JP6802147B2 - 液晶表示素子用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子 - Google Patents
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Description
滴下工法では、まず、2枚の電極付き基板の一方に、ディスペンスにより長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤が未硬化の状態で液晶の微小滴を基板のシール枠内に滴下し、真空下で他方の基板を重ね合わせ、シール部に紫外線等の光を照射して仮硬化を行う。その後、加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。
以下に本発明を詳述する。
上記熱硬化剤は、上記式(1)で表される構造を有する化合物を含有する。上記熱硬化剤として上記式(1)で表される構造を有する化合物を含有することにより、本発明の液晶表示素子用シール剤は、保存安定性と低温での速硬化性とを両立できる。
また、上記式(1)中、Xは、下記式(2−1)、(2−2)、(2−3)、(2−4)、又は、(2−5)で表される構造であることが好ましく、下記式(2−1)で表される構造であることがより好ましく、下記式(2−1)中のR1及びR2がメチル基である構造であることが更に好ましい。
上記その他の熱硬化剤としては、例えば、ヒドラジド系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、多価フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤等が挙げられる。なかでも、ヒドラジド系硬化剤が好適に用いられる。
上記硬化性樹脂は、エポキシ化合物を含有することが好ましい。
上記エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物等が挙げられる。
上記ビスフェノールF型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、jER806、jER4004(いずれも三菱化学社製)等が挙げられる。
上記ビスフェノールE型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エポミックR710(三井化学社製)等が挙げられる。
上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンEXA1514(DIC社製)等が挙げられる。
上記2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、RE−810NM(日本化薬社製)等が挙げられる。
上記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンEXA7015(DIC社製)等が挙げられる。
上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EP−4000S(ADEKA社製)等が挙げられる。
上記レゾルシノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EX−201(ナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記ビフェニル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、jER YX−4000H(三菱化学社製)等が挙げられる。
上記スルフィド型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YSLV−50TE(新日鉄住金化学社製)等が挙げられる。
上記ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YSLV−80DE(新日鉄住金化学社製)等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EP−4088S(ADEKA社製)等が挙げられる。
上記ナフタレン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれもDIC社製)等が挙げられる。
上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンN−770(DIC社製)等が挙げられる。
上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンN−670−EXP−S(DIC社製)等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンHP7200(DIC社製)等が挙げられる。
上記ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、NC−3000P(日本化薬社製)等が挙げられる。
上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ESN−165S(新日鉄住金化学社製)等が挙げられる。
上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、jER630(三菱化学社製)、エピクロン430(DIC社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等が挙げられる。
上記アルキルポリオール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ZX−1542(新日鉄住金化学社製)、エピクロン726(DIC社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611(ナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記ゴム変性型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YR−450、YR−207(いずれも新日鉄住金化学社製)、エポリードPB(ダイセル社製)等が挙げられる。
上記グリシジルエステル化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記エポキシ化合物のうちその他に市販されているものとしては、例えば、YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも新日鉄住金化学社製)、XAC4151(旭化成社製)、jER1031、jER1032(いずれも三菱化学社製)、EXA−7120(DIC社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。
なお、本明細書において上記部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂とは、1分子中にエポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをそれぞれ1つ以上有する化合物を意味し、例えば、2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得ることができる。
上記(メタ)アクリル化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られる(メタ)アクリル酸エステル化合物、(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレート、イソシアネート化合物に水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。なかでも、エポキシ(メタ)アクリレートが好ましい。また、上記(メタ)アクリル化合物は、反応性の高さから分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上有するものが好ましい。
なお、本明細書において、上記「(メタ)アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味し、上記「(メタ)アクリル化合物」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基(以下、併せて「(メタ)アクリロイル基」ともいう)を有する化合物を意味する。また、上記「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、上記「エポキシ(メタ)アクリレート」とは、エポキシ化合物中の全てのエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させた化合物のことを表す。
上記ラジカル重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤や加熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤が挙げられる。
なお、本明細書において上記「高分子アゾ化合物」とは、アゾ基を有し、熱によって(メタ)アクリロイル基を硬化させることができるラジカルを生成する、数平均分子量が300以上の化合物を意味する。
なお、本明細書において、上記数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定を行い、ポリスチレン換算により求められる値である。GPCによってポリスチレン換算による数平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Shodex LF−804(昭和電工社製)等が挙げられる。
上記アゾ基を介してポリアルキレンオキサイド等のユニットが複数結合した構造を有する高分子アゾ開始剤としては、ポリエチレンオキサイド構造を有するものが好ましい。このような高分子アゾ開始剤としては、例えば、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)とポリアルキレングリコールの重縮合物や、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)と末端アミノ基を有するポリジメチルシロキサンの重縮合物等が挙げられ、具体的には例えば、VPE−0201、VPE−0401、VPE−0601、VPS−0501、VPS−1001(いずれも和光純薬工業社製)等が挙げられる。
また、高分子アゾ開始剤以外のアゾ開始剤としては、例えば、V−65、V−501(いずれも和光純薬工業社製)等が挙げられる。
上記チタンブラックは、1μmあたりの光学濃度(OD値)が、3以上であることが好ましく、4以上であることがより好ましい。上記チタンブラックの遮光性は高ければ高いほどよく、上記チタンブラックのOD値に好ましい上限は特にないが、通常は5以下となる。
また、遮光剤として上記チタンブラックを配合した本発明の液晶表示素子用シール剤を用いて製造した液晶表示素子は、充分な遮光性を有するため、光の漏れ出しがなく高いコントラストを有し、優れた画像表示品質を有する液晶表示素子を実現することができる。
また、上記チタンブラックの体積抵抗の好ましい下限は0.5Ω・cm、好ましい上限は3Ω・cmであり、より好ましい下限は1Ω・cm、より好ましい上限は2.5Ω・cmである。
なお、上記遮光剤の一次粒子径は、NICOMP 380ZLS(PARTICLE SIZING SYSTEMS社製)を用いて、上記遮光剤を溶媒(水、有機溶媒等)に分散させて測定することができる。
本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、液晶滴下工法が好適に用いられ、具体的には例えば、ITO薄膜等の電極を有する2枚の透明基板の一方に、本発明の液晶表示素子用シール剤をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により枠状のシールパターンを形成する工程、液晶の微小滴をシールパターンの枠内全面に滴下塗布し、真空下で他方の基板を重ね合わせる工程、及び、加熱してシール剤を硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。また、加熱してシール剤を硬化させる工程の前に、光照射によりシール剤を仮硬化させる工程を行ってもよい。
1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン71重量部と、ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート500重量部と、n−ブチルアルコール500重量部を加えて混合溶解し、100℃で3時間加熱撹拌を行った。得られた反応混合物の溶媒除去と乾燥を行い、得られた固形物をジェットミルにて粉砕し、上記式(1)で表される構造を有する化合物A(融点83℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Aは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(3)で表される構造(Xが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2がメチル基))を有することを確認した。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に代えてビスフェノールFジグリシジルエーテル170重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物B(融点68℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Bは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(3)で表される構造(Xが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2が水素))を有することを確認した。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に代えてビスフェノールEジグリシジルエーテル180重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物C(融点78℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Cは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(3)で表される構造(Xが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2の一方がメチル基、もう一方が水素))を有することを確認した。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に代えてレゾルシノールジグリシジルエーテル130重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物D(融点94℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Dは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(3)で表される構造(Xが上記式(2−4)で表される基)を有することを確認した。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に代えてビフェニル−4,4’−ジイルビス(グリシジルエーテル)180重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物E(融点98℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Eは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(3)で表される構造(Xが上記式(2−3)で表される基)を有することを確認した。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に代えてビスフェノールA型エポキシ樹脂247重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物F(融点109℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Fは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(3)で表される構造(Xが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2がメチル基))を有することを確認した。
1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン71重量部に代えてジアミノジフェニルメタン99重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物G(融点97℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Gは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(1)におけるXが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2がメチル基)である構造を有することを確認した。
1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン71重量部に代えて1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン71重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Aの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物H(融点81℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Hは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(4)で表される構造(Xが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2がメチル基))を有することを確認した。
1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン71重量部に代えて1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン71重量部を用いたこと以外は、上記「(式(1)で表される構造を有する化合物Bの作製)」と同様にして、上記式(1)で表される構造を有する化合物I(融点67℃)を得た。得られた式(1)で表される構造を有する化合物Iは、1H−NMR、13C−NMR、及び、FT−IR分析により、上記式(4)で表される構造(Xが上記式(2−1)で表される基(R1及びR2が水素))を有することを確認した。
2−メチルイミダゾール20重量部と、ビスフェノールAジグリシジルエーテル190重量部に、トルエン500重量部と、n−ブチルアルコール500重量部を加えて混合溶解し、70℃で2時間加熱撹拌を行った。得られた反応混合物の溶媒除去と乾燥を行い、得られた固形物をジェットミルにて粉砕し、エポキシ−イミダゾールアダクト化合物を得た。
表1、2に記載された配合比に従い、各材料を、遊星式撹拌機(シンキー社製、「あわとり練太郎」)を用いて混合した後、更に3本ロールを用いて混合することにより実施例1〜15、比較例1、2の各液晶表示素子用シール剤を調製した。
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤について以下の評価を行った。結果を表1、2に示した。
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤について、製造直後の初期粘度と、25℃で3日間保管したときの粘度とを測定した。(25℃、3日間保管後の粘度)/(初期粘度)を粘度変化率とし、粘度変化率が1.2未満であったものを「○」、1.2以上1.5未満であったものを「△」、1.5以上であったものを「×」として保存安定性を評価した。
なお、シール剤の粘度は、E型粘度計(BROOK FIELD社製、「DV−III」)を用い、25℃において回転速度1.0rpmの条件で測定した。
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤について、メタルハライドランプを用いて100mW/cm2の紫外線を30秒照射した後、100℃で40分間加熱した時のエポキシ基の反応率(エポキシ基由来のピークの減少率)をFT−IR測定器(Agilent Technologies社製、「UMA600」)を用いて測定した。エポキシ基の反応率が90%以上であったものを「○」、90%未満70%以上であったものを「△」、70%未満であったものを「×」として低温硬化性を評価した。
実施例及び比較例で得られた各液晶表示素子用シール剤100重量部にスペーサー微粒子(積水化学工業社製、「ミクロパールSI−H050」)1重量部を分散させ、液晶表示素子用シール剤として、2枚のラビング済み配向膜及び透明電極付き基板の一方にシール剤の線幅が1mmになるようにディスペンサーで塗布した。
続いて液晶(チッソ社製、「JC−5004LA」)の微小滴を透明電極付き基板のシール剤の枠内全面に滴下塗布し、すぐにもう一方の透明電極付きカラーフィルター基板を貼り合わせ、シール剤部分にメタルハライドランプを用いて100mW/cm2の紫外線(波長365nm)を30秒照射した後、100℃で40分間加熱して液晶表示素子を得た。
得られた液晶表示素子について、100時間動作試験を行った後、80℃で1000時間電圧印加状態とした後のシール剤付近の液晶配向乱れを目視によって確認した。
配向乱れは表示部の色むらにより判断しており、色むらの程度に応じて、色むらが全くなかった場合を「◎」、色むらが微かにあった場合を「○」、色むらが少しあった場合を「△」、色むらがかなりあった場合を「×」として低液晶汚染性を評価した。
なお、評価が「◎」、「○」の液晶表示素子は、実用に全く問題のないレベルであり、「△」は液晶表示素子の表示設計によって問題になる可能性があるレベルであり、「×」は実用に耐えないレベルである。
Claims (7)
- 式(1)で表される構造を有する化合物は、融点が60℃〜100℃であることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の液晶表示素子用シール剤。
- 請求項1、2、3、4又は5記載の液晶表示素子用シール剤と導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。
- 請求項1、2、3、4若しくは5記載の液晶表示素子用シール剤又は請求項6記載の上下導通材料を用いてなることを特徴とする液晶表示素子。
Applications Claiming Priority (3)
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JP2016001194 | 2016-01-06 | ||
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Publications (2)
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