JP6734199B2 - 射出成形のための制御方法 - Google Patents

Description

本発明は、プラスチック材料の射出成形の分野に、特に射出成形において使用可能な制御方法に関する。

プラスチックの射出成形は多段階プロセスである。そのようなプロセスはよく知られている。多くの場合、プラスチック材料は顆粒の形態で供給される。あるコンセプトによれば、顆粒のバッチは、最終製品の組成に対応する組成を有する個々の顆粒を含むことができる。別のコンセプトによれば、バッチは、顆粒のバッチ全体が最終製品の組成に対応する組成を有するように、さまざまなタイプの異なる組成の顆粒を含むことができる。

顆粒は、通常は連続的に動作する押し出し機スクリューを用いて、その中で顆粒が加工される押し出し機に供給される。押し出しスクリューは、増大した量の摩擦仕事を顆粒に誘起し、捕えられたガスが放出されることを可能とするために変化する深さまたはピッチ（または両方）を有する搬送スクリューと比較されることがある。押し出し機の設計はそれ自体が学問であり、詳細な説明を提供することは本明細書の範囲外である。

押し出しプロセスの結果は溶融物であり、この溶融物は、次いで、連続的に動作する押し出し機と間欠的に動作する射出デバイスとの間のバッファとして作用するアキュムレーターに供給される。射出デバイスは溶融物を型キャビティ内に射出し、そして溶融物は型キャビティ内で固化するか凝固する。射出デバイスは、結果的に、それが１ストロークでキャビティに溶融物を射出し、そしてアキュムレーターを介して押し出し機から新たな溶融物を受け取る周期的あるいは間欠的動作を有する。

この目的のため、本発明は、プラスチック射出成形の動特性の改善された制御を可能にする射出成形システムのための制御方法に関する。

第１の態様によれば、本開示は、射出デバイスへと間欠的に材料を分配する、アキュムレーターへと連続的に材料を供給する、押し出し機を有する射出成形システムのための制御方法に関するものであり、当該制御方法は、それぞれ高速度であるいは低速度で押し出し機を駆動するように設定され、高速度および低速度が押し出し機の速度インターバルを規定する。当該方法は、アキュムレーターに関する実際の位置変化の値（ΔＰＯＳ_ＡＣＴ）を取得し、実際の位置変化の値（ΔＰＯＳ_ＡＣＴ）を位置変化に関する予測された値と比較し、続いて、この比較の結果に基づいて押し出し機の速度を調整することを備える。

一つ以上の実施形態では、低速度または高速度は、あるインクレメントだけ上方または下方にシフトされるかオフセットされ、これによって新たな低速度または新たな高速度が生み出される。関連する実施形態では、低速度および高速度の両方が同じ方向にシフトされ、これによって、あるインクレメントだけ全押し出し機速度インターバルがオフセットされる。

一つ以上の実施形態では、間欠様式で、暗示的には値が比較可能であるように各射出サイクルにおいて同時に、実際の位置の変化に関する値を取得することが好ましいであろう。そうした実際の位置の変化は、この場合、アキュムレーターの位置の隣接測定の値を比較することによって取得することができる。

測定は、必ずしも全ての射出サイクルで実行される必要はなく、その代わりに、全ての第２、第３、第４サイクル等で実施されてもよい。

一つ以上の実施形態によれば、特定の時間は、射出デバイスが充填されている時と、例えばシステム内の圧力変動があまり重要ではない時間である射出開始時との間のインターバルにおいて選択される。

上方または下方に速度インターバルを単にシフト（あるいはオフセット）する代わりに、インターバルの実際の幅を所定のアキュムレーターサイクル時間を達成するように調整することができる。これについては、詳細な説明において、より完全に説明する。

別のコンセプトによれば、本開示は、開示された実施形態の一つ以上に基づく方法を実行するように構成された射出成形システムのための制御ユニットに関する。

さらに別の態様によれば、本開示は、開示された実施形態の一つ以上に基づく方法を実行するように構成された制御ユニットを含む射出成形システムに関する。

射出成形システムの概略図である。 時間の関数としてアキュムレーター内の容積を模式的に示すグラフである。 時間の関数としてアキュムレーター内の容積を模式的に示すグラフである。 時間の関数としてアキュムレーター内の容積を模式的に示すグラフである。 一実施形態による方法を示すフロー図である。

図１は射出成形システムを示している。符号１００は、顆粒が供給されると共にアキュムレーター１０２に溶融物の連続流を供給する押し出し機を示しており、アキュムレーターは、今度は、射出シリンダー１０６を有するインジェクター１０４への供給を行う。インジェクターは型１０８内に溶融物を射出する。射出シリンダー１０６の容積は型１０８を満たすために必要な容積に適合させられる。したがって、射出シリンダーは、射出ストロークにおいて完全に空にされ、それは、その後、アキュムレーター１０２から補充される。射出成形システムのコンポーネントの全ては大まかに描かれおり、実際のコンポーネントの設計と共通性はほとんどない。射出シリンダー１０６の容積はアキュムレーター１０２の容積よりも、もちろん小さく、そしてアキュムレーター１０２が連続的に押し出し機１００によって供給されるとき、射出シリンダーの仕事は、アキュムレーター内に存在する溶融物の体積を示すグラフにおいて、単にリップル（脈動）を引き起こすに過ぎない。

押し出し機への顆粒１１０の供給は、通常、プラスチック顆粒が押し出し機内に落下するように重力によって実施されてもよい。押し出し機スクリュー１１２の駆動のために、通常は周波数制御されるＡＣモーターが使用されてもよいが、サーボモータあるいは油圧モーター駆動押し出し機といった、さらにその他の代替物が存在する。アキュムレーターは、空気圧シリンダー１１６によって、あるいはその他の手段によって駆動されてもよい。実際のインジェクターは、好適には、油圧駆動シリンダー１１８によって駆動されてもよいが、類似の性能を有する代替駆動手段が使用されてもよい。押し出し機スクリューの製造は、それ自体が技術であり、各スクリューは考慮されるべき個々の性能を有していてもよい。

定常状態動作では、システムの挙動は非常に予測可能であり、このような条件下では、インジェクターが射出ストロークに存在しながら、すなわちアキュムレーターが射出シリンダー１０６のそれの約２倍である容積を有することが可能でありながら、アキュムレーターがインジェクターの容積および押し出し機から送り出されるプラスチックの量を保持できることが十分であろう。「定常状態動作」とは、インジェクターが、システムの動作を非常に予測可能とする良好に規定された一定の速度で型内にプラスチックを射出することを意味する。だが、実際の場合、インジェクターの速度には変動が存在し、最も劇的なものは生産が急停止した場合、あるいは一連の包装容器に適用される技術のコンテクストにおいては、失敗した容器が射出間の予期せぬ時間間隔を生じる場合である。これが起こる場合、アキュムレーターが一定のレベルまで充填されたとき押し出し機１００は動作を停止するが、たとえ押し出し機が停止しても、押し出し機からのプラスチックの供給は、より長く、しばらくの間継続される。この理由およびその他の理由で、アキュムレーターの容積は射出シリンダーの容積よりもかなり大きい。この結果、定常状態動作においては、アキュムレーターはフルストロークの非常に小さな部分のみを、例えばその約４分の１を使用し、インジェクターの動作および押し出し機からの供給の結果としてその位置の周囲で僅かに振動しているだけとなる。だが、このような動作は、それがアキュムレーター内のプラスチックの品質に影響を与える可能性があるので、例えば溶融物の一部が長時間にわたってアキュムレーター内に残り、プラスチックの炭化および劣化を生じるので望ましくない。炭化し劣化した残留物は、それ自体、製品に品質の問題を引き起こすことがあり、それによってまた、実際にストロークの残りの部分を利用する必要があるときに炭化したプラスチックがアキュムレーターの動作を妨げることがある。

したがって、アキュムレーターがその最大ストロークの大部分で作動することが許容されるならば有利である。なぜなら、それはプラスチック溶融物における望ましくない現象のリスクを低減するからである。このため、押し出し機１００の速度は、例えば高速度および低速度を有する押し出し機によって僅かに変化させることができる。高速度で、押し出し機１００は、インジェクター１０４が型内に溶融物を射出する速度よりも速い速度で、アキュムレーター１０２を充填する。所望の結果は、アキュムレーター１０２内で溶融したプラスチックの量が、それが最大位置、例えばその最大容量の５０〜６０％に達するまで徐々に増大することである。最大容量の例えば９０％まで最大位置を設定しない理由は、予期しない停止のための余裕を常に持つためである。位置はセンサによって測定することができる（図１における表示を参照）。その時点で、押し出し機１００は低速度に切り替えてもよい。低速度で動作するとき、押し出し機１００は、インジェクター１０４が型に溶融物を射出する速度よりも低い速度でアキュムレーター１０２に供給する。低速度で望まれる結果は、アキュムレーター内のプラスチックの量が、アキュムレーターが最小位置、例えばセンサによって測定された、その容量の２０％に到達するまで徐々に減少させられることである（図１の表示を参照）。高速度および低速度が経験的に推定されている特定の押し出し機のために単一のプラスチック化合物を扱う場合には、高速度および低速度を有する２値制御システムの使用は十分であろう。

上記制御アルゴリズムが正常に作動しているとき、図２Ａに示すようなグラフは、時間の関数としてのアキュムレーター位置をプロットするときの結果となるべきである。経験的に推定される定常状態速度から始まって、低速度および高速度は定常状態速度から等距離に配置される。グラフにおいて、点線はアキュムレーターの平均位置（溶融物によって占有されるアキュムレーターの容積）を示し、こうして形成されるジグザグ曲線はアキュムレーターサイクルと呼ぶことができるものを示している。重なり合う振動曲線は、アキュムレーターからインジェクターへの溶融物の間欠的移動、すなわちインジェクターサイクルによって引き起こされる位置の小規模の変動を示している。図２Ａのグラフにおいて、第１のセグメントは、高速度で動作し、したがってアキュムレーターを充填する押し出し機に対応し、そして第２のセグメントにおいて、速度は低速度にシフトされ、アキュムレーターは空にされ始める。その後、挙動それ自体が周期的に繰り返される。サイクル時間はシステム間で変更可能であるが、本願に関して、約１分のサイクル時間がアキュムレーターのための適用可能である。実用的な目的のために、「半アキュムレーターサイクル」および類似のパラメータが、アキュムレーターのための二つの転換点間の（時間あるいは空間における）距離に関連してもよい。図２Ｂのグラフから、半アキュムレーターサイクルの広がりは変化し得ることは明白であるが、上側転換点とそれに続く下側転換点との間の半サイクルは、下側転換点とそれに続く上側転換点との間の半サイクルまでの同様の広がりであり、この二つが完全なアキュムレーターサイクルを形成することが好ましいであろう。

状況が変化する場合、例えば新しいプラスチック化合物が使用されるか、またはプラスチック顆粒の性質が変化する場合、高速度および低速度は、同じ間隔をカバーするが、最適な速度インターバルに関してオフセットされるであろう。換言すれば、定常状態速度がシフトされる。その理由は、プラスチックは、それが密度、粘度、温度等に関して異なる特性を有するので、押し出し機の内部で異なる挙動を示すからである。だが、いかなる理由であれ、可能性のある効果は図２Ｂおよび図２Ｃに示されている。図２Ｂにおいて、速度インターバルは下方にシフトされており、高速度が定常状態速度に過度に接近させられ、かつ、低速度が定常状態速度から過度に遠く離される。図２Ｃにおいて、グラフは、速度が代わりに上方にシフトされた状況を示している。傾きの大きな違いは、低速度状況に比べた場合の高速度状況での大きな圧力差を示しており、圧力差は射出されるプラスチックの量に差を生じるので外観が望ましくない。さらに悪い事例は、速度インターバルが定常状態速度を含みさえしない場合であろう。そうした状況では、アキュムレーターは最大または最小位置を通過するであろうが、これは機械を停止させるか、あるいは少なくとも押し出し機を短時間だけ停止させるであろう。機械の停止は生産のロスを生じ、押し出し機の停止は廃棄物を増加させる不良品を発生させることがある。

本発明においては制御方法が提供される。この制御方法は、それが有害な影響を招くことなく、上記変化が生じることを可能とする。この制御方法では、アキュムレーター位置は、毎射出サイクル後、毎２回の射出サイクル後、毎３回の射出サイクル後の特定の時点で、あるいは適切であると判明した特定の時点で測定される。射出サイクルはインジェクターの周期的動作に関連付けられ、そして一つの完全なサイクルは３６０°と表すことができる。完全な射出サイクルは自動システムによって監視され、したがって、射出サイクルのいかなる事例においてもアキュムレーター位置を抽出することができる。射出サイクルは、曲線上の小さな振動として図２Ａ〜Ｃに認識できる。インジェクターの動作に注目すると、それは急速に溶融物を射出し、その後、それは補充される。充填された後、それは、射出を繰り返す前に１秒の何分の１かだけ待機する。アキュムレーター位置の信頼性の高い値を取得するための適切な時間はこの待機期間中であり、かつ、それは、この場合、先に規定したような「特定の時点」に対応するであろうことが判明している。だが、射出サイクル中のいかなる時点でも位置の値を取得することが可能であり、本発明は、そうした態様に限定されるものではない。

アキュムレーターに関する所望のサイクル時間（射出サイクルではないが、それが最大位置と最小位置との間を移動する長いアキュムレーターサイクル（これは上記の例では１分のオーダーであった））を知ることで、連続した測定の間に、どの程度、アキュムレーターの位置が変化すべきであるかを予測することができる。予測されたパラメータはΔＰＯＳ_ＰＲＥＤと呼ばれ、実際に測定される変化はΔＰＯＳ_ＡＣＴと呼ばれる。

本制御方法によれば、測定されるアキュムレーターの位置の変化は予測されるアキュムレーターの位置の変化と比較される。値が異なる場合、適切な処理が実行される。図３は、このような制御方法の一実施形態を示す。いくつかの代替例があるので、図３は、実際にいくつかの実施形態を示している。

ステップ３０２では、実際のアキュムレーター位置の読みはアキュムレーター位置の前の読みと比較され、差が計算され、アキュムレーター位置における生じた実際の変化ΔＰＯＳ_ＡＣＴはアキュムレーター位置における予測される変化ΔＰＯＳ_ＰＲＥＤと比較される。もちろん実際に比較を行う多くの方法が存在し、本発明を検討する当業者はこれを認識し、基本的な問題は実際の位置変化を予測されるかまたは所望の位置変化と比較することである。

本方法の残りの部分を説明した後、ステップ３０４に戻る。

ステップ３０８において、ΔＰＯＳ_ＡＣＴがΔＰＯＳ_ＰＲＥＤよりも小さいかあるいは大きいかが判定される。それが小さい場合、適切な処理がステップ３１０において実施される。ステップ３１０における適切な処理は、あるインクレメントだけ押し出し機速度を増加させることであってもよい。別の適切な処理は、低速度および高速度によって規定されるような全押し出し機速度インターバルを、あるインクレメントだけ上方にシフトさせることであってもよい。これら二つの処理は、直近の問題に対処すると共に同時により長い期間における変化を生み出すために一度に実施されてもよい。実際の位置変化が予測されるかまたは期待される位置変化よりも大きい場合、適切な処理がステップ３１２において実施される。ステップ３１２における適切な処理は、あるインクレメントだけ押し出し機速度を低下させること、あるインクレメントだけ全速度インターバルを下方にシフトすること、両方の変更を行うこと、あるいは何も処理を行わないことであってもよい。ステップ３１０およびステップ３１２の両方はステップ３０２に戻る。

ステップ３０４に戻ると、このステップでは、アキュムレーターが動作のそのインターバル内にあるか否かが判定される。超えてはならない最大位置が存在する。この最大位置は、下流側プロセス（射出成形）が停止したことによって押し出し機が停止した後の状況において、しばらくの間、押し出し機からの溶融物をアキュムレーターが受け取ることを可能とするように設定される。アキュムレーターが溶融物の乾燥を行うのを防止する最小位置もまた存在する。本開示の目的のために、実際の位置は関連性が低いが、実際の設定は低速度から高速度への、あるいはその逆のシフトを引き起こす。最大／最小位置とは別に停止位置もまた存在する。停止位置は、それぞれ最大および最小位置によって規定されたインターバルの外側に存在する。アキュムレーターがこれらの位置に到達するならば、それはより重大な問題が存在することの指標であり、そして事象の特性に依存して、システムの部分はシャットダウンされる。最大停止位置に到達した場合、押し出し機は停止し、そして最小位置に到達した場合、下流側でかつアキュムレーターを含むプロセスは停止させられてもよい。

アキュムレーター位置が、最大位置および最小位置によって規定されるようなその動作のインターバルの外にある場合、方法は適切な処理のためのステップ３０６に入る。ステップ３０６における適切な処理は、状況に応じて、すなわち最大位置または最小位置に到達したかどうかに依存して、低から高へと、または高から低へと押し出し機速度をシフトさせることであってもよい。速度をシフトさせるとき（これは転換点と呼ぶことができる時点においてなされる）、シフトは、好ましくは、より高い／より低い速度によって規定される速度インターバルの終わりから、より低い／より高い速度によって規定されるインターバルの別な終わりへと２値的に切り替えられる。転換点まで速度およびまたは全インターバルは本制御方法によって規制され、仮定は、転換点に到達するときの速度はアキュムレーターのための最良の動作パターンを得るための最適速度に対応するということである。この速度は、その後、インターバルの別の終わりにおいて別な最適速度へとシフトされる。そうでない場合、本制御方法は相応に速度を調整する。

先の実施形態は、インターバルの広がりが知られているかまたは予め設定される押し出し機速度インターバルのための位置の最適化を説明している。これは、多くの場合、インターバルが経験的データによって設定されるならば十分であろう。一つのさらなる実施形態では、速度インターバルを最適化するステップが含まれていてもよい。このステップにおいては、転換点における実際の速度が入力として使用され、例えばアキュムレーター位置に関する実際のサイクル時間に対して相関させられてもよい。別の実施形態では、入力のみがアキュムレーター位置に関する実際のサイクル時間であり、更に他の実施形態では半サイクルのための時間が利用されてもよい。サイクル時間が所望のサイクル時間よりも短い場合、速度インターバルが、あるインクレメントだけ減少させられてもよく、これは低下させられた高速度および上昇させられた低速度を生じ、そしてサイクル時間が所望のサイクル時間よりも長い場合、速度インターバルはあるインクレメントだけ増加させられてもよい。これらおよび類似の実施形態によれば、転換点での速度シフトは、いったん正しい速度を見つけることで、さらに成功するであろう。

さらに別の実施形態では、制御方法は基本レベルまで簡略化されるが、これは、依然として、ここまで開示された実施形態に類似している。この実施形態においては、速度インターバルの幅は予め規定され、そして押し出し機およびシステムの残りの部分は、本明細書に開示されるような実施形態を用いて、特定の時間の間、例えば１０分間、制御される。特定の時間の後、平均押し出し機速度が算出され、そして速度インターバルはこの平均押し出し機速度の周りでセンタリングされる。続いて、精巧な制御方法が非作動状態とされ、そして、それは、特定の期間中に規定されるように、低速度および高速度間の切り替えへと集結される。関連する実施形態において、いずれかまたは全ての実施形態に適用することができる動作モードを説明すると、制御方法は、特定の時間後（例えば５分、１０分、または適切な制限された時間）、その後の制御方法のためのベースライン速度として平均押し出し機速度を使用する。実用的な事例では、これは、特定の時間後、（平均速度からの０オフセットにおけるように）平均押し出し機速度が０に設定されることを意味し得る。高速度は、その後、＋４（平均速度よりも４単位上、例えば駆動周波数よりも４Ｈｚ上）に設定することができ、そして低速度は−４（平均速度よりも４単位下）に設定することができる。範囲制限が予め設定されてもよく、例えば速度は平均速度から＋/−８単位よりも多くは変化しなくてもよい。範囲制限は、制御アルゴリズムをより速く正確な平均速度に到達させる目的を有し、かつ、制御アルゴリズムがその実際の制御を越えた事象まで望ましくない方法で反応するリスクを低減する、全ての実施形態において使用することができる別個の機能であってもよい。簡単な例で、それを説明する。アキュムレーターの上流側で顆粒の流れに詰まりが存在する場合、アルゴリズムは、速度を１インクレメントずつ高めるために押し出し機に指示を出す。速度範囲が採用されなかった場合（または別の制限パラメーター）、それはそうすることを継続するであろうし、結果的に、それは非常に高い速度に達する可能性がある。いったん詰まりが解除されると（あるいは理由が押し出し機上流での顆粒の不足である場合に誰かがより多くの顆粒を追加すると）、速度は好ましい範囲から大きく外れるであろう。

より一般的な態様に戻るが、速度がシフトされるとき、別な好適な処理は、それが再始動される前に、規定された数の射出サイクルのための制御ループを無効にすることであってもよい。これは、新たな状況が安定化することを可能とするために実施され、それは基本的に転換点においてのみ適用される。

その実施形態に係る開示された制御方法を使用した場合、それは、本質的に、アキュムレーターが所定の周期的様式で動作の所定のインターバルにわたって働かされるように、押し出し機の高速度と押し出し機の低速度との間で押し出し機の定常状態速度をセンタリングする。制御方法は、理由に関係なく、アキュムレーターへの押し出し機の供給挙動の変化を考慮する。これは、システム内のプラスチックの圧力がより安定し、これによって常にインジェクターによって射出されるべきプラスチックの規定された量が、システム性能の利益のために、より正確になる、という効果を有する。良好に機能するシステムにおいて、挙動の変化は押し出し機に供給されるプラスチック化合物の変化の影響であるかもしれず、これは、開示された制御方法によって自動的に対処される。コンポーネントの通常の摩耗はまたプラスチック供給に影響を与える可能性があり、これはまた、開示された制御方法によって対処される。本開示に係る制御方法の使用によって、押し出し機サイクルにおける転換点が押し出し機サイクルの半分から（上または下に）２０％未満だけ変動することが、すなわち転換点が完全な押し出し機サイクルの３０〜７０％のインターバルで生じることがもたらされてもよく、それはまた１５％、１０％、５％または僅か１〜２％だけ変化してもよい。

押し出し機スクリューはＡＣモーターによって駆動されてもよい。このような場合、押し出し機速度のインクレメント変化は、１Ｈｚのインクレメントだけ駆動力を変化させることによって実施されてもよい。別の方法で制御することができる別なタイプの駆動システムが明らかに存在する。

本発明に係る方法およびシステムは多くの射出成形用途のために使用することができ、一例は包装容器に関連して使用されるコンポーネントの射出成形である。包装容器全体が射出成形されてもよく（例えばプラスチックボトル）、包装容器の一部分が射出成形されてもよく（例えば「カートンボトル」のプラスチックトップ）、あるいは包装容器の一部が射出成形されてもよい（例えば開封デバイス）。「カートンボトル」タイプの包装容器に関して、二つの例がTetra Top（登録商標）包装容器および本願出願人によって提供されるTetra Evero Aseptic（登録商標）包装容器に存在する。これらの包装容器に関して、開封デバイスを備えるかあるいは備えていないプラスチックトップが包装ラミネートで作られたスリーブに設けられる。包装ラミネートは、包装容器に剛性を提供するためのカートンといった紙材料またはその他の繊維材料のコアと、求められるバリア特性を提供する、それに対して積層された、例えばポリアミド、ポリエチレン、アルミニウム等の付加的な多数の層とを有していてもよい。包装容器のために使用される成形プラスチックコンポーネントの共通の特徴は、毎年数十億個のパッケージが製造されるので、それらは（僅かなプラスチック材料しか好ましくは使用されるべきではないため）可能な限り最小のコストで性能を提供すべきであるということである。包装容器が食料品を含む場合、成形されたプラスチックコンポーネントの性能は特に繊細であろう。なぜなら、性能の欠陥が収容された製品に否定的な影響を与える可能性があるからである。射出成形はまた高速でなければならず、サイクル速度は毎時約５０００〜１５０００包装容器であり、そして成形プラスチックコンポーネントは短い冷却時間（および少ないプラスチック消費量）を可能とするために薄手であろう。概して、食品産業において実施される射出成形に関して、必要性によって誤差の非常に僅かな容認が存在し、一方、同時に、上首尾な結果のためのマージは、性能、コスト、環境への影響等といった問題を時折否定することによって制限される。このコンテクストにおいて、本出願は全ての問題に対する解決策を開示しないが、依然として、なされる貢献は、射出成形プロセスのさらなる微調整を可能にすると共に安定的かつ信頼性の高い結果の提供における有意な改善を構成する。

自動化の観点から、本明細書に開示されるような制御方法を可能にするいくつかの方法が存在するであろう。過度に詳細にではなく、単なる実施例によって、アキュムレーターはアナログ位置センサを備えていてもよく、押し出し機は周波数インバータあるいは速度サーボによって駆動することができる。射出間の機械サイクル時間は、アキュムレーター位置が、毎回、機械サイクル内の同じ時間に登録されることが可能であるように、好ましくは一定であってもよい。そのような制御アルゴリズムは、多かれ少なかれ、ＩＥＣ６１１３１−３プログラミング言語のいずれかで作成されてもよい。アルゴリズムのサンプル時間は、何の問題もなく、５０ｍｓほどの長さにすることができる。実際の状況において制御ユニット内で本制御方法を実現するためのハードウェアは特定の環境のために最適化することができるが、いずれの場合でも、それは容易に利用可能であるべきである。

１００ 押し出し機
１０２ アキュムレーター
１０４ インジェクター
１０６ 射出シリンダー
１０８ 型
１１０ 顆粒
１１２ 押し出し機スクリュー
１１６ 空気圧シリンダー
１１８ 油圧駆動シリンダー

Claims (8)

1. 射出デバイスへと間欠的に材料を配分する、アキュムレーターへと連続的に材料を供給する、押し出し機を有する射出成形システムのための制御方法であって、前記制御方法は、それぞれ高速度または低速度で前記押し出し機を駆動するように設定され、
   前記方法は、
   前記アキュムレーターに関する実際の位置的変化に関する値（ΔＰＯＳＡＣＴ）を取得することと、
   前記実際の位置的変化に関する値（ΔＰＯＳＡＣＴ）を、前記位置的変化に関する予測値（ΔＰＯＳＰＲＥＤ）と比較することと、
   前記比較の結果に基づいて前記押し出し機の速度を調整することと、
   を含む方法。
2. 前記低速度あるいは前記高速度を、あるインクレメントだけシフトし、これによって新しい低速度あるいは新しい高速度を生成することを含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記実際の位置的変化に関する値を間欠的に取得することを含む、請求項１または２に記載の方法。
4. 前記取得は、第ｎ番目毎、射出サイクルの間の特定の時間において実施され、ここでｎは、１と、半アキュムレーターサイクル中の射出サイクル数との間の整数である、請求項３に記載の方法。
5. 前記特定の時間は、充填されている前記射出デバイスと射出の開始時との間のインターバルに見出される、請求項４に記載の方法。
6. 前記アキュムレーターの実際の位置に関する値を取得し、前記アキュムレーターの前記実際の位置が所定の位置的インターバルの外にある場合に、前記低速度を前記高速度へとあるいはその逆に選択的にシフトすることを含む、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の方法。
7. 射出成形システムのための制御ユニットであって、請求項１ないし請求項６のいずれか1項に記載の方法を実行するよう構成された制御ユニット。
8. 請求項７に記載の制御ユニットを含む射出成形システム。

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