JP6805133B2 - Materials for charge-transfer thin films and charge-transfer thin films - Google Patents

Materials for charge-transfer thin films and charge-transfer thin films Download PDF

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    • C09K11/06Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials

Description

本発明は、電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜に関する。より詳しくは、電界駆動による長波エレクトロマー由来の発光が抑制された電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜に関する。 The present invention relates to materials for charge-transfer thin films and charge-transfer thin films. More specifically, the present invention relates to a material for a charge-transfer thin film in which light emission derived from a long-wave electromer driven by an electric field is suppressed, and a charge-transfer thin film.

一般的に、電界を印加する有機エレクトロルミネッセンス素子(以下「有機EL素子」ともいう。)、太陽電池及び有機トランジスタ等の電子デバイスには、電界をかけて電荷キャリア(電子及び正孔の総称)を移動させることのできる有機材料を含有する電荷移動性薄膜が用いられている。
そのため、電荷移動性薄膜に用いる有機材料は、π−π相互作用によるキャリアホッピング伝導をさせるために、芳香環を組み合わせた化学構造を有していなければならない。電荷移動性薄膜中に含有された機能性の有機材料は種々の性能が要求されるため、その開発が近年盛んである。
Generally, an electric field is applied to an electronic device such as an organic electroluminescence element (hereinafter, also referred to as "organic EL element"), a solar cell, and an organic transistor to which an electric field is applied, and charge carriers (general term for electrons and holes). A charge-transferring thin film containing an organic material capable of moving the electron is used.
Therefore, the organic material used for the charge-transfer thin film must have a chemical structure in which aromatic rings are combined in order to carry out carrier hopping conduction by π-π interaction. Since the functional organic materials contained in the charge-transfer thin film are required to have various performances, their development has been active in recent years.

マクロ的な薄膜安定化技術が求められている電子デバイスである、青色リン光有機EL素子に用いる有機材料としては、最低励起三重項エネルギー準位(T)が高い(以下において、「高T」ともいう。)ジベンゾフラン骨格や、カルバゾール骨格を有する芳香族化合物が知られている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照。)。芳香族化合物は、分子軌道計算により描像される、芳香族化合物上に分布するカルバゾールの最高被占軌道(HOMO)とジベンゾフランの最低空軌道(LUMO)を空間的に分離させることにより、最低励起三重項エネルギー準位(T)の低下(以下、「低T化」ともいう。)を抑制し、かつキャリア(電子と正孔)のホッピング伝導を促進し、青色リン光発光材料に適応した周辺材料となっている。As an organic material used for a blue phosphorescent organic EL element, which is an electronic device for which a macroscopic thin film stabilization technology is required, the lowest excited triplet energy level (T 1 ) is high (in the following, "high T". 1 ”.) Dibenzofuran skeletons and aromatic compounds having a carbazole skeleton are known (see, for example, Patent Documents 1 and 2). Aromatic compounds have the lowest excited triplet by spatially separating the highest occupied orbital (HOMO) of carbazole and the lowest empty orbital (LUMO) of dibenzofuran distributed on the aromatic compound, which is imaged by molecular orbital calculation. It suppresses the decrease in the term energy level (T 1 ) (hereinafter, also referred to as "lower T 1 "), promotes hopping conduction of carriers (electrons and holes), and is suitable for blue phosphorescent materials. It is a peripheral material.

しかしながら、より短波の青色リン光材料に適応させる際には、これらの化合物が発光効率や発光寿命の点で十分に機能しないこともわかってきた。それは、どんなに熱的及び電気化学的に安定な材料でも、電界駆動により励起状態やラジカル状態になる回数が増えるに従い、分子は振動又は結合軸を中心として回転し、分子間の相互作用形態が変わってしまい、膜状態が変わってしまうためである。
膜状態の変化としては、含有分子の凝集による粒界形成や、キャリア輸送には好ましくない相互作用であるHOMO−LUMOスタック形成などが挙げられる。このような膜変化が起こった結果、電荷移動性薄膜を用いた有機電子デバイスでは、膜質変化による寿命劣化が起こっていた。
However, it has also been found that these compounds do not function well in terms of luminous efficiency and luminescence lifetime when adapted to shorter wave blue phosphorescent materials. No matter how thermally and electrochemically stable the material is, as the number of times it becomes excited or radical by electric field driving increases, the molecules rotate around the vibration or bond axis, and the form of interaction between the molecules changes. This is because the film state changes.
Examples of changes in the film state include grain boundary formation due to aggregation of contained molecules and HOMO-LUMO stack formation, which is an interaction unfavorable for carrier transport. As a result of such film changes, the life of organic electronic devices using charge-transfer thin films has deteriorated due to changes in film quality.

特開2013−155153号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-155153 特表2013−529188号公報Special Table 2013-528188

本発明は、上記問題・状況を鑑みてなされたものであり、その解決課題は、長寿命の電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems and situations, and an object of the present invention is to provide a material for a charge-transfer thin film having a long life and a charge-transfer thin film.

本発明の発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、芳香族化合物が、分子軌道計算により描像される前記芳香族化合物上に分布する最高被占軌道及び最低空軌道が空間的に分離しており、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有し、かつ前記芳香族化合物を含有する単一層の電流励起発光スペクトルが、所定の式を満たすことで上記課題を解決できることを見いだし、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、下記の手段により解決される。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the inventor of the present invention spatially determines the highest occupied orbitals and the lowest empty orbitals in which the aromatic compounds are distributed on the aromatic compounds imaged by molecular orbital calculation. The above problem can be solved by satisfying a predetermined formula in the current excitation emission spectrum of a single layer that is separated, has an alkyl group in the range of 3 to 20 carbon atoms, and contains the aromatic compound. We found it and came up with the present invention.
That is, the above problem according to the present invention is solved by the following means.

1.芳香族化合物を含有する電荷移動性薄膜用材料であって、
前記芳香族化合物が、分子軌道計算により描像される前記芳香族化合物上に分布する最高被占軌道及び最低空軌道が空間的に分離する少なくとも2つ以上の芳香族炭化水素環又
は芳香族複素環を有し、さらに炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有し、かつ
前記芳香族化合物を含有する単一層の電流励起発光スペクトルが、下記式(1)を満たし、
前記芳香族化合物が、下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする電荷移動性薄膜用材料。
式(1):a/b>1
(式(1)中、aは、前記電流励起発光スペクトルにおいて、発光波長500nm以下に出現する最大発光強度を表し、bは、発光波長550nm以上に出現する最大発光強度を表す。aが通電開始初期値から1/5の値まで減衰する間、a及びbは常に式(1)の関係を満たす。)
一般式(1):
(R −A−(L) −B−(R
(一般式(1)中、A及びBは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。R 及びR は、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を表す。Lは、単なる結合手、又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基若しくはアルキレン基を表す。m及びnは、それぞれ1以上の整数を表す。kは1以上の整数を表す。)
1. 1. A material for a charge-transfer thin film containing an aromatic compound.
At least two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles in which the highest occupied orbitals and the lowest empty orbitals distributed on the aromatic compound imaged by molecular orbital calculation are spatially separated from each other. the a, further have an alkyl group in the range of 3 to 20 carbon atoms, and the current excitation emission spectrum of a single layer containing the aromatic compound, meet the following equation (1),
A material for a charge-transfer thin film, wherein the aromatic compound has a structure represented by the following general formula (1) .
Equation (1): a / b> 1
In the formula (1), a represents the maximum emission intensity appearing at an emission wavelength of 500 nm or less in the current excitation emission spectrum, b represents the maximum emission intensity appearing at an emission wavelength of 550 nm or more, and a represents the energization start. While decaying from the initial value to the value of 1/5, a and b always satisfy the relationship of equation (1).)
General formula (1):
(R 1 ) m- A- ( L) k- B- (R 2 ) n
(In the general formula (1), A and B represent an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle which may have a substituent. R 1 and R 2 have a carbon number in the range of 3 to 20. L represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group or an alkylene group which may have a simple binder or a substituent. M and n are one or more, respectively. Represents an integer. K represents an integer of 1 or more.)

.第1項に記載の電荷移動性薄膜用材料を含有することを特徴とする電荷移動性薄膜。 2 . A charge-transfer thin film comprising the material for a charge-transfer thin film according to item 1.

本発明の上記手段により、長寿命の電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜を提供することができる。 According to the above means of the present invention, a material for a charge-transfer thin film having a long life and a charge-transfer thin film can be provided.

本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
π−π相互作用に加えて、アルキル基同士の相互作用等の効果を用い、所定の関係式を満たす電流励起発光スペクトルが得られる化合物を用いることにより、電界駆動による長波エレクトロマー由来の発光を抑制することができ、長寿命の電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜を提供することができたものと考えている。さらには、アルキル基による溶解性向上という副次的な効果から、ウェットプロセスによる生産適性を向上させることができたものと考えている。
Although the mechanism of expression or mechanism of action of the effect of the present invention has not been clarified, it is inferred as follows.
By using a compound that can obtain a current-excited emission spectrum that satisfies a predetermined relational expression by using effects such as interaction between alkyl groups in addition to π-π interaction, light emission derived from a long-wave electron driven by an electric field can be generated. It is considered that it was possible to provide a material for a charge-transfer thin film having a long life and a charge-transfer thin film which can be suppressed. Furthermore, it is believed that the production suitability of the wet process could be improved due to the secondary effect of improving the solubility of the alkyl group.

比較化合物1の光励起スペクトルを示すグラフGraph showing the photoexcitation spectrum of Comparative Compound 1 比較化合物1の電流励起発光スペクトルの経時変化を示すグラフA graph showing the time course of the current excitation emission spectrum of Comparative Compound 1. 電界駆動によるエレクトロマー生成を示す模式図Schematic diagram showing electromer generation by electric field drive 理想的な相互作用形態を示す模式図Schematic diagram showing the ideal interaction mode 本発明に係る芳香族化合物のHOMO−LUMOを示す模式図Schematic diagram showing HOMO-LUMO of the aromatic compound according to the present invention アルキル基を有する化合物の理想的な相互作用形態を示す模式図Schematic diagram showing an ideal interaction form of a compound having an alkyl group MD計算による二分子間の相互作用形態を示す模式図Schematic diagram showing the interaction form between two molecules by MD calculation 照明装置の概略図Schematic diagram of the lighting device 照明装置の断面図Cross-sectional view of the lighting device

本発明の電荷移動性薄膜用材料は、芳香族化合物を含有する電荷移動性薄膜用材料であって、前記芳香族化合物が、分子軌道計算により描像される前記芳香族化合物上に分布する最高被占軌道及び最低空軌道が空間的に分離する少なくとも2つ以上の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有し、さらに炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有し、かつ前記芳香族化合物を含有する単一層の電流励起発光スペクトルが、前記式(1)を満たし、前記芳香族化合物が、前記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする。
この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
The material for a charge-transferring thin film of the present invention is a material for a charge-transferring thin film containing an aromatic compound, and the highest cover in which the aromatic compound is distributed on the aromatic compound imaged by molecular orbital calculation. It has at least two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles in which the occupied orbital and the lowest empty orbital are spatially separated, and further has an alkyl group having an number of carbon atoms in the range of 3 to 20, and said current excitation emission spectrum of a single layer containing an aromatic compound, wherein meets formula (1), the aromatic compound is characterized by having the structure represented by the general formula (1).
This feature is a technical feature common to the inventions according to each claim.

また、本発明の電荷移動性薄膜用材料は、前記芳香族化合物が、前記一般式(1)で表される構造を有することが、キャリア輸送に好適な相互作用形態をとりやすいため好ましい。 Further, in the material for a charge-transfer thin film of the present invention, it is preferable that the aromatic compound has a structure represented by the general formula (1) because it easily takes an interaction form suitable for carrier transport.

また、本発明の電荷移動性薄膜は、本発明の電荷移動性薄膜用材料を含有することが、効果発現の観点から好ましい。 Further, it is preferable that the charge-transfer thin film of the present invention contains the material for the charge-transfer thin film of the present invention from the viewpoint of exhibiting the effect.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本発明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its constituent elements, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, "~" shown in this invention is used in the meaning which includes the numerical values described before and after it as the lower limit value and the upper limit value.

本発明に適した電荷移動性薄膜用材料は、芳香族化合物を含有し、当該芳香族化合物が、分子軌道計算により描像される前記芳香族化合物上に分布する最高被占軌道及び最低空
軌道が空間的に分離する少なくとも2つ以上の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有し、さらに炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有し、かつ前記芳香族化合物を含有する単一層の電流励起発光スペクトルが、下記式(1)を満たし、前記芳香族化合物が、下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする。
式(1):a/b>1
式(1)中、aは、前記電流励起発光スペクトルにおいて、発光波長500nm以下に出現する最大発光強度を表し、bは、発光波長550nm以上に出現する最大発光強度を表す。aが通電開始初期値から1/5の値まで減衰する間、a及びbは常に式(1)の関係を満たす。
一般式(1):
(R −A−(L) −B−(R
一般式(1)中、A及びBは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。R 及びR は、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を表す。Lは、単なる結合手、又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基若しくはアルキレン基を表す。m及びnは、それぞれ1以上の整数を表す。kは1以上の整数を表す。
はじめに、本発明に係る芳香族化合物が、エレクトロマー由来の発光が生成しにくい機構について説明する。
The material for a charge-transferring thin film suitable for the present invention contains an aromatic compound, and the highest occupied orbital and the lowest empty orbital in which the aromatic compound is distributed on the aromatic compound imaged by molecular orbital calculation are determined. A simple substance having at least two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles that are spatially separated, having an alkyl group having an number of carbon atoms in the range of 3 to 20, and containing the aromatic compound. further current excitation emission spectrum, meets the following formula (1), the aromatic compound is characterized by having a structure represented by the following general formula (1).
Equation (1): a / b> 1
In the formula (1), a represents the maximum emission intensity appearing at an emission wavelength of 500 nm or less in the current excitation emission spectrum, and b represents the maximum emission intensity appearing at an emission wavelength of 550 nm or more. While a attenuates from the initial value at the start of energization to a value of 1/5, a and b always satisfy the relationship of the equation (1).
General formula (1):
(R 1 ) m- A- ( L) k- B- (R 2 ) n
In the general formula (1), A and B represent an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle which may have a substituent. R 1 and R 2 represent an alkyl group having an number of carbon atoms in the range of 3 to 20. L represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group or an alkylene group which may have a simple bond or a substituent. m and n each represent an integer of 1 or more. k represents an integer of 1 or more.
First, the mechanism by which the aromatic compound according to the present invention does not easily generate light emission derived from an electromer will be described.

≪エレクトロマーの発現≫
有機電子デバイスにおける、電界駆動により発現する長波エレクトロマーについて説明する。
有機電子デバイスに用いられる化合物は、キャリアホッピング伝導をさせるために芳香環を含む構造を有しており、光励起させると、それぞれの分子固有で通常500nm以下の波長に最大強度を有する蛍光スペクトル又はリン光スペクトルが観察される。
例えば図1に示す、比較化合物1を光励起させて測定したスペクトル(溶媒:2−メチルTHF、285nm励起)では、室温では蛍光が、低温ではリン光がそれぞれ500nm以下に最大発光強度を持つ形で観測される。
≪Expression of Electromer≫
A long-wave electromer expressed by electric field driving in an organic electronic device will be described.
Compounds used in organic electronic devices have a structure containing an aromatic ring for carrier hopping conduction, and when photoexcited, they have a fluorescence spectrum or phosphorus that is unique to each molecule and usually has a maximum intensity at a wavelength of 500 nm or less. The optical spectrum is observed.
For example, in the spectrum (solvent: 2-methylTHF, 285 nm excited) measured by photoexciting Comparative Compound 1 shown in FIG. 1, fluorescence has a maximum emission intensity of 500 nm or less at room temperature and phosphorescence has a maximum emission intensity of 500 nm or less at low temperature. Observed.

一方で、電荷移動性薄膜として電界駆動すると、蛍光及びリン光が観測されるのに加え、通電経時に伴い光励起の発光スペクトルでは観測されなかった長波の発光が観測される化合物も存在する。
この通電経時による長波の発光は、Appl.Phys.Lett.,76,2355,2000で報告されているように、電子を有する分子とホールを有する分子が近接することにより形成するエレクトロマー由来だと推測されている。
On the other hand, when an electric field is driven as a charge-moving thin film, in addition to observing fluorescence and phosphorescence, there are some compounds in which long-wave luminescence that is not observed in the emission spectrum of photoexcitation is observed with the lapse of energization.
The emission of long waves over time of energization is described in Apple. Phys. Lett. , 76, 2355, 2000, it is speculated that it is derived from an electromer formed by the proximity of a molecule having an electron and a molecule having a hole.

上記文献においては、エレクトロマー発光は600nm以上に観測されているが(比較化合物1:図2参照)、本発明者らが検討した結果、550nm以上においてエレクトロマー由来と考えられる発光が観測されることが明らかとなった。また、特に化合物のHOMOとLUMOの分子軌道が空間的に分離しうる有機分子は、前述のとおり、青色リン光発光材料に適した化合物ではあるが、薄膜にした際、通電により膜質が変動し、図3に示すようにある分子のHOMOとLUMOが重なった形のπ−πスタックを形成しやすく、エレクトロマーを生じやすいことが分かった。 In the above document, electromer emission is observed at 600 nm or more (Comparative Compound 1: see FIG. 2), but as a result of examination by the present inventors, emission that is considered to be derived from electromer is observed at 550 nm or more. It became clear. Further, in particular, the organic molecule in which the molecular orbitals of the compound HOMO and LUMO can be spatially separated is a compound suitable for a blue phosphorescent material as described above, but when it is made into a thin film, the film quality changes due to energization. It was found that, as shown in FIG. 3, it is easy to form a π-π stack in which HOMO and LUMO of a certain molecule overlap, and it is easy to generate an electromer.

結果、HOMOとLUMOの分子軌道が空間的に分離しうる有機化合物を電荷移動性薄膜用材料として用いた有機電子デバイスにおいては、通電経時で形成されたエレクトロマーが、キャリアのクエンチャーとなってしまい、発光性分子に渡すべきキャリアが減り、寿命劣化の一つの大きな要因となっていることがわかった。そこで、電界駆動による長波エレクトロマーの発現が抑制された安定な電荷移動性薄膜用材料の開発を行った。 As a result, in an organic electronic device using an organic compound in which the molecular orbitals of HOMO and LUMO can be spatially separated as a material for a charge-transfer thin film, the electromers formed over time of energization serve as a carrier quencher. Therefore, it was found that the number of carriers to be passed to the luminescent molecule is reduced, which is one of the major factors for the deterioration of the life. Therefore, we have developed a stable charge-transfer thin film material in which the expression of long-wave electromers by electric field drive is suppressed.

≪アルキル基同士の相互作用≫
本発明においては、π−π相互作用に加えて、アルキル基同士の相互作用等を用いた電界駆動での長波エレクトロマーの抑制の技術思想について述べる。
長波のエレクトロマーは、電界駆動によるHOMO−LUMOのπ−πスタックにより生成するため、図4に示すような、HOMO−HOMO同士、LUMO−LUMO同士がπ−πスタックした構造を膜中で発現させることが理想的である。しかしながら、とりわけ高Tの青色発光材料に対応した周辺材料においては、低T化の抑制とキャリアの受け渡しを円滑にするために、HOMO、LUMOが電荷分離している構造を有していることが好ましい。
≪Interaction between alkyl groups≫
In the present invention, in addition to the π-π interaction, the technical idea of suppressing a long-wave electromer by electric field driving using an interaction between alkyl groups and the like will be described.
Since the long-wave electromer is generated by the π-π stack of HOMO-LUMO driven by an electric field, a structure in which HOMO-HOMOs and LUMO-LUMOs are π-π stacked as shown in FIG. 4 is expressed in the membrane. Ideally. However, especially in the peripheral material corresponding to the high T 1 blue light emitting material, HOMO and LUMO have a structure in which charges are separated in order to suppress the reduction of T 1 and facilitate the transfer of carriers. Is preferable.

その結果HOMO−HOMO同士、LUMO−LUMO同士の静電反発が大きくなり、図3に示すようなHOMOとLUMOが交互に近接する構造をとりやすいものと考えられる。すなわち、高Tの青色発光材料に対応した周辺材料においては、低T化せずに、本来では存在確率が低いHOMO−HOMO同士、LUMO−LUMO同士を近接させる技術が必要である。
本発明の技術思想は、共役系の拡大によるT低下を生じさせない、アルキル基の微弱な分子間力のアシストを借りて、図6に示すような理想的な分子の存在状態を実現するための分子設計である。
As a result, the electrostatic repulsion between HOMO-HOMO and LUMO-LUMO becomes large, and it is considered that it is easy to adopt a structure in which HOMO and LUMO are alternately close to each other as shown in FIG. That is, in the peripheral material corresponding to the blue light emitting material having a high T 1 , a technique is required in which the HOMO-HOMOs and the LUMO-LUMOs, which originally have a low existence probability, are brought close to each other without reducing the T 1 .
The technical idea of the present invention is to realize an ideal molecular existence state as shown in FIG. 6 with the assistance of a weak intermolecular force of an alkyl group that does not cause a decrease in T 1 due to expansion of a conjugated system. Molecular design of.

≪HOMO、LUMOの電荷分離≫
本発明において、「最高被占軌道(HOMO)と最低空軌道(LUMO)が空間的に分離する」とは、分子内でHOMOが局在化する部位とLUMOが局在化する部位が異なっていることを意味し、本発明に係る芳香族化合物の基底状態の安定化構造において、HOMOの電子密度分布の重心とLUMOの電子分布密度の重心が異なる部位にあることを意味する(図5参照)。すなわち、本発明に係る芳香族化合物は、HOMOとLUMOの電子密度分布の重なりが小さい、若しくは重なりが無い。
電子密度分布は、後述の分子軌道計算用ソフトウェアを用いることで算出できる。
≪Charge separation of HOMO and LUMO≫
In the present invention, "the highest occupied orbital (HOMO) and the lowest empty orbital (LUMO) are spatially separated" means that the site where HOMO is localized and the site where LUMO is localized in the molecule are different. In the ground state stabilized structure of the aromatic compound according to the present invention, it means that the center of gravity of the electron density distribution of HOMO and the center of gravity of the electron distribution density of LUMO are at different sites (see FIG. 5). ). That is, in the aromatic compound according to the present invention, the electron density distributions of HOMO and LUMO have little overlap or no overlap.
The electron density distribution can be calculated by using the molecular orbital calculation software described later.

[電子密度分布]
HOMO及びLUMOの分布状態および重心については、分子軌道計算により得られる構造最適化した際の電子密度分布から求めることができる。
本発明における電荷移動性薄膜用材料の分子軌道計算による構造最適化及び電子密度分布の算出は、計算手法として、汎関数としてB3LYP、基底関数として6−31G(d)を用いた分子軌道計算用ソフトウェアを用いて算出することができ、ソフトウェアに特に限定はなく、いずれを用いても同様に求めることができる。
本発明においては、分子軌道計算用ソフトウェアとして、米国Gaussian社製のGaussian09(Revision C.01,M.J.Frisch,et al,Gaussian,Inc.,2010.)を用いた。
また、HOMOとLUMOの電子密度分離状態については、前述の汎関数としてB3LYP、基底関数として6−31G(d)を用いた構造最適化計算から、さらに時間依存密度汎関数法(Time−Dependent DFT)による励起状態計算を実施してS、Tのエネルギー(それぞれE(S)、E(T))を求めてΔEst=E(S)−E(T)として算出することも可能である。算出されたΔEstが小さいほど、HOMOとLUMOがより分離していることを示す。本発明において好ましくは、前述と同様の計算手法を用いて算出されたΔEstが1.0eV以下であり、さらに好ましくは0.5eV以下である。
[Electronic density distribution]
The distribution state and center of gravity of HOMO and LUMO can be obtained from the electron density distribution when the structure is optimized obtained by molecular orbital calculation.
The structural optimization and the calculation of the electron density distribution by the molecular orbital calculation of the material for the charge transfer thin film in the present invention are for the molecular orbital calculation using B3LYP as a functional and 6-31G (d) as a basis function as the calculation method. It can be calculated using software, and the software is not particularly limited, and any of them can be used in the same manner.
In the present invention, Gaussian 09 (Revision C.01, MJ Frisch, et al, Gaussian, Inc., 2010.) manufactured by Gaussian, USA was used as the software for calculating the molecular orbital.
Regarding the electron density separation state of HOMO and LUMO, from the structure optimization calculation using B3LYP as the functional and 6-31G (d) as the basis function, the time-dependent density functional theory (Time-Dependent DFT) is further obtained. ) Is performed to obtain the energies of S 1 and T 1 (E (S 1 ) and E (T 1 ), respectively) and calculated as ΔEst = E (S 1 ) -E (T 1 ). Is also possible. The smaller the calculated ΔEst, the more separated HOMO and LUMO are. In the present invention, ΔEst calculated by using the same calculation method as described above is preferably 1.0 eV or less, and more preferably 0.5 eV or less.

≪芳香族化合物≫
本発明に係る芳香族化合物は、分子軌道計算により描像される前記芳香族化合物上に分布する最高被占軌道及び最低空軌道が空間的に分離する少なくとも2つ以上の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有し、さらに炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有する。本発明に係る芳香族化合物が有する環構造及び置換基について、具体例を挙げて説明する。
≪Aromatic compounds≫
The aromatic compound according to the present invention has at least two or more aromatic hydrocarbon rings or fragrances in which the highest occupied orbitals and the lowest empty orbitals distributed on the aromatic compound imaged by molecular orbital calculation are spatially separated. It has a group heterocycle and further has an alkyl group having an number of carbon atoms in the range of 3 to 20. The ring structure and substituents of the aromatic compound according to the present invention will be described with reference to specific examples.

<芳香族炭化水素環>
本発明に係る芳香族化合物が有する芳香族炭化水素環とは、芳香族炭化水素環基を有する構造であればよく、例えば、フェニル基(アリール基ともいう。)、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等を有する構造が好ましい。
<Aromatic hydrocarbon ring>
The aromatic hydrocarbon ring contained in the aromatic compound according to the present invention may have a structure having an aromatic hydrocarbon ring group, for example, a phenyl group (also referred to as an aryl group), a p-chlorophenyl group, or a mesityl group. , A structure having a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, an anthryl group, an azulenyl group, an acenaphthenyl group, a fluorenyl group, a phenanthryl group, an indenyl group, a pyrenyl group, a biphenylyl group and the like is preferable.

<芳香族複素環>
本発明に係る芳香族化合物が有する芳香族複素環とは、芳香族複素環基を有する構造であればよく、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基(例えば、1,2,4−トリアゾール−1−イル基、1,2,3−トリアゾール−1−イル基等)、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等を用いることができる。
<Aromatic heterocycle>
The aromatic heterocycle contained in the aromatic compound according to the present invention may have a structure having an aromatic heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a frill group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a benzoimidazolyl group, a pyrazolyl group. Group, pyrazinyl group, triazolyl group (for example, 1,2,4-triazole-1-yl group, 1,2,3-triazole-1-yl group, etc.), oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, Isooxazolyl group, isothiazolyl group, frazayl group, thienyl group, quinolyl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, indolyl group, carbazolyl group, carborinyl group, diazacarbazolyl group (of the carborinyl group). One of the carbon atoms constituting the carboline ring is replaced with a nitrogen atom), a quinoxalinyl group, a pyridadinyl group, a triazineyl group, a quinazolinyl group, a phthalazinyl group and the like can be used.

<アルキル基>
本発明における炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基とは、例えば、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等を挙げることができる。
<Alkyl group>
Examples of the alkyl group having a carbon number in the range of 3 to 20 in the present invention include a propyl group, an isopropyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group and a pentadecyl group. Can be done.

<一般式(1)で表される構造を有する芳香族化合物>
本発明においては、前記芳香族化合物が、下記一般式(1)に示す構造を有する化合物であることがキャリア輸送に好適な相互作用形態をとりやすいため好ましい。
一般式(1):
(R−A−(L)−B−(R
上記一般式(1)において、A及びBは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。R及びRは、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を表す。Lは、単なる結合手、又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基若しくはアルキレン基である。m及びnは、それぞれ0又は1以上の整数を表し、m及びnがともに0になることはない。kは1以上の整数を表す。
芳香族炭化水素環、芳香族複素環及びアルキル基としては、前述のものを用いることができる。
また、本発明で用いられるアルキレン基としては、例えば、プロピレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基等を挙げることができる。
<Aromatic compound having a structure represented by the general formula (1)>
In the present invention, it is preferable that the aromatic compound has a structure represented by the following general formula (1) because it easily takes an interaction form suitable for carrier transport.
General formula (1):
(R 1 ) m- A- (L) k- B- (R 2 ) n
In the above general formula (1), A and B represent an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle which may have a substituent. R 1 and R 2 represent an alkyl group having an number of carbon atoms in the range of 3 to 20. L is a simple bond or an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group or an alkylene group which may have a substituent. m and n represent integers of 0 or 1 or more, respectively, and both m and n are never 0. k represents an integer of 1 or more.
As the aromatic hydrocarbon ring, the aromatic heterocycle and the alkyl group, the above-mentioned ones can be used.
In addition, examples of the alkylene group used in the present invention include a propylene group, a pentylene group, a hexylene group, an octylene group, a dodecylene group, a tridecylene group, a tetradecylene group, a pentadecylene group and the like.

一般式(1)中のアルキル基の好ましい炭素数については、炭素数が3〜20の範囲内とすることで、アルキル基同士の相互作用、例えば疎水性相互作用が得られると考えられる。炭素数3以上とすることで、アルキル基同士の相互作用のアシストの効果が得られやすく、炭素数20以下とすることで、キャリアホッピング伝導に必要なπ−πスタックの形成との相乗効果でHOMO同士、LUMO同士が近接する集合構造が取りやすくなるものと考えられる。 Regarding the preferable carbon number of the alkyl group in the general formula (1), it is considered that the interaction between the alkyl groups, for example, the hydrophobic interaction can be obtained by setting the carbon number in the range of 3 to 20. When the number of carbon atoms is 3 or more, the effect of assisting the interaction between alkyl groups can be easily obtained, and when the number of carbon atoms is 20 or less, the synergistic effect with the formation of the π-π stack required for carrier hopping conduction. It is considered that it becomes easy to take a collective structure in which HOMOs and LUMOs are close to each other.

<エレクトロマー由来の発光等の観測>
エレクトロマー由来の発光は、電流励起発光スペクトルにおいて蛍光やリン光より長波長側(通常550nm以上の)領域に極大発光波長を有する発光体(発光ピーク)として観測される。
<Observation of luminescence derived from electromer>
The emission derived from the electromer is observed as a light emitter (emission peak) having a maximum emission wavelength in a region longer wavelength side (usually 550 nm or more) than fluorescence or phosphorescence in the current excitation emission spectrum.

(電流励起発光スペクトル測定用のサンプル)
電流励起発光スペクトルの測定は、電荷移動性薄膜用材料のみからなる薄膜を陽極と陰極で挟持したサンプルを用いて行われる。より具体的には、例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)などの透明電極を設けた透明支持基板上に、電荷移動性薄膜用材料のみからなる単一層を形成し、その上にアルミニウムなどを蒸着して陰極を形成し、必要があればその他の層を形成したものをサンプルとしてもよい。
(Sample for current excitation emission spectrum measurement)
The measurement of the current excitation emission spectrum is performed using a sample in which a thin film made of only a material for a charge transfer thin film is sandwiched between an anode and a cathode. More specifically, for example, a single layer made of only a material for a charge transfer thin film is formed on a transparent support substrate provided with a transparent electrode such as ITO (indium tin oxide), and aluminum or the like is vapor-deposited on the single layer. A cathode is formed by forming a cathode, and if necessary, another layer may be formed as a sample.

電荷移動性薄膜用材料を含有する単一層の形成方法は蒸着法であっても、スピンコート等の塗布法であってもよい。当該単一層の層厚は、発光が十分に得られる層厚であれば特に限定は無いが、200nm以下とすることで測定時の駆動電圧が大きくなりすぎず、50nm以上とすることでリーク電流が流れにくくなるため、50〜200nmであることが好ましい。
また、測定サンプルに電流を印加する際の電圧が非常に大きくなる場合(単一層に電荷キャリアが注入されにくい状態)には、陽極と該単一層又は陰極と該単一層の間に、該単一層へのキャリア注入効率を高め、電圧を低下させるような中間層を適宜設けてもよい。中間層の材料としては、電荷移動性薄膜用材料を含有する層からの発光を阻害せず、キャリアを輸送する材料であれば特に限定は無いが、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられる正孔輸送材料や電子輸送材料等が好ましく用いられる。
The method for forming the single layer containing the material for the charge transfer thin film may be a vapor deposition method or a coating method such as spin coating. The layer thickness of the single layer is not particularly limited as long as it is a layer thickness that can sufficiently obtain light emission, but if it is 200 nm or less, the driving voltage at the time of measurement does not become too large, and if it is 50 nm or more, the leakage current Is preferably 50 to 200 nm because it makes it difficult for the current to flow.
In addition, when the voltage when applying a current to the measurement sample becomes very large (a state in which charge carriers are difficult to be injected into a single layer), the single layer is located between the anode and the single layer or between the cathode and the single layer. An intermediate layer may be appropriately provided so as to increase the carrier injection efficiency into the layer and reduce the voltage. The material of the intermediate layer is not particularly limited as long as it is a material that does not inhibit light emission from the layer containing the material for a charge-transferring thin film and transports carriers. For example, holes used in an organic electroluminescence device. Transport materials, electron transport materials, and the like are preferably used.

(電流励起発光スペクトルの測定方法)
電流励起発光スペクトルは、得られた測定サンプルを一定電流で駆動したときの、サンプルから得られる発光スペクトルを電流励起発光スペクトルとして測定する。駆動電流値は、電荷移動性薄膜用材料を含有する層からの発光が十分に得られる電流値であれば特に限定は無いが、1〜50mA/cmであることが好ましい。
得られた電流励起発光スペクトルにおいて、500nm以下で観測される最大発光強度の値をaとし、aが、駆動初期時の値(初期a)から5分の1に減衰するまで定電流駆動しつつ、電流励起スペクトルを経時で測定する。
得られた駆動初期から測定終了までの電流励起スペクトルにおいて、経時でのaと、550nm以上で観測される最大発光強度bとの比、<a/b>を算出する。
(Measurement method of current excitation emission spectrum)
For the current excitation emission spectrum, the emission spectrum obtained from the sample when the obtained measurement sample is driven with a constant current is measured as the current excitation emission spectrum. The drive current value is not particularly limited as long as the current value is such that light emission from the layer containing the material for the charge transfer thin film can be sufficiently obtained, but it is preferably 1 to 50 mA / cm 2 .
In the obtained current excitation emission spectrum, the value of the maximum emission intensity observed at 500 nm or less is defined as a, and the constant current drive is performed until a is attenuated to 1/5 from the value at the initial stage of drive (initial a). , Measure the current excitation spectrum over time.
In the obtained current excitation spectrum from the initial stage of driving to the end of measurement, the ratio <a / b> of a with time and the maximum emission intensity b observed at 550 nm or more is calculated.

(a及びbの構成要件)
ここで、参考論文から、bは、HOMOとLUMOが近接した、エレクトロマー由来の発光であり、aは、その他の相互作用形態、例えば、ランダムに配置している状態や、HOMO同士、LUMO同士が近接した状態での最大発光強度である。
つまり、aよりもbが強いと、膜中での化合物の会合状態としては、HOMOとLUMOが近接したエレクトロマーが、その他の相互作用形態を示す状態(ランダムに配置している状態や、HOMO同士、LUMO同士が近接した状態)よりも多くなると推定される。すなわち、その他の相互作用形態を示す状態(ランダムに配置している状態や、HOMO同士、LUMO同士が近接した状態)での発光が、エレクトロマー由来の発光よりも強いことで、エレクトロマーにクエンチされることなく、キャリア移動することができるものと考えられる。本発明においては、有機電子デバイスに用いる有機材料のエレクトロマーの生成を抑制することによって、キャリア消滅による駆動劣化を抑え、素子寿命が向上することを見いだした。
(Constituent requirements for a and b)
Here, from the reference paper, b is an electromer-derived luminescence in which HOMO and LUMO are close to each other, and a is other interaction forms such as randomly arranged states, HOMOs, and LUMOs. Is the maximum emission intensity when is in close proximity.
That is, when b is stronger than a, as the association state of the compounds in the membrane, the electromers in which HOMO and LUMO are close to each other show other interaction forms (a state in which they are randomly arranged or a state in which HOMO is arranged). It is estimated that the number will be larger than that of (the state where the LUMOs are close to each other). That is, the emission in a state showing other interaction forms (a state in which they are randomly arranged, or a state in which HOMOs and LUMOs are close to each other) is stronger than the emission derived from the electromer, so that the electromer is quenched. It is considered that the carrier can be moved without being done. In the present invention, it has been found that by suppressing the formation of an electromer of an organic material used for an organic electronic device, drive deterioration due to carrier disappearance is suppressed and the device life is improved.

<合成例>
以下に、本発明に係る化合物の合成例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。表1中のHS−3の合成方法を例にとって以下に説明する。
《例示化合物HS−3の合成》
例示化合物HS−3は以下のスキームに従って合成できる。
<Synthesis example>
Examples of synthesis of the compound according to the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. The method for synthesizing HS-3 in Table 1 will be described below as an example.
<< Synthesis of Exemplified Compound HS-3 >>
Exemplified compound HS-3 can be synthesized according to the following scheme.

Figure 0006805133
Figure 0006805133

(中間体1の合成)
窒素気流下、フラスコに10.0g(59.8mmol)のカルバゾール、塩化アルミニウム8.77g(65.8mmol)、ヘキサン酸塩化物8.85g(65.8mmol)をいれ、ジクロロエタン220mLを加え、1時間室温で撹拌した。水に反応液を加え、ジクロロメタンで抽出し、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、中間体1を3.4g(収率21%)得た。構造は核磁気共鳴スペクトルで確認した。
(Synthesis of Intermediate 1)
Under a nitrogen stream, add 10.0 g (59.8 mmol) of carbazole, 8.77 g (65.8 mmol) of aluminum chloride, and 8.85 g (65.8 mmol) of hexane acid chloride to a flask, add 220 mL of dichloroethane, and add for 1 hour. Stirred at room temperature. The reaction mixture was added to water, extracted with dichloromethane, and concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 3.4 g (yield 21%) of Intermediate 1. The structure was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum.

(中間体2の合成)
窒素気流下、フラスコに1.5g(5.66mmol)の中間体1、ヒドラジン1水和物850mg(17.0mmol)、水酸化カリウム952mg(17.0mmol)をいれ、エチレングリコール28.2mLを加え、110℃で2時間撹拌し、続いて180℃で14時間撹拌した。反応液を室温に戻した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、中間体2を1.28g(収率90%)得た。構造は核磁気共鳴スペクトルで確認した。
(Synthesis of Intermediate 2)
Under a nitrogen stream, add 1.5 g (5.66 mmol) of intermediate 1, 850 mg (17.0 mmol) of hydrazine monohydrate, and 952 mg (17.0 mmol) of potassium hydroxide to the flask, and add 28.2 mL of ethylene glycol. , 110 ° C. for 2 hours, followed by 180 ° C. for 14 hours. After returning the reaction solution to room temperature, water was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, and concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 1.28 g (yield 90%) of Intermediate 2. The structure was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum.

(HS−3の合成)
窒素気流下、フラスコに1.2g(4.77mmol)の中間体2、1.79g(4.34mmol)の中間体3、リン酸カリウム3.32g(15.6mmol)、酸化銅(I)0.19g(1.30mmol)、ジピバロイルメタン0.48g(2.60mmol)をいれ、ジメチルスルホシキド29mLを加え、7時間160℃で加熱した。反応液を室温まで放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーおよびGPCで精製し、例示化合物HS−3を1.15g(収率45%)得た。構造は核磁気共鳴スペクトルで確認した。なお、実施例にはこの化合物をさらに昇華精製したものを用いた。
(Synthesis of HS-3)
1.2 g (4.77 mmol) of intermediate 2, 1.79 g (4.34 mmol) of intermediate 3, potassium phosphate 3.32 g (15.6 mmol), copper (I) 0 in a flask under a nitrogen stream. .19 g (1.30 mmol) and 0.48 g (2.60 mmol) of dipivaloyl methane were added, 29 mL of dimethylsulfosoxide was added, and the mixture was heated at 160 ° C. for 7 hours. The reaction mixture was allowed to cool to room temperature, water was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, and concentrated under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography and GPC to obtain 1.15 g (yield 45%) of Exemplified Compound HS-3. The structure was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum. In Examples, this compound was further sublimated and purified.

<分子動力学(MD)計算を用いた安定化エネルギーの検討>
本発明に係る芳香族化合物が、アルキル基の相互作用により図6に示すような好ましい二分子間構造を形成しやすいか、MD計算によって算出される安定化エネルギーから検討した。
本発明の電荷移動性薄膜用材料を含有する透明な薄膜は、全体としてはアモルファス若しくは結晶性の低い状態であると推測される。そのような薄膜中で、図4のような好ましい相互作用をした二分子間構造を形成するには、安定化エネルギーが小さい方が好ましいと考えられる。
<Examination of stabilized energy using molecular dynamics (MD) calculation>
Whether or not the aromatic compound according to the present invention easily forms a preferable bimolecular structure as shown in FIG. 6 by the interaction of alkyl groups was examined from the stabilization energy calculated by MD calculation.
It is presumed that the transparent thin film containing the material for the charge transfer thin film of the present invention is amorphous or has low crystallinity as a whole. In order to form a bimolecular structure having a preferable interaction as shown in FIG. 4 in such a thin film, it is considered that a smaller stabilizing energy is preferable.

二分子間構造の安定化エネルギーは、分子動力学(MD)計算ソフトを用いて算出することができる。代表的なソフトとしては、例えばAccelrys社のMaterials Studioなどがある。
薄膜中には非常に多くの分子が存在するが、それら全分子を用いて安定化エネルギーを算出することは難しいため、本発明においては、モデル的に2つの分子を使った二分子構造の安定化エネルギーを用いて検討した。
The stabilization energy of the bimolecular structure can be calculated using molecular dynamics (MD) calculation software. As a typical software, for example, there is Material Studios Studio of Accelrys Ltd. and the like.
Although there are a large number of molecules in the thin film, it is difficult to calculate the stabilization energy using all of these molecules. Therefore, in the present invention, the stabilization of the bimolecular structure using two molecules as a model is performed. It was examined using chemical energy.

以下に、MD計算を使用した検討方法を説明する。
計算ソフトは、Materials Studio(accelrys社製)を用いた。
計算は、以下の(1)〜(5)の手順で行った。
(1)Materials Studioを用いて、1分子での構造最適化を行う。
(2)(1)で最適化された構造を持つ分子が2つ含まれるセルを作成する。さらにこれらのセルを複製する。複製する個数は100〜1000が好ましい。
(3)分子動力学(MD)計算を用いて緩和させる。
Forciteを用いて、温度298K、NPT:一定の条件で緩和させた。
(4)緩和後得られた複数のセルのうち、エネルギー的に最安定な2分子構造(以下最安定構造A)と、アルキル基同士が相互作用していると推測される2分子構造の中で最も安定な構造(以下最安定構造B)とを抽出する。
この時、アルキル基同士が相互作用しているか否かの判断については、図7に示すように、分子間のアルキル基の付け根の炭素原子同士と、アルキル基末端の炭素原子同士の距離が6Å以下であれば、相互作用していると本発明においては定義した。6Å以下までアルキル基同士が近接していれば、何らかの相互作用が働いていると考えられるためである。
(5)最安定構造Aと最安定構造Bとのエネルギーを比較し、そのエネルギー差が小さいほど、薄膜中で好ましい最安定構造Bが形成しやすいと考える。
The examination method using MD calculation will be described below.
As the calculation software, Material Studios (manufactured by Accelrys Ltd.) was used.
The calculation was performed in the following procedures (1) to (5).
(1) Structural optimization with one molecule is performed using Material Studios.
(2) Create a cell containing two molecules having the structure optimized in (1). In addition, duplicate these cells. The number of duplicates is preferably 100 to 1000.
(3) Relax using molecular dynamics (MD) calculations.
Using Forcite, the temperature was 298 K, NPT: relaxed under certain conditions.
(4) Among the plurality of cells obtained after relaxation, among the energetically most stable bimolecular structure (hereinafter referred to as the most stable structure A) and the bimolecular structure in which alkyl groups are presumed to interact with each other. The most stable structure (hereinafter referred to as the most stable structure B) is extracted.
At this time, as shown in FIG. 7, the distance between the carbon atoms at the base of the alkyl group between the molecules and the carbon atom at the end of the alkyl group is 6 Å for determining whether or not the alkyl groups are interacting with each other. The following are defined in the present invention as interacting. This is because if the alkyl groups are close to each other up to 6 Å or less, it is considered that some kind of interaction is working.
(5) Comparing the energies of the most stable structure A and the most stable structure B, it is considered that the smaller the energy difference is, the easier it is to form a preferable most stable structure B in the thin film.

表1に実施例と参考例で用いたHS−1、HS−2、HS−3及び比較化合物2の計算結果を示す。 Table 1 shows the calculation results of HS-1, HS-2, HS-3 and Comparative Compound 2 used in Examples and Reference Examples .

Figure 0006805133
Figure 0006805133

表1に示す通り、本発明に係る芳香族化合物及び参考例の化合物のHS−1〜HS−3においては、比較化合物2よりも、最安定構造AとBとの間のエネルギー差が小さく、エネルギー的にアルキル基同士が相互作用した最安定構造Bがより形成されやすいという計算結果が得られた。 As shown in Table 1, in HS-1 to HS-3 of the aromatic compound and the compound of the reference example according to the present invention, the energy difference between the most stable structures A and B is smaller than that of the comparative compound 2. A calculation result was obtained that the most stable structure B in which alkyl groups interacted energetically is more likely to be formed.

《有機エレクトロルミネッセンス素子の構成層》
本発明の電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜は、有機EL素子に好適に用いることができる。有機EL素子における代表的な素子構成としては、以下の構成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
(1)陽極/発光層/陰極
(2)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(3)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
(4)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(5)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(6)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(7)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/(電子阻止層/)発光層/(正孔阻止層/)電子輸送層/電子注入層/陰極
上記の中で(7)の構成が好ましく用いられるが、これに限定されるものではない。
<< Constituent layer of organic electroluminescence element >>
The material for a charge-transfer thin film and the charge-transfer thin film of the present invention can be suitably used for an organic EL device. Typical element configurations in the organic EL element include, but are not limited to, the following configurations.
(1) anode / light emitting layer / cathode (2) anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode (3) anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode (4) anode / hole transport layer / light emitting layer / electron Transport layer / cathode (5) anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode (6) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode ( 7) Anophode / hole injection layer / hole transport layer / (electron blocking layer /) light emitting layer / (hole blocking layer /) electron transport layer / electron injection layer / cathode Among the above, the configuration of (7) is preferable. It is used, but is not limited to this.

発光層は、単層又は複数層で構成されており、発光層が複数の場合は各発光層の間に非発光性の中間層を設けてもよい。
必要に応じて、発光層と陰極との間に正孔阻止層(正孔障壁層ともいう。)や電子注入層(陰極バッファー層ともいう。)を設けてもよく、また、発光層と陽極との間に電子阻止層(電子障壁層ともいう。)や正孔注入層(陽極バッファー層ともいう。)を設けてもよい。
The light emitting layer is composed of a single layer or a plurality of layers, and when there are a plurality of light emitting layers, a non-light emitting intermediate layer may be provided between the light emitting layers.
If necessary, a hole blocking layer (also referred to as a hole barrier layer) or an electron injection layer (also referred to as a cathode buffer layer) may be provided between the light emitting layer and the cathode, and the light emitting layer and the electrode may be provided. An electron blocking layer (also referred to as an electron barrier layer) or a hole injection layer (also referred to as an anode buffer layer) may be provided between the two.

電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層であり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。また、複数層で構成されていてもよい。
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層であり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。また、複数層で構成されていてもよい。
上記の代表的な素子構成において、陽極と陰極を除いた層を「有機層」とする。
The electron transport layer is a layer having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. Further, it may be composed of a plurality of layers.
The hole transport layer is a layer having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. Further, it may be composed of a plurality of layers.
In the above typical device configuration, the layer excluding the anode and the cathode is referred to as an “organic layer”.

(タンデム構造)
また、有機EL素子は、少なくとも1層の発光層を含む発光ユニットを複数積層した、いわゆるタンデム構造の素子であってもよい。
タンデム構造の代表的な素子構成としては、例えば以下の構成を挙げることができる。
陽極/第1発光ユニット/第2発光ユニット/第3発光ユニット/陰極
陽極/第1発光ユニット/中間層/第2発光ユニット/中間層/第3発光ユニット/陰極
ここで、上記第1発光ユニット、第2発光ユニット及び第3発光ユニットは全て同じであっても、異なっていてもよい。また、二つの発光ユニットが同じであり、残る一つが異なっていてもよい。
(Tandem structure)
Further, the organic EL element may be an element having a so-called tandem structure in which a plurality of light emitting units including at least one light emitting layer are laminated.
As a typical element configuration of the tandem structure, for example, the following configuration can be mentioned.
Anode / 1st light emitting unit / 2nd light emitting unit / 3rd light emitting unit / cathode Anode / 1st light emitting unit / intermediate layer / 2nd light emitting unit / intermediate layer / 3rd light emitting unit / cathode Here, the first light emitting unit , The second light emitting unit and the third light emitting unit may all be the same or different. Further, the two light emitting units may be the same, and the remaining one may be different.

また、第3発光ユニットはなくてもよく、一方で第3発光ユニットと電極の間にさらに発光ユニットや中間層を設けてもよい。
複数の発光ユニットは直接積層されていても、中間層を介して積層されていてもよく、中間層は、一般的に中間電極、中間導電層、電荷発生層、電子引抜層、接続層、中間絶縁層とも呼ばれ、陽極側の隣接層に電子を、陰極側の隣接層に正孔を供給する機能を持った層であれば、公知の材料及び構成を用いることができる。
Further, the third light emitting unit may not be provided, while a light emitting unit or an intermediate layer may be further provided between the third light emitting unit and the electrode.
A plurality of light emitting units may be directly laminated or may be laminated via an intermediate layer, and the intermediate layer is generally an intermediate electrode, an intermediate conductive layer, a charge generation layer, an electron extraction layer, a connection layer, or an intermediate layer. Known materials and configurations can be used as long as they are also called an insulating layer and have a function of supplying electrons to the adjacent layer on the anode side and holes to the adjacent layer on the cathode side.

中間層に用いられる材料としては、例えば、ITO(インジウム・スズ酸化物)、IZO(インジウム・亜鉛酸化物)、ZnO、TiN、ZrN、HfN、TiO、V、CuI、InN、GaN、CuAlO、CuGaO、SrCu、LaB、RuO、Al等の導電性無機化合物層や、Au/Bi等の2層膜や、SnO/Ag/SnO、ZnO/Ag/ZnO、Bi/Au/Bi、TiO/TiN/TiO、TiO/ZrN/TiO等の多層膜、またC60等のフラーレン類、オリゴチオフェン等の導電性有機物層、金属フタロシアニン類、無金属フタロシアニン類、金属ポルフィリン類、無金属ポルフィリン類等の導電性有機化合物層等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。The material used for the intermediate layer, for example, ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO 2, TiN, ZrN , HfN, TiO 2, V 2 O 5, CuI, InN, Conductive inorganic compound layers such as GaN, CuAlO 2 , CuGaO 2 , SrCu 2 O 2 , LaB 6 , RuO 2 , Al, bilayer films such as Au / Bi 2 O 3 , SnO 2 / Ag / SnO 2 , ZnO / Ag / ZnO, Bi 2 O 3 / Au / Bi 2 O 3, TiO 2 / TiN / TiO 2, TiO 2 / ZrN / TiO 2 or the like multilayer film, also fullerenes such as C 60, such as oligothiophene Examples thereof include a conductive organic compound layer, a conductive organic compound layer such as metallic phthalocyanines, metal-free phthalocyanines, metal porphyrins, and metal-free porphyrins, but the present invention is not limited thereto.

発光ユニット内の好ましい構成としては、例えば上記の代表的な素子構成で挙げた(1)〜(7)の構成から、陽極と陰極を除いたもの等が挙げられるが、これらに限定されない。
タンデム型有機EL素子の具体例としては、例えば、米国特許第6337492号明細書、米国特許第7420203号明細書、米国特許第7473923号明細書、米国特許第6872472号明細書、米国特許第6107734号明細書、米国特許第6337492号明細書、国際公開第2005/009087号、特開2006−228712号公報、特開2006−24791号公報、特開2006−49393号公報、特開2006−49394号公報、特開2006−49396号公報、特開2011−96679号公報、特開2005−340187号公報、特許第4711424号公報、特許第3496681号公報、特許第3884564号公報、特許第4213169号公報、特開2010−192719号公報、特開2009−076929号公報、特開2008−078414号公報、特開2007−059848号公報、特開2003−272860号公報、特開2003−045676号公報、国際公開第2005/094130号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
次に、有機層に含有される化合物を説明し、各層について説明する。
Preferred configurations in the light emitting unit include, but are not limited to, the configurations (1) to (7) mentioned in the above typical element configurations, excluding the anode and the cathode.
Specific examples of the tandem organic EL element include, for example, US Pat. No. 6,337,492, US Pat. No. 7,420,203, US Pat. No. 7,473,923, US Pat. No. 6,872,472, and US Pat. No. 6,107,734. Specification, US Pat. No. 6,337,492, International Publication No. 2005/09087, JP-A-2006-228712, JP-A-2006-24791, JP-A-2006-49393, JP-A-2006-49394. , Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-49396, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-96679, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-340187, Japanese Patent No. 4711424, Japanese Patent No. 3496681, Japanese Patent No. 3884564, Japanese Patent No. 4213169, Japanese Patent Publication No. Kai 2010-192719, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-0762929, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-0784414, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-059848, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-272860, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045676, International Publication No. Examples thereof include the element configuration and constituent materials described in 2005/094130 and the like, but the present invention is not limited thereto.
Next, the compounds contained in the organic layer will be described, and each layer will be described.

《発光層》
有機層は、本発明に係る芳香族化合物を含有していることが好ましく、発光層に含有されていることも好ましい。
また、有機層は、発光層を有し、電極又は隣接層から注入されてくる電子及び正孔が再結合し、励起子を経由して発光する場を提供する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても、発光層と隣接層との界面であってもよい。発光層は、本発明で規定する要件を満たしていれば、その構成に特に制限はない。
《Light emitting layer》
The organic layer preferably contains the aromatic compound according to the present invention, and is also preferably contained in the light emitting layer.
Further, the organic layer has a light emitting layer, and is a layer that provides a place where electrons and holes injected from an electrode or an adjacent layer are recombined and emit light via excitons. It may be in the layer of the light emitting layer or at the interface between the light emitting layer and the adjacent layer. The structure of the light emitting layer is not particularly limited as long as it satisfies the requirements specified in the present invention.

発光層の層厚の総和は、特に制限はないが、形成する層の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm〜5μmの範囲内に調整することが好ましく、より好ましくは2〜500nmの範囲内に調整され、更に好ましくは5〜200nmの範囲内に調整される。
また、本発明において個々の発光層の層厚としては、2nm〜1μmの範囲内に調整することが好ましく、より好ましくは2〜200nmの範囲内に調整され、更に好ましくは3〜150nmの範囲内に調整される。
本発明に係る発光層には、発光ドーパント(発光性ドーパント化合物、ドーパント化合物、単にドーパントともいう)と、ホスト化合物(マトリックス材料、ホスト化合物、単にホストともいう)とを含有することが好ましい。
The total thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but from the viewpoint of homogeneity of the formed layer, prevention of applying an unnecessary high voltage at the time of light emission, and improvement of the stability of the light emitting color with respect to the drive current. Therefore, it is preferably adjusted in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 to 500 nm, and further preferably in the range of 5 to 200 nm.
Further, in the present invention, the layer thickness of each light emitting layer is preferably adjusted within the range of 2 nm to 1 μm, more preferably adjusted within the range of 2 to 200 nm, and further preferably within the range of 3 to 150 nm. Is adjusted to.
The light emitting layer according to the present invention preferably contains a light emitting dopant (a luminescent dopant compound, a dopant compound, also simply referred to as a dopant) and a host compound (a matrix material, a host compound, also simply referred to as a host).

〈ホスト化合物〉
本発明に用いられるホスト化合物は、発光層において主に電荷の注入及び輸送を担う化合物であり、有機EL素子においてそれ自体の発光は実質的に観測されない。
好ましくは室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物であり、さらに好ましくはリン光量子収率が0.01未満の化合物である。また、発光層に含有される化合物の内で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。
また、ホスト化合物の励起状態エネルギーは、同一層内に含有される発光ドーパントの励起状態エネルギーよりも高いことが好ましい。
ホスト化合物は、単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。
<Host compound>
The host compound used in the present invention is a compound mainly responsible for injection and transport of electric charges in the light emitting layer, and its own light emission is not substantially observed in the organic EL device.
A compound having a phosphorescent quantum yield of less than 0.1 at room temperature (25 ° C.) is preferable, and a compound having a phosphorescent quantum yield of less than 0.01 is more preferable. Further, among the compounds contained in the light emitting layer, the mass ratio in the layer is preferably 20% or more.
Further, the excited state energy of the host compound is preferably higher than the excited state energy of the light emitting dopant contained in the same layer.
The host compound may be used alone or in combination of two or more. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of electric charges, and it is possible to improve the efficiency of the organic EL device.

本発明で用いることができるホスト化合物としては、特に制限はなく、従来有機EL素子で用いられる化合物を用いることができる。低分子化合物でも繰り返し単位を有する高分子化合物でもよく、また、ビニル基やエポキシ基のような反応性基を有する化合物でもよい。
公知のホスト化合物としては、正孔輸送能又は電子輸送能を有しつつ、かつ発光の長波長化を防ぎ、さらに、有機EL素子を高温駆動時や素子駆動中の発熱に対して安定して動作させる観点から、高いガラス転移温度(Tg)を有することが好ましい。好ましくはTgが90℃以上であり、より好ましくは120℃以上である。
ここで、ガラス転移点(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS K 7121−2012に準拠した方法により求められる値である。
The host compound that can be used in the present invention is not particularly limited, and compounds conventionally used in organic EL devices can be used. It may be a low molecular weight compound, a high molecular weight compound having a repeating unit, or a compound having a reactive group such as a vinyl group or an epoxy group.
As a known host compound, it has hole transporting ability or electron transporting ability, prevents the wavelength of light emission from being lengthened, and is stable against heat generation when the organic EL device is driven at a high temperature or during device driving. From the viewpoint of operation, it is preferable to have a high glass transition temperature (Tg). Tg is preferably 90 ° C. or higher, and more preferably 120 ° C. or higher.
Here, the glass transition point (Tg) is a value obtained by a method based on JIS K 7121-2012 using DSC (Differential Scanning Colorimetry: differential scanning calorimetry).

公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報、米国特許公開第2003/0175553号明細書、米国特許公開第2006/0280965号明細書、米国特許公開第2005/0112407号明細書、米国特許公開第2009/0017330号明細書、米国特許公開第2009/0030202号明細書、米国特許公開第2005/0238919号明細書、国際公開第2001/039234号、国際公開第2009/021126号、国際公開第2008/056746号、国際公開第2004/093207号、国際公開第2005/089025号、国際公開第2007/063796号、国際公開第2007/063754号、国際公開第2004/107822号、国際公開第2005/030900号、国際公開第2006/114966号、国際公開第2009/086028号、国際公開第2009/003898号、国際公開第2012/023947号、特開2008−074939号公報、特開2007−254297号公報、欧州特許第2034538号明細書等である。
Specific examples of known host compounds include, but are not limited to, the compounds described in the following documents.
JP 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357977, 2002-334786, 2002-8860, 2002-334787A, 2002-15871, 2002-334788, 2002-43056, 2002-334789, 2002-75645, 2002-338579, 2002. 2002-105445, 2002-343568, 2002-141173, 2002-352957, 2002-203683, 2002-363227, 2002-231453, 2003 No. 3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-260861, No. 2002-280183, No. 2002-299060, No. 2002- 302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, US Patent Publication No. 2003/0175553, US Patent Publication No. 2006/0280965, US Patent Publication 2005/0112407, US Patent Publication No. 2009/0017330, US Patent Publication No. 2009/0030202, US Patent Publication No. 2005/02389919, International Publication No. 2001/039234, International. Publication No. 2009/021126, International Publication No. 2008/056746, International Publication No. 2004/093207, International Publication No. 2005/089025, International Publication No. 2007/063796, International Publication No. 2007/0637554, International Publication No. 2004/107822, International Publication No. 2005/030900, International Publication No. 2006/114966, International Publication No. 2009/086028, International Publication No. 2009/003898, International Publication No. 2012/0293947, JP-A-2008-074939 No., JP-A-2007-254297, European Patent No. 2034538 and the like.

〈発光ドーパント〉
本発明で用いられる発光ドーパントとしては、蛍光発光性ドーパント(蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう。)と、リン光発光性ドーパント(リン光ドーパント、リン光性化合物ともいう。)が好ましく用いられる。本発明においては、少なくとも1層の発光層がリン光ドーパントを含有することが好ましい。
発光層中の発光ドーパントの濃度については、使用される特定のドーパント及びデバイスの必要条件に基づいて、任意に決定することができ、発光層の層厚方向に対し、均一な濃度で含有されていてもよく、また任意の濃度分布を有していてもよい。
<Light emitting dopant>
As the light emitting dopant used in the present invention, a fluorescent dopant (also referred to as a fluorescent dopant or a fluorescent compound) and a phosphorescent dopant (also referred to as a phosphorescent dopant or a phosphorescent compound) are preferably used. In the present invention, it is preferable that at least one light emitting layer contains a phosphorescent dopant.
The concentration of the light emitting dopant in the light emitting layer can be arbitrarily determined based on the specific dopant used and the requirements of the device, and is contained at a uniform concentration with respect to the layer thickness direction of the light emitting layer. It may have an arbitrary concentration distribution.

また、本発明に用いられる発光ドーパントは、複数種を併用して用いてもよく、構造の異なるドーパント同士の組み合わせや、蛍光発光性ドーパントとリン光発光性ドーパントとを組み合わせて用いてもよい。これにより、任意の発光色を得ることができる。
本発明の有機EL素子や本発明に用いられる化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」(日本色彩学会編、東京大学出版会、1985)の108頁の図5.16において、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタ(株)製)で測定した結果をCIE色度座標に当てはめたときの色で決定される。
Further, as the light emitting dopant used in the present invention, a plurality of types may be used in combination, a combination of dopants having different structures, or a combination of a fluorescent light emitting dopant and a phosphorescent light emitting dopant may be used. Thereby, an arbitrary emission color can be obtained.
The luminescent colors of the organic EL element of the present invention and the compound used in the present invention are spectrally radiated in FIG. It is determined by the color when the result measured by the luminometer CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) is applied to the CIE chromaticity coordinates.

本発明においては、1層又は複数層の発光層が、発光色の異なる複数の発光ドーパントを含有し、白色発光を示すことも好ましい。
白色を示す発光ドーパントの組み合わせについては特に限定はないが、例えば青と橙や、青と緑と赤の組み合わせ等が挙げられる。
本発明の有機EL素子における白色とは、特に限定はなく、橙色寄りの白色であっても青色寄りの白色であってもよいが、2度視野角正面輝度を前述の方法により測定した際に、1000cd/mでのCIE1931表色系における色度がx=0.39±0.09、y=0.38±0.08の領域内にあることが好ましい。
In the present invention, it is also preferable that the light emitting layer of one layer or a plurality of layers contains a plurality of light emitting dopants having different light emitting colors and exhibits white light emission.
The combination of luminescent dopants showing white color is not particularly limited, and examples thereof include a combination of blue and orange, a combination of blue and green and red, and the like.
The white color in the organic EL element of the present invention is not particularly limited and may be white color closer to orange or white color closer to blue, but when the 2 degree viewing angle front luminance is measured by the above method. , It is preferable that the chromaticity in the CIE 1931 color system at 1000 cd / m 2 is within the region of x = 0.39 ± 0.09 and y = 0.38 ± 0.08.

(リン光ドーパント)
本発明に係るリン光ドーパント(以下、「リン光発光性ドーパント」ともいう。)は、最低励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率(0.01以上)が達成されればよい。
(Phosphorescent dopant)
The phosphorescent dopant according to the present invention (hereinafter, also referred to as “phosphorescent light emitting dopant”) is a compound in which light emission from the lowest excited triple term is observed, and specifically, at room temperature (25 ° C.). It is a compound that emits phosphorescence and is defined as a compound having a phosphorescence quantum yield of 0.01 or more at 25 ° C., but a preferable phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.
The phosphorus photon yield can be measured by the method described on page 398 (1992 edition, Maruzen) of Spectroscopy II of the 4th edition Experimental Chemistry Course 7. The phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, but the phosphorescence dopant according to the present invention can achieve the above phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any of any solvents. Just do it.

リン光ドーパントの発光は原理としては2種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型である。もう一つはリン光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が起こりリン光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型である。いずれの場合においても、リン光ドーパントの励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。
本発明において使用できるリン光ドーパントとしては、有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。
There are two types of light emission of the phosphorescent dopant in principle. One is that carrier recombination occurs on the host compound to which the carrier is transported to generate an excited state of the host compound, and this energy is transferred to the phosphorescent dopant. It is an energy transfer type that obtains light emission from a phosphorescent dopant. The other is a carrier trap type in which the phosphorescent dopant serves as a carrier trap, carriers are recombined on the phosphorescent dopant, and light emission from the phosphorescent dopant is obtained. In either case, the excited state energy of the phosphorescent dopant is required to be lower than the excited state energy of the host compound.
As the phosphorescent dopant that can be used in the present invention, it can be appropriately selected from known ones used for the light emitting layer of the organic EL element.

本発明に使用できる公知のリン光ドーパントの具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
Nature,395,151(1998)、Appl.Phys.Lett.,78,1622(2001)、Adv.Mater.,19,739(2007)、Chem.Mater.,17,3532(2005)、Adv.Mater.,17,1059(2005)、国際公開第2009/100991号、国際公開第2008/101842号、国際公開第2003/040257号、米国特許公開第2006/835469号、米国特許公開第2006/0202194号明細書、米国特許公開第2007/0087321号明細書、米国特許公開第2005/0244673号明細書、Inorg.Chem.,40,1704(2001)、Chem.Mater.,16,2480(2004)、Adv.Mater.,16,2003(2004)、Angew.Chem.lnt.Ed.,2006,45,7800、Appl.Phys.Lett.,86,153505(2005)、Chem.Lett.,34,592(2005)、Chem.Commun.,2906(2005)、Inorg.Chem.,42,1248(2003)、国際公開第2009/050290号、国際公開第2002/015645号、国際公開第2009/000673号、米国特許公開第2002/0034656号明細書、米国特許第7332232号明細書、米国特許公開第2009/0108737号明細書、米国特許公開第2009/0039776号明細書、米国特許第6921915号明細書、米国特許第6687266号明細書、米国特許公開第2007/0190359号明細書、米国特許公開第2006/0008670号明細書、米国特許公開第2009/0165846号明細書、米国特許公開第2008/0015355号明細書、米国特許第7250226号明細書、米国特許第7396598号明細書、米国特許公開第2006/0263635号明細書、米国特許公開第2003/0138657号明細書、米国特許公開第2003/0152802号明細書、米国特許第7090928号明細書、Angew.Chem.lnt.Ed.,47,1(2008)、Chem.Mater.,18,5119(2006)、Inorg.Chem.,46,4308(2007)、Organometallics,23,3745(2004)、Appl.Phys.Lett.,74,1361(1999)、国際公開第2002/002714号、国際公開第2006/009024号、国際公開第2006/056418号、国際公開第2005/019373号、国際公開第2005/123873号、国際公開第2007/004380号、国際公開第2006/082742号、米国特許公開第2006/0251923号明細書、米国特許公開第2005/0260441号明細書、米国特許第7393599号明細書、米国特許第7534505号明細書、米国特許第7445855号明細書、米国特許公開第2007/0190359号明細書、米国特許公開第2008/0297033号明細書、米国特許第7338722号明細書、米国特許公開第2002/0134984号明細書、米国特許第7279704号明細書、米国特許公開第2006/098120号明細書、米国特許公開第2006/103874号明細書、国際公開第2005/076380号、国際公開第2010/032663号、国際公開第2008/140115号、国際公開第2007/052431号、国際公開第2011/134013号、国際公開第2011/157339号、国際公開第2010/086089号、国際公開第2009/113646号、国際公開第2012/020327号、国際公開第2011/051404号、国際公開第2011/004639号、国際公開第2011/073149号、米国特許公開第2012/228583号明細書、米国特許公開第2012/212126号明細書、特開2012−069737号公報、特開2012−195554号公報、特開2009−114086号公報、特開2003−81988号公報、特開2002−302671号公報、特開2002−363552号公報等である。
中でも、好ましいリン光ドーパントとしてはIrを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合及び金属−硫黄結合のうち、少なくとも一つの配位様式を含む錯体が好ましい。
Specific examples of known phosphorescent dopants that can be used in the present invention include compounds described in the following documents.
Nature, 395, 151 (1998), Apple. Phys. Lett. , 78, 1622 (2001), Adv. Mater. , 19, 739 (2007), Chem. Mater. , 17, 3532 (2005), Adv. Mater. , 17, 1059 (2005), International Publication No. 2009/100991, International Publication No. 2008/101842, International Publication No. 2003/040257, US Patent Publication No. 2006/835469, US Patent Publication No. 2006/20202194. , US Patent Publication No. 2007/0087321, US Patent Publication No. 2005/0244673, Inorg. Chem. , 40, 1704 (2001), Chem. Mater. , 16, 2480 (2004), Adv. Mater. , 16, 2003 (2004), Angew. Chem. lnt. Ed. , 2006, 45, 7800, Apple. Phys. Lett. , 86, 153505 (2005), Chem. Lett. , 34,592 (2005), Chem. Commun. , 2906 (2005), Inorg. Chem. , 42, 1248 (2003), International Publication No. 2009/050290, International Publication No. 2002/015645, International Publication No. 2009/000673, US Patent Publication No. 2002/0034656, US Pat. No. 7,332232. , US Patent Publication No. 2009/01087737, US Patent Publication No. 2009/00397776, US Patent No. 6921915, US Patent No. 6687266, US Patent Publication No. 2007/0190359, US Patent Publication No. 2006/0008670, US Patent Publication No. 2009/015846, US Patent Publication No. 2008/0015355, US Patent No. 7250226, US Patent No. 7396598, US Publication No. 2006/0263635, US Patent Publication No. 2003/0138657, US Patent Publication No. 2003/0152802, US Patent No. 70090928, Angew. Chem. lnt. Ed. , 47, 1 (2008), Chem. Mater. , 18, 5119 (2006), Inorg. Chem. , 46,4308 (2007), Organometallics, 23,3745 (2004), Apple. Phys. Lett. , 74,1361 (1999), International Publication No. 2002/002714, International Publication No. 2006/090024, International Publication No. 2006/056418, International Publication No. 2005/019373, International Publication No. 2005/123873, International Publication No. 2007/004380, International Publication No. 2006/082742, US Patent Publication No. 2006/0251923, US Patent Publication No. 2005/0260441, US Patent No. 7393599, US Patent No. 75334505 Book, US Patent No. 7445855, US Patent Publication No. 2007/0190359, US Patent Publication No. 2008/0297033, US Patent No. 7338722, US Patent Publication No. 2002/0134984. , US Patent No. 7279704, US Patent Publication No. 2006/098120, US Patent Publication No. 2006/103874, International Publication No. 2005/076380, International Publication No. 2010/032663, International Publication No. 2008/140115, International Publication No. 2007/052431, International Publication No. 2011/134013, International Publication No. 2011/157339, International Publication No. 2010/086089, International Publication No. 2009/113646, International Publication No. 2012 / 020327, International Publication No. 2011/051404, International Publication No. 2011/004639, International Publication No. 2011/073149, US Patent Publication No. 2012/228583, US Patent Publication No. 2012/212126, Special Open 2012-069737, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-195554, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-114086, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-81988, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-302671 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-363552.
Among them, preferred phosphorescent dopants include organometallic complexes having Ir as the central metal. More preferably, a complex containing at least one coordination mode among a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond and a metal-sulfur bond is preferable.

(蛍光ドーパント)
本発明に用いられる蛍光ドーパント(以下、「蛍光発光性ドーパント」ともいう。)は、励起一重項からの発光が可能な化合物であり、励起一重項からの発光が観測される限り特に限定されない。
本発明に用いられる蛍光ドーパントとしては、例えば、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、ペリレン誘導体、フルオレン誘導体、アリールアセチレン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、アリールアミン誘導体、ホウ素錯体、クマリン誘導体、ピラン誘導体、シアニン誘導体、クロコニウム誘導体、スクアリウム誘導体、オキソベンツアントラセン誘導体、フルオレセイン誘導体、ローダミン誘導体、ピリリウム誘導体、ペリレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、又は希土類錯体系化合物等が挙げられる。
(Fluorescent dopant)
The fluorescent dopant used in the present invention (hereinafter, also referred to as “fluorescent luminescent dopant”) is a compound capable of emitting light from the excited singlet, and is not particularly limited as long as light emission from the excited singlet is observed.
Examples of the fluorescent dopant used in the present invention include anthracene derivatives, pyrene derivatives, chrysene derivatives, fluoranthene derivatives, perylene derivatives, fluorene derivatives, arylacetylene derivatives, styrylarylene derivatives, styrylamine derivatives, arylamine derivatives, boron complexes, and coumarins. Examples thereof include derivatives, pyran derivatives, cyanine derivatives, croconium derivatives, squalium derivatives, oxobenzanthracene derivatives, fluorescein derivatives, rhodamine derivatives, pyrylium derivatives, perylene derivatives, polythiophene derivatives, and rare earth complex compounds.

また、近年では遅延蛍光を利用した発光ドーパントも開発されており、これらを用いてもよい。
遅延蛍光を利用した発光ドーパントの具体例としては、例えば、国際公開第2011/156793号、特開2011−213643号公報、特開2010−93181号公報等に記載の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
Further, in recent years, light emitting dopants using delayed fluorescence have also been developed, and these may be used.
Specific examples of the light emitting dopant using delayed fluorescence include the compounds described in International Publication No. 2011/156793, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-213643, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-93181, and the like. Is not limited to these.

《電子輸送層》
本発明において電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよい。
本発明に用いられる電子輸送層の総層厚については特に制限はないが、通常は2nm〜5μmの範囲内であり、より好ましくは2〜500nmの範囲内であり、さらに好ましくは5〜200nmの範囲内である。
また、有機EL素子においては発光層で生じた光を電極から取り出す際、発光層から直接取り出される光と、光を取り出す電極と対極に位置する電極によって反射されてから取り出される光とが干渉を起こすことが知られている。光が陰極で反射される場合は、電子輸送層の層厚を数nm〜数μmの間で適宜調整することにより、この干渉効果を効率的に利用することが可能である。
《Electron transport layer》
In the present invention, the electron transport layer may be made of a material having a function of transporting electrons and may have a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer.
The total thickness of the electron transport layer used in the present invention is not particularly limited, but is usually in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 to 500 nm, and further preferably in the range of 5 to 200 nm. It is within the range.
Further, in the organic EL element, when the light generated in the light emitting layer is taken out from the electrode, the light taken out directly from the light emitting layer and the light taken out after being reflected by the electrode located at the opposite electrode to the electrode that takes out the light interfere with each other. It is known to wake up. When light is reflected by the cathode, this interference effect can be efficiently utilized by appropriately adjusting the layer thickness of the electron transport layer between several nm and several μm.

一方で、電子輸送層の層厚を厚くすると電圧が上昇しやすくなるため、特に層厚が厚い場合においては、電子輸送層の電子移動度は1×10−5cm/Vs以上であることが好ましい。
電子輸送層に用いられる材料(以下、電子輸送材料という。)としては、電子の注入性又は輸送性、正孔の障壁性のいずれかを有していればよく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
On the other hand, if the layer thickness of the electron transport layer is increased, the voltage tends to increase. Therefore, especially when the layer thickness is thick, the electron mobility of the electron transport layer should be 1 × 10-5 cm 2 / Vs or more. Is preferable.
The material used for the electron transport layer (hereinafter referred to as an electron transport material) may have any of electron injection property, transport property, and hole barrier property, and is among conventionally known compounds. Any one can be selected and used.

例えば、含窒素芳香族複素環誘導体(カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体(カルバゾール環を構成する炭素原子の一つ以上が窒素原子に置換されたもの)、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリダジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導体、アザトリフェニレン誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体等)、ジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、シロール誘導体、芳香族炭化水素環誘導体(ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、トリフェニレン等)等が挙げられる。 For example, nitrogen-containing aromatic heterocyclic derivatives (carbazole derivatives, azacarbazole derivatives (one or more of the carbon atoms constituting the carbazole ring substituted with nitrogen atoms), pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, pyridazine derivatives, Triazine derivative, quinoline derivative, quinoxalin derivative, phenanthroline derivative, azatriphenylene derivative, oxazole derivative, thiazole derivative, oxadiazole derivative, thiadiazol derivative, triazole derivative, benzimidazole derivative, benzoxazole derivative, benzthiazole derivative, etc.), dibenzofuran derivative, Examples thereof include dibenzothiophene derivatives, silol derivatives, aromatic hydrocarbon ring derivatives (naphthalene derivatives, anthracene derivatives, triphenylene, etc.).

また、配位子にキノリノール骨格やジベンゾキノリノール骨格を有する金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。 Further, a metal complex having a quinolinol skeleton or a dibenzoquinolinol skeleton as a ligand, for example, tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-) Dibromo-8-quinolinol) aluminum, tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), etc., and metal complexes thereof. A metal complex in which the central metal is replaced with In, Mg, Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as an electron transport material.

その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にn型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。
また、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those whose terminals are substituted with an alkyl group, a sulfonic acid group, or the like can also be preferably used as an electron transport material. Further, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and an inorganic semiconductor such as n-type-Si or n-type-SiC is used like the hole injection layer and the hole transport layer. Can also be used as an electron transport material.
Further, it is also possible to use a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain.

本発明に用いられる電子輸送層においては、電子輸送層にドープ材をゲスト材料としてドープして、n性の高い(電子リッチ)電子輸送層を形成してもよい。ドープ材としては、金属錯体やハロゲン化金属など金属化合物等のn型ドーパントが挙げられる。このような構成の電子輸送層の具体例としては、例えば、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等の文献に記載されたものが挙げられる。 In the electron transport layer used in the present invention, the electron transport layer may be doped with a doping material as a guest material to form an electron transport layer having a high n property (electron rich). Examples of the doping material include n-type dopants such as metal compounds and metal compounds such as metal halides. Specific examples of the electron transport layer having such a structure include, for example, JP-A-4-2970776, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, JP-A-2001-102175, J. Mol. Apple. Phys. , 95, 5773 (2004) and the like.

有機EL素子に用いられる、公知の好ましい電子輸送材料の具体例としては、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
米国特許第6528187号明細書、米国特許第7230107号明細書、米国特許公開第2005/0025993号明細書、米国特許公開第2004/0036077号明細書、米国特許公開第2009/0115316号明細書、米国特許公開第2009/0101870号明細書、米国特許公開第2009/0179554号明細書、国際公開第2003/060956号、国際公開第2008/132085号、Appl.Phys.Lett.,75,4(1999)、Appl.Phys.Lett.,79,449(2001)、Appl.Phys.Lett.,81,162(2002)、Appl.Phys.Lett.,81,162(2002)、Appl.Phys.Lett.,79,156(2001)、米国特許第7964293号明細書、米国特許公開第2009/030202号明細書、国際公開第2004/080975号、国際公開第2004/063159号、国際公開第2005/085387号、国際公開第2006/067931号、国際公開第2007/086552号、国際公開第2008/114690号、国際公開第2009/069442号、国際公開第2009/066779号、国際公開第2009/054253号、国際公開第2011/086935号、国際公開第2010/150593号、国際公開第2010/047707号、EP2311826号、特開2010−251675号公報、特開2009−209133号公報、特開2009−124114号公報、特開2008−277810号公報、特開2006−156445号公報、特開2005−340122号公報、特開2003−45662号公報、特開2003−31367号公報、特開2003−282270号公報、国際公開第2012/115034号等である。
Specific examples of known and preferable electron transporting materials used in organic EL devices include, but are not limited to, the compounds described in the following documents.
U.S. Patent No. 6528187, U.S. Patent No. 7230107, U.S. Patent Publication No. 2005/0025993, U.S. Patent Publication No. 2004/0036077, U.S. Patent Publication No. 2009/0115316, U.S. Pat. Patent Publication No. 2009/0101870, US Patent Publication No. 2009/0179554, International Publication No. 2003/060956, International Publication No. 2008/132805, Appl. Phys. Lett. , 75, 4 (1999), Apple. Phys. Lett. , 79,449 (2001), Apple. Phys. Lett. , 81, 162 (2002), Apple. Phys. Lett. , 81, 162 (2002), Apple. Phys. Lett. , 79,156 (2001), U.S. Pat. No. 7,964,293, U.S. Patent Publication No. 2009/030202, International Publication No. 2004/080975, International Publication No. 2004/063159, International Publication No. 2005/085387. , International Publication No. 2006/067931, International Publication No. 2007/0865552, International Publication No. 2008/114690, International Publication No. 2009/0694242, International Publication No. 2009/0667779, International Publication No. 2009/054253, International Publication No. 2011/086935, International Publication No. 2010/150593, International Publication No. 2010/047707, EP23111826, JP-A-2010-251675, JP-A-2009-209133, JP-A-2009-124114, JP-A-2008-277810, JP-A-2006-156445, JP-A-2005-340122, JP-A-2003-45662, JP-A-2003-31367, JP-A-2003-282270, International Publication No. 2012/115034 and the like.

本発明におけるより好ましい電子輸送材料としては、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、トリアジン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体が挙げられる。
有機EL素子の電子輸送層に用いる化合物として好ましい具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
電子輸送材料は単独で用いてもよく、また複数種を併用して用いてもよい。
More preferable electron transporting materials in the present invention include pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, triazine derivatives, dibenzofuran derivatives, dibenzothiophene derivatives, carbazole derivatives, azacarbazole derivatives, and benzimidazole derivatives.
Specific examples of compounds used in the electron transport layer of the organic EL device are given below, but the present invention is not limited thereto.
The electron transport material may be used alone or in combination of two or more.

《正孔阻止層》
正孔阻止層とは、広い意味では電子輸送層の機能を有する層であり、好ましくは電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が小さい材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、前述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に用いられる正孔阻止層として用いることができる。
有機EL素子に設ける正孔阻止層は、発光層の陰極側に隣接して設けられることが好ましい。
本発明に用いられる正孔阻止層の層厚としては、好ましくは3〜100nmの範囲内であり、更に好ましくは5〜30nmの範囲内である。
正孔阻止層に用いられる材料としては、前述の電子輸送層に用いられる材料が好ましく用いられ、また、前述のホスト化合物として用いられる材料も正孔阻止層に好ましく用いられる。
《Hole blocking layer》
The hole blocking layer is a layer having a function of an electron transporting layer in a broad sense, and is preferably made of a material having a function of transporting electrons and a small ability to transport holes, and is positive while transporting electrons. By blocking the holes, the probability of recombination of electrons and holes can be improved.
In addition, the structure of the electron transport layer described above can be used as the hole blocking layer used in the present invention, if necessary.
The hole blocking layer provided in the organic EL element is preferably provided adjacent to the cathode side of the light emitting layer.
The layer thickness of the hole blocking layer used in the present invention is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.
As the material used for the hole blocking layer, the material used for the electron transport layer described above is preferably used, and the material used as the host compound described above is also preferably used for the hole blocking layer.

《電子注入層》
本発明に用いられる電子注入層(「陰極バッファー層」ともいう。)とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために陰極と発光層との間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されている。
本発明において電子注入層は、必要に応じて設け、上記のように陰極と発光層との間、又は陰極と電子輸送層との間に存在させてもよい。
電子注入層はごく薄い膜であることが好ましく、素材にもよるがその層厚は0.1〜5nmの範囲内が好ましい。また構成材料が断続的に存在する不均一な膜であってもよい。
《Electron injection layer》
The electron injection layer (also referred to as “cathode buffer layer”) used in the present invention is a layer provided between the cathode and the light emitting layer in order to reduce the driving voltage and improve the emission brightness, and is an “organic EL element”. And its industrialization forefront (published by NTS Co., Ltd. on November 30, 1998), Volume 2, Chapter 2, "Electrode Materials" (pages 123-166).
In the present invention, the electron injection layer may be provided as needed and may be present between the cathode and the light emitting layer or between the cathode and the electron transport layer as described above.
The electron injection layer is preferably a very thin film, and the layer thickness is preferably in the range of 0.1 to 5 nm, although it depends on the material. Further, it may be a non-uniform film in which the constituent material is intermittently present.

電子注入層は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、電子注入層に好ましく用いられる材料の具体例としては、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等に代表されるアルカリ土類金属化合物、酸化アルミニウムに代表される金属酸化物、リチウム8−ヒドロキシキノレート(Liq)等に代表される金属錯体等が挙げられる。また、前述の電子輸送材料を用いることも可能である。
また、上記の電子注入層に用いられる材料は単独で用いてもよく、複数種を併用して用いてもよい。
The details of the electron-injected layer are also described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, etc., and specific examples of materials preferably used for the electron-injected layer , Metals such as strontium and aluminum, alkali metal compounds such as lithium fluoride, sodium fluoride and potassium fluoride, alkaline earth metal compounds such as magnesium fluoride and calcium fluoride, oxidation Examples thereof include metal oxides typified by aluminum, metal complexes typified by lithium 8-hydroxyquinolate (Liq) and the like. It is also possible to use the above-mentioned electron transport material.
Further, the material used for the above-mentioned electron injection layer may be used alone or in combination of two or more.

《正孔輸送層》
本発明において正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する材料からなり、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有していればよい。
本発明に用いられる正孔輸送層の総層厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μmの範囲内であり、より好ましくは2〜500nmの範囲内であり、さらに好ましくは5〜200nmの範囲内である。
正孔輸送層に用いられる材料(以下、正孔輸送材料ともいう。)としては、正孔の注入性又は輸送性、電子の障壁性のいずれかを有していればよく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
《Hole transport layer》
In the present invention, the hole transport layer may be made of a material having a function of transporting holes and may have a function of transmitting holes injected from the anode to the light emitting layer.
The total thickness of the hole transport layer used in the present invention is not particularly limited, but is usually in the range of 5 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 to 500 nm, and further preferably in the range of 5 to 200 nm. Is within the range of.
The material used for the hole transport layer (hereinafter, also referred to as a hole transport material) may have any of hole injection property, transport property, and electron barrier property, and is a conventionally known compound. Any one can be selected and used from the above.

例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、及びポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー(例えばPEDOT/PSS、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等)等が挙げられる。 For example, porphyrin derivatives, phthalocyanine derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, hydrazone derivatives, stillben derivatives, polyarylalkane derivatives, triarylamine derivatives, carbazole derivatives. , Indolocarbazole derivatives, isoindole derivatives, acene derivatives such as anthracene and naphthalene, fluorene derivatives, fluorenone derivatives, and polymer materials or oligomers in which polyvinylcarbazole and aromatic amines are introduced into the main chain or side chains, polysilane, conductivity. Examples thereof include sex polymers or oligomers (for example, PEDOT / PSS, aniline-based copolymers, polyaniline, polythiophene, etc.).

トリアリールアミン誘導体としては、α−NPDに代表されるベンジジン型や、MTDATAに代表されるスターバースト型、トリアリールアミン連結コア部にフルオレンやアントラセンを有する化合物等が挙げられる。
また、特表2003−519432号公報や特開2006−135145号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
さらに不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報の各公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。
Examples of the triarylamine derivative include a benzidine type represented by α-NPD, a starburst type represented by MTDATA, and a compound having fluorene or anthracene in the triarylamine connecting core portion.
Hexaazatriphenylene derivatives as described in JP-A-2003-591432 and JP-A-2006-135145 can also be used as the hole transport material.
Further, a hole transport layer having a high p property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, and JP-A-2001-102175. Apple. Phys. , 95, 5773 (2004) and the like.

また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Appl.Phys.Lett.,80(2002),p.139)に記載されているような、いわゆるp型正孔輸送材料やp型−Si、p型−SiC等の無機化合物を用いることもできる。さらにIr(ppy)に代表されるような中心金属にIrやPtを有するオルトメタル化有機金属錯体も好ましく用いられる。In addition, JP-A-11-251067, J. Hung et. al. Use so-called p-type hole transport materials and inorganic compounds such as p-type-Si and p-SiC as described in the author's literature (Appl. Phys. Lett., 80 (2002), p.139). You can also do it. Further, an orthometalated organometallic complex having Ir or Pt in the central metal as represented by Ir (ppy) 3 is also preferably used.

正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、アザトリフェニレン誘導体、有機金属錯体、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー等が好ましく用いられる。
有機EL素子に用いられる、公知の好ましい正孔輸送材料の具体例としては、上記で挙げた文献の他、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
例えば、Appl.Phys.Lett.,69,2160(1996)、J.Lumin.,72−74,985(1997)、Appl.Phys.Lett.,78,673(2001)、Appl.Phys.Lett.,90,183503(2007)、Appl.Phys.Lett.,90,183503(2007)、Appl.Phys.Lett.,51,913(1987)、Synth.Met.,87,171(1997)、Synth.Met.,91,209(1997)、Synth.Met.,111,421(2000)、SID Symposium Digest,37,923(2006)、J.Mater.Chem.,3,319(1993)、Adv.Mater.,6,677(1994)、Chem.Mater.,15,3148(2003)、米国特許公開第2003/0162053号明細書、米国特許公開第2002/0158242号明細書、米国特許公開第2006/0240279号明細書、米国特許公開第2008/0220265号明細書、米国特許第5061569号明細書、国際公開第2007/002683号、国際公開第2009/018009号、EP650955、米国特許公開第2008/0124572号明細書、米国特許公開第2007/0278938号明細書、米国特許公開第2008/0106190号明細書、米国特許公開第2008/0018221号明細書、国際公開第2012/115034号、特表2003−519432号公報、特開2006−135145号公報、米国特許出願番号13/585981号等である。
正孔輸送材料は単独で用いてもよく、また複数種を併用して用いてもよい。
As the hole transport material, the above-mentioned materials can be used, but a triarylamine derivative, a carbazole derivative, an indolocarbazole derivative, an azatriphenylene derivative, an organic metal complex, and an aromatic amine are introduced into the main chain or side chain. High molecular weight materials or oligomers are preferably used.
Specific examples of known and preferable hole transporting materials used in organic EL devices include, but are not limited to, the compounds described in the following documents in addition to the documents mentioned above.
For example, Apple. Phys. Lett. , 69, 2160 (1996), J. Mol. Lumin. , 72-74, 985 (1997), Apple. Phys. Lett. , 78,673 (2001), Apple. Phys. Lett. , 90, 183503 (2007), Apple. Phys. Lett. , 90, 183503 (2007), Apple. Phys. Lett. , 51, 913 (1987), Synth. Met. , 87, 171 (1997), Synth. Met. , 91, 209 (1997), Synth. Met. , 111,421 (2000), SID Symposium Digital, 37,923 (2006), J. Mol. Mater. Chem. , 3,319 (1993), Adv. Mater. , 6,677 (1994), Chem. Mater. , 15, 3148 (2003), US Patent Publication No. 2003/0162053, US Patent Publication No. 2002/0158242, US Patent Publication No. 2006/0240279, US Patent Publication No. 2008/0220265 , U.S. Patent Publication No. 5061569, International Publication No. 2007/002683, International Publication No. 2009/01809, EP650955, U.S. Patent Publication No. 2008/01245772, U.S. Patent Publication No. 2007/0278938, U.S. Patent Publication No. 2008/0106190, U.S. Patent Publication No. 2008/0018221, International Publication No. 2012/115034, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-591432, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-135145, US Patent Application No. No. 13/585981 and the like.
The hole transporting material may be used alone or in combination of two or more.

《電子阻止層》
電子阻止層とは、広い意味では正孔輸送層の機能を有する層であり、好ましくは正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、前述する正孔輸送層の構成を必要に応じて、本発明に用いられる電子阻止層として用いることができる。
有機EL素子に設ける電子阻止層は、発光層の陽極側に隣接して設けられることが好ましい。
本発明に用いられる電子阻止層の層厚としては、好ましくは3〜100nmの範囲内であり、更に好ましくは5〜30nmの範囲内である。
電子阻止層に用いられる材料としては、前述の正孔輸送層に用いられる材料が好ましく用いられ、また、前述のホスト化合物として用いられる材料も電子阻止層に好ましく用いられる。
《Electronic blocking layer》
The electron blocking layer is a layer having a function of a hole transporting layer in a broad sense, and is preferably made of a material having a function of transporting holes but having a small ability to transport electrons, while transporting holes. By blocking the electrons, the probability of recombination of electrons and holes can be improved.
Further, the structure of the hole transport layer described above can be used as an electron blocking layer used in the present invention, if necessary.
The electron blocking layer provided on the organic EL element is preferably provided adjacent to the anode side of the light emitting layer.
The layer thickness of the electron blocking layer used in the present invention is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.
As the material used for the electron blocking layer, the material used for the hole transporting layer described above is preferably used, and the material used as the host compound described above is also preferably used for the electron blocking layer.

《正孔注入層》
本発明に用いられる正孔注入層(「陽極バッファー層」ともいう。)とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために陽極と発光層との間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されている。
本発明において正孔注入層は必要に応じて設け、上記のように陽極と発光層又は陽極と正孔輸送層との間に存在させてもよい。
正孔注入層は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に用いられる材料としては、例えば前述の正孔輸送層に用いられる材料等が挙げられる。
《Hole injection layer》
The hole injection layer (also referred to as “anode buffer layer”) used in the present invention is a layer provided between the anode and the light emitting layer in order to reduce the driving voltage and improve the emission brightness, and is an “organic EL”. It is described in detail in Volume 2, Chapter 2, "Electrode Materials" (pages 123-166) of "Elements and the Forefront of Industrialization of Elements" (published by NTS Co., Ltd. on November 30, 1998).
In the present invention, the hole injection layer may be provided as needed and may be present between the anode and the light emitting layer or between the anode and the hole transport layer as described above.
The details of the hole injection layer are also described in JP-A-9-45479, 9-2660062, 8-288609, etc., and examples of the material used for the hole injection layer include. Examples thereof include materials used for the hole transport layer described above.

中でも銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニン誘導体、特表2003−519432号公報や特開2006−135145号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体、酸化バナジウムに代表される金属酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム錯体等に代表されるオルトメタル化錯体、トリアリールアミン誘導体等が好ましい。
前述の正孔注入層に用いられる材料は単独で用いてもよく、また複数種を併用して用いてもよい。
Among them, phthalocyanine derivatives typified by copper phthalocyanine, hexaazatriphenylene derivatives as described in JP-A-2003-591432 and JP-A-2006-135145, metal oxides typified by vanadium oxide, amorphous carbon. , Polyaniline (emeraldine), polythiophene and other conductive polymers, tris (2-phenylpyridine) iridium complexes and the like, orthometallated complexes, triarylamine derivatives and the like are preferable.
The material used for the hole injection layer described above may be used alone or in combination of two or more.

《その他の添加化合物》
前述した有機層は、更に他の添加含有物が含まれていてもよい。
添加含有物としては、例えば臭素、ヨウ素及び塩素等のハロゲン元素やハロゲン化化合物、Pd、Ca、Na等のアルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属の化合物や錯体、塩等が挙げられる。
添加含有物の含有量は、任意に決定することができるが、含有される層の全質量%に対して1000ppm以下であることが好ましく、より好ましくは500ppm以下であり、さらに好ましくは50ppm以下である。
ただし、電子や正孔の輸送性を向上させる目的や、励起子のエネルギー移動を有利にするための目的などによってはこの範囲内ではない。
<< Other additive compounds >>
The organic layer described above may further contain other additive-containing substances.
Examples of the additive-containing substances include halogen elements such as bromine, iodine and chlorine, halogenated compounds, alkali metals and alkaline earth metals such as Pd, Ca and Na, compounds and complexes of transition metals, salts and the like.
The content of the additive content can be arbitrarily determined, but is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, still more preferably 50 ppm or less, based on the total mass% of the contained layer. is there.
However, it is not within this range depending on the purpose of improving the transportability of electrons and holes and the purpose of favoring the energy transfer of excitons.

《有機層の形成方法》
本発明に係る有機層(正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等)の形成方法について説明する。
本発明に係る有機層の形成方法は、特に制限はなく、従来公知の例えば真空蒸着法、湿式法(ウェットプロセスともいう。)等による形成方法を用いることができるが、湿式法により形成することがより好ましい。
湿式法としては、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、LB法(ラングミュア−ブロジェット法)等があるが、均質な薄膜が得られやすく、かつ高生産性の点から、ダイコート法、ロールコート法、インクジェット法、スプレーコート法などのロールtoロール方式適性の高い方法が好ましい。
<< Method of forming organic layer >>
A method for forming an organic layer (hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, hole blocking layer, electron transport layer, electron injection layer, etc.) according to the present invention will be described.
The method for forming the organic layer according to the present invention is not particularly limited, and conventionally known methods such as a vacuum vapor deposition method and a wet method (also referred to as a wet process) can be used, but the organic layer is formed by a wet method. Is more preferable.
The wet method includes a spin coating method, a casting method, an inkjet method, a printing method, a die coating method, a blade coating method, a roll coating method, a spray coating method, a curtain coating method, an LB method (Langmuir-Blogget method), and the like. From the viewpoint of easy obtaining a homogeneous thin film and high productivity, a method having high suitability for the roll-to-roll method such as a die coating method, a roll coating method, an inkjet method, and a spray coating method is preferable.

有機EL材料を溶解又は分散する液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、DMF、DMSO等の有機溶媒を用いることができる。
また、分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。
Examples of the liquid medium for dissolving or dispersing the organic EL material include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, fatty acid esters such as ethyl acetate, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene, toluene, xylene, mesitylene, cyclohexylbenzene and the like. Aromatic hydrocarbons of the above, aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, decalin and dodecane, and organic solvents such as DMF and DMSO can be used.
Further, as a dispersion method, dispersion can be performed by a dispersion method such as ultrasonic waves, high shear force dispersion, or media dispersion.

更に層毎に異なる成膜法を適用してもよい。成膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度50〜450℃、真空度1×10−6〜1×10−2Pa、蒸着速度0.01〜50nm/秒、基板温度−50〜300℃、層厚0.1nm〜5μm、好ましくは5〜200nmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。
本発明に係る有機層の形成は、一回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる成膜法を施しても構わない。その際は作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
Further, a different film forming method may be applied to each layer. When a thin-film deposition method is used for film formation, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, but generally, the boat heating temperature is 50 to 450 ° C., the degree of vacuum is 1 × 10 -6 to 1 × 10 -2 Pa, and the deposition rate is high. It is desirable to appropriately select in the range of 0.01 to 50 nm / sec, substrate temperature -50 to 300 ° C., layer thickness 0.1 nm to 5 μm, preferably 5 to 200 nm.
The formation of the organic layer according to the present invention is preferably carried out consistently from the hole injection layer to the cathode by one vacuuming, but it may be taken out in the middle and a different film forming method may be applied. In that case, it is preferable to carry out the work in a dry inert gas atmosphere.

《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上、好ましくは4.5eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウム・スズ酸化物(ITO)、SnO、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。
また、IDIXO(In−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。
"anode"
As the anode in the organic EL element, a metal, an alloy, an electrically conductive compound having a large work function (4 eV or more, preferably 4.5 eV or more) and a mixture thereof as an electrode material are preferably used. Specific examples of such an electrode material include metals such as Au and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO.
Further, a material such as IDIXO (In 2 O 3- ZnO) which is amorphous and can produce a transparent conductive film may be used.

陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、又はパターン精度を余り必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。
また、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。
陽極の膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲内で選ばれる。
For the anode, a thin film may be formed by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern of a desired shape may be formed by a photolithography method, or when pattern accuracy is not required so much (about 100 μm or more) , The pattern may be formed through a mask having a desired shape during vapor deposition or sputtering of the electrode material.
Further, when a coatable substance such as an organic conductive compound is used, a wet film forming method such as a printing method or a coating method can also be used. When light emission is taken out from this anode, it is desirable to increase the transmittance to more than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less.
The film thickness of the anode depends on the material, but is usually selected within the range of 10 nm to 1 μm, preferably 10 to 200 nm.

《陰極》
陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する。)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第2金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
"cathode"
As the cathode, a metal having a small work function (4 eV or less) (referred to as an electron-injectable metal), an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O). 3 ) Examples thereof include a mixture, indium, a lithium / aluminum mixture, aluminum, and a rare earth metal. Among these, from the viewpoint of electron injectability and durability against oxidation and the like, a mixture of an electron injectable metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function value, for example, a magnesium / silver mixture, Magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, lithium / aluminum mixture, aluminum and the like are suitable.

陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。
なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極又は陰極のいずれか一方が透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
また、陰極に上記金属を1〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げる導電性透明材料をその上に作製することで、透明又は半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance of the cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 to 200 nm.
In order to transmit the emitted light, it is convenient that the emission brightness is improved if either the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent.
Further, a transparent or translucent cathode can be produced by producing the above metal on the cathode having a thickness of 1 to 20 nm and then producing the conductive transparent material mentioned in the description of the anode on the cathode. By applying the above, it is possible to manufacture an element in which both the anode and the cathode are transparent.

《支持基板》
有機EL素子に用いることのできる支持基板(以下、基体、基板、基材、支持体等ともいう。)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
《Support board》
The types of support substrates (hereinafter, also referred to as substrates, substrates, substrates, supports, etc.) that can be used for organic EL elements are not particularly limited, such as glass and plastic, and even if they are transparent, they are opaque. It may be. When light is taken out from the support substrate side, the support substrate is preferably transparent. Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support substrate is a resin film capable of imparting flexibility to the organic EL element.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル又はポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)又はアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等のフィルムを挙げられる。 Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate. CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose esters such as cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyether sulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylates, Arton (trade name: JSR) or Appel Examples thereof include films such as cycloolefin resins (trade name: manufactured by Mitsui Kagaku Co., Ltd.).

樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%)が0.01g/(m・24h)以下のガスバリアー性フィルムであることが好ましく、更には、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、1×10−3ml/(m・24h・atm)以下、水蒸気透過度が、1×10−5g/(m・24h)以下の高ガスバリアー性フィルムであることが好ましい。A film of an inorganic substance, an organic substance, or a hybrid film of both of them may be formed on the surface of the resin film, and the water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C.) measured by a method according to JIS K 7129-1992. it is preferable that the relative humidity of (90 ± 2)%) is 0.01g / (m 2 · 24h) or less of a gas barrier film was further measured by a method conforming to JIS K 7126-1987 oxygen the permeability, 1 × 10 -3 ml / ( m 2 · 24h · atm) or less, that the water vapor permeability is 1 × 10 -5 g / (m 2 · 24h) or less of a high gas barrier film preferable.

ガスバリアー膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。 The material for forming the gas barrier film may be any material having a function of suppressing infiltration of a material that causes deterioration of the element such as moisture and oxygen, and for example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride and the like can be used. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of an organic material. The stacking order of the inorganic layer and the organic layer is not particularly limited, but it is preferable to stack the inorganic layer and the organic layer alternately a plurality of times.

ガスバリアー膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。 The method for forming the gas barrier film is not particularly limited, and for example, vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, molecular beam epitaxy method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma weight. Although legal, plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, coating method and the like can be used, the atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is particularly preferable.

不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。
有機EL素子の発光の室温における外部取り出し量子効率は、1%以上であることが好ましく、5%以上であるとより好ましい。
ここで、外部取り出し量子効率(%)=有機EL素子外部に発光した光子数/有機EL素子に流した電子数×100である。
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機EL素子からの発光色を蛍光体として用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。
Examples of the opaque support substrate include a metal plate such as aluminum and stainless steel, a film or opaque resin substrate, and a ceramic substrate.
The external extraction quantum efficiency of the light emission of the organic EL device at room temperature is preferably 1% or more, and more preferably 5% or more.
Here, the external extraction quantum efficiency (%) = the number of photons emitted to the outside of the organic EL element / the number of electrons passed through the organic EL element × 100.
Further, a hue improving filter such as a color filter may be used in combination, or a color conversion filter that converts the color emitted from the organic EL element into multiple colors by using it as a phosphor may be used in combination.

《その他の構成》
本発明に用いることができる封止手段、保護膜、保護板、光取り出し効率を向上させる技術及び集光シートとしては、特開2014−152151号公報等に記載の公知の技術を用いることができる。
<< Other configurations >>
As a sealing means, a protective film, a protective plate, a technique for improving light extraction efficiency, and a condensing sheet that can be used in the present invention, known techniques described in JP-A-2014-152151 can be used. ..

《用途》
本発明の電荷移動性薄膜用材料を用いた有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。
発光光源として、例えば、照明装置(家庭用照明、車内照明)、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
有機EL素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。
《Use》
The organic EL element using the material for a charge transfer thin film of the present invention can be used as a display device, a display, and various light emitting light sources.
As the light source, for example, a lighting device (household lighting, in-car lighting), a backlight for a clock or a liquid crystal, a signboard advertisement, a traffic light, a light source of an optical storage medium, a light source of an electrophotographic copying machine, a light source of an optical communication processor, light Examples thereof include, but are not limited to, a light source of a sensor, but the light source can be effectively used as a backlight of a liquid crystal display device and a light source for lighting.
If necessary, the organic EL element may be patterned by a metal mask, an inkjet printing method, or the like at the time of film formation. In the case of patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or all the layers of the device may be patterned. In the fabrication of the device, a conventionally known method is used. Can be done.

《表示装置》
本発明の電荷移動性薄膜用材料を用いた有機EL素子は、表示装置に用いることができる。表示装置は単色でも多色でもよいが、ここでは多色表示装置について説明する。
多色表示装置の場合は発光層形成時のみシャドーマスクを設け、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で膜を形成できる。
発光層のみパターニングを行う場合、その方法に限定はないが、好ましくは蒸着法、インクジェット法、スピンコート法、印刷法である。
《Display device》
The organic EL element using the material for a charge transfer thin film of the present invention can be used in a display device. The display device may be monochromatic or multicolored, but here, a multicolor display device will be described.
In the case of a multicolor display device, a shadow mask is provided only when the light emitting layer is formed, and a film can be formed on one surface by a vapor deposition method, a casting method, a spin coating method, an inkjet method, a printing method, or the like.
When patterning only the light emitting layer, the method is not limited, but a vapor deposition method, an inkjet method, a spin coating method, or a printing method is preferable.

表示装置に具備される有機EL素子の構成は、必要に応じて上記の有機EL素子の構成例の中から選択される。
また、有機EL素子の製造方法は、上記の有機EL素子の製造の一態様に示したとおりである。
このようにして得られた多色表示装置に直流電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性として電圧2〜40V程度を印加すると発光が観測できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。更に交流電圧を印加する場合には、陽極が+、陰極が−の状態になったときのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
The configuration of the organic EL element provided in the display device is selected from the above-mentioned configuration examples of the organic EL element, if necessary.
The method for manufacturing the organic EL device is as shown in the above-described embodiment of manufacturing the organic EL device.
When a DC voltage is applied to the multicolor display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 to 40 V with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode. Further, even if a voltage is applied with the opposite polarity, no current flows and no light emission occurs. When an AC voltage is further applied, light is emitted only when the anode is in the + state and the cathode is in the-state. The waveform of the alternating current to be applied may be arbitrary.

多色表示装置は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。表示デバイス、ディスプレイにおいて、青、赤、緑発光の3種の有機EL素子を用いることによりフルカラーの表示が可能となる。
表示デバイス、ディスプレイとしては、テレビ、パソコン、モバイル機器、AV機器、文字放送表示、自動車内の情報表示等が挙げられる。特に静止画像や動画像を再生する表示装置として使用してもよく、動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
発光光源としては、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
The multicolor display device can be used as a display device, a display, and various light emitting light sources. Full-color display is possible by using three types of organic EL elements that emit blue, red, and green in the display device and display.
Examples of display devices and displays include televisions, personal computers, mobile devices, AV devices, teletext displays, information displays in automobiles, and the like. In particular, it may be used as a display device for reproducing a still image or a moving image, and the driving method when used as a display device for reproducing a moving image may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method.
Light sources include household lighting, interior lighting, backlights for clocks and liquid crystals, signboard advertisements, traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, light sources for optical communication processors, light sources for optical sensors, etc. However, the present invention is not limited thereto.

≪照明装置の一態様≫
本発明の電荷移動性薄膜用材料を用いた有機EL素子を具備した、照明装置の一態様について説明する。
有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚さ300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを陰極上に重ねて透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止し、図8及び図9に示すような照明装置を形成することができる。
図8は、照明装置の概略図を示し、有機EL素子101はガラスカバー102で覆われている(なお、ガラスカバーでの封止作業は、有機EL素子101を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行った。)。
図9は、照明装置の断面図を示し、図9において、105は陰極、106は有機EL層、107は透明電極付きガラス基板を示す。なお、ガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
≪One aspect of lighting equipment≫
An aspect of a lighting device including an organic EL element using the material for a charge-transfer thin film of the present invention will be described.
The non-light emitting surface of the organic EL element is covered with a glass case, a glass substrate with a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate, and an epoxy-based photocurable adhesive (Luxtrac LC0629B manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) is used as a sealing material around it. Is applied, and this is laminated on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, irradiated with UV light from the glass substrate side, cured, and sealed to form an illuminating device as shown in FIGS. 8 and 9. can do.
FIG. 8 shows a schematic view of the lighting device, in which the organic EL element 101 is covered with a glass cover 102 (note that the sealing work with the glass cover is a nitrogen atmosphere without bringing the organic EL element 101 into contact with the atmosphere. It was performed in the lower glove box (in an atmosphere of high-purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more).
FIG. 9 shows a cross-sectional view of the lighting device, in which 105 is a cathode, 106 is an organic EL layer, and 107 is a glass substrate with a transparent electrode. The glass cover 102 is filled with nitrogen gas 108, and a water catching agent 109 is provided.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。実施例で使用した化合物を以下に示す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, the indication of "parts" or "%" is used, but unless otherwise specified, it indicates "parts by mass" or "% by mass". The compounds used in the examples are shown below.

Figure 0006805133
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Figure 0006805133
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《電流励起発光スペクトル観測用のサンプル作製》
電流励起発光スペクトル観測用のサンプル1−1〜1−6を作製し、照明装置に組み込んで評価を行った。
<サンプル1−1の作製>
(陽極の形成)
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウム・スズ酸化物)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
<< Preparation of sample for current excitation emission spectrum observation >>
Samples 1-1 to 1-6 for observing the current excitation emission spectrum were prepared and incorporated into a lighting device for evaluation.
<Preparation of sample 1-1>
(Formation of anode)
After patterning on a substrate (NA45 manufactured by NH Technoglass Co., Ltd.) in which ITO (indium tin oxide) was deposited at 100 nm on a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 1.1 mm as an anode, the ITO transparent electrode was provided. The transparent support substrate was ultrasonically washed with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone washed for 5 minutes.

(正孔注入層の形成)
ITO表面をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。この上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSSと略記、Bayer製、Baytron P Al 4083)を純水で希釈した溶液をスリットコート法により成膜した後、140℃にて1時間乾燥し、層厚40nmの正孔注入層を設けた。
(Formation of hole injection layer)
The ITO surface was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone washed for 5 minutes. On this, a solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (abbreviated as PEDOT / PSS, manufactured by Bayer, Baytron P Al 4083) with pure water was formed by a slit coating method, and then formed. It was dried at 140 ° C. for 1 hour to provide a hole injection layer having a layer thickness of 40 nm.

この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方モリブデン製抵抗加熱ボートに酸化モリブデンを200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物EB−1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに比較化合物1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物HB−1を200mg入れ、さらに別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物ET−1を200mg入れ、真空蒸着装置に取り付けた。 This transparent support substrate is fixed to the substrate holder of a commercially available vacuum vapor deposition apparatus, while 200 mg of molybdenum oxide is placed in a molybdenum resistance heating boat, 200 mg of compound EB-1 is placed in another molybdenum resistance heating boat, and another molybdenum product is used. 200 mg of Comparative Compound 1 was placed in a resistance heating boat, 200 mg of Compound HB-1 was placed in another molybdenum resistance heating boat, and 200 mg of Compound ET-1 was placed in another molybdenum resistance heating boat, which was attached to a vacuum vapor deposition apparatus. ..

(正孔輸送層の形成)
次いで真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、酸化モリブデンの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、透明支持基板に蒸着し1.0nmの正孔輸送層を設けた。
(Formation of hole transport layer)
Next, the vacuum chamber was depressurized to 4 × 10 -4 Pa, and then the heating boat containing molybdenum oxide was energized to heat it. A hole transport layer was provided.

(電子阻止層の形成)
更に化合物EB−1の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記正孔輸送層上に蒸着し、10nmの電子阻止層を設けた。
(Formation of electron blocking layer)
Further, the heating boat containing the compound EB-1 was energized and heated, and the holes were vapor-deposited on the hole transport layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to provide an electron blocking layer of 10 nm.

(発光層の形成)
更に比較化合物1の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記正孔輸送層上に共蒸着し60nmの発光層を設けた。
(Formation of light emitting layer)
Further, the heating boat containing the comparative compound 1 was energized and heated, and a 60 nm light emitting layer was provided by co-depositing on the hole transport layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec.

(正孔阻止層の形成)
更に化合物HB−1の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記発光層上に蒸着し10nmの正孔阻止層を設けた。
(Formation of hole blocking layer)
Further, the heating boat containing the compound HB-1 was energized and heated, and a hole blocking layer having a diameter of 10 nm was provided by vapor deposition on the light emitting layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec.

(電子輸送層の形成)
更に化合物ET−1の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記正孔阻止層上に蒸着し30nmの電子輸送層を設けた。
(Formation of electron transport layer)
Further, the heating boat containing the compound ET-1 was energized and heated, and the hole was vapor-deposited on the hole blocking layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to provide an electron transport layer of 30 nm.

(電子注入層及び陰極層の形成)
引き続き、電子注入層としてフッ化カリウム2nmを蒸着し、更にアルミニウム100nmを蒸着して陰極を形成し、サンプル1−1を作製した。
(Formation of electron injection layer and cathode layer)
Subsequently, 2 nm of potassium fluoride was vapor-deposited as an electron injection layer, and 100 nm of aluminum was further deposited to form a cathode to prepare Sample 1-1.

<サンプル1−2〜1−6の作製>
サンプル1−1の作製において、比較化合物1を表2に記載の化合物に変えた以外は同様にして、サンプル1−2〜1−6を作製した。
<Preparation of samples 1-2-1-6>
In the preparation of Sample 1-1, Samples 1-2 to 1-6 were prepared in the same manner except that Comparative Compound 1 was changed to the compounds shown in Table 2.

《サンプル1−1〜1−6の評価》
得られたサンプル1−1〜1−6を評価するに際しては、作製後の各サンプルの非発光面をガラスケースで覆い、厚さ300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを上記陰極上に重ねて前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して硬化させて封止し、図8及び図9に示すような照明装置を作製して評価した。このようにして作製した照明装置を用いてサンプル1−1〜1−6について蛍光強度半減寿命の評価を行った。評価結果を比較化合物とともに表2に示す。本明細書中での蛍光強度半減寿命とは、各照明装置を200μAの電流で定電流駆動させた際、発光波長500nm以下に出現する最大発光強度aが、通電開始初期値から1/2まで減衰するまでの時間(単位:hr)を求め、これを半減寿命の尺度とした。
<< Evaluation of Samples 1-1 to 1-6 >>
When evaluating the obtained samples 1-1 to 1-6, the non-emissive surface of each sample after production is covered with a glass case, and a glass substrate having a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate to seal the periphery. An epoxy-based photocurable adhesive (Luxtrac LC0629B manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) is applied as a material, which is placed on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, and cured by irradiating UV light from the glass substrate side. And sealed, and a lighting device as shown in FIGS. 8 and 9 was prepared and evaluated. Using the lighting device thus produced, the fluorescence intensity half-life was evaluated for samples 1-1 to 1-6. The evaluation results are shown in Table 2 together with the comparative compounds. The half-life of fluorescence intensity in the present specification means that when each lighting device is driven with a constant current of 200 μA, the maximum emission intensity a that appears at an emission wavelength of 500 nm or less is from the initial value at the start of energization to 1/2. The time until decay (unit: hr) was calculated, and this was used as a measure of half-life.

Figure 0006805133
Figure 0006805133

表2に示すように、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有する芳香族化合物を含有する電荷移動性薄膜用材料であり、a/bの最小値が1より大きい本発明に係る芳香族化合物であるHS−1及びHS−2においては、比較化合物1〜4に比べ蛍光発光の半減寿命が長い電荷移動性薄膜用材料となることが明らかとなった。 As shown in Table 2, it is a material for a charge-transfer thin film containing an aromatic compound having an alkyl group having an alkyl group in the range of 3 to 20, and according to the present invention, the minimum value of a / b is larger than 1. It has been clarified that the aromatic compounds HS-1 and HS-2 are materials for charge-transfer thin films having a longer half-life of fluorescence emission than the comparative compounds 1 to 4.

参考例2]
《有機EL素子の作製》
<有機EL素子2−1の作製>
(陽極の形成)
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITOを100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
[ Reference example 2]
<< Fabrication of organic EL element >>
<Manufacturing of organic EL element 2-1>
(Formation of anode)
After patterning a substrate (NA45 manufactured by NH Technoglass Co., Ltd.) in which ITO was deposited at 100 nm on a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 1.1 mm as an anode, the transparent support substrate provided with the ITO transparent electrode was treated with isopropyl alcohol. It was ultrasonically washed, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone washed for 5 minutes.

(正孔注入層の形成)
ITO表面をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。この上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSSと略記、Bayer製、Baytron P Al 4083)を純水で希釈した溶液をスリットコート法により成膜した後、140℃にて1時間乾燥し、層厚40nmの正孔注入層を設けた。
この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方モリブデン製抵抗加熱ボートに化合物HT−1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物EB−1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに比較化合物2を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物BD−1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物HB−2を200mg入れ、さらに別のモリブデン製抵抗加熱ボートに化合物ET−2を200mg入れ、真空蒸着装置に取り付けた。
(Formation of hole injection layer)
The ITO surface was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone washed for 5 minutes. On this, a solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (abbreviated as PEDOT / PSS, manufactured by Bayer, Baytron P Al 4083) with pure water was formed by a slit coating method, and then formed. It was dried at 140 ° C. for 1 hour to provide a hole injection layer having a layer thickness of 40 nm.
This transparent support substrate is fixed to the substrate holder of a commercially available vacuum vapor deposition apparatus, while 200 mg of compound HT-1 is placed in a molybdenum resistance heating boat, 200 mg of compound EB-1 is placed in another molybdenum resistance heating boat, and another 200 mg of Comparative Compound 2 in a molybdenum resistance heating boat, 200 mg of Compound BD-1 in another molybdenum resistance heating boat, 200 mg of Compound HB-2 in another molybdenum resistance heating boat, and another molybdenum product. 200 mg of compound ET-2 was placed in a resistance heating boat and attached to a vacuum vapor deposition apparatus.

(正孔輸送層の形成)
次いで真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、HT−1の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、透明支持基板に蒸着し10nmの正孔輸送層を設けた。
(Formation of hole transport layer)
Next, the vacuum chamber was depressurized to 4 × 10 -4 Pa, and then the heating boat containing HT-1 was energized and heated, and a hole of 10 nm was deposited on a transparent support substrate at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec. A transport layer was provided.

(電子阻止層の形成)
更に化合物EB−1の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記正孔輸送層上に蒸着し、5nmの電子阻止層を設けた。
(Formation of electron blocking layer)
Further, the heating boat containing the compound EB-1 was energized and heated, and the holes were vapor-deposited on the hole transport layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to provide an electron blocking layer of 5 nm.

(発光層の形成)
次いで、比較化合物2とBD−1の入った抵抗加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度0.1nm/秒、0.01nm/秒で前記正孔輸送層上に共蒸着し、層厚30nmの発光層を形成した。
(Formation of light emitting layer)
Next, a resistance heating boat containing Comparative Compound 2 and BD-1 was energized and heated, and co-deposited on the hole transport layer at vapor deposition rates of 0.1 nm / sec and 0.01 nm / sec, respectively, to achieve a layer thickness. A light emitting layer of 30 nm was formed.

(正孔阻止層の形成)
更に化合物HB−2の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記発光層上に蒸着し5nmの正孔阻止層を設けた。
(Formation of hole blocking layer)
Further, the heating boat containing the compound HB-2 was energized and heated, and a hole blocking layer having a diameter of 5 nm was provided by vapor deposition on the light emitting layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec.

(電子輸送層の形成)
更に化合物ET−2の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で、前記正孔阻止層上に蒸着し30nmの電子輸送層を設けた。
(Formation of electron transport layer)
Further, the heating boat containing the compound ET-2 was energized and heated, and the hole was vapor-deposited on the hole blocking layer at a vapor deposition rate of 0.1 nm / sec to provide an electron transport layer of 30 nm.

(電子注入層及び陰極の形成)
引き続き、電子注入層としてフッ化カリウム2nmを蒸着し、更にアルミニウム100nmを蒸着して陰極を形成し、有機EL素子2−1を作製した。
(Formation of electron injection layer and cathode)
Subsequently, potassium fluoride 2 nm was vapor-deposited as an electron injection layer, and aluminum 100 nm was further vapor-deposited to form a cathode to produce an organic EL element 2-1.

<有機EL素子2−2及び2−3の作製>
有機EL素子2―1の作製において、比較化合物2をHS−1、HS−3に変更した。それ以外は同様にして、有機EL素子2−2及び2−3を作製した。
<Manufacturing of organic EL elements 2-2 and 2-3>
In the production of the organic EL element 2-1 the comparative compound 2 was changed to HS-1 and HS-3. Other than that, the organic EL elements 2-2 and 2-3 were manufactured in the same manner.

《有機EL素子2−1〜2−3の評価》
各有機EL素子について下記の評価を行った。評価結果を表3に示す。
<< Evaluation of organic EL elements 2-1 to 2-3 >>
The following evaluation was performed for each organic EL element. The evaluation results are shown in Table 3.

<半減寿命>
下記に示す測定法に従って、半減寿命の評価を行った。
各有機EL素子を初期輝度8000cd/mを与える電流で定電流駆動して、初期輝度の1/2になる時間を求め、これを半減寿命の尺度とした。なお、半減寿命は有機EL素子2−1を1とする相対値で表した。
なお、値が大きい方が耐久性に優れていることを示す。
<Half life>
The half-life was evaluated according to the measurement method shown below.
Each organic EL element was driven with a constant current with a current giving an initial brightness of 8000 cd / m 2, and the time to be halved of the initial brightness was obtained, which was used as a measure of half life. The half-life was expressed as a relative value with the organic EL element 2-1 as 1.
The larger the value, the better the durability.

Figure 0006805133
Figure 0006805133

表3に示すとおり、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有する芳香族化合物を含有する電荷移動性薄膜用材料であり、a/bの最小値が1より大きく、エレクトロマー生成が抑制された、HS−1及びHS−3をホストとして用いた有機EL素子は、比較例の有機EL素子に比べ、半減寿命が優れていることが分かった。 As shown in Table 3, it is a material for a charge-transferring thin film containing an aromatic compound having an alkyl group having an alkyl group in the range of 3 to 20 carbon atoms, and the minimum value of a / b is larger than 1, and electromer formation is generated. It was found that the suppressed organic EL device using HS-1 and HS-3 as a host had an excellent half-life as compared with the organic EL device of the comparative example.

参考例3]
<有機EL素子3−1の作製>
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITOを100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
[ Reference example 3]
<Manufacturing of organic EL element 3-1>
After patterning a substrate (NA-45 manufactured by NH Technoglass Co., Ltd.) in which ITO was deposited at 100 nm on a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 1.1 mm as an anode, the transparent support substrate provided with the ITO transparent electrode was isopropyl. Ultrasonic cleaning with alcohol, drying with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes.

(正孔輸送層の形成)
この透明支持基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液を用い、3000rpm、30秒の条件でスピンコート法により薄膜を形成した後、200℃にて1時間乾燥し、層厚20nmの正孔輸送層を設けた。
(Formation of hole transport layer)
A solution of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer, Baytron P Al 4083) diluted to 70% with pure water was used on this transparent support substrate at 3000 rpm. A thin film was formed by a spin coating method under the condition of 30 seconds, and then dried at 200 ° C. for 1 hour to provide a hole transport layer having a layer thickness of 20 nm.

(第2正孔輸送層の形成)
この基板を窒素雰囲気下に移し、正孔輸送層上に、5mgのHT−2と45mgの正孔輸送材料HT−3とを10mlのトルエンに溶解した混合溶液を2000rpm、30秒の条件で正孔輸送層上にスピンコーティングし、薄膜を形成した。窒素雰囲気下、120℃、90秒間紫外光を照射し、光重合・架橋を行い、層厚約15nmの第2正孔輸送層を形成した。
(Formation of second hole transport layer)
This substrate was transferred to a nitrogen atmosphere, and a mixed solution of 5 mg of HT-2 and 45 mg of the hole transport material HT-3 dissolved in 10 ml of toluene was positively prepared on the hole transport layer at 2000 rpm for 30 seconds. A thin film was formed by spin coating on the hole transport layer. Under a nitrogen atmosphere, ultraviolet light was irradiated at 120 ° C. for 90 seconds to perform photopolymerization and cross-linking to form a second hole transport layer having a layer thickness of about 15 nm.

(発光層の形成)
この第2正孔輸送層上に、100mgの比較化合物2と10mgのBD−2とを10mlのトルエンに溶解した溶液を用いて600rpm、30秒の条件でスピンコート法により薄膜を形成した。60℃で1時間真空乾燥し、層厚約70nmの発光層とした。
(Formation of light emitting layer)
A thin film was formed on the second hole transport layer by a spin coating method at 600 rpm for 30 seconds using a solution of 100 mg of Comparative Compound 2 and 10 mg of BD-2 dissolved in 10 ml of toluene. It was vacuum dried at 60 ° C. for 1 hour to obtain a light emitting layer having a layer thickness of about 70 nm.

(電子輸送層の形成)
続いて、この基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、ET−3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/secで前記発光層上に蒸着して層厚30nmの電子輸送層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。
(Formation of electron transport layer)
Subsequently, this substrate is fixed to the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, the vacuum chamber is depressurized to 4 × 10 -4 Pa, and then the heating boat containing ET-3 is energized to heat the substrate. An electron transport layer having a layer thickness of 30 nm was provided by vapor deposition on the light emitting layer at 1 nm / sec. The substrate temperature at the time of vapor deposition was room temperature.

(陰極の形成)
引き続き、陰極バッファー層としてフッ化リチウム0.5nmを蒸着し、更にアルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成し、有機EL素子3−1を作製した。
(Cathode formation)
Subsequently, 0.5 nm of lithium fluoride was vapor-deposited as the cathode buffer layer, and 110 nm of aluminum was further vapor-deposited to form a cathode, thereby producing an organic EL element 3-1.

<有機EL素子3−2及び3−3の作製>
有機EL素子3−1の作製において、比較化合物2をHS−1、HS−3に変えた以外は同様にして、有機EL素子3−2及び3−3を作製した。
<Manufacturing of organic EL elements 3-2 and 3-3>
In the production of the organic EL element 3-1 the organic EL elements 3-2 and 3-3 were produced in the same manner except that the comparative compound 2 was changed to HS-1 and HS-3.

《有機EL素子の評価》
有機EL素子3−1〜3−3に対し、実施例2と同様にして半減寿命の評価を行った。
<< Evaluation of organic EL elements >>
The half-life of the organic EL elements 3-1 to 3-3 was evaluated in the same manner as in Example 2.

Figure 0006805133
Figure 0006805133

表4に示すとおり、参考例の電荷移動性薄膜用材料を含有する有機EL素子3−2及び3−3は、比較例の有機EL素子3−1に比べ寿命において、優れていることが明らかである。
以上から、ウェットプロセスにより成膜された発光層に、参考例の芳香族化合物を含有させることが有用であることがわかった。
As shown in Table 4, it is clear that the organic EL elements 3-2 and 3-3 containing the material for the charge transfer thin film of the reference example are superior in life to the organic EL element 3-1 of the comparative example. Is.
From the above, it was found that it is useful to include the aromatic compound of the reference example in the light emitting layer formed by the wet process.

本発明により、長寿命の電荷移動性薄膜用材料及び電荷移動性薄膜用材料を用いた電荷移動性薄膜を得ることができ、当該電荷移動性薄膜用材料を用いた有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として好適に利用できる。 According to the present invention, it is possible to obtain a charge-transfer thin film material having a long life and a charge-transfer thin film material, and an organic EL element using the charge-transfer thin film material is a display device. , Display, and various light emitting light sources.

101 有機EL素子
102 ガラスカバー
105 陰極
106 有機EL層
107 透明電極付きガラス基板
108 窒素ガス
109 捕水剤
101 Organic EL element 102 Glass cover 105 Cathode 106 Organic EL layer 107 Glass substrate with transparent electrode 108 Nitrogen gas 109 Water trapping agent

Claims (2)

芳香族化合物を含有する電荷移動性薄膜用材料であって、
前記芳香族化合物が、分子軌道計算により描像される前記芳香族化合物上に分布する最高被占軌道及び最低空軌道が空間的に分離する少なくとも2つ以上の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有し、さらに炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を有し、かつ
前記芳香族化合物を含有する単一層の電流励起発光スペクトルが、下記式(1)を満たし、
前記芳香族化合物が、下記一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする電荷移動性薄膜用材料。
式(1):a/b>1
(式(1)中、aは、前記電流励起発光スペクトルにおいて、発光波長500nm以下に出現する最大発光強度を表し、bは、発光波長550nm以上に出現する最大発光強度を表す。aが通電開始初期値から1/5の値まで減衰する間、a及びbは常に式(1)の関係を満たす。)
一般式(1):
(R −A−(L) −B−(R
(一般式(1)中、A及びBは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。R 及びR は、炭素数が3〜20の範囲内のアルキル基を表す。Lは、単なる結合手、又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基若しくはアルキレン基を表す。m及びnは、それぞれ1以上の整数を表す。kは1以上の整数を表す。)
A material for a charge-transfer thin film containing an aromatic compound.
At least two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles in which the highest occupied orbitals and the lowest empty orbitals distributed on the aromatic compound imaged by molecular orbital calculation are spatially separated from each other. the a, further have an alkyl group in the range of 3 to 20 carbon atoms, and the current excitation emission spectrum of a single layer containing the aromatic compound, meet the following equation (1),
A material for a charge-transfer thin film, wherein the aromatic compound has a structure represented by the following general formula (1) .
Equation (1): a / b> 1
In the formula (1), a represents the maximum emission intensity appearing at an emission wavelength of 500 nm or less in the current excitation emission spectrum, b represents the maximum emission intensity appearing at an emission wavelength of 550 nm or more, and a represents the energization start. While decaying from the initial value to the value of 1/5, a and b always satisfy the relationship of equation (1).)
General formula (1):
(R 1 ) m- A- ( L) k- B- (R 2 ) n
(In the general formula (1), A and B represent an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle which may have a substituent. R 1 and R 2 have a carbon number in the range of 3 to 20. L represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group or an alkylene group which may have a simple binder or a substituent. M and n are one or more, respectively. Represents an integer. K represents an integer of 1 or more.)
請求項1に記載の電荷移動性薄膜用材料を含有することを特徴とする電荷移動性薄膜。 A charge-transfer thin film comprising the material for a charge-transfer thin film according to claim 1 .
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