JP6814548B2 - Polyacetal resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、ポリアセタール樹脂組成物に関する。特に、ホットランナー金型を用いた連続成形等の樹脂組成物が高温に長時間曝される成形方法に適したポリアセタール樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a polyacetal resin composition. In particular, the present invention relates to a polyacetal resin composition suitable for a molding method in which a resin composition such as continuous molding using a hot runner mold is exposed to a high temperature for a long time.

ポリアセタール樹脂は結晶性樹脂であり、剛性、強度、靭性、摺動性、及びクリープ性に優れた樹脂材料である為、従来から、自動車部品、電気・電子部品、及び工業部品などの機構部品用材料等として広範囲に亘って用いられている。
近年ポリアセタール樹脂は、自動車分野を中心に低VOC化の要求が高まっており、自動車内装部品に使用される樹脂として、部品からのホルムアルデヒド放出量の少ないポリアセタール樹脂の要求が高くなっている。
Polyacetal resin is a crystalline resin and is a resin material with excellent rigidity, strength, toughness, slidability, and creepability. Therefore, it has been conventionally used for mechanical parts such as automobile parts, electrical / electronic parts, and industrial parts. It is widely used as a material.
In recent years, there has been an increasing demand for low VOC in polyacetal resins mainly in the field of automobiles, and there is an increasing demand for polyacetal resins having a small amount of formaldehyde emission from parts as resins used for automobile interior parts.

ところで、ポリアセタール樹脂の成形は、一般的にはコールドランナー金型が用いられる。しかしながら、コールドランナー金型を用いて成形を行った際、目的とする成形品以外に不要なランナー部も一緒に成形されてしまう為、ランナー部は廃棄するか、又は粉砕機等で粉砕した後、原料のポリアセタール樹脂ペレットに少量混合してリワーク成形するしかない。
しかしながら、ランナー部をリワーク成形する際、該ランナーは熱履歴を受けているため、成形機シリンダー内での樹脂流動性に影響する場合があり、バリ、そり等の成形不良を発生させ安定生産性が困難となることがある。よって近年では、安定生産性、及び生産コストの観点から、自動車内装部品等の成形でホットランナー金型を選択する傾向が高まっている。
ホットランナー金型を用いて連続成形を行う場合、ホットランナー金型内のマニホールド温度(溶融樹脂が滞留する部分:ホットランナー部)は、一般的に成形機シリンダー温度以上の温度に設定する。その為、コールドランナー金型を用いて連続成形する場合よりも、ポリアセタール樹脂に、より高い熱安定性が要求される。
By the way, a cold runner mold is generally used for molding a polyacetal resin. However, when molding is performed using a cold runner mold, unnecessary runner parts are also molded together with the target molded product, so the runner part is discarded or after crushing with a crusher or the like. There is no choice but to mix a small amount with the raw material polyacetal resin pellets and rework.
However, when the runner portion is rework-molded, since the runner receives a heat history, it may affect the resin fluidity in the molding machine cylinder, causing molding defects such as burrs and warpage, and stable productivity. May be difficult. Therefore, in recent years, from the viewpoint of stable productivity and production cost, there is an increasing tendency to select a hot runner mold for molding automobile interior parts and the like.
When continuous molding is performed using a hot runner mold, the manifold temperature (the part where the molten resin stays: the hot runner part) in the hot runner mold is generally set to a temperature equal to or higher than the molding machine cylinder temperature. Therefore, the polyacetal resin is required to have higher thermal stability than the case of continuous molding using a cold runner mold.

上述したような要求を解決するために、従来から、さまざまな技術が提案されている。例えば、ポリアセタール樹脂にヒドロキシステアリン酸カルシウム、金属不活性剤を添加する方法(例えば、下記特許文献1参照。)、ポリアセタール樹脂にヒドラジド化合物を添加する方法(例えば、下記特許文献2参照。)、ポリアセタール樹脂にアリール基を含む多価カルボン酸ヒドラジド等を添加する方法(例えば、下記特許文献3参照。)、ポリアセタール樹脂にヒンダードアミン光安定剤、紫外線吸収剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を有する安定剤を添加する方法(例えば、下記特許文献4参照。)、ポリアセタール樹脂に酸無水物、カルボン酸金属塩、金属不活性剤を添加する方法(例えば、下記特許文献5参照。)、ポリアセタール樹脂に、微量のタルクを添加する方法(例えば、下記特許文献6参照。)が提案されている。 Various techniques have been conventionally proposed in order to solve the above-mentioned requirements. For example, a method of adding calcium hydroxystearate and a metal deactivator to a polyacetal resin (see, for example, Patent Document 1 below), a method of adding a hydrazide compound to a polyacetal resin (see, for example, Patent Document 2 below), and a polyacetal resin. A method of adding a polyvalent carboxylic acid hydrazide containing an aryl group or the like (see, for example, Patent Document 3 below), a method of adding a hindered amine light stabilizer, an ultraviolet absorber, and a stabilizer having formaldehyde-reactive nitrogen to a polyacetal resin. (For example, see Patent Document 4 below.), A method of adding an acid anhydride, a carboxylic acid metal salt, and a metal deactivator to a polyacetal resin (see, for example, Patent Document 5 below), and adding a small amount of talc to a polyacetal resin. A method of addition (see, for example, Patent Document 6 below) has been proposed.

特許第3129799号公報Japanese Patent No. 3129799 国際公開第2005/040275号パンフレット(2005)International Publication No. 2005/040275 Pamphlet (2005) 特許第4568018号公報Japanese Patent No. 4568018 特開2012−92185号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-921185 特開2013−23506号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-23506 特許第4799534号公報Japanese Patent No. 4799534

しかしながら、従来提案されている各種の方法で得られるポリアセタール樹脂組成物は、コールドランナー金型を用いた、短時間での連続成形での成形性については改善効果は見られる。しかしながら、ホットランナー金型を用いて連続成形した場合には、樹脂組成物がホットランナーマニホールド部において高温下で長時間滞留することになるため、ポリアセタール樹脂が熱分解し、得られる成形品からのホルムアルデヒド放出量を低減することが困難である。また連続成形であるため、金型内部がモールドデポジッドで汚染され易くなるという問題もある。
そこで本発明は、ホットランナー金型を用いた連続成形等の樹脂組成物が高温に長時間曝される成形方法を適用した場合において、ポリアセタール樹脂の熱分解が少なく、得られた成形品からのホルムアルデヒド放出量や金型汚染の少ないポリアセタール樹脂組成物を提供することを目的とする。
However, the polyacetal resin compositions obtained by various conventionally proposed methods have an effect of improving the moldability in continuous molding in a short time using a cold runner mold. However, in the case of continuous molding using a hot runner mold, the resin composition stays in the hot runner manifold portion for a long time at a high temperature, so that the polyacetal resin is thermally decomposed and the obtained molded product is obtained. It is difficult to reduce the amount of formaldehyde emission. Further, since the molding is continuous, there is a problem that the inside of the mold is easily contaminated with the mold deposit.
Therefore, according to the present invention, when a molding method such as continuous molding using a hot runner mold is applied in which the resin composition is exposed to a high temperature for a long time, the polyacetal resin is less thermally decomposed, and the obtained molded product is used. An object of the present invention is to provide a polyacetal resin composition with a small amount of formaldehyde emission and mold contamination.

本発明者らは、上述した従来技術の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、ポリアセタール樹脂に対して、窒素含有ヒンダードフェノール化合物、及び、タルクを、特定の割合で含有するポリアセタール樹脂組成物は良好な熱安定性を有するようになり、これに加えて、さらに窒素不含ヒンダードフェノール化合物を併用すると熱安定性が格段に向上して前記問題点を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent research to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present inventors have a polyacetal resin composition containing a nitrogen-containing hindered phenol compound and talc in a specific ratio with respect to the polyacetal resin. We have found that the product has good thermal stability, and in addition to this, when a nitrogen-free hindered phenol compound is used in combination, the thermal stability is remarkably improved and the above-mentioned problems can be solved. It came to be completed.

すなわち、本発明は、以下の通りである。
〔1〕
(A)ポリアセタール樹脂100質量部と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.2質量部と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.3質量部と、(D)タルク0.0001〜0.1質量部とを、含有する、ポリアセタール樹脂組成物。
〔2〕
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量が、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.001〜0.15質量部である、前記〔1〕に記載のポリアセタール樹脂組成物。
〔3〕
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物がヒドラジン構造を含む、前記〔1〕又は〔2〕に記載のポリアセタール樹脂組成物。
〔4〕
さらに、(E)その他安定剤として、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、ヒドラジド誘導体、アミド化合物、ポリアミド、及び、アクリルアミド共重合体からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する、前記[1]〜〔3〕いずれかに記載のポリアセタール樹脂組成物。
That is, the present invention is as follows.
[1]
(A) 100 parts by mass of polyacetal resin, (B) 0.001 to 0.2 parts by mass of nitrogen-containing hindered phenol compound, and (C) 0.001 to 0.3 parts by mass of nitrogen-free hindered phenol compound. , (D) A polyacetal resin composition containing 0.0001 to 0.1 parts by mass of talc.
[2]
The polyacetal resin composition according to the above [1], wherein the content of the nitrogen-containing hindered phenol compound is 0.001 to 0.15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin.
[3]
(B) The polyacetal resin composition according to the above [1] or [2], wherein the nitrogen-containing hindered phenol compound contains a hydrazine structure.
[4]
Further, as the (E) other stabilizer, at least one selected from the group consisting of an amino-substituted triazine compound, a urea derivative, a hydrazide derivative, an amide compound, a polyamide, and an acrylamide copolymer is contained in the above [1] to [ 3] The polyacetal resin composition according to any one.

本発明によれば、ホットランナー金型を用いた連続成形のような、樹脂組成物が高温下に長時間曝されるような厳しい成形条件下でポリアセタール樹脂組成物の成形を行った場合においても、ポリアセタール樹脂の熱分解を抑制して金型汚染を少なくし、ホルムアルデヒド放出量が少ない成形品を製造することができる。 According to the present invention, even when the polyacetal resin composition is molded under severe molding conditions such as continuous molding using a hot runner mold, in which the resin composition is exposed to a high temperature for a long time. , It is possible to suppress thermal decomposition of polyacetal resin, reduce mold contamination, and manufacture a molded product with a small amount of formaldehyde emission.

実施例においてホットランナー金型モールドデポジッド性を評価する際に使用した成形機の概略図を示す。The schematic diagram of the molding machine used when evaluating the hot runner mold mold deposit property in an Example is shown.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」と言う。)について詳細に説明する。
なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described in detail.
The present invention is not limited to the following embodiments, and can be variously modified and implemented within the scope of the gist thereof.

<ポリアセタール樹脂組成物>
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.2質量部と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.3質量部と、(D)タルク0.0001〜0.1質量部とを、含有する。
<Polyacetal resin composition>
The polyacetal resin composition of the present embodiment contains (A) 100 parts by mass of polyacetal resin, (B) 0.001 to 0.2 parts by mass of nitrogen-containing hindered phenol compound, and (C) nitrogen-free hindered phenol compound. It contains 0.001 to 0.3 parts by mass and (D) 0.0001 to 0.1 parts by mass of talc.

〔(A)ポリアセタール樹脂〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物に含まれる(A)ポリアセタール樹脂は、オキシメチレン基を主鎖に有するポリマーをいい、例えば、ホルムアルデヒド単量体、又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーを単独重合して得られる実質上オキシメチレン単位のみからなるポリアセタールホモポリマー;ホルムアルデヒド単量体、又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーと、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、エピクロルヒドリン、1,3−ジオキソラン、1,4−ブタンジオールホルマールなどのグリコール、ジグリコールの環状ホルマール等の環状エーテル、又は環状ホルマールとを共重合させて得られたポリアセタールコポリマー;単官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる分岐を有するポリアセタールコポリマー;多官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる架橋構造を有するポリアセタールコポリマー等が挙げられる。
さらに、(A)ポリアセタール樹脂としては、両末端又は片末端に水酸基などの官能基を有する化合物、例えばポリアルキレングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーを重合して得られるブロック成分を有するポリアセタールホモポリマー;同じく両末端又は片末端に水酸基などの官能基を有する化合物、例えば水素添加ポリブタジエングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーと環状エーテルや環状ホルマールとを共重合させて得られるブロック成分を有するポリアセタールコポリマーなども用いることができる。
[(A) Polyacetal resin]
The (A) polyacetal resin contained in the polyacetal resin composition of the present embodiment refers to a polymer having an oxymethylene group in the main chain, for example, a formaldehyde monomer, or a trimer (trioxane) or tetramer thereof (trioxane) or a tetramer (trioxane). Polyacetal homopolymer consisting substantially only of oximethylene units obtained by homopolymerizing a cyclic oligomer of formaldehyde such as tetraoxane); formaldehyde monomer or formaldehyde such as a trimeric (trioxane) or tetramer (tetraoxane) thereof. Is obtained by copolymerizing the cyclic oligomer of the above with a glycol such as ethylene oxide, propylene oxide, epichlorohydrin, 1,3-dioxolane, and 1,4-butanediol formal, a cyclic ether such as cyclic formal of diglycol, or cyclic formal. Examples of the polyacetal copolymer obtained; a polyacetal copolymer having a branch obtained by copolymerizing a monofunctional glycidyl ether; a polyacetal copolymer having a crosslinked structure obtained by copolymerizing a polyfunctional glycidyl ether, and the like.
Further, as the (A) polyacetal resin, a block component obtained by polymerizing a formaldehyde monomer or a cyclic oligomer of formaldehyde in the presence of a compound having a functional group such as a hydroxyl group at both ends or one end, for example, polyalkylene glycol. Polyacetal homopolymer having a formaldehyde monomer or its trimeric (trioxane) or tetramer (tetraoxane) in the presence of a compound having a functional group such as a hydroxyl group at both ends or one end, for example, hydrogenated polybutadiene glycol. A polyacetal copolymer having a blocking component obtained by copolymerizing a cyclic oligomer of formaldehyde such as the above with a cyclic ether or a cyclic formal can also be used.

<ポリアセタールホモポリマー>
前記ポリアセタールホモポリマーは、例えば、モノマーであるホルムアルデヒド、連鎖移動剤(分子量調節剤)及び重合触媒を、炭化水素系重合溶媒を導入した重合反応器にフィードし、スラリー重合法により重合することにより製造することができる。
この際、原料モノマーや連鎖移動剤、重合触媒には、連鎖移動可能な成分(不安定末端基を生成する成分)、例えば、水やメタノール及び蟻酸が含まれているため、まずこれら連鎖移動可能な成分の含有量を調整することが好ましい。
この時の連鎖移動可能な成分の含有量は、モノマーであるホルムアルデヒドに対して、好ましくは1〜1000ppmの範囲であり、より好ましくは1〜500ppm、さらに好ましくは1〜300ppmである。
連鎖移動可能な成分量を上記範囲に調整することにより、熱安定性に優れるポリアセタール樹脂ホモポリマーを得ることができる。
<Polyacetal homopolymer>
The polyacetal homopolymer is produced, for example, by feeding a monomer such as formaldehyde, a chain transfer agent (molecular weight modifier) and a polymerization catalyst into a polymerization reactor into which a hydrocarbon-based polymerization solvent is introduced, and polymerizing by a slurry polymerization method. can do.
At this time, since the raw material monomer, the chain transfer agent, and the polymerization catalyst contain chain transferable components (components that generate unstable terminal groups) such as water, methanol, and formic acid, these chain transferable components are possible first. It is preferable to adjust the content of various components.
The content of the chain transferable component at this time is preferably in the range of 1 to 1000 ppm, more preferably 1 to 500 ppm, and further preferably 1 to 300 ppm with respect to formaldehyde as a monomer.
By adjusting the amount of chain-transferable components within the above range, a polyacetal resin homopolymer having excellent thermal stability can be obtained.

ポリアセタールホモポリマーの分子量は、無水カルボン酸又はカルボン酸等の分子量調節剤を用いて連鎖移動させることにより調整することができる。
分子量調節剤としては、特に無水プロピオン酸、無水酢酸が好ましく、より好ましくは無水酢酸である。
分子量調節剤の導入量は、目的とするポリアセタールホモポリマーの特性(特にメルトフローレート)に応じて調節し決定する。例えば、ポリアセタールホモポリマーは、メルトフローレート(MFR値(ISO1133に準拠))が、0.1〜100g/10分の範囲になるようにすることが好ましく、より好ましくは1.0g/10分〜70g/10分の範囲になるようにする。
ポリアセタールホモポリマーのMFR値を上記範囲とすることにより、機械強度に優れるポリアセタールホモポリマーを得ることができる。
The molecular weight of the polyacetal homopolymer can be adjusted by chain transfer using a molecular weight modifier such as carboxylic acid anhydride or carboxylic acid.
As the molecular weight modifier, propionic anhydride and acetic anhydride are particularly preferable, and acetic anhydride is more preferable.
The amount of the molecular weight modifier introduced is adjusted and determined according to the characteristics (particularly melt flow rate) of the target polyacetal homopolymer. For example, the polyacetal homopolymer preferably has a melt flow rate (MFR value (based on ISO1133)) in the range of 0.1 to 100 g / 10 minutes, more preferably 1.0 g / 10 minutes to. The range should be 70 g / 10 minutes.
By setting the MFR value of the polyacetal homopolymer in the above range, a polyacetal homopolymer having excellent mechanical strength can be obtained.

重合触媒としては、アニオン系重合触媒が好ましく、下記一般式(I)で表されるオニウム塩系重合触媒がより好ましい。
[R1234M]+- ・・・(I)
(式(I)中、R1、R2、R3、R4は、各々、独立にアルキル基を示し、Mは孤立電子対を持つ元素を示し、Xは求核性基を示す。)
他の重合触媒としては、オニウム塩系重合触媒が挙げられ、当該オニウム塩系重合触媒のなかでも、テトラエチルホスホニウムイオダイド、トリブチルエチルホスホニウムイオダイドのような第4級ホスホニウム塩系化合物や、テトラメチルアンモニウムブロマイド、ジメチルジステアリルアンモニウムアセテートのような第4級アンモニウム塩系化合物が好ましい。
これら第4級ホスホニウム塩系化合物や第4級アンモニウム塩系化合物の添加量は、ホルムアルデヒド1モルに対して0.0003〜0.01molであることが好ましく、より好ましくは0.0008〜0.005molであり、さらに好ましくは0.001〜0.003molである。
As the polymerization catalyst, an anionic polymerization catalyst is preferable, and an onium salt-based polymerization catalyst represented by the following general formula (I) is more preferable.
[R 1 R 2 R 3 R 4 M] + X - ··· (I)
(In formula (I), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent an alkyl group, M represents an element having a lone electron pair, and X represents a nucleophilic group.)
Examples of other polymerization catalysts include onium salt-based polymerization catalysts, and among the onium salt-based polymerization catalysts, quaternary phosphonium salt-based compounds such as tetraethylphosphonium iodide and tributylethylphosphonium iodide, and tetramethyl Quaternary ammonium salt compounds such as ammonium bromide and dimethyl distearyl ammonium acetate are preferred.
The amount of the quaternary phosphonium salt compound or the quaternary ammonium salt compound added is preferably 0.0003 to 0.01 mol, more preferably 0.0008 to 0.005 mol, based on 1 mol of formaldehyde. It is more preferably 0.001 to 0.003 mol.

炭化水素系重合溶媒としては、ホルムアルデヒドと反応しない溶媒であればよく、特に限定されるものではないが、例えば、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、へプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼンなどの溶媒が挙げられる。
これらの炭化水素系溶媒は1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いることもできるが、ヘキサンが特に好ましい。
The hydrocarbon-based polymerization solvent may be any solvent that does not react with formaldehyde, and is not particularly limited. For example, a solvent such as pentane, isopentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, and benzene. Can be mentioned.
Only one of these hydrocarbon solvents may be used alone, or two or more of them may be mixed and used, but hexane is particularly preferable.

ポリアセタールホモポリマーの重合工程においては、先ず、粗ポリアセタールホモポリマーを得、続いて、後述するように、不安定末端基に対して安定化処理を施すことが好ましい。
粗ポリアセタールホモポリマーを製造する重合装置は、モノマーであるホルムアルデヒド、連鎖移動剤(分子量調節剤)、重合触媒と炭化水素系重合溶媒を同時に供給できる装置であれば特に限定されるものではないが、生産性の観点から連続式重合装置が好ましい。
重合工程により得られた粗ポリアセタールホモポリマーは、重合体の末端基が熱的に不安定であるので、この不安定末端基をエステル化剤やエーテル化剤等でポリマー末端基を封鎖し、安定化処理することが好ましい。
エステル化による粗ポリアセタールホモポリマーの末端安定化は、例えば、粗ポリアセタールホモポリマーと、前記エステル化剤及びエステル化触媒とを、炭化水素系溶媒を導入した末端安定化反応機にそれぞれ投入し、反応させることによって行うことができる。
この時の反応温度や反応時間については限定はないが、例えば、反応温度が130〜155℃であり、反応時間は1〜100分間であることが好ましく、反応温度が135〜155℃であり、反応時間が5〜100分であることがより好ましく、反応温度が140〜155℃であり、反応時間が10〜100分であることがさらに好ましい。
In the polymerization step of the polyacetal homopolymer, it is preferable to first obtain a crude polyacetal homopolymer, and then to perform a stabilization treatment on the unstable terminal group as described later.
The polymerization apparatus for producing the crude polyacetal homopolymer is not particularly limited as long as it can simultaneously supply the monomer formaldehyde, the chain transfer agent (molecular weight modifier), the polymerization catalyst and the hydrocarbon-based polymerization solvent. From the viewpoint of productivity, a continuous polymerization apparatus is preferable.
Since the terminal groups of the polymer of the crude polyacetal homopolymer obtained by the polymerization step are thermally unstable, the unstable terminal groups are stabilized by blocking the polymer terminal groups with an esterifying agent or an etherifying agent. It is preferable to carry out a polymerization treatment.
In the terminal stabilization of the crude polyacetal homopolymer by esterification, for example, the crude polyacetal homopolymer and the esterifying agent and the esterification catalyst are put into a terminal stabilizing reactor into which a hydrocarbon solvent is introduced, and the reaction is carried out. It can be done by letting it.
The reaction temperature and reaction time at this time are not limited, but for example, the reaction temperature is preferably 130 to 155 ° C, the reaction time is preferably 1 to 100 minutes, and the reaction temperature is 135 to 155 ° C. The reaction time is more preferably 5 to 100 minutes, the reaction temperature is 140 to 155 ° C., and the reaction time is even more preferably 10 to 100 minutes.

上記粗ポリアセタールホモポリマーの末端基を封鎖し安定化する前記エステル化剤としては、下記一般式(II)で表される酸無水物を用いることができる。
5COOCOR6 ・・・(II)
(式(II)中、R5、R6は、各々、独立にアルキル基を示す。R5、R6は、同じであっても異なっていてもよい。)
当該エステル化剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、無水安息香酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、無水フタル酸、無水プロピオン酸、無水酢酸が挙げられ、好ましくは無水酢酸である。
これらエステル化剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
As the esterifying agent that seals and stabilizes the terminal group of the crude polyacetal homopolymer, an acid anhydride represented by the following general formula (II) can be used.
R 5 COOCOR 6 ... (II)
(In formula (II), R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group. R 5 and R 6 may be the same or different.)
Examples of the esterifying agent include, but are not limited to, benzoic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, phthalic anhydride, propionic anhydride, and acetic anhydride, which are preferable. Is acetic anhydride.
Only one of these esterifying agents may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

前記エステル化触媒としては、炭素数1〜18のカルボン酸のアルカリ金属塩が好ましく、その添加量は、ポリアセタールホモポリマーに対して、1〜1000ppmの範囲で適宜選択することができる。
炭素数1〜18のカルボン酸のアルカリ金属塩としては、以下に限定されるものではないが、例えば、カルボン酸が蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプリル酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸のアルカリ金属塩が挙げられ、当該アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられる。
これらカルボン酸金属塩の中でも、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、及び酢酸カリウムのアルカリ金属塩が好ましい。
As the esterification catalyst, an alkali metal salt of a carboxylic acid having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and the addition amount thereof can be appropriately selected in the range of 1 to 1000 ppm with respect to the polyacetal homopolymer.
The alkali metal salt of the carboxylic acid having 1 to 18 carbon atoms is not limited to the following, but for example, the carboxylic acid is formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caprylic acid, enanthic acid, caprylic acid. , Pelargonic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid alkali metal salts, and examples of the alkali metals include lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium.
Among these metal carboxylic acid salts, alkali metal salts of lithium acetate, sodium acetate, and potassium acetate are preferable.

上述した粗ポリアセタールホモポリマーの末端基を、エーテル化により封鎖し、安定化することも可能である。
この場合のエーテル化剤としては、脂肪族又は芳香族酸と、脂肪族、脂環式族又は芳香族アルコールとのオルトエステル、例えば、メチル又はエチルオルトホルメート、メチル又はエチルオルトアセテート及びメチル又はエチルオルトベンゾエート、及びオルトカーボネート、具体的にはエチルオルトカーボネートから選択し、p−トルエンスルホン酸、酢酸及び臭酸のような中強度有機酸、ジメチル及びジエチルスルフェートのような中強度鉱酸等のルイス酸型の触媒を用いて得ることができる。
粗ポリアセタールホモポリマーの末端基を、エーテル化により封鎖し、安定化するときの、当該エーテル化反応に用いる溶媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びベンゼン等の低沸点脂肪族有機溶媒;脂環式族及び芳香族炭化水素系有機溶媒;塩化メチレン、クロロホルム及び四塩化炭素等のハロゲン化低級脂肪族等の有機溶媒が挙げられる。
It is also possible to seal and stabilize the terminal groups of the crude polyacetal homopolymer described above by etherification.
Examples of the etherifying agent in this case include orthoesters of aliphatic or aromatic acids and aliphatic, alicyclic or aromatic alcohols, such as methyl or ethyl orthoformates, methyl or ethyl orthoacetate and methyl or methyl. Select from ethyl orthobenzoate and orthocarbonate, specifically ethyl orthocarbonate, medium-strength organic acids such as p-toluenesulfonic acid, acetic acid and odoric acid, medium-strength mineral acids such as dimethyl and diethylsulfate, etc. It can be obtained by using the Lewis acid type catalyst of.
The solvent used for the etherification reaction when the terminal group of the crude polyacetal homopolymer is sealed and stabilized by etherification is not limited to the following, but is, for example, pentane, hexane, cyclohexane and benzene. Low-boiling aliphatic organic solvents such as; alicyclic group and aromatic hydrocarbon-based organic solvents; organic solvents such as halogenated lower aliphatic solvents such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride can be mentioned.

上記の方法により末端基が安定化されたポリアセタールホモポリマーを、熱風式乾燥機や真空乾燥機等の乾燥機を用いて、100〜150℃に調整した窒素ガスを封入し、水分を除去して乾燥することにより、目的とするポリアセタールホモポリマーが得られる。 The polyacetal homopolymer whose end groups have been stabilized by the above method is filled with nitrogen gas adjusted to 100 to 150 ° C. using a dryer such as a hot air dryer or a vacuum dryer to remove water. By drying, the desired polyacetal homopolymer is obtained.

<ポリアセタールコポリマー>
ポリアセタールコポリマーは、以下に限定されるものではないが、例えば、コモノマーとして1,3−ジオキソラン、1,4−ブタンジオールホルマールなどのグリコール、ジグリコールの環状ホルマール等の環状エーテル、又は環状ホルマールを用い、これらと前記トリオキサン等のモノマーとを共重合させることにより製造することができる。
共重合させるコモノマーの割合は、ホルムアルデヒド1molに対して0.03〜20mol%であることが好ましく、0.03〜7mol%であることがより好ましく、0.04〜3mol%であることがさらに好ましい。
コモノマーの割合が上記範囲であれば、より機械的強度に優れたポリアセタール樹脂ペレットが得られる。
<Polyacetal copolymer>
The polyacetal copolymer uses, but is not limited to, a glycol such as 1,3-dioxolane or 1,4-butanediolformal as a comonomer, a cyclic ether such as cyclic formal of diglycol, or a cyclic formal. , These can be produced by copolymerizing with a monomer such as trioxane.
The proportion of the comonomer to be copolymerized is preferably 0.03 to 20 mol%, more preferably 0.03 to 7 mol%, and further preferably 0.04 to 3 mol% with respect to 1 mol of formaldehyde. ..
When the proportion of comonomer is in the above range, polyacetal resin pellets having more excellent mechanical strength can be obtained.

また、ポリアセタールコポリマーの重合における重合触媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ルイス酸、プロトン酸及びそのエステル又は無水物等のカチオン活性触媒が挙げられる。
ルイス酸としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ホウ酸、スズ、チタン、リン、ヒ素及びアンチモンのハロゲン化物が挙げられ、具体的には三フッ化ホウ素、四塩化スズ、四塩化チタン、五フッ化リン、五塩化リン、五フッ化アンチモン及びその錯化合物又は塩が挙げられる。
また、プロトン酸及びそのエステル又は無水物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、パークロル酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パークロル酸−3級ブチルエステル、アセチルパークロラート、トリメチルオキソニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
これらの中でも、三フッ化ホウ素;三フッ化ホウ素水和物;及び酸素原子又は硫黄原子を含む有機化合物と三フッ化ホウ素との配位錯化合物が好ましく、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル、三フッ化ホウ素ジ−n−ブチルエーテルが好ましいものとして挙げられる。
三フッ化ホウ素の添加量としては、ホルムアルデヒド1molに対して、三フッ化ホウ素が、0.10×10-4mol以下が好ましく、より好ましくは0.07×10-4mol以下であり、さらに好ましいのは、0.03〜0.05×10-4molである。
三フッ化ホウ素の添加量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
The polymerization catalyst in the polymerization of the polyacetal copolymer is not limited to the following, and examples thereof include cationically active catalysts such as Lewis acid, protonic acid and its ester or anhydride.
Lewis acids include, but are not limited to, halides of boric acid, tin, titanium, phosphorus, arsenic and antimony, specifically boron trifluoride, tin tetrachloride, tetrafluoride. Examples thereof include titanium chloride, phosphorus pentafluoride, phosphorus pentachloride, antimony pentafluoride and complex compounds or salts thereof.
The protonic acid and its ester or anhydride are not limited to the following, and include, for example, percrolic acid, trifluoromethanesulfonic acid, perchloric acid-quaternary butyl ester, acetylparklorate, and trimethyloxonium hexa. Fluorophosphate and the like can be mentioned.
Among these, boron trifluoride; boron trifluoride hydrate; and a coordination compound of an organic compound containing an oxygen atom or a sulfur atom and boron trifluoride are preferable, and for example, boron trifluoride diethyl ether, Boron trifluoride di-n-butyl ether is preferred.
The amount of boron trifluoride added is preferably 0.10 × 10 -4 mol or less, more preferably 0.07 × 10 -4 mol or less, and further preferably 0.07 × 10 -4 mol or less, based on 1 mol of formaldehyde. Preferred is 0.03 to 0.05 × 10 -4 mol.
When the amount of boron trifluoride added is within the above range, a polyacetal resin composition having excellent thermal stability can be provided.

上記例示されたポリアセタールコポリマーの重合方法としては、特に限定されるものではないが、前記スラリー重合法の他に、例えば、塊状重合法で行ってもよく、バッチ式、連続式のいずれも適用可能である。
重合装置としては、特に限定されるものではないが、例えば、コニーダー、2軸スクリュー式連続押出混錬機、2軸パドル型連続混合機等のセルフクリーニング型押出混錬機が挙げられる。
溶融状態のモノマーが前記重合機に供給され、重合の進行とともに固体塊状のポリアセタールコポリマーが得られる。
The polymerization method of the polyacetal copolymer exemplified above is not particularly limited, but in addition to the slurry polymerization method, for example, a massive polymerization method may be used, and either a batch method or a continuous method can be applied. Is.
The polymerization apparatus is not particularly limited, and examples thereof include self-cleaning extrusion kneaders such as a conider, a twin-screw type continuous extrusion kneader, and a twin-screw paddle type continuous mixer.
The melted monomer is supplied to the polymerization machine, and as the polymerization progresses, a solid mass polyacetal copolymer is obtained.

以上の重合で得られたポリアセタールコポリマーには、熱的に不安定な末端部〔−(OCH2n−OH基〕が存在する場合があるため、この不安定な末端部の分解除去処理を実施することが好ましい。不安定な末端部の分解除去方法としては、公知の方法で行うことができる。
以上のように、本実施形態においては、(A)ポリアセタール樹脂に限定はなく、ポリアセタールホモポリマー及びポリアセタールコポリマーいずれも用いることが可能である。
この中でも、好ましいのはポリアセタールコモポリマーである。
Since the polyacetal copolymer obtained by the above polymerization may have a thermally unstable terminal portion [-(OCH 2 ) n- OH group], the decomposition and removal treatment of this unstable terminal portion may be performed. It is preferable to carry out. As a method for decomposing and removing the unstable end portion, a known method can be used.
As described above, in the present embodiment, the (A) polyacetal resin is not limited, and both the polyacetal homopolymer and the polyacetal copolymer can be used.
Of these, polyacetal comopolymer is preferable.

〔(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物〕
本実施形態において、窒素含有ヒンダードフェノール化合物とは、その構造式に少なくとも一つの窒素原子を含んでいるヒンダードフェノール化合物(水酸基の少なくとも一つのオルト位に第3級アルキル基を有するフェノール化合物)のことをいう。
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、1,3,5−トリス[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、4−[[4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−t−ブチルフェノールが挙げられる。
これら窒素含有ヒンダードフェノール化合物の中でも、1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、が好ましく、より好ましいのは1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジンである。
[(B) Nitrogen-containing hindered phenol compound]
In the present embodiment, the nitrogen-containing hindered phenol compound is a hindered phenol compound containing at least one nitrogen atom in its structural formula (a phenol compound having a tertiary alkyl group at at least one ortho position of a hydroxyl group). It means that.
(B) The nitrogen-containing hindered phenol compound is not limited to the following, but is, for example, 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl]. Hydrazine, N, N'-hexamethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], 1,3,5-tris [[3,5-bis (1,5-bis) 1-Dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 4-[[4,6-bis (octylthio)- 1,3,5-triazin-2-yl] amino] -2,6-di-t-butylphenol can be mentioned.
Among these nitrogen-containing hindered phenol compounds, 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] hydrazine, N, N'-hexamethylenebis [3-( 3,5-Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], more preferably 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl)]. Propionil] Hydradin.

(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の融点は、50〜300℃が好ましく、より好ましくは100℃〜300℃、さらに好ましくは150〜250℃の範囲である。
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の融点が前記範囲であれば、より熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
The melting point of the nitrogen-containing hindered phenol compound (B) is preferably in the range of 50 to 300 ° C, more preferably 100 ° C to 300 ° C, and even more preferably 150 to 250 ° C.
When the melting point of the nitrogen-containing hindered phenol compound (B) is in the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be provided.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物は、上述した(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.001〜0.2質量部含有されている。熱安定性改善効果の点から、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量には適切な範囲があることが、本発明者らの研究により判明した。(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.005〜0.2質量部含有されていることが好ましく、0.005〜0.15質量部含有されていることがより好ましい。
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物中の(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物を定量する方法としては、例えば、ポリアセタール樹脂ペレットを凍結粉砕し、クロロホルム等の溶媒でソックスレー抽出し、GCMS、または1H−NMRにより定量する方法が挙げられる。
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, the (B) nitrogen-containing hindered phenol compound is contained in an amount of 0.001 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned (A) polyacetal resin. From the viewpoint of the effect of improving thermal stability, it was found by the studies of the present inventors that the content of the nitrogen-containing hindered phenol compound (B) has an appropriate range. The nitrogen-containing hindered phenol compound is preferably contained in an amount of 0.005 to 0.2 parts by mass, preferably 0.005 to 0.15 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. Is more preferable.
When the content of the nitrogen-containing hindered phenol compound (B) is within the above range, a polyacetal resin composition having excellent thermal stability can be provided.
Polyacetal resin composition of the present embodiment the (B) nitrogen-containing hindered phenolic compounds as a method of quantifying, for example, a polyacetal resin pellets were frozen ground and Soxhlet extraction with a solvent such as chloroform, GCMS, or 1 H, -A method of quantifying by NMR can be mentioned.

〔(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物〕
本実施形態において、窒素不含ヒンダードフェノール化合物とは、その構造式に窒素原子を含まないヒンダードフェノール化合物のことをいう。ヒンダードフェノール化合物は一般に酸化防止剤として知られているが、本実施形態においては、窒素を含むものと窒素を含まないものの両方を併用し、これにより非常に良好な熱安定性を実現する。
(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル−3−(3’−メチル−5’−t−ブチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−テトラデシル−3−(3’,5
’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、1,6−ヘキサン
ジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、1,4−ブタンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート]メタン等が挙げられる。
好ましくは、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]及びペンタエリスリトールテトラキス[メチレン‐3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]メタンであり、より好ましくは、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]である。
[(C) Nitrogen-free hindered phenolic compound]
In the present embodiment, the nitrogen-free hindered phenol compound refers to a hindered phenol compound whose structural formula does not contain a nitrogen atom. Hindered phenol compounds are generally known as antioxidants, but in the present embodiment, both nitrogen-containing and nitrogen-free compounds are used in combination, thereby achieving very good thermal stability.
The nitrogen-free hindered phenol compound (C) is not limited to the following, but is, for example, n-octadecyl-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl). -Propionate, n-octadecyl-3- (3'-methyl-5'-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, n-tetradecyl-3- (3', 5)
'-Di-t-Butyl-4'-Hydroxyphenyl) -propionate, 1,6-hexanediol-bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], 1 , 4-Butandiol-bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], triethylene glycol-bis- [3- (3-t-butyl-5-methyl) -4-Hydroxyphenyl) -propionate], pentaerythritol tetrakis [methylene-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane and the like.
Preferably, triethylene glycol-bis- [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] and pentaerythritol tetrakis [methylene-3- (3', 5'-di-t). -Butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] Methane, more preferably triethylene glycol-bis- [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate].

(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物の融点は、30〜120℃が好ましく、より好ましくは50℃〜120℃、さらに好ましくは50〜100℃の範囲である。
(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物の融点が前記範囲であれば、より熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
The melting point of the nitrogen-free hindered phenol compound (C) is preferably in the range of 30 to 120 ° C, more preferably 50 ° C to 120 ° C, and even more preferably 50 to 100 ° C.
When the melting point of the nitrogen-free hindered phenol compound (C) is in the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be provided.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物は、上述した(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.001〜0.3質量部含有される。(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.005〜0.3質量部含有されていることが好ましく、0.005〜0.27質量部含有されていることがより好ましい。
(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物の含有量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物中の(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物を定量する方法としては、例えば、ポリアセタール樹脂ペレットを凍結粉砕し、クロロホルム等の溶媒でソックスレー抽出し、GCMS、または1H−NMRにより定量する方法が挙げられる。
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, the (C) nitrogen-free hindered phenol compound is contained in an amount of 0.001 to 0.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned (A) polyacetal resin. The nitrogen-free hindered phenol compound is preferably contained in an amount of 0.005 to 0.3 parts by mass, preferably 0.005 to 0.27 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. It is more preferable that it is.
When the content of the nitrogen-free hindered phenol compound (C) is in the above range, a polyacetal resin composition having excellent thermal stability can be provided.
As a method for quantifying the (C) nitrogen-free hindered phenol compound in the polyacetal resin composition of the present embodiment, for example, polyacetal resin pellets are freeze-ground, soxhlet extracted with a solvent such as chloroform, GCMS, or 1 A method of quantifying by H-NMR can be mentioned.

〔(D)タルク〕
(D)タルクとは含水珪酸マグネシウムからなる粒子であり、その組成は一般的に[Mg3Si410(OH)2]で示され、SiO2約60質量%、MgO約30質量%と結晶水4.8質量%が主成分である。真比重は一般に2.7〜2.8であり、白色度はJIS K−8123に準じて測定した数値が93%以上、PHはJIS K−5101に準じて測定した数値が9.0〜10の範囲であることが好ましい。又、45μm篩残分はJIS K−5101に準じて測定した数値が0.2質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.08質量%以下である。(D)タルクの平均粒子径は、好ましくは1〜30μmであり、より好ましくは2〜25μm、更に好ましくは2〜20μmである。(D)タルクの平均粒子径が前記範囲であると、より熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
本実施形態において(D)タルクは、(A)ポリアセタール樹脂との親和性を向上させるために公知の表面処理剤を用いて表面処理されていてもよい。
表面処理剤としては例えば、アミノシラン、エポキシシラン等のシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、さらには脂肪酸(飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸)、脂環族カルボン酸及び樹脂酸や金属石鹸をあげることができる。表面処理剤の添加量としては好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質量%以下であり、最も好ましくは実質的に添加されていないことである。
[(D) Talc]
(D) Talc is a particle composed of hydrous magnesium silicate, and its composition is generally shown by [Mg 3 Si 4 O 10 (OH) 2 ], and SiO 2 is about 60% by mass and MgO is about 30% by mass. The main component is 4.8% by mass of water of crystallization. The true specific gravity is generally 2.7 to 2.8, the whiteness is 93% or more measured according to JIS K-8123, and the PH is 9.0 to 10 measured according to JIS K-5101. It is preferably in the range of. The 45 μm sieve residue is preferably 0.2% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, and more preferably 0.08% by mass or less, as measured according to JIS K-5101. is there. The average particle size of (D) talc is preferably 1 to 30 μm, more preferably 2 to 25 μm, and even more preferably 2 to 20 μm. When the average particle size of (D) talc is in the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be provided.
In the present embodiment, (D) talc may be surface-treated with a known surface treatment agent in order to improve the affinity with (A) polyacetal resin.
Examples of the surface treatment agent include silane coupling agents such as aminosilane and epoxysilane, titanate-based coupling agents, fatty acids (saturated fatty acids and unsaturated fatty acids), alicyclic carboxylic acids, resin acids and metal soaps. Can be done. The amount of the surface treatment agent added is preferably 3% by mass or less, more preferably 2% by mass or less, and most preferably substantially not added.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、(D)タルクの含有量は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対して0.0001〜0.1質量部である。(D)タルクの含有量が少ないと十分な熱安定性改善効果が得られないが、一方で、多すぎる場合にも、タルク自身の塩基性度、又は含まれる不純物等の影響により熱安定性が低下することが本発明者らの研究により判明した。このような理由から、(D)タルクは、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し0.0005〜0.1質量部含有されていることが好ましく、0.0005〜0.05質量部含有されていることがより好ましい。
(D)タルクの含有量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, the content of (D) talc is 0.0001 to 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. (D) If the content of talc is low, a sufficient effect of improving thermal stability cannot be obtained, but if it is too high, the thermal stability is affected by the basicity of talc itself or the impurities contained in it. Has been found to decrease by the studies of the present inventors. For this reason, (D) talc is preferably contained in an amount of 0.0005 to 0.1 parts by mass, preferably 0.0005 to 0.05 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. Is more preferable.
When the content of (D) talc is within the above range, a polyacetal resin composition having excellent thermal stability can be provided.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物中の(D)タルク含有量を定量するには、例えば、ポリアセタール樹脂ペレットを塩酸等で加水分解し、タルクを定量する方法や、高周波誘導結合プラズマ(ICP)発光分析により、タルク起因である金属性分(Si、Mg)を定量する方法が挙げられ To quantify the (D) talc content in the polyacetal resin composition of the present embodiment, for example, a method of hydrolyzing polyacetal resin pellets with hydrochloric acid or the like to quantify talc, or high frequency inductively coupled plasma (ICP) emission. A method of quantifying metallic components (Si, Mg) caused by talc by analysis can be mentioned.

〔(E)安定剤〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物においては、上述の(B)〜(D)の組合せ添加によって良好な熱安定性が達成されているので、その他に安定剤を添加しなくてもよいが、さらなる熱安定性の改良やその他の物性の安定性を改良するために、さらに、(E)各種安定剤を含んでいてもよい。
(E)安定剤としては、例えば、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、ヒドラジド誘導体、アミド化合物、ポリアミド、及び、アクリルアミド重合体等が挙げられる。
[(E) Stabilizer]
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, good thermal stability is achieved by the combination addition of (B) to (D) described above, so that no other stabilizer may be added, but further In order to improve the thermal stability and the stability of other physical properties, (E) various stabilizers may be further contained.
Examples of the stabilizer (E) include amino-substituted triazine compounds, urea derivatives, hydrazide derivatives, amide compounds, polyamides, and acrylamide polymers.

前記アミノ置換トリアジン化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2,4−ジアミノ−sym−トリアジン、2,4,6−トリアミノ−sym−トリアジン、N−ブチルメラミン、N−フェニルメラミン、N,N−ジフェニルメラミン、N,N−ジアリルメラミン、ベンゾグアナミン(2,4−ジアミノ−6−フェニル−sym−トリアジン)、アセトグアナミン(2,4−ジアミノ−6−メチル−sym−トリアジン)、2,4−ジアミノ−6−ブチル−sym−トリアジン等が挙げられる。 The amino-substituted triazine compound is not limited to the following, and is, for example, 2,4-diamino-sim-triazine, 2,4,6-triamino-sim-triazine, N-butylmelamine, N-phenyl. Melamine, N, N-diphenylmelamine, N, N-diallylmelamine, benzoguanamine (2,4-diamino-6-phenyl-sim-triazine), acetoganamin (2,4-diamino-6-methyl-sim-triazine) , 2,4-Diamino-6-butyl-sim-triazine and the like.

前記尿素誘導体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、N−置換尿素、尿素縮合体、エチレン尿素、ヒダントイン化合物、ウレイド化合物等が挙げられる。
前記N−置換尿素としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルキル基等の置換基を有するメチル尿素、アルキレンビス尿素、アリール置換尿素が挙げられる。前記尿素縮合体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、尿素とホルムアルデヒドの縮合体等が挙げられる。前記ヒダントイン化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、5,5−ジフェニルヒダントイン等が挙げられる。前記ウレイド化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アラントイン等が挙げられる。
The urea derivative is not limited to the following, and examples thereof include N-substituted urea, a urea condensate, ethylene urea, a hydantoin compound, and a ureido compound.
The N-substituted urea is not limited to the following, and examples thereof include methyl urea having a substituent such as an alkyl group, alkylene bisurea, and aryl substituted urea. The urea condensate is not limited to the following, and examples thereof include a condensate of urea and formaldehyde. Examples of the hydantoin compound include, but are not limited to, hydantoin, 5,5-dimethylhydantoin, 5,5-diphenylhydantoin and the like. The ureido compound is not limited to the following, and examples thereof include allantoin and the like.

前記ヒドラジド誘導体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ヒドラジド化合物を挙げることができる。
ヒドラジド化合物としては、カルボン酸(含芳香族、脂環)とヒドラジンとの反応により合成される、カルボン酸モノ/又はジヒドラジド化合物やアルキル基置換モノ/又はジヒドラジド化合物が挙げられる。カルボン酸モノ/又はジヒドラジド化合物を構成するカルボン酸としては、モノカルボン酸の例としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ベヘン酸である。ジカルボン酸は、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタリン酸、サリチル酸、没食子酸、メリト酸、ケイ皮酸、ピルビン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、アコニット酸、アミノ酸、ニトロカルボン酸が挙げられる。また不飽和カルボン酸の例としては、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、ドコサヘキサエン酸、エイコサペンタエン酸が挙げられる。これらカルボン酸を用いて合成されるカルボン酸モノ(ジ)ヒドラジド化合物は、例えば、カルボジヒドラジン、シュウ酸モノ(ジ)ヒドラジド、マロン酸モノ(ジ)ヒドラジド、コハク酸モノ(ジ)ヒドラジド、グルタル酸モノ(ジ)ヒドラジド、アジピン酸モノ(ジ)ヒドラジド、セバシン酸モノ(ジ)ヒドラジド、ラウリン酸モノ(ジ)ヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、プロピオン酸モノヒドラジド、ラウリン酸モノヒドラジド、ステアリン酸モノヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、2,6−ナフタリン酸ジヒドラジド、p―ヒドロキシベンゾイックヒドラジン、p―ヒドロキシベンゾイックヒドラジン、1,4−シクロへキサンジカルボン酸ジヒドラジン、アセトヒドラジド、アクリロヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド、フマル酸ジヒドラジド、ベンゾヒドラジド、ニコチノヒドラジド、イソニコチノヒドラジド、イソブチルヒドラジン、オレイン酸ヒドラジド等が挙げられる。これらカルボン酸の中でも、アジピン酸、セバシン酸、ラウリン酸等のジカルボン酸が好ましく、アジピン酸モノ(ジ)ヒドラジド、セバシン酸モノ(ジ)ヒドラジド、ラウリン酸モノ(ジ)ヒドラジドが、最も好ましいカルボン酸ヒドラジド化合物である。
The hydrazide derivative is not limited to the following, and examples thereof include hydrazide compounds.
Examples of the hydrazide compound include a carboxylic acid mono / or dihydrazide compound and an alkyl group-substituted mono / or dihydrazide compound synthesized by the reaction of a carboxylic acid (aromatic, alicyclic) with hydrazine. Carboxylic Acids Examples of carboxylic acids that make up mono / or dihydrazide compounds include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, lauric acid, and myristic acid. Palmitic acid, margaric acid, stearic acid, behenic acid. Dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, benzoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalic acid, salicylic acid, and gallic acid. , Melitoic acid, silicic acid, pyruvate, lactic acid, malic acid, citric acid, fumaric acid, maleic acid, aconitic acid, amino acids, nitrocarboxylic acid. Examples of unsaturated carboxylic acids include oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, docosahexaenoic acid, and eicosapentaenoic acid. The carboxylic acid mono (di) hydrazide compounds synthesized using these carboxylic acids include, for example, carbodihydrazine, mono (di) hydrazide oxalate, mono (di) hydrazide malonic acid, mono (di) hydrazide succinate, and glutal. Acid mono (di) hydrazide, adipate mono (di) hydrazide, sebacic acid mono (di) hydrazide, laurate mono (di) hydrazide, malic acid dihydrazide, tartrate dihydrazide, propionate monohydrazide, laurate monohydrazide, stearic acid Monohydrazide, phthalic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, terephthalic acid dihydrazide, 2,6-naphthalic acid dihydrazide, p-hydroxybenzoic hydrazine, p-hydroxybenzoic hydrazine, 1,4-cyclohexandicarboxylic acid dihydrazine, aceto Examples thereof include hydrazide, acrylohydrazide, maleic acid dihydrazide, fumaric acid dihydrazide, benzohydrazide, nicotine hydrazide, isonicotinohydrazide, isobutyl hydrazine and oleate hydrazide. Among these carboxylic acids, dicarboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid and lauric acid are preferable, and mono (di) hydrazide of adipic acid, mono (di) hydrazide of sebacic acid and mono (di) hydrazide of laurate are the most preferable carboxylic acids. It is a hydrazide compound.

前記アミド化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、イソフタル酸ジアミドなどの多価カルボン酸アミド、アントラニルアミドが挙げられる。 Examples of the amide compound include, but are not limited to, polyvalent carboxylic acid amides such as isophthalic acid diamide and anthranilamide.

前記ポリアミドとしては、例えば、ナイロン(登録商標)4−6、ナイロン6、ナイロン6−6、ナイロン6−10、ナイロン6−12、ナイロン12等のポリアミド樹脂、及びこれらの重合体、例えば、ナイロン6/6−6/6−10、ナイロン6/6−12等が挙げられる。 Examples of the polyamide include polyamide resins such as nylon (registered trademark) 4-6, nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 6-12, and nylon 12, and polymers thereof, for example, nylon. Examples thereof include 6 / 6-6 / 6-10 and nylon 6 / 6-12.

前記アクリルアミド重合体は、以下に限定されるものではないが、例えば、触媒としてアリカリ土類金属のアルコラートを用い、アクリルアミドの重合、又はアクリルアミドとアクリルアミド以外のビニル基を有するモノマーとの重合を行うことによって製造できる。
前記アクリルアミド重合体を構成する、アクリルアミド以外のビニル基を有するモノマーとしては、ビニル基を1個又は2個有するモノマーが挙げられる。
ビニル基を1個有するモノマーとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、エチルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、セシルメタクリレート、ペンタデシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベヘニルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート等が挙げられる。
ビニル基を2個有するモノマーとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジビニルベンゼン、エチレンビスアクリルアミド、N,N’−メチレンビスアクリルアミド等が挙げられる。
これらのビニル基を有するモノマーの中で、N,N’−メチレンビスアクリルアミドが好ましい。
前記アクリルアミド重合体に対する前記ビニル基を有するモノマーの導入量は、アクリルアミド成分とビニル基を有するモノマーとの合計量に対して0.05〜20質量%であることが好ましい。
上述したビニル基を有するモノマーと共重合する(架橋構造を持たせる)ことにより、ポリアセタール樹脂ペレットの押出し生産性を向上させることができる。
アクリルアミド重合体の平均粒子径は、0.1〜20μmが好ましく、より好ましくは0.1〜15μm、さらに好ましくは0.1〜10μmである。
アクリルアミド重合体の平均粒子径が上記範囲であると、押出し生産性に優れるポリアセタール樹脂組成物が得られる。
The acrylamide polymer is not limited to the following, but for example, acrylamide is polymerized or a monomer having a vinyl group other than acrylamide is polymerized using an alkylate earth metal alcoholate as a catalyst. Can be manufactured by.
Examples of the monomer having a vinyl group other than acrylamide constituting the acrylamide polymer include a monomer having one or two vinyl groups.
The monomer having one vinyl group is not limited to the following, but for example, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, ethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, and the like. Examples thereof include cecil methacrylate, pentadecyl methacrylate, stearyl methacrylate, behenyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, polypropylene glycol methacrylate, polyethylene glycol methacrylate and the like.
The monomer having two vinyl groups is not limited to the following, and examples thereof include divinylbenzene, ethylene bisacrylamide, and N, N'-methylene bisacrylamide.
Among these vinyl-containing monomers, N, N'-methylenebisacrylamide is preferable.
The amount of the monomer having a vinyl group introduced into the acrylamide polymer is preferably 0.05 to 20% by mass with respect to the total amount of the acrylamide component and the monomer having a vinyl group.
By copolymerizing with the above-mentioned monomer having a vinyl group (having a crosslinked structure), the extrusion productivity of the polyacetal resin pellets can be improved.
The average particle size of the acrylamide polymer is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.1 to 15 μm, and even more preferably 0.1 to 10 μm.
When the average particle size of the acrylamide polymer is in the above range, a polyacetal resin composition having excellent extrusion productivity can be obtained.

以上の(E)安定剤の中で、特に好ましいのはポリアミド、アクリルアミド重合体である。 Among the above (E) stabilizers, polyamide and acrylamide polymers are particularly preferable.

(E)安定剤の添加量としては、ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.001〜5質量部が好ましく、より好ましくは0.001〜3質量部であり、さらに好ましくは0.01〜1質量部である。
ポリアセタール樹脂に対する熱安定剤の添加量を前記範囲にすることで、より熱安定性に優れるポリアセタール樹脂組成物を得ることができる。
The amount of the stabilizer (E) added is preferably 0.001 to 5 parts by mass, more preferably 0.001 to 3 parts by mass, and further preferably 0.01 to 0.01 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyacetal resin. It is 1 part by mass.
By setting the amount of the heat stabilizer added to the polyacetal resin within the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be obtained.

〔その他添加剤〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物には、上述したもののほかに、公知の添加剤、例えば、ギ酸捕捉剤、耐候安定剤、離型剤、潤滑剤、導電剤、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、染顔料、顔料、あるいは無機充填剤又は有機充填剤等を添加してもよい。
これらの添加剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
[Other additives]
In addition to those described above, the polyacetal resin composition of the present embodiment includes known additives such as formic acid trapping agent, weather stabilizer, mold release agent, lubricant, conductive agent, thermoplastic resin, and thermoplastic elastomer. Dyeing pigments, pigments, inorganic fillers, organic fillers and the like may be added.
Only one type of these additives may be used alone, or two or more types may be used in combination.

ギ酸捕捉剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、(E)安定剤の具体例として挙げたアミノ置換トリアジン化合物やアミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの縮合物、例えばメラミン・ホルムアルデヒド縮合物等を挙げることができる。
その他のギ酸捕捉剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、無機酸塩、カルボン酸塩又はアルコキシドが挙げられる。例えば、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムもしくはバリウムなどの水酸化物;上記金属の炭酸塩、リン酸塩、珪酸塩、ホウ酸塩、カルボン酸塩、さらには層状複水酸化物が挙げられる。
前記カルボン酸塩のカルボン酸としては、10〜36個の炭素原子を有する飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸が好ましく、これらのカルボン酸は水酸基で置換されていてもよい。飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸塩としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジミリスチン酸カルシウム、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウム、(ミリスチン酸−パルミチン酸)カルシウム、(ミリスチン酸−ステアリン酸)カルシウム、(パルミチン酸−ステアリン酸)カルシウム、12ヒドロキシステアリン酸カルシウムが挙げられ、中でも好ましくは、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウム、12−ヒドロキシジステアリン酸カルシウムが挙げられる。
ギ酸補捉剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
The formic acid trapping agent is not limited to the following, but is, for example, (E) an amino-substituted triazine compound or a condensate of an amino-substituted triazine compound and formaldehyde as specific examples of the stabilizer, for example, melamine / formaldehyde. Condensates and the like can be mentioned.
Other formic acid trapping agents include, but are not limited to, hydroxides, inorganic acid salts, carboxylates or alkoxides of alkali metals or alkaline earth metals. Examples include hydroxides such as sodium, potassium, magnesium, calcium or barium; carbonates, phosphates, silicates, borates, carboxylates and layered double hydroxides of the above metals.
The carboxylic acid of the carboxylic acid salt is preferably a saturated or unsaturated aliphatic carboxylic acid having 10 to 36 carbon atoms, and these carboxylic acids may be substituted with a hydroxyl group. Saturated or unsaturated aliphatic carboxylates include, but are not limited to, calcium dimyristate, calcium dipalmitate, calcium distearate, calcium (myristic acid-palmitate), (myristic acid). Calcium (stearic acid), calcium (palmitic acid-stearic acid), calcium 12hydroxystearate can be mentioned, and calcium dipalmitate, calcium distearate, and calcium 12-hydroxydistearate are preferable.
Only one type of formic acid trapping agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記耐候安定剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、蓚酸アニリド系化合物、及びヒンダードアミン系光安定剤からなる群より選択される少なくとも1種が好ましいものとして挙げられる。
前記ベンゾトリアゾール系化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3,5−ビス(α、α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−イソアミル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3,5−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
これらの化合物はそれぞれ1種のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
前記蓚酸アリニド系化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2−エトキシ−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2−エトキシ−3’−ドデシルオキザリックアシッドビスアニリドなどが挙げられる。
これらの化合物は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
前記ヒンダードアミン系光安定剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェニルアトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(エチルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(シクロヘキシルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−カーボネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−オキサレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−マロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−テレフタレート、1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−エタン、α,α’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−p−キシレン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルトリレン−2,4−ジカルバメート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,4−トリカルボキシレート、1−[2−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}ブチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β’,β’,−テトラメチル−3,9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン]ジエタノールとの縮合物、などが挙げられる。
前記ヒンダードアミン系光安定剤は、それぞれ1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The weather-resistant stabilizer is not limited to the following, and for example, at least one selected from the group consisting of benzotriazole-based compounds, oxalic acid-anilide-based compounds, and hindered amine-based light stabilizers is preferable. Be done.
The benzotriazole-based compound is not limited to the following, but is, for example, 2- (2'-hydroxy-5'-methyl-phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3,5-). Di-t-butyl-phenyl) benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3,5-di -T-amylphenyl] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3,5-di-isoamyl-phenyl) benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3,5-bis- (α, α-dimethyl) Benzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxyphenyl) benzotriazole and the like can be mentioned.
Only one of these compounds may be used alone, or two or more of these compounds may be used in combination.
The oxalic acid alinide-based compound is not limited to the following, and is, for example, 2-ethoxy-2'-ethyloxalic acid bisanilide, 2-ethoxy-5-t-butyl-2'-ethyloxy. Examples thereof include oxalic acid bisanilide and 2-ethoxy-3'-dodecyl oxalic acid bisanilide.
Only one of these compounds may be used alone, or two or more of these compounds may be used in combination.
The hindered amine-based light stabilizer is not limited to the following, but is, for example, 4-acetoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6- Tetramethylpiperidine, 4-acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (phenylatoxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2 6,6-Tetramethylpiperidine, 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-cyclohexyloxy-2,2 6,6-Tetramethylpiperidine, 4-benzyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-phenoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (ethylcarbamoyloxy) -2 , 2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (cyclohexylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (phenylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine , Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -carbonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -oxalate, bis (2,2,6,6 -Tetramethyl-4-piperidyl) -malonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethyl-4) -Piperidinyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -sevacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -adipate, bis (2,2) , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -terephthalate, 1,2-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -ethane, α, α'-bis (2,2) , 6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -p-xylene, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyltrilen-2,4-dicarbamate, bis (2,2) 6,6-Tetramethyl-4-piperidyl) -hexamethylene-1,6-dicarbamate, tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -benzene-1,3,5-tricarboxy Rate, tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -benzene-1,3,4-trical Boxylate, 1- [2- {3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} butyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4-) Hydroxyphenyl) propionyloxy] 2,2,6,6-tetramethylpiperidin, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β , Β', β', -tetramethyl-3,9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane] condensate with diethanol, and the like.
As the hindered amine-based light stabilizer, only one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

中でも好ましい耐候安定剤は、2−[2’−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル]ベンゾトリアゾール、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β’,β’,−テトラメチル−3,9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン]ジエタノールとの縮合物である。 Among them, preferred weather-resistant stabilizers are 2- [2'-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole and 2- (2'-hydroxy-3,5-di-t-butyl). Phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3,5-di-t-amylphenyl] benzotriazole, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis- ( N-Methyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sevacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sevacate, 1,2,3,4-butanetetra Carboxylic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β, β', β', -tetramethyl-3,9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro (2,4,8,10-tetraoxaspiro) 5,5) Undecane] A condensate with diethanol.

前記離型剤及び潤滑剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルコール、脂肪酸及びそれらの脂肪酸エステル、平均重合度が10〜500であるオレフィン化合物、シリコーンが好ましいものとして挙げられる。
離型剤及び潤滑剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
The release agent and the lubricant are not limited to the following, and examples thereof include alcohols, fatty acids and fatty acid esters thereof, olefin compounds having an average degree of polymerization of 10 to 500, and silicones. ..
Only one type of release agent and lubricant may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記導電剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、導電性カーボンブラック、金属粉末又は繊維が挙げられる。
導電剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the conductive agent include, but are not limited to, conductive carbon black, metal powder, and fibers.
Only one type of conductive agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.

熱可塑性樹脂としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリカーネート樹脂、未硬化のエポキシ樹脂が挙げられる。
熱可塑性樹脂は1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
また、熱可塑性樹脂としては、上述した樹脂の変性物も含まれる。
Examples of the thermoplastic resin include, but are not limited to, polyolefin resins, acrylic resins, styrene resins, polycarbonate resins, and uncured epoxy resins.
Only one type of thermoplastic resin may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The thermoplastic resin also includes the above-mentioned modified resin.

熱可塑性エラストマーとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリスチレン系エラストマー、ポリアミド系エラストマーが挙げられる。
熱可塑性エラストマーは1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the thermoplastic elastomer include, but are not limited to, polyurethane-based elastomers, polyester-based elastomers, polystyrene-based elastomers, and polyamide-based elastomers.
Only one type of thermoplastic elastomer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

染顔料としては、以下に限定されるものではないが、例えば、無機系顔料及び有機系顔料、メタリック系顔料、蛍光顔料等が挙げられる。
無機系顔料とは樹脂の着色用として一般的に使用されているものを言い、以下に限定されるものではないが、例えば、硫化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、チタンイエロー、コバルトブルー、燃成顔料、炭酸塩、りん酸塩、酢酸塩やカーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック等が挙げられる。
有機系顔料としては、以下に限定されるものではないが、例えば、縮合ウゾ系、イノン系、フロタシアニン系、モノアゾ系、ジアゾ系、ポリアゾ系、アンスラキノン系、複素環系、ペンノン系、キナクリドン系、チオインジコ系、ベリレン系、ジオキサジン系、フタロシアニン系等の顔料である等の顔料が挙げられる。
染顔料は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
顔料の添加割合は色調により大幅に変わるため明確にすることは難しいが一般的には、ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.05〜5質量部の範囲で用いられる。
The dyeing pigment is not limited to the following, and examples thereof include inorganic pigments, organic pigments, metallic pigments, and fluorescent pigments.
Inorganic pigments are those generally used for coloring resins, and are not limited to the following, for example, zinc sulfide, titanium oxide, barium sulfate, titanium yellow, cobalt blue, and fuel. Pigments, carbonates, phosphates, acetates, carbon blacks, acetylene blacks, lamp blacks and the like can be mentioned.
Organic pigments are not limited to the following, but are not limited to the following, for example, condensed uso-based, inone-based, phthalocyanine-based, monoazo-based, diazo-based, polyazo-based, anthraquinone-based, heterocyclic, pennon-based, and quinacridone-based pigments. , Thioindico-based, berylene-based, dioxazine-based, phthalocyanine-based pigments and the like.
Only one type of dyeing pigment may be used alone, or two or more types may be used in combination.
It is difficult to clarify the addition ratio of the pigment because it varies greatly depending on the color tone, but it is generally used in the range of 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyacetal resin.

記熱可塑性樹脂以外のその他の樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリカーネート樹脂、未硬化のエポキシ樹脂が挙げられる。
その他の樹脂は1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
The resin other than the thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include a polyolefin resin, an acrylic resin, a styrene resin, a polycarbonate resin, and an uncured epoxy resin.
Only one type of other resin may be used alone, or two or more types may be used in combination.

無機充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、繊維状、粉粒子状、板状及び中空状の充填剤が用いられる。
繊維状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、シリコーン繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化硼素繊維、窒化硅素繊維、硼素繊維、チタン酸カリウム繊維、さらにステンレス、アルミニウム、チタン、銅、真鍮等の金属繊維等の無機質繊維が挙げられる。また、繊維長の短いチタン酸カリウムウイスカー、酸化亜鉛ウイスカー等のウイスカー類も含まれる。
粉粒子状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、カーボンブラック、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ガラス粉、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、カオリン、クレー、珪藻土、ウォラストナイト等の珪酸塩;酸化鉄、酸化チタン、アルミナ等の金属酸化物;硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属硫酸塩;炭酸マグネシウム、ドロマイト等の炭酸塩;その他炭化珪素、窒化硅素、窒化硼素、各種金属粉末等が挙げられる。
板状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、マイカ、ガラスフレーク、各種金属箔が挙げられる。
中空状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ガラスバルーン、シリカバルーン、シラスバルーン、金属バルーン等が挙げられる。
有機充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、芳香族ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等の高融点有機繊維状充填剤が挙げられる。
これらの充填剤は1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用して使用してもよい。
The inorganic filler is not limited to the following, and for example, fibrous, powdery, plate-like, and hollow fillers are used.
The fibrous filler is not limited to the following, and includes, for example, glass fiber, carbon fiber, silicone fiber, silica / alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, boron fiber, potassium titanate. Examples thereof include fibers and inorganic fibers such as metal fibers such as stainless steel, aluminum, titanium, copper and brass. In addition, whiskers such as potassium titanate whiskers and zinc oxide whiskers having short fiber lengths are also included.
The powdery filler is not limited to the following, but is not limited to, for example, carbon black, silica, quartz powder, glass beads, glass powder, calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, kaolin, clay, diatomaceous earth, and wow. Silicates such as lastnite; metal oxides such as iron oxide, titanium oxide and alumina; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; carbonates such as magnesium carbonate and dolomite; other silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, etc. Examples include various metal powders.
The plate-shaped filler is not limited to the following, and examples thereof include mica, glass flakes, and various metal foils.
The hollow filler is not limited to the following, and examples thereof include glass balloons, silica balloons, shirasu balloons, and metal balloons.
Examples of the organic filler include, but are not limited to, high melting point organic fibrous fillers such as aromatic polyamide resin, fluororesin, and acrylic resin.
Only one kind of these fillers may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination.

これらの充填剤は表面処理された充填剤、未表面処理の充填剤、何れも使用可能であるが、成形表面の平滑性、機械的特性の面から表面処理の施された充填剤の使用の方が好ましい場合がある。
表面処理剤としては、特に限定されず、従来公知の表面処理剤が使用可能である。
表面処理剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、シラン系、チタネート系、アルミニウム系、ジルコニウム系等の各種カップリング処理剤、樹脂酸、有機カルボン酸、有機カルボン酸の塩等、界面活性剤が使用できる。
具体的には、以下に限定されるものではないが、例えば、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリスステアロイルチタネート、ジイソプロポキシアンモニウムエチルアセテート、n−ブチルジルコネート等が挙げられる。
Both of these fillers can be used as surface-treated fillers or unsurface-treated fillers, but in terms of the smoothness and mechanical properties of the molded surface, the use of surface-treated fillers is used. May be preferable.
The surface treatment agent is not particularly limited, and conventionally known surface treatment agents can be used.
The surface treatment agent is not limited to the following, but is, for example, various coupling treatment agents such as silane type, titanate type, aluminum type and zirconium type, resin acid, organic carboxylic acid, salt of organic carboxylic acid and the like. , Surfactants can be used.
Specifically, but not limited to the following, for example, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, isopropyltristearoyl titanate, di Examples thereof include isopropoxyammonium ethyl acetate and n-butylzirconeate.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物を製造する方法に特に限定はない。
一般的には、(A)ポリアセタール樹脂と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物と、(D)タルクと、を、必要に応じて上述した所定の成分を、例えば、ヘンシェルミキサー、タンブラー、V字型ブレンダ―等で混合した後、1軸又は多軸の押出機、加熱ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等の混練機を用いて混練することにより得られる。中でも、ベント減圧装置を備えた押出機による混練が、生産性の観点から好ましい。また、ポリアセタール樹脂組成物を大量に安定して製造するには、単軸又は二軸の押出機が好適に用いられる。
また、予め混合することなく、定量フィーダーなどで各成分を単独あるいは数種類ずつまとめて押出機に連続フィードすることもできる。
また、予め各成分からなる高濃度マスターバッチを作製しておき、押出溶融混練時にポリアセタール樹脂で希釈することもできる。
混練温度は、使用するポリアセタール樹脂の好ましい加工温度に従えばよく、一般的には、140〜260℃の範囲、好ましくは180〜230℃の範囲とする。
The method for producing the polyacetal resin composition of the present embodiment is not particularly limited.
In general, (A) a polyacetal resin, (B) a nitrogen-containing hindered phenol compound, (C) a nitrogen-free hindered phenol compound, and (D) talc are optionally provided as described above. Is obtained by mixing the components of the above with, for example, a Henschel mixer, a tumbler, a V-shaped blender, or the like, and then kneading with a kneader such as a single-screw or multi-screw extruder, a heating roll, a kneader, or a Banbury mixer. Be done. Above all, kneading with an extruder equipped with a vent decompression device is preferable from the viewpoint of productivity. Further, in order to stably produce a polyacetal resin composition in a large amount, a single-screw or twin-screw extruder is preferably used.
Further, it is also possible to continuously feed each component individually or in groups of several types to the extruder without mixing in advance with a quantitative feeder or the like.
It is also possible to prepare a high-concentration masterbatch composed of each component in advance and dilute it with a polyacetal resin at the time of extrusion melt kneading.
The kneading temperature may be in accordance with the preferable processing temperature of the polyacetal resin to be used, and is generally in the range of 140 to 260 ° C, preferably in the range of 180 to 230 ° C.

〔成形方法〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、成形し、成形品として使用することができる。成形する方法については、特に限定はなく、公知の成形方法、例えば、押出成形、射出成形、真空成形、ブロー成形、射出圧縮成形、加飾成形、他材質成形、ガスアシスト射出成形、発砲射出成形、低圧成形、超薄肉射出成形(超高速射出成形)、金型内複合成形(インサート成形、アウトサート成形)等の成形方法の何れかによって成形することができる。
これらの中でも、安定生産性の観点から射出成形法が好ましい。
[Molding method]
The polyacetal resin composition of the present embodiment can be molded and used as a molded product. The molding method is not particularly limited, and known molding methods such as extrusion molding, injection molding, vacuum molding, blow molding, injection compression molding, decorative molding, other material molding, gas assisted injection molding, and foam injection molding. , Low-pressure molding, ultra-thin wall injection molding (ultra-high-speed injection molding), in-mold composite molding (insert molding, outsert molding), or any other molding method.
Among these, the injection molding method is preferable from the viewpoint of stable productivity.

〔用途〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、ホットランナー金型を用いた連続成形を行っても、ポリアセタール樹脂の熱分解が少なく、そのため金型の汚染も少ない。
また、本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は厳しい成形条件下で成形しても、得られた成形品からのホルムアルデヒド放出量が少ない。
従って、様々な用途の成形品に使用することが可能である。
例えば、ギア、カム、スライダー、レバー、軸、軸受け及びガイド等に代表される機構部品、アウトサート成形の樹脂部品またはインサート成形の樹脂部品(シャーシ、トレー、側板部品)、プリンター又は複写機用部品、デジタルカメラ又はデジタルビデオ機器用部品、音楽、映像又は情報機器用部品、通信機器用部品、電気機器用部品、電子機器用部品用に用いられる。
また、自動車用の部品として、ガソリンタンク、フュエルポンプモジュール、バルブ類、ガソリンタンクフランジ等に代表される燃料廻り部品;ドア廻り部品;シートベルト周辺部品;コンビスイッチ部品;スイッチ類に好適に使用される。
さらに、住宅設備機器に代表される工業部品としても好適に使用できる。
[Use]
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, even if continuous molding is performed using a hot runner mold, the polyacetal resin is less thermally decomposed, and therefore the mold is less contaminated.
Further, even if the polyacetal resin composition of the present embodiment is molded under severe molding conditions, the amount of formaldehyde released from the obtained molded product is small.
Therefore, it can be used for molded products for various purposes.
For example, mechanical parts such as gears, cams, sliders, levers, shafts, bearings and guides, outsert-molded resin parts or insert-molded resin parts (chassis, trays, side plate parts), printer or copier parts. , Used for digital camera or digital video equipment parts, music, video or information equipment parts, communication equipment parts, electrical equipment parts, electronic equipment parts.
Also, as parts for automobiles, fuel parts such as gasoline tanks, fuel pump modules, valves, and gasoline tank flanges; door parts; seatbelt peripheral parts; combination switch parts; switches are preferably used. To.
Further, it can be suitably used as an industrial part represented by housing equipment.

以下、本実施形態について、具体的な実施例と、これとの比較例を挙げて説明するが、本実施形態は、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例において適用した測定・評価方法を下記に示す。
〔測定・評価方法〕
<ホットランナー金型によるモールドデポジッド性評価>
図1に示す構成を有する成形機を用い、下記(a)成形条件に従って、ポリアセタール樹脂組成物のモールドデポジッド性評価を行った。評価基準は下記(b)を用いた。
(a)成形条件
・射出成形機 :東芝機械(株)IS−100GN
(溶融樹脂流路末端先端部ガス抜き部無、ウエルド部有)
・シリンダー設定温度 :230℃
・マニホールド設定温度:240℃(ノズル自動開閉式)
・金型設定温度 :80℃
・成形サイクル :射出時間/冷却時間=20/20秒
・金型サイズ :70×60mm×3mm
(b)評価基準
以下の評価基準に基づいて、成形開始から300ショット目と1000ショット目の金型キャビティ内のモールドデポジッド付着状況を観察した。
1:付着物が金型キャビティ内の5%未満の範囲で観察された。
2:付着物が金型キャビティ内の5%以上10%未満の範囲で観察された
3:付着物が金型キャビティ内の10%以上20%未満の範囲で観察された。
4:付着物が金型キャビティ内の20%以上30%未満の範囲で観察された。
5:付着物が金型キャビティ内の30%以上の範囲で観察された。
Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to specific examples and comparative examples thereof, but the present embodiment is not limited to the following examples.
The measurement / evaluation methods applied in the examples and comparative examples are shown below.
[Measurement / evaluation method]
<Evaluation of mold deposit by hot runner mold>
Using a molding machine having the configuration shown in FIG. 1, the mold deposit property of the polyacetal resin composition was evaluated according to the following (a) molding conditions. The following (b) was used as the evaluation standard.
(A) Molding conditions-Injection molding machine: Toshiba Machine Co., Ltd. IS-100GN
(No degassing part at the end of the molten resin flow path, with weld part)
・ Cylinder set temperature: 230 ℃
・ Manifold set temperature: 240 ° C (nozzle automatic opening / closing type)
・ Mold set temperature: 80 ℃
-Molding cycle: Injection time / Cooling time = 20/20 seconds-Mold size: 70 x 60 mm x 3 mm
(B) Evaluation Criteria Based on the following evaluation criteria, the state of adhesion of mold deposits in the mold cavities at the 300th and 1000th shots from the start of molding was observed.
1: Deposits were observed in a range of less than 5% in the mold cavity.
2: Adhesions were observed in the range of 5% or more and less than 10% in the mold cavity 3: Adhesions were observed in the range of 10% or more and less than 20% in the mold cavity.
4: Deposits were observed in the range of 20% or more and less than 30% in the mold cavity.
5: Deposits were observed in the range of 30% or more in the mold cavity.

<成形品から放出されるホルムアルデヒド量の測定方法>
(1)成形機シリンダー内滞留無
(株)東芝製IS−100GN射出成形機を用いて、シリンダー温度220℃、金型温度80℃、射出圧力60MPa、射出時30秒、冷却時間15秒により試験片を成形した。成形開始から5ショットまでの成形品は廃棄し、6ショット目の成形品について、下記に示す条件(VDA275法)により、成形品から放出されるホルムアルデヒド量を測定した。
(2)成形機シリンダー内滞留有
(株)東芝製IS−100GN射出成形機を用いて、シリンダー温度220℃、金型温度80℃、射出圧力60MPa、射出時30秒、冷却時間15秒で試験片を成形した。
5ショット目を成形している途中(成形機シリンダー内に溶融樹脂が計量され、冷却ゾーンに入っている状態)で成形機を停止し、シリンダー温度220℃を保持した状態で、成形機シリンダー内に溶融樹脂を5分間滞留させた。5分後、再び成形機を起動し、射出成形機内に滞留させていたポリアセタール樹脂を、金型温度80℃、射出圧力60MPa、射出時30秒、冷却時間15秒の条件で成形し試験片を得た。滞留直後に成形した成形品について、下記に示す条件(VDA275法)により、成形品から放出されるホルムアルデヒド量を測定した。
※VDA275法:
ポリエチレン容器に蒸留水50mLと規定されたサイズの試験片(縦100mm×横40mm×厚み3mm)を入れ密閉し、60℃で3時間加熱しながら蒸留水中にホルムアルデヒドを抽出し、その後室温まで冷却した。
冷却後、ホルムアルデヒドを吸収した蒸留水5mLに、アセチルアセトン0.4質量%水溶液5mL、及び酢酸アンモニウム20質量%水溶液5mLを加え、40℃で15分間加熱を行い、ホルムアルデヒドとアセチルアセトンの反応を行った。
更に当該混合液を室温まで冷却後、UV分光光度計を用いて412nmの吸収ピークより蒸留水中のホルムアルデヒド量を定量した。
成形品から放出されるホルムアルデヒド量(mg/kg)は下記式により求めた。
成形品から放出されるホルムアルデヒド量(mg/kg)
=蒸留水中のホルムアルデヒド量(mg)/測定に用いたポリアセタール樹脂成形品の質量(kg)
<Method of measuring the amount of formaldehyde emitted from molded products>
(1) Molding machine No retention in the cylinder Tested using an IS-100GN injection molding machine manufactured by Toshiba Corporation with a cylinder temperature of 220 ° C., a mold temperature of 80 ° C., an injection pressure of 60 MPa, an injection time of 30 seconds, and a cooling time of 15 seconds. The piece was molded. The molded product from the start of molding to the 5th shot was discarded, and the amount of formaldehyde released from the molded product was measured for the 6th shot molded product under the conditions shown below (VDA275 method).
(2) Molding machine with retention in the cylinder Using an IS-100GN injection molding machine manufactured by Toshiba Corporation, a test was performed at a cylinder temperature of 220 ° C., a mold temperature of 80 ° C., an injection pressure of 60 MPa, an injection time of 30 seconds, and a cooling time of 15 seconds. The piece was molded.
While molding the 5th shot (the molten resin is weighed in the molding machine cylinder and is in the cooling zone), the molding machine is stopped and the cylinder temperature is maintained at 220 ° C. in the molding machine cylinder. The molten resin was allowed to stay in the water for 5 minutes. After 5 minutes, the molding machine was started again, and the polyacetal resin retained in the injection molding machine was molded under the conditions of a mold temperature of 80 ° C., an injection pressure of 60 MPa, an injection time of 30 seconds, and a cooling time of 15 seconds to form a test piece. Obtained. The amount of formaldehyde released from the molded product was measured under the following conditions (VDA275 method) for the molded product molded immediately after the residence.
* VDA275 method:
A test piece (length 100 mm x width 40 mm x thickness 3 mm) of a specified size of 50 mL of distilled water was placed in a polyethylene container, sealed, and formaldehyde was extracted into distilled water while heating at 60 ° C. for 3 hours, and then cooled to room temperature. ..
After cooling, 5 mL of a 0.4% by mass aqueous solution of acetylacetone and 5 mL of a 20% by mass aqueous solution of ammonium acetate were added to 5 mL of distilled water having absorbed formaldehyde, and the mixture was heated at 40 ° C. for 15 minutes to react formaldehyde with acetylacetone.
Further, after cooling the mixed solution to room temperature, the amount of formaldehyde in the distilled water was quantified from the absorption peak at 412 nm using a UV spectrophotometer.
The amount of formaldehyde (mg / kg) released from the molded product was calculated by the following formula.
Amount of formaldehyde released from the molded product (mg / kg)
= Amount of formaldehyde in distilled water (mg) / Mass of polyacetal resin molded product used for measurement (kg)

〔原料成分〕
実施例、及び比較例に用いた原料成分について下記に示す。
<(A)ポリアセタール樹脂>
ジャケット付き2軸パドル型連続重合反応機((株)栗本鐵工所製、径2B、L/D=14.8)を80℃に調整し、下記に示す重合条件(供給速度)にて原料等を供給してポリアセタールコポリマーを重合した。
得られた粗ポリマーの不安定末端基を下記に示す末端安定化条件で除去し、1,3−ジオキソランに由来するコモノマー成分の含有量が4mol%、MFR値が9g/10minのポリアセタールコポリマー(ポリアセタール樹脂(A−1))を得た。
なお、ポリアセタールコポリマーの重合条件(原料の供給速度)及び末端安定化条件を以下に示した。
[重合条件]
以下に示す供給速度で反応機に原料を供給した。
・トリオキサン(主モノマー):3500gr/hr
・1,3−ジオキソラン(コモノマー):120.9gr/hr
・メチラール(分子量調節剤):2.4gr/hr
・シクロヘキサン(有機溶媒):6.5g/hr
・三フッ化ホウ素−ジ−n−ブチルエーテラート(重合触媒)::0.04g/hr
(ホルムアルデヒド1molに対して、三フッ化ホウ素が、0.05×10-4molとなるように供給速度を設定した。)
なお、重合触媒のみ上記の他の成分と別ラインにてフィードした。
[末端安定化条件]
重合反応機から排出された粗ポリアセタール子ポリマーを、トリエチルアミン水溶液(0.5質量%)中に浸漬し、その後、常温で1hr攪拌を実施した後、遠心分離機でろ過し、窒素下で120℃×3hr乾燥し、ポリアセタールコポリマー(ポリアセタール樹脂(A−1))を得た。
[Ingredients]
The raw material components used in Examples and Comparative Examples are shown below.
<(A) Polyacetal resin>
A twin-screw paddle type continuous polymerization reactor with a jacket (manufactured by Kurimoto, Ltd., diameter 2B, L / D = 14.8) was adjusted to 80 ° C., and the raw material was subjected to the polymerization conditions (supply rate) shown below. Etc. were supplied to polymerize the polyacetal copolymer.
The unstable terminal groups of the obtained crude polymer were removed under the terminal stabilization conditions shown below, and a polyacetal copolymer (polyacetal) having a comonomer component content derived from 1,3-dioxolane of 4 mol% and an MFR value of 9 g / 10 min was removed. Resin (A-1)) was obtained.
The polymerization conditions (raw material supply rate) and terminal stabilization conditions of the polyacetal copolymer are shown below.
[Polymerization conditions]
The raw materials were supplied to the reactor at the supply rates shown below.
-Trioxane (main monomer): 3500 gr / hr
-1,3-Dioxolane (comonomer): 120.9 gr / hr
-Methylal (molecular weight regulator): 2.4 gr / hr
-Cyclohexane (organic solvent): 6.5 g / hr
-Boron trifluoride-di-n-butyl etherate (polymerization catalyst) :: 0.04 g / hr
(The supply rate was set so that boron trifluoride was 0.05 × 10 -4 mol with respect to 1 mol of formaldehyde.)
Only the polymerization catalyst was fed on a separate line from the above other components.
[Terminal stabilization conditions]
The crude polyacetal child polymer discharged from the polymerization reactor is immersed in a triethylamine aqueous solution (0.5% by mass), then stirred at room temperature for 1 hr, filtered through a centrifuge, and 120 ° C. under nitrogen. The mixture was dried for × 3 hr to obtain a polyacetal copolymer (polyacetal resin (A-1)).

<(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物>
B−1:1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン(Irganox MD1024)
B−2:N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド] (Irganox1098)
B−3:1,3,5−トリス[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン(Irganox 3114)
<(B) Nitrogen-containing hindered phenol compound>
B-1: 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] hydrazine (Irganox MD1024)
B-2: N, N'-hexamethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide] (Irganox1098)
B-3: 1,3,5-Tris [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H) , 3H, 5H) -Trione (Irganox 3114)

<(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物>
C−1:トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート](Irganox 245)
C−2:1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4 −ヒドロキシフェニル)−プロピオネート](Irganox 259)
<(C) Nitrogen-free hindered phenol compound>
C-1: Triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] (Irganox 245)
C-2: 1,6-Hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] (Irganox 259)

<(D)タルク>
D−1:MSタルク(平均粒子径16μm) 日本タルク株式会社製
<(E)安定剤>
E−1:ポリアクリルアミド重合体(平均粒子径5μm)
<(D) Talc>
D-1: MS talc (average particle size 16 μm) manufactured by Nippon Talc Co., Ltd. <(E) Stabilizer>
E-1: Polyacrylamide polymer (average particle size 5 μm)

〔実施例1〕
(A−1)ポリアセタール樹脂100質量に、(B−1)1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン0.05質量部と、(C−1)トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]0.1質量部と、(D−1)タルク0.01質量部とを、ヘンシェルミキサーを用いて均一に混合して混合物を得た。

この混合物を200℃に設定された30mmベント付2軸押出機のトップフィード口からフィードし、スクリュー回転数80rpm、ベント減圧度−0.09MPa、吐出量5kg/hrで溶融混錬しペレット化した後、当該ペレットを熱風温度80℃で3時間乾燥することによりポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により測定、評価した。評価結果を下記表1に示す。
[Example 1]
In 100 parts by mass of (A-1) polyacetal resin, 0.05 parts by mass of (B-1) 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] hydrazine. (C-1) Triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] 0.1 part by mass and (D-1) talc 0.01 part by mass And were uniformly mixed using a Henschel mixer to obtain a mixture.

This mixture was fed from the top feed port of a twin-screw extruder with a 30 mm vent set at 200 ° C., and melt-kneaded and pelletized at a screw rotation speed of 80 rpm, a vent pressure reduction degree of −0.09 MPa, and a discharge rate of 5 kg / hr. Then, the pellet was dried at a hot air temperature of 80 ° C. for 3 hours to obtain a polyacetal resin pellet.
Using the obtained polyacetal resin pellets, the mold depositability by the hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were measured and evaluated by the above-mentioned method. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔実施例2〜10、参考例1〜5
組成を表1の通りとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、ポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Examples 2 to 10, Reference Examples 1 to 5 ]
The same operation as in Example 1 was carried out except that the composition was as shown in Table 1, to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, the mold depositability by the hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the above-mentioned method. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔比較例1〕
(A−1)ポリアセタール樹脂100質量を、200℃に設定された30mmベント付2軸押出機のトップフィード口からフィードし、スクリュー回転数80rpm、ベント減圧度−0.09MPa、吐出量5kg/hrで溶融混錬しペレット化した後、当該ペレットを熱風温度80℃で3時間乾燥することによりポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 1]
(A-1) 100 mass of polyacetal resin is fed from the top feed port of a twin-screw extruder with a 30 mm vent set at 200 ° C., screw rotation speed 80 rpm, vent decompression degree −0.09 MPa, discharge rate 5 kg / hr. After melt-kneading and pelletizing the pellets, the pellets were dried at a hot air temperature of 80 ° C. for 3 hours to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, the mold depositability by the hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the above-mentioned method. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔比較例2〕
(A−1)ポリアセタール樹脂100質量と、(D−1)タルク0.01質量部とを、ヘンシェルミキサーを用いて均一に混合して混合物を得た。
この混合物を200℃に設定された30mmベント付2軸押出機のトップフィード口からフィードし、スクリュー回転数80rpm、ベント減圧度−0.09MPa、吐出量5kg/hrで溶融混錬しペレット化した後、当該ペレットを熱風温度80℃で3時間乾燥することによりポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 2]
100 parts by mass of (A-1) polyacetal resin and 0.01 parts by mass of (D-1) talc were uniformly mixed using a Henschel mixer to obtain a mixture.
This mixture was fed from the top feed port of a twin-screw extruder with a 30 mm vent set at 200 ° C., and melt-kneaded and pelletized at a screw rotation speed of 80 rpm, a vent pressure reduction degree of −0.09 MPa, and a discharge rate of 5 kg / hr. Then, the pellet was dried at a hot air temperature of 80 ° C. for 3 hours to obtain a polyacetal resin pellet.
Using the obtained polyacetal resin pellets, the mold depositability by the hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the above-mentioned method. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔比較例3〜10〕
組成を表1の通りとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、ポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Examples 3 to 10]
The same operation as in Example 1 was carried out except that the composition was as shown in Table 1, to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, the mold depositability by the hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the above-mentioned method. The evaluation results are shown in Table 1 below.

表1に示したように、実施例1〜10で得られたポリアセタール樹脂組成物は、ホットランナー金型を用いた連続成形を行った場合にもモールドデポジット性に優れ、かつ、得られた成形品は、厳しい成形条件下で成形されたにも関わらず、ホルムアルデヒド放出量も少なかった。 As shown in Table 1, the polyacetal resin compositions obtained in Examples 1 to 10 are excellent in mold deposit property even when continuous molding is performed using a hot runner mold, and the obtained molding is performed. Although the product was molded under severe molding conditions, the amount of formaldehyde emission was also small.

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、自動車、電機・電子、その他工業などの幅広い分野で利用できる。特に、本発明のポリアセタール樹脂組成物は、優れた熱安定性を有するので、樹脂組成物が高温下に長時間曝されるような成形方法が採用される分野において好適に利用できる。 The polyacetal resin composition of the present invention can be used in a wide range of fields such as automobiles, electric / electronics, and other industries. In particular, since the polyacetal resin composition of the present invention has excellent thermal stability, it can be suitably used in a field where a molding method in which the resin composition is exposed to a high temperature for a long time is adopted.

Claims (3)

(A)ポリアセタール樹脂100質量部と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物0.05〜0.2質量部と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物0.1〜0.3質量部と、(D)タルク0.01〜0.1質量部とを、含有し、
前記(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物がヒドラジン構造を含む、
ポリアセタール樹脂組成物。
(A) 100 parts by mass of polyacetal resin, (B) 0.05 to 0.2 parts by mass of nitrogen-containing hindered phenol compound, and (C) 0.1 to 0.3 parts by mass of nitrogen-free hindered phenol compound. , (D) Containing 0.01 to 0.1 parts by mass of talc ,
The nitrogen-containing hindered phenolic compound (B) contains a hydrazine structure.
Polyacetal resin composition.
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量が、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.05〜0.15質量部である、請求項1に記載のポリアセタール樹脂組成物。 The polyacetal resin composition according to claim 1, wherein the content of the nitrogen-containing hindered phenol compound is 0.05 to 0.15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. さらに、(E)その他安定剤として、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、ヒドラジド誘導体、アミド化合物、ポリアミド、及び、アクリルアミド共重合体からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する、請求項1又は2に記載のポリアセタール樹脂組成物。 Further, according to claim 1 or 2 , the (E) other stabilizer contains at least one selected from the group consisting of an amino-substituted triazine compound, a urea derivative, a hydrazide derivative, an amide compound, a polyamide, and an acrylamide copolymer. The polyacetal resin composition according to the above.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3238502B2 (en) * 1992-12-11 2001-12-17 旭化成株式会社 Polyacetal resin composition
JP4568018B2 (en) * 2004-04-30 2010-10-27 ポリプラスチックス株式会社 Deodorant and resin composition
US20050288438A1 (en) * 2004-06-25 2005-12-29 Malay Nandi Stabilized polyoxymethylene compositions with low melt viscosity
JP4799534B2 (en) * 2006-12-01 2011-10-26 旭化成ケミカルズ株式会社 Polyacetal resin composition
US20080161488A1 (en) * 2006-12-27 2008-07-03 Ramabhadra Ratnagiri Polyoxymethylene blends
JP4903737B2 (en) * 2007-03-20 2012-03-28 旭化成ケミカルズ株式会社 Polyacetal resin composition
JP4895139B2 (en) * 2008-05-30 2012-03-14 旭化成ケミカルズ株式会社 Polyacetal resin molding
JP5234602B2 (en) * 2008-06-25 2013-07-10 旭化成ケミカルズ株式会社 Polyacetal resin composition
JP2015209499A (en) * 2014-04-25 2015-11-24 旭化成ケミカルズ株式会社 Polyacetal resin composition and molded product composed therefrom
US20160222202A1 (en) * 2015-02-04 2016-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Polyoxymethylene Compositions

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