JP6832957B2 - 欠陥検査用レシピ選択方法及びシステム - Google Patents
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Description
本願は2016年2月1日付米国暫定特許出願第62/289,870号に基づき米国特許法第119条(e)の規定による利益を主張する出願である。ここに、当該米国暫定特許出願第62/289,870号の全容をこの参照を以て繰り入れることにする。
Claims (32)
- 特定種類のウェハの欠陥検査に適する光学モード及びアルゴリズムを選択する方法であって、
一組の光学モードを利用し上記特定種類の全積層ウェハをスキャンすることで一組の全積層ウェハ画像を得るステップと、
全積層ウェハを逆処理することで、上記一組の全積層ウェハ画像により指し示された潜在的欠陥の個所に基づき逆処理ウェハを作成し、ひいては上記特定種類のウェハの欠陥検査に適する光学モード及びアルゴリズムの選択を助けるステップと、
を有する方法。 - 請求項1に記載の方法であって、更に、
全積層ウェハから得た信号と逆処理ウェハ上の確認済欠陥個所との間の相関性を特定するステップと、
その確認済欠陥個所に関し、上記一組の光学モードに係る信号対雑音比の定量を助けるステップと、
その確認済欠陥個所に関し、上記一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比に基づき光学モードのサブセットを選択するステップと、
選択したサブセットの光学モードを踏まえ欠陥検査用レシピを編成するステップと、
を有する方法。 - 請求項1に記載の方法であって、更に、
上記一組の光学モードを利用し逆処理ウェハをスキャンすることで一組の逆処理ウェハ画像を得るステップと、
全積層ウェハから得た信号と逆処理ウェハから得た信号との間の相関性を、得られている一組の全積層ウェハ画像及び一組の逆処理ウェハ画像に基づき特定するステップと、
特定した相関性を利用し、上記一組の光学モードに係る信号対雑音比の定量を助けるステップと、
上記一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比に基づき光学モードのサブセットを選択するステップと、
選択したサブセットの光学モードを踏まえ欠陥検査用レシピを編成するステップと、
を有する方法。 - 請求項3に記載の方法であって、上記一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比の定量を助けるステップが、更に、
上記一組の光学モードを用い逆処理ウェハをスキャンする際に、当該一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比に基づき、当該一組の光学モードのなかから上位N通りの光学モードを選択するステップと、
上記上位N通りの光学モードを用い逆処理ウェハから得た信号を計測するステップと、
を有する方法。 - 請求項4に記載の方法であって、上記一組の光学モードに係る信号対雑音比の定量を助けるステップが、更に、
上記上位N通りの光学モードを利用し新規な全積層ウェハをスキャンするステップと、
上記上位N通りの光学モードによりもたらされた光学雑音を計測するステップと、
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比を定量するステップと、
を有する方法。 - 請求項5に記載の方法であって、上記一組の光学モードに係る信号対雑音比に基づき光学モードのサブセットを選択するステップが、更に、
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比に基づき、当該上位N通りの光学モードのなかから光学モードの上記サブセットを選択するステップを、有する方法。 - 請求項6に記載の方法であって、更に、
選択されているサブセットの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするステップと、
上記新規な全積層ウェハを逆処理することで、選択されているサブセットの光学モードを利用し当該新規な全積層ウェハをスキャンするステップにより指し示された潜在的注目欠陥の個所に基づき、新規な逆処理ウェハを作成するステップと、
選択されているサブセットの光学モードが欠陥検出上有効か否かを判別するステップと、
選択されているサブセットの光学モードが欠陥検出上有効であると判別されたときに、当該選択されているサブセットの光学モードを踏まえ欠陥検査用レシピを編成するステップと、
を有する方法。 - 請求項4に記載の方法であって、上記一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比の定量を助けるステップが、更に、
上記上位N通りの光学モードを用い新規な全積層ウェハから得ることができる信号を、当該上位N通りの光学モードを用い逆処理ウェハから得た信号と上記特定された相関性とに基づきシミュレートするステップと、
上記上位N通りの光学モードの信号又は信号対雑音比に基づき、当該上位N通りの光学モードのなかから上位M通りの光学モードを選択するステップと、
を有する方法。 - 請求項8に記載の方法であって、上記一組の光学モードに係る信号対雑音比の定量を助けるステップが、更に、
上記上位M通りの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするステップと、
上記上位M通りの光学モードによりもたらされた光学雑音を計測するステップと、
上記上位M通りの光学モードの信号対雑音比を定量するステップと、
を有する方法。 - 請求項9に記載の方法であって、更に、
上記上位M通りの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするステップと、
上記新規な全積層ウェハを逆処理することで、上記上位M通りの光学モードを利用し当該新規な全積層ウェハをスキャンするステップにより指し示された潜在的注目欠陥の個所に基づき、新規な逆処理ウェハを作成するステップと、
上記上位M通りの光学モードが欠陥検出上有効か否かを判別するステップと、
上記上位M通りの光学モードが欠陥検出上有効であると判別されたときに、当該上位M通りの光学モードを踏まえ欠陥検査用レシピを編成するステップと、
を有する方法。 - 請求項1に記載の方法であって、上記一組の光学モードが、絞り設定、焦点設定又は波長帯の面で異なる光学モードを含む方法。
- 請求項1に記載の方法であって、上記一組の光学モードが、焦点設定の面しか異ならない光学モードを含む方法。
- 請求項12に記載の方法であって、得られた全積層ウェハ画像が、その全積層ウェハのスルーフォーカススタック画像を含んでいる方法。
- 請求項1に記載の方法であって、更に、
得られた全積層ウェハ画像の処理に利用される少なくとも一種類のアルゴリズムを調整するステップを有する方法。 - 請求項14に記載の方法であって、上記少なくとも一種類のアルゴリズムが少なくとも一種類のフィルタリングアルゴリズムを含む方法。
- 請求項1に記載の方法であって、更に、
上記一組の光学モードを利用し逆処理ウェハをスキャンすることで一組の逆処理ウェハ画像を得るステップと、
全積層ウェハから得た信号と逆処理ウェハから得た信号との間の相関性を、得られている一組の全積層ウェハ画像及び一組の逆処理ウェハ画像に基づき特定するステップと、
上記一組の光学モードを用い逆処理ウェハをスキャンする際に、当該一組の光学モードに係る信号対雑音比に基づき、当該一組の光学モードのなかから上位N通りの光学モードを選択するステップと、
上記上位N通りの光学モードを用い逆処理ウェハから得た信号を計測するステップと、
上記上位N通りの光学モードを用い新規な全積層ウェハから得ることができる信号を、当該上位N通りの光学モードを用い逆処理ウェハから得た信号と上記特定された相関性とに基づきシミュレートするステップと、
上記上位N通りの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするステップと、
上記上位N通りの光学モードによりもたらされた光学雑音を計測するステップと、
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比を定量するステップと、
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比に基づき、当該上位N通りの光学モードのなかから光学モードのサブセットを選択するステップと、
選択したサブセットの光学モードを踏まえ欠陥検査用レシピを編成するステップと、
を有する方法。 - 請求項16に記載の方法であって、更に、
選択したサブセットの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするステップと、
上記新規な全積層ウェハを逆処理することで、選択したサブセットの光学モードを利用し当該新規な全積層ウェハをスキャンするステップにより指し示された潜在的注目欠陥の個所に基づき、新規な逆処理ウェハを作成するステップと、
選択されているサブセットの光学モードが欠陥検出上有効であるか否かを判別するステップと、
選択されているサブセットの光学モードが欠陥検出上有効であると判別されたときに、当該選択されているサブセットの光学モードを踏まえ欠陥検査用レシピを編成するステップと、
を有する方法。 - 1通り又は複数通りの光学モードを利用し1枚又は複数枚のウェハの光学画像を得るよう構成された光学検査ツールと、
画像格納媒体と、
上記光学検査ツールと通信する少なくとも1個のプロセッサであり、欠陥検査に適する光学モードの選択を助けるよう構成された少なくとも1個のプロセッサと、
を備え、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
一組の光学モードを用い全積層ウェハをスキャンすることで上記光学検査ツールにより得られた一組の全積層ウェハ画像を受け取るよう、
上記一組の全積層ウェハ画像により指し示された潜在的欠陥の個所に基づき全積層ウェハを逆処理した産物たる逆処理ウェハについて、その逆処理ウェハの光学検査及び走査型電子顕微鏡レビューのうち少なくとも一方に依拠し確認された欠陥個所を、受け取るよう、且つ
上記一組の全積層ウェハ画像と逆処理ウェハから確認された欠陥個所とに基づき、上記光学検査ツールにより利用されるべき欠陥検査用レシピを編成するよう、
構成されているシステム。 - 請求項18に記載のシステムであって、上記一組の光学モードが、絞り設定、焦点設定又は波長帯の面で異なる光学モードを含むシステム。
- 請求項18に記載のシステムであって、上記一組の光学モードが、焦点設定の面でしか異ならない光学モードを含むシステム。
- 請求項18に記載のシステムであって、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、得られた全積層ウェハ画像の処理に利用される少なくとも一種類のアルゴリズムを調整するよう構成されているシステム。
- 1通り又は複数通りの光学モードを利用し1枚又は複数枚のウェハの光学画像を得るよう構成された光学検査ツールと、
画像格納媒体と、
上記光学検査ツールと通信する少なくとも1個のプロセッサであり、欠陥検査に適する光学モードの選択を助けるよう構成された少なくとも1個のプロセッサと、
を備え、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
一組の光学モードを用い全積層ウェハをスキャンすることで上記光学検査ツールにより得られた一組の全積層ウェハ画像を受け取るよう、
上記一組の全積層ウェハ画像により指し示された潜在的欠陥の個所に基づき全積層ウェハを逆処理した産物たる逆処理ウェハについて、上記一組の光学モードを用いその逆処理ウェハをスキャンすることで上記光学検査ツールにより得られた一組の逆処理ウェハ画像を、受け取るよう、且つ
上記一組の全積層ウェハ画像及び上記一組の逆処理ウェハ画像に基づき、上記光学検査ツールにより利用されるべき欠陥検査用レシピを編成するよう、
構成されているシステム。 - 請求項22に記載のシステムであって、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
全積層ウェハから得た信号と逆処理ウェハから得た信号との間の相関性を、得られている一組の全積層ウェハ画像及び一組の逆処理ウェハ画像に基づき特定するよう、
上記特定した相関性を利用し、上記一組の光学モードに係る信号対雑音比の定量を助けるよう、
上記一組の光学モードに係る信号対雑音比に基づき光学モードのサブセットを選択するよう、且つ
選択したサブセットの光学モードを踏まえ、上記光学検査ツールにより利用されるべき欠陥検査用レシピを編成するよう、
構成されているシステム。 - 請求項23に記載のシステムであって、上記少なくとも1個のプロセッサが、
上記一組の光学モードを用い逆処理ウェハをスキャンする際に、当該一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比に基づき、当該一組の光学モードのなかから上位N通りの光学モードを選択すること、並びに
上記上位N通りの光学モードを用い逆処理ウェハから得た信号を計測すること、
によって、上記一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比の定量を助けるよう、構成されているシステム。 - 請求項24に記載のシステムであって、上記光学検査ツールが、更に、上記上位N通りの光学モードを利用し新規な全積層ウェハをスキャンするよう構成されており、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
上記上位N通りの光学モードによりもたらされた光学雑音を計測するよう、
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比を定量するよう、且つ
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比に基づき、当該上位N通りの光学モードのなかから光学モードのサブセットを選択するよう、
構成されているシステム。 - 請求項25に記載のシステムであって、上記光学検査ツールが、更に、選択されているサブセットの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするよう構成されており、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
選択されているサブセットの光学モードが欠陥検出上有効か否かを判別するよう、且つ
選択されているサブセットの光学モードが欠陥検出上有効であると判別されたときに、当該選択されているサブセットの光学モードを踏まえ、上記光学検査ツールにより利用されるべき欠陥検査用レシピを編成するよう、
構成されているシステム。 - 請求項24に記載のシステムであって、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
上記上位N通りの光学モードを用い新規な全積層ウェハから得ることができる信号を、当該上位N通りの光学モードを用い逆処理ウェハから得た信号と上記特定された相関性とに基づきシミュレートすること、並びに
上記上位N通りの光学モードの信号対雑音比に基づき、当該上位N通りの光学モードのなかから上位M通りの光学モードを選択すること、
によって、上記一組の光学モードに係る信号又は信号対雑音比の定量を助けるよう構成されているシステム。 - 請求項27に記載のシステムであって、上記光学検査ツールが、更に、上記上位M通りの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするよう構成されており、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
上記上位M通りの光学モードによりもたらされる光学雑音を計測するよう、且つ
上記上位M通りの光学モードの信号対雑音比を定量するよう、
構成されているシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記光学検査ツールが、更に、上記上位M通りの光学モードを利用し上記新規な全積層ウェハをスキャンするよう構成されており、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、
上記上位M通りの光学モードが欠陥検出上有効か否かを判別するステップと、
上記上位M通りの光学モードが欠陥検出上有効であると判別されたときに、当該上位M通りの光学モードを踏まえ、上記光学検査ツールにより利用されるべき欠陥検査用レシピを編成するステップと、
構成されているシステム。 - 請求項22に記載のシステムであって、上記一組の光学モードが、絞り設定、焦点設定又は波長帯の面で異なる光学モードを含むシステム。
- 請求項22に記載のシステムであって、上記一組の光学モードが、焦点設定の面でしか異ならない光学モードを含むシステム。
- 請求項22に記載のシステムであって、上記少なくとも1個のプロセッサが、更に、得られた全積層ウェハ画像の処理に利用される少なくとも一種類のアルゴリズムを調整するよう構成されているシステム。
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