JP6798622B2 - Method for manufacturing a laminate containing a curable bonding material - Google Patents

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Description

本発明は、画像表示装置に用いられる部材の積層に使用可能な接合材を用いた積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a laminated body using a bonding material that can be used for laminating members used in an image display device.

近年、テレビ、スマートフォン、パーソナルアシスタントデバイス(PAD)、タブレットコンピュータ、カーナビゲーションシステム等の表示装置として、液晶表示装置が広く用いられている。 In recent years, liquid crystal display devices have been widely used as display devices for televisions, smartphones, personal assistant devices (PADs), tablet computers, car navigation systems, and the like.

前記液晶表示装置としては、一般に、液晶表示パネルと、この液晶表示パネルの背面に重ねて配置され液晶表示パネルを照明する面状照明装置(バックライト装置)、サーキットボード(基板)やその他電子部品が装着されるシャーシ、部品から生じる熱を拡散するヒートシンク等の部材が積層された構成を備えていることが知られている。 The liquid crystal display device generally includes a liquid crystal display panel, a planar lighting device (backlight device) arranged on the back surface of the liquid crystal display panel to illuminate the liquid crystal display panel, a circuit board (board), and other electronic components. It is known that the chassis to which the liquid crystal is mounted and a member such as a heat sink for diffusing heat generated from the components are laminated.

前記液晶表示装置の部材を積層するには、通常、部材同士を強固に固定し、かつ、経時的な部材の脱落を防止することを目的として、これらの部材同士の間に、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等の接着剤で構成される接合層を介在させることにより2つの部材同士を接合させる方法が多用されている(例えば特許文献1参照。)。 In order to stack the members of the liquid crystal display device, usually, for the purpose of firmly fixing the members to each other and preventing the members from falling off over time, an epoxy adhesive is used between the members. , A method of joining two members to each other by interposing a joining layer composed of an adhesive such as a urethane-based adhesive is often used (see, for example, Patent Document 1).

また前記部材同士を接合させる方法においては、例えば積層する部材表面に撓みや凹凸がある場合においては、接着剤を塗布し、撓みや凹凸に接着剤を追従させた後、塗布面の厚みムラを除去するため、塗布された接着剤をスキージすることで接着剤を塗布した面を平滑化し、その後にもう一方の部材を積層する工程を有している(例えば特許文献2参照。)。 Further, in the method of joining the members to each other, for example, when the surface of the members to be laminated has bending or unevenness, an adhesive is applied, and after the adhesive is made to follow the bending or unevenness, the thickness unevenness of the coated surface is caused. In order to remove the adhesive, the surface to which the adhesive is applied is smoothed by squeezing the applied adhesive, and then the other member is laminated (see, for example, Patent Document 2).

現在の製造においては、前述した積層工程に必要な施工時間を確保するため、硬化時間の長い接着剤を用いる必要があった。その結果、前述した積層工程後の接着剤が十分な接合強度を発現するまで長時間養生する工程を要していた。 In the current production, it is necessary to use an adhesive having a long curing time in order to secure the construction time required for the above-mentioned laminating process. As a result, a step of curing for a long time was required until the adhesive after the above-mentioned laminating step exhibited sufficient bonding strength.

前記積層工程後の接着剤の硬化の進行を速める手段として、接着剤の加熱硬化も検討されたが、硬化時の熱で前記液晶表示装置の部材が損傷する恐れがあった。また、部材毎の熱膨張差により、冷却した際に生じる部材間のひずみによって部材を変形させたり、接合材と部材間にクラックが生じ、剥がれたりする等の問題があり、接着剤を用いた接合方法において課題を抱えていた。 Heat curing of the adhesive was also considered as a means for accelerating the progress of curing of the adhesive after the laminating step, but there was a risk that the members of the liquid crystal display device would be damaged by the heat during curing. In addition, due to the difference in thermal expansion of each member, there are problems such as deformation of the member due to strain between the members generated when cooling, cracks between the joining material and the member, and peeling, so an adhesive is used. There was a problem in the joining method.

また、前記硬化時間短縮のため、常温下での硬化性に優れる接着剤を用いると、前述した積層工程に必要な施工時間を確保できず、また、積層する前に硬化が進行するため、積層時に十分な接合強度が発現しない場合があった。 Further, in order to shorten the curing time, if an adhesive having excellent curability at room temperature is used, the construction time required for the above-mentioned laminating step cannot be secured, and the curing proceeds before laminating. Occasionally, sufficient bonding strength was not developed.

その他、低温短時間で硬化を完了する手段として、光の照射による接合法も検討されたが、光を透過できない部材においては使用ができず、適用部材が制限され、実用化は困難であった。 In addition, as a means to complete curing at low temperature in a short time, a joining method by irradiating light was also studied, but it could not be used for a member that cannot transmit light, the applicable members were limited, and it was difficult to put it into practical use. ..

以上の背景から現在、短時間かつ低温で施工が完了し、かつ光不透過な材料に対しても好適に接合することが可能な新たな接合方法が強く求められている。 From the above background, there is a strong demand for a new joining method that can be completed in a short time and at a low temperature and can be suitably joined to a light-impermeable material.

特許第5546136号公報Japanese Patent No. 5546136 特開2003−136677号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-136677

本発明が解決しようとする課題は、短時間かつ低温でも施工が完了し、かつ光不透過な材料に対しても好適に接合することが可能な新たな積層体の製造方法を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a new method for producing a laminated body, which can be completed in a short time and at a low temperature and can be suitably bonded to a light-impermeable material. is there.

本発明者らは、積層体の製造方法に着目し、鋭意研究を行った結果、下記[1]〜[3]の工程を有する製造方法により、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research focusing on a method for producing a laminate, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by a production method having the following steps [1] to [3], and the present invention has been developed. It came to be completed.

すなわち、本発明は被着体(C1)と接合材(X)を含む積層体の製造方法であって、接合材(X)の反応性部位を活性化する工程[1]と、被着体(C1)へ貼付する工程[2]と、接合材(X)が硬化する工程[3]をこの順で含む製造方法である。 That is, the present invention is a method for producing a laminate containing an adherend (C1) and a bonding material (X), which comprises a step [1] of activating a reactive site of the bonding material (X) and an adherend. This is a manufacturing method including a step [2] of attaching to (C1) and a step [3] of curing the bonding material (X) in this order.

本発明では、接合材(X)の反応性部位を活性化させるため、接合材(X)の硬化反応を短時間、かつ低温で進行させることが可能である。 In the present invention, since the reactive portion of the bonding material (X) is activated, the curing reaction of the bonding material (X) can proceed in a short time and at a low temperature.

本発明では、接合材(X)の反応性部位を活性化させた後に、被着体(C1)へ貼付することが可能であるため、光を透過できない部材等の様々な部材に対して適用が可能である。 In the present invention, since the reactive portion of the bonding material (X) can be activated and then attached to the adherend (C1), it can be applied to various members such as members that cannot transmit light. Is possible.

本発明の製造方法は、被着体(C1)と接合材(X)を含む積層体の製造方法であって、接合材(X)の反応性部位を活性化する工程[1]と、接合材(X)を被着体(C1)へ貼付する工程[2]と、接合材(X)が硬化する工程[3]をこの順で含む製造方法である。 The production method of the present invention is a method for producing a laminate containing an adherend (C1) and a bonding material (X), and includes a step [1] of activating a reactive site of the bonding material (X) and bonding. This is a manufacturing method including a step [2] of attaching the material (X) to the adherend (C1) and a step [3] of curing the bonding material (X) in this order.

本発明の製造方法は、前記接合材(X)の反応部位を活性化した後に被着体(C1)へ貼付するため、接合材(X)の反応性を高めた状態で硬化を進行することができる。これにより、活性化させない状態と比較して、低温での硬化の進行が可能となる。また、活性化させない状態と比較して、短時間での硬化の進行が可能となる。 In the production method of the present invention, since the reaction site of the bonding material (X) is activated and then attached to the adherend (C1), curing proceeds in a state where the reactivity of the bonding material (X) is enhanced. Can be done. This makes it possible for the curing to proceed at a low temperature as compared with the non-activated state. In addition, the curing can proceed in a short time as compared with the non-activated state.

本発明の製造方法は、工程[1]において、前記接合材(X)の反応性部位を活性化する工程を行い、前記接合材(X)は、材料中に反応性部位を有する。この反応性部位とは、外部刺激を与えることにより活性化され、別の部位と反応可能な状態になる部位のことを指す。 In the production method of the present invention, in step [1], the step of activating the reactive site of the bonding material (X) is performed, and the bonding material (X) has a reactive site in the material. This reactive site refers to a site that is activated by giving an external stimulus and becomes ready to react with another site.

接合材(X)の反応性部位を活性化する手段は、熱、光、湿気等があり、これに限定されるものではないが、熱や光を用いることが好ましく、光を用いることがより好ましい。光によって活性化される前記接合材(X)は保存安定性が良好であり、かつ低温下で反応性部位を活性化することが可能となる。また、外部刺激は単独で用いても良く、複数を併用して用いても良い。 The means for activating the reactive site of the bonding material (X) includes, but is not limited to, heat, light, humidity, etc., but it is preferable to use heat or light, and it is more preferable to use light. preferable. The bonding material (X) activated by light has good storage stability and can activate the reactive site at a low temperature. Further, the external stimulus may be used alone or in combination of two or more.

前記光で反応部位を活性化する手段として、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニ As means for activating the reaction site with the light, photoradical polymerization, photocationic polymerization, photoanimation

オン重合が挙げられるが、光カチオン重合、または光アニオン重合を用いることが硬化時に酸素の阻害を受けず、かつ光を照射した後も継続的に反応が進行し、また、光を透過しない部材に対しても接合材に光を照射した後に被着体と積層することが可能であるため好ましい。更に、光カチオン重合を用いることが、光照射時の反応性に優れ、硬化後の高い接合性を得やすいためより好ましい。また、これら重合方法は単独で用いても良く、複数を併用して用いても良い。 On-polymerization can be mentioned, but the use of photocationic polymerization or photoanionic polymerization does not hinder oxygen during curing, the reaction proceeds continuously even after irradiation with light, and a member that does not transmit light. However, it is also preferable because the bonding material can be laminated with the adherend after being irradiated with light. Further, it is more preferable to use photocationic polymerization because it has excellent reactivity at the time of light irradiation and high bondability after curing can be easily obtained. Further, these polymerization methods may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の製造方法は、被着体(C1)と被着体(C2)が接合材(X)を介して含む積層体の製造方法であって、接合材(X)を被着体(C2)に貼付する工程[01]と、と、接合材(X)の反応性部位を活性化する工程[1]と、被着体(C1)へ貼付する工程[2]と、接合材(X)が硬化する工程[3]をこの順で含み、前記工程[01]と工程[1]の間、及び、前記工程[2]と工程[3]の間の少なくとも一方において、段差追従する工程(養生工程)[02]を含む製造方法である。 Further, the manufacturing method of the present invention is a method for manufacturing a laminated body in which an adherend (C1) and an adherend (C2) are included via a bonding material (X), and the adhering material (X) is included in the adherend. The step [01] of sticking to (C2), the step [1] of activating the reactive portion of the bonding material (X), the step [2] of sticking to the adherend (C1), and the bonding material. Step [3] in which (X) is cured is included in this order, and step tracking is performed in at least one of the steps [01] and [1] and between the steps [2] and [3]. It is a manufacturing method including the step (curing step) [02].

前記工程[02]の段差追従する工程では、被着体(C1)及び/又は被着体(C2)において、撓み及び/又は凹凸が存在するものに対して、前記接合材(X)を貼付し、撓み及び/又は凹凸を埋める工程を行う。 In the step of following the step in the step [02], the bonding material (X) is attached to the adherend (C1) and / or the adherend (C2) having bending and / or unevenness. Then, a step of filling the bending and / or unevenness is performed.

前記工程[02]は、前述した接合材(X)の反応性部位を活性化する工程[1]を経ることで硬化が開始するため、本製造法にて接合する被着体のいずれか一方に撓み及び/又は凹凸が存在する場合は、工程[02]は、前記接合材が前記撓み及び/又は凹凸に段差追従するための時間(養生時間)を十分に確保する上で前記工程[01]の後、かつ前記工程[1]の前に行うことが好ましい。 In the step [02], curing is started by going through the step [1] for activating the reactive site of the bonding material (X) described above, so that one of the adherends to be bonded by this production method is used. When the bending and / or unevenness is present in the step [02], the step [02] is performed in order to secure a sufficient time (curing time) for the bonding material to follow the bending and / or unevenness. ] And before the step [1].

前記工程[01]は、積層する部材が損傷したり、接合材が過度に変形し流動したりしない範囲においては、加熱する工程を含んでもよい。前記加熱する工程を含むことで、前記接合材(X)を前記被着体(C2)へ貼付する際、より強固に密着し、高い接合強度を得ることが出来る。 The step [01] may include a step of heating as long as the members to be laminated are not damaged or the bonding material is not excessively deformed and flows. By including the heating step, when the bonding material (X) is attached to the adherend (C2), it adheres more firmly and a high bonding strength can be obtained.

前記工程[01]において、加熱する温度は10℃以上150℃以下が好ましく、20℃以上120℃以下がより好ましく、30℃以上100℃以下が更に好ましく、40℃以上90℃以下が最も好ましい。前記範囲にすることで、部材の損傷を抑制し、また接合材の過度な変形を抑制しながらより強固に密着し、高い接合強度を得ることが出来る。 In the step [01], the heating temperature is preferably 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, further preferably 30 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and most preferably 40 ° C. or higher and 90 ° C. or lower. Within the above range, damage to the member can be suppressed, excessive deformation of the bonding material can be suppressed, and the bonding can be more firmly adhered to obtain high bonding strength.

前記工程[02]は、積層する部材が損傷したり、接合材が過度に変形し流動したりしない範囲においては、加熱する工程を含んでもよい。前記加熱する工程を含むことで、前記接合材(X)を前記被着体(C2)に段差追従する際、前記接合材(X)の段差追従に必要な時間を短縮し、本発明の製造方法を短時間で完了することが可能となる。 The step [02] may include a step of heating as long as the members to be laminated are not damaged or the bonding material is not excessively deformed and flows. By including the heating step, when the bonding material (X) follows the step of the adherend (C2), the time required for following the step of the bonding material (X) is shortened, and the production of the present invention is performed. The method can be completed in a short time.

前記工程[02]において、加熱する温度は20℃以上150℃以下が好ましく、40℃以上120℃以下がより好ましく、55℃以上100℃以下が更に好ましく、70℃以上90℃以下が最も好ましい。前記範囲にすることで、積層する部材の損傷や、接合材の段差追従時の過度な変形を抑制しながら段差追従することが出来る。 In the step [02], the heating temperature is preferably 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, further preferably 55 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and most preferably 70 ° C. or higher and 90 ° C. or lower. Within the above range, it is possible to follow the step while suppressing damage to the members to be laminated and excessive deformation of the joint material when following the step.

前記工程[2]は、前記工程[1]を行ってから、24時間以内に行うことが好ましく、12時間以内に行うことがより好ましく、3時間以内に行うことが更に好ましく、1時間以内に行うことが最も好ましい。前記範囲にすることで、前記接合材(X)を被着体(C1)へ貼付する際、より強固に密着し、高い接合強度を得ることが出来る。 The step [2] is preferably performed within 24 hours, more preferably within 12 hours, further preferably within 3 hours, and within 1 hour after the step [1] is performed. Most preferably done. Within the above range, when the bonding material (X) is attached to the adherend (C1), the bonding material (X) adheres more firmly and a high bonding strength can be obtained.

前記工程[2]は、積層する部材の損傷や、部材間にひずみが生じることで部材を変形させたり、接合材と部材間にクラックが生じたりさせない範囲においては、加熱しながら貼付してもよい。前記加熱する工程を含むことで、前記接合材(X)を被着体(C1)へ貼付する際、より強固に密着し、高い接合強度を得ることが出来る。 In the step [2], the members may be attached while being heated as long as the members to be laminated are not damaged, the members are not deformed due to strain between the members, or cracks are not generated between the joining material and the members. Good. By including the heating step, when the bonding material (X) is attached to the adherend (C1), it adheres more firmly and a high bonding strength can be obtained.

前記工程[2]において、加熱する温度は10℃以上150℃以下が好ましく、20℃以上120℃以下がより好ましく、30℃以上100℃以下が更に好ましく、40℃以上80℃以下が最も好ましい。前記範囲にすることで、部材の損傷を抑制し、また接合材の過度な変形を抑制しながらより強固に密着し、高い接合強度を得ることが出来る。 In the step [2], the heating temperature is preferably 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, further preferably 30 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and most preferably 40 ° C. or higher and 80 ° C. or lower. Within the above range, damage to the member can be suppressed, excessive deformation of the bonding material can be suppressed, and the bonding can be more firmly adhered to obtain high bonding strength.

前記工程[3]は、前記接合材(X)が硬化する工程を含む。前記接合材(X)を硬化させることで、接合材(X)と被着体(C1)がより強固に密着し、高い接合強度を得ることが出来る。 The step [3] includes a step of curing the bonding material (X). By curing the bonding material (X), the bonding material (X) and the adherend (C1) are more firmly adhered to each other, and high bonding strength can be obtained.

前記工程[3]は、積層する部材の損傷や、部材間にひずみが生じることで部材を変形させたり、接合材と部材間にクラックが生じさせたりしない範囲においては、加熱する工程を含んでもよい。前記加熱する工程を含むことで、前記接合材(X)と被着体(C1)を積層させた後、前記接合材(X)の硬化に必要な時間を短縮し、本発明の製造方法を短時間で完了することが可能となる。 The step [3] may include a step of heating as long as the members to be laminated are not damaged or strain is generated between the members to deform the members or cracks are not generated between the joining material and the members. Good. By including the heating step, the time required for curing the bonding material (X) after laminating the bonding material (X) and the adherend (C1) is shortened, and the production method of the present invention can be obtained. It can be completed in a short time.

前記工程[3]において、加熱する温度は20℃以上150℃以下が好ましく、40℃以上120℃以下がより好ましく、55℃以上100℃以下が更に好ましく、70℃以上90℃以下が最も好ましい。前記範囲にすることで、部材の損傷を抑制し、また部材間にひずみが生じることによる部材の変形や、接合材と部材間に生じるクラックを防止することが出来る。 In the step [3], the heating temperature is preferably 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, further preferably 55 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and most preferably 70 ° C. or higher and 90 ° C. or lower. Within the above range, damage to the members can be suppressed, and deformation of the members due to strain between the members and cracks generated between the joining material and the members can be prevented.

前記接合材(X)は、前記工程[01]において、貼付時の貯蔵弾性率が5.0×10Pa以上の範囲であることが好ましく、5.0×10Pa〜1.0×10の範囲であることがより好ましく、5.0×10Pa〜1.0×10Paであることがより好ましい。前記範囲にすることで、前記接合材の硬化前の取り扱いを容易とし、接合材が変形し流動することを抑制出来る。In the step [01], the bonding material (X) preferably has a storage elastic modulus in the range of 5.0 × 10 3 Pa or more, and 5.0 × 10 4 Pa to 1.0 ×. more preferably in the range of 10 8, more preferably 5.0 × 10 5 Pa~1.0 × 10 7 Pa. By setting the range to the above range, it is possible to facilitate the handling of the joint material before curing and to prevent the joint material from being deformed and flowing.

さらに、前記接合材(X)としては、前記工程[02]において、段差追従時の接合材(X)の貯蔵弾性率が5.0×10Pa未満であることが好ましく、1.0×10Pa以下であることがより好ましく、1.0×10Pa以下であることがさらに好ましい。前記範囲にすることで、段差部への追従性をより一層向上した接合材を得ることが出来る。Further, as the bonding material (X), in the step [02], the storage elastic modulus of the bonding material (X) at the time of following a step is preferably less than 5.0 × 10 3 Pa, and 1.0 × It is more preferably 10 3 Pa or less, and further preferably 1.0 × 10 2 Pa or less. Within the above range, it is possible to obtain a bonding material having further improved followability to the stepped portion.

前記工程[3]後の25℃における接合材(X)の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上であることが好ましく、1.0×10Pa以上であることがより好ましく、1×10Pa以上であることが更に好ましい。前記範囲にすることで、前記接合材(X)の硬化物の接合強度をより一層向上させることが出来る。The storage elastic modulus of the bonding material (X) at 25 ° C. after the step [3] is preferably 1.0 × 10 5 Pa or more, more preferably 1.0 × 10 6 Pa or more. It is more preferably × 10 8 Pa or more. Within the above range, the bonding strength of the cured product of the bonding material (X) can be further improved.

なお、前記接合材(X)の貯蔵弾性率は周波数1.0Hzで測定した場合の数値である。 The storage elastic modulus of the bonding material (X) is a numerical value measured at a frequency of 1.0 Hz.

本発明の製造方法で用いる接合材(X)としては、後述する重合性化合物等を含有する組成物を使用することができるが、前記重合性化合物は、外部刺激によって重合が誘発されれば特に限定はされない。 As the bonding material (X) used in the production method of the present invention, a composition containing a polymerizable compound or the like described later can be used, and the polymerizable compound is particularly produced if polymerization is induced by an external stimulus. There is no limitation.

前記接合材(X)としては、硬化前の取り扱い性に優れ、かつ厚み調整が容易であることから、予めシート状に成形されたものを使用することが好ましい。 As the bonding material (X), it is preferable to use a material previously molded into a sheet shape because it is easy to handle before curing and its thickness can be easily adjusted.

前記シート状の接合材としては、厚さが50〜2000μmの範囲のものを使用することが好ましく、100〜1000μmのものを使用することがより好ましく、200〜800μmのものを使用することが最も好ましい。前記範囲にすることで、硬化前の取り扱い性に優れ、かつ、被着体表面に凹凸や撓み等の段差があるものに対しても追従を行うことが可能となる。 As the sheet-shaped bonding material, it is preferable to use a material having a thickness in the range of 50 to 2000 μm, more preferably 100 to 1000 μm, and most preferably 200 to 800 μm. preferable. Within the above range, the handleability before curing is excellent, and it is possible to follow the surface of the adherend having steps such as unevenness and bending.

前記重合性化合物としては、熱重合性化合物、光重合性化合物を含有することが好ましいが、光重合性化合物を用いることが、前記接合材(X)の製造工程[1]より以前の保存安定性が向上し、かつ低温下で反応性部位を活性化することが可能となるためより好ましい。 The polymerizable compound preferably contains a thermopolymerizable compound and a photopolymerizable compound, but it is preferable to use the photopolymerizable compound for storage stability prior to the production step [1] of the bonding material (X). It is more preferable because the property is improved and the reactive site can be activated at a low temperature.

前記光重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合性化合物、光カチオン重合性化合物、光アニオン重合性化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、併用して用いてもよいが、光カチオン重合性化合物、または光アニオン重合性化合物を用いることが硬化時に酸素の阻害を受けず、かつ光照射後も継続的に反応が進行し、また、接合材に光を照射した後に被着体と積層することで、光を透過しない部材に対しても積層することが可能であるため好ましい。更に、カチオン重合性化合物を用いることが、光照射後の反応性に優れ、硬化後の高い接合性を得やすいためより好ましい。 Examples of the photopolymerizable compound include a photoradical polymerizable compound, a photocationic polymerizable compound, and a photoanionic polymerizable compound. These may be used alone or in combination, but the use of a photocationically polymerizable compound or a photoanionic polymerizable compound does not cause oxygen inhibition during curing and continues even after light irradiation. Further, it is preferable that the bonding material is irradiated with light and then laminated with the adherend, so that the bonding material can be laminated even on a member that does not transmit light. Further, it is more preferable to use a cationically polymerizable compound because it has excellent reactivity after light irradiation and high bondability after curing can be easily obtained.

前記カチオン重合性化合物としては、1分子中に1個以上のカチオン重合性の官能基を有するものであればよく、特に限定されるものではない。光カチオン重合性化合物としては、1分子中に1個以上のエポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ビニルエーテル基、エピスルフィド基、エチレンイミン基、オキサゾリン基等のカチオン重合性の官能基を有するものであることが好ましい。中でも、高い硬化性と、硬化後の接合強度を得るうえで、エポキシ基を有するカチオン重合性化合物がより好ましい。 The cationically polymerizable compound is not particularly limited as long as it has one or more cationically polymerizable functional groups in one molecule. The photocationically polymerizable compound shall have one or more cationically polymerizable functional groups such as an epoxy group, an oxetanyl group, a hydroxyl group, a vinyl ether group, an episulfide group, an ethyleneimine group and an oxazoline group in one molecule. Is preferable. Above all, a cationically polymerizable compound having an epoxy group is more preferable in order to obtain high curability and bonding strength after curing.

前記エポキシ樹脂としては、1分子中に1個以上エポキシ基を有する化合物を使用することができる。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、イソシアネート変性エポキシ樹脂、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ 9−オキサ−10−フォスファフェナントレン−10−オキサイド変性エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ヘキサンジオール型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ基を有するアクリル樹脂、エポキシ基を有するポリウレタン樹脂、エポキシ基を有するポリエステル樹脂、可とう性を有するエポキシ樹脂等を使用することができる。 As the epoxy resin, a compound having one or more epoxy groups in one molecule can be used. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, polyhydroxynaphthalene type epoxy resin, isocyanate-modified epoxy resin, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) ) -9,10-Dihydro 9-oxa-10-phosphophenanthrene-10-oxide-modified epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, hexanediol type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetra Phenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed Novolak type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type epoxy resin, biphenyl modified novolac type epoxy resin, trimethylolpropan type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, acrylic resin having epoxy group, polyurethane having epoxy group A resin, a polyester resin having an epoxy group, an epoxy resin having flexibility, and the like can be used.

なかでも、前記エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂や多官能脂肪族型エポキシ樹脂を使用することが、前記カチオン重合性に優れるため、硬化性に優れた接合材を得ることが出来る。 Among them, when the alicyclic epoxy resin or the polyfunctional aliphatic epoxy resin is used as the epoxy resin, the cationically polymerizable property is excellent, so that a bonding material having excellent curability can be obtained.

さらに、これらに他の樹脂成分などを配合したり、付加したりして可撓性を高めたり、接着力や屈曲力の向上は図ってもよく、このような変性体としては、CTBN(末端カルボキシル基含有ブタジエン−アクリロニトリルゴム)変性エポキシ樹脂;アクリルゴム、NBR、SBR、ブチルゴム、もしくはイソプレンゴムなどの各種ゴムを樹脂分散させたエポキシ樹脂;上記のような液状ゴムで変性されたエポキシ樹脂;アクリル、ウレタン、尿素、ポリエステル、スチレンなどの各種樹脂を添加してなるエポキシ樹脂;キレート変性エポキシ樹脂;ポリオール変性エポキシ樹脂などを用いることができる。 Further, other resin components and the like may be blended or added to these to increase the flexibility, and the adhesive force and the bending force may be improved. As such a modified product, CTBN (terminal) is used. Carboxyl group-containing butadiene-acrylonitrile rubber) modified epoxy resin; epoxy resin in which various rubbers such as acrylic rubber, NBR, SBR, butyl rubber, or isoprene rubber are dispersed in resin; epoxy resin modified with liquid rubber as described above; acrylic , Urethane, urea, polyester, styrene and other epoxy resins added; chelate-modified epoxy resin; polyol-modified epoxy resin and the like can be used.

エポキシ基以外のカチオン重合性の官能基を有する光カチオン重合性化合物の具体例としては、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,4−ビス[(3−メチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、3−メチル−3−グリシジルオキセタン、3−エチル−3−グリシジルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ{1−エチル(3−オキセタニル)}メチルエーテル等のオキセタン化合物が挙げられる。 Specific examples of the photocationically polymerizable compound having a cationically polymerizable functional group other than the epoxy group include 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene and 1,4-bis [(. 3-Methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 3-methyl-3-glycidyloxetane, 3-ethyl-3-glycidyloxetane, 3-methyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane , Oxetane compounds such as di {1-ethyl (3-oxetanyl)} methyl ether and the like.

本発明の製造方法で用いる接合材(X)としては、前記重合性化合物のほかに必要に応じてその他の成分を含有するものを使用することができる。 As the bonding material (X) used in the production method of the present invention, a material containing other components in addition to the above-mentioned polymerizable compound can be used.

本発明の製造方法で用いる接合材(X)としては、前記重合性化合物と反応しうる重合開始剤を使用することが好ましい。 As the bonding material (X) used in the production method of the present invention, it is preferable to use a polymerization initiator capable of reacting with the polymerizable compound.

前記重合開始剤としては、外部刺激により活性化されるものであればよく、例えば前記重合性化合物としてカチオン重合性化合物を使用する場合であれば、カチオン重合性の官能基と反応しうる官能基を有するものを使用することが好ましい。 The polymerization initiator may be one that is activated by an external stimulus. For example, when a cationically polymerizable compound is used as the polymerizable compound, a functional group capable of reacting with a cationically polymerizable functional group. It is preferable to use the one having.

また、前記重合開始剤としては、光重合開始剤と熱重合開始剤とがあり、これを単独で用いてもよいし、2種を併用してもよい。中でも、低温下での反応と、良好な硬化反応を得るため、外部刺激として、光により反応が進行する光重合開始剤を用いることが好ましい。これにより、積層する部材の損傷や、部材間にひずみが生じることで部材を変形させたり、接合材と部材間にクラックが生じさせたりすることなく、高い接合強度を得ることが出来る。 Further, the polymerization initiator includes a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator, which may be used alone or in combination of two. Above all, in order to obtain a reaction at a low temperature and a good curing reaction, it is preferable to use a photopolymerization initiator in which the reaction proceeds by light as an external stimulus. As a result, high bonding strength can be obtained without damaging the members to be laminated, deforming the members due to strain between the members, or causing cracks between the bonding material and the members.

前記光としては、紫外線や可視光など適宜の光を用いることができるが、300nm以上420nm以下の波長の光を用いることが好ましい。 As the light, appropriate light such as ultraviolet light or visible light can be used, but it is preferable to use light having a wavelength of 300 nm or more and 420 nm or less.

前記光重合開始剤としては、光により活性化されるものであればよく、例えば光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤が挙げられるが、例えば前記重合性化合物として光カチオン重合性化合物を使用する場合であれば、光カチオン重合開始剤を使用することが好ましい。 The photopolymerization initiator may be any one that is activated by light, and examples thereof include a photoradical polymerization initiator, a photocationic polymerization initiator, and a photoanionic polymerization initiator. For example, the photopolymerizable compound is light. When a cationically polymerizable compound is used, it is preferable to use a photocationic polymerization initiator.

上記光カチオン重合開始剤としては、使用する波長の光によりカチオン重合性の官能基の開環反応を誘発し得る限り、特に限定されるわけではないが、300〜370nmの波長の光によりカチオン重合性の官能基の開環反応を誘発し、かつ370nmを超える波長領域で非活性な化合物が好ましく用いられ、このような化合物としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩などのオニウム塩類が挙げられる。 The photocationic polymerization initiator is not particularly limited as long as it can induce a ring-opening reaction of a cationically polymerizable functional group with light having a wavelength of 300 to 370 nm, but it is cationically polymerized with light having a wavelength of 300 to 370 nm. Compounds that induce a ring-opening reaction of a sex functional group and are inactive in a wavelength region exceeding 370 nm are preferably used. Such compounds include, for example, aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfoniums. Examples include onium salts such as salts.

このようなオニウム塩類の具体例としては、例えば、オプトマーSP−150、オプトマーSP−170、オプトマーSP−171(いずれもADEKA社製)、UVE−1014(ゼネラルエレクトロニクス社製)、OMNICAT250、OMNICAT270(いずれもIGM Resin社製)、IRGACURE290(BASF社製)、サンエイドSI−60L、サンエイドSI−80L、サンエイドSI−100L(いずれも三新化学工業社製)、CPI−100P、CPI−101A、CPI−200K(いずれもサンアプロ社製)等が挙げられる。 Specific examples of such onium salts include, for example, Optomer SP-150, Optomer SP-170, Optomer SP-171 (all manufactured by ADEKA), UVE-1014 (manufactured by General Electronics), OMNICAT250, OMNICAT270 (all of which are manufactured by ADEKA). IGM Resin), IRGACURE290 (BASF), Sun Aid SI-60L, Sun Aid SI-80L, Sun Aid SI-100L (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K (Both are manufactured by Sun Appro) and the like.

なお、前記光カチオン重合開始剤は、単独で用いられてもよく、2種以上併用されてもよい。さらに、有効活性波長の異なる複数の光カチオン重合開始剤を用い、2段階硬化させてもよい。 The photocationic polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more. Further, a plurality of photocationic polymerization initiators having different effective active wavelengths may be used for two-step curing.

前記光カチオン重合開始剤は、必要に応じてアントラセン系、チオキサントン系等の増感剤を併用してもよい。 The photocationic polymerization initiator may be used in combination with an anthracene-based or thioxanthone-based sensitizer, if necessary.

前記光カチオン重合開始剤の配合割合としては、前記光カチオン重合開始剤100質量部に対し、0.001質量部〜30質量部の範囲で使用することが好ましく、0.01〜20質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1質量部〜10質量部の範囲で使用することが更に好ましい。前記光カチオン重合開始剤の配合割合が少なすぎると、高い接合強度の発現に必要な硬化が不十分となり、多すぎると硬化性は向上するが、光が照射されてから貼付が可能な時間が短くなりすぎることがある。 The blending ratio of the photocationic polymerization initiator is preferably in the range of 0.001 part by mass to 30 parts by mass, and 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photocationic polymerization initiator. It is preferably used in the range, and more preferably in the range of 0.1 parts by mass to 10 parts by mass. If the blending ratio of the photocationic polymerization initiator is too small, the curing required for developing high bonding strength will be insufficient, and if it is too large, the curability will be improved, but the time required for application after irradiation with light will be improved. It can be too short.

前記接合材(X)としては、硬化前の取り扱い性に優れ、かつ厚み調整が容易であることから、重量平均分子量が2000〜2000000の範囲の接着性樹脂を用いることが好ましい。より好ましい重量平均分子量の範囲は5000〜1000000であり、さらに好ましい重量平均分子量の範囲は5000〜800000である。重量平均分子量が小さすぎると、硬化前の接合材の凝集力が不足し、経時で接合材の染み出しが生じる等により取り扱い性が低下する。また、重量平均分子量が大きすぎると、前記重合性化合物との相溶性が低下することがある。 As the bonding material (X), it is preferable to use an adhesive resin having a weight average molecular weight in the range of 2000 to 2000000 because it is easy to handle before curing and its thickness can be easily adjusted. The more preferable range of the weight average molecular weight is 5000 to 1,000,000, and the more preferable range of the weight average molecular weight is 5000 to 800000. If the weight average molecular weight is too small, the cohesive force of the bonding material before curing is insufficient, and the bonding material exudes over time, resulting in poor handleability. Further, if the weight average molecular weight is too large, the compatibility with the polymerizable compound may decrease.

前記接着性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの接着性樹脂は、単独共重合体でも良く、共重合体でも良い。また、これらの接着性樹脂は単独で用いられても良く、2種以上が併用されても良い。 Examples of the adhesive resin include polyester, polyurethane, poly (meth) acrylate and the like. These adhesive resins may be a homopolymer or a copolymer. Further, these adhesive resins may be used alone or in combination of two or more.

前記接着性樹脂としては、常温下において粘着性を有することが、前記接合材を被着体へ積層する際の貼付性が向上するため好ましい。前記接着性樹脂の粘着性を付与するためには、前記接着性樹脂のガラス転移温度が、−40〜20℃の範囲であることが好ましく、−30〜10℃の範囲であることがより好ましい。上記範囲内のガラス転移温度であることで、粘着剤層に粘着性を付与するとともに、高い弾性率を付与でき、前記接合材の接合強度を向上することができる。なお、前記接着性樹脂のガラス転移温度は、例えば動的粘弾性試験機(レオメトリックス社製、商品名:アレス2KSTD)を用いて、同試験機の測定部である平行円盤の間に試験片を挟み込み、周波数1.0Hzでの貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G”)を測定することで算出できる損失正接(Tanδ)が最大値となる温度として算出することができる。 It is preferable that the adhesive resin has adhesiveness at room temperature because the adhesiveness when laminating the bonding material on the adherend is improved. In order to impart the adhesiveness of the adhesive resin, the glass transition temperature of the adhesive resin is preferably in the range of -40 to 20 ° C, more preferably in the range of -30 to 10 ° C. .. When the glass transition temperature is within the above range, the pressure-sensitive adhesive layer can be imparted with adhesiveness and a high elastic modulus can be imparted, and the bonding strength of the bonding material can be improved. The glass transition temperature of the adhesive resin is measured by using, for example, a dynamic viscoelasticity tester (manufactured by Leometrics, trade name: Ares 2KSTD) between the parallel disks, which is the measurement unit of the tester. Can be calculated as the temperature at which the loss tangent (Tan δ), which can be calculated by measuring the storage elastic modulus (G') and the loss elastic modulus (G ″) at a frequency of 1.0 Hz, becomes the maximum value.

前記接着性樹脂は架橋されても良いため、架橋剤や前記重合性化合物に含まれる官能基と反応可能な官能基が導入されていても良い。上記官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基等が挙げられるが、前述した重合性化合物の重合阻害とならない範囲において、適時選択することが好ましい。 Since the adhesive resin may be crosslinked, a functional group capable of reacting with a crosslinking agent or a functional group contained in the polymerizable compound may be introduced. Examples of the functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, an amino group and the like, and it is preferable to select them in a timely manner as long as the above-mentioned polymerizable compound does not inhibit the polymerization.

前記接着性樹脂は、前記硬化性樹脂100質量部に対して5質量部〜900質量部の範囲で使用することが好ましく、10〜700質量部の範囲で使用することが好ましく、20質量部〜400質量部の範囲で使用することが更に好ましい。前記接着性樹脂の配合割合が多すぎると、高い接合強度の発現に必要な硬化が不十分となり、少なすぎる硬化前の取り扱い性は向上するが、接合に必要な強度が低下することがある。 The adhesive resin is preferably used in the range of 5 parts by mass to 900 parts by mass, preferably in the range of 10 to 700 parts by mass, and 20 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin. It is more preferable to use it in the range of 400 parts by mass. If the blending ratio of the adhesive resin is too large, the curing required for developing high bonding strength is insufficient, and the handling before curing is improved if the amount is too small, but the strength required for bonding may decrease.

前記接合材(X)としては、前記したとおり予めシート状等の任意の形状に成形されたものを使用することが好ましい。前記重合性化合物等を含有する組成物を前記シート状等に成形する際の作業効率を向上させるうえで、前記組成物としては重合性化合物や重合開始剤の他に溶媒を含有するものを使用することが好ましい。 As the bonding material (X), it is preferable to use a material previously molded into an arbitrary shape such as a sheet as described above. In order to improve the work efficiency when molding the composition containing the polymerizable compound or the like into the sheet shape or the like, the composition contains a solvent in addition to the polymerizable compound or the polymerization initiator. It is preferable to do so.

前記溶媒としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;アセトン、メチルケチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等を使用することができる。
Examples of the solvent include ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ketyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone and cyclohexanone; aromatics such as toluene and xylene. A hydrocarbon solvent or the like can be used.
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また、前記接合材(X)としては、その他の成分を含有するものを使用することができる。前記その他の成分としては、例えば水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、マイカ、タルク、窒化ホウ素、ガラスフレーク等のフィラー等を使用することができる。 Further, as the bonding material (X), a material containing other components can be used. As the other components, for example, fillers such as aluminum hydroxide, aluminum oxide, aluminum nitride, magnesium hydroxide, magnesium oxide, mica, talc, boron nitride, and glass flakes can be used.

また、前記接合材(X)としては、前記したものの他に、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば充填剤、軟化剤、安定剤、接着促進剤、レベリング剤、消泡剤、可塑剤、粘着付与樹脂、繊維類、酸化防止剤、紫外線吸収剤、加水分解防止剤、増粘剤、顔料等の着色剤、充填剤などの添加剤を含有するものを使用することができる。 Further, as the bonding material (X), in addition to the above-mentioned ones, for example, a filler, a softening agent, a stabilizer, an adhesion accelerator, a leveling agent, a defoaming agent, and a plasticizer, as long as the effects of the present invention are not impaired. , Adhesive-imparting resins, fibers, antioxidants, UV absorbers, antioxidants, thickeners, colorants such as pigments, and additives such as fillers can be used.

本発明の接合材(X)は、前記重合性化合物と、前記重合開始剤や溶媒等の任意の成分とを混合することによって製造することができる。
前記した成分を混合し接合材(X)を製造する際には、必要に応じてディゾルバー、バタフライミキサー、BDM2軸ミキサー、プラネタリーミキサー等を使用することができ、ディゾルバー、バタフライミキサーを使用することが好ましく、前記導電性フィラーを使用する場合には、それらの分散性を向上させるうえでプラネタリーミキサーを使用することが好ましい。
The bonding material (X) of the present invention can be produced by mixing the polymerizable compound with an arbitrary component such as the polymerization initiator and the solvent.
When the above-mentioned components are mixed to produce the bonding material (X), a dissolver, a butterfly mixer, a BDM twin-screw mixer, a planetary mixer, or the like can be used, if necessary, and a dissolver or a butterfly mixer should be used. When the conductive fillers are used, it is preferable to use a planetary mixer in order to improve their dispersibility.

なお、前記重合開始剤は、接合材(X)を硬化させる前、または、シート状等に成形する前に、使用することが好ましい。
また、シート状の接合材は、例えば前記重合性化合物と、前記重合開始剤や溶媒等の任意の成分とを含有する組成物を製造した後、例えば剥離ライナーの表面に塗工し乾燥等させることによって製造することができる。
前記乾燥は、好ましくは40℃〜120℃、より好ましくは50℃〜90℃程度の温度で行うことが、シート状の接合材の硬化反応を進行させることを抑制するうえで好適である。また、溶媒等の急速な揮発によるシート表面の発泡を抑制できるため好ましい。
The polymerization initiator is preferably used before curing the bonding material (X) or before forming it into a sheet or the like.
Further, in the sheet-shaped bonding material, for example, after producing a composition containing the polymerizable compound and an arbitrary component such as the polymerization initiator and the solvent, the surface of the release liner is coated and dried. Can be manufactured by
It is preferable that the drying is carried out at a temperature of preferably 40 ° C. to 120 ° C., more preferably 50 ° C. to 90 ° C. in order to suppress the progress of the curing reaction of the sheet-shaped bonding material. Further, it is preferable because foaming of the sheet surface due to rapid volatilization of the solvent or the like can be suppressed.

前記シート状の接合材は、使用される前まで、前記剥離ライナーによって挟持されていてもよい。
前記剥離ライナーとしては、例えばクラフト紙、グラシン紙、上質紙等の紙;ポリエチレン、ポリプロピレン(OPP、CPP)、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム;前記紙と樹脂フィルムとを積層したラミネート紙、前記紙にクレーやポリビニルアルコールなどで目止め処理を施したものの片面もしくは両面に、シリコーン系樹脂等の剥離処理を施したもの等を用いることができる。
The sheet-shaped bonding material may be sandwiched by the release liner until it is used.
Examples of the release liner include paper such as kraft paper, glassin paper, and high-quality paper; resin films such as polyethylene, polypropylene (OPP, CPP), and polyethylene terephthalate; laminated paper obtained by laminating the paper and the resin film, and the paper. It is possible to use a product which has been sealed with clay or polypropylene alcohol, and which has been subjected to a peeling treatment such as a silicone resin on one side or both sides.

本発明の積層体は、硬化前においては比較的柔軟であるため被着体に対する段差追従性に優れ、かつ、硬化後においては、非常に硬くなるため被着体を十分に接合できることから、もっぱら画像表示装置に用いられる各種部材同士を強固に接合する材料に使用することができる。 Since the laminate of the present invention is relatively flexible before curing, it has excellent step-following ability with respect to the adherend, and after curing, it becomes extremely hard, so that the adherend can be sufficiently bonded. It can be used as a material for firmly joining various members used in an image display device.

前記画像表示装置としては、例えばパソコン、携帯電話、スマートフォン、タブレットPC等のモバイル端末(PDA)、ゲーム機、テレビ(TV)、カーナビ、タッチパネル、ペンタブレットなど、LCD、PDP又はEL、有機EL、マイクロLED、量子ドット(QD)などを搭載した画像表示パネルを用いた平面型画像表示装置の構成部材を挙げることができる。構成部材としては、例えば画像表示パネル、回路基板、リアカバー、ベゼル、フレーム、シャーシなどが挙げられる。 Examples of the image display device include mobile terminals (PDAs) such as personal computers, mobile phones, smartphones and tablet PCs, game machines, televisions (TVs), car navigation systems, touch panels, pen tablets and the like, LCDs, PDPs or ELs, organic ELs, etc. Examples of components of a flat image display device using an image display panel equipped with a micro LED, a quantum dot (QD), and the like can be mentioned. Examples of the components include an image display panel, a circuit board, a rear cover, a bezel, a frame, and a chassis.

以下に実施例及び比較例について具体的に説明をする。 Examples and comparative examples will be specifically described below.

<アクリル共重合体(1)の調整>
アクリル共重合体の調製攪拌機、寒流冷却器、温度計、滴下漏斗及び窒素ガス導入口を備えた反応容器に、n−ブチルアクリレート25質量部、2−メトキシエチルアクリレート80質量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート1質量部と、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチルニトリル0.2部とを酢酸エチル100質量部に溶解し、窒素置換後、80℃で8時間重合して、固形分50質量%、重量平均分子量75万のアクリル共重合体(1)を得た。なお、ガラス転移温度は−25℃であった。
<Adjustment of acrylic copolymer (1)>
Preparation of Acrylic Copolymer In a reaction vessel equipped with a stirrer, a cold current cooler, a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen gas inlet, 25 parts by mass of n-butyl acrylate, 80 parts by mass of 2-methoxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl 1 part by mass of acrylate and 0.2 part of 2,2'-azobisisobutylnitrile as a polymerization initiator are dissolved in 100 parts by mass of ethyl acetate, polymerized at 80 ° C. for 8 hours after substitution with nitrogen, and the solid content is 50. An acrylic copolymer (1) having a mass% and a weight average molecular weight of 750,000 was obtained. The glass transition temperature was −25 ° C.

<ポリウレタン(1)の調製>
反応容器に、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール及びジアルキルカーボネートを反応させて得られる数平均分子量2000の脂肪族ポリカーボネートポリオール50質量部と、1,6−ヘキサンジオール及びアジピン酸を反応させて得られる数平均分子量4500のポリエステルポリオール30質量部とを混合し、減圧条件下にて100℃に加熱することにより、水分率が0.05質量%になるまで脱水した。
<Preparation of polyurethane (1)>
50 parts by mass of an aliphatic polycarbonate polyol having a number average molecular weight of 2000, and 1,6-hexanediol and adipic acid obtained by reacting 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol and dialkyl carbonate are placed in a reaction vessel. 30 parts by mass of a polyester polyol having a number average molecular weight of 4500 obtained by the reaction was mixed and heated to 100 ° C. under reduced pressure conditions to dehydrate the mixture until the water content reached 0.05% by mass.

次に、前記脂肪族ポリカーボネートポリオール及び前記ポリエステルポリオールの混合物を70℃まで冷却したものと、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート14.5質量部とを混合した後、100℃まで昇温し、3時間反応させた。その後、固形分50質量%となるようにメチルエチルケトンを調製することによって、ポリウレタン(1)を得た。なお、ガラス転移温度は−28℃であった。 Next, the mixture of the aliphatic polycarbonate polyol and the polyester polyol was cooled to 70 ° C., mixed with 14.5 parts by mass of dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, and then heated to 100 ° C. It was allowed to react for 3 hours. Then, polyurethane (1) was obtained by preparing methyl ethyl ketone so that the solid content was 50% by mass. The glass transition temperature was −28 ° C.

<接合材料(A−1)の調整>
EX−321L(ナガセケムテック社製、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂)50質量部、前記アクリル共重合体(1)100質量部、CPI−100P(サンアプロ社製、スルホニウム塩系)2質量部、バーノックDN980(DIC株式会社製、ヘキサメチレンジイソシアネート型のイソシアネート架橋剤)0.20質量部を混合し、接合性樹脂塗料(a−1)を得た。
<Adjustment of joining material (A-1)>
EX-321L (manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd., trimethylolpropane polyglycidyl ether type epoxy resin) 50 parts by mass, the acrylic copolymer (1) 100 parts by mass, CPI-100P (manufactured by San Apro Co., Ltd., sulfonium salt type) 2 mass parts 0.20 parts by mass of Burnock DN980 (hexamethylene diisocyanate type isocyanate cross-linking agent manufactured by DIC Co., Ltd.) was mixed to obtain a bonding resin coating material (a-1).

次に、離型ライナー(厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面がシリコーン化合物によって剥離処理されたもの)の表面に、前記接合性樹脂塗料(a−1)を、棒状の金属アプリケータを用いて、乾燥後の厚さが100μmになるように塗工した。 Next, the adhesive resin coating material (a-1) was applied to the surface of a release liner (one side of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 75 μm was peeled off with a silicone compound) using a rod-shaped metal applicator. , The coating was applied so that the thickness after drying was 100 μm.

更に、前記塗工物を85℃の乾燥機に5分間投入し乾燥し、乾燥後の塗工物の片面に離型ライナー(厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面がシリコーン化合物によって剥離処理されたもの)を貼り合せた。その後40℃で72時間熟成することで、厚さ100μmのシート状の接合材料(A−1)を得た。 Further, the coated product was put into a dryer at 85 ° C. for 5 minutes to be dried, and one side of the dried coated product was peeled off with a release liner (one side of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm was peeled off with a silicone compound. Things) were pasted together. Then, it was aged at 40 ° C. for 72 hours to obtain a sheet-shaped bonding material (A-1) having a thickness of 100 μm.

なお、前記接合材料(A−1)は、光重合開始剤を有しており、また、反応部位としてエポキシ基を有しているため、光を照射することによりエポキシ基の硬化反応を活性化することが可能である。 Since the bonding material (A-1) has a photopolymerization initiator and an epoxy group as a reaction site, the curing reaction of the epoxy group is activated by irradiating with light. It is possible to do.

前記接合材料(A−1)の23℃における貯蔵弾性率は1.7×10Paであり、70℃における貯蔵弾性率は2.9×10Paであった。The storage elastic modulus of the bonding material (A-1) at 23 ° C. was 1.7 × 10 4 Pa, and the storage elastic modulus at 70 ° C. was 2.9 × 10 3 Pa.

なお、前記接合材料(A−1)の23℃及び70℃における貯蔵弾性率は、動的粘弾性試験機(レオメトリックス社製、商品名:アレス2KSTD)を用いて、同試験機の測定部である平行円盤の間に試験片を挟み込み、昇温速度3℃/分、測定周波数1.0Hz、測定温度範囲0〜200℃の範囲で測定しそれぞれ算出した。上記測定で使用する試験片としては、前記接合材料(A−1)の一方の面の剥離ライナーを除去した後、厚さ1mmとなるよう積層し、直径8mmの大きさからなる円状に裁断したものを使用した。 The storage elastic modulus of the bonding material (A-1) at 23 ° C. and 70 ° C. was measured by using a dynamic viscoelasticity tester (manufactured by Leometrics, trade name: Ares 2KSTD). The test piece was sandwiched between the parallel disks, and the temperature was measured in the range of a temperature rising rate of 3 ° C./min, a measurement frequency of 1.0 Hz, and a measurement temperature range of 0 to 200 ° C., and calculated respectively. As the test piece used in the above measurement, after removing the release liner on one surface of the bonding material (A-1), the test pieces are laminated to a thickness of 1 mm and cut into a circle having a diameter of 8 mm. I used the one that I did.

<接合材料(A−2)の調整>
EX−321L(ナガセケムテック社製、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂)50質量部の変わりに、CEL2021P(ダイセル社製、脂環式エポキシ樹脂)を使用すること以外は、前記接合材料(A−1)の調整と同様の方法で接合性樹脂塗料(a−2)及び接合材料(A−2)を得た。
<Adjustment of joining material (A-2)>
Except for using CEL2021P (Daicel, alicyclic epoxy resin) instead of 50 parts by mass of EX-321L (Trimethylolpropane polyglycidyl ether type epoxy resin, Nagase Chemtech), the bonding material (Alicyclic epoxy resin) A bondable resin paint (a-2) and a bonding material (A-2) were obtained in the same manner as in the adjustment of A-1).

なお、前記接合材料(A−2)は、光重合開始剤を有しており、また、反応部位としてエポキシ基を有しているため、光を照射することによりエポキシ基の硬化反応を活性化することが可能である。 Since the bonding material (A-2) has a photopolymerization initiator and an epoxy group as a reaction site, the curing reaction of the epoxy group is activated by irradiating with light. It is possible to do.

前記接合材料(A−2)の23℃における貯蔵弾性率は9.3×10Paであり、70℃における貯蔵弾性率は1.0×10Paであった。The storage elastic modulus of the bonding material (A-2) at 23 ° C. was 9.3 × 10 3 Pa, and the storage elastic modulus at 70 ° C. was 1.0 × 10 3 Pa.

<接合材料(A−3)の調整>
CPI−100Pの代わりに、DICY−7(三菱化学株式会社製、ジシアンジアミド)2.0質量部使用すること以外は、前記接合材料(A−1)の調整と同様の方法で接合性樹脂塗料(a−3)及び接合材料(A−3)を得た。
<Adjustment of joining material (A-3)>
A bonding resin coating material (A-1) is prepared in the same manner as the bonding material (A-1), except that 2.0 parts by mass of DICY-7 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, dicyandiamide) is used instead of CPI-100P. a-3) and a bonding material (A-3) were obtained.

なお、前記接合材料(A−3)は、熱重合開始剤を有しており、また、反応部位としてエポキシ基を有しているため、加熱することによりエポキシ基の硬化反応を活性化することが可能である。 Since the bonding material (A-3) has a thermal polymerization initiator and an epoxy group as a reaction site, the curing reaction of the epoxy group is activated by heating. Is possible.

前記接合材料(A−3)の23℃における貯蔵弾性率は9.6×10Paであり、70℃における貯蔵弾性率は1.0×10Paであった。The storage elastic modulus of the bonding material (A-3) at 23 ° C. was 9.6 × 10 3 Pa, and the storage elastic modulus at 70 ° C. was 1.0 × 10 3 Pa.

本実施例、及び比較例で用いる被着体としては、表面が平滑な厚さ0.05mmのアルミ板を幅15mm×長さ150mmに裁断し、これを被着体(I)とした。また、表面が平滑な厚さ1.0mmのエポキシガラス板(新神戸電機社製/KEL−GEF)を幅15mm×長さ150mmに裁断し、これを被着体(II)とした。なお、前記被着体(I)及び前記被着体(II)は、光不透過材である。 As the adherend used in this example and the comparative example, an aluminum plate having a smooth surface and a thickness of 0.05 mm was cut into a width of 15 mm and a length of 150 mm, and this was designated as an adherend (I). Further, an epoxy glass plate (manufactured by Shin-Kobe Electric Machinery Co., Ltd./KEL-GEF) having a smooth surface and a thickness of 1.0 mm was cut into a width of 15 mm and a length of 150 mm, and this was used as an adherend (II). The adherend (I) and the adherend (II) are light-impermeable materials.

<接合材料(A−4)の調整>
アクリル共重合体(1)の代わりにポリウレタン(1)を100質量部使用し、CEL−2021P(ダイセル社製、脂環式エポキシ樹脂)の使用量を50質量部から21質量部に変更し、CPI−100P(サンアプロ社製、スルホニウム塩系、固形分濃度50%)の使用量を2質量部から2.9質量部に変更し、バーノックDN980(DIC株式会社製、ヘキサメチレンジイソシアネート型のイソシアネート架橋剤)の使用量を0.20質量部から0質量部に変更すること以外は、前記接合材料(A−1)の調整と同様の方法で接合性樹脂塗料(a−4)及び接合材料(A−4)を得た。
<Adjustment of joining material (A-4)>
100 parts by mass of polyurethane (1) was used instead of the acrylic copolymer (1), and the amount of CEL-2021P (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel) was changed from 50 parts by mass to 21 parts by mass. The amount of CPI-100P (manufactured by San Appro, sulfonium salt type, solid content concentration 50%) was changed from 2 parts by mass to 2.9 parts by mass, and Bernock DN980 (manufactured by DIC Co., Ltd., hexamethylene diisocyanate type isocyanate cross-linking) was changed. The adhesive resin coating material (a-4) and the bonding material (a-4) are prepared in the same manner as the adjustment of the bonding material (A-1) except that the amount of the agent) used is changed from 0.20 parts by mass to 0 parts by mass. A-4) was obtained.

なお、前記接合材料(A−4)は、光重合開始剤を有しており、また、反応部位としてエポキシ基を有しているため、光を照射することによりエポキシ基の硬化反応を活性化することが可能である。 Since the bonding material (A-4) has a photopolymerization initiator and an epoxy group as a reaction site, the curing reaction of the epoxy group is activated by irradiating with light. It is possible to do.

前記接合材料(A−4)の25℃における貯蔵弾性率は4.9×10Paであり、70℃における貯蔵弾性率は1.2×10Paであった。The storage elastic modulus of the bonding material (A-4) at 25 ° C. was 4.9 × 10 4 Pa, and the storage elastic modulus at 70 ° C. was 1.2 × 10 1 Pa.

(実施例1)
前記接合材料(A−1)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、23℃下で前記被着体(I)に貼付した。
前記貼付物の上から1kg荷重した状態で、70℃環境下に30分間静置した。
前記放置後、前記貼付物から1kg荷重を取り除き、23℃の環境下に30分間放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、露出した接合材の表層に無電極ランプ(フュージョンランプHバルブ)を用いて紫外線を250mJ/cm照射した。
前記照射後、23℃下に2分間放置し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
前記プレス圧着後の積層体を70℃下に1時間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X−1)とした。
(Example 1)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-1) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed and attached to the adherend (I) at 23 ° C.
It was allowed to stand in an environment of 70 ° C. for 30 minutes with a load of 1 kg from the top of the patch.
After the standing, the load of 1 kg was removed from the patch and left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, and the exposed surface layer of the bonding material was irradiated with ultraviolet rays at 250 mJ / cm 2 using an electrodeless lamp (fusion lamp H bulb).
After the irradiation, the mixture was left at 23 ° C. for 2 minutes, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the mixture was applied at 0.5 MPa using a heat press device heated to 40 ° C. Press-pressed for 10 seconds under pressure.
The laminate after press crimping was left to heat at 70 ° C. for 1 hour and left to cool in an environment of 23 ° C. for 30 minutes, which was used as an evaluation sample (X-1).

前記評価サンプル(X−1)の作製に有した時間は2時間32分10秒であった。また、前記評価サンプル(X−1)の硬化に有した時間は1時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X-1) was 2 hours 32 minutes 10 seconds. In addition, the time required for curing the evaluation sample (X-1) was 1 hour.

前記評価サンプル(X−1)において、前記被着体(I)及び前記被着体(II)の端部をそれぞれチャッキングし、引張試験機を用いて180度方向に引張速度10mm/分で引張試験することによって、前記評価サンプル(X−1)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X−1)のせん断接着力は920Paであった。 In the evaluation sample (X-1), the ends of the adherend (I) and the adherend (II) are chucked, respectively, and a tensile tester is used in the 180-degree direction at a tensile speed of 10 mm / min. The shear adhesive force of the evaluation sample (X-1) was determined by a tensile test. The shear adhesive force of the evaluation sample (X-1) at this time was 920 Pa.

また、前記評価サンプル(X−1)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B−1)の25℃における貯蔵弾性率は5.7×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B-1) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X-1) at 25 ° C. is 5.7 × 10. It was 5 Pa.

また、前記シート状の接合材料(A−1)の硬化物(B−1)の25℃における貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置(TAインスツルメント社製、RSA III)を用いて昇温速度3℃/分、測定周波数1.0Hz、測定温度範囲0〜200℃の範囲で測定し、25℃及び100℃における貯蔵弾性率(G’)をそれぞれ算出した。 Further, the storage elastic modulus of the cured product (B-1) of the sheet-shaped bonding material (A-1) at 25 ° C. was determined by using a dynamic viscoelasticity measuring device (RSA III manufactured by TA Instruments). The temperature rise rate was 3 ° C./min, the measurement frequency was 1.0 Hz, and the measurement temperature range was 0 to 200 ° C., and the storage elastic moduli (G') at 25 ° C. and 100 ° C. were calculated, respectively.

(実施例2)
前記接合材料(A−1)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、23℃下で前記被着体(I)に貼付した。
前記貼付物を23℃の環境下に30分間放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、露出した接合材の表層に無電極ランプ(フュージョンランプHバルブ)を用いて紫外線を250mJ/cm照射した。
前記照射後、23℃下に2分間放置し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
前記プレス圧着後の積層体を70℃下に1時間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X−2)とした。
(Example 2)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-1) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed and attached to the adherend (I) at 23 ° C.
The patch was left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, and the exposed surface layer of the bonding material was irradiated with ultraviolet rays at 250 mJ / cm 2 using an electrodeless lamp (fusion lamp H bulb).
After the irradiation, the mixture was left at 23 ° C. for 2 minutes, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the mixture was applied at 0.5 MPa using a heat press device heated to 40 ° C. Press-pressed for 10 seconds under pressure.
The laminate after press crimping was left to heat at 70 ° C. for 1 hour and left to cool in an environment of 23 ° C. for 30 minutes, which was used as an evaluation sample (X-2).

前記評価サンプル(X−2)の作製に有した時間は2時間2分10秒であった。また、前記評価サンプル(X−2)硬化に有した時間は1時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X-2) was 2 hours, 2 minutes and 10 seconds. The time required for curing the evaluation sample (X-2) was 1 hour.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X−2)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X−2)のせん断接着力は880Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X-2) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X-2) at this time was 880 Pa.

また、前記評価サンプル(X−2)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B−2)の25℃における貯蔵弾性率は4.9×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B-2) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X-2) at 25 ° C. is 4.9 × 10. It was 5 Pa.

(実施例3)
前記接合材料(A−2)を使用すること以外は、実施例1と同様の方法で評価サンプル(X−3)を作製した。
前記評価サンプル(X−3)の作製に有した時間は2時間32分10秒であった。また、前記評価サンプル(X−3)の硬化に有した時間は1時間であった。
実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X−3)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X−3)のせん断接着力は1100Paであった。
(Example 3)
An evaluation sample (X-3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the bonding material (A-2) was used.
The time required for preparing the evaluation sample (X-3) was 2 hours 32 minutes 10 seconds. Further, the time required for curing the evaluation sample (X-3) was 1 hour.
The shear adhesive force of the evaluation sample (X-3) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X-3) at this time was 1100 Pa.

また、前記評価サンプル(X−3)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B−3)の25℃における貯蔵弾性率は6.3×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B-3) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X-3) at 25 ° C. is 6.3 × 10. It was 6 Pa.

(実施例4)
前記接合材料(A−4)を使用し、無電極ランプ(フュージョンランプHバルブ)を用いた紫外線照射量を250mJ/cmから500mJ/cmに変更すること以外は、実施例1と同様の方法で評価サンプル(X−4)を作製した。
(Example 4)
Using the bonding material (A-4), except for changing the amount of ultraviolet irradiation using an electrodeless lamp (Fusion lamp H bulb) from 250 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2, as in Example 1 An evaluation sample (X-4) was prepared by the method.

前記評価サンプル(X−4)の作製に有した時間は2時間32分10秒であった。また、前記評価サンプル(X−4)の硬化に有した時間は1時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X-4) was 2 hours 32 minutes 10 seconds. Further, the time required for curing the evaluation sample (X-4) was 1 hour.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X−4)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X−4)のせん断接着力は3700Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X-4) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X-4) at this time was 3700 Pa.

また、前記評価サンプル(X−4)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B−4)の25℃における貯蔵弾性率は5.8×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B-4) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X-4) at 25 ° C. is 5.8 × 10. It was 8 Pa.

(実施例5)
前記接合材料(A−4)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、23℃下で前記被着体(I)に貼付した。
その後、前記貼付物を23℃の環境下に30分間放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、露出した接合材の表層に無電極ランプ(フュージョンランプHバルブ)を用いて紫外線を500mJ/cm照射した。
前記照射後、23℃下に2分間放置し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
その後、前記貼付物の上から1kg荷重した状態で、70℃環境下に5分間静置した。
前記放置後、前記貼付物から1kg荷重を取り除き、70℃下に55分間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X−5)とした。
(Example 5)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-4) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed and attached to the adherend (I) at 23 ° C.
Then, the patch was left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, and the exposed surface layer of the bonding material was irradiated with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 using an electrodeless lamp (fusion lamp H bulb).
After the irradiation, the mixture was left at 23 ° C. for 2 minutes, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the mixture was applied at 0.5 MPa using a heat press device heated to 40 ° C. Press-pressed for 10 seconds under pressure.
Then, it was allowed to stand in an environment of 70 ° C. for 5 minutes with a load of 1 kg from the top of the patch.
After the standing, the 1 kg load was removed from the patch, the mixture was heated and left at 70 ° C. for 55 minutes, and left at 23 ° C. for 30 minutes to be cooled, which was used as an evaluation sample (X-5).

前記評価サンプル(X−5)の作製に有した時間は2時間2分10秒であった。また、前記評価サンプル(X−5)の硬化に有した時間は1時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X-5) was 2 hours, 2 minutes and 10 seconds. Further, the time required for curing the evaluation sample (X-5) was 1 hour.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X−4)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X−4)のせん断接着力は3500Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X-4) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X-4) at this time was 3500 Pa.

また、前記評価サンプル(X−4)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B−4)の25℃における貯蔵弾性率は4.3×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B-4) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X-4) at 25 ° C. is 4.3 × 10. It was 8 Pa.

(比較例1)
前記接合材料(A−1)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、前記被着体(I)を貼付した。
前記貼付物の上から1kg荷重した状態で、70℃環境下30分間静置した。
前記放置後、前記貼付物から1kg荷重を取り除き、23℃の環境下に30分間放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
前記圧着後、貼付された前記被着体(I)側から無電極ランプ(フュージョンランプHバルブ)を用いて紫外線を250mJ/cm照射した。
前記照射後の積層体を70℃下1時間間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X’−1)とした。
(Comparative Example 1)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-1) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed, and the adherend (I) was attached.
It was allowed to stand for 30 minutes in an environment of 70 ° C. with a load of 1 kg on the patch.
After the standing, the load of 1 kg was removed from the patch and left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the heat press device heated to 40 ° C. was used. Press-pressed for 10 seconds while pressurized at 0.5 MPa.
After the crimping, ultraviolet rays were irradiated at 250 mJ / cm 2 from the attached adherend (I) side using an electrodeless lamp (fusion lamp H bulb).
The laminated body after the irradiation was left to be heated at 70 ° C. for 1 hour and then left to cool in an environment of 23 ° C. for 30 minutes, which was used as an evaluation sample (X'-1).

前記評価サンプル(X’−1)の作製に有した時間は2時間30分10秒であった。また、前記評価サンプル(X’−1)硬化に有した時間は1時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X'-1) was 2 hours 30 minutes 10 seconds. The time required for curing the evaluation sample (X'-1) was 1 hour.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X’−1)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X’−1)のせん断接着力は40Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-1) was determined by the same method as in Example 1. At this time, the shear adhesive force of the evaluation sample (X'-1) was 40 Pa.

また、前記評価サンプル(X’−1)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B’−1)の25℃における貯蔵弾性率は1.7×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B'-1) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X'-1) at 25 ° C. is 1.7. It was × 10 4 Pa.

(比較例2)
前記接合材料(A−1)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、前記被着体(I)を貼付した。
前記貼付物を23℃の環境下に30分放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
前記圧着後、貼付された前記被着体(II)側から無電極ランプ(フュージョンランプHバルブ)を用いて紫外線を250mJ/cm照射した。
前記照射後の積層体を70℃下に1時間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X’−2)とした。
(Comparative Example 2)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-1) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed, and the adherend (I) was attached.
The patch was left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the heat press device heated to 40 ° C. was used. Press-pressed for 10 seconds while pressurized at 0.5 MPa.
After the crimping, ultraviolet rays were irradiated at 250 mJ / cm 2 from the affixed adherend (II) side using an electrodeless lamp (fusion lamp H bulb).
The laminated body after the irradiation was left to heat at 70 ° C. for 1 hour, and left to cool in an environment of 23 ° C. for 30 minutes, which was used as an evaluation sample (X'-2).

前記評価サンプル(X’−2)の作製に有した時間は2時間10秒であった。また、前記評価サンプル(X’−2)硬化に有した時間は1時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X'-2) was 2 hours and 10 seconds. The time required for curing the evaluation sample (X'-2) was 1 hour.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X’−2)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X’−2)のせん断接着力は38Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-2) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-2) at this time was 38 Pa.

また、前記評価サンプル(X’−2)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B’−2)の25℃における貯蔵弾性率は1.7×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B'-2) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X'-2) at 25 ° C. is 1.7. It was × 10 4 Pa.

(比較例3)
前記接合材料(A−3)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、前記被着体(I)を貼付した。
前記貼付物の上から1kg荷重した状態で、70℃環境下に30分間静置した。
前記放置後、前記貼付物から1kg荷重を取り除き、23℃の環境下に30分間放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
前記加圧後の積層体を180℃下に1時間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X’−3)とした。
(Comparative Example 3)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-3) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed, and the adherend (I) was attached.
It was allowed to stand in an environment of 70 ° C. for 30 minutes with a load of 1 kg from the top of the patch.
After the standing, the load of 1 kg was removed from the patch and left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the heat press device heated to 40 ° C. was used. Press-pressed for 10 seconds while pressurized at 0.5 MPa.
The pressurized laminate was left to be heated at 180 ° C. for 1 hour and left to cool in an environment of 23 ° C. for 30 minutes, which was used as an evaluation sample (X'-3).

前記評価サンプル(X’−3)の作製に有した全時間は2時間30分10秒であった。また、前記評価サンプル(X’−3)硬化に有した時間は1時間であった。評価サンプル(X’−3)を目視で確認したところ、被着体(II)が劣化し、黄色く変色してしまった。 The total time required to prepare the evaluation sample (X'-3) was 2 hours 30 minutes 10 seconds. The time required for curing the evaluation sample (X'-3) was 1 hour. When the evaluation sample (X'-3) was visually confirmed, the adherend (II) deteriorated and turned yellow.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X’−3)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X’−3)のせん断接着力は203Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-3) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-3) at this time was 203 Pa.

また、前記評価サンプル(X’−3)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B’−3)の25℃における貯蔵弾性率は7.5×10Paであった。Further, the storage elastic modulus of the cured product (B'-3) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X'-3) at 25 ° C. is 7.5. It was × 10 6 Pa.

(比較例4)
前記接合材料(A−3)を、幅10mm×長さ10mmの大きさに裁断したものを試験サンプルとした。前記試験サンプルの一方の剥離ライナーを除去し、前記被着体(I)を貼付した。
前記貼付物の上から1kg荷重した状態で、70℃環境下に30分間静置した。
前記放置後、前記貼付物から1kg荷重を取り除き、23℃の環境下に30分放置した。その後、前記試験サンプルのもう一方の面から、剥離ライナーを除去し、前記被着体(II)を前記照射後の接合材層の表面に貼付し、40℃に加熱した熱プレス装置を用いて0.5MPaで加圧した状態で10秒間プレス圧着した。
前記加圧後の積層体を70℃下に3時間加熱放置し、23℃環境下に30分間放置し冷却したものを評価サンプル(X’−4)とした。
(Comparative Example 4)
A test sample was obtained by cutting the bonding material (A-3) into a size of 10 mm in width × 10 mm in length. One of the release liners of the test sample was removed, and the adherend (I) was attached.
It was allowed to stand in an environment of 70 ° C. for 30 minutes with a load of 1 kg from the top of the patch.
After the standing, the load of 1 kg was removed from the patch and left in an environment of 23 ° C. for 30 minutes. Then, the release liner was removed from the other surface of the test sample, the adherend (II) was attached to the surface of the bonded material layer after the irradiation, and the heat press device heated to 40 ° C. was used. Press-pressed for 10 seconds while pressurized at 0.5 MPa.
The pressurized laminate was left to be heated at 70 ° C. for 3 hours and left to cool in an environment of 23 ° C. for 30 minutes, which was used as an evaluation sample (X'-4).

前記評価サンプル(X’−4)の作製に有した時間は4時間30分10秒であった。また、前記評価サンプル(X’−4)硬化に有した時間は3時間であった。 The time required for preparing the evaluation sample (X'-4) was 4 hours 30 minutes 10 seconds. The time required for curing the evaluation sample (X'-4) was 3 hours.

実施例1と同様の方法で、評価サンプル(X’−4)のせん断接着力を求めた。この時の前記評価サンプル(X’−4)のせん断接着力は115Paであった。 The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-4) was determined by the same method as in Example 1. The shear adhesive force of the evaluation sample (X'-4) at this time was 115 Pa.

また、前記評価サンプル(X’−3)と同様の硬化方法で得られたシート状の接合材料(A−1)の硬化物(B’−3)の25℃における貯蔵弾性率は6.5×10Paであった。Further, the stored elastic modulus of the cured product (B'-3) of the sheet-shaped bonding material (A-1) obtained by the same curing method as the evaluation sample (X'-3) at 25 ° C. is 6.5. It was × 10 4 Pa.

Figure 0006798622
Figure 0006798622

Figure 0006798622
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上記結果より、実施例1〜5では、短時間かつ低温にて積層体を作製することができ、かつ不透明な被着体に対しても十分な接合が得られることが分かる、一方、比較例1〜2では、短時間かつ低温で積層体を作製したものの、接合材料が硬化せず、十分な接合が得られなかった。また、比較例3では短時間で接合が得られたものの、硬化に高温を要したため、被着体に劣化がみられた。比較例4では、低温で接合が得られたものの、多くの時間を要してしまった。 From the above results, it can be seen that in Examples 1 to 5, a laminated body can be produced in a short time and at a low temperature, and sufficient bonding can be obtained even for an opaque adherend, while Comparative Examples. In 1 and 2, although the laminated body was produced in a short time and at a low temperature, the bonding material was not cured and sufficient bonding could not be obtained. Further, in Comparative Example 3, although the bonding was obtained in a short time, the adherend was deteriorated because the curing required a high temperature. In Comparative Example 4, although the bonding was obtained at a low temperature, it took a lot of time.

Claims (4)

被着体(C1)と被着体(C2)が、アクリル共重合体またはポリウレタンと、エポキシ樹脂と、光カチオン重合開始剤とを含有する接合材(X)を介して含む積層体の製造方法であって、接合材(X)を被着体(C2)に貼付する工程[01]と、接合材(X)の反応部位を光照射によって活性化する工程[1]と、接合材(X)を被着体(C1)へ貼付する工程[2]と、接合材(X)が硬化する工程[3]をこの順で含み、前記工程[01]と工程[1]の間、及び、前記工程[2]と工程[3]の間の少なくとも一方において、段差追従する工程(養生工程)[02]を含み、
前記工程[02]が加熱する工程を含み、
前記工程[3]後の25℃における接合材(X)の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である製造方法。
A method for producing a laminate in which an adherend (C1) and an adherend (C2) are contained via a bonding material (X) containing an acrylic copolymer or polyurethane, an epoxy resin, and a photocationic polymerization initiator. The step [01] of attaching the bonding material (X) to the adherend (C2), the step [1] of activating the reaction site of the bonding material (X) by light irradiation, and the bonding material (X). ) Is attached to the adherend (C1) in this order, and the step [3] for curing the bonding material (X) is included, and between the steps [01] and [1], and In at least one of the steps [2] and [3], the step following the step (curing step) [02] is included.
The step [02] includes a step of heating.
Production method storage modulus of the bonding material (X) is 1.0 × 10 5 Pa or more at 25 ° C. after the step [3].
前記工程[02]が加熱し段差を埋める工程である請求項1に記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the step [02] is a step of heating to fill a step. 前記接合材(X)が、重量平均分子量が2000〜2000000のアクリル共重合体またはポリウレタンと、エポキシ樹脂と光重合開始剤とを含むものである請求項1に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the bonding material (X) contains an acrylic copolymer or polyurethane having a weight average molecular weight of 2000 to 2000000, an epoxy resin, and a photopolymerization initiator . 前記工程[01]と工程[1]の間において、段差追従する工程(養生工程)[02]を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to any one of claims 1 to 3, which includes a step of following a step (curing step) [02] between the step [01] and the step [1].
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