JP6835128B2 - Protective film for photoresist - Google Patents

Protective film for photoresist Download PDF

Info

Publication number
JP6835128B2
JP6835128B2 JP2019071055A JP2019071055A JP6835128B2 JP 6835128 B2 JP6835128 B2 JP 6835128B2 JP 2019071055 A JP2019071055 A JP 2019071055A JP 2019071055 A JP2019071055 A JP 2019071055A JP 6835128 B2 JP6835128 B2 JP 6835128B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
photoresist
acid
protective film
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019071055A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019124958A (en
Inventor
良亮 舟津
良亮 舟津
泰史 川崎
泰史 川崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2019071055A priority Critical patent/JP6835128B2/en
Publication of JP2019124958A publication Critical patent/JP2019124958A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6835128B2 publication Critical patent/JP6835128B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、フォトレジスト用保護フィルムに関するものであり、例えば、プリント配線板製造時などに用いられるフォトレジスト用の保護フィルムとして好適に用いられる離型フィルムを提供するものである。 The present invention relates to a protective film for a photoresist, and provides, for example, a release film preferably used as a protective film for a photoresist used at the time of manufacturing a printed wiring board or the like.

従来、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートに代表されるポリエステルフィルムは、機械的強度、寸法安定性、平坦性、耐熱性、耐薬品性、光学特性等に優れた特性を有し、コストパフォーマンスに優れるため、各種用途に使用されている。 Conventionally, polyester films typified by polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate have excellent mechanical strength, dimensional stability, flatness, heat resistance, chemical resistance, optical characteristics, etc., and are excellent in cost performance. , Used for various purposes.

ポリエステルフィルムを使用する用途例の一つとして、プリント配線板製造時などに用いられるフォトレジスト用のフィルムが挙げられる。フォトレジストフィルムは、例えば、キャリアフィルム/フォトレジスト/保護フィルムの3層構成からなり、従来、保護フィルムとしてはポリエチレンフィルムが用いられてきた。フォトレジストフィルムはキャリアフィルム上に塗布したフォトレジスト層を乾燥後、保護フィルムをフォトレジスト層にラミネートして製造されるが、保護フィルムのラミネート時にフォトレジスト層は柔軟なため、保護フィルムの表面形状がフォトレジスト層に転写される。 One example of the use of a polyester film is a photoresist film used in the manufacture of printed wiring boards. The photoresist film has, for example, a three-layer structure of a carrier film / photoresist / protective film, and conventionally, a polyethylene film has been used as the protective film. The photoresist film is manufactured by drying the photoresist layer applied on the carrier film and then laminating the protective film on the photoresist layer. However, since the photoresist layer is flexible when laminating the protective film, the surface shape of the protective film. Is transferred to the photoresist layer.

近年、電子機器の小型化によりプリント配線板の高密度化が要求されており、絶縁基板表面に形成される導体パターンの更なる細線化が急務となっている。保護フィルムであるポリエチレンフィルムは厚さ振れやフィッシュアイによる凹凸が多く、これがフォトレジスト層に転写されてフォトレジスト層表面が凹凸となり、絶縁基板へのフォトレジスト層の密着不良を引き起こし、導体パターンの欠陥につながる。そのため、保護フィルムであるポリエチレンフィルムがプリント配線板の高密度化の妨げの一因となっている。 In recent years, the density of printed wiring boards has been required to be increased due to the miniaturization of electronic devices, and there is an urgent need to further thin the conductor pattern formed on the surface of the insulating substrate. The polyethylene film, which is a protective film, has many irregularities due to thickness runout and fish eyes, which are transferred to the photoresist layer and the surface of the photoresist layer becomes uneven, causing poor adhesion of the photoresist layer to the insulating substrate, and the conductor pattern. It leads to defects. Therefore, the polyethylene film, which is a protective film, is one of the factors that hinder the high density of the printed wiring board.

ポリエチレンフィルムは溶融押出しで成形するが、溶融粘度が高いために、押出し時に高性能フィルターでろ過することが極めて困難で、成形したシート中にフィッシュアイ等が存在する問題は不可避である。さらに、ポリエチレンフィルムの一般的な製膜法であるインフレーション法では、均一な厚みを得ることは困難であり、厚さ振れの問題も避けられない。したがって、保護フィルムとしてポリエチレンフィルムを用いてプリント配線板の更なる高密度化の要求に応えることは難しくなってきている。 Polyethylene film is molded by melt extrusion, but due to its high melt viscosity, it is extremely difficult to filter it with a high-performance filter during extrusion, and the problem of fish eyes and the like being present in the molded sheet is inevitable. Further, it is difficult to obtain a uniform thickness by the inflation method, which is a general film forming method for polyethylene films, and the problem of thickness runout is unavoidable. Therefore, it has become difficult to meet the demand for higher density of printed wiring boards by using a polyethylene film as a protective film.

ポリエチレンフィルムの代替としてポリエステルフィルムを保護フィルムに使用する方法(特許文献1)も提案されている。フォトレジスト層に対する離型性を確保するために離型層により離型性を付与している。しかしながら、離型層による離型性が十分でないため、ベースとなるフィルムに長鎖脂肪族ジカルボン酸等の共重合成分および/ またはポリオレフィンを配合して柔軟性を付与し、ポリエチレンフィルム並みの柔軟性をポリエステルフィルムに与える必要があった。しかし、ベースとなるフィルムに特殊な原料を使用するためにフィルムのコストアップの一因となる等の問題を有している。 A method of using a polyester film as a protective film as an alternative to the polyethylene film (Patent Document 1) has also been proposed. In order to ensure the releasability of the photoresist layer, the releasability is imparted by the releasable layer. However, since the releasability by the release layer is not sufficient, a copolymerization component such as a long-chain aliphatic dicarboxylic acid and / or a polyolefin is blended in the base film to impart flexibility, and the flexibility is comparable to that of a polyethylene film. Needed to be given to the polyester film. However, since a special raw material is used for the base film, there is a problem that the cost of the film is increased.

ポリエステルフィルムに離型性を付与する方法として、ポリエステルフィルム表面にポリジメチルシロキサンに代表されるシリコーン組成物を塗布積層する方法(特許文献2)なども提案されている。しかしながらシリコーン系離型フィルムは、シリコーン成分がフォトレジスト層に移行し、保護フィルムを剥がした後に絶縁基板へ貼り合わせる際に密着力が低下し、不良を引き起こすといった問題をかかえている。これらの観点から、フォトレジスト層に対して優れた離型性を有するポリエステルフィルムが求められている。 As a method of imparting releasability to a polyester film, a method of applying and laminating a silicone composition typified by polydimethylsiloxane on the surface of the polyester film has also been proposed (Patent Document 2). However, the silicone-based release film has a problem that the silicone component is transferred to the photoresist layer, and the adhesive force is lowered when the protective film is peeled off and then attached to the insulating substrate, causing defects. From these viewpoints, a polyester film having excellent mold releasability with respect to the photoresist layer is required.

特開平6−297565号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-297565 特開2009−143091号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-143091

本発明は、フォトレジスト用保護フィルムに関するものであり、例えば、プリント配線板製造時などに用いられるフォトレジスト用の保護フィルムとして好適に用いられる離型フィルムを提供するものである。 The present invention relates to a protective film for a photoresist, and provides, for example, a release film preferably used as a protective film for a photoresist used at the time of manufacturing a printed wiring board or the like.

本発明者らは、上記実情に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなる保護フィルムを用いれば、上述の課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies in view of the above circumstances, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be easily solved by using a protective film having a specific configuration, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を有し、当該離型層が炭素数が6以上の直鎖または分岐のアルキル基を有する化合物を含有し、当該ポリエステルフィルムに使用されるポリエステルが重合触媒としてチタン化合物又はゲルマニウム化合物を用いて形成されたものであることを特徴とするフォトレジスト用保護フィルムに存する。 That is, the gist of the present invention is that the polyester film contains a compound having a release layer on at least one side of the polyester film, and the release layer has a linear or branched alkyl group having 6 or more carbon atoms. It exists in a protective film for a photoresist, which is characterized in that the polyester used is formed by using a titanium compound or a germanium compound as a polymerization catalyst.

本発明の保護フィルムによれば、フォトレジスト用の保護フィルムとして、フォトレジスト層に対する離型性が優れた離型フィルムを提供することができ、その工業的価値は高い。 According to the protective film of the present invention, as a protective film for a photoresist, a release film having excellent releasability to a photoresist layer can be provided, and its industrial value is high.

本発明における保護フィルムを構成するポリエステルフィルムは単層構成であっても多層構成であってもよく、2層、3層構成以外にも本発明の要旨を越えない限り、4層またはそれ以上の多層であってもよく、特に限定されるものではない。 The polyester film constituting the protective film in the present invention may have a single-layer structure or a multi-layer structure, and has four or more layers as long as the gist of the present invention is not exceeded in addition to the two-layer and three-layer structure. It may be multi-layered and is not particularly limited.

本発明において使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸(例えば、p−オキシ安息香酸など)等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。 The polyester used in the present invention may be a homopolyester or a copolymerized polyester. When it is made of homopolyester, it is preferably obtained by polycondensing an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol and 1,4-cyclohexanedimethanol. Examples of typical polyesters include polyethylene terephthalate and the like. On the other hand, examples of the dicarboxylic acid component of the copolymerized polyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (for example, p-oxybenzoic acid). One or more of them may be mentioned, and examples of the glycol component include one or more of ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol and the like.

種々の加工条件に耐えられるフィルムにするという観点から、機械的強度や耐熱性(加熱による寸法安定性)が高いことが好ましく、そのためには共重合ポリエステル成分が少ないことが好ましい。具体的には、ポリエステルフィルム中に占める共重合ポリエステルを形成するモノマーの割合が、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下の範囲であり、さらに好ましくはホモポリエステル重合時に副産物として生成してしまう程度である、3モル%以下のジエーテル成分を含む程度である。ポリエステルとしてより好ましい形態は、機械的強度や耐熱性を考慮すると、前記化合物の中でも、テレフタル酸とエチレングリコールから重合されてなる、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートから形成されたフィルムがより好ましく、製造のしやすさ、表面保護フィルム等の用途としての取扱い性を考慮すると、ポリエチレンテレフタレートから形成されたフィルムがより好ましい。 From the viewpoint of producing a film that can withstand various processing conditions, it is preferable that the film has high mechanical strength and heat resistance (dimensional stability due to heating), and for that purpose, it is preferable that the amount of the copolymerized polyester component is small. Specifically, the proportion of the monomer forming the copolymerized polyester in the polyester film is preferably in the range of 10 mol% or less, more preferably 5 mol% or less, and more preferably produced as a by-product during homopolyester polymerization. It is a degree that contains 3 mol% or less of a diether component. A more preferable form of polyester is, in consideration of mechanical strength and heat resistance, a film formed from polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, which is polymerized from terephthalic acid and ethylene glycol, more preferably among the above compounds. A film formed from polyethylene terephthalate is more preferable in consideration of ease of use and handleability as a surface protective film.

ポリエステルの重合触媒としては、特に制限はなく、従来公知の化合物を使用することができ、例えば、アンチモン化合物、チタン化合物、ゲルマニウム化合物、マンガン化合物、アルミニウム化合物、マグネシウム化合物、カルシウム化合物等が挙げられる。この中でも、チタン化合物やゲルマニウム化合物は触媒活性が高く、少量で重合を行うことが可能であり、フィルム中に残留する金属量が少ないことから、フィルムの輝度が高くなり、フィルムを通して検査を行う場合の視認性の観点から好ましい。さらに、ゲルマニウム化合物は高価であることから、チタン化合物を用いることがより好ましい。 The polyester polymerization catalyst is not particularly limited, and conventionally known compounds can be used. Examples thereof include antimony compounds, titanium compounds, germanium compounds, manganese compounds, aluminum compounds, magnesium compounds and calcium compounds. Among these, titanium compounds and germanium compounds have high catalytic activity, can be polymerized in a small amount, and the amount of metal remaining in the film is small, so that the brightness of the film is high and the inspection is performed through the film. It is preferable from the viewpoint of visibility. Further, since the germanium compound is expensive, it is more preferable to use a titanium compound.

本発明のフィルムのポリエステル層中には、易滑性の付与および各工程での傷発生防止を主たる目的として、粒子を配合することが好ましい。粒子がない場合、あるいは粒子が少ない場合は、フィルムの透明性が高くなり、良好なフィルムとなるが、滑り性が不十分となる場合があるため、フィルムにキズが入りやすい傾向がある。 It is preferable to add particles to the polyester layer of the film of the present invention mainly for the purpose of imparting slipperiness and preventing scratches in each step. When there are no particles or there are few particles, the transparency of the film is high and the film is good, but the slipperiness may be insufficient, so that the film tends to be easily scratched.

粒子を配合する場合、配合する粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、具体例としては、例えば、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等が挙げられる。また、ポリエステル製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。 When the particles are blended, the type of the particles to be blended is not particularly limited as long as the particles can impart slipperiness, and specific examples thereof include, for example, silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, and barium carbonate. , Calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide, titanium oxide and other inorganic particles, acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin, benzoguanamine resin and other organic particles. Further, during the polyester manufacturing process, precipitated particles in which a part of a metal compound such as a catalyst is precipitated and finely dispersed can also be used.

ポリエステルフィルムに粒子を含有させる場合、滑り性を落とさず、透明性を確保するという観点から、3層以上の構成であることが好ましく、さらに製造の容易性を考慮し、3層構成であることがより好ましく、粒子を最表面の層に含有する構成が最適である。 When the polyester film contains particles, it is preferable to have a three-layer structure from the viewpoint of ensuring transparency without reducing slipperiness, and further, considering the ease of production, the three-layer structure is used. Is more preferable, and the configuration in which the particles are contained in the outermost layer is optimal.

一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。 On the other hand, the shape of the particles to be used is not particularly limited, and any of spherical, lumpy, rod-shaped, flat-shaped and the like may be used. Further, the hardness, specific gravity, color and the like are not particularly limited. Two or more kinds of these series of particles may be used in combination, if necessary.

また、用いる粒子の平均粒径は、好ましくは5μm以下、より好ましくは0.1〜3μmの範囲である。平均粒径が5μmを超える場合には、フィルムの表面粗度が粗くなりすぎて、転写する成型面の表面形状に影響を与える場合がある。 The average particle size of the particles used is preferably in the range of 5 μm or less, more preferably 0.1 to 3 μm. If the average particle size exceeds 5 μm, the surface roughness of the film may become too coarse, which may affect the surface shape of the molded surface to be transferred.

さらにポリエステル層中の粒子含有量は、好ましくは5重量%以下、より好ましくは0.0003〜3重量%の範囲である。粒子含有量が5重量%を超えて含有する場合にはフィルムの透明性が不十分な場合がある。 Further, the particle content in the polyester layer is preferably in the range of 5% by weight or less, more preferably 0.0003 to 3% by weight. If the particle content exceeds 5% by weight, the transparency of the film may be insufficient.

ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化もしくはエステル交換反応終了後、添加するのが良い。 The method of adding the particles to the polyester layer is not particularly limited, and a conventionally known method can be adopted. For example, it can be added at any stage in the production of the polyester constituting each layer, but it is preferably added after the esterification or transesterification reaction is completed.

なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には、上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、潤滑剤、染料、顔料等を含有することができる。 The polyester film in the present invention contains, if necessary, a conventionally known antioxidant, antistatic agent, heat stabilizer, ultraviolet absorber, lubricant, dye, pigment, etc., in addition to the above-mentioned particles. Can be done.

本発明におけるポリエステルフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、機械的強度、ハンドリング性及び生産性などの点から、好ましくは1〜300μm、より好ましくは5〜100μmの範囲がよく、8〜50μmであることがより好ましい。 The thickness of the polyester film in the present invention is not particularly limited as long as it can be formed as a film, but is preferably 1 to 300 μm, more preferably 1 to 300 μm, from the viewpoints of mechanical strength, handleability, productivity and the like. Is preferably in the range of 5 to 100 μm, more preferably 8 to 50 μm.

本発明のフィルムの製膜方法としては、通常知られている製膜法を採用でき、特に制限はない。例えば、二軸延伸ポリエステルフィルムを製造する場合、まず先に述べたポリエステル原料を、押出機を用いてダイから溶融押し出しし、溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高めることが好ましく、静電印加密着法や液体塗布密着法が好ましく採用される。 As a film-forming method for the film of the present invention, a generally known film-forming method can be adopted, and there is no particular limitation. For example, in the case of producing a biaxially stretched polyester film, first, the polyester raw material described above is melt-extruded from a die using an extruder, and the molten sheet is cooled and solidified with a cooling roll to obtain an unstretched sheet. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is preferable to improve the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum, and the electrostatic application adhesion method and the liquid coating adhesion method are preferably adopted.

次に、得られた未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃であり、延伸倍率は通常2.5〜7倍、好ましくは3.0〜6倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に、通常70〜170℃で、延伸倍率は通常2.5〜7倍、好ましくは3.0〜6倍で延伸する。引き続き180〜270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る方法が挙げられる。上記の延伸においては、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。 Next, the obtained unstretched sheet is stretched in one direction by a roll or tenter type stretching machine. The stretching temperature is usually 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Then, in the direction orthogonal to the stretching direction of the first stage, stretching is usually performed at 70 to 170 ° C. and a stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. A method of obtaining a biaxially oriented film by subsequently performing heat treatment at a temperature of 180 to 270 ° C. under tension or relaxation within 30% can be mentioned. In the above stretching, a method of stretching in one direction in two or more steps can also be adopted. In that case, it is preferable to finally set the stretching ratios in the two directions within the above ranges.

また、本発明においては保護フィルムを構成するポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は、前記の未延伸シートを通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法であり、延伸倍率としては、面積倍率で4〜50倍、好ましくは7〜35倍、さらに好ましくは10〜25倍である。そして、引き続き、170〜270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。 Further, in the present invention, the simultaneous biaxial stretching method can be adopted for producing the polyester film constituting the protective film. The simultaneous biaxial stretching method is a method of simultaneously stretching and orienting the unstretched sheet in the mechanical direction and the width direction while the temperature is controlled at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is Is 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, and more preferably 10 to 25 times in area magnification. Then, the heat treatment is subsequently performed at a temperature of 170 to 270 ° C. under tension or relaxation within 30% to obtain a stretch-oriented film. As for the simultaneous biaxial stretching apparatus that employs the above-mentioned stretching method, conventionally known stretching methods such as a screw method, a pantograph method, and a linear drive method can be adopted.

次に本発明における保護フィルムを構成する離型層の形成について説明する。離型層に関しては、ポリエステルフィルムの製膜工程中にフィルム表面を処理する、インラインコーティングにより設けられてもよく、一旦製造したフィルム上に系外で塗布する、オフラインコーティングを採用してもよい。より好ましくはインラインコーティングにより形成されるものである。 Next, the formation of the release layer constituting the protective film in the present invention will be described. Regarding the release layer, the film surface may be treated during the film forming process of the polyester film, which may be provided by in-line coating, or an offline coating which is applied outside the system on the once produced film may be adopted. More preferably, it is formed by in-line coating.

インラインコーティングは、ポリエステルフィルム製造の工程内でコーティングを行う方法であり、具体的には、ポリエステルを溶融押出ししてから延伸後熱固定して巻き上げるまでの任意の段階でコーティングを行う方法である。通常は、溶融、急冷して得られる未延伸シート、延伸された一軸延伸フィルム、熱固定前の二軸延伸フィルム、熱固定後で巻上前のフィルムの何れかにコーティングする。 The in-line coating is a method of coating in the process of manufacturing a polyester film, and specifically, a method of coating at an arbitrary stage from melt extrusion of polyester to heat fixing and winding after stretching. Usually, it is coated on any of an unstretched sheet obtained by melting and quenching, a stretched uniaxially stretched film, a biaxially stretched film before heat fixing, and a film after heat fixing and before winding.

以下に限定するものではないが、例えば逐次二軸延伸においては、特に長手方向(縦方向)に延伸された一軸延伸フィルムにコーティングした後に横方向に延伸する方法が優れている。かかる方法によれば、製膜と離型層形成を同時に行うことができるため製造コスト上のメリットがあり、また、コーティング後に延伸を行うために、離型層の厚みを延伸倍率により変化させることもでき、オフラインコーティングに比べ、薄膜コーティングをより容易に行うことができる。また、延伸前にフィルム上に離型層を設けることにより、離型層を基材フィルムと共に延伸することができ、それにより離型層を基材フィルムに強固に密着させることができる。さらに、二軸延伸ポリエステルフィルムの製造において、クリップ等によりフィルム端部を把持しつつ延伸することで、フィルムを縦および横方向に拘束することができ、熱固定工程において、しわ等が入らず平面性を維持したまま高温をかけることができる。それゆえ、塗布後に施される熱処理が他の方法では達成されない高温とすることができるために、離型層の造膜性が向上し、離型層と基材フィルムをより強固に密着させることができ、離型成分のフォトレジスト層への移行を防ぐことができる。さらには、強固な離型層とすることができ、離型層の性能や耐久性を向上させることができる。そのため、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を形成する方法としては、離型成分を含む塗布液をポリエステルフィルムに塗布後、少なくとも一方向に延伸する製造方法が好ましい。 Although not limited to the following, for example, in sequential biaxial stretching, a method of coating a uniaxially stretched film stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) and then stretching in the lateral direction is particularly excellent. According to this method, since film formation and release layer formation can be performed at the same time, there is an advantage in manufacturing cost, and in order to perform stretching after coating, the thickness of the release layer is changed by the stretching ratio. Also, thin film coating can be performed more easily than offline coating. Further, by providing the release layer on the film before stretching, the release layer can be stretched together with the base film, whereby the release layer can be firmly adhered to the base film. Further, in the production of a biaxially stretched polyester film, the film can be restrained in the vertical and horizontal directions by stretching while gripping the end of the film with a clip or the like, and in the heat fixing step, a flat surface without wrinkles or the like. High temperature can be applied while maintaining the sex. Therefore, since the heat treatment applied after coating can be set to a high temperature which cannot be achieved by other methods, the film-forming property of the release layer is improved, and the release layer and the base film are more firmly adhered to each other. It is possible to prevent the release component from migrating to the photoresist layer. Further, a strong release layer can be formed, and the performance and durability of the release layer can be improved. Therefore, as a method for forming a release layer on at least one side of the polyester film, a production method in which a coating liquid containing a release component is applied to the polyester film and then stretched in at least one direction is preferable.

本発明においては、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を有し、離型層が長鎖アルキル基含有化合物を含有することを必須の要件とするものである。 In the present invention, it is an essential requirement that the polyester film has a release layer on at least one side, and the release layer contains a long-chain alkyl group-containing compound.

本発明における離型層は、例えば、フォトレジスト用の保護フィルムとして使用する際、フォトレジスト層から保護フィルムを剥がすために好適に使用可能な離型性を付与するために設けられるものである。 The release layer in the present invention is provided, for example, to impart releasability that can be suitably used for peeling the protective film from the photoresist layer when used as a protective film for a photoresist.

本発明者らは、種々、検討を行った結果、長鎖アルキル基含有化合物を離型層に含有させることにより、フォトレジスト層に対する離型性を保持し、ポリエステルフィルムを剥がした後、フォトレジスト層にシリコーンの移行が無く、フォトレジスト層の絶縁基板に対する密着性を保持することが可能であることを見いだした。 As a result of various studies, the present inventors maintained the releasability to the photoresist layer by incorporating a long-chain alkyl group-containing compound into the release layer, and after peeling off the polyester film, the photoresist. It was found that there is no migration of silicone to the layer and it is possible to maintain the adhesion of the photoresist layer to the insulating substrate.

本発明の保護フィルムの離型層に含有する長鎖アルキル基含有化合物は、ポリエステルフィルムの離型性を向上させるために用いる。 The long-chain alkyl group-containing compound contained in the release layer of the protective film of the present invention is used to improve the release property of the polyester film.

長鎖アルキル化合物とは、炭素数が通常6以上、好ましくは8以上、さらに好ましくは12以上の直鎖または分岐のアルキル基を有する化合物のことである。アルキル基としては、例えば、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ラウリル基、オクタデシル基、ベヘニル基等が挙げられる。アルキル基を有する化合物とは、例えば、各種の長鎖アルキル基含有高分子化合物、長鎖アルキル基含有アミン化合物、長鎖アルキル基含有エーテル化合物、長鎖アルキル基含有四級アンモニウム塩等が挙げられる。耐熱性、汚染性を考慮すると高分子化合物であることが好ましい。また、効果的に離型性を得られるという観点から、長鎖アルキル基を側鎖に持つ高分子化合物であることがより好ましい。 The long-chain alkyl compound is a compound having a linear or branched alkyl group having usually 6 or more carbon atoms, preferably 8 or more carbon atoms, and more preferably 12 or more carbon atoms. Examples of the alkyl group include a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a lauryl group, an octadecyl group, a behenyl group and the like. Examples of the compound having an alkyl group include various long-chain alkyl group-containing polymer compounds, long-chain alkyl group-containing amine compounds, long-chain alkyl group-containing ether compounds, and long-chain alkyl group-containing quaternary ammonium salts. .. Considering heat resistance and stain resistance, a polymer compound is preferable. Further, from the viewpoint of effectively obtaining releasability, a polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain is more preferable.

長鎖アルキル基を側鎖に持つ高分子化合物とは、反応性基を有する高分子と、当該反応性基と反応可能なアルキル基を有する化合物とを反応させて得ることができる。上記反応性基としては、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、酸無水物等が挙げられる。
これらの反応性基を有する化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリエチレンアミン、反応性基含有ポリエステル樹脂、反応性基含有ポリ(メタ)アクリル樹脂等が挙げられる。これらの中でも離型性や取り扱い易さを考慮するとポリビニルアルコールであることが好ましい。
The polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain can be obtained by reacting a polymer having a reactive group with a compound having an alkyl group capable of reacting with the reactive group. Examples of the reactive group include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an acid anhydride and the like.
Examples of the compound having these reactive groups include polyvinyl alcohol, polyethyleneimine, polyethyleneamine, a reactive group-containing polyester resin, and a reactive group-containing poly (meth) acrylic resin. Among these, polyvinyl alcohol is preferable in consideration of releasability and ease of handling.

上記の反応性基と反応可能なアルキル基を有する化合物とは、例えば、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネート、デシルイソシアネート、ラウリルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、ベヘニルイソシアネート等の長鎖アルキル基含有イソシアネート、ヘキシルクロライド、オクチルクロライド、デシルクロライド、ラウリルクロライド、オクタデシルクロライド、ベヘニルクロライド等の長鎖アルキル基含有酸クロライド、長鎖アルキル基含有アミン、長鎖アルキル基含有アルコール等が挙げられる。これらの中でも離型性や取り扱い易さを考慮すると長鎖アルキル基含有イソシアネートが好ましく、オクタデシルイソシアネートが特に好ましい。 The compounds having an alkyl group capable of reacting with the above-mentioned reactive groups include, for example, long-chain alkyl group-containing isocyanates such as hexyl isocyanate, octyl isocyanate, decyl isocyanate, lauryl isocyanate, octadecyl isocyanate, and behenyl isocyanate, hexyl chloride, and octyl chloride. , Desicyl chloride, lauryl chloride, octadecyl chloride, behenyl chloride and the like, long-chain alkyl group-containing acid chlorides, long-chain alkyl group-containing amines, long-chain alkyl group-containing alcohols and the like. Among these, long-chain alkyl group-containing isocyanates are preferable, and octadecyl isocyanates are particularly preferable, in consideration of releasability and ease of handling.

また、長鎖アルキル基を側鎖に持つ高分子化合物は、長鎖アルキル(メタ)アクリレートの重合物や長鎖アルキル(メタ)アクリレートと他のビニル基含有モノマーとの共重合によって得ることもできる。長鎖アルキル(メタ)アクリレートとは、例えば、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Further, the polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain can also be obtained by copolymerizing a polymer of a long-chain alkyl (meth) acrylate or a long-chain alkyl (meth) acrylate with another vinyl group-containing monomer. .. Examples of the long-chain alkyl (meth) acrylate include hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, and behenyl (meth) acrylate. Be done.

また、本発明ではフィルムの離型性を向上させるために、長鎖アルキル基含有化合物を用いることを必須とするが、それ以外に従来公知の離型剤を複数種併用してもよい。従来公知の離型剤とは、例えば、ワックス、フッ素化合物、シリコーン化合物等が挙げられる。ただし、フォトレジスト層へシリコーン成分が移行することで、絶縁基板に対する密着性を低下させる場合があるという観点から、本発明の離型層は非シリコーン化合物の離型剤で形成されることが望ましい。「非シリコーン化合物の離型剤で形成される」とは、離型層のシリコーン化合物含有量が好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは1重量%以下、特に好ましくは0.5重量%以下であり、最も好ましくは意図して含有しないことを意味する。シリコーン化合物を積極的に使用しなくても、外来異物由来のコンタミなどや、フィルム製造工程のラインや装置に付着した汚れが混入する可能性が考えられる。 Further, in the present invention, in order to improve the releasability of the film, it is essential to use a long-chain alkyl group-containing compound, but in addition to this, a plurality of conventionally known releasable agents may be used in combination. Examples of conventionally known release agents include waxes, fluorine compounds, silicone compounds and the like. However, it is desirable that the release layer of the present invention is formed of a non-silicone compound release agent from the viewpoint that the adhesion of the silicone component to the photoresist layer may reduce the adhesion to the insulating substrate. .. "Formed with a release agent of a non-silicone compound" means that the silicone compound content of the release layer is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, still more preferably 1% by weight or less, particularly preferably. Is 0.5% by weight or less, and most preferably, it means that it is not intentionally contained. Even if the silicone compound is not actively used, there is a possibility that contamination derived from foreign substances and stains adhering to the film manufacturing process line and equipment may be mixed.

シリコーン化合物とは、分子内にシリコーン構造を有する化合物のことであり、シリコーンエマルション、アクリルグラフトシリコーン、シリコーングラフトアクリル、アミノ変性シリコーン、パーフルオロアルキル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン等が挙げられる。 The silicone compound is a compound having a silicone structure in the molecule, and examples thereof include silicone emulsion, acrylic graft silicone, silicone graft acrylic, amino-modified silicone, perfluoroalkyl-modified silicone, and alkyl-modified silicone.

本発明のフィルムの離型層の形成には、離型層の強度や基材との密着性、耐熱性を向上させるために、架橋剤を含有することが好ましい。 In forming the release layer of the film of the present invention, it is preferable to contain a cross-linking agent in order to improve the strength of the release layer, the adhesion to the substrate, and the heat resistance.

本発明に用いる架橋剤とは、メラミン化合物、イソシアネート系化合物、オキサゾリン化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド系化合物等が挙げられる。これら架橋剤の中でも塗膜強度が良好であるという観点において、メラミン化合物あるいはイソシアネート系化合物を使用することが好ましい。さらに、離型層の離型性に優れるという観点からは、メラミン化合物が好ましい。また、離型層の耐熱性に優れ、加工時に熱処理が加わった場合も離型性への影響が少ないという観点からはイソシアネート系化合物が特に好ましい。
また、これらの架橋剤は2種以上を併用しても良い。
Examples of the cross-linking agent used in the present invention include melamine compounds, isocyanate compounds, oxazoline compounds, epoxy compounds, carbodiimide compounds and the like. Among these cross-linking agents, it is preferable to use a melamine compound or an isocyanate compound from the viewpoint of good coating film strength. Further, a melamine compound is preferable from the viewpoint of excellent releasability of the release layer. Further, an isocyanate compound is particularly preferable from the viewpoint that the release layer has excellent heat resistance and has little effect on the release property even when a heat treatment is applied during processing.
In addition, two or more of these cross-linking agents may be used in combination.

メラミン化合物とは、化合物中にメラミン骨格を有する化合物のことであり、例えば、アルキロール化メラミン誘導体、アルキロール化メラミン誘導体にアルコールを反応させて部分的あるいは完全にエーテル化した化合物、およびこれらの混合物を用いることができる。アルキロール化としては、メチロール化、エチロール化、イソプロピロール化、n−ブチロール化、イソブチロール化などが挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、メチロール化が好ましい。また、エーテル化に用いるアルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノール等が好適に用いられる。塗膜強度を向上させ、離型層と基材の密着性を向上させるという観点から、部分的にエーテル化したアルキロール化メラミン誘導体であることが好ましく、メチルアルコールでエーテル化したアルキロールであることがより好ましい。そのため、より好ましい形態としては、メチロール基とメトキシメチル基を持つ部分エーテル化メラミンである。エーテル化したアルキロール基はエーテル化していないアルキロール基に対して、0.5〜5当量であることが好ましく、0.7〜3当量であることがより好ましい。また、メラミン化合物としては、単量体、あるいは2量体以上の多量体のいずれであってもよく、あるいはこれらの混合物を用いてもよい。さらに、メラミンの一部に尿素等を共縮合したものも使用できるし、メラミン化合物の反応性を上げるために触媒を使用することも可能である。 A melamine compound is a compound having a melamine skeleton in the compound, for example, an alkylolated melamine derivative, a compound obtained by reacting an alcoholylated melamine derivative with an alcohol to partially or completely etherify, and these. A mixture can be used. Examples of alkylolization include methylolation, ethylolation, isopropyrolization, n-butyrolization, and isobutyrolization. Among these, methylolation is preferable from the viewpoint of reactivity. Further, as the alcohol used for etherification, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutanol and the like are preferably used. From the viewpoint of improving the strength of the coating film and improving the adhesion between the release layer and the base material, it is preferable that the alkylolated melamine derivative is partially etherified, and the alkylol is etherified with methyl alcohol. Is more preferable. Therefore, a more preferable form is partially etherified melamine having a methylol group and a methoxymethyl group. The etherified alkylol group is preferably 0.5 to 5 equivalents, more preferably 0.7 to 3 equivalents, relative to the non-etherified alkylol group. Further, the melamine compound may be either a monomer or a multimer of a dimer or more, or a mixture thereof may be used. Further, a melamine that is copolymerized with urea or the like can be used, or a catalyst can be used to increase the reactivity of the melamine compound.

イソシアネート系化合物とは、イソシアネート、あるいは前駆体であるイソシアネート化合物のイソシアネート基をブロック剤で保護した構造を有するブロックイソシアネートに代表されるイソシアネート誘導体構造を有する化合物のことである。イソシアネートとしては、例えば、脂肪族系イソシアネート化合物、脂環族系イソシアネート化合物、芳香族系イソシアネート化合物等が挙げられる。これらイソシアネート化合物はより高度に反応が可能で離型層の耐熱性を向上できるという観点において、複数個のイソシアネート基を有する化合物、すなわちポリイソシアネート化合物であることがより好ましい。また、水系の塗布液を使用する場合は、ブロックイソシアネートであることがより好ましい。 The isocyanate-based compound is a compound having an isocyanate derivative structure represented by blocked isocyanate having a structure in which the isocyanate group of the isocyanate compound which is a precursor is protected by a blocking agent. Examples of the isocyanate include an aliphatic isocyanate compound, an alicyclic isocyanate compound, and an aromatic isocyanate compound. These isocyanate compounds are more preferably compounds having a plurality of isocyanate groups, that is, polyisocyanate compounds, from the viewpoint that they can react more highly and the heat resistance of the release layer can be improved. Further, when an aqueous coating liquid is used, it is more preferably blocked isocyanate.

脂肪族系ポリイソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチル−1,6−ジイソシアナトヘキサン、リジンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネートから誘導されるポリイソシアネート化合物、リジントリイソシアネート、4−イソシアナトメチル−1,8−オクタメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアナトエチル)2−イソシアナトグルタレート、あるいはこれらイソシアネート化合物から誘導される化合物等を挙げることができる。その中でも工業的入手のしやすさからヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。 Examples of the aliphatic polyisocyanate compound are derived from aliphatic diisocyanates such as tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl-1,6-diisocyanatohexane, and lysine diisocyanate. Polyisocyanate compounds, lysocyanate triisocyanates, 4-isocyanatomethyl-1,8-octamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) 2-isocyanatoglutarate, compounds derived from these isocyanate compounds, etc. be able to. Among them, hexamethylene diisocyanate is preferable because of its easy industrial availability.

脂環族系ポリイソシアネート化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート(、1,3−ビス(イソシアナトメチル)−シクロヘキサン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、あるいはこれらイソシアネート化合物から誘導される化合物等を挙げることができる。その中でも、耐候性、工業的入手の容易さから、イソホロンジイソシアネートが好ましい。 Examples of the alicyclic polyisocyanate compound include isophorone diisocyanate (, 1,3-bis (isocyanatomethyl) -cyclohexane, 4,4'-dicyclohexylmethanediisocyanate, norbornene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, or these isocyanates. Examples thereof include compounds derived from compounds. Among them, isophorone diisocyanate is preferable from the viewpoint of weather resistance and easy industrial availability.

芳香族系ポリイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、あるいはこれらイソシアネート化合物から誘導される化合物等を挙げることができる。 Examples of the aromatic polyisocyanate compound are 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, xylylene diisocyanate, or derived from these isocyanate compounds. Compounds and the like can be mentioned.

これらのポリイソシアネート化合物の中でも、脂肪族系ポリイソシアネート化合物および脂環族系ポリイソシアネート化合物が耐候性に優れるため、好ましい。さらに、脂肪族系ポリイソシアネート化合物の中では、脂肪族系ジイソシアネートから誘導される脂肪族系ポリイソシアネート化合物が好ましい。その中でも、特にヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。また、これらイソシアネート化合物は、単独で使用してもいいし、2種以上を併用しても構わない。 Among these polyisocyanate compounds, aliphatic polyisocyanate compounds and alicyclic polyisocyanate compounds are preferable because they have excellent weather resistance. Further, among the aliphatic polyisocyanate compounds, the aliphatic polyisocyanate compound derived from the aliphatic diisocyanate is preferable. Among them, hexamethylene diisocyanate is particularly preferable. Further, these isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

ブロックポリイソシアネート化合物は、ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基を、ブロック剤と反応させて合成することができる。 The blocked polyisocyanate compound can be synthesized by reacting the isocyanate group of the polyisocyanate compound with a blocking agent.

ブロック剤としては、例えば、活性メチレン系、オキシム系、ピラゾール系、アルコール系、アルキルフェノール系、フェノール系、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミド系、イミダゾール系、尿素系、アミン系、イミン系、重亜硫酸塩ブロック剤等が挙げられる。これらの中でも、特に加熱後の剥離特性が変化しにくいという観点から、活性メチレン系ブロック剤であることが好ましい。また、これらのブロック剤は2種以上を併用してもよい。 Examples of the blocking agent include active methylene, oxime, pyrazole, alcohol, alkylphenol, phenol, mercaptan, acid amide, acid imide, imidazole, urea, amine, imine, and heavy. Examples thereof include a sulfite blocking agent. Among these, an active methylene-based blocking agent is preferable from the viewpoint that the peeling characteristics after heating are not likely to change. In addition, two or more of these blocking agents may be used in combination.

活性メチレン系ブロック剤としては、例えば、イソブタノイル酢酸エステル、n−プロパノイル酢酸エステル、n−ブタノイル酢酸エステル、n−ペンタノイル酢酸エステル、n−ヘキサノイル酢酸エステル、2−エチルヘプタノイル酢酸エステル、マロン酸エステル、アセト酢酸エステル、アセチルアセトン等を挙げることができる。その中でも、低温硬化性および水存在下の貯蔵安定性に優れるという点で、イソブタノイル酢酸エステル、n−プロパノイル酢酸エステル、n−ブタノイル酢酸エステル、n−ペンタノイル酢酸エステル、n−ヘキサノイル酢酸エステル、2−エチルヘプタノイル酢酸エステルが好ましく、より好ましくは、イソブタノイル酢酸エステル、n−プロパノイル酢酸エステル、n−ペンタノイル酢酸エステルであり、さらに好ましくは、イソブタノイル酢酸エステルである。より具体的には、イソブタノイル酢酸エステルとしては、例えば、イソブタノイル酢酸メチル、イソブタノイル酢酸エチル、イソブタノイル酢酸n−プロピル、イソブタノイル酢酸イソプロピル、イソブタノイル酢酸n−ブチル、イソブタノイル酢酸イソブチル、イソブタノイル酢酸t−ブチル、イソブタノイル酢酸n−ペンチル、イソブタノイル酢酸n−ヘキシル、イソブタノイル酢酸2−エチルヘキシル、イソブタノイル酢酸フェニル、イソブタノイル酢酸ベンジル等が挙げられる。その中でも、イソブタノイル酢酸メチル、イソブタノイル酢酸エチルが好ましい。n−プロパノイル酢酸エステルとしては、例えば、n−プロパノイル酢酸メチル、n−プロパノイル酢酸エチル、n−プロパノイル酢酸イソプロピル、n−プロパノイル酢酸n−ブチル、n−プロパノイル酢酸t−ブチル等が挙げられる。その中でも、n−プロパノイル酢酸メチル、n−プロパノイル酢酸エチルが好ましい。n−ペンタノイル酢酸エステルとしては、例えば、n−ペンタノイル酢酸メチル、n−ペンタノイル酢酸エチル、n−ペンタノイル酢酸イソプロピル、n−ペンタノイル酢酸n−ブチル、n−ペンタノイル酢酸t−ブチル等が挙げられる。その中でも、n−ペンタノイル酢酸メチル、n−ペンタノイル酢酸エチルが好ましい。 Examples of the active methylene blocking agent include isobutanoyl acetate, n-propanoyl acetate, n-butanoyl acetate, n-pentanoyl acetate, n-hexanoyl acetate, 2-ethylheptanoyl acetate, malonic acid ester, and the like. Examples thereof include acetoacetic acid ester and acetylacetone. Among them, isobutanoyl acetate, n-propanoyl acetate, n-butanoyl acetate, n-pentanoyl acetate, n-hexanoyl acetate, 2-, in terms of excellent low-temperature curability and storage stability in the presence of water. Ethylheptanoyl acetate is preferred, more preferably isobutanoyl acetate, n-propanoyl acetate, n-pentanoyl acetate, and even more preferably isobutanoyl acetate. More specifically, examples of the isobutanoyl acetate include methyl isobutanoyl acetate, ethyl isobutanoyl acetate, n-propyl isobutanoyl acetate, isopropyl isobutanoyl acetate, n-butyl isobutanoyl acetate, isobutyl isobutanoyl acetate, t-butyl isobutanoyl acetate, and isobutanoyl acetate. Examples thereof include n-pentyl, n-hexyl isobutanoyl acetate, 2-ethylhexyl isobutanoyl acetate, phenyl isobutanoyl acetate and benzyl isobutanoyl acetate. Among them, methyl isobutanoyl acetate and ethyl isobutanoyl acetate are preferable. Examples of the n-propanoyl acetate include methyl n-propanoyl acetate, ethyl n-propanoyl acetate, isopropyl n-propanoyl acetate, n-butyl n-propanoyl acetate, t-butyl n-propanoyl acetate and the like. Among them, methyl n-propanoyl acetate and ethyl n-propanoyl acetate are preferable. Examples of the n-pentanoyl acetate include methyl n-pentanoyl acetate, ethyl n-pentanoyl acetate, isopropyl n-pentanoyl acetate, n-butyl n-pentanoyl acetate, t-butyl n-pentanoyl acetate and the like. Among them, methyl n-pentanoyl acetate and ethyl n-pentanoyl acetate are preferable.

本発明のフィルムで用いる活性メチレンブロックイソシアネート化合物においては、上記に示した活性メチレン系ブロック剤を単独で用いることもできるし、2種以上を併用して使用することもできる。併用する活性メチレン系ブロック剤としては、低温硬化性に優れ、形成した離型層の耐熱性に優れるという点で、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチルが好ましい。 In the active methylene block isocyanate compound used in the film of the present invention, the active methylene block agent shown above can be used alone, or two or more of them can be used in combination. As the active methylene-based blocking agent to be used in combination, dimethyl malonate and diethyl malonate are preferable because they have excellent low-temperature curability and excellent heat resistance of the formed release layer.

オキシム系ブロック剤としては、例えば、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトンオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等が挙げられる。 Examples of the oxime-based blocking agent include formaldehyde, acetaldehyde, acetone oxime, methyl ethyl keto oxime, cyclohexanone oxime and the like.

ピラゾール系ブロック剤としては、例えば、ピラゾール、3−メチルピラゾール、3,5−ジメチルピラゾール等が挙げられる。アルコール系ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等が挙げられる。 Examples of the pyrazole-based blocking agent include pyrazole, 3-methylpyrazole, 3,5-dimethylpyrazole and the like. Examples of the alcohol-based blocking agent include methanol, ethanol, 2-propanol, n-butanol, sec-butanol, 2-ethyl-1-hexanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol and the like. Be done.

アルキルフェノール系ブロック剤としては、例えば、n−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、n−ブチルフェノール、sec−ブチルフェノール、t−ブチルフェノール、n−ヘキシルフェノール、2−エチルヘキシルフェノール、n−オクチルフェノール、n−ノニルフェノール等のモノアルキルフェノール類、ジ−n−プロピルフェノール、ジイソプロピルフェノール、イソプロピルクレゾール、ジ−n−ブチルフェノール、ジ−t−ブチルフェノール、ジ−sec−ブチルフェノール、ジ−n−オクチルフェノール、ジ−2−エチルヘキシルフェノール、ジ−n−ノニルフェノール等のジアルキルフェノール類等が挙げられる。 Examples of the alkylphenol-based blocking agent include monoalkylphenols such as n-propylphenol, isopropylphenol, n-butylphenol, sec-butylphenol, t-butylphenol, n-hexylphenol, 2-ethylhexylphenol, n-octylphenol, and n-nonylphenol. Kind, di-n-propylphenol, diisopropylphenol, isopropylcresol, di-n-butylphenol, di-t-butylphenol, di-sec-butylphenol, di-n-octylphenol, di-2-ethylhexylphenol, di-n- Examples thereof include dialkylphenols such as nonylphenol.

フェノール系ブロック剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、スチレン化フェノール、ヒドロキシ安息香酸エステル等が挙げられる。 Examples of the phenolic blocking agent include phenol, cresol, ethylphenol, styrenated phenol, hydroxybenzoic acid ester and the like.

メルカプタン系ブロック剤としては、例えば、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等が挙げられる。 Examples of the mercaptan-based blocking agent include butyl mercaptan and dodecyl mercaptan.

酸アミド系ブロック剤としては、例えば、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等が挙げられる。 Examples of the acid amide-based blocking agent include acetanilide, acetate amide, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam and the like.

酸イミド系ブロック剤としては、例えば、コハク酸イミド、マレイン酸イミド等が挙げられる。 Examples of the acid imide-based blocking agent include succinate imide and maleate imide.

イミダゾール系ブロック剤としては、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール等が挙げられる。 Examples of the imidazole-based blocking agent include imidazole, 2-methylimidazole and the like.

尿素系ブロック剤としては、例えば、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等が挙げられる。
Examples of the urea-based blocking agent include urea, thiourea, ethylene urea and the like.

アミン系ブロック剤としては、例えば、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール、ジーn−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、イソプロピルエチルアミン等が挙げられる。イミン系ブロック剤としては、例えば、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等が挙げられる。 Examples of the amine-based blocking agent include diphenylamine, aniline, carbazole, din-propylamine, diisopropylamine, isopropylethylamine and the like. Examples of the imine-based blocking agent include ethyleneimine and polyethyleneimine.

本発明のフィルムで用いるブロックイソシアネート化合物は、水系塗料における配合性を高めるため、親水性部位を含有することが好ましく、ブロックイソシアネート系化合物に親水部位を付加する方法としては、例えば、前駆体であるイソシアネート化合物のイソシアネート基と活性水素を有する親水性化合物を反応させる方法が挙げられる。 The blocked isocyanate compound used in the film of the present invention preferably contains a hydrophilic moiety in order to enhance the compoundability in the water-based paint, and as a method for adding the hydrophilic moiety to the blocked isocyanate compound, for example, a precursor. Examples thereof include a method of reacting an isocyanate group of an isocyanate compound with a hydrophilic compound having active hydrogen.

本発明のフィルムで用いるブロックイソシアネート化合物に使用される活性水素を有する親水性化合物としては、例えば、ポリエチレングリコール系化合物、カルボン酸含有化合物、スルホン酸含有化合物、アミン含有化合物等が挙げられる。これらの親水性化合物は、単独で用いてもいいし、2種以上を併用して用いてもよい。 Examples of the hydrophilic compound having active hydrogen used in the blocked isocyanate compound used in the film of the present invention include polyethylene glycol-based compounds, carboxylic acid-containing compounds, sulfonic acid-containing compounds, amine-containing compounds and the like. These hydrophilic compounds may be used alone or in combination of two or more.

ポリエチレングリコール系化合物としては、例えば、モノアルコキシポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレンコポリマージオール、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレンブロックポリマージオール等が挙げられ、その中でも、特にモノメトキシポリエチレングリコール、モノエトキシポリエチレングリコール等のモノアルコキシポリエチレングリコールが好ましい。 Examples of polyethylene glycol-based compounds include monoalkoxypolyethylene glycol, polyethylene glycol, polyoxypropylene polyoxyethylene copolymer diol, and polyoxypropylene polyoxyethylene block polymer diol. Among them, monomethoxypolyethylene glycol and mono Monoalkoxypolyethylene glycols such as ethoxypolyethylene glycol are preferred.

カルボン酸基含有化合物としては、モノヒドロキシカルボン酸あるいはジヒドロキシカルボン酸あるいはそれらの誘導体等が挙げられる。カルボン酸基含有化合物の中では、モノヒドロキシカルボン酸あるいはジヒドロキシカルボン酸が好ましく、さらに好ましくは、モノヒドロキシカルボン酸である。 Examples of the carboxylic acid group-containing compound include monohydroxycarboxylic acid, dihydroxycarboxylic acid, and derivatives thereof. Among the carboxylic acid group-containing compounds, monohydroxycarboxylic acid or dihydroxycarboxylic acid is preferable, and monohydroxycarboxylic acid is more preferable.

カルボン酸含有化合物の具体例としては、例えば、ヒドロキシピバリン酸、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸あるいは、これらを開始剤としたポリカプロラクトンジオールやポリエーテルポリオール等の誘導体、およびそれらの塩が挙げられる。 Specific examples of the carboxylic acid-containing compound include hydroxypivalic acid, 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, or polycaprolactone diols and polyether polyols using these as initiators. Derivatives and salts thereof.

スルホン酸基含有化合物としては、アミノエチルスルホン酸、エチレンジアミノ−プロピル−β−エチルスルホン酸、1,3−プロピレンジアミン−β−エチルスルホン酸、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−アミノエタンスルホン酸、およびそれらの塩が挙げられる。 Examples of the sulfonic acid group-containing compound include aminoethyl sulfonic acid, ethylenediamino-propyl-β-ethyl sulfonic acid, 1,3-propylene diamine-β-ethyl sulfonic acid, and N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2. -Aminoethane sulfonic acids, and salts thereof.

アミン含有化合物としては、水酸基含有アミノ化合物が挙げられる。具体的には、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン等が挙げられる。 Examples of the amine-containing compound include a hydroxyl group-containing amino compound. Specific examples thereof include dimethylethanolamine and diethylethanolamine.

なお、本発明に用いる架橋剤は、乾燥過程や、製膜過程において、反応させて離型層の性能を向上させる設計で用いている。できあがった離型層中には、これら架橋剤の未反応物、反応後の化合物、あるいはそれらの混合物が存在しているものと推測できる。 The cross-linking agent used in the present invention is designed to react in the drying process and the film forming process to improve the performance of the release layer. It can be inferred that unreacted products of these cross-linking agents, compounds after the reaction, or mixtures thereof are present in the completed release layer.

本発明のフィルムの離型層の形成には、塗布外観や透明性の向上、離型性のコントロールために、各種のポリマーを併用することが可能である。 For the formation of the release layer of the film of the present invention, various polymers can be used in combination in order to improve the coating appearance, transparency, and control the release property.

ポリマーの具体例としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル(ポリビニルアルコール、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体等)、ポリアルキレングリコール、ポリアルキレンイミン、メチルセルロース、ヒドロキシセルロース、でんぷん類等が挙げられる。これらの中でも離型性のコントロールがしやすいという点において、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂が好ましく、ポリエステル樹脂がより好ましい。 Specific examples of the polymer include polyester resin, acrylic resin, urethane resin, polyvinyl (polyvinyl alcohol, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, etc.), polyalkylene glycol, polyalkyleneimine, methyl cellulose, hydroxycellulose, starches and the like. .. Among these, polyester resin, urethane resin, and acrylic resin are preferable, and polyester resin is more preferable, in that the releasability can be easily controlled.

ポリエステル樹脂とは、主な構成成分として例えば、下記のような多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物からなるものが挙げられる。すなわち、多価カルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、フタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸および、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、2−カリウムスルホテレフタル酸、5−ソジウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、グルタル酸、コハク酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩およびそれらのエステル形成性誘導体などを用いることができ、多価ヒドロキシ化合物としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,3−プロパンジオ−ル、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオ−ル、2−メチル−1,5−ペンタンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノ−ル、p−キシリレングリコ−ル、ビスフェノ−ルA−エチレングリコ−ル付加物、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、ポリテトラメチレングリコ−ル、ポリテトラメチレンオキシドグリコ−ル、ジメチロ−ルプロピオン酸、グリセリン、トリメチロ−ルプロパン、ジメチロ−ルエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロ−ルプロピオン酸カリウムなどを用いることができる。これらの化合物の中から、それぞれ適宜1つ以上を選択し、常法の重縮合反応によりポリエステル樹脂を合成すればよい。 Examples of the polyester resin include those composed of the following polyvalent carboxylic acids and polyvalent hydroxy compounds as main constituents. That is, as the polyvalent carboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, phthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid and 2,6 -Naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-potassium sulfoterephthalic acid, 5-sodiumsulfoisophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, glutal Acids, succinic acid, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid, trimellitic anhydride, phthalic anhydride, p-hydroxybenzoic acid, monopotassium trimellitic acid and ester-forming derivatives thereof can be used. As polyvalent hydroxy compounds, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 2 -Methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, p-xylyleneglycol, bisphenol A-ethyleneglycol adduct, diethyleneglycol, triethyleneglycol , Polyethylene glycol, Polypropylene glycol, Polytetramethylene glycol, Polytetramethylene oxide glycol, Dimethylolpropionic acid, Glycerin, Trimethylolpropane, Sodium dimethylolethylsulfonate, Dimethylpropion Potassium acid or the like can be used. One or more of each of these compounds may be appropriately selected, and a polyester resin may be synthesized by a conventional polycondensation reaction.

ウレタン樹脂とは、ウレタン結合を分子内に有する高分子化合物のことである。通常ウレタン樹脂はポリオールとイソシアネートの反応により作成される。ポリオールとしては、ポリカーボネートポリオール類、ポリエステルポリオール類、ポリエーテルポリオール類、ポリオレフィンポリオール類、アクリルポリオール類が挙げられ、これらの化合物は単独で用いても、複数種用いてもよい。 The urethane resin is a polymer compound having a urethane bond in the molecule. Urethane resins are usually made by the reaction of polyol and isocyanate. Examples of the polyol include polycarbonate polyols, polyester polyols, polyether polyols, polyolefin polyols, and acrylic polyols, and these compounds may be used alone or in a plurality of types.

ポリカーボネートポリオール類は、多価アルコール類とカーボネート化合物とから、脱アルコール反応によって得られる。多価アルコール類としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、3,3−ジメチロールヘプタン等が挙げられる。カーボネート化合物としては、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート等が挙げられ、これらの反応から得られるポリカーボネート系ポリオール類としては、例えば、ポリ(1,6−ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3−メチル−1,5−ペンチレン)カーボネート等が挙げられる。 Polycarbonate polyols are obtained from polyhydric alcohols and carbonate compounds by a dealcohol reaction. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentane. Diol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decane Examples thereof include diols, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and 3,3-dimethylol heptane. Examples of the carbonate compound include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate and the like, and examples of the polycarbonate-based polyols obtained from these reactions include poly (1,6-hexylene) carbonate and poly (3-). Methyl-1,5-pentylene) carbonate and the like can be mentioned.

ポリエステルポリオール類としては、多価カルボン酸(マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等)またはそれらの酸無水物と多価アルコール(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、1,8−オクタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、シクロヘキサンジオール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン、ジメタノールベンゼン、ビスヒドロキシエトキシベンゼン、アルキルジアルカノールアミン、ラクトンジオール等)の反応から得られるものが挙げられる。 Polypolypolyols include polyvalent carboxylic acids (malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimeric acid, suberic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, etc.) or their acid anhydrides. Products and polyhydric alcohols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 2-Methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol , 2-Methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 1,8-octanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2 , 5-Diol-2,5-hexanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2 -Hexyl-1,3-propanediol, cyclohexanediol, bishydroxymethylcyclohexane, dimethanolbenzene, bishydroxyethoxybenzene, alkyldialkanolamine, lactonediol, etc.) can be mentioned.

ポリエーテルポリオール類としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリヘキサメチレンエーテルグリコール等が挙げられる。 Examples of the polyether polyols include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene propylene glycol, polytetramethylene ether glycol, polyhexamethylene ether glycol and the like.

ウレタン樹脂を得るために使用されるポリイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等が例示される。これらは単独で用いても、複数種併用してもよい。 Examples of the polyisocyanate compound used to obtain a urethane resin include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, phenylenedi isocyanate, naphthalene diisocyanate, and trizine diisocyanate, α, α, α', and α'. − Aromatic diisocyanates such as tetramethylxylylene diisocyanate, methylene diisocyanates, propylene diisocyanates, lysine diisocyanates, trimethylhexamethylene diisocyanates, aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanates, cyclohexane diisocyanates, methylcyclohexane diisocyanates, isophorone diisocyanates, dicyclohexyls. Examples thereof include alicyclic diisocyanates such as methane diisocyanate and isopropyridene dicyclohexyl diisocyanate. These may be used alone or in combination of two or more.

ウレタン樹脂を合成する際に鎖延長剤を使用しても良く、鎖延長剤としては、イソシアネート基と反応する活性基を2個以上有するものであれば特に制限はなく、一般的には、水酸基またはアミノ基を2個有する鎖延長剤を主に用いることができる。 A chain extender may be used when synthesizing the urethane resin, and the chain extender is not particularly limited as long as it has two or more active groups that react with the isocyanate group, and is generally a hydroxyl group. Alternatively, a chain extender having two amino groups can be mainly used.

水酸基を2個有する鎖延長剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール等の脂肪族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレート等のエステルグリコールといったグリコール類を挙げることができる。また、アミノ基を2個有する鎖延長剤としては、例えば、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン等の芳香族ジアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサンジアミン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン、トリメチルヘキサンジアミン、2−ブチル−2−エチル−1,5−ペンタンジアミン、1 ,8−オクタンジアミン、1 ,9−ノナンジアミン、1 ,10−デカンジアミン等の脂肪族ジアミン、1−アミノ−3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジアミン、イソプロピリデンシクロヘキシル−4,4’−ジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1 ,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン等の脂環族ジアミン等が挙げられる。 Examples of the chain extender having two hydroxyl groups include aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and butanediol, aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene, and esters such as neopentyl glycol hydroxypivalate. Examples of glycols such as glycols can be mentioned. Examples of the chain extender having two amino groups include aromatic diamines such as tolylene diamine, xylylene diamine, and diphenylmethanediamine, ethylenediamine, propylenediamine, hexanediamine, 2,2-dimethyl-1,3-. Propanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, trimethylhexanediamine, 2-butyl-2-ethyl-1,5-pentanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine, 1,10- Aliphatic diamines such as decanediamine, 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, dicyclohexylmethanediamine, isopropylidenecyclohexyl-4,4'-diamine, 1,4-diaminocyclohexane, 1, Examples thereof include alicyclic diamines such as 3-bisaminomethylcyclohexane.

ウレタン樹脂は、溶剤を媒体とするものであってもよいが、好ましくは水を媒体とするものである。ウレタン樹脂を水に分散または溶解させるには、乳化剤を用いる強制乳化型、ウレタン樹脂中に親水性基を導入する自己乳化型あるいは水溶型等がある。特に、ウレタン樹脂の構造中にイオン基を導入しアイオノマー化した自己乳化タイプが、液の貯蔵安定性や得られる塗布層の耐水性、透明性に優れており好ましい。また、導入するイオン基としては、カルボキシル基、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、第4級アンモニウム塩等、種々のものが挙げられるが、カルボキシル基が好ましい。ウレタン樹脂にカルボキシル基を導入する方法としては、重合反応の各段階の中で種々の方法が取り得る。例えば、プレポリマー合成時に、カルボキシル基を持つ樹脂を共重合成分として用いる方法や、ポリオールやポリイソシアネート、鎖延長剤などの一成分としてカルボキシル基を持つ成分を用いる方法がある。特に、カルボキシル基含有ジオールを用いて、この成分の仕込み量によって所望の量のカルボキシル基を導入する方法が好ましい。例えば、ウレタン樹脂の重合に用いるジオールに対して、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ビス−(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、ビス−(2−ヒドロキシエチル)ブタン酸等を共重合させることができる。またこのカルボキシル基はアンモニア、アミン、アルカリ金属類、無機アルカリ類等で中和した塩の形にするのが好ましい。特に好ましいものは、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミンである。かかるポリウレタン樹脂は、塗布後の乾燥工程において中和剤が外れたカルボキシル基を、他の架橋剤による架橋反応点として用いることが出来る。これにより、塗布前の液の状態での安定性に優れる上、得られる離型層の耐久性、耐溶剤性、耐水性、耐ブロッキング性等をさらに改善することが可能となる。 The urethane resin may use a solvent as a medium, but is preferably water as a medium. To disperse or dissolve the urethane resin in water, there are a forced emulsification type using an emulsifier, a self-emulsification type in which a hydrophilic group is introduced into the urethane resin, a water-soluble type, and the like. In particular, a self-emulsifying type in which an ionic group is introduced into the structure of a urethane resin to form an ionomer is preferable because it is excellent in storage stability of the liquid, water resistance of the obtained coating layer, and transparency. Examples of the ionic group to be introduced include various types such as a carboxyl group, a sulfonic acid, a phosphoric acid, a phosphonic acid, and a quaternary ammonium salt, and a carboxyl group is preferable. As a method for introducing a carboxyl group into the urethane resin, various methods can be taken in each stage of the polymerization reaction. For example, there are a method of using a resin having a carboxyl group as a copolymerization component and a method of using a component having a carboxyl group as one component of a polyol, a polyisocyanate, a chain extender, etc. at the time of prepolymer synthesis. In particular, a method of using a carboxyl group-containing diol and introducing a desired amount of carboxyl groups according to the amount of this component charged is preferable. For example, copolymerizing dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, bis- (2-hydroxyethyl) propionic acid, bis- (2-hydroxyethyl) butanoic acid, etc. with the diol used for polymerizing the urethane resin. Can be done. Further, this carboxyl group is preferably in the form of a salt neutralized with ammonia, amines, alkali metals, inorganic alkalis and the like. Particularly preferred are ammonia, trimethylamine and triethylamine. In such a polyurethane resin, the carboxyl group from which the neutralizing agent has been removed in the drying step after coating can be used as a cross-linking reaction point by another cross-linking agent. As a result, the stability of the liquid before coating is excellent, and the durability, solvent resistance, water resistance, blocking resistance, etc. of the obtained release layer can be further improved.

アクリル樹脂とは、アクリル系、メタアクリル系のモノマーを含む重合性モノマーからなる重合体である。これらは、単独重合体あるいは共重合体、さらにはアクリル系、メタアクリル系のモノマー以外の重合性モノマーとの共重合体、いずれでも差し支えない。また、それら重合体と他のポリマー(例えばポリエステル、ポリウレタン等)との共重合体も含まれる。例えば、ブロック共重合体、グラフト共重合体である。あるいは、ポリエステル溶液、またはポリエステル分散液中で重合性モノマーを重合して得られたポリマー(場合によってはポリマーの混合物)も含まれる。同様にポリウレタン溶液、ポリウレタン分散液中で重合性モノマーを重合して得られたポリマー(場合によってはポリマーの混合物)も含まれる。同様にして他のポリマー溶液、または分散液中で重合性モノマーを重合して得られたポリマー(場合によってはポリマー混合物)も含まれる。また、基材との密着性をより向上させるために、ヒドロキシル基、アミノ基を含有することも可能である。 The acrylic resin is a polymer composed of a polymerizable monomer containing an acrylic-based or methacrylic-based monomer. These may be homopolymers or copolymers, and may be copolymers with polymerizable monomers other than acrylic and methacrylic monomers. Also included are copolymers of these polymers with other polymers (eg polyester, polyurethane, etc.). For example, block copolymers and graft copolymers. Alternatively, a polymer (possibly a mixture of polymers) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a polyester solution or a polyester dispersion is also included. Similarly, a polymer (in some cases, a mixture of polymers) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a polyurethane solution or a polyurethane dispersion is also included. Similarly, a polymer (in some cases, a polymer mixture) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in another polymer solution or dispersion is also included. Further, it is also possible to contain a hydroxyl group and an amino group in order to further improve the adhesion to the base material.

上記重合性モノマーとしては、特に限定はしないが、特に代表的な化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸のような各種カルボキシル基含有モノマー類、およびそれらの塩;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、モノブチルヒドロキルフマレート、モノブチルヒドロキシイタコネートのような各種の水酸基含有モノマー類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートのような各種の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミドまたは(メタ)アクリロニトリル等のような種々の窒素含有化合物;スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエンのような各種スチレン誘導体、プロピオン酸ビニルのような各種のビニルエステル類;γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のような種々の珪素含有重合性モノマー類;燐含有ビニル系モノマー類;塩化ビニル、塩化ビリデンのような各種のハロゲン化ビニル類;ブタジエンのような各種共役ジエン類が挙げられる。 The polymerizable monomer is not particularly limited, but typical compounds include various carboxyl groups such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, and citraconic acid. Monomers and salts thereof; such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, monobutylhydroquilfumarate, monobutylhydroxyitaconate. Various hydroxyl group-containing monomers; Various (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate; Various nitrogen-containing compounds such as meta) acrylamide, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide or (meth) acrylonitrile; various styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, vinyltoluene, vinyl propionate. Various vinyl esters such as; various silicon-containing polymerizable monomers such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, etc .; phosphorus-containing vinyl-based monomers; various types such as vinyl chloride, billidene chloride. Vinyl halides; various conjugated dienes such as butadiene can be mentioned.

本発明における保護フィルムを構成する離型層の全不揮発成分に対する割合として、長鎖アルキル基含有化合物は、通常3重量%以上の範囲、好ましくは5〜95重量%の範囲、さらに好ましくは10〜90重量%の範囲である。3重量%より少ない場合は十分な離型性能が得られない可能性がある。 As a ratio of the release layer constituting the protective film in the present invention to all non-volatile components, the long-chain alkyl group-containing compound is usually in the range of 3% by weight or more, preferably in the range of 5 to 95% by weight, more preferably 10 to 10% by weight. It is in the range of 90% by weight. If it is less than 3% by weight, sufficient mold release performance may not be obtained.

離型層に架橋剤を併用する場合、架橋剤としてメラミン化合物を用いる場合は、離型層の全不揮発成分に対する割合として、長鎖アルキル基含有化合物は、10〜95重量%の範囲が好ましく、20〜90重量%の範囲がより好ましく、30〜85重量%の範囲が特に好ましい。 When a cross-linking agent is used in combination with the release layer, and when a melamine compound is used as the cross-linking agent, the ratio of the long-chain alkyl group-containing compound to the total non-volatile components of the release layer is preferably in the range of 10 to 95% by weight. The range of 20 to 90% by weight is more preferable, and the range of 30 to 85% by weight is particularly preferable.

架橋剤としてイソシアネート系化合物を用いる場合は、離型層の全不揮発成分に対する割合として、長鎖アルキル基含有化合物は、5〜95重量%の範囲が好ましく、15〜93重量%の範囲がより好ましく、25〜90重量%の範囲が特に好ましい。 When an isocyanate compound is used as the cross-linking agent, the ratio of the long-chain alkyl group-containing compound to the total non-volatile components of the release layer is preferably in the range of 5 to 95% by weight, more preferably in the range of 15 to 93% by weight. The range of 25 to 90% by weight is particularly preferable.

本発明における保護フィルムを構成する離型層に架橋剤を併用する場合、離型層の全不揮発成分に対する割合として、架橋剤は、好ましくは97重量%以下の範囲、より好ましくは5〜95重量%の範囲、さらに好ましくは10〜90重量%の範囲である。上記範囲で使用することで、離型層の耐熱性を向上させることが可能であり、熱処理後も十分な離型性を保持することが可能となる。 When a cross-linking agent is used in combination with the release layer constituting the protective film in the present invention, the ratio of the cross-linking agent to the total non-volatile components of the release layer is preferably in the range of 97% by weight or less, more preferably 5 to 95% by weight. %, More preferably 10 to 90% by weight. By using it in the above range, it is possible to improve the heat resistance of the release layer, and it is possible to maintain sufficient releasability even after the heat treatment.

架橋剤にメラミン化合物を用いる場合は、離型層の全不揮発成分に対する割合として、メラミン化合物は、5〜90重量%の範囲が好ましく、10〜80重量%の範囲がより好ましく、15〜70重量%の範囲が特に好ましい。 When a melamine compound is used as the cross-linking agent, the ratio of the melamine compound to the total non-volatile components of the release layer is preferably in the range of 5 to 90% by weight, more preferably in the range of 10 to 80% by weight, and 15 to 70% by weight. The% range is particularly preferred.

架橋剤にイソシアネート系化合物を用いる場合は、離型層の全不揮発成分に対する割合として、イソシアネート系化合物は、5〜95重量%の範囲が好ましく、7〜85重量%の範囲がより好ましく、10〜75重量%の範囲が特に好ましい。 When an isocyanate compound is used as the cross-linking agent, the ratio of the isocyanate compound to the total non-volatile components of the release layer is preferably in the range of 5 to 95% by weight, more preferably in the range of 7 to 85% by weight, and 10 to 10% by weight. The range of 75% by weight is particularly preferable.

本発明の離型層の離型性は、対するフォトレジスト層の材料の種類によるが、例えばアクリル系粘着テープに対する剥離力として表した場合、好ましくは1000mN/cm以下、より好ましくは500mN/cm以下、さらに好ましくは200mN/cm以下、特に好ましくは170mN/cm以下である。また剥離力の下限は好ましくは10mN/cmである。 The releasability of the releasable layer of the present invention depends on the type of material of the photoresist layer, but when expressed as a peeling force against an acrylic adhesive tape, for example, it is preferably 1000 mN / cm or less, more preferably 500 mN / cm or less. More preferably, it is 200 mN / cm or less, and particularly preferably 170 mN / cm or less. The lower limit of the peeling force is preferably 10 mN / cm.

本発明の離型層のアクリル系粘着テープに対する加熱処理後の剥離力は、加熱前の剥離力の値にもよるが、100℃で1時間加熱後した後の剥離力が、好ましくは1700mN/cm以下、より好ましくは1100mN/cm以下、さらに好ましくは850mN/cm以下、特に好ましくは750mN/cm以下である。上記範囲にすることで、加熱処理が加わっても粘着層を上手く剥離することが可能となる。また加熱処理後の剥離力の下限は好ましくは10mN/cmである。 The peeling force of the release layer of the present invention after heat treatment on the acrylic adhesive tape depends on the value of the peeling force before heating, but the peeling force after heating at 100 ° C. for 1 hour is preferably 1700 mN /. It is cm or less, more preferably 1100 mN / cm or less, still more preferably 850 mN / cm or less, and particularly preferably 750 mN / cm or less. Within the above range, the adhesive layer can be successfully peeled off even if heat treatment is applied. The lower limit of the peeling force after the heat treatment is preferably 10 mN / cm.

本発明における離型層はポリエステルフィルムの少なくとも片面に積層されたことを特徴とするが、ポリエステルフィルムのもう一方の面には、離型層とは別の機能層を設けてもよい。機能層は特に限定されないが、帯電防止層、汚れ防止層、ブロッキング防止層などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステルフィルムを保護フィルムとして用いる場合、フィルムを剥離する際に発生する静電気を抑制する目的から、帯電防止剤を含有する層であることが好ましい。 The release layer in the present invention is characterized in that it is laminated on at least one side of the polyester film, but a functional layer different from the release layer may be provided on the other side of the polyester film. The functional layer is not particularly limited, and examples thereof include an antistatic layer, an antifouling layer, and an antiblocking layer. Among these, when a polyester film is used as a protective film, it is preferably a layer containing an antistatic agent for the purpose of suppressing static electricity generated when the film is peeled off.

本発明における保護フィルムに関して、ポリエステルフィルム上に設けられる離型層の膜厚は、好ましくは0.001〜1μm、より好ましくは0.005〜0.5μm、さらに好ましくは0.01〜0.2μmの範囲である。膜厚が1μmを超える場合は、塗膜外観の悪化や塗膜の硬化不足が生じる可能性があり、膜厚が0.001μm未満の場合は十分な離型性が得られない可能性がある。 Regarding the protective film in the present invention, the film thickness of the release layer provided on the polyester film is preferably 0.001 to 1 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm, and further preferably 0.01 to 0.2 μm. Is the range of. If the film thickness exceeds 1 μm, the appearance of the coating film may deteriorate or the coating film may not be sufficiently cured. If the film thickness is less than 0.001 μm, sufficient releasability may not be obtained. ..

本発明の主旨を損なわない範囲において、本発明のフィルムの離型層の形成に、ブロッキング性や滑り性改良等を目的として粒子を併用することも可能である。 Particles can also be used in combination with the formation of the release layer of the film of the present invention for the purpose of improving blocking property and slipperiness, as long as the gist of the present invention is not impaired.

さらに本発明の主旨を損なわない範囲において、離型層の形成には必要に応じて消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、発泡剤、染料、顔料等を併用することも可能である。 Further, as long as the gist of the present invention is not impaired, a defoaming agent, a coatability improver, a thickener, an organic lubricant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, and an antioxidant are required for forming the release layer. It is also possible to use agents, foaming agents, dyes, pigments and the like in combination.

離型層の成分の分析は、例えば、TOF−SIMS、ESCA、蛍光X線等の分析によって行うことができる。 The analysis of the components of the release layer can be performed by, for example, analysis of TOF-SIMS, ESCA, fluorescent X-rays and the like.

インラインコーティングによって離型層を設ける場合は、上述の一連の化合物を水溶液または水分散体として、固形分濃度が0.1〜50重量%程度を目安に調整した塗布液をポリエステルフィルム上に塗布する要領にて保護フィルムを製造するのが好ましい。また、本発明の主旨を損なわない範囲において、水への分散性改良、造膜性改良等を目的として、塗布液中には少量の有機溶剤を含有していてもよい。有機溶剤は1種類のみでもよく、適宜、2種類以上を使用してもよい。 When a release layer is provided by in-line coating, a coating liquid having a solid content concentration of about 0.1 to 50% by weight is applied onto a polyester film using the above series of compounds as an aqueous solution or an aqueous dispersion. It is preferable to manufacture the protective film in the same manner. Further, a small amount of an organic solvent may be contained in the coating liquid for the purpose of improving dispersibility in water, improving film-forming property, etc., as long as the gist of the present invention is not impaired. Only one kind of organic solvent may be used, and two or more kinds may be used as appropriate.

本発明の離型層を形成する方法としては、例えば、グラビアコート、リバースロールコート、ダイコート、エアドクターコート、ブレードコート、ロッドコート、バーコート、カーテンコート、ナイフコート、トランスファロールコート、スクイズコート、含浸コート、キスコート、スプレーコート、カレンダコート、押出コート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。 Examples of the method for forming the release layer of the present invention include a gravure coat, a reverse roll coat, a die coat, an air doctor coat, a blade coat, a rod coat, a bar coat, a curtain coat, a knife coat, a transfer roll coat, and a squeeze coat. Conventionally known coating methods such as impregnation coating, kiss coating, spray coating, calendar coating, and extrusion coating can be used.

本発明において、ポリエステルフィルム上に離型層を形成する際の乾燥および硬化条件に関しては、例えば、オフラインコーティングにより離型層を設ける場合、通常、80〜200℃で3〜40秒間、好ましくは100〜180℃で3〜40秒間を目安として熱処理を行うのが良い。 In the present invention, regarding the drying and curing conditions when forming the release layer on the polyester film, for example, when the release layer is provided by offline coating, it is usually at 80 to 200 ° C. for 3 to 40 seconds, preferably 100. It is preferable to perform heat treatment at ~ 180 ° C. for 3 to 40 seconds as a guide.

一方、インラインコーティングにより離型層を設ける場合、通常70〜270℃で3〜200秒間を目安として熱処理を行うのが良い。 On the other hand, when the release layer is provided by in-line coating, it is usually preferable to perform heat treatment at 70 to 270 ° C. for 3 to 200 seconds as a guide.

また、オフラインコーティングあるいはインラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。本発明における保護フィルムを構成するポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。 Further, regardless of the offline coating or the in-line coating, heat treatment and active energy ray irradiation such as ultraviolet irradiation may be used in combination as needed. The polyester film constituting the protective film in the present invention may be subjected to surface treatment such as corona treatment and plasma treatment in advance.

本発明の保護フィルムは、フォトレジストフィルムのフォトレジスト面に貼り合わせて、フォトレジスト層の保護フィルムとして使用することが出来る。フォトレジストフィルムはキャリアフィルム上に感光性樹脂組成物を含有するフォトレジスト層が形成された構造を有する。保護フィルムはフォトレジスト層の上に加圧積層することにより用いられる。 The protective film of the present invention can be attached to the photoresist surface of a photoresist film and used as a protective film for a photoresist layer. The photoresist film has a structure in which a photoresist layer containing a photosensitive resin composition is formed on a carrier film. The protective film is used by pressurizing and laminating on the photoresist layer.

キャリアフィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム等が挙げられるが、中でもポリエステルフィルムが特に好ましい。ポリエステルフィルムとしては、本発明の保護フィルムのポリエステルフィルムに記載の内容と同様のものが挙げられる。 Examples of the carrier film include a polyester film and a polypropylene film, and among them, a polyester film is particularly preferable. Examples of the polyester film include the same contents as described in the polyester film of the protective film of the present invention.

フォトレジスト層は感光性樹脂組成物を含有する層である。感光性樹脂組成物としては重合性不飽和基を有する単量体、ポリマー、光重合開始剤などを含む組成物である。重合性不飽和基を有する単量体としては、特に限定されないが、重合性不飽和基を1個有する単量体、重合性不飽和基を2個有する単量体、重合性不飽和基を3個以上有する単量体が挙げられ、これらは単独又は適宜併用して用いられる。 The photoresist layer is a layer containing a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition is a composition containing a monomer having a polymerizable unsaturated group, a polymer, a photopolymerization initiator and the like. The monomer having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited, but a monomer having one polymerizable unsaturated group, a monomer having two polymerizable unsaturated groups, and a polymerizable unsaturated group may be used. Examples thereof include monomers having three or more, and these are used alone or in combination as appropriate.

重合性不飽和基を1個有する単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 Examples of the monomer having one polymerizable unsaturated group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. ) Acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, 3-chloro-2 Examples thereof include -hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative, and N-methylol (meth) acrylamide.

重合性不飽和基を2個有する単量体としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でも特に、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレートやエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレートが好ましく用いられる。 Examples of the monomer having two polymerizable unsaturated groups include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and propylene. Glycoldi (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A type di (meth) acrylate, propylene oxide-modified bisphenol A type Di (meth) acrylate, ethylene oxide / propylene oxide modified bisphenol A type di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, ethylene glycol Diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, propylene glycol diglycidyl di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid-modified neopentyl glycol di (meth) ) Acrylate and the like can be mentioned. Of these, ethylene oxide-modified bisphenol A-type di (meth) acrylate and ethylene oxide / propylene oxide-modified bisphenol A-type di (meth) acrylate are particularly preferably used.

重合性不飽和基を3個以上有する単量体としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリプロポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the monomer having three or more polymerizable unsaturated groups include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tripropoxy (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (dipentaerythritol penta). Examples thereof include meth) acrylate, tri (meth) acryloyloxyethoxytrimethylolpropane, and glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate.

また、上記の他に、エポキシ(メタ)アクリレート系化合物、ウレタン(メタ)アクリレート系化合物、リン元素含有の重合性化合物などを含んでも良い。 In addition to the above, an epoxy (meth) acrylate compound, a urethane (meth) acrylate compound, a phosphorus element-containing polymerizable compound, or the like may be included.

重合性不飽和基を有する単量体として、重合性不飽和基を2個有し、かつ重量平均分子量が1500以下、好ましくは300〜1200であるものが好ましく、中でも特に、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレートが好適に用いられる。重量平均分子量が1,500を越えると架橋間距離が長くなり充分な硬化が得られず、解像力の低下、細線密着性の低下を招くこととなり好ましくない。 As the monomer having a polymerizable unsaturated group, a monomer having two polymerizable unsaturated groups and having a weight average molecular weight of 1500 or less, preferably 300 to 1200 is preferable, and among them, ethylene oxide-modified bisphenol A is particularly preferable. Type di (meth) acrylate and ethylene oxide / propylene oxide modified bisphenol A type di (meth) acrylate are preferably used. If the weight average molecular weight exceeds 1,500, the distance between crosslinks becomes long and sufficient curing cannot be obtained, which is not preferable because it causes a decrease in resolution and a decrease in fine line adhesion.

感光性樹脂組成物に含まれるポリマーとしては、特に限定されないが、アクリル系、メタアクリル系の重合性モノマーからなる重合体が挙げられる。単独重合体あるいは共重合体、さらにはアクリル系、メタアクリル系のモノマー以外の重合性モノマーとの共重合体、いずれでも差し支えない。重合性モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのカルボキシル基含有モノマー、あるいはそれらの無水物やハーフエステル、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテルなどが挙げられる。 The polymer contained in the photosensitive resin composition is not particularly limited, and examples thereof include a polymer composed of an acrylic-based or methacrylic-based polymerizable monomer. Either a homopolymer or a copolymer, or a copolymer with a polymerizable monomer other than an acrylic or methacrylic monomer may be used. As the polymerizable monomer, carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid, or their anhydrides, half esters, methyl (meth) acrylates, and ethyl (meth) acrylates. , Propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl ( Examples thereof include (meth) acrylates such as meta) acrylates, hydroxypropyl (meth) acrylates and glycidyl (meth) acrylates, acrylamides, methacrylicamides, acrylonitriles, methacrylonitriles, styrenes, α-methylstyrenes, vinyl acetates and alkylvinyl ethers. ..

上記のポリマーの重量平均分子量は好ましくは5千〜25万、より好ましくは1万〜20万の範囲である。重量平均分子量が5千未満では樹脂が柔らかくなり過ぎてフォトレジストフィルムとしてロール形態に加工したときに樹脂が染み出す現象が発生する場合があり、25万を越えると解像度が低下する場合がある。 The weight average molecular weight of the above polymer is preferably in the range of 5,000 to 250,000, more preferably 10,000 to 200,000. If the weight average molecular weight is less than 5,000, the resin may become too soft and the resin may seep out when processed into a roll form as a photoresist film, and if it exceeds 250,000, the resolution may decrease.

上記ポリマーのガラス転移温度(Tg)は30〜150℃の範囲が好ましい。ガラス転移温度が30℃未満では、樹脂が柔らかくなり過ぎてフォトレジストフィルムとしてロール形態に加工したときに樹脂が染み出す現象が発生する場合があり、150℃を越えると、フォトレジストフィルムとして用いた時の基板表面の凹凸への追従性が低下する可能性がある。 The glass transition temperature (Tg) of the polymer is preferably in the range of 30 to 150 ° C. If the glass transition temperature is less than 30 ° C., the resin may become too soft and the resin may seep out when processed into a roll form as a photoresist film. If the temperature exceeds 150 ° C., the resin is used as a photoresist film. There is a possibility that the ability to follow the unevenness of the substrate surface will decrease.

感光性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤としては従来公知のものが用いられる。例えば、ベンゾフェノン、P,P′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、P,P′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、P,P′−ビス(ジブチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、アントラキノン、ナフトキノン等のキノン誘導体、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ジクロロアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベンゾスパロン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパノン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン等のプロパノン誘導体、トリブロモフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン等のスルホン誘導体、2,4,6−[トリス(トリクロロメチル)]−1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス(トリクロロメチル)]−6−(4′−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス(トリクロロメチル)]−6−(4′−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス(トリクロロメチル)]−6−(ピペロニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス(トリクロロメチル)]−6−(4′−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン誘導体、アクリジン及び9−フェニルアクリジン等のアクリジン誘導体、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−フルオロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メトキシフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(p−メトキシフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,1′−ビイミダゾール、2,4,2′,4′−ビス[ビ(p−メトキシフェニル)]−5,5′−ジフェニル−1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5,4′,5′−ジフェニル−1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(p−メチルチオフェニル)−4,5,4′,5′−ジフェニル−1,1′−ビイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフェニル)−1,1′−ビイミダゾール等や特公昭45−37377号公報に開示される1,2′−、1,4′−、2,4′−で共有結合している互変異性体等のヘキサアリールビイミダゾール誘導体等、また、その他として、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケタール、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モリフォルノプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[ 4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル] −2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H −ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム等があげられる。これらは単独で又は2種以上併せて用いられる。これらのなかでも、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1が好ましい。 Conventionally known photopolymerization initiators are used as the photopolymerization initiator contained in the photosensitive resin composition. For example, benzophenone, P, P'-bis (dimethylamino) benzophenone, P, P'-bis (diethylamino) benzophenone, P, P'-bis (dibutylamino) benzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone. Etc., benzoin derivatives such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether and the like, quinone derivatives such as anthraquinone and naphthoquinone, 2-chlorothioxanthone, 2 -Thioxanthone derivatives such as methylthioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone, acetophenone derivatives such as dichloroacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, phenylglycilate, α-hydroxyisobutyl Propanone derivatives such as phenone, dibenzosparone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl-1-propanol, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone. , Tribromophenylsulfone, sulfone derivatives such as tribromomethylphenylsulfone, 2,4,6- [tris (trichloromethyl)]-1,3,5-triazine, 2,4- [bis (trichloromethyl)]- 6- (4'-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4- [bis (trichloromethyl)]-6- (4'-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2, 4- [bis (trichloromethyl)]-6- (piperonyl) -1,3,5-triazine, 2,4- [bis (trichloromethyl)]-6- (4'-methoxystyryl) -1,3, Triazine derivatives such as 5-triazine, aclysine and aclysine derivatives such as 9-phenylaclydin, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4', 5'-tetraphenyl-1,2'-bi Imidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4', 5'-tetraphenyl-1,1'-biimidazole, 2,2'-bis (o-fluorophenyl) -4, 5,4', 5'-tetraphenyl-1,1'-biimidazole, 2,2'-bis (o-methoxyphenyl) -4,5,4', 5'-tetraphenyl-1,1'- Biimidazole, 2,2'-bis (p-meth) Xiphenyl) -4,5,4', 5'-tetraphenyl-1,1'-biimidazole, 2,4,2', 4'-bis [bi (p-methoxyphenyl)]-5,5'- Diphenyl-1,1'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5,4', 5'-diphenyl-1,1'-biimidazole, 2,2'- Bis (p-methylthiophenyl) -4,5,4', 5'-diphenyl-1,1'-biimidazole, bis (2,4,5-triphenyl) -1,1'-biimidazole, etc. Hexaaryl biimidazole derivatives such as homomorphs co-linked with 1,2'-, 1,4'-, and 2,4'-disclosed in Japanese Patent Publication No. 45-373777, and others. , Benzoyl benzoic acid, Methyl benzoyl benzoate, benzyl diphenyl disulfide, benzyl dimethyl ketal, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-molyfornopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1 , 2-Diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy)- Phenyl] -2-Hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, bis (2,4,6- Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (η5) Examples thereof include -2,4-cyclopentadiene-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) -phenyl) titanium. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 are preferable.

感光性樹脂組成物には、その他に、メラミンなどのアミノ樹脂やイソシアネート系化合物などの熱架橋剤、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、マラカイトグリーンレイク、ブリリアントグリーン、パテントブルー、メチルバイオレット、ビクトリアブルー、ローズアニリン、パラフクシン、エチレンバイオレットなどの着色染料、密着性付与剤、可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を添加することができる。 In addition, the photosensitive resin composition includes amino resins such as melamine, thermal cross-linking agents such as isocyanate compounds, crystal violet, malachite green, malachite green lake, brilliant green, patent blue, methyl violet, Victoria blue, and rose aniline. , Coloring dyes such as parafuxin and ethylene violet, adhesion imparting agents, plasticizers, antioxidants, thermal polymerization inhibitors, solvents, surface tension modifiers, stabilizers, chain transfer agents, defoaming agents, flame retardants, etc. Additives can be added.

キャリアフィルムの上に感光性樹脂組成物を設けてフォトレジストフィルムを作成する場合、感光性樹脂組成物に有機溶剤を所定の濃度となるように混合して用いる方法が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、トルエン、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を併せて用いても良い。感光性樹脂組成物の混合物を含有する塗布液をキャリアフィルムの片面に、ロールコーター法やバーコーター法などの方法で均一に塗工し、通常50〜130℃、もしくは順次温度の高くなるオーブンで乾燥して、フォトレジスト層を形成し、保護フィルムで被覆することによりフォトレジストフィルムが製造される。 When a photosensitive resin composition is provided on the carrier film to prepare a photoresist film, a method of mixing the photosensitive resin composition with an organic solvent so as to have a predetermined concentration can be mentioned. Examples of the organic solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, toluene, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate and the like. These may be used alone or in combination of two or more. A coating solution containing a mixture of photosensitive resin compositions is uniformly applied to one side of the carrier film by a method such as a roll coater method or a bar coater method, and usually in an oven at 50 to 130 ° C. or gradually increasing in temperature. A photoresist film is produced by drying to form a photoresist layer and coating with a protective film.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法および評価方法は次のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist thereof is not exceeded. The measurement method and evaluation method used in the present invention are as follows.

(1)ポリエステルの極限粘度の測定方法
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(1) Method for measuring the ultimate viscosity of polyester 1 g of polyester from which other polymer components and pigments incompatible with polyester have been removed is precisely weighed, and 100 ml of a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio) is added. Was dissolved and measured at 30 ° C.

(2)平均粒径(d50)の測定
島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置(SA−CP3型)を用いて測定した等価球形分布における積算体積分率50%の粒径を平均粒径d50とした。
(2) Measurement of average particle size (d50) The average particle size d50 is the particle size with an integrated volume fraction of 50% in the equivalent spherical distribution measured using a centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device (SA-CP3 type) manufactured by Shimadzu Corporation. And said.

(3)離型層の膜厚測定方法
離型層の表面をRuOで染色し、エポキシ樹脂中に包埋した。その後、超薄切片法により作成した切片をRuOで染色し、離型層の断面をTEM(株式会社日立ハイテクノロジーズ製 H−7650、加速電圧100kV)を用いて測定した。
(3) Method for measuring the film thickness of the release layer The surface of the release layer was dyed with RuO 4 and embedded in an epoxy resin. Thereafter, the section prepared by ultramicrotomy stained with RuO 4, the cross section of the release layer TEM (Hitachi High Technologies Corporation H-7650, accelerating voltage 100 kV) was used for the measurement.

(4)離型層の剥離力の評価
離型層を設けたポリエステルフィルムの離型層表面に粘着テープ(日東電工株式会社製「No.31B」基材厚み25μm)を2kgゴムローラーにて1往復圧着し、室温にて1時間放置後の剥離力を測定した。剥離力は、株式会社島津製作所製「Ezgraph」を使用し、引張速度300mm/分の条件下、180°剥離を行った。
(4) Evaluation of release force of release layer Adhesive tape (Nitto Denko Corporation "No. 31B" base material thickness 25 μm) is applied to the surface of the release layer of the polyester film provided with the release layer with a 2 kg rubber roller. The peeling force was measured after reciprocating crimping and leaving at room temperature for 1 hour. As the peeling force, "Ezgraph" manufactured by Shimadzu Corporation was used, and 180 ° peeling was performed under the condition of a tensile speed of 300 mm / min.

(5)離型フィルムの加熱後剥離力の評価
離型層を設けたポリエステルフィルムの離型層表面に粘着テープ(日東電工株式会社製「No.31B」基材厚み25μm)を2kgゴムローラーにて1往復圧着した後、100℃のオーブン内にて1hr加熱した。その後、室温にて1時間放置後の剥離力を測定した。剥離力は、株式会社島津製作所製「Ezgraph」を使用し、引張速度300mm/分の条件下、180°剥離を行った。
(5) Evaluation of release force after heating of release film Adhesive tape (Nitto Denko Corporation "No. 31B" base material thickness 25 μm) is applied to a 2 kg rubber roller on the surface of the release layer of a polyester film provided with a release layer. After one round trip crimping, it was heated for 1 hr in an oven at 100 ° C. Then, the peeling force after being left at room temperature for 1 hour was measured. As the peeling force, "Ezgraph" manufactured by Shimadzu Corporation was used, and 180 ° peeling was performed under the condition of a tensile speed of 300 mm / min.

(6)フォトレジスト層との剥離性
キャリアフィルムとして、厚さ16μmである比較例1に記載のポリエステルフィルムを用い、その片面に下記組成の感光性樹脂組成物を塗布し、110℃で3分間、乾燥して40μmのフォトレジスト層を形成し、その上に本発明の保護フィルムを、離型層とフォトレジスト層が向かい合うように乗せた後、加圧して保護フィルムでカバーしたフォトレジストフィルムを作成した。その後、保護フィルムを剥がして、その剥離性を評価した。
剥離がスムーズでレジストの保護フィルムへの転写が無く、レジスト表面に傷を与えなかったものを○、剥離がスムーズでなかったり、レジストからの剥離が不可であったり、レジスト表面に傷を与えたりしたものを×とした。
(6) Peelability from the photoresist layer Using the polyester film according to Comparative Example 1 having a thickness of 16 μm as a carrier film, a photosensitive resin composition having the following composition was applied to one side thereof, and the temperature was 110 ° C. for 3 minutes. , Dry to form a photoresist layer of 40 μm, put the protective film of the present invention on it so that the release layer and the photoresist layer face each other, and then pressurize and cover the photoresist film with the protective film. Created. Then, the protective film was peeled off and its peelability was evaluated.
If the peeling is smooth and the resist is not transferred to the protective film and the resist surface is not scratched, the peeling is not smooth, the resist cannot be peeled off, or the resist surface is scratched. What was done was marked as x.

(感光性樹脂組成物の組成)
重合性不飽和基を有する単量体として、エチレンオキサイドの繰返し数が17(繰り返し単位数の合計)である、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタクリレートを30部、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレートを10部、トリメチロールプロパントリアクリレートを10部、ポリマーとして、メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/スチレン/メタクリル酸=45/15/15/25(重量比)の割合で重合した重量平均分子量が17万のポリマーを25部、スチレン/アクリル酸=75/25(重量比)の割合で重合させた重量平均分子量が2万のポリマーを25部、光重合開始剤として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンを2部、(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1を0.4部、溶剤として、メチルエチルケトンを75部、イソプロピルアルコールを25部の混合物。
(Composition of photosensitive resin composition)
As a monomer having a polymerizable unsaturated group, 30 parts of ethylene oxide-modified bisphenol A dimethacrylate and 10 parts of propylene glycol diglycidyl ether diacrylate, which have 17 repetitions of ethylene oxide (total number of repetition units). , Trimethylol Propane triacrylate, polymerized at a ratio of methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / styrene / methacrylic acid = 45/15/15/25 (weight ratio) as a polymer, polymer with a weight average molecular weight of 170,000 25 parts, 25 parts of a polymer having a weight average molecular weight of 20,000 polymerized at a ratio of styrene / acrylic acid = 75/25 (weight ratio), as a photopolymerization initiator, 2,2-dimethoxy-1,2- 2 parts of diphenylethane-1-one, 0.4 parts of (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1), 75 parts of methyl ethyl ketone as a solvent, and isopropyl alcohol. A mixture of 25 parts.

実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。
<ポリエステル(A)の製造方法>
テレフタル酸ジメチル100重量部、エチレングリコール60重量部、エチルアシッドフォスフェートを生成ポリエステルに対して30ppm、触媒として酢酸マグネシウム・四水和物を生成ポリエステルに対して100ppmを窒素雰囲気下、260℃でエステル化反応をさせた。引き続いて、テトラブチルチタネートを生成ポリエステルに対して50ppm添加し、2時間30分かけて280℃まで昇温すると共に、絶対圧力0.3kPaまで減圧し、さらに80分、溶融重縮合させ、極限粘度0.63、ジエチレングリコール量が2モル%のポリエステル(A)を得た。
The polyester used in Examples and Comparative Examples was prepared as follows.
<Manufacturing method of polyester (A)>
Ester 100 parts by weight of dimethyl terephthalate, 60 parts by weight of ethylene glycol, 30 ppm of ethyl acid phosphate for the produced polyester, and 100 ppm of magnesium acetate / tetrahydrate as a catalyst for the produced polyester in a nitrogen atmosphere at 260 ° C. A chemical reaction was allowed. Subsequently, 50 ppm of tetrabutyl titanate was added to the produced polyester, the temperature was raised to 280 ° C. over 2 hours and 30 minutes, the pressure was reduced to an absolute pressure of 0.3 kPa, and the mixture was further polycondensed for 80 minutes to achieve the ultimate viscosity. A polyester (A) having 0.63 and a diethylene glycol content of 2 mol% was obtained.

<ポリエステル(B)の製造方法>
テレフタル酸ジメチル100重量部、エチレングリコール60重量部、触媒として酢酸マグネシウム・四水和物を生成ポリエステルに対して900ppmを窒素雰囲気下、225℃でエステル化反応をさせた。引き続いて、正リン酸を生成ポリエステルに対して3500ppm、二酸化ゲルマニウムを生成ポリエステルに対して70ppm添加し、2時間30分かけて280℃まで昇温すると共に、絶対圧力0.4kPaまで減圧し、さらに85分、溶融重縮合させ、極限粘度0.64、ジエチレングリコール量が2モル%のポリエステル(B)を得た。
<Manufacturing method of polyester (B)>
100 parts by weight of dimethyl terephthalate, 60 parts by weight of ethylene glycol, and magnesium acetate tetrahydrate as a catalyst were subjected to an esterification reaction at 225 ° C. with 900 ppm in a nitrogen atmosphere. Subsequently, 3500 ppm of positive phosphoric acid was added to the produced polyester, and 70 ppm of germanium dioxide was added to the produced polyester, the temperature was raised to 280 ° C. over 2 hours and 30 minutes, and the pressure was reduced to an absolute pressure of 0.4 kPa. Polyester (B) having an ultimate viscosity of 0.64 and a diethylene glycol content of 2 mol% was obtained by melt polycondensation for 85 minutes.

<ポリエステル(C)の製造方法>
ポリエステル(A)の製造方法において、溶融重合前に平均粒径2μmのシリカ粒子を0.3重量部添加する以外はポリエステル(A)の製造方法と同様の方法を用いてポリエステル(C)を得た。
<Manufacturing method of polyester (C)>
In the method for producing polyester (A), polyester (C) is obtained by using the same method as the method for producing polyester (A) except that 0.3 parts by weight of silica particles having an average particle size of 2 μm are added before melt polymerization. It was.

離型層および機能層を構成する化合物例は以下のとおりである。
・長鎖アルキル基含有化合物:(I)
4つ口フラスコにキシレン200部、オクタデシルイソシアネート600部を加え、攪拌下に加熱した。キシレンが還流し始めた時点から、平均重合度500、ケン化度88モル%のポリビニルアルコール100部を少量ずつ10分間隔で約2時間にわたって加えた。ポリビニルアルコールを加え終わってから、さらに2時間還流を行い、反応を終了した。反応混合物を約80℃まで冷却してから、メタノール中に加えたところ、反応生成物が白色沈殿として析出したので、この沈殿を濾別し、キシレン140部を加え、加熱して完全に溶解させた後、再びメタノールを加えて沈殿させるという操作を数回繰り返した後、沈殿をメタノールで洗浄し、乾燥粉砕して得た。
Examples of compounds constituting the release layer and the functional layer are as follows.
-Long chain alkyl group-containing compound: (I)
200 parts of xylene and 600 parts of octadecyl isocyanate were added to a four-necked flask and heated under stirring. From the time when xylene began to reflux, 100 parts of polyvinyl alcohol having an average degree of polymerization of 500 and a saponification degree of 88 mol% was added little by little at 10-minute intervals for about 2 hours. After the addition of polyvinyl alcohol was completed, reflux was carried out for another 2 hours to complete the reaction. When the reaction mixture was cooled to about 80 ° C. and then added to methanol, the reaction product precipitated as a white precipitate. This precipitate was filtered off, 140 parts of xylene was added, and the mixture was heated to completely dissolve it. After that, the operation of adding methanol again to precipitate was repeated several times, and then the precipitate was washed with methanol and dried and pulverized to obtain the precipitate.

・メラミン化合物:(IIA)
メチロール基とメトキシ基が1:2.2の比率である部分エーテル化メラミン
・活性メチレンブロックポリイソシアネート:(IIB)
下記方法で合成したブロックポリイソシアネート
ヘキサメチレンジイソシアネート1000部を60℃で攪拌し、触媒としてテトラメチルアンモニウム・カプリレート0.1部を加えた。4時間後、リン酸0.2部を添加して反応を停止させ、イソシアヌレート型ポリイソシアネート組成物を得た。得られたイソシアヌレート型ポリイソシアネート組成物100部、数平均分子量400のメトキシポリエチレングリコール42.3部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート29.5部を仕込み、80℃で7時間保持した。その後反応液温度を60℃に保持し、イソブタノイル酢酸メチル35.8部、マロン酸ジエチル32.2部、ナトリウムメトキシドの28%メタノール溶液0.88部を添加し、4時間保持した。n−ブタノール58.9部を添加し、反応液温度80℃で2時間保持し、その後、2−エチルヘキシルアシッドホスフェート0.86部を添加して得られたブロックポリイソシアネート
・ Melamine compound: (IIA)
Partially etherified melamine with a ratio of methylol group to methoxy group of 1: 2.2
-Active methylene block polyisocyanate: (IIB)
1000 parts of blocked polyisocyanate hexamethylene diisocyanate synthesized by the following method was stirred at 60 ° C., and 0.1 part of tetramethylammonium caprilate was added as a catalyst. After 4 hours, 0.2 part of phosphoric acid was added to stop the reaction to obtain an isocyanurate-type polyisocyanate composition. 100 parts of the obtained isocyanurate-type polyisocyanate composition, 42.3 parts of methoxypolyethylene glycol having a number average molecular weight of 400, and 29.5 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged and held at 80 ° C. for 7 hours. Then, the temperature of the reaction solution was maintained at 60 ° C., 35.8 parts of methyl isobutanoyl acetate, 32.2 parts of diethyl malonate, and 0.88 parts of a 28% methanol solution of sodium methoxide were added and kept for 4 hours. Block polyisocyanate obtained by adding 58.9 parts of n-butanol, holding at a reaction solution temperature of 80 ° C. for 2 hours, and then adding 0.86 parts of 2-ethylhexyl acid phosphate.

・ポリエステル樹脂:(IIIA)
下記組成で共重合したポリエステル樹脂の水分散体
モノマー組成:(酸成分)テレフタル酸/イソフタル酸/5−ソジウムスルホイソフタル酸//(ジオール成分)エチレングリコール/1,4−ブタンジオール/ジエチレングリコール=56/40/4//70/20/10(mol%)
・アクリル樹脂:(IIIB)下記組成で重合したアクリル樹脂の水分散体
エチルアクリレート/n−ブチルアクリレート/メチルメタクリレート/N−メチロールアクリルアミド/アクリル酸=65/21/10/2/2(重量%)の乳化重合体(乳化剤:アニオン系界面活性剤)
・ウレタン樹脂(IIIC)
イソホロンジイソシアネート/テレフタル酸/イソフタル酸/エチレングリコール/ジエチレングリコール/ジメチロールプロパン酸=12/19/18/21/25/5(mol%)から形成されるポリエステル系ウレタン樹脂の水分散体。
-Polyester resin: (IIIA)
Aqueous dispersion of polyester resin copolymerized with the following composition Monomer composition: (acid component) terephthalic acid / isophthalic acid / 5-sodium sulfoisophthalic acid // (diol component) ethylene glycol / 1,4-butanediol / diethylene glycol = 56/40/4 // 70/20/10 (mol%)
-Acrylic resin: (IIIB) Acrylic resin polymerized with the following composition Ethyl acrylate / n-butyl acrylate / methyl methacrylate / N-methylol acrylamide / acrylic acid = 65/21/10/2/2 (% by weight) Emulsified polymer (emulsifier: anionic surfactant)
・ Urethane resin (IIIC)
An aqueous dispersion of a polyester urethane resin formed from isophorone diisocyanate / terephthalic acid / isophthalic acid / ethylene glycol / diethylene glycol / dimethylolpropane acid = 12/19/18/21/25/5 (mol%).

実施例1:
ポリエステル(A)、(B)、(C)をそれぞれ77%、3%、20%の割合で混合した混合原料を最外層(表層)の原料とし、ポリエステル(A)、(B)をそれぞれ97%、3%の割合で混合した混合原料を中間層の原料として、2台の押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、40℃に設定した冷却ロール上に、2種3層(表層/中間層/表層=1:6:1の吐出量)の層構成で共押出し冷却固化させて未延伸シートを得た。
次いで、ロール周速差を利用してフィルム温度85℃で縦方向に3.4倍延伸した後、この縦延伸フィルムの片面に、下記表1に示す塗布液1を塗布し、テンターに導き、横方向に100℃で4.0倍延伸し、230℃で熱処理を行った後、横方向に2%弛緩し、片面に塗布層の膜厚(乾燥後)が0.03μmの離型層を有する厚さ16μmの保護フィルムを得た。得られた保護フィルムを評価したところ、初期の離型性や、加熱後の離型性も良好であり、フォトレジスト層に対する剥離性も良好なフィルムであった。このフィルムの特性を下記表2に示す。
Example 1:
A mixed raw material in which polyesters (A), (B) and (C) are mixed at a ratio of 77%, 3% and 20%, respectively, is used as a raw material for the outermost layer (surface layer), and polyesters (A) and (B) are 97, respectively. Using the mixed raw material mixed at a ratio of% and 3% as the raw material for the intermediate layer, each of them was supplied to two extruders, melted at 285 ° C., and then placed on a cooling roll set at 40 ° C. An unstretched sheet was obtained by coextrusion, cooling and solidifying with a layer structure of layers (surface layer / intermediate layer / surface layer = 1: 6: 1 discharge amount).
Next, after stretching 3.4 times in the longitudinal direction at a film temperature of 85 ° C. using the difference in roll peripheral speed, the coating liquid 1 shown in Table 1 below was applied to one side of the vertically stretched film and guided to a tenter. After stretching 4.0 times at 100 ° C in the lateral direction and heat-treating at 230 ° C, it relaxes by 2% in the lateral direction, and a release layer having a coating layer thickness (after drying) of 0.03 μm is formed on one side. A protective film having a thickness of 16 μm was obtained. When the obtained protective film was evaluated, it was found that the initial releasability and the releasability after heating were good, and the releasability to the photoresist layer was also good. The characteristics of this film are shown in Table 2 below.

実施例2〜23:
実施例1において、離型層の組成を表1に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例1と同様にして製造し、保護フィルムを得た。でき上がった保護フィルムは表2に示すとおり、初期の離型性や、加熱後の離型性も良好であり、フォトレジスト層に対する剥離性も良好であった。
Examples 2-23:
In Example 1, a protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the release layer was changed to the coating agent composition shown in Table 1. As shown in Table 2, the completed protective film had good initial releasability and releasability after heating, and also had good releasability to the photoresist layer.

比較例1:
実施例1において、離型層を設けないこと以外は実施例1と同様にして製造し、保護フィルムを得た。でき上がった保護フィルムを評価したところ、表2に示すとおりであり、離型層の離型性が劣り、フォトレジスト層に対する剥離性も劣るフィルムであった。
Comparative Example 1:
In Example 1, a protective film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1 except that the release layer was not provided. When the finished protective film was evaluated, it was as shown in Table 2, and it was a film in which the release property of the release layer was inferior and the release property to the photoresist layer was also inferior.

比較例2〜4:
実施例1において、離型層の塗布剤組成を表1に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例1と同様にして製造し、保護フィルムを得た。でき上がった保護フィルムを評価したところ、表2に示すとおりであり、離型層の離型性が劣り、フォトレジスト層に対する剥離性も劣るフィルムであった。
Comparative Examples 2-4:
In Example 1, a protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent composition of the release layer was changed to the coating agent composition shown in Table 1. When the finished protective film was evaluated, it was as shown in Table 2, and it was a film in which the release property of the release layer was inferior and the release property to the photoresist layer was also inferior.

Figure 0006835128
Figure 0006835128

Figure 0006835128
Figure 0006835128

本発明のフォトレジスト用保護フィルムは、例えば、プリント配線板製造時などに用いられるフォトレジスト用の保護フィルムとして好適に利用することができる。 The photoresist protective film of the present invention can be suitably used as a photoresist protective film used, for example, when manufacturing a printed wiring board.

Claims (8)

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に非耐熱性粒子を含有する塗布層を介さずに離型層を有し、当該離型層が炭素数が6以上の直鎖または分岐のアルキル基を有する化合物を含有し、当該ポリエステルフィルムに使用されるポリエステルが重合触媒としてチタン化合物又はゲルマニウム化合物を用いて形成されたものであることを特徴とする、フォトレジスト面に貼り合わせて使用される、該フォトレジストを保護するためのフォトレジスト用保護フィルム。 At least one surface having a release layer without passing through the coating layer containing a non-heat-resistant particles, the releasing layer, containing a compound having a C 6 or more linear or branched alkyl groups of the polyester film The polyester used for the polyester film is formed by using a titanium compound or a germanium compound as a polymerization catalyst , and is used by adhering to a photoresist surface to protect the photoresist. photoresist protective film for. ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型層を有し、当該離型層は、炭素数が6以上の直鎖または分岐のアルキル基を有する化合物を含有し、当該ポリエステルフィルムに使用されるポリエステルが重合触媒としてチタン化合物又はゲルマニウム化合物を用いて形成されたものであり、該離型層のアクリル系粘着テープに対する100℃で1時間加熱した後の剥離力が1100mN/cm以下であることを特徴とする、フォトレジスト面に貼り合わせて使用される、該フォトレジストを保護するためのフォトレジスト用保護フィルム。The polyester film has a release layer on at least one side, and the release layer contains a compound having a linear or branched alkyl group having 6 or more carbon atoms, and the polyester used in the polyester film is a polymerization catalyst. It is formed by using a titanium compound or a germanium compound, and has a peeling force of 1100 mN / cm or less after heating the acrylic adhesive tape of the release layer at 100 ° C. for 1 hour. A protective film for a photoresist that is used by adhering it to a photoresist surface to protect the photoresist. 前記離型層がメラミン化合物を用いて形成された層である請求項1又は2に記載のフォトレジスト用保護フィルム。 The protective film for a photoresist according to claim 1 or 2 , wherein the release layer is a layer formed by using a melamine compound. 前記離型層がイソシアネート基を活性メチレン系ブロック剤で保護した構造を有するブロックイソシアネートを用いて形成された層である請求項1又は2に記載のフォトレジスト用保護フィルム。 The protective film for a photoresist according to claim 1 or 2 , wherein the release layer is a layer formed by using a blocked isocyanate having a structure in which an isocyanate group is protected with an active methylene-based blocking agent. 前記活性メチレン系ブロック剤が、イソブタノイル酢酸エステル、n−プロパノイル酢酸エステル、n−ブタノイル酢酸エステル、n−ペンタノイル酢酸エステル、n−ヘキサノイル酢酸エステルおよび2−エチルヘプタノイル酢酸エステルから選ばれる少なくとも一種である請求項に記載のフォトレジスト用保護フィルム。 The active methylene blocking agent is at least one selected from isobutanoyl acetate, n-propanoyl acetate, n-butanoyl acetate, n-pentanoyl acetate, n-hexanoyl acetate and 2-ethylheptanoyl acetate. The protective film for a photoresist according to claim 4. 前記活性メチレン系ブロック剤が、2種以上である請求項に記載のフォトレジスト用保護フィルム。 The protective film for a photoresist according to claim 4 , wherein the active methylene-based blocking agent is two or more kinds. 前記活性メチレン系ブロック剤の少なくとも1種が、マロン酸ジメチルまたはマロン酸ジエチルである請求項に記載のフォトレジスト用保護フィルム。 The protective film for a photoresist according to claim 6 , wherein at least one of the active methylene-based blocking agents is dimethyl malonate or diethyl malonate. 請求項1〜の何れかに記載のフォトレジスト用保護フィルムを、フォトレジストフィルムのフォトレジスト面に貼り合わせてなる積層体。 A laminate obtained by laminating the photoresist protective film according to any one of claims 1 to 7 to the photoresist surface of the photoresist film.
JP2019071055A 2019-04-03 2019-04-03 Protective film for photoresist Active JP6835128B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019071055A JP6835128B2 (en) 2019-04-03 2019-04-03 Protective film for photoresist

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019071055A JP6835128B2 (en) 2019-04-03 2019-04-03 Protective film for photoresist

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016064789A Division JP6565760B2 (en) 2016-03-29 2016-03-29 Protective film for photoresist

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019124958A JP2019124958A (en) 2019-07-25
JP6835128B2 true JP6835128B2 (en) 2021-02-24

Family

ID=67398719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019071055A Active JP6835128B2 (en) 2019-04-03 2019-04-03 Protective film for photoresist

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6835128B2 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267152A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Showa Denko Kk Photosensitive dry film for protection film of printed wiring board and method for manufacturing the same
JP5911465B2 (en) * 2013-03-30 2016-04-27 三菱樹脂株式会社 Laminated polyester film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019124958A (en) 2019-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5730922B2 (en) Laminated polyester film
KR101653618B1 (en) Laminated polyester film
JP6565760B2 (en) Protective film for photoresist
JP2012172057A (en) Laminated polyester film
EP2886340B1 (en) Coated film
JP6725032B2 (en) Polyester film for photosensitive resin substrate
JP5959554B2 (en) Laminated polyester film
JP6835128B2 (en) Protective film for photoresist
JP5783660B2 (en) Laminated polyester film
JP5679935B2 (en) Laminated polyester film
JP6269742B2 (en) Laminated polyester film
JP6658927B2 (en) Protective film for dry film resist and photosensitive resin laminate
JP2018069591A (en) Hard coat film
WO2023145938A1 (en) Laminated polyester film
JP5579233B2 (en) Laminated polyester film
JP5840265B2 (en) Laminated polyester film
JP6269741B2 (en) Laminated polyethylene terephthalate film
JP2024085182A (en) Laminated Polyester Film
JP6023304B2 (en) Laminated polyester film
JP6005704B2 (en) Laminated polyester film
JP5778835B2 (en) Laminated polyester film
JP5830210B2 (en) Laminated polyester film
JP5822963B2 (en) Laminated polyester film
JP5822961B2 (en) Laminated polyester film
JP5938058B2 (en) Laminated polyester film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190403

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200312

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200407

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20200604

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20200604

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200731

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210105

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210118

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6835128

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151