JP6842291B2 - Polypropylene composition and its manufacturing method, and polypropylene sheet - Google Patents

Polypropylene composition and its manufacturing method, and polypropylene sheet Download PDF

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Description

本発明はポリプロピレン組成物、該ポリプロピレン組成物の製造方法、および前記ポリプロピレン組成物からなるポリプロピレン製シートに関する。 The present invention relates to a polypropylene composition, a method for producing the polypropylene composition, and a polypropylene sheet composed of the polypropylene composition.

ポリプロピレンは、安価で剛性、耐湿性、および耐熱性に優れており、食品包装や繊維包装などに用いられるシートの材料として好適である。例えば、耐熱性を有する食品容器としてポリプロピレンを使用した容器が使用されているが強度面で課題が残り、それを補うため、厚みを持たせたり、多くのリブを入れて対応しているが、コスト増や内容物が見辛くなるといった問題が生じる。また、食品容器には内容物を確認することができるように透明性が要求されるが、ポリプロピレンは結晶性樹脂でありそのままでは半透明のシートとなるため、その改善策として結晶核剤の添加が知られている。しかし、それでも十分な透明性を得ることは難しい。 Polypropylene is inexpensive, has excellent rigidity, moisture resistance, and heat resistance, and is suitable as a material for sheets used in food packaging, fiber packaging, and the like. For example, a container made of polypropylene is used as a food container with heat resistance, but there is still a problem in terms of strength, and in order to make up for it, it is possible to increase the thickness or add many ribs. Problems such as increased costs and unsightly contents arise. In addition, transparency is required for food containers so that the contents can be confirmed, but polypropylene is a crystalline resin and becomes a translucent sheet as it is, so as a remedy, addition of a crystal nucleating agent It has been known. However, it is still difficult to obtain sufficient transparency.

ポリプロピレン組成物の成形品の透明性を改善するために、例えば特許文献1には結晶核剤を添加する方法が提案されている。また、ポリプロピレンの剛性や透明性を向上させる手法として延伸する方法は公知である(特許文献2)。 In order to improve the transparency of a molded product of a polypropylene composition, for example, Patent Document 1 proposes a method of adding a crystal nucleating agent. Further, a method of stretching polypropylene is known as a method for improving the rigidity and transparency of polypropylene (Patent Document 2).

国際公開第2013/125504号International Publication No. 2013/125504 特表2004−517199号公報Special Table 2004-517199

しかしながら本発明者等の知見によれば、特許文献1、2の方法では、高透明性と、高剛性と、良好なシート成形性(均一延伸性)を同時に達成することは難しい。 However, according to the findings of the present inventors, it is difficult to achieve high transparency, high rigidity, and good sheet formability (uniform stretchability) at the same time by the methods of Patent Documents 1 and 2.

本発明の課題は、シート成形性に優れ、透明性と剛性に優れたシートが得られるポリプロピレン組成物、該ポリプロピレン組成物の製造方法、および前記ポリプロピレン組成物からなるポリプロピレン製シートを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a polypropylene composition capable of obtaining a sheet having excellent sheet moldability, transparency and rigidity, a method for producing the polypropylene composition, and a polypropylene sheet made of the polypropylene composition. is there.

[1] プロピレン単独重合体30〜70質量%およびプロピレン・エチレンランダム共重合体30〜70質量%からなり、エチレン含有量が0.5質量%以下、分子量分布(Mw/Mn)が6〜20、25℃でのキシレン不溶分量が97〜99質量%、キシレン不溶分の立体規則性(mmmm)が97.5〜99.5%であり、かつ極大加熱温度が順次低くなるように加熱と冷却を複数回繰り返した後に再加熱した際の熱分析による融解曲線が下記(B−i)〜(B−iii)の条件を満たすポリプロピレン系重合体、および該ポリプロピレン系重合体の100質量部に対して0.18〜0.5質量部の結晶核剤を含み、メルトフローレートが1〜10g/10分であることを特徴とするポリプロピレン組成物。
(B−i)融解ピーク温度が165℃以上である。
(B−ii)融解温度が170℃以上である成分の割合が10%以上である。
(B−iii)融解温度が160℃以下である成分の割合が15%以上である。
[2] 前記[1]のポリプロピレン組成物からなるポリプロピレン製シート。
[3] 前記[1]のポリプロピレン組成物を製造する方法であって、前記ポリプロピレン系重合体を、2段以上の重合工程を連続的に有する多段重合法により、またはモノマー濃度および重合条件の一方または両方の勾配を有する重合器を用いて製造し、得られたポリプロピレン系重合体と前記結晶核剤を混合することを特徴とするポリプロピレン組成物の製造方法。
[4] 前記重合工程において、(A)マグネシウム、チタン、ハロゲン、およびスクシネート系化合物から選択される電子供与体化合物を必須成分として含有する固体触媒;(B)有機アルミニウム化合物;ならびに(C)外部電子供与体化合物を含む触媒を用いる、[3]のポリプロピレン組成物の製造方法。
[1] It is composed of 30 to 70% by mass of a propylene homopolymer and 30 to 70% by mass of a propylene / ethylene random copolymer, has an ethylene content of 0.5% by mass or less, and has a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 6 to 20%. , The amount of xylene insoluble content at 25 ° C. is 97 to 99% by mass, the stereoregularity (mm mm) of xylene insoluble content is 97.5 to 99.5%, and heating and cooling are performed so that the maximum heating temperature is gradually lowered. For 100 parts by mass of the polypropylene-based polymer whose melting curve by thermal analysis when reheated after being repeated a plurality of times satisfies the following conditions (B-i) to (B-iii), and the polypropylene-based polymer. A polypropylene composition containing 0.18 to 0.5 parts by mass of a crystal nucleating agent and having a melt flow rate of 1 to 10 g / 10 minutes.
(Bi) The melting peak temperature is 165 ° C. or higher.
(B-ii) The proportion of components having a melting temperature of 170 ° C. or higher is 10% or higher.
(B-iii) The proportion of components having a melting temperature of 160 ° C. or lower is 15% or more.
[2] A polypropylene sheet made of the polypropylene composition of the above [1].
[3] The method for producing the polypropylene composition of the above [1], wherein the polypropylene-based polymer is continuously subjected to two or more stages of polymerization steps by a multi-stage polymerization method, or one of the monomer concentration and the polymerization conditions. Alternatively, a method for producing a polypropylene composition, which is produced by using a polymer having both gradients, and the obtained polypropylene-based polymer is mixed with the crystal nucleating agent.
[4] In the polymerization step, a solid catalyst containing (A) an electron donor compound selected from magnesium, titanium, halogen, and a succinate compound as an essential component; (B) an organoaluminum compound; and (C) an external compound. The method for producing a polypropylene composition according to [3], which uses a catalyst containing an electron donor compound.

本発明のポリプロピレン組成物はシート成形性に優れ、透明性および剛性に優れたシートが得られる。 The polypropylene composition of the present invention has excellent sheet moldability, and a sheet having excellent transparency and rigidity can be obtained.

最終融解曲線を得る際の温度パターンの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the temperature pattern at the time of obtaining the final melting curve. 最終融解曲線の一例である。This is an example of the final melting curve.

<測定方法>
本発明における各物性の値は以下の通りである。
[分子量分布(Mw/Mn)]
重合体または共重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより質量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定し、Mw/Mnを算出して得られる値である。
装置としてポリマーラボラトリーズ社製PL GPC220を使用し、酸化防止剤を含む1,2,4−トリクロロベンゼンを移動相とし、カラムとして昭和電工社製UT−G(1本)、UT−807(1本)、UT−806M(2本)を直列に接続したものを使用し、検出器として示差屈折率計を使用した。また、試料溶液の溶媒としては移動相と同じものを使用し、1mg/mLの試料濃度で、150℃の温度で振とうさせながら2時間溶解して測定試料を調整した。これにより得た試料溶液500μLをカラムに注入し、流速1.0mL/分、温度145℃、データ取り込み間隔1秒で測定した。カラムの較正には、分子量580〜745万のポリスチレン標準試料(Shodex STANDARD、昭和電工株式会社製)を使用し、三次式近似で行った。Mark−Houkinsの係数は、ポリスチレン標準試料に関しては、K=1.21×10−4、α=0.707、ポリプロピレン単独重合体、プロピレンランダム共重合体、およびポリプロピレン系重合体に関しては、K=1.37×10−4、α=0.75を使用した。
<Measurement method>
The values of each physical property in the present invention are as follows.
[Molecular weight distribution (Mw / Mn)]
The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer or copolymer is a value obtained by measuring the mass average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) by gel permeation chromatography and calculating Mw / Mn. ..
PL GPC220 manufactured by Polymer Laboratories is used as an apparatus, 1,2,4-trichlorobenzene containing an antioxidant is used as a mobile phase, and UT-G (1) and UT-807 (1) manufactured by Showa Denko Co., Ltd. are used as columns. ), UT-806M (2 pieces) connected in series, and a differential refractometer was used as a detector. The same solvent as the mobile phase was used as the solvent for the sample solution, and the sample was dissolved at a sample concentration of 1 mg / mL for 2 hours while shaking at a temperature of 150 ° C. to prepare a measurement sample. 500 μL of the sample solution thus obtained was injected into the column, and measurements were taken at a flow rate of 1.0 mL / min, a temperature of 145 ° C., and a data acquisition interval of 1 second. A polystyrene standard sample having a molecular weight of 580 to 7.45 million (Shodex STANDARD, manufactured by Showa Denko KK) was used for column calibration, and the column was calibrated by a cubic approximation. The Mark-Houkins coefficient is K = 1.21 × 10 -4 , α = 0.707 for polystyrene standard samples, K = for polypropylene homopolymers, propylene random copolymers, and polypropylene-based polymers. 1.37 × 10 -4 , α = 0.75 was used.

[キシレン不溶分の量]
2.5gのポリマーを撹拌しながら135℃において250mlのキシレンに溶解させた。20分後溶液を撹拌しながら25℃に冷却し、次いで30分間静止させた。沈殿物を濾紙で濾過し、溶液を窒素流中で蒸発させ、残留物を一定の重量に達するまで真空下80℃において乾燥した。このようにして25℃におけるキシレンに可溶性のポリマーの質量%を計算した。キシレン不溶分の量(25℃におけるキシレンに不溶性のポリマーの質量%)は、(100−可溶性のポリマーの質量%)で求められ、ポリマーのアイソタクチック成分の量と考えられる。
キシレン不溶分は、沈殿物に残留したキシレンをメタノールで十分に洗い流した後、真空下80℃において乾燥させて採取した。
[キシレン不溶分のタクティシティー(立体規則性)mmmm]
上記の方法で得たキシレン不溶分のmmmmは、1,2,4−トリクロロベンゼン/重水素化ベンゼンの混合溶媒に溶解したサンプルについて、日本電子社製JNM LA−400(13C共鳴周波数 100MHz)を用い13C−NMR法で測定したスペクトルから、プロピレンモノマーのメソ(m)結合シークエンスが4つ連続したペンタッドに相当するピークの強度の割合を、A.Zambelli,Macromolecules,6,925(1973)に記載された方法に従って求めた。
[メルトフローレート(MFR)]
ポリプロピレン組成物のメルトフローレートは、JIS K7210に準じ、温度230℃、荷重21.18Nの条件で測定した値である。
[Amount of xylene insoluble matter]
2.5 g of polymer was dissolved in 250 ml of xylene at 135 ° C. with stirring. After 20 minutes, the solution was cooled to 25 ° C. with stirring and then allowed to stand for 30 minutes. The precipitate was filtered through filter paper, the solution was evaporated in a stream of nitrogen and the residue was dried under vacuum at 80 ° C. until a constant weight was reached. In this way, the mass% of the polymer soluble in xylene at 25 ° C. was calculated. The amount of xylene insoluble (% by weight of the xylene-insoluble polymer at 25 ° C.) is determined by (% by weight of the 100-soluble polymer) and is considered to be the amount of the isotactic component of the polymer.
The xylene insoluble component was collected by thoroughly rinsing the xylene remaining in the precipitate with methanol and then drying at 80 ° C. under vacuum.
[Tacticity of xylene insoluble (three-dimensional regularity) mm mm]
The mmmm of the xylene insoluble component obtained by the above method was obtained by using JNM LA-400 (13C resonance frequency 100 MHz) manufactured by JEOL Ltd. for a sample dissolved in a mixed solvent of 1,2,4-trichlorobenzene / deuterated benzene. 13 From the spectrum measured by the C-NMR method, the ratio of the intensity of the peak corresponding to the pentad having four consecutive meso (m) bond sequences of the propylene monomer was determined by A.I. It was determined according to the method described in Zambelli, Macromolecules, 6,925 (1973).
[Melt flow rate (MFR)]
The melt flow rate of the polypropylene composition is a value measured under the conditions of a temperature of 230 ° C. and a load of 21.18 N according to JIS K7210.

<ポリプロピレン組成物>
本発明のポリプロピレン組成物は、ポリプロピレン系重合体と結晶核剤を含む。
ポリプロピレン系重合体はプロピレン単独重合体とプロピレン・エチレンランダム共重合体とからなる。ポリプロピレン系重合体に対して、プロピレン単独重合体は30〜70質量%が好ましく、40〜70質量%がより好ましく、50〜70質量%がさらに好ましい。
<Polypropylene composition>
The polypropylene composition of the present invention contains a polypropylene polymer and a crystal nucleating agent.
The polypropylene-based polymer is composed of a propylene homopolymer and a propylene / ethylene random copolymer. The propylene homopolymer is preferably 30 to 70% by mass, more preferably 40 to 70% by mass, and even more preferably 50 to 70% by mass with respect to the polypropylene-based polymer.

ポリプロピレン系重合体のMw/Mnは6〜20であり、比較的幅広い分子量分布を有する。該Mw/Mnが上記範囲の下限値以上であると、ポリプロピレン組成物からなる成形体において優れた剛性が得られやすく、上限値を超えるとポリプロピレン系重合体の製造が困難になる。 The polypropylene polymer has a Mw / Mn of 6 to 20 and has a relatively wide molecular weight distribution. When the Mw / Mn is at least the lower limit of the above range, excellent rigidity can be easily obtained in the molded product made of the polypropylene composition, and when it exceeds the upper limit, it becomes difficult to produce the polypropylene polymer.

ポリプロピレン系重合体のキシレン不溶分の量は、97〜99質量%である。ポリプロピレン系重合体のキシレンに不溶な成分は、結晶性のあるアイソタクチック成分に相当する。これに対してポリプロピレン系重合体中に少量含まれるキシレンに可溶な成分は、結晶性のないアタクチック成分に相当し、キシレンに不溶な成分に比較して分子量も低い。従って、ポリプロピレン組成物の溶融特性や成形品の物性は、主にキシレンに不溶な成分に左右される。ポリプロピレン系重合体のキシレン不溶分の量が97〜99質量%であるとは、ポリプロピレン系重合体の結晶性成分が97〜99質量%であることを示す。ポリプロピレン系重合体の結晶性成分が97質量%未満の場合は、特にポリプロピレン組成物からなる成形体の剛性が低下する。
ポリプロピレン系重合体のキシレン不溶分(結晶性成分)は、立体規則性(mmmm)が97.5〜99.5%である。mmmmが97.5%未満では、ポリプロピレン組成物からなる成形体の剛性と耐熱性、特に耐熱性が低下する。
The amount of xylene insoluble in the polypropylene polymer is 97 to 99% by mass. The xylene-insoluble component of the polypropylene polymer corresponds to a crystalline isotactic component. On the other hand, the component soluble in xylene contained in a small amount in the polypropylene-based polymer corresponds to an atactic component having no crystallinity, and has a lower molecular weight than the component insoluble in xylene. Therefore, the melting properties of the polypropylene composition and the physical properties of the molded product mainly depend on the components insoluble in xylene. The amount of xylene insoluble in the polypropylene-based polymer is 97 to 99% by mass, which means that the crystalline component of the polypropylene-based polymer is 97 to 99% by mass. When the crystalline component of the polypropylene-based polymer is less than 97% by mass, the rigidity of the molded product made of the polypropylene composition is particularly lowered.
The xylene insoluble component (crystallinity component) of the polypropylene-based polymer has a stereoregularity (mm mm) of 97.5 to 99.5%. If the mm mm is less than 97.5%, the rigidity and heat resistance of the molded product made of the polypropylene composition, particularly the heat resistance, are lowered.

ポリプロピレン系重合体中のエチレン含有量は0.5質量%以下であり、0.3質量%未満が好ましい。下限は0質量%超であり、0.1質量%以上が好ましい。プロピレンにエチレンをランダム共重合させることにより透明性が向上する。ポリプロピレン系重合体中のエチレン含有量が0.5質量%以下であると、ポリプロピレン組成物からなる成形体において優れた剛性が得られやすい。 The ethylene content in the polypropylene-based polymer is 0.5% by mass or less, preferably less than 0.3% by mass. The lower limit is more than 0% by mass, preferably 0.1% by mass or more. Transparency is improved by randomly copolymerizing ethylene with propylene. When the ethylene content in the polypropylene-based polymer is 0.5% by mass or less, excellent rigidity can be easily obtained in a molded product made of a polypropylene composition.

ポリプロピレン系重合体は、極大加熱温度が順次低くなるように加熱と冷却を複数回繰り返した後に再加熱した際の熱分析による融解曲線(以下、この融解曲線のことを「最終融解曲線」という。)が下記(B−i)〜(B−iii)の条件を満たす。
(B−i)融解ピーク温度が165℃以上である。好ましくは、融解ピーク温度が167℃以上、より好ましくは、169℃以上である。なお、融解ピーク温度は、実質的には、186℃以下である。
(B−ii)融解温度が170℃以上である成分の割合が10%以上である。好ましくは、融解温度が170℃以上である成分の割合が15%以上、より好ましくは20%以上である。
(B−iii)融解温度が160℃以下である成分の割合が15%以上である。好ましくは、融解温度が160℃以下である成分の割合が18%以上、より好ましくは20%以上である。
ポリプロピレン系重合体の融解ピーク温度が165℃未満、または融解温度が170℃以上である成分の割合が10%未満の場合は、ポリプロピレン組成物からなる成形体の剛性が不充分になる。また、融解温度が160℃以下である成分の割合が15%未満であると、成形性が不充分になる。
The polypropylene-based polymer has a melting curve obtained by thermal analysis when it is reheated after repeating heating and cooling a plurality of times so that the maximum heating temperature is gradually lowered (hereinafter, this melting curve is referred to as a "final melting curve". ) Satisfy the following conditions (B-i) to (B-iii).
(Bi) The melting peak temperature is 165 ° C. or higher. Preferably, the melting peak temperature is 167 ° C. or higher, more preferably 169 ° C. or higher. The melting peak temperature is substantially 186 ° C. or lower.
(B-ii) The proportion of components having a melting temperature of 170 ° C. or higher is 10% or higher. Preferably, the proportion of the component having a melting temperature of 170 ° C. or higher is 15% or higher, more preferably 20% or higher.
(B-iii) The proportion of components having a melting temperature of 160 ° C. or lower is 15% or more. Preferably, the proportion of the component having a melting temperature of 160 ° C. or lower is 18% or more, more preferably 20% or more.
When the melting peak temperature of the polypropylene-based polymer is less than 165 ° C., or the proportion of the components having a melting temperature of 170 ° C. or higher is less than 10%, the rigidity of the molded product made of the polypropylene composition becomes insufficient. Further, if the proportion of the components whose melting temperature is 160 ° C. or lower is less than 15%, the moldability becomes insufficient.

ここで、最終融解曲線について説明する。
最終融解曲線は、通常の示差熱分析計(DSC)を使用して得る。具体的には、まず、測定試料を、一旦、融解した後、冷却する。次いで、図1に示すように、極大加熱温度が順次低くなるように加熱と冷却を複数回繰り返した後に再加熱し、その再加熱の際の測定試料の熱分析を行って、最終融解曲線を得る。最終融解曲線の熱分析は、通常のDSCと同様の分析であり、簡便である。
図2に、最終融解曲線の一例を示す。この最終融解曲線におけるピーク温度(Tm)を、融解ピーク温度とする。
極大加熱温度が順次低くなるように加熱と冷却を複数回繰り返す熱処理では、測定試料のアニーリングとその後の冷却による結晶化とが高温から順次繰り返される結果、欠陥の少ない分子から順次、結晶を容易に形成することができる。また、冷却時に低温で形成された欠陥の多い分子からなる結晶は、極大加熱温度が充分低くなるまでは、引き続く加熱と極大加熱温度で保持している間に融解する。以下、極大加熱温度が順次低くなるように加熱と冷却を複数回繰り返す熱処理のことを、「反復アニ−リング処理」という。
反復アニーリング処理での加熱・冷却では、例えば、一定の昇温速度でTsまで加熱し、温度を保持した後、一定の降温速度で20℃まで冷却し、次いで、Ts−5[℃](この温度をTsとする。)まで一定の昇温速度で加熱し、温度を保持した後、一定の降温速度で20℃まで冷却する。その後、n回目の加熱の際の極大加熱温度TsがTs−5×(n−1)[℃]になるように加熱・冷却を繰り返す。Tsが80℃になるまで繰り返すと、欠陥の多い成分に対しても信頼性の高い結果が得られる。
また、最終融解曲線を得る際の再加熱では、それぞれの極大加熱温度でのアニーリングとその後の冷却時の結晶化によって得られた結晶全ての融解挙動を得るため、一定の昇温速度で、20℃から200℃以上まで昇温する。高温で結晶化した欠陥の少ない分子からなる結晶は融点が高くなる一方、低温で結晶化した欠陥の多い分子からなる結晶は融点が低いので、最終融解曲線は試料の欠陥の分布を反映する。
Here, the final melting curve will be described.
The final melting curve is obtained using a conventional differential thermal analyzer (DSC). Specifically, first, the measurement sample is once melted and then cooled. Next, as shown in FIG. 1, heating and cooling are repeated a plurality of times so that the maximum heating temperature is sequentially lowered, and then reheating is performed, and thermal analysis of the measurement sample at the time of the reheating is performed to obtain a final melting curve. obtain. The thermal analysis of the final melting curve is similar to that of a normal DSC and is simple.
FIG. 2 shows an example of the final melting curve. The peak temperature (Tmp) in this final melting curve is defined as the melting peak temperature.
In the heat treatment in which heating and cooling are repeated multiple times so that the maximum heating temperature is gradually lowered, annealing of the measurement sample and crystallization by subsequent cooling are repeated sequentially from the high temperature, and as a result, crystals can be easily crystallized in order from the molecule with the fewest defects. Can be formed. In addition, crystals composed of defective molecules formed at a low temperature during cooling melt while being continuously heated and held at the maximum heating temperature until the maximum heating temperature becomes sufficiently low. Hereinafter, the heat treatment in which heating and cooling are repeated a plurality of times so that the maximum heating temperature is sequentially lowered is referred to as "repeated annealing treatment".
The heating and cooling in the iterative annealing, for example, heated at a constant heating rate until Ts 1, after holding the temperature was cooled to 20 ° C. at a constant cooling rate, then, Ts 1 -5 [℃] (This temperature is defined as Ts 2. ) The temperature is maintained at a constant temperature rise rate, and then cooled to 20 ° C. at a constant temperature decrease rate. Thereafter, the maximum heating temperature Ts n during the n-th heating Ts 1 -5 × (n-1 ) repeating the heating and cooling such that the [° C.]. Repeating until Ts n reaches 80 ° C. gives highly reliable results even for components with many defects.
Further, in the reheating when obtaining the final melting curve, in order to obtain the melting behavior of all the crystals obtained by annealing at each maximum heating temperature and crystallization during subsequent cooling, 20 at a constant heating rate. The temperature is raised from ° C to 200 ° C or higher. Crystals made up of molecules with few defects crystallized at high temperatures have a high melting point, while crystals made up of molecules with many defects crystallized at low temperatures have a low melting point, so the final melting curve reflects the distribution of defects in the sample.

融解温度が170℃以上である成分の割合とは、最終融解曲線から求められる全融解エンタルピーに対し、170℃以上における融解エンタルピーの割合を%で表したものである。一方、融解温度が160℃以下である成分の割合とは、最終融解曲線から求められる全融解エンタルピーに対し、160℃以下における融解エンタルピーの割合を%で表したものである。
いずれの場合も、ベースライン上の融解ピークの全面積に対する部分面積の割合として計算される。
The ratio of the components whose melting temperature is 170 ° C. or higher is the ratio of the melting enthalpy at 170 ° C. or higher to the total melting enthalpy obtained from the final melting curve. On the other hand, the ratio of the components whose melting temperature is 160 ° C. or lower is the ratio of the melting enthalpy at 160 ° C. or lower to the total melting enthalpy obtained from the final melting curve.
In each case, it is calculated as the ratio of the partial area to the total area of the melting peak on the baseline.

本発明のポリプロピレン組成物のMFRは1〜10g/10分であり、2〜7g/10分が好ましい。該MFRが上記範囲の下限値以上であると、ポリプロピレン組成物をシート状に成形する際に優れた成形性が得られやすい。上限値以下であるとシートを熱成形する際に優れた二次成形性が得られやすい。 The MFR of the polypropylene composition of the present invention is 1 to 10 g / 10 minutes, preferably 2 to 7 g / 10 minutes. When the MFR is at least the lower limit of the above range, excellent moldability can be easily obtained when the polypropylene composition is molded into a sheet. If it is not more than the upper limit value, excellent secondary formability can be easily obtained when the sheet is thermoformed.

本発明のポリプロピレン組成物は結晶核剤を含有する。結晶核剤の添加は透明性の向上に寄与する。結晶核剤の具体例は後述する。
ポリプロピレン組成物中のポリプロピレン系重合体の100質量部に対して結晶核剤の含有量は0.18〜0.5質量部であり、0.2〜0.4質量部が好ましい。該結晶核剤の含有量が0.18質量部以上であると透明性向上効果に優れる。0.5質量部を超えても透明性のさらなる向上は期待できずコストが増す。
The polypropylene composition of the present invention contains a crystal nucleating agent. The addition of the crystal nucleating agent contributes to the improvement of transparency. Specific examples of the crystal nucleating agent will be described later.
The content of the crystal nucleating agent is 0.18 to 0.5 parts by mass, preferably 0.2 to 0.4 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polypropylene polymer in the polypropylene composition. When the content of the crystal nucleating agent is 0.18 parts by mass or more, the transparency improving effect is excellent. Even if it exceeds 0.5 parts by mass, further improvement in transparency cannot be expected and the cost increases.

[結晶核剤]
結晶核剤としては、ノニトール系核剤、ソルビトール系核剤、リン酸エステル系核剤、トリアミノベンゼン誘導体核剤、カルボン酸金属塩核剤、およびキシリトール系核剤から選択されることが好ましい。特に透明性向上の目的においては、ノニトール系核剤またはソルビトール系核剤の使用がより好ましい。
ノニトール系の構造を有する結晶核剤として、例えば、1,2,3−トリデオキシ−4,6:5,7−ビス−[(4−プロピルフェニル)メチレン]−ノニトール、キシリトール系の構造を有する結晶核剤として、例えば、ビス−1,3:2,4−(5’,6’,7’,8’−テトラヒドロ−2−ナフトアルデヒドベンジリデン)1−アリルキシリトール、ビス−1,3:2,4−(3’,4’−ジメチルベンジリデン)1−プロピルキシリトール、ソルビトール系の構造を有する結晶核剤として、例えば、ビス−1,3:2,4−(4’−エチルベンジリデン)1−アリルソルビトール、ビス−1,3:2,4−(3’−メチル−4’−フルオロ−ベンジリデン)1−プロピルソルビトール、ビス−1,3:2,4−(3’,4’−ジメチルベンジリデン)1’−メチル−2’−プロペニルソルビトール、ビス−1,3,2,4−ジベンジリデン2’,3’−ジブロモプロピルソルビトール、ビス−1,3,2,4−ジベンジリデン2’−ブロモ−3’−ヒドロキシプロピルソルビトール、ビス−1,3:2,4−(3’−ブロモ−4’−エチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、モノ2,4−(3’−ブロモ−4’−エチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、ビス−1,3:2,4−(4’−エチルベンジリデン)1−アリルソルビトール、ビス−1,3:2,4−(3’,4’−ジメチルベンジリデン)1−メチルソルビトール、ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス−o−(4−メチルベンジリデン)−D−ソルビトール等が挙げられる。
本発明の組成物に用いられるノニトール系の市販の結晶核剤として、例えばMillad NX8000(ミリケンジャパン)、ソルビトール系の市販の結晶核剤として、RiKAFAST R−1(新日本理化)、Millad 3988(ミリケンジャパン)、ゲルオールE−200(新日本理化)、ゲルオールMD(新日本理化)等が挙げられる。リン酸エステル系結晶核剤として、アルミニウム−ビス(4,4’,6,6’−テトラ−tert−ブチル−2,2’−メチレンジフェニル−ホスファート)−ヒドロキシド等が挙げられる。本発明の組成物に用いられる市販のリン酸エステル系結晶核剤として、例えばアスカスタブNA−21(ADEKA)、アスカスタブNA−71(ADEKA)などが挙げられる。トリアミノベンゼン誘導体結晶核剤として、例えば、1,3,5−トリス(2,2−ジメチルプロパンアミド)ベンゼン等が挙げられる。本発明の組成物に用いられる市販のトリアミノベンゼン誘導体結晶核剤として、例えばIRGACLEAR XT386(BASFジャパン)などが挙げられる。カルボン酸金属塩核剤として、1,2−シクロヘキサンジカルボキシル酸カルシウム塩等が挙げられる。本発明の組成物に用いられる市販のカルボン酸金属塩核剤として、例えばHyperform HPN−20E(ミリケンジャパン)などが挙げられる。
特に二次加工(加熱)後の透明性を維持するためには、ノニトール系核剤やソルビトール系核剤、またはリン酸エステル系核剤の使用が好ましい。
これらの結晶核剤は、単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Crystal nucleating agent]
The crystal nucleating agent is preferably selected from nonitol-based nucleating agents, sorbitol-based nucleating agents, phosphate ester-based nucleating agents, triaminobenzene derivative nucleating agents, carboxylic acid metal salt nucleating agents, and xylitol-based nucleating agents. In particular, for the purpose of improving transparency, it is more preferable to use a nonitol-based nucleating agent or a sorbitol-based nucleating agent.
Crystal nucleating agents having a nonitol-based structure include, for example, 1,2,3-trideoxy-4,6: 5,7-bis-[(4-propylphenyl) methylene] -nonitol, crystals having a xylitol-based structure. As nuclear agents, for example, bis-1,3: 2,4- (5', 6', 7', 8'-tetrahydro-2-naphthaldehyde benzylidene) 1-allylxylitol, bis-1,3: 2, 4- (3', 4'-Dimethylbenzylidene) 1-propylxylitol, as a crystal nucleating agent having a sorbitol-based structure, for example, bis-1,3: 2,4- (4'-ethylbendylidene) 1-allyl Sorbitol, bis-1,3: 2,4- (3'-methyl-4'-fluoro-benzylene) 1-propyl sorbitol, bis-1,3: 2,4- (3', 4'-dimethylbenzylene) 1'-Methyl-2'-propenyl sorbitol, bis-1,3,2,4-dibenzylidene 2', 3'-dibromopropyl sorbitol, bis-1,3,2,4-dibenzylidene 2'-bromo- 3'-Hydroxypropyl sorbitol, bis-1,3: 2,4- (3'-bromo-4'-ethylbenzylidene) -1-allyl sorbitol, mono 2,4- (3'-bromo-4'-ethyl Benzylidene) -1-allyl sorbitol, bis-1,3: 2,4- (4'-ethylbenzylidene) 1-allyl sorbitol, bis-1,3: 2,4- (3', 4'-dimethylbenzylidene) Examples thereof include 1-methylsorbitol, bis (p-methylbenzylene) sorbitol, 1,3: 2,4-bis-o- (4-methylbenzylidene) -D-sorbitol and the like.
Examples of nonitol-based commercially available crystal nucleating agents used in the composition of the present invention include Millad NX8000 (Milliken Japan), and sorbitol-based commercially available crystal nucleating agents include RiKAFAST R-1 (New Japan Chemical Co., Ltd.) and Millad 3988 (Milliken). Japan), Gelol E-200 (New Japan Chemical), Gelall MD (New Japan Chemical), etc. Examples of the phosphoric acid ester-based crystal nucleating agent include aluminum-bis (4,4', 6,6'-tetra-tert-butyl-2,2'-methylenediphenyl-phosphate) -hydroxydo. Examples of commercially available phosphoric acid ester-based crystal nucleating agents used in the composition of the present invention include Ascastab NA-21 (ADEKA) and Ascastab NA-71 (ADEKA). Examples of the triaminobenzene derivative crystal nucleating agent include 1,3,5-tris (2,2-dimethylpropanamide) benzene. Examples of commercially available triaminobenzene derivative crystal nucleating agents used in the composition of the present invention include IRGACLEAR XT386 (BASF Japan). Examples of the carboxylic acid metal salt nucleating agent include 1,2-cyclohexanedicarboxylate calcium salt and the like. Examples of commercially available carboxylic acid metal salt nucleating agents used in the composition of the present invention include Hyperform HPN-20E (Milliken Japan).
In particular, in order to maintain transparency after secondary processing (heating), it is preferable to use a nonitol-based nucleating agent, a sorbitol-based nucleating agent, or a phosphate ester-based nucleating agent.
These crystal nucleating agents can be used alone or in combination of two or more.

[その他の添加剤]
本発明のポリプロピレン組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、結晶核剤以外のその他の添加剤を含有させることができる。
その他の添加剤の例としては、酸化防止剤、中和剤、塩素吸収剤、耐熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、内部滑剤、外部滑剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、防曇剤、難燃剤、分散剤、銅害防止剤、可塑剤、架橋剤、過酸化物、油展および他の有機および無機顔料等のポリオレフィンに通常用いられる慣用の添加剤が挙げられる。各添加剤の添加量は公知の量としてよい。
[Other additives]
The polypropylene composition of the present invention may contain additives other than the crystal nucleating agent as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of other additives include antioxidants, neutralizers, chlorine absorbers, heat stabilizers, light stabilizers, UV absorbers, internal lubricants, external lubricants, antiblocking agents, antistatic agents, antifogging agents. , Flame retardants, dispersants, copper damage inhibitors, plasticizers, crosslinkers, peroxides, oil spreads and other conventional additives commonly used for polyolefins such as organic and inorganic pigments. The amount of each additive added may be a known amount.

[ポリプロピレン組成物の製造方法]
本発明のポリプロピレン組成物は、ポリプロピレン系重合体を製造し、結晶核剤、および必要に応じてその他の添加剤を混合して得られる。
プロピレン単独重合体は、反応系にプロピレンモノマー、触媒、必要に応じて分子量調節剤を供給し、プロピレンモノマーを重合させて得られる。
プロピレン・エチレンランダム共重合体は、反応系にプロピレンモノマー、エチレンモノマー、触媒、必要に応じて分子量調節剤を供給し、プロピレンモノマーとエチレンモノマーとを共重合させて得られる。
重合方法は、スラリープロセス(液体モノマー中の重合)や気相重合等の公知の方法を用いることができる。
連鎖移動剤(たとえば、水素又はZnEt)などの当該分野で公知の分子量調節剤を用いてもよい。
重合温度は40〜100℃が好ましく、50〜90℃がより好ましく、60〜90℃がさらに好ましい。該重合温度が上記範囲の下限値未満であると、生産性および得られたポリプロピレンの立体規則性が低下する。
重合圧力は、液相中で行われる場合には25〜45bar(2.5〜4.5MPa)が好ましく、より好ましくは27〜45bar(2.7〜4.5MPa)の範囲である。気相中で行われる場合には5〜30bar(0.5〜3.0MPa)の範囲が好ましく、8から30bar(0.8〜3.0MPa)がより好ましい。
[Manufacturing method of polypropylene composition]
The polypropylene composition of the present invention is obtained by producing a polypropylene-based polymer and mixing it with a crystal nucleating agent and, if necessary, other additives.
The propylene homopolymer is obtained by supplying a propylene monomer, a catalyst, and a molecular weight modifier, if necessary, to the reaction system and polymerizing the propylene monomer.
The propylene / ethylene random copolymer is obtained by supplying a propylene monomer, an ethylene monomer, a catalyst, and if necessary, a molecular weight modifier to the reaction system, and copolymerizing the propylene monomer and the ethylene monomer.
As the polymerization method, a known method such as a slurry process (polymerization in a liquid monomer) or a gas phase polymerization can be used.
A molecular weight modifier known in the art, such as a chain transfer agent (eg, hydrogen or ZnEt 2), may be used.
The polymerization temperature is preferably 40 to 100 ° C., more preferably 50 to 90 ° C., and even more preferably 60 to 90 ° C. When the polymerization temperature is less than the lower limit of the above range, the productivity and the stereoregularity of the obtained polypropylene are lowered.
The polymerization pressure is preferably in the range of 25 to 45 bar (2.5 to 4.5 MPa), more preferably 27 to 45 bar (2.7 to 4.5 MPa) when carried out in the liquid phase. When it is carried out in the gas phase, it is preferably in the range of 5 to 30 bar (0.5 to 3.0 MPa), more preferably 8 to 30 bar (0.8 to 3.0 MPa).

ポリプロピレン系重合体は、後続の重合が直前の重合反応中に形成された生成物の存在下で行われる、2段以上の重合工程を有する多段重合法により得ることが好ましい。または、予め重合したプロピレン単独重合体とプロピレン・エチレンランダム共重合体を溶融混練して製造してもよい。
前記(B−i)〜(B−iii)の条件を満たすポリプロピレン系重合体が得られやすい点で多段重合法が好ましい。
多段重合の段数、順序に特に制限はなく、一般的には2段から5段が使用され、生産性等を考慮して適当な順序が選択される。多段重合法では、特に1段目の重合にて形成されたポリマー成分中に分散した触媒により2段目の重合が行われて重合体が形成されることにより、両段階で得られた重合体が分子レベルに近い状態で分散する。
多段重合法における各段の重合工程は、ヘキサン、ヘプタン、灯油などの不活性炭化水素またはプロピレンなどの液化α−オレフィン溶媒の存在化で行うスラリー法で行ってもよく、無溶媒下の気相重合法で行ってもよく、これらを組み合わせてもよい。
各段の重合工程における反応器は、例えば攪拌層型反応器、流動床型反応器、循環式反応器などを用いることができ、連続式、半回分式、回分式のいずれの方法でも製造できる。
また、前記(B−i)〜(B−iii)の条件を満たすポリプロピレン系重合体を得るため、モノマー濃度や重合条件の勾配を有する重合器を用いてもよい。このような重合器では、例えば、少なくとも2つの重合領域が接続されたものを使用し、気相重合でモノマーを重合することができる。具体的には、触媒の存在下、上昇管からなる重合領域にてモノマーを供給して重合し、上昇管に接続された下降管にてモノマーを供給して重合し、上昇管と下降管とを循環しながら、ポリマー生成物を回収する。この方法は、上昇管中に存在する気体混合物が下降管に入るのを全面的または部分的に防止する手段を備える。また、上昇管中に存在する気体混合物とは異なる組成を有する気体および/または液体混合物を下降管中に導入する。上記の重合方法として、例えば、特表2002−520426号公報に記載された方法を適用することができる。
The polypropylene-based polymer is preferably obtained by a multi-stage polymerization method having two or more stages of polymerization, in which subsequent polymerization is carried out in the presence of a product formed during the immediately preceding polymerization reaction. Alternatively, it may be produced by melt-kneading a prepolymerized propylene homopolymer and a propylene / ethylene random copolymer.
The multi-stage polymerization method is preferable because a polypropylene-based polymer satisfying the above conditions (B-i) to (B-iii) can be easily obtained.
The number and order of the multi-stage polymerization are not particularly limited, and generally 2 to 5 stages are used, and an appropriate order is selected in consideration of productivity and the like. In the multi-stage polymerization method, the polymer obtained in both stages is formed by performing the second-stage polymerization by the catalyst dispersed in the polymer component formed in the first-stage polymerization. Disperses in a state close to the molecular level.
The polymerization step of each stage in the multi-stage polymerization method may be carried out by a slurry method in which an inert hydrocarbon such as hexane, heptane or kerosene or a liquefied α-olefin solvent such as propylene is present, or a vapor phase under no solvent. It may be carried out by a polymerization method, or these may be combined.
As the reactor in the polymerization step of each stage, for example, a stirring layer type reactor, a fluidized bed type reactor, a circulation type reactor and the like can be used, and any of continuous type, semi-batch type and batch type can be produced. ..
Further, in order to obtain a polypropylene-based polymer satisfying the above conditions (B-i) to (B-iii), a polymer having a gradient of monomer concentration and polymerization conditions may be used. In such a polymerizer, for example, one in which at least two polymerization regions are connected can be used, and the monomer can be polymerized by vapor phase polymerization. Specifically, in the presence of a catalyst, a monomer is supplied and polymerized in a polymerization region consisting of an ascending tube, and a monomer is supplied and polymerized by a descending tube connected to the ascending tube. The polymer product is recovered while circulating. This method comprises means to prevent the gas mixture present in the ascending tube from entering the descending tube in whole or in part. Also, a gas and / or liquid mixture having a composition different from that of the gas mixture present in the ascending tube is introduced into the descending tube. As the above polymerization method, for example, the method described in JP-A-2002-520426 can be applied.

本発明のポリプロピレン系重合体を多段重合法で製造する場合、例えば1段目でプロピレン単独重合体を生成させた後に、2段目で該プロピレン単独重合体の存在下、さらに重合触媒を添加することなく、プロピレン・エチレンランダム共重合体を生成させる方法を用いることができる。
例えば1段目をスラリー法で行い、2段目を気相重合法で行うとプロピレンへの溶解性が高い共重合体が生成されやすい点で好ましい。また全段階をスラリー法で行うと生産性の点で好ましい。
When the polypropylene-based polymer of the present invention is produced by a multi-stage polymerization method, for example, a propylene homopolymer is produced in the first stage, and then a polymerization catalyst is further added in the presence of the propylene homopolymer in the second stage. A method of producing a propylene / ethylene random copolymer can be used without any problem.
For example, it is preferable to carry out the first step by the slurry method and the second step by the vapor phase polymerization method in that a copolymer having high solubility in propylene is easily produced. Further, it is preferable from the viewpoint of productivity that all the steps are carried out by the slurry method.

ポリプロピレン系重合体の製造において、下記(A)成分、(B)成分、(C)成分を含む触媒成分を用いて、プロピレンの単独重合、およびプロピレンとエチレンとの共重合を行うことが好ましい。
(A)成分:マグネシウム、チタン、ハロゲン、および電子供与体化合物としてのスクシネート系化合物から選択される電子供与体化合物を必須成分として含有する固体触媒。
(B)成分:有機アルミニウム化合物。
(C)成分:ケイ素化合物から選択される外部電子供与体化合物。
In the production of polypropylene-based polymers, it is preferable to carry out homopolymerization of propylene and copolymerization of propylene and ethylene using a catalyst component containing the following components (A), (B) and (C).
Component (A): A solid catalyst containing magnesium, titanium, halogen, and an electron donor compound selected from a succinate compound as an electron donor compound as an essential component.
(B) Component: Organoaluminium compound.
Component (C): External electron donor compound selected from silicon compounds.

[(A)成分:固体触媒]
(A)成分は、公知の方法、例えばマグネシウム化合物とチタン化合物と電子供与体化合物を相互接触させることにより調製できる。
(A)成分の調製に用いられるチタン化合物として、一般式:Ti(OR)4−gで表される4価のチタン化合物が好適である。式中、Rは炭化水素基、Xはハロゲン、0≦g≦4である。チタン化合物として、より具体的にはTiCl、TiBr、TiIなどのテトラハロゲン化チタン;Ti(OCH)Cl、Ti(OC)Cl、Ti(O−C)Cl、Ti(OC)Br、Ti(OisoC)Brなどのトリハロゲン化アルコキシチタン;Ti(OCHCl、Ti(OCCl、Ti(O−CCl、Ti(OCBrなどのジハロゲン化アルコキシチタン;Ti(OCHCl、Ti(OCCl、Ti(O−CCl、Ti(OCBrなどのモノハロゲン化トリアルコキシチタン;Ti(OCH、Ti(OC、Ti(O−Cなどのテトラアルコキシチタンなどが挙げられる。これらの中で好ましいものはハロゲン含有チタン化合物、特にテトラハロゲン化チタンであり、より特に好ましいものは、四塩化チタンである。
[(A) component: solid catalyst]
The component (A) can be prepared by a known method, for example, by bringing a magnesium compound, a titanium compound and an electron donor compound into mutual contact.
As the titanium compound used for the preparation of the component (A), a tetravalent titanium compound represented by the general formula: Ti (OR) g X 4-g is suitable. In the formula, R is a hydrocarbon group, X is a halogen, and 0 ≦ g ≦ 4. As titanium compounds, TiCl 4 and more specifically, TiBr 4, titanium tetrahalides such as TiI 4; Ti (OCH 3) Cl 3, Ti (OC 2 H 5) Cl 3, Ti (O n -C 4 H 9 ) Trihalogenated alkoxytitanium such as Cl 3 , Ti (OC 2 H 5 ) Br 3 , Ti (OisoC 4 H 9 ) Br 3 ; Ti (OCH 3 ) 2 Cl 2 , Ti (OC 2 H 5 ) 2 Cl 2, Ti (O n -C 4 H 9) 2 Cl 2, Ti (OC 2 H 5) 2 dihalogenated alkoxy titanium such as Br 2; Ti (OCH 3) 3 Cl, Ti (OC 2 H 5) 3 Cl , Ti (O n -C 4 H 9) 3 Cl, Ti (OC 2 H 5) monohalide trialkoxy titanium such as 3 Br; Ti (OCH 3) 4, Ti (OC 2 H 5) 4, Ti ( such as O n -C 4 tetraalkoxy titanium such as H 9) 4 and the like. Among these, a halogen-containing titanium compound, particularly titanium tetrahalogenate, is preferable, and a more particularly preferable one is titanium tetrachloride.

(A)成分の調製に用いられるマグネシウム化合物としては、マグネシウム−炭素結合やマグネシウム−水素結合を有するマグネシウム化合物、例えばジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジプロピルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ジアミルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、ジデシルマグネシウム、エチル塩化マグネシウム、プロピル塩化マグネシウム、ブチル塩化マグネシウム、ヘキシル塩化マグネシウム、アミル塩化マグネシウム、ブチルエトキシマグネシウム、エチルブチルマグネシウム、ブチルマグネシウムハイドライドなどが挙げられる。これらのマグネシウム化合物は、例えば有機アルミニウム等との錯化合物の形で用いることもでき、また、液状であっても固体状であってもよい。さらに好適なマグネシウム化合物として、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化マグネシウムのようなハロゲン化マグネシウム;メトキシ塩化マグネシウム、エトキシ塩化マグネシウム、イソプロポキシ塩化マグネシウム、ブトキシ塩化マグネシウム、オクトキシ塩化マグネシウムのようなアルコキシマグネシウムハライド;フェノキシ塩化マグネシウム、メチルフェノキシ塩化マグネシウムのようなアリロキシマグネシウムハライド;エトキシマグネシウム、イソプロポキシマグネシウム、ブトキシマグネシウム、n−オクトキシマグネシウム、2−エチルヘキソキシマグネシウムのようなアルコキシマグネシウム;フェノキシマグネシウム、ジメチルフェノキシマグネシウムのようなアリロキシマグネシウム;ラウリン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウムのようなマグネシウムのカルボン酸塩などを挙げることができる。 Examples of the magnesium compound used for preparing the component (A) include magnesium compounds having a magnesium-carbon bond or a magnesium-hydrogen bond, such as dimethylmagnesium, diethylmagnesium, dipropylmagnesium, dibutylmagnesium, diamilmagnesium, dihexylmagnesium, and dihexylmagnesium. Examples thereof include decyl magnesium, ethyl magnesium chloride, propyl magnesium chloride, butyl magnesium chloride, hexyl magnesium chloride, amyl magnesium chloride, butyl ethoxymagnesium, ethyl butyl magnesium, and butyl magnesium hydride. These magnesium compounds can be used in the form of a complex compound with, for example, organoaluminum, and may be in a liquid state or a solid state. More suitable magnesium compounds include magnesium halides such as magnesium chloride, magnesium bromide, magnesium iodide, magnesium fluoride; magnesium methoxychloride, magnesium ethoxychloride, magnesium isopropoxychloride, magnesium butoxychloride, magnesium octoxychloride. Alkoxymagnesium halide; Allyloxymagnesium halides such as phenoxymagnesium chloride, methylphenoxymagnesium chloride; alkoxymagnesium such as ethoxymagnesium, isopropoxymagnesium, butoxymagnesium, n-octoxymagnesium, 2-ethylhexoxymagnesium; phenoxy Alyloxymagnesium such as magnesium and dimethylphenoxymagnesium; magnesium carboxylates such as magnesium laurate and magnesium stearate can be mentioned.

(A)成分の調製に用いられる電子供与体化合物は、一般には「内部電子供与体」と称される。本発明においては、広い分子量分布を与える内部電子供与体を用いることが好ましい。当該触媒を用いて重合された組成物は、別な触媒を用いて重合されたポリマーをペレットあるいはパウダーブレンドして得た同じ分子量分布を有する組成物、または多段重合法により、もしくはモノマー濃度や重合条件の勾配を有する重合器を用いる方法により重合した同じ分子量分布を有する組成物とは異なる特性を示す。これは、当該触媒を用いて製造した組成物は高分子量成分と低分子量成分がより分子レベルに近い状態で一体となっているが、後者の樹脂組成物はそこまで分子レベルに近い状態では混ざり合ってはおらず見かけ上同一の分子量分布を示しているにすぎないためと考えられる。しかし、このことを請求項において言葉で表現することは現実的ではない。以下、好ましい内部電子供与体について説明する。 The electron donor compound used for the preparation of the component (A) is generally referred to as an "internal electron donor". In the present invention, it is preferable to use an internal electron donor that gives a wide molecular weight distribution. The composition polymerized using the catalyst is a composition having the same molecular weight distribution obtained by pelleting or powder blending a polymer polymerized using another catalyst, or by a multi-stage polymerization method, or by a monomer concentration or polymerization. It exhibits different properties from the composition having the same molecular weight distribution polymerized by the method using a polymerizer having a gradient of conditions. This is because the composition produced by using the catalyst is integrated with the high molecular weight component and the low molecular weight component in a state closer to the molecular level, but the latter resin composition is mixed in a state close to the molecular level. It is considered that they do not match and only apparently show the same molecular weight distribution. However, it is not realistic to express this in words in the claims. Hereinafter, preferred internal electron donors will be described.

(内部電子供与体)
本発明において好ましい内部電子供与体はスクシネート系化合物である。本発明でスクシネート系化合物とはコハク酸のジエステルまたは置換コハク酸のジエステルをいう。以下、スクシネート系化合物について詳しく説明する。本発明で好ましく使用されるスクシネート系化合物は、以下の式(I)で表される。
(Internal electron donor)
The preferred internal electron donor in the present invention is a succinate compound. In the present invention, the succinate compound refers to a succinic acid diester or a substituted succinic acid diester. Hereinafter, the succinate compound will be described in detail. The succinate-based compound preferably used in the present invention is represented by the following formula (I).

Figure 0006842291
Figure 0006842291

式中、基RおよびRは、互いに同一かまたは異なり、場合によってはヘテロ原子を含む、C〜C20の線状または分岐のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、またはアルキルアリール基であり;基R〜Rは、互いに同一かまたは異なり、水素、或いは場合によってはヘテロ原子を含む、C〜C20の線状または分岐のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、またはアルキルアリール基であり、同じ炭素原子または異なる炭素原子に結合している基R〜Rは一緒に結合して環を形成してもよい。 In the formula, the groups R 1 and R 2 are linear or branched alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, or alkyl of C 1 to C 20 , which are the same or different from each other and sometimes contain a heteroatom. Aryl groups; groups R 3 to R 6 are linear or branched alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl, of C 1 to C 20 , which are identical or different from each other and contain hydrogen or, in some cases, heteroatoms. Groups R 3 to R 6 , which are arylalkyl or alkylaryl groups and are bonded to the same carbon atom or different carbon atoms, may be bonded together to form a ring.

およびRは、好ましくは、C〜Cのアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、およびアルキルアリール基である。RおよびRが第1級アルキル、特に分岐第1級アルキルから選択される化合物が特に好ましい。好適なRおよびR基の例は、C〜Cのアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、イソブチル、ネオペンチル、2−エチルヘキシルである。エチル、イソブチル、およびネオペンチルが特に好ましい。 R 1 and R 2 are preferably C 1- C 8 alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, and alkylaryl groups. Compounds in which R 1 and R 2 are selected from primary alkyls, particularly branched primary alkyls, are particularly preferred. Examples of suitable R 1 and R 2 groups are C 1- C 8 alkyl groups, such as methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, isobutyl, neopentyl, 2-ethylhexyl. Ethyl, isobutyl, and neopentyl are particularly preferred.

式(I)によって示される化合物の好ましい群の1つは、R〜Rが水素であり、Rが、3〜10個の炭素原子を有する、分岐アルキル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、およびアルキルアリール基であるものである。このような単置換スクシネート化合物の好ましい具体例は、ジエチル−sec−ブチルスクシネート、ジエチルテキシルスクシネート、ジエチルシクロプロピルスクシネート、ジエチルノルボニルスクシネート、ジエチルペリヒドロスクシネート、ジエチルトリメチルシリルスクシネート、ジエチルメトキシスクシネート、ジエチル−p−メトキシフェニルスクシネート、ジエチル−p−クロロフェニルスクシネート、ジエチルフェニルスクシネート、ジエチルシクロヘキシルスクシネート、ジエチルベンジルスクシネート、ジエチルシクロヘキシルメチルスクシネート、ジエチル−t−ブチルスクシネート、ジエチルイソブチルスクシネート、ジエチルイソプロピルスクシネート、ジエチルネオペンチルスクシネート、ジエチルイソペンチルスクシネート、ジエチル(1−トリフルオロメチルエチル)スクシネート、ジエチルフルオレニルスクシネート、1−エトキシカルボジイソブチルフェニルスクシネート、ジイソブチル−sec−ブチルスクシネート、ジイソブチルテキシルスクシネート、ジイソブチルシクロプロピルスクシネート、ジイソブチルノルボニルスクシネート、ジイソブチルペリヒドロスクシネート、ジイソブチルトリメチルシリルスクシネート、ジイソブチルメトキシスクシネート、ジイソブチル−p−メトキシフェニルスクシネート、ジイソブチル−p−クロロフェニルスクシネート、ジイソブチルシクロヘキシルスクシネート、ジイソブチルベンジルスクシネート、ジイソブチルシクロヘキシルメチルスクシネート、ジイソブチル−t−ブチルスクシネート、ジイソブチルイソブチルスクシネート、ジイソブチルイソプロピルスクシネート、ジイソブチルネオペンチルスクシネート、ジイソブチルイソペンチルスクシネート、ジイソブチル(1−トリフルオロメチルエチル)スクシネート、ジイソブチルフルオレニルスクシネート、ジネオペンチル−sec−ブチルスクシネート、ジネオペンチルテキシルスクシネート、ジネオペンチルシクロプロピルスクシネート、ジネオペンチルノルボニルスクシネート、ジネオペンチルペリヒドロスクシネート、ジネオペンチルトリメチルシリルスクシネート、ジネオペンチルメトキシスクシネート、ジネオペンチル−p−メトキシフェニルスクシネート、ジネオペンチル−p−クロロフェニルスクシネート、ジネオペンチルフェニルスクシネート、ジネオペンチルシクロヘキシルスクシネート、ジネオペンチルベンジルスクシネート、ジネオペンチルシクロヘキシルメチルスクシネート、ジネオペンチル−t−ブチルスクシネート、ジネオペンチルイソブチルスクシネート、ジネオペンチルイソプロピルスクシネート、ジネオペンチルネオペンチルスクシネート、ジネオペンチルイソペンチルスクシネート、ジネオペンチル(1−トリフルオロメチルエチル)スクシネート、ジネオペンチルフルオレニルスクシネートである。 One of the preferred groups of compounds represented by formula (I) is branched alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl , where R 3 to R 5 are hydrogen and R 6 has 3 to 10 carbon atoms. , And an alkylaryl group. Preferred specific examples of such a monosubstituted succinate compound are diethyl-sec-butyl succinate, diethyl texyl succinate, diethyl cyclopropyl succinate, diethyl norbonyl succinate, diethyl perihydro succinate, diethyl. Trimethylsilyl succinate, diethyl methoxy succinate, diethyl-p-methoxyphenyl succinate, diethyl-p-chlorophenyl succinate, diethyl phenyl succinate, diethyl cyclohexyl succinate, diethyl benzyl succinate, diethyl cyclohexyl Methyl succinate, diethyl-t-butyl succinate, diethyl isobutyl succinate, diethyl isopropyl succinate, diethyl neopentyl succinate, diethyl isopentyl succinate, diethyl (1-trifluoromethyl ethyl) succinate , Diethylfluorenyl succinate, 1-ethoxycarbodiisobutylphenyl succinate, diisobutyl-sec-butyl succinate, diisobutyltexyl succinate, diisobutylcyclopropyl succinate, diisobutylnorbonyl succinate, diisobutylperihydro Succinate, diisobutyltrimethylsilyl succinate, diisobutylmethoxysuccinate, diisobutyl-p-methoxyphenyl succinate, diisobutyl-p-chlorophenyl succinate, diisobutylcyclohexylsuccinate, diisobutylbenzyl succinate, diisobutylcyclohexylmethyl Succinate, diisobutyl-t-butyl succinate, diisobutylisobutyl succinate, diisobutylisopropyl succinate, diisobutylneopentyl succinate, diisobutylisopentyl succinate, diisobutyl (1-trifluoromethylethyl) succinate, Diisobutylfluorenyl succinate, dineopentyl-sec-butyl succinate, dineopentyltexyl succinate, geneopentylcyclopropyl succinate, dineopentyl norbonyl succinate, dineopentyl perihydrosuccinate , Dineopentyltrimethylsilyl succinate, dineopentylmethoxysuccinate, geneopentyl-p-methoxyphenyl succinate, geneopentyl-p-chlorophenyl succinate, geneopentylphenyl succinate, genine Opentyl Cyclohexyl succinate, Dineopentyl benzyl succinate, Dineopentyl cyclohexylmethyl succinate, Dineopentyl-t-butyl succinate, Dineopentyl isobutyl succinate, Dineopentyl isopropyl succinate, Di Neopentyl neopentyl succinate, dineopentyl isopentyl succinate, dineopentyl (1-trifluoromethylethyl) succinate, dineopentyl fluorenyl succinate.

式(I)の範囲内の化合物の他の好ましい群は、R〜Rからの少なくとも2つの基が、水素とは異なり、場合によってはヘテロ原子を含む、C〜C20の線状または分岐のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、またはアルキルアリール基から選択されるものである。水素とは異なる2つの基が同じ炭素原子に結合している化合物が特に好ましい。具体的には、RおよびRが水素とは異なる基であり、RおよびRが水素原子である化合物である。このような二置換スクシネートの好ましい具体例は、ジエチル−2,2−ジメチルスクシネート、ジエチル−2−エチル−2−メチルスクシネート、ジエチル−2−ベンジル−2−イソプロピルスクシネート、ジエチル−2−シクロヘキシルメチル−2−イソブチルスクシネート、ジエチル−2−シクロペンチル−2−n−ブチルスクシネート、ジエチル−2、2−ジイソブチルスクシネート、ジエチル−2−シクロヘキシル−2−エチルスクシネート、ジエチル−2−イソプロピル−2−メチルスクシネート、ジエチル−2−テトラデシル−2−エチルスクシネート、ジエチル−2−イソブチル−2−エチルスクシネート、ジエチル−2−(1−トリフルオロメチルエチル)−2−メチルスクシネート、ジエチル−2−イソペンチル−2−イソブチルスクシネート、ジエチル−2−フェニル−2−n−ブチルスクシネート、ジイソブチル−2,2−ジメチルスクシネート、ジイソブチル−2−エチル−2−メチルスクシネート、ジイソブチル−2−ベンジル−2−イソプロピルスクシネート、ジイソブチル−2−シクロヘキシルメチル−2−イソブチルスクシネート、ジイソブチル−2−シクロペンチル−2−n−ブチルスクシネート、ジイソブチル−2,2−ジイソブチルスクシネート、ジイソブチル−2−シクロヘキシル−2−エチルスクシネート、ジイソブチル−2−イソプロピル−2−メチルスクシネート、ジイソブチル−2−テトラデシル−2−エチルスクシネート、ジイソブチル−2−イソブチル−2−エチルスクシネート、ジイソブチル−2−(1−トリフルオロメチルエチル)−2−メチルスクシネート、ジイソブチル−2−イソペンチル−2−イソブチルスクシネート、ジイソブチル−2−フェニル−2−n−ブチルスクシネート、ジネオペンチル−2,2−ジメチルスクシネート、ジネオペンチル−2−エチル−2−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2−ベンジル−2−イソプロピルスクシネート、ジネオペンチル−2−シクロヘキシルメチル−2−イソブチルスクシネート、ジネオペンチル−2−シクロペンチル−2−n−ブチルスクシネート、ジネオペンチル−2,2−ジイソブチルスクシネート、ジネオペンチル−2−シクロヘキシル−2−エチルスクシネート、ジネオペンチル−2−イソプロピル−2−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2−テトラデシル−2−エチルスクシネート、ジネオペンチル−2−イソブチル−2−エチルスクシネート、ジネオペンチル−2−(1−トリフルオロメチルエチル)−2−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2−イソペンチル−2−イソブチルスクシネート、ジネオペンチル−2−フェニル−2−n−ブチルスクシネートである。 Another preferred group of compounds within the range of formula (I) is a linear C 1 to C 20 in which at least two groups from R 3 to R 6 differ from hydrogen and in some cases contain heteroatoms. Alternatively, it is selected from branched alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl, or alkylaryl groups. A compound in which two groups different from hydrogen are bonded to the same carbon atom is particularly preferable. Specifically, it is a compound in which R 3 and R 4 are different groups from hydrogen, and R 5 and R 6 are hydrogen atoms. Preferred specific examples of such disubstituted succinates are diethyl-2,2-dimethylsuccinate, diethyl-2-ethyl-2-methylsuccinate, diethyl-2-benzyl-2-isopropylsuccinate, diethyl. -2-Cyclohexylmethyl-2-isobutyl succinate, diethyl-2-cyclopentyl-2-n-butyl succinate, diethyl-2,2-diisobutyl succinate, diethyl-2-cyclohexyl-2-ethyl succinate Nate, diethyl-2-isopropyl-2-methylsuccinate, diethyl-2-tetradecyl-2-ethylsuccinate, diethyl-2-isobutyl-2-ethylsuccinate, diethyl-2- (1-trifluoro) Methylethyl) -2-methylsuccinate, diethyl-2-isopentyl-2-isobutylsuccinate, diethyl-2-phenyl-2-n-butylsuccinate, diisobutyl-2,2-dimethylsuccinate, Diisobutyl-2-ethyl-2-methylsuccinate, diisobutyl-2-benzyl-2-isopropylsuccinate, diisobutyl-2-cyclohexylmethyl-2-isobutylsuccinate, diisobutyl-2-cyclopentyl-2-n- Butyl succinate, diisobutyl-2,2-diisobutyl succinate, diisobutyl-2-cyclohexyl-2-ethyl succinate, diisobutyl-2-isopropyl-2-methylsuccinate, diisobutyl-2-tetradecyl-2- Ethyl succinate, diisobutyl-2-isobutyl-2-ethyl succinate, diisobutyl-2- (1-trifluoromethylethyl) -2-methyl succinate, diisobutyl-2-isopentyl-2-isobutyl succinate , Diisobutyl-2-phenyl-2-n-butyl succinate, dineopentyl-2,2-dimethylsuccinate, dineopentyl-2-ethyl-2-methylsuccinate, dineopentyl-2-benzyl-2-isopropyls Xinate, Dineopentyl-2-cyclohexylmethyl-2-isobutyl succinate, Dineopentyl-2-cyclopentyl-2-n-butyl succinate, Dineopentyl-2,2-diisobutyl succinate, Dineopentyl-2-cyclohexyl-2 -Ethyl succinate, dineopentyl-2-isopropyl-2-methyl succinate, dineopentyl-2-tetradecyl-2-ethyl succine , Dineopentyl-2-isobutyl-2-ethyl succinate, dineopentyl-2- (1-trifluoromethylethyl) -2-methylsuccinate, dineopentyl-2-isopentyl-2-isobutyl succinate, dineopentyl It is -2-phenyl-2-n-butyl succinate.

さらに、水素とは異なる少なくとも2つの基が異なる炭素原子に結合している化合物も特に好ましい。具体的にはRおよびRが水素と異なる基である化合物である。この場合、RおよびRは水素原子であってもよいし水素とは異なる基であってもよいが、いずれか一方が水素原子であること(三置換スクシネート)が好ましい。このような化合物の好ましい具体例は、ジエチル−2,3−ビス(トリメチルシリル)スクシネート、ジエチル−2,2−sec−ブチル−3−メチルスクシネート、ジエチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)−3−メチルスクシネート、ジエチル−2,3−ビス(2−エチルブチル)スクシネート、ジエチル−2,3−ジエチル−2−イソプロピルスクシネート、ジエチル−2,3−ジイソプロピル−2−メチルスクシネート、ジエチル−2,3−ジシクロヘキシル−2−メチルジエチル−2,3−ジベンジルスクシネート、ジエチル−2,3−ジイソプロピルスクシネート、ジエチル−2,3−ビス(シクロヘキシルメチル)スクシネート、ジエチル−2,3−ジ−t−ブチルスクシネート、ジエチル−2,3−ジイソブチルスクシネート、ジエチル−2,3−ジネオペンチルスクシネート、ジエチル−2,3−ジイソペンチルスクシネート、ジエチル−2,3−(1−トリフルオロメチルエチル)スクシネート、ジエチル−2,3−テトラデシルスクシネート、ジエチル−2,3−フルオレニルスクシネート、ジエチル−2−イソプロピル−3−イソブチルスクシネート、ジエチル−2−tert−ブチル−3−イソプロピルスクシネート、ジエチル−2−イソプロピル−3−シクロヘキシルスクシネート、ジエチル−2−イソペンチル−3−シクロヘキシルスクシネート、ジエチル−2−テトラデシル−3−シクロヘキシルメチルスクシネート、ジエチル−2−シクロヘキシル−3−シクロペンチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジエチル−2−イソプロピルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジイソプロピル−2−メチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジシクロヘキシル−2−メチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジベンジルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジイソプロピルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ビス(シクロヘキシルメチル)スクシネート、ジイソブチル−2,3−ジ−t−ブチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジイソブチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジネオペンチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−ジイソペンチルスクシネート、ジイソブチル−2,3−(1−トリフルオロメチルエチル)スクシネート、ジイソブチル−2,3−テトラデシルスクシネート、ジイソブチル−2,3−フルオレニルスクシネート、ジイソブチル−2−イソプロピル−3−イソブチルスクシネート、ジイソブチル−2−tert−ブチル−3−イソプロピルスクシネート、ジイソブチル−2−イソプロピル−3−シクロヘキシルスクシネート、ジイソブチル−2−イソペンチル−3−シクロヘキシルスクシネート、ジイソブチル−2−テトラデシル−3−シクロヘキシルメチルスクシネート、ジイソブチル−2−シクロヘキシル−3−シクロペンチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ビス(トリメチルシリル)スクシネート、ジネオペンチル−2,2−sec−ブチル−3−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)−3−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ビス(2−エチルブチル)スクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジエチル−2−イソプロピルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジイソプロピル−2−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジシクロヘキシル−2−メチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジベンジルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジイソプロピルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ビス(シクロヘキシルメチル)スクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジ−t−ブチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジイソブチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジネオペンチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−ジイソペンチルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−(1−トリフルオロメチルエチル)スクシネート、ジネオペンチル−2,3−テトラデシルスクシネート、ジネオペンチル−2,3−フルオレニルスクシネート、ジネオペンチル−2−イソプロピル−3−イソブチルスクシネート、ジネオペンチル−2−tert−ブチル−3−イソプロピルスクシネート、ジネオペンチル−2−イソプロピル−3−シクロヘキシルスクシネート、ジネオペンチル−2−イソペンチル−3−シクロヘキシルスクシネート、ジネオペンチル−2−テトラデシル−3−シクロヘキシルメチルスクシネート、ジネオペンチル−2−シクロヘキシル−3―シクロペンチルスクシネートである。 Further, compounds in which at least two groups different from hydrogen are bonded to different carbon atoms are also particularly preferable. Specifically, it is a compound in which R 3 and R 5 are different groups from hydrogen. In this case, R 4 and R 6 may be hydrogen atoms or groups different from hydrogen, but it is preferable that one of them is a hydrogen atom (trisubstituted succinate). Preferred specific examples of such compounds are diethyl-2,3-bis (trimethylsilyl) succinate, diethyl-2,2-sec-butyl-3-methylsuccinate, diethyl-2- (3,3,3-). Trifluoropropyl) -3-methylsuccinate, diethyl-2,3-bis (2-ethylbutyl) succinate, diethyl-2,3-diethyl-2-isopropylsuccinate, diethyl-2,3-diisopropyl-2 -Methyl succinate, diethyl-2,3-dicyclohexyl-2-methyldiethyl-2,3-dibenzylsuccinate, diethyl-2,3-diisopropylsuccinate, diethyl-2,3-bis (cyclohexylmethyl) ) Succinate, diethyl-2,3-di-t-butyl succinate, diethyl-2,3-diisobutyl succinate, diethyl-2,3-dineopentyl succinate, diethyl-2,3-diiso Pentyl succinate, diethyl-2,3- (1-trifluoromethylethyl) succinate, diethyl-2,3-tetradecyl succinate, diethyl-2,3-fluorenyl succinate, diethyl-2-isopropyl -3-Isobutyl succinate, diethyl-2-tert-butyl-3-isopropyl succinate, diethyl-2-isopropyl-3-cyclohexyl succinate, diethyl-2-isopentyl-3-cyclohexyl succinate, diethyl -2-Tetradecyl-3-cyclohexylmethyl succinate, diethyl-2-cyclohexyl-3-cyclopentyl succinate, diisobutyl-2,3-diethyl-2-isopropylsuccinate, diisobutyl-2,3-diisopropyl-2 -Methyl succinate, diisobutyl-2,3-dicyclohexyl-2-methylsuccinate, diisobutyl-2,3-dibenzylsuccinate, diisobutyl-2,3-diisopropylsuccinate, diisobutyl-2,3- Bis (cyclohexylmethyl) succinate, diisobutyl-2,3-di-t-butyl succinate, diisobutyl-2,3-diisobutyl succinate, diisobutyl-2,3-dineopentyl succinate, diisobutyl-2, 3-Diisopentyl succinate, diisobutyl-2,3- (1-trifluoromethylethyl) succinate, diisobutyl-2,3-tetradecyl succinate, diisobutyl-2,3-fluorenyl succinate , Diisobutyl-2-isopropyl-3-isobutyl succinate, diisobutyl-2-tert-butyl-3-isopropyl succinate, diisobutyl-2-isopropyl-3-cyclohexyl succinate, diisobutyl-2-isopentyl-3-3 Cyclohexyl succinate, diisobutyl-2-tetradecyl-3-cyclohexylmethyl succinate, diisobutyl-2-cyclohexyl-3-cyclopentyl succinate, dineopentyl-2,3-bis (trimethylsilyl) succinate, dineopentyl-2,2- sec-Butyl-3-methylsuccinate, dineopentyl-2- (3,3,3-trifluoropropyl) -3-methylsuccinate, dineopentyl-2,3-bis (2-ethylbutyl) succinate, dineopentyl- 2,3-Diethyl-2-isopropyl succinate, dineopentyl-2,3-diisopropyl-2-methyl succinate, dineopentyl-2,3-dicyclohexyl-2-methyl succinate, dineopentyl-2,3-di Benzyl succinate, dineopentyl-2,3-diisopropyl succinate, dineopentyl-2,3-bis (cyclohexylmethyl) succinate, dineopentyl-2,3-di-t-butyl succinate, dineopentyl-2,3- Diisobutyl succinate, geneopentyl-2,3-dineopentyl succinate, dineopentyl-2,3-diisopentyl succinate, dineopentyl-2,3- (1-trifluoromethylethyl) succinate, dineopentyl-2 , 3-Tetradecyl succinate, dineopentyl-2,3-fluorenyl succinate, dineopentyl-2-isopropyl-3-isobutyl succinate, dineopentyl-2-tert-butyl-3-isopropyl succinate, dineopentyl -2-Isopropyl-3-cyclohexyl succinate, dineopentyl-2-isopentyl-3-cyclohexyl succinate, dineopentyl-2-tetradecyl-3-cyclohexylmethyl succinate, dineopentyl-2-cyclohexyl-3-cyclopentyl succinate Nate.

式(I)の化合物のうち、基R〜Rのうちのいくつかが一緒に結合して環を形成している化合物も好ましく用いることができる。このような化合物として特表2002−542347に挙げられている化合物、例えば、1−(エトキシカルボニル)−1−(エトキシアセチル)−2,6−ジメチルシクロヘキサン、1−(エトキシカルボニル)−1−(エトキシアセチル)−2,5一ジメチルシクロペンタン、1−(エトキシカルボニル)−1−(エトキシアセチルメチル)−2一メチルシクロへキサン、1−(エトキシカルボニル)−1−(エトキシ(シクロヘキシル)アセチル)シクロヘキサンを挙げることができる。他には、例えば国際公開第2009/069483に開示されているような3,6−ジメチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジイソブチル、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジイソブチル等の環状スクシネート化合物も好適に用いることができる。他の環状スクシネート化合物の例としては、国際公開2009/057747号に開示されている化合物も好ましい。 Among the compounds of formula (I), a compound some are bonded to form a ring together of the radicals R 3 to R 6 may be also preferably used. As such compounds, the compounds listed in Special Table 2002-542347, for example, 1- (ethoxycarbonyl) -1- (ethoxyacetyl) -2,6-dimethylcyclohexane, 1- (ethoxycarbonyl) -1-( Ethoxyacetyl) -2,5-1 dimethylcyclopentane, 1- (ethoxycarbonyl) -1- (ethoxyacetylmethyl) -21methylcyclohexane, 1- (ethoxycarbonyl) -1- (ethoxy (cyclohexyl) acetyl) cyclohexane Can be mentioned. Alternatively, cyclic succinate compounds such as diisobutyl 3,6-dimethylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid and diisobutyl cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid, as disclosed in WO 2009/069483, are also preferred. Can be used. As an example of other cyclic succinate compounds, the compounds disclosed in WO 2009/057747 are also preferred.

式(I)の化合物のうち、基R〜Rがヘテロ原子を含む場合、ヘテロ原子は窒素およびリン原子を含む第15族原子あるいは酸素およびイオウ原子を含む第16族原子であることが好ましい。基R〜Rが第15族原子を含む化合物としては、特開2005−306910号に開示される化合物が挙げられる。一方、基R〜Rが第16族原子を含む化合物としては、特開2004−131537号に開示される化合物が挙げられる。 Among the compounds of formula (I), if the group R 3 to R 6 is a hetero atom, it heteroatom is 16 atoms containing Group 15 atom or an oxygen and sulfur atom containing nitrogen and phosphorus atoms preferable. Examples of the compound in which the groups R 3 to R 6 contain a Group 15 atom include compounds disclosed in JP-A-2005-306910. On the other hand, groups R 3 to R 6 are Examples of the compound containing a Group 16 atom include compounds disclosed in JP-2004-131537.

この他に、スクシネート系化合物と同等の分子量分布を与える内部電子供与体を用いてもよい。そのような内部電子供与体としては、例えば特開2013−28704号公報に記載のジフェニルジカルボン酸エステル、特開2014−201602号公報に記載のシクロヘキセンジカルボン酸エステル、特開2013−28705号公報に記載のジシクロアルキルジカルボン酸エステル、特許第4959920号に記載のジオールジベンゾエート、国際公開第2010/078494に記載の1,2−フェニレンジベンゾエートが挙げられる。 In addition, an internal electron donor that gives a molecular weight distribution equivalent to that of the succinate compound may be used. Examples of such an internal electron donor include diphenyldicarboxylic acid esters described in JP2013-28704, cyclohexenedicarboxylic acid esters described in JP2014-2016002, and JP2013-28705. Dicycloalkyldicarboxylic acid ester, diol dibenzoate described in Japanese Patent No. 4959920, 1,2-phenylenedibenzoate described in International Publication No. 2010/078494.

[(B)成分:有機アルミニウム化合物]
(B)成分の有機アルミニウム化合物としては以下が挙げられる。
トリエチルアルミニウム、トリブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;
トリイソプレニルアルミニウムのようなトリアルケニルアルミニウム:
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド;
エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド;
エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのようなアルキルアルミニウムジハロゲニドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム;
ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド;
エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどの部分的に水素化されたアルキルアルミニウム;
エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウム。
[Component (B): Organoaluminium compound]
Examples of the organoaluminum compound as the component (B) include the following.
Trialkylaluminum such as triethylaluminum and tributylaluminum;
Trialkenyl aluminum such as triisoprenyl aluminum:
Dialkylaluminum alkoxides such as diethylaluminum ethoxide and dibutylaluminum butoxide;
Alkylaluminum sesquialkoxides such as ethylaluminum sesquiethoxydo and butylaluminum sesquibutoxide;
Partially halogenated alkylaluminum such as alkylaluminum dihalogenide such as ethylaluminum dichloride, propylaluminum dichloride, butylaluminum dibromid;
Dialkylaluminum hydrides such as diethylaluminum hydride, dibutylaluminum hydride;
Partially hydrogenated alkylaluminum such as alkylaluminum dihydrides such as ethylaluminum dihydrides and propylaluminum dihydrides;
Partially alkoxylated and halogenated alkylaluminum such as ethylaluminum ethoxychloride, butylaluminum butokicyclolide, ethylaluminum ethoxybromid.

[(C)成分:電子供与体化合物]
(C)成分の電子供与体化合物は、一般に「外部電子供与体」と称される。このような電子供与体化合物としては有機ケイ素化合物が好ましい。好ましい有機ケイ素化合物として以下が挙げられる。
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、t−ブチルメチルジメトキシシラン、t−ブチルメチルジエトキシシラン、t−アミルメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビスo−トリルジメトキシシラン、ビスm−トリルジメトキシシラン、ビスp−トリルジメトキシシラン、ビスp−トリルジエトキシシラン、ビスエチルフェニルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、t−ブチルトリエトキシシラン、テキシルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、iso−ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、クロルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、2−ノルボルナントリメトキシシラン、2−ノルボルナントリエトキシシラン、2−ノルボルナンメチルジメトキシシラン、ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、トリメチルフエノキシシラン、メチルトリアリルオキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシシラン)、ビニルトリアセトキシシラン、ジメチルテトラエトキシジシロキサン。
中でも、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、t−ブチルトリエトキシシラン、t−ブチルメチルジメトキシシラン、t−ブチルメチルジエトキシシラン、t−ブチルエチルジメトキシシラン、t−ブチルプロピルジメトキシシラン、t−ブチルt−ブトキシジメトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、i−ブチルトリメトキシシラン、イソブチルメチルジメトキシシラン、i−ブチルセク−ブチルジメトキシシラン、エチル(パーヒドロイソキノリン2−イル)ジメトキシシラン、ビス(デカヒドロイソキノリン−2−イル)ジメトキシシラン、トリ(イソプロペニロキシ)フェニルシラン、テキシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、i−ブチルi−プロピルジメトキシシラン、シクロペンチルt−ブトキシジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルi−ブチルジメトキシシラン、シクロペンチルi−ブチルジメトキシシラン、シクロペンチルイソプロピルジメトキシシラン、ジ−sec−ブチルジメトキシシラン、ジエチルアミノトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシラン、ビスp−トリルジメトキシシラン、p−トリルメチルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、2−ノルボルナントリエトキシシラン、2−ノルボルナンメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチル(3、3、3−トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、ケイ酸エチルなどが好ましい。
[Component (C): electron donor compound]
The electron donor compound of the component (C) is generally referred to as an "external electron donor". As such an electron donor compound, an organosilicon compound is preferable. Preferred organosilicon compounds include:
Trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, t-butylmethyldimethoxysilane, t-butylmethyldiethoxysilane, t-amylmethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, phenylmethyl Dimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, biso-tolyldimethoxysilane, bism-tolyldimethoxysilane, bisp-tolyldimethoxysilane, bisp-tolyldiethoxysilane, bisethylphenyldimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, dicyclohexyldimethoxysilane Silane, Cyclohexylmethyldimethoxysilane, Cyclohexylmethyldiethoxysilane, Ethyltrimethoxysilane, Ethyltriethoxysilane, Vinyltrimethoxysilane, Methyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, Decyltrimethoxysilane, Decyltriethoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, t-butyltriethoxysilane, texyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, iso- Butyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, chlortriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, vinyltributoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, 2-norbornantrimethoxysilane , 2-Norbornantriethoxysilane, 2-norbornanmethyldimethoxysilane, ethyl silicate, butyl silicate, trimethylphenoxysilane, methyltriallyloxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxysilane), vinyltriacetoxysilane, dimethyl Tetraethoxydisiloxane.
Among them, ethyltriethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, t-butyltriethoxysilane, t-butylmethyldimethoxysilane, t-butylmethyldiethoxysilane, t-butylethyldimethoxysilane, t-Butylpropyldimethoxysilane, t-butylt-butoxydimethoxysilane, t-butyltrimethoxysilane, i-butyltrimethoxysilane, isobutylmethyldimethoxysilane, i-butylsec-butyldimethoxysilane, ethyl (perhydroisoquinolin 2-) Il) dimethoxysilane, bis (decahydroisoquinolin-2-yl) dimethoxysilane, tri (isopropeniroxy) phenylsilane, texyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltri Butoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, diisobutyldimethoxysilane, i-butyl i-propyldimethoxysilane, cyclopentyl t-butoxydimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, cyclohexyl i-butyldimethoxysilane, cyclopentyl i -Butyldimethoxysilane, cyclopentylisopropyldimethoxysilane, di-sec-butyldimethoxysilane, diethylaminotriethoxysilane, tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenyltriethoxylan, bisp-tolyl Dimethoxysilane, p-tolylmethyldimethoxysilane, dicyclohexyldimethoxysilane, cyclohexylethyldimethoxysilane, 2-norbornantriethoxysilane, 2-norbornanmethyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methyl (3,3,3-trifluoropropyl) Dimethoxysilane, ethyl silicate and the like are preferable.

ポリプロピレン系重合体の製造において、上記のとおりに調製した触媒に原料モノマーを接触させて重合することが好ましい。この際、まず前記触媒を用いて予備重合を行うことが好ましい。予備重合とは、その後の原料モノマーの本重合の足がかりとなるポリマー鎖を固体触媒成分に形成させる工程である。予備重合は公知の方法で行うことができる。予備重合は、通常は40℃以下、好ましくは30℃以下、より好ましくは20℃以下で行われる。
次いで、予備重合した触媒を重合反応系内に導入して、原料モノマーの本重合を行ってポリプロピレン系重合体を製造する。
In the production of the polypropylene-based polymer, it is preferable to bring the raw material monomer into contact with the catalyst prepared as described above to polymerize. At this time, it is preferable to first perform prepolymerization using the catalyst. The prepolymerization is a step of forming a polymer chain as a foothold for the subsequent main polymerization of the raw material monomer in the solid catalyst component. Prepolymerization can be carried out by a known method. Prepolymerization is usually carried out at 40 ° C. or lower, preferably 30 ° C. or lower, and more preferably 20 ° C. or lower.
Next, the prepolymerized catalyst is introduced into the polymerization reaction system, and the main polymerization of the raw material monomer is carried out to produce a polypropylene-based polymer.

こうして重合により得られたポリプロピレン系重合体、結晶核剤、および必要に応じたその他の添加剤を、ヘンシェルミキサー、ブラベンダー等で撹拌した後、押出機を用いて180℃から280℃で溶融ブレンドする事により、本発明のポリプロピレン組成物を得ることができる。結晶核剤やその他の添加剤の添加は、重合、残留モノマー除去、乾燥工程を経た後、連結された押出機を用いて行ってもよい。また本発明においては、高濃度の結晶核剤をポリプロピレン系重合体と溶融混練した、いわゆるマスターバッチをシート成形時にポリプロピレン系重合体に混合してもよい。 The polypropylene polymer thus obtained by polymerization, the crystal nucleating agent, and other additives as required are stirred with a Henschel mixer, brabender, etc., and then melt-blended at 180 ° C. to 280 ° C. using an extruder. By doing so, the polypropylene composition of the present invention can be obtained. The crystal nucleating agent and other additives may be added using a connected extruder after undergoing polymerization, residual monomer removal, and drying steps. Further, in the present invention, a so-called masterbatch in which a high-concentration crystal nucleating agent is melt-kneaded with a polypropylene-based polymer may be mixed with the polypropylene-based polymer at the time of sheet molding.

<ポリプロピレン製シート>
本発明のポリプロピレン製シートは、本発明のポリプロピレン組成物からなる。該ポリプロピレン製シートは単層でもよく多層の積層物でもよい。該ポリプロピレン製シートの厚さは150〜3000μmが好ましく、150〜2000μmがより好ましい。厚さが150μm未満であると剛性が不足しやすい。剛性が不足すると、食品包装や繊維包装などに用いられるシート材料に適さない。厚さが3000μmを超えると単純にコスト増となるため、産業上で大量安価に製造する場合においては現実的ではない。
<Polypropylene sheet>
The polypropylene sheet of the present invention comprises the polypropylene composition of the present invention. The polypropylene sheet may be a single layer or a multi-layered laminate. The thickness of the polypropylene sheet is preferably 150 to 3000 μm, more preferably 150 to 2000 μm. If the thickness is less than 150 μm, the rigidity tends to be insufficient. If the rigidity is insufficient, it is not suitable for sheet materials used for food packaging and textile packaging. If the thickness exceeds 3000 μm, the cost simply increases, which is not realistic in the case of industrial mass production at low cost.

<ポリプロピレン製シートの製造方法>
本発明のポリプロピレン製シートの製造方法は特に限定されない。例えば、本発明のポリプロピレン組成物からなる未延伸シートでもよく、該未延伸シートを二軸延伸したシートでもよい。
未延伸シートの製造工程および二軸延伸工程は公知の手法を用いて行うことができる。
未延伸シートは、押出機で溶融した樹脂を冷却ロールで巻き取ることにより製造することができる。溶融押出方法としてはTダイ押出法が好ましい。冷却工程としては水冷、空冷、ロールやベルトなど、広く一般に知られる冷却方法が挙げられるが、溶融樹脂が均一かつ効率的に急冷されることが少量の結晶核剤で透明性を得る目的において好ましく、ベルト法(特許4237275号)、スリーブゴムロール法(特許4472018号)、スイングロール法(特許4701067号)などを組み合わせて用いても良い。押出機中の溶融樹脂温度は200〜250℃が好ましく、冷却ロール温度は20〜90℃が好ましい。
未延伸シートを二軸延伸する際の成形温度は140〜170℃が好ましく、150〜165℃がより好ましく、155〜160℃がさらに好ましい。
<Manufacturing method of polypropylene sheet>
The method for producing the polypropylene sheet of the present invention is not particularly limited. For example, it may be an unstretched sheet made of the polypropylene composition of the present invention, or a sheet obtained by biaxially stretching the unstretched sheet.
The unstretched sheet manufacturing step and the biaxial stretching step can be performed by using a known method.
The unstretched sheet can be produced by winding the resin melted by the extruder with a cooling roll. The T-die extrusion method is preferable as the melt extrusion method. Examples of the cooling step include widely known cooling methods such as water cooling, air cooling, rolls and belts, but it is preferable that the molten resin is uniformly and efficiently rapidly cooled for the purpose of obtaining transparency with a small amount of crystal nucleating agent. , Belt method (Patent No. 4237275), sleeve rubber roll method (Patent No. 4472018), swing roll method (Patent No. 4701067) and the like may be used in combination. The temperature of the molten resin in the extruder is preferably 200 to 250 ° C, and the cooling roll temperature is preferably 20 to 90 ° C.
The molding temperature when biaxially stretching the unstretched sheet is preferably 140 to 170 ° C, more preferably 150 to 165 ° C, still more preferably 155 to 160 ° C.

<ポリプロピレン製シートからなる二次成形体の製造方法>
本発明のポリプロピレン製シートは、公知の真空成形、真空圧空成形、熱板成形などの熱成形方法で、容器やトレーに容易に加工できる。二次成形された成形品は、弁当容器、より惣菜トレー、断熱容器などとして使用できる。該二次成形体の厚さは150〜1000μmが好ましく、150〜400μmがより好ましい。厚さが150μm未満であると剛性が不足しやすい。剛性が不足すると、食品包装や繊維包装などに用いられるシート材料に適さない。厚さが1000μmを超えると単純にコスト増となるため、産業上で大量安価に製造する場合においては現実的ではない。
<Manufacturing method of secondary molded product made of polypropylene sheet>
The polypropylene sheet of the present invention can be easily processed into a container or a tray by a known thermoforming method such as vacuum forming, vacuum pressure forming, or thermoforming. The secondary molded product can be used as a lunch box container, a more prepared food tray, a heat insulating container, and the like. The thickness of the secondary molded product is preferably 150 to 1000 μm, more preferably 150 to 400 μm. If the thickness is less than 150 μm, the rigidity tends to be insufficient. If the rigidity is insufficient, it is not suitable for sheet materials used for food packaging and textile packaging. If the thickness exceeds 1000 μm, the cost will simply increase, which is not realistic for industrial mass production at low cost.

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
<測定方法・評価方法>
[ポリプロピレン系重合体中のエチレン含有量]
ポリプロピレン系重合体中のエチレン含有量は、1,2,4−トリクロロベンゼン/重水素化ベンゼンの混合溶媒に溶解した試料について、日本電子社製JNM LA−400(13C共鳴周波数100MHz)を用い、13C−NMR法で測定した値から算出した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
<Measurement method / evaluation method>
[Ethethylene content in polypropylene polymer]
For the ethylene content in the polypropylene polymer, JNM LA-400 (13C resonance frequency 100 MHz) manufactured by JEOL Ltd. was used for the sample dissolved in the mixed solvent of 1,2,4-trichlorobenzene / deuterated benzene. , 13 Calculated from the values measured by the C-NMR method.

[最終融解曲線の分析]
最終融解曲線の分析は、示差熱分析計(パーキンエルマー社製ダイヤモンドDSC)を用いて行った。
反復アニ−リング処理は、測定試料を、220℃で5分間保持した後、10℃/分で20℃まで冷却し、5分間保持し、次いで、10℃/分で175℃まで加熱した。
次いで、175℃で5分間保持した後、10℃/分で20℃まで冷却し、5分間保持し、10℃/分で170℃まで加熱した。
その後、極大加熱温度が順次5℃ずつ低くなるように加熱と冷却とを繰り返した。その際も昇温速度は10℃/分、最低温度は20℃とした。
極大加熱温度を80℃とし、5分間保持した後、10℃/分で20℃まで冷却し、5分間保持して、反復アニーリング処理を終了した。
次いで、10℃/分で200℃まで再加熱し、その際の最終融解曲線を、通常の示差熱分析と同様に分析した。
このようにして、x軸が温度(℃)、y軸が融解に伴う吸熱量である最終融解曲線を得て、最終融解曲線とベースラインとで囲まれた全面積に対して、x≦160(℃)における最終融解曲線とベースラインとx=160(℃)の直線とで囲まれた面積の割合を求め、160℃以下における融解エンタルピーの割合、すなわち融解温度が160℃以下である成分の割合とした。
同様に、前記全面積に対して、x≧170(℃)における最終融解曲線とベースラインとx=170(℃)の直線で囲まれた面積の割合を求め、170℃以上における融解エンタルピーの割合、すなわち融解温度が170℃以上である成分の割合とした。
[Analysis of final melting curve]
The analysis of the final melting curve was performed using a differential thermal analyzer (Diamond DSC manufactured by PerkinElmer).
In the repeated annealing treatment, the measurement sample was held at 220 ° C. for 5 minutes, cooled to 20 ° C. at 10 ° C./min, held for 5 minutes, and then heated to 175 ° C. at 10 ° C./min.
Then, after holding at 175 ° C. for 5 minutes, the mixture was cooled to 20 ° C. at 10 ° C./min, held for 5 minutes, and heated to 170 ° C. at 10 ° C./min.
After that, heating and cooling were repeated so that the maximum heating temperature was sequentially lowered by 5 ° C. At that time, the temperature rising rate was 10 ° C./min, and the minimum temperature was 20 ° C.
The maximum heating temperature was set to 80 ° C., and after holding for 5 minutes, the mixture was cooled to 20 ° C. at 10 ° C./min and held for 5 minutes to complete the repeated annealing treatment.
Then, it was reheated to 200 ° C. at 10 ° C./min, and the final melting curve at that time was analyzed in the same manner as in a normal differential thermal analysis.
In this way, the final melting curve in which the x-axis is the temperature (° C.) and the y-axis is the amount of heat absorbed by melting is obtained, and x ≦ 160 with respect to the total area surrounded by the final melting curve and the baseline. Find the ratio of the area surrounded by the final melting curve at (° C), the baseline, and the straight line at x = 160 (° C), and determine the ratio of melting enthalpy at 160 ° C or lower, that is, the component whose melting temperature is 160 ° C or lower. The ratio was used.
Similarly, the ratio of the area surrounded by the final melting curve at x ≧ 170 (° C.), the baseline, and the straight line at x = 170 (° C.) to the total area is determined, and the ratio of melting enthalpy at 170 ° C. or higher. That is, the ratio of the components having a melting temperature of 170 ° C. or higher was used.

[剛性(スティフネス)]
ポリプロピレン製シートのスティフネスをJIS K7106に準拠して測定した。スティフネステスター(テーバー社製、TB−150)を用い、室温(23℃)にて、引き取り方向(MD)とその垂直方向(TD)で測定し、それらの平均値を求めた。スティフネスの値が大きいほど、剛性に優れる。
[ヘーズ]
ポリプロピレン製シートのヘーズは、ヘーズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、HM−150)を用い、ISO 14782に準拠して測定した。ヘーズの値が小さいほど透明性に優れる。
[Rigidity (stiffness)]
The stiffness of the polypropylene sheet was measured according to JIS K7106. Using a stiff nestester (TB-150 manufactured by Taber), measurements were taken at room temperature (23 ° C.) in the pick-up direction (MD) and the vertical direction (TD) thereof, and the average value thereof was calculated. The larger the stiffness value, the better the rigidity.
[Haze]
The haze of the polypropylene sheet was measured according to ISO 14782 using a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Technology Laboratory Co., Ltd.). The smaller the haze value, the better the transparency.

[製造例1:触媒(S)の調製]
特開2011−500907号の実施例に記載の調製法に従い、固体触媒成分を調製した。具体的には以下の通りである。
窒素でパージした500mLの4つ口丸底フラスコ中に、250mLのTiClを0℃において導入した。撹拌しながら、10.0gの微細球状MgCl・1.8COH(USP−4,399,054の実施例2に記載の方法にしたがって、しかしながら10000rpmに代えて3000rpmで運転して製造した)、および9.1ミリモルのジエチル−2,3−(ジイソプロピル)スクシネートを加えた。温度を100℃に上昇させ、120分間保持した。次に、撹拌を停止し、固体生成物を沈降させ、上澄み液を吸い出した。次に、以下の操作を2回繰り返した:250mLの新しいTiClを加え、混合物を120℃において60分間反応させ、上澄み液を吸い出した。固体を、60℃において無水ヘキサン(6×100mL)で6回洗浄して、固体触媒(1)を得た。
(予備重合)
上記で得られた固体触媒(1)と、トリエチルアルミニウム(TEAL)と、ジイソプロピルジメトキシシラン(DIPMS)とを、固体触媒(1)に対するTEALの質量比が11であり、TEAL/DIPMSの質量比が3となるような量で、12℃において24分間接触させた。得られた触媒系を、液体プロピレン中において懸濁状態で20℃において5分間保持することによって予備重合を行ったものを触媒(S)とした。
[Production Example 1: Preparation of catalyst (S)]
A solid catalyst component was prepared according to the preparation method described in Examples of JP-A-2011-500907. Specifically, it is as follows.
250 mL of TiCl 4 was introduced at 0 ° C. into a 500 mL four-necked round bottom flask purged with nitrogen. While stirring, according to the method described in Example 2 of fine spherical MgCl 2 · 1.8C 2 H of 10.0g 5 OH (USP-4,399,054, however operating at 3000rpm instead of 10000rpm production And 9.1 mmol of diethyl-2,3- (diisopropyl) succinate were added. The temperature was raised to 100 ° C. and held for 120 minutes. The stirring was then stopped, the solid product was allowed to settle and the supernatant was sucked out. The following operation was then repeated twice: 250 mL of fresh TiCl 4 was added, the mixture was reacted at 120 ° C. for 60 minutes and the supernatant was sucked out. The solid was washed 6 times with anhydrous hexane (6 x 100 mL) at 60 ° C. to give a solid catalyst (1).
(Prepolymerization)
The mass ratio of TEAL to the solid catalyst (1) of the solid catalyst (1) obtained above, triethylaluminum (TEAL), and diisopropyldimethoxysilane (DIPMS) is 11, and the mass ratio of TEAL / DIPMS is 11. The contact was carried out at 12 ° C. for 24 minutes in an amount such that the amount was 3. The obtained catalyst system was prepolymerized by holding it in a suspended state in liquid propylene at 20 ° C. for 5 minutes to obtain a catalyst (S).

[製造例2:触媒(P)の調製]
欧州特許第674991号公報の実施例1に記載された方法により固体触媒成分を調製した。該固体触媒は、MgCl上にTiと内部ドナーとしてのジイソブチルフタレートを上記の特許公報に記載された方法で担持させたものである。
(予備重合)
上記で得られた固体触媒(2)と、TEALおよびシクロヘキシルメチルジメトキシシラン(CHMMS)を、固体触媒に対するTEALの重量比が8であり、CHMMS/TEALのモル比が0.02となるような量で、−5℃において5分間接触させた。得られた触媒系を、液体プロピレン中において懸濁状態で20℃において5分間保持することによって予備重合を行ったものを触媒(P)とした。
[Production Example 2: Preparation of catalyst (P)]
Solid catalyst components were prepared by the method described in Example 1 of European Patent No. 674991. The solid catalyst is obtained by supporting Ti and diisobutylphthalate as an internal donor on MgCl 2 by the method described in the above patent publication.
(Prepolymerization)
The amount of the solid catalyst (2) obtained above and TEAL and cyclohexylmethyldimethoxysilane (CHMMS) such that the weight ratio of TEAL to the solid catalyst is 8 and the molar ratio of CHMMS / TEAL is 0.02. Then, they were contacted at −5 ° C. for 5 minutes. The obtained catalyst system was prepolymerized by holding it in a suspended state in liquid propylene at 20 ° C. for 5 minutes to obtain a catalyst (P).

[重合方法(G):スラリー法および気相重合法を組み合わせた多段重合法]
一段目は循環式液相反応器を用い、二段目は流動床気相反応器を用いて多段重合法を行った。一段目の反応器に触媒、プロピレンおよび水素を供給してプロピレン単独重合体を生成した。二段目の反応器にプロピレン、エチレンおよび水素を供給して、プロピレン単独重合体とプロピレン・エチレンランダム共重合体とからなるポリプロピレン系重合体を得た。一段目の重合温度は72℃、重合圧力は3.0MPaとした。二段目の重合温度は80℃、重合圧力は1.7MPaとした。
[Polymerization method (G): Multistage polymerization method combining slurry method and gas phase polymerization method]
The first stage used a circulating liquid phase reactor, and the second stage used a fluidized bed vapor phase reactor to perform a multi-stage polymerization method. A catalyst, propylene and hydrogen were supplied to the first stage reactor to produce a propylene homopolymer. Propylene, ethylene and hydrogen were supplied to the second-stage reactor to obtain a polypropylene-based polymer composed of a propylene homopolymer and a propylene / ethylene random copolymer. The polymerization temperature of the first stage was 72 ° C., and the polymerization pressure was 3.0 MPa. The polymerization temperature of the second stage was 80 ° C., and the polymerization pressure was 1.7 MPa.

[重合方法(L):スラリー法による多段重合法]
一段目、二段目とも循環式液相反応器を用いて多段重合法を行った。一段目の反応器に触媒、プロピレンおよび水素を供給してプロピレン単独重合体を生成した。二段目の反応器にプロピレン、エチレンおよび水素を供給して、プロピレン単独重合体とプロピレン・エチレンランダム共重合体とからなるポリプロピレン系重合体を得た。一段目の重合温度は72℃、重合圧力は3.0MPaとした。二段目の重合温度は66℃、重合圧力は2.7MPaとした。
[Polymerization method (L): Multi-stage polymerization method by slurry method]
Both the first and second stages were subjected to a multi-stage polymerization method using a circulating liquid phase reactor. A catalyst, propylene and hydrogen were supplied to the first stage reactor to produce a propylene homopolymer. Propylene, ethylene and hydrogen were supplied to the second-stage reactor to obtain a polypropylene-based polymer composed of a propylene homopolymer and a propylene / ethylene random copolymer. The polymerization temperature of the first stage was 72 ° C., and the polymerization pressure was 3.0 MPa. The polymerization temperature of the second stage was 66 ° C., and the polymerization pressure was 2.7 MPa.

[重合方法(L’):スラリー法による単段重合法]
循環式液相反応器を用いて単段段重合法を行った。反応器に触媒、プロピレンおよび水素を供給してプロピレン単独重合体、さらにエチレンを供給してプロピレン・エチレンランダム共重合体を得た。重合温度は72℃、重合圧力は3.0MPaとした。
[Polymerization method (L'): Single-stage polymerization method by slurry method]
The single-stage polymerization method was carried out using a circulating liquid phase reactor. A catalyst, propylene and hydrogen were supplied to the reactor to obtain a propylene homopolymer, and ethylene was further supplied to obtain a propylene / ethylene random copolymer. The polymerization temperature was 72 ° C. and the polymerization pressure was 3.0 MPa.

[実施例1〜7、比較例1〜5]
表1に示す条件で重合工程を行ってポリプロピレン系重合体を得た。
得られたポリプロピレン系重合体100質量部に対して、結晶核剤として、ノニトール系核剤(ミリケンジャパン社製、製品名:Millad NX8000J)またはリン酸エステル系核剤(ADEKA社製、製品名:アデカスタブNA−21)を,表に示す含有量となるように添加するとともに、酸化防止剤(BASF社製B225)を0.24質量部および中和剤(カルシウムステアレート)を0.05質量部配合し、押出機を用いて230℃で溶融混練してポリプロピレン組成物を得た。
得られたポリプロピレン組成物における、ポリプロピレン系重合体のエチレン含有量、Mw/Mn、キシレン不溶分量、キシレン不溶分の立体規則性(mmmm)、ポリプロピレン組成物のMFR、および結晶核剤の含有量を表1に示す(以下、同様)。
また、ポリプロピレン系重合体について最終融解曲線の分析を行い、融解ピーク温度、融解温度が170℃以上である成分の割合、および融解温度が160℃以下である成分の割合を測定した。結果を表1に示す(以下、同様)。
[Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 5]
The polymerization step was carried out under the conditions shown in Table 1 to obtain a polypropylene-based polymer.
With respect to 100 parts by mass of the obtained polypropylene-based polymer, as a crystal nucleating agent, a nonitol-based nucleating agent (manufactured by Milliken Japan, product name: Millad NX8000J) or a phosphoric acid ester-based nucleating agent (manufactured by ADEKA, product name: ADEKA STAB NA-21) was added so as to have the content shown in the table, and 0.24 parts by mass of an antioxidant (BASF B225) and 0.05 parts by mass of a neutralizing agent (calcium stearate) were added. The mixture was blended and melt-kneaded at 230 ° C. using an extruder to obtain a polypropylene composition.
The ethylene content, Mw / Mn, xylene insoluble content, xylene insoluble stereoregularity (mm mm) of the polypropylene polymer, the MFR of the polypropylene composition, and the content of the crystal nucleating agent in the obtained polypropylene composition are determined. It is shown in Table 1 (the same applies hereinafter).
In addition, the final melting curve of the polypropylene polymer was analyzed, and the melting peak temperature, the proportion of components having a melting temperature of 170 ° C. or higher, and the proportion of components having a melting temperature of 160 ° C. or lower were measured. The results are shown in Table 1 (the same applies hereinafter).

(シートの評価)
得られたポリプロピレン組成物を用い、次のようにして二軸延伸シートを製造した。
まず、スクリュー直径25mmの押出機を3台備え、3層積層可能なTダイが設けられた多層シート成形機(サーモ・プラスチック工業株式会社製)を用いてシートを作製した。より具体的には、3台の押出機全てを用いて、ポリプロピレン組成物を230℃で溶融させた。300mm幅のTダイ温度を230℃として、シートの両面を金属ロールの周面
に密着させることにより、シートを冷却し、所定の厚みの未延伸シートを製造した。
得られた未延伸シートを用い、上記の方法で、ポリプロピレン製シートの剛性およびヘーズを測定した。これらの結果を表1に示す(以下、同様)。
(Evaluation of sheet)
Using the obtained polypropylene composition, a biaxially stretched sheet was produced as follows.
First, a sheet was produced using a multi-layer sheet molding machine (manufactured by Thermo Plastic Industry Co., Ltd.) equipped with three extruders having a screw diameter of 25 mm and a T-die capable of stacking three layers. More specifically, the polypropylene composition was melted at 230 ° C. using all three extruders. The T-die having a width of 300 mm was set to 230 ° C., and both sides of the sheet were brought into close contact with the peripheral surface of the metal roll to cool the sheet and produce an unstretched sheet having a predetermined thickness.
Using the obtained unstretched sheet, the rigidity and haze of the polypropylene sheet were measured by the above method. These results are shown in Table 1 (the same applies hereinafter).

[実施例8:多層シートの製造]
上記の多層シート成形機を用いたシート成形において、表層には実施例1で用いた材料(MFR=3g/10分)を、中間層には実施例3で用いた材料(MFR=9g/10分)を使用し、共押出にて層比1:5:1の2種3層で厚み0.2mmの未延伸シートを製造した。それ以外の工程については実施例1と同一である。なお、実施例8は実施例1にて対して中間層のみにMFRの高い材料を用いているが、これは実用上においてシート端材を再生材として用いる工程内リサイクルを想定した例である。
上記の方法で、ポリプロピレン製シートの剛性およびヘーズを測定した。またシート成形性を評価した。これらの結果を表1に示す(以下、同様)。
[Example 8: Manufacture of multilayer sheet]
In sheet molding using the above-mentioned multi-layer sheet molding machine, the surface layer is the material used in Example 1 (MFR = 3 g / 10 minutes), and the intermediate layer is the material used in Example 3 (MFR = 9 g / 10 minutes). An unstretched sheet having a layer ratio of 1: 5: 1 and a thickness of 0.2 mm was produced in two types and three layers by coextrusion. The other steps are the same as in the first embodiment. In Example 8, a material having a high MFR is used only in the intermediate layer as compared with Example 1, but this is an example in which in-process recycling using sheet scraps as recycled materials is assumed in practice.
The rigidity and haze of the polypropylene sheet were measured by the above method. The sheet formability was also evaluated. These results are shown in Table 1 (the same applies hereinafter).

Figure 0006842291
Figure 0006842291

表1に示されるように、実施例1〜8のポリプロピレン組成物は、シート成形性が良好であり、ヘーズが低くて透明性に優れ、かつ剛性に優れるポリプロピレン製シートが得られた。
これらに比べて、ポリプロピレン系重合体のキシレン不溶分量、キシレン不溶分のmmmm、およびMw/Mnが小さい比較例1はシートの剛性が劣り、プロピレン・エチレンランダム共重合体のみからなる比較例2は熱分析による融解曲線において(B−ii)の条件を満たすことが出来ず、シートの剛性が劣っていた。
またポリプロピレン系重合体がプロピレン単独重合体からなる比較例3はシートの透明性が劣り、ポリプロピレン系重合体におけるエチレン含有量が0.5質量%を超える比較例4はシートの剛性が劣っていた。
結晶核剤の含有量が0.15質量部である比較例5は、結晶核剤の含有量が0.35質量部である実施例1、または結晶核剤の含有量が0.25質量部である実施例5に比べるとシートの剛性(スティフネス)および透明性が劣っていた。
As shown in Table 1, the polypropylene compositions of Examples 1 to 8 had good sheet moldability, low haze, excellent transparency, and excellent rigidity.
Compared with these, Comparative Example 1 in which the amount of xylene insoluble matter, xylene insoluble matter mmmm, and Mw / Mn of the polypropylene-based polymer are small is inferior in sheet rigidity, and Comparative Example 2 consisting of only a propylene / ethylene random copolymer is inferior. In the melting curve by thermal analysis, the condition (B-ii) could not be satisfied, and the rigidity of the sheet was inferior.
Further, in Comparative Example 3 in which the polypropylene-based polymer was made of a propylene homopolymer, the transparency of the sheet was inferior, and in Comparative Example 4 in which the ethylene content in the polypropylene-based polymer exceeded 0.5% by mass, the rigidity of the sheet was inferior. ..
Comparative Example 5 in which the content of the crystal nucleating agent is 0.15 parts by mass is Example 1 in which the content of the crystal nucleating agent is 0.35 parts by mass, or the content of the crystal nucleating agent is 0.25 parts by mass. The rigidity (stiffness) and transparency of the sheet were inferior to those of Example 5.

Claims (4)

プロピレン単独重合体30〜70質量%およびプロピレン・エチレンランダム共重合体30〜70質量%からなり、エチレン含有量が0.5質量%以下、分子量分布(Mw/Mn)が6〜20、25℃でのキシレン不溶分量が97〜99質量%、キシレン不溶分の立体規則性(mmmm)が97.5〜99.5%であり、かつ極大加熱温度が順次低くなるように加熱と冷却を複数回繰り返した後に再加熱した際の熱分析による融解曲線が下記(B−i)〜(B−iii)の条件を満たすポリプロピレン系重合体、
および該ポリプロピレン系重合体の100質量部に対して0.18〜0.5質量部の結晶核剤を含み、
メルトフローレートが1〜10g/10分であることを特徴とするポリプロピレン組成物。
(B−i)融解ピーク温度が165℃以上である。
(B−ii)融解温度が170℃以上である成分の割合が10%以上である。
(B−iii)融解温度が160℃以下である成分の割合が15%以上である。
It is composed of 30 to 70% by mass of a propylene homopolymer and 30 to 70% by mass of a propylene / ethylene random copolymer, has an ethylene content of 0.5% by mass or less, and has a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 6 to 20, 25 ° C. The amount of xylene insoluble matter in the above is 97 to 99% by mass, the stereoregularity (mm mm) of the xylene insoluble matter is 97.5 to 99.5%, and heating and cooling are performed multiple times so that the maximum heating temperature is gradually lowered. A polypropylene polymer whose melting curve by thermal analysis when reheated after repetition satisfies the following conditions (B-i) to (B-iii).
And 0.18 to 0.5 parts by mass of crystal nucleating agent with respect to 100 parts by mass of the polypropylene-based polymer.
A polypropylene composition having a melt flow rate of 1 to 10 g / 10 minutes.
(Bi) The melting peak temperature is 165 ° C. or higher.
(B-ii) The proportion of components having a melting temperature of 170 ° C. or higher is 10% or higher.
(B-iii) The proportion of components having a melting temperature of 160 ° C. or lower is 15% or more.
請求項1に記載のポリプロピレン組成物からなるポリプロピレン製シート。 A polypropylene sheet comprising the polypropylene composition according to claim 1. 請求項1に記載のポリプロピレン組成物を製造する方法であって、
前記ポリプロピレン系重合体を、2段以上の重合工程を連続的に有する多段重合法により、またはモノマー濃度および重合条件の一方または両方の勾配を有する重合器を用いて製造し、
得られたポリプロピレン系重合体と前記結晶核剤を混合することを特徴とするポリプロピレン組成物の製造方法。
The method for producing the polypropylene composition according to claim 1.
The polypropylene-based polymer is produced by a multi-stage polymerization method having two or more stages of polymerization steps in succession, or by using a polymer having one or both gradients of monomer concentration and polymerization conditions.
A method for producing a polypropylene composition, which comprises mixing the obtained polypropylene-based polymer with the crystal nucleating agent.
前記重合工程において、(A)マグネシウム、チタン、ハロゲン、およびスクシネート系化合物から選択される電子供与体化合物を必須成分として含有する固体触媒;(B)有機アルミニウム化合物;ならびに(C)外部電子供与体化合物を含む触媒を用いる、請求項3に記載のポリプロピレン組成物の製造方法。 In the polymerization step, a solid catalyst containing (A) an electron donor compound selected from magnesium, titanium, halogen, and a succinate compound as an essential component; (B) an organoaluminum compound; and (C) an external electron donor. The method for producing a polypropylene composition according to claim 3, wherein a catalyst containing a compound is used.
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