JP6796412B2 - A film forming agent for cleaning and a cleaning treatment method using the same - Google Patents
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Description
本発明は、清浄化用皮膜形成剤及びこれを用いた清浄化処理方法に関する。 The present invention relates to a film forming agent for cleaning and a cleaning treatment method using the same.
従来、器物または人体等に付着した汚れを除去する清浄化処理を行う際には、水、界面活性剤、または溶剤などを含む洗浄剤と、スポンジまたは雑巾などの清浄具との組み合わせが主に用いられている。
窓ガラスやアルミサッシのレール等、大きな凹凸や溝のある表面や、小さな隙間のある表面について清浄化処理を行う場合も、従来は前記組み合わせが主に用いられてきた。しかし、一般的な清浄具は一定の形状を有しているため、前記凹凸や隙間のある表面の清浄化処理には適さない場合が多い。そして、無理に清浄化処理を行おうとすると、汚れを隙間の奥に押し込んだり、汚れを押し潰したりすることにより、逆に除去を困難にしてしまう恐れがある。
Conventionally, when performing a cleaning treatment for removing stains adhering to an instrument or a human body, a combination of a cleaning agent containing water, a surfactant, a solvent, etc. and a cleaning tool such as a sponge or a rag is mainly used. It is used.
Conventionally, the above combination has been mainly used when cleaning a surface having large irregularities or grooves or a surface having small gaps such as a window glass or an aluminum sash rail. However, since a general cleaning tool has a certain shape, it is often not suitable for cleaning the surface having irregularities or gaps. If the cleaning process is forcibly performed, the dirt may be pushed into the gap or the dirt may be crushed, which may make it difficult to remove the dirt.
これに対し、例えば特許文献１および２には、汚れ面に皮膜形成性高分子の水溶液または水分散液を塗布し、乾燥して形成させた皮膜を剥離することにより汚れを除去する技術が開発されている。これらの技術は、塗布する時点では流動性を有している水溶液または水分散液を用いることで、細かい凹凸のある表面の汚れに対応しようとするものである。 On the other hand, for example, Patent Documents 1 and 2 have developed a technique for removing stains by applying an aqueous solution or an aqueous dispersion of a film-forming polymer to a soiled surface and peeling off the film formed by drying. Has been done. These techniques are intended to deal with stains on the surface having fine irregularities by using an aqueous solution or an aqueous dispersion having fluidity at the time of application.
特許文献３には、エアゾール用噴射剤と加圧下で可溶な皮膜形成性高分子を含む清浄化用皮膜形成剤の技術が開示されている。この清浄化用皮膜形成剤は、皮膜形成性高分子の溶解性や流動性を調整するために、アルコール系やグリコールエーテル系等の有機溶剤を含んでいることがある。この技術は、常温で気体のエアゾール用噴射剤を用いることで、乾燥速度が早く、さらに良好な清浄化処理能力を得ようとするものである。 Patent Document 3 discloses a technique of a film-forming agent for cleaning containing an aerosol propellant and a film-forming polymer that is soluble under pressure. This cleaning film-forming agent may contain an organic solvent such as an alcohol-based or glycol ether-based agent in order to adjust the solubility and fluidity of the film-forming polymer. This technique is intended to obtain a better cleaning treatment ability with a high drying rate by using a propellant for an aerosol that is gaseous at room temperature.
前記窓ガラスやアルミサッシ等は、屋外または屋外に近い箇所に設けられていることも多く、その場合、これらの表面は室温よりも低温である場合がある。
しかしながら、特許文献１および２の技術では、０℃付近の低温環境下では皮膜が脆くなり、剥離の過程で皮膜にひび割れが生じ、皮膜を剥離することが難しいので、清浄化処理を行うことが困難となる。
特許文献３の技術では、清浄化用皮膜形成剤が含む有機溶剤の含有量を多くすることで、低温下でも皮膜にひび割れを生じにくくすることができる。しかし、有機溶剤の含有量を多くすると、皮膜の引張り強度が足りず、皮膜の剥離の段階で破れやすくなり、清浄化処理が行いにくいことがある。
The window glass, aluminum sash, etc. are often provided outdoors or near the outdoors, and in that case, their surfaces may be lower than room temperature.
However, in the techniques of Patent Documents 1 and 2, the film becomes brittle in a low temperature environment of around 0 ° C., cracks occur in the film in the process of peeling, and it is difficult to peel the film. Therefore, cleaning treatment can be performed. It will be difficult.
In the technique of Patent Document 3, by increasing the content of the organic solvent contained in the cleaning film forming agent, it is possible to prevent the film from cracking even at a low temperature. However, if the content of the organic solvent is increased, the tensile strength of the film is insufficient, and the film is easily torn at the stage of peeling, which may make it difficult to perform the cleaning treatment.
本発明は上記のような事情を鑑みてなされたものであり、低温下での清浄化処理が行いやすく、かつ高い清浄化処理能力を有する清浄化用皮膜形成剤及びそれを用いた清浄化処理方法を得ることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a cleaning film forming agent which is easy to perform a cleaning treatment at a low temperature and has a high cleaning treatment ability, and a cleaning treatment using the same. The purpose is to get a method.
具体的には、上記課題を解決するため、本発明は以下の態様を有する。
［１］ （Ａ）成分：酢酸ビニル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびポリビニルアセタール樹脂から選ばれる１種以上の高分子と、
（Ｂ）成分：水と、
（Ｃ）成分：溶解度パラメーター（ＳＰ値）が７．５〜１１．０である有機溶剤と、
（Ｄ）成分：キレート剤と、
を含有し、
前記（Ｃ）成分／前記（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比が０．５〜２０である清浄化用皮膜形成剤。
［２］ 前記成分（Ａ）成分／前記（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比が１０〜２００である［１］に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［３］ （Ｅ）溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１２．５〜１８．０である有機溶剤
をさらに含有する［１］または［２］に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［４］ 前記（Ａ）成分／（前記（Ｃ）成分＋前記（Ｅ）成分）で表される質量比が７．０〜５０．０である［３］に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［５］ 前記（Ａ）成分のガラス転移温度（Ｔｇ）が０〜１００℃である［１］から［４］のいずれか１に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［６］ ［１］から［５］のいずれか１に記載の清浄化用皮膜形成剤を清浄化対象面に対して塗布し、前記清浄化対象面上に前記清浄化用皮膜形成剤により皮膜を形成し、次いで前記皮膜を清浄化対象面より剥離することにより前記清浄化対象面の清浄化処理を行うことを特徴とする清浄化処理方法。
［７］ 前記清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対する前記（Ａ）成分の含有量が２５〜６０質量％である［１］から［５］のいずれか１に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［８］ 前記清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対する前記（Ｂ）成分の含有量が２５〜８０質量％である［１］から［５］のいずれか１に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［９］ 前記清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対する前記（Ｃ）成分の含有量が０．１〜１０質量％である［１］から［５］のいずれか１に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［１０］ 前記清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対する前記（Ｃ）成分の含有量が０．１〜３．５質量％である［１］から［５］のいずれか１に記載の清浄化用皮膜形成剤。
［１１］ 前記清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対する前記（Ｅ）成分の含有量が０．１〜１０質量％である［３］に記載の清浄化用皮膜形成剤。
Specifically, in order to solve the above problems, the present invention has the following aspects.
[1] Component (A): One or more polymers selected from vinyl acetate resin, (meth) acrylic resin, vinyl chloride resin, urethane resin, polyvinyl alcohol resin, and polyvinyl acetal resin.
(B) Ingredients: water and
Component (C): An organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 7.5 to 11.0,
Ingredient (D): chelating agent and
Contains,
A film-forming agent for cleaning having a mass ratio of 0.5 to 20 represented by the component (C) / component (D) (as an anhydrous acid type).
[2] The cleaning film-forming agent according to [1], wherein the mass ratio represented by the component (A) component / the component (D) component (as an anhydrous acid type) is 10 to 200.
[3] (E) The cleaning film-forming agent according to [1] or [2], which further contains an organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 12.5-18.0.
[4] The cleaning film forming agent according to [3], wherein the mass ratio represented by the component (A) / (component (C) + component (E)) is 7.0 to 50.0. ..
[5] The cleaning film-forming agent according to any one of [1] to [4], wherein the glass transition temperature (Tg) of the component (A) is 0 to 100 ° C.
[6] The cleaning film forming agent according to any one of [1] to [5] is applied to the surface to be cleaned, and a film is formed on the surface to be cleaned by the cleaning film forming agent. The cleaning treatment method, which comprises forming the above-mentioned film and then peeling the film from the surface to be cleaned to perform the cleaning treatment of the surface to be cleaned.
[7] The cleaning film forming agent according to any one of [1] to [5], wherein the content of the component (A) is 25 to 60% by mass with respect to the total mass of the cleaning film forming agent. ..
[8] The cleaning film forming agent according to any one of [1] to [5], wherein the content of the component (B) is 25 to 80% by mass with respect to the total mass of the cleaning film forming agent. ..
[9] The cleaning film according to any one of [1] to [5], wherein the content of the component (C) is 0.1 to 10% by mass with respect to the total mass of the cleaning film forming agent. Forming agent.
[10] The cleaning according to any one of [1] to [5], wherein the content of the component (C) is 0.1 to 3.5% by mass with respect to the total mass of the cleaning film forming agent. Film forming agent.
[11] The cleaning film forming agent according to [3], wherein the content of the component (E) is 0.1 to 10% by mass with respect to the total mass of the cleaning film forming agent.
本発明によれば、低温下での清浄化処理が行いやすく、かつ高い清浄化処理能力を有する清浄化用皮膜形成剤及びそれを用いた清浄化処理方法が得られる。 According to the present invention, it is possible to obtain a cleaning film forming agent which is easy to perform a cleaning treatment at a low temperature and has a high cleaning treatment ability, and a cleaning treatment method using the same.
以下、本発明の実施態様に係る清浄化用皮膜形成剤及びそれを用いた清浄化処理方法について、実施形態を示して説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, a cleaning film forming agent according to an embodiment of the present invention and a cleaning treatment method using the same will be described with reference to embodiments. However, the present invention is not limited to the following embodiments.
［実施形態］
本実施形態の清浄化用皮膜形成剤は、下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。
[Embodiment]
The cleaning film forming agent of the present embodiment contains the following components (A), (B), (C) and (D).
［（Ａ）成分］
（Ａ）成分は、酢酸ビニル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびポリビニルアセタール樹脂から選ばれる１種以上の高分子である。
（Ａ）成分に用いる高分子は、皮膜形成性を有する。ここで皮膜形成性とは、剥離可能な皮膜を形成できる性質である。例えば、大気圧条件下において２ｃｍ×１０ｃｍの範囲に高分子の水分散液または水溶液を厚み０．０５〜０．５ｍｍとなるように塗布し、４８時間放置したときに、皮膜が形成されるものである。このようにして形成される皮膜は、手等で剥離可能なものであることが好ましい。
[(A) component]
The component (A) is one or more polymers selected from vinyl acetate resin, (meth) acrylic resin, vinyl chloride resin, urethane resin, polyvinyl alcohol resin, and polyvinyl acetal resin.
The polymer used as the component (A) has a film-forming property. Here, the film-forming property is a property capable of forming a peelable film. For example, a film is formed when a polymer aqueous dispersion or aqueous solution is applied to a thickness of 0.05 to 0.5 mm in a range of 2 cm × 10 cm under atmospheric pressure conditions and left for 48 hours. Is. The film formed in this way is preferably one that can be peeled off by hand or the like.
このような皮膜形成性を有する高分子としては、（メタ）アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂が好ましく、特に好ましくは酢酸ビニル樹脂である。皮膜形成性高分子にこれらを用いることで、高い清浄化処理能力が得られる。 As the polymer having such a film-forming property, a (meth) acrylic resin and a vinyl acetate resin are preferable, and a vinyl acetate resin is particularly preferable. By using these for the film-forming polymer, high cleaning treatment ability can be obtained.
（Ａ）成分の含有量は、清浄化用皮膜形成剤の全体質量あたり１５〜６０質量％が好ましい。１５質量％以上とすることで皮膜が破けにくく、６０質量％以下とすることで凝集物が生じない。（Ａ）成分の含有量は、特に２５〜６０質量％が好ましい。 The content of the component (A) is preferably 15 to 60% by mass per total mass of the film forming agent for cleaning. When it is 15% by mass or more, the film is hard to break, and when it is 60% by mass or less, agglomerates do not occur. The content of the component (A) is particularly preferably 25 to 60% by mass.
（Ａ）成分は、ガラス転移温度が０〜１００℃である。（Ａ）成分のガラス転移温度は、好ましくは０〜５０℃である。（Ａ）成分のガラス転移温度を０℃以上とすることで、破けない強靭な皮膜を形成することができる。（Ａ）成分のガラス転移温度を５０℃以下とすることで、常温において皮膜を形成できる。（Ａ）成分のガラス転移温度は、皮膜形成及びその強度からより好ましくは５〜３５℃、更に好ましくは１０〜２５℃である。ガラス転移温度はＪＩＳ−Ｋ−７１２１に規定するプラスチック転移温度測定方法により得られる値である。 The component (A) has a glass transition temperature of 0 to 100 ° C. The glass transition temperature of the component (A) is preferably 0 to 50 ° C. By setting the glass transition temperature of the component (A) to 0 ° C. or higher, a tough film that does not break can be formed. By setting the glass transition temperature of the component (A) to 50 ° C. or lower, a film can be formed at room temperature. The glass transition temperature of the component (A) is more preferably 5 to 35 ° C., still more preferably 10 to 25 ° C. from the viewpoint of film formation and its strength. The glass transition temperature is a value obtained by the plastic transition temperature measuring method specified in JIS-K-7121.
（酢酸ビニル樹脂）
酢酸ビニル樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体または酢酸ビニルと（メタ）アクリル酸エステル類を除く上記エチレン性不飽和単量体との共重合体が挙げられる。本実施形態の酢酸ビニル樹脂としては、清浄化処理能力の観点から、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましい。エチレン−酢酸ビニル共重合体における酢酸ビニルの含有量は、２５〜９９モル％とすると凸凹面を含む複雑な形状でも破けにくい強靭な皮膜を形成することができる。
(Vinyl acetate resin)
Examples of the vinyl acetate resin include a homopolymer of vinyl acetate or a copolymer of vinyl acetate and the above ethylenically unsaturated monomer excluding (meth) acrylic acid esters. As the vinyl acetate resin of the present embodiment, an ethylene-vinyl acetate copolymer is preferable from the viewpoint of cleaning treatment ability. When the content of vinyl acetate in the ethylene-vinyl acetate copolymer is 25 to 99 mol%, a tough film that is hard to break even in a complicated shape including an uneven surface can be formed.
酢酸ビニル樹脂のゲル分率は、２０〜６０％が好ましい。ゲル分率がこの範囲内であると、凸凹面を含む複雑な形状でも破けにくい強靭な皮膜をつくることができる。
ゲル分率は、例えば以下のように測定されるトルエン不溶分である。酢酸ビニル樹脂の水分散液又は水溶液を基材上に塗布し、乾燥してフィルム（皮膜）を形成する。乾燥した皮膜を細かく切って試料とし、この試料（約０．２５０〜０．３５０ｇ）の質量を１ｍｇまで秤量する（質量Ａ）。次に、フラスコにトルエンを１００ｍｌ量り採り、前記試料を加えて完全密封する。完全密封した状態で室温において１６±２時間静置させた後、前記フラスコ内の溶液をマグネチックスターラで１時間撹拌する。その後、この溶液をＮｏ．２濾紙で濾過する。予めに、アルミ皿の質量を測定し（質量Ｂ）、Ｎｏ．２濾紙でろ過したろ液をアルミ皿に２０ｍｌ量り採る。アルミ皿を乾燥させ、乾燥後の質量（アルミサラ及びろ液の乾燥物の合計量）を１ｍｇまで秤量し（質量Ｃ）、トルエン不溶分（質量％）を下記式（１）により計算する。
トルエン不溶分（質量％）＝１００−［（質量Ｃ−質量Ｂ）×５／質量Ａ］×１００ ・・・（１）
以上の操作を３回繰り返し（つまり、測定ｎ数は３とする）それらの平均値をその酢酸ビニル樹脂のゲル分率（質量％）とする。
The gel fraction of the vinyl acetate resin is preferably 20 to 60%. When the gel fraction is within this range, it is possible to form a tough film that is hard to tear even in a complicated shape including an uneven surface.
The gel fraction is, for example, the toluene insoluble content measured as follows. An aqueous dispersion or aqueous solution of vinyl acetate resin is applied onto the substrate and dried to form a film. The dried film is cut into small pieces to prepare a sample, and the mass of this sample (about 0.250 to 0.350 g) is weighed to 1 mg (mass A). Next, 100 ml of toluene is weighed in a flask, the sample is added, and the flask is completely sealed. After allowing to stand at room temperature for 16 ± 2 hours in a completely sealed state, the solution in the flask is stirred with a magnetic stirrer for 1 hour. Then, this solution was subjected to No. 2 Filter with filter paper. The mass of the aluminum plate was measured in advance (mass B), and No. 2 Weigh 20 ml of the filtrate filtered through the filter paper on an aluminum plate. The aluminum dish is dried, the weight after drying (total amount of dried aluminum saliva and filtrate) is weighed to 1 mg (mass C), and the toluene insoluble content (mass%) is calculated by the following formula (1).
Toluene insoluble content (mass%) = 100-[(mass C-mass B) x 5 / mass A] x 100 ... (1)
The above operation is repeated 3 times (that is, the number of measured n is 3), and the average value thereof is taken as the gel fraction (mass%) of the vinyl acetate resin.
（（メタ）アクリル樹脂）
（メタ）アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル酸エステルに基づく構成単位を有する重合体である。（メタ）アクリル樹脂は、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂の総称である。（メタ）アクリル酸エステルは、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの総称である。
（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸エステル類の単独重合体、（メタ）アクリル酸エステル類の共重合体、または（メタ）アクリル酸エステル類と（メタ）アクリル酸エステル類以外のエチレン性不飽和単量体の共重合体が挙げられる。
本実施形態の（メタ）アクリル樹脂としては、清浄化処理能力の観点から、２種以上の（メタ）アクリル酸エステル類の共重合体が好ましい。該共重合体は、２種以上の（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸エステル以外の他のエチレン性不飽和単量体との共重合体であってもよい。
((Meta) acrylic resin)
The (meth) acrylic resin is a polymer having a structural unit based on the (meth) acrylic acid ester. (Meta) acrylic resin is a general term for acrylic resin and methacrylic resin. (Meta) acrylic acid ester is a general term for acrylic acid ester and methacrylic acid ester.
Examples of the (meth) acrylic resin include homopolymers of (meth) acrylic acid esters, copolymers of (meth) acrylic acid esters, or other than (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylic acid esters. Examples thereof include copolymers of ethylenically unsaturated monomers.
As the (meth) acrylic resin of the present embodiment, a copolymer of two or more kinds of (meth) acrylic acids is preferable from the viewpoint of cleaning treatment ability. The copolymer may be a copolymer of two or more kinds of (meth) acrylic acid esters and ethylenically unsaturated monomers other than the (meth) acrylic acid esters.
（メタ）アクリル酸エステル類としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシブチル、または（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシフェニルエチルが挙げられる。 Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylic acid, -n-propyl (meth) acrylic acid, isopropyl (meth) acrylic acid, and -n-butyl (meth) acrylic acid. , (Meta) isobutyl acrylate, (meth) acrylate-sec-butyl, (meth) hexyl acrylate, (meth) octyl acrylate, (meth) -2-ethylhexyl acrylate, (meth) decyl acrylate, ( Isobornyl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, -2-hydroxyethyl (meth) acrylate, -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, ( Examples thereof include -3-hydroxypropyl (meth) acrylate, -2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and -2-hydroxyphenylethyl (meth) acrylate.
エチレン性不飽和単量体としては、少なくとも１個の重合可能なビニル基を有するものであればよい。このようなエチレン性不飽和単量体としては、例えば、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル鎖を有する不飽和単量体、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、ビニルピロリドン等の複素環式ビニル化合物、アルキルアミノ（メタ）アクリレート、酢酸ビニルやアルカン酸ビニルに代表されるビニルエステル類、モノオレフィン類（エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン等）、共役ジオレフィン類（ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等）、α，β−不飽和モノもしくはジカルボン酸（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等）、アクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、アクロレインやダイアセトンアクリルアミド等のカルボニル基含有エチレン性不飽和単量体、またはｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸基含有エチレン性不飽和単量体が挙げられる。 The ethylenically unsaturated monomer may have at least one polymerizable vinyl group. Examples of such ethylenically unsaturated monomers include unsaturated monomers having linear, branched or cyclic alkyl chains, aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene, vinylpyrrolidone and the like. Heterocyclic vinyl compounds, alkylamino (meth) acrylates, vinyl esters typified by vinyl acetate and vinyl alkanoates, monoolefins (ethylene, propylene, butylene, isobutylene, etc.), conjugated diolefins (butadiene, isoprene, etc.) , Chloroprene, etc.), α, β-unsaturated mono or dicarboxylic acid (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc.) Examples thereof include a carbonyl group-containing ethylenically unsaturated monomer of the above, and a sulfonic acid group-containing ethylenically unsaturated monomer such as p-toluenesulfonic acid.
（塩化ビニル樹脂）
塩化ビニル樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、または塩化ビニル−各種ビニルエーテル共重合体等の塩化ビニル樹脂を用いることができる。本実施形態の塩化ビニル樹脂としては、清浄化処理能力の観点からポリ塩化ビニルが好ましい。
(Vinyl chloride resin)
Examples of the vinyl chloride resin include polyvinyl chloride, chlorinated polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, and vinyl chloride-propylene copolymer. , Vinyl chloride-styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-styrene-maleic anhydride ternary copolymer, vinyl chloride-styrene-acrylonitrile copolymer, Vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isoprene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate ternary copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, A vinyl chloride resin such as a vinyl chloride-methacrylate ester copolymer, a vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, or a vinyl chloride-various vinyl ether copolymers can be used. As the vinyl chloride resin of the present embodiment, polyvinyl chloride is preferable from the viewpoint of cleaning treatment ability.
（ウレタン樹脂）
ウレタン樹脂はポリオール成分とポリイソシアネート化合物との反応によって得られるウレタン結合を有する樹脂である。ウレタン樹脂としては、ポリウレタン樹脂およびアクリルウレタン樹脂が挙げられる。ポリウレタン樹脂はポリオール成分としてポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオールが単独または併用で用いられ、アクリルウレタン樹脂はアクリルポリオールが用いられる。本実施形態のウレタン樹脂としては、清浄化処理能力の観点からポリウレタン樹脂が好ましい。
(Urethane resin)
The urethane resin is a resin having a urethane bond obtained by reacting a polyol component with a polyisocyanate compound. Examples of the urethane resin include polyurethane resin and acrylic urethane resin. As the polyurethane resin, polyester polyol, polyether polyol, and polycarbonate polyol are used alone or in combination as the polyol component, and acrylic polyol is used as the acrylic urethane resin. As the urethane resin of the present embodiment, a polyurethane resin is preferable from the viewpoint of cleaning treatment ability.
ポリウレタン樹脂としては、ポリエーテルポリオールを用いたエーテル型、ポリエステルポリオールを用いたポリエステル型、ポリエーテルポリオールとポリエステルポリオールを用いたエステル・エーテル型、又はポリカーボネートポリオールを用いたカーボネート型が挙げられる。本実施形態のポリウレタン樹脂としては、これらのなかでもエステル型とエステル・エーテル型が好ましく、特に好ましくはエステル・エーテル型である。 Examples of the polyurethane resin include an ether type using a polyether polyol, a polyester type using a polyester polyol, an ester ether type using a polyether polyol and a polyester polyol, and a carbonate type using a polycarbonate polyol. Among these, the polyurethane resin of the present embodiment is preferably an ester type or an ester ether type, and particularly preferably an ester ether type.
（ポリビニルアルコール樹脂）
ポリビニルアルコール樹脂としては、けん化度６５．０〜９９．０モル％、重合度３００〜４０００のポリビニルアルコールを用いることが好ましい。特に好ましくは、けん化度８５．０〜９９．０モル％、重合度５００〜２５００のポリビニルアルコールを用いることが好ましい。
(Polyvinyl alcohol resin)
As the polyvinyl alcohol resin, it is preferable to use polyvinyl alcohol having a saponification degree of 65.0 to 99.0 mol% and a polymerization degree of 300 to 4000. Particularly preferably, polyvinyl alcohol having a saponification degree of 85.0 to 99.0 mol% and a degree of polymerization of 500 to 2500 is used.
（ポリビニルアセタール樹脂）
ポリビニルアセタール樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、またはポリビニルアセトアセタール樹脂が挙げられる。ポリビニルブチラール樹脂は水酸基量２０〜４０モル％、アセチル基量２０モル％、ブチラール化度５５〜８０モル％のものが好ましい。また、ポリビニルアセトアセタール樹脂はアセタール化度５〜３０モル％、重合度５００〜４０００のものが好ましい。本実施形態のポリビニルアセタール樹脂としては、清浄化処理能力の観点からポリビニルアセトアセタール樹脂が特に好ましい。
(Polyvinyl acetal resin)
Examples of the polyvinyl acetal resin include polyvinyl butyral resin and polyvinyl acetal resin. The polyvinyl butyral resin preferably has a hydroxyl group content of 20 to 40 mol%, an acetyl group content of 20 mol%, and a butyralization degree of 55 to 80 mol%. The polyvinyl acetal acetal resin preferably has a degree of acetalization of 5 to 30 mol% and a degree of polymerization of 500 to 4000. As the polyvinyl acetal resin of the present embodiment, a polyvinyl acetal resin is particularly preferable from the viewpoint of cleaning treatment ability.
［（Ｂ）成分］
（Ｂ）成分は水である。本実施形態の（Ｂ）成分は蒸留水、イオン交換水、または超純水が好ましい。（Ｂ）成分の清浄化用皮膜形成剤における含有量は、清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対して２５〜８０質量％が好ましい。（Ｂ）成分の含有量は２５〜７５質量％がさらに好ましい。
[(B) component]
The component (B) is water. The component (B) of the present embodiment is preferably distilled water, ion-exchanged water, or ultrapure water. The content of the component (B) in the cleaning film forming agent is preferably 25 to 80% by mass with respect to the total mass of the cleaning film forming agent. The content of the component (B) is more preferably 25 to 75% by mass.
［（Ｃ）成分］
（Ｃ）成分は、溶解度パラメーター（ＳＰ値）が７．５〜１１．０である有機溶剤である。
[Component (C)]
The component (C) is an organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 7.5 to 11.0.
本発明における溶解度パラメーター（ＳＰ値）とは、ハンセン溶解度パラメータのことを指し、２成分系溶液の溶解度の目安となる指標である。
（Ｃ）成分に用いる各有機溶剤のＳＰ値δ（（ｃａｌ／ｃｍ３）1/2)を計算するための方法として、下記式（２）を用いた。
δ＝（（δｄ２＋δｐ２＋δｈ２）／４．２）１／２ ・・・（２）
ここで、δｄはＬｏｎｄｏｎ分散力項、δｐは分子分極項、δｈは水素結合項という。
また、ハンセン溶解度パラメータ・ソフトウェア（ＨＳＰｉＰ ｖｅｒ．４．１．ｘ）、あるいは、“ＨＡＮＳＥＮ ＳＯＬＢＩＬＩＴＹ ＰＡＲＡＭＥＴＥＲＳ” Ａ Ｕｓｅｒ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎに記載される値（δｄ、δｐ、δｈ：単位（Ｊ／ｃｍ３）１／２）をもとに算出する事が出来る。
また、（Ｃ）成分に有機溶剤を複数使用する場合のＳＰ値は、下記式（３）により、各有機溶剤のＳＰ値の加重平均として求めた。
ｍ＝δ１φ１＋δ２φ２ ・・・（３）
ここでδ１、δ２は各溶剤成分のＳＰ値であり、φ１、φ２は各溶剤成分の体積分率である。
The solubility parameter (SP value) in the present invention refers to the Hansen solubility parameter, and is an index that serves as a guideline for the solubility of a two-component solution.
The following formula (2) was used as a method for calculating the SP value δ ((cal / cm3) 1/2 ) of each organic solvent used for the component (C).
δ = ((δd 2 + δp 2 + δh 2 ) /4.2) 1/2 ... (2)
Here, δd is referred to as a London dispersion force term, δp is referred to as a molecular polarization term, and δh is referred to as a hydrogen bond term.
Moreover, Hansen parameters software (HSPiP ver.4.1.x), or, "HANSEN SOLBILITY PARAMETERS" A User 's Handbook Second Edition values stated in (δd, δp, δh: Units (J / cm 3 ) It can be calculated based on 1/2 ).
Further, the SP value when a plurality of organic solvents were used for the component (C) was obtained as a weighted average of the SP values of each organic solvent by the following formula (3).
m = δ1φ1 + δ2φ2 ・ ・ ・ (3)
Here, δ1 and δ2 are SP values of each solvent component, and φ1 and φ2 are volume fractions of each solvent component.
（Ｃ）成分に用いる有機溶剤のＳＰ値は、７．５〜１１．０である。前記ＳＰ値が７．５以上で皮膜形成高分子の凝集物が生じにくく、１１．０以下で十分な造膜性が得られる。前記ＳＰ値は清浄化処理能力の観点から８．５〜１０．５の範囲が好ましい。前記ＳＰ値は９．０〜１０．０であると、特に低温においても良好な清浄化処理能力が得られる。 The SP value of the organic solvent used for the component (C) is 7.5 to 11.0. When the SP value is 7.5 or more, agglomerates of the film-forming polymer are unlikely to occur, and when the SP value is 11.0 or less, sufficient film-forming property can be obtained. The SP value is preferably in the range of 8.5 to 10.5 from the viewpoint of cleaning processing capacity. When the SP value is 9.0 to 10.0, a good cleaning treatment capacity can be obtained even at a particularly low temperature.
（Ｃ）成分に用いる有機溶剤としては、清浄化処理能力の観点から下記構造式（４）で表されるグリコールエーテル系溶剤が好ましい。
ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−Ｒ’ ・・・（４）
式中、Ｒは炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基またはアリル基であり、Ｒ’は水素原子、炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基、アセチル基から選ばれる官能基を表し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは平均付加モル数で０．１〜２０を表す。
As the organic solvent used for the component (C), a glycol ether solvent represented by the following structural formula (4) is preferable from the viewpoint of cleaning treatment ability.
RO- (AO) n- R'・ ・ ・ (4)
In the formula, R is a linear or branched alkyl group or allyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R'is selected from a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an acetyl group. It represents a functional group, AO represents an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n represents 0.1 to 20 in terms of the average number of added moles.
前記グリコールエーテル系溶剤は、清浄化処理能力の観点から、Ｒが炭素数４〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、ＡＯが炭素数２のオキシエチレン基、ｎが０．１〜１０が好ましい。また、造膜性の観点からＲ’が水素原子のグリコールエーテル、Ｒ’がアセチル基のグリコールエーテルアセテートが好ましく、グリコールエーテルアセテートがより好ましい。 From the viewpoint of cleaning treatment ability, the glycol ether solvent has R as a linear or branched alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, AO as an oxyethylene group having 2 carbon atoms, and n as 0.1 to 10 carbon atoms. Is preferable. Further, from the viewpoint of film-forming property, glycol ether in which R'is a hydrogen atom and glycol ether acetate in which R'is an acetyl group are preferable, and glycol ether acetate is more preferable.
前記Ｒ’が水素原子のグリコールエーテルとしては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値＝１０．７）、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値＝１０．７）、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ＳＰ値＝１０．９）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ＳＰ値＝１０．２）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＳＰ値＝１０．０）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル（ＳＰ値＝１０．０）、エチレングリコールモノイソブチルエーテル（ＳＰ値＝９．１）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（ＳＰ値＝９．９）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（ＳＰ値＝９．７）、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（ＳＰ値＝９．３）、エチレングリコールモノアリルエーテル（ＳＰ値＝１０．８）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（ＳＰ値＝１０．８）、エチレングリコールモノベンジルエーテル（ＳＰ値＝１０．９）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値＝１０．０）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値＝９．７）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値＝９．４）、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＳＰ値＝９．６）、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＳＰ値＝９．８）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（ＳＰ値＝９．０）、またはジプロピレングリコールモノブチルエーテル（ＳＰ値＝９．６）等が挙げられる。 Examples of the glycol ether in which R'is a hydrogen atom include diethylene glycol monomethyl ether (SP value = 10.7), triethylene glycol monomethyl ether (SP value = 10.7), and ethylene glycol monoisopropyl ether (SP value = 10.9). ), Ethylene glycol monobutyl ether (SP value = 10.2), diethylene glycol monobutyl ether (SP value = 10.0), triethylene glycol monobutyl ether (SP value = 10.0), ethylene glycol monoisobutyl ether (SP value =) 9.1), ethylene glycol monohexyl ether (SP value = 9.9), diethylene glycol monohexyl ether (SP value = 9.7), diethylene glycol mono2-ethylhexyl ether (SP value = 9.3), ethylene glycol mono Allyl ether (SP value = 10.8), ethylene glycol monophenyl ether (SP value = 10.8), ethylene glycol monobenzyl ether (SP value = 10.9), propylene glycol monomethyl ether (SP value = 10.0) ), Dipropylene glycol monomethyl ether (SP value = 9.7), Tripropylene glycol monomethyl ether (SP value = 9.4), Propropylene glycol monopropyl ether (SP value = 9.6), Dipropylene glycol monopropyl ether (SP value = 9.8), propylene glycol monobutyl ether (SP value = 9.0), dipropylene glycol monobutyl ether (SP value = 9.6) and the like can be mentioned.
Ｒ’がアルキル基のジアルキルグリコールエーテルとしては、エチレングリコールジメチルエーテル（ＳＰ値＝８．６）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＳＰ値＝８．８）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（ＳＰ値＝８．７）、またはジエチレングリコールジブチルエーテル（ＳＰ値＝８．３）等が挙げられる。 Examples of the dialkyl glycol ether in which R'is an alkyl group include ethylene glycol dimethyl ether (SP value = 8.6), triethylene glycol dimethyl ether (SP value = 8.8), diethylene glycol diethyl ether (SP value = 8.7), or Examples thereof include diethylene glycol dibutyl ether (SP value = 8.3).
Ｒ’がアセチル基のグリコールエーテルアセテートとしては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝１０．０）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．６）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝８．９）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．４）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．０）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．４）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．０）、またはジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．２）等が挙げられる。 As glycol ether acetate having an acetyl group of R', ethylene glycol monomethyl ether acetate (SP value = 10.0), ethylene glycol monoethyl ether acetate (SP value = 9.6), ethylene glycol monobutyl ether acetate (SP value =) 8.9), diethylene glycol monoethyl ether acetate (SP value = 9.4), diethylene glycol monobutyl ether acetate (SP value = 9.0), propylene glycol monomethyl ether acetate (SP value = 9.4), propylene glycol monoethyl Examples thereof include ether acetate (SP value = 9.0) and dipropylene glycol monomethyl ether acetate (SP value = 9.2).
（Ｃ）成分の清浄化用皮膜形成剤における含有量は、清浄化用皮膜形成剤の全体質量に０．１〜１０．０質量％が好ましい。前記含有量を０．５質量％以上とすることで低温下でも良好な造膜性が得られて十分な清浄化処理能力が得られる。また、前記含有量を１０．０質量％以下とすることで皮膜が破けにくく十分な清浄化処理能力が得られる。 The content of the component (C) in the cleaning film forming agent is preferably 0.1 to 10.0% by mass based on the total mass of the cleaning film forming agent. By setting the content to 0.5% by mass or more, good film-forming property can be obtained even at a low temperature, and sufficient cleaning treatment capacity can be obtained. Further, by setting the content to 10.0% by mass or less, the film is not easily torn and a sufficient cleaning treatment capacity can be obtained.
［（Ｄ）成分］
（Ｄ）成分はキレート剤である。（Ｄ）成分の種類は特に限定されず、公知のキレート剤のなかから適宜選択できる。具体的には、たとえば有機カルボン酸類、アミノカルボン酸類、ホスホン酸類、ホスホノカルボン酸類、又はリン酸類等が挙げられる。キレート剤としては、これらの中でもアミノカルボン酸類、又はホスホン酸類が好ましく、より好ましくはアミノカルボン酸類、特に好ましくはエチレンジアミンテトラ酢酸塩、ジヒドロキシエチルグリシンの塩である。
[(D) component]
The component (D) is a chelating agent. The type of the component (D) is not particularly limited, and can be appropriately selected from known chelating agents. Specific examples thereof include organic carboxylic acids, aminocarboxylic acids, phosphonic acids, phosphonocarboxylic acids, and phosphoric acids. Among these, the chelating agent is preferably aminocarboxylic acids or phosphonic acids, more preferably aminocarboxylic acids, particularly preferably ethylenediaminetetraacetate or dihydroxyethylglycine salt.
前記有機カルボン酸類は、カルボキシ基を有する化合物であり、該カルボキシ基は塩を形成していてもよい。有機カルボン酸類は、官能基としてカルボキシ基のみを有するものであってもよく、カルボキシ基以外の官能基を有するものであってもよい。カルボキシキ以外の官能基を有する有機カルボン酸類としては、たとえばヒドロキシカルボン酸（塩）が挙げられる。有機カルボン酸類の具体例としては、たとえば酢酸、アジピン酸、モノクロル酢酸、シュウ酸、コハク酸、オキシジコハク酸、カルボキシメチルコハク酸、カルボキシメチルオキシコハク酸、グリコール酸、ジグリコール酸、乳酸、酒石酸、カルボキシメチル酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、もしくはグルコン酸、またはそれらの塩等が挙げられる。 The organic carboxylic acids are compounds having a carboxy group, and the carboxy group may form a salt. The organic carboxylic acids may have only a carboxy group as a functional group, or may have a functional group other than the carboxy group. Examples of organic carboxylic acids having a functional group other than carboxylate include hydroxycarboxylic acids (salts). Specific examples of organic carboxylic acids include acetic acid, adipic acid, monochloroacetic acid, oxalic acid, succinic acid, oxydisuccinic acid, carboxymethylsuccinic acid, carboxymethyloxysuccinic acid, glycolic acid, diglycolic acid, lactic acid, tartaric acid, and carboxy. Examples thereof include methyl tartaric acid, succinic acid, malic acid, or gluconic acid, or salts thereof.
アミノカルボン酸類としては、ニトリロトリ酢酸、イミノジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミノペンタ酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酢酸、トリエチレンテトラヘキサ酢酸、エチレングリコールジエーテルジアミンテトラ酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン、ヒドロキシエチルイミノジ酢酸、シクロヘキサン−１，２−ジアミンテトラ酢酸、もしくはメチルグリシン二酢酸、またはそれらの塩等が挙げられる。 Examples of aminocarboxylic acids include nitrilotriacetic acid, iminodiacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminopentaacetic acid, N-hydroxyethylethylenediamineacetic acid, ethylenediaminetetrapropionacetic acid, triethylenetetrahexacetic acid, ethyleneglycoldietherdiaminetetraacetic acid, and dihydroxyethylglycine. , Hydroxyethyliminodiacetic acid, cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid, or methylglycine diacetic acid, or salts thereof.
ホスホン酸類としては、エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，１，２−トリホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸およびその誘導体、１−ヒドロキシエタン−１，１，２−トリホスホン酸、エタン−１，２−ジカルボキシ−１，２−ジホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸、もしくはアミノトリメチレンホスホン酸、またはそれらの塩等が挙げられる。 Phosphonates include ethane-1,1-diphosphonic acid, ethane-1,1,2-triphosphonic acid, 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and its derivatives, 1-hydroxyethane-1,1,2. -Triphosphonic acid, ethane-1,2-dicarboxy-1,2-diphosphonic acid, methanehydroxyphosphonic acid, aminotrimethylenephosphonic acid, salts thereof and the like can be mentioned.
ホスホノカルボン酸類としては、２−ノスホノブタン−１，２−ジカルボン酸、１−ホスホノブタン−２，３，４−トリカルボン酸、もしくはα−メチルホスホノコハク酸、またはそれらの塩等が挙げられる。 Examples of phosphonocarboxylic acids include 2-noshonobtan-1,2-dicarboxylic acid, 1-phosphonobustane-2,3,4-tricarboxylic acid, α-methylphosphonosuccinic acid, and salts thereof.
リン酸類としては、オルソリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、もしくはフィチン酸等の縮合リン酸、またはそれらの塩等が挙げられる。 Examples of phosphoric acids include condensed phosphoric acids such as orthophosphoric acid, pyrophosphoric acid, tripolyphosphoric acid, metaphosphoric acid, hexametaphosphoric acid, and phytic acid, and salts thereof.
塩としては、ナトリウムもしくはカリウム等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、モノエタノールアミン、または、ジエタノールアミンもしくはトリエタノールアミン等のアルカノールアミン塩等が挙げられる。塩としては、中でもアルカリ金属塩が好ましく、カリウム塩がより好ましい。
これらのキレート剤はいずれか１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
Examples of the salt include alkali metal salts such as sodium and potassium, ammonium salts, monoethanolamine, and alkanolamine salts such as diethanolamine and triethanolamine. As the salt, an alkali metal salt is preferable, and a potassium salt is more preferable.
Any one of these chelating agents may be used alone or in combination of two or more.
（Ｄ）成分は、無水の酸型として清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対して０．１〜３．５質量％の範囲で含有しているのが好ましい。前記含有量により、清浄化処理能力がより優れたものとなる。 The component (D) is preferably contained in the range of 0.1 to 3.5% by mass with respect to the total mass of the film forming agent for cleaning as an anhydrous acid type. The content makes the cleaning treatment capacity more excellent.
［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比］
（Ｃ）成分／（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比（以下、Ｃ／Ｄ比）は０．５〜２０であり、好ましくは１．０〜１２．５、より好ましくは１．５〜７．５である。Ｃ／Ｄ比が０．５以上で低温下での造膜性を確保できる。Ｃ／Ｄ比が２０以下で皮膜が破けにくく、清浄化処理の操作が可能で十分な清浄化処理の効果を得ることができる。Ｃ／Ｄ比を１．５〜７．５とすることで、低温下でも特に良好な造膜性と清浄化処理能力を両立することができる。
[Mass ratio represented by component (C) / component (D) (as an anhydrous acid type)]
The mass ratio (hereinafter, C / D ratio) represented by the component (C) / component (D) (as an anhydrous acid type) is 0.5 to 20, preferably 1.0 to 12.5, and more. It is preferably 1.5 to 7.5. When the C / D ratio is 0.5 or more, film forming property at low temperature can be ensured. When the C / D ratio is 20 or less, the film is not easily torn, the cleaning treatment can be operated, and a sufficient cleaning treatment effect can be obtained. By setting the C / D ratio to 1.5 to 7.5, it is possible to achieve both particularly good film forming property and cleaning treatment ability even at low temperatures.
［（Ａ）成分／（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比］
（Ａ）成分／（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比（以下、Ａ／Ｄ比）は１０〜２００が好ましい。１０〜２００とすることでより良好な清浄化処理能力が得られる。より好ましくは２０〜１６０、さらに好ましくは４５〜１２０である。
[Mass ratio represented by component (A) / component (D) (as an anhydrous acid type)]
The mass ratio (hereinafter, A / D ratio) represented by the component (A) / component (D) (as an anhydrous acid type) is preferably 10 to 200. A better cleaning processing capacity can be obtained by setting the value to 10 to 200. It is more preferably 20 to 160, still more preferably 45 to 120.
［（Ｅ）成分］
本実施形態の清浄化用皮膜形成剤は、（Ｅ）成分を含有していてもよい。（Ｅ）成分は、（Ｅ）溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１２．５〜１８．０である有機溶剤である。有機溶剤の種類としては、多価アルコールが好ましく、炭素数２〜４の２〜３価アルコールがより好ましく、炭素数２〜４の２価アルコールがさらに好ましくプロピレングリコールがより特に好ましい。
[(E) component]
The cleaning film forming agent of the present embodiment may contain the component (E). The component (E) is an organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 12.5 to 18.0. As the type of the organic solvent, a polyhydric alcohol is preferable, a 2-3-valent alcohol having 2 to 4 carbon atoms is more preferable, a dihydric alcohol having 2 to 4 carbon atoms is more preferable, and propylene glycol is particularly preferable.
（Ｅ）成分は、ＳＰ値を１２．５〜１８．０とすることが好ましい。（Ｅ）成分のＳＰ値をこの値とすることで、皮膜に柔軟性が付与されて皮膜が割れにくくなり、清浄化用皮膜形成剤の清浄化処理能力がより向上する。（Ｅ）成分のＳＰ値は、清浄化処理能力の観点から１３．０〜１７．０が好ましく、１４．０〜１６．０がより好ましい。 The SP value of the component (E) is preferably 12.5 to 18.0. By setting the SP value of the component (E) to this value, flexibility is imparted to the film, the film is less likely to crack, and the cleaning treatment ability of the film forming agent for cleaning is further improved. The SP value of the component (E) is preferably 13.0 to 17.0, more preferably 14.0 to 16.0, from the viewpoint of cleaning processing ability.
（Ｅ）成分の含有量は、清浄化用皮膜形成剤の全体質量に対して０．１〜１０質量％が好ましい。０．１〜１０質量％とすることでより良好な清浄化処理能力が得られる。 The content of the component (E) is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total mass of the film forming agent for cleaning. A better cleaning treatment capacity can be obtained by setting the content to 0.1 to 10% by mass.
［（Ａ）成分／（（Ｃ）成分＋（Ｅ）成分）］で表される質量比］
（Ａ）成分／（（Ｃ）成分＋（Ｅ）成分））成分で表される質量比（以下、Ａ／（Ｃ＋Ｅ）比）は、７．０〜５０．０が好ましい。Ａ／（Ｃ＋Ｅ）比を７．０以上とすることで十分な皮膜強度が得られる。Ａ／（Ｃ＋Ｅ）比を５０以下とすることで低温下でも割れにくい柔軟な皮膜が得られ、良好な清浄化処理能力が得られる。Ａ／（Ｃ＋Ｅ）比は、より好ましくは８．０〜３０．０、特に好ましくは９．０〜２２．５である。
[Mass ratio represented by [(A) component / ((C) component + (E) component)]]
The mass ratio represented by the component (A) / (component (C) + component (E))) (hereinafter, A / (C + E) ratio) is preferably 7.0 to 50.0. Sufficient film strength can be obtained by setting the A / (C + E) ratio to 7.0 or more. By setting the A / (C + E) ratio to 50 or less, a flexible film that is hard to break even at a low temperature can be obtained, and a good cleaning treatment capacity can be obtained. The A / (C + E) ratio is more preferably 8.0 to 30.0, and particularly preferably 9.0 to 22.5.
［任意成分］
本発明の清浄化用皮膜形成剤には、さらに上記以外の任意成分を配合できる。例えば、可溶化剤、乳化剤、可塑剤、ｐＨ調整剤、剥離向上剤、除菌剤、抗菌剤、防腐剤、酸化防止剤、増粘剤、無機微粒子、紫外線吸収剤、苦味剤、色素、顔料、充填剤、または香料等が挙げられる。
[Arbitrary ingredient]
The cleaning film forming agent of the present invention may further contain any component other than the above. For example, solubilizers, emulsifiers, plasticizers, pH adjusters, peeling improvers, disinfectants, antibacterial agents, preservatives, antioxidants, thickeners, inorganic fine particles, UV absorbers, bitterants, pigments, pigments. , Fillers, fragrances and the like.
ｐＨ調製剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、もしくはアルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミンやトリエタノールアミン）等のアルカリ剤；塩酸もしくは硫酸等の無機酸；クエン酸、リンゴ酸もしくは酒石酸等の有機酸；または、パラトルエンスルホン酸、メタキシレンスルホン酸、もしくは安息香酸等の酸剤が挙げられる。 Examples of the pH adjusting agent include alkaline agents such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or alkanolamine (monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine); inorganic acids such as hydrochloric acid or sulfuric acid; citrate, malic acid or tartrate acid. Organic acids such as; or acid agents such as paratoluene sulfonic acid, hydrochloric acid sulfonic acid, or benzoic acid.
［調製方法］
本実施形態の清浄化用皮膜形成剤の調整方法の一例としては、ビーカー等の容器に（Ｂ）成分の一部（例えば、５０〜８０質量％）を投入し、撹拌しつつ（Ａ）成分を次第に投入し、攪拌することで高分子化合物の水溶液あるいは水分散液を得る。また、予め（Ａ）成分が（Ｂ）成分に溶解あるいは分散された市販品を容器に直接投入してもよい。
次に、必要に応じてｐＨ調整剤を適量加えてｐＨを調整した後、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、必要に応じて（Ｅ成分）、（Ｂ）成分（水）の残分、および剥離向上剤等を加えてさらに攪拌することで、清浄化用皮膜形成剤を得ることができる。
[Preparation method]
As an example of the method for adjusting the cleaning film-forming agent of the present embodiment, a part of the component (B) (for example, 50 to 80% by mass) is put into a container such as a beaker, and the component (A) is stirred while stirring. Is gradually added and stirred to obtain an aqueous solution or an aqueous dispersion of a polymer compound. Further, a commercially available product in which the component (A) is dissolved or dispersed in the component (B) in advance may be directly put into the container.
Next, after adjusting the pH by adding an appropriate amount of a pH adjuster as needed, the (C) component, the (D) component, and if necessary, the (E component) and (B) component (water) residue. A cleaning film forming agent can be obtained by adding a peeling improver or the like and further stirring the mixture.
［清浄化処理方法］
ついで、本実施形態の清浄化用皮膜形成剤を用いた清浄化処理方法について説明する。本実施形態の清浄化処理方法では、清浄化用皮膜形成剤を清浄化対象面に対して塗布し、前記清浄化用皮膜形成剤を乾燥させて皮膜を形成し、前記皮膜を清浄化対象面から剥離することにより、前記清浄化対象面の清浄化処理を行う。
ここで清浄化処理とは、清浄化対象面の物質表面に付着した汚れを取り除く処理を指す。汚れとは、清浄化対象面以外の物質を広く指す可能性があるが、主な汚れとしては埃、土埃等や、それらが水分を含んで付着した後、水分を失ったものがある。清浄化処理能力とは、汚れを取り除く性能を広く指すが、主に効率（時間あたり表面上の汚れの物質を低減できる量）、特に１回の清浄化処理操作（本実施形態では、１回皮膜を形成し、取り除く操作）によって清浄化対象面の表面からどれだけの汚れを除去できるかを指す。
[Cleaning treatment method]
Next, a cleaning treatment method using the cleaning film forming agent of the present embodiment will be described. In the cleaning treatment method of the present embodiment, the cleaning film forming agent is applied to the surface to be cleaned, the cleaning film forming agent is dried to form a film, and the film is formed on the surface to be cleaned. The surface to be cleaned is cleaned by peeling from the surface.
Here, the cleaning treatment refers to a treatment for removing dirt adhering to the substance surface of the surface to be cleaned. Dirt may broadly refer to substances other than the surface to be cleaned, but the main types of dirt are dust, dirt, etc., and those that have lost water after they have adhered with water. The cleaning treatment capacity broadly refers to the ability to remove stains, but mainly efficiency (amount that can reduce the substances of stains on the surface per hour), particularly one cleaning treatment operation (in this embodiment, once). It refers to how much dirt can be removed from the surface of the surface to be cleaned by the operation of forming and removing a film).
清浄化対象面としては、トイレ、浴室、台所、流し、またはリビング等様々な場所に存在する物質の表面が挙げられる。特に、これらは細かい隙間または凹凸面を有することがあり、それらの面に好適に用いることができる。清浄化対象面の材質としてはプラスチック、硝子、金属またはゴム等の種類のものが挙げられる。 Surfaces to be cleaned include surfaces of substances present in various places such as toilets, bathrooms, kitchens, sinks, or living rooms. In particular, they may have fine gaps or uneven surfaces and can be suitably used for those surfaces. Examples of the material of the surface to be cleaned include plastic, glass, metal, rubber and the like.
ついで、本実施形態の清浄化用皮膜形成剤を汚れが付着した清浄化対象面に対して塗布する。
清浄化用皮膜形成剤の塗布方法は、筆もしくはペン等による塗布、またはエアゾールもしくはスプレー等によって清浄化対象面に吹きつけることにより行ってもよい。
前記塗布をエアゾールまたはスプレー等により行う場合、清浄化用皮膜形成剤を吹き付け操作が行いやすいよう選択した容器に充填する。清浄化用皮膜形成剤を充填する容器の形状は円柱、角柱、または円錐等でもよく、材質としてはプラスチック等の樹脂、または缶等の金属が挙げられる。
このとき、後で皮膜を剥がす目的のために、清浄化用皮膜形成剤の塗布前の清浄化対象面、又は塗布後の流動状態の清浄化用皮膜形成剤に対して、取っ手となる紙またはプラスチック板を設置しておいてもよい。
Then, the cleaning film forming agent of the present embodiment is applied to the surface to be cleaned to which dirt has adhered.
The method of applying the film-forming agent for cleaning may be applied by applying with a brush or a pen, or by spraying on the surface to be cleaned with an aerosol or a spray.
When the coating is performed by an aerosol, a spray, or the like, a cleaning film-forming agent is filled in a container selected so that the spraying operation can be easily performed. The shape of the container filled with the film-forming agent for cleaning may be a cylinder, a prism, a cone, or the like, and the material may be a resin such as plastic or a metal such as a can.
At this time, for the purpose of peeling off the film later, the paper or paper that serves as a handle for the surface to be cleaned before the application of the film-forming agent for cleaning, or the film-forming agent for cleaning in a fluid state after application. A plastic plate may be installed.
ついで、清浄化対象面上に清浄化用皮膜形成剤による皮膜を形成する。皮膜とは、形成された状態（後述する、流動性を有さなくなった状態）において、目安として０．０５〜１０ｍｍ程度の厚みを有する膜である。皮膜の形成は、清浄化用皮膜形成剤を固体（流動性を有さない状態）とすることで行うことができる。本実施形態では、皮膜の形成は清浄化用皮膜形成剤を乾燥させて行う。ここで乾燥は、水分等の溶媒を除去することである。乾燥を行う程度、すなわち清浄化用皮膜形成剤の含水率を低下させる量としては、目安として清浄化用皮膜形成剤が固体になるまで行えばよい。
乾燥する際は、自然乾燥すなわち清浄化用皮膜形成剤を放置して表面から自然に水分を蒸発させ、これを皮膜が形成されるまで行ってもよい。また、ドライヤー、扇風機、または換気扇などによる風を清浄化用皮膜形成剤に当てるといった手段を併用してもよい。清浄化用皮膜形成剤を塗布後、塗布した面に吸水性を有する粉末をふりかけて、清浄化用皮膜形成剤から水分を除去してもよい。
Then, a film with a cleaning film forming agent is formed on the surface to be cleaned. The film is a film having a thickness of about 0.05 to 10 mm as a guide in the formed state (described later, in a state where it has no fluidity). The film can be formed by making the cleaning film forming agent a solid (a state having no fluidity). In the present embodiment, the film is formed by drying the cleaning film forming agent. Here, drying is removing a solvent such as moisture. As a guideline, the degree of drying, that is, the amount of reducing the water content of the cleaning film forming agent, may be performed until the cleaning film forming agent becomes solid.
When drying, a film-forming agent for natural drying, that is, a cleaning film may be left to evaporate naturally from the surface until a film is formed. Further, a means such as applying wind from a dryer, an electric fan, a ventilation fan, or the like to the cleaning film forming agent may be used in combination. After applying the cleaning film-forming agent, water-absorbing powder may be sprinkled on the coated surface to remove water from the cleaning film-forming agent.
前記清浄化対象面に清浄化用皮膜形成剤を塗布する段階で、清浄化対象面の表面上の汚れが、清浄化対象面から清浄化用皮膜形成剤の側に取り込まれることで、清浄化対象面から汚れが除去される。また、前記皮膜を形成する過程、例えば清浄化用皮膜形成剤を乾燥させるために放置している過程でも、清浄化対象面からの汚れの除去が行われる。 At the stage of applying the cleaning film forming agent to the surface to be cleaned, dirt on the surface of the surface to be cleaned is taken in from the surface to be cleaned to the side of the film forming agent for cleaning, thereby cleaning. Dirt is removed from the target surface. In addition, dirt is removed from the surface to be cleaned even in the process of forming the film, for example, the process of leaving the cleaning film forming agent to dry.
ついで、清浄化対象面上に形成された皮膜を剥離する。皮膜を剥離する際には、本実施形態の皮膜であれば、端を指でつまんではがす等でごく容易に行うことができる。または、ヘラまたは竹串など先端が鋭利な道具を使用して、清浄化対象面の表面から皮膜をはがし取る操作を併用してもよい。または、前記取っ手となる紙またはプラスチック板を設置しておいた場合は、皮膜の形成にしたがってこの取っ手が皮膜と一体化しているので、取っ手をつまんで皮膜をはがしてもよい。皮膜が硬くはがれにくい場合は、皮膜が再び流動化しない程度まで水をふきつけ、柔らかくなった皮膜を手に取ってはがす、または道具を用いてはがしてもよい。 Then, the film formed on the surface to be cleaned is peeled off. When peeling off the film, the film of the present embodiment can be peeled off very easily by pinching the end with a finger or the like. Alternatively, the operation of peeling the film from the surface of the surface to be cleaned may be used in combination with a tool having a sharp tip such as a spatula or a bamboo skewer. Alternatively, when a paper or plastic plate to be the handle is installed, the handle is integrated with the film as the film is formed, so that the handle may be pinched to peel off the film. If the film is hard and difficult to peel off, it may be wiped with water until the film does not flow again, and the softened film may be picked up and peeled off, or peeled off with a tool.
以下、実施例を詳細に説明する。 Hereinafter, examples will be described in detail.
［（Ａ）成分：酢酸ビニル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびポリビニルアセタール樹脂から選ばれる１種以上の高分子］
Ａ１：アクリル酸エステル共重合体のエマルション（昭和電工株式会社、製品名：ポリゾール（登録商標）AP６０４、固形分：４０％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：８℃）。
Ａ２：アクリル−スチレン共重合体のエマルション（ＢＡＳＦジャパン株式会社、製品名：ＹＪ２７２０Ｄａｐ、固形分：４８％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：９℃）。
Ａ３：ポリ酢酸ビニルのエマルション（日信化学工業株式会社、製品名：ビニブラン（登録商標）ＧＶ６１８１、固形分５０％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：３０℃）。
Ａ４：エチレン-酢酸ビニル共重合体のエマルション（住化ケムテックス株式会社、製品名：SUMIKAFLEX （登録商標）S-752、固形分：５０％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：１５℃）。
Ａ５：ポリ塩化ビニルのエマルション（日信化学工業株式会社、製品名：ビニブラン６０３ＥＭＬ、固形分５０％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：１０℃）。
Ａ６：エチレン-塩化ビニル共重合体のエマルション（住化ケムテックス株式会社、製品名：ＳＥ１０１０、固形分：５０％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：０℃）。
Ａ７：ポリウレタンのエマルション（第一工業株式会社、製品名：スーパーフレックス（登録商標）１５０、固形分：３０％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：４０℃）。
Ａ８：アクリルウレタンのエマルション（中央理化工業株式会社、製品名：リカボンドＳＵ−１００、固形分：３３．５％、ガラス転移温度（Ｔｇ）：０℃）。
[Component (A): One or more polymers selected from vinyl acetate resin, (meth) acrylic resin, vinyl chloride resin, urethane resin, polyvinyl alcohol resin, and polyvinyl acetal resin]
A1: Emulsion of acrylic acid ester copolymer (Showa Denko KK, product name: Polysol (registered trademark) AP604, solid content: 40%, glass transition temperature (Tg): 8 ° C.).
A2: Acrylic-styrene copolymer emulsion (BASF Japan Ltd., product name: YJ2720Dap, solid content: 48%, glass transition temperature (Tg): 9 ° C.).
A3: Polyvinyl acetate emulsion (Nisshin Chemical Industry Co., Ltd., product name: Viniblanc (registered trademark) GV6181, solid content 50%, glass transition temperature (Tg): 30 ° C.).
A4: Emulsion of ethylene-vinyl acetate copolymer (Sumika Chemtex Co., Ltd., product name: SUMIKAFLEX (registered trademark) S-752, solid content: 50%, glass transition temperature (Tg): 15 ° C.).
A5: Polyvinyl chloride emulsion (Nissin Chemical Industry Co., Ltd., product name: Vinibran 603EML, solid content 50%, glass transition temperature (Tg): 10 ° C.).
A6: Emulsion of ethylene-vinyl chloride copolymer (Sumika Chemtex Co., Ltd., product name: SE1010, solid content: 50%, glass transition temperature (Tg): 0 ° C.).
A7: Polyurethane emulsion (Daiichi Kogyo Co., Ltd., product name: Superflex (registered trademark) 150, solid content: 30%, glass transition temperature (Tg): 40 ° C.).
A8: Acrylic urethane emulsion (Chuo Rika Kogyo Co., Ltd., product name: Ricabond SU-100, solid content: 33.5%, glass transition temperature (Tg): 0 ° C.).
［（Ｂ）成分：水］
Ｂ１：イオン交換水。
[(B) component: water]
B1: Ion-exchanged water.
［（Ｃ）成分：溶解度パラメーター（ＳＰ値）が７．５〜１１．０である有機溶剤］
Ｃ１：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝９．０）。
Ｃ２：ジエチレングリコールジブチルエーテル（ＳＰ値＝８．３）。
Ｃ３：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＳＰ値＝８．９）。
Ｃ４：２，２，４−トリメチルペンタン−１，３−ジオールモノイソブチラート（ＳＰ値＝９．０）。
Ｃ５：エチレングリコールモノブチルエーテル（ＳＰ値＝１０．２）。
Ｃ６：ジエチレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値＝１０．７）。
[Component (C): Organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 7.5 to 11.0]
C1: Diethylene glycol monobutyl ether acetate (SP value = 9.0).
C2: Diethylene glycol dibutyl ether (SP value = 8.3).
C3: Ethylene glycol monobutyl ether acetate (SP value = 8.9).
C4: 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol monoisobutyrate (SP value = 9.0).
C5: Ethylene glycol monobutyl ether (SP value = 10.2).
C6: Diethylene glycol monomethyl ether (SP value = 10.7).
［（Ｃ’）成分：（Ｃ）成分の比較品］
Ｃ’１：Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＳＰ値＝１１．２）。
[(C') component: comparative product of (C) component]
C'1: N-methyl-2-pyrrolidone (SP value = 11.2).
［（Ｄ）成分：キレート剤］
（Ｄ）成分の含有量はキレート剤の無水の酸型としての含有量を実施例の表に示した。
Ｄ１：エチレンジアミン四酢酸２カリウム（キレスト株式会社、製品名：キレスト（登録商標）２Ｋ−ＳＤ）。
Ｄ２：エチレンジアミン四酢酸２ナトリウム（キレスト株式会社、製品名：キレスト２Ｂ−ＳＤ）。
Ｄ３：ジヒドロキシエチルグリシンカリウム塩（キレスト株式会社、製品名：キレストＧＡを水酸化カリウムで中和（ｐＨ７）したものを用いた）。
Ｄ４： ジヒドロキシエチルグリシンナトリウム塩（キレスト株式会社、製品名：キレストＧＡを水酸化ナトリウムで中和（ｐＨ７）したものを用いた。
Ｄ５：クエン酸３ナトリウム（扶桑化学工業株式会社、製品名：クエン酸ナトリウム）。
[(D) component: chelating agent]
As for the content of the component (D), the content of the chelating agent as an anhydrous acid type is shown in the table of Examples.
D1: Ethylenediaminetetraacetic acid dipotassium (Kirest Co., Ltd., product name: Kirest (registered trademark) 2K-SD).
D2: Ethylenediaminetetraacetic acid 2 sodium (Kirest Co., Ltd., product name: Kirest 2B-SD).
D3: Dihydroxyethylglycine potassium salt (Kirest Co., Ltd., product name: Kirest GA neutralized with potassium hydroxide (pH 7) was used).
D4: Dihydroxyethylglycine sodium salt (Kirest Co., Ltd., product name: Kirest GA neutralized with sodium hydroxide (pH 7)) was used.
D5: Trisodium citrate (Fuso Chemical Industry Co., Ltd., product name: sodium citrate).
［（Ｅ）成分：溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１２．５〜１８．０である有機溶剤］
Ｅ１：プロピレングリコール（ＳＰ値＝１４．７）。
Ｅ２：ジプロピレングリコール（ＳＰ値＝１２．９）。
Ｅ３：トリエチレングリコール（ＳＰ値＝１３．４）。
Ｅ４：エチレングリコール（ＳＰ値＝１６．１）。
Ｅ５：グリセリン（ＳＰ値＝１７．６）。
[Component (E): Organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 12.5 to 18.0]
E1: Propylene glycol (SP value = 14.7).
E2: Dipropylene glycol (SP value = 12.9).
E3: Triethylene glycol (SP value = 13.4).
E4: Ethylene glycol (SP value = 16.1).
E5: Glycerin (SP value = 17.6).
また、ｐＨ調整剤は水酸化カリウム水溶液（固形分２５％）または水酸化ナトリウム水溶液（固形分２５％）を、剥離向上剤にはポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸（フォスファノール（登録商標）ＲＳ６１０、東邦化学株式会社）を使用した。 The pH adjuster is potassium hydroxide aqueous solution (solid content 25%) or sodium hydroxide aqueous solution (solid content 25%), and the peeling improver is polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid (Phosphanol® RS610). , Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was used.
［実施例１〜３３、比較例１〜５の調製方法］
表１〜３の組成（質量％）に従い、３００ｍＬビーカーに（Ｂ）成分（水）全投入量の８割を投入し、マグネチックスターラ（日伸理化製：ＳＷ−Ｒ８００、１２００ｒｐｍ）で撹拌しているところへ（Ａ）成分（高分子化合物）を５質量部／分の速度で投入し、２５℃で６０分間攪拌することで高分子化合物の水溶液あるいは水分散液を得た。次に、ｐＨ調整剤をｐＨが７．０になるまで加えた後、（Ｃ）成分（溶解度パラメーター（ＳＰ値）が７．５〜１１．０である造膜助剤）、（Ｄ）成分（キレート剤）、（Ｅ）成分（溶解性パラメータ（ＳＰ値）が１２．５〜１８．０である有機溶剤）、（Ｂ）成分（水）の残分、および剥離向上剤としてポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸（フォスファノールＲＳ６１０、東邦化学株式会社）を加えてさらに３０分間攪拌することで、清浄化用皮膜形成剤を得た。
なお、表中の「バランス」は、清浄化用皮膜形成剤の全量が組成分の合計で１００質量％となる量である。
[Preparation methods of Examples 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 5]
According to the composition (mass%) in Tables 1 to 3, 80% of the total amount of component (B) (water) charged was put into a 300 mL beaker, and the mixture was stirred with a magnetic stirrer (manufactured by Nisshin Rika: SW-R800, 1200 rpm). The component (A) (polymer compound) was added to the above place at a rate of 5 parts by mass / minute and stirred at 25 ° C. for 60 minutes to obtain an aqueous solution or an aqueous dispersion of the polymer compound. Next, after adding a pH adjuster until the pH reaches 7.0, component (C) (a film-forming aid having a solubility parameter (SP value) of 7.5 to 11.0) and component (D) (Chelating agent), component (E) (organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 12.5-18.0), residue of component (B) (water), and polyoxyethylene as a peeling improver. Alkyl ether phosphoric acid (phospanol RS610, Toho Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred for another 30 minutes to obtain a film-forming agent for cleaning.
The "balance" in the table is an amount in which the total amount of the film-forming agent for cleaning is 100% by mass in total of the composition.
［評価方法］
（低温清浄化処理能力）
清浄化対象面として一般家庭用のアルミ製サッシレール（幅２ｃｍ×長さ５ｃｍ）を用いた。この清浄化対象面上に、黒土（株式会社マルケイ）約１００ｍｇを均等にばらまくことで土埃汚れを作成した。
次に、土埃汚れが形成された上記サッシレール上に、１０ｃｍ２の面積の範囲に厚さ０．１〜０．３ｍｍの膜厚の皮膜が形成されるように適量の清浄化用皮膜形成剤（原液）を滴下し、０〜５℃の恒温室で２４時間静置後の、土埃汚れの除去状態を下記基準で目視評価（Ｎ＝１０）し、平均点を評価点数とした。なお、評価方法は、皮膜剥離後のレールを上方から撮影した写真を２値化処理（Ｗｉｎｄｏｗｓアプリケーション「ペイント」でグレースケール保存）し、図１に示すような、別途作成した標準見本と比較して採点した。３点以上を合格とした。
これらの低温清浄化処理能力を表１〜表５の評価結果に示した。
[Evaluation method]
(Low temperature cleaning processing capacity)
An aluminum sash rail (width 2 cm x length 5 cm) for general household use was used as the surface to be cleaned. Dust stains were created by evenly spreading about 100 mg of black soil (Markei Co., Ltd.) on the surface to be cleaned.
Next, an appropriate amount of a film forming agent for cleaning is formed on the sash rail on which dust stains are formed so that a film having a thickness of 0.1 to 0.3 mm is formed in an area of 10 cm 2. (Undiluted solution) was dropped, and after standing in a constant temperature room at 0 to 5 ° C. for 24 hours, the state of removing dirt and dirt was visually evaluated (N = 10) according to the following criteria, and the average score was used as the evaluation score. The evaluation method is to binarize a photograph of the rail after peeling from above (stored in grayscale with the Windows application "Paint") and compare it with a separately created standard sample as shown in Fig. 1. Was scored. A score of 3 or higher was passed.
These low-temperature cleaning treatment capacities are shown in the evaluation results in Tables 1 to 5.
表１に示すように、実施例１に比べて成分（Ａ）含有量を減少させた実施例２、３は清浄化処理能力が低下したが、合格の範囲内であった。（Ｃ）成分の含有量を減少させた実施例４、５及び増加させた実施例７、８では清浄化処理能力が低下したが、合格の範囲内であった。表２に示すように、（Ｄ）成分のキレート剤に実施例１と同じものを用いた実施例９に対して、異なるものを用いた実施例１０、１２および１３では清浄化処理能力が低下したが、合格の範囲内であった。（Ｄ）成分にジヒドロキシエチルグリシン−Ｋを用いた実施例１１では実施例１と同様の効果が得られた。Ｃ／Ｄ比を減少させた実施例１４、１５及び増加させた実施例１６、１７では清浄化処理能力が低下したが、合格の範囲内であった。表３に示すように、（Ｅ）成分を添加した実施例１８〜２２では清浄化処理能力は上昇した。Ａ／（Ｃ＋Ｅ）比を調整した実施例２３〜２６では清浄化処理能力は上昇した。表４に示すように、（Ａ）成分に実施例１と異なるものを用いた実施例２７〜３３では清浄化処理能力が低下したが、合格の範囲内であった。本実施形態の範囲内である実施例１〜３３は、いずれも合格の範囲内の良好な結果を示した。 As shown in Table 1, the cleaning treatment capacity of Examples 2 and 3 in which the content of the component (A) was reduced as compared with Example 1 was reduced, but it was within the acceptable range. In Examples 4 and 5 in which the content of the component (C) was reduced and in Examples 7 and 8 in which the content of the component was increased, the cleaning treatment capacity was reduced, but it was within the acceptable range. As shown in Table 2, the cleaning treatment capacity was reduced in Examples 10, 12 and 13 in which different chelating agents were used as compared with Example 9 in which the same chelating agent as in Example 1 was used. However, it was within the passing range. In Example 11 in which dihydroxyethylglycine-K was used as the component (D), the same effect as in Example 1 was obtained. In Examples 14 and 15 in which the C / D ratio was decreased and Examples 16 and 17 in which the C / D ratio was increased, the cleaning treatment capacity was reduced, but it was within the acceptable range. As shown in Table 3, the cleaning treatment capacity was increased in Examples 18 to 22 to which the component (E) was added. In Examples 23 to 26 in which the A / (C + E) ratio was adjusted, the cleaning treatment capacity was increased. As shown in Table 4, in Examples 27 to 33 in which the component (A) different from that in Example 1 was used, the cleaning treatment capacity decreased, but it was within the acceptable range. Examples 1 to 33, which are within the range of this embodiment, all showed good results within the range of acceptance.
これに対して、表５に示すように、（Ｃ）成分を有さない比較例１、（Ｄ）成分を有さない比較例２、Ｃ／Ｄ比が本実施例の範囲外の比較例３および４、（Ｃ）成分に異なる成分を用いた比較例５は、いずれも低温清浄化処理能力が合格基準を満たさなかった。比較例１及び２は、低温で皮膜自体をうまく造膜することができなかった。
以上の結果より、本実施形態の清浄化用皮膜形成剤は、良好な低温での清浄化処理能力を示すことが明らかとなった。
On the other hand, as shown in Table 5, Comparative Example 1 having no component (C), Comparative Example 2 having no component (D), and Comparative Example having a C / D ratio outside the range of this example. In Comparative Example 5 in which different components were used as the components 3 and 4, (C), the low temperature cleaning treatment capacity did not meet the acceptance criteria. In Comparative Examples 1 and 2, the film itself could not be formed well at a low temperature.
From the above results, it was clarified that the cleaning film forming agent of the present embodiment exhibits a good cleaning treatment ability at a low temperature.
Claims (6)
（Ｂ）成分：水を２５〜７５質量％と、
（Ｃ）成分：溶解度パラメーター（ＳＰ値）が７．５〜１１．０である有機溶剤を０．５〜１０質量％と、
（Ｄ）成分：キレート剤と、
を含有し、
前記（Ｃ）成分／前記（Ｄ）成分（無水の酸型として）で表される質量比が０．５〜２０である清浄化用皮膜形成剤。 Component (A): One or more polymers selected from vinyl acetate resin, (meth) acrylic resin, vinyl chloride resin, urethane resin, polyvinyl alcohol resin, and polyvinyl acetal resin in an amount of 15 to 65% by mass .
(B) Ingredient: 25 to 75% by mass of water,
Component (C): An organic solvent having a solubility parameter (SP value) of 7.5 to 11.0 was added to 0.5 to 10% by mass .
Ingredient (D): chelating agent and
Contains,
A film-forming agent for cleaning having a mass ratio of 0.5 to 20 represented by the component (C) / component (D) (as an anhydrous acid type).
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