JP6794857B2 - Water-soluble flux for solder paste and solder paste - Google Patents

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Description

本発明は、ハンダペーストの調製に用いられる水溶性フラックス及び該フラックスを用いて調製されたハンダペーストに関する。更に詳しくは、印刷性及び溶融性に優れるとともに、リフロー後、水のみで洗浄可能なペーストを調製できるハンダペースト用水溶性フラックス及び該フラックスを含むハンダペーストに関するものである。 The present invention relates to a water-soluble flux used for preparing a solder paste and a solder paste prepared using the flux. More specifically, the present invention relates to a water-soluble flux for a solder paste which is excellent in printability and meltability and can prepare a paste which can be washed only with water after reflowing, and a solder paste containing the flux.

ハンダペーストは、携帯電話やパソコン等の情報電子機器や車載等の製造に際し、電子部品の実装、その他部品の接合等に広く使用されている。ハンダペーストに求められる特性は、製造する機器の用途、使用環境等に応じて様々である。例えば、携帯電話等の情報電子機器では携帯性を重視させた薄型化、軽量化が要求されることから、実装部品の小型化とともに、実装に用いられるハンダペーストについても、接合部品のファインピッチ(狭ピッチ)化や高密度実装に適した特性等が求められる。一方、車載用途等では、実装部品が比較的高温下に晒されることから、実装後のハンダが高温雰囲気で再溶融し、接合強度が低下するのを防止する必要がある。そのため、使用されるハンダペーストには、リフロー(溶融)後のハンダに対して高い耐熱性等を付与する特性が求められる。 Solder paste is widely used for mounting electronic components and joining other components in the manufacture of information electronic devices such as mobile phones and personal computers and in-vehicle devices. The characteristics required for solder paste vary depending on the application of the equipment to be manufactured, the usage environment, and the like. For example, information electronic devices such as mobile phones are required to be thinner and lighter with an emphasis on portability. Therefore, as well as downsizing the mounting parts, the solder paste used for mounting also has a fine pitch of the joint parts ( Characteristics suitable for narrow pitching and high-density mounting are required. On the other hand, in in-vehicle applications and the like, since the mounted components are exposed to a relatively high temperature, it is necessary to prevent the solder after mounting from being remelted in a high temperature atmosphere and the joint strength from being lowered. Therefore, the solder paste used is required to have a property of imparting high heat resistance to the solder after reflow (melting).

このような電子部品の実装等に用いられるハンダペーストは、ハンダ粉末とフラックスを混合することによってペースト状に調製される。フラックスには、一般に樹脂成分や溶剤成分の他、活性剤やその他の成分が含まれ、樹脂成分には、電気絶縁性や耐湿性、溶融時のハンダ付性能等に優れたロジンが一般的に広く使用されている。ハンダペーストを用いた実装では、通常、リフロー後のハンダ表面に付着する活性成分等を除去するために洗浄を行うが、ロジンを主成分として含むフラックスを用いて調製されたハンダペーストの場合、この洗浄を水だけで行うことはできず、有機溶剤による洗浄が必要となる。しかし、有機溶剤を用いて洗浄を行うと、有機溶剤が大気中に揮発することで火災を引き起こしたり、大気や排水を汚染する原因となることから、実装中の安全衛生面や環境面等で問題があった。 The solder paste used for mounting such electronic components and the like is prepared into a paste by mixing the solder powder and the flux. Flux generally contains a resin component, a solvent component, an activator and other components, and the resin component is generally rosin, which has excellent electrical insulation, moisture resistance, and soldering performance when melted. Widely used. In mounting using solder paste, cleaning is usually performed to remove active components and the like adhering to the solder surface after reflow, but in the case of solder paste prepared using a flux containing rosin as a main component, this is performed. Cleaning cannot be performed only with water, and cleaning with an organic solvent is required. However, if cleaning is performed using an organic solvent, the organic solvent volatilizes into the atmosphere and causes a fire or pollutes the air and wastewater. Therefore, in terms of safety and health during mounting and the environment, etc. There was a problem.

このような問題を解消するため、回路基板に電子部品をハンダ付するのに用いられるフラックスであって、樹脂成分と溶剤成分を少なくとも含有し、樹脂成分として、該フラックスの残さ膜を水により洗浄できる水洗浄性樹脂を含有する回路基板ハンダ付用フラックスが開示されている(例えば、特許文献1参照。)。このフラックスでは、樹脂成分としてロジンの代わりに非イオン性の樹脂が用いられており、非イオン性の樹脂には、ポリグリセリンエステル化合物、及びポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとをそれぞれ交互に少なくとも1つ繰り返すブロックポリマーであってその分子の少なくとも一方の末端にアセチル基を有するアセチル化EO・POブロックポリマーの少なくとも1種が使用される。これにより、リフロー後の残さ膜を水で洗浄でき、その洗浄をした後のその回路基板の回路パターンの導電体間の絶縁性を損なわず、電子部品をハンダ付した回路基板の長期信頼性を高めることができるとされている。 In order to solve such a problem, it is a flux used for soldering electronic components to a circuit board. It contains at least a resin component and a solvent component, and as a resin component, the residual film of the flux is washed with water. A flux for soldering a circuit board containing a water-cleanable resin that can be produced is disclosed (see, for example, Patent Document 1). In this flux, a nonionic resin is used instead of rosin as a resin component, and the nonionic resin is a polyglycerin ester compound, and polyethylene glycol and polypropylene glycol are alternately repeated at least once. At least one of acetylated EO / PO block polymers having an acetyl group at at least one end of the molecule is used. As a result, the residual film after reflow can be washed with water, and the long-term reliability of the circuit board with soldered electronic components is maintained without impairing the insulation between the conductors of the circuit pattern of the circuit board after the cleaning. It is said that it can be increased.

特開2004−158728号公報(請求項1〜3、段落[0037]等)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-158728 (claims 1-3, paragraph [0037], etc.)

しかしながら、上記従来の特許文献1に示されるフラックスは、主として、電子部品の回路基板等への実装を、いわゆるSMT(Surface mount technology、表面実装技術)により行うハンダペースト向けに利用されている。そのため、このフラックスを用いたハンダペーストでバンプ形成や狭ピッチ印刷等を行うと、バンプや印刷パターンが印刷後にダレて、隣り合うバンプ同士が繋がってしまう、いわゆるブリッジ等の不具合が生じることがある。このため、上記特許文献1に示されるフラックスは、SMT用途での使用や環境面等では非常に優れるものの、例えばFC(Flip-Chip)ボンディング技術のようにバンプ形成や狭ピッチ印刷等が必要な実装技術で用いられるハンダペースト向けには十分に適しているとはいえない。そこで、バンプ形成や狭ピッチ印刷に適した印刷性或いは溶融性を悪化させることなく、リフロー後、水のみで洗浄可能なペーストを調製できるハンダペースト用フラックスの開発が求められていた。 However, the flux shown in the conventional Patent Document 1 is mainly used for solder paste in which electronic components are mounted on a circuit board or the like by so-called SMT (Surface mount technology). Therefore, when bump formation or narrow-pitch printing is performed with a solder paste using this flux, the bumps and printing patterns may sag after printing, causing problems such as so-called bridges in which adjacent bumps are connected to each other. .. Therefore, although the flux shown in Patent Document 1 is very excellent in terms of use in SMT applications and the environment, for example, bump formation and narrow pitch printing are required as in FC (Flip-Chip) bonding technology. It cannot be said that it is sufficiently suitable for solder paste used in mounting technology. Therefore, there has been a demand for the development of a flux for solder paste that can prepare a paste that can be washed only with water after reflow without deteriorating the printability or meltability suitable for bump formation and narrow pitch printing.

本発明の目的は、印刷性及び溶融性に優れるとともに、リフロー後、水のみで洗浄可能なペーストを調製できるハンダペースト用水溶性フラックス及び該フラックスを用いて調製されたハンダペーストを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a water-soluble flux for a solder paste which is excellent in printability and meltability and can prepare a paste which can be washed only with water after reflow, and a solder paste prepared by using the flux. ..

本発明の第1の観点は、常温で固体の界面活性剤である有機酸ポリグリセロールエステルと、チキソ剤と、溶剤とを含むハンダペースト用水溶性フラックスにおいて、チキソ剤がベンジリデンソルビトール又はベンジリデンソルビトール誘導体であって、前記水溶性フラックス100質量%中、常温で液体の界面活性剤を0.1〜20.0質量%含むことを特徴とする。 The first aspect of the present invention is that in a water-soluble flux for solder paste containing an organic acid polyglycerol ester which is a solid surfactant at room temperature, a thixo agent, and a solvent, the thixo agent is benzylidene sorbitol or a benzylidene sorbitol derivative. It is characterized by containing 0.1 to 20.0% by mass of a surfactant that is liquid at room temperature in 100% by mass of the water-soluble flux.

本発明の第2の観点は、第1の観点に基づく発明であって、更に有機酸ポリグリセロールエステルのHLB値が10〜19であることを特徴とする。 A second aspect of the present invention is an invention based on the first aspect, further characterized in that the HLB value of the organic acid polyglycerol ester is 10 to 19.

本発明の第3の観点は、第1又は第2の観点に基づく発明であって、更に有機酸ポリグリセロールエステルがラウリン酸ポリグリセロールエステル、ステアリン酸ポリグリセロールエステル、イソステアリン酸ポリグリセロールエステル、セスキステアリン酸ポリグリセロールエステル、ジイソステアリン酸ポリグリセロールエステル、ミリスチン酸ポリグリセロールエステル、パルミチン酸ポリグリセロールエステル、オレイン酸ポリグリセロールエステル及びベヘニン酸ポリグリセロールエステル、カプリル酸ポリグリセロールエステルからなる群より選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする。 The third aspect of the present invention is an invention based on the first or second aspect, and further, the organic acid polyglycerol ester is laurate polyglycerol ester, stearate polyglycerol ester, isostearic acid polyglycerol ester, sesquistea. One selected from the group consisting of acid polyglycerol ester, diisostearic acid polyglycerol ester, myristic acid polyglycerol ester, palmitate polyglycerol ester, oleic acid polyglycerol ester and behenic acid polyglycerol ester, and caprylic acid polyglycerol ester. It is characterized by having two or more types.

本発明の第4の観点は、第1ないし第3の観点に基づく発明であって、更に溶剤のSP値が10〜20であることを特徴とする。 The fourth aspect of the present invention is an invention based on the first to third aspects, and is further characterized in that the SP value of the solvent is 10 to 20.

本発明の第5の観点は、第1ないし第4の観点のハンダペースト用水溶性フラックスとハンダ粉末とを含むハンダペーストである。 A fifth aspect of the present invention is a solder paste containing the water-soluble flux for solder paste and the solder powder according to the first to fourth aspects.

本発明の第1の観点のハンダペースト用水溶性フラックスは、常温で固体の界面活性剤である有機酸ポリグリセロールエステルと、チキソ剤と、溶剤とを含み、チキソ剤がベンジリデンソルビトール又はベンジリデンソルビトール誘導体である。これにより、優れた印刷性及び溶融性は維持しつつも、リフロー後、有機溶剤等を使用せずに、水(温水も含む、以下同様)のみで洗浄可能な、実装中の安全衛生面及び環境面等に優れたハンダペーストを調製できる。またハンダペースト用水溶性フラックス100質量%中、常温で固体の界面活性剤である有機酸ポリグリセロールエステルに加えて常温で液体の界面活性剤を0.1〜20.0質量%含むことにより、ハンダペーストにしたときにペーストの流動性を適度に高めることができ、これにより印刷性をより一層向上させることができる。 The water-soluble flux for solder paste according to the first aspect of the present invention contains an organic acid polyglycerol ester which is a solid surfactant at room temperature, a thixo agent, and a solvent, and the thixo agent is benzylidene sorbitol or a benzylidene sorbitol derivative. is there. As a result, while maintaining excellent printability and meltability, after reflowing, it can be washed only with water (including hot water, the same applies hereinafter) without using organic solvents, etc., in terms of safety and health during mounting. It is possible to prepare a solder paste that is excellent in terms of the environment. Further, in 100% by mass of the water-soluble flux for solder paste, 0.1 to 20.0% by mass of a surfactant that is liquid at room temperature is contained in addition to the organic acid polyglycerol ester that is a solid surfactant at room temperature. When made into a paste, the fluidity of the paste can be appropriately increased, which can further improve the printability.

本発明の第2の観点のハンダペースト用水溶性フラックスは、有機酸ポリグリセロールエステルのHLB値が10〜19である。これにより、リフロー後の水による洗浄性をより高めることができる。 The water-soluble flux for solder paste according to the second aspect of the present invention has an HLB value of an organic acid polyglycerol ester of 10 to 19. As a result, the detergency with water after reflow can be further improved.

本発明の第3の観点のハンダペースト用水溶性フラックスは、有機酸ポリグリセロールエステルがラウリン酸ポリグリセロールエステル、ステアリン酸ポリグリセロールエステル、イソステアリン酸ポリグリセロールエステル、セスキステアリン酸ポリグリセロールエステル、ジイソステアリン酸ポリグリセロールエステル、ミリスチン酸ポリグリセロールエステル、パルミチン酸ポリグリセロールエステル、オレイン酸ポリグリセロールエステル及びベヘニン酸ポリグリセロールエステル、カプリル酸ポリグリセロールエステルからなる群より選ばれた1種又は2種以上である。これにより、バンプ等を形成するときの印刷性、或いはリフロー後の水による洗浄性をより高めることができる。 In the water-soluble flux for solder paste according to the third aspect of the present invention, the organic acid polyglycerol ester is laurate polyglycerol ester, stearate polyglycerol ester, isostearic acid polyglycerol ester, sesquistearate polyglycerol ester, diisostearate polyglycerol. One or more selected from the group consisting of esters, myristic acid polyglycerol esters, palmitic acid polyglycerol esters, oleic acid polyglycerol esters and behenic acid polyglycerol esters, and caprylic acid polyglycerol esters. As a result, the printability when forming bumps and the like, or the washability with water after reflow can be further improved.

本発明の第4の観点のハンダペースト用水溶性フラックスは、溶剤のSP値が10〜20である。これにより、調製後のフラックス或いはこれを用いて調製されたパンダペーストを取り扱う際、或いは保管するに際して、粘度の経時安定性をより向上させることができる。 The water-soluble flux for solder paste according to the fourth aspect of the present invention has a solvent SP value of 10 to 20. This makes it possible to further improve the stability of the viscosity over time when handling or storing the prepared flux or the panda paste prepared using the same.

本発明の第5の観点のハンダペーストは、本発明のハンダペースト用水溶性フラックスを含むため、優れた印刷性及び溶融性を維持しつつも、リフロー後の洗浄を水のみで行うことができ、実装中の安全衛生面や環境面等で優れる。 Since the solder paste according to the fifth aspect of the present invention contains the water-soluble flux for the solder paste of the present invention, it is possible to perform cleaning after reflow only with water while maintaining excellent printability and meltability. It is excellent in terms of safety and health and environment during mounting.

次に本発明を実施するための形態を説明する。 Next, a mode for carrying out the present invention will be described.

本発明のハンダペースト用水溶性フラックスは、常温で固体の界面活性剤である有機酸ポリグリセロールエステルと、チキソ剤と、溶剤とを含むハンダペースト用水溶性フラックスの改良であり、その特徴ある構成は、チキソ剤がベンジリデンソルビトール又はベンジリデンソルビトール誘導体であって、水溶性フラックス100質量%中、常温で液体の界面活性剤(以下、単に「界面活性剤」という。)を0.1〜20.0質量%含むことにある。 The water-soluble flux for solder paste of the present invention is an improvement of the water-soluble flux for solder paste containing an organic acid polyglycerol ester which is a solid surfactant at room temperature, a thixo agent, and a solvent. The thyxo agent is benzylidene sorbitol or a benzylidene sorbitol derivative, and the surfactant which is liquid at room temperature in 100% by mass of the water-soluble flux (hereinafter, simply referred to as "surfactant") is 0.1 to 20.0% by mass. To include.

本発明のハンダペースト用水溶性フラックスにおいて、有機酸ポリグリセロールエステルは、フラックスの主成分として一般的に使用されているガムロジン、水添ロジン、重合ロジン、エステルロジン等のロジンの代替として含まれる。即ち、このフラックスは、ロジンや他の樹脂成分を含まない。また、有機酸ポリグリセロールエステルは一般的なハンダペーストに用いられていたロジン(樹脂成分)の代替として含まれるため、クリームハンダのフラックスに、粘度調整剤等の副成分として極少量添加されるものではない。 In the water-soluble flux for solder paste of the present invention, the organic acid polyglycerol ester is included as a substitute for rosins such as gum rosin, hydrogenated rosin, polymerized rosin, and ester rosin, which are generally used as the main component of the flux. That is, this flux does not contain rosin or other resin components. In addition, since organic acid polyglycerol ester is contained as a substitute for rosin (resin component) used in general solder paste, a very small amount is added to the flux of cream solder as an auxiliary component such as a viscosity modifier. is not.

有機酸ポリグリセロールエステルは、グリセリンを脱水縮合して得られるポリグリセリンと有機酸とをエステル化反応させることにより得られる。具体的には、ラウリン酸ポリグリセロールエステル、ステアリン酸ポリグリセロールエステル、イソステアリン酸ポリグリセロールエステル、セスキステアリン酸ポリグリセロールエステル、ジイソステアリン酸ポリグリセロールエステル、ミリスチン酸ポリグリセロールエステル、パルミチン酸ポリグリセロールエステル、オレイン酸ポリグリセロールエステル又はベヘニン酸ポリグリセロールエステル、カプリル酸ポリグリセロールエステル等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を併用してもよい。この他、有機酸ポリグリセロールエステルには、天然物油脂から得られたヤシ油脂肪酸等も使用することができる。 The organic acid polyglycerol ester is obtained by subjecting polyglycerin obtained by dehydration condensation of glycerin to an organic acid in an esterification reaction. Specifically, laurate polyglycerol ester, stearic acid polyglycerol ester, isostearic acid polyglycerol ester, sesquistearic acid polyglycerol ester, diisostearic acid polyglycerol ester, myristic acid polyglycerol ester, palmitate polyglycerol ester, oleic acid. Examples thereof include polyglycerol ester, behenic acid polyglycerol ester, caprylic acid polyglycerol ester, and one or more of these may be used in combination. In addition, coconut oil fatty acids obtained from natural oils and fats can also be used as the organic acid polyglycerol ester.

また、本発明で使用する有機酸ポリグリセロールエステルは、HLB(Hydrophile-Lipophile Balance)値が10〜19であることが好ましい。HLB値とは、水溶性を示す指標であり、有機酸の種類やポリグリセリンの重合の数等により変動し、数値が大きい程、水溶性が高いことを示す。有機酸ポリグリセロールエステルのHLB値が下限値未満では、フラックス又はペーストに十分な水溶性が付与されず、リフロー後の洗浄を水のみで行った際に残渣が生じる場合がある。一方、上限値を超えると、有機酸ポリグリセロールエステルの水への親和性が高くなりすぎて、これを十分に溶解させる適切な有機溶剤が無くなり、フラックスの作製が困難になる。或いは溶解できる有機溶剤であっても、非常に極性が高い有機溶剤になるため、フラックスの溶剤としては適さない。このうち、HLB値は11〜18の範囲であることがより好ましく、11〜16.5の範囲であることが特に好ましい。 Further, the organic acid polyglycerol ester used in the present invention preferably has an HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 10 to 19. The HLB value is an index indicating water solubility, and varies depending on the type of organic acid, the number of polymerizations of polyglycerin, and the like. The larger the value, the higher the water solubility. If the HLB value of the organic acid polyglycerol ester is less than the lower limit, sufficient water solubility is not imparted to the flux or paste, and a residue may be generated when washing after reflow is performed only with water. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the affinity of the organic acid polyglycerol ester for water becomes too high, and there is no suitable organic solvent for sufficiently dissolving the organic acid polyglycerol ester, which makes it difficult to prepare a flux. Alternatively, even a soluble organic solvent is not suitable as a flux solvent because it becomes an organic solvent having extremely high polarity. Of these, the HLB value is more preferably in the range of 11 to 18, and particularly preferably in the range of 11 to 16.5.

チキソ剤には、ベンジリデンソルビトール又はベンジリデンソルビトール誘導体を使用する。ハンダペーストに用いられる一般的なチキソ剤には、硬化ひまし油、脂肪酸アマイド、天然油脂、合成油脂、12−ヒドロキシステアリン酸等、数多く存在するが、本発明では、上記ベンジリデンソルビトール又はその誘導体に限定する。これは、本発明者が鋭意研究した結果、バンプ形成や狭ピッチ印刷等が必要な実装方法で使用されるハンダペーストにおいて、樹脂成分に有機酸ポリグリセロールエステルを使用したときに、チキソ剤をこれらに限定すると、良好な印刷性や印刷後の形状保持性等が得られたという理由に基づいている。ベンジリデンソルビトール又はその誘導体としては、1,3:2,4−ビス−O−(ベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(4−メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトール等が挙げられる。 Benzylidene sorbitol or a benzylidene sorbitol derivative is used as the thixotropy. There are many common thixo agents used in solder paste, such as hardened castor oil, fatty acid amide, natural fats and oils, synthetic fats and oils, and 12-hydroxystearic acid, but the present invention is limited to the above-mentioned benzylidene sorbitol or its derivatives. .. As a result of diligent research by the present inventor, this is because when an organic acid polyglycerol ester is used as a resin component in a solder paste used in a mounting method that requires bump formation, narrow pitch printing, etc. When limited to, it is based on the reason that good printability, shape retention after printing, and the like were obtained. Benzylidene sorbitol or its derivatives include 1,3: 2,4-bis-O- (benzylidene) sorbitol, 1,3: 2,4-bis-O- (4-methylbenzylidene) sorbitol, 1,3: 2. , 4-Bis-O- (3,4-dimethylbenzylidene) sorbitol and the like.

溶剤としては、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジグリセリン、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、α−テルピネオール等の沸点が180℃以上である有機溶剤が挙げられ、これらの1種又は2種以上を併用してもよい。 As the solvent, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, diglycerin, 2-ethyl-1,3-hexanediol, α- Examples thereof include organic solvents having a boiling point of 180 ° C. or higher, such as terpineol, and one or more of these may be used in combination.

また、ロジンの代わりに有機酸ポリグリセロールエステルを使用する際に、有機酸ポリグリセロールエステルの溶解性が低い溶剤を用いると、フラックス作製後に、一旦溶解した有機酸ポリグリセロールエステルが溶剤から徐々に析出し、フラックスの粘度が経時的に増加しやすくなる傾向がみられる。更に、ペーストを調製する際、有機酸ポリグリセロールエステルの溶解性が低い溶剤を用いたフラックスを使用すると、ハンダ粉末との混練時に、徐々に析出する有機酸ポリグリセロールエステルが溶剤に再溶解する。そして、再溶解した有機酸ポリグリセロールエステルが溶剤から再び析出することによって、ペースト粘度が経時的に増加するという不具合が生じる場合がある。そのため、本発明において、使用する溶剤には、フラックスの粘度やペースト粘度の経時的安定性の面から、水溶性の高い有機酸ポリグリセロールエステルに対して優れた溶解性を示すもの、即ちSP値が所望の範囲を満たすものを使用するのが望ましい。SP値とは、溶剤の溶解性を表す指標としてHildebrandにより提唱され、正則溶液論で定義された溶解度パラメーター(Solubility Parameter;SP)である。なお、本明細書に示すSP値は、Fedorsの式に基づいて算出するSP値(単位:(cal/cm31/2)である。具体的には、SP値が10〜20の範囲を満たす溶剤を使用するのが好ましい。使用する溶剤のSP値が下限値未満では、有機酸ポリグリセロールエステルが十分に溶解されず、フラックスの粘度やペースト粘度の経時安定性が悪くなり、経時的な増粘が著しくなる場合がある。一方、上限値を超えると、フラックス中の一成分として含まれる活性剤の反応性が高くなり、ペースト中に含まれるハンダ粉末と反応を起こすことによって、ペーストの経時的な増粘が著しくなったり、ペーストの溶融性が低下する場合がある。このうち、使用する溶剤のSP値は10〜17の範囲であることが特に好ましい。 Further, when an organic acid polyglycerol ester is used instead of rosin, if a solvent having low solubility of the organic acid polyglycerol ester is used, the organic acid polyglycerol ester once dissolved is gradually precipitated from the solvent after the flux is prepared. However, the viscosity of the flux tends to increase over time. Further, when the paste is prepared, if a flux using a solvent having low solubility of the organic acid polyglycerol ester is used, the organic acid polyglycerol ester gradually precipitated during kneading with the solder powder is redissolved in the solvent. Then, the redissolved organic acid polyglycerol ester may be precipitated again from the solvent, which may cause a problem that the paste viscosity increases with time. Therefore, in the present invention, the solvent used has excellent solubility in highly water-soluble organic acid polyglycerol ester, that is, SP value, in terms of the viscosity of the flux and the stability of the paste viscosity over time. It is desirable to use one that meets the desired range. The SP value is a solubility parameter (SP) proposed by Hildebrand as an index showing the solubility of a solvent and defined by regular solution theory. The SP value shown in the present specification is an SP value (unit: (cal / cm 3 ) 1/2 ) calculated based on the Fedors formula. Specifically, it is preferable to use a solvent having an SP value in the range of 10 to 20. If the SP value of the solvent used is less than the lower limit, the organic acid polyglycerol ester may not be sufficiently dissolved, the viscosity of the flux and the viscosity of the paste may deteriorate over time, and the thickening over time may become significant. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the reactivity of the activator contained as one component in the flux becomes high, and the reaction with the solder powder contained in the paste causes the paste to become significantly thickened over time. , The meltability of the paste may decrease. Of these, the SP value of the solvent used is particularly preferably in the range of 10 to 17.

本発明で使用する界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又は両性界面活性剤である。 The surfactant used in the present invention is a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant or an amphoteric surfactant.

ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテルなどのポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリアルキレングリコール、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシアルキレン誘導体などのエーテル型ノニオン系界面活性剤;ビス(2−ヒドロキシエチル)ラウリルアミンなどの(2−ヒドロキシエチル)アルキルアミン、トリエタノールなどのアルコールアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、N, N',N'−トリス(2−ヒドロキシエチル)−N−アルキル−1,3−ジアミノアルカン、N, N',N'−ポリオキシエチレン−N−アルキル−1,3−ジアミノアルカン、ポリオキシプロピレンポリオキシエチレンアルキルアミンなどのアルキルアミンエーテル型ノニオン系界面活性剤;脂肪酸エステル、グリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルなどのエステル型ノニオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、アルキルアルカノールアミドなどのエーテルエステル型ノニオン系界面活性剤;N−アシルアミノ酸エステル、N−アシルグルタミン酸エステル、ピログルタミン酸エステルなどのアミノ酸誘導体型ノニオン系界面活性剤が例示される。その他フェノールエトキシレート、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤がノニオン系界面活性剤として挙げられる。 Nonionic surfactants include polyoxyalkylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ethers, ether-type nonionic surfactants such as polyalkylene glycols, polyoxyalkylene alkenyl ethers, and polyoxyalkylene derivatives; bis (2-hydroxy). (2-Hydroxyethyl) alkylamines such as ethyl) laurylamine, alcohol amines such as triethanol, polyoxyethylene alkylamines, N, N', N'-tris (2-hydroxyethyl) -N-alkyl-1, Alkylamine ether-type nonionic surfactants such as 3-diaminoalkane, N, N', N'-polyoxyethylene-N-alkyl-1,3-diaminoalcan, polyoxypropylene polyoxyethylene alkylamine; fatty acid ester , Glycol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester and other ester-type nonionic surfactants; polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene hydrogenated castor oil, alkyl Ether ester-type nonionic surfactants such as alkanolamide; amino acid derivative nonionic surfactants such as N-acylamino acid ester, N-acylglutamic acid ester, and pyroglutamic acid ester are exemplified. Other examples include phenol ethoxylate, silicone-based surfactant, and fluorine-based surfactant as nonionic surfactants.

またカチオン系界面活性剤としては、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの4級アンモニウム塩などのアルキルアミン塩などの界面活性剤が例示される。 Further, examples of the cationic surfactant include surfactants such as alkylamine salts such as quaternary ammonium salts such as lauryltrimethylammonium chloride.

またアニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウムなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、芳香族リン酸エステルなどの脂肪族リン酸エステル、ジオクチルスルホコハク酸エステルNa塩、アルコールサルフェートNa塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、脂肪酸塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物などの界面活性剤が例示される。 Examples of anionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ether sulfates such as polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate, aliphatic phosphoric acid esters such as aromatic phosphates, dioctyl sulfosuccinate Na salts, and alcohol sulfate Na. Surfactants such as salts, alkyl sulphate esters, alkylbenzene sulfonates, fatty acid salts, naphthalene sulfonic acid formarin condensates and the like are exemplified.

更に両性界面活性剤としては、ラウリルベタインなどのアルキルベタイン、脂肪酸アミドアルキル酢酸ベタイン、脂肪酸アミノ酢酸ベタイン、アルキルアミンオキサイドなどの界面活性剤が例示される。 Further, examples of the amphoteric surfactant include alkyl betaines such as lauryl betaine, fatty acid amide alkyl acetate betaines, fatty acid amino acetate betaines, and alkyl amine oxides.

また、フラックスには、上述の有機酸ポリグリセロールエステル、チキソ剤、溶剤、界面活性剤以外に、活性剤や酸化防止剤等を含ませることができる。活性剤には、アミン、有機酸、ハロゲン化水素酸アミン塩、有機酸アンモニウム塩、有機酸アミン塩、ハロゲン化アンモニウム、有機ハロゲン化合物等を使用することができる。 In addition to the above-mentioned organic acid polyglycerol ester, thixotropy, solvent, and surfactant, the flux may contain an activator, an antioxidant, and the like. As the activator, amines, organic acids, amine salts of hydrohalic acids, ammonium salts of organic acids, amine salts of organic acids, ammonium halides, organic halogen compounds and the like can be used.

アミンとしては、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、3,4−ジヒドロキシベンジルアミン、メチルジエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、アミノプロパノール、ポリオキシエチレンオレイルアミン、ポリオキシエチレンラウレルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ−n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、tert−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、トリ−n−ヘキシルアミン、オクチルアミン、ドデシルアミン、ステアリルアミン、メトキシプロピルアミン、ジメチルヘキシルアミン、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ブロモエチルアミン、1,3−ジ−o−トリグアニジン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、エチルヘキシルアミン、エトキシプロピルアミン、エチルヘキシルオキシプロピルアミン、ピリジン、4−ブロモピリジン、ピペリジン、2,6−ジメチルピペリジン、ピペコリン、アニリン、ジメチルアミン、エチルアニリン、2,4,6−トリメチルアニリン、モルホリン、メチルモルホリン、エチルモルホリン、エチルナフチルアミン、3−アミノ−1−プロペン、シクロヘキシルアミン、ジシロヘキシルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、シクロヘキシルジエチレンアミン、シクロヘキシルメチルエチルアミン、シクロヘキシルジ−n−プロピルアミン、シクロヘキシルジイソプロピルアミン、シクロヘキシルジ−n−ブチルアミン、シクロヘキシルジイソブチルアミン、シクロヘキシルジペンチルアミン、シクロヘキシルジヘキシルアミン又はジシクロヘキシルメチルアミン等が挙げられる。 Examples of amines include ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 3,4-dihydroxybenzylamine, methyldiethanolamine, diphenylguanidine, aminopropanol, polyoxyethylene oleylamine, polyoxyethylene laurelamine, polyoxyethylene stearylamine, and methylamine. Dimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, triisopropylamine, isopropylamine, diisopropylamine, tri-n-propylamine, n-butylamine, isobutylamine, tert-butylamine, di-n-butylamine, Tri-n-butylamine, n-hexylamine, tri-n-hexylamine, octylamine, dodecylamine, stearylamine, methoxypropylamine, dimethylhexylamine, allylamine, diallylamine, 2-bromoethylamine, 1,3-di- o-Triguanidine, dimethylaminopropylamine, dibutylaminopropylamine, ethylhexylamine, ethoxypropylamine, ethylhexyloxypropylamine, pyridine, 4-bromopyridine, piperidine, 2,6-dimethylpiperidin, pipecholine, aniline, dimethylamine, Ethylaniline, 2,4,6-trimethylaniline, morpholine, methylmorpholin, ethylmorpholine, ethylnaphthylamine, 3-amino-1-propene, cyclohexylamine, disirohexylamine, cyclohexyldimethylamine, cyclohexyldiethyleneamine, cyclohexylmethylethylamine , Cyclohexyldi-n-propylamine, cyclohexyldiisopropylamine, cyclohexyldi-n-butylamine, cyclohexyldiisobutylamine, cyclohexyldipentylamine, cyclohexyldihexylamine, dicyclohexylmethylamine and the like.

また、有機酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、ベヘン酸、ドコサヘキサエン酸、リグノセリン酸、アゼライン酸、スベリン酸、セバシン酸、フタル酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、サリチル酸、没食子酸、安息香酸、フタル酸、ケイ(桂)皮酸、メリト酸、シュウ酸、乳酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、クエン酸、アコニット酸、グルタル酸、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。 Examples of organic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, pelargonic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, Palmitic acid, margaric acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, tubercrostearic acid, arachidic acid, arachidonic acid, eikosapentaenoic acid, bechenic acid, docosahexaenoic acid, lignoseric acid, azelaic acid, suberic acid, sebacic acid , Phthalic acid, cellotic acid, montanic acid, melisic acid, salicylic acid, gallic acid, benzoic acid, phthalic acid, caytic acid, meritic acid, oxalic acid, lactic acid, tartaric acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, Examples thereof include succinic acid, malic acid, citric acid, aconitic acid, glutaric acid, adipic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and the like.

また、ハロゲン化水素酸アミン塩としては、上記アミンの塩化水素酸塩又は臭化水素酸塩が挙げられ、有機酸アンモニウム塩としては、アンモニアと上記有機酸との塩が挙げられ、有機酸アミン塩としては、上記アミンと上記有機酸との塩が挙げられる。 Examples of the halogenated hydride amine salt include the above-mentioned amine hydride or hydrobromide, and examples of the organic acid ammonium salt include a salt of ammonia and the above-mentioned organic acid. Examples of the salt include a salt of the above amine and the above organic acid.

また、有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコール、ハロゲン化エステル、ハロゲン化カルボン酸、ハロゲン化ケトン、ハロゲン化アミド、ハロゲン化エーテル等が挙げられる。ハロゲン化アルキルの具体例としては、1−ブロモ−3−メチル−1−ブテン、1,4−ジブロモブテン、1−ブロモ−1−プロペン、2,3−ジブロモプロペン、1,1−ジブロモテトラクロロエタン、1,2−ジブロモ−1−フェニルエタン、1,2−ジブロモスチレン、1,2,5,6,9,10−ヘキサブロモシクロドデカン、2,2−ビス[4−(2,3−ジブロモプロピル)−3,5−ジブロモフェルニ]プロパン、α,β−ジブロモエチルベンゼン等が挙げられる。ハロゲン化アルコールの具体例としては、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、1,4−ジブロモ−2,3−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、1−ブロモ−2−ブタノール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、2,3−ジブロモ−2−プロパノール、1,4−ジブロモ−2−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、9,10,12,13,15,16−へキサブロモステアリルアルコール、9,10,12,13−テトラブロモステアリルアルコール等が挙げられる。ハロゲン化エステルの具体例としては、ブロモ酢酸エチル、α−ブロモカプリル酸エチル、α−ブロモプロピオン酸エチル、β−ブロモプロピオン酸エチル、α−ブロモ−酢酸エチル、9,10,12,13,15,16−へキサブロモステアリン酸メチルエステル、同エチルエステル、9,10,12,13−テトラブロモステアリン酸、同メチルエステル、同エチルエステル等が挙げられる。またハロゲン化カルボン酸の具体例としては、2,3−ジブロモコハク酸、2−ブロモコハク酸、2,2−ジブロモアジピン酸、9,10,12,13,15,16−ヘキサブロモステアリン酸、ビス(2,3−ジブロモプロピル)スクシネート、ビス(2,3−ジブロモプロピル)o−フタレート、ビス(2,3−ジブロモプロピル)p−フタレート、ビス(2,3−ジブロモプロピル)p−フタルアミド、トリス(2,3−ジブロモプロピル)トリメリテート、4−ブロモメチルベンジルステアレート、2,4−ビスブロモメチルベンジルステアレート、テトラ(2,3−ジブロモプロピル)ピロメリテート等が挙げられる。ハロゲン化ケトンの具体例としては、2,4−ジブロモアセトフェノン等が挙げられる。ハロゲン化アミドの具体例としては、ビス(2,3−ジブロモプロピル)o−フタルアミド、トリス(2,3−ジブロモプロピル)トリメリトアミド、テトラ(2,3−ジブロモプロピル)ピロメリトアミド、ビス(2,3−ジブロモプロピル)タータミド、N,N‘−ビス(2,3−ジブロモプロピル)スクシアミド、N,N,N’,N’−テトラ(2,3−ジブロモプロピル)スクシアミド等が挙げられる。更にハロゲン化エーテルの具体例としては、トリメチロールプロパンビス(2,3−ジブロモプロピル)エーテル、4−パルミトイルオキシベンジルブロマイド、4−ミリストイルオキシベンジルブロマイド、4−ラウロイルオキシベンジルブロマイド、4−ウンデカノイルオキシベンジルブロマイド等が挙げられる。 Examples of the organic halogen compound include alkyl halides, alcohol halides, halogenated esters, carboxylic acids halogenated, ketones halides, halogenated amides, and ether halides. Specific examples of alkyl halides include 1-bromo-3-methyl-1-butene, 1,4-dibromobutene, 1-bromo-1-propene, 2,3-dibromopropene, and 1,1-dibromotetrachloroethane. , 1,2-Dibromo-1-phenylethane, 1,2-dibromostyrene, 1,2,5,6,9,10-hexabromocyclododecane, 2,2-bis [4- (2,3-dibromo) Propyl) -3,5-dibromoferni] propane, α, β-dibromoethylbenzene and the like can be mentioned. Specific examples of the halogenated alcohol include 1-bromo-2-propanol, 3-bromo-1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,3-dibromo-2-propanol, and 1,4-. Dibromo-2,3-butanediol, 2,3-dibromo-1-propanol, 1-bromo-2-butanol, 1,4-dibromo-2-butanol, 2,3-dibromo-2-propanol, 1,4 -Dibromo-2-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 9,10,12,13,15,16-hexabromostearyl alcohol, 9,10,12,13- Examples thereof include tetrabromostearyl alcohol. Specific examples of the halogenated ester include ethyl bromoacetate, ethyl α-bromocaprylate, ethyl α-bromopropionate, ethyl β-bromopropionate, α-bromo-ethyl acetate, 9,10,12,13,15. , 16-Hexabromostearic acid methyl ester, the same ethyl ester, 9,10,12,13-tetrabromostearic acid, the same methyl ester, the same ethyl ester and the like. Specific examples of the halogenated carboxylic acid include 2,3-dibromosuccinic acid, 2-bromosuccinic acid, 2,2-dibromoadipic acid, 9,10,12,13,15,16-hexabromostearic acid and bis. (2,3-dibromopropyl) succinate, bis (2,3-dibromopropyl) o-phthalate, bis (2,3-dibromopropyl) p-phthalate, bis (2,3-dibromopropyl) p-phthalamide, tris Examples thereof include (2,3-dibromopropyl) trimellitate, 4-bromomethylbenzyl stearate, 2,4-bisbromomethylbenzyl stearate, tetra (2,3-dibromopropyl) pyromeritate and the like. Specific examples of the halogenated ketone include 2,4-dibromoacetophenone and the like. Specific examples of the halogenated amide include bis (2,3-dibromopropyl) o-phthalamide, tris (2,3-dibromopropyl) trimeritoamide, tetra (2,3-dibromopropyl) pyromeritoamide, and bis (2,3). Examples thereof include 3-dibromopropyl) tartamide, N, N'-bis (2,3-dibromopropyl) succiamide, N, N, N', N'-tetra (2,3-dibromopropyl) succiamide and the like. Further, specific examples of halogenated ethers include trimethylolpropane bis (2,3-dibromopropyl) ether, 4-palmitoyloxybenzyl bromide, 4-myristoyloxybenzyl bromide, 4-lauroyloxybenzyl bromide, and 4-undecanoyl. Examples thereof include oxybenzyl bromide.

酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤又はアミン系酸化防止剤等が挙げられる。 Examples of the antioxidant include a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a sulfur-based antioxidant, an amine-based antioxidant, and the like.

水溶性フラックス100質量%中に占める有機酸ポリグリセロールエステルの割合は10質量%以上50質量%未満とするのが好ましく、15〜45質量%とするのが特に好ましい。また、溶剤の割合は30〜60質量%、チキソ剤の割合は1〜10質量%、活性剤の割合は0.1〜10質量%、酸化防止剤の割合は1〜10質量%とするのが好ましい。更に、水溶性フラックス100質量%中に占める界面活性剤の割合は、上述したように、0.1〜20.0質量%であり、1.0〜10.0質量%とするのが好ましい。 The proportion of the organic acid polyglycerol ester in 100% by mass of the water-soluble flux is preferably 10% by mass or more and less than 50% by mass, and particularly preferably 15 to 45% by mass. The ratio of the solvent is 30 to 60% by mass, the ratio of the thixo agent is 1 to 10% by mass, the ratio of the activator is 0.1 to 10% by mass, and the ratio of the antioxidant is 1 to 10% by mass. Is preferable. Further, as described above, the ratio of the surfactant to 100% by mass of the water-soluble flux is 0.1 to 20.0% by mass, preferably 1.0 to 10.0% by mass.

有機酸ポリグリセロールエステルの割合が下限値未満では、ペーストの流動性、基板へのタッキング性等が低下するため、印刷後のバンプに形状不良等の不具合が生じる場合がある。一方、上限値を越えると、フラックスの粘度が高くなり過ぎ、これに応じてペースト粘度も高くなることで、印刷後のバンプに形状不良が生じたり、ペーストがマスク開口部から吐出されずにバンプが形成されない、いわゆるミッシング等の不具合が生じる場合がある。また、溶剤の割合が下限値未満では、フラックスの粘度が高くなり、これに応じてペースト粘度が高くなりすぎることで、上述のバンプの形状不良やミッシング等の不具合が生じる場合がある。一方、上限値を越えると、フラックスの粘度が低くなり、これに応じてペーストの粘度が低くなり過ぎることで、ペースト中のハンダ粉末が沈降分離する等の不具合が生じる場合がある。 If the proportion of the organic acid polyglycerol ester is less than the lower limit, the fluidity of the paste, the tackability to the substrate, and the like are lowered, so that the bumps after printing may have problems such as poor shape. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the viscosity of the flux becomes too high, and the paste viscosity also becomes high accordingly, resulting in poor shape of the bumps after printing or bumps without the paste being ejected from the mask opening. Is not formed, so-called missing problems may occur. Further, when the ratio of the solvent is less than the lower limit value, the viscosity of the flux becomes high, and the paste viscosity becomes too high accordingly, which may cause the above-mentioned problems such as poor shape of bumps and missing. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the viscosity of the flux becomes low, and the viscosity of the paste becomes too low accordingly, which may cause problems such as sedimentation and separation of the solder powder in the paste.

また、チキソ剤の割合が下限値未満では、ハンダペーストとしての形状保持性が低下し、隣り合うバンプ同士が繋がってしまう、いわゆるブリッジ等の不具合が生じる場合がある。一方、上限値を越えると、フラックスの粘度が高くなり、これに応じてペースト粘度が高くなりすぎることで、上述のバンプの形状不良やミッシング等の不具合が生じる場合がある。また、活性剤の割合が下限値未満では、ハンダ粉末が溶融せず、十分な接合強度が得られない場合があり、一方、上限値を越えると、保管中に活性剤がハンダ粉末と反応しやすくなるため、ハンダペーストの保存安定性が低下する場合がある。また、酸化防止剤の割合が下限値未満では、ハンダ粉末とフラックス成分が反応しやすくなるため、ハンダペーストの保存安定性が低下する場合がある。一方、上限値を越えると、ハンダ粉末の溶融性が低下する場合がある。 Further, if the ratio of the thixotropic agent is less than the lower limit value, the shape retention as a solder paste is lowered, and problems such as so-called bridges in which adjacent bumps are connected to each other may occur. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the viscosity of the flux becomes high, and the paste viscosity becomes too high accordingly, which may cause problems such as poor shape of the bump and missing. If the ratio of the activator is less than the lower limit, the solder powder may not melt and sufficient bonding strength may not be obtained. On the other hand, if the ratio exceeds the upper limit, the activator reacts with the solder powder during storage. Since it becomes easy, the storage stability of the solder paste may decrease. Further, when the ratio of the antioxidant is less than the lower limit value, the solder powder and the flux component are likely to react with each other, so that the storage stability of the solder paste may be lowered. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the meltability of the solder powder may decrease.

更に、界面活性剤の割合が下限値の0.1質量%未満では、基板上に多数のハンダバンプを形成したときに、ハンダペーストにしたときにペーストが流動しにくくなり、バンプが形成されないミッシングバンプが発生する。また界面活性剤の割合が上限値の20.0質量%を超えると、ハンダペーストにしたときにペーストが流動し易くなり、隣り合うバンプ同士が繋がってしまう、いわゆるブリッジが発生する。 Further, when the ratio of the surfactant is less than the lower limit of 0.1% by mass, when a large number of solder bumps are formed on the substrate, the paste becomes difficult to flow when the solder paste is formed, and the missing bumps are not formed. Occurs. Further, when the ratio of the surfactant exceeds the upper limit value of 20.0% by mass, the paste tends to flow when it is made into a solder paste, and so-called bridges in which adjacent bumps are connected to each other occur.

このようにして得られたフラックスを用いてハンダペーストを調製するには、フラックスとハンダ粉末を所望の割合で混合する。使用するハンダ粉末については、特に限定されず、一般的な錫を主成分とするハンダ粉末等を使用することができる。例えば、Sn−Pb系ハンダ(組成 Sn:Pb=63:37質量%等)、Sn−Pb−Ag系ハンダ(組成Sn:Pb:Ag=62:36:2質量%等)、Sn−Pb−Bi系ハンダ(組成Sn:Pb:Bi=57:40:3質量%等)、Sn−Pb−Sb系ハンダ(組成Sn:Pb:Sb=8:86:6質量%等)、Sn−Ag系ハンダ(組成Sn:Ag=97.7:2.3質量%等)、Sn−Cu系ハンダ(組成Sn:Cu=98.3:0.7質量%等)、Sn−Ag−Cu系ハンダ(組成Sn:Ag:Cu=96.5:3:0.5質量%等)、Au−Sn系の高温ハンダ(組成Au:Sn=75〜85:25〜15質量%、及び組成Au:Sn=5〜15:95〜85質量%、特に組成Au:Sn=78〜80:22〜20質量%、及び組成Au:Sn=10:90質量%等)、Au−Si系の高温ハンダ(組成Au:Si=81.4:18.6質量%等)、Au−Ge系の高温ハンダ(組成Au:Ge=92.6:7.4質量%等)、Sn−Pb系の高温ハンダ(組成 Sn:Pb=5:95質量%等)、その他、Zn−Sn系ハンダ(組成Zn:Sn=9:91質量%等)、In−Sn系ハンダ(組成In:Sn=52:48質量%等)、Bi−Sn系ハンダ(組成Bi:Sn=58:42質量%等)、Sb−Sn系ハンダ(組成Sb:Sn=5:95質量%等)、Al−Zn系ハンダ(組成Al:Zn=5:95質量%等)等が挙げられる。また、ハンダ粉末の平均粒径については、一般的なハンダペーストに用いられる範囲内のものであれば特に限定されないが、例えば0.1μm〜1mmの範囲のものを好適に使用できる。なお、狭ピッチ印刷等を考慮すると、ハンダ粉末の平均粒径は0.1μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、更に微細なバンプ形成等を考慮すると、1μm〜20μmの範囲内であることがより好ましい。本明細書において、平均粒径とは、レーザ回折散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所社製、型式名:Partica LA-950)を用いて測定された体積基準の平均粒径D50をいう。 To prepare a solder paste using the flux thus obtained, the flux and the solder powder are mixed in a desired ratio. The solder powder to be used is not particularly limited, and general tin-based solder powder or the like can be used. For example, Sn-Pb-based solder (composition Sn: Pb = 63: 37% by mass, etc.), Sn-Pb-Ag-based solder (composition Sn: Pb: Ag = 62: 36: 2% by mass, etc.), Sn-Pb- Bi-based solder (composition Sn: Pb: Bi = 57: 40: 3% by mass, etc.), Sn-Pb-Sb-based solder (composition Sn: Pb: Sb = 8: 86: 6% by mass, etc.), Sn-Ag-based solder Solder (composition Sn: Ag = 97.7: 2.3% by mass, etc.), Sn-Cu-based solder (composition Sn: Cu = 98.3: 0.7% by mass, etc.), Sn-Ag-Cu-based solder (composition Sn: Cu = 98.3: 0.7% by mass, etc.) Composition Sn: Ag: Cu = 96.5: 3: 0.5% by mass, etc.), Au-Sn-based high-temperature solder (composition Au: Sn = 75 to 85: 25 to 15% by mass, and composition Au: Sn = 5 to 15: 95 to 85% by mass, especially composition Au: Sn = 78 to 80: 22 to 20% by mass, composition Au: Sn = 10: 90% by mass, etc.), Au-Si based high temperature solder (composition Au) : Si = 81.4: 18.6% by mass, etc.), Au-Ge high-temperature solder (composition Au: Ge = 92.6: 7.4% by mass, etc.), Sn-Pb-based high-temperature solder (composition Sn) : Pb = 5: 95% by mass, etc.), Other Zn-Sn-based solder (composition Zn: Sn = 9: 91% by mass, etc.), In-Sn-based solder (composition In: Sn = 52: 48% by mass, etc.) , Bi-Sn-based solder (composition Bi: Sn = 58: 42% by mass, etc.), Sb-Sn-based solder (composition Sb: Sn = 5: 95% by mass, etc.), Al-Zn-based solder (composition Al: Zn =, etc.) 5:95 mass%, etc.) and the like. The average particle size of the solder powder is not particularly limited as long as it is within the range used for general solder pastes, but for example, those in the range of 0.1 μm to 1 mm can be preferably used. Considering narrow pitch printing and the like, the average particle size of the solder powder is preferably in the range of 0.1 μm to 50 μm, and further considering fine bump formation and the like, it is in the range of 1 μm to 20 μm. Is more preferable. In the present specification, the average particle size means a volume-based average particle size D 50 measured using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device (manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd., model name: Partica LA-950). ..

ハンダペーストを調製する際のフラックスの混合量は、調製後のペースト100質量%中に占める該フラックスの割合が3〜60質量%となる量に調整するのが好ましい。下限値未満では、フラックスの量が少ないため、ペースト化が困難になる、或いはハンダ粉末が溶融しない等の不具合が生じる場合がある。一方、上限値を越えると、ペースト中に含まれるハンダ粉末の量が少なくなり、溶融後に必要なハンダ量が得られない場合がある。 The mixing amount of the flux when preparing the solder paste is preferably adjusted to an amount such that the ratio of the flux to 100% by mass of the prepared paste is 3 to 60% by mass. If it is less than the lower limit, the amount of flux is small, which may make it difficult to make a paste or cause problems such as the solder powder not melting. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the amount of solder powder contained in the paste may be reduced, and the required amount of solder may not be obtained after melting.

このように調製されたハンダペーストでは、本発明のハンダペースト用水溶性フラックスを使用しているため、バンプ形成や狭ピッチ印刷に適した良好な印刷性或いは溶融性を維持しつつも、リフロー後の洗浄を水だけで行うことができ、実装中の安全衛生面や環境面等で優れる。そのため、このハンダペーストは、特に、FCボンディング技術等の実装技術において好適に用いることができる。 Since the solder paste prepared in this way uses the water-soluble flux for the solder paste of the present invention, it maintains good printability or meltability suitable for bump formation and narrow pitch printing, and after reflowing. Cleaning can be performed only with water, which is excellent in terms of safety and health during mounting and the environment. Therefore, this solder paste can be suitably used particularly in mounting technology such as FC bonding technology.

次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。 Next, examples of the present invention will be described in detail together with comparative examples.

<実施例1〜54、比較例2〜25>
有機酸ポリグリセロールエステルと、チキソ剤と、溶剤と、活性剤と、酸化防止剤としてフェノール系酸化防止剤と、界面活性剤をそれぞれ用意した。これらを、以下の表2〜表7に示す割合で配合し、混合、撹拌することによりフラックスを得た。なお、表2〜表7中、分類A〜Fで示される有機酸ポリグリセロールエステル及び分類A〜Dで示される溶剤、分類A、Bで示されるチキソ剤、分類A、Bで示される活性剤は、以下の表1に示す。表5〜表7中、分類A〜Eで示される界面活性剤は、エーテル型ノニオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンラウリルエーテル(分類A)、同じくエーテル型ノニオン系界面活性剤であるビス(2−ヒドロキシエチル)ラウリルアミン(分類B)、カチオン系界面活性剤であるラウリルトリメチルアンモニウムクロライド(分類C)、アニオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム(分類D)、両性界面活性剤であるラウリルベタイン(分類E)であり、表1にも示す。表1中、有機酸ポリグリセロールエステルの名称の末尾に記載された数字はポリグリセロールの重合数を示す。なお、比較例2、比較例11〜14、比較例21、比較例23及び比較例24では界面活性剤を配合しなかった。
<Examples 1 to 54, Comparative examples 2 to 25>
An organic acid polyglycerol ester, a thixo agent, a solvent, an activator, a phenolic antioxidant as an antioxidant, and a surfactant were prepared, respectively. These were blended in the ratios shown in Tables 2 to 7 below, and the flux was obtained by mixing and stirring. In Tables 2 to 7, organic acid polyglycerol esters represented by categories A to F, solvents represented by categories A to D, thixotropic agents represented by categories A and B, and activators represented by categories A and B. Is shown in Table 1 below. In Tables 5 to 7, the surfactants represented by categories A to E are polyoxyethylene lauryl ether (classification A), which is an ether-type nonionic surfactant, and bis (classification A), which is also an ether-type nonionic surfactant. 2-Hydroxyethyl) laurylamine (Category B), cationic surfactant lauryltrimethylammonium chloride (Category C), anionic surfactant sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate (Category D), amphoteric surfactant It is a lauryl betaine (classification E), which is an agent, and is also shown in Table 1. In Table 1, the number at the end of the name of the organic acid polyglycerol ester indicates the number of polyglycerol polymerized. In Comparative Example 2, Comparative Examples 11 to 14, Comparative Example 21, Comparative Example 23 and Comparative Example 24, no surfactant was blended.

<比較例1>
有機酸ポリグリセロールエステル類の代わりにロジン(重合ロジン)を使用し、ロジン、チキソ剤、溶剤、活性剤及び酸化防止剤を、以下の表4及び表7に示す割合で配合したこと以外は、実施例1と同様にしてフラックスを得た。この比較例1で得られたフラックスはポリグリセロールエステル類を含まない。
<Comparative example 1>
Rosin (polymerized rosin) was used instead of organic acid polyglycerol esters, except that rosin, thixo agent, solvent, activator and antioxidant were blended in the proportions shown in Tables 4 and 7 below. A flux was obtained in the same manner as in Example 1. The flux obtained in Comparative Example 1 does not contain polyglycerol esters.

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<比較試験及び評価>
実施例1〜54及び比較例1〜25で得られたフラックスを用いて、以下の(i)〜(iii)の評価を行った。これらの結果を表8〜表10に示す。表8〜表10には、用いたハンダ粉末の種類も示した。
<Comparative tests and evaluations>
The following evaluations (i) to (iii) were carried out using the fluxes obtained in Examples 1 to 54 and Comparative Examples 1 to 25. These results are shown in Tables 8 to 10. Tables 8 to 10 also show the types of solder powder used.

(i) バンプ印刷性(基板):二種類のハンダ粉末を用意し、二種類のハンダペーストを調製した。先ず、平均粒径が8μmのSn−Ag−Cu系ハンダ粉末(組成:Sn96.5質量%、Ag3.0質量%、Cu0.5質量%)を用意し、このハンダ粉末89.0質量部と、実施例1〜49、52、比較例1〜22でそれぞれ得られたフラックス11.0質量部とを室温にて攪拌、混合することにより、ハンダペーストを調製した。表8〜表10においてこのハンダ粉末を「SAC305」と記載した。次に、平均粒径が8μmのAu−Sn系ハンダ粉末(組成:Au78.0質量%、Sn22.0質量%)を用意し、このハンダ粉末94.0質量部と、実施例50、51、53、54、比較例23〜25でそれぞれ得られたフラックス6.0質量部とを室温にて攪拌、混合することにより、ハンダペーストを調製した。表9及び表10においてこのハンダ粉末を「Au22Sn」と記載した。なお、ハンダ粉末の平均粒径は、レーザー回折散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所製、型式名:Partica LA-950)を用いて測定した体積基準の平均粒径D50である。複数の開口部が設けられたNiメッキ製のメタルマスク版(外形寸法:縦300mm×横3000mm×厚さ20μm、開口径φ:75μm、開口部ピッチ:100μm)を備える小型半自動スクリーン印刷機を用い、上述のハンダペーストを基板(寸法:縦60mm×横60mm×厚さ0.8mm)上に印刷することにより、基板上にハンダバンプを形成した。なお、上記基板は、基板の一方の面に設けられた厚さが約50μmの銅箔と、この銅箔上に設けられ、銅箔まで貫通する複数の開口部が形成されたレジスト膜(膜厚15μm、開口径φ65μm、開口部ピッチ100μm)を備える。上記基板上に形成されたハンダバンプ20,000個中、バンプが形成されないミッシングバンプの数と、隣り合うバンプ同士が繋がったブリッジの数を計測した。ミッシングバンプの数及びブリッジの数がそれぞれ5以下のものを合格とした。 (i) Bump printability (board): Two types of solder powder were prepared, and two types of solder paste were prepared. First, a Sn-Ag-Cu-based solder powder having an average particle size of 8 μm (composition: Sn96.5% by mass, Ag3.0% by mass, Cu0.5% by mass) was prepared, and 89.0 parts by mass of this solder powder was used. , 11.0 parts by mass of the fluxes obtained in Examples 1 to 49 and 52 and Comparative Examples 1 to 22, respectively, were stirred and mixed at room temperature to prepare a solder paste. In Tables 8 to 10, this solder powder is designated as "SAC305". Next, Au-Sn-based solder powder having an average particle size of 8 μm (composition: Au78.0% by mass, Sn22.0% by mass) was prepared, and 94.0 parts by mass of this solder powder and Examples 50 and 51, A solder paste was prepared by stirring and mixing 6.0 parts by mass of the fluxes obtained in 53 and 54 and Comparative Examples 23 to 25 at room temperature. In Tables 9 and 10, this solder powder is described as "Au22Sn". The average particle size of the solder powder is a volume-based average particle size D 50 measured using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device (manufactured by Horiba Seisakusho, model name: Partica LA-950). A small semi-automatic screen printing machine equipped with a Ni-plated metal mask plate (external dimensions: length 300 mm x width 3000 mm x thickness 20 μm, opening diameter φ: 75 μm, opening pitch: 100 μm) provided with multiple openings is used. , The above-mentioned solder paste was printed on a substrate (dimensions: length 60 mm × width 60 mm × thickness 0.8 mm) to form solder bumps on the substrate. The substrate is a copper foil having a thickness of about 50 μm provided on one surface of the substrate, and a resist film (film) provided on the copper foil and having a plurality of openings penetrating to the copper foil. It has a thickness of 15 μm, an opening diameter of φ65 μm, and an opening pitch of 100 μm). Among the 20,000 solder bumps formed on the substrate, the number of missing bumps on which no bumps were formed and the number of bridges in which adjacent bumps were connected were measured. Those with the number of missing bumps and the number of bridges of 5 or less were regarded as acceptable.

(ii) バンプ溶融性(基板):上述のバンプ印刷性試験でハンダバンプを形成した基板を、リフロー炉(マルコム社製、型式名:SRS-1C)を用いて、次の条件で溶融させた。実施例1〜49、比較例1〜22のSn−Ag−Cu系ハンダ粉末を用いたハンダペーストにより形成されたハンダバンプについては、基板を窒素雰囲気中、室温から150℃まで1.5℃/sの昇温速度で昇温し、150℃で2分間予備乾燥した後、150℃から230℃の温度まで1.5℃/sの昇温速度で昇温し、230℃の温度で5秒間加熱することにより、基板上のハンダバンプを溶融させた。また実施例50、51、53、54、比較例23〜25のAu−Sn系ハンダ粉末を用いたハンダペーストにより形成されたハンダバンプについては、室温から220℃まで1.5℃/sの昇温速度で昇温し、220℃で2分間予備乾燥した後、220℃から300℃の温度まで1.5℃/sの昇温速度で昇温し、300℃の温度で5秒間加熱することにより、基板上のハンダバンプを溶融させた。リフロー後の外観を目視にて観察し、バンプ周辺に未凝集のハンダが確認されなかった場合を「良好」、未凝集のハンダが確認された場合を「不良」と評価した。 (ii) Bump meltability (board): The board on which the solder bumps were formed in the above-mentioned bump printability test was melted under the following conditions using a reflow furnace (manufactured by Malcolm, model name: SRS-1C). For the solder bumps formed by the solder paste using the Sn-Ag-Cu-based solder powders of Examples 1 to 49 and Comparative Examples 1 to 22, the substrate was placed in a nitrogen atmosphere at 1.5 ° C./s from room temperature to 150 ° C. The temperature is raised at the temperature of 150 ° C., pre-dried at 150 ° C. for 2 minutes, then raised from 150 ° C. to 230 ° C. at a heating rate of 1.5 ° C./s, and heated at 230 ° C. for 5 seconds. By doing so, the solder bumps on the substrate were melted. Further, with respect to the solder bumps formed by the solder paste using the Au-Sn-based solder powders of Examples 50, 51, 53, 54 and Comparative Examples 23 to 25, the temperature was raised by 1.5 ° C./s from room temperature to 220 ° C. By raising the temperature at a rate, pre-drying at 220 ° C. for 2 minutes, then raising the temperature from 220 ° C. to 300 ° C. at a heating rate of 1.5 ° C./s, and heating at a temperature of 300 ° C. for 5 seconds. , The solder bumps on the substrate were melted. The appearance after reflow was visually observed, and the case where no unaggregated solder was confirmed around the bump was evaluated as "good", and the case where unaggregated solder was confirmed was evaluated as "bad".

(iii) フラックス洗浄性(基板):100mlのガラス製ビーカーに入れた50mlのイオン交換水を、ホットプレートを用いて60℃になるまで加熱した。この60℃のイオン交換水が入ったビーカーに、上述の溶融性試験を行った後の基板を投入し、更に超音波洗浄器内にビーカーごと投入して5分間超音波をかけた。その後、基板をビーカーから取り出し、エアブローにて水を除去した後に、乾燥器を用いて、50℃の温度で5分間乾燥させた。リフロー及び洗浄後のバンプ部分を、走査型電子顕微鏡(SEM;日本電子社製 型式名:JSM-6510LV)の反射電子像にて観察し、有機成分の残渣の有無を確認した。このときの有機成分の残渣の有無又はその程度から、残渣がほぼ皆無の場合を「優良」、バンプ表面積100%に対して5%未満の残渣が確認された場合を「良好」、バンプ表面積100%に対して5%以上の残渣が確認された場合を「不良」とし、3段階にて評価した。 (iii) Flux detergency (substrate): 50 ml of ion-exchanged water in a 100 ml glass beaker was heated to 60 ° C. using a hot plate. The substrate after the above-mentioned meltability test was put into the beaker containing the ion-exchanged water at 60 ° C., and the beaker was put into the ultrasonic cleaner and ultrasonically applied for 5 minutes. Then, the substrate was taken out from the beaker, water was removed by an air blow, and then dried at a temperature of 50 ° C. for 5 minutes using a dryer. The bump portion after reflow and cleaning was observed with a backscattered electron image of a scanning electron microscope (SEM; model name: JSM-6510LV manufactured by JEOL Ltd.) to confirm the presence or absence of residual organic components. From the presence or absence of the residue of the organic component at this time or the degree thereof, the case where there is almost no residue is "excellent", the case where a residue of less than 5% is confirmed with respect to the bump surface area of 100% is "good", and the bump surface area is 100. When a residue of 5% or more was confirmed with respect to%, it was regarded as “defective” and evaluated on a three-point scale.

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表8から表10から明らかなように、実施例1〜54と比較例1〜25とを比較すると、フラックスの成分にロジンを用いた比較例1では、バンプ印刷性の評価では「良好」であったものの、水だけでは十分な洗浄ができず、フラックス洗浄性の評価が「不良」の結果となった。また、硬化ひまし油を使用した比較例15〜20、22,25では、樹脂成分として有機酸ポリグリセロールエステルを使用したことにより、フラックス洗浄性の評価では、いずれにおいても「良好」又は「優良」の結果が得られ、またバンプ印刷性のうちミッシングバンプ数は合格基準を満たしたものの、ブリッジ数が合格基準を満たさなかった。 As is clear from Tables 8 to 10, when Examples 1 to 54 and Comparative Examples 1 to 25 are compared, in Comparative Example 1 in which rosin was used as the flux component, the evaluation of bump printability was "good". Although there was, it was not possible to sufficiently wash with water alone, and the evaluation of flux cleanability was "poor". Further, in Comparative Examples 15 to 20, 22, and 25 using the cured castor oil, the organic acid polyglycerol ester was used as the resin component, so that the evaluation of the flux detergency was "good" or "excellent". Results were obtained, and the number of missing bumps in the bump printability met the acceptance criteria, but the number of bridges did not meet the acceptance criteria.

またフラックスの成分に有機酸ポリグリセロールエステルと特定のチキソ剤を含む一方、界面活性剤を含有させなかった比較例2、11〜14、21、23,24及び界面活性剤をそれぞれ0.05質量%含んだ比較例3、5では、バンプ溶融性とフラックス洗浄性について、それぞれ合格基準を満たしたものの、ハンダペーストにしたときにペーストが流動しにくく、ブリッジは発生しない一方、ミッシングバンプ数が8〜57であって合格基準に達しなかった。 In addition, Comparative Examples 2, 11 to 14, 21, 23, 24 and the surfactant, which contained an organic acid polyglycerol ester and a specific solder as a component of the flux but did not contain a surfactant, were 0.05 mass by mass, respectively. In Comparative Examples 3 and 5 containing%, although the pass criteria were satisfied for the bump meltability and the flux cleanability, respectively, the paste did not flow easily when made into a solder paste, no bridge was generated, and the number of missing bumps was 8. It was ~ 57 and did not reach the acceptance criteria.

またフラックスの成分に有機酸ポリグリセロールエステルと特定のチキソ剤を含む一方、界面活性剤をそれぞれ25.0質量%含んだ比較例4、6〜10では、バンプ溶融性とフラックス洗浄性について、それぞれ合格基準を満たしたものの、ハンダペーストにしたときにペーストが流動し易くなり、バンプ間のブリッジ数が合格基準に達しなかった。 Further, in Comparative Examples 4 and 6 to 10 in which the organic acid polyglycerol ester and the specific soldering agent were contained in the flux component, while the surfactant was contained in an amount of 25.0% by mass, the bump meltability and the flux detergency were obtained, respectively. Although the acceptance criteria were met, the paste tended to flow when soldered, and the number of bridges between the bumps did not reach the acceptance criteria.

これに対し、樹脂成分として有機酸ポリグリセロールエステルを使用し、特定のチキソ剤を使用し、界面活性剤を特定の量だけ含んだ実施例1〜54では、バンプ溶融性とフラックス洗浄性に高い評価が得られた。ノニオン系界面活性剤の含有量が0.1質量%の実施例1ではミッシングバンプ数が「2」、アニオン系界面活性剤の含有量が0.2質量%の実施例9、22ではミッシングバンプ数が「4」、「3」、ノニオン系とカチオン系を合わせた界面活性剤の含有量が0.2質量%の実施例11、24ではミッシングバンプ数が「2」、「1」、である一方、それ以外の実施例2〜8、10、12〜21、23、25〜54では、ミッシングバンプ数が「0」であり、すべての実施例1〜54がミッシングバンプ数に関して合格していた。 On the other hand, in Examples 1 to 54 in which an organic acid polyglycerol ester was used as a resin component, a specific thixotropic agent was used, and a specific amount of a surfactant was contained, the bump meltability and flux cleanability were high. Evaluation was obtained. In Example 1 in which the content of the nonionic surfactant was 0.1% by mass, the number of missing bumps was "2", and in Examples 9 and 22 in which the content of the anionic surfactant was 0.2% by mass, the missing bumps were missing bumps. In Examples 11 and 24 in which the numbers were "4" and "3" and the content of the surfactant including the nonionic and cationic surfactants was 0.2% by mass, the number of missing bumps was "2" and "1". On the other hand, in the other Examples 2-8, 10, 12-21, 23, 25-54, the number of missing bumps is "0", and all the examples 1 to 54 pass the number of missing bumps. It was.

またノニオン系界面活性剤の含有量が20.0質量%の実施例3ではブリッジ数が「4」、別の種類のノニオン系界面活性剤の含有量が20.0質量%の実施例7、20ではブリッジ数が「2」、両性界面活性剤の含有量が15.0質量%の実施例10、23ではブリッジ数が「4」、「2」、ノニオン系とアニオン系を合わせた界面活性剤の含有量が15.0質量%の実施例12、25ではブリッジ数が「2」、カチオン系とアニオン系を合わせた界面活性剤の含有量が20.0質量%の実施例14、27ではブリッジ数が「4」である一方、それ以外の実施例1、2、4〜6、8、9、11、13、15〜19、21、22、24、26、28〜54では、ブリッジ数が「0」であり、すべての実施例1〜54がブリッジ数に関して合格していた。 Further, in Example 3 in which the content of the nonionic surfactant is 20.0% by mass, the number of bridges is "4", and in Example 7 where the content of another type of nonionic surfactant is 20.0% by mass. In Examples 10 and 23 in which the number of bridges was "2" and the content of the amphoteric surfactant was 15.0% by mass in 20, the number of bridges was "4" and "2", and the surface activity of the nonionic and anionic surfactants combined. In Examples 12 and 25 having an agent content of 15.0% by mass, the number of bridges was "2", and Examples 14 and 27 having a combined cationic and anionic surfactant content of 20.0% by mass. In the other Examples 1, 2, 4 to 6, 8, 9, 11, 13, 15 to 19, 21, 22, 24, 26, 28 to 54, the number of bridges is "4". The number was "0" and all Examples 1-54 passed with respect to the number of bridges.

本発明のハンダペースト用水溶性フラックスは、電子部品の実装(特に、FCボンディング技術のようなバンプ形成や狭ピッチ印刷等が必要な実装技術)、その他部品の接合等に広く利用することができる。 The water-soluble flux for solder paste of the present invention can be widely used for mounting electronic components (particularly, mounting techniques that require bump formation, narrow pitch printing, etc., such as FC bonding technology), and for joining other components.

Claims (5)

常温で固体の界面活性剤である有機酸ポリグリセロールエステルと、チキソ剤と、溶剤とを含むハンダペースト用水溶性フラックスにおいて、
前記チキソ剤がベンジリデンソルビトール又はベンジリデンソルビトール誘導体であって、前記水溶性フラックス100質量%中、常温で液体の界面活性剤を0.1〜20.0質量%含むことを特徴とするハンダペースト用水溶性フラックス。
In a water-soluble flux for solder paste containing an organic acid polyglycerol ester which is a solid surfactant at room temperature, a thixo agent, and a solvent.
The thixo agent is benzylidene sorbitol or a benzylidene sorbitol derivative, and is water-soluble for solder paste, which contains 0.1 to 20.0% by mass of a surfactant that is liquid at room temperature in 100% by mass of the water-soluble flux. flux.
前記有機酸ポリグリセロールエステルのHLB値が10〜19であることを特徴とする請求項1記載のハンダペースト用水溶性フラックス。 The water-soluble flux for a solder paste according to claim 1, wherein the organic acid polyglycerol ester has an HLB value of 10 to 19. 前記有機酸ポリグリセロールエステルがラウリン酸ポリグリセロールエステル、ステアリン酸ポリグリセロールエステル、イソステアリン酸ポリグリセロールエステル、セスキステアリン酸ポリグリセロールエステル、ジイソステアリン酸ポリグリセロールエステル、ミリスチン酸ポリグリセロールエステル、パルミチン酸ポリグリセロールエステル、オレイン酸ポリグリセロールエステル及びベヘニン酸ポリグリセロールエステル、カプリル酸ポリグリセロールエステルからなる群より選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1又は2記載のハンダペースト用水溶性フラックス。 The organic acid polyglycerol ester is lauric acid polyglycerol ester, stearic acid polyglycerol ester, isostearic acid polyglycerol ester, sesquistearic acid polyglycerol ester, diisostearic acid polyglycerol ester, myristic acid polyglycerol ester, palmitate polyglycerol ester, The water-soluble flux for solder paste according to claim 1 or 2, wherein it is one or more selected from the group consisting of an oleic acid polyglycerol ester, a behenic acid polyglycerol ester, and a caprylic acid polyglycerol ester. 前記溶剤のSP値が10〜20であることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項に記載のハンダペースト用水溶性フラックス。 The water-soluble flux for solder paste according to any one of claims 1 to 3, wherein the SP value of the solvent is 10 to 20. 請求項1〜4記載のハンダペースト用水溶性フラックスとハンダ粉末とを含むハンダペースト。 A solder paste containing the water-soluble flux for solder paste according to claims 1 to 4 and a solder powder.
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