JP6835585B2 - 試料観察用のコントラスト増幅支持体、その製造方法および用途 - Google Patents

試料観察用のコントラスト増幅支持体、その製造方法および用途 Download PDF

Info

Publication number
JP6835585B2
JP6835585B2 JP2016548422A JP2016548422A JP6835585B2 JP 6835585 B2 JP6835585 B2 JP 6835585B2 JP 2016548422 A JP2016548422 A JP 2016548422A JP 2016548422 A JP2016548422 A JP 2016548422A JP 6835585 B2 JP6835585 B2 JP 6835585B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
refractive index
absorption
chemical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016548422A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016538570A (ja
Inventor
オーセール,ドミニク
アムラ,クロード
ゼッラド,ミリアン
アブ・カチフェ,レファーイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Original Assignee
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Centre National de la Recherche Scientifique CNRS filed Critical Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Publication of JP2016538570A publication Critical patent/JP2016538570A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6835585B2 publication Critical patent/JP6835585B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/34Microscope slides, e.g. mounting specimens on microscope slides
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/48Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
    • G01N33/50Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
    • G01N33/53Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
    • G01N33/543Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor with an insoluble carrier for immobilising immunochemicals
    • G01N33/54366Apparatus specially adapted for solid-phase testing
    • G01N33/54373Apparatus specially adapted for solid-phase testing involving physiochemical end-point determination, e.g. wave-guides, FETS, gratings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0012Optical design, e.g. procedures, algorithms, optimisation routines
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/003Light absorbing elements

Description

本発明は、試料観察用のコントラスト増幅支持体、およびそのような支持体を製造する方法に関する。本発明はまた、試料の観察方法、およびそのような支持体を実現する化学的または生物学的種の検出または分析方法に関する。
本発明はまた、生物学(生体分子または微生物の検出、培養細胞の観察)、ナノテクノロジー(ナノチューブ等の微小物体の視認)、マイクロエレクトロニクス、材料科学等の各種技術分野に適用可能である。
反射光学的顕微鏡検査により観察される物体の光学的コントラストを増大させる反射防止層(または「λ/4」層)の利用は、長年にわたり知られる極めて有用な技術である。特に、これにより1937年にLangmuirおよびBlodgettにより初めて分子搖動が観察され、より最近ではNovoselovらによるグラフェン層が視認された。
Iを支持体に堆積された観察対象物体により反射される光度、Iを支持体単独で反射される光度とすると、試料を観察する際のコントラストはC=(I−I)/(I+I)に等しい。コントラストの絶対値はI=0のとき、すなわち支持体の反射率が0、または支持された物体の反射率が0のときに最大値(1に等しい)となることが分かる。最も簡単なケースでは、厚さおよび屈折率が適当に選択されていて同様に透明な薄層が堆積している透明基板を支持体として用いることにより、条件I=0が満たされる。透明且つ半無限の入射媒質(照射源となる)および透明且つ半無限の出射媒質(基板)を介して垂直入射光により照射される単一反射防止層の場合、以下の条件が得られる。
=n (1a)
=λ/4 (1b)
ここで、nは層の屈折率(実数)、nおよびnは入射および出射媒質の屈折率(同じく実数)、eは層の厚さ、およびλは照射波長である。
式(1a)は所与の入射および出射媒質に対して、反射防止層の屈折率を1対1に決定する。残念ながら、屈折率は、一般的に用いられる材料または特定の用途に関する多様な制約条件を満たす材料に対応しない場合がある。例えば、実用面での関心が明らかな空気とガラスとの界面の場合、n≒1.27が得られ、従ってエアロゲル等の複合材料を用いることが必要となる。
本発明は、従来技術における上述の短所を克服することを目的としている。
上述の目的を達成すべく、本発明は、複素屈折率を示す吸収反射防止層の使用を提案する。屈折率の虚部の存在に伴い自由度が増すことにより、実部の値に対する制約の緩和が可能になる。更に、材料の屈折率の実部を変更することは困難であるのに対し、(例えば、吸収不純物または拡散が吸収を「シミュレートする」拡散不純物の導入により)虚部を変更することは比較的容易である。
従来の「λ/4」層の場合、干渉効果から生じるコントラストの増大により、入射媒質/層界面および層/出射媒質界面で複数の反射が生じることに注意されたい。層内部での光の吸収は、これらの複数の反射間の干渉を除去する傾向がある。従って、「吸収反射防止層」の概念自体は一見したところ直観に反しているように見える。
S.G.MoiseevおよびS.V.Vinogradovによる論文“Design of Antireflection Composite Coating Based on Metal Nanoparticle”,Physics of Wave Phenomena,2011,Vol.10,No.1,pages 47−51では、空気を通して照射が行われる空気−基板界面での垂直入射光による反射を相殺すべく透明基板に堆積された弱吸収薄層が満たすべき条件を考察している。この文献はまた、これらの条件を概ね満たす金属ナノ粒子を含む複合材料製の吸収薄層についても記述している。この層は、空気−基板界面での反射を減らすが、完全に相殺する訳ではない。更に、吸収が極めて弱い材料に限定した分析的研究により層の振る舞い方が提示されているが、その結果を一般化することは困難である。更に、このようなコーティングは、コントラスト増幅支持体の実現を目的としていない。
以下の論文:
− M.A.Kats et al.“Nanometre optical coatings based on strong interference effects in highly absorbing media”,Nature Materials,Vol.12,January 2013,pages 20−24、および
− R.M.A.Azzam et al.“Antireflection of an absorbing substrate by an absorbing thin film at normal incidence”,Applied Optics,Vol.26,No.4,pages719−722(1987)
は、同じく吸収基板に堆積された吸収反射防止層を開示している。ここでも、特定のケースのみが記述されているが、一般化することは困難である。更に、M.A.katsらによる論文の場合、反射の防止は単に部分的に過ぎない。
文献米国特許第5,216,542号明細書は、基板の表面(照射対象である)にTiNの透明層および吸収層を含む多層構造を含み、前記基板の裏面に反射率が低いだけでゼロとは限らない厚さを有するTiNの単一吸収層を含むガラス基板用の反射防止コーティングを開示している。そのようなコーティングは、コントラスト増幅支持体の実現を目的としていない。
本発明によれば、吸収反射防止層を含むコントラスト増幅支持体は、「反転された」すなわち「裏面」構成で使用するように、すなわち出射媒質(または「周囲媒質」)よりも屈折率が大きい基板を通して照射および観察を行うべく寸法決めされている。この構成が特に適しているのは、基板が観測ウインドウを形成し、吸収反射防止層が水媒質(化学または生物学的用途)と接触するように配置されているか、または真空筐体もしくは制御された雰囲気(例えば堆積法等の用途)内に維持されている場合である。これはS.G.MoiseevおよびS.V.Vinogradovによる上述の論文の記述とは対照的である。更に、本発明により、単に空気だけでなく実用的に任意の透明な周囲媒質に適した支持体の実現が可能になる。
更に、以下に述べるような吸収反射防止層は、コントラスト増幅以外の用途にも適しており、実際、前記基板から発せられている照射が存在する状況で、透明基板と、屈折率がより低い周囲媒質との間の光の反射を除去または減衰させようとする場合は常にそうである。
本発明の主題は従って、試料観察用のコントラスト増幅支持体において、少なくとも1つの吸収層を担持する透明基板を含み、前記基板を通過する照射波長λの垂直入射光により照射される場合に前記層が反射防止層として機能するように吸収層の複素屈折率N=n−jkおよび厚さが選択され、前記基板の反対側にある前記層の面が、前記基板の屈折率n未満である屈折率nを有する透明ないわゆる周囲媒質と接触していることを特徴とする、コントラスト増幅支持体である。好ましくは、前記層は窒化チタン(TiN)製ではない。
このようなコントラスト増幅支持体の特定の実施形態によれば、
− 前記照射波長λにおいて、基板の屈折率n、層の複素屈折率N=n−jkの実部および虚部、並びに層の厚さeは、以下の条件:
Figure 0006835585
を満たすことができ、且つ好ましくはk≧0.01、更により好ましくはk≧0.1であり、ここで、
Figure 0006835585
であり、nおよびkの許容範囲は5%以下、好ましくは0.3%以下であり、且つeの許容範囲は30%以下、好ましくは5%以下である。
− より具体的には、基板の屈折率n、層の複素屈折率N=n−jk、および層の厚さeは更に、前記許容範囲および前記照射波長λに対して、以下の条件:
Figure 0006835585
を満たすことができ、ここで、
Figure 0006835585
である。
− 前記基板はガラス製であってよい。
− 比n/nは1.1〜1.3の間にあるように選択されることができる。
− 一変型形態として、比n/nは1.45〜1.7の間にあるように選択される。
− 前記吸収層は、前記基板に注入された不純物の層、金属層、半導体層、金属/半導体複合合金、磁気吸収層、金属ナノ粒子の層、非金属導体層、拡散層、顔料または染料を含むポリマーまたはフォトレジスト層、色中心を含む鉱物誘電層、ナノ粒子が分散された連続相を含む合成ハイブリッド層、およびグラフェン層または機能化グラフェン層のうちから選択されることができる。
− 前記吸収層は、少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な少なくとも1つの機能化層を含んでいてよい。
− 前記基板は、少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な機能化表面を示すことができ、前記吸収層は、前記機能化表面により固定された前記または少なくとも1つの前記化学的または生物学的種により形成されている。
− 前記吸収層は80%以上、好ましくは90%以上の透過率を示すことができる。
本発明の別の主題は、少なくとも1つの吸収層を担持する透明基板を含むコントラスト増幅支持体を製造する方法であって、前記支持体の設計フェーズ、およびそのように設計された支持体のハードウェア製造フェーズを含む方法において、前記設計ステップが以下のステップ:
i)照射波長λを選択するステップと、
ii)前記基板を構成し、且つ前記照射波長λで実屈折率nを示す材料を選択するステップと、
iii)前記基板の反対側にある前記層と接触し、且つ前記照射波長λで実屈折率n<nを示す周囲媒質を選択するステップと、
iv)前記基板の反対側にある前記層の面が前記周囲媒質と接触している状態で、前記基板を通過する前記照射波長λの垂直入射光により照射される場合に前記層が反射防止層として機能するように前記層の名目複素屈折率N=n−jkおよび名目厚さeを決定するステップと、
v)前記吸収層を構成し、且つ前記照射波長λで実部および虚部が前記名目複素屈折率の実部および虚部と少なくとも5%以下、好ましくは0.3%以下の許容範囲で一致する複素屈折率を示す材料を選択するステップと
を含むことを特徴とする、方法である。
このような方法の特定の実施形態によれば、
− 前記ステップiv)の間、前記名目複素屈折率および前記名目厚さは以下の条件:
Figure 0006835585
を満たして選択されることができ、且つ好ましくはk≧0.1であり、ここで、
Figure 0006835585
である。
− 層の名目複素屈折率および名目厚さは、前記照射波長λに対して、以下の条件:
Figure 0006835585
を満たすべく決定されていてよく、ここで、
Figure 0006835585
である。
本発明の更に別の主題は、試料を観察する方法であって、以下のステップ:
A.実屈折率nを有する第1のいわゆる入射透明媒質と、実屈折率n<nを有する第2のいわゆる出射透明媒質との間にある、複素屈折率N=n−jkを示す厚さeの吸収層上に前記試料を堆積させるステップと、
B.前記入射媒質を通過する少なくとも前記照射波長λの垂直入射光により前記試料を照射するステップと、
C.同じく前記入射媒質を通して、このように照射された試料を観察するステップと
を含む試料観察方法であって、
前記吸収層が、以下:
Figure 0006835585
のような複素屈折率および厚さを示し、且つ好ましくはk1≧0.01、更により好ましくはk≧0.1であり、ここで、
Figure 0006835585
であり、n、nおよびkの許容範囲は5%以下、好ましくは0.3%以下であり、且つeの許容範囲は30%以下、好ましくは5%以下である、方法である。
このような方法の特定の実施形態によれば、
− 前記ステップAは、上述のようなコントラスト増幅支持体であって、その基板が前記入射媒質を構成する、コントラスト増幅支持体により実行可能である。
− 20°以下の半開口角度を示す照射円錐を形成するように、前記試料を、平行または集光された光ビームにより少なくとも前記照射波長λで照射することができる。
− 前記試料が、集光されたレーザービームにより少なくとも前記照射波長λで照射されることができる。
本発明の更に別の主題は、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法であって、以下のステップ:
I.少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な機能化層または表面を含む、上述のようなコントラスト増幅支持体を用意するステップと、
II.前記機能化層または表面を、金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされた化学的または生物学的種を含む少なくとも1種類の溶液と接触するように配置するステップであって、前記種が、前記機能化層または表面に直接、または1つ以上の他の化学的または生物学的種を介してのいずれかで固定可能であり、それにより、前記粒子が連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成する、ステップと、
III.前記基板を通過する少なくとも前記照射波長λの垂直入射光により前記コントラスト増幅支持体を照射するステップと、
IV.同じく前記基板を通して、このように照射された前記コントラスト増幅支持体を観察するステップと
を含む、方法である。
本発明の更に別の主題は、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法であって、以下のステップ:
I.少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な機能化層または表面を担持する透明基板を用意するステップと、
II.前記機能化層または表面を、金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされた化学的または生物学的種を含む少なくとも1種類の溶液と接触するように配置するステップであって、連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成するように、前記種が、前記機能化層または表面に − 直接、または1つ以上の他の化学的または生物学的種を介してのいずれかで − 固定可能であり、し、前記透明基板が、前記機能化層または表面およびこのように形成された吸収または拡散金属層と共に、上述のようなコントラスト増幅支持体を形成する、ステップと、
III.前記基板を通過する少なくとも前記照射波長λの垂直入射光により前記コントラスト増幅支持体を照射するステップと、
IV.同じく前記基板を通して、このように照射された前記コントラスト増幅支持体を観察するステップと
を含む、方法である。
上述のような方法の特定の実施形態によれば、
− 前記ステップIIは以下:
II−1)いわゆる中間層を形成するように、前記機能化層または表面を、検出または分析対象の化学的または生物学的種を含む第1の溶液と接触するように配置する、サブステップと、
II−2)前記中間層を、金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされ、且つ前記連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成すべく前記中間層に固定可能ないわゆる補用の化学的または生物学的種を含む第2の溶液と接触するように配置するサブステップと
を含むサブステップを含んでいてよい。
− 一変型形態として、前記ステップIIは以下:
II−1’)前記機能化層または表面を、金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされ、且つ前記連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成すべく前記機能化層に固定可能な化学的または生物学的種、いわゆる中間種を含む第1の溶液と接触するように配置するサブステップと、
II−2’)前記機能化層または表面および前記吸収または拡散金属層を、前記中間種の前記機能化層または表面との親和性よりも大きい前記機能化層または表面との親和性を示す検出または分析対象の前記化学的または生物学的種を含む第2の溶液と接触するように配置することにより、前記中間種を移動させて前記吸収または拡散金属層を少なくとも部分的に除去するサブステップと
を含むサブステップを含んでいてよい。
− 前記ステップIIの間、前記機能化層または表面が、前記競合する化学的または生物学的種と共に分析対象の化学的または生物学的種を含む溶液と接触するように配置されることが可能であり、2つの種の一方が金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされ、それにより、連続または不連続な吸収または拡散金属層であって、その有効厚さが前記競合する化学的または生物学的種の濃度と、分析対象の前記化学的または生物学的種の濃度との間の比に依存する、連続または不連続な吸収または拡散金属層が得られる。
従来、材料が波長λを透過させるのは、この波長での屈折率の虚部が0.01未満、または実際には0.001未満、または実際には0.0001未満のときであると考えられる。
本発明の他の特徴、詳細事項および利点は、例示的に示す添付図面を参照しながら以下の記述を精査すれば明らかになろう。
2つの半無限媒質間の薄層からなる構造である。 本発明の各種実施形態による吸収反射防止層の屈折率の実部と虚部の関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による吸収反射防止層の屈折率の実部と虚部の関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による吸収反射防止層の屈折率の実部と虚部の関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による吸収反射防止層の屈折率の実部と虚部の関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと屈折率の虚部との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと屈折率の虚部との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと屈折率の虚部との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと、反射率(4A〜4D)または吸収率(4E、4F)との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと、反射率(4A〜4D)または吸収率(4E、4F)との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと、反射率(4A〜4D)または吸収率(4E、4F)との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと、反射率(4A〜4D)または吸収率(4E、4F)との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと、反射率(4A〜4D)または吸収率(4E、4F)との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による、吸収反射防止層の厚さと、反射率(4A〜4D)または吸収率(4E、4F)との関係を示すグラフである。 本発明の各種実施形態による支持体により得られる、試料の観察におけるコントラストを示すグラフである。 本発明の各種実施形態による支持体により得られる、試料の観察におけるコントラストを示すグラフである。 本発明の一実施形態による支持体により得られる、厚さが異なる試料の観察におけるコントラストを示すグラフである。 本発明の一実施形態による支持体により得られる、厚さが異なる試料の観察におけるコントラストを示すグラフである。 本発明の一実施形態によるコントラスト増幅支持体の適用である。 本発明の各種実施形態による、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法である。 本発明の各種実施形態による、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法である。 本発明の各種実施形態による、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法である。 本発明の各種実施形態による、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法である。 本発明の各種実施形態による、少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法である。 吸収基板を実現する、例示的であるが本発明に関連しないコントラスト増幅支持体である。
図1に、光ビームが発せられる透明且つ実屈折率nにより特徴付けられるいわゆる入射半無限媒質MI、複素屈折率N=n−jk(「j」は虚数単位)により特徴付けられる厚さeの吸収層CA、および光が発せられる側の反対側の層にあり、透明且つ実屈折率n<nにより特徴付けられるいわゆる出射半無限媒質MEを含む構造への垂直入射光により波長(真空内の)λの単色の平行な光ビームFL(局所的に平面波と見なし得る)を示す。入射媒質は特に、例えば、上に層CAが堆積されたガラス製の基板であってよい。実屈折率がnまたは複素屈折率がN=n−jkである試料(図示せず)が層CAの出射媒質側に堆積されていてよい。上述のように、試料を観察するコントラストを最大化すべく、試料が存在しない状態では入射媒質MI/層CA/出射媒質MEアセンブリの反射率を相殺することが必要である。
図1に示す種類の構造(2つの半無限媒質の間に存在する厚さeの層)の複素反射係数はエアリーの式により示される。
Figure 0006835585
ここで、rijは界面i−j(j=0、1または3、「0」は入射媒質、「1」は層CA、「3」は出射媒質に対応する)におけるフレネル係数、β=2πncosθ/λは前記層に関連付けられたフェーズ係数、θは層内の屈折角である。最初に、実屈折率がnの透明層を考え、吸収層の場合の一般化は後で扱うことにする。また最初に、垂直でなくてもよい入射を考察する。
「p」(TM)および「s」(TE)分極のフレネル係数は次式:
Figure 0006835585
である。
反射防止条件はr013=0に対応し、透明媒質(実屈折率)の場合、2系統の解決策を示す。すなわち、
− n=n
のときのみ存在して、mは整数である
Figure 0006835585
である、いわゆる「λ/2」層、および

Figure 0006835585
(pは整数である)である、いわゆる「λ/4」層である。
媒質1(層CA)が吸収であって、屈折率N=n−jkが複素数である場合、Θで示す屈折角およびフェーズ係数Bもまた複素数である。この場合、r013=0はr01,s13,p=r01,p13,sであることを必要とする。この等式が真であるのは以下の3つの条件、すなわちΘ=0(垂直入射)、N =n (層無し)、またはn =n (同一の入射および出射媒質)のうち1つが満たされる場合のみである。従って、任意の極端な媒質の場合、反射防止条件は垂直入射光によってのみ満たされ得る。r011,p=−r01,s且つr13,p=−r13,sを知れば、式(2)は次式となる。
Figure 0006835585
式(3)は超越数であって解析的な解は存在しない。しかし、極端な場合、すなわち強吸収層および弱吸収層に対応する解を見つけることは可能である。
強吸収の場合、光は吸収が強くて厚い層を通過して伝搬しないため、e<<λであると仮定でき、従って|B1|<<1であり、Bの2次のオーダーまで
Figure 0006835585
と書くことができ、ここでδ=(2πn/λ)eである。方程式の実部および虚部を分離して、「縮小された」変数
Figure 0006835585
を用いることは有用である。式(3)は従って以下の系の形式で書くことができる。
Figure 0006835585
δは正実数でなければならない前提で、条件n>n(「反転形状」)を得る。n=1.52およびn=1.34とすれば、従って生体フォトニクスで慣習的に使用されるガラス/水の場合に対応して、ナノメートルのオーダーの厚さe=(λ/2π)(n−n)/2nが見つかり、従って最初の仮定が検証される。κ、従ってkがゼロに収束するにつれて式(4a)が従来の屈折率条件に収束することは興味深く、且つ予想外であった。数値的結果との比較により、式(4a)が、強吸収層の仮定の下で推論されたにもかかわらず、任意のκの値に対して概ね成り立つことが検証可能になる。一方、式(4b)に基づいて得られたeの値はλ/4nに収束せず、従って式(4b)は一般的に成立しない。
弱吸収の場合、B=π/2−ε(εは複素変数である)とし、従って
Figure 0006835585
となる。次いでκの2次項を
Figure 0006835585
と書くことができる。
実際には、上述のように、式(4a)がκの任意の値に対する満足な近似を与えるため、有効領域が極めて限定的である式(5a)は殆ど関心対象でない。これを関係ν(κ)を表す図2Aに示す。式(3)の数値解および式(4a)に対応する曲線は区別できない。図2Bは、数値解に関する式(4a)の誤差を百分率で示し、誤差が極めて小さいことが分かり得る。図2Cおよび2Dは図2Aを拡大しており、弱吸収領域をより詳細に調べることができる。これらの図において、曲線c4aは強吸収に対して有効な式(4a)に、c3は式(3)の数値解に、c5aは式(5a)に、およびc5a’は1次まで切り捨てられた式(5a)に各々対応している。式(5a)およびその1次まで切り捨てられたバージョンはκの低い値に対して式4aよりも良い近似を与えるが、式(4a)は全ての場合で依然としてかなり良い近似を与えるのに対し、式(5a)は急激に妥当性を失うことが分かり得る。
図3Aおよび3Bに関係δ(κ)を示す。曲線cNは式3の数値解に対応し、c4bは大きいkに対して有効な式4bに対応し、c5bは式5bに対応している。この場合、大きいkに対して得られた解が小さいκに対して受容可能な近似を与えないことが分かり得る。一方、曲線c6bに対応する半経験的な式が存在し、全ての場合を満たすことが分かる。図3Cに数値解に関する半経験的解の誤差を示しており、決して3.5%を上回ることがない。半経験的解は以下の式6bで示される。式6aは単に式4aであって、上で示したように一般的であると考えられ、小さいκに対しても5bを代替して用いてよい。
Figure 0006835585
ここで、
Figure 0006835585
である。
図4Aはκの各種の値に対する反射率曲線をδの関数として示し、図4Bは反射率曲線を1/δの関数として示す。1/δはλに比例し、図4Bは所与の基板の反射率が照射波長の関数として変化する様子を示す。波長λで動作すべく寸法決めされた吸収反射防止層が、波長λ’>λでも反射を減衰させる点に注意されたい。これにより、これらの支持体は多色照射においても使用可能になる。後者の場合、吸収反射防止層を寸法決めは、照射に用いる最小波長に関して実行することが適している。
図4Cおよび4Dは各々図4Aおよび4Bの拡大図であり、低反射率の領域をより具体的に示す。図4Eおよび4Fは各々、κの各種の値に対する吸収率曲線をδおよび1/δの関数として示す。
図4A〜4Dは、屈折率の虚部κの減少幅が大きいほど、吸収反射防止層の厚さδの減少幅が小さくなることを示す。換言すれば、吸収率が大きいほど層が薄くなければならない。曲線4E、4Fから、式6bで示される厚さδの吸収率が事実上κとは独立しており、約0.1に等しいことが分かる。
G.MoiseevおよびS.V.Vinogradovは上述の論文において、非反転構成(照射は屈折率がより低い媒質から発せられる)に用いる吸収反射防止層を調べ、層の屈折率の虚部が大きいほど、厚さが大きくなり、吸収率が屈折率と共に急増することを発見した。これらの条件下では、反射防止層が存在できるのはkの値が極めて小さい場合のみであり、吸収率が極めて高い反射防止層をコントラスト増幅層として用いることは不可能であろう。この問題は、ここで考察する場合には生じない。
図5A〜5Dにより、上述のような吸収反射防止層を含む支持体により試料を観察可能なコントラストを調べることができる。ガラス基板、水(n/n=1.14)からなる出射媒質、および屈折率がn=1.46の透明層を含む試料を考察する。図5Aに、図4A〜4Fで考察したのと同じκの値に対する薄くされた厚さδの関数として、厚さe=1nmの試料を観察する際のコントラストCの値、すなわちκ=0(本発明の一部ではない非吸収反射防止層)、0.1、0.3、0.6、1および2を示す。図5Bに、コントラストの値を1/δの関数として示す。
注目すべきは、
− 非吸収層のみがコントラスト(明るい背景上の暗い試料)の真正な反転を可能にし、層κ=0.1がそのような反転を極めて低いコントラストレベルのみで可能にし、
− κが高いほど、コントラストスパイクの幅、従って反射防止層の薄くされた厚さの許容範囲が低くなる。厚さが1ナノメートルの観察対象物体の場合、δが最適値から±10%逸脱しても、κ=0.1に対するコントラストは受容可能(0.4)なままであるが、κ=1に対しては許容範囲が1%を上回るのは困難なことである。
図5Cおよび5Dから試料の厚さの影響を調べることができ、各々κ=0.1、e=1 nm、0.1nmおよび0.01nm(これらは、コントラスト増幅層の表面に堆積された、まばらな原子または分子からなり得る試料の有効厚さである)の場合のコントラストCの値をδおよび1/δの関数として示す。コントラストCが常に値1に到達できるが、厚さeが薄いほどδの許容範囲が減少する点に注意する。具体的には、δは照射波長に依存するのと同程度に吸収反射防止層の厚さに依存するため、極めて微細な試料の場合、波長を微調整してコントラストを最大化することが有利であろう。
δが最適値よりも僅かに大きくなるように照射波長および/または吸収反射防止層の厚さを選択し、その結果、コントラストが物体の厚さの単調関数になって物体のマッピングが可能になることもまた有利であることができる。
図6に、入射媒質として機能する例えばガラス製の透明基板SSを含み、前記基板に反射防止吸収層CAが堆積されていて、例えば水溶液または空気等の出射媒質MEに接触しているコントラスト増幅支持体SACを示す。試料ECHが、出射媒質側の層CEの一部に堆積されている。基板は、反射防止層のレベルでレンズLEにより集光された、ここで考察する例ではガウス分布をなすレーザービームである光ビームFLの垂直入射光により照射される。ガウス分布のビームは、その焦点領域(「ビームウエスト)で平坦な位相面を示すため、局所的に平面波(上述の理論展開で考察したケース)と見なし得ることが実際に知られている。半透明の鏡MSTが、基板SS/層CA/試料ECH/出射媒質MEのアセンブリにより反射された光の一部を物体LOに向けて逸脱させることで前記試料の観察を可能にする。観察は、スキャニングにより、または「全視野」に行なうことができる。一変型形態として、平行な光ビームまたはテレセントリック視認システムを利用することができる。入射光ビームの空間コヒーレンスおよびその分極状態は重要でない点に注意されたい。一方、強度コントラストを観察しようとする場合、狭帯域照射を用いることが適している。多色照射から、色ほど強度が高くないコントラストが生じる(試料は背景とは異なる色、および試料の厚さに応じて異なる色で観察される)。
図6の構成において、レンズLOおよびLEは交換可能である。更に、基板の表面での寄生反射は、油剤への含浸、表面と裏面との間の斜角の存在、空間フィルタリング、従来の反射防止処理等の技術により効果的に減衰させることができる。
図6に示す種類のコントラスト増幅支持体の設計は以下のように進めることができる。すなわち、
− 最初に、照射波長(または照射が多色の場合、最小照射波長)λを、考察する用途または各種の技術的制約の関数として決定する。
− その後、基板の構成を目的とする第1の材料、および「周囲媒質」または「出射媒質」の構成を目的とする材料を選択する。多くの場合、周囲媒質の選択は考察する用途により決定される(一般に生物学的用途では水溶液)、基板を構成する材料の選択は、技術的考察および波長λにおける制約n<nによりなされる。多くの場合、ガラス製基板は空気(比n/nは1.45〜1.7)または水(比n/nは1.1〜1.3)からなる周囲媒質と共に選択される。
− 次に、式6aを用いて、吸収反射防止層を構成する材料の屈折率の実部と虚部とを結び付ける関係を決定する。次いでこの関係を満たす材料が選択または設計される。例えば、透明な出発原料、例えばポリマーを多様な技術的考察の関数として選択することが可能であり、課されたデータとして材料の屈折率の実部をとり、不純物(染料、ナノ粒子...)を添加することにより式6aを満たすべく前記屈折率の虚部を変更する。
− 最後に、式6b(または特定のケースを構成する式4bまたは5bの一方)を適用することにより前記層の厚さを決定する。
その後、スピンコーティング、浸入コーティング、ロールコーティング、堆積または蒸発によるコーティング、化学または物理蒸着、イオン注入、電解析出等の従来技術により支持体の製造を行う。
吸収反射防止層は、金属(特に金)、半導体、非金属導体、顔料または染料を含むポリマー製、色中心を含む無機(鉱物)材料製等であってよい。吸収反射防止層の製造に適した半導体材料のうち、ゲルマニウム(例えば354nmの近紫外線(UV)での適用)、TiO(同じく近UV)、ケイ化モリブデン、ケイ化ニッケル、またはケイ化チタン(可視領域)、ケイ化タングステン(近赤外線または近UV)、ケイ化ジルコニウム(可視領域または近UV)、タンタルまたはバナジウム(可視領域)等が挙げられ得る。材料は金属ナノ粒子を含んでいてもよい。材料は磁性的であってよく、これは同じく磁性的である試料の研究において関心対象である。金属または非金属導体層を使用することにより、制御された電位差を試料に印加できるようになり、および/または「電気化学的画像化」を実行して電着、腐食、触媒作用等の現象を研究することが可能になる。特に興味深い変型形態は、吸収反射防止層が、例えば基板表面へのイオン注入により不純物が注入された層であるモノリシックな支持体を作成するものである。そのような基板は、層を損なう危険無しに洗浄して再利用することができる。「吸収」反射防止層は必ずしも本来の意味で吸収的である必要はない。一変型形態として、層は拡散層であってよく、拡散が吸収を「模倣」し、複素屈折率により同様にモデル化することが可能である。
上述のようなコントラスト増幅基板はまた、化学的または生物学的種の検出および/または分析用のバイオチップの製造を可能にする。例えば、図7に示すように、コントラスト増幅層CAの上に機能化層CFを堆積させることが可能である。機能化層は、検出対象の化学的または生物学的種ECDを含む溶液S、例えば水と接触するように配置される。種は機能化層により固定され、観察対象の試料を構成する追加的な薄層CEを形成する。実際には、バイオチップの場合、いくつかの異なる機能化パッドが堆積されることで異なる化学的または生物学的種を選択的に固定することが可能になる。バイオチップを顕微鏡で観察することにより、上述の条件下で、溶液内に実際に存在する種を容易に識別することができる。特定の実施形態において、選択的に固定する化学的機能およびコントラスト増幅の光学的機能の両方を同一の層で実行することができる。
好ましくは、パッドの外側に、前記溶液に含まれる任意の化学的または生物学的種の固定(「化学的不動態化」)を防止する不動態化層を設けることも可能である。層は、例えば金の場合はチオールにより機能化された例えばポリエチレングリコール、フッ化ポリマー、またはフッ化アルキルを用いることが可能である。不動態化層は、パッドの製造後に蒸気相または液相で堆積することができる。一変型形態または補足例として、パッドに対応してのみ存在する(または最適厚さを示す)不連続な吸収反射防止層を用いることが可能であり、この場合「光学的不動態化」と呼ばれる。
化学的または生物学的種を検出または堆積させようとする場合、機能化層CFのみが設けられた基板を用いることも可能である。この場合、吸収反射防止層は、前記層CFにより固定されたそれらの種からなる。
図7Bに示す第1の実施形態によれば、機能化層は、金属ナノ粒子NPMによりマーキングされ、且つ金属層CMを形成すべく前記機能化層に固定可能な検出または分析対象の化学的または生物学的種ECDを含む溶液と接触するように配置される。層は実際には不連続であってよいが、可視光の波長のスケール(数百ナノメートル)では連続的に見え、有効厚さがナノ粒子の直径の数分の一であってよく、有効な屈折率を有している。観察は上述の仕方で行われ、金属層は従ってコントラスト増幅層および試料の両方として機能すべく構成されている。所定の時間にわたる溶液と機能化層との接触の間、金属層の厚さは化学的または生物学的種の含量に依存するため、分析の実行が可能になる。
一変型形態として、金属ナノ粒子を吸収マーカー、例えば蛍光分子(蛍光はそのままでは利用されないが、蛍光分子は強吸収である点に注意されたい)で代替してもよい。
第1の実施形態の短所は、マーキングされた化学的または生物学的種の検出しかできない点である。以下の実施形態にはこの短所が見られない。
第2の実施形態(図7C)によれば、機能化層は、いわゆる中間層CIを形成すべく、検出または分析対象の化学的または生物学的種を含む第1の溶液S1と接触するように配置される。中間層は観測可能ではない。中間層は、露出するよう、金属ナノ粒子(または吸収マーカー)によりマーキングされ、且つ金属(または吸収)層CMを形成すべく前記中間層に固定可能ないわゆる補用の化学的または生物学的種ECAを含む第2の溶液S2と接触するように配置される。
この技術は、検出対象の種の量が機能化層を飽和させるには不充分である一方、補用種は過度に存在する場合、定量的であり得る。この場合、実際に、層CMの有効厚さおよび有効屈折率、従って観察される発光信号の強度は検出対象種の濃度に依存する。
第2の実施形態が使用できるのは、検出対象の化学的または生物学的種が少なくとも2つの活性部位を示す場合のみであり、従って例えばハプテンには適用できない。更に、実装がかなり煩雑である。
以下の実施形態には上述の短所が見られない。
第3の実施形態(図7D)によれば、機能化層は、金属ナノ粒子または吸収マーカーによりマーキングされ、且つ前記連続または不連続な金属または吸収層(CM)を形成すべく前記機能化層に固定可能な化学的または生物学的種、いわゆる中間種ECIを含む第1の溶液(S1)と接触するように配置される。その後、このように得られたアセンブリは、前記中間種の前記機能化層との親和性よりも大きい前記機能化層との親和性を示す検出または分析対象の化学的または生物学的種を含む第2の溶液(S2)と接触するように配置される。従って、中間種は移動させられて前記金属または吸収層は少なくとも部分的に除去され、このことは発光信号の増大により示される。この技術は、対象種の検出には定性的なレベルで、分析には定量的なレベルで適用できる。本アプローチの利点は、その2段階のステップが分離でき、層CMが既に形成された状態で、支持体を化学的または生物学的センサとして使用可能な状態で提供できる点である。
第4の実施形態(図7E)によれば、前記機能化層は、前記競合する化学的または生物学的種ECCと共に分析対象の化学的または生物学的種を含み、2つの種の一方(好ましくは競合する種)が金属ナノ粒子または吸収マーカーによりマーキングされている溶液Sと接触するように配置される。従って、分析対象の前記化学的または生物学的種の濃度に対する前記競合する化学的または生物学的種の濃度の比に依存する有効厚さおよび有効屈折率を有する金属または吸収層CMが得られる。他の実施形態と同様に、信号は有効厚さおよび有効屈折率に依存する。
化学的または生物学的種は、例えば、抗体、抗原、タンパク質、DNA、RNA、糖類、酵素、金属イオン(特に水監視への応用)、芳香族分子、炭化水素等の有機分子、微生物等であってよい。
マーカーが金属または吸収でなく、拡散型であってもよい。実際に、上述のように、拡散の効果を虚部を有する屈折率で表すことができる。従って、シリカまたはアルミナの鉱物ナノ粒子、デンドリマー、ラテックスナノ粒子、ベシクル、またはウイルス等の誘電ナノ粒子が金属ナノ粒子と同じ役割を果たすことができる。
上述の検出または分析技術はまた、上述のように機能化層がコントラスト増幅層に堆積されている場合にも適用される。機能化層、および適当であればコントラスト増幅層はパッドとして構築することができ、これらのパッドの外側の表面は上述のように化学的におよび/または光学的に不動態化することができる。
ここまで、「裏面」または「反転形状」と呼ばれる、周囲媒質の屈折率よりも大きい(実)屈折率を示す基板を通して照射および観察がなされる場合のみを考察してきた。一変型形態として、「表面」構成での動作、すなわち、周囲媒質を通して照射および観察を実行することも可能である。この場合、基板は前記周囲媒質の屈折率よりも低い屈折率を示す筈である。すなわちn<nである。
別の一般化は、吸収入射媒質および/または出射媒質を考察するものである。最も興味深いのは、入射媒質が透明且つ出射媒質が吸収であるケースであり、実際、入射媒質が強吸収であれば、光はその内部を伝搬して反射防止層に達することができない。
式(3)から出発して、κ>0.15の場合にnをN=n−jkで代替すれば次式が得られる。
Figure 0006835585
ここで、
Figure 0006835585
である。
式7bにおいて、κの値が高ければδの符号を反転できることを指摘する。従って、吸収反射防止層を同じく吸収である基板に堆積させて、前記基板の反対側の面を通して照射する(「表面」構成)ことが可能である。これは例えば半導体基板に堆積された金属層または逆であってもよく、例えばマイクロエレクトロニクスに用途を有している。この種の層はR.M.A.Azzamらによる上述の論文に記述されている。M.A.Katsらによる上述の論文は更に、同様であるが反射を完全に相殺しない層を記述している。しかしこれらの刊行物はそのような層に対する一般的且つ体系的な設計プロセスを一切提供していない。
上に述べた理論により、透明基板の場合について上で述べたように、但し式6a/6bではなく式7a/7bを用いて、吸収基板に堆積された吸収層を含むコントラスト増幅支持体の設計および製造が可能になる。
式7aおよび7bにより記述される吸収基板SAおよび吸収反射防止層CA’を含むこの種のコントラスト増幅支持体SAC’を図8に示す。観察は、平行な光ビームFLまたは図6の場合のように集光されたガウス分布のレーザービームにより、「表面」で(基板から層の反対側で)なされる。層CAに関して言及した材料はまた、層CA’を生成すべく用いてもよい。層CA’もまた、機能化することも、または任意選択的に、特に検出または分析用途のため、マーキングされて機能化層により固定された化学的または生物学的種により生成することもできる。

Claims (20)

  1. 試料観察用のコントラスト増幅支持体(SAC)において、少なくとも1つの吸収層(CA)を担持する透明基板(MI、SS)を含み、前記基板を通過する照射波長λの垂直入射光により照射される場合に前記層が反射防止層として機能するように前記吸収層の複素屈折率N=n−jkおよび厚さが選択され、前記基板の反対側にある前記層の面が、前記基板の屈折率n未満である屈折率nを有する透明ないわゆる周囲媒質(ME)と接触しており、
    前記照射波長λにおいて、前記基板の前記屈折率n 、前記層の前記複素屈折率N =n −jk の実部および虚部、並びに前記層の前記厚さe は、以下の条件:
    Figure 0006835585

    を満たし、ここで、
    Figure 0006835585

    であり、n およびk の許容範囲が5%以下であり、且つe の許容範囲が30%以下である、コントラスト増幅支持体(SAC)。
  2. 前記基板の前記屈折率n、前記層の前記複素屈折率N=n−jk、および前記層の前記厚さeは更に、前記許容範囲および前記照射波長λに対して、以下の条件:
    Figure 0006835585
    を満たし、ここで、
    Figure 0006835585
    である、請求項に記載のコントラスト増幅支持体。
  3. 前記基板がガラス製である、請求項1または2に記載のコントラスト増幅支持体。
  4. 比n/nが1.1〜1.3の間にあるように選択される、請求項に記載のコントラスト増幅支持体。
  5. 比n/nが1.45〜1.7の間にあるように選択される、請求項に記載のコントラスト増幅支持体。
  6. 前記吸収層が、
    − 前記基板に注入された不純物の層、
    − 金属層、
    − 半導体層、
    − 金属/半導体複合合金、
    − 磁気吸収層、
    − 金属ナノ粒子の層、
    − 非金属導体層、
    − 拡散層、
    − 顔料または染料を含むポリマーまたはフォトレジスト層、
    − 色中心を含む鉱物誘電層、
    − ナノ粒子が分散された連続相を含む合成ハイブリッド層、および
    − グラフェン層または機能化グラフェン層
    のうちから選択される、請求項1〜のいずれか一項に記載のコントラスト増幅支持体。
  7. 前記吸収層が、少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な少なくとも1つの機能化層を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載のコントラスト増幅支持体。
  8. 前記基板が、少なくとも1つの化学的または生物学的種(ECI、ECC、ECD)を固定可能な機能化表面(CF)を示し、前記吸収層が、前記機能化表面により固定された前記少なくとも1つの化学的または生物学的種により形成されている、請求項1〜のいずれか一項に記載のコントラスト増幅支持体。
  9. 前記吸収層が80%以上の透過率を示す、請求項1〜のいずれか一項に記載のコントラスト増幅支持体。
  10. 少なくとも1つの吸収層(CA)を担持する透明基板(MI、S)を含むコントラスト増幅支持体を製造する方法であって、前記支持体の設計フェーズ、およびそのように設計された前記支持体のハードウェア製造フェーズを含む方法において、前記設計ステップが以下のステップ:
    i)照射波長λを選択するステップと、
    ii)前記基板を構成し、且つ前記照射波長λで実屈折率n を示す材料を選択するステップと、
    iii)前記基板の反対側にある前記層と接触し、且つ前記照射波長λで実屈折率n <n を示す周囲媒質(ME)を選択するステップと、
    iv)前記基板の反対側にある前記層の面が前記周囲媒質と接触している状態で、前記基板を通過する前記照射波長λの垂直入射光により照射される場合に前記層が反射防止層として機能するように前記層の名目複素屈折率N =n −jk および名目厚さe を決定するステップと、
    v)前記吸収層を構成し、且つ前記照射波長λで実部および虚部が前記名目複素屈折率の実部および虚部と少なくとも5%以下の許容範囲で一致する複素屈折率を示す材料を選択するステップと
    を含み、
    前記ステップiv)の間、前記名目複素屈折率および前記名目厚さが以下の条件:
    Figure 0006835585
    を満たして選択され、ここで、
    Figure 0006835585
    である、方法。
  11. 少なくとも1つの吸収層(CA)を担持する透明基板(MI、S)を含むコントラスト増幅支持体を製造する方法であって、前記支持体の設計フェーズ、およびそのように設計された前記支持体のハードウェア製造フェーズを含む方法において、前記設計ステップが以下のステップ:
    i)照射波長λを選択するステップと、
    ii)前記基板を構成し、且つ前記照射波長λで実屈折率n を示す材料を選択するステップと、
    iii)前記基板の反対側にある前記層と接触し、且つ前記照射波長λで実屈折率n <n を示す周囲媒質(ME)を選択するステップと、
    iv)前記基板の反対側にある前記層の面が前記周囲媒質と接触している状態で、前記基板を通過する前記照射波長λの垂直入射光により照射される場合に前記層が反射防止層として機能するように前記層の名目複素屈折率N =n −jk および名目厚さe を決定するステップと、
    v)前記吸収層を構成し、且つ前記照射波長λで実部および虚部が前記名目複素屈折率の実部および虚部と少なくとも5%以下の許容範囲で一致する複素屈折率を示す材料を選択するステップと
    を含み、
    前記層の前記名目複素屈折率および前記名目厚さが、前記照射波長λに対して、以下の条件:
    Figure 0006835585
    を満たすべく決定され、ここで、
    Figure 0006835585
    である、方法。
  12. 試料を観察する方法であって、以下のステップ:
    A.実屈折率nを有する第1のいわゆる入射透明媒質(MI、SS)と、実屈折率n<nを有する第2のいわゆる出射透明媒質(ME)との間にある、複素屈折率N=n−jkを示す厚さeの吸収層(CA)上に前記試料を堆積させるステップと、
    B.前記入射媒質を通過する少なくとも照射波長λの垂直入射光により前記試料を照射するステップと、
    C.同じく前記入射媒質を通して、このように照射された前記試料を観察するステップと
    を含む方法であって、
    前記吸収層が、以下:
    Figure 0006835585
    のような複素屈折率および厚さを示し、ここで、
    Figure 0006835585
    であり、n、nおよびkの許容範囲が5%以下であり、且つeの許容範囲が30%以下である、方法。
  13. 前記ステップAが、請求項1〜のいずれか一項に記載のコントラスト増幅支持体(SAC)であって、その基板が前記入射媒質を構成する、コントラスト増幅支持体(SAC)により実行される、請求項12に記載の方法。
  14. 20°以下の半開口角度を示す照射円錐を形成するように、前記試料を、平行または集光された光ビーム(FL)により少なくとも前記照射波長λで照射する、請求項12または13に記載の方法。
  15. 前記試料が、集光されたレーザービームにより少なくとも前記照射波長λで照射される、請求項13に記載の方法。
  16. 少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法であって、以下のステップ:
    I.少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な機能化層または表面(CF)を含む、請求項に記載のコントラスト増幅支持体(SAC)を用意するステップと、
    II.前記機能化層または表面を、検出対象の化学的または生物学的種を含む少なくとも1種類の溶液(S0、S0’、S1、S1’、S2)と接触するように配置するステップであって、前記種が、前記機能化層または表面に固定可能である、ステップと、
    III.前記基板を通過する少なくとも照射波長λの垂直入射光により前記コントラスト増幅支持体を照射するステップと、
    IV.同じく前記基板を通して、このように照射された前記コントラスト増幅支持体を観察するステップと
    を含む、方法。
  17. 少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法であって、以下のステップ:
    I.少なくとも1つの化学的または生物学的種を固定可能な機能化層または表面(CF)を担持する透明基板(SS)を用意するステップと、
    II.前記機能化層または表面を、金属ナノ粒子(NPM)あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされた化学的または生物学的種を含む少なくとも1種類の溶液(S0、S0’、S1、S1’、S2)と接触するように配置するステップであって、連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成するように、前記種が、前記機能化層または表面に直接、または1つ以上の他の化学的または生物学的種を介してのいずれかで固定可能であり、前記透明基板が、前記機能化層または表面(CF)およびこのように形成された前記吸収または拡散金属層と共に、請求項に記載のコントラスト増幅支持体を形成する、ステップと、
    III.前記基板を通過する少なくとも照射波長λの垂直入射光により前記コントラスト増幅支持体を照射するステップと、
    IV.同じく前記基板を通して、このように照射された前記コントラスト増幅支持体を観察するステップと
    を含む、方法。
  18. 前記ステップIIが以下:
    II−1)いわゆる中間層(CI)を形成するように、前記機能化層または表面を、検出または分析対象の前記化学的または生物学的種(ECD)を含む第1の溶液(S1)と接触するように配置するサブステップと、
    II−2)前記中間層を、金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされ、且つ前記連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成すべく前記中間層に固定可能ないわゆる補用の化学的または生物学的種(ECA)を含む第2の溶液(S2)と接触するように配置するサブステップと
    を含むサブステップを含む、請求項17に記載の少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法。
  19. 前記ステップIIが以下:
    II−1’)前記機能化層または表面を、金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされ、且つ前記連続または不連続な吸収または拡散金属層を形成すべく前記機能化層に固定可能な化学的または生物学的種、いわゆる中間種(ECI)を含む第1の溶液(S1’)と接触するように配置するサブステップと、
    II−2’)前記機能化層または表面および前記吸収または拡散金属層を、前記中間種の前記機能化層または表面との親和性よりも大きい前記機能化層または表面との親和性を示す検出または分析対象の前記化学的または生物学的種を含む第2の溶液(S2)と接触するように配置することにより、前記中間種を移動させて前記吸収または拡散金属層を少なくとも部分的に除去するサブステップと
    を含むサブステップを含む、請求項17に記載の少なくとも1つの化学的または生物学的種を検出または分析する方法。
  20. 前記ステップIIの間、前記機能化層または表面が、競合する化学的または生物学的種(ECC)と共に分析対象の前記化学的または生物学的種(ECD)を含む溶液(S0’)と接触するように配置され、前記2つの種の一方が金属ナノ粒子あるいは吸収または拡散マーカーによりマーキングされ、それにより、連続または不連続な吸収または拡散金属層であって、その有効厚さが前記競合する化学的または生物学的種の濃度と、分析対象の前記化学的または生物学的種の濃度との間の比に依存する、連続または不連続な吸収または拡散金属層が得られる、請求項17に記載の少なくとも1つの化学的または生物学的種を分析する方法。
JP2016548422A 2013-10-18 2014-10-17 試料観察用のコントラスト増幅支持体、その製造方法および用途 Active JP6835585B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1360192 2013-10-18
FR1360192A FR3012131B1 (fr) 2013-10-18 2013-10-18 Supports amplificateurs de contraste pour l'observation d'un echantillon, leur procedes de fabrication et leurs utilisations
PCT/EP2014/072307 WO2015055809A1 (fr) 2013-10-18 2014-10-17 Supports amplificateurs de contraste pour l'observation d'un echantillon, leur procedes de fabrication et leurs utilisations

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016538570A JP2016538570A (ja) 2016-12-08
JP6835585B2 true JP6835585B2 (ja) 2021-02-24

Family

ID=49876867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016548422A Active JP6835585B2 (ja) 2013-10-18 2014-10-17 試料観察用のコントラスト増幅支持体、その製造方法および用途

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10444485B2 (ja)
EP (1) EP3058345B1 (ja)
JP (1) JP6835585B2 (ja)
CN (1) CN105992943B (ja)
FR (1) FR3012131B1 (ja)
WO (1) WO2015055809A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2993987B1 (fr) * 2012-07-26 2016-12-09 Centre Nat Rech Scient Procedes optiques pour l'observation d'echantillons et pour la detection ou le dosage d'especes chimiques ou biologiques.
FR3045826A1 (fr) * 2015-12-17 2017-06-23 Commissariat Energie Atomique Supports amplificateurs de contraste utilisant un materiau bidimensionnel
FR3050275B1 (fr) 2016-04-13 2020-11-13 Commissariat Energie Atomique Procede et appareil de positionnement d'un micro- ou nano-objet sous controle visuel
WO2023172513A1 (en) * 2022-03-07 2023-09-14 Trustees Of Boston University Method and device for high-quality imaging of embedded tissue sections

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3941797A1 (de) * 1989-12-19 1991-06-20 Leybold Ag Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
US5091244A (en) * 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5812405A (en) * 1995-05-23 1998-09-22 Viratec Thin Films, Inc. Three variable optimization system for thin film coating design
US6130745A (en) * 1999-01-07 2000-10-10 Biometric Imaging, Inc. Optical autofocus for use with microtiter plates
EP1495326A1 (de) 2002-04-12 2005-01-12 Micronas GmbH Verfahren zum immobilisieren von molekülen auf oberflächen
FR2841339B1 (fr) * 2002-06-19 2004-09-10 Centre Nat Rech Scient Supports anti-reflechissants et supports amplificateurs de contraste pour la lumiere polarisee en reflexion
FR2872910B1 (fr) * 2004-07-07 2006-10-13 Nanoraptor Sa Composant optique pour l'observation d'un echantillon nanometrique, systeme comprenant un tel composant, procede d'analyse mettant en oeuvre ce composant, et leurs applications
JP2006047572A (ja) 2004-08-03 2006-02-16 Olympus Corp 標本保持用透明部材とカバーガラスと狭持標本体
TWI375114B (en) * 2004-10-22 2012-10-21 Shinetsu Chemical Co Photomask-blank, photomask and fabrication method thereof
CN100538405C (zh) * 2005-09-30 2009-09-09 中国乐凯胶片集团公司 一种防眩光薄膜及其制备方法
KR20080070349A (ko) * 2007-01-26 2008-07-30 동우 화인켐 주식회사 방현성 하드코팅액 및 이를 사용한 고경도 하드코팅 필름
JP2008267842A (ja) * 2007-04-17 2008-11-06 Yokogawa Electric Corp 生物観察容器並びにこれを用いる生物顕微鏡及び生物観察装置
KR20100127954A (ko) * 2009-05-27 2010-12-07 도레이첨단소재 주식회사 반사방지필름 및 이를 포함하는 편광판
KR101256554B1 (ko) * 2010-02-19 2013-04-19 주식회사 엘지화학 눈부심 방지 필름용 코팅층 및 이를 포함하는 눈부심 방지 필름
WO2011147879A1 (en) 2010-05-27 2011-12-01 Episentec Ab Improved method of sensor measurement
CN104272089B (zh) 2012-03-05 2017-05-10 松下知识产权经营株式会社 传感器设备
FR2993987B1 (fr) * 2012-07-26 2016-12-09 Centre Nat Rech Scient Procedes optiques pour l'observation d'echantillons et pour la detection ou le dosage d'especes chimiques ou biologiques.

Also Published As

Publication number Publication date
EP3058345A1 (fr) 2016-08-24
CN105992943A (zh) 2016-10-05
FR3012131B1 (fr) 2018-01-19
FR3012131A1 (fr) 2015-04-24
JP2016538570A (ja) 2016-12-08
CN105992943B (zh) 2020-03-20
WO2015055809A1 (fr) 2015-04-23
US20160299328A1 (en) 2016-10-13
US10444485B2 (en) 2019-10-15
EP3058345B1 (fr) 2021-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Tabatabaei et al. Optical properties of silver and gold tetrahedral nanopyramid arrays prepared by nanosphere lithography
Miao et al. High-sensitivity nanophotonic sensors with passive trapping of analyte molecules in hot spots
Huang et al. based flexible surface enhanced Raman scattering platforms and their applications to food safety
US20150126393A1 (en) Nanostructured arrays on flexible polymer films
ES2949297T3 (es) Estructura de guía de ondas
JP6835585B2 (ja) 試料観察用のコントラスト増幅支持体、その製造方法および用途
Ctistis et al. Optical transmission through hexagonal arrays of subwavelength holes in thin metal films
US11635367B2 (en) Contrast-amplifying carriers using a two-dimensional material
Margueritat et al. Influence of the number of nanoparticles on the enhancement properties of surface-enhanced Raman scattering active area: sensitivity versus repeatability
Chen et al. Plasmonic-3D photonic crystals microchip for surface enhanced Raman spectroscopy
Ausserré et al. Wide-field optical imaging of surface nanostructures
Liu et al. Super‐aperture metrology: overcoming a fundamental limit in imaging smooth highly curved surfaces
Lertvachirapaiboon et al. Transmission surface plasmon resonance signal enhancement via growth of gold nanoparticles on a gold grating surface
JP2016535325A (ja) コントラスト増幅基板の製造方法
JP7189621B2 (ja) 光学顕微鏡の画像コントラスト増強
Mura et al. Nanostructured thin films as surface‐enhanced Raman scattering substrates
JP6294880B2 (ja) 試料を観察し、化学種または生物学的種を検出または計量するための光学的方法
Esmati et al. Flexible Plasmonic Paper Substrates as Surface-Enhanced Raman Scattering (SERS) Biosensors Enable Sensitive Detection of Sunitinib Malate Drug
Saigusa et al. Highly sensitive local surface plasmon resonance in anisotropic Au nanoparticles deposited on nanofibers
Jiang et al. Bidirectional phase retrieval: Protecting the imaging of cells and tissues from interference of noise on the carrier
Yao Nanoscale investigations of biomaterials using atomic force microscopy and enhanced raman spectroscopy
Marino et al. Optimization of fluorescence enhancement for silicon-based microarrays
Reilly III Plasmonic materials for optical sensing and* spectroscopy
Gentile et al. Plasmonics and super-hydrophobicity: A new class of nano-bio-devices
Zhu Signal processing in single molecule studies

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180710

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20181004

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190702

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200630

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20200924

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210105

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6835585

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250