JP6823874B2 - 細胞・ナノ薄膜複合体の製造方法 - Google Patents
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Description
[1] 細胞・ナノ薄膜複合体の製造方法であって
ナノ薄膜が自己組織化単分子膜を介して電極基板に配設されてなる細胞培養基材において、該ナノ薄膜上にて細胞を培養する工程、
該電極基板に、該自己組織化単分子膜が該電極基板より還元脱離する電位を印加して、該自己組織化単分子膜を該電極基板より剥離する工程、ならびに
該自己組織化単分子膜の剥離に伴い、該電極基板より遊離した細胞・ナノ薄膜複合体を回収する工程、を含む、上記方法。
[2] ナノ薄膜が、生体適合性高分子からなる、[1]の方法。
[3] 生体適合性高分子が、ポリ乳酸グリコール酸共重合体である、[2]の方法。
[4] 自己組織化単分子膜がアルカンチオール又はその誘導体、あるいはシステインからなる、[1]〜[3]のいずれかの方法。
[5] 電極基板が多孔質体である、[1]〜[4]のいずれかの方法。
[6] 電極基板である多孔質体がポーラス膜である、[5]の方法。
[7] ナノ薄膜が自己組織化単分子膜を介して電極基板に配設されてなる細胞培養基材。
[8] 電極基板が多孔質体である、[7]に記載の細胞培養基材。
[9] 電極基板である多孔質体がポーラス膜である、[8]の細胞培養基材。
[10] ナノ薄膜が自己組織化単分子膜を介して電極基板に配設されてなる細胞培養基材、ならびに該電極基板へ電位を印加するために用いられるカウンター電極及び電源を含む、細胞培養装置。
[11] 電極基板が多孔質体である、[10]の細胞培養装置。
[12] 電極基板である多孔質体がポーラス膜である、[11]の細胞培養装置。
[13] 自己組織化単分子膜、ナノ薄膜、及び細胞が、この順で積層されてなる、細胞・ナノ薄膜複合体。
本発明における「細胞培養基材」は、ナノ薄膜が自己組織化単分子膜を介して基板となる電極基板に配設されてなる構造を有し、細胞はナノ薄膜上に接着することができ、細胞培養において足場となる材料として利用することができる。
本発明におけるナノ薄膜は公知の手法(WO2014/208778号公報)に基づいて作製することができ、以下及び図1に、マイクロスタンプ法とスピンコーティング法を組み合わせた作製方法の概略を示すが、ナノ薄膜の作製方法は当該手法に限定されない。
以下及び図2に、スパッタリング法を用いた電極基板の作製方法の概略を示すが、電極基板の作製方法は、当該手法に限定はされない。
水中にて、[1]で得られたナノ薄膜を[2]で得られた電極基板上に(より詳細には、電極材料を付着させた領域上に)展開して載せ、水中より取り出し乾燥させ、ナノ薄膜とSAMとを吸着させる。これにより、ナノ薄膜がSAMを介して基板となる電極基板に吸着し、配設されてなる構造を有する細胞培養基材を得ることができる。
本発明において、「細胞・ナノ薄膜複合体」とは、ナノ薄膜上に細胞を担持してなる構造を有する複合体である。より詳細には、本発明にける「細胞・ナノ薄膜複合体」とは、自己組織化単分子膜、ナノ薄膜、及び細胞が、この順で積層されてなる構造を有する複合体である。
本発明の細胞・ナノ薄膜複合体は優れた柔軟性と自己支持性を有し、その直径又は最も長い対角線の長さよりも小さな内径を有する細管で吸引することができ、また当該細管より放出することができる。
本発明において細胞培養装置は、上記細胞・ナノ薄膜複合体の製造に用いられる、細胞培養基材、ならびに電極基板へ電位を印加するために用いられるカウンター電極及び適当な電源を含むことができる。
1.試薬
本実施例において、以下の試薬を用いた。
・10−カルボキシデカンチオール(同仁化学研究所)
・7−カルボキシヘプタンチオール(同仁化学研究所)
・L−システイン(和光純薬)
・ポリ乳酸グリコール酸共重合体(75:25,PLGA,Polysciences,Inc.)
・ポリビニルアルコール(分子量13,000−23,000,PVA,SIGMA−ALDRICH)
・ポリジメチルシロキサン(PDMS,東レダウコーニング)
その他全ての試薬は市販されているものを使用した。
2−1.SAM化合物溶液の調製
本実施例においては、3種類のSAM化合物を用いて実験を行った。各SAM化合物溶液は以下の条件で調製した。
・10−カルボキシデカンチオールをエタノールに溶かし、1mMに調製した。
・7−カルボキシヘプタンチオールをエタノールに溶かし、1mMに調製した。
・L−システインを蒸留水に溶かし、1mMに調製した。
電極基板は図2に示す手法に準じて作製した。
上記「2−2.電極基板の作製」で作製した、10−カルボキシデカンチオール、7−カルボキシヘプタンチオール、又はL−システインからなる各SAMを備える金がパターニングされた電極基板について、ALS電気化学アナライザー(ALS Electrochemical Analyzer Model760C,CH Instruments)を用いてサイクリックボルタンメトリー(CV)を測定した。
・走査速度:0.1Vs−1
・セグメント:2
・サンプリング間隔:0.001V
・感度:1e−4AV−1
PLGAからなるナノ薄膜は図1に示す手法に準じて作製した。
上記「2−4.細胞培養基材の作製」で作製した細胞培養基材、及び−1.5Vの乾電池に接続したカウンター電極(Pt電極)をPBS中に浸し、当該乾電池で電極基板に電位を30〜50秒間印加した。
本試験においては、細胞・ナノ薄膜複合体を基板より剥離する手段(SAM、PVA、温度応答性高分子)について比較検討した。
(1)SAMを用いた剥離試験
本実験においては、上記「2−4.細胞培養基材の作製」にて作製した細胞培養基材を利用した。細胞培養に際して、細胞培養基材はナノ薄膜上にI型コラーゲン(5mg/mL)をスピンコート(4000rpm,40秒)して細胞の接着性を高めた後に利用した。
培養中の細胞・ナノ薄膜複合体の基板としてPVA層を用いて実験を行った。培養液中にて、PVA層が徐々に溶解することによって、細胞・ナノ薄膜複合体を基板より遊離させることを試みた。
培養中の細胞・ナノ薄膜複合体の基板として、温度応答性高分子を用いて実験を行った。培養温度を変化させることによって、温度応答性高分子の接着特性を変化させ、細胞・ナノ薄膜複合体を基板より遊離させることを試みた。
SAMの還元脱離反応を促進するためには、電極表面への電解質溶液の迅速な供給が必要である。そこで、電極基板としてポーラス膜の利用を検討した。図8は、金をコートしたポーラス薄膜(ポアサイズ1μm)の写真(図8a)とSEM画像(図8b)である。この電極表面にL-システインのSAMを形成させた後、電極上にナノ薄膜を吸着させた。SAMの還元脱離反応を進行させると、1分程度で電極基板からナノ薄膜が脱着することが確認された(図9)。図9A、B及びCは、それぞれ、0秒後、50秒後及び60秒後の状態を示す。図10に電極基板からナノ薄膜が脱着するのに要した時間を示す。ナノ薄膜の直径が10、20mmのいずれの場合も、脱着に要する時間はポーラス電極の方がノンポーラス電極に比べて明らかに短かった。
Claims (12)
- 細胞・ナノ薄膜複合体の製造方法であって
ナノ薄膜がシステインからなる自己組織化単分子膜を介して電極基板に配設されてなる細胞培養基材において、該ナノ薄膜上にて細胞を培養する工程、
該電極基板に、該自己組織化単分子膜が該電極基板より還元脱離する電位を印加して、該自己組織化単分子膜を該電極基板より剥離する工程、ならびに
該自己組織化単分子膜の剥離に伴い、該電極基板より遊離した細胞・ナノ薄膜複合体を回収する工程、を含む、上記方法。 - ナノ薄膜が、生体適合性高分子からなる、請求項1に記載の方法。
- 生体適合性高分子が、ポリ乳酸グリコール酸共重合体である、請求項2に記載の方法。
- 電極基板が多孔質体である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 電極基板である多孔質体がポーラス膜である、請求項4記載の方法。
- ナノ薄膜がシステインからなる自己組織化単分子膜を介して電極基板に配設されてなる細胞培養基材。
- 電極基板が多孔質体である、請求項6記載の細胞培養基材。
- 電極基板である多孔質体がポーラス膜である、請求項7記載の細胞培養基材。
- ナノ薄膜がシステインからなる自己組織化単分子膜を介して電極基板に配設されてなる細胞培養基材、ならびに該電極基板へ電位を印加するために用いられるカウンター電極及び電源を含む、細胞培養装置。
- 電極基板が多孔質体である、請求項9に記載の細胞培養装置。
- 電極基板である多孔質体がポーラス膜である、請求項10記載の細胞培養装置。
- システインからなる自己組織化単分子膜、ナノ薄膜、及び細胞が、この順で積層されてなる、細胞・ナノ薄膜複合体。
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