JP6848168B2 - Calibration device for surface shape measuring machine - Google Patents

Calibration device for surface shape measuring machine Download PDF

Info

Publication number
JP6848168B2
JP6848168B2 JP2017071772A JP2017071772A JP6848168B2 JP 6848168 B2 JP6848168 B2 JP 6848168B2 JP 2017071772 A JP2017071772 A JP 2017071772A JP 2017071772 A JP2017071772 A JP 2017071772A JP 6848168 B2 JP6848168 B2 JP 6848168B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stylus
gauge
arm
calibration
axial direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017071772A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018173349A (en
Inventor
山内 康弘
康弘 山内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2017071772A priority Critical patent/JP6848168B2/en
Publication of JP2018173349A publication Critical patent/JP2018173349A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6848168B2 publication Critical patent/JP6848168B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Description

本発明は、アームの先端に第1触針及び第2触針を有する表面形状測定機の校正装置に関する。 The present invention relates to a calibration device for a surface shape measuring machine having a first stylus and a second stylus at the tip of an arm.

回転軸を支点として揺動自在に取り付けられたアームと、アームの先端に設けられた下向き触針(第1触針)及び上向き触針(第2触針)とを有するT字型のスタイラスを用いて、ワーク(被測定物)の表面の輪郭形状及び表面粗さ等の表面形状を測定する表面形状測定機が知られている。この表面形状測定機では、下向き触針又は上向き触針をワーク表面に接触させた状態で、スタイラスとワークとを水平方向に相対移動させることにより、下向き触針又は上向き触針でワーク表面をトレースしながら、アームの揺動による変位を検出器で検出することで、ワークの表面形状を測定する。 A T-shaped stylus having an arm that is swingably attached with the rotation axis as a fulcrum, and a downward stylus (first stylus) and an upward stylus (second stylus) provided at the tip of the arm. There is known a surface shape measuring machine that measures the surface shape such as the contour shape and surface roughness of the surface of a work (object to be measured) by using it. In this surface shape measuring machine, the surface of the work is traced by the downward or upward stylus by moving the stylus and the work relative to each other in the horizontal direction while the downward or upward stylus is in contact with the work surface. At the same time, the surface shape of the work is measured by detecting the displacement due to the swing of the arm with the detector.

このような表面形状測定機では、ワークの表面形状の測定精度を十分に確保するために、下向き触針及び上向き触針の双方の先端部形状(先端半径値等)、アームの支点に対する双方の先端部位置、及び双方の先端部位置間の位置ずれ(オフセット)などを校正する校正値を事前に求めておき、この校正値に基づき測定データを補正している。 In such a surface shape measuring machine, in order to sufficiently secure the measurement accuracy of the surface shape of the work, both the tip shape (tip radius value, etc.) of both the downward touch needle and the upward touch needle, and both of them with respect to the fulcrum of the arm. A calibration value for calibrating the tip position and the positional deviation (offset) between both tip positions is obtained in advance, and the measurement data is corrected based on this calibration value.

例えば、特許文献1には、下向き触針で基準球(校正球又はボールゲージともいう)及びブロックゲージ等の各種ゲージの上側表面をトレースして得られた基準球の測定データと、上向き触針で各種ゲージの下側表面をトレースして得られた検出器の検出結果とを、非線形最小二乗法を用いて既知の基準球の設計情報と比較した結果に基づき、各校正値を算出する表面形状測定機が開示されている。 For example, Patent Document 1 describes measurement data of a reference sphere obtained by tracing the upper surface of various gauges such as a reference sphere (also referred to as a calibration ball or a ball gauge) and a block gauge with a downward stylus, and an upward stylus. The surface for which each calibration value is calculated based on the result of comparing the detection result of the detector obtained by tracing the lower surface of various gauges with the design information of the known reference sphere using the nonlinear least squares method. The shape measuring machine is disclosed.

特開2016−151497号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-151497 特開2012−211891号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-211891 特開平10−332304号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-332304

図28は、従来技術の課題を説明するための説明図である。なお、図28では、不図示の揺動支点軸を支点として、T字型のスタイラス110のアーム111を第1揺動方向SW1に揺動させることで、下向き触針112をゲージ114の上面に接触させ、この下向き触針112によりゲージ114の上面を水平方向(X軸方向)トレースしている。また、アーム111を第2揺動方向SW2に揺動させることで、上向き触針113によりゲージ114の下面に接触させ、この上向き触針113によりゲージ114の下面を水平方向にトレースしている。 FIG. 28 is an explanatory diagram for explaining a problem of the prior art. In FIG. 28, the downward stylus 112 is placed on the upper surface of the gauge 114 by swinging the arm 111 of the T-shaped stylus 110 in the first swing direction SW1 with the swing fulcrum axis (not shown) as a fulcrum. The upper surface of the gauge 114 is traced in the horizontal direction (X-axis direction) by the downward stylus 112 in contact with the gauge 114. Further, by swinging the arm 111 in the second swing direction SW2, the upward stylus 113 contacts the lower surface of the gauge 114, and the upward stylus 113 traces the lower surface of the gauge 114 in the horizontal direction.

図28に示すように、小穴の測定に用いられるスタイラス110では、各触針112,113の長さが短くなる。このため、ゲージ114の上下面を上下方向(外側)から挟み込むようにアーム111を揺動させて、各触針112,113によりゲージ114の上下面のトレースを行う場合には、ゲージ114へのアーム111の干渉が発生する。このため、アーム111の揺動支点軸の上下方向(Z軸方向)の位置を変えることなく、アーム111の水平方向の移動だけで、各触針112,113によるゲージ114の上下面のトレースを行うことはできない。 As shown in FIG. 28, in the stylus 110 used for measuring the small hole, the lengths of the styluses 112 and 113 are shortened. Therefore, when the arm 111 is swung so as to sandwich the upper and lower surfaces of the gauge 114 from the vertical direction (outside) and the upper and lower surfaces of the gauge 114 are traced by the stylus 112 and 113, the gauge 114 is used. Interference of the arm 111 occurs. Therefore, the upper and lower surfaces of the gauge 114 can be traced by the stylus 112 and 113 only by moving the arm 111 in the horizontal direction without changing the position of the swing fulcrum axis of the arm 111 in the vertical direction (Z-axis direction). You can't do it.

従って、ゲージ114の上面を下向き触針112によってトレースする場合と、ゲージ114の下面を上向き触針113によってトレースする場合とにおいて、アーム111の揺動支点軸の上下方向(Z軸方向)の位置PZを変える必要が生じる。このため、スタイラス110の校正値を求める場合には、各触針112,113の上下方向の変位だけでなく、アーム111の揺動支点軸(スタイラス110を保持するホルダ等)の上下方向の変位を考慮する必要が生じる。その結果、スタイラス110の校正値に誤差が発生するおそれがあり、スタイラス110の校正を高精度に行うことができないという問題がある。 Therefore, in the case where the upper surface of the gauge 114 is traced by the downward stylus 112 and the case where the lower surface of the gauge 114 is traced by the upward stylus 113, the position of the swing fulcrum axis of the arm 111 in the vertical direction (Z-axis direction). It becomes necessary to change the PZ. Therefore, when obtaining the calibration value of the stylus 110, not only the vertical displacement of the stylus 112 and 113 but also the vertical displacement of the swing fulcrum axis of the arm 111 (holder holding the stylus 110, etc.) Need to be considered. As a result, there is a possibility that an error may occur in the calibration value of the stylus 110, and there is a problem that the stylus 110 cannot be calibrated with high accuracy.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、高精度な校正を簡単に行うことができる表面形状測定機の校正装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a calibration device for a surface shape measuring machine capable of easily performing high-precision calibration.

本発明の目的を達成するための表面形状測定機の校正装置は、第1軸方向に平行な回転軸を支点として第1揺動方向と第2揺動方向とに揺動自在に支持されたアームと、アームの先端に設けられ且つ第1揺動方向に向かって突出する第1触針及び第2揺動方向に向かって突出する第2触針と、第1触針及び第2触針の両触針の一方をワークに接触させた状態で、ワークに対してアームを第1軸方向に垂直な第2軸方向に相対移動させる移動機構と、アームの揺動による変位を検出する検出器と、を備える表面形状測定機の校正装置において、アームの第1揺動方向の揺動によって第1触針と接触する第1面であって、且つ第1軸方向及び第2軸方向の双方向に平行な第1面を有する第1ゲージと、アームの第2揺動方向の揺動によって第2触針と接触する双方向に平行な第2面であって、且つ第1面に対して双方向に垂直な第3軸方向に第1面間隔をあけて対向配置された第2面を有する第2ゲージと、を備え、アームが第1揺動方向に最も揺動した状態での第1触針の先端位置と、第2揺動方向に最も揺動した状態での第2触針の先端位置と、の第3軸方向の間隔を第1位置間隔とした場合、第1面間隔が第1位置間隔よりも狭く調整されている。 The calibration device of the surface shape measuring machine for achieving the object of the present invention is swingably supported in the first swing direction and the second swing direction with a rotation axis parallel to the first axis direction as a fulcrum. An arm, a first stylus provided at the tip of the arm and projecting in the first swing direction, a second stylus projecting in the second swing direction, and a first stylus and a second stylus. With one of the two stylus in contact with the work, a moving mechanism that moves the arm relative to the work in the second axis direction perpendicular to the first axis direction, and detection that detects displacement due to the swing of the arm. In the calibration device of the surface shape measuring machine including the device, it is the first surface that comes into contact with the first stylus due to the swing of the arm in the first swing direction, and is in the first axial direction and the second axial direction. A first gauge having a first surface parallel to both directions, and a second surface parallel to both directions that comes into contact with a second stylus by swinging in the second swing direction of the arm, and on the first surface A second gauge having a second surface arranged so as to face each other with a first surface interval in the third axis direction perpendicular to both directions is provided, and the arm swings most in the first swing direction. When the distance between the tip position of the first stylus and the tip position of the second stylus in the state of being most swung in the second swing direction in the third axial direction is defined as the first position spacing, the first The surface spacing is adjusted to be narrower than the first position spacing.

この表面形状測定機の校正装置によれば、回転軸の第3軸方向の位置を変えることなく、第1触針による第1面のトレースと、第2触針による第2面のトレースとを行うことができる。 According to the calibration device of this surface shape measuring machine, the trace of the first surface by the first stylus and the trace of the second surface by the second stylus can be performed without changing the position of the rotating shaft in the third axis direction. It can be carried out.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、第1面の一部と第2面の一部との間に設けられ、第1面間隔に対応する厚みを有する中央ゲージを備える。これにより、第1面と第2面との間隔を第1面間隔に調整することができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, a central gauge provided between a part of the first surface and a part of the second surface and having a thickness corresponding to the distance between the first surfaces is provided. Be prepared. Thereby, the distance between the first surface and the second surface can be adjusted to the first surface interval.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、第1面と第2面との間の中間位置が、回転軸の第3軸方向の位置に一致している。これにより、回転軸の第3軸方向の位置を変えることなく、第1触針による第1面のトレースと、第2触針による第2面のトレースとを行うことができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the intermediate position between the first surface and the second surface coincides with the position of the rotation axis in the third axis direction. Thereby, the trace of the first surface by the first stylus and the trace of the second surface by the second stylus can be performed without changing the position of the rotation axis in the third axis direction.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、第1面に第1触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが第1面に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器から検出結果を取得する第1面検出結果取得部と、第2面に第2触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが第2面に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器から検出結果を取得する第2面検出結果取得部と、第1面検出結果取得部及び第2面検出結果取得部がそれぞれ取得した検出結果に基づき、両触針の第3軸方向の触針高さの差を校正する第1校正部と、を備える。これにより、触針高さの差の校正を高精度に行うことができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the arm moves relative to the first surface in the second axial direction by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the first surface. While the detection result is acquired from the detector, the arm moves to the second surface with respect to the second surface by the moving mechanism in a state where the first surface detection result acquisition unit and the second stylus are in contact with the second surface. Based on the detection results acquired by the second surface detection result acquisition unit, the first surface detection result acquisition unit, and the second surface detection result acquisition unit, which acquire the detection results from the detector while being relatively moved in the axial direction. A first calibration unit for calibrating the difference in the height of the stylus in the third axis direction of both stylus is provided. As a result, the difference in the height of the stylus can be calibrated with high accuracy.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、第3軸方向の中で第1面から第2面に向かう側を第3軸方向一方側とし、第2面から第1面に向かう側を第3軸方向他方側とした場合、第1面に対して第2軸方向にずれた位置からさらに第1面に対して第3軸方向他方側に第2面間隔をあけた位置に設けられた第3面であって、アームの第1揺動方向の揺動によって第1触針と接触する双方向に平行な第3面を有する第1ベースと、第2面に対して第2軸方向にずれた位置からさらに第2面に対して第3軸方向一方側に第3面間隔をあけた位置に設けられた第4面であって、アームの第2揺動方向の揺動によって第2触針と接触する双方向に平行な第4面を有する第2ベースと、を備え、第1面間隔は、第3面と第4面との間の第3軸方向の間隔を、第1位置間隔よりも狭くする大きさに調整されている。これにより、回転軸の第3軸方向の位置を変えることなく、第1触針による第1面及び第3面のトレースと、第2触針による第2面及び第4面のトレースとを全て行うことができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the side from the first surface to the second surface in the third axial direction is defined as one side in the third axial direction, and the second surface to the first surface. When the side facing the third axis is the other side in the third axial direction, a second surface spacing is provided on the other side in the third axial direction with respect to the first surface from a position shifted in the second axial direction with respect to the first surface. With respect to the first base and the second surface, which are the third surfaces provided at the positions and have the third surface parallel to the first stylus in contact with the first stylus due to the swing in the first swing direction of the arm. This is the fourth surface provided at a position at which the third surface is spaced apart from the position deviated in the second axial direction on one side in the third axial direction with respect to the second surface, and is the second swing direction of the arm. A second base having a fourth surface parallel to each other in both directions which comes into contact with the second stylus due to the swing of the first surface is provided, and the distance between the first surfaces is the third axial direction between the third surface and the fourth surface. The spacing between the two is adjusted to be narrower than the first position spacing. As a result, the traces of the first and third surfaces by the first stylus and the traces of the second and fourth surfaces by the second stylus are all traced without changing the position of the rotation axis in the third axis direction. It can be carried out.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、第1面に第1触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが第1面に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器から検出結果を取得する第1面検出結果取得部と、第2面に第2触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが第2面に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器から検出結果を取得する第2面検出結果取得部と、第3面に第1触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが第3面に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器から検出結果を取得する第3面検出結果取得部と、第4面に第2触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが第4面に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器から検出結果を取得する第4面検出結果取得部と、第1面検出結果取得部及び第3面検出結果取得部がそれぞれ取得した検出結果に基づき、第1触針に対応する検出器の感度を校正し、且つ第2面検出結果取得部及び第4面検出結果取得部がそれぞれ取得した検出結果に基づき、第2触針に対応する検出器の感度を校正する第2校正部と、を備える。これにより、検出器の感度の校正をより高精度に行うことができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the arm moves relative to the first surface in the second axial direction by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the first surface. While the detection result is acquired from the detector, the arm moves to the second surface with respect to the second surface by the moving mechanism in a state where the first surface detection result acquisition unit and the second stylus are in contact with the second surface. While the arm is relatively moved in the axial direction, the arm is moved to the third surface by the moving mechanism in a state where the second surface detection result acquisition unit that acquires the detection result from the detector and the first stylus are in contact with the third surface. While being relatively moved in the second axial direction with respect to the third surface, the detection result acquisition unit that acquires the detection result from the detector and the second stylus in contact with the fourth surface are brought into contact with each other by the moving mechanism. The fourth surface detection result acquisition unit, the first surface detection result acquisition unit, and the third surface detection result that acquire the detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axis direction with respect to the fourth surface. Based on the detection results acquired by each acquisition unit, the sensitivity of the detector corresponding to the first stylus is calibrated, and based on the detection results acquired by the second surface detection result acquisition unit and the fourth surface detection result acquisition unit, respectively. , A second calibration unit for calibrating the sensitivity of the detector corresponding to the second stylus. As a result, the sensitivity of the detector can be calibrated with higher accuracy.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、アームが第2揺動方向に最も揺動した状態での第1触針の先端位置と、第1揺動方向に最も揺動した状態での第2触針の先端位置と、の第3軸方向の間隔を第2位置間隔とした場合、第2位置間隔よりも直径の小さい基準球、又は第1軸方向に平行で且つ第2位置間隔よりも直径の小さいピンゲージを、校正部材として備える。これにより、回転軸の第3軸方向の位置を変えることなく、第1触針による校正部材と、第2触針による校正部材のトレースとを行うことができるので、校正値を高精度に求めることができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the tip position of the first stylus in the state where the arm swings most in the second swing direction and the most swing in the first swing direction. When the distance between the tip position of the second stylus and the tip position in the third axial direction is the second position distance, the reference sphere having a diameter smaller than the second position distance or parallel to the first axial direction and A pin gauge having a diameter smaller than that of the second position spacing is provided as a calibration member. As a result, the calibration member by the first stylus and the calibration member by the second stylus can be traced without changing the position of the rotation axis in the third axis direction, so that the calibration value can be obtained with high accuracy. be able to.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、校正部材の第3軸方向の中心位置が、回転軸の第3軸方向の位置に一致している。これにより、回転軸の第3軸方向の位置を変えることなく、第1触針による校正部材のトレースと、第2触針による校正部材のトレースとを行うことができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the center position of the calibration member in the third axis direction coincides with the position of the rotation axis in the third axis direction. As a result, the calibration member can be traced by the first stylus and the calibration member can be traced by the second stylus without changing the position of the rotating shaft in the third axis direction.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、校正部材に第1触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが校正部材に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器からそれぞれ検出結果を取得する第1曲面検出結果取得部と、校正部材に第2触針を接触させた状態で、移動機構によりアームが校正部材に対して第2軸方向に相対移動されている間、検出器からそれぞれ検出結果を取得する第2曲面検出結果取得部と、第1曲面検出結果取得部及び第2曲面検出結果取得部がそれぞれ取得した検出器の検出結果に基づき、両触針の先端部形状と、支点に対する両触針の先端部位置と、両触針の先端部位置の第2軸方向の位置ずれと、の少なくともいずれか1つを校正する第3校正部と、を備える。これにより、両触針の先端部形状と、支点に対する両触針の先端部位置と、両触針の先端部位置の第2軸方向の位置ずれと、の少なくともいずれか1つを簡単かつ高精度に校正することができる。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the arm is moved relative to the calibration member in the second axial direction by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the calibration member. While the detector is in contact with the first curved surface detection result acquisition unit that acquires the detection results from the detector and the second stylus in contact with the calibration member, the moving mechanism causes the arm to move in the second axial direction with respect to the calibration member. The detection results of the second curved surface detection result acquisition unit, which acquires the detection results from the detectors while they are being moved relative to each other, and the detectors acquired by the first curved surface detection result acquisition unit and the second curved surface detection result acquisition unit, respectively. Based on this, at least one of the shape of the tip of both tentacles, the position of the tip of both tentacles with respect to the fulcrum, and the misalignment of the tip of both tentacles in the second axial direction is calibrated. It is equipped with a calibration unit. As a result, at least one of the shape of the tip of both tentacles, the position of the tip of both tentacles with respect to the fulcrum, and the misalignment of the tip of both tentacles in the second axial direction can be easily and heightened. It can be calibrated with accuracy.

本発明の表面形状測定機の校正装置は、第1軸方向に平行な回転軸を支点として第1揺動方向と第2揺動方向とに揺動自在に支持されたアームと、アームの先端に設けられ且つ第1揺動方向に向かって突出する第1触針及び第2揺動方向に向かって突出する第2触針と、第1触針及び第2触針の両触針の一方をワークに接触させた状態で、ワークに対してアームを第1軸方向に垂直な第2軸方向に相対移動させる移動機構と、アームの揺動による変位を検出する検出器と、を備える表面形状測定機の校正装置において、基準球、又は第1軸方向に平行なピンゲージを校正部材として備え、第1揺動方向及び第2揺動方向の双方向に垂直な方向を第3軸方向とし、アームが第2揺動方向に最も揺動した状態での第1触針の先端位置と、第1揺動方向に最も揺動した状態での第2触針の先端位置と、の第3軸方向の間隔を第2位置間隔とした場合、校正部材の直径が第2位置間隔よりも小さい。 The calibration device of the surface shape measuring machine of the present invention has an arm that is swingably supported in the first swing direction and the second swing direction with a rotation axis parallel to the first axis direction as a fulcrum, and the tip of the arm. One of the first stylus and the second stylus protruding in the second rocking direction, and both the first stylus and the second stylus A surface including a moving mechanism that moves the arm relative to the work in the second axial direction perpendicular to the first axial direction, and a detector that detects displacement due to the swing of the arm. In the calibrator device of the shape measuring machine, a reference sphere or a pin gauge parallel to the first axial direction is provided as a calibrator member, and the direction perpendicular to both directions of the first oscillating direction and the second oscillating direction is defined as the third axial direction. , The third of the tip position of the first stylus in the state where the arm swings most in the second swing direction and the tip position of the second stylus in the state where the arm swings most in the first swing direction. When the axial spacing is the second position spacing, the diameter of the calibration member is smaller than the second position spacing.

本発明の他の態様に係る表面形状測定機の校正装置において、校正部材の第3軸方向の中心位置が、回転軸の第3軸方向の位置に一致している。 In the calibration device of the surface shape measuring machine according to another aspect of the present invention, the center position of the calibration member in the third axis direction coincides with the position of the rotation axis in the third axis direction.

本発明の表面形状測定機の校正装置は、高精度な校正を簡単に行うことができる。 The calibration device of the surface shape measuring machine of the present invention can easily perform high-precision calibration.

表面形状測定機の概略図である。It is the schematic of the surface shape measuring machine. 表面形状測定機の測定対象物であるワークの断面図である。It is sectional drawing of the work which is the object of measurement of a surface shape measuring machine. データ処理装置による測定データの生成について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the generation of the measurement data by a data processing apparatus. (A)は、設計値通りに形成された理想状態のスタイラスの側面図であり、(B)は製造誤差が生じているスタイラスの側面図である。(A) is a side view of the stylus in an ideal state formed according to the design value, and (B) is a side view of the stylus in which a manufacturing error occurs. 校正用ゲージユニットの外観斜視図である。It is an external perspective view of the gauge unit for calibration. 校正用ゲージユニットの側面図である。It is a side view of the gauge unit for calibration. 図6に示した測定箇所P1,P2を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the measurement points P1 and P2 shown in FIG. 図6に示した測定箇所P3,P4を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the measurement points P3 and P4 shown in FIG. 図6に示した測定箇所P5,P6を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the measurement points P5 and P6 shown in FIG. (A),(B)は、ピンゲージの上側表面及び下側表面の測定する際の課題を説明するための説明図である。(A) and (B) are explanatory views for explaining a problem in measuring an upper surface and a lower surface of a pin gauge. (A)〜(C)は、両触針をピンゲージの上側表面及び下側表面に接触させる方法について説明するための説明図である。FIGS. (A) to (C) are explanatory views for explaining a method of bringing both touch needles into contact with the upper surface and the lower surface of the pin gauge. (A),(B)は、表面形状測定機によるピンゲージの上側表面及び下側表面のそれぞれの測定処理の流れを示すフローチャートである。(A) and (B) are flowcharts showing the flow of the measurement process of the upper surface and the lower surface of the pin gauge by the surface shape measuring machine. (A)はピンゲージをX軸方向から見た側面図であり、(B)はピンゲージをZ軸方向から見た上面図である。(A) is a side view of the pin gauge viewed from the X-axis direction, and (B) is a top view of the pin gauge viewed from the Z-axis direction. (A)は、基準球をX軸方向から見た側面図であり、(B)は基準球をZ軸方向から見た上面図である。(A) is a side view of the reference sphere seen from the X-axis direction, and (B) is a top view of the reference sphere seen from the Z-axis direction. (A),(B)は、表面形状測定機によるゲージ上面及びゲージ下面のそれぞれの測定処理の流れを示すフローチャートである。(A) and (B) are flowcharts showing the flow of each measurement process of the gauge upper surface and the gauge lower surface by the surface shape measuring machine. (A),(B)は、ゲージ上面及びゲージ下面の測定の効果を説明するための説明図である。(A) and (B) are explanatory views for explaining the effect of measurement of the gauge upper surface and the gauge lower surface. (A),(B)は、表面形状測定機によるベース上面及びベース下面のそれぞれの測定処理の流れを示すフローチャートである。(A) and (B) are flowcharts showing the flow of the measurement processing of the upper surface of the base and the lower surface of the base by the surface shape measuring machine. データ処理装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of a data processing apparatus. 評価値11を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the evaluation value 11. 表面形状測定機の校正方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the calibration method of the surface shape measuring machine. ピンゲージの直径を調整することで得られる効果の説明図である。It is explanatory drawing of the effect obtained by adjusting the diameter of a pin gauge. ピンゲージの直径が、スタイラスのストローク幅よりも大きく形成されている比較例を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the comparative example in which the diameter of a pin gauge is formed larger than the stroke width of a stylus. 中央ブロックゲージの厚みを調整することにより得られる効果の説明図である。It is explanatory drawing of the effect obtained by adjusting the thickness of the central block gauge. ベース間隔がストローク幅よりも大きく形成されている比較例を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the comparative example in which the base spacing is formed larger than the stroke width. 表面形状測定機の校正方法の変形例1を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the modification 1 of the calibration method of a surface shape measuring machine. 表面形状測定機の校正方法の変形例2を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the modification 2 of the calibration method of a surface shape measuring machine. 校正用ゲージユニットの変形例を示した斜視図である。It is a perspective view which showed the modification of the calibration gauge unit. 従来技術の課題を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the problem of the prior art.

[表面形状測定機の構成]
図1は、表面形状測定機10の概略図である。図2は、表面形状測定機10の測定対象物であるワークWの断面図である。図1及び図2に示すように、表面形状測定機10は、ワークWに形成された小穴9の内面の表面形状(輪郭形状又は表面粗さ等)を測定する。なお、ここでいう小穴9とは、例えば直径Dが25mm以下の穴である。また、図中のX軸方向は本発明の第2軸方向に相当し、Y軸方向は本発明の第1軸方向に相当し、Z軸方向は第1軸方向及び第2軸方向の双方向に垂直な本発明の第3軸方向に相当する。
[Structure of surface shape measuring machine]
FIG. 1 is a schematic view of the surface shape measuring machine 10. FIG. 2 is a cross-sectional view of the work W, which is the object to be measured by the surface shape measuring machine 10. As shown in FIGS. 1 and 2, the surface shape measuring machine 10 measures the surface shape (contour shape, surface roughness, etc.) of the inner surface of the small hole 9 formed in the work W. The small hole 9 referred to here is, for example, a hole having a diameter D of 25 mm or less. Further, the X-axis direction in the figure corresponds to the second axis direction of the present invention, the Y-axis direction corresponds to the first axis direction of the present invention, and the Z-axis direction corresponds to both the first axis direction and the second axis direction. Corresponds to the third axial direction of the present invention, which is perpendicular to the direction.

表面形状測定機10は、平板状の測定台12と、コラム14と、送り装置16と、ホルダ17と、T字型のスタイラス18と、第1検出器20と、第2検出器22と、コンピュータ24と、を有している。 The surface shape measuring machine 10 includes a flat plate-shaped measuring table 12, a column 14, a feeding device 16, a holder 17, a T-shaped stylus 18, a first detector 20, a second detector 22, and the like. It has a computer 24 and.

測定台12の上面には、ワークW又は後述の校正用ゲージユニット45(校正冶具ともいう、図5参照)がセットされる。また、測定台12の上面には、Z軸方向(上下方向)に延びたコラム14が設けられている。このコラム14には、移動機構に相当する送り装置16がZ軸方向に移動自在に取り付けられている。 A work W or a calibration gauge unit 45 (also referred to as a calibration jig, which is also referred to as a calibration jig) described later is set on the upper surface of the measuring table 12. Further, a column 14 extending in the Z-axis direction (vertical direction) is provided on the upper surface of the measuring table 12. A feeding device 16 corresponding to a moving mechanism is attached to the column 14 so as to be movable in the Z-axis direction.

送り装置16には、ホルダ17がX軸方向に移動自在に保持されていると共に、第2検出器22が設けられている。ホルダ17には、スタイラス18及び第1検出器20が設けられている。 The feeder 16 is provided with a second detector 22 as well as a holder 17 that is movably held in the X-axis direction. The holder 17 is provided with a stylus 18 and a first detector 20.

スタイラス18は、水平で且つY軸方向に平行な回転軸である揺動支点軸30を支点として揺動自在に支持されているアーム32と、アーム32の先端においてアーム32の揺動方向に突出して設けられた下向き触針34及び上向き触針36と、を有する。アーム32は、揺動支点軸30を支点として第1揺動方向SW1と第2揺動方向SW2とに揺動自在に支持されている。アーム32が水平状態(重力方向に直交している状態)である場合には、アーム32の軸方向はX軸方向と一致し、且つ下向き触針34及び上向き触針36の突出方向はZ軸方向と一致する。なお、下向き触針34及び上向き触針36(以下、単に両触針34,36と略す)の双方の突出方向については、アーム32の軸方向に対して垂直方向に限定されず、この垂直方向に対して傾きを有していてもよい。 The stylus 18 has an arm 32 that is swingably supported with a swing fulcrum shaft 30 that is a rotation axis that is horizontal and parallel to the Y-axis direction as a fulcrum, and a tip of the arm 32 that projects in the swing direction of the arm 32. It has a downward touch needle 34 and an upward touch needle 36 provided therein. The arm 32 is swingably supported in the first swing direction SW1 and the second swing direction SW2 with the swing fulcrum shaft 30 as a fulcrum. When the arm 32 is in a horizontal state (a state orthogonal to the direction of gravity), the axial direction of the arm 32 coincides with the X-axis direction, and the protruding directions of the downward stylus 34 and the upward stylus 36 are the Z-axis. Match the direction. The protruding directions of both the downward stylus 34 and the upward stylus 36 (hereinafter, simply abbreviated as both tactile needles 34 and 36) are not limited to the direction perpendicular to the axial direction of the arm 32, and this vertical direction. It may have an inclination with respect to.

下向き触針34は、本発明の第1触針に相当するものであり、第1揺動方向SW1に突出して設けられている。また、上向き触針36は、本発明の第2触針に相当するものであり、第1揺動方向SW1に突出して設けられている。両触針34,36は、小穴9の測定に対応した長さを有するものが用いられる。例えば本実施形態では、下向き触針34の先端から上向き触針36の先端までの長さLV(図2参照)は、2.4mm〜16mmである。 The downward stylus 34 corresponds to the first stylus of the present invention, and is provided so as to project in the first swing direction SW1. Further, the upward stylus 36 corresponds to the second stylus of the present invention, and is provided so as to project in the first swing direction SW1. Both tactile needles 34 and 36 are used having a length corresponding to the measurement of the small hole 9. For example, in the present embodiment, the length LV (see FIG. 2) from the tip of the downward stylus 34 to the tip of the upward stylus 36 is 2.4 mm to 16 mm.

第1検出器20は、本発明の検出器に相当し、ホルダ17内においてアーム32の基端側に設けられている。第1検出器20は、例えば、アーム32の基端の回転軌跡に沿った形状を有する円弧状スケールと、アーム32の基端に設けられ且つ円弧状スケールを光学的又は磁気的等の各種方法で読み取る読取ヘッドとを有するスケール型検出器である(図3参照)。第1検出器20は、読取ヘッドにより円弧状スケールに形成された目盛りを読み取ることで、揺動支点軸30を支点としたアーム32の揺動による変位(例えば回転角度)を検出する。この第1検出器20の検出結果に基づき、下向き触針34及び上向き触針36のZ軸方向の変位(変位方向、変位量)を検出することができる。 The first detector 20 corresponds to the detector of the present invention and is provided on the proximal end side of the arm 32 in the holder 17. The first detector 20 is, for example, an arc-shaped scale having a shape along the rotation locus of the base end of the arm 32, and various methods such as optical or magnetic for the arc-shaped scale provided at the base end of the arm 32. It is a scale type detector having a reading head to read with (see FIG. 3). The first detector 20 detects the displacement (for example, rotation angle) due to the swing of the arm 32 with the swing fulcrum shaft 30 as the fulcrum by reading the scale formed on the arcuate scale by the reading head. Based on the detection result of the first detector 20, the displacement (displacement direction, displacement amount) of the downward stylus 34 and the upward stylus 36 in the Z-axis direction can be detected.

なお、第1検出器20としてスケール型検出器を用いる代わりに、或いはスケール型検出器と併用して、差動変圧器型センサ、静電容量型センサ、及び渦電流型センサのいずれかを用いた変位センサを用いてもよい。 Instead of using the scale type detector as the first detector 20, or in combination with the scale type detector, any one of the differential transformer type sensor, the capacitance type sensor, and the eddy current type sensor is used. The displacement sensor that has been used may be used.

送り装置16は、ホルダ17をY軸方向に平行な揺動支点軸30(Y軸方向)に対して垂直なX軸方向(水平方向)に移動させることで、ホルダ17を介して揺動支点軸30及び第1検出器20をX軸方向に移動させ、さらに揺動支点軸30を介してアーム32をX軸方向に移動させる。 The feeding device 16 moves the holder 17 in the X-axis direction (horizontal direction) perpendicular to the swing fulcrum axis 30 (Y-axis direction) parallel to the Y-axis direction, thereby causing the swing fulcrum via the holder 17. The shaft 30 and the first detector 20 are moved in the X-axis direction, and the arm 32 is further moved in the X-axis direction via the swing fulcrum shaft 30.

第2検出器22は、例えばX軸方向に延びたリニアスケールと、このリニアスケールを光学的又は磁気的等の各種方法で読み取る読取ヘッドとを有する。第2検出器22は、送り装置16によりX軸方向に移動されるホルダ17のX軸方向の変位(変位方向及び変位量)を検出することで、ホルダ17を介してアーム32等のX軸方向の変位を検出する。なお、第2検出器22として、スケール型検出器以外の検出器を用いてもよい。 The second detector 22 has, for example, a linear scale extending in the X-axis direction and a reading head that reads the linear scale by various methods such as optical or magnetic. The second detector 22 detects the displacement (displacement direction and displacement amount) of the holder 17 moved in the X-axis direction by the feeding device 16 in the X-axis direction, and thereby detects the X-axis of the arm 32 or the like via the holder 17. Detects displacement in the direction. As the second detector 22, a detector other than the scale type detector may be used.

表面形状測定機10では、スタイラス18の両触針34,36の一方を小穴9の内面に接触(当接)させた状態で、送り装置16により、ホルダ17を介してアーム32等をワークWに対してX軸方向に相対移動させる。これにより、両触針34,36の一方により小穴9の内面をX軸方向にトレースしながら、この一方のZ軸方向の変位を表すアーム32の変位を第1検出器20により検出し、且つアーム32のX軸方向の変位を第2検出器22により検出することができる。第1検出器20及び第2検出器22の検出結果はコンピュータ24へ出力される。 In the surface shape measuring machine 10, the arm 32 and the like are moved by the feeding device 16 via the holder 17 in a state where one of the stylus 18's basilar needles 34 and 36 is in contact (contact) with the inner surface of the small hole 9. It is moved relative to the X-axis direction. As a result, while tracing the inner surface of the small hole 9 in the X-axis direction with one of the two stylus 34 and 36, the displacement of the arm 32 representing the displacement in the Z-axis direction of the one is detected by the first detector 20 and The displacement of the arm 32 in the X-axis direction can be detected by the second detector 22. The detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are output to the computer 24.

コンピュータ24は、データ処理装置37と、モニタ38と、キーボード及びマウス等の操作部39と、を有する。データ処理装置37は、CPU(central processing unit)を含む各演算処理回路とメモリ等の記憶媒体とを有し、第1検出器20及び第2検出器22から入力された検出結果をデータ処理して、小穴9の内面の表面形状を示す測定データを生成し、この測定データを記憶すると共にモニタ38に表示させる。 The computer 24 includes a data processing device 37, a monitor 38, and an operation unit 39 such as a keyboard and a mouse. The data processing device 37 has each arithmetic processing circuit including a CPU (central processing unit) and a storage medium such as a memory, and processes the detection results input from the first detector 20 and the second detector 22 as data. Then, measurement data indicating the surface shape of the inner surface of the small hole 9 is generated, and this measurement data is stored and displayed on the monitor 38.

図3は、データ処理装置37による測定データの生成について説明するための説明図である。図3に示すように、データ処理装置37は、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、予め記憶されているスタイラス18等の設計値を校正した校正値とに基づき、下向き触針34の先端34A及び上向き触針36の先端36Aの各々の位置(X軸方向位置、Z軸方向位置)の変位を求めることで、高精度な測定データを生成する。 FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining the generation of measurement data by the data processing device 37. As shown in FIG. 3, the data processing device 37 faces downward based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 and the calibration values obtained by calibrating the design values of the stylus 18 and the like stored in advance. Highly accurate measurement data is generated by obtaining the displacements of the respective positions (X-axis direction position and Z-axis direction position) of the tip 34A of the stylus 34 and the tip 36A of the upward stylus 36.

[設計値]
本実施形態におけるスタイラス18等の設計値には、下記の[表1]に示すものが含まれる。
[Design value]
The design values of the stylus 18 and the like in this embodiment include those shown in [Table 1] below.

Figure 0006848168
Figure 0006848168

[校正値]
図4(A)は、設計値通りに形成された理想状態のスタイラス18の側面図である。図4(B)は、製造誤差が生じているスタイラス18の側面図である。なお、図4(B)では、スタイラス18の製造誤差を実際よりも強調表示している。
[Calibration value]
FIG. 4A is a side view of the stylus 18 in an ideal state formed according to the design value. FIG. 4B is a side view of the stylus 18 in which a manufacturing error has occurred. In FIG. 4B, the manufacturing error of the stylus 18 is highlighted more than it actually is.

図4(A),(B)に示すように、スタイラス18には僅かなりとも製造誤差が生じているので、両触針34,36とアーム32とがなす角度が90°からずれたり、両触針34,36の中心位置がアーム32の中心軸(水平状態ではX軸)に対してZ方向にずれたりする。この場合、先端34A及び先端36Aの双方の先端部位置がX軸方向にΔHだけずれたり、或いはZ軸方向にずれたり(すなわち、両触針34,36の実際のZ軸方向の触針高さLV1a,LV2aにずれが生じたり)する。その結果、両触針34,36にそれぞれ対応する第1検出器20のZ軸方向の感度S1,S2にも差が生じる。 As shown in FIGS. 4A and 4B, since the stylus 18 has a slight manufacturing error, the angle formed by the stylus 34, 36 and the arm 32 may deviate from 90 °, or both. The center positions of the styluses 34 and 36 may be displaced in the Z direction with respect to the center axis of the arm 32 (X axis in the horizontal state). In this case, the tip positions of both the tip 34A and the tip 36A are displaced by ΔH in the X-axis direction or in the Z-axis direction (that is, the actual heights of the stylus 34 and 36 in the Z-axis direction). LV1a and LV2a are displaced). As a result, there is a difference in the sensitivities S1 and S2 in the Z-axis direction of the first detector 20 corresponding to both the stylus 34 and 36, respectively.

また、製造誤差により先端34A及び先端36Aの双方の先端部形状(先端半径値等)にも誤差が生じるおそれがある。 Further, due to a manufacturing error, there is a possibility that an error may occur in the tip shape (tip radius value, etc.) of both the tip 34A and the tip 36A.

そこで、本実施形態では、上記(a)〜(h)の各設計値を校正、すなわち、各設計値を校正した校正値をそれぞれ算出する。また、先端34A及び先端36AのX軸方向の位置ずれと、下向き触針34及び上向き触針36のZ軸方向の触針高さの差とをそれぞれ校正する校正値を算出する。 Therefore, in the present embodiment, each of the design values (a) to (h) is calibrated, that is, the calibration value obtained by calibrating each design value is calculated. Further, a calibration value for calibrating the positional deviation of the tip 34A and the tip 36A in the X-axis direction and the difference in the stylus height of the downward stylus 34 and the upward stylus 36 in the Z-axis direction is calculated.

具体的に、本実施形態における校正値には、下記の[表2]に示すものが含まれる。 Specifically, the calibration values in this embodiment include those shown in [Table 2] below.

Figure 0006848168
Figure 0006848168

これら各校正値は、表面形状測定機10で後述の校正用ゲージユニット45(図5参照)を測定した測定結果(第1検出器20及び第2検出器22の検出結果)に基づき、データ処理装置37によって算出される。従って、データ処理装置37は校正用ゲージユニット45と共に本発明の校正装置として機能する。なお、本発明の校正装置は、校正用ゲージユニット45単体で構成されていてもよい。 Each of these calibration values is data processed based on the measurement results (detection results of the first detector 20 and the second detector 22) obtained by measuring the calibration gauge unit 45 (see FIG. 5) described later with the surface shape measuring machine 10. Calculated by device 37. Therefore, the data processing device 37 functions as the calibration device of the present invention together with the calibration gauge unit 45. The calibration device of the present invention may be composed of the calibration gauge unit 45 alone.

[校正用ゲージユニットの構成]
図5は校正用ゲージユニット45の外観斜視図であり、図6は校正用ゲージユニット45の側面図である。図5及び図6に示すように、校正用ゲージユニット45は、底板46と、コラム47と、天板48と、平面部49と、ピンゲージ50(本発明の校正部材に相当)と、下側ベース51(本発明の第1ベースに相当)と、下側ブロックゲージ52(本発明の第1ゲージに相当)と、中央ブロックゲージ53(本発明の中央ゲージに相当)と、上側ブロックゲージ54(本発明の第2ゲージに相当)と、上側ベース55(本発明の第2ベースに相当)と、を備える。
[Configuration of calibration gauge unit]
FIG. 5 is an external perspective view of the calibration gauge unit 45, and FIG. 6 is a side view of the calibration gauge unit 45. As shown in FIGS. 5 and 6, the calibration gauge unit 45 includes a bottom plate 46, a column 47, a top plate 48, a flat surface portion 49, a pin gauge 50 (corresponding to the calibration member of the present invention), and a lower side. Base 51 (corresponding to the first base of the present invention), lower block gauge 52 (corresponding to the first gauge of the present invention), central block gauge 53 (corresponding to the central gauge of the present invention), and upper block gauge 54 It includes (corresponding to the second gauge of the present invention) and an upper base 55 (corresponding to the second base of the present invention).

底板46のX軸方向一端側の上面には、Z軸方向に延びた直方体形状のコラム47が設けられている。このコラム47の上面には、天板48のX軸方向一端側の下面が固定されている。 A rectangular parallelepiped column 47 extending in the Z-axis direction is provided on the upper surface of the bottom plate 46 on one end side in the X-axis direction. The lower surface of the top plate 48 on one end side in the X-axis direction is fixed to the upper surface of the column 47.

天板48のX軸方向他端側には、水平(XY面に平行)な平面部49が延設されている。この平面部49のX軸方向の先端部には、Y軸方向に平行な円柱状のピンゲージ50が設けられて(接続されて)いる。なお、符号49aは平面部49の水平な上面であり、符号49bは平面部49の水平な下面である。また、符号50aはピンゲージ50の周面の一部をなす曲面状の上側表面であり、符号50bはピンゲージ50の周面の一部をなす曲面状の下側表面である。 A horizontal (parallel to the XY plane) flat surface portion 49 extends from the other end side of the top plate 48 in the X-axis direction. A columnar pin gauge 50 parallel to the Y-axis direction is provided (connected) to the tip of the flat surface portion 49 in the X-axis direction. Reference numeral 49a is a horizontal upper surface of the flat surface portion 49, and reference numeral 49b is a horizontal lower surface of the flat surface portion 49. Further, reference numeral 50a is a curved upper surface forming a part of the peripheral surface of the pin gauge 50, and reference numeral 50b is a curved lower surface forming a part of the peripheral surface of the pin gauge 50.

後述の図21に示すように、ピンゲージ50の直径DAは、スタイラス18のストローク幅LD1(本発明の第2位置間隔に相当)よりも小さく形成されている。また、ピンゲージ50を用いた校正では、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZが、ピンゲージ50の中心位置に位置合わせされている。ストローク幅LD1は、揺動支点軸30を支点として、アーム32が第2揺動方向SW2に最も揺動した状態での下向き触針34の先端34Aの先端位置と、アーム32が第1揺動方向SW1に最も揺動した状態での上向き触針36の先端36Aの先端位置と、のZ軸方向の間隔である。 As shown in FIG. 21 described later, the diameter DA of the pin gauge 50 is formed to be smaller than the stroke width LD1 (corresponding to the second position spacing of the present invention) of the stylus 18. Further, in the calibration using the pin gauge 50, the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is aligned with the center position of the pin gauge 50. The stroke width LD1 has the tip position of the tip 34A of the downward stylus 34 in a state where the arm 32 swings most in the second swing direction SW2 with the swing fulcrum shaft 30 as a fulcrum, and the arm 32 first swings. It is the distance in the Z-axis direction from the tip position of the tip 36A of the upward touch needle 36 in the state of being most swung in the direction SW1.

底板46と天板48との間の空間内には、平板状の下側ベース51と、平板状の下側ブロックゲージ52と、直方体状の中央ブロックゲージ53と、平板状の上側ブロックゲージ54と、平板状の上側ベース55と、が設けられている。 In the space between the bottom plate 46 and the top plate 48, a flat plate-shaped lower base 51, a flat plate-shaped lower block gauge 52, a rectangular parallelepiped central block gauge 53, and a flat plate-shaped upper block gauge 54 And a flat upper base 55 are provided.

下側ベース51は、底板46の上面に設けられている。この下側ベース51は、本発明の第3面に相当する水平なベース上面51aを有している。 The lower base 51 is provided on the upper surface of the bottom plate 46. The lower base 51 has a horizontal base upper surface 51a corresponding to the third surface of the present invention.

下側ブロックゲージ52は、ベース上面51aの一部上に設けられており、既知の段差量D1(本発明の第2面間隔に相当)に相当するZ軸方向の厚みを有している。この下側ブロックゲージ52は、本発明の第1面に相当する水平なゲージ上面52aを有している。このため、ベース上面51aは、ゲージ上面52aに対して平行方向(本実施形態ではX軸方向)にずれた位置において、ゲージ上面52aのZ軸方向下方側(本発明の第3軸方向他方側)に段差量D1をあけて配置される。 The lower block gauge 52 is provided on a part of the upper surface surface 51a of the base, and has a thickness in the Z-axis direction corresponding to a known step amount D1 (corresponding to the second surface spacing of the present invention). The lower block gauge 52 has a horizontal gauge upper surface 52a corresponding to the first surface of the present invention. Therefore, the base upper surface 51a is located on the lower side of the gauge upper surface 52a in the Z-axis direction (the other side in the third axial direction of the present invention) at a position shifted in the parallel direction (X-axis direction in the present embodiment) with respect to the gauge upper surface 52a. ) With a step amount D1.

中央ブロックゲージ53は、ゲージ上面52aの一部上に設けられており、既知の間隔D2(本発明の第1面間隔に相当)に相当するZ軸方向の厚みを有している。この間隔D2は、前述の小穴9の直径Dに相当する厚みであり、本実施形態では例えば25mmである。なお、中央ブロックゲージ53の代わりに、間隔D2に相当するZ軸方向の厚みを有するリングゲージ等の各種ゲージを用いてもよい。 The central block gauge 53 is provided on a part of the gauge upper surface 52a and has a thickness in the Z-axis direction corresponding to a known spacing D2 (corresponding to the first plane spacing of the present invention). This interval D2 is a thickness corresponding to the diameter D of the small hole 9 described above, and is, for example, 25 mm in the present embodiment. Instead of the central block gauge 53, various gauges such as a ring gauge having a thickness in the Z-axis direction corresponding to the interval D2 may be used.

上側ブロックゲージ54は、下側ブロックゲージ52と対向するように、中央ブロックゲージ53の上面に設けられている。この上側ブロックゲージ54は、前述の段差量D1に相当するZ軸方向の厚みを有している。また、上側ブロックゲージ54は、本発明の第2面に相当し且つ中央ブロックゲージ53の上面と当接する水平なゲージ下面54aを有している。このゲージ下面54aは、既述のゲージ上面52aに対してZ軸方向上方側に間隔D2をあけて対向配置される。 The upper block gauge 54 is provided on the upper surface of the central block gauge 53 so as to face the lower block gauge 52. The upper block gauge 54 has a thickness in the Z-axis direction corresponding to the above-mentioned step amount D1. Further, the upper block gauge 54 has a horizontal gauge lower surface 54a corresponding to the second surface of the present invention and in contact with the upper surface of the central block gauge 53. The gauge lower surface 54a is arranged so as to face the gauge upper surface 52a described above with a gap D2 on the upper side in the Z-axis direction.

上側ベース55は、上側ブロックゲージ54の上面(ゲージ下面54aとは反対側の面)の一部上に設けられており、且つ既述の下側ベース51に対して対向配置されている。この上側ベース55は、本発明の第4面に相当し且つ既述のベース上面51aに対して対向配置されたベース下面55aを有する。このため、ベース下面55aは、ゲージ下面54aに対して平行方向(本実施形態ではX軸方向)にずれた位置において、ゲージ下面54aのZ軸方向上方側(本発明の第3軸方向一方側)に段差量D1(本発明の第3面間隔に相当)をあけて配置される。そして、本実施形態では、ベース上面51a及びベース下面55aのZ軸方向の中間位置と、ゲージ上面52a及びゲージ下面54aのZ軸方向の中間位置と、中央ブロックゲージ53のZ軸方向の中間位置と、が一致する。 The upper base 55 is provided on a part of the upper surface of the upper block gauge 54 (the surface opposite to the gauge lower surface 54a), and is arranged to face the lower base 51 described above. The upper base 55 has a base lower surface 55a that corresponds to the fourth surface of the present invention and is arranged to face the above-mentioned base upper surface 51a. Therefore, the lower surface of the base 55a is located on the upper side of the lower surface of the gauge 54a in the Z-axis direction (one side in the third axial direction of the present invention) at a position shifted in the direction parallel to the lower surface of the gauge 54a (in the X-axis direction in the present invention). ) With a step amount D1 (corresponding to the third surface spacing of the present invention). Then, in the present embodiment, the intermediate position of the base upper surface 51a and the base lower surface 55a in the Z-axis direction, the intermediate position of the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a in the Z-axis direction, and the intermediate position of the central block gauge 53 in the Z-axis direction. And match.

詳しくは後述の図23で説明するが、中央ブロックゲージ53の厚み(間隔D2)は、ベース上面51aとベース下面55aとの間のZ軸方向の間隔を、スタイラス18のストローク幅LD2(本発明の第1位置間隔に相当)よりも狭くする大きさに調整されている。また、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZは、中央ブロックゲージ53のZ軸方向の中間位置、すなわちゲージ上面52a及びゲージ下面54aのZ軸方向の中間位置に対して位置合わせされている。 Although details will be described later with reference to FIG. 23, the thickness (interval D2) of the central block gauge 53 is the distance between the base upper surface 51a and the base lower surface 55a in the Z-axis direction, and the stroke width LD2 of the stylus 18 (the present invention). It is adjusted to a size narrower than (corresponding to the first position interval). Further, the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is aligned with the intermediate position of the central block gauge 53 in the Z-axis direction, that is, the intermediate position of the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a in the Z-axis direction. There is.

なお、下側ベース51と、下側ブロックゲージ52と、中央ブロックゲージ53と、上側ブロックゲージ54と、上側ベース55とは、リンギング、接着、挟持部材によるY軸方向の挟持、ビス固定、及びピン固定等の各種方法で固定されて一体化している。 The lower base 51, the lower block gauge 52, the central block gauge 53, the upper block gauge 54, and the upper base 55 are ringed, bonded, pinched by a pinching member in the Y-axis direction, fixed with screws, and It is fixed and integrated by various methods such as pin fixing.

本実施形態では、上記各校正値を算出するため、図6中の点線枠で示した校正用ゲージユニット45内の測定箇所P1〜P6を表面形状測定機10で測定する。 In the present embodiment, in order to calculate each of the above calibration values, the measurement points P1 to P6 in the calibration gauge unit 45 shown by the dotted line frame in FIG. 6 are measured by the surface shape measuring machine 10.

図7は、図6に示した測定箇所P1,P2を説明するための説明図である。図8は、図6に示した測定箇所P3,P4を説明するための説明図である。図9は、図6に示した測定箇所P5,P6を説明するための説明図である。 FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the measurement points P1 and P2 shown in FIG. FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining the measurement points P3 and P4 shown in FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining the measurement points P5 and P6 shown in FIG.

<測定箇所P1>
図7に示すように、測定箇所P1は、ピンゲージ50の上側表面50aである。ここでは、アーム32を第1揺動方向SW1に搖動させて上側表面50aに下向き触針34を接触させた状態で、下向き触針34により上側表面50aをX軸方向にトレースする。
<Measurement point P1>
As shown in FIG. 7, the measurement point P1 is the upper surface 50a of the pin gauge 50. Here, in a state where the arm 32 is swung in the first swing direction SW1 and the downward stylus 34 is in contact with the upper surface 50a, the upper surface 50a is traced in the X-axis direction by the downward stylus 34.

<測定箇所P2>
測定箇所P2は、ピンゲージ50の下側表面50bである。ここでは、アーム32を第2揺動方向SW2に搖動させて下側表面50bに上向き触針36を接触させた状態で、上向き触針36により下側表面50bをX軸方向にトレースする。
<Measurement point P2>
The measurement point P2 is the lower surface 50b of the pin gauge 50. Here, in a state where the arm 32 is swung in the second swing direction SW2 and the upward stylus 36 is in contact with the lower surface 50b, the lower surface 50b is traced in the X-axis direction by the upward stylus 36.

<測定箇所P3>
図8に示すように、測定箇所P3は、下側ベース51のベース上面51aである。ここでは、アーム32を第1揺動方向SW1に搖動させてベース上面51aに下向き触針34を接触させた状態で、下向き触針34によりベース上面51aをX軸方向にトレースする。
<Measurement point P3>
As shown in FIG. 8, the measurement point P3 is the base upper surface 51a of the lower base 51. Here, in a state where the arm 32 is swung in the first swing direction SW1 and the downward stylus 34 is in contact with the base upper surface 51a, the base upper surface 51a is traced in the X-axis direction by the downward stylus 34.

<測定箇所P4>
測定箇所P4は、下側ブロックゲージ52のゲージ上面52aである。ここでは、アーム32を第1揺動方向SW1に搖動させてゲージ上面52aに下向き触針34を接触させた状態で、下向き触針34によりゲージ上面52aをX軸方向にトレースする。
<Measurement point P4>
The measurement point P4 is the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52. Here, in a state where the arm 32 is swung in the first swing direction SW1 and the downward stylus 34 is in contact with the gauge upper surface 52a, the gauge upper surface 52a is traced in the X-axis direction by the downward stylus 34.

<測定箇所P5>
図9に示すように、測定箇所P5は、上側ベース55のベース下面55aである。ここでは、アーム32を第2揺動方向SW2に搖動させてベース下面55aに上向き触針36を接触させた状態で、上向き触針36によりベース下面55aをX軸方向にトレースする。
<Measurement point P5>
As shown in FIG. 9, the measurement point P5 is the lower surface 55a of the upper base 55. Here, in a state where the arm 32 is swung in the second swing direction SW2 and the upward stylus 36 is in contact with the base lower surface 55a, the base lower surface 55a is traced in the X-axis direction by the upward stylus 36.

<測定箇所P6>
測定箇所P6は、上側ブロックゲージ54のゲージ下面54aである。ここでは、アーム32を第2揺動方向SW2に搖動させてゲージ下面54aに上向き触針36を接触させた状態で、上向き触針36によりゲージ下面54aをX軸方向にトレースする。
<Measurement point P6>
The measurement point P6 is the gauge lower surface 54a of the upper block gauge 54. Here, in a state where the arm 32 is swung in the second swing direction SW2 and the upward stylus 36 is in contact with the gauge lower surface 54a, the gauge lower surface 54a is traced in the X-axis direction by the upward stylus 36.

[ピンゲージの上側表面及び下側表面の測定]
次に、図10(A),(B)と、図11(A)〜(C)と、図12(A),(B)とを用いて、表面形状測定機10によるピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bの測定処理について具体的に説明する。図10(A),(B)は、ピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bを測定する際の課題を説明するための説明図である。図11(A)〜(C)は、両触針34,36をピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bに接触させる方法について説明するための説明図である。図12(A),(B)は、表面形状測定機10によるピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bのそれぞれの測定処理の流れを示すフローチャートである。
[Measurement of upper and lower surfaces of pin gauge]
Next, using FIGS. 10 (A) and 10 (B), FIGS. 11 (A) to 11 (C), and FIGS. 12 (A) and 12 (B), the upper surface of the pin gauge 50 by the surface shape measuring machine 10 The measurement processing of the 50a and the lower surface 50b will be specifically described. 10 (A) and 10 (B) are explanatory views for explaining a problem in measuring the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50. 11 (A) to 11 (C) are explanatory views for explaining a method of bringing both tactile needles 34 and 36 into contact with the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50. 12 (A) and 12 (B) are flowcharts showing the flow of measurement processing of the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50 by the surface shape measuring machine 10.

図10(A)に示すように、ピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bを測定する場合には、下向き触針34を上側表面50aに接触させ、上向き触針36を下側表面50bに接触させる必要がある。この際に、アーム32は揺動支点軸30に揺動自在に支持されているので、両触針34,36は円弧状の軌跡を描くようにしてそれぞれ上側表面50a及び下側表面50bに近づく。このため、両触針34,36をそれぞれ直線状のルートで上側表面50a及び下側表面50bに近づけることはできない。 As shown in FIG. 10A, when measuring the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50, the downward stylus 34 is brought into contact with the upper surface 50a, and the upward stylus 36 is placed on the lower surface 50b. Need to contact. At this time, since the arm 32 is swingably supported by the swing fulcrum shaft 30, both the stylus 34 and 36 approach the upper surface 50a and the lower surface 50b, respectively, so as to draw an arcuate locus. .. Therefore, the binaural needles 34 and 36 cannot be brought close to the upper surface 50a and the lower surface 50b by a linear route, respectively.

従って、図10(B)に示すように、円弧状の軌跡を描くように変位する両触針34,36をそれぞれ上側表面50a及び下側表面50bに接触させることが困難となる。特に本実施形態の表面形状測定機10は、小穴9の内面を測定対象としているので、両触針34,36が小型化し、さらにピンゲージ50ついても小径のものが用いられる。このため、両触針34,36をそれぞれ上側表面50a及び下側表面50bに接触させることが一層困難となる。 Therefore, as shown in FIG. 10B, it is difficult to bring the binaural needles 34 and 36, which are displaced so as to draw an arcuate locus, into contact with the upper surface 50a and the lower surface 50b, respectively. In particular, since the surface shape measuring machine 10 of the present embodiment targets the inner surface of the small hole 9, the both tactile needles 34 and 36 are miniaturized, and even if the pin gauge 50 is attached, a pin gauge 50 having a small diameter is used. Therefore, it becomes more difficult to bring both the stylus 34 and 36 into contact with the upper surface 50a and the lower surface 50b, respectively.

そこで本実施形態では、図11(A)〜(C)及び図12(A)に示すように、平面部49を利用して両触針34,36をそれぞれ上側表面50a及び下側表面50bに接触させる。具体的には、図11(A)に示すように、ピンゲージ50の上側表面50aの測定を行う場合、最初に下向き触針34を平面部49の上面49aに接触させる(ステップS1A)。平面部49の上面49a(下面49b)は、ピンゲージ50の上側表面50a(下側表面50b)よりも面積が広いので、下向き触針34を、上側表面50aに接触させる場合よりも容易に上面49aに接触させることができる。 Therefore, in the present embodiment, as shown in FIGS. 11 (A) to 11 (C) and 12 (A), both stylus 34 and 36 are provided on the upper surface 50a and the lower surface 50b by using the flat surface portion 49, respectively. Make contact. Specifically, as shown in FIG. 11A, when measuring the upper surface 50a of the pin gauge 50, the downward stylus 34 is first brought into contact with the upper surface 49a of the flat surface portion 49 (step S1A). Since the upper surface 49a (lower surface 49b) of the flat surface portion 49 has a larger area than the upper surface 50a (lower surface 50b) of the pin gauge 50, the upper surface 49a is easier than when the downward stylus 34 is brought into contact with the upper surface 50a. Can be contacted with.

次いで、図11(B)に示すように、送り装置16を作動させて、スタイラス18(下向き触針34等)をピンゲージ50に向けてX軸方向に水平移動させる(ステップS2A)。また、第1検出器20及び第2検出器22による検出を開始させる(ステップS3A)。これにより、図11(C)に示すように、下向き触針34が、上面49aから上側表面50aに案内された後、上側表面50aに接触する(ステップS4A)。 Next, as shown in FIG. 11B, the feeding device 16 is operated to horizontally move the stylus 18 (downward stylus 34, etc.) toward the pin gauge 50 in the X-axis direction (step S2A). Further, the detection by the first detector 20 and the second detector 22 is started (step S3A). As a result, as shown in FIG. 11C, the downward stylus 34 is guided from the upper surface 49a to the upper surface 50a and then comes into contact with the upper surface 50a (step S4A).

そして、下向き触針34が上側表面50aに接触した状態で、送り装置16により、さらにスタイラス18をX軸方向に移動させる。これにより、下向き触針34により上側表面50aをX軸方向に沿ってトレースすることができる(ステップS5A)。そして、このトレース中に、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 Then, the stylus 18 is further moved in the X-axis direction by the feeding device 16 in a state where the downward stylus 34 is in contact with the upper surface 50a. As a result, the upper surface 50a can be traced along the X-axis direction by the downward stylus 34 (step S5A). Then, during this trace, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37.

以下、下向き触針34による上側表面50aのX軸方向のトレースが終了するまで、送り装置16による移動が継続する(ステップS6A,S7A)。以上でピンゲージ50の上側表面50aの測定が完了する。 Hereinafter, the movement by the feeding device 16 continues until the tracing of the upper surface 50a by the downward stylus 34 in the X-axis direction is completed (steps S6A and S7A). This completes the measurement of the upper surface 50a of the pin gauge 50.

一方、ピンゲージ50の下側表面50bの測定は、上側表面50aの測定と同様に行うことができる。すなわち、図12(B)に示すように、平面部49の下面49bへの上向き触針36の接触(ステップS1B)、スタイラス18のX軸方向への水平移動(ステップS2B)、第1検出器20及び第2検出器22による検出(ステップS3B)、上向き触針36の下側表面50bへの接触(ステップS4B)、及び上向き触針36による下側表面50bのトレース(ステップS5B,S6B,S7B)を行う。これにより、上向き触針36による下側表面50bのトレース中に、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 On the other hand, the measurement of the lower surface 50b of the pin gauge 50 can be performed in the same manner as the measurement of the upper surface 50a. That is, as shown in FIG. 12B, the contact of the upward stylus 36 with the lower surface 49b of the flat surface portion 49 (step S1B), the horizontal movement of the stylus 18 in the X-axis direction (step S2B), and the first detector. Detection by 20 and the second detector 22 (step S3B), contact with the lower surface 50b of the upward stylus 36 (step S4B), and tracing of the lower surface 50b by the upward stylus 36 (steps S5B, S6B, S7B). )I do. As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 during the tracing of the lower surface 50b by the upward stylus 36.

<平面部を設けた効果>
このように本実施形態では、ピンゲージ50のX軸方向の側方に平面部49を設けることで、下向き触針36を平面部49の上面49aに沿ってピンゲージ50の上側表面50aまで案内し、且つ上向き触針36を平面部49の下面49bに沿ってピンゲージ50の下側表面50bまで案内することができる。その結果、ピンゲージ50に両触針34,36を容易に接触させることができる。
<Effect of providing a flat surface>
As described above, in the present embodiment, by providing the flat surface portion 49 on the side of the pin gauge 50 in the X-axis direction, the downward stylus 36 is guided along the upper surface 49a of the flat surface portion 49 to the upper surface 50a of the pin gauge 50. Moreover, the upward stylus 36 can be guided along the lower surface 49b of the flat surface portion 49 to the lower surface 50b of the pin gauge 50. As a result, both touch needles 34 and 36 can be easily brought into contact with the pin gauge 50.

また、両触針34,36をそれぞれ平面部49に沿って上側表面50a及び下側表面50bまで案内することで、両触針34,36による上側表面50a及び下側表面50bのX軸方向のトレース開始位置を一定位置に定めることができる。これにより、両触針34,36をそれぞれ上側表面50a及び下側表面50bにダイレクトに接触させた場合とは異なり、上側表面50a及び下側表面50bを一定角度範囲θ以上(例えば110°以上)トレースすることができる。その結果、ピンゲージ50の中心位置の測定精度が向上するので、ピンゲージ50を用いた校正を高精度に行うことができる。 Further, by guiding the binaural needles 34 and 36 to the upper surface 50a and the lower surface 50b along the flat surface portion 49, respectively, the bactural needles 34 and 36 guide the upper surface 50a and the lower surface 50b in the X-axis direction. The trace start position can be set to a fixed position. As a result, unlike the case where the binaural needles 34 and 36 are in direct contact with the upper surface 50a and the lower surface 50b, respectively, the upper surface 50a and the lower surface 50b are brought into a certain angle range θ or more (for example, 110 ° or more). Can be traced. As a result, the measurement accuracy of the center position of the pin gauge 50 is improved, so that the calibration using the pin gauge 50 can be performed with high accuracy.

<ピンゲージ測定の効果>
図13(A)はピンゲージ50をX軸方向から見た側面図であり、図13(B)はピンゲージ50をZ軸方向から見た上面図である。なお、図13(B)中の符号T1は、図13(A)中の下向き触針34で上側表面50aをトレースした際の軌跡であり、符号T2は、図13(A)中の上向き触針36で下側表面50bをトレースした際の軌跡である。
<Effect of pin gauge measurement>
FIG. 13A is a side view of the pin gauge 50 viewed from the X-axis direction, and FIG. 13B is a top view of the pin gauge 50 viewed from the Z-axis direction. Reference numeral T1 in FIG. 13 (B) is a locus when the upper surface 50a is traced by the downward touch needle 34 in FIG. 13 (A), and reference numeral T2 is an upward touch in FIG. 13 (A). It is a locus when the lower surface 50b is traced by the needle 36.

図13(A),(B)に示すように、ピンゲージ50はY軸方向に平行な円柱形状を有している。このため、両触針34,36によりそれぞれ上側表面50aと下側表面50bとをX軸方向にトレースする場合、両触針34,36の各々の先端34A,36Aの先端部位置のY軸方向の位置ずれに関係なく、両触針34,36の双方で常にピンゲージ50の最大直径部をトレースすることができる。 As shown in FIGS. 13A and 13B, the pin gauge 50 has a cylindrical shape parallel to the Y-axis direction. Therefore, when the upper surface 50a and the lower surface 50b are traced in the X-axis direction by the two tactile needles 34 and 36, respectively, the Y-axis direction of the tip positions of the tips 34A and 36A of the two tactile needles 34 and 36, respectively. Regardless of the misalignment of the pin gauge 50, both the stylus 34 and 36 can always trace the maximum diameter portion of the pin gauge 50.

図14(A)は、基準球100をX軸方向から見た側面図であり、図14(B)は基準球100をZ軸方向から見た上面図である。なお、図14(B)中の符号TAは、図14(A)中の下向き触針34が基準球100の上側表面をトレースした際の軌跡であり、符号TBは、図14(A)中の上向き触針36が基準球100の下側表面をトレースした際の軌跡である。 FIG. 14A is a side view of the reference sphere 100 viewed from the X-axis direction, and FIG. 14B is a top view of the reference sphere 100 viewed from the Z-axis direction. The reference numeral TA in FIG. 14 (B) is a locus when the downward stylus 34 in FIG. 14 (A) traces the upper surface of the reference sphere 100, and the reference numeral TB is in FIG. 14 (A). This is a locus when the upward stylus 36 traces the lower surface of the reference sphere 100.

図14(A),(B)に示すように、両触針34,36により基準球100の上側表面と下側表面とをX軸方向にトレースする際に、先端34A,36Aの先端部位置のY軸方向の位置ずれが発生していると、両触針34,36の少なくとも一方で基準球100の最大直径部をトレースすることができない場合がある。この場合には、基準球100の中心位置を高精度に測定することができないので、基準球100を用いた校正を高精度に行うことができない。 As shown in FIGS. 14A and 14B, when the upper surface and the lower surface of the reference sphere 100 are traced in the X-axis direction by the binaural needles 34 and 36, the positions of the tips of the tips 34A and 36A are located. If there is a misalignment in the Y-axis direction, it may not be possible to trace the maximum diameter portion of the reference sphere 100 at at least one of the two stylus 34, 36. In this case, since the center position of the reference sphere 100 cannot be measured with high accuracy, calibration using the reference sphere 100 cannot be performed with high accuracy.

これに対して、本実施形態では、両触針34,36によりピンゲージ50の上側表面50aと下側表面50bとをそれぞれX軸方向にトレースすることにより、先端34A,36Aの先端部位置がY軸方向に位置ずれした場合でも、ピンゲージ50の中心を高精度に測定可能である。これにより、ピンゲージ50を用いた校正を高精度に行うことができる。 On the other hand, in the present embodiment, the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50 are traced in the X-axis direction by the double stylus 34 and 36, so that the tip positions of the tips 34A and 36A are Y. The center of the pin gauge 50 can be measured with high accuracy even when the position is displaced in the axial direction. As a result, calibration using the pin gauge 50 can be performed with high accuracy.

[ゲージ上面及びゲージ下面の測定]
次に、図15(A),(B)を用いて、表面形状測定機10による下側ブロックゲージ52のゲージ上面52a、及び上側ブロックゲージ54のゲージ下面54aの測定処理について具体的に説明する。ここで図15(A),(B)は、表面形状測定機10によるゲージ上面52a及びゲージ下面54aのそれぞれの測定処理の流れを示すフローチャートである。
[Measurement of gauge upper surface and gauge lower surface]
Next, with reference to FIGS. 15A and 15B, the measurement processing of the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52 and the gauge lower surface 54a of the upper block gauge 54 by the surface shape measuring machine 10 will be specifically described. .. Here, FIGS. 15A and 15B are flowcharts showing the flow of measurement processing of the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a by the surface shape measuring machine 10.

図15(A)に示すように、下側ブロックゲージ52のゲージ上面52aの測定を行う場合、最初に下向き触針34をゲージ上面52aに接触させる(ステップS11A)。次いで、送り装置16を作動させて、スタイラス18をX軸方向に水平移動させる(ステップS12A)。また、第1検出器20及び第2検出器22による検出を開始させる(ステップS13A)。これにより、下向き触針34によりゲージ上面52aをX軸方向に沿ってトレースすることができる(ステップS14A)。そして、このトレース中に、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 As shown in FIG. 15A, when measuring the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52, the downward stylus 34 is first brought into contact with the gauge upper surface 52a (step S11A). Next, the feeding device 16 is operated to horizontally move the stylus 18 in the X-axis direction (step S12A). Further, the detection by the first detector 20 and the second detector 22 is started (step S13A). As a result, the gauge upper surface 52a can be traced along the X-axis direction by the downward stylus 34 (step S14A). Then, during this trace, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37.

以下、下向き触針34によるゲージ上面52aのX軸方向のトレースが終了するまで、送り装置16による移動が継続する(ステップS15A,S16A)。以上で下側ブロックゲージ52のゲージ上面52aの測定が完了する。 Hereinafter, the movement by the feed device 16 continues until the trace of the gauge upper surface 52a by the downward stylus 34 in the X-axis direction is completed (steps S15A and S16A). This completes the measurement of the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52.

一方、上側ブロックゲージ54のゲージ下面54aの測定は、ゲージ上面52aの測定と同様に行うことができる。すなわち、図15(B)に示すように、ゲージ下面54aへの上向き触針36の接触(ステップS11B)、上向き触針36のX軸方向への水平移動(ステップS12B)、第1検出器20及び第2検出器22による検出(ステップS13B)、及び上向き触針36によるゲージ下面54aのトレース(ステップS14B,S15B,S16B)を行う。これにより、上向き触針36によるゲージ下面54aのトレース中に、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 On the other hand, the measurement of the gauge lower surface 54a of the upper block gauge 54 can be performed in the same manner as the measurement of the gauge upper surface 52a. That is, as shown in FIG. 15B, the upward stylus 36 comes into contact with the gauge lower surface 54a (step S11B), the upward stylus 36 moves horizontally in the X-axis direction (step S12B), and the first detector 20 The second detector 22 detects (step S13B), and the upward stylus 36 traces the gauge lower surface 54a (steps S14B, S15B, S16B). As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 during the tracing of the gauge lower surface 54a by the upward stylus 36.

<ゲージ上面及びゲージ下面の測定の効果>
図16(A),(B)は、ゲージ上面52a及びゲージ下面54aの測定の効果を説明するための説明図である。図16(A)に示すように、本実施形態では、中央ブロックゲージ53によりZ軸方向の間隔がD2(図6参照)に規定されているゲージ上面52a及びゲージ下面54aのうち、ゲージ上面52aを下向き触針34でX軸方向にトレースし、ゲージ下面54aを上向き触針36でX軸方向にトレースしている。これにより、図16(B)に示すような中央ブロックゲージ53の上面を下向き触針34でX軸方向にトレースし、中央ブロックゲージ53の下面を上向き触針36でX軸方向にトレースした場合と同様の測定データが得られる。
<Effect of measurement of gauge upper surface and gauge lower surface>
16 (A) and 16 (B) are explanatory views for explaining the effect of measurement of the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a. As shown in FIG. 16A, in the present embodiment, of the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a whose Z-axis direction spacing is defined by the central block gauge 53 in D2 (see FIG. 6), the gauge upper surface 52a Is traced in the X-axis direction with the downward stylus 34, and the gauge lower surface 54a is traced in the X-axis direction with the upward stylus 36. As a result, when the upper surface of the central block gauge 53 as shown in FIG. 16B is traced in the X-axis direction by the downward stylus 34, and the lower surface of the central block gauge 53 is traced in the X-axis direction by the upward stylus 36. The same measurement data as above can be obtained.

中央ブロックゲージ53のような水平ゲージの上下面をそれぞれ両触針34,36で測定した測定データからは、詳しくは後述するが、下向き触針34及び上向き触針36の触針高さの誤差(すなわち、両触針34,36によって測定した測定データの相互のZ軸方向の空間精度)を校正する校正値が算出される。しかし、中央ブロックゲージ53の上面に下向き触針34を接触させ且つ下面に上向き触針36を接触させる場合、アーム32を揺動支点軸30の軸周りに大きな角度で回転(揺動)させる必要がある。 From the measurement data obtained by measuring the upper and lower surfaces of a horizontal gauge such as the central block gauge 53 with both tactile needles 34 and 36, which will be described in detail later, the error in the stylus heights of the downward stylus 34 and the upward stylus 36. (That is, the calibration value for calibrating the mutual spatial accuracy of the measurement data measured by the two stylus 34, 36 in the Z-axis direction) is calculated. However, when the downward stylus 34 is brought into contact with the upper surface of the central block gauge 53 and the upward stylus 36 is brought into contact with the lower surface, it is necessary to rotate (swing) the arm 32 around the axis of the swing fulcrum shaft 30 at a large angle. There is.

具体的には、本実施形態のようにゲージ上面52a及びゲージ下面54aにそれぞれ両触針34,36を接触させる場合のアーム32の回転角度を「θ1」とし、中央ブロックゲージ53の上下面にそれぞれ両触針34,36を接触させる場合の回転角度を「θ2」とした場合、回転角度θ1<回転角度θ2となる。このアーム32の回転角度が大きくなるほど、両触針34,36を上下面に対して寝かせた姿勢でそれぞれ上下面に接触させることになり、測定誤差が大きくなる。 Specifically, the rotation angle of the arm 32 when the both touch needles 34 and 36 are brought into contact with the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a as in the present embodiment is set to "θ1", and the upper and lower surfaces of the central block gauge 53 are set. When the rotation angle when both the stylus 34 and 36 are brought into contact with each other is "θ2", the rotation angle θ1 <rotation angle θ2. The larger the rotation angle of the arm 32, the larger the measurement error becomes because both the stylus 34 and 36 are brought into contact with the upper and lower surfaces in a posture of lying down on the upper and lower surfaces.

また、両触針34,36の長さが短い場合には、既述の図28で説明したように、各ブロックゲージ52,54とアーム32との干渉が発生するため、ゲージ上面52aを下向き触針34でX軸方向にトレースする場合と、ゲージ下面54aを上向き触針36でX軸方向にトレースする場合とにおいて、既述の図1に示した送り装置16(揺動支点軸30及びスタイラス18)のZ軸方向の位置PZを動かす必要が生じる。その結果、後述の校正値ΔLV(上記[表2]参照)を求める際に、送り装置16のZ軸方向の変位を考慮する必要が生じ、校正値ΔLVに誤差が生じるおそれがある。その結果、校正を高精度に行うことができない。 Further, when the lengths of the styluses 34 and 36 are short, as described with reference to FIG. 28, interference between the block gauges 52 and 54 and the arm 32 occurs, so that the gauge upper surface 52a faces downward. In the case of tracing in the X-axis direction with the stylus 34 and in the case of tracing the gauge lower surface 54a in the X-axis direction with the upward stylus 36, the feed device 16 (swing fulcrum shaft 30 and the swing fulcrum shaft 30) shown in FIG. 1 described above It becomes necessary to move the position PZ of the stylus 18) in the Z-axis direction. As a result, when obtaining the calibration value ΔLV described later (see [Table 2] above), it becomes necessary to consider the displacement of the feeder 16 in the Z-axis direction, and there is a possibility that an error may occur in the calibration value ΔLV. As a result, calibration cannot be performed with high accuracy.

これに対して、本実施形態では、既述の図2に示した小穴9の内面の測定と同様に、両触針34,36でそれぞれゲージ上面52a及びゲージ下面54aを測定することで、中央ブロックゲージ53の上下面を測定する場合よりも両触針34,36を立たせた姿勢で測定を行うことができる。その結果、中央ブロックゲージ53の上下面を測定する場合よりも測定誤差を小さくすることができる。また、ゲージ上面52aを下向き触針34でX軸方向にトレースする場合と、ゲージ下面54aを上向き触針36でX軸方向にトレースする場合とにおいて、送り装置16のZ軸方向の位置PZを動かす必要が無くなるので、後述の校正値ΔLVを高精度に求めることができる。その結果、校正を高精度に行うことができる。 On the other hand, in the present embodiment, similarly to the measurement of the inner surface of the small hole 9 shown in FIG. 2 described above, the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a are measured by the binaural needles 34 and 36, respectively. Compared with the case of measuring the upper and lower surfaces of the block gauge 53, the measurement can be performed with the both stylus 34 and 36 standing upright. As a result, the measurement error can be made smaller than when measuring the upper and lower surfaces of the central block gauge 53. Further, in the case where the gauge upper surface 52a is traced in the X-axis direction by the downward stylus 34 and the case where the gauge lower surface 54a is traced in the X-axis direction by the upward stylus 36, the position PZ of the feed device 16 in the Z-axis direction is determined. Since it is not necessary to move it, the calibration value ΔLV described later can be obtained with high accuracy. As a result, calibration can be performed with high accuracy.

[ベース上面及びベース下面の測定]
次に、図17(A),(B)を用いて、表面形状測定機10による下側ベース51のベース上面51a及び上側ベース55のベース下面55aの測定処理について具体的に説明する。ここで、図17(A),(B)は、表面形状測定機10によるベース上面51a及びベース下面55aのそれぞれの測定処理の流れを示すフローチャートである。
[Measurement of the upper surface of the base and the lower surface of the base]
Next, with reference to FIGS. 17A and 17B, the measurement processing of the base upper surface 51a of the lower base 51 and the base lower surface 55a of the upper base 55 by the surface shape measuring machine 10 will be specifically described. Here, FIGS. 17A and 17B are flowcharts showing the flow of measurement processing of the base upper surface 51a and the base lower surface 55a by the surface shape measuring machine 10.

図17(A)に示すように、下側ベース51のベース上面51aの測定は、前述のゲージ上面52aの測定と基本的に同じである。すなわち、ベース上面51aへの下向き触針34の接触(ステップS21A)、スタイラス18のX軸方向への移動(ステップS22A)、第1検出器20及び第2検出器22による検出(ステップS23A)、及び下向き触針34によるベース上面51aのトレース(ステップS24A,S25A,S26A)を行う。これにより、下向き触針34によるベース上面51aのトレース中に、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 As shown in FIG. 17A, the measurement of the base upper surface 51a of the lower base 51 is basically the same as the measurement of the gauge upper surface 52a described above. That is, the contact of the downward stylus 34 with the base upper surface 51a (step S21A), the movement of the stylus 18 in the X-axis direction (step S22A), the detection by the first detector 20 and the second detector 22 (step S23A), And the trace of the upper surface 51a of the base (steps S24A, S25A, S26A) is performed by the downward stylus 34. As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 during the tracing of the base upper surface 51a by the downward stylus 34.

また、図17(B)に示すように、上側ベース55のベース下面55aの測定は、前述のゲージ下面54aの測定と基本的に同じである。すなわち、ベース下面55aへの上向き触針36の接触(ステップS21B)、スタイラス18のX軸方向への移動(ステップS22B)、第1検出器20及び第2検出器22による検出(ステップS23B)、及び上向き触針36によるベース下面55aのトレース(ステップS24B,S25B,S26B)を行う。これにより、上向き触針36によるベース下面55aのトレース中に、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 Further, as shown in FIG. 17B, the measurement of the base lower surface 55a of the upper base 55 is basically the same as the measurement of the gauge lower surface 54a described above. That is, the contact of the upward stylus 36 with the base lower surface 55a (step S21B), the movement of the stylus 18 in the X-axis direction (step S22B), the detection by the first detector 20 and the second detector 22 (step S23B), And the trace of the lower surface 55a of the base (steps S24B, S25B, S26B) is performed by the upward stylus 36. As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 during the tracing of the base lower surface 55a by the upward stylus 36.

<ベース上面及びベース下面の測定の効果>
このように本実施形態では、下向き触針34によりベース上面51aをX軸方向にトレースすることで、前述のゲージ上面52aのX軸方向のトレースと合わせて、下向き触針34により段差量D1(図6参照)を有する段差ゲージをトレースした場合と同様の測定データが得られる。また、上向き触針36により上側ベース55のベース下面55aをX軸方向にトレースすることで、前述のゲージ下面54aのX軸方向のトレースと合わせて、上向き触針36により段差量D1を有する段差ゲージをトレースした場合と同様の測定データが得られる。
<Effect of measurement of the upper surface of the base and the lower surface of the base>
As described above, in the present embodiment, by tracing the base upper surface 51a in the X-axis direction with the downward touch needle 34, the step amount D1 (step amount D1 (step amount D1) by the downward touch needle 34 together with the above-mentioned trace of the gauge upper surface 52a in the X-axis direction. The same measurement data as when tracing the step gauge having (see FIG. 6) can be obtained. Further, by tracing the base lower surface 55a of the upper base 55 in the X-axis direction with the upward stylus 36, a step having a step amount D1 with the upward stylus 36 in combination with the above-mentioned trace of the gauge lower surface 54a in the X-axis direction. The same measurement data as when tracing the gauge is obtained.

[データ処理装置の構成]
図18は、データ処理装置37の構成を示すブロック図である。図18に示すように、データ処理装置37は、駆動制御部37Aと、検出結果取得部37Bと、演算処理部37Cと、前述の設計値及び校正値を含む各種情報及びデータを記憶する記憶部37Dと、を有する。これら各部は、例えば、CPU(Central Processing Unit)又はFPGA(field-programmable gate array)を含む各種の演算回路及びメモリにより実現される。
[Data processing device configuration]
FIG. 18 is a block diagram showing the configuration of the data processing device 37. As shown in FIG. 18, the data processing device 37 includes a drive control unit 37A, a detection result acquisition unit 37B, an arithmetic processing unit 37C, and a storage unit that stores various information and data including the above-mentioned design values and calibration values. It has 37D and. Each of these parts is realized by, for example, various arithmetic circuits and memories including a CPU (Central Processing Unit) or an FPGA (field-programmable gate array).

駆動制御部37Aは、送り装置16の駆動を制御して、スタイラス18(両触針34,36等)をX軸方向に移動させる。 The drive control unit 37A controls the drive of the feed device 16 to move the stylus 18 (both styluses 34, 36, etc.) in the X-axis direction.

検出結果取得部37Bは、例えば第1検出器20及び第2検出器22に有線又は無線で接続している通信インタフェースであり、第1検出器20及び第2検出器22からそれぞれ取得した検出結果を演算処理部37Cへ出力する。この検出結果取得部37Bは、本発明の第1面検出結果取得部、第2面検出結果取得部、第3面検出結果取得部、第4面検出結果取得部、第1曲面検出結果取得部、及び第2曲面検出結果取得部に相当する。 The detection result acquisition unit 37B is, for example, a communication interface connected to the first detector 20 and the second detector 22 by wire or wirelessly, and the detection result acquired from the first detector 20 and the second detector 22, respectively. Is output to the arithmetic processing unit 37C. The detection result acquisition unit 37B is a first surface detection result acquisition unit, a second surface detection result acquisition unit, a third surface detection result acquisition unit, a fourth surface detection result acquisition unit, and a first curved surface detection result acquisition unit of the present invention. , And corresponds to the second curved surface detection result acquisition unit.

演算処理部37Cは、下向き触針34でピンゲージ50(上側表面50a)、下側ベース51(ベース上面51a)、及び下側ブロックゲージ52(ゲージ上面52a)をそれぞれトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果を、検出結果取得部37Bを介して取得する。また、演算処理部37Cは、上向き触針36でピンゲージ50(下側表面50b)、上側ブロックゲージ54(ゲージ下面54a)、及び上側ベース55(ベース下面55a)をそれぞれトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果を、検出結果取得部37Bを介して取得する。 The arithmetic processing unit 37C is the first detector when the pin gauge 50 (upper surface 50a), the lower base 51 (base upper surface 51a), and the lower block gauge 52 (gauge upper surface 52a) are traced by the downward stylus 34, respectively. The detection results of 20 and the second detector 22 are acquired via the detection result acquisition unit 37B. Further, the arithmetic processing unit 37C first detects when the pin gauge 50 (lower surface 50b), the upper block gauge 54 (gauge lower surface 54a), and the upper base 55 (base lower surface 55a) are traced by the upward stylus 36. The detection results of the device 20 and the second detector 22 are acquired via the detection result acquisition unit 37B.

次いで、演算処理部37Cは、検出結果取得部37Bから取得した第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき下記の評価値1〜11を算出して、各評価値1〜11と記憶部37Dに記憶されている上記各設計値とに基づき上記各校正値を算出する。また演算処理部37Cは、小穴9の内面の表面形状の測定時に得られた第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、前述の各校正値とに基づき、小穴9の内面の表面形状の測定データを生成する。 Next, the arithmetic processing unit 37C calculates the following evaluation values 1 to 11 based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 acquired from the detection result acquisition unit 37B, and each evaluation value 1 to 11 And each of the above calibration values stored in the storage unit 37D are calculated. Further, the arithmetic processing unit 37C is based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 obtained when measuring the surface shape of the inner surface of the small hole 9, and the above-mentioned calibration values, and the inner surface of the small hole 9. Generate surface shape measurement data.

<評価値1〜3の算出>
評価値1〜3は、下向き触針34によりピンゲージ50の上側表面50aをトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき算出される評価値である。
<Calculation of evaluation values 1 to 3>
The evaluation values 1 to 3 are evaluation values calculated based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 when the upper surface 50a of the pin gauge 50 is traced by the downward stylus 34.

(評価値1の算出)
評価値1は、ピンゲージ50の半径値誤差を示す評価値である。この評価値1は、下記の[数1]式により算出される。なお、ここでいう指定値とは設計値を示す。
(Calculation of evaluation value 1)
The evaluation value 1 is an evaluation value indicating a radius value error of the pin gauge 50. This evaluation value 1 is calculated by the following formula [Equation 1]. The specified value here indicates a design value.

Figure 0006848168
Figure 0006848168

(評価値2の算出)
評価値2は、ピンゲージ50の真円度誤差を示す評価値であり、下記の[数2]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 2)
The evaluation value 2 is an evaluation value indicating the roundness error of the pin gauge 50, and is calculated by the following equation [Equation 2].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

(評価値3の算出)
評価値3は、ピンゲージ50の極座標対称性誤差を示す評価値であり、下記の[数3]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 3)
The evaluation value 3 is an evaluation value indicating the polar coordinate symmetry error of the pin gauge 50, and is calculated by the following equation [Equation 3].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

<評価値4〜6の算出>
評価値4〜6は、上向き触針36でピンゲージ50の下側表面50bをトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき算出される評価値である。
<Calculation of evaluation values 4 to 6>
The evaluation values 4 to 6 are evaluation values calculated based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 when the lower surface 50b of the pin gauge 50 is traced by the upward stylus 36.

(評価値4の算出)
評価値4は、ピンゲージ50の半径値誤差を示す評価値である。この評価値4は、下記の[数4]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 4)
The evaluation value 4 is an evaluation value indicating a radius value error of the pin gauge 50. This evaluation value 4 is calculated by the following formula [Equation 4].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

(評価値5の算出)
評価値5は、ピンゲージ50の真円度誤差を示す評価値であり、下記の[数5]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 5)
The evaluation value 5 is an evaluation value indicating the roundness error of the pin gauge 50, and is calculated by the following equation [Equation 5].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

(評価値6の算出)
評価値6は、ピンゲージ50の極座標対称性誤差を示す評価値であり、下記の[数6]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 6)
The evaluation value 6 is an evaluation value indicating the polar coordinate symmetry error of the pin gauge 50, and is calculated by the following equation [Equation 6].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

<評価値7の算出>
評価値7は、下向き触針34によりベース上面51aとゲージ上面52aとをそれぞれトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき算出され、ベース上面51aとゲージ上面52aとの段差量誤差を示す評価値である。この評価値7は、下記の[数7]式により算出される。
<Calculation of evaluation value 7>
The evaluation value 7 is calculated based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 when the base upper surface 51a and the gauge upper surface 52a are traced by the downward stylus 34, respectively, and the base upper surface 51a and the gauge upper surface 52a are calculated. It is an evaluation value indicating a step amount error with and. This evaluation value 7 is calculated by the following equation [Equation 7].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

<評価値8の算出>
評価値8は、上向き触針36によりゲージ下面54aとベース下面55aとをそれぞれトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき算出され、ゲージ下面54aとベース下面55aとの段差量誤差を示す評価値である。この評価値8は、下記の[数8]式により算出される。
<Calculation of evaluation value 8>
The evaluation value 8 is calculated based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 when the gauge lower surface 54a and the base lower surface 55a are traced by the upward stylus 36, respectively, and the gauge lower surface 54a and the base lower surface 55a are calculated. It is an evaluation value indicating a step amount error with and. This evaluation value 8 is calculated by the following equation [Equation 8].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

<評価値9〜10の算出>
評価値9〜10は、下向き触針34によりゲージ上面52aをトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、上向き触針36によりゲージ下面54aをトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、に基づき算出される。
<Calculation of evaluation values 9 to 10>
The evaluation values 9 to 10 are the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 when the gauge upper surface 52a is traced by the downward stylus 34, and the first when the gauge lower surface 54a is traced by the upward stylus 36. It is calculated based on the detection results of the 1 detector 20 and the 2nd detector 22.

(評価値9の算出)
評価値9は、ゲージ上面52aとゲージ下面54aとの段差量誤差を示す評価値であり、下記の[数9]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 9)
The evaluation value 9 is an evaluation value indicating a step amount error between the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a, and is calculated by the following equation [Equation 9].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

(評価値10の算出)
評価値10は、ゲージ上面52aとゲージ下面54aとの角度誤差を示す評価値であり、下記の[数10]式により算出される。
(Calculation of evaluation value 10)
The evaluation value 10 is an evaluation value indicating an angular error between the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a, and is calculated by the following equation [Equation 10].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

<評価値11の算出>
評価値11は、下向き触針34でピンゲージ50の上側表面50aをトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、上向き触針36でピンゲージ50の下側表面50bをトレースした際の第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、に基づき算出される評価値である。
<Calculation of evaluation value 11>
The evaluation value 11 is the detection result of the first detector 20 and the second detector 22 when the upper surface 50a of the pin gauge 50 is traced by the downward stylus 34, and the lower surface 50b of the pin gauge 50 by the upward stylus 36. It is an evaluation value calculated based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 at the time of tracing.

図19は、評価値11を説明するための説明図である。図19に示すように、評価値11は、上側表面測定データから求められるピンゲージ50(実線で表示)の中心点C1と、下側表面測定データから求められるピンゲージ50(点線で表示)の中心点C2とのX軸方向の中心点誤差ΔCを評価するための評価値である。この評価値11は、下記の[数11]式により算出される。 FIG. 19 is an explanatory diagram for explaining the evaluation value 11. As shown in FIG. 19, the evaluation value 11 is the center point C1 of the pin gauge 50 (shown by the solid line) obtained from the upper surface measurement data and the center point of the pin gauge 50 (shown by the dotted line) obtained from the lower surface measurement data. It is an evaluation value for evaluating the center point error ΔC in the X-axis direction with C2. The evaluation value 11 is calculated by the following formula [Equation 11].

Figure 0006848168
Figure 0006848168

<演算処理部の構成>
図18に戻って、演算処理部37Cは、校正部56及び測定データ演算部57を備えている。校正部56は、本発明の第1校正部、第2校正部、及び第3校正部として機能する。
<Structure of arithmetic processing unit>
Returning to FIG. 18, the arithmetic processing unit 37C includes a calibration unit 56 and a measurement data arithmetic unit 57. The calibration unit 56 functions as a first calibration unit, a second calibration unit, and a third calibration unit of the present invention.

(ピンゲージを用いた校正)
校正部56は、ピンゲージ50を用いた校正を行う場合、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、記憶部37Dの設計値記憶部61に予め記憶されているピンゲージ50の設計値(指定値)とに基づき、前述の評価値1〜評価値6を算出する。そして、校正部56は、各評価値がそれぞれ最小となるように、設計値記憶部61に予め記憶されている前述の設計値LH1,LV1,R1,LH2,LV2,R2をそれぞれ校正した校正値LHd,LVd,Rd,LHu,LVu,Ruを算出し、算出した各校正値を記憶部37Dの校正値記憶部62に記憶させる。これにより、スタイラス18の製造誤差に起因する測定の誤差が解消される。
(Calibration using pin gauge)
When calibrating using the pin gauge 50, the calibration unit 56 designs the pin gauge 50 stored in advance in the design value storage unit 61 of the storage unit 37D and the detection results of the first detector 20 and the second detector 22. Based on the value (designated value), the above-mentioned evaluation values 1 to 6 are calculated. Then, the calibration unit 56 calibrates the above-mentioned design values LH1, LV1, R1, LH2, LV2, R2 stored in advance in the design value storage unit 61 so that each evaluation value becomes the minimum. LHd, LVd, Rd, LHu, LVu, and Ru are calculated, and each of the calculated calibration values is stored in the calibration value storage unit 62 of the storage unit 37D. As a result, the measurement error caused by the manufacturing error of the stylus 18 is eliminated.

校正値LHd,LVd,LHu,LVuは揺動支点軸30(支点)に対する両触針34,36の先端部位置を校正する校正値であり、校正値Rd、Ruは両触針34,36の先端部形状を校正する校正値である。 The calibration values LHd, LVd, LHu, and LVu are calibration values for calibrating the tip positions of the binaural needles 34 and 36 with respect to the swing fulcrum shaft 30 (fulcrum), and the calibration values Rd and Ru are the calibration values of the baffle needles 34 and 36. This is a calibration value for calibrating the tip shape.

なお、校正部56は、評価値1〜6以外の評価値、例えば評価値7〜8を設計値LH1,LV1,R1,LH2,LV2,R2の校正(校正値LHd,LVd,Rd,LHu,LVu,Ruの算出)に反映したり、或いは評価値9〜10を設計値LV1,LV2の校正(校正値LVd,LVuの算出)に反映したりしてもよい。 The calibration unit 56 calibrates the evaluation values other than the evaluation values 1 to 6, for example, the evaluation values 7 to 8 as the design values LH1, LV1, R1, LH2, LV2, R2 (calibration values LHd, LVd, Rd, LHu, It may be reflected in the calculation of LVu and Ru), or the evaluation values 9 to 10 may be reflected in the calibration of the design values LV1 and LV2 (calculation of the calibration values LVd and LVu).

また、校正部56は、ピンゲージ50を使用した校正を行う場合、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき、前述の評価値11を算出する。そして、校正部56は、前述の評価値11が最小となるように、下向き触針34の先端34Aと上向き触針36の先端36Aとの先端部位置のX軸方向の位置ずれを校正する校正値ΔLHを算出し、この校正値ΔLHを校正値記憶部62に記憶させる。これにより、先端34A,36Aの先端部位置のX軸方向の原点を一致させることができるので、先端部位置のX軸方向の位置ずれに起因する測定誤差が解消される。 Further, when performing calibration using the pin gauge 50, the calibration unit 56 calculates the above-mentioned evaluation value 11 based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22. Then, the calibration unit 56 calibrates the displacement of the tip position between the tip 34A of the downward stylus 34 and the tip 36A of the upward stylus 36 in the X-axis direction so that the above-mentioned evaluation value 11 is minimized. The value ΔLH is calculated, and the calibration value ΔLH is stored in the calibration value storage unit 62. As a result, the origins of the tip positions of the tips 34A and 36A in the X-axis direction can be matched, so that the measurement error caused by the misalignment of the tip positions in the X-axis direction is eliminated.

(ベースとブロックゲージの段差を用いた校正)
校正部56は、下側ベース51と下側ブロックゲージ52との段差、及び上側ベース55と上側ブロックゲージ54との段差を用いた校正を行う場合、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、設計値記憶部61に予め記憶されている段差量D1の設計値(指定値)とに基づき、前述の評価値7〜8を算出する。両触針34,36の触針高さに誤差があると、両触針34,36をそれぞれ用いて測定を行った際に、第1検出器20のZ軸方向(上下方向)の感度S1,S2に誤差が生じる。従って、校正部56は、評価値7〜8が最小となるように、設計値記憶部61に予め記憶されている第1検出器20のZ軸方向の感度S1,S2を校正する校正値Sd,Suを算出して、算出した校正値Sd,Suを校正値記憶部62に記憶させる。これにより、第1検出器20のZ軸方向の感度校正を行うことができる。
(Calibration using the step between the base and the block gauge)
When the calibration unit 56 calibrates using the step between the lower base 51 and the lower block gauge 52 and the step between the upper base 55 and the upper block gauge 54, the first detector 20 and the second detector 22 The above-mentioned evaluation values 7 to 8 are calculated based on the detection result of the above and the design value (designated value) of the step amount D1 stored in advance in the design value storage unit 61. If there is an error in the stylus heights of both stylus 34 and 36, the sensitivity S1 in the Z-axis direction (vertical direction) of the first detector 20 when measurement is performed using both stylus 34 and 36, respectively. , S2 has an error. Therefore, the calibration unit 56 calibrates the sensitivities S1 and S2 in the Z-axis direction of the first detector 20 stored in advance in the design value storage unit 61 so that the evaluation values 7 to 8 are minimized. , Su are calculated, and the calculated calibration values Sd and Su are stored in the calibration value storage unit 62. As a result, the sensitivity of the first detector 20 in the Z-axis direction can be calibrated.

(ブロックゲージの上下ゲージ面を用いた校正)
校正部56は、下側ブロックゲージ52のゲージ上面52aと、上側ブロックゲージ54のゲージ下面54aとを用いた校正を行う場合、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、設計値記憶部61に予め記憶されている間隔D2の設計値(指定値)とに基づき、前述の評価値9〜10を算出する。
(Calibration using the upper and lower gauge surfaces of the block gauge)
When calibrating using the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52 and the gauge lower surface 54a of the upper block gauge 54, the calibration unit 56 designs the detection results of the first detector 20 and the second detector 22. The above-mentioned evaluation values 9 to 10 are calculated based on the design value (designated value) of the interval D2 stored in advance in the value storage unit 61.

両触針34,36の触針高さに誤差がある場合、すなわち、校正値LVdと校正値LVuとに誤差がある場合、ゲージ上面52aとゲージ下面54aとの間の測定間隔がD2(25mm)にならず、且つゲージ上面52aとゲージ下面54aとの間に角度誤差が発生する。そこで、校正部56は、評価値9〜10が最小となるように、下向き触針34及び上向き触針36のZ軸方向の触針高さの差を校正する校正値ΔLVを算出して、算出した校正値ΔLVを校正値記憶部62に記憶させる。これにより、両触針34,36の触針高さの誤差に起因する測定誤差が解消される。 If there is an error in the stylus heights of both stylus 34 and 36, that is, if there is an error between the calibration value LVd and the calibration value LVu, the measurement interval between the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a is D2 (25 mm). ), And an angle error occurs between the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a. Therefore, the calibration unit 56 calculates the calibration value ΔLV for calibrating the difference in the height of the stylus in the Z-axis direction between the downward stylus 34 and the upward stylus 36 so that the evaluation values 9 to 10 are minimized. The calculated calibration value ΔLV is stored in the calibration value storage unit 62. As a result, the measurement error caused by the error in the height of the stylus of both stylus 34 and 36 is eliminated.

<測定データ演算部>
測定データ演算部57は、検出結果取得部37Bから取得した第1検出器20及び第2検出器22の検出結果に基づき、測定対象(小穴9の内面、校正用ゲージユニット45の各部)の表面形状を測定した測定データを生成する。この際に、測定データ演算部57は、校正値記憶部62に校正値が記憶されている場合には、校正値を考慮して測定データを生成、例えば校正値で補正した測定データを生成する。そして、測定データ演算部57は、測定データを記憶部37D内の測定データ記憶部63に格納する。
<Measurement data calculation unit>
The measurement data calculation unit 57 is based on the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 acquired from the detection result acquisition unit 37B, and the measurement data calculation unit 57 is the surface of the measurement target (inner surface of the small hole 9 and each part of the calibration gauge unit 45). Generate measurement data that measures the shape. At this time, when the calibration value is stored in the calibration value storage unit 62, the measurement data calculation unit 57 generates the measurement data in consideration of the calibration value, for example, the measurement data corrected by the calibration value. .. Then, the measurement data calculation unit 57 stores the measurement data in the measurement data storage unit 63 in the storage unit 37D.

[表面形状測定機の作用]
次に、図20を用いて上記構成の表面形状測定機10の校正について説明する。ここで、図20は、表面形状測定機10の校正方法を示すフローチャートである。
[Action of surface shape measuring machine]
Next, the calibration of the surface shape measuring machine 10 having the above configuration will be described with reference to FIG. Here, FIG. 20 is a flowchart showing a calibration method of the surface shape measuring machine 10.

測定台12の上に校正用ゲージユニット45をセットした後、既述の図12(A)のステップS1AからステップS7Aに示したように、ピンゲージ50の上側表面50aの測定を行う(ステップS31)。これにより、下向き触針34により上側表面50aをX軸方向にトレースしながら、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 After setting the calibration gauge unit 45 on the measuring table 12, the upper surface 50a of the pin gauge 50 is measured as shown in steps S1A to S7A of FIG. 12 (A) described above (step S31). .. As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 while tracing the upper surface 50a in the X-axis direction by the downward stylus 34.

また、既述の図12(B)のステップS1BからステップS7Bに示したように、ピンゲージ50の下側表面50bの測定を行う(ステップS32)。これにより、上向き触針36により下側表面50bをX軸方向にトレースしながら、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 Further, as shown in steps S1B to S7B of FIG. 12B described above, the lower surface 50b of the pin gauge 50 is measured (step S32). As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 while tracing the lower surface 50b in the X-axis direction by the upward stylus 36.

このようにピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bの測定を行うことで、校正部56において、設計値LH1,LV1,R1,LH2,LV2,R2の校正、すなわち、校正値LHd,LVd,Rd,LHu,LVu,Ruを算出することができる。また、それぞれの測定においてピンゲージ50の中心点C1,C2が求められるため、先端34A,36Aの先端部位置のX軸方向の位置ずれの校正、すなわち、校正値ΔLHを算出することができる。 By measuring the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50 in this way, the calibration unit 56 calibrates the design values LH1, LV1, R1, LH2, LV2, R2, that is, the calibration values LHd, LVd, Rd, LHu, LVu, Ru can be calculated. Further, since the center points C1 and C2 of the pin gauge 50 are obtained in each measurement, it is possible to calibrate the position deviation of the tip positions of the tips 34A and 36A in the X-axis direction, that is, to calculate the calibration value ΔLH.

また、本実施形態では、平面部49をピンゲージ50のX軸方向の側方に設けたことにより、既述の図11(A)〜(C)に示したように、両触針34,36及びピンゲージ50のサイズが小さい場合でも、両触針34,36をピンゲージ50に確実且つ容易に接触させることができる。また、両触針34,36による上側表面50a及び下側表面50bのトレース開始位置が一定位置に定められるため、上側表面50a及び下側表面50bを一定角度範囲以上トレースすることができる。その結果、ピンゲージ50の中心位置が高精度に求められるので、校正を高精度に行うことができる。 Further, in the present embodiment, since the flat surface portion 49 is provided on the side of the pin gauge 50 in the X-axis direction, both tactile needles 34 and 36 are provided as shown in FIGS. 11A to 11C described above. And even when the size of the pin gauge 50 is small, both tactile needles 34 and 36 can be reliably and easily brought into contact with the pin gauge 50. Further, since the trace start positions of the upper surface 50a and the lower surface 50b by the binaural needles 34 and 36 are set at a fixed position, the upper surface 50a and the lower surface 50b can be traced at a certain angle range or more. As a result, the center position of the pin gauge 50 is obtained with high accuracy, so that calibration can be performed with high accuracy.

さらに、本実施形態では、既述の図13(A),(B)に示したように、基準球100の代わりにピンゲージ50を用いて校正を行うため、両触針34,36の双方で常にピンゲージ50の最大直径部をトレースすることができ、校正を高精度に行うことができる。 Further, in the present embodiment, as shown in FIGS. 13 (A) and 13 (B) described above, since the pin gauge 50 is used instead of the reference sphere 100 for calibration, both the tactile needles 34 and 36 are used. The maximum diameter of the pin gauge 50 can always be traced, and calibration can be performed with high accuracy.

ピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bの測定後、既述の図17(A)のステップS21AからステップS26Aに示したように、下側ベース51のベース上面51aの測定を行う(ステップS33)。また、既述の図15(A)のステップS11AからステップS16Aに示したように、下側ブロックゲージ52のゲージ上面52aの測定を行う(ステップS34)。これにより、下向き触針34によりベース上面51a及びゲージ上面52aをそれぞれX軸方向にトレースしながら、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 After measuring the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50, the base upper surface 51a of the lower base 51 is measured as shown in steps S21A to S26A of FIG. 17 (A) described above (step S33). ). Further, as shown in steps S11A to S16A of FIG. 15A described above, the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52 is measured (step S34). As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 while tracing the base upper surface 51a and the gauge upper surface 52a in the X-axis direction by the downward stylus 34.

次いで、既述の図17(B)のステップS21BからステップS26Bに示したように、上側ベース55のベース下面55aの測定を行うと共に(ステップS35)、既述の図15(B)のステップS11BからステップS16Bに示したように、上側ブロックゲージ54のゲージ下面54aの測定を行う(ステップS36)。これにより、上向き触針36によりベース下面55a及びゲージ下面54aをそれぞれX軸方向にトレースしながら、第1検出器20及び第2検出器22の検出結果がデータ処理装置37に逐次入力される。 Next, as shown in steps S21B to S26B of FIG. 17B described above, the lower surface 55a of the base of the upper base 55 is measured (step S35), and step S11B of FIG. 15B described above is performed. As shown in step S16B, the gauge lower surface 54a of the upper block gauge 54 is measured (step S36). As a result, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 are sequentially input to the data processing device 37 while tracing the base lower surface 55a and the gauge lower surface 54a in the X-axis direction by the upward stylus 36, respectively.

このように、ベース上面51a及びゲージ上面52aの測定と、ベース下面55a及びゲージ下面54aの測定と、をそれぞれ行うことで、第1検出器20のZ軸方向の感度S1,S2の校正、すなわち、校正値Sd,Suの算出を行うことができる。その結果、両触針34,36によって測定した測定データのZ値を校正することができる。 By performing the measurement of the base upper surface 51a and the gauge upper surface 52a and the measurement of the base lower surface 55a and the gauge lower surface 54a, respectively, the calibration of the sensitivities S1 and S2 of the first detector 20 in the Z-axis direction, that is, , Calibration values Sd and Su can be calculated. As a result, the Z value of the measurement data measured by the binaural needles 34 and 36 can be calibrated.

また、ゲージ上面52a及びゲージ下面54aの測定を行うことで、両触針34,36のZ軸方向の触針高さの差(両触針34,36によって測定した測定データの相互のZ軸方向の空間精度)の校正、すなわち、校正値ΔLVの算出を行うことができる。また、両触針34,36によって測定した測定データのZ値を校正することができる。 Further, by measuring the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a, the difference in the height of the stylus in the Z-axis direction of the stylus 34, 36 (the mutual Z-axis of the measurement data measured by the stylus 34, 36). The spatial accuracy of the direction) can be calibrated, that is, the calibrated value ΔLV can be calculated. In addition, the Z value of the measurement data measured by the binaural needles 34 and 36 can be calibrated.

さらに、本実施形態では、既述の図16(A),(B)に示したように、中央ブロックゲージ53によりZ軸方向の間隔がD2に規定されているゲージ上面52a及びゲージ下面54aの測定を行うことで、中央ブロックゲージ53の上下面を測定する場合と比較して、測定誤差を小さくすることができる。その結果、校正を高精度に行うことができる。 Further, in the present embodiment, as shown in FIGS. 16A and 16B described above, the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a whose Z-axis direction spacing is defined by the central block gauge 53 in D2. By performing the measurement, the measurement error can be reduced as compared with the case of measuring the upper and lower surfaces of the central block gauge 53. As a result, calibration can be performed with high accuracy.

そして、上記ステップS31からステップS36においてそれぞれデータ処理装置37に入力された第1検出器20及び第2検出器22の検出結果は、検出結果取得部37Bを介して演算処理部37Cに入力される。 Then, the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 input to the data processing device 37 in steps S31 to S36, respectively, are input to the arithmetic processing unit 37C via the detection result acquisition unit 37B. ..

演算処理部37Cの校正部56は、検出結果取得部37Bを介して入力された第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、設計値記憶部61に記憶されている各設計値とに基づき、前述の評価値1〜11を算出する。そして、校正部56は、算出した前述の評価値1〜11が最小となるように、上記各校正値を算出して校正値記憶部62に記憶させる(ステップS37)。 The calibration unit 56 of the arithmetic processing unit 37C has the detection results of the first detector 20 and the second detector 22 input via the detection result acquisition unit 37B, and each design value stored in the design value storage unit 61. Based on the above, the above-mentioned evaluation values 1 to 11 are calculated. Then, the calibration unit 56 calculates each of the above calibration values and stores them in the calibration value storage unit 62 so that the calculated evaluation values 1 to 11 are minimized (step S37).

校正値記憶部62に記載された各校正値は、表面形状測定機10で小穴9の内面の表形状を測定する際に、測定データ演算部57により読み出される。測定データ演算部57は、小穴9の内面を両触針34,36でそれぞれX軸方向にトレースして得られた第1検出器20及び第2検出器22の検出結果と、校正値記憶部62に記憶された校正値とに基づき、校正値で補正された小穴9の内面の測定データを生成して測定データ記憶部63に記憶させる。 Each calibration value described in the calibration value storage unit 62 is read out by the measurement data calculation unit 57 when the surface shape of the inner surface of the small hole 9 is measured by the surface shape measuring machine 10. The measurement data calculation unit 57 is a calibration value storage unit and detection results of the first detector 20 and the second detector 22 obtained by tracing the inner surface of the small hole 9 in the X-axis direction with both stylus 34 and 36, respectively. Based on the calibration value stored in 62, the measurement data of the inner surface of the small hole 9 corrected by the calibration value is generated and stored in the measurement data storage unit 63.

[本実施形態の効果]
<ピンゲージの直径の調整による効果>
図21は、ピンゲージ50の直径DAを調整することで得られる効果を説明するための説明図である。なお、ストローク幅LD1は、既述の通り、揺動支点軸30を支点としてアーム32が第2揺動方向SW2(図1参照)に最も揺動した状態での下向き触針34の先端34Aの先端位置と、第1揺動方向SW1に最も揺動した状態での上向き触針36の先端36Aの先端位置と、のZ軸方向の間隔である。
[Effect of this embodiment]
<Effect of adjusting the diameter of the pin gauge>
FIG. 21 is an explanatory diagram for explaining the effect obtained by adjusting the diameter DA of the pin gauge 50. As described above, the stroke width LD1 is the tip 34A of the downward stylus 34 in a state where the arm 32 swings most in the second swing direction SW2 (see FIG. 1) with the swing fulcrum shaft 30 as the fulcrum. This is the distance between the tip position and the tip position of the tip 36A of the upward stylus 36 in the state of being most swung in the first swing direction SW1 in the Z-axis direction.

図21に示すように、本実施形態では、ピンゲージ50の直径DAをストローク幅LD1よりも小さくすると共に、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZをピンゲージ50の中心位置に位置合わせしている。これにより、下向き触針34による上側表面50aのX軸方向のトレースと、上向き触針36による下側表面50bのX軸方向のトレースとを行う際に、既述の図1に示した送り装置16のZ軸方向の位置(揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZ)を動かす必要がなくなる。また、ピンゲージ50の直径DAを小径にすることで、両触針34,36によりそれぞれ上側表面50aと下側表面50bとをX軸方向にトレースする際に、アーム32とピンゲージ50との干渉が防止される。 As shown in FIG. 21, in the present embodiment, the diameter DA of the pin gauge 50 is made smaller than the stroke width LD1, and the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is aligned with the center position of the pin gauge 50. There is. As a result, when the downward stylus 34 traces the upper surface 50a in the X-axis direction and the upward stylus 36 traces the lower surface 50b in the X-axis direction, the feeding device shown in FIG. 1 described above. It is not necessary to move the position 16 in the Z-axis direction (position PZ in the Z-axis direction of the swing fulcrum shaft 30). Further, by reducing the diameter DA of the pin gauge 50, interference between the arm 32 and the pin gauge 50 occurs when the upper surface 50a and the lower surface 50b are traced in the X-axis direction by the double stylus 34 and 36, respectively. Be prevented.

一方、図22は、ピンゲージ50の直径DAが、スタイラス18のストローク幅LD1よりも大きく形成されている比較例を説明するための説明図である。図22に示すように、ピンゲージ50の直径DAがストローク幅LD1よりも大きい場合、アーム32とピンゲージ50とが干渉するおそれがある。このため、下向き触針34による上側表面50aのX軸方向のトレースと、上向き触針36による下側表面50bのX軸方向のトレースとを行う際に、揺動支点軸30の位置PZを変える必要がある。その結果、既述の校正値ΔLH(評価値11)等を算出する際に、位置PZの変位も考慮(合算)する必要が生じるので、誤差が発生するおそれがある。 On the other hand, FIG. 22 is an explanatory diagram for explaining a comparative example in which the diameter DA of the pin gauge 50 is formed to be larger than the stroke width LD1 of the stylus 18. As shown in FIG. 22, when the diameter DA of the pin gauge 50 is larger than the stroke width LD1, the arm 32 and the pin gauge 50 may interfere with each other. Therefore, when the downward stylus 34 traces the upper surface 50a in the X-axis direction and the upward stylus 36 traces the lower surface 50b in the X-axis direction, the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 is changed. There is a need. As a result, when calculating the above-mentioned calibration value ΔLH (evaluation value 11) or the like, it is necessary to consider (total) the displacement of the position PZ, which may cause an error.

このような比較例に対して本実施形態では、ピンゲージ50の直径DAをストローク幅LD1よりも小さくすると共に、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZをピンゲージ50の中心位置に位置合わせすることで、上述のトレースを行う際にアーム32とピンゲージ50との干渉のおそれがなくなる。このため、揺動支点軸30の位置PZを動かす必要がなくなるので、校正値ΔLH等を高精度に求めることができる。その結果、ピンゲージ50を使用した校正を高精度に行うことができる。 In contrast to such a comparative example, in the present embodiment, the diameter DA of the pin gauge 50 is made smaller than the stroke width LD1, and the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is aligned with the center position of the pin gauge 50. This eliminates the risk of interference between the arm 32 and the pin gauge 50 when performing the above-mentioned trace. Therefore, it is not necessary to move the position PZ of the swing fulcrum shaft 30, so that the calibration value ΔLH or the like can be obtained with high accuracy. As a result, calibration using the pin gauge 50 can be performed with high accuracy.

<中央ブロックゲージの厚みを調整することにより得られる効果>
図23は、中央ブロックゲージ53の厚み(間隔D2)を調整することにより得られる効果の説明図である。なお、ベース間隔D3は、ベース上面51aとベース下面55aとの間のZ軸方向の間隔である。また、ストローク幅LD2は、既述の通り、揺動支点軸30を支点としてアーム32が、第1揺動方向SW1に最も揺動した状態での下向き触針34の先端34Aの先端位置と、第2揺動方向SW2に最も揺動した状態での上向き触針36の先端36Aの先端位置と、のZ軸方向の間隔である。
<Effect obtained by adjusting the thickness of the central block gauge>
FIG. 23 is an explanatory diagram of the effect obtained by adjusting the thickness (interval D2) of the central block gauge 53. The base spacing D3 is the spacing in the Z-axis direction between the base upper surface 51a and the base lower surface 55a. Further, as described above, the stroke width LD2 includes the tip position of the tip 34A of the downward stylus 34 in a state where the arm 32 swings most in the first swing direction SW1 with the swing fulcrum shaft 30 as the fulcrum. The distance between the tip position of the tip 36A of the upward stylus 36 in the state of being most swung in the second swing direction SW2 and the tip position in the Z-axis direction.

図23に示すように、中央ブロックゲージ53の厚み(間隔D2)は、ベース間隔D3をストローク幅LD2よりも狭くする大きさに調整されている。また、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZは、ゲージ上面52aとゲージ下面54aとの中間位置(ベース上面51aとベース下面55aとの中間位置、及び中央ブロックゲージ53の中間位置)に位置合わせされている。 As shown in FIG. 23, the thickness of the central block gauge 53 (spacing D2) is adjusted so that the base spacing D3 is narrower than the stroke width LD2. Further, the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is at an intermediate position between the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a (intermediate position between the base upper surface 51a and the base lower surface 55a and the intermediate position of the central block gauge 53). It is aligned.

このように中央ブロックゲージ53の厚みと揺動支点軸30の位置PZとを調整することで、両触針34,36によりベース上面51a、ゲージ上面52a、ゲージ下面54a、及びベース下面55aをX軸方向にトレースする際に、既述の図1に示した送り装置16(ホルダ17及びスタイラス18)のZ軸方向の位置を動かす必要がなくなる。 By adjusting the thickness of the central block gauge 53 and the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in this way, the base upper surface 51a, the gauge upper surface 52a, the gauge lower surface 54a, and the base lower surface 55a are X by both styluses 34 and 36. When tracing in the axial direction, it is not necessary to move the position of the feed device 16 (holder 17 and stylus 18) shown in FIG. 1 described above in the Z-axis direction.

一方、図24は、ベース間隔D3がストローク幅LD2よりも大きく形成されている比較例を説明するための説明図である。図24に示すように、ベース間隔D3がストローク幅LD2よりも大きく形成されていると、下向き触針34によりベース上面51a及びゲージ上面52aをX軸方向にトレースする場合に、送り装置16(ホルダ17及びスタイラス18)のZ軸方向の位置PZを変える必要が生じるおそれがある。また、上向き触針36によりゲージ下面54a及びベース下面55aをX軸方向にトレースする場合にも、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZを変える必要が生じるおそれがある。さらに、下向き触針34によるゲージ上面52aのX軸方向のトレースと、上向き触針36によるゲージ下面54aのX軸方向のトレースとを行う際に、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZを変える必要が生じるおそれがある。 On the other hand, FIG. 24 is an explanatory diagram for explaining a comparative example in which the base interval D3 is formed larger than the stroke width LD2. As shown in FIG. 24, when the base spacing D3 is formed to be larger than the stroke width LD2, the feed device 16 (holder) when the base upper surface 51a and the gauge upper surface 52a are traced in the X-axis direction by the downward stylus 34. It may be necessary to change the position PZ of 17 and the stylus 18) in the Z-axis direction. Further, when the gauge lower surface 54a and the base lower surface 55a are traced in the X-axis direction by the upward stylus 36, it may be necessary to change the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction. Further, when tracing the gauge upper surface 52a with the downward stylus 34 in the X-axis direction and tracing the gauge lower surface 54a with the upward stylus 36 in the X-axis direction, the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is performed. May need to be changed.

揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZの変化が生じると、既述の校正値Sd,Su(評価値7〜8)の精度に影響を及ぼしたり、既述の校正値ΔLV(評価値9〜10)の精度に影響を及ぼしたりする。 When the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction changes, the accuracy of the above-mentioned calibration values Sd and Su (evaluation values 7 to 8) may be affected, or the above-mentioned calibration values ΔLV (evaluation value) may be affected. It affects the accuracy of 9 to 10).

このような比較例に対して本実施形態では、ベース間隔D3をストローク幅LD2よりも狭くすると共に、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZを既述の中間位置に合わせることで、揺動支点軸30の位置PZを変えることなく、両触針34,36によりベース上面51a、ゲージ上面52a、ゲージ下面54a、及びベース下面55aをトレースすることができる。その結果、校正値Sd,Su及び校正値ΔLV等を高精度に求めることができるので、各ベース51,55と各ブロックゲージ52,54の段差を用いた校正と、ゲージ上面52a及びゲージ下面54aを用いた校正と、を高精度に行うことができる。 In contrast to such a comparative example, in the present embodiment, the base spacing D3 is narrower than the stroke width LD2, and the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is adjusted to the above-mentioned intermediate position to swing. The upper surface of the base 51a, the upper surface of the gauge 52a, the lower surface of the gauge 54a, and the lower surface of the base 55a can be traced by the binaural needles 34 and 36 without changing the position PZ of the fulcrum shaft 30. As a result, the calibration values Sd, Su, the calibration value ΔLV, and the like can be obtained with high accuracy. Therefore, calibration using the steps of the bases 51 and 55 and the block gauges 52 and 54, and the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a are performed. Calibration using and can be performed with high accuracy.

なお、この場合には、ベース上面51a、ゲージ上面52a、ゲージ下面54a、及びベース下面55aの順番、或いはこの順番とは逆の順番でトレースを行うことで、スタイラス18の姿勢変化が最小限に抑えられるので、校正を短時間で行うことができる。 In this case, the posture change of the stylus 18 is minimized by tracing in the order of the base upper surface 51a, the gauge upper surface 52a, the gauge lower surface 54a, and the base lower surface 55a, or in the reverse order of this order. Since it can be suppressed, calibration can be performed in a short time.

また、校正値Sd,Su及び校正値ΔLVのうち校正値ΔLVだけを求める場合、すなわち両触針34,36によりゲージ上面52a及びゲージ下面54aのトレースだけを行い、ベース上面51a及びベース下面55aのトレースを行わない場合には、ゲージ上面52aとゲージ下面54aとを基準に中央ブロックゲージ53の厚みを調整してもよい。この場合、中央ブロックゲージ53の厚み(間隔D2)、すなわちゲージ上面52aとゲージ下面54aとの間のZ軸方向の間隔を、スタイラス18のストローク幅LD2よりも小さく調整する。これにより、ゲージ上面52a及びゲージ下面54aを用いた校正を高精度に行うことができる。 Further, when only the calibration value ΔLV out of the calibration values Sd and Su and the calibration value ΔLV is obtained, that is, only the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a are traced by the binaural needles 34 and 36, and the base upper surface 51a and the base lower surface 55a are traced. When tracing is not performed, the thickness of the central block gauge 53 may be adjusted with reference to the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a. In this case, the thickness of the central block gauge 53 (distance D2), that is, the distance between the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a in the Z-axis direction is adjusted to be smaller than the stroke width LD2 of the stylus 18. As a result, calibration using the gauge upper surface 52a and the gauge lower surface 54a can be performed with high accuracy.

<本実施形態の効果>
以上のように本実施形態の表面形状測定機10では、ピンゲージ50の直径DAの調整と、中央ブロックゲージ53の厚み(間隔D2)の調整と、位置PZの調整とを行うことで、ピンゲージ50を用いた校正と、各ベース51,55及び各ブロックゲージ52,54を用いた校正と、をそれぞれ揺動支点軸30の位置PZを固定して行うことができる。その結果、揺動支点軸30の位置PZを変える必要がある従来の校正法(図22、図24、図28参照)よりも、各校正を高精度に行うことができる。
<Effect of this embodiment>
As described above, in the surface shape measuring machine 10 of the present embodiment, the pin gauge 50 is adjusted by adjusting the diameter DA of the pin gauge 50, adjusting the thickness (interval D2) of the central block gauge 53, and adjusting the position PZ. And the calibration using the bases 51 and 55 and the block gauges 52 and 54, respectively, can be performed by fixing the position PZ of the swing fulcrum shaft 30. As a result, each calibration can be performed with higher accuracy than the conventional calibration method (see FIGS. 22, 24, 28) in which the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 needs to be changed.

[その他]
上記実施形態では、図20に示したステップS31からステップS36の順番で校正用ゲージユニット45の各部の測定を行っているが、各部を測定する測定順番は適宜変更してもよい。
[Other]
In the above embodiment, each part of the calibration gauge unit 45 is measured in the order of steps S31 to S36 shown in FIG. 20, but the measurement order for measuring each part may be changed as appropriate.

<変形例1及び変形例2>
図25は、表面形状測定機10の校正方法の変形例1を示すフローチャートであり、図22は、表面形状測定機10の校正方法の変形例2を示すフローチャートである。上記実施形態では、校正用ゲージユニット45の各部の測定(図20のステップS31からステップS36)が全て完了した後で各校正値の算出を行っているが、校正値の算出は適宜タイミングで行ってもよい。
<Modification 1 and Modification 2>
FIG. 25 is a flowchart showing a modification 1 of the calibration method of the surface shape measuring machine 10, and FIG. 22 is a flowchart showing a modification 2 of the calibration method of the surface shape measuring machine 10. In the above embodiment, each calibration value is calculated after all the measurements of each part of the calibration gauge unit 45 (steps S31 to S36 in FIG. 20) are completed, but the calibration value is calculated at an appropriate timing. You may.

例えば図25に示すように、ピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bの測定後、校正値LHd,LVd,Rd,LHu,LVu,Ru,ΔLHの算出を行い(ステップS32A)、これら各校正値をベース上面51a、ゲージ上面52a、ベース下面55a、及びゲージ下面54aの各測定に反映させてもよい。これにより、スタイラス18(両触針34,36)の形状の正確性を踏まえた校正値Sd,Su,ΔLVの算出(ステップS37A)を行うことができる。 For example, as shown in FIG. 25, after measuring the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50, the calibration values LHd, LVd, Rd, LHu, LVu, Ru, and ΔLH are calculated (step S32A), and each of these calibrations is performed. The value may be reflected in each measurement of the base upper surface 51a, the gauge upper surface 52a, the base lower surface 55a, and the gauge lower surface 54a. As a result, the calibration values Sd, Su, and ΔLV can be calculated (step S37A) based on the accuracy of the shape of the stylus 18 (both styluses 34 and 36).

また、例えば図26に示すように、最初に下側ブロックゲージ52のゲージ上面52aの測定と、上側ブロックゲージ54のゲージ下面54aの測定とを行って、校正値ΔLVを算出した上で(ステップS30A,S30B,S30C)、この校正値ΔLVをピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50bの測定等に反映させてもよい。これにより、両触針34,36のZ軸方向の触針高さ(両触針34,36によって測定した測定データの相互のZ軸方向の空間精度)を合せた状態で、ピンゲージ50の上側表面50a及び下側表面50b等の測定を行うことができる。その結果、より高精度の校正値LHd,LVd,Rd,LHu,LVu,Ru,ΔLHを算出することができる(ステップS37B)。 Further, for example, as shown in FIG. 26, the calibration value ΔLV is calculated by first measuring the gauge upper surface 52a of the lower block gauge 52 and the gauge lower surface 54a of the upper block gauge 54 (step). S30A, S30B, S30C), and this calibration value ΔLV may be reflected in the measurement of the upper surface 50a and the lower surface 50b of the pin gauge 50. As a result, the upper side of the pin gauge 50 with the heights of the tactile needles 34 and 36 in the Z-axis direction (the mutual spatial accuracy of the measurement data measured by the tactile needles 34 and 36 in the Z-axis direction) matched. The surface 50a, the lower surface 50b, and the like can be measured. As a result, more accurate calibration values LHd, LVd, Rd, LHu, LVu, Ru, and ΔLH can be calculated (step S37B).

<変形例3>
図27は、校正用ゲージユニット45の変形例を示した斜視図である。図27に示すように、本発明は、ピンゲージ50を用いる場合よりは校正の精度が低下するものの、既述の基準球100(本発明の校正部材に相当)を備える校正用ゲージユニット45を用いてスタイラス18の校正を行う場合にも適用できる。なお、図中の基準球100は、天板48の端部に設けられた基準球保持部91により挟持(保持)されているが、基準球100の保持方法は特に限定されない。そして、基準球100の直径をストローク幅LD1(図21参照)よりも小さくすると共に、揺動支点軸30のZ軸方向の位置PZを基準球100の中心位置に位置合わせすることで、上記実施形態と同様の効果が得られる。
<Modification example 3>
FIG. 27 is a perspective view showing a modified example of the calibration gauge unit 45. As shown in FIG. 27, the present invention uses a calibration gauge unit 45 provided with the above-mentioned reference ball 100 (corresponding to the calibration member of the present invention), although the calibration accuracy is lower than when the pin gauge 50 is used. It can also be applied when calibrating the stylus 18. The reference sphere 100 in the drawing is sandwiched (held) by the reference sphere holding portion 91 provided at the end of the top plate 48, but the holding method of the reference sphere 100 is not particularly limited. Then, the diameter of the reference sphere 100 is made smaller than the stroke width LD1 (see FIG. 21), and the position PZ of the swing fulcrum shaft 30 in the Z-axis direction is aligned with the center position of the reference sphere 100. The same effect as the morphology can be obtained.

上記実施形態では、校正値LHd,LVd,Rd,LHu,LVu,Ru,Sd,Su,ΔLH,ΔLVを算出しているが、これら各校正値の中から算出する校正値を選択するようにしてもよい。例えば、ピンゲージ50を用いた校正で算出される校正値LHd,LVd,LHu,LVuと、校正値Rd、Ruと、校正値ΔHとの中から少なくともいずれか1つ以上を算出してもよい。 In the above embodiment, the calibration values LHd, LVd, Rd, LHu, LVu, Ru, Sd, Su, ΔLH, and ΔLV are calculated, but the calibration value to be calculated is selected from each of these calibration values. May be good. For example, at least one or more of the calibration values LHd, LVd, LHu, LVu calculated by the calibration using the pin gauge 50, the calibration values Rd, Ru, and the calibration value ΔH may be calculated.

上記実施形態では、送り装置16によりスタイラス18をX軸方向に移動させることにより、スタイラス18(両触針34,36)と、校正用ゲージユニット45及びワークW等の測定対象とをX軸方向に相対移動させているが、例えば測定台12をX軸方向に移動させることにより、スタイラス18と測定対象とをX軸方向に相対移動させてもよい。この場合、第2検出器22は、スタイラス18(アーム32)と測定対象とのX軸方向の相対移動として、測定台12のX軸方向の変位を検出する。 In the above embodiment, by moving the stylus 18 in the X-axis direction by the feeding device 16, the stylus 18 (both stylus 34, 36) and the measurement target such as the calibration gauge unit 45 and the work W are moved in the X-axis direction. However, the stylus 18 and the measurement target may be relatively moved in the X-axis direction by, for example, moving the measuring table 12 in the X-axis direction. In this case, the second detector 22 detects the displacement of the measuring table 12 in the X-axis direction as the relative movement of the stylus 18 (arm 32) and the measurement target in the X-axis direction.

上記実施形態では、第1検出器20の検出結果以外に第2検出器22の検出結果を用いて測定及び校正を行っているが、例えば、送り装置16によるスタイラス18の移動速度が一定速度である場合には第2検出器22による検出を省略してもよい。 In the above embodiment, measurement and calibration are performed using the detection result of the second detector 22 in addition to the detection result of the first detector 20, but for example, the moving speed of the stylus 18 by the feeding device 16 is constant. In some cases, the detection by the second detector 22 may be omitted.

上記実施形態では、小穴9の内面を測定する表面形状測定機10の校正について説明したが、測定対象は特に限定されず、T字型のスタイラス18を有する各種表面形状測定機の校正に本発明を適用することができる。また、上記実施形態の校正用ゲージユニット45を用いて、T字型のスタイラス18のみならず、両触針34,36のいずれか一方のみを有するスタイラス、及び各種形状の触針を1又は複数有するスタイラスの校正を行うことができる。なお、本発明の校正装置は、データ処理装置37と校正用ゲージユニット45との双方を備えるものに限定されず、校正用ゲージユニット45単体で構成されていてもよい。 In the above embodiment, the calibration of the surface shape measuring machine 10 for measuring the inner surface of the small hole 9 has been described, but the measurement target is not particularly limited, and the present invention is used for calibrating various surface shape measuring machines having a T-shaped stylus 18. Can be applied. Further, using the calibration gauge unit 45 of the above embodiment, not only the T-shaped stylus 18, but also a stylus having only one of both styluses 34 and 36, and one or a plurality of styluses having various shapes are used. You can calibrate your stylus. The calibration device of the present invention is not limited to the one including both the data processing device 37 and the calibration gauge unit 45, and may be composed of the calibration gauge unit 45 alone.

9…小穴,10…表面形状測定機,16…送り装置,18…スタイラス,20…第1検出器,22…第2検出器,30…揺動支点軸,32…アーム,34…下向き触針,36…上向き触針,37…データ処理装置,37C…演算処理部,45…校正用ゲージユニット,49…平面部,50…ピンゲージ,51…下側ベース,52…下側ブロックゲージ,53…中央ブロックゲージ,54…上側ブロックゲージ,55…上側ベース,56…校正部 9 ... Small hole, 10 ... Surface shape measuring machine, 16 ... Feeding device, 18 ... Stylus, 20 ... 1st detector, 22 ... 2nd detector, 30 ... Swing fulcrum shaft, 32 ... Arm, 34 ... Downward stylus , 36 ... upward stylus, 37 ... data processing device, 37C ... arithmetic processing unit, 45 ... calibration gauge unit, 49 ... flat surface, 50 ... pin gauge, 51 ... lower base, 52 ... lower block gauge, 53 ... Central block gauge, 54 ... upper block gauge, 55 ... upper base, 56 ... calibration section

Claims (11)

第1軸方向に平行な回転軸を支点として第1揺動方向と第2揺動方向とに揺動自在に支持されたアームと、前記アームの先端に設けられ且つ前記第1揺動方向に向かって突出する第1触針及び前記第2揺動方向に向かって突出する第2触針と、前記第1触針及び前記第2触針の両触針の一方をワークに接触させた状態で、前記ワークに対して前記アームを第1軸方向に垂直な第2軸方向に相対移動させる移動機構と、前記アームの揺動による変位を検出する検出器と、を備える表面形状測定機の校正装置において、
前記アームの前記第1揺動方向の揺動によって前記第1触針と接触する第1面であって、且つ前記第1軸方向及び前記第2軸方向の双方向に平行な第1面を有する第1ゲージと、
前記アームの前記第2揺動方向の揺動によって前記第2触針と接触する前記双方向に平行な第2面であって、且つ前記第1面に対して前記双方向に垂直な第3軸方向に第1面間隔をあけて対向配置された第2面を有する第2ゲージと、
を備え、
前記アームが前記第1揺動方向に最も揺動した状態での前記第1触針の先端位置と、前記第2揺動方向に最も揺動した状態での前記第2触針の先端位置と、の前記第3軸方向の間隔を第1位置間隔とした場合、前記第1面間隔が前記第1位置間隔よりも狭く調整されている表面形状測定機の校正装置。
An arm that is swingably supported in the first swing direction and the second swing direction with a rotation axis parallel to the first shaft direction as a fulcrum, and an arm provided at the tip of the arm and in the first swing direction. A state in which one of the first stylus protruding toward the direction, the second stylus protruding toward the second swing direction, and both the first stylus and the second stylus are in contact with the work. A surface shape measuring machine comprising a moving mechanism for relatively moving the arm in the second axial direction perpendicular to the first axial direction with respect to the work, and a detector for detecting displacement due to the swing of the arm. In the calibrator
A first surface that is in contact with the first stylus due to the swing of the arm in the first swing direction, and is parallel to both directions in the first axial direction and the second axial direction. With the first gauge to have
A third surface that is parallel to both directions and is perpendicular to the first surface and is in contact with the second stylus due to the swing of the arm in the second swing direction. A second gauge having a second surface arranged so as to face each other with a first surface interval in the axial direction,
With
The tip position of the first stylus in the state where the arm swings most in the first swing direction, and the tip position of the second stylus in the state where the arm swings most in the second swing direction. A calibration device for a surface shape measuring machine in which the first surface spacing is adjusted to be narrower than the first position spacing when the spacing in the third axial direction is defined as the first position spacing.
前記第1面の一部と前記第2面の一部との間に設けられ、前記第1面間隔に対応する厚みを有する中央ゲージを備える請求項1に記載の表面形状測定機の校正装置。 The calibration device for a surface shape measuring machine according to claim 1, further comprising a central gauge provided between a part of the first surface and a part of the second surface and having a thickness corresponding to the first surface spacing. .. 前記第1面と前記第2面との間の中間位置が、前記回転軸の前記第3軸方向の位置に一致している請求項1又は2に記載の表面形状測定機の校正装置。 The calibration device for a surface shape measuring machine according to claim 1 or 2, wherein the intermediate position between the first surface and the second surface coincides with the position of the rotating shaft in the third axis direction. 前記第1面に前記第1触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記第1面に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器から検出結果を取得する第1面検出結果取得部と、
前記第2面に前記第2触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記第2面に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器から検出結果を取得する第2面検出結果取得部と、
前記第1面検出結果取得部及び前記第2面検出結果取得部がそれぞれ取得した前記検出結果に基づき、前記両触針の前記第3軸方向の触針高さの差を校正する第1校正部と、
を備える請求項1から3のいずれか1項に記載の表面形状測定機の校正装置。
The detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axial direction with respect to the first surface by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the first surface. First surface detection result acquisition unit to acquire
The detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axial direction with respect to the second surface by the moving mechanism in a state where the second stylus is in contact with the second surface. 2nd surface detection result acquisition unit to acquire
First calibration for calibrating the difference in the height of the stylus in the third axis direction of both stylus based on the detection results acquired by the first surface detection result acquisition unit and the second surface detection result acquisition unit, respectively. Department and
The calibration device for a surface shape measuring machine according to any one of claims 1 to 3.
前記第3軸方向の中で前記第1面から前記第2面に向かう側を第3軸方向一方側とし、前記第2面から前記第1面に向かう側を第3軸方向他方側とした場合、
前記第1面に対して前記第2軸方向にずれた位置からさらに前記第1面に対して前記第3軸方向他方側に第2面間隔をあけた位置に設けられた第3面であって、前記アームの前記第1揺動方向の揺動によって前記第1触針と接触する前記双方向に平行な第3面を有する第1ベースと、
前記第2面に対して前記第2軸方向にずれた位置からさらに前記第2面に対して前記第3軸方向一方側に第3面間隔をあけた位置に設けられた第4面であって、前記アームの前記第2揺動方向の揺動によって前記第2触針と接触する前記双方向に平行な第4面を有する第2ベースと、
を備え、
前記第1面間隔は、前記第3面と前記第4面との間の前記第3軸方向の間隔を、前記第1位置間隔よりも狭くする大きさに調整されている請求項1から4のいずれか1項に記載の表面形状測定機の校正装置。
In the third axial direction, the side from the first surface to the second surface is defined as one side in the third axial direction, and the side from the second surface toward the first surface is defined as the other side in the third axial direction. If,
A third surface provided at a position spaced from the position deviated from the first surface in the second axial direction to the other side in the third axial direction with respect to the first surface. A first base having a third surface parallel to both directions that comes into contact with the first stylus due to the swing of the arm in the first swing direction.
A fourth surface provided at a position at which a third surface is spaced from a position deviated from the second surface in the second axial direction to one side of the second surface in the third axial direction. A second base having a fourth surface parallel to both directions that comes into contact with the second stylus due to the swing of the arm in the second swing direction.
With
Claims 1 to 4 are adjusted so that the distance between the third surface and the fourth surface in the third axial direction is narrower than the first position distance. The calibration device for the surface shape measuring machine according to any one of the above items.
前記第1面に前記第1触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記第1面に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器から検出結果を取得する第1面検出結果取得部と、
前記第2面に前記第2触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記第2面に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器から検出結果を取得する第2面検出結果取得部と、
前記第3面に前記第1触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記第3面に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器から検出結果を取得する第3面検出結果取得部と、
前記第4面に前記第2触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記第4面に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器から検出結果を取得する第4面検出結果取得部と、
前記第1面検出結果取得部及び前記第3面検出結果取得部がそれぞれ取得した検出結果に基づき、前記第1触針に対応する前記検出器の感度を校正し、且つ前記第2面検出結果取得部及び前記第4面検出結果取得部がそれぞれ取得した検出結果に基づき、前記第2触針に対応する前記検出器の感度を校正する第2校正部と、
を備える請求項5に記載の表面形状測定機の校正装置。
The detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axial direction with respect to the first surface by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the first surface. First surface detection result acquisition unit to acquire
The detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axial direction with respect to the second surface by the moving mechanism in a state where the second stylus is in contact with the second surface. 2nd surface detection result acquisition unit to acquire
The detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axial direction with respect to the third surface by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the third surface. 3rd surface detection result acquisition unit to acquire
The detection result from the detector while the arm is relatively moved in the second axial direction with respect to the fourth surface by the moving mechanism in a state where the second stylus is in contact with the fourth surface. 4th surface detection result acquisition unit to acquire
Based on the detection results acquired by the first surface detection result acquisition unit and the third surface detection result acquisition unit, the sensitivity of the detector corresponding to the first stylus is calibrated, and the second surface detection result is obtained. A second calibration unit that calibrates the sensitivity of the detector corresponding to the second stylus based on the detection results acquired by the acquisition unit and the fourth surface detection result acquisition unit, respectively.
The calibration device for the surface shape measuring machine according to claim 5.
前記アームが前記第2揺動方向に最も揺動した状態での前記第1触針の先端位置と、前記第1揺動方向に最も揺動した状態での前記第2触針の先端位置と、の前記第3軸方向の間隔を第2位置間隔とした場合、
前記第2位置間隔よりも直径の小さい基準球、又は前記第1軸方向に平行で且つ前記第2位置間隔よりも直径の小さいピンゲージを、校正部材として備える請求項1から6のいずれか1項に記載の表面形状測定機の校正装置。
The tip position of the first stylus in the state where the arm swings most in the second swing direction, and the tip position of the second stylus in the state where the arm swings most in the first swing direction. When the interval in the third axis direction of, is the second position interval,
One of claims 1 to 6, wherein a reference sphere having a diameter smaller than the second position spacing or a pin gauge parallel to the first axial direction and having a diameter smaller than the second position spacing is provided as a calibration member. The calibration device for the surface shape measuring machine described in 1.
前記校正部材の前記第3軸方向の中心位置が、前記回転軸の前記第3軸方向の位置に一致している請求項7に記載の表面形状測定機の校正装置。 The calibration device for a surface shape measuring machine according to claim 7, wherein the center position of the calibration member in the third axis direction coincides with the position of the rotation axis in the third axis direction. 前記校正部材に前記第1触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記校正部材に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器からそれぞれ検出結果を取得する第1曲面検出結果取得部と、
前記校正部材に前記第2触針を接触させた状態で、前記移動機構により前記アームが前記校正部材に対して前記第2軸方向に相対移動されている間、前記検出器からそれぞれ検出結果を取得する第2曲面検出結果取得部と、
前記第1曲面検出結果取得部及び前記第2曲面検出結果取得部がそれぞれ取得した前記検出器の検出結果に基づき、前記両触針の先端部形状と、前記支点に対する前記両触針の先端部位置と、前記両触針の先端部位置の前記第2軸方向の位置ずれと、の少なくともいずれか1つを校正する第3校正部と、
を備える請求項7又は8に記載の表面形状測定機の校正装置。
While the arm is relatively moved in the second axial direction by the moving mechanism in a state where the first stylus is in contact with the calibration member, detection results are obtained from the detector respectively. The first curved surface detection result acquisition unit to be acquired and
While the arm is relatively moved in the second axial direction by the moving mechanism in a state where the second stylus is in contact with the calibration member, detection results are obtained from the detector respectively. The second curved surface detection result acquisition unit to be acquired and
Based on the detection results of the detectors acquired by the first curved surface detection result acquisition unit and the second curved surface detection result acquisition unit, the shape of the tip of both tentacles and the tip of both tentacles with respect to the fulcrum. A third calibration unit that calibrates at least one of the position and the misalignment of the tip positions of the two stylus in the second axial direction.
The calibration device for the surface shape measuring machine according to claim 7 or 8.
第1軸方向に平行な回転軸を支点として第1揺動方向と第2揺動方向とに揺動自在に支持されたアームと、前記アームの先端に設けられ且つ前記第1揺動方向に向かって突出する第1触針及び前記第2揺動方向に向かって突出する第2触針と、前記第1触針及び前記第2触針の両触針の一方をワークに接触させた状態で、前記ワークに対して前記アームを第1軸方向に垂直な第2軸方向に相対移動させる移動機構と、前記アームの揺動による変位を検出する検出器と、を備える表面形状測定機の校正装置において、
基準球、又は前記第1軸方向に平行なピンゲージを校正部材として備え、
第1揺動方向及び第2揺動方向の双方向に垂直な方向を第3軸方向とし、前記アームが前記第2揺動方向に最も揺動した状態での前記第1触針の先端位置と、前記第1揺動方向に最も揺動した状態での前記第2触針の先端位置と、の前記第3軸方向の間隔を第2位置間隔とした場合、前記校正部材の直径が前記第2位置間隔よりも小さい表面形状測定機の校正装置。
An arm that is swingably supported in the first swing direction and the second swing direction with a rotation axis parallel to the first shaft direction as a fulcrum, and an arm provided at the tip of the arm and in the first swing direction. A state in which one of the first stylus protruding toward the direction, the second stylus protruding toward the second swing direction, and both the first stylus and the second stylus are in contact with the work. A surface shape measuring machine comprising a moving mechanism for relatively moving the arm in the second axial direction perpendicular to the first axial direction with respect to the work, and a detector for detecting displacement due to the swing of the arm. In the calibrator
A reference sphere or a pin gauge parallel to the first axial direction is provided as a calibration member.
The direction perpendicular to both directions of the first swing direction and the second swing direction is the third axial direction, and the tip position of the first stylus in a state where the arm swings most in the second swing direction. When the distance between the tip position of the second stylus and the tip position of the second stylus in the state of being most swung in the first swing direction in the third axial direction is set as the second position distance, the diameter of the calibration member is said. A calibration device for a surface shape measuring machine that is smaller than the second position spacing.
前記校正部材の前記第3軸方向の中心位置が、前記回転軸の前記第3軸方向の位置に一致している請求項10に記載の表面形状測定機の校正装置。 The calibration device for a surface shape measuring machine according to claim 10, wherein the center position of the calibration member in the third axis direction coincides with the position of the rotation axis in the third axis direction.
JP2017071772A 2017-03-31 2017-03-31 Calibration device for surface shape measuring machine Active JP6848168B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017071772A JP6848168B2 (en) 2017-03-31 2017-03-31 Calibration device for surface shape measuring machine

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017071772A JP6848168B2 (en) 2017-03-31 2017-03-31 Calibration device for surface shape measuring machine

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018173349A JP2018173349A (en) 2018-11-08
JP6848168B2 true JP6848168B2 (en) 2021-03-24

Family

ID=64108631

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017071772A Active JP6848168B2 (en) 2017-03-31 2017-03-31 Calibration device for surface shape measuring machine

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6848168B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6788207B2 (en) * 2019-04-16 2020-11-25 株式会社東京精密 Displacement detector, surface texture measuring machine, and roundness measuring machine
JP7260414B2 (en) * 2019-06-24 2023-04-18 株式会社ミツトヨ Surface texture measuring device and surface texture measuring method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3215354B2 (en) * 1997-06-04 2001-10-02 株式会社東京精密 Measuring machine calibration method and device
JP5823306B2 (en) * 2011-03-18 2015-11-25 株式会社ミツトヨ Calibration method of surface texture measuring machine
JP6394970B2 (en) * 2015-02-18 2018-09-26 株式会社東京精密 Calibration method of measuring instrument and gauge unit for calibration
JP6848167B2 (en) * 2016-03-28 2021-03-24 株式会社東京精密 Calibration method and calibration device for surface shape measuring machine

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018173349A (en) 2018-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109655023B (en) System for determining the state of a tool positioning machine
EP2013571B1 (en) Method of error correction
JP4968600B1 (en) Roundness measuring device and method of correcting misalignment
JP6848167B2 (en) Calibration method and calibration device for surface shape measuring machine
JP5823306B2 (en) Calibration method of surface texture measuring machine
US8516712B2 (en) Measurement device
JP2006509194A (en) Workpiece inspection method
CN104567773B (en) The sloped correcting method of the base portion of arm type three-dimensional measuring machine and the support measuring machine
JP7390117B2 (en) Position measurement method and position measurement system for machine tool objects
US9733056B2 (en) Method for compensating lobing behavior of a CMM touch probe
JP5652631B2 (en) Method of calculating the amount of misalignment in a roundness measuring device
JP2019512095A (en) Method and apparatus for calibrating a scanning probe
JP6113958B2 (en) Measurement coordinate correction method and coordinate measuring machine
JP2011002317A (en) Calibration method of image probe and shape measuring machine
JP6848168B2 (en) Calibration device for surface shape measuring machine
JP6738661B2 (en) Industrial machinery
JP3531882B2 (en) Measurement error correction device for CMM
JP5716427B2 (en) Roundness measuring device and method of correcting misalignment
JP2017181506A5 (en)
JP5371532B2 (en) CMM
JP5489017B2 (en) Method of calculating the amount of misalignment in a roundness measuring device
JP6394970B2 (en) Calibration method of measuring instrument and gauge unit for calibration
JP5742078B2 (en) Roundness measuring device, misalignment correction method, and misalignment calculation method
JP7701195B2 (en) Probe unit compensation method
JP7445845B2 (en) Shape measuring machine and its control method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200313

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210127

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210214

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6848168

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250