/gである。
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups in one molecule is usually 300 or more, preferably 500 or more, more preferably 1000 or more, and usually 50,000 or less, preferably 20,000 or less. More preferably, it is 10,000 or less. Below this range, the cured product of the composition may become hard and brittle. On the other hand, if it exceeds this range, it may be difficult to uniformly cure the entire composition.
The upper limit of the hydrosilyl group content in the siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups in one molecule is usually 20 mmol / g, preferably 15 mmol / g, more preferably 10 mmol / g, and the lower limit is usually 0.1 mmol / g. g, preferably 1 mmol / g, more preferably 3 mmol / g.

また(A)成分と(B)成分の合計重量に対する(B)成分の重量比の上限は、通常70%、好ましくは50%、より好ましくは30%であり、下限は通常0.5%、好ましくは1%、より好ましくは、3%である。大きすぎると、硬化物が脆くなる傾向にあり、小さすぎると組成物の硬化が遅くなったり、硬化が不十分になり硬化物の機械強度が小さくなるおそれがある。
そして(B)成分の化合物が有するヒドロシリル基の合計と、前記(A)成分の化合物の有するシラノール基と、の合計のモル比SiH/SiOHが1〜20である。モル比の下限は、好ましくは、1.5、より好ましくは2、上限は好ましくは15、より好ましくは10、更に好ましくは5である。モル比が1より小さくても、20より大きくても、組成物の硬化が不十分になる傾向にあり、残存するシラノール基やヒドロシリル基が多くなるため硬化物の耐熱性、耐光性、耐クラック性が低下する場合がある。
The upper limit of the weight ratio of the component (B) to the total weight of the component (A) and the component (B) is usually 70%, preferably 50%, more preferably 30%, and the lower limit is usually 0.5%. It is preferably 1%, more preferably 3%. If it is too large, the cured product tends to be brittle, and if it is too small, the curing of the composition may be slowed down, or the curing may be insufficient and the mechanical strength of the cured product may be reduced.
The total molar ratio of the total hydrosilyl group of the compound of the component (B) and the silanol group of the compound of the component (A) is 1 to 20. The lower limit of the molar ratio is preferably 1.5, more preferably 2, the upper limit is preferably 15, more preferably 10, and even more preferably 5. Even if the molar ratio is smaller than 1 or larger than 20, the composition tends to be insufficiently cured, and the remaining silanol groups and hydrosilyl groups increase, so that the cured product has heat resistance, light resistance, and crack resistance. Sex may be reduced.

<3.(C)脱水素縮合反応触媒(硬化触媒ともいう)>
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物は、脱水素縮合反応触媒として、(C)白金族金属触媒を含有する。白金族金属触媒としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などが挙げられる。具体例としては、例えば、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体などを好適に用いることができる。
<3. (C) Dehydrogenation condensation reaction catalyst (also called curing catalyst)>
The curable polysiloxane composition of the present embodiment contains (C) a platinum group metal catalyst as a dehydrogenation condensation reaction catalyst. Examples of the platinum group metal catalyst include platinum black, second platinum chloride, platinum chloride acid, a reaction product of platinum chloride acid and a monovalent alcohol, a complex of platinum chloride acid and olefins, and a platinum-based catalyst such as platinum bisacetoacetate. , Platinum-based catalyst, rhodium-based catalyst and the like. As a specific example, for example, a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex, a platinum-2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane complex and the like can be preferably used. it can.

なお、この(C)白金族金属触媒の配合量は触媒量とすることができるが、通常、白金族金属として(A)成分および(B)成分の合計重量に対して通常0.5ppm以上、好ましくは1ppm以上であり、通常100ppm以下、好ましくは50ppm以下、より好ましくは20ppm以下である。これにより触媒活性を高いものとすることができる。 The blending amount of the (C) platinum group metal catalyst can be the amount of the catalyst, but usually 0.5 ppm or more with respect to the total weight of the components (A) and (B) as the platinum group metal. It is preferably 1 ppm or more, usually 100 ppm or less, preferably 50 ppm or less, and more preferably 20 ppm or less. As a result, the catalytic activity can be increased.

前記白金族金属触媒は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。 また任意の反応促進剤や反応抑制剤と併用してもよい。
また、前記白金族金属触媒とは異なるシロキサン化合物脱水素縮合反応触媒を併用してもよく、錫、チタン、アルミニウム等、白金族金属以外の金属錯体、ヒドロキシルアミンを含有するアミノキシ化合物、などが挙げられる。
なお、前記の硬化触媒の含有率は、ICP分析により測定できる。
One type of the platinum group metal catalyst may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio. Further, it may be used in combination with any reaction promoter or reaction inhibitor.
Further, a siloxane compound dehydrogenation condensation reaction catalyst different from the platinum group metal catalyst may be used in combination, and examples thereof include metal complexes other than platinum group metals such as tin, titanium and aluminum, and aminoxy compounds containing hydroxylamine. Be done.
The content of the curing catalyst can be measured by ICP analysis.

<4.(D)有機カルボン酸金属塩、又はセリウム化合物>
本実施形態の(D)成分は、有機カルボン酸金属塩、及びセリウム化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である。
(D)成分として用いられる有機カルボン酸金属塩の金属としては、特に限定されないが、亜鉛、ジルコニウム、鉄、インジウム、ニッケル、マンガン、ランタン、サマリウム、プラセオジム、ネオジム、セリウムなどが挙げられる。好ましい金属としては、ランタン、サマリウム、プラセオジム、ネオジム、セリウム等の希土類金属とジルコニウム、インジウム、亜鉛であり、特に好ましくはセリウムである。
<4. (D) Organic Carboxylic Acid Metal Salt or Cerium Compound>
The component (D) of the present embodiment is one or more compounds selected from the group consisting of an organic carboxylic acid metal salt and a cerium compound.
The metal of the organic carboxylic acid metal salt used as the component (D) is not particularly limited, and examples thereof include zinc, zirconium, iron, indium, nickel, manganese, lanthanum, samarium, praseodymium, neodymium, and cerium. Preferred metals are rare earth metals such as lanthanum, samarium, praseodymium, neodymium and cerium, and zirconium, indium and zinc, with cerium being particularly preferred.

また有機カルボン酸金属塩の有機カルボン酸としては、特に限定されないが、炭素数4−10の直鎖、分岐又は環状のカルボン酸などがあげられ、好ましくは、2−エチルヘキサン酸もしくはオクチル酸である。そしてこれが、上述の金属に2から4個結合しているものが好ましく、より好ましくは金属との結合数は3、つまり3価の金属であるものがより好ましい。そして最も好ましい有機カルボン酸金属塩は、2−エチルヘキサン酸セリウムである。 The organic carboxylic acid of the organic carboxylic acid metal salt is not particularly limited, and examples thereof include a linear, branched or cyclic carboxylic acid having 4-10 carbon atoms, preferably 2-ethylhexanoic acid or octyl acid. is there. It is preferable that 2 to 4 of these are bonded to the above-mentioned metal, and more preferably the number of bonds to the metal is 3, that is, a trivalent metal. And the most preferable organic carboxylic acid metal salt is cerium 2-ethylhexanoate.

本実施形態において、シリコーンとの相溶性を上げる等の目的で、有機カルボン酸金属塩と有機カルボン酸とを組成物中で共存させることが好ましい。組成物中で共存させる有機カルボン酸は、有機カルボン酸金属塩と同種の有機カルボン酸であっても、異種の有機カルボン酸であってもよいが、2−エチルヘキサン酸もしくはオクチル酸がポリシロキサンとの相溶性の観点で好ましい。有機カルボン酸の添加量は、有機カルボン酸塩の添加量を100(重量換算)として概ね10から1000程度である。 In the present embodiment, it is preferable that the organic carboxylic acid metal salt and the organic carboxylic acid coexist in the composition for the purpose of increasing the compatibility with silicone. The organic carboxylic acid coexisting in the composition may be an organic carboxylic acid of the same type as the organic carboxylic acid metal salt or a different type of organic carboxylic acid, but 2-ethylhexanoic acid or octyl acid is polysiloxane. It is preferable from the viewpoint of compatibility with. The amount of the organic carboxylic acid added is approximately 10 to 1000, where the amount of the organic carboxylic acid salt added is 100 (in terms of weight).

有機カルボン酸金属塩の金属は、本実施形態の(A)および(B)成分の合計重量に対し、下限値としては1ppmであり、より好ましくは10ppmである。1ppm未満では十分な効果が発現しない可能性が有る。また、上限値としては100ppmが好ましく、100ppm以下とすると、高い透明性を維持することができて好ましい。 The metal of the organic carboxylic acid metal salt has a lower limit of 1 ppm, more preferably 10 ppm, based on the total weight of the components (A) and (B) of the present embodiment. If it is less than 1 ppm, a sufficient effect may not be exhibited. Further, the upper limit value is preferably 100 ppm, and when it is 100 ppm or less, high transparency can be maintained, which is preferable.

また、本実施形態の(D)成分として用いられるセリウム化合物としては、シロキサン組成物に添加可能なものであれば特に限定されないが、例えば、酸化セリウムなどの酸化物、3価又は4価のセリウムの、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩などの無機塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、ホスホン酸塩などの有機酸塩、3価又は4価のセリウムイオンを中心金属とし、アルコールやジケトンを配位子とするセリウム錯体、が挙げられる。中でも、有機カルボン酸塩とジケトン錯体が好ましく、具体的には、トリス(アセチルアセトナト)セリウム、オクチル酸セリウム、2−エチルヘキサン酸セリウムなどが挙げられる。なお、上記有機カルボン酸金属塩と重複する化合物も例示される。 The cerium compound used as the component (D) of the present embodiment is not particularly limited as long as it can be added to the siloxane composition, but for example, an oxide such as cerium oxide, trivalent or tetravalent cerium. Inorganic salts such as carbonates, sulfates and phosphates, organic acid salts such as carboxylates, sulfonates and phosphonates, trivalent or tetravalent cerium ions as central metals, and alcohols and diketones. Examples thereof include a cerium complex as a ligand. Among them, an organic carboxylate and a diketone complex are preferable, and specific examples thereof include tris (acetylacetonato) cerium, cerium octylate, and cerium 2-ethylhexanoate. In addition, a compound overlapping with the above-mentioned organic carboxylic acid metal salt is also exemplified.

セリウム化合物がシリコーンに溶解しない場合、セリウム化合物の平均粒子径は小さい方が、高い効果が得られやすいので、好ましい。また、硬化性ポリシロキサン組成物の透明性を維持する観点からは、セリウム化合物の一次粒子径は100nm以下が好ましく、セリウム化合物を分散媒に分散したゾルの状態でポリシロキサン組成物へ添加してもよい。セリウム化合物の添加量は、シリコーンへのセリウム化合物の溶解性や、不溶性の場合はセリウム化合物の粒子径によって、最適な範囲が異なってくるため、セリウム化合物の種類や形状、粒子径、ゾルの場合は分散状態、などに応じて適宜選択すればよい。 When the cerium compound is not soluble in silicone, it is preferable that the average particle size of the cerium compound is small because a high effect can be easily obtained. From the viewpoint of maintaining the transparency of the curable polysiloxane composition, the primary particle size of the cerium compound is preferably 100 nm or less, and the cerium compound is added to the polysiloxane composition in the form of a sol dispersed in a dispersion medium. May be good. The optimum range of the amount of cerium compound added depends on the solubility of the cerium compound in silicone and the particle size of the cerium compound in the case of insolubility. Therefore, the type and shape of the cerium compound, the particle size, and the case of sol May be appropriately selected according to the dispersed state and the like.

セリウム化合物のセリウム量は、本実施形態の(A)および(B)成分の合計重量に対し、下限値としては1ppmであり、より好ましくは10ppmである。上限値としては通常10000ppmであり、それより大きいとポリシロキサン硬化物の透明性が著しく低下するおそれがある。 The amount of cerium in the cerium compound is 1 ppm, more preferably 10 ppm, as a lower limit value with respect to the total weight of the components (A) and (B) of the present embodiment. The upper limit is usually 10,000 ppm, and if it is larger than that, the transparency of the cured polysiloxane product may be significantly reduced.

本実施形態において、(D)成分は、ポリシロキサン硬化物の透明性を大きく損なうことなく、耐熱性、耐光性、耐クラック性等を著しく向上させる効果があり、また、(C)白金族金属触媒と併用することで、白金族金属触媒の働きを穏やかにし、硬化反応で副生する水素ガスによる発泡をコントロールする効果や、脱水縮合反応の触媒として作用し、残存シラノール基間の縮合を進める効果が期待できる。 In the present embodiment, the component (D) has the effect of significantly improving heat resistance, light resistance, crack resistance, etc. without significantly impairing the transparency of the cured polysiloxane product, and the (C) platinum group metal. When used in combination with a catalyst, it moderates the action of the platinum group metal catalyst, has the effect of controlling foaming due to hydrogen gas produced as a by-product in the curing reaction, and acts as a catalyst for the dehydration condensation reaction, promoting condensation between residual silanol groups. The effect can be expected.

<5.(E)反応抑制剤>
本実施形態において、硬化性ポリシロキサン組成物の常温での使用可能時間を延長する、脱水素反応の反応温度を高めに制御する、水素ガスの発生温度や発生速度を制御する、硬化物中の気泡の残存を抑制する、等の目的で反応抑制剤を添加することが好ましい。
本実施形態において(E)成分として使用される反応抑制剤としては、例えば脂肪族不飽和結合を含有する化合物が挙げられ、脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−ヒドロキシ−3−フェニル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレート等のマレイン酸エステル類等が例示される。脂肪族不飽和結合を含有する化合物の中でも、三重結合を有する化合物が好ましい。
<5. (E) Reaction inhibitor>
In the present embodiment, the curable polysiloxane composition is extended in usable time at room temperature, the reaction temperature of the dehydrogenation reaction is controlled to be higher, the generation temperature and rate of hydrogen gas are controlled, and the cured product is contained. It is preferable to add a reaction inhibitor for the purpose of suppressing the residual bubbles.
Examples of the reaction inhibitor used as the component (E) in the present embodiment include compounds containing an aliphatic unsaturated bond, and examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include 3-hydroxy-3-3. Propagil alcohols such as methyl-1-butyne, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 3-hydroxy-3-phenyl-1-butyne, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, en-in Examples include compounds, maleic acid esters such as dimethylmalate, and the like. Among the compounds containing an aliphatic unsaturated bond, a compound having a triple bond is preferable.

反応抑制剤の添加量は種々設定できるが、使用する(C)硬化触媒1molに対する好ましい添加量の下限は10−1モル、より好ましくは1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは10モルである。また、これらの反応抑制剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。 The addition amount of the reaction inhibitor can be selected at various levels, the preferred amount of the lower limit is 10 -1 moles with respect to (C) a curing catalyst 1mol used, more preferably 1 mol, the upper limit of the preferable amount is 10 3 moles, more preferably 10 2 moles. Further, these reaction inhibitors may be used alone or in combination of two or more.

<6.その他の成分>
その他の成分として、耐熱向上剤としての金属酸化物、難燃助剤、導電付与剤、帯電防止剤、加工助剤などを用いることができる。
また、アルコキシシリル基を含有するアルコキシシラン系化合物、シランカップリング剤、チタン系やジルコニウム系等のシロキサン化合物脱水縮合触媒などを架橋補助剤とし
て配合することもできる。
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物を、半導体発光装置用封止材として用いる場合などにおいては、蛍光体や無機粒子などを含有させてもよい。
<6. Other ingredients>
As other components, metal oxides as heat resistance improvers, flame retardant aids, conductivity imparting agents, antistatic agents, processing aids and the like can be used.
Further, an alkoxysilane-based compound containing an alkoxysilyl group, a silane coupling agent, a siloxane compound dehydration condensation catalyst such as titanium-based or zirconium-based, and the like can be blended as a cross-linking aid.
When the curable polysiloxane composition of the present embodiment is used as a sealing material for a semiconductor light emitting device, a phosphor or inorganic particles may be contained.

<7.無機粒子(フィラー)の併用>
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物の硬化物を少なくとも備えることを特徴とした光学部材を、半導体発光装置に使用する場合などにおいては、光学的特性や作業性を向上させるため、また、以下の<1>〜<5>の何れかの効果を得ることを目的として、更に無機粒子を含有させてもよい。
<1>硬化性ポリシロキサン組成物の硬化物に光散乱物質として無機粒子を混入し、半導体発光装置の光を散乱させることにより、蛍光体に当たる半導体発光素子の光量を増加させ、波長変換効率を向上させると共に、半導体発光装置から外部に放出される光の指向角を広げる。
<2>硬化性ポリシロキサン組成物の硬化物に結合剤として無機粒子を配合することにより、クラックの発生を防止する。
<3>硬化性ポリシロキサン組成物に、粘度調整剤として無機粒子を配合することにより、当該組成物液の粘度を高くする。
<4>硬化性ポリシロキサン組成物の硬化物に無機粒子を配合することにより、その収縮を低減する。
<5>硬化性ポリシロキサン組成物の硬化物に無機粒子を配合することにより、その屈折率を調整して、光取り出し効率を向上させる。
この場合は、硬化性ポリシロキサン組成物に、蛍光体の粉末と同様に、無機粒子を目的に応じて適量混合すればよい。
<7. Combined use of inorganic particles (filler)>
When an optical member characterized by containing at least a cured product of the curable polysiloxane composition of the present embodiment is used in a semiconductor light emitting device, in order to improve optical characteristics and workability, and below. Inorganic particles may be further contained for the purpose of obtaining the effect of any one of <1> to <5>.
<1> Inorganic particles are mixed as a light scattering substance in the cured product of the curable polysiloxane composition to scatter the light of the semiconductor light emitting device, thereby increasing the amount of light of the semiconductor light emitting element that hits the phosphor and improving the wavelength conversion efficiency. While improving it, the directivity angle of the light emitted from the semiconductor light emitting device to the outside is widened.
<2> By blending inorganic particles as a binder into the cured product of the curable polysiloxane composition, the occurrence of cracks is prevented.
<3> The viscosity of the composition liquid is increased by adding inorganic particles as a viscosity modifier to the curable polysiloxane composition.
<4> By blending inorganic particles with the cured product of the curable polysiloxane composition, its shrinkage is reduced.
<5> By blending inorganic particles into the cured product of the curable polysiloxane composition, the refractive index thereof is adjusted to improve the light extraction efficiency.
In this case, the curable polysiloxane composition may be mixed with an appropriate amount of inorganic particles according to the purpose, as in the case of the fluorescent powder.

無機粒子としては、シリカ微粒子、溶融球状シリカ、破砕状シリカ、アモルファスシリカ、石英ビーズ、ガラスビーズ、シリコーン粒子、などが挙げられる。中でも、シリカ微粒子を粘度調整剤として好適に使用することができ、特に限定されるものではないが、BET法による比表面積が、通常50m2/g以上、好ましくは80m2/g以上、さらに好ましくは100m2/g以上である。また、通常300m2/g以下、好ましくは200m2/g以下である。比表面積が小さすぎるとシリカ微粒子の添加効果が認められず、大きすぎると樹脂中への分散処理が困難になる傾向にある。シリカ微粒子は、例えば親水性のシリカ微粒子の表面に存在するシラノール基と表面改質剤を反応させることにより表面を疎水化したものを使用してもよい。 Examples of the inorganic particles include silica fine particles, molten spherical silica, crushed silica, amorphous silica, quartz beads, glass beads, silicone particles, and the like. Among them, silica fine particles can be suitably used as a viscosity modifier, and the specific surface area by the BET method is usually 50 m 2 / g or more, preferably 80 m 2 / g or more, more preferably 80 m 2 / g or more, although it is not particularly limited. Is 100 m 2 / g or more. Further, it is usually 300 m 2 / g or less, preferably 200 m 2 / g or less. If the specific surface area is too small, the effect of adding silica fine particles is not recognized, and if it is too large, the dispersion treatment in the resin tends to be difficult. As the silica fine particles, for example, those having a hydrophobic surface by reacting a silanol group existing on the surface of the hydrophilic silica fine particles with a surface modifier may be used.

表面改質剤としては、アルキルシラン類の化合物が挙げられ、具体例としてジメチルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン、ジメチルシリコーンオイルなどが挙げられる。 Examples of the surface modifier include compounds of alkylsilanes, and specific examples thereof include dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane, and dimethylsilicone oil.

シリカ微粒子としては、例えばフュームドシリカを挙げることができる。フュームドシリカは、H2とO2との混合ガスを燃焼させた1100〜1400℃の炎でSiCl4ガスを酸化、加水分解させることにより作製される。フュームドシリカの一次粒子は、平均粒径が5〜50nm程度の非晶質の二酸化ケイ素(SiO2)を主成分とする球状の超微粒子であり、この一次粒子がそれぞれ凝集し、粒径が数百nmである二次粒子を形成する。 Examples of the silica fine particles include fumed silica. Fused silica is produced by oxidizing and hydrolyzing SiCl 4 gas with a flame at 1100 to 1400 ° C. in which a mixed gas of H 2 and O 2 is burned. The primary particles of fumed silica are spherical ultrafine particles mainly composed of amorphous silicon dioxide (SiO 2 ) having an average particle size of about 5 to 50 nm, and the primary particles are each aggregated to have a particle size. It forms secondary particles that are several hundred nm.

フュームドシリカは、超微粒子であるとともに、急冷によって作製されるため、表面の構造が化学的に活性な状態となっている。
具体的には、例えば日本アエロジル株式会社製「アエロジル」(登録商標)が挙げられ、親水性アエロジル(登録商標)の例としては、「90」、「130」、「150」、「200」、「300」、疎水性アエロジル(登録商標)の例としては、「R8200」、「R972」、「R972V」、「R972CF」、「R974」、「R202」、「R
805」、「R812」、「R812S」、「RY200」、「RY200S」「RX200」が挙げられる。
本実施形態のポリシロキサン硬化物における無機粒子の含有率は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、その適用形態により自由に選定できる。例えば、無機粒子を光散乱剤として用いる場合は、その含有率は組成物全体の0.01〜10重量%が好適である。また、例えば、無機粒子を骨材として用いる場合は、その含有率は1〜80重量%が好適である。また、例えば、無機粒子を増粘剤(チキソ剤)として用いる場合は、その含有率は0.1〜20重量%が好適である。また、例えば、無機粒子を屈折率調整剤として用いる場合は、その含有率は10〜80重量%が好適である。無機粒子の量が少なすぎると所望の効果が得られなくなる可能性があり、多すぎると硬化物の密着性、透明性、硬度等の諸特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
Since fumed silica is ultrafine particles and is produced by quenching, the surface structure is in a chemically active state.
Specifically, for example, "Aerosil" (registered trademark) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. is mentioned, and examples of hydrophilic Aerosil (registered trademark) are "90", "130", "150", "200", Examples of "300" and hydrophobic Aerosil (registered trademark) are "R8200", "R972", "R972V", "R972CF", "R974", "R202", "R".
805 ”,“ R812 ”,“ R812S ”,“ RY200 ”,“ RY200S ”,“ RX200 ”.
The content of the inorganic particles in the cured polysiloxane of the present embodiment is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but can be freely selected depending on the application form thereof. For example, when inorganic particles are used as a light scattering agent, the content thereof is preferably 0.01 to 10% by weight of the entire composition. Further, for example, when inorganic particles are used as an aggregate, the content thereof is preferably 1 to 80% by weight. Further, for example, when inorganic particles are used as a thickener (thixotropy), the content thereof is preferably 0.1 to 20% by weight. Further, for example, when inorganic particles are used as a refractive index adjusting agent, the content thereof is preferably 10 to 80% by weight. If the amount of the inorganic particles is too small, the desired effect may not be obtained, and if it is too large, various properties such as adhesion, transparency and hardness of the cured product may be adversely affected.

<8.硬化性ポリシロキサン組成物の製造方法>
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物は、上記した各成分を均一に混合することによって得ることができる。その混合方法は特に限定されない。
この混合には一般のシリコーンゴム調製に使用される混合機を用いることができ、例えば、万能混練機、プラネタリミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー、ゲートミキサー、品川ミキサー、加圧ニーダー、三本ロール、二本ロールを用いることができる。
<8. Method for Producing Curable Polysiloxane Composition>
The curable polysiloxane composition of the present embodiment can be obtained by uniformly mixing the above-mentioned components. The mixing method is not particularly limited.
For this mixing, a mixer used for general silicone rubber preparation can be used, for example, a universal kneader, a planetary mixer, a Banbury mixer, a kneader, a gate mixer, a Shinagawa mixer, a pressure kneader, a three-roll, two. This roll can be used.

<9.硬化性ポリシロキサン組成物の屈折率について>
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物の屈折率は、該硬化性ポリシロキサン組成物の温度が20℃における波長589nmの光の屈折率が、通常1.56以下、好ましくは1.45以下、更に好ましくは1.42以下であり、通常1.35以上、好ましくは1.40以上である。光学部材に応用する場合には一般的な発光デバイスの屈折率が約2.5以下であるが、樹脂の光安定性の観点からも比較的屈折率の低いものを選択することが好ましい。
<9. Refractive index of curable polysiloxane composition>
The refractive index of the curable polysiloxane composition of the present embodiment is such that the refractive index of light having a wavelength of 589 nm at a temperature of 20 ° C. of the curable polysiloxane composition is usually 1.56 or less, preferably 1.45 or less. More preferably, it is 1.42 or less, usually 1.35 or more, and preferably 1.40 or more. When applied to an optical member, a general light emitting device has a refractive index of about 2.5 or less, but it is preferable to select one having a relatively low refractive index from the viewpoint of the light stability of the resin.

本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物は、含有するシロキサン化合物のケイ素原子に結合した全置換基のうち、ヒドリド基とシラノール基を除く置換基の80mol%以上、好ましくは95mol%以上、さらに好ましくは99mol%以上がアルキル基であることが好ましい。また、アルキル基は、メチル基であることが好ましい。
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物の屈折率は、通常屈折計により測定することができる。具体的には、Abbe屈折計(ナトリウムD線(589nm)使用)を用いることができる。
The curable polysiloxane composition of the present embodiment has 80 mol% or more, preferably 95 mol% or more, more preferably 95 mol% or more of the substituents excluding the hydride group and the silanol group among all the substituents bonded to the silicon atom of the contained siloxane compound. Is preferably 99 mol% or more of an alkyl group. Further, the alkyl group is preferably a methyl group.
The refractive index of the curable polysiloxane composition of the present embodiment can usually be measured with a refractometer. Specifically, an Abbe refractometer (using a sodium D line (589 nm)) can be used.

<10.硬化性ポリシロキサン組成物の特性>
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物の粘度に制限は無いが、液温25℃において、通常20mPa・s以上、好ましくは100mPa・s以上、より好ましくは200mPa・s以上、また、通常20000mPa・s以下、好ましくは10000mPa・s以下、より好ましくは5000mPa・s以下である。なお、前記粘度はRV型粘度計(例えばブルックフィールド社製RV型粘度計「RVDV−II+Pro」により測定できる。
<10. Characteristics of curable polysiloxane composition>
The viscosity of the curable polysiloxane composition of the present embodiment is not limited, but at a liquid temperature of 25 ° C., it is usually 20 mPa · s or more, preferably 100 mPa · s or more, more preferably 200 mPa · s or more, and usually 20000 mPa · s. It is s or less, preferably 10000 mPa · s or less, and more preferably 5000 mPa · s or less. The viscosity can be measured with an RV type viscometer (for example, an RV type viscometer "RVDV-II + Pro" manufactured by Brookfield Co., Ltd.).

<11.他の部材との組み合わせ>
本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物は単独で用いてもよいが、粘度、硬化速度、硬化物の硬度、塗布しやすさの向上などの性状の調整を目的として、他の液状媒体と混合してもよい。使用される液状媒体としては無機系材料および/または有機系材料が使用できる。
無機系材料としては、例えば、金属アルコキシド、セラミック前駆体ポリマー若しくは金属アルコキシドを含有する溶液をゾル−ゲル法により加水分解重合して成る溶液、また
はこれらの組み合わせを固化した無機系材料(例えばシロキサン結合を有する無機系材料)等を挙げることができる。
有機系材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。具体的には、例えば、ポリメタアクリル酸メチル等のメタアクリル樹脂;ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等のスチレン樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリエステル樹脂;フェノキシ樹脂;ブチラール樹脂;ポリビニルアルコール;エチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系樹脂;エポキシ樹脂;フェノール樹脂;シリコーン樹脂等が挙げられる。特に照明など大出力の発光装置が必要な場合、耐熱性や耐光性等を目的として珪素含有化合物を使用することが好ましい。
<11. Combination with other members>
The curable polysiloxane composition of the present embodiment may be used alone, but may be mixed with another liquid medium for the purpose of adjusting properties such as viscosity, curing rate, hardness of the cured product, and ease of application. You may. As the liquid medium used, an inorganic material and / or an organic material can be used.
Examples of the inorganic material include a solution obtained by hydrolyzing and polymerizing a solution containing a metal alkoxide, a ceramic precursor polymer or a metal alkoxide by a sol-gel method, or an inorganic material obtained by solidifying a combination thereof (for example, siloxane bond). (Inorganic material having) and the like.
Examples of the organic material include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photocurable resin. Specifically, for example, a methacrylic resin such as methyl polymethacrylate; a styrene resin such as polystyrene and a styrene-acrylonitrile copolymer; a polycarbonate resin; a polyester resin; a phenoxy resin; a butyral resin; a polyvinyl alcohol; ethyl cellulose and a cellulose acetate. , Cellulose-based resin such as cellulose acetate butyrate; epoxy resin; phenol resin; silicone resin and the like. In particular, when a high-power light emitting device such as lighting is required, it is preferable to use a silicon-containing compound for the purpose of heat resistance, light resistance, and the like.

珪素含有化合物とは分子中に珪素原子を有する化合物をいい、ポリオルガノシロキサン等のシリコーン系材料、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素等の無機材料、及びホウケイ酸塩、ホスホケイ酸塩、アルカリケイ酸塩等のガラス材料を挙げることができる。中でも、ハンドリングの容易さ等の点から、シリコーン系材料が好ましい。
シリコーン系材料とは、通常、シロキサン結合を主鎖とする重合体をいい、例えば一般組成式(3)で表される化合物及び/またはそれらの混合物が挙げられる。
(R212223SiO1/2(R2425SiO2/2(R26SiO3/2(SiO4/2・・・式(3)
ここで、R21からR26は同じであっても異なってもよく、有機官能基、シリル基、水酸基、水素原子からなる群から選択される。またM、D、T及びQは0から1未満であり、M+D+T+Q=1を満足する数である。
A silicon-containing compound is a compound having a silicon atom in its molecule, and is a silicone-based material such as polyorganosiloxane, an inorganic material such as silicon oxide, silicon nitride, or silicon oxynitride, and borosilicate, phosphosilicate, and alkali silicate. Examples include glass materials such as silicate. Of these, silicone-based materials are preferable from the viewpoint of ease of handling and the like.
The silicone-based material usually refers to a polymer having a siloxane bond as a main chain, and examples thereof include a compound represented by the general composition formula (3) and / or a mixture thereof.
(R 21 R 22 R 23 SiO 1/2 ) M (R 24 R 25 SiO 2/2 ) D (R 26 SiO 3/2 ) T (SiO 4/2 ) Q ... Equation (3)
Here, R 21 to R 26 may be the same or different, and are selected from the group consisting of an organic functional group, a silyl group, a hydroxyl group, and a hydrogen atom. Further, M, D, T and Q are 0 to less than 1, and are numbers satisfying M + D + T + Q = 1.

<12.硬化条件について>
本実施形態のポリシロキサン硬化物を製造する方法は、本実施形態の硬化性ポリシロキサン組成物を硬化させる工程を有していれば制限されない。なお、重縮合物が溶媒を含有している場合には、乾燥させる前に事前に溶媒を留去するようにしてもよい。
本実施形態のポリシロキサン硬化物は、通常、空気中で、150℃にて6時間以内で硬化するが、好ましい硬化条件を以下に詳述する。硬化処理は、常圧で実施する場合、通常15℃以上、好ましくは50℃以上、より好ましくは100℃以上、また、通常300℃以下、好ましくは200℃以下、より好ましくは180℃以下の範囲で行なう。加圧下で液相を維持することでより高い温度で行なうことも可能である。
硬化時間は反応温度により異なるが、通常0.1時間以上、好ましくは0.5時間以上、更に好ましくは0.8時間以上、また、通常100時間以下、好ましくは20時間以下、更に好ましくは15時間以下の範囲で実施される。
<12. Curing conditions>
The method for producing the cured polysiloxane composition of the present embodiment is not limited as long as it has a step of curing the curable polysiloxane composition of the present embodiment. When the polycondensate contains a solvent, the solvent may be distilled off in advance before drying.
The cured polysiloxane product of the present embodiment is usually cured in air at 150 ° C. within 6 hours, but preferable curing conditions are described in detail below. When the curing treatment is carried out at normal pressure, it is usually in the range of 15 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and usually 300 ° C. or lower, preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower. Do it at. It is also possible to carry out at a higher temperature by maintaining the liquid phase under pressure.
The curing time varies depending on the reaction temperature, but is usually 0.1 hours or more, preferably 0.5 hours or more, more preferably 0.8 hours or more, and usually 100 hours or less, preferably 20 hours or less, still more preferably 15. It will be carried out within the time range.

以上の硬化条件において、時間が短くなったり温度が低すぎたりすると、重合が不十分なため硬化物の強度が不十分となる可能性がある。また、時間が長くなったり温度が高すぎたりすると、硬化性ポリシロキサン組成物の分子量が高くなり、硬化が早すぎて硬化物の構造が不均一となり、クラックを生じやすくなる。
また、硬化温度をステップ昇温とすると発泡を抑制することができる。硬化物中の気泡の残存を極力抑えた本実施形態のポリシロキサン硬化物の25℃での密度は概ね0.95g/cm以上となる。
Under the above curing conditions, if the time is short or the temperature is too low, the polymerization may be insufficient and the strength of the cured product may be insufficient. On the other hand, if the time is too long or the temperature is too high, the molecular weight of the curable polysiloxane composition becomes high, the curing is too fast, the structure of the cured product becomes non-uniform, and cracks are likely to occur.
Further, when the curing temperature is set to a step-up temperature, foaming can be suppressed. The density of the cured polysiloxane at 25 ° C. of the present embodiment in which the residual air bubbles in the cured product is suppressed as much as possible is approximately 0.95 g / cm 3 or more.

<13.半導体発光装置の実施形態>
本実施形態のポリシロキサン硬化物を少なくとも備えてなる光学部材の例として、半導体発光装置を例に挙げて、実施形態を用いて説明する。なお、以下の各実施形態では、本実施形態の半導体発光装置を適宜「発光装置」と略称することがある。
さらに、本実施形態の半導体発光装置に用いる光学部材は、半導体発光装置用部材と呼ぶこととする。これらの実施形態はあくまでも説明の便宜のために用いるものであって、
本実施形態の光学部材を少なくとも備えてなる半導体発光装置の例は、これらの実施形態に限られるものではない。
<13. Embodiment of semiconductor light emitting device>
As an example of the optical member including at least the cured product of the polysiloxane of the present embodiment, a semiconductor light emitting device will be taken as an example, and the description will be made using the embodiment. In each of the following embodiments, the semiconductor light emitting device of this embodiment may be abbreviated as "light emitting device" as appropriate.
Further, the optical member used in the semiconductor light emitting device of the present embodiment will be referred to as a semiconductor light emitting device member. These embodiments are used for convenience of explanation only.
The example of the semiconductor light emitting device including at least the optical member of the present embodiment is not limited to these embodiments.

[基本概念]
本実施形態に係る半導体発光装置用部材を用いた半導体発光装置は、例えば、以下のA)、B)の適用例がある。本実施形態に係る半導体発光装置用部材は、何れの適用例においても、従来の半導体発光装置用の光学部材と比較して、優れた光耐久性及び熱耐久性を示し、クラックや剥離が起きにくく、輝度の低下が少ない。したがって、本実施形態に係る半導体発光装置用部材は、長期にわたって信頼性の高い部材である。
A)発光素子の発光色をそのまま利用する半導体発光装置。
B)発光素子の近傍に蛍光体部を配設し、発光素子からの光により蛍光体部中の蛍光体や蛍光体成分を励起させ、蛍光を利用して所望の波長の光を発光する半導体発光装置。
[Basic concept]
As the semiconductor light emitting device using the semiconductor light emitting device member according to the present embodiment, for example, there are application examples of the following A) and B). In any of the application examples, the member for a semiconductor light emitting device according to the present embodiment exhibits excellent light durability and thermal durability as compared with the optical member for a conventional semiconductor light emitting device, and cracks and peeling occur. It is difficult and there is little decrease in brightness. Therefore, the member for the semiconductor light emitting device according to the present embodiment is a member with high reliability for a long period of time.
A) A semiconductor light emitting device that uses the light emitting color of the light emitting element as it is.
B) A semiconductor in which a phosphor portion is arranged in the vicinity of the light emitting element, the phosphor and the phosphor component in the phosphor portion are excited by the light from the light emitting element, and light of a desired wavelength is emitted using fluorescence. Light emitting device.

A)の適用例においては、本実施形態に係る半導体発光装置用部材の高い耐久性、透明性および封止材性能を生かし、単独使用にて高耐久封止材、光取り出し膜、各種機能性成分保持材として用いることができる。特に、半導体発光装置用部材を上記無機粒子等を保持する機能性成分保持材として用い、半導体発光装置用部材に透明高屈折成分を保持させた場合には、半導体発光装置用部材を発光素子の出光面と密着させて使用し、かつ、発光素子に近い屈折率にすることで、発光素子の出光面での反射を低減し、より高い光取り出し効率を得ることが可能となる。 In the application example of A), the high durability, transparency, and sealing material performance of the semiconductor light emitting device member according to the present embodiment are utilized, and the high durability sealing material, light extraction film, and various functionalities are used alone. It can be used as a component retaining material. In particular, when the semiconductor light emitting device member is used as a functional component holding material for holding the inorganic particles and the like and the semiconductor light emitting device member holds a transparent high refractive component, the semiconductor light emitting device member is used as a light emitting device. By using the light emitting element in close contact with the light emitting surface and setting the refractive index close to that of the light emitting element, it is possible to reduce the reflection of the light emitting element on the light emitting surface and obtain higher light extraction efficiency.

また、B)の適用例においても、本実施形態に係る半導体発光装置用部材は、上記のA)の適用例と同様の優れた性能を発揮することができ、かつ、蛍光体や蛍光体成分を保持することにより高耐久性で光取り出し効率の高い蛍光体部を形成することができる。さらに、半導体発光装置用部材に、蛍光体や蛍光体成分に加えて透明高屈折成分を併せて保持させた場合、半導体発光装置用部材の屈折率を発光素子や蛍光体の屈折率近傍にすることで、界面反射を低減し、より高い光取り出し効率を得ることができる。 Further, also in the application example of B), the member for the semiconductor light emitting device according to the present embodiment can exhibit the same excellent performance as the application example of A) above, and also has a phosphor and a phosphor component. By holding the above, it is possible to form a phosphor portion having high durability and high light extraction efficiency. Further, when the member for the semiconductor light emitting device holds the transparent high refractive index component in addition to the phosphor and the phosphor component, the refractive index of the member for the semiconductor light emitting device is set to be close to the refractive index of the light emitting element or the phosphor. As a result, interfacial reflection can be reduced and higher light extraction efficiency can be obtained.

[A.蛍光を利用しない実施形態]
〔実施形態A〕
本実施形態の発光装置1Aは、図1に示すように、プリント配線17が施された絶縁基板16上に発光素子2が表面実装されている。この発光素子2は発光層部21のp形半導体層(図示せず)及びn形半導体層(図示せず)それぞれが、導電ワイヤ15,15を介してプリント配線17,17に電気的に接続されている。なお、導電ワイヤ15,15は、発光素子2から放射される光を妨げないように、断面積の小さいものが用いられている。
ここにおいて、発光素子2としては、紫外〜赤外域までどのような波長の光を発するものを用いてもよいが、ここでは、窒化ガリウム系のLEDチップを用いているものとする。また、この発光素子2は、図1における下面側にn形半導体層(図示せず)、上面側にp形半導体層(図示せず)が形成されており、p形半導体層側から光出力を取り出すから図1の上方を前方として説明する。
[A. Embodiments that do not use fluorescence]
[Embodiment A]
In the light emitting device 1A of the present embodiment, as shown in FIG. 1, the light emitting element 2 is surface-mounted on the insulating substrate 16 on which the printed wiring board 17 is provided. In the light emitting element 2, the p-type semiconductor layer (not shown) and the n-type semiconductor layer (not shown) of the light emitting layer portion 21 are electrically connected to the printed wirings 17 and 17 via the conductive wires 15 and 15, respectively. Has been done. The conductive wires 15 and 15 have a small cross-sectional area so as not to interfere with the light emitted from the light emitting element 2.
Here, as the light emitting element 2, an element that emits light of any wavelength from the ultraviolet to the infrared region may be used, but here, it is assumed that a gallium nitride based LED chip is used. Further, in this light emitting element 2, an n-type semiconductor layer (not shown) is formed on the lower surface side in FIG. 1 and a p-type semiconductor layer (not shown) is formed on the upper surface side, and light is output from the p-type semiconductor layer side. Will be described with the upper part of FIG. 1 as the front.

また、絶縁基板16上には発光素子2を囲む枠状の枠材18が固着されており、枠材18の内側には発光素子2を封止・保護する封止部19を設けてある。この封止部19は、本発明の半導体発光デバイス用部材である透明部材3Aにより形成されたもので、上記の硬化性ポリシロキサン組成物でポッティングを行なうことにより形成できる。
しかして、本実施形態の発光装置1Aは、発光素子2と、透明部材3Aとを備えているため、発光装置1Aの耐光性、耐熱性を向上させることができる。また、封止部3Aにクラックや剥離が起きにくいため、封止部3Aの透明性を高めることが可能となる。
Further, a frame-shaped frame member 18 surrounding the light emitting element 2 is fixed on the insulating substrate 16, and a sealing portion 19 for sealing and protecting the light emitting element 2 is provided inside the frame material 18. The sealing portion 19 is formed of the transparent member 3A, which is a member for a semiconductor light emitting device of the present invention, and can be formed by potting with the above-mentioned curable polysiloxane composition.
Since the light emitting device 1A of the present embodiment includes the light emitting element 2 and the transparent member 3A, the light resistance and heat resistance of the light emitting device 1A can be improved. Further, since cracks and peeling are unlikely to occur in the sealing portion 3A, the transparency of the sealing portion 3A can be improved.

さらに、従来に比べて光色むらや光色ばらつきを少なくすることができるとともに、外部への光の取り出し効率を高めることができる。すなわち、封止部3Aを、曇りや濁りがなく透明性が高いものとすることができるため、光色の均一性に優れ、発光装置1A間の光色ばらつきもほとんどなく、発光素子2の光の外部への取り出し効率を従来に比べて高めることができる。また、発光物質の耐候性を高めることができ、従来に比べて発光装置1Aの長寿命化を図ることが可能となる。 Further, it is possible to reduce the light color unevenness and the light color variation as compared with the conventional case, and it is possible to improve the efficiency of extracting light to the outside. That is, since the sealing portion 3A can be made highly transparent without fogging or turbidity, the uniformity of the light color is excellent, there is almost no variation in the light color between the light emitting devices 1A, and the light of the light emitting element 2 It is possible to improve the efficiency of taking out the light to the outside as compared with the conventional case. In addition, the weather resistance of the luminescent substance can be enhanced, and the life of the luminescent device 1A can be extended as compared with the conventional case.

[B.蛍光を利用する実施形態]
〔実施形態B〕
実施形態Bは、封止部3Aに適宜蛍光体を添加して蛍光体部を形成する以外は、実施形態Aに準じた構成とすることができる。封止部3Aに添加する蛍光体の種類、量は、半導体発光装置に要求される出射光のスペクトルにより適宜選択される。なお、蛍光体部は発光装置1Aの上部に積層するように配置してもよい。
[B. Embodiment using fluorescence]
[Embodiment B]
The configuration B of the embodiment can be the same as that of the embodiment A, except that a phosphor is appropriately added to the sealing portion 3A to form the phosphor portion. The type and amount of the phosphor added to the sealing portion 3A are appropriately selected according to the spectrum of the emitted light required for the semiconductor light emitting device. The phosphor portion may be arranged so as to be laminated on the upper part of the light emitting device 1A.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、それらは本発明の説明を目的とするものであって、本発明をこれらの態様に限定することを意図したものではない。
[実施例1]
(A)両末端がシラノール基で封鎖されたポリジメチルシロキサン(Si−OH:0.13mmol/g)100重量部、(B)両末端がトリメチルシリル基で封鎖されたメチルヒドロシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体(粘度20mm/s、Si−H:7.5mmol/g)7.23重量部、(C)白金錯体触媒としてモメンティブ製XC86−250 0.23重量部、(D−1)2−エチルヘキサン酸セリウム49% in 2−エチルヘキサン酸、Ce12%(和光純薬工業株式会社)0.003重量部、(E)1−エチニル−1−シクロヘキサノール0.006重量部、を秤量、混合し、硬化性ポリシロキサン組成物を得た。
硬化性ポリシロキサン組成物2.2gを直径5cmのポリテトラフルオロエチレン製シャーレに入れ、真空デシケーター内で数分間脱気した後、恒温器中、100℃にて1時間、150℃にて5時間保持し、厚さ約1mmのエラストマー状硬化物を得た。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but they are for the purpose of explaining the present invention and are not intended to limit the present invention to these aspects.
[Example 1]
(A) 100 parts by weight of polydimethylsiloxane (Si-OH: 0.13 mmol / g) with both ends sealed with silanol groups, (B) methylhydrosiloxane-dimethylsiloxane co-weight with both ends sealed with trimethylsilyl groups Combined (viscosity 20 mm 2 / s, Si—H: 7.5 mmol / g) 7.23 parts by weight, (C) Momentive XC86-250 0.23 parts by weight as a platinum complex catalyst, (D-1) 2-ethyl 49% by weight of cerium hexanoate in 2-ethylhexanoic acid, 0.003 parts by weight of Ce (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.006 parts by weight of (E) 1-ethynyl-1-cyclohexanol were weighed and mixed. , A curable polysiloxane composition was obtained.
2.2 g of the curable polysiloxane composition was placed in a polytetrafluoroethylene petri dish having a diameter of 5 cm, degassed in a vacuum desiccator for several minutes, and then in an incubator at 100 ° C. for 1 hour and at 150 ° C. for 5 hours. It was held and an elastomeric cured product having a thickness of about 1 mm was obtained.

[実施例2〜6、参考例1、比較例1〜4]
D成分として、以下の化合物を用いた以外は、実施例1と同様にして、表1に示す組成の硬化性ポリシロキサン組成物と、厚さ約1mmのエラストマー状硬化物を得た。
(D−1)2-エチルヘキサン酸セリウム49% in 2-エチルヘキサン酸、Ce12%(和光純薬工業株式会社)
(D−2)8%オクチル酸インジウム(新興化学工業株式会社)
(D−3)Zirconyl 2−ethylhexanoate in mineral spirits(〜6%Zr)(STREM CHEMICALS)
(D−4)2−エチルヘキサン酸亜鉛ミネラルスピリット溶液(Zn:15%)(和光純薬工業株式会社)
(D−5)NanoTek Powder CeO(シーアイ化成株式会社)
(D−6)UEP酸化ジルコニウム ZrO(第一稀元素化学工業株式会社)
[Examples 2 to 6, Reference Example 1 , Comparative Examples 1 to 4]
A curable polysiloxane composition having the composition shown in Table 1 and an elastomeric cured product having a thickness of about 1 mm were obtained in the same manner as in Example 1 except that the following compound was used as the D component.
(D-1) Cerium 2-ethylhexanoate 49% in 2-ethylhexanoic acid, Ce 12% (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(D-2) 8% indium octylate (Shinshin Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(D-3) Zirconyl 2-ethylhexanoate in minor spirits (~ 6% Zr) (STREM CHEMICALS)
(D-4) Zinc Mineral Spirit Solution 2-Ethylhexanoate (Zn: 15%) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(D-5) NanoTek Powder CeO 2 (CI Kasei Co., Ltd.)
(D-6) UEP Zirconium Oxide ZrO 2 (Daiichi Rare Element Chemical Industry Co., Ltd.)

表1に示す各試験方法は次の通りである。
[ショアA硬度]
厚さ約1mmのエラストマー状硬化物を中心から放射線状に6等分したピースを6枚重ね、ショアA硬度を測定した。測定後のピースをテフロン(登録商標)板の上に円形に並べて230℃の恒温器で500時間保持した後、ピースを6枚重ね、ショアA硬度を測定した。
[重量変化]
厚さ約1mmのエラストマー状硬化物を230℃の恒温器で500時間保持した後、重量を測定し、初期値と比較した。
[クラック試験]
厚さ約1mmのエラストマー状硬化物を中心から放射線状に6等分した1/6のピースをアルミ板にのせ、260℃の電気炉で24時間保持し、室温に冷ました後、クラックの有無を目視観察した。
Each test method shown in Table 1 is as follows.
[Shore A hardness]
The Shore A hardness was measured by stacking six pieces of an elastomeric cured product having a thickness of about 1 mm, which were radially divided into six equal parts from the center. The measured pieces were arranged in a circle on a Teflon (registered trademark) plate and held in an incubator at 230 ° C. for 500 hours, and then six pieces were stacked and the Shore A hardness was measured.
[Weight change]
After holding the elastomeric cured product having a thickness of about 1 mm in an incubator at 230 ° C. for 500 hours, the weight was measured and compared with the initial value.
[Crack test]
A 1/6 piece of an elastomeric cured product with a thickness of about 1 mm divided into 6 equal parts radially from the center is placed on an aluminum plate, held in an electric furnace at 260 ° C. for 24 hours, cooled to room temperature, and then cracked. Was visually observed.

Figure 0006873654
Figure 0006873654

比較例では、230℃500時間経過後の硬度変化と重量変化が共に大きく、クラック試験で概ねNGであった。酸化ジルコニウムの添加量が多い比較例4は、クラック試験では問題無かったものの硬化物が不透明であった。
Ceを有効量添加した組成物は、230℃500時間経過後の重量変化が顕著に小さい。
In the comparative example, both the hardness change and the weight change after the lapse of 500 hours at 230 ° C. were large, and the crack test was generally NG. In Comparative Example 4 in which the amount of zirconium oxide added was large, there was no problem in the crack test, but the cured product was opaque.
In the composition to which an effective amount of Ce was added, the weight change after the lapse of 500 hours at 230 ° C. was remarkably small.

Claims (8)

(A)シラノール基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物、(B)ヒドロシリル基を一分子中に2個以上含有するシロキサン化合物、(C)白金族金属触媒、並びに、(D)有機カルボン酸金属塩を含有し、
前記(B)の化合物が有するヒドロシリル基の合計と、前記(A)の化合物が有するシラノール基の合計と、のモル比SiH/SiOHが1〜20であり、前記(D)の化合物における金属の含有量が、(A)の化合物と(B)の化合物の合計重量に対し1ppm以上であることを特徴とする硬化性ポリシロキサン組成物。
(A) A siloxane compound containing two or more silanol groups in one molecule, (B) a siloxane compound containing two or more hydrosilyl groups in one molecule, (C) a platinum group metal catalyst, and (D) an organic Contains a carboxylic acid metal salt ,
The molar ratio SiH / SiOH of the total hydrosilyl groups of the compound (B) and the total silanol groups of the compound (A) is 1 to 20, and the metal in the compound (D). A curable polysiloxane composition having a content of 1 ppm or more based on the total weight of the compound (A) and the compound (B).
更に(E)反応抑制剤を含有することを特徴とする、請求項1に記載の硬化性ポリシロキサン組成物。 The curable polysiloxane composition according to claim 1, further comprising (E) a reaction inhibitor. 前記(D)の化合物が、2−エチルヘキサン酸もしくはオクチル酸の金属塩を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の硬化性ポリシロキサン組成物。 The curable polysiloxane composition according to claim 1 or 2, wherein the compound (D) contains a metal salt of 2-ethylhexanoic acid or octyl acid. 前記(D)の化合物が、2−エチルヘキサン酸セリウムを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性ポリシロキサン組成物。 The curable polysiloxane composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound (D) contains cerium 2-ethylhexanoate. 温度20℃での屈折率が、1.46以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性ポリシロキサン組成物。 The curable polysiloxane composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the refractive index at a temperature of 20 ° C. is 1.46 or less. 前記(D)の化合物が有機カルボン酸金属塩を含み、該有機カルボン酸金属塩と有機カルボン酸とを組成物中で共存させることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性ポリシロキサン組成物。 The invention according to any one of claims 1 to 5, wherein the compound (D) contains an organic carboxylic acid metal salt, and the organic carboxylic acid metal salt and the organic carboxylic acid coexist in the composition. Curable polysiloxane composition. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性ポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする半導体発光装置用封止材。 A sealing material for a semiconductor light emitting device, which comprises the curable polysiloxane composition according to any one of claims 1 to 6. 請求項7に記載の封止材の硬化物を備えた半導体発光装置。 A semiconductor light emitting device comprising the cured product of the sealing material according to claim 7.
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