JP6779301B2 - レーザ装置、及び極端紫外光生成システム - Google Patents

レーザ装置、及び極端紫外光生成システム Download PDF

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Description

本開示は、レーザ装置、及び極端紫外光生成システムに関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ；Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）式の装置との３種類の装置が提案されている。
特開２０１０−１８６７３５号公報 特開２０１３−１６５２５６号公報 特開２０１３−２０１３８８号公報
概要
本開示の１つの観点に係るレーザ装置は、レーザ発振器から出射されたレーザ光を増幅する１つ以上の増幅ユニット、及び増幅ユニットを制御する増幅制御部を備えたレーザ装置であって、増幅ユニットは、レーザ光が入射する入射側光学調整部であり、レーザ光の波面を調整する波面調整部、及びレーザ光の光軸を調整する第１方向調整部を備えた入射側光学調整部と、レーザ光の伝送方向について、入射側光学調整部の下流側に配置される増幅部であり、入射側光学調整部から出射したレーザ光を増幅する増幅部と、レーザ光の伝送方向について、増幅部の下流側に配置される出射側光学調整部であり、増幅部から出射されたレーザ光の光軸を調整する第２方向調整部を備えた出射側光学調整部と、レーザ光の伝送方向について、出射側光学調整部の下流側に配置される計測部であり、出射側光学調整部から出射したレーザ光を計測して、レーザ光の光軸の情報、波面の情報、及びエネルギの情報の少なくとも１つを取得する計測部と、を備え、増幅制御部は、計測部の計測結果に基づいて入射側光学調整部、及び出射側光学調整部の少なくともいずれか一方を制御するレーザ装置である。
本開示の１つの観点に係る極端紫外光源システムは、ターゲット物質にレーザ光を照射してプラズマ化させることにより、極端紫外光を発生させる極端紫外光源システムであって、レーザ発振器から出射されたレーザ光を増幅する、少なくとも１つの増幅ユニットと、増幅ユニットを制御する増幅制御部と、増幅ユニットから出射されたレーザ光を入射して、入射したレーザ光を用いて極端紫外光を生成する極端紫外光生成チャンバと、を備え、増幅ユニットは、レーザ光が入射する入射側光学調整部であり、レーザ光の波面を調整する波面調整部、及びレーザ光の光軸を調整する第１方向調整部を備えた入射側光学調整部と、レーザ光の伝送方向について、入射側光学調整部の下流側に配置される増幅部であり、入射側光学調整部から出射したレーザ光を増幅する増幅部と、レーザ光の伝送方向について、増幅部の下流側に配置される出射側光学調整部であり、増幅部から出射されたレーザ光の光軸を調整する第２方向調整部を備えた出射側光学調整部と、レーザ光の伝送方向について、出射側光学調整部の下流側に配置される計測部であり、出射側光学調整部から出射したレーザ光を計測して、レーザ光の光軸の情報、波面の情報、及びエネルギの情報の少なくとも１つを取得する計測部と、を備え、増幅制御部は、計測部の計測結果に基づいて入射側光学調整部、及び出射側光学調整部の少なくともいずれか一方を制御する極端紫外光源システムである。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す図である。 図２は比較例に係る増幅チャンバが交換された場合におけるレーザ光の光軸の調整を模式的に示す図である。 図３は比較例に係る最終段の増幅チャンバの交換前後の光軸を模式的に示す図である。 図４は本実施形態に係るレーザ装置の構成例を概略的に示すブロック図である。 図５は増幅チャンバの交換前後のレーザ光の光軸を模式的に示す図である。 図６は増幅チャンバが交換された際の調整の流れを示すフローチャートである。 図７は図６の光軸の方向、通過位置スキャンサブルーチンの流れを示すフローチャートである。 図８は図７の光軸の方向、通過位置計測サブルーチンの流れを示すフローチャートである。 図９は図６の光軸の最適方向、最適通過位置決定サブルーチンの流れを示すフローチャートである。 図１０は図６の波面スキャンサブルーチンの流れを示すフローチャートである。 図１１は図６の最適波面決定サブルーチンの流れを示すフローチャートである。 図１２は波面調整部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。 図１３は計測部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。 図１４は第１方向調整部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。 図１５は第２方向調整部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。 図１６は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第１構成例を概略的に示す図である。 図１７は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第２構成例を概略的に示す図である。 図１８は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第３構成例を概略的に示す図である。 図１９は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第４構成例を概略的に示す図である。 図２０は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な方向調整部の構成を概略的に示す図である。 図２１は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な計測部の第１構成例を概略的に示す図である。 図２２は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な計測部の第２構成例を概略的に示す図である。 図２３は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能なエネルギメータの第１構成例を概略的に示す図である。 図２４は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能なエネルギメータの第２構成例を概略的に示す図である。 図２５は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能なエネルギメータの第３構成例を概略的に示す図である。
実施形態
−目次−
１．極端紫外光生成システムの全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．用語の説明
３．課題
４．レーザ装置の説明
４．１ 構成
４．２ 動作
４．３ 増幅ユニットの各部の交換後の調整の流れ
４．３．１ 増幅チャンバが交換された場合
４．３．１．１ 全体フローチャート
４．３．１．２ 光軸の方向、通過位置スキャンサブルーチンの説明
４．３．１．３ 光軸の方向、通過位置計測サブルーチンの説明
４．３．１．４ 光軸の最適方向、最適通過位置決定サブルーチンの説明
４．３．１．５ 波面スキャンサブルーチンの説明
４．３．１．６ 最適波面決定サブルーチンの説明
４．３．２ 波面調整部が交換された場合
４．３．３ 計測部が交換された場合
４．３．４ 第１方向調整部が交換された場合
４．３．５ 第２方向調整部が交換された場合
４．４ 波面調整部の構成例
４．４．１ 第１構成例
４．４．１．１ 構成
４．４．１．２ 動作
４．４．２ 第２構成例
４．４．３ 第３構成例
４．４．４ 第４構成例
４．４．４．１ 構成
４．４．４．２ 動作
４．５ 方向調整部の構成例
４．５．１ 構成
４．５．２ 動作
４．６ 計測部の構成例
４．６．１ 第１構成例
４．６．１．１ 構成
４．６．１．２ 動作
４．６．２ 第２構成例
４．６．２．１ 構成
４．６．２．２ 動作
４．７ エネルギメータの構成例
４．７．１ 第１構成例
４．７．２ 第２構成例
４．７．３ 第３構成例
４．８ 作用・効果
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．極端紫外光生成システムの全体説明
１．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられる場合がある。本開示においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶチャンバ２、ターゲット供給部２６を含む。ＥＵＶチャンバ２は、密閉可能な容器である。ターゲット供給部２６は、ターゲット物質をＥＵＶチャンバ２内部に供給するように構成され、例えば、ＥＵＶチャンバ２の壁を貫通するように取り付けられる。ターゲット供給部２６から出力されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
ＥＵＶチャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられている。その貫通孔は、ウインドウ２１によって塞がれ、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過する。ＥＵＶチャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置される。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有する。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成される。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２焦点が中間集光点（ＩＦ；Ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ Ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｐｏｉｎｔ）２９２に位置するように配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられ、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過する。
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成コントローラ５、ターゲットセンサ４等を含む。ターゲットセンサ４は、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度のうちいずれか又は複数を検出するよう構成される。ターゲットセンサ４は、撮像機能を備えてもよい。
また、ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶチャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含む。接続部２９の内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられる。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置される。
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光伝送装置３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含む。レーザ光伝送装置３４は、レーザ光の伝送状態を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備える。
１．２ 動作
図１を参照して、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの動作を説明する。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光伝送装置３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してＥＵＶチャンバ２内に入射する。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってＥＵＶチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射される。
ターゲット供給部２６は、ターゲット物質によって形成されたターゲット２７をＥＵＶチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成される。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射される。パルスレーザ光が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射される。放射光２５１に含まれるＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射される。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力される。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
ＥＵＶ光生成コントローラ５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成される。ＥＵＶ光生成コントローラ５は、ターゲットセンサ４の検出結果を処理するよう構成される。ターゲットセンサ４の検出結果に基づいて、ＥＵＶ光生成コントローラ５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミング、パルスレーザ光３２の照射方向、パルスレーザ光３３の集光位置等を制御するよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
極端紫外光を発生させる極端紫外光源システムは、ＥＵＶ光生成システム１１を含む概念である。極端紫外光生成チャンバは、ＥＵＶチャンバ２を含む概念である。
２．用語の説明
「レーザ光の伝送方向」は、レーザ発振器からレーザ装置の出力端までのレーザ光の伝送経路に沿った方向である。
「レーザ光の伝送方向の上流側」は、レーザ光の伝送経路におけるレーザ発振器の側である。
「レーザ光の伝送方向の下流側」は、レーザ光の伝送経路におけるレーザ装置の出力端の側である。
「前段」は、レーザ光の伝送方向における１つ上流側の増幅ユニット、又は増幅ユニットに付随する機器の位置である。
「後段」は、レーザ光の伝送方向における１つ下流側の増幅ユニット、又は増幅ユニットに付随する機器の位置である。
「最終段」は、レーザ光の伝送方向における最も下流側の増幅ユニット、又は増幅ユニットに付随する機器の位置である。
「ｋ番目」は、レーザ光の伝送方向における最も上流側の増幅ユニット、又は増幅ユニットに付随する機器の位置を１番目とした場合の任意の位置である。ｎ個の増幅ユニットを備える場合、ｋは１以上ｎ以下の任意の整数である。
「増幅チャンバの入射側」は、レーザ光の伝送方向における増幅チャンバの上流側である。
「増幅チャンバの出射側」は、レーザ光の伝送方向における増幅チャンバの下流側である。
「ビーム幅」は、レーザ光の断面における幅である。レーザ光の断面が円の場合、ビーム幅は円の直径である。
３．課題
図２は比較例に係る増幅チャンバが交換された場合におけるレーザ光の光軸の調整を模式的に示す図である。比較例に係るレーザ装置１００は、レーザ発振器１０２と、ｎ個の増幅ユニット１０４とを備えている。ｎは１以上の整数である。ｎ個の増幅ユニット１０４は、パルスレーザ光の伝送方向に沿って直列に配置される。以下、パルスレーザ光はレーザ光と記載されることがある。
図２には、ｎ個の増幅ユニット１０４のうち、レーザ発振器１０２に最も近い増幅ユニットを１番目の増幅ユニット１０４とした場合のｋ番目の増幅ユニット１０４Ａ、及びｋ＋１番目の増幅ユニット１０４Ｂが図示されている。
ｋ番目の増幅ユニット１０４Ａは、波面調整部１１０Ａと、方向調整部１１２Ａと、増幅チャンバ１１４Ａと、計測部１１６Ａとを備えている。波面調整部１１０Ａ、方向調整部１１２Ａ、増幅チャンバ１１４Ａ及び計測部１１６Ａは、パルスレーザ光の伝送方向に沿って、レーザ光の伝送方向の上流側から、上記の順に配置されている。
波面調整部１１０Ａ、方向調整部１１２Ａ、増幅チャンバ１１４Ａ及び計測部１１６Ａは、増幅制御部１１８Ａと電気信号を伝送可能に接続されている。ｋ＋１番目の増幅ユニット１０４Ｂは、ｋ番目の増幅ユニット１０４Ａと同様の構成であり、ここでの説明は省略する。増幅ユニット１０４Ｂの各構成の符号は、末尾にＢが付されて図示される。
ここで、図２のレーザ発振器１０２に付したＭＯは、master oscillatorの省略語である。また、図２の増幅チャンバ１１４に付したＰＡは、power amplifierの省略語である。
図２に示した増幅ユニット１０４Ａは、レーザ発振器１０２から出射されたレーザ光が、波面調整部１１０Ａ及び方向調整部１１２Ａを介して増幅チャンバ１１４Ａへ入射する。計測部１１６Ａは、増幅チャンバ１１４Ａから出射したレーザ光を計測する。増幅制御部１１８Ａは、計測部１１６Ａを用いて計測されたレーザ光の光軸の情報、及び波面の情報に基づいて、波面調整部１１０Ａ及び方向調整部１１２Ａを制御する。
図２において破線を用いて図示した増幅チャンバ１１４Ａは、増幅チャンバ１１４Ａが交換された場合の交換前の増幅チャンバ１１４Ａを表している。図２において実線を用いて図示した増幅チャンバ１１４Ａは、交換後の増幅チャンバ１１４Ａを表している。
図２では、増幅ユニット１０４に備えられる各構成の符号に、増幅ユニットの符号に付されたアルファベットと同じアルファベットが付されている。以下の説明において、増幅ユニット及び増幅ユニットの各構成について、アルファベットを付さない場合は、総称、又は任意の１つを表すこととする。
増幅チャンバ１１４Ａが交換される前は、増幅チャンバ１１４Ａに入射するレーザ光の光軸１２０Ｂは、増幅チャンバ１１４Ａにおける最適な光軸１２０Ａに合わせて調整されている。
例えば、増幅チャンバ１１４Ａが交換された場合、交換後の増幅チャンバ１１４Ａの配置位置にずれが生じることがあり得る。そうすると、交換後の増幅チャンバ１１４Ａの最適な光軸１２２Ａは、交換前の増幅チャンバ１１４Ａの最適な光軸１２０Ａとずれが生じることがあり得る。
そして、交換後の増幅チャンバ１１４Ａから出射するレーザ光の光軸１２２Ｃは、増幅チャンバ１１４Ａの後段の増幅チャンバ１１４Ｂの最適な光軸１２０Ｃとずれが生じることがあり得る。
そこで、交換前後のレーザ光の光軸のずれを補償して、前段の増幅チャンバ１１４Ａが交換される前の光軸１２０Ｃで後段の増幅チャンバ１１４Ｂにレーザ光が入射するように、後段の方向調整部１１２Ｂを用いてレーザ光の光軸を調整する必要があった。
そうすると、増幅チャンバ１１４Ａが交換された場合、増幅制御部１１８Ａによって波面調整部１１０Ａ及び方向調整部１１２Ａを制御して光軸、及び波面を調整した後に、後段の増幅制御部１１８Ｂによって方向調整部１１２Ｂを制御する光軸の調整が必要となる。このために、交換後の調整に時間がかかっていた。
図３は比較例に係る最終段の増幅チャンバの交換前後の光軸を模式的に示す図である。図３に示した増幅ユニット１０４Ｃは、波面調整部１１０Ｃ、方向調整部１１２Ｃ、増幅チャンバ１１４Ｃ及び計測部１１６Ｃを備えている。ｎが１の場合と等価である。
波面調整部１１０Ｃ、方向調整部１１２Ｃ、増幅チャンバ１１４Ｃ及び計測部１１６Ｃは、増幅制御部１１８Ｃと電気信号を伝送可能に接続されている。
図３に示すように、最終段の増幅ユニット１０４Ｃから出射したレーザ光は、図１に図示されたレーザ光伝送装置３４を介して、ＥＵＶチャンバ２へ導入される。しかし、交換後の増幅チャンバ１１４Ｃから出射するレーザ光の光軸１２２Ｅは、交換前の増幅チャンバ１１４Ｃから出射されていたレーザ光の光軸１２０Ｅとずれることがあり得る。
すなわち、増幅チャンバ１１４Ｃが交換された場合、増幅チャンバ１１４Ｃから出射されたレーザ光が、ＥＵＶチャンバ２へ入射しないことがあり得る。
４．レーザ装置の説明
４．１ 構成
図４は本実施形態に係るレーザ装置の構成例を概略的に示すブロック図である。以下に説明するレーザ装置は、ＥＵＶ生成システムに適用可能である。図４に示したレーザ装置２００は、レーザ発振器２０２と、ｍ個の増幅ユニット２０４とを備えている。図４に示したｍ個の増幅ユニット２０４は、レーザ光の伝送方向に沿って直列に配置される。ｍは１以上の整数である。
レーザ装置２００は、レーザコントローラ２０６及びｍ個の増幅制御部２１８と電気信号を伝送可能に接続されている。図４に示したレーザコントローラ２０６は、図１に示したＥＵＶ光生成コントローラ５に備えられていてもよいし、ＥＵＶ光生成コントローラ５とは別々に備えられていてもよい。
図４に示した増幅ユニット２０４Ａは、波面調整部２１０Ａ、第１方向調整部２１２Ａ、増幅チャンバ２１４Ａ、第２方向調整部２１５Ａ、及び計測部２１６Ａを備えている。波面調整部２１０Ａ、第１方向調整部２１２Ａ、増幅チャンバ２１４Ａ、第２方向調整部２１５Ｂ、及び計測部２１６Ａは、レーザ光の伝送方向に沿って、レーザ光の伝送方向の上流側から上記の順に配置されている。
すなわち、図４に示した増幅ユニット２０４Ａは、レーザ光の伝送方向の上流側の位置に第１方向調整部２１２Ａが配置され、レーザ光の伝送方向の下流側の位置に第２方向調整部２１５Ａが配置される。
第２方向調整部２１５Ａは、増幅チャンバ２１４Ａから出射するレーザ光が直接入射する位置に配置される。また、第２方向調整部２１５Ａは、第２方向調整部２１５Ａから出射したレーザ光が計測部２１６Ａへ直接入射する位置に配置される。
図４に示した増幅ユニット２０４Ｂ、増幅ユニット２０４Ｃ及び増幅ユニット２０４Ｄも増幅ユニット２０４Ａも同様に構成されている。図４に示した増幅ユニット２０４Ｄは、図１に示したレーザ光伝送装置３４を介して、ＥＵＶチャンバ２へ入射するレーザ光を出力する。
入射側光学調整部は、波面調整部及び第１方向調整部を構成要素としてもよい。出射側光学調整部は、第２方向調整部を構成要素としてもよい。増幅部は、増幅チャンバを含む概念である。図４に示したｍ個の増幅制御部は、ｍ個のプロセッサーから構成されてもよいし、１個、又は２個以上ｍ個未満のプロセッサーから構成されてもよい。ｍ個の増幅制御部は、レーザコントローラと統合されてもよい。
４．２ 動作
図５は増幅チャンバの交換前後のレーザ光の光軸を模式的に示す図である。図５には、交換対象の増幅チャンバ２１４Ｃが備えられる増幅ユニット２０４Ｃ、増幅ユニット２０４Ｃの前段の増幅ユニット２０４Ｅ、及び増幅ユニット２０４Ｃの後段の増幅ユニット２０４Ｆを図示する。破線を用いて図示した増幅チャンバ２１４Ｃは、交換前の増幅チャンバ２１４Ｃを表している。
なお、図５に示した増幅ユニット２０４Ｃは、ｋ番目の増幅ユニット２０４である。図５に示した増幅ユニット２０４Ｅは、ｋ−１番目の増幅ユニット２０４である。図５に示した増幅ユニット２０４Ｆは、ｋ＋１番目の増幅ユニット２０４である。
増幅チャンバ２１４Ｃが交換されると、増幅チャンバ２１４Ｃの配置位置に合わせて、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の光軸調整、及び波面調整、並びに増幅チャンバ２１４Ｃから出射するレーザ光の光軸調整が実行される。
まず、交換後の増幅チャンバ２１４Ｃの前段までの増幅チャンバを励起させて、交換後の増幅チャンバ２１４Ｃにレーザ光を入射させる。交換後の増幅チャンバ２１４Ｃの入射側に配置された第１方向調整部２１２Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の光軸２２２は、交換後の増幅チャンバ２１４Ｃの最適な光軸２２３に合わせて調整される。
また、交換後の増幅チャンバ２１４Ｃの入射側に配置された波面調整部２１０Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の波面は、交換後の増幅チャンバ２１４Ｃの最適な波面に合わせて調整される。
次に、増幅チャンバ２１４Ｃの出射側に配置された第２方向調整部２１５Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃから出射するレーザ光の光軸２２３は、増幅チャンバ２１４Ｆの最適な光軸２２４に合わせられる。増幅チャンバ２１４Ｆの最適な光軸２２４は、前段の増幅チャンバ２１４Ｃの交換の前の最適な光軸２２０と同一である。すなわち、増幅チャンバ２１４Ｃの交換の前の最適な光軸２２０が復元される。なお、図５では、図示の都合上、光軸２２０と光軸２２４との位置をずらして図示している。ここでいう同一とは、許容される誤差が含まれる実質的な同一を含んでもよい。
増幅チャンバ２１４Ｃが交換され、交換後の光軸、及び波面の調整が完了すると、レーザ装置２００は稼働可能となる。レーザ装置２００の稼働中、増幅チャンバ２１４Ｃの交換前の目標値を保持して、波面調整部２１０Ｃ、第１方向調整部２１２Ｃ、及び第２方向調整部２１５Ｃを制御するようにしてもよい。
４．３ 増幅ユニットの各部の交換後の調整の流れ
４．３．１ 増幅チャンバが交換された場合
４．３．１．１ 全体フローチャート
以下に、図４及び図５に示したｋ番目の増幅ユニット２０４Ｃに備えられる各部が交換された場合について説明する。図６は増幅チャンバが交換された際の調整の流れを示すフローチャートである。
図４に示した増幅チャンバ２１４Ｃが交換されると、図６に示したステップＳ１０において、図４に示した増幅制御部２１８Ｃはレーザ発振器２０２を励起させる。
また、図６に示したステップＳ１０において、増幅制御部２１８Ｃは、調整の対象である増幅ユニット２０４Ｃの前段までの増幅ユニット２０４を励起させる。調整の対象の増幅ユニット２０４が、１番目の増幅ユニット２０４Ａの場合は、レーザ発振器２０２のみを励起させる。
図６に示したステップＳ１２では、光軸の方向、通過位置スキャンサブルーチンが実行される。ステップＳ１２では、増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃが非励起の状態において、増幅チャンバ２１４Ｃを通過するレーザ光の光軸の方向、及び光軸の通過位置のスキャンを行う。なお、図６では、光軸の方向はｐｏｉｎｔｉｎｇと記載される。また、光軸の通過位置はｐｏｓｉｔｉｏｎと記載される。
レーザ光の光軸は、レーザ光の光路上の複数の位置におけるビームの断面の強度分布の重心を通過する直線としてもよい。ビームの断面が円の場合、レーザ光の光軸は、レーザ光の光路上の複数の位置におけるビームの断面の中心を通過する直線としてもよい。
ステップＳ１４では、光軸の最適方向、最適通過位置決定サブルーチンが実行される。ステップＳ１４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の最適な光軸を決定する。すなわち、増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の最適な方向を表す最適値Ｖｍａｘ、及びレーザ光の光軸の最適な通過位置を表す最適値Ｃｍａｘを決定する。ステップＳ１６では、増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）、及びレーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）を決定する。ここで、パラメータｋはｋ番目を表している。図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、決定された目標値Ｖｔ（ｋ）、及び目標値Ｃｔ（ｋ）を用いて、増幅制御部２１８Ｃに入射するレーザ光の光軸を調整する。
レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）は、ステップＳ１４において決められたレーザ光の光軸の方向の最適値Ｖｍａｘとしてもよい。レーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）は、ステップＳ１４において決められたレーザ光の光軸の通過位置の最適値Ｃｍａｘとしてもよい。
ステップＳ１８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させる。図６のステップＳ２０では、ステップＳ１２からステップＳ１６に示した光軸調整を行った前提で、波面スキャンサブルーチンが実行される。ステップＳ２０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させた状態で、増幅チャンバ２１４Ｃから出射したレーザ光の波面のスキャンを行う。
図６のステップＳ２２では、最適波面決定サブルーチンが実行される。ステップＳ２２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の最適な波面を決定する。図６のステップＳ２４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ（ｋ）を決定する。増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ（ｋ）は、図６のステップＳ２２において決められたレーザ光の波面の最適値Ｐｃｔｍａｘとしてもよい。ステップＳ２２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、決定された目標値Ｐｃｔ（ｋ）を用いて、増幅制御部２１８Ｃに入射するレーザ光の波面を調整する。
ステップＳ２６では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前のレーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）、及びレーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）に合わせて、第２方向調整部２１５を調整する。
すなわち、ステップＳ２６では、図４に示した増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前のレーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）、及びレーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）を保持して、第２方向調整部２１５を調整する。ステップＳ２６が終了すると、増幅チャンバ２１４Ｃが交換された際の光軸調整、及び波面調整が終了する。
４．３．１．２ 光軸の方向、通過位置スキャンサブルーチンの説明
図７は図６の光軸の方向、通過位置スキャンサブルーチンの流れを示すフローチャートである。図７のステップＳ３０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前における、レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ０（ｋ）、レーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ０（ｋ）を読み出す。
また、図７のステップＳ３０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前における、レーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ０（ｋ）を読み出す。レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ０（ｋ）、レーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ０（ｋ）、及びレーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ０（ｋ）は、図示されない記憶部に記憶されている。
ステップＳ３２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ０（ｋ）、及びレーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ０（ｋ）を用いて、光軸の方向、通過位置のスキャン範囲を求める。スキャン範囲は、１つ以上のパラメータセットから構成され、パラメータセットは、１つの光軸の方向、１つの通過位置を各々示す値を組にしたものである。
増幅チャンバ２１４Ｃの配置公差範囲がある場合は、光軸の方向、通過位置のスキャン範囲は、増幅チャンバ２１４Ｃの配置公差範囲に基づいて求めてもよい。第１方向調整部２１２Ｃが図２０に示す構成の場合、図７のステップＳ３２において求められるスキャン範囲は、光軸の方向の２自由度と光軸の通過位置の２自由度とを用いた四次元マトリクスとしてもよい。
ステップＳ３４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、光軸の方向、通過位置のスキャン範囲におけるパラメータセットを、図４に示した第１方向調整部２１２Ｃに設定する。ここでは、光軸の方向、通過位置のスキャン範囲におけるパラメータセットは、レーザ光の光軸の方向とレーザ光の光軸の通過位置とを用いた四次元マトリクスとする。
図７のステップＳ３６では、光軸の方向、通過位置計測サブルーチンが実行される。ステップＳ３６では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、図４に示した計測部２１６Ｃを用いて、パラメータセットごとに計測を行う。図７のステップＳ３８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、パラメータセットごとに計測部２１６Ｃを用いた計測結果を記憶する。
図７のステップＳ４０では、増幅制御部２１８Ｃは、全てのパラメータセットについて、計測部２１６Ｃを用いた計測が完了しているか否かを判断する。図７のステップＳ４０において、全てのパラメータセットについて計測部２１６Ｃを用いた計測が完了していない場合はＮｏ判定となる。Ｎｏ判定の場合は、ステップＳ３４へ進む。以降、ステップＳ４０の判定がＹｅｓ判定となるまで、ステップＳ３４からステップＳ４０までの各工程を繰り返す。
一方、ステップＳ４０において、全てのパラメータセットについて計測部２１６Ｃを用いた計測が完了している場合はＹｅｓ判定となる。Ｙｅｓ判定の場合は、光軸の方向、通過位置スキャンサブルーチンは終了する。
４．３．１．３ 光軸の方向、通過位置計測サブルーチンの説明
図８は図７の光軸の方向、通過位置計測サブルーチンの流れを示すフローチャートである。図７の計測サブルーチンは、図８のステップＳ５０、ステップＳ５２、及びステップＳ５４が含まれる。ステップＳ５０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、各パラメータセットにおけるエネルギＥを測定する。
図８のステップＳ５０におけるエネルギの測定はエネルギメータを用いてもよい。エネルギメータの詳細は後述する。エネルギの測定には、図２３から図２５に示した構成を適用してもよい。
図８のステップＳ５２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、位置センサを用いて、各パラメータセットにおける測定対象のレーザ光のビーム幅Ｄｐｏｓ、重心位置Ｇｘｐｏｓ、Ｇｙｐｏｓを測定する。図８のステップＳ５４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、方向センサを用いて、各パラメータセットにおける測定対象のレーザ光のビーム幅Ｄｐｉｔ、重心位置Ｇｘｐｉｔ、Ｇｙｐｉｔを測定する。
方向センサには、図２１に示す第１ビームプロファイラ３８２を用いてもよい。位置センサには、図２１に示す第２ビームプロファイラ３８８を用いてもよい。図８のステップＳ５２では、パラメータセットごとに、測定対象のレーザ光のビームプロファイルを取得してもよい。そして、取得したパラメータセットごとのビームプロファイルから、パラメータセットごとのレーザ光のビーム幅Ｄｐｏｓ、重心位置Ｇｘｐｏｓ、Ｇｙｐｏｓを算出してもよい。
図８のステップＳ５４では、取得したパラメータセットごとのビームプロファイルを取得してもよい。そして、取得したパラメータセットごとのビームプロファイルから、パラメータセットごとのレーザ光のビーム幅Ｄｐｉｔ、重心位置Ｇｘｐｉｔ、Ｇｙｐｉｔを算出してもよい。ステップＳ５０、ステップＳ５２、及びステップＳ５４が終了すると、図７のステップＳ３６は終了する。
４．３．１．４ 光軸の最適方向、最適通過位置決定サブルーチンの説明
図９は図６の光軸の最適方向、最適通過位置決定サブルーチンの制御の流れを示すフローチャートである。図９のステップＳ６０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、各パラメータセットのエネルギＥのデータを読み出す。図９のステップＳ６２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、各パラメータセットのレーザ光の重心位置Ｇｘｐｏｓ、Ｇｙｐｏｓ、Ｇｘｐｉｔ、Ｇｙｐｉｔのデータを読み出す。
図９のステップＳ６４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、エネルギＥが最大となるパラメータセットを求める。そして、エネルギＥが最大となるパラメータセットのレーザ光の重心位置Ｇｘｐｏｓ、Ｇｙｐｏｓ、Ｇｘｐｉｔ、Ｇｙｐｉｔを求める。
更に、レーザ光の光軸の通過位置の最適値Ｃｍａｘを（Ｇｘｐｏｓ，Ｇｙｐｏｓ）と設定し、レーザ光の光軸の方向の最適値Ｖｍａｘを（Ｇｘｐｉｔ，Ｇｙｐｉｔ）と設定する。図９のステップＳ６４が終了すると、図６の光軸の最適方向、最適通過位置決定サブルーチンは終了する。
４．３．１．５ 波面スキャンサブルーチンの説明
図１０は図６の波面スキャンサブルーチンの流れを示すフローチャートである。図１０のステップＳ７０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）、レーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）を読み出す。また、増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前のレーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ０（ｋ）を読み出す。
レーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）、レーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）は、図６のステップＳ１６において決められている。レーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ０（ｋ）は、図７のステップＳ３０において読み出された値を使用してもよい。
図１０のステップＳ７２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ０（ｋ）を用いて、レーザ光の波面のスキャン範囲のパラメータ、又はパラメータセットを求める。レーザ光の波面のスキャン範囲は、増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前のレーザ光のビーム幅Ｄｐｏｓ、Ｄｐｉｔの値から決めてもよい。波面調整部２１０Ｃの構成が図１６から図１８に示す構成の場合、レーザ光の波面のスキャン範囲は一次元としてもよい。この場合、増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の波面スキャン範囲のパラメータを求める。
図１０のステップＳ７４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、波面調整部２１０Ｃの設定を標準位置から解除し、波面調整部２１０Ｃの設定を各パラメータ、又は各パラメータセットに設定する。標準位置は、増幅チャンバ２１４Ｃが交換される前の稼働の際の設定値である。
図１０のステップＳ７６では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、第１方向調整部２１２Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の光軸を、図６のステップＳ１６で決められた目標値Ｖｔ（ｋ）、目標値Ｃｔ（ｋ）に合わせて調整する。
図１０のステップＳ７８では、計測サブルーチンが実行される。ステップＳ７８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、パラメータ又はパラメータセットごとのエネルギＥ、方向センサを用いて取得されたレーザ光のビーム幅Ｄｐｉｔ、位置センサを用いて取得されたレーザ光のビーム幅Ｄｐｏｓを計測する。但し、ステップＳ７８では、エネルギＥは計測しなくてもよい。
図１０のステップＳ８０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、パラメータ又はパラメータセットごとに、図４に示した計測部２１６Ｃを用いた計測結果を記憶する。図１０のステップＳ８２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、全ての水準について、計測部２１６Ｃを用いた計測が完了しているか否かを判断する。
図１０のステップＳ８２において、全てのパラメータ又は全てのパラメータセットについて、図４に示した計測部２１６Ｃを用いた計測が完了してない場合はＮｏ判定となる。Ｎｏ判定の場合は、ステップＳ７４へ進む。以降、ステップＳ８２の判定がＹｅｓ判定となるまで、ステップＳ７４からステップＳ８２までの各工程を繰り返す。
一方、図１０のステップＳ８２において、全てのパラメータ又は全てのパラメータセットについて、図４に示した計測部２１６Ｃを用いた計測が完了している場合はＹｅｓ判定となる。Ｙｅｓ判定の場合は、図１０に示した波面スキャンサブルーチンは終了する。
４．３．１．６ 最適波面決定サブルーチンの説明
図１１は図６の最適波面決定サブルーチンの流れを示すフローチャートである。図１１のステップＳ９０では、パラメータ又はパラメータセットごとに、方向センサを用いて取得されたレーザ光のビーム幅Ｄｐｉｔ、及び位置センサを用いて取得されたレーザ光のビーム幅Ｄｐｏｓを読み出す。
ステップＳ９２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、方向センサを用いて取得されたレーザ光のビーム幅Ｄｐｉｔ、及び位置センサを用いて取得されたレーザ光のビーム幅Ｄｐｏｓが最適となるパラメータ又はパラメータセットを求める。そして、増幅制御部２１８Ｃは、最適ビーム幅Ｄｐｉｔ、及び最適ビーム幅Ｄｐｏｓに対応付けて記憶されたパラメータ、又はパラメータセットを、波面の最適値Ｐｃｔｍａｘとする。図１１のステップＳ９２が終了すると、最適波面決定サブルーチンは終了する。
４．３．２ 波面調整部が交換された場合
図１２は波面調整部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。図１２のステップＳ１００では、図４に示したレーザ発振器２０２、及び増幅チャンバ２１４Ｃの前段までの増幅チャンバ２１４を励起させる。図１２のステップＳ１０２では、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させる。
図１２のステップＳ１０４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、第１方向調整部２１２Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の光軸の方向を目標値Ｖｔ（ｋ）に調整する。また、図１２のステップＳ１０４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、第１方向調整部２１２Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃに入射するレーザ光の光軸の通過位置を目標値Ｃｔ（ｋ）に調整する。
図１２のステップＳ１０４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃまでの増幅チャンバ２１４を励起させて、計測部２１６Ｃを用いて増幅チャンバ２１４Ｃから出射されたレーザ光の光軸の方向、及び光軸の通過方向を計測する。増幅制御部２１８Ｃは、計測部２１６Ｃの計測結果が、目標値Ｖｔ（ｋ）及び 目標値Ｃｔ（ｋ）となるよう第１方向調整部２１２Ｃを制御してもよい。
増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の方向について、計測結果と目標値Ｖｔ（ｋ）との差分を抽出してもよい。増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の通過位置について、計測結果と目標値Ｃｔ（ｋ）との差分を抽出してもよい。
増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の光軸の方向の計測結果と目標値Ｖｔ（ｋ）との差分が小さくなるよう第１方向調整部２１２Ｃを用いてレーザ光の光軸を調整してもよい。レーザ光の光軸の通過位置の計測結果と目標値Ｃｔ（ｋ）との差分が小さくなるよう第１方向調整部２１２Ｃを用いてレーザ光の光軸を調整してもよい。
図１２のステップＳ１０６では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の波面をスキャンする。図１２のステップＳ１０６は、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、図１０に示した波面スキャンサブルーチンを実行する。図１２のステップＳ１０８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の波面の最適値Ｐｃｍａｘを決定する。
図１２のステップＳ１０８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、図１１に示した最適波面決定サブルーチンを実行してレーザ光の波面の最適値Ｐｃｔｍａｘを決定する。ステップＳ１１０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の波面の最適値Ｐｃｔｍａｘを、レーザ光の波面の目標値Ｐｃｔ（ｋ）として設定する。ステップＳ１１０が終了すると、波面調整部が交換された場合の調整は終了する。
４．３．３ 計測部が交換された場合
図１３は計測部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。ステップＳ１２０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ発振器２０２、及び増幅チャンバ２１４Ｃの前段までの増幅チャンバ２１４を励起させる。図１３のステップＳ１２２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させる 。
図１３のステップＳ１２４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させた状態で、増幅チャンバ２１４Ｃから出射したレーザ光を計測部２１６Ｃに入射させる。そして、交換された計測部２１６Ｃによって計測された計測値を光軸の方向の新しい目標値Ｖｔ（ｋ）、及び光軸の通過位置の新しい目標値Ｃｔ（ｋ）として記憶する。
図１３のステップＳ１２４が終了すると、計測部が交換された場合の調整は終了する。
４．３．４ 第１方向調整部が交換された場合
図１４は第１方向調整部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。ステップＳ１３０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ発振器２０２、及び増幅チャンバ２１４Ｃの前段までの増幅チャンバ２１４を励起させる。
図１４ステップＳ１３２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃの前段までの増幅チャンバ２１４を励起させた状態において、交換後の第１方向調整部２１２Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃから出射するレーザ光の光軸を調整する。レーザ光の光軸の調整は、図１２のステップＳ１０４と同様であり、ここでの説明は省略する。
図１４のステップＳ１３４では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させる。図１４のステップＳ１３６では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させた状態において、交換後の第１方向調整部２１２Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃへ入射するレーザ光の光軸を調整する。レーザ光の光軸の調整は、図１２のステップＳ１０４と同様であり、ここでの説明は省略する。
図１４のステップＳ１３８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃへ入射するレーザ光の波面を調整する。図１４のステップＳ１３８では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させた状態において、計測部２１６Ｃを用いて、増幅チャンバ２１４Ｃから出射したレーザ光の波面を計測してもよい。増幅制御部２１８Ｃは計測結果を取得してもよい。
増幅制御部２１８Ｃは、計測結果と波面の目標値Ｐｃｔ（ｋ）との差分を抽出してもよい。増幅制御部２１８Ｃは、レーザ光の波面の測定結果と目標値Ｐｃｔ（ｋ）との差分が小さくなるよう波面調整部２１０Ｃを用いてレーザ光の波面を調整してもよい。ステップＳ１３８が終了すると、第１方向調整部２１２Ｃが交換された場合の調整は終了する。
４．３．５ 第２方向調整部が交換された場合
図１５は第２方向調整部が交換された場合の調整の流れを示すフローチャートである。ステップＳ１４０では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、レーザ発振器２０２、及び増幅チャンバ２１４Ｃの前段までの増幅チャンバ２１４を励起させる。図１５のステップＳ１４２では、図４に示した増幅制御部２１８Ｃは、増幅チャンバ２１４Ｃを励起させる。
図１５のステップＳ１４４では、増幅制御部２１８Ｃは、計測部２１６Ｃによって計測された計測値が、第２方向調整部２１５Ｃが交換される前のレーザ光の光軸の方向の目標値Ｖｔ（ｋ）、及びレーザ光の光軸の通過位置の目標値Ｃｔ（ｋ）となるように第２方向調整部２１５Ｃを調整する。
ステップＳ１４４が終了すると、第２方向調整部２１５Ｃが交換された場合の調整は終了する。
４．４ 波面調整部の構成例
４．４．１ 第１構成例
４．４．１．１ 構成
図１６は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第１構成例を概略的に示す図である。以下に、レーザ光の波面のパラメータとしてビーム幅が適用される例について説明する。レーザ光の波面のパラメータは、ビームダイバージェンスが適用されてもよい。ビームダイバージェンスからレーザ光の波面の曲率を求めてもよい。
図１６に示した波面調整部２１０Ｇは、第１ミラー３００と、第２ミラー３０２とを含む第１ミラー対３０４、及び第３ミラー３０６と、第４ミラー３０８とを含む第２ミラー対３１０を備えている。
第１ミラー３００、及び第２ミラー３０２は、移動プレート３０３に固定される。第３ミラー３０６、及び第４ミラー３０８は、固定プレート３０７に固定される。移動プレート３０３は、図示しないアクチュエータと連結される。図示しないアクチュエータは、図４に示した増幅制御部２１８を用いて動作が制御される。
図１６に示した移動プレート３０３は、第１ミラー対３０４と第２ミラー対３１０との間の距離を調整可能に構成される。図１６に示した矢印線は、第１ミラー対３０４を移動させる場合の移動方向を表している。
第１ミラー３００、及び第２ミラー３０２を固定プレートに固定し、かつ、第３ミラー３０６、及び第４ミラー３０８を移動プレートに固定してもよい。また、第１ミラー３００、及び第２ミラー３０２を移動プレートに固定し、かつ、第３ミラー３０６、及び第４ミラー３０８を移動プレートに固定してもよい。
図１６に示した波面調整部２１０Ｇは、第１ミラー３００、及び第２ミラー３０２に軸外放物凸面ミラーが適用される。図１６に示した波面調整部２１０Ｇは、第３ミラー３０６、及び第４ミラー３０８に軸外放物凹面ミラーが適用される。
図１６に符号３１２を付した矢印線は、波面調整部２１０Ｇに入射するレーザ光を表している。図１６に符号３１４を付した矢印線は、波面調整部２１０Ｇから出射するレーザ光を表している。
４．４．１．２ 動作
波面の調整を行う場合、アクチュエータの動作指令を表す電気信号が図４に示した増幅制御部２１８から、図示しないアクチュエータの駆動部へ送られる。アクチュエータは動作指令に基づいて動作をする。
アクチュエータが動作して、第１ミラー対３０４と第２ミラー対３１０との距離を相対的に広げると、レーザ光のビーム幅が広げることが可能である。第１ミラー対３０４と第２ミラー対３１０との距離を相対的に狭めると、レーザ光のビーム幅を狭めることが可能である。
４．４．２ 第２構成例
図１７は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第２構成例を概略的に示す図である。図１７に示した波面調整部２１０Ｈは、図１６に示した第１ミラー対３０４に代わり、図１７に示した第３ミラー対３０４Ａを備えている。波面調整部２１０Ｈは、図１６に示した第２ミラー対３１０に代わり、図１７に示した第４ミラー対３１０Ａを備えている。
第３ミラー対３０４Ａは、図１６に示した第２ミラー３０２に代わり、図１７に示した第５ミラー３０２Ａを備えている。第４ミラー対３１０Ａは、図１６に示した第４ミラー３０８に代わり、図１７に示した第６ミラー３０８Ａを備えている。第５ミラー３０２Ａ、及び第６ミラー３０８Ａは、平面ミラーが適用される。
４．４．３ 第３構成例
図１８は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第３構成例を概略的に示す図である。図１８に示した波面調整部２１０Ｉは、図１６に示した第１ミラー対３０４に代わり、図１８に示した第５ミラー対３０４Ｂを備えている。波面調整部２１０Ｈは、図１６に示した第２ミラー対３１０に代わり、図１８に示した第６ミラー対３１０Ｂを備えている。
第５ミラー対３０４Ｂは、図１６に示した第１ミラー３００に代わり、図１８に示した第７ミラー３００Ｂを備えている。また、第５ミラー対３０４Ｂは、図１６に示した第２ミラー３０２に代わり、図１８に示した第８ミラー３０２Ｂを備えている。第７ミラー３００Ｂ及び第８ミラー３０２Ｂは、軸外放物凹面ミラーが適用される。
第６ミラー対３１０Ｂは、図１６に示した第３ミラー３０６に代わり、図１８に示した第９ミラー３０６Ｂを備えている。また、第６ミラー対３１０Ｂは、図１６に示した第４ミラー３０８に代わり、図１８に示した第１０ミラー３０８Ｂを備えている。第９ミラー３０６Ｂ及び第１０ミラー３０８Ｂは、軸外放物凸面ミラーが適用される。
４．４．４ 第４構成例
４．４．４．１ 構成
図１９は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な波面調整部の第４構成例を概略的に示す図である。図１９に示した波面調整部２１０Ｊは、第１１ミラー３２０と、第１２ミラー３２２とを備えている。
第１１ミラー３２０は凸面ミラーが適用される。第１１ミラー３２０は平面ミラーが適用されてもよい。第１２ミラー３２２は、曲率可変ミラーが適用される。第１２ミラー３２２は、図示しないアクチュエータを備えている。図示しないアクチュエータは、図４に示した増幅制御部２１８を用いて動作が制御される。
アクチュエータは、電気エネルギを付与して動作してもよいし、気体の圧力、又は液体の圧力を付与して動作してもよい。
４．４．４．２ 動作
第１１ミラー３２０に入射したレーザ光３２４は、第１１ミラー３２０により反射して第１２ミラー３２２に入射する。第１２ミラー３２２に入射したレーザ光３２５は、第１２ミラー３２２により反射する。
第１２ミラー３２２により反射したレーザ光３２６は、第１２ミラー３２２の表面形状を可変させることに起因して、ビーム幅を可変させることが可能である。図示しないアクチュエータを動作させて、第１２ミラー３２２の表面形状の可変が可能である。
波面の調整として、ビーム幅の調整を行う場合、アクチュエータの動作指令を表す電気信号が、図４に示した増幅制御部２１８からアクチュエータの駆動部へ送られる。アクチュエータは動作指令に基づいて動作をする。
アクチュエータの動作に起因して、曲率可変ミラーが適用される第１２ミラー３２２の表面形状が変えられる。第１２ミラー３２２により反射したレーザ光３２６のビーム幅が調整される。
４．５ 方向調整部の構成例
４．５．１ 構成
図２０は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な方向調整部の構成を概略的に示す図である。図２０に示した方向調整部３４０は、図４に示した第１方向調整部２１２、及び第２方向調整部２１５に適用可能である。
図２０に示した方向調整部３４０は、第１高反射ミラー３４２と、第２高反射ミラー３４４、第１アクチュエータ３４６と、第２アクチュエータ３４８とを備えている。第１アクチュエータ３４６は、第１高反射ミラー３４２と連結される。第２アクチュエータ３４８は、第２高反射ミラー３４４と連結される。
第１アクチュエータ３４６を動作させると、第１高反射ミラー３４２の角度を可変させることが可能である。第２アクチュエータ３４８を動作させると、第２高反射ミラー３４４の角度を可変させることが可能である。第１アクチュエータ３４６、及び第２アクチュエータ３４８は、増幅制御部２１８を用いて動作が制御される。
４．５．２ 動作
方向調整部３４０に入射したレーザ光３５０は、第１高反射ミラー３４２に入射して、第１高反射ミラー３４２により反射する。第１高反射ミラー３４２により反射したレーザ光３５２は、第２高反射ミラー３４４に入射して、第２高反射ミラー３４４により反射する。第２高反射ミラー３４４により反射したレーザ光３５４は、方向調整部３４０から出射する。
第１アクチュエータ３４６を動作させて、第１高反射ミラー３４２の角度を可変させると、第１高反射ミラー３４２により反射したレーザ光３５２の光軸３５３を変えることが可能である。
また、第２アクチュエータ３４８を動作させて、第２高反射ミラー３４４の角度を可変させると、第２高反射ミラー３４４により反射したレーザ光３５４の光軸３５５を変えることが可能である。
第１高反射ミラー３４２の角度、及び第２高反射ミラー３４４の角度の少なくともいずれかを調整することで、方向調整部３４０から出射するレーザ光の光軸の調整が可能である。
図４に示した計測部２１６を用いてレーザ光の光軸を計測し、計測結果に基づき第１アクチュエータ３４６、及び第２アクチュエータ３４８の少なくともいずれか一方を動作させて、レーザ光の光軸を目標とするレーザ光の光軸に調整可能である。
４．６ 計測部の構成例
４．６．１ 第１構成例
４．６．１．１ 構成
図２１は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な計測部の第１構成例を概略的に示す図である。図２１に示した計測部３８０は、図４に示した計測部２１６に適用可能である。後述する第２構成例についても同様である。
図２１に示した計測部３８０は、第１ビームプロファイラ３８２と、第１転写光学系３８４と、第１ビームスプリッタ３８６とを備えている。また、計測部３８０は、第２ビームプロファイラ３８８と、第２転写光学系３９０と、第３高反射ミラー３９２と、第２ビームスプリッタ３９４とを備えている。
第１ビームプロファイラ３８２、及び第２ビームプロファイラ３８８は、ラインセンサを適用してもよい。第１ビームプロファイラ３８２、及び第２ビームプロファイラ３８８は、ＣＣＤカメラを適用してもよい。
なお、ＣＣＤは、Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅの省略語である。また、図２１では、第１ビームプロファイラ３８２はビームプロファイラ１と記載し、第２ビームプロファイラ３８８はビームプロファイラ２と記載する。図２２についても同様である。
第２ビームスプリッタ３９４は、計測部３８０に入射するレーザ光３９６の光路に配置される。第１ビームスプリッタ３８６は、第１サンプル光３９８の光路上に配置される。第１サンプル光３９８は、第２ビームスプリッタ３９４により反射した計測用のレーザ光である。
第３高反射ミラー３９２は、第２サンプル光４００の光路に配置される。第２サンプル光４００は、第１ビームスプリッタ３８６により反射した計測用のレーザ光である。
第１転写光学系３８４は、第１ビームスプリッタ３８６を通過した第１サンプル光３９８の光路上に配置される。第２転写光学系３９０は、第３高反射ミラー３９２により反射した第２サンプル光４００の光路に配置される。
４．６．１．２ 動作
図２１に示した計測部３８０は、第１サンプル光３９８の光路上の地点Ａ１、及び第２サンプル光４００の光路上の地点Ａ２におけるビームプロファイルを取得する。
第１ビームスプリッタ３８６を通過した第１サンプル光３９８は第１転写光学系３８４を介して第１ビームプロファイラ３８２へ入射する。第１転写光学系３８４は、第１サンプル光３９８の光路の地点Ａ１におけるビームプロファイルを第１ビームプロファイラ３８２の受光面に転写する。第１ビームプロファイラ３８２は、地点Ａ１におけるビームプロファイルを取得する。
第１ビームスプリッタ３８６により反射した第２サンプル光４００は、第３高反射ミラー３９２により反射され、第２転写光学系３９０を介して第２ビームプロファイラ３８８へ入射する。
第２転写光学系３９０は、第２サンプル光４００の光路の地点Ａ２におけるビームプロファイルを第２ビームプロファイラ３８８の受光面に転写する。第２ビームプロファイラ３８８は、地点Ａ２におけるビームプロファイルを取得する。
第１ビームプロファイラ３８２は、ビームプロファイルとして、地点Ａ１における第１サンプル光３９８の強度分布を取得してもよい。第２ビームプロファイラ３８８は、ビームプロファイルとして、地点Ａ２における第２サンプル光４００の強度分布を取得してもよい。
計測部３８０を用いて計測された計測結果は、図４に示した増幅制御部２１８へ送られてもよい。増幅制御部２１８は、図２１に示した地点Ａ１のプロファイル、及び地点Ａ２のプロファイルから、レーザ光３９６の重心位置Ｇｘｐｏｓ、Ｇｙｐｏｓ、Ｇｘｐｉｔ、Ｇｙｐｉｔを取得してもよい。
図４に示した増幅制御部２１８は、図２１に示した地点Ａ１のプロファイル、又は地点Ａ２のプロファイルのいずれか一方から、レーザ光３９６のビーム幅Ｄｐｏｓ、Ｄｐｉｔを取得してもよい。ビームプロファイルを用いたレーザ光の光軸の導出、及びレーザ光の波面の導出は、公知の手法を適用可能である。
４．６．２ 第２構成例
４．６．２．１ 構成
図２２は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能な計測部の第２構成例を概略的に示す図である。図２２に示した計測部３８０Ａは、図２１に示した計測部３８０における第２転写光学系３９０に代わり、第１集光レンズ３９０Ａを備えている。
４．６．２．２ 動作
図２２に示した第１ビームプロファイラ３８２を用いて取得したビームプロファイルから、第１サンプル光３９８の重心位置Ｇｘｐｏｓ、Ｇｙｐｏｓ、及びレーザ光３９６のビーム幅Ｄｐｏｓを取得してもよい。
図２２に示した第２ビームプロファイラ３８８を用いて取得したビームプロファイルから、第２サンプル光４００の重心位置Ｇｘｐｉｔ、Ｇｙｐｉｔを取得してもよい。
４．７ エネルギメータの構成例
４．７．１ 第１構成例
図２３は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能なエネルギメータの第１構成例を概略的に示す図である。図２３に示したエネルギメータ４２０は、第２集光レンズ４２２と、エネルギセンサ４２４とを備えている。
第２集光レンズ４２２は、第１サンプル光３９８の光路に配置される。エネルギセンサ４２４は、第２集光レンズ４２２によって集光する第１サンプル光３９８の光路に配置される。なお、エネルギセンサ４２４は、第２集光レンズ４２２の焦点位置に配置される必要はない。
エネルギセンサ４２４は、第２集光レンズ４２２を用いて集光した第１サンプル光３９８のエネルギを検出する。エネルギセンサ４２４は、フォトダイオードを適用してもよい。
４．７．２ 第２構成例
図２４は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能なエネルギメータの第２構成例を概略的に示す図である。図２４に示したエネルギメータ４２０Ａは、図２３に示したエネルギメータ４２０におけるエネルギセンサ４２４の入射側に、積分球４２６を備えている。
図２４に示した積分球４２６は、図示しない入射側の開口と、図示しない出射側の開口を備えている。積分球４２６は、内壁が反射率の高い光散乱素材で形成されてもよい。積分球４２６は、入射側の開口から入射した第１サンプル光３９８を散乱させ、出射側の開口から均一な第１サンプル光３９８を出射してもよい。
図２４に示したエネルギメータ４２０Ａでは、第２集光レンズ４２２を用いて集光した第１サンプル光３９８は、積分球４２６を介してエネルギセンサ４２４に入射する。エネルギセンサ４２４は、第２集光レンズ４２２を用いて集光し、積分球４２６を用いて均一化した第１サンプル光３９８のエネルギを検出する。
４．７．３ 第３構成例
図２５は本実施形態に係るレーザ装置に適用可能なエネルギメータの第３構成例を概略的に示す図である。図２５に示したエネルギメータ４２０Ｂは、図２３に示したエネルギメータ４２０における第２集光レンズ４２２、及びエネルギセンサ４２４に代わり、パワーメータ４２８を備えている。
４．８ 作用・効果
増幅チャンバ２１４の出射側に第２方向調整部２１５を備える。これにより、増幅チャンバ２１４が交換された際に、第２方向調整部２１５を用いて、交換された増幅チャンバから出射するレーザ光の光軸が、後段に配置される増幅チャンバの最適な光軸に合わせて調整される。
交換された増幅チャンバ２１４の後段に配置される増幅ユニットにおける光軸の調整が不要となり、増幅チャンバ２１４が交換された際の調整時間が短縮され、増幅チャンバの交換に伴うＥＵＶ装置のダウンタイムを低減することが可能である。
増幅チャンバ２１４が交換された際に、第２方向調整部を用いた光軸の調整において、増幅チャンバが交換される前の光軸の目標値が保持されるので、交換前の光軸の復元が可能である。
増幅チャンバ２１４が交換された際に、波面調整部２１０を用いた波面調整において、交換後の増幅チャンバ２１４における最適な波面に調整される。また、第１方向調整部２１２を用いた光軸調整において、交換後の増幅チャンバ２１４における最適な光軸に調整される。これにより、交換後の増幅チャンバ２１４は、最適な波面、最適な光軸のレーザ光の入射が可能である。
以上説明した実施形態では、レーザ装置のＥＶＵ生成システムへの適用例を示したが、本実施形態に係るレーザ装置は、ＥＶＵ生成システム以外の他の用途への適用が可能である。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。したがって、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

Claims (18)

  1. レーザ発振器から出射されたレーザ光を増幅する１つ以上の増幅ユニット、及び前記増幅ユニットを制御する増幅制御部を備えたレーザ装置であって、
    前記増幅ユニットは、
    レーザ光が入射する入射側光学調整部であり、前記レーザ光の波面を調整する波面調整部、及び前記レーザ光の光軸を調整する第１方向調整部を備えた入射側光学調整部と、
    前記レーザ光の伝送方向について、前記入射側光学調整部の下流側に配置される増幅部であり、前記入射側光学調整部から出射したレーザ光を増幅する増幅部と、
    前記レーザ光の伝送方向について、前記増幅部の下流側に配置される出射側光学調整部であり、前記増幅部から出射されたレーザ光の光軸を調整する第２方向調整部を備えた出射側光学調整部と、
    前記レーザ光の伝送方向について、前記出射側光学調整部の下流側に配置される計測部であり、前記出射側光学調整部から出射したレーザ光を計測して、前記レーザ光の光軸の情報、波面の情報、及びエネルギの情報の少なくとも１つを取得する計測部と、
    を備え、
    前記第１方向調整部は、前記波面調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記増幅部は、前記第１方向調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記出射側光学調整部は、前記増幅部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記計測部は前記出射側光学調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記情報は、前記出射側光学調整部から出射したレーザ光に基づいて定義されたスキャン範囲でスキャンして得られた情報であり、
    前記計測部の下流側に、前記レーザ光を増幅する第２の増幅ユニットをさらに備え、
    前記増幅制御部は、前記計測部の計測結果に基づいて前記入射側光学調整部、及び前記出射側光学調整部の少なくともいずれか一方を、前記計測部から出射した前記レーザ光の光軸が、前記第２の増幅ユニットの光軸に近づくように制御するレーザ装置。
  2. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、交換後の増幅部から出射するレーザ光の光軸を前記増幅部が交換される前の光軸に近づけるように、前記第２方向調整部を制御するレーザ装置。
  3. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、交換後の増幅部から出射するレーザ光のエネルギが大きくなるように前記第１方向調整部を制御するレーザ装置。
  4. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、交換後の増幅部から出射するレーザ光の波面が所定となるように前記波面調整部を制御するレーザ装置。
  5. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記計測部は、計測の対象とされるレーザ光の光軸の方向、及び光軸の通過位置を測定するレーザ装置。
  6. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、前記第１方向調整部を制御して前記レーザ光の光軸の調整を行った後に、前記波面調整部を制御して前記光軸が調整されたレーザ光の波面を調整するレーザ装置。
  7. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、前記第１方向調整部を制御して前記レーザ光の光軸の調整を行った後に、前記計測部によって計測される光軸が、前記増幅部が交換される前の光軸に近づくように前記第２方向調整部を制御するレーザ装置。
  8. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    前記第２方向調整部は、前記増幅部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記計測部は、前記第２方向調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置されるレーザ装置。
  9. 請求項１に記載のレーザ装置であって、
    複数の前記増幅ユニットを備え、複数の前記増幅ユニットがレーザ光の伝送方向について直列に配置されるレーザ装置。
  10. ターゲット物質にレーザ光を照射してプラズマ化させることにより、極端紫外光を発生させる極端紫外光源システムであって、
    レーザ発振器から出射されたレーザ光を増幅する、少なくとも１つの増幅ユニットと、
    前記増幅ユニットを制御する増幅制御部と、
    前記増幅ユニットから出射されたレーザ光を入射して、前記入射したレーザ光を用いて極端紫外光を生成する極端紫外光生成チャンバと、
    を備え、
    前記増幅ユニットは、レーザ光が入射する入射側光学調整部であり、前記レーザ光の波面を調整する波面調整部、及び前記レーザ光の光軸を調整する第１方向調整部を備えた入射側光学調整部と、
    前記レーザ光の伝送方向について、前記入射側光学調整部の下流側に配置される増幅部であり、前記入射側光学調整部から出射したレーザ光を増幅する増幅部と、
    前記レーザ光の伝送方向について、前記増幅部の下流側に配置される出射側光学調整部であり、前記増幅部から出射されたレーザ光の光軸を調整する第２方向調整部を備えた出射側光学調整部と、
    前記レーザ光の伝送方向について、前記出射側光学調整部の下流側に配置される計測部であり、前記出射側光学調整部から出射したレーザ光を計測して、前記レーザ光の光軸の情報、波面の情報、及びエネルギの情報の少なくとも１つを取得する計測部と、
    を備え、
    前記第１方向調整部は、前記波面調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記増幅部は、前記第１方向調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記出射側光学調整部は、前記増幅部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記計測部は前記出射側光学調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記情報は、前記出射側光学調整部から出射したレーザ光に基づいて定義されたスキャン範囲でスキャンして得られた情報であり、
    前記計測部の下流側に、前記レーザ光を増幅する第２の増幅ユニットをさらに備え、
    前記増幅制御部は、前記計測部の計測結果に基づいて前記入射側光学調整部、及び前記出射側光学調整部の少なくともいずれか一方を、前記計測部から出射した前記レーザ光の光軸が、前記第２の増幅ユニットの光軸に近づくように制御する極端紫外光源システム。
  11. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、交換後の増幅部から出射するレーザ光の光軸を前記増幅部が交換される前の光軸に近づけるように、前記第２方向調整部を制御する極端紫外光源システム。
  12. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、交換後の増幅部から出射するレーザ光のエネルギが大きくなるように前記第１方向調整部を制御する極端紫外光源システム。
  13. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、交換後の増幅部から出射するレーザ光の波面が所定となるように前記波面調整部を制御する極端紫外光源システム。
  14. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記計測部は、計測の対象とされるレーザ光の光軸の方向、及び光軸の通過位置を測定する極端紫外光源システム。
  15. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、前記第１方向調整部を制御して前記レーザ光の光軸の調整を行った後に、前記波面調整部を制御して前記光軸が調整されたレーザ光の波面を調整する極端紫外光源システム。
  16. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記増幅制御部は、前記増幅部が交換された際に、前記第１方向調整部を制御して前記レーザ光の光軸の調整を行った後に、前記計測部によって計測される光軸が、前記 増幅部が交換される前の光軸に近づくように前記第２方向調整部を制御する極端紫外光源システム。
  17. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    前記第２方向調整部は、前記増幅部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置され、
    前記計測部は、前記第２方向調整部から出射したレーザ光を直接入射する位置に配置される極端紫外光源システム。
  18. 請求項１０に記載の極端紫外光源システムであって、
    複数の前記増幅ユニットを備え、複数の前記増幅ユニットがレーザ光の伝送方向について直列に配置される極端紫外光源システム。
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