JP6769609B2 - 高さ寸法測定用のテーブル装置 - Google Patents

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Description

本発明は高さ寸法測定用のテーブル装置に関するものである。
被測定物の高さ寸法を測定する測定装置は、テーブル装置の平坦な上面に被測定物を載置し、その上面を検出器の接触式のプローブや非接触式のレーザープローブなどにより測定し、被測定物の高さ寸法を取得する。
被測定物の測定に先だって、検出器の感度較正のために、基準となるブロックゲージをテーブル装置の上面に載置して基準値を得る。ブロックゲージは高さの異なる複数種類のものを順次テーブル装置の上面に載置してそれぞれ基準値を取得し、それら複数の基準値を用いて検出器の感度較正を行う。
ブロックゲージをテーブル装置の上面に載置する際、ブロックゲージの下面をテーブル装置の上面に完全に密接させないと正確な基準値が得られない。そのため、ブロックゲージの下面にキズがあったりゴミが付着した場合には、それがわずかなものであっても、それが原因となり正確な測定が行えない。
わずかなキズやゴミは目視では確認しにくく、熟練者でないとブロックゲージの下面が完全にテーブル装置の上面に密接しているかどうか判断できない(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−72351号公報
しかしながら、このような関連技術にあっては、熟練者しかブロックゲージの正確な測定が行えないため、測定者が限られ測定作業の効率が悪かった。
本発明はこのような関連技術に着目してなされたものであり、熟練者でなくてもブロックゲージを正確に測定することができる高さ寸法測定用のテーブル装置を提供することを目的としている。
本発明の第1の技術的側面によれば、平坦な上面を有するテーブルと、互いに平行で平坦な上面及び下面を有し、テーブルの上面に密接状態で載置される透明な円板状のオプティカルフラットとを備え、オプティカルフラットの上面に、被測定物の高さ寸法測定用の基準値を予め取得するためのブロックゲージが載置されるテーブル装置であって、前記オプティカルフラットで覆われたテーブル上面の一部に所定深さの凹部を形成し、該凹部内に上面を平坦な反射面としたミラーをオプティカルフラットの下面と非接触状態となるように設置したことを特徴とする。
本発明の第2の技術的側面によれば、オプティカルフラットの上面の周縁部を付勢手段により上からテーブルの上面に対して押しつけた状態にしたことを特徴とする。
本発明の第3の技術的側面によれば、凹部がオプティカルフラットよりも若干小径の円形で、凹部底面の略全面に円形のミラーが設けられていることを特徴とする。
本発明の第1の技術的側面によれば、テーブルの凹部にミラーが設置されているため、オプティカルフラットの上面にブロックゲージを置いた際に、ブロックゲージの下面をミラーを介して目視することができる。ブロックゲージの下面がオプティカルフラットの上面に対して完全に密接している場合は、ブロックゲージの下面に干渉縞が表れ、わずかなゴミ等の原因により完全に密接していない場合には干渉縞が表れない。そのため熟練者でなくてもその干渉縞の有無をミラーを介して目視で確認することにより、ブロックゲージが正しく密接状態で置かれているかどうかを判断できる。ブロックゲージの密接状態を目視で確認できさえすれば、熟練者でなくてもブロックゲージの下面を清浄等しながら、正しく密接するまでブロックゲージを置き直して正確な測定を行うことができる。尚、凹部内に設置されたミラーの反射面はオプティカルフラットの下面と接触していないため、オプティカルフラットとミラーとの間で干渉縞が生じて、測定者に干渉縞を誤認させるおそれはない。
本発明の第2の技術的側面によれば、オプティカルフラットの上面の周縁部を付勢手段により上からテーブルの上面に押し付けるため、テーブル上におけるオプティカルフラットの状態が安定し、ブロックゲージ及びその後の被測定物の正確な測定を行うことができる。
本発明の第3の技術的側面によれば、凹部がオプティカルフラットよりも若干小径の円形で、その凹部底面の略全面にミラーが存在するため、ミラーの面積を広く確保しやすく、オプティカルフラット上に載置されたブロックゲージの下面を目視で確認しやすい。
テーブル装置を示す平面図。 テーブル装置を示す断面図。 ブロックゲージの下面の干渉縞なし(A)と干渉縞あり(B)をそれぞれ示す図。
図1〜図3は本発明の好適な実施形態を示す図である。
テーブル1は鉄製で図示せぬ防振台の上に載置されている。テーブル1の上面は水平で平坦であり、その中心にオプティカルフラット2が載置されている。オプティカルフラット2は透明な合成石英で形成された円板形状で、その上面と下面は互いに平行で面精度の高い平坦面となっている。
テーブル1の上面には、オプティカルフラット2の周囲の等角三方位置にそれぞれネジ孔3が形成されている。オプティカルフラット2には上から円形リングフレーム4が被せられている。円形リングフレーム4は、筒状本体の上端に内向きリング5を、下端に外向きリング6を一体形成した形状をしている。
外向きリング6にはテーブル1の3つのネジ孔3に対応する貫通孔7がそれぞれ形成されている。テーブル1のネジ孔3には外向きリング6の貫通孔7を介して押さえネジ8が上から螺合される。押さえネジ8の頭部と、外向きリング6との間には圧縮バネ9が設けられており、該圧縮バネ9のバネ力により外向きリング6を下向きに付勢している。従って円形リングフレーム4全体がバネ力により下向きに付勢されている。
内向きリング5の下面にはゴム等の弾性部材10が設けられており、この弾性部材10を介して、円形リングフレーム4全体に作用している下向きの付勢力をオプティカルフラット2の周縁部に伝えている。結果としてオプティカルフラット2が圧縮バネ9のバネ力によりテーブル1の上面に押圧された状態となり、オプティカルフラット2の下面はテーブル1の上面に密接して安定し、オプティカルフラット2の上面はテーブル1の上面と平行になる。
オプティカルフラット2で覆われたテーブル1上面には、オプティカルフラット2と同心円形状の凹部11が形成されている。凹部11はオプティカルフラット2よりも若干小径で所定の深さを有し、その底面は平坦であるが、テーブル1の上面ほどの水平度及び平面度は必要ない。
この凹部11の内部には凹部11の内径に相応する外径を有する円形のミラー12が設けられている。ミラー12は上面を反射面とし、その下面は凹部11の底面に接し、凹部11の底面の全面がミラー12により覆われている。ミラー12の上面とオプティカルフラット2の下面との間には僅かな隙間が確保され、両者は接していない。
本実施形態のテーブル装置は以上のような構造で、被測定物及びブロックゲージ13はオプティカルフラット2の上面に載置されて、その高さ寸法が測定される。すなわち測定対象である被測定物(図示せず)や、それに先だって基準値を得るためのブロックゲージ13は、オプティカルフラット2の上面に立てた状態で載置され、その上面が検出器14により測定される。
この実施形態では、検出器14から照射されるレーザープローブLによるオートフォーカスをブロックゲージ13等の上面にかけることにより高さ寸法を測定する非接触式の測定方法を例にしている。検出器14は非接触式に限定されず、プローブをブロックゲージ13等の上面に接触させる接触式であっても良い。
ブロックゲージ13は基準値を得るために、高さの異なる複数のものを順番にオプティカルフラット2の上面に載置する必要がある。しかも、ブロックゲージ13の下面をきちんとオプティカルフラット2の上面に密接させる必要がある。
この実施形態のテーブル装置では、テーブル1の凹部11にミラー12が設置されているため、オプティカルフラット2の上面にブロックゲージ13を置いた際に、ブロックゲージ13の下面をミラー12を介して目視することができる。ブロックゲージ13の下面がオプティカルフラット2の上面に対して完全に密接している場合は、ブロックゲージ13の下面に干渉縞Sが表れ[図3のB参照]、わずかなゴミ等の原因で完全に密接していない場合には干渉縞Sが表れない[図3のA参照]。
そのため熟練者でなくてもその干渉縞Sの有無をミラー12を介して目視により確認することにより、ブロックゲージ13が正しく密接状態で置かれているかどうか判断できる。ブロックゲージ13の密接状態を目視で確認できさえすれば、熟練者でなくてもブロックゲージ13の下面を清浄等しながら、正しく密接するまでブロックゲージ13を置き直して正確な測定を行うことができる。
尚、凹部11内に設置されたミラー12の反射面はオプティカルフラット2の下面と接触していないため、オプティカルフラット2とミラー12との間で干渉縞が生じて、測定者に干渉縞を誤認させるおそれはない。
また凹部11がオプティカルフラット2よりも若干小径の円形で、その凹部11底面の略全面にミラー12が存在するため、ミラー12の面積を広く確保しやすく、オプティカルフラット2上に載置されたブロックゲージ13の下面を目視で確認しやすい。
1 テーブル
2 オプティカルフラット
4 円形リングフレーム(付勢手段)
8 押さえネジ(付勢手段)
9 圧縮バネ(付勢手段)
11 凹部
12 ミラー
13 ブロックゲージ
14 検出器
S 干渉縞

Claims (3)

  1. 平坦な上面を有するテーブルと、
    互いに平行で平坦な上面及び下面を有し、テーブルの上面に密接状態で載置される透明な円板状のオプティカルフラットとを備え、
    オプティカルフラットの上面に、被測定物の高さ寸法測定用の基準値を予め取得するためのブロックゲージが載置されるテーブル装置であって、
    前記オプティカルフラットで覆われたテーブル上面の一部に所定深さの凹部を形成し、該凹部内に上面を平坦な反射面としたミラーをオプティカルフラットの下面と非接触状態となるように設置したことを特徴とする高さ寸法測定用のテーブル装置。
  2. オプティカルフラットの上面の周縁部を付勢手段により上からテーブルの上面に対して押しつけた状態にしたことを特徴とする請求項1記載の高さ寸法測定用のテーブル装置。
  3. 凹部がオプティカルフラットよりも若干小径の円形で、凹部底面の略全面に円形のミラーが設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の高さ寸法測定用のテーブル装置。
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