JP6790345B2 - Wavelength conversion sheet - Google Patents
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Description
本発明は、発光体保護フィルム、波長変換シート及びエレクトロルミネッセンス発光ユニットに関する。 The present invention relates to a light emitting body protective film, a wavelength conversion sheet and an electroluminescence light emitting unit.
液晶ディスプレイのバックライトユニット及びエレクトロルミネッセンス発光ユニット等の発光ユニットでは、発光体が酸素又は水蒸気等と接触して長時間が経過することにより、発光体としての性能が低下することがある。このため、これらの発光ユニットではしばしば、高分子フィルムにガスバリア層が形成されたガスバリアフィルムが、発光体の保護フィルムとして使用される(例えば、特許文献1参照)。 In a light emitting unit such as a backlight unit and an electroluminescence light emitting unit of a liquid crystal display, the performance of the light emitting body may deteriorate as a long time elapses when the light emitting body comes into contact with oxygen or water vapor. For this reason, in these light emitting units, a gas barrier film in which a gas barrier layer is formed on a polymer film is often used as a protective film for a light emitting body (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、保護フィルムの製造において、上記ガスバリア層形成の際に、異物の混入による損傷及びクラック等の微小欠陥がガスバリア層に生じることがある。また、例えば、ガスバリア層が蒸着法によって形成され、蒸着材料の飛散(スプラッシュ)が生じた場合、ガスバリア層により大きな欠陥が生じる、場合によっては、高分子フィルムとガスバリア層とを貫通した欠陥を生じることもあり得る。これらの欠陥は酸素又は水蒸気等の侵入経路となる。その結果、ガスバリア層に上記欠陥を有する保護フィルムを発光ユニットに用いた場合、上記欠陥に近い箇所にダークスポットが発生することがあった。 However, in the production of the protective film, when the gas barrier layer is formed, damage due to foreign matter contamination and minute defects such as cracks may occur in the gas barrier layer. Further, for example, when the gas barrier layer is formed by the thin-film deposition method and the vapor-filmed material is scattered (splash), the gas barrier layer causes larger defects, and in some cases, defects penetrating the polymer film and the gas barrier layer occur. It is possible. These defects serve as an entry route for oxygen, water vapor, and the like. As a result, when a protective film having the above-mentioned defects in the gas barrier layer is used for the light emitting unit, dark spots may be generated in a portion close to the above-mentioned defects.
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、発光ユニットに用いた場合に、バリア層に欠陥を有していてもダークスポットの発生を抑制することが可能な発光体保護フィルム、並びに、これを用いて得られる波長変換シート及びエレクトロルミネセンス発光ユニットを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and when used in a light emitting unit, a light emitting body protective film capable of suppressing the generation of dark spots even if the barrier layer has a defect, and It is an object of the present invention to provide a wavelength conversion sheet and an electroluminescence light emitting unit obtained by using this.
本発明は、第一光学フィルムと第二光学フィルムとが接着層を介して貼り合わされた発光体保護フィルムであって、上記第一光学フィルムが第一基材層と上記第一基材層上に形成された第一バリア層とを備える光学バリアフィルムであり、上記第二光学フィルムが第二基材層と上記第二基材層上に形成された第二バリア層とを備える光学バリアフィルムであり、上記接着層の酸素透過率は、厚さ5μmにおいて1000cm3/(m2・day・atm)以下である、発光体保護フィルムを提供する。 The present invention is a light emitting body protective film in which a first optical film and a second optical film are bonded together via an adhesive layer, and the first optical film is on the first base material layer and the first base material layer. An optical barrier film including a first barrier layer formed on the surface of the film, wherein the second optical film includes a second base material layer and a second barrier layer formed on the second base material layer. Provided is a light emitting body protective film in which the oxygen permeability of the adhesive layer is 1000 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less at a thickness of 5 μm.
本発明によれば、保護フィルムを第一光学フィルムと第二光学フィルムを重ねた光学バリアフィルムの積層体とすることにより、発光ユニットに用いた場合に、外力による発光体層の破損を抑制し、且つ、ガスバリア性を向上させることができる。さらに、上記接着層の酸素透過率が1000cm3/(m2・day・atm)以下であることにより、発光体保護フィルムが上記第一バリア層又は第二バリア層に欠陥を有していたとしても、ダークスポットの発生を抑制することができる。 According to the present invention, by forming the protective film as a laminate of an optical barrier film in which a first optical film and a second optical film are laminated, damage to the light emitting body layer due to an external force is suppressed when used in a light emitting unit. Moreover, the gas barrier property can be improved. Further, it is assumed that the luminescent material protective film has a defect in the first barrier layer or the second barrier layer because the oxygen permeability of the adhesive layer is 1000 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. However, the occurrence of dark spots can be suppressed.
上記発光体保護フィルムにおいて、上記接着層がエポキシ樹脂を含む接着剤から形成されることが好ましい。接着層が上記構成を備えることにより、第一光学フィルムと第二光学フィルムとの密着性を向上させることができる。 In the luminescent material protective film, it is preferable that the adhesive layer is formed from an adhesive containing an epoxy resin. When the adhesive layer has the above structure, the adhesion between the first optical film and the second optical film can be improved.
上記発光体保護フィルムにおいて、上記第一光学フィルムと上記第二光学フィルムとは上記第一バリア層と上記第二バリア層とが対向するように上記接着層を介して貼り合わされていることが好ましい。第一光学フィルムと第二光学フィルムとを上記のように配置することにより、第一バリア層及び第二バリア層を外力から保護することができ、より安定したガスバリア性を得ることができる。 In the light emitting body protective film, it is preferable that the first optical film and the second optical film are bonded to each other via the adhesive layer so that the first barrier layer and the second barrier layer face each other. .. By arranging the first optical film and the second optical film as described above, the first barrier layer and the second barrier layer can be protected from an external force, and more stable gas barrier properties can be obtained.
上記発光体保護フィルムにおいて、上記第一バリア層が第一無機薄膜層と第一ガスバリア性被覆層とを含み、上記第二バリア層が第二無機薄膜層と第二ガスバリア性被覆層とを含むことが好ましい。上記第一バリア層及び上記第二バリア層が上記構成を備えることにより、一層優れたガスバリア性を得ることができる。 In the luminescent material protective film, the first barrier layer includes a first inorganic thin film layer and a first gas barrier coating layer, and the second barrier layer includes a second inorganic thin film layer and a second gas barrier coating layer. Is preferable. When the first barrier layer and the second barrier layer have the above structure, more excellent gas barrier properties can be obtained.
本発明はまた、上記発光体保護フィルムと、上記発光体保護フィルムの上記第一光学フィルム上に形成された蛍光体層と、を備える、波長変換シートを提供する。本発明はさらに、上記発光体保護フィルムと、上記発光体保護フィルムの上記第一光学フィルム上に形成されたエレクトロルミネッセンス発光体層と、を備える、エレクトロルミネッセンス発光ユニットを提供する。 The present invention also provides a wavelength conversion sheet including the light emitting body protective film and a phosphor layer formed on the first optical film of the light emitting body protective film. The present invention further provides an electroluminescence light emitting unit including the light emitting body protective film and an electroluminescence light emitting body layer formed on the first optical film of the light emitting body protective film.
本発明によれば、発光ユニットに用いた場合に、バリア層に欠陥を有していてもダークスポットの発生を抑制することが可能な発光体保護フィルム、並びに、これを用いて得られる波長変換シート及びエレクトロルミネセンス発光ユニットを提供することができる。 According to the present invention, when used in a light emitting unit, a light emitting body protective film capable of suppressing the generation of dark spots even if the barrier layer has a defect, and a wavelength conversion obtained by using the film. A sheet and an electroluminescence light emitting unit can be provided.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments.
(発光体保護フィルム)
図1は本実施形態に係る発光体保護フィルムの概略断面図である。図1の発光体保護フィルム10において、第一光学フィルム16aと第二光学フィルム16bとが接着層15を介して貼り合わされている。上記第一光学フィルム16aは第一基材層11aと上記第一基材層11a上に形成された第一バリア層14aとを備える光学バリアフィルムである。上記第一光学フィルム16aは第一バリア層14aを2つ以上備えていてもよい。上記第一光学フィルム16aが第一バリア層14aを2つ以上備える場合、複数の第一バリア層14aの構成は同じであってもよく、異なっていてもよい。上記第二光学フィルム16bは第二基材層11bと上記第二基材層11b上に形成された第二バリア層14bとを備える光学バリアフィルムである。上記第一光学フィルム16aと上記第二光学フィルム16bとは上記第一バリア層14aと上記第二バリア層14bとが対向するように上記接着層15を介して貼り合わされている。また、上記第二光学フィルム16bは第二バリア層14bを2つ以上備えていてもよい。上記第二光学フィルム16bが第二バリア層14bを2つ以上備える場合、複数の第二バリア層14bの構成は同じであってもよく、異なっていてもよい。上記第一バリア層14a及び上記第二バリア層14bの構成は同じであってもよく、異なっていてもよい。上記発光体保護フィルム10を発光ユニットに用いる場合、発光体保護フィルム10は第一光学フィルム16aが発光体層と接するように配置される。発光体保護フィルム10が第一光学フィルム16aと第二光学フィルム16bとを重ねた光学バリアフィルムの積層体であることにより、発光ユニットに用いた場合に、外力による発光体層の破損を抑制し、且つ、ガスバリア性を向上させることができる。
(Luminescent protective film)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting body protective film according to the present embodiment. In the light emitting body
接着層15の酸素透過率は、厚さ5μmにおいて、厚さ方向に、1000cm3/(m2・day・atm)以下である。上記酸素透過率は500cm3/(m2・day・atm)以下であることが好ましく、100cm3/(m2・day・atm)以下であることがより好ましく、50cm3/(m2・day・atm)以下であることがさらに好ましく、10cm3/(m2・day・atm)以下であることが特に好ましい。接着層15の酸素透過率が、1000cm3/(m2・day・atm)以下であることにより、発光ユニットに用いた場合に、バリア層が欠陥を有していたとしても、ダークスポットを抑制することが可能な発光体保護フィルム10を得ることができる。上記酸素透過率の下限値は特に制限されないが、例えば、0.1cm3/(m2・day・atm)である。
The oxygen permeability of the
本実施形態に係る発光体保護フィルム10のように、バリア層を備える光学フィルムとバリア層を備える別の光学フィルムとが接着層を介して貼り合わされた構成(バリアフィルム積層構成)を備える保護フィルムからは、バリア層を備える光学フィルムのみからなる(バリアフィルム積層構成を備えない)保護フィルムと比べて優れたガスバリア性が得られる。しかし、上記バリアフィルム積層構成によって保護フィルム全体としてのガスバリア性は得られるものの、バリア層(特に発光体層の近くに配置されたバリア層)に局所的な微小欠陥が生じた場合に、バリア層に生じた微小欠陥の近くの発光体層でのダークスポットの発生を十分抑制できないことがある。このような局所的な微小欠陥は、ガス透過率の測定等によって評価される保護フィルム全体としてのガスバリア性には現れにくいが、当該欠陥近傍のダークスポットの発生に影響するものである。本実施形態に係る発光体保護フィルム10は、第一光学フィルム16aと第二光学フィルム16bとを接着層15を介して貼り合わせることにより、バリア層に局所的な微小欠陥が生じていたとしても、当該欠陥近傍のダークスポットの発生を抑制することができる。また、本実施形態に係る発光体保護フィルム10によって得られる効果は上記微小欠陥が生じた場合にとどまらず、仮に保護フィルム製造の際にバリア層により大きな欠陥が生じていたとしても、当該欠陥近傍のダークスポットの発生を抑制することができる。さらに、本実施形態に係る発光体保護フィルム10によれば、仮に保護フィルム製造の際にバリア層と基材層とを貫通した欠陥が生じていたとしても、当該欠陥近傍のダークスポットの発生を抑制することができる。
A protective film having a structure in which an optical film having a barrier layer and another optical film having a barrier layer are bonded to each other via an adhesive layer (barrier film laminated structure) like the light emitting body
接着層15は粘着剤又は接着剤から形成される。上記接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等が挙げられる。上記接着剤はエポキシ樹脂を含むことが好ましい。接着剤がエポキシ樹脂を含むことにより、第一光学フィルム16aと第二光学フィルム16bとの密着性を向上させることができる。また、上記粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、でんぷん糊系接着剤等が挙げられる。接着層15の厚さは、0.5〜50μmであることが好ましく、1〜20μmであることがより好ましく、2〜6μmあることがさらに好ましい。接着層15の厚さが0.5μm以上であることにより、第一光学フィルム16aと第二光学フィルム16bとの密着性が得られやすくなり、上記厚さが50μm以下であることにより、より優れたガスバリア性が得られやすくなる。
The
第一基材層11a及び第二基材層11bは加工及び流通等における破損を抑制するための層である。第一基材層11aと第二基材層11bとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ナイロン等のポリアミド;ポリプロピレン及びシクロオレフィン等のポリオレフィン;ポリカーボネート;並びにトリアセチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されない。第一基材層11a及び第二基材層11bは、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム又はポリオレフィンフィルムであることが好ましく、ポリエステルフィルム又はポリアミドフィルムであることがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることがさらに好ましい。また、第一基材層11a及び第二基材層11bは二軸延伸されていることが好ましい。第一基材層11aと第二基材層11bは同じであっても異なっていてもよい。
The first
第一基材層11a及び第二基材層11bの厚さは、特に制限されないが、3μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上50μm以下であることがより好ましい。
The thickness of the first
上記第一基材層11a及び第二基材層11b上にそれぞれ第一バリア層14a及び第二バリア層14bが、必要に応じてアンカーコート層(図示しない)を介して、形成されている。アンカーコート層としてはポリエステル樹脂等が挙げられ、アンカーコート層の厚さは0.01〜1μm程度である。
A
上記第一バリア層14aは第一無機薄膜層12aと第一ガスバリア性被覆層13aとを含むことが好ましく、第二バリア層14bは第二無機薄膜層12bと第二ガスバリア性被覆層13bとを含むことが好ましい。この場合、上記第二光学フィルム16bが上記第一バリア層14aと上記第二バリア層14bとが対向するように上記接着層15を介して貼り合わされている。上記第一バリア層14a及び上記第二バリア層14bが上記構成を備えることにより、より優れたガスバリア性を得ることができる。また、第二光学フィルム16bを上記のように配置することにより、第一バリア層14a及び第二バリア層14bを外力から保護することができ、より安定したガスバリア性を得ることができる。
The
第一無機薄膜層12a及び第二無機薄膜層12bは無機化合物を含み、金属酸化物を含むことが好ましい。上記金属酸化物としては、例えば、アルミニウム、銅、銀、イットリウム、タンタル、ケイ素、マグネシウム等の金属の酸化物が挙げられる。金属酸化物は、安価でバリア性能に優れることから、酸化ケイ素(SiOx、xは1.0〜2.0)であることが好ましい。xが1.0以上であると、良好なガスバリア性が得られやすい傾向がある。
The first inorganic
第一無機薄膜層12a及び第二無機薄膜層12bの形成方法は真空成膜であることが好ましい。真空成膜としては、物理気相成長法及び化学気相成長法が挙げられる。物理気相成長法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。また、化学気相成長法としては、例えば、熱CVD法、プラズマCVD法、光CVD法等が挙げられる。製造コストの観点から、第一無機薄膜層12a又は第二無機薄膜層12bは蒸着法で形成された無機蒸着膜層であることが好ましい。例えば、第一無機薄膜層12a又は第二無機薄膜層12bが無機蒸着膜層である場合、蒸着材料の飛散(スプラッシュ)により第一光学フィルム16a又は第二光学フィルム16bに孔が生じることがある。スプラッシュが生じる頻度は少ないものの、スプラッシュによって生じる孔は比較的大きな欠陥であり、バリア層及び基材層を貫通する孔となり得る。したがって、スプラッシュによる孔が生じた保護フィルムでは、ガスバリア性が大きく低下し得る。特に、発光体層側に配置される第一バリア層14a及び第一基材層11aを貫通する孔が生じた場合、ダークスポットがより発生しやすくなる。しかしながら、本実施形態に係る発光体保護フィルム10はバリアフィルム積層構成を備えることから、仮に、第一光学フィルム16a又は第二光学フィルム16bに比較的大きな欠陥があったとしても、ガスバリア性の低下を低減することができる。本実施形態に係る発光体保護フィルム10は、さらに、接着層15を備えることから、仮に、第一光学フィルム16aにこのような比較的大きな欠陥があったとしても、欠陥がないときと同様にダークスポットの発生を抑制することができる。したがって、第一無機薄膜層12aが無機蒸着膜層であることにより、製造コストを低減しつつダークスポットの発生を抑制することができる。
The method for forming the first inorganic
第一無機薄膜層12a及び第二無機薄膜層12bの厚さは、10〜300nmであることが好ましく、20〜100nmであることがより好ましい。第一無機薄膜層12a及び第二無機薄膜層12bの厚さが10nm以上であることにより、均一な膜が得られやすく、ガスバリア性が得られやすくなる傾向がある。一方、第一無機薄膜層12a及び第二無機薄膜層12bの厚さが300nm以下であることにより、第一無機薄膜層12a及び第二無機薄膜層12bに柔軟性を保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引張等の外力により、亀裂等が生じにくくなる傾向がある。
The thickness of the first inorganic
第一ガスバリア性被覆層13a及び第二ガスバリア性被覆層13bは下記式(1)で表わされる金属アルコキシド及びその加水分解物からなる群より選択される少なくとも1種を含む組成物から形成されることが好ましい。
M(OR1)m(R2)n−m ・・・(1)
The first gas barrier coating layer 13a and the second gas barrier coating layer 13b are formed from a composition containing at least one selected from the group consisting of a metal alkoxide represented by the following formula (1) and a hydrolyzate thereof. Is preferable.
M (OR 1 ) m (R 2 ) nm ... (1)
上記式(1)中、R1及びR2はそれぞれ独立に炭素数1〜8の1価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であることが好ましい。MはSi、Ti、Al、Zr等のn価の金属原子を示す。mは1〜nの整数である。金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン[Si(OC2H5)4]、トリイソプロポキシアルミニウム[Al(O−iso−C3H7)3]等が挙げられる。金属アルコキシドは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であることから、テトラエトキシシラン又はトリイソプロポキシアルミニウムであることが好ましい。金属アルコキシドの加水分解物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物であるケイ酸(Si(OH)4)、及び、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物である水酸化アルミニウム(Al(OH)3)等が挙げられる。これらは、1種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における金属アルコキシド及びその加水分解物の含有量は、例えば、10〜90質量%である。 In the above formula (1), R 1 and R 2 are independently monovalent organic groups having 1 to 8 carbon atoms, and are preferably alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group. M represents an n-valent metal atom such as Si, Ti, Al, Zr. m is an integer of 1 to n. Examples of the metal alkoxide include tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] and triisopropoxyaluminum [Al (O-iso-C 3 H 7 ) 3 ]. The metal alkoxide is preferably tetraethoxysilane or triisopropoxyaluminum because it is relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis. Examples of the metal alkoxide hydrolyzate include silicic acid (Si (OH) 4 ), which is a hydrolyzate of tetraethoxysilane, and aluminum hydroxide (Al (OH) 3 ), which is a hydrolyzate of tripropoxyaluminum. ) Etc. can be mentioned. These are not limited to one type, and a plurality of types can be used in combination. The content of the metal alkoxide and its hydrolyzate in the above composition is, for example, 10 to 90% by mass.
上記組成物はさらに水酸基含有高分子化合物を含んでいてもよい。水酸基含有高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及びデンプン等の水溶性高分子が挙げられる。水酸基含有高分子化合物はバリア性の観点からポリビニルアルコールであることが好ましい。これらは、1種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における水酸基含有高分子化合物の含有量は、例えば、10〜90質量%である。 The composition may further contain a hydroxyl group-containing polymer compound. Examples of the hydroxyl group-containing polymer compound include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone and starch. The hydroxyl group-containing polymer compound is preferably polyvinyl alcohol from the viewpoint of barrier properties. These are not limited to one type, and a plurality of types can be used in combination. The content of the hydroxyl group-containing polymer compound in the above composition is, for example, 10 to 90% by mass.
第一ガスバリア性被覆層13a及び第二ガスバリア性被覆層13bの厚さは、50〜1000nmであることが好ましく、100〜500nmであることが好ましい。第一ガスバリア性被覆層13a及び第二ガスバリア性被覆層13bの厚さが50nm以上であると、より十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、1000nm以下であると、十分な柔軟性を保持できる傾向がある。 The thickness of the first gas barrier coating layer 13a and the second gas barrier coating layer 13b is preferably 50 to 1000 nm, and preferably 100 to 500 nm. When the thickness of the first gas barrier coating layer 13a and the second gas barrier coating layer 13b is 50 nm or more, more sufficient gas barrier properties tend to be obtained, and when it is 1000 nm or less, sufficient flexibility is provided. Tends to be retained.
発光体保護フィルム10は、光散乱機能を発揮させるために、第二光学フィルム16b側の表面にさらにマット層(図示しない)を備えていてもよい。発光体保護フィルム10がマット層を備えることにより、光散乱機能以外にも、干渉縞(モアレ)防止機能及び反射防止機能等を得ることができる。
The light emitting body
発光体保護フィルム10は、酸素や水蒸気等と接触することにより劣化し得る発光体の保護フィルムとして好適に用いることができる。上記発光体としては、量子ドット等の蛍光体、エレクトロルミネッセンス発光体等が挙げられる。
The illuminant
(波長変換シート)
図2は本発明の一実施形態に係る波長変換シートの概略断面図である。波長変換シートは液晶ディスプレイ用バックライトユニットの光源からの光の一部の波長を変換可能なシートである。図2に示すように、本実施形態の波長変換シート20は、第一保護フィルムと、上記第一保護フィルム上に形成された蛍光体層21と、上記蛍光体層21上に設けられた第二保護フィルム22と、を備えて概略構成されている。波長変換シート20は、第一保護フィルム及び第二保護フィルム22の間に、蛍光体層21が包み込まれた(すなわち、封止された)構造を有する。図2において、第一保護フィルムには、上述した発光体保護フィルム10が用いられる。一方、第二保護フィルム22には、上述した発光体保護フィルム10が用いられてもよく、別の保護フィルムが用いられてもよい。また、波長変換シート20は必ずしも第二保護フィルム22を備えていなくてもよい。すなわち、本実施形態の波長変換シート20は、発光体保護フィルム10と、上記発光体保護フィルム10の上記第一光学フィルム16a上に形成された蛍光体層21と、を備える。
(Wavelength conversion sheet)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to an embodiment of the present invention. The wavelength conversion sheet is a sheet capable of converting a part of the wavelengths of light from the light source of the backlight unit for a liquid crystal display. As shown in FIG. 2, the
上述のとおり、保護フィルムが、バリア層を備える複数のフィルムが接着層を介して貼り合わされた構成(バリアフィルム積層構成)を備えることにより、ガスバリア性が向上する。蛍光体層におけるダークスポット発生のメカニズムは保護フィルムの蛍光体層とは反対側(外側)の面からの保護フィルムの厚さ方向へのガスの侵入が支配的であると考えられるが、発光体保護フィルム10がバリアフィルム積層構成を備えることにより、上記方向からのガスの侵入を低減することができると考えられる。しかし、保護フィルムがバリア層(特に、蛍光体層側に配置されるバリア層)に欠陥を有する場合、上記外側の面からのガスの侵入を低減できたとしても、当該欠陥近傍の蛍光体層のダークスポットの発生を抑制できなくなることがある。このようなダークスポットが発生するメカニズムは必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように考えている。図3は、蛍光体層側に配置されるバリア層に欠陥を有する波長変換シートにおいて想定される、ダークスポット発生のメカニズムを示す概念図である。図3の波長変換シート200において、大気中の酸素や水蒸気等は、発光体保護フィルム100の接着層150の端面から侵入し、接着層150の面方向に拡散する。発光体保護フィルム100が第一バリア層140aに欠陥23を有する場合には、拡散した酸素や水蒸気等が当該欠陥23を通じて蛍光体層210に到達する。欠陥23の場所を中心に蛍光体の劣化が進行し、時間経過とともにダークスポット24となって現れる。上記欠陥23が第一バリア層140aとともに第一基材層110aを貫通している場合、蛍光体劣化の進行が顕著となり、ダークスポット24が視認されやすくなると考えられる。すなわち、酸素や水蒸気等が、接着層150の端面から、ガスバリア性を有する第一光学フィルム160aの欠陥23を通り、蛍光体の劣化が生じる。大気中の酸素や水蒸気が第二基材層110b及び第二バリア層140bを含む第二光学フィルム160bに対して蛍光体層210の反対側から発光体保護フィルム100の厚さ方向に侵入した場合の距離と比べ、接着層150の端面から侵入した場合の距離は極めて大きくなり、侵入量は極めて少なくなると考えられていたことから、図3に示したメカニズムによるダークスポットの発生は意外なことであったと言える。本実施形態の波長変換シート20によれば、蛍光体層21上に設けられた保護フィルムとして、上記発光体保護フィルム10を用いることにより、当該発光体保護フィルム10がバリア層に欠陥を有していたとしても、ダークスポットの発生を抑制することができる。
As described above, the gas barrier property is improved by providing the protective film with a structure in which a plurality of films having a barrier layer are bonded to each other via an adhesive layer (barrier film laminated structure). It is considered that the mechanism of dark spot generation in the phosphor layer is dominated by the intrusion of gas in the thickness direction of the protective film from the surface of the protective film opposite to the phosphor layer (outside). It is considered that the invasion of gas from the above direction can be reduced by providing the
蛍光体層21は樹脂及び蛍光体を含む。蛍光体層21の厚さは数十〜数百μmである。上記樹脂としては、例えば、光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用することができる。蛍光体層21は、量子ドットからなる2種類の蛍光体を含むことが好ましい。また、蛍光体層21は、1種類の蛍光体を含む蛍光体層と別の種類の蛍光体を含む蛍光体層が2層以上積層されたものであってもよい。2種類の蛍光体には、励起波長が同一のものが選択される。励起波長は、バックライトユニットの光源が照射する光の波長に基づいて選択される。2種類の蛍光体の蛍光色は相互に異なる。光源に青色発光ダイオード(青色LED)を用いる場合、各蛍光色は、赤色及び緑色である。各蛍光の波長、及び光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば、赤色で610nmであり、緑色で550nmである。
The
次に、蛍光体の粒子構造を説明する。蛍光体としては、特に発光効率の良いコア・シェル型量子ドットが好適に用いられる。コア・シェル型量子ドットは、発光部としての半導体結晶コアが保護膜としてのシェルにより被覆されたものである。例えば、コアにはセレン化カドミウム(CdSe)、シェルには硫化亜鉛(ZnS)が使用可能である。CdSeの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいZnSにより被覆されることで量子収率が向上する。また、蛍光体は、コアが第一シェル及び第二シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはCdSe、第一シェルにはセレン化亜鉛(ZnSe)、第二シェルにはZnSが使用可能である。 Next, the particle structure of the phosphor will be described. As the phosphor, core-shell type quantum dots having particularly good luminous efficiency are preferably used. The core-shell type quantum dot is a semiconductor crystal core as a light emitting portion coated with a shell as a protective film. For example, cadmium selenide (CdSe) can be used for the core, and zinc sulfide (ZnS) can be used for the shell. The quantum yield is improved by covering the surface defects of the CdSe particles with ZnS having a large bandgap. Further, the phosphor may have a core double-coated with a first shell and a second shell. In this case, CdSe can be used for the core, zinc selenide (ZnSe) can be used for the first shell, and ZnS can be used for the second shell.
蛍光体層21は、蛍光体をすべて単一の層に分散させた単層構成を有していてもよく、各蛍光体を複数の層に別々に分散させ、これらを積層する多層構成を有していてもよい。
The
次に、本実施形態の波長変換シート20の製造方法について図2を参照しながら説明する。蛍光体層21の形成方法としては、特に限定されず、例えば、特表2013−544018号明細書に記載される方法が挙げられる。バインダー樹脂に蛍光体を分散させ、調製した蛍光体分散液を第一保護フィルム(発光体保護フィルム10)の第一光学フィルム16a側の面上に塗布した後、塗布面に第二保護フィルム22を貼り合わせ、蛍光体層21を硬化することにより、波長変換シート20を製造することができる。また反対に、第二保護フィルム22の一方の面上に上記蛍光体分散液を塗布し、塗布面に発光体保護フィルム10を第一光学フィルム16aが蛍光体層21と対向するように貼り合わせ、蛍光体層21を硬化することにより、波長変換シート20を製造することもできる。
Next, the method of manufacturing the
[バックライトユニット]
上記波長変換シート20を用いることにより、バックライトユニットが得られる。図4は、上記波長変換シート20を用いて得られるバックライトユニットの概略断面図である。図4において、バックライトユニット30は光源32と上記波長変換シート20とを備え、上記蛍光体層21を挟んで上記光源32と反対側に上記発光体保護フィルム10が配置される。詳細には、バックライトユニット30は、波長変換シート20の第二保護フィルム22側の表面上に導光板34及び反射板36がこの順で配置され、光源32は上記導光板34の側方(導光板34の面方向)に配置される。
[Backlight unit]
A backlight unit can be obtained by using the
導光板34及び反射板36は、光源32から照射された光を効率的に反射し、導くものであり、公知の材料が使用される。導光板34としては、例えば、アクリル、ポリカーボネート、及びシクロオレフィンフィルム等が使用される。光源32には、例えば、青色発光ダイオード素子が複数個設けられている。この発光ダイオード素子は、紫色発光ダイオード、又はさらに低波長の発光ダイオードであってもよい。光源32から照射された光は、導光板34(D1方向)に入射した後、反射及び屈折等を伴って蛍光体層21(D2方向)に入射する。蛍光体層21を通過した光は、蛍光体層21を通過する前の光に蛍光体層21で発生した黄色光が混ざることで、白色光となる。
The
[エレクトロルミネッセンス発光ユニット]
図5は本発明の一実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニットの概略断面図である。本実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニット50は、エレクトロルミネッセンス発光体層56と、発光体保護フィルム10とを備える。エレクトロルミネッセンス発光ユニット50は、例えば、透明電極層54と、該透明電極層54上に設けられたエレクトロルミネッセンス発光体層56と、該エレクトロルミネッセンス発光体層56上の設けられた誘電体層58と、該誘電体層58上に設けられた背面電極層60を含む電極要素を、第一保護フィルム及び第二保護フィルム62で挟持するとともに密封することにより得られる。上記エレクトロルミネッセンス発光ユニットにおいて、第一保護フィルムには、上述した発光体保護フィルム10が用いられる。エレクトロルミネッセンス発光体層56は上記発光体保護フィルム10の第一光学フィルム16a上に形成される。
[Electroluminescence light emitting unit]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an electroluminescence light emitting unit according to an embodiment of the present invention. The electroluminescence
エレクトロルミネッセンス発光ユニットにおいても、波長変換シートに対して説明したメカニズムと同様のメカニズムによるダークスポット発生が考えられる。本実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニット50によれば、エレクトロルミネッセンス発光体層56を含む電極要素上に設けられた保護フィルムとして、上記発光体保護フィルム10を用いることにより、当該発光体保護フィルム10がバリア層に欠陥を有していたとしても、ダークスポットの発生を抑制することができる。
In the electroluminescence light emitting unit, dark spot generation can be considered by a mechanism similar to the mechanism described for the wavelength conversion sheet. According to the electroluminescence
各電極層、エレクトロルミネッセンス発光体層及び誘電体層は、例えば、蒸着及びスパッタ法等により、公知の材料を用いて、形成することができる。 Each electrode layer, electroluminescence illuminant layer, and dielectric layer can be formed by, for example, a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, using a known material.
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.
[発光体保護フィルムの作製]
(参考例1)
アクリルポリオールとトリレンジイソシアネートとを、アクリルポリオールのOH基の数に対してトリレンジイソシアネートのNCO基の数が等量となるように混合し、全固形分が5質量%になるよう酢酸エチルで希釈した。希釈後の混合液に、さらにβ−(3,4エポキシシクロヘキシル)トリメトキシシランを、全固形分に対して5質量%となるように添加し、これらを混合することでアンカーコート層組成物を作製した。
[Preparation of illuminant protective film]
( Reference example 1)
Acrylic polyol and tolylene diisocyanate are mixed so that the number of NCO groups of tolylene diisocyanate is equal to the number of OH groups of acrylic polyol, and ethyl acetate is used so that the total solid content is 5% by mass. Diluted. Β- (3,4 epoxycyclohexyl) trimethoxysilane was further added to the diluted mixed solution so as to be 5% by mass with respect to the total solid content, and these were mixed to obtain an anchor coat layer composition. Made.
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(第一基材層、厚さ:25μm)の一方の面上に、上記アンカーコート層組成物をバーコート法により塗布し、100℃1分間乾燥硬化させることにより、厚さ50nmのアンカーコート層を形成した。 The anchor coat layer composition is applied on one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (first base material layer, thickness: 25 μm) by a bar coating method, and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute to increase the thickness. An anchor coat layer having a size of 50 nm was formed.
電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を1.5×10−2Paの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に厚さ30nmのSiOx膜(第一無機薄膜層)を形成した。なお、蒸着における加速電圧は40kVであり、エミッション電流は0.2Aであった。 Using a vacuum vapor deposition apparatus of the electron beam heating type, a silicon oxide material (SiO, Canon Optron Ltd.) and evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 × 10 -2 Pa, the above anchor coat layer A SiO x film (first inorganic thin film layer) having a thickness of 30 nm was formed. The accelerating voltage in the vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A.
次に、テトラエトキシシラン10.4質量部と塩酸(濃度:0.1N)89.6質量部とを混合して、混合液を30分間撹拌し、テトラエトキシシランの加水分解溶液を得た。一方、ポリビニルアルコールを水/イソプロピルアルコールの混合溶媒(水/イソプロピルアルコール(質量比)=90:10)中に溶解させ、3質量%のポリビニルアルコール溶液を得た。テトラエトキシシランの加水分解溶液60質量部とポリビニルアルコール溶液40質量部とを混合し、ガスバリア性被覆層組成物を得た。 Next, 10.4 parts by mass of tetraethoxysilane and 89.6 parts by mass of hydrochloric acid (concentration: 0.1N) were mixed, and the mixed solution was stirred for 30 minutes to obtain a hydrolyzed solution of tetraethoxysilane. On the other hand, polyvinyl alcohol was dissolved in a mixed solvent of water / isopropyl alcohol (water / isopropyl alcohol (mass ratio) = 90:10) to obtain a 3% by mass polyvinyl alcohol solution. 60 parts by mass of the hydrolyzed solution of tetraethoxysilane and 40 parts by mass of the polyvinyl alcohol solution were mixed to obtain a gas barrier coating layer composition.
第一無機薄膜層上に、上記ガスバリア性被覆層組成物を塗布、乾燥することにより、300nmの厚さを有する第一ガスバリア性被覆層を形成した。さらに、上記第一ガスバリア性被覆層上に、上記と同様にして、厚さ30nmの別の第一無機薄膜層を形成し、上記別の第一無機薄膜層上に、厚さ300nmの別の第一ガスバリア性被覆層を形成した。上記のようにして、第一基材層、アンカーコート層、第一無機薄膜層、第一ガスバリア性被覆層、第一無機薄膜層、及び第一ガスバリア性被覆層がこの順に積層されてなる第一光学フィルムを得た。 The gas barrier coating layer composition was applied onto the first inorganic thin film layer and dried to form a first gas barrier coating layer having a thickness of 300 nm. Further, another first inorganic thin film layer having a thickness of 30 nm is formed on the first gas barrier coating layer in the same manner as described above, and another first inorganic thin film layer having a thickness of 300 nm is formed on the other first inorganic thin film layer. A first gas barrier coating layer was formed. As described above, the first base material layer, the anchor coat layer, the first inorganic thin film layer, the first gas barrier coating layer, the first inorganic thin film layer, and the first gas barrier coating layer are laminated in this order. An optical film was obtained.
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(第二基材層、厚さ:25μm)の一方の面上に、上記アンカーコート層組成物をバーコート法により塗布し、100℃1分間乾燥硬化させることにより、厚さ50nmのアンカーコート層を形成した。 The anchor coat layer composition is applied on one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (second base material layer, thickness: 25 μm) by a bar coating method, and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute to increase the thickness. An anchor coat layer having a size of 50 nm was formed.
電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を1.5×10−2Paの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に厚さ30nmのSiOx膜(第二無機薄膜層)を形成した。なお、蒸着における加速電圧は40kVであり、エミッション電流は0.2Aであった。 Using a vacuum vapor deposition apparatus of the electron beam heating type, a silicon oxide material (SiO, Canon Optron Ltd.) and evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 × 10 -2 Pa, the above anchor coat layer A SiO x film (second inorganic thin film layer) having a thickness of 30 nm was formed. The accelerating voltage in the vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A.
第二無機薄膜層上に、上記ガスバリア性被覆層組成物を塗布、乾燥することにより、300nmの厚さを有する第二ガスバリア性被覆層を形成した。上記のようにして、第二基材層、アンカーコート層、第二無機薄膜層、及び第二ガスバリア性被覆層がこの順に積層されてなる第二光学フィルムを得た。 The gas barrier coating layer composition was applied onto the second inorganic thin film layer and dried to form a second gas barrier coating layer having a thickness of 300 nm. As described above, a second optical film obtained by laminating a second base material layer, an anchor coat layer, a second inorganic thin film layer, and a second gas barrier coating layer in this order was obtained.
得られた第一光学フィルムの第一ガスバリア性被覆層の表面上に、下記接着剤Aを塗布し、上記接着剤Aの塗布面に、第二光学フィルムの第二ガスバリア性被覆層を貼り合わせ、50℃2日間エージングを行った。上記のようにして、第一光学フィルムと第二光学フィルムとを5μmの厚さを有する接着層を介して貼り合せた。なお、上記接着剤Aはエポキシ樹脂からなる主剤とポリアミン樹脂からなる硬化剤とを混合して得られる接着剤組成物である。 The following adhesive A is applied on the surface of the first gas barrier coating layer of the obtained first optical film, and the second gas barrier coating layer of the second optical film is bonded to the coated surface of the adhesive A. , 50 ° C. for 2 days. As described above, the first optical film and the second optical film were bonded together via an adhesive layer having a thickness of 5 μm. The adhesive A is an adhesive composition obtained by mixing a main agent made of an epoxy resin and a curing agent made of a polyamine resin.
次に、第二光学フィルムの第一光学フィルムが貼り合わされていない側の面上に、アクリル樹脂(商品名:アカリディック、DIC社製)100質量部とシリカ粒子(商品名:トスパール120、平均粒子径:2.0μm、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製)20質量部からなる組成物を塗布した。塗膜を加熱して、アクリル樹脂を硬化することにより、厚さ3μmのマット層を形成した。上記のようにして、第一光学フィルム、接着層、第二光学フィルム、及びマット層がこの順に積層されてなる発光体保護フィルムを得た。 Next, on the surface of the second optical film on the side where the first optical film is not bonded, 100 parts by mass of acrylic resin (trade name: Akaridic, manufactured by DIC) and silica particles (trade name: Tospearl 120, average). A composition consisting of 20 parts by mass of a particle size: 2.0 μm, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd. was applied. The coating film was heated to cure the acrylic resin to form a matte layer having a thickness of 3 μm. As described above, a light emitting body protective film obtained by laminating the first optical film, the adhesive layer, the second optical film, and the matte layer in this order was obtained.
(実施例2、参考例3及び比較例1〜3)
第一光学フィルムと第二光学フィルムとを貼り合せる際に用いた接着剤として、接着剤Aに代えて、下記表1に記載の接着剤を用いたこと以外は、参考例1と同様にして、実施例2、参考例3及び比較例1〜3の発光体保護フィルムを得た。なお、参考例3では、エージングに代えて、線量15Mradで電子線を照射し、接着剤Cを硬化させた。
(Example 2 , Reference Example 3 and Comparative Examples 1 to 3)
The same as in Reference Example 1 except that the adhesive shown in Table 1 below was used instead of the adhesive A as the adhesive used when the first optical film and the second optical film were bonded together. , Example 2 , Reference Example 3 and Comparative Examples 1 to 3 were obtained. In Reference Example 3, instead of aging, an electron beam was irradiated at a dose of 15 Mrad to cure the adhesive C.
[発光体保護フィルムの評価]
(接着層の酸素透過率)
実施例及び比較例で用いられた接着剤A〜Fを厚さ70μmのCPP(無延伸ポリプロピレンフィルム)上に塗布し、上記接着剤の塗布面に、厚さ70μmのCPPを貼り合せ、エージング又は電子線照射を行った。接着剤A〜B及び接着剤D〜Fに対しては50℃5日間でエージングを行った。接着剤Cに対しては線量15Mradで電子線を照射した。上記のようにして、厚さ70μmのCPP、厚さ5μmの接着層、及び厚さ70μmのCPPがこの順に積層されてなる、酸素透過率測定用サンプル(積層体)を得た。得られたサンプルを差圧式ガス透過率測定装置(GTRテック株式会社製、GTR-30X)内に配置し、JIS K7126−1(附属書1)に記載の方法に従って、温度40℃、相対湿度0%の環境下で試験ガスを酸素とし、差圧101kPa(1atm)で差圧法にて上記サンプルの酸素透過率を測定した。酸素透過率の測定結果を表1に示す。なお、接着剤にて貼り合わせられたフィルムとして、接着層より高い酸素透過率(例えば、1000cm3/(m2・day・atm)より高い酸素透過率)を有するフィルムを用いることにより、上記サンプルの測定結果は接着層の酸素透過率とみなすことができる。上記測定方法では、接着剤にて貼り合わせられたフィルムとして、酸素透過率2500cm3/(m2・day・atm)であるCPPを用いていることから、2500cm3/(m2・day・atm)以下のサンプルの酸素透過率の測定結果は、接着層の酸素透過率とみなすことができる。
[Evaluation of illuminant protective film]
(Oxygen permeability of adhesive layer)
The adhesives A to F used in Examples and Comparative Examples are applied onto a CPP (non-stretched polypropylene film) having a thickness of 70 μm, and the CPP having a thickness of 70 μm is attached to the coated surface of the adhesive for aging or aging. Electron beam irradiation was performed. Adhesives A to B and adhesives D to F were aged at 50 ° C. for 5 days. The adhesive C was irradiated with an electron beam at a dose of 15 Mrad. As described above, a sample (laminated body) for measuring oxygen permeability was obtained in which a CPP having a thickness of 70 μm, an adhesive layer having a thickness of 5 μm, and a CPP having a thickness of 70 μm were laminated in this order. The obtained sample was placed in a differential pressure type gas permeability measuring device (GTR-30X manufactured by GTR Tech Co., Ltd.), and the temperature was 40 ° C. and the relative humidity was 0 according to the method described in JIS K7126-1 (Annex 1). The oxygen permeability of the above sample was measured by a differential pressure method at a differential pressure of 101 kPa (1 atm) using oxygen as the test gas in an environment of%. The measurement results of oxygen permeability are shown in Table 1. Incidentally, as a film that is bonded by an adhesive, a high oxygen permeability than the adhesive layer (e.g., 1000cm 3 / (m 2 · day · atm) higher oxygen permeability) by using a film having said sample The measurement result of can be regarded as the oxygen permeability of the adhesive layer. In the above measurement method, as a film that is bonded by an adhesive, since it is used CPP oxygen permeability 2500cm 3 / (m 2 · day · atm), 2500cm 3 / (m 2 · day · atm ) The measurement result of the oxygen permeability of the following samples can be regarded as the oxygen permeability of the adhesive layer.
(密着性)
実施例及び比較例で得られた発光体保護フィルムを幅15mmの短冊状にカットし、発光体保護フィルムの第一光学フィルム側をガラス板上に固定した。固定された短冊状の発光体保護フィルムの第二光学フィルムを、テンシロン引張試験機(オリエンテック社製)を用いて、ガラス板に対して垂直な方向に、300mm/分の速度で、第一光学フィルムから剥離し、剥離に要した強度を測定した。上記強度を、作製直後の発光体保護フィルム(条件(1))、温度60℃湿度90%RH1000時間保存後の発光体保護フィルム(条件(2))に対して、温度23℃湿度65%RHの環境下で測定した。条件(1)〜(2)で測定した剥離強度の測定結果を密着性の評価結果として表1に示す。剥離強度が1N以上である場合に好適な密着性が得られ、3N以上である場合に特に好適な密着性が得られていると判断した。
(Adhesion)
The illuminant protective film obtained in Examples and Comparative Examples was cut into strips having a width of 15 mm, and the first optical film side of the illuminant protective film was fixed on a glass plate. Using a Tencilon tensile tester (manufactured by Orientec), the second optical film of the fixed strip-shaped illuminant protective film was first applied in the direction perpendicular to the glass plate at a speed of 300 mm / min. It was peeled off from the optical film, and the strength required for the peeling was measured. The above strength was adjusted to the
なお、表1中に記載した接着剤の詳細は以下のとおりである。
接着剤A:三菱ガス化学株式会社製マクシーブ、配合比(エポキシ樹脂系主剤/アミン系硬化剤/メタノール/酢酸エチル=1/3/3/6(質量比))
接着剤B:ポリアクリル酸系接着剤、配合比(水酸化ナトリウム水溶液でカルボキシル基の5モル%を中和したポリアクリル酸水溶液/グリセリン=1/1(固形分質量比))。
接着剤C:アミン化合物溶液と不飽和カルボン酸溶液との混合物(アミン化合物溶液/不飽和カルボン酸溶液=1:1(質量比))。アミン化合物溶液は、アミン化合物(株式会社日本触媒製、商品名:エポミンSP110)の水/イソプロピルアルコール混合溶液(3質量%、水/イソプロピルアルコール=50/50(質量比))であり、不飽和カルボン酸溶液は、不飽和カルボン酸(関東化学株式会社製、イタコン酸)の水/イソプロピルアルコール混合溶液(3質量%、水/イソプロピルアルコール=50:50(質量比))である。
接着剤D:東洋モートン株式会社製、配合比(エポキシ樹脂系主剤AD−393/アミン系硬化剤CTA−5/イソプロピルアルコール=5/0.3/2.7(質量比))。
接着剤E:三井化学株式会社製、配合比(エステル系主剤タケラックA−525/イソシアネート系硬化剤タケネートA−52/酢酸エチル=90/10/100(質量比))。
接着剤F:サイデン化学株式会社製、配合比(ポリオール樹脂系主剤X−313−405S/ポリイソシアネート系硬化剤K−341/トルエン=25/0.34/31.25(質量比))。
The details of the adhesives described in Table 1 are as follows.
Adhesive A: Maxive manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., compounding ratio (epoxy resin-based main agent / amine-based curing agent / methanol / ethyl acetate = 1/3/3/6 (mass ratio))
Adhesive B: Polyacrylic acid-based adhesive, compounding ratio (polyacrylic acid aqueous solution in which 5 mol% of carboxyl groups are neutralized with sodium hydroxide aqueous solution / glycerin = 1/1 (solid content mass ratio)).
Adhesive C: A mixture of an amine compound solution and an unsaturated carboxylic acid solution (amine compound solution / unsaturated carboxylic acid solution = 1: 1 (mass ratio)). The amine compound solution is a water / isopropyl alcohol mixed solution (3% by mass, water / isopropyl alcohol = 50/50 (mass ratio)) of the amine compound (manufactured by Nippon Catalyst Co., Ltd., trade name: Epomin SP110) and is unsaturated. The carboxylic acid solution is a water / isopropyl alcohol mixed solution (3% by mass, water / isopropyl alcohol = 50:50 (mass ratio)) of unsaturated carboxylic acid (Itaconic acid manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.).
Adhesive D: manufactured by Toyo Morton Co., Ltd., compounding ratio (epoxy resin-based main agent AD-393 / amine-based curing agent CTA-5 / isopropyl alcohol = 5 / 0.3 / 2.7 (mass ratio)).
Adhesive E: Mitsui Chemicals, Inc., compounding ratio (ester-based main agent Takelac A-525 / isocyanate-based curing agent Takenate A-52 / ethyl acetate = 90/10/100 (mass ratio)).
Adhesive F: manufactured by Saiden Chemical Co., Ltd., compounding ratio (polyxol resin-based main agent X-313-405S / polyisocyanate-based curing agent K-341 / toluene = 25 / 0.34 / 31.25 (mass ratio)).
接着剤としてエポキシ樹脂を含む組成物を用いた参考例1では5Nを超える十分な剥離強度が得られた。また、接着剤Eを用いた比較例2では硬化反応時に接着層で発泡が生じ、発光体保護フィルムが白濁した。 In Reference Example 1 in which a composition containing an epoxy resin was used as an adhesive, a sufficient peel strength exceeding 5N was obtained. Further, in Comparative Example 2 using the adhesive E, foaming occurred in the adhesive layer during the curing reaction, and the illuminant protective film became cloudy.
[波長変換シートの作製]
セレン化カドミウム(CdSe)の粒子に硫化亜鉛(ZnS)を被覆したコア・シェル構造を有する蛍光体(商品名:CdSe/ZnS 530、SIGMA−ALDRICH社製)を溶媒に分散して濃度調整することで蛍光体分散液を調製した。上記蛍光体分散液をエポキシ系感光性樹脂と混合して、蛍光体組成物を得た。実施例及び比較例で得られた発光体保護フィルムの第一光学フィルム側の表面上に、上記蛍光体組成物を塗布し、100μmの厚さを有する蛍光体層を形成した。
[Preparation of wavelength conversion sheet]
A phosphor (trade name: CdSe / ZnS 530, manufactured by SIGMA-ALDRICH) having a core-shell structure in which cadmium selenide (CdSe) particles are coated with zinc sulfide (ZnS) is dispersed in a solvent to adjust the concentration. A phosphor dispersion was prepared in. The above fluorescent material dispersion was mixed with an epoxy-based photosensitive resin to obtain a fluorescent material composition. The phosphor composition was applied onto the surface of the light emitter protective film obtained in Examples and Comparative Examples on the side of the first optical film to form a phosphor layer having a thickness of 100 μm.
蛍光体層上に、さらに同じ実施例及び比較例で得られた2枚目の発光体保護フィルムを、第一光学フィルムが蛍光体層側に向くように、配置して積層した後、紫外線照射により蛍光体層(感光性樹脂)を硬化することで、実施例及び比較例で作製した発光体保護フィルムを用いた波長変換シートを得た。 The second light emitter protective film obtained in the same Example and Comparative Example was further arranged and laminated on the phosphor layer so that the first optical film faces the phosphor layer side, and then irradiated with ultraviolet rays. By curing the phosphor layer (photosensitive resin) with the above method, a wavelength conversion sheet using the illuminant protective film produced in Examples and Comparative Examples was obtained.
[波長変換シートの評価]
(針孔評価)
波長変換シートの製造において、一方の発光体保護フィルムの第一光学フィルムとして、第一バリア層側から針を突き刺すことにより30〜300μm程度の直径を有し第一バリア層及び第一基材層を貫通する孔を設けた第一光学フィルムを用い、実施例及び比較例それぞれに対するダークスポット評価用波長変換シートを作製した。上記孔は無機薄膜層を蒸着によって形成した場合のスプラッシュによる孔を疑似的に再現したものである。得られたダークスポット評価用波長変換シートを、温度85℃、相対湿度0%RHの環境下に、曝露した。曝露後72時間、200時間及び1000時間が経過したダークスポット評価用波長変換シートに対し、孔を設けていない発光体保護フィルム側から青色光を照射し、孔を設けた発光体保護フィルム側から透過光を目視にて確認し、下記基準に従って黒点状の欠陥(ダークスポット)の有無を評価した。第一光学フィルムに設けた孔の長径a及び短径bとともに、上記孔周辺におけるダークスポットの評価結果を表2〜表3に示す。
A:曝露後1000時間経過後も、ダークスポットの存在が確認されなかった。
B:曝露後200時間経過後には、ダークスポットの存在が確認されなかったが、曝露後1000時間経過後には、ダークスポットの存在が確認された。
C:曝露後72時間経過後には、ダークスポットの存在が確認されなかったが、曝露後200時間経過後には、ダークスポットの存在が確認された。
D:曝露後72時間経過後にダークスポットの存在が確認された。
[Evaluation of wavelength conversion sheet]
(Needle hole evaluation)
In the production of the wavelength conversion sheet, as the first optical film of one of the light emitting body protective films, the first barrier layer and the first base material layer have a diameter of about 30 to 300 μm by piercing a needle from the first barrier layer side. A wavelength conversion sheet for dark spot evaluation was prepared for each of Examples and Comparative Examples using a first optical film provided with a hole penetrating through. The pores are pseudo-reproductions of the pores created by the splash when the inorganic thin film layer is formed by thin film deposition. The obtained wavelength conversion sheet for dark spot evaluation was exposed to an environment having a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 0% RH. The wavelength conversion sheet for dark spot evaluation 72 hours, 200 hours, and 1000 hours after exposure is irradiated with blue light from the light emitting body protective film side having no holes, and from the light emitting body protective film side having holes. The transmitted light was visually confirmed, and the presence or absence of black spot-like defects (dark spots) was evaluated according to the following criteria. Tables 2 and 3 show the evaluation results of the dark spots around the holes together with the major axis a and the minor axis b of the holes provided in the first optical film.
A: The presence of dark spots was not confirmed even 1000 hours after exposure.
B: The presence of dark spots was not confirmed 200 hours after exposure, but the presence of dark spots was confirmed 1000 hours after exposure.
C: The presence of dark spots was not confirmed 72 hours after exposure, but the presence of dark spots was confirmed 200 hours after exposure.
D: The presence of dark spots was confirmed 72 hours after exposure.
接着層の酸素透過率が1000cm3/(m2・day・atm)以下である実施例2及び参考例1、3では高温の環境下に1000時間曝露後もダークスポットの存在が確認されなかった。これに対し、接着層の酸素透過率が2000cm3/(m2・day・atm)を超える比較例1〜3では比較的短時間の曝露後においてもダークスポットが確認された。 In Example 2 and Reference Examples 1 and 3 in which the oxygen permeability of the adhesive layer was 1000 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, the presence of dark spots was not confirmed even after exposure to a high temperature environment for 1000 hours. .. In contrast, the oxygen permeability of the adhesive layer is 2000cm 3 / (m 2 · day · atm) dark spots even after Comparative Examples 1 to 3 a relatively brief exposure exceeds was confirmed.
(ダークスポット評価)
実施例及び比較例で得られた発光体保護フィルムを用いた波長変換シートを、60cm×34cm(27インチモニタに相当)に断裁し、温度85℃相対湿度0%の環境下に、1000時間曝露した。曝露後UVライトを照射し、ダークスポットの数を目視で数えた。ダークスポットの数を表4に示す。
(Dark spot evaluation)
The wavelength conversion sheet using the illuminant protective film obtained in Examples and Comparative Examples was cut into a size of 60 cm × 34 cm (corresponding to a 27-inch monitor) and exposed to an environment at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 0% for 1000 hours. did. After exposure, UV light was applied and the number of dark spots was visually counted. The number of dark spots is shown in Table 4.
表4から、接着層の酸素透過率が高い比較例1〜3でダークスポットが発生しているのに対し、実施例ではダークスポットは観察されなかった。 From Table 4, dark spots were generated in Comparative Examples 1 to 3 in which the oxygen permeability of the adhesive layer was high, whereas dark spots were not observed in Examples.
10…発光体保護フィルム、11a…第一基材層、11b…第二基材層、12a…第一無機薄膜層、12b…第二無機薄膜層、13a…第一ガスバリア性被覆層、13b…第二ガスバリア性被覆層、14a…第一バリア層、14b…第二バリア層、15…接着層、16a…第一光学フィルム、16b…第二光学フィルム、20…波長変換シート、21…蛍光体層、22…第二保護フィルム、23…欠陥、24…ダークスポット、30…バックライトユニット、50…エレクトロルミネッセンス発光ユニット。 10 ... Luminescent protective film, 11a ... First base material layer, 11b ... Second base material layer, 12a ... First inorganic thin film layer, 12b ... Second inorganic thin film layer, 13a ... First gas barrier coating layer, 13b ... Second gas barrier coating layer, 14a ... first barrier layer, 14b ... second barrier layer, 15 ... adhesive layer, 16a ... first optical film, 16b ... second optical film, 20 ... wavelength conversion sheet, 21 ... phosphor Layer, 22 ... second protective film, 23 ... defect, 24 ... dark spot, 30 ... backlight unit, 50 ... electroluminescence light emitting unit.
Claims (2)
前記2つの発光体保護フィルムはいずれも、第一光学フィルムと第二光学フィルムとがアクリル系接着剤から形成される接着層を介して貼り合わされた発光体保護フィルムであり、
前記第一光学フィルムが第一基材層と前記第一基材層上に形成された第一バリア層とを備える光学バリアフィルムであり、
前記第二光学フィルムが第二基材層と前記第二基材層上に形成された第二バリア層とを備える光学バリアフィルムであり、
前記接着層の酸素透過率は、厚さ5μmにおいて1000cm3/(m2・day・atm)以下であり、
前記第一光学フィルムと前記第二光学フィルムとは前記第一バリア層と前記第二バリア層とが対向するように前記接着層を介して貼り合わされており、
前記蛍光体層は、前記2つの発光体保護フィルムの前記第一光学フィルム上に、前記第一光学フィルムが前記蛍光体層と接するように形成されている、波長変換シート。 A wavelength conversion sheet comprising two light emitting body protective films and a phosphor layer arranged between the two light emitting body protective films.
Both of the above two light emitting body protective films are light emitting body protective films in which the first optical film and the second optical film are bonded together via an adhesive layer formed of an acrylic adhesive .
The first optical film is an optical barrier film including a first base material layer and a first barrier layer formed on the first base material layer.
The second optical film is an optical barrier film including a second base material layer and a second barrier layer formed on the second base material layer.
The oxygen permeability of the adhesive layer is 1000 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less at a thickness of 5 μm.
The first optical film and the second optical film are bonded to each other via the adhesive layer so that the first barrier layer and the second barrier layer face each other.
The phosphor layer is a wavelength conversion sheet formed on the first optical film of the two illuminant protective films so that the first optical film is in contact with the phosphor layer.
前記第二バリア層が第二無機薄膜層と第二ガスバリア性被覆層とを含む、請求項1に記載の波長変換シート。 The first barrier layer includes a first inorganic thin film layer and a first gas barrier coating layer.
The wavelength conversion sheet according to claim 1, wherein the second barrier layer includes a second inorganic thin film layer and a second gas barrier coating layer.
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