JP2017197636A - Polyacetal resin composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyacetal resin composition, wherein, even when adopting a molding method in which a resin composition is exposed to high temperature for a long time, the pyrolysis of polyacetal resin is suppressed, and the amount of formaldehyde released from an obtained molding and die contamination are also suppressed.SOLUTION: A polyacetal resin composition contains (A) polyacetal resin 100 pts.mass, (B) hindered phenolic compound containing nitrogen of 0.001-0.2 pts.mass, (C) hindered phenolic compound containing no nitrogen of 0.001-0.3 pts.mass, and (D) talc 0.0001-0.1 pts.mass.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ポリアセタール樹脂組成物に関する。特に、ホットランナー金型を用いた連続成形等の樹脂組成物が高温に長時間曝される成形方法に適したポリアセタール樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a polyacetal resin composition. In particular, the present invention relates to a polyacetal resin composition suitable for a molding method in which a resin composition such as continuous molding using a hot runner mold is exposed to a high temperature for a long time.

ポリアセタール樹脂は結晶性樹脂であり、剛性、強度、靭性、摺動性、及びクリープ性に優れた樹脂材料である為、従来から、自動車部品、電気・電子部品、及び工業部品などの機構部品用材料等として広範囲に亘って用いられている。
近年ポリアセタール樹脂は、自動車分野を中心に低VOC化の要求が高まっており、自動車内装部品に使用される樹脂として、部品からのホルムアルデヒド放出量の少ないポリアセタール樹脂の要求が高くなっている。
Polyacetal resin is a crystalline resin, and since it is a resin material with excellent rigidity, strength, toughness, slidability, and creep, it has been used for mechanical parts such as automobile parts, electrical / electronic parts, and industrial parts. Widely used as a material.
In recent years, polyacetal resins have been increasingly demanded for low VOC mainly in the automobile field, and there is an increasing demand for polyacetal resins with a small amount of formaldehyde emission from the parts as resins used for automobile interior parts.

ところで、ポリアセタール樹脂の成形は、一般的にはコールドランナー金型が用いられる。しかしながら、コールドランナー金型を用いて成形を行った際、目的とする成形品以外に不要なランナー部も一緒に成形されてしまう為、ランナー部は廃棄するか、又は粉砕機等で粉砕した後、原料のポリアセタール樹脂ペレットに少量混合してリワーク成形するしかない。
しかしながら、ランナー部をリワーク成形する際、該ランナーは熱履歴を受けているため、成形機シリンダー内での樹脂流動性に影響する場合があり、バリ、そり等の成形不良を発生させ安定生産性が困難となることがある。よって近年では、安定生産性、及び生産コストの観点から、自動車内装部品等の成形でホットランナー金型を選択する傾向が高まっている。
ホットランナー金型を用いて連続成形を行う場合、ホットランナー金型内のマニホールド温度(溶融樹脂が滞留する部分:ホットランナー部)は、一般的に成形機シリンダー温度以上の温度に設定する。その為、コールドランナー金型を用いて連続成形する場合よりも、ポリアセタール樹脂に、より高い熱安定性が要求される。
By the way, generally the cold runner metal mold | die is used for shaping | molding of polyacetal resin. However, when molding using a cold runner mold, unnecessary runner parts are also molded together with the target molded product, so the runner parts are discarded or crushed with a pulverizer etc. There is no choice but to rework molding by mixing a small amount with the raw material polyacetal resin pellets.
However, when the runner part is rework-molded, the runner is subjected to a thermal history, which may affect the resin fluidity in the molding machine cylinder, causing molding defects such as burrs and warpage, and stable productivity. May be difficult. Therefore, in recent years, from the viewpoint of stable productivity and production cost, there is an increasing tendency to select a hot runner mold for molding automobile interior parts and the like.
When continuous molding is performed using a hot runner mold, the manifold temperature in the hot runner mold (part where the molten resin stays: hot runner part) is generally set to a temperature equal to or higher than the molding machine cylinder temperature. Therefore, higher thermal stability is required for the polyacetal resin than in the case of continuous molding using a cold runner mold.

上述したような要求を解決するために、従来から、さまざまな技術が提案されている。例えば、ポリアセタール樹脂にヒドロキシステアリン酸カルシウム、金属不活性剤を添加する方法(例えば、下記特許文献1参照。)、ポリアセタール樹脂にヒドラジド化合物を添加する方法(例えば、下記特許文献2参照。)、ポリアセタール樹脂にアリール基を含む多価カルボン酸ヒドラジド等を添加する方法(例えば、下記特許文献3参照。)、ポリアセタール樹脂にヒンダードアミン光安定剤、紫外線吸収剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を有する安定剤を添加する方法(例えば、下記特許文献4参照。)、ポリアセタール樹脂に酸無水物、カルボン酸金属塩、金属不活性剤を添加する方法(例えば、下記特許文献5参照。)、ポリアセタール樹脂に、微量のタルクを添加する方法(例えば、下記特許文献6参照。)が提案されている。   Conventionally, various techniques have been proposed to solve the above-described requirements. For example, a method of adding calcium hydroxystearate and a metal deactivator to a polyacetal resin (for example, see Patent Document 1 below), a method of adding a hydrazide compound to a polyacetal resin (for example, see Patent Document 2 below), a polyacetal resin. A method of adding a polyvalent carboxylic acid hydrazide containing an aryl group to a polymer (for example, see Patent Document 3 below), a method of adding a hindered amine light stabilizer, an ultraviolet absorber, and a stabilizer having formaldehyde-reactive nitrogen to a polyacetal resin (See, for example, Patent Document 4 below), a method of adding an acid anhydride, a carboxylic acid metal salt, and a metal deactivator to a polyacetal resin (see, for example, Patent Document 5 below), and a small amount of talc in a polyacetal resin. A method of adding (for example, see Patent Document 6 below) has been proposed. .

特許第3129799号公報Japanese Patent No. 312799 国際公開第2005/040275号パンフレット(2005)International Publication No. 2005/040275 Pamphlet (2005) 特許第4568018号公報Japanese Patent No. 4568018 特開2012−92185号公報JP 2012-92185 A 特開2013−23506号公報JP 2013-23506 A 特許第4799534号公報Japanese Patent No. 4799534

しかしながら、従来提案されている各種の方法で得られるポリアセタール樹脂組成物は、コールドランナー金型を用いた、短時間での連続成形での成形性については改善効果は見られる。しかしながら、ホットランナー金型を用いて連続成形した場合には、樹脂組成物がホットランナーマニホールド部において高温下で長時間滞留することになるため、ポリアセタール樹脂が熱分解し、得られる成形品からのホルムアルデヒド放出量を低減することが困難である。また連続成形であるため、金型内部がモールドデポジッドで汚染され易くなるという問題もある。
そこで本発明は、ホットランナー金型を用いた連続成形等の樹脂組成物が高温に長時間曝される成形方法を適用した場合において、ポリアセタール樹脂の熱分解が少なく、得られた成形品からのホルムアルデヒド放出量や金型汚染の少ないポリアセタール樹脂組成物を提供することを目的とする。
However, the polyacetal resin composition obtained by various conventionally proposed methods has an improvement effect on moldability in a short time continuous molding using a cold runner mold. However, when continuously molded using a hot runner mold, the resin composition will stay in the hot runner manifold at a high temperature for a long time. It is difficult to reduce formaldehyde emission. Moreover, since it is continuous molding, there is a problem that the inside of the mold is easily contaminated with mold deposits.
Therefore, the present invention provides less thermal decomposition of the polyacetal resin when applying a molding method in which a resin composition such as continuous molding using a hot runner mold is exposed to a high temperature for a long time. It is an object of the present invention to provide a polyacetal resin composition with less formaldehyde emission and mold contamination.

本発明者らは、上述した従来技術の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、ポリアセタール樹脂に対して、窒素含有ヒンダードフェノール化合物、及び、タルクを、特定の割合で含有するポリアセタール樹脂組成物は良好な熱安定性を有するようになり、これに加えて、さらに窒素不含ヒンダードフェノール化合物を併用すると熱安定性が格段に向上して前記問題点を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-described problems of the prior art, the present inventors have found that a polyacetal resin composition containing a nitrogen-containing hindered phenol compound and talc in a specific ratio with respect to the polyacetal resin. In addition to this, it has been found that the use of a nitrogen-free hindered phenol compound in combination with the product can significantly improve the thermal stability and solve the above-mentioned problems. It came to complete.

すなわち、本発明は、以下の通りである。
〔1〕
(A)ポリアセタール樹脂100質量部と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.2質量部と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.3質量部と、(D)タルク0.0001〜0.1質量部とを、含有する、ポリアセタール樹脂組成物。
〔2〕
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量が、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.001〜0.15質量部である、前記〔1〕に記載のポリアセタール樹脂組成物。
〔3〕
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物がヒドラジン構造を含む、前記〔1〕又は〔2〕に記載のポリアセタール樹脂組成物。
〔4〕
さらに、(E)その他安定剤として、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、ヒドラジド誘導体、アミド化合物、ポリアミド、及び、アクリルアミド共重合体からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する、前記[1]〜〔3〕いずれかに記載のポリアセタール樹脂組成物。
That is, the present invention is as follows.
[1]
(A) 100 parts by mass of a polyacetal resin, (B) 0.001 to 0.2 parts by mass of a nitrogen-containing hindered phenol compound, and (C) 0.001 to 0.3 parts by mass of a nitrogen-free hindered phenol compound. (D) Polyacetal resin composition containing 0.0001-0.1 mass part of talc.
[2]
(B) Polyacetal resin composition as described in said [1] whose content of a nitrogen-containing hindered phenol compound is 0.001-0.15 mass part with respect to 100 mass parts of (A) polyacetal resin.
[3]
(B) The polyacetal resin composition according to [1] or [2], wherein the nitrogen-containing hindered phenol compound includes a hydrazine structure.
[4]
Furthermore, (E) as the other stabilizer, containing at least one selected from the group consisting of amino-substituted triazine compounds, urea derivatives, hydrazide derivatives, amide compounds, polyamides, and acrylamide copolymers, [1] to [ 3] The polyacetal resin composition according to any one of the above.

本発明によれば、ホットランナー金型を用いた連続成形のような、樹脂組成物が高温下に長時間曝されるような厳しい成形条件下でポリアセタール樹脂組成物の成形を行った場合においても、ポリアセタール樹脂の熱分解を抑制して金型汚染を少なくし、ホルムアルデヒド放出量が少ない成形品を製造することができる。   According to the present invention, even when the polyacetal resin composition is molded under severe molding conditions in which the resin composition is exposed to a high temperature for a long time, such as continuous molding using a hot runner mold. In addition, it is possible to produce a molded product that suppresses thermal decomposition of the polyacetal resin, reduces mold contamination, and emits less formaldehyde.

実施例においてホットランナー金型モールドデポジッド性を評価する際に使用した成形機の概略図を示す。The schematic of the molding machine used when evaluating a hot runner metal mold mold deposit property in an Example is shown.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」と言う。)について詳細に説明する。
なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail.
In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary.

<ポリアセタール樹脂組成物>
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.2質量部と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.3質量部と、(D)タルク0.0001〜0.1質量部とを、含有する。
<Polyacetal resin composition>
The polyacetal resin composition of the present embodiment includes (A) 100 parts by mass of a polyacetal resin, (B) 0.001 to 0.2 parts by mass of a nitrogen-containing hindered phenol compound, and (C) a nitrogen-free hindered phenol compound. 0.001-0.3 mass part and (D) talc 0.0001-0.1 mass part are contained.

〔(A)ポリアセタール樹脂〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物に含まれる(A)ポリアセタール樹脂は、オキシメチレン基を主鎖に有するポリマーをいい、例えば、ホルムアルデヒド単量体、又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーを単独重合して得られる実質上オキシメチレン単位のみからなるポリアセタールホモポリマー;ホルムアルデヒド単量体、又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーと、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、エピクロルヒドリン、1,3−ジオキソラン、1,4−ブタンジオールホルマールなどのグリコール、ジグリコールの環状ホルマール等の環状エーテル、又は環状ホルマールとを共重合させて得られたポリアセタールコポリマー;単官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる分岐を有するポリアセタールコポリマー;多官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる架橋構造を有するポリアセタールコポリマー等が挙げられる。
さらに、(A)ポリアセタール樹脂としては、両末端又は片末端に水酸基などの官能基を有する化合物、例えばポリアルキレングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーを重合して得られるブロック成分を有するポリアセタールホモポリマー;同じく両末端又は片末端に水酸基などの官能基を有する化合物、例えば水素添加ポリブタジエングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーと環状エーテルや環状ホルマールとを共重合させて得られるブロック成分を有するポリアセタールコポリマーなども用いることができる。
[(A) polyacetal resin]
The polyacetal resin (A) contained in the polyacetal resin composition of the present embodiment refers to a polymer having an oxymethylene group in the main chain. For example, a formaldehyde monomer, or a trimer (trioxane) or a tetramer ( Polyacetal homopolymers consisting essentially of oxymethylene units obtained by homopolymerizing cyclic oligomers of formaldehyde such as tetraoxane); formaldehyde monomers or formaldehyde such as trimers (trioxane) and tetramers (tetraoxane) Obtained by copolymerizing a cyclic oligomer such as ethylene oxide, propylene oxide, epichlorohydrin, glycol such as 1,3-dioxolane, 1,4-butanediol formal, cyclic ether such as cyclic formal of diglycol, or cyclic formal. The polyacetal copolymer; polyacetal copolymer having a branched obtained by copolymerizing a monofunctional glycidyl ether; polyacetal copolymer or the like having a multifunctional glycidyl ether is copolymerized to obtain crosslinked structure.
Furthermore, (A) as a polyacetal resin, a block component obtained by polymerizing a formaldehyde monomer or a cyclic oligomer of formaldehyde in the presence of a compound having a functional group such as a hydroxyl group at both ends or one end, for example, polyalkylene glycol A polyacetal homopolymer having a functional group such as a hydroxyl group at both ends or one end, for example, a formaldehyde monomer or its trimer (trioxane) or tetramer (tetraoxane) in the presence of hydrogenated polybutadiene glycol A polyacetal copolymer having a block component obtained by copolymerizing a cyclic oligomer of formaldehyde and the like with a cyclic ether or cyclic formal can also be used.

<ポリアセタールホモポリマー>
前記ポリアセタールホモポリマーは、例えば、モノマーであるホルムアルデヒド、連鎖移動剤(分子量調節剤)及び重合触媒を、炭化水素系重合溶媒を導入した重合反応器にフィードし、スラリー重合法により重合することにより製造することができる。
この際、原料モノマーや連鎖移動剤、重合触媒には、連鎖移動可能な成分(不安定末端基を生成する成分)、例えば、水やメタノール及び蟻酸が含まれているため、まずこれら連鎖移動可能な成分の含有量を調整することが好ましい。
この時の連鎖移動可能な成分の含有量は、モノマーであるホルムアルデヒドに対して、好ましくは1〜1000ppmの範囲であり、より好ましくは1〜500ppm、さらに好ましくは1〜300ppmである。
連鎖移動可能な成分量を上記範囲に調整することにより、熱安定性に優れるポリアセタール樹脂ホモポリマーを得ることができる。
<Polyacetal homopolymer>
The polyacetal homopolymer is produced, for example, by feeding formaldehyde as a monomer, a chain transfer agent (molecular weight regulator) and a polymerization catalyst to a polymerization reactor into which a hydrocarbon polymerization solvent is introduced and polymerizing by a slurry polymerization method. can do.
At this time, since the raw material monomer, the chain transfer agent, and the polymerization catalyst contain components capable of chain transfer (components that generate unstable terminal groups) such as water, methanol, and formic acid, these can be chain transferred first. It is preferable to adjust the content of these components.
The content of the component capable of chain transfer at this time is preferably in the range of 1 to 1000 ppm, more preferably 1 to 500 ppm, and still more preferably 1 to 300 ppm with respect to formaldehyde as the monomer.
By adjusting the amount of the component capable of chain transfer to the above range, a polyacetal resin homopolymer excellent in thermal stability can be obtained.

ポリアセタールホモポリマーの分子量は、無水カルボン酸又はカルボン酸等の分子量調節剤を用いて連鎖移動させることにより調整することができる。
分子量調節剤としては、特に無水プロピオン酸、無水酢酸が好ましく、より好ましくは無水酢酸である。
分子量調節剤の導入量は、目的とするポリアセタールホモポリマーの特性(特にメルトフローレート)に応じて調節し決定する。例えば、ポリアセタールホモポリマーは、メルトフローレート(MFR値(ISO1133に準拠))が、0.1〜100g/10分の範囲になるようにすることが好ましく、より好ましくは1.0g/10分〜70g/10分の範囲になるようにする。
ポリアセタールホモポリマーのMFR値を上記範囲とすることにより、機械強度に優れるポリアセタールホモポリマーを得ることができる。
The molecular weight of the polyacetal homopolymer can be adjusted by chain transfer using a molecular weight regulator such as carboxylic anhydride or carboxylic acid.
As the molecular weight regulator, propionic anhydride and acetic anhydride are particularly preferable, and acetic anhydride is more preferable.
The amount of the molecular weight regulator introduced is determined by adjusting according to the characteristics (particularly the melt flow rate) of the target polyacetal homopolymer. For example, the polyacetal homopolymer preferably has a melt flow rate (MFR value (according to ISO 1133)) in the range of 0.1 to 100 g / 10 min, more preferably 1.0 g / 10 min to The range is 70 g / 10 min.
By setting the MFR value of the polyacetal homopolymer within the above range, a polyacetal homopolymer excellent in mechanical strength can be obtained.

重合触媒としては、アニオン系重合触媒が好ましく、下記一般式(I)で表されるオニウム塩系重合触媒がより好ましい。
[R1234M]+- ・・・(I)
(式(I)中、R1、R2、R3、R4は、各々、独立にアルキル基を示し、Mは孤立電子対を持つ元素を示し、Xは求核性基を示す。)
他の重合触媒としては、オニウム塩系重合触媒が挙げられ、当該オニウム塩系重合触媒のなかでも、テトラエチルホスホニウムイオダイド、トリブチルエチルホスホニウムイオダイドのような第4級ホスホニウム塩系化合物や、テトラメチルアンモニウムブロマイド、ジメチルジステアリルアンモニウムアセテートのような第4級アンモニウム塩系化合物が好ましい。
これら第4級ホスホニウム塩系化合物や第4級アンモニウム塩系化合物の添加量は、ホルムアルデヒド1モルに対して0.0003〜0.01molであることが好ましく、より好ましくは0.0008〜0.005molであり、さらに好ましくは0.001〜0.003molである。
As the polymerization catalyst, an anionic polymerization catalyst is preferable, and an onium salt-based polymerization catalyst represented by the following general formula (I) is more preferable.
[R 1 R 2 R 3 R 4 M] + X (I)
(In formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group, M represents an element having a lone electron pair, and X represents a nucleophilic group.)
Examples of other polymerization catalysts include onium salt polymerization catalysts. Among the onium salt polymerization catalysts, quaternary phosphonium salt compounds such as tetraethylphosphonium iodide and tributylethylphosphonium iodide, tetramethyl Quaternary ammonium salt compounds such as ammonium bromide and dimethyl distearyl ammonium acetate are preferred.
The addition amount of these quaternary phosphonium salt compounds and quaternary ammonium salt compounds is preferably 0.0003 to 0.01 mol, more preferably 0.0008 to 0.005 mol, relative to 1 mol of formaldehyde. And more preferably 0.001 to 0.003 mol.

炭化水素系重合溶媒としては、ホルムアルデヒドと反応しない溶媒であればよく、特に限定されるものではないが、例えば、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、へプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼンなどの溶媒が挙げられる。
これらの炭化水素系溶媒は1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いることもできるが、ヘキサンが特に好ましい。
The hydrocarbon polymerization solvent is not particularly limited as long as it does not react with formaldehyde, and examples thereof include solvents such as pentane, isopentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, and benzene. Is mentioned.
These hydrocarbon solvents may be used alone or in combination of two or more, but hexane is particularly preferred.

ポリアセタールホモポリマーの重合工程においては、先ず、粗ポリアセタールホモポリマーを得、続いて、後述するように、不安定末端基に対して安定化処理を施すことが好ましい。
粗ポリアセタールホモポリマーを製造する重合装置は、モノマーであるホルムアルデヒド、連鎖移動剤(分子量調節剤)、重合触媒と炭化水素系重合溶媒を同時に供給できる装置であれば特に限定されるものではないが、生産性の観点から連続式重合装置が好ましい。
重合工程により得られた粗ポリアセタールホモポリマーは、重合体の末端基が熱的に不安定であるので、この不安定末端基をエステル化剤やエーテル化剤等でポリマー末端基を封鎖し、安定化処理することが好ましい。
エステル化による粗ポリアセタールホモポリマーの末端安定化は、例えば、粗ポリアセタールホモポリマーと、前記エステル化剤及びエステル化触媒とを、炭化水素系溶媒を導入した末端安定化反応機にそれぞれ投入し、反応させることによって行うことができる。
この時の反応温度や反応時間については限定はないが、例えば、反応温度が130〜155℃であり、反応時間は1〜100分間であることが好ましく、反応温度が135〜155℃であり、反応時間が5〜100分であることがより好ましく、反応温度が140〜155℃であり、反応時間が10〜100分であることがさらに好ましい。
In the polymerization step of the polyacetal homopolymer, first, a crude polyacetal homopolymer is obtained, and then, as described later, it is preferable to subject the unstable terminal group to a stabilization treatment.
The polymerization apparatus for producing the crude polyacetal homopolymer is not particularly limited as long as it is an apparatus that can simultaneously supply formaldehyde as a monomer, a chain transfer agent (molecular weight regulator), a polymerization catalyst and a hydrocarbon polymerization solvent, A continuous polymerization apparatus is preferable from the viewpoint of productivity.
In the crude polyacetal homopolymer obtained by the polymerization process, the end group of the polymer is thermally unstable. Therefore, the unstable end group is blocked with an esterifying agent or an etherifying agent to stabilize the polymer end group. It is preferable to perform the treatment.
The terminal stabilization of the crude polyacetal homopolymer by esterification is performed by, for example, adding the crude polyacetal homopolymer, the esterifying agent and the esterification catalyst to the terminal stabilization reactor introduced with a hydrocarbon solvent, respectively. Can be done.
Although there is no limitation about the reaction temperature and reaction time at this time, for example, the reaction temperature is 130 to 155 ° C, the reaction time is preferably 1 to 100 minutes, the reaction temperature is 135 to 155 ° C, The reaction time is more preferably 5 to 100 minutes, the reaction temperature is 140 to 155 ° C., and the reaction time is further preferably 10 to 100 minutes.

上記粗ポリアセタールホモポリマーの末端基を封鎖し安定化する前記エステル化剤としては、下記一般式(II)で表される酸無水物を用いることができる。
5COOCOR6 ・・・(II)
(式(II)中、R5、R6は、各々、独立にアルキル基を示す。R5、R6は、同じであっても異なっていてもよい。)
当該エステル化剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、無水安息香酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、無水フタル酸、無水プロピオン酸、無水酢酸が挙げられ、好ましくは無水酢酸である。
これらエステル化剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
As the esterifying agent that blocks and stabilizes the terminal group of the crude polyacetal homopolymer, an acid anhydride represented by the following general formula (II) can be used.
R 5 COOCOR 6 (II)
(In formula (II), R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group. R 5 and R 6 may be the same or different.)
Examples of the esterifying agent include, but are not limited to, for example, benzoic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, phthalic anhydride, propionic anhydride, and acetic anhydride. Is acetic anhydride.
These esterifying agents may be used alone or in combination of two or more.

前記エステル化触媒としては、炭素数1〜18のカルボン酸のアルカリ金属塩が好ましく、その添加量は、ポリアセタールホモポリマーに対して、1〜1000ppmの範囲で適宜選択することができる。
炭素数1〜18のカルボン酸のアルカリ金属塩としては、以下に限定されるものではないが、例えば、カルボン酸が蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプリル酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸のアルカリ金属塩が挙げられ、当該アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられる。
これらカルボン酸金属塩の中でも、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、及び酢酸カリウムのアルカリ金属塩が好ましい。
The esterification catalyst is preferably an alkali metal salt of a carboxylic acid having 1 to 18 carbon atoms, and the amount added can be appropriately selected within the range of 1 to 1000 ppm relative to the polyacetal homopolymer.
Examples of the alkali metal salt of a carboxylic acid having 1 to 18 carbon atoms include, but are not limited to, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caprylic acid, enanthic acid, caprylic acid. And alkali metal salts of pelargonic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, margaric acid, and stearic acid. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium.
Among these metal carboxylates, alkali metal salts of lithium acetate, sodium acetate, and potassium acetate are preferable.

上述した粗ポリアセタールホモポリマーの末端基を、エーテル化により封鎖し、安定化することも可能である。
この場合のエーテル化剤としては、脂肪族又は芳香族酸と、脂肪族、脂環式族又は芳香族アルコールとのオルトエステル、例えば、メチル又はエチルオルトホルメート、メチル又はエチルオルトアセテート及びメチル又はエチルオルトベンゾエート、及びオルトカーボネート、具体的にはエチルオルトカーボネートから選択し、p−トルエンスルホン酸、酢酸及び臭酸のような中強度有機酸、ジメチル及びジエチルスルフェートのような中強度鉱酸等のルイス酸型の触媒を用いて得ることができる。
粗ポリアセタールホモポリマーの末端基を、エーテル化により封鎖し、安定化するときの、当該エーテル化反応に用いる溶媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びベンゼン等の低沸点脂肪族有機溶媒;脂環式族及び芳香族炭化水素系有機溶媒;塩化メチレン、クロロホルム及び四塩化炭素等のハロゲン化低級脂肪族等の有機溶媒が挙げられる。
It is also possible to stabilize the end groups of the above-mentioned crude polyacetal homopolymer by etherification.
As etherifying agents in this case, orthoesters of aliphatic or aromatic acids with aliphatic, alicyclic or aromatic alcohols such as methyl or ethyl orthoformate, methyl or ethyl orthoacetate and methyl or Selected from ethyl orthobenzoate and ortho carbonate, specifically ethyl ortho carbonate, medium strength organic acids such as p-toluenesulfonic acid, acetic acid and odorous acid, medium strength mineral acids such as dimethyl and diethyl sulfate, etc. It can be obtained using a Lewis acid type catalyst.
The solvent used for the etherification reaction when the end group of the crude polyacetal homopolymer is blocked and stabilized by etherification is not limited to the following, but examples include pentane, hexane, cyclohexane and benzene. Low-boiling aliphatic organic solvents such as alicyclic and aromatic hydrocarbon-based organic solvents; organic solvents such as halogenated lower aliphatics such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride.

上記の方法により末端基が安定化されたポリアセタールホモポリマーを、熱風式乾燥機や真空乾燥機等の乾燥機を用いて、100〜150℃に調整した窒素ガスを封入し、水分を除去して乾燥することにより、目的とするポリアセタールホモポリマーが得られる。   The polyacetal homopolymer whose end group is stabilized by the above method is sealed with nitrogen gas adjusted to 100 to 150 ° C. using a dryer such as a hot air drier or a vacuum drier to remove moisture. By drying, the desired polyacetal homopolymer is obtained.

<ポリアセタールコポリマー>
ポリアセタールコポリマーは、以下に限定されるものではないが、例えば、コモノマーとして1,3−ジオキソラン、1,4−ブタンジオールホルマールなどのグリコール、ジグリコールの環状ホルマール等の環状エーテル、又は環状ホルマールを用い、これらと前記トリオキサン等のモノマーとを共重合させることにより製造することができる。
共重合させるコモノマーの割合は、ホルムアルデヒド1molに対して0.03〜20mol%であることが好ましく、0.03〜7mol%であることがより好ましく、0.04〜3mol%であることがさらに好ましい。
コモノマーの割合が上記範囲であれば、より機械的強度に優れたポリアセタール樹脂ペレットが得られる。
<Polyacetal copolymer>
The polyacetal copolymer is not limited to the following, but, for example, 1,3-dioxolane, glycol such as 1,4-butanediol formal, cyclic ether such as cyclic formal of diglycol, or cyclic formal is used as a comonomer. These can be produced by copolymerizing these and monomers such as trioxane.
The proportion of the comonomer to be copolymerized is preferably 0.03 to 20 mol%, more preferably 0.03 to 7 mol%, still more preferably 0.04 to 3 mol% with respect to 1 mol of formaldehyde. .
If the ratio of a comonomer is the said range, the polyacetal resin pellet which was excellent in mechanical strength will be obtained.

また、ポリアセタールコポリマーの重合における重合触媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ルイス酸、プロトン酸及びそのエステル又は無水物等のカチオン活性触媒が挙げられる。
ルイス酸としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ホウ酸、スズ、チタン、リン、ヒ素及びアンチモンのハロゲン化物が挙げられ、具体的には三フッ化ホウ素、四塩化スズ、四塩化チタン、五フッ化リン、五塩化リン、五フッ化アンチモン及びその錯化合物又は塩が挙げられる。
また、プロトン酸及びそのエステル又は無水物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、パークロル酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パークロル酸−3級ブチルエステル、アセチルパークロラート、トリメチルオキソニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
これらの中でも、三フッ化ホウ素;三フッ化ホウ素水和物;及び酸素原子又は硫黄原子を含む有機化合物と三フッ化ホウ素との配位錯化合物が好ましく、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル、三フッ化ホウ素ジ−n−ブチルエーテルが好ましいものとして挙げられる。
三フッ化ホウ素の添加量としては、ホルムアルデヒド1molに対して、三フッ化ホウ素が、0.10×10-4mol以下が好ましく、より好ましくは0.07×10-4mol以下であり、さらに好ましいのは、0.03〜0.05×10-4molである。
三フッ化ホウ素の添加量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
In addition, the polymerization catalyst in the polymerization of the polyacetal copolymer is not limited to the following, and examples thereof include cationically active catalysts such as Lewis acid, protonic acid and ester or anhydride thereof.
Examples of Lewis acids include, but are not limited to, boric acid, tin, titanium, phosphorus, arsenic, and antimony halides. Specifically, boron trifluoride, tin tetrachloride, tetra Examples thereof include titanium chloride, phosphorus pentafluoride, phosphorus pentachloride, antimony pentafluoride, and complex compounds or salts thereof.
In addition, the protonic acid and its ester or anhydride are not limited to the following, but examples include perchloric acid, trifluoromethanesulfonic acid, perchloric acid-tertiary butyl ester, acetyl perchlorate, trimethyloxonium hexa A fluorophosphate etc. are mentioned.
Among these, boron trifluoride; boron trifluoride hydrate; and a coordination complex compound of an organic compound containing an oxygen atom or a sulfur atom and boron trifluoride are preferable. For example, boron trifluoride diethyl ether, Preferred is boron trifluoride di-n-butyl ether.
The amount of boron trifluoride added is preferably 0.10 × 10 −4 mol or less, more preferably 0.07 × 10 −4 mol or less, with respect to 1 mol of formaldehyde, Preference is given to 0.03 to 0.05 × 10 −4 mol.
When the amount of boron trifluoride added is in the above range, a polyacetal resin composition having excellent thermal stability can be provided.

上記例示されたポリアセタールコポリマーの重合方法としては、特に限定されるものではないが、前記スラリー重合法の他に、例えば、塊状重合法で行ってもよく、バッチ式、連続式のいずれも適用可能である。
重合装置としては、特に限定されるものではないが、例えば、コニーダー、2軸スクリュー式連続押出混錬機、2軸パドル型連続混合機等のセルフクリーニング型押出混錬機が挙げられる。
溶融状態のモノマーが前記重合機に供給され、重合の進行とともに固体塊状のポリアセタールコポリマーが得られる。
The polymerization method of the polyacetal copolymer exemplified above is not particularly limited, but in addition to the slurry polymerization method, for example, it may be carried out by a bulk polymerization method, and both batch type and continuous type are applicable. It is.
Although it does not specifically limit as a superposition | polymerization apparatus, For example, self-cleaning type extrusion kneaders, such as a kneader, a twin screw type continuous extrusion kneader, and a biaxial paddle type continuous mixer, are mentioned.
Molten monomer is supplied to the polymerization machine, and solid agglomerated polyacetal copolymer is obtained as the polymerization proceeds.

以上の重合で得られたポリアセタールコポリマーには、熱的に不安定な末端部〔−(OCH2n−OH基〕が存在する場合があるため、この不安定な末端部の分解除去処理を実施することが好ましい。不安定な末端部の分解除去方法としては、公知の方法で行うことができる。
以上のように、本実施形態においては、(A)ポリアセタール樹脂に限定はなく、ポリアセタールホモポリマー及びポリアセタールコポリマーいずれも用いることが可能である。
この中でも、好ましいのはポリアセタールコモポリマーである。
In the polyacetal copolymer obtained by the above polymerization, there may be a thermally unstable terminal portion [-(OCH 2 ) n —OH group]. It is preferable to implement. As a method for decomposing and removing the unstable terminal portion, a known method can be used.
As described above, in the present embodiment, (A) the polyacetal resin is not limited, and both a polyacetal homopolymer and a polyacetal copolymer can be used.
Among these, polyacetal comopolymer is preferable.

〔(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物〕
本実施形態において、窒素含有ヒンダードフェノール化合物とは、その構造式に少なくとも一つの窒素原子を含んでいるヒンダードフェノール化合物(水酸基の少なくとも一つのオルト位に第3級アルキル基を有するフェノール化合物)のことをいう。
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、1,3,5−トリス[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、4−[[4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−t−ブチルフェノールが挙げられる。
これら窒素含有ヒンダードフェノール化合物の中でも、1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、が好ましく、より好ましいのは1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジンである。
[(B) Nitrogen-containing hindered phenol compound]
In the present embodiment, the nitrogen-containing hindered phenol compound is a hindered phenol compound containing at least one nitrogen atom in its structural formula (a phenol compound having a tertiary alkyl group in at least one ortho position of the hydroxyl group). I mean.
(B) The nitrogen-containing hindered phenol compound is not limited to the following. For example, 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] Hydrazine, N, N′-hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], 1,3,5-tris [[3,5-bis (1, 1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 4-[[4,6-bis (octylthio)- 1,3,5-triazin-2-yl] amino] -2,6-di-t-butylphenol.
Among these nitrogen-containing hindered phenol compounds, 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] hydrazine, N, N′-hexamethylenebis [3- ( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], more preferably 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) Propionyl] hydrazine.

(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の融点は、50〜300℃が好ましく、より好ましくは100℃〜300℃、さらに好ましくは150〜250℃の範囲である。
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の融点が前記範囲であれば、より熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
(B) As for melting | fusing point of a nitrogen-containing hindered phenol compound, 50-300 degreeC is preferable, More preferably, it is the range of 100-300 degreeC, More preferably, it is the range of 150-250 degreeC.
(B) If the melting point of the nitrogen-containing hindered phenol compound is within the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be provided.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物は、上述した(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.001〜0.2質量部含有されている。熱安定性改善効果の点から、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量には適切な範囲があることが、本発明者らの研究により判明した。(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.005〜0.2質量部含有されていることが好ましく、0.005〜0.15質量部含有されていることがより好ましい。
(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物中の(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物を定量する方法としては、例えば、ポリアセタール樹脂ペレットを凍結粉砕し、クロロホルム等の溶媒でソックスレー抽出し、GCMS、または1H−NMRにより定量する方法が挙げられる。
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, (B) the nitrogen-containing hindered phenol compound is contained in an amount of 0.001 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin described above. From the viewpoint of the effect of improving the thermal stability, it has been found by the present inventors that the content of (B) the nitrogen-containing hindered phenol compound has an appropriate range. (B) The nitrogen-containing hindered phenol compound is preferably contained in an amount of 0.005 to 0.2 parts by mass, and 0.005 to 0.15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. More preferably.
(B) If content of a nitrogen-containing hindered phenol compound is the said range, the polyacetal resin composition excellent in thermal stability can be provided.
As a method for quantifying the (B) nitrogen-containing hindered phenol compound in the polyacetal resin composition of the present embodiment, for example, polyacetal resin pellets are freeze-pulverized, subjected to Soxhlet extraction with a solvent such as chloroform, GCMS, or 1 H -The method of quantifying by NMR is mentioned.

〔(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物〕
本実施形態において、窒素不含ヒンダードフェノール化合物とは、その構造式に窒素原子を含まないヒンダードフェノール化合物のことをいう。ヒンダードフェノール化合物は一般に酸化防止剤として知られているが、本実施形態においては、窒素を含むものと窒素を含まないものの両方を併用し、これにより非常に良好な熱安定性を実現する。
(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル−3−(3’−メチル−5’−t−ブチ
ル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−テトラデシル−3−(3’,5
’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、1,6−ヘキサン
ジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、1,4−ブタンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート]メタン等が挙げられる。
好ましくは、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]及びペンタエリスリトールテトラキス[メチレン‐3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]メタンであり、より好ましくは、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]である。
[(C) Nitrogen-free hindered phenol compound]
In the present embodiment, the nitrogen-free hindered phenol compound refers to a hindered phenol compound that does not contain a nitrogen atom in its structural formula. Although hindered phenol compounds are generally known as antioxidants, in the present embodiment, both those containing nitrogen and those not containing nitrogen are used in combination, thereby realizing very good thermal stability.
(C) The nitrogen-free hindered phenol compound is not limited to the following, but, for example, n-octadecyl-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) -Propionate, n-octadecyl-3- (3'-methyl-5'-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, n-tetradecyl-3- (3 ', 5
'-Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 1,6-hexanediol-bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], 1 , 4-Butanediol-bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], triethylene glycol-bis- [3- (3-tert-butyl-5-methyl) -4-hydroxyphenyl) -propionate], pentaerythritol tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, and the like.
Preferably, triethylene glycol-bis- [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] and pentaerythritol tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t -Butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, more preferably triethylene glycol-bis- [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate].

(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物の融点は、30〜120℃が好ましく、より好ましくは50℃〜120℃、さらに好ましくは50〜100℃の範囲である。
(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物の融点が前記範囲であれば、より熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
(C) As for melting | fusing point of a nitrogen-free hindered phenol compound, 30-120 degreeC is preferable, More preferably, it is 50-120 degreeC, More preferably, it is the range of 50-100 degreeC.
(C) If the melting point of the nitrogen-free hindered phenol compound is within the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be provided.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物は、上述した(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.001〜0.3質量部含有される。(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し、0.005〜0.3質量部含有されていることが好ましく、0.005〜0.27質量部含有されていることがより好ましい。
(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物の含有量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物中の(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物を定量する方法としては、例えば、ポリアセタール樹脂ペレットを凍結粉砕し、クロロホルム等の溶媒でソックスレー抽出し、GCMS、または1H−NMRにより定量する方法が挙げられる。
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, (C) the nitrogen-free hindered phenol compound is contained in an amount of 0.001 to 0.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin described above. (C) The nitrogen-free hindered phenol compound is preferably contained in an amount of 0.005 to 0.3 parts by mass, and 0.005 to 0.27 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) polyacetal resin. More preferably.
(C) If content of a nitrogen-free hindered phenol compound is the said range, the polyacetal resin composition excellent in thermal stability can be provided.
As a method for quantifying (C) the nitrogen-free hindered phenol compound in the polyacetal resin composition of the present embodiment, for example, polyacetal resin pellets are freeze-pulverized and subjected to Soxhlet extraction with a solvent such as chloroform, GCMS, or 1 The method of quantifying by H-NMR is mentioned.

〔(D)タルク〕
(D)タルクとは含水珪酸マグネシウムからなる粒子であり、その組成は一般的に[Mg3Si410(OH)2]で示され、SiO2約60質量%、MgO約30質量%と結晶水4.8質量%が主成分である。真比重は一般に2.7〜2.8であり、白色度はJIS K−8123に準じて測定した数値が93%以上、PHはJIS K−5101に準じて測定した数値が9.0〜10の範囲であることが好ましい。又、45μm篩残分はJIS K−5101に準じて測定した数値が0.2質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.08質量%以下である。(D)タルクの平均粒子径は、好ましくは1〜30μmであり、より好ましくは2〜25μm、更に好ましくは2〜20μmである。(D)タルクの平均粒子径が前記範囲であると、より熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
本実施形態において(D)タルクは、(A)ポリアセタール樹脂との親和性を向上させるために公知の表面処理剤を用いて表面処理されていてもよい。
表面処理剤としては例えば、アミノシラン、エポキシシラン等のシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、さらには脂肪酸(飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸)、脂環族カルボン酸及び樹脂酸や金属石鹸をあげることができる。表面処理剤の添加量としては好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質量%以下であり、最も好ましくは実質的に添加されていないことである。
[(D) Talc]
(D) Talc is a particle made of hydrous magnesium silicate, and its composition is generally represented by [Mg 3 Si 4 O 10 (OH) 2 ], and SiO 2 is about 60% by mass, MgO is about 30% by mass. The main component is 4.8% by mass of crystal water. The true specific gravity is generally 2.7 to 2.8, the whiteness is 93% or more measured according to JIS K-8123, and the PH is measured 9.0 to 10 according to JIS K-5101. It is preferable that it is the range of these. The 45 μm sieve residue is preferably 0.2% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, more preferably 0.08% by mass or less, as measured according to JIS K-5101. is there. (D) The average particle diameter of talc is preferably 1 to 30 μm, more preferably 2 to 25 μm, and still more preferably 2 to 20 μm. (D) When the average particle diameter of talc is in the above range, a polyacetal resin composition having more excellent thermal stability can be provided.
In this embodiment, (D) talc may be surface-treated using a known surface treating agent in order to improve the affinity with (A) polyacetal resin.
Examples of surface treatment agents include silane coupling agents such as amino silane and epoxy silane, titanate coupling agents, fatty acids (saturated fatty acids and unsaturated fatty acids), alicyclic carboxylic acids, resin acids and metal soaps. Can do. The addition amount of the surface treatment agent is preferably 3% by mass or less, more preferably 2% by mass or less, and most preferably, it is not substantially added.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物において、(D)タルクの含有量は、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対して0.0001〜0.1質量部である。(D)タルクの含有量が少ないと十分な熱安定性改善効果が得られないが、一方で、多すぎる場合にも、タルク自身の塩基性度、又は含まれる不純物等の影響により熱安定性が低下することが本発明者らの研究により判明した。このような理由から、(D)タルクは、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対し0.0005〜0.1質量部含有されていることが好ましく、0.0005〜0.05質量部含有されていることがより好ましい。
(D)タルクの含有量が前記範囲であれば、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物を提供することができる。
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, the content of (D) talc is 0.0001 to 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of (A) polyacetal resin. (D) If the content of talc is small, sufficient thermal stability improvement effect cannot be obtained. On the other hand, even if it is too much, the thermal stability is affected by the basicity of talc itself or impurities contained It has been found by the present inventors' study that the decrease is caused. For these reasons, it is preferable that (D) talc is contained in an amount of 0.0005 to 0.1 parts by mass, and 0.0005 to 0.05 parts by mass with respect to 100 parts by mass of (A) polyacetal resin. More preferably.
(D) If content of talc is the said range, the polyacetal resin composition excellent in thermal stability can be provided.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物中の(D)タルク含有量を定量するには、例えば、ポリアセタール樹脂ペレットを塩酸等で加水分解し、タルクを定量する方法や、高周波誘導結合プラズマ(ICP)発光分析により、タルク起因である金属性分(Si、Mg)を定量する方法が挙げられ   In order to quantify the (D) talc content in the polyacetal resin composition of the present embodiment, for example, a method of hydrolyzing polyacetal resin pellets with hydrochloric acid and the like to quantify talc, or high frequency inductively coupled plasma (ICP) emission A method of quantifying metallic components (Si, Mg) that are caused by talc by analysis

〔(E)安定剤〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物においては、上述の(B)〜(D)の組合せ添加によって良好な熱安定性が達成されているので、その他に安定剤を添加しなくてもよいが、さらなる熱安定性の改良やその他の物性の安定性を改良するために、さらに、(E)各種安定剤を含んでいてもよい。
(E)安定剤としては、例えば、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、ヒドラジド誘導体、アミド化合物、ポリアミド、及び、アクリルアミド重合体等が挙げられる。
[(E) Stabilizer]
In the polyacetal resin composition of the present embodiment, good thermal stability is achieved by the combined addition of the above-mentioned (B) to (D). In order to improve thermal stability and other physical properties, (E) various stabilizers may be further included.
Examples of (E) stabilizer include amino-substituted triazine compounds, urea derivatives, hydrazide derivatives, amide compounds, polyamides, and acrylamide polymers.

前記アミノ置換トリアジン化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2,4−ジアミノ−sym−トリアジン、2,4,6−トリアミノ−sym−トリアジン、N−ブチルメラミン、N−フェニルメラミン、N,N−ジフェニルメラミン、N,N−ジアリルメラミン、ベンゾグアナミン(2,4−ジアミノ−6−フェニル−sym−トリアジン)、アセトグアナミン(2,4−ジアミノ−6−メチル−sym−トリアジン)、2,4−ジアミノ−6−ブチル−sym−トリアジン等が挙げられる。   Examples of the amino-substituted triazine compound include, but are not limited to, 2,4-diamino-sym-triazine, 2,4,6-triamino-sym-triazine, N-butylmelamine, and N-phenyl. Melamine, N, N-diphenylmelamine, N, N-diallylmelamine, benzoguanamine (2,4-diamino-6-phenyl-sym-triazine), acetoguanamine (2,4-diamino-6-methyl-sym-triazine) 2,4-diamino-6-butyl-sym-triazine and the like.

前記尿素誘導体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、N−置換尿素、尿素縮合体、エチレン尿素、ヒダントイン化合物、ウレイド化合物等が挙げられる。
前記N−置換尿素としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルキル基等の置換基を有するメチル尿素、アルキレンビス尿素、アリール置換尿素が挙げられる。前記尿素縮合体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、尿素とホルムアルデヒドの縮合体等が挙げられる。前記ヒダントイン化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、5,5−ジフェニルヒダントイン等が挙げられる。前記ウレイド化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アラントイン等が挙げられる。
Examples of the urea derivative include, but are not limited to, N-substituted urea, urea condensate, ethylene urea, hydantoin compound, ureido compound, and the like.
Examples of the N-substituted urea include, but are not limited to, methylurea having a substituent such as an alkyl group, alkylenebisurea, and aryl-substituted urea. Examples of the urea condensate include, but are not limited to, urea and formaldehyde condensates. Examples of the hydantoin compound include, but are not limited to, hydantoin, 5,5-dimethylhydantoin, and 5,5-diphenylhydantoin. Examples of the ureido compound include, but are not limited to, allantoin.

前記ヒドラジド誘導体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ヒドラジド化合物を挙げることができる。
ヒドラジド化合物としては、カルボン酸(含芳香族、脂環)とヒドラジンとの反応により合成される、カルボン酸モノ/又はジヒドラジド化合物やアルキル基置換モノ/又はジヒドラジド化合物が挙げられる。カルボン酸モノ/又はジヒドラジド化合物を構成するカルボン酸としては、モノカルボン酸の例としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ベヘン酸である。ジカルボン酸は、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタリン酸、サリチル酸、没食子酸、メリト酸、ケイ皮酸、ピルビン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、アコニット酸、アミノ酸、ニトロカルボン酸が挙げられる。また不飽和カルボン酸の例としては、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、ドコサヘキサエン酸、エイコサペンタエン酸が挙げられる。これらカルボン酸を用いて合成されるカルボン酸モノ(ジ)ヒドラジド化合物は、例えば、カルボジヒドラジン、シュウ酸モノ(ジ)ヒドラジド、マロン酸モノ(ジ)ヒドラジド、コハク酸モノ(ジ)ヒドラジド、グルタル酸モノ(ジ)ヒドラジド、アジピン酸モノ(ジ)ヒドラジド、セバシン酸モノ(ジ)ヒドラジド、ラウリン酸モノ(ジ)ヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、プロピオン酸モノヒドラジド、ラウリン酸モノヒドラジド、ステアリン酸モノヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、2,6−ナフタリン酸ジヒドラジド、p―ヒドロキシベンゾイックヒドラジン、p―ヒドロキシベンゾイックヒドラジン、1,4−シクロへキサンジカルボン酸ジヒドラジン、アセトヒドラジド、アクリロヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド、フマル酸ジヒドラジド、ベンゾヒドラジド、ニコチノヒドラジド、イソニコチノヒドラジド、イソブチルヒドラジン、オレイン酸ヒドラジド等が挙げられる。これらカルボン酸の中でも、アジピン酸、セバシン酸、ラウリン酸等のジカルボン酸が好ましく、アジピン酸モノ(ジ)ヒドラジド、セバシン酸モノ(ジ)ヒドラジド、ラウリン酸モノ(ジ)ヒドラジドが、最も好ましいカルボン酸ヒドラジド化合物である。
Examples of the hydrazide derivative include, but are not limited to, hydrazide compounds.
Examples of the hydrazide compound include a carboxylic acid mono / or dihydrazide compound and an alkyl group-substituted mono / or dihydrazide compound synthesized by a reaction of a carboxylic acid (containing aromatic or alicyclic ring) with hydrazine. Examples of the carboxylic acid constituting the carboxylic acid mono / or dihydrazide compound include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, Palmitic acid, margaric acid, stearic acid, behenic acid. Dicarboxylic acids are oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, benzoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalic acid, salicylic acid, gallic acid Mellitic acid, cinnamic acid, pyruvic acid, lactic acid, malic acid, citric acid, fumaric acid, maleic acid, aconitic acid, amino acid, nitrocarboxylic acid. Examples of unsaturated carboxylic acids include oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, docosahexaenoic acid, and eicosapentaenoic acid. Carboxylic acid mono (di) hydrazide compounds synthesized using these carboxylic acids include, for example, carbodihydrazine, oxalic acid mono (di) hydrazide, malonic acid mono (di) hydrazide, succinic acid mono (di) hydrazide, glutar Acid mono (di) hydrazide, adipic acid mono (di) hydrazide, sebacic acid mono (di) hydrazide, lauric acid mono (di) hydrazide, malic acid dihydrazide, tartaric acid dihydrazide, propionic acid monohydrazide, lauric acid monohydrazide, stearic acid Monohydrazide, phthalic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, terephthalic acid dihydrazide, 2,6-naphthalic acid dihydrazide, p-hydroxybenzoic hydrazine, p-hydroxybenzoic hydrazine, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid dihydride Rajin, acetohydrazide, acryloxypropyl hydrazide, maleic acid dihydrazide, fumaric acid dihydrazide, benzohydrazide, nicotinonitrile hydrazide, isonicotinohydrazide, isobutyl hydrazine, and hydrazide oleate. Among these carboxylic acids, dicarboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid, and lauric acid are preferable, and adipic acid mono (di) hydrazide, sebacic acid mono (di) hydrazide, and lauric acid mono (di) hydrazide are the most preferable carboxylic acids. It is a hydrazide compound.

前記アミド化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、イソフタル酸ジアミドなどの多価カルボン酸アミド、アントラニルアミドが挙げられる。   Examples of the amide compound include, but are not limited to, polyvalent carboxylic acid amides such as isophthalic acid diamide and anthranilamides.

前記ポリアミドとしては、例えば、ナイロン(登録商標)4−6、ナイロン6、ナイロン6−6、ナイロン6−10、ナイロン6−12、ナイロン12等のポリアミド樹脂、及びこれらの重合体、例えば、ナイロン6/6−6/6−10、ナイロン6/6−12等が挙げられる。   Examples of the polyamide include polyamide resins such as nylon (registered trademark) 4-6, nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 6-12, nylon 12, and polymers thereof such as nylon. 6 / 6-6 / 6-10, nylon 6 / 6-12 and the like.

前記アクリルアミド重合体は、以下に限定されるものではないが、例えば、触媒としてアリカリ土類金属のアルコラートを用い、アクリルアミドの重合、又はアクリルアミドとアクリルアミド以外のビニル基を有するモノマーとの重合を行うことによって製造できる。
前記アクリルアミド重合体を構成する、アクリルアミド以外のビニル基を有するモノマーとしては、ビニル基を1個又は2個有するモノマーが挙げられる。
ビニル基を1個有するモノマーとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、エチルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、セシルメタクリレート、ペンタデシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベヘニルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート等が挙げられる。
ビニル基を2個有するモノマーとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジビニルベンゼン、エチレンビスアクリルアミド、N,N’−メチレンビスアクリルアミド等が挙げられる。
これらのビニル基を有するモノマーの中で、N,N’−メチレンビスアクリルアミドが好ましい。
前記アクリルアミド重合体に対する前記ビニル基を有するモノマーの導入量は、アクリルアミド成分とビニル基を有するモノマーとの合計量に対して0.05〜20質量%であることが好ましい。
上述したビニル基を有するモノマーと共重合する(架橋構造を持たせる)ことにより、ポリアセタール樹脂ペレットの押出し生産性を向上させることができる。
アクリルアミド重合体の平均粒子径は、0.1〜20μmが好ましく、より好ましくは0.1〜15μm、さらに好ましくは0.1〜10μmである。
アクリルアミド重合体の平均粒子径が上記範囲であると、押出し生産性に優れるポリアセタール樹脂組成物が得られる。
Although the acrylamide polymer is not limited to the following, for example, using an alkali earth metal alcoholate as a catalyst, polymerization of acrylamide, or polymerization of acrylamide and a monomer having a vinyl group other than acrylamide is performed. Can be manufactured.
Examples of the monomer having a vinyl group other than acrylamide constituting the acrylamide polymer include monomers having one or two vinyl groups.
Examples of the monomer having one vinyl group include, but are not limited to, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, ethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Examples include cecil methacrylate, pentadecyl methacrylate, stearyl methacrylate, behenyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, polypropylene glycol methacrylate, and polyethylene glycol methacrylate.
Examples of the monomer having two vinyl groups include, but are not limited to, divinylbenzene, ethylene bisacrylamide, N, N′-methylene bisacrylamide, and the like.
Among these monomers having a vinyl group, N, N′-methylenebisacrylamide is preferable.
The amount of the vinyl group-containing monomer introduced into the acrylamide polymer is preferably 0.05 to 20% by mass with respect to the total amount of the acrylamide component and the vinyl group-containing monomer.
By copolymerizing with the above-mentioned monomer having a vinyl group (providing a crosslinked structure), the extrusion productivity of polyacetal resin pellets can be improved.
The average particle diameter of the acrylamide polymer is preferably from 0.1 to 20 μm, more preferably from 0.1 to 15 μm, still more preferably from 0.1 to 10 μm.
When the average particle diameter of the acrylamide polymer is within the above range, a polyacetal resin composition having excellent extrusion productivity can be obtained.

以上の(E)安定剤の中で、特に好ましいのはポリアミド、アクリルアミド重合体である。   Among the above (E) stabilizers, polyamide and acrylamide polymers are particularly preferable.

(E)安定剤の添加量としては、ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.001〜5質量部が好ましく、より好ましくは0.001〜3質量部であり、さらに好ましくは0.01〜1質量部である。
ポリアセタール樹脂に対する熱安定剤の添加量を前記範囲にすることで、より熱安定性に優れるポリアセタール樹脂組成物を得ることができる。
(E) As addition amount of a stabilizer, 0.001-5 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polyacetal resin, More preferably, it is 0.001-3 mass parts, More preferably, 0.01- 1 part by mass.
The polyacetal resin composition which is more excellent in heat stability can be obtained by making the addition amount of the heat stabilizer with respect to polyacetal resin into the said range.

〔その他添加剤〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物には、上述したもののほかに、公知の添加剤、例えば、ギ酸捕捉剤、耐候安定剤、離型剤、潤滑剤、導電剤、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、染顔料、顔料、あるいは無機充填剤又は有機充填剤等を添加してもよい。
これらの添加剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
[Other additives]
In addition to the above-described polyacetal resin composition of the present embodiment, known additives such as formic acid scavengers, weathering stabilizers, release agents, lubricants, conductive agents, thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, Dyeing pigments, pigments, inorganic fillers or organic fillers may be added.
These additives may be used alone or in combination of two or more.

ギ酸捕捉剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、(E)安定剤の具体例として挙げたアミノ置換トリアジン化合物やアミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの縮合物、例えばメラミン・ホルムアルデヒド縮合物等を挙げることができる。
その他のギ酸捕捉剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、無機酸塩、カルボン酸塩又はアルコキシドが挙げられる。例えば、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムもしくはバリウムなどの水酸化物;上記金属の炭酸塩、リン酸塩、珪酸塩、ホウ酸塩、カルボン酸塩、さらには層状複水酸化物が挙げられる。
前記カルボン酸塩のカルボン酸としては、10〜36個の炭素原子を有する飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸が好ましく、これらのカルボン酸は水酸基で置換されていてもよい。飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸塩としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジミリスチン酸カルシウム、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウム、(ミリスチン酸−パルミチン酸)カルシウム、(ミリスチン酸−ステアリン酸)カルシウム、(パルミチン酸−ステアリン酸)カルシウム、12ヒドロキシステアリン酸カルシウムが挙げられ、中でも好ましくは、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウム、12−ヒドロキシジステアリン酸カルシウムが挙げられる。
ギ酸補捉剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of formic acid scavengers include, but are not limited to, for example, (E) amino-substituted triazine compounds and condensates of amino-substituted triazine compounds and formaldehyde listed as specific examples of stabilizers, such as melamine / formaldehyde A condensate etc. can be mentioned.
Examples of other formic acid scavengers include, but are not limited to, alkali metal or alkaline earth metal hydroxides, inorganic acid salts, carboxylate salts, or alkoxides. Examples thereof include hydroxides such as sodium, potassium, magnesium, calcium, and barium; carbonates, phosphates, silicates, borates, carboxylates, and layered double hydroxides of the above metals.
The carboxylic acid of the carboxylate is preferably a saturated or unsaturated aliphatic carboxylic acid having 10 to 36 carbon atoms, and these carboxylic acids may be substituted with a hydroxyl group. Examples of the saturated or unsaturated aliphatic carboxylate include, but are not limited to, for example, calcium dimyristic acid, calcium dipalmitate, calcium distearate, (myristic acid-palmitic acid) calcium, (myristic acid) -Stearic acid) calcium, (palmitic acid-stearic acid) calcium, and 12 hydroxy calcium stearate are preferable. Among them, calcium dipalmitate, calcium distearate, and calcium 12-hydroxy distearate are preferable.
Only one type of formic acid scavenger may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記耐候安定剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、蓚酸アニリド系化合物、及びヒンダードアミン系光安定剤からなる群より選択される少なくとも1種が好ましいものとして挙げられる。
前記ベンゾトリアゾール系化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3,5−ビス(α、α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−イソアミル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3,5−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
これらの化合物はそれぞれ1種のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
前記蓚酸アリニド系化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2−エトキシ−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2−エトキシ−3’−ドデシルオキザリックアシッドビスアニリドなどが挙げられる。
これらの化合物は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
前記ヒンダードアミン系光安定剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェニルアトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(エチルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(シクロヘキシルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−カーボネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−オキサレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−マロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−テレフタレート、1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−エタン、α,α’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−p−キシレン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルトリレン−2,4−ジカルバメート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,4−トリカルボキシレート、1−[2−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}ブチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β’,β’,−テトラメチル−3,9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン]ジエタノールとの縮合物、などが挙げられる。
前記ヒンダードアミン系光安定剤は、それぞれ1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The weather stabilizer is not limited to the following, but for example, at least one selected from the group consisting of benzotriazole compounds, oxalic acid anilide compounds, and hindered amine light stabilizers is preferred. It is done.
Examples of the benzotriazole-based compound include, but are not limited to, 2- (2′-hydroxy-5′-methyl-phenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3,5- Di-t-butyl-phenyl) benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3,5-di) -T-amylphenyl] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3,5-di-isoamyl-phenyl) benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3,5-bis- (α, α-dimethyl) Benzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole, and the like.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the oxalic acid alinide compound include, but are not limited to, 2-ethoxy-2′-ethyloxalic bisanilide, 2-ethoxy-5-tert-butyl-2′-ethyloxy, for example. Examples include zalic acid bisanilide, 2-ethoxy-3′-dodecyl oxalic acid bisanilide, and the like.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the hindered amine light stabilizer include, but are not limited to, 4-acetoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6- Tetramethylpiperidine, 4-acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (phenylatoxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2, 6,6-tetramethylpiperidine, 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-cyclohexyloxy-2,2, 6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-phenoxy-2,2,6,6- Tramethylpiperidine, 4- (ethylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (cyclohexylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (phenylcarbamoyloxy) ) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -carbonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ) -Oxalate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -malonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis- (N-methyl) -2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -seba Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -adipate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -terephthalate, 1,2-bis (2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -ethane, α, α′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -p-xylene, bis (2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyltolylene-2,4-dicarbamate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -hexamethylene-1,6-dicarbamate, Tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -benzene-1,3,5-tricarboxylate, tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -benzene- 1,3,4-tricarbo Sylate, 1- [2- {3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} butyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4- Hydroxyphenyl) propionyloxy] 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β , Β ′, β ′,-tetramethyl-3,9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane] diethanol, and the like.
Each of the hindered amine light stabilizers may be used alone or in combination of two or more.

中でも好ましい耐候安定剤は、2−[2’−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル]ベンゾトリアゾール、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β’,β’,−テトラメチル−3,9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン]ジエタノールとの縮合物である。 Among them, preferred weathering stabilizers are 2- [2′-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3,5-di-t-butyl). Phenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3,5-di-t-amylphenyl] benzotriazole, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis- ( N-methyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, 1,2,3,4-butanetetra Carboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β, β ′, β ′,-tetramethyl-3,9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro ( 5 5) it is a condensation product of undecane] diethanol.

前記離型剤及び潤滑剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルコール、脂肪酸及びそれらの脂肪酸エステル、平均重合度が10〜500であるオレフィン化合物、シリコーンが好ましいものとして挙げられる。
離型剤及び潤滑剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
Examples of the release agent and lubricant are not limited to the following, but preferable examples include alcohols, fatty acids and fatty acid esters thereof, olefin compounds having an average polymerization degree of 10 to 500, and silicone. .
Only one type of release agent and lubricant may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記導電剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、導電性カーボンブラック、金属粉末又は繊維が挙げられる。
導電剤は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the conductive agent include, but are not limited to, conductive carbon black, metal powder, or fiber.
Only one type of conductive agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.

熱可塑性樹脂としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリカーネート樹脂、未硬化のエポキシ樹脂が挙げられる。
熱可塑性樹脂は1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
また、熱可塑性樹脂としては、上述した樹脂の変性物も含まれる。
Examples of the thermoplastic resin include, but are not limited to, polyolefin resins, acrylic resins, styrene resins, polycarbonate resins, and uncured epoxy resins.
Only one type of thermoplastic resin may be used alone, or two or more types may be used in combination.
Further, the thermoplastic resin includes a modified product of the above-described resin.

熱可塑性エラストマーとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリスチレン系エラストマー、ポリアミド系エラストマーが挙げられる。
熱可塑性エラストマーは1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the thermoplastic elastomer include, but are not limited to, polyurethane elastomers, polyester elastomers, polystyrene elastomers, and polyamide elastomers.
Only one type of thermoplastic elastomer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

染顔料としては、以下に限定されるものではないが、例えば、無機系顔料及び有機系顔料、メタリック系顔料、蛍光顔料等が挙げられる。
無機系顔料とは樹脂の着色用として一般的に使用されているものを言い、以下に限定されるものではないが、例えば、硫化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、チタンイエロー、コバルトブルー、燃成顔料、炭酸塩、りん酸塩、酢酸塩やカーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック等が挙げられる。
有機系顔料としては、以下に限定されるものではないが、例えば、縮合ウゾ系、イノン系、フロタシアニン系、モノアゾ系、ジアゾ系、ポリアゾ系、アンスラキノン系、複素環系、ペンノン系、キナクリドン系、チオインジコ系、ベリレン系、ジオキサジン系、フタロシアニン系等の顔料である等の顔料が挙げられる。
染顔料は、1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
顔料の添加割合は色調により大幅に変わるため明確にすることは難しいが一般的には、ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.05〜5質量部の範囲で用いられる。
Examples of the dye / pigment include, but are not limited to, inorganic pigments, organic pigments, metallic pigments, and fluorescent pigments.
Inorganic pigments are those commonly used for coloring resins and are not limited to the following, but include, for example, zinc sulfide, titanium oxide, barium sulfate, titanium yellow, cobalt blue, Examples thereof include pigments, carbonates, phosphates, acetates, carbon black, acetylene black, and lamp black.
Examples of organic pigments include, but are not limited to, for example, condensed zozo, inone, furothocyanin, monoazo, diazo, polyazo, anthraquinone, heterocyclic, pennon, quinacridone And pigments such as thioindico, berylene, dioxazine, and phthalocyanine pigments.
Only one type of dyeing pigment may be used alone, or two or more types may be used in combination.
Since the addition ratio of the pigment varies greatly depending on the color tone, it is difficult to clarify, but generally it is used in the range of 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyacetal resin.

記熱可塑性樹脂以外のその他の樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリカーネート樹脂、未硬化のエポキシ樹脂が挙げられる。
その他の樹脂は1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
The resin other than the thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyolefin resin, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, and uncured epoxy resin.
Other resins may be used alone or in combination of two or more.

無機充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、繊維状、粉粒子状、板状及び中空状の充填剤が用いられる。
繊維状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、シリコーン繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化硼素繊維、窒化硅素繊維、硼素繊維、チタン酸カリウム繊維、さらにステンレス、アルミニウム、チタン、銅、真鍮等の金属繊維等の無機質繊維が挙げられる。また、繊維長の短いチタン酸カリウムウイスカー、酸化亜鉛ウイスカー等のウイスカー類も含まれる。
粉粒子状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、カーボンブラック、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ガラス粉、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、カオリン、クレー、珪藻土、ウォラストナイト等の珪酸塩;酸化鉄、酸化チタン、アルミナ等の金属酸化物;硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属硫酸塩;炭酸マグネシウム、ドロマイト等の炭酸塩;その他炭化珪素、窒化硅素、窒化硼素、各種金属粉末等が挙げられる。
板状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、マイカ、ガラスフレーク、各種金属箔が挙げられる。
中空状充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ガラスバルーン、シリカバルーン、シラスバルーン、金属バルーン等が挙げられる。
有機充填剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、芳香族ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等の高融点有機繊維状充填剤が挙げられる。
これらの充填剤は1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用して使用してもよい。
The inorganic filler is not limited to the following, but for example, fibrous, powder particle, plate and hollow fillers are used.
Examples of the fibrous filler include, but are not limited to, glass fiber, carbon fiber, silicone fiber, silica / alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, boron fiber, and potassium titanate. Examples thereof include inorganic fibers such as fibers and metal fibers such as stainless steel, aluminum, titanium, copper, and brass. In addition, whiskers such as potassium titanate whisker and zinc oxide whisker having a short fiber length are included.
Examples of powder particulate fillers include, but are not limited to, carbon black, silica, quartz powder, glass beads, glass powder, calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, kaolin, clay, diatomaceous earth, wort Silicates such as rustonite; metal oxides such as iron oxide, titanium oxide and alumina; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; carbonates such as magnesium carbonate and dolomite; other silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, Various metal powders etc. are mentioned.
Examples of the plate filler include, but are not limited to, mica, glass flakes, and various metal foils.
Examples of the hollow filler include, but are not limited to, glass balloons, silica balloons, shirasu balloons, and metal balloons.
Examples of the organic filler include, but are not limited to, high melting point organic fibrous fillers such as aromatic polyamide resin, fluorine resin, and acrylic resin.
These fillers may be used alone or in combination of two or more.

これらの充填剤は表面処理された充填剤、未表面処理の充填剤、何れも使用可能であるが、成形表面の平滑性、機械的特性の面から表面処理の施された充填剤の使用の方が好ましい場合がある。
表面処理剤としては、特に限定されず、従来公知の表面処理剤が使用可能である。
表面処理剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、シラン系、チタネート系、アルミニウム系、ジルコニウム系等の各種カップリング処理剤、樹脂酸、有機カルボン酸、有機カルボン酸の塩等、界面活性剤が使用できる。
具体的には、以下に限定されるものではないが、例えば、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリスステアロイルチタネート、ジイソプロポキシアンモニウムエチルアセテート、n−ブチルジルコネート等が挙げられる。
These fillers can be either surface-treated or non-surface-treated, but the use of surface-treated fillers in terms of the smoothness of the molding surface and mechanical properties. May be preferred.
It does not specifically limit as a surface treating agent, A conventionally well-known surface treating agent can be used.
Examples of the surface treatment agent include, but are not limited to, various coupling treatment agents such as silane, titanate, aluminum, and zirconium, resin acids, organic carboxylic acids, salts of organic carboxylic acids, and the like. A surfactant can be used.
Specifically, although not limited to the following, for example, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, isopropyltrisstearoyl titanate, di- Examples thereof include isopropoxyammonium ethyl acetate and n-butyl zirconate.

本実施形態のポリアセタール樹脂組成物を製造する方法に特に限定はない。
一般的には、(A)ポリアセタール樹脂と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物と、(D)タルクと、を、必要に応じて上述した所定の成分を、例えば、ヘンシェルミキサー、タンブラー、V字型ブレンダ―等で混合した後、1軸又は多軸の押出機、加熱ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等の混練機を用いて混練することにより得られる。中でも、ベント減圧装置を備えた押出機による混練が、生産性の観点から好ましい。また、ポリアセタール樹脂組成物を大量に安定して製造するには、単軸又は二軸の押出機が好適に用いられる。
また、予め混合することなく、定量フィーダーなどで各成分を単独あるいは数種類ずつまとめて押出機に連続フィードすることもできる。
また、予め各成分からなる高濃度マスターバッチを作製しておき、押出溶融混練時にポリアセタール樹脂で希釈することもできる。
混練温度は、使用するポリアセタール樹脂の好ましい加工温度に従えばよく、一般的には、140〜260℃の範囲、好ましくは180〜230℃の範囲とする。
There is no limitation in particular in the method of manufacturing the polyacetal resin composition of this embodiment.
In general, (A) a polyacetal resin, (B) a nitrogen-containing hindered phenol compound, (C) a nitrogen-free hindered phenol compound, and (D) talc, as described above, as necessary. For example, by mixing with a Henschel mixer, tumbler, V-shaped blender, etc., and then kneading using a kneader such as a single or multi-screw extruder, heating roll, kneader, Banbury mixer, etc. It is done. Among these, kneading by an extruder equipped with a vent pressure reducing device is preferable from the viewpoint of productivity. In order to stably produce a large amount of the polyacetal resin composition, a single-screw or twin-screw extruder is preferably used.
Moreover, it is also possible to continuously feed each component individually or in groups of several using a quantitative feeder or the like without mixing in advance.
Alternatively, a high-concentration master batch made of each component can be prepared in advance and diluted with a polyacetal resin during extrusion melt kneading.
The kneading temperature may be in accordance with the preferred processing temperature of the polyacetal resin to be used, and is generally in the range of 140 to 260 ° C, preferably in the range of 180 to 230 ° C.

〔成形方法〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、成形し、成形品として使用することができる。成形する方法については、特に限定はなく、公知の成形方法、例えば、押出成形、射出成形、真空成形、ブロー成形、射出圧縮成形、加飾成形、他材質成形、ガスアシスト射出成形、発砲射出成形、低圧成形、超薄肉射出成形(超高速射出成形)、金型内複合成形(インサート成形、アウトサート成形)等の成形方法の何れかによって成形することができる。
これらの中でも、安定生産性の観点から射出成形法が好ましい。
[Molding method]
The polyacetal resin composition of the present embodiment can be molded and used as a molded product. The molding method is not particularly limited, and known molding methods such as extrusion molding, injection molding, vacuum molding, blow molding, injection compression molding, decorative molding, other material molding, gas assist injection molding, and gunshot injection molding. It can be molded by any one of molding methods such as low pressure molding, ultra thin injection molding (ultra high speed injection molding), and in-mold composite molding (insert molding, outsert molding).
Among these, the injection molding method is preferable from the viewpoint of stable productivity.

〔用途〕
本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は、ホットランナー金型を用いた連続成形を行っても、ポリアセタール樹脂の熱分解が少なく、そのため金型の汚染も少ない。
また、本実施形態のポリアセタール樹脂組成物は厳しい成形条件下で成形しても、得られた成形品からのホルムアルデヒド放出量が少ない。
従って、様々な用途の成形品に使用することが可能である。
例えば、ギア、カム、スライダー、レバー、軸、軸受け及びガイド等に代表される機構部品、アウトサート成形の樹脂部品またはインサート成形の樹脂部品(シャーシ、トレー、側板部品)、プリンター又は複写機用部品、デジタルカメラ又はデジタルビデオ機器用部品、音楽、映像又は情報機器用部品、通信機器用部品、電気機器用部品、電子機器用部品用に用いられる。
また、自動車用の部品として、ガソリンタンク、フュエルポンプモジュール、バルブ類、ガソリンタンクフランジ等に代表される燃料廻り部品;ドア廻り部品;シートベルト周辺部品;コンビスイッチ部品;スイッチ類に好適に使用される。
さらに、住宅設備機器に代表される工業部品としても好適に使用できる。
[Use]
Even if the polyacetal resin composition of this embodiment performs continuous shaping | molding using a hot runner metal mold | die, there is little thermal decomposition of a polyacetal resin, Therefore, there is also little contamination of a metal mold | die.
Moreover, even if the polyacetal resin composition of this embodiment is molded under severe molding conditions, the amount of formaldehyde released from the obtained molded product is small.
Therefore, it can be used for molded articles for various purposes.
For example, mechanical parts such as gears, cams, sliders, levers, shafts, bearings and guides, outsert molded resin parts or insert molded resin parts (chassis, tray, side plate parts), printer or copier parts Used for digital camera or digital video equipment parts, music, video or information equipment parts, communication equipment parts, electrical equipment parts, electronic equipment parts.
It is also suitable for automobile parts, such as gasoline tanks, fuel pump modules, valves, gasoline tank flanges, etc., fuel parts; door parts; seat belt peripheral parts; combination switch parts; The
Furthermore, it can be suitably used as an industrial part typified by residential equipment.

以下、本実施形態について、具体的な実施例と、これとの比較例を挙げて説明するが、本実施形態は、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例において適用した測定・評価方法を下記に示す。
〔測定・評価方法〕
<ホットランナー金型によるモールドデポジッド性評価>
図1に示す構成を有する成形機を用い、下記(a)成形条件に従って、ポリアセタール樹脂組成物のモールドデポジッド性評価を行った。評価基準は下記(b)を用いた。
(a)成形条件
・射出成形機 :東芝機械(株)IS−100GN
(溶融樹脂流路末端先端部ガス抜き部無、ウエルド部有)
・シリンダー設定温度 :230℃
・マニホールド設定温度:240℃(ノズル自動開閉式)
・金型設定温度 :80℃
・成形サイクル :射出時間/冷却時間=20/20秒
・金型サイズ :70×60mm×3mm
(b)評価基準
以下の評価基準に基づいて、成形開始から300ショット目と1000ショット目の金型キャビティ内のモールドデポジッド付着状況を観察した。
1:付着物が金型キャビティ内の5%未満の範囲で観察された。
2:付着物が金型キャビティ内の5%以上10%未満の範囲で観察された
3:付着物が金型キャビティ内の10%以上20%未満の範囲で観察された。
4:付着物が金型キャビティ内の20%以上30%未満の範囲で観察された。
5:付着物が金型キャビティ内の30%以上の範囲で観察された。
Hereinafter, although a specific Example and a comparative example with this are given and demonstrated about this embodiment, this embodiment is not limited to a following example.
The measurement / evaluation methods applied in the examples and comparative examples are shown below.
[Measurement and evaluation method]
<Evaluation of mold deposit by hot runner mold>
Using the molding machine having the configuration shown in FIG. 1, the mold deposit property of the polyacetal resin composition was evaluated according to the following molding conditions (a). The evaluation criteria used (b) below.
(A) Molding conditions ・ Injection molding machine: TOSHIBA MACHINE Co., Ltd. IS-100GN
(There is no gas vent at the end of the molten resin flow path, and there is a weld)
・ Cylinder set temperature: 230 ℃
・ Manifold set temperature: 240 ℃
・ Mold set temperature: 80 ℃
Molding cycle: injection time / cooling time = 20/20 seconds Mold size: 70 × 60 mm × 3 mm
(B) Evaluation Criteria Based on the following evaluation criteria, the state of mold deposit adhesion in the mold cavities at the 300th and 1000th shots from the start of molding was observed.
1: Deposits were observed in a range of less than 5% in the mold cavity.
2: Deposits were observed in the range of 5% or more and less than 10% in the mold cavity. 3: Deposits were observed in the range of 10% or more and less than 20% in the mold cavity.
4: Deposits were observed in the range of 20% to less than 30% in the mold cavity.
5: A deposit was observed in a range of 30% or more in the mold cavity.

<成形品から放出されるホルムアルデヒド量の測定方法>
(1)成形機シリンダー内滞留無
(株)東芝製IS−100GN射出成形機を用いて、シリンダー温度220℃、金型温度80℃、射出圧力60MPa、射出時30秒、冷却時間15秒により試験片を成形した。成形開始から5ショットまでの成形品は廃棄し、6ショット目の成形品について、下記に示す条件(VDA275法)により、成形品から放出されるホルムアルデヒド量を測定した。
(2)成形機シリンダー内滞留有
(株)東芝製IS−100GN射出成形機を用いて、シリンダー温度220℃、金型温度80℃、射出圧力60MPa、射出時30秒、冷却時間15秒で試験片を成形した。
5ショット目を成形している途中(成形機シリンダー内に溶融樹脂が計量され、冷却ゾーンに入っている状態)で成形機を停止し、シリンダー温度220℃を保持した状態で、成形機シリンダー内に溶融樹脂を5分間滞留させた。5分後、再び成形機を起動し、射出成形機内に滞留させていたポリアセタール樹脂を、金型温度80℃、射出圧力60MPa、射出時30秒、冷却時間15秒の条件で成形し試験片を得た。滞留直後に成形した成形品について、下記に示す条件(VDA275法)により、成形品から放出されるホルムアルデヒド量を測定した。
※VDA275法:
ポリエチレン容器に蒸留水50mLと規定されたサイズの試験片(縦100mm×横40mm×厚み3mm)を入れ密閉し、60℃で3時間加熱しながら蒸留水中にホルムアルデヒドを抽出し、その後室温まで冷却した。
冷却後、ホルムアルデヒドを吸収した蒸留水5mLに、アセチルアセトン0.4質量%水溶液5mL、及び酢酸アンモニウム20質量%水溶液5mLを加え、40℃で15分間加熱を行い、ホルムアルデヒドとアセチルアセトンの反応を行った。
更に当該混合液を室温まで冷却後、UV分光光度計を用いて412nmの吸収ピークより蒸留水中のホルムアルデヒド量を定量した。
成形品から放出されるホルムアルデヒド量(mg/kg)は下記式により求めた。
成形品から放出されるホルムアルデヒド量(mg/kg)
=蒸留水中のホルムアルデヒド量(mg)/測定に用いたポリアセタール樹脂成形品の質量(kg)
<Method for measuring the amount of formaldehyde released from molded articles>
(1) No retention in molding machine Cylinder test using IS-100GN injection molding machine manufactured by Toshiba Corp. with cylinder temperature of 220 ° C, mold temperature of 80 ° C, injection pressure of 60 MPa, injection time of 30 seconds, cooling time of 15 seconds A piece was molded. The molded product from the start of molding to 5 shots was discarded, and the amount of formaldehyde released from the molded product was measured for the molded product of the 6th shot under the following conditions (VDA275 method).
(2) Retaining in cylinder of molding machine Using Toshiba Corporation IS-100GN injection molding machine, cylinder temperature 220 ° C, mold temperature 80 ° C, injection pressure 60MPa, injection time 30 seconds, cooling time 15 seconds A piece was molded.
The molding machine is stopped while the fifth shot is being molded (the molten resin is measured in the molding machine cylinder and is in the cooling zone), and the cylinder temperature is maintained at 220 ° C. The molten resin was allowed to stay for 5 minutes. After 5 minutes, the molding machine was started again, and the polyacetal resin retained in the injection molding machine was molded under conditions of a mold temperature of 80 ° C., an injection pressure of 60 MPa, an injection time of 30 seconds, and a cooling time of 15 seconds. Obtained. About the molded article shape | molded immediately after residence, the amount of formaldehyde discharge | released from a molded article was measured on condition (VDA275 method) shown below.
* VDA275 method:
A test piece (length 100 mm × width 40 mm × thickness 3 mm) defined as 50 mL of distilled water was placed in a polyethylene container, sealed, and formaldehyde was extracted into distilled water while heating at 60 ° C. for 3 hours, and then cooled to room temperature. .
After cooling, 5 mL of acetylacetone 0.4 mass% aqueous solution and 5 mL of ammonium acetate 20 mass% aqueous solution were added to 5 mL of distilled water that absorbed formaldehyde, and heated at 40 ° C. for 15 minutes to react formaldehyde with acetylacetone.
Furthermore, after cooling the said liquid mixture to room temperature, the amount of formaldehyde in distilled water was quantified from the absorption peak of 412 nm using the UV spectrophotometer.
The amount of formaldehyde released from the molded product (mg / kg) was determined by the following formula.
Formaldehyde released from the molded product (mg / kg)
= Formaldehyde amount in distilled water (mg) / mass of polyacetal resin molded product used for measurement (kg)

〔原料成分〕
実施例、及び比較例に用いた原料成分について下記に示す。
<(A)ポリアセタール樹脂>
ジャケット付き2軸パドル型連続重合反応機((株)栗本鐵工所製、径2B、L/D=14.8)を80℃に調整し、下記に示す重合条件(供給速度)にて原料等を供給してポリアセタールコポリマーを重合した。
得られた粗ポリマーの不安定末端基を下記に示す末端安定化条件で除去し、1,3−ジオキソランに由来するコモノマー成分の含有量が4mol%、MFR値が9g/10minのポリアセタールコポリマー(ポリアセタール樹脂(A−1))を得た。
なお、ポリアセタールコポリマーの重合条件(原料の供給速度)及び末端安定化条件を以下に示した。
[重合条件]
以下に示す供給速度で反応機に原料を供給した。
・トリオキサン(主モノマー):3500gr/hr
・1,3−ジオキソラン(コモノマー):120.9gr/hr
・メチラール(分子量調節剤):2.4gr/hr
・シクロヘキサン(有機溶媒):6.5g/hr
・三フッ化ホウ素−ジ−n−ブチルエーテラート(重合触媒)::0.04g/hr
(ホルムアルデヒド1molに対して、三フッ化ホウ素が、0.05×10-4molとなるように供給速度を設定した。)
なお、重合触媒のみ上記の他の成分と別ラインにてフィードした。
[末端安定化条件]
重合反応機から排出された粗ポリアセタール子ポリマーを、トリエチルアミン水溶液(0.5質量%)中に浸漬し、その後、常温で1hr攪拌を実施した後、遠心分離機でろ過し、窒素下で120℃×3hr乾燥し、ポリアセタールコポリマー(ポリアセタール樹脂(A−1))を得た。
[Raw ingredient]
It shows below about the raw material component used for the Example and the comparative example.
<(A) polyacetal resin>
A jacketed biaxial paddle type continuous polymerization reactor (manufactured by Kurimoto Steel Works, diameter 2B, L / D = 14.8) was adjusted to 80 ° C., and the raw materials were used under the following polymerization conditions (feed rate). Etc. were supplied to polymerize the polyacetal copolymer.
Unstable end groups of the obtained crude polymer were removed under the following terminal stabilization conditions, and a polyacetal copolymer (polyacetal) having a content of 4 mol% of a comonomer component derived from 1,3-dioxolane and an MFR value of 9 g / 10 min was obtained. Resin (A-1)) was obtained.
The polymerization conditions (feed rate of raw materials) and terminal stabilization conditions of the polyacetal copolymer are shown below.
[Polymerization conditions]
The raw material was supplied to the reactor at the following supply rate.
Trioxane (main monomer): 3500 gr / hr
1,3-dioxolane (comonomer): 120.9 gr / hr
-Methylal (molecular weight regulator): 2.4 gr / hr
Cyclohexane (organic solvent): 6.5 g / hr
Boron trifluoride-di-n-butyl etherate (polymerization catalyst): 0.04 g / hr
(The feed rate was set so that boron trifluoride was 0.05 × 10 −4 mol with respect to 1 mol of formaldehyde.)
Only the polymerization catalyst was fed in a separate line from the other components described above.
[Terminal stabilization conditions]
The crude polyacetal polymer discharged from the polymerization reactor was immersed in an aqueous triethylamine solution (0.5% by mass), then stirred for 1 hr at room temperature, filtered through a centrifuge, and 120 ° C. under nitrogen. X3 hr drying was performed to obtain a polyacetal copolymer (polyacetal resin (A-1)).

<(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物>
B−1:1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン(Irganox MD1024)
B−2:N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンアミド] (Irganox1098)
B−3:1,3,5−トリス[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン(Irganox 3114)
<(B) Nitrogen-containing hindered phenol compound>
B-1: 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] hydrazine (Irganox MD1024)
B-2: N, N′-hexamethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide] (Irganox 1098)
B-3: 1,3,5-tris [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H , 3H, 5H) -trione (Irganox 3114)

<(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物>
C−1:トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート](Irganox 245)
C−2:1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4 −ヒドロキシフェニル)−プロピオネート](Irganox 259)
<(C) Nitrogen-free hindered phenol compound>
C-1: Triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] (Irganox 245)
C-2: 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] (Irganox 259)

<(D)タルク>
D−1:MSタルク(平均粒子径16μm) 日本タルク株式会社製
<(E)安定剤>
E−1:ポリアクリルアミド重合体(平均粒子径5μm)
<(D) Talc>
D-1: MS talc (average particle size 16 μm) manufactured by Nippon Talc Co., Ltd. <(E) stabilizer>
E-1: polyacrylamide polymer (average particle size 5 μm)

〔実施例1〕
(A−1)ポリアセタール樹脂100質量に、(B−1)1,2−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオニル]ヒドラジン0.05質量部と、(C−1)トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]0.1質量部と、(D−1)タルク0.01質量部とを、ヘンシェルミキサーを用いて均一に混合して混合物を得た。

この混合物を200℃に設定された30mmベント付2軸押出機のトップフィード口からフィードし、スクリュー回転数80rpm、ベント減圧度−0.09MPa、吐出量5kg/hrで溶融混錬しペレット化した後、当該ペレットを熱風温度80℃で3時間乾燥することによりポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により測定、評価した。評価結果を下記表1に示す。
[Example 1]
(A-1) 100 parts by mass of polyacetal resin, 0.05 part by mass of (B-1) 1,2-bis [3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionyl] hydrazine, (C-1) 0.1 parts by mass of triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] and (D-1) 0.01 parts by mass of talc Were uniformly mixed using a Henschel mixer to obtain a mixture.

This mixture was fed from the top feed port of a 30 mm vented twin screw extruder set at 200 ° C. and melt kneaded and pelletized at a screw rotation speed of 80 rpm, a vent pressure reduction of −0.09 MPa, and a discharge rate of 5 kg / hr. Thereafter, the pellets were dried at a hot air temperature of 80 ° C. for 3 hours to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, the mold depositability by the hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were measured and evaluated by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔実施例2〜15〕
組成を表1の通りとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、ポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Examples 2 to 15]
Except that the composition was as shown in Table 1, the same operation as in Example 1 was performed to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, mold depositability by a hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔比較例1〕
(A−1)ポリアセタール樹脂100質量を、200℃に設定された30mmベント付2軸押出機のトップフィード口からフィードし、スクリュー回転数80rpm、ベント減圧度−0.09MPa、吐出量5kg/hrで溶融混錬しペレット化した後、当該ペレットを熱風温度80℃で3時間乾燥することによりポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 1]
(A-1) 100 mass of polyacetal resin is fed from the top feed port of a 30 mm vented twin screw extruder set at 200 ° C., screw rotation speed 80 rpm, vent pressure reduction degree −0.09 MPa, discharge rate 5 kg / hr Then, the pellet was dried at a hot air temperature of 80 ° C. for 3 hours to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, mold depositability by a hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔比較例2〕
(A−1)ポリアセタール樹脂100質量と、(D−1)タルク0.01質量部とを、ヘンシェルミキサーを用いて均一に混合して混合物を得た。
この混合物を200℃に設定された30mmベント付2軸押出機のトップフィード口からフィードし、スクリュー回転数80rpm、ベント減圧度−0.09MPa、吐出量5kg/hrで溶融混錬しペレット化した後、当該ペレットを熱風温度80℃で3時間乾燥することによりポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 2]
(A-1) 100 mass parts of polyacetal resin and 0.01 mass part of (D-1) talc were mixed uniformly using the Henschel mixer, and the mixture was obtained.
This mixture was fed from the top feed port of a 30 mm vented twin screw extruder set at 200 ° C. and melt kneaded and pelletized at a screw rotation speed of 80 rpm, a vent pressure reduction of −0.09 MPa, and a discharge rate of 5 kg / hr. Thereafter, the pellets were dried at a hot air temperature of 80 ° C. for 3 hours to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, mold depositability by a hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1 below.

〔比較例3〜10〕
組成を表1の通りとした以外は、実施例1と同様な操作を行い、ポリアセタール樹脂ペレットを得た。
得られたポリアセタール樹脂ペレットを用いて、ホットランナー金型によるモールドデポジッド性、及び、成形品からのホルムアルデヒド放出量を、上述した方法により評価、測定した。評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Examples 3 to 10]
Except that the composition was as shown in Table 1, the same operation as in Example 1 was performed to obtain polyacetal resin pellets.
Using the obtained polyacetal resin pellets, mold depositability by a hot runner mold and the amount of formaldehyde released from the molded product were evaluated and measured by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1 below.

表1に示したように、実施例1〜15で得られたポリアセタール樹脂組成物は、ホットランナー金型を用いた連続成形を行った場合にもモールドデポジット性に優れ、かつ、得られた成形品は、厳しい成形条件下で成形されたにも関わらず、ホルムアルデヒド放出量も少なかった。
一方、比較例1〜10で得られたポリアセタール樹脂組成物は、は、モールドデポジット性が劣り、得られた成形品からのホルムアルデヒド放出量も多かった。
As shown in Table 1, the polyacetal resin compositions obtained in Examples 1 to 15 are excellent in mold depositing property even when continuous molding using a hot runner mold is performed, and the obtained molding Although the product was molded under severe molding conditions, the amount of formaldehyde released was low.
On the other hand, the polyacetal resin compositions obtained in Comparative Examples 1 to 10 were inferior in mold depositing property and had a large amount of formaldehyde released from the obtained molded products.

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、自動車、電機・電子、その他工業などの幅広い分野で利用できる。特に、本発明のポリアセタール樹脂組成物は、優れた熱安定性を有するので、樹脂組成物が高温下に長時間曝されるような成形方法が採用される分野において好適に利用できる。   The polyacetal resin composition of the present invention can be used in a wide range of fields such as automobiles, electrical machinery / electronics, and other industries. In particular, since the polyacetal resin composition of the present invention has excellent thermal stability, it can be suitably used in a field where a molding method is employed in which the resin composition is exposed to a high temperature for a long time.

Claims (4)

(A)ポリアセタール樹脂100質量部と、(B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.2質量部と、(C)窒素不含ヒンダードフェノール化合物0.001〜0.3質量部と、(D)タルク0.0001〜0.1質量部とを、含有する、ポリアセタール樹脂組成物。   (A) 100 parts by mass of a polyacetal resin, (B) 0.001 to 0.2 parts by mass of a nitrogen-containing hindered phenol compound, and (C) 0.001 to 0.3 parts by mass of a nitrogen-free hindered phenol compound. (D) Polyacetal resin composition containing 0.0001-0.1 mass part of talc. (B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物の含有量が、(A)ポリアセタール樹脂100質量部に対して、0.001〜0.15質量部である、請求項1に記載のポリアセタール樹脂組成物。   (B) Polyacetal resin composition of Claim 1 whose content of a nitrogen-containing hindered phenol compound is 0.001-0.15 mass part with respect to 100 mass parts of (A) polyacetal resin. (B)窒素含有ヒンダードフェノール化合物がヒドラジン構造を含む、請求項1又は2に記載のポリアセタール樹脂組成物。   (B) The polyacetal resin composition according to claim 1 or 2, wherein the nitrogen-containing hindered phenol compound includes a hydrazine structure. さらに、(E)その他安定剤として、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、ヒドラジド誘導体、アミド化合物、ポリアミド、及び、アクリルアミド共重合体からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリアセタール樹脂組成物。   Furthermore, (E) Other stabilizers include at least one selected from the group consisting of amino-substituted triazine compounds, urea derivatives, hydrazide derivatives, amide compounds, polyamides, and acrylamide copolymers. The polyacetal resin composition according to any one of the above.
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