JP6733712B2 - Optical filter device, optical module, and electronic device - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器に関する。 The present invention relates to an optical filter device, an optical module, and electronic equipment.

従来、一対の基板の互いに対向する面に、それぞれ反射膜を所定のギャップを介して対向配置した干渉フィルターを筐体内に収納した光学フィルターデバイスが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の光学フィルターデバイスでは、筐体は、干渉フィルターが固定部材で固定されるベース基板を備えている。干渉フィルターの基板は、ベース基板に対向する対向面の一箇所で、当該ベース基板に対して接着固定されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is known an optical filter device in which an interference filter, in which reflective films are arranged to face each other with a predetermined gap, is housed in a housing on the surfaces of a pair of substrates facing each other (for example, see Patent Document 1).
In the optical filter device described in Patent Document 1, the housing includes a base substrate to which the interference filter is fixed with a fixing member. The substrate of the interference filter is bonded and fixed to the base substrate at one location on the facing surface that faces the base substrate.

この光学フィルターデバイスでは、例えば接着剤を用いて接着固定した場合でも、基板の対向面の略全面を接着した構成と比べて、接着剤から受ける応力を小さくすることができる。すなわち、基板の対向面の接着面積が小さいほど、硬化時に収縮する接着剤からの引張応力や、基板とベース基板との熱膨張係数差により生じる応力の影響を抑制することができる。 In this optical filter device, the stress received from the adhesive can be reduced as compared with the configuration in which substantially the entire opposing surface of the substrate is adhered, even when the optical filter device is adhered and fixed using an adhesive. That is, the smaller the adhesive area of the facing surface of the substrate is, the more the influence of the tensile stress from the adhesive that shrinks during curing and the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the base substrate can be suppressed.

特開2013−167701号公報JP, 2013-167701, A

しかしながら、干渉フィルターは、ベース基板と接触した状態で、当該ベース基板に一箇所で固定されているため、光学フィルターデバイスに外乱等による振動が加わった際に、ベース基板を介して当該干渉フィルターに振動が伝達され、干渉フィルターの分解能が低下するおそれがある。例えば、振動が伝達された干渉フィルターが固定箇所を中心として振動することで、反射膜間のギャップ寸法が変動する場合がある。また、干渉フィルターが振動することで基板に歪みが生じ、反射面に沿った面内における、上記ギャップ寸法の均一性が低下する場合がある。このように、ギャップ寸法が変動したり、面内均一性が低下したりすると、干渉フィルターの分解能が低下する
という課題がある。
However, since the interference filter is fixed to the base substrate at one place while being in contact with the base substrate, when vibration due to disturbance or the like is applied to the optical filter device, it interferes with the interference filter through the base substrate. Vibration may be transmitted and the resolution of the interference filter may be reduced. For example, the interference filter to which the vibration is transmitted vibrates around a fixed portion, which may change the gap size between the reflection films. Further, the vibration of the interference filter may distort the substrate, which may reduce the uniformity of the gap size in the plane along the reflecting surface. As described above, if the gap size changes or the in-plane uniformity decreases, there is a problem that the resolution of the interference filter decreases.

本発明の目的は、干渉フィルターの分解能の低下を抑制できる光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供することである。 An object of the present invention is to provide an optical filter device, an optical module, and an electronic device that can suppress a decrease in resolution of an interference filter.

本発明の一適用例に係る光学フィルターデバイスは、第一反射膜が設けられた第一基板と、第二反射膜が設けられた第二基板とが対向して配置されている干渉フィルターと、前記第一基板が固定されるベース部と、前記第一基板の側面を前記ベース部に固定する固定部材と、を備え、前記第二基板と、前記ベース部とが間隙を隔てて配置されていることを特徴とすることを特徴とする。 An optical filter device according to an application example of the present invention is an interference filter in which a first substrate provided with a first reflective film and a second substrate provided with a second reflective film are arranged to face each other , A base portion to which the first substrate is fixed; and a fixing member that fixes a side surface of the first substrate to the base portion, and the second substrate and the base portion are arranged with a gap therebetween. It is characterized by being present.

本発明の一適用例に係る光学フィルターデバイスは、干渉フィルターの第一基板の一箇所を、固定部材でベース部に固定する。そして、第二基板と、ベース部とが間隙を介して配置されている。
ここで、第一基板を一箇所で固定した場合、例えば、外乱の影響により、干渉フィルターの第一基板が振動する場合がある。具体的には、固定部材の固定位置を固定端とし、固定端から最も離れた位置(最遠部)を振幅が最大の自由端とする、基板厚み方向の固有振動が例示できる。
本適用例では、第一基板が固定部材により一箇所で固定されているものの、第二基板がベース部と接触していないので、外乱による振動がベース部から第一基板に伝達することを抑制できる。このため、外乱の影響による上記固有振動等の振動の発生を抑制できる。したがって、上記振動による基板の歪みを抑制でき、第一基板や第二基板の歪みによる、干渉フィルターの分解能の低下を抑制できる。
In the optical filter device according to the application example of the present invention, one portion of the first substrate of the interference filter is fixed to the base portion by the fixing member. Then, the second substrate and the base portion are arranged with a gap therebetween.
Here, when the first substrate is fixed at one place, for example, the first substrate of the interference filter may vibrate due to the influence of disturbance. Specifically, the natural vibration in the substrate thickness direction can be exemplified in which the fixed position of the fixing member is the fixed end, and the position farthest from the fixed end (the farthest part) is the free end with the maximum amplitude.
In this application example, the first substrate is fixed at one place by the fixing member, but the second substrate is not in contact with the base portion, so that vibration due to disturbance is prevented from being transmitted from the base portion to the first substrate. it can. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of vibration such as the above-mentioned natural vibration due to the influence of disturbance. Therefore, the distortion of the substrate due to the vibration can be suppressed, and the deterioration of the resolution of the interference filter due to the distortion of the first substrate and the second substrate can be suppressed.

本適用例の関連技術の光学フィルターデバイスにおいて、前記固定部材は、前記基板の厚み方向に沿った側面を固定していることが好ましい。
本適用例では、固定部材は、基板の厚み方向に沿った側面を一箇所で固定している。
通常、基板の厚み方向の寸法は、厚み方向と直交する平面方向の寸法よりも十分に小さい寸法となる。したがって、基板の厚み方向に対する剛性(撓みに対する耐性)は、平面方向に対する剛性よりも低い。このため、上述のように、側面の一箇所に固定部材を設けることにより、固定部材からの応力の方向を側面に沿った平面方向とすることができ、固定部材からの応力による基板の歪みを抑制できる。したがって、当該基板の歪みによる、干渉フィルターの分解能の低下を抑制できる。
In the optical filter device of the related art of this application example, it is preferable that the fixing member fixes a side surface along the thickness direction of the substrate.
In this application example, the fixing member fixes the side surface along the thickness direction of the substrate at one location.
Usually, the dimension of the substrate in the thickness direction is sufficiently smaller than the dimension in the plane direction orthogonal to the thickness direction. Therefore, the rigidity of the substrate in the thickness direction (resistance to bending) is lower than the rigidity in the plane direction. Therefore, as described above, by providing the fixing member at one place on the side surface, the direction of the stress from the fixing member can be made the plane direction along the side surface, and the distortion of the substrate due to the stress from the fixing member can be prevented. Can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress deterioration of the resolution of the interference filter due to the distortion of the substrate.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記固定部材は、前記側面の一辺に沿って設けられていることが好ましい。
本適用例では、側面の厚み方向に交差する一辺に沿って固定部材が設けられている。
このような構成では、例えば、側面の略全面に固定部材を設けることができ、固定部材の側面の一部を固定する場合と比べて、固定面積を大きくすることができる。これにより、固定部材としてより低弾性の材料を用いても、固定部材による固定力を所望値以上とすることができ、第一基板の脱落を抑制できる。
In the optical filter device of this application example, the fixing member is preferably provided along one side of the side surface.
In this application example, the fixing member is provided along one side intersecting the thickness direction of the side surface.
In such a configuration, for example, the fixing member can be provided on substantially the entire side surface, and the fixing area can be increased as compared with the case where a part of the side surface of the fixing member is fixed. Thereby, even if a material having a lower elasticity is used as the fixing member, the fixing force by the fixing member can be set to a desired value or more, and the first substrate can be prevented from falling off.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記固定部材は、前記側面を固定端とする前記第一基板の回転に応じた応力で弾性変形することが好ましい。
本適用例では、固定部材は、側面を固定端とする第一基板の回転に応じた応力で弾性変形する。
ここで、第一基板の側面を一箇所で固定する構成では、上述のように、第一基板に固定位置を固定端とする基板厚み方向の振動が発生する場合がある。このような振動では、固定端において、当該固定端を基点とした回転方向に基板が変位するため、当該第一基板の回転に応じた応力が、固定部材や第一基板に作用する。
これに対して本適用例では、固定部材が、上記応力を受けて弾性変形する程度の低い弾性を有する材料で形成されている。このため、外乱等の影響で上記振動を誘起する外力が、干渉フィルターに作用した場合でも、固定部材が弾性変形することにより、上記振動の残留を抑制できる。
In the optical filter device of this application example, it is preferable that the fixing member is elastically deformed by a stress according to rotation of the first substrate having the side surface as a fixed end.
In this application example, the fixing member is elastically deformed by the stress according to the rotation of the first substrate having the side surface as the fixed end.
Here, in the configuration for fixing the side surface of the first substrate at one place, as described above, there is a case where vibration in the substrate thickness direction of the fixed end of the fixed position on the first substrate occurs. In such a vibration, the substrate is displaced in the rotation direction with the fixed end as a base point at the fixed end, so that the stress according to the rotation of the first substrate acts on the fixing member and the first substrate.
On the other hand, in this application example, the fixing member is formed of a material having a low elasticity that is elastically deformed by receiving the stress. Therefore, even when an external force that induces the vibration due to the influence of disturbance or the like acts on the interference filter, the fixing member is elastically deformed, so that the residual vibration can be suppressed.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記ベース部は、前記側面に対向し、当該側面が固定される固定面を有し、前記側面及び前記固定面のいずれか一方は、他方に向かって突出し、前記他方に当接する突出部を有することが好ましい。
本適用例では、突出部が、第一基板の側面と、ベース部の固定面とのいずれか一方から他方に向かって突出し、当接している。そして、突出部によって離間された側面と固定面との間に固定部材が設けられている。
このような構成では、側面と固定面との間の距離を、突出部の突出方向の寸法で規定することができ、側面と固定面とを離間させつつも、ベース部に対して第一基板を位置決めして固定することができる。
また、例えば、固定部材として接着剤を用いた場合に、側面と固定面とが近づく方向に、当該接着剤の硬化収縮が発生した場合でも、側面と固定面との間の距離が変動することを抑制でき、位置決め精度を向上させることができる。
In the optical filter device of this application example, the base portion has a fixing surface that faces the side surface and the side surface is fixed, and one of the side surface and the fixing surface projects toward the other, It is preferable to have a protrusion that abuts the other.
In this application example, the projecting portion projects from one of the side surface of the first substrate and the fixing surface of the base portion toward the other and is in contact with the other. A fixing member is provided between the side surface and the fixing surface that are separated by the protrusion.
In such a configuration, the distance between the side surface and the fixed surface can be defined by the dimension of the protruding portion in the protruding direction, and while the side surface and the fixed surface are separated from each other, the first substrate with respect to the base portion is separated. Can be positioned and fixed.
Further, for example, when an adhesive is used as the fixing member, the distance between the side surface and the fixing surface may fluctuate even when the adhesive shrinks and hardens in the direction in which the side surface and the fixing surface approach each other. Can be suppressed, and the positioning accuracy can be improved.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記側面及び前記固定面のいずれか一方は、複数の前記突出部を有し、前記突出部は、前記他方に向かって凸となる曲面形状を有することが好ましい。
本適用例では、突出部が、側面及び固定面の一方から他方に向かって凸となる曲面形状を有し、このような突出部が、複数設けられている。
このような構成では、突出部は、突出方向に向かって、側面及び固定面に沿った方向の断面積が小さくなる曲面形状を有し、側面及び固定面の他方と当接した際の接触面積を小さくできる。これにより、外乱による振動がベース部から伝達されることをより確実に抑制できる。また、複数の突出部で当接することで、接触面積を小さくしながらも位置決め精度を向上させることができる。
In the optical filter device of this application example, one of the side surface and the fixed surface preferably has a plurality of the protrusions, and the protrusions preferably have a curved surface shape that is convex toward the other. ..
In this application example, the protrusion has a curved surface shape that is convex from one of the side surface and the fixed surface toward the other, and a plurality of such protrusions are provided.
In such a configuration, the projecting portion has a curved surface shape in which the cross-sectional area in the direction along the side surface and the fixed surface decreases toward the projecting direction, and the contact area when contacting the other of the side surface and the fixed surface. Can be made smaller. Thereby, it is possible to more reliably suppress the transmission of the vibration due to the disturbance from the base portion. Further, by abutting with the plurality of protrusions, it is possible to improve the positioning accuracy while reducing the contact area.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記突出部は、前記固定面側に設けられ、前記固定部材よりも弾性率が高いことが好ましい。
本適用例では、突出部は、ベース部の固定面に設けられ、固定部材よりも高い弾性率を有する材料で形成されている。
このような構成では、例えば、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の液体から固体に硬化する材料を、固定面に塗布し硬化させることで、突出部を容易に形成することができる。また、硬化収縮した際の応力が干渉フィルターの基板に作用することがないため、当該硬化収縮による基板の歪みがなく、干渉フィルターの分解能の低下を抑制できる。
In the optical filter device of this application example, it is preferable that the protruding portion is provided on the fixed surface side and has a higher elastic modulus than the fixing member.
In this application example, the protruding portion is provided on the fixed surface of the base portion and is made of a material having a higher elastic modulus than that of the fixing member.
In such a configuration, for example, a material that hardens from a liquid such as a thermosetting resin or a photocurable resin to a solid is applied to the fixing surface and hardened, whereby the protruding portion can be easily formed. In addition, since the stress upon curing and shrinkage does not act on the substrate of the interference filter, there is no distortion of the substrate due to the curing and shrinkage, and it is possible to suppress deterioration of the resolution of the interference filter.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記干渉フィルターは、前記第一反射膜と前記第二反射膜とのギャップ寸法を変更するギャップ変更部をさらに備えることが好ましい。
また、本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記ギャップ変更部は、前記第二基板を前記第一基板側に撓ませることで、前記ギャップ寸法を変更し、前記固定部材は、前記ギャップ変更部の駆動時における、前記固定部材の固定位置を固定端とした前記第一基板の回転に応じた応力で弾性変形することが好ましい。
本適用例では、ギャップ変更によって第二基板を撓ませることで、ギャップ寸法を変更可能に構成されている。このような構成では、ギャップ変更部が第二基板を撓ませる際に、第二基板の変形に応じて干渉フィルターに作用する応力により、上述のような振動が干渉フィルターに生じる場合がある。このように、干渉フィルターに上記振動が生じた場合でも、固定部材が弾性変形することにより、上記振動の残留を好適に抑制できる。
In the optical filter device of this application example, it is preferable that the interference filter further includes a gap changing unit that changes a gap size between the first reflective film and the second reflective film .
Further, in the optical filter device of this application example, the gap changing unit changes the gap dimension by bending the second substrate toward the first substrate side, and the fixing member is the gap changing unit. It is preferable that the elastic deformation is caused by a stress according to the rotation of the first substrate with the fixed position of the fixing member as a fixed end during driving.
In this application example, the gap dimension can be changed by bending the second substrate by changing the gap. With such a configuration, when the gap changing portion bends the second substrate, the above-described vibration may occur in the interference filter due to the stress acting on the interference filter according to the deformation of the second substrate. As described above, even when the vibration occurs in the interference filter, the fixing member is elastically deformed, so that the residual vibration can be appropriately suppressed.

本発明の一適用例に係る光学モジュールは、第一反射膜が設けられた第一基板と、第二反射膜が設けられた第二基板とが対向して配置されている干渉フィルターと、前記第一基板が固定されるベース部と、前記第一基板の側面を前記ベース部に固定する固定部材と、前記干渉フィルターにより取り出された光を検出する検出部と、を備え、前記第二基板と、前記ベース部とが間隙を隔てて配置されていることを特徴とすることを特徴とする。
本適用例では、上記のように、光学フィルターデバイスにおける干渉フィルターの分解能の低下を抑制でき、分解能を維持した状態で光学フィルターデバイスから光を出射させることができる。したがって、光学モジュールにおいて、受光部で高い分解能で、所望波長の光の光量を検出することができる。
An optical module according to an application example of the present invention is an interference filter in which a first substrate provided with a first reflection film and a second substrate provided with a second reflection film are arranged to face each other , includes a base portion on which the first substrate is fixed, the side surface of the first substrate and the fixing member for fixing to the base portion, and a detector for detecting the light extracted by the interference filter, the second substrate And the base portion are arranged with a gap therebetween .
In this application example, as described above, it is possible to suppress a decrease in resolution of the interference filter in the optical filter device, and it is possible to emit light from the optical filter device while maintaining the resolution. Therefore, in the optical module, the light receiving section can detect the light amount of the light of the desired wavelength with high resolution.

本発明の一適用例に係る電子機器は、第一反射膜が設けられた第一基板と、第二反射膜が設けられた第二基板とが対向して配置されている干渉フィルターと、前記第一基板が固定されるベース部と、前記第一基板の側面を前記ベース部に固定する固定部材と、前記干渉フィルターからの光に基づく処理を実施する処理部と、を備え、前記第二基板と、前記ベース部とが間隙を隔てて配置されていることを特徴とすることを特徴とする。
本適用例では、上記のように、光学フィルターデバイスにおける干渉フィルターの分解能の低下を抑制でき、分解能を維持した状態で光学フィルターデバイスから光を出射させることができる。したがって、光学フィルターデバイスから出力される高い分解能の光に基づいた、高精度な処理を実施可能な電子機器を提供できる。
An electronic device according to an application example of the present invention is an interference filter in which a first substrate provided with a first reflection film and a second substrate provided with a second reflection film are arranged to face each other , a base portion on which the first substrate is fixed, with the a fixed member of the first substrate side surface of the fixing to the base portion, and a processing unit that performs processing based on the light from the interference filter, the second It is characterized in that the substrate and the base portion are arranged with a gap therebetween .
In this application example, as described above, it is possible to suppress a decrease in resolution of the interference filter in the optical filter device, and it is possible to emit light from the optical filter device while maintaining the resolution. Therefore, it is possible to provide an electronic device that can perform highly accurate processing based on the high-resolution light output from the optical filter device.

本発明に係る第一実施形態の光学フィルターデバイスの概略構成を示す平面図。The top view which shows schematic structure of the optical filter device of 1st embodiment which concerns on this invention. 上記第一実施形態の光学フィルターデバイスの概略構成を示す断面図。Sectional drawing which shows schematic structure of the optical filter device of the said 1st embodiment. 上記第一実施形態の波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of the variable wavelength interference filter according to the first embodiment. 上記第一実施形態の波長可変干渉フィルターの概略構成を示す断面図。Sectional drawing which shows schematic structure of the variable wavelength interference filter of the said 1st embodiment. 上記第一実施形態の光学フィルターデバイスの製造工程を示す図。The figure which shows the manufacturing process of the optical filter device of said 1st embodiment. フィルター固定工程における、ベース及び波長可変干渉フィルターを模式的に示す図。The figure which shows typically a base and a wavelength variable interference filter in a filter fixing process. フィルター固定工程における、ベース及び波長可変干渉フィルターを模式的に示す図。The figure which shows typically a base and a wavelength variable interference filter in a filter fixing process. フィルター固定工程における、ベース及び波長可変干渉フィルターを模式的に示す図。The figure which shows typically a base and a wavelength variable interference filter in a filter fixing process. フィルター固定工程における、ベース及び波長可変干渉フィルターを模式的に示す図。The figure which shows typically a base and a wavelength variable interference filter in a filter fixing process. フィルター固定工程における、ベース及び波長可変干渉フィルターを模式的に示す図。The figure which shows typically a base and a wavelength variable interference filter in a filter fixing process. 本発明に係る第二実施形態における測色装置の概略構成を示すブロック図。The block diagram which shows schematic structure of the colorimetric apparatus in 2nd embodiment which concerns on this invention. 本発明の電子機器の一例であるガス検出装置を示す概略図。FIG. 3 is a schematic view showing a gas detection device which is an example of the electronic apparatus of the invention. 図12のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of the control system of the gas detection apparatus of FIG. 本発明の電子機器の一例である食物分析装置の概略構成を示す図。The figure which shows schematic structure of the food analyzer which is an example of the electronic device of this invention. 本発明の電子機器の一例である分光カメラの概略構成を示す模式図。The schematic diagram which shows schematic structure of the spectroscopic camera which is an example of the electronic device of this invention.

[第一実施形態]
以下、本発明に係る第一実施形態を図面に基づいて説明する。
[光学フィルターデバイスの構成]
図1は、本発明の光学フィルターデバイスの第一実施形態である、光学フィルターデバイス600の概略構成を示す平面図である。図2は、図1のA−A線における断面図である。
光学フィルターデバイス600は、入射した検査対象光から、所定の目的波長の光を取り出して射出させる装置であり、筐体610と、筐体610の内部に収納される波長可変干渉フィルター5を備えている。このような光学フィルターデバイス600は、例えば測色センサー等の光学モジュールや、測色装置やガス分析装置等の電子機器に組み込むことができる。なお、光学フィルターデバイス600を備えた光学モジュールや電子機器の構成については、後に詳述する。
[First embodiment]
Hereinafter, a first embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[Optical filter device configuration]
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an optical filter device 600, which is a first embodiment of the optical filter device of the present invention. FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG.
The optical filter device 600 is a device that extracts light having a predetermined target wavelength from incident inspection light and emits the light. The optical filter device 600 includes a housing 610 and a wavelength variable interference filter 5 housed inside the housing 610. There is. Such an optical filter device 600 can be incorporated in, for example, an optical module such as a colorimetric sensor or an electronic device such as a colorimeter or a gas analyzer. The configurations of the optical module and the electronic device including the optical filter device 600 will be described in detail later.

[波長可変干渉フィルターの構成]
図3は、波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す平面図である。図4は、図3のB−B線で切断した波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、図3及び図4に示すように、本発明の第一基板に相当する固定基板51、及び本発明の第二基板に相当する可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば各種ガラスや、水晶等により形成されており、本実施形態では、石英ガラスにより構成されるものとする。そして、これらの基板51,52は、図4に示すように、接合膜53(第一接合膜531及び第二接合膜532)により接合されることで、一体的に構成されている。具体的には、固定基板51の第一接合部513、及び可動基板52の第二接合部523が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜等により構成された接合膜53により接合されている。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51又は可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定基板51、接合膜53、及び可動基板52の積層方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。
[Configuration of variable wavelength interference filter]
FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of the variable wavelength interference filter 5. FIG. 4 is a sectional view showing a schematic configuration of the variable wavelength interference filter 5 taken along the line BB of FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, the variable wavelength interference filter 5 includes a fixed substrate 51 corresponding to the first substrate of the present invention and a movable substrate 52 corresponding to the second substrate of the present invention. Each of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 is made of, for example, various kinds of glass, crystal, or the like, and is made of quartz glass in this embodiment. Then, as shown in FIG. 4, these substrates 51 and 52 are integrally formed by being bonded by a bonding film 53 (first bonding film 531 and second bonding film 532). Specifically, the first bonding portion 513 of the fixed substrate 51 and the second bonding portion 523 of the movable substrate 52 are bonded by a bonding film 53 made of, for example, a plasma polymerized film containing siloxane as a main component. ..
In the following description, the tunable interference filter 5 is viewed from the plan view of the fixed substrate 51 or the movable substrate 52 viewed from the substrate thickness direction, that is, the stacking direction of the fixed substrate 51, the bonding film 53, and the movable substrate 52. The plan view is referred to as a filter plan view.

固定基板51には、図4に示すように、本発明の一対の反射膜の一方を構成する固定反射膜54が設けられている。また、可動基板52には、本発明の一対の反射膜の他方を構成する可動反射膜55が設けられている。これらの固定反射膜54及び可動反射膜55は、反射膜間ギャップG1を介して対向配置されている。
そして、波長可変干渉フィルター5には、反射膜54,55間のギャップG1の距離(ギャップ寸法)を調整するのに用いられる、本発明のギャップ変更部に相当する静電アクチュエーター56が設けられている。この静電アクチュエーター56は、固定基板51に設けられた固定電極561と、可動基板52に設けられた可動電極562と、を備え、各電極561,562が対向することにより構成されている。これらの固定電極561,可動電極562は、電極間ギャップを介して対向する。ここで、これらの電極561,562は、それぞれ固定基板51及び可動基板52の基板表面に直接設けられる構成であってもよく、他の膜部材を介して設けられる構成であってもよい。
なお、本実施形態では、反射膜間ギャップG1が電極間ギャップよりも小さく形成される構成を例示するが、例えば波長可変干渉フィルター5により透過させる波長域によっては、反射膜間ギャップG1を電極間ギャップよりも大きく形成してもよい。
As shown in FIG. 4, the fixed substrate 51 is provided with a fixed reflection film 54 that constitutes one of the pair of reflection films of the present invention. In addition, the movable substrate 52 is provided with a movable reflective film 55 that constitutes the other of the pair of reflective films of the present invention. The fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55 are opposed to each other with a gap G1 between the reflective films.
The variable wavelength interference filter 5 is provided with an electrostatic actuator 56, which is used to adjust the distance (gap size) of the gap G1 between the reflection films 54 and 55 and corresponds to the gap changing unit of the present invention. There is. The electrostatic actuator 56 includes a fixed electrode 561 provided on the fixed substrate 51 and a movable electrode 562 provided on the movable substrate 52, and the electrodes 561 and 562 are configured to face each other. The fixed electrode 561 and the movable electrode 562 face each other via an inter-electrode gap. Here, these electrodes 561 and 562 may be provided directly on the substrate surfaces of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52, respectively, or may be provided via another film member.
In addition, in the present embodiment, the configuration in which the inter-reflection film gap G1 is formed smaller than the inter-electrode gap is illustrated. However, for example, depending on the wavelength range transmitted by the wavelength tunable interference filter 5, the inter-reflection film gap G1 may be formed between the electrodes. It may be formed larger than the gap.

ここで、フィルター平面視において、可動基板52の一辺側(例えば、図3における辺C3−C4)は、固定基板51の辺C3´−C4´よりも外側に突出する。この可動基板52の突出部分は、固定基板51と接合されない電装部525であり、波長可変干渉フィルター5を固定基板51側から見た際に露出する面は、後述する電極パッド564P,565Pが設けられる電装面524となる。 Here, in the filter plan view, one side of the movable substrate 52 (for example, the side C3-C4 in FIG. 3) projects outward from the sides C3′-C4′ of the fixed substrate 51. The projecting portion of the movable substrate 52 is an electrical component portion 525 that is not joined to the fixed substrate 51, and the surface exposed when the wavelength tunable interference filter 5 is viewed from the fixed substrate 51 side is provided with electrode pads 564P and 565P described later. It becomes the electrical equipment surface 524.

(固定基板の構成)
固定基板51には、図4に示すように、エッチングにより電極配置溝511及び反射膜設置部512が形成されている。この固定基板51は、可動基板52に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極561及び可動電極562間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極561の内部応力による固定基板51の撓みはない。
(Structure of fixed board)
As shown in FIG. 4, an electrode arrangement groove 511 and a reflection film installation portion 512 are formed on the fixed substrate 51 by etching. The thickness of the fixed substrate 51 is larger than that of the movable substrate 52. The fixed substrate 51 has an electrostatic attraction when a voltage is applied between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 and a fixed substrate due to internal stress of the fixed electrode 561. There is no deflection of 51.

電極配置溝511は、フィルター平面視で、固定基板51のフィルター中心点Oを中心とした環状に形成されている(図3参照)。この電極配置溝511の溝底面は、固定電極561が配置される電極設置面511Aとなる。
反射膜設置部512は、前記平面視において、電極配置溝511の中心部から可動基板52側に突出して形成されている。この反射膜設置部512の突出先端面は、反射膜設置面512Aとなる。
The electrode arrangement groove 511 is formed in an annular shape centered on the filter center point O of the fixed substrate 51 in the filter plan view (see FIG. 3 ). The bottom surface of the electrode placement groove 511 serves as an electrode placement surface 511A on which the fixed electrode 561 is placed.
The reflection film installation portion 512 is formed so as to project from the central portion of the electrode arrangement groove 511 to the movable substrate 52 side in the plan view. The protruding tip surface of the reflection film installation portion 512 becomes a reflection film installation surface 512A.

電極設置面511Aには、静電アクチュエーター56を構成する固定電極561が設けられている。この固定電極561は、電極設置面511Aのうち、後述する可動部521の可動電極562に対向する領域に設けられている。また、固定電極561上に、固定電極561及び可動電極562の間の絶縁性を確保するための絶縁膜が積層される構成としてもよい。
そして、固定基板51には、図3に示すように、固定電極561の外周縁に接続された固定引出電極563が設けられている。この固定引出電極563は、電極配置溝511から辺C3´−C4´側(電装部525側)に向かって形成された接続電極溝511B(図4参照)に沿って設けられている。この接続電極溝511Bには、可動基板52側に向かって突設されたバンプ565Aが設けられ、固定引出電極563は、バンプ565A上まで延出する。そして、バンプ565A上で可動基板52側に設けられた固定接続電極565に当接し、電気的に接続される。この固定接続電極565は、接続電極溝511Bに対向する領域から電装面524まで延出し、電装面524において固定電極パッド565Pを構成する。
The fixed electrode 561 forming the electrostatic actuator 56 is provided on the electrode installation surface 511A. The fixed electrode 561 is provided in a region of the electrode installation surface 511A facing the movable electrode 562 of the movable portion 521 described later. In addition, an insulating film for ensuring insulation between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 may be stacked on the fixed electrode 561.
As shown in FIG. 3, the fixed substrate 51 is provided with a fixed extraction electrode 563 connected to the outer peripheral edge of the fixed electrode 561. The fixed extraction electrode 563 is provided along the connection electrode groove 511B (see FIG. 4) formed from the electrode arrangement groove 511 toward the side C3′-C4′ side (electric component 525 side). The connection electrode groove 511B is provided with a bump 565A protruding toward the movable substrate 52 side, and the fixed extraction electrode 563 extends to above the bump 565A. Then, the bumps 565A are brought into contact with the fixed connection electrodes 565 provided on the movable substrate 52 side to be electrically connected. The fixed connection electrode 565 extends from a region facing the connection electrode groove 511B to the electrical component surface 524, and forms a fixed electrode pad 565P on the electrical component surface 524.

なお、本実施形態では、電極設置面511Aに1つの固定電極561が設けられる構成を示すが、例えば、フィルター中心点Oを中心とした同心円となる2つの電極が設けられる構成(二重電極構成)などとしてもよい。その他、固定反射膜54上に透明電極を設ける構成や、導電性の固定反射膜54を用い、当該固定反射膜54から固定側電装部に接続電極を形成してもよく、この場合、固定電極561として、接続電極の位置に応じて、一部が切り欠かれた構成などとしてもよい。 In this embodiment, one fixed electrode 561 is provided on the electrode installation surface 511A, but for example, two electrodes that are concentric with the filter center point O as a center (double electrode configuration) are provided. ) Or the like. In addition, a configuration in which a transparent electrode is provided on the fixed reflection film 54, or a conductive fixed reflection film 54 may be used to form a connection electrode from the fixed reflection film 54 to the fixed side electrical component section. In this case, the fixed electrode 561 may have a structure in which a part is cut out depending on the position of the connection electrode.

反射膜設置部512は、上述したように、電極配置溝511と同軸上で、電極配置溝511よりも小さい径寸法となる略円柱状に形成され、当該反射膜設置部512の可動基板52に対向する反射膜設置面512Aを備えている。
この反射膜設置部512には、図4に示すように、固定反射膜54が設置されている。この固定反射膜54としては、例えばAg等の金属膜や、Ag合金等の合金膜を用いることができる。また、例えば高屈折層をTiO、低屈折層をSiOとした誘電体多層膜を用いてもよい。さらに、誘電体多層膜上に金属膜(又は合金膜)を積層した反射膜や、金属膜(又は合金膜)上に誘電体多層膜を積層した反射膜、単層の屈折層(TiOやSiO等)と金属膜(又は合金膜)とを積層した反射膜などを用いてもよい。
As described above, the reflection film installation portion 512 is formed in a substantially cylindrical shape coaxial with the electrode arrangement groove 511 and having a diameter smaller than that of the electrode arrangement groove 511, and is formed on the movable substrate 52 of the reflection film installation portion 512. It is provided with a reflection film installation surface 512A facing each other.
As shown in FIG. 4, the fixed reflective film 54 is installed in the reflective film installation portion 512. As the fixed reflection film 54, for example, a metal film such as Ag or an alloy film such as Ag alloy can be used. Alternatively, for example, a dielectric multilayer film in which the high refractive layer is TiO 2 and the low refractive layer is SiO 2 may be used. Furthermore, a reflective film in which a metal film (or an alloy film) is laminated on a dielectric multilayer film, a reflective film in which a dielectric multilayer film is laminated on a metal film (or an alloy film), a single refraction layer (TiO 2 or SiO 2) and a metal film (or alloy film) and the like may be used reflective film formed by laminating a.

また、固定基板51の光入射面(固定反射膜54が設けられない面)には、固定反射膜54に対応する位置に反射防止膜を形成してもよい。この反射防止膜は、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、固定基板51の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させる。 Further, an antireflection film may be formed on the light incident surface of the fixed substrate 51 (the surface where the fixed reflection film 54 is not provided) at a position corresponding to the fixed reflection film 54. This antireflection film can be formed by alternately stacking a low refractive index film and a high refractive index film, and reduces the reflectance of visible light on the surface of the fixed substrate 51 and increases the transmittance.

そして、固定基板51の可動基板52に対向する面のうち、エッチングにより、電極配置溝511、反射膜設置部512、及び接続電極溝511Bが形成されない面は、第一接合部513を構成する。この第一接合部513には、第一接合膜531が設けられ、この第一接合膜531が、可動基板52に設けられた第二接合膜532に接合されることで、上述したように、固定基板51及び可動基板52が接合される。 Then, of the surfaces of the fixed substrate 51 facing the movable substrate 52, the surfaces on which the electrode placement groove 511, the reflection film installation portion 512, and the connection electrode groove 511B are not formed by etching form the first bonding portion 513. The first bonding film 531 is provided on the first bonding portion 513, and the first bonding film 531 is bonded to the second bonding film 532 provided on the movable substrate 52, as described above. The fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are joined.

(可動基板の構成)
可動基板52は、フィルター中心点Oを中心とした円形状の可動部521と、可動部521と同軸であり可動部521を保持する保持部522と、を備えている。
(Structure of movable substrate)
The movable substrate 52 includes a circular movable portion 521 having a filter center point O as a center, and a holding portion 522 that is coaxial with the movable portion 521 and holds the movable portion 521.

可動部521は、保持部522よりも厚み寸法が大きく形成される。この可動部521は、フィルター平面視において、少なくとも反射膜設置面512Aの外周縁の径寸法よりも大きい径寸法に形成されている。そして、この可動部521には、可動電極562及び可動反射膜55が設けられている。
なお、固定基板51と同様に、可動部521の固定基板51とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板52の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
The movable portion 521 is formed to have a larger thickness dimension than the holding portion 522. The movable portion 521 is formed to have a diameter dimension that is at least larger than the diameter dimension of the outer peripheral edge of the reflection film installation surface 512A in the filter plan view. The movable electrode 562 and the movable reflective film 55 are provided on the movable portion 521.
As with the fixed substrate 51, an antireflection film may be formed on the surface of the movable portion 521 opposite to the fixed substrate 51. Such an antireflection film can be formed by alternately stacking a low refractive index film and a high refractive index film, reduces the reflectance of visible light on the surface of the movable substrate 52, and increases the transmittance. Can be made.

可動電極562は、所定の電極間ギャップを介して固定電極561に対向し、固定電極561と同一形状となる環状に形成されている。この可動電極562は、固定電極561とともに静電アクチュエーター56を構成する。また、可動基板52には、可動電極562の外周縁に接続された可動接続電極564が設けられている。この可動接続電極564は、可動部521から、固定基板51に設けられた接続電極溝511Bに対向する位置に沿って、電装面524に亘って設けられており、電装面524において、内側端子部に電気的に接続される可動電極パッド564Pを構成する。
また、可動基板52には、上述したように、固定接続電極565が設けられており、この固定接続電極565は、バンプ565A(図3参照)の形成位置で固定引出電極563に接続されている。
The movable electrode 562 faces the fixed electrode 561 via a predetermined inter-electrode gap, and is formed in an annular shape having the same shape as the fixed electrode 561. The movable electrode 562 constitutes the electrostatic actuator 56 together with the fixed electrode 561. Further, the movable substrate 52 is provided with a movable connection electrode 564 connected to the outer peripheral edge of the movable electrode 562. The movable connection electrode 564 is provided over the electrical component surface 524 along the position facing the connection electrode groove 511B provided on the fixed substrate 51 from the movable component 521, and on the electrical component surface 524, the inner terminal portion is provided. To form a movable electrode pad 564P electrically connected to.
As described above, the fixed connection electrode 565 is provided on the movable substrate 52, and the fixed connection electrode 565 is connected to the fixed extraction electrode 563 at the position where the bump 565A (see FIG. 3) is formed. ..

可動反射膜55は、可動部521の可動面521Aの中心部に、固定反射膜54とギャップG1を介して対向して設けられる。この可動反射膜55としては、上述した固定反射膜54と同一の構成の反射膜が用いられる。
なお、本実施形態では、上述したように、電極間ギャップが反射膜間ギャップG1の寸法よりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外線や遠赤外線を用いる場合等、測定対象光の波長域によっては、ギャップG1の寸法が、電極間ギャップの寸法よりも大きくなる構成としてもよい。
The movable reflection film 55 is provided at the center of the movable surface 521A of the movable portion 521 so as to face the fixed reflection film 54 via the gap G1. As the movable reflective film 55, a reflective film having the same structure as the fixed reflective film 54 described above is used.
In the present embodiment, as described above, an example in which the inter-electrode gap is larger than the dimension of the inter-reflection film gap G1 is shown, but the present invention is not limited to this. For example, when infrared rays or far infrared rays are used as the measurement target light, the size of the gap G1 may be larger than the size of the inter-electrode gap depending on the wavelength range of the measurement target light.

保持部522は、可動部521の周囲を囲うダイアフラムであり、可動部521よりも厚み寸法が小さく形成されている。このような保持部522は、可動部521よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部521を固定基板51側に変位させることが可能となる。この際、可動部521が保持部522よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部522が静電引力により固定基板51側に引っ張られた場合でも、可動部521の形状変化が起こらない。したがって、可動部521に設けられた可動反射膜55の撓みも生じず、固定反射膜54及び可動反射膜55を常に平行状態に維持することが可能となる。
なお、本実施形態では、ダイアフラム状の保持部522を例示するが、これに限定されず、例えば、フィルター中心点Oを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
The holding portion 522 is a diaphragm that surrounds the periphery of the movable portion 521, and is formed to have a smaller thickness dimension than the movable portion 521. Such a holding portion 522 is more flexible than the movable portion 521, and it is possible to displace the movable portion 521 to the fixed substrate 51 side by a slight electrostatic attractive force. At this time, since the movable portion 521 has a larger thickness dimension and higher rigidity than the holding portion 522, the shape of the movable portion 521 does not change even when the holding portion 522 is pulled toward the fixed substrate 51 by electrostatic attraction. Absent. Therefore, the movable reflection film 55 provided on the movable portion 521 does not bend, and the fixed reflection film 54 and the movable reflection film 55 can be always maintained in parallel.
In addition, although the diaphragm-shaped holding portion 522 is illustrated in the present embodiment, the present invention is not limited to this, and for example, a configuration is provided in which beam-shaped holding portions arranged at equal angular intervals around the filter center point O are provided. It is also possible to

可動基板52において、第一接合部513に対向する領域は、第二接合部523となる。この第二接合部523には、第二接合膜532が設けられ、上述したように、第二接合膜532が第一接合膜531に接合されることで、固定基板51及び可動基板52が接合される。 In the movable substrate 52, the region facing the first bonding portion 513 becomes the second bonding portion 523. The second bonding film 532 is provided on the second bonding portion 523, and as described above, the second bonding film 532 is bonded to the first bonding film 531 to bond the fixed substrate 51 and the movable substrate 52. To be done.

[筐体の構成]
筐体610は、図2に示すように、本発明のベース部に相当するベース620と、リッド630と、を備え、内部に波長可変干渉フィルター5を収納する。
ベース620は、セラミック薄層を積層して焼成することで形成されたセラミック基板である。このベース620は、図1及び図2に示すように、リッド630に対向する面に、フィルター平面視において枠状となる側壁部621が設けられている。また、ベース620は、当該側壁部621に囲まれて形成された凹部622を有する。また、側壁部621のリッド630側の面であるリッド接合面621Aにリッド630が接合される。
[Case configuration]
As shown in FIG. 2, the housing 610 includes a base 620 corresponding to the base portion of the present invention and a lid 630, and houses the variable wavelength interference filter 5 therein.
The base 620 is a ceramic substrate formed by laminating and firing ceramic thin layers. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the base 620 is provided with a side wall portion 621 having a frame shape in a filter plan view on a surface facing the lid 630. Further, the base 620 has a recess 622 formed so as to be surrounded by the side wall portion 621. Further, the lid 630 is joined to the lid joining surface 621A which is the lid 630 side surface of the side wall portion 621.

側壁部621の内側の側面のうち、固定基板51の辺C1´−C2´を含む側面51Aに対向する面621Bに、波長可変干渉フィルター5が固定部材624によって固定される(以下、固定面621Bと称する)。波長可変干渉フィルター5は、可動基板52を底部622A側に向け、図2に示すように、当該底部622Aと離間した状態で、固定基板51の側面51Aが固定面621Bに固定される。なお、波長可変干渉フィルター5をベース620に固定する固定構造については後に詳述する。 The tunable interference filter 5 is fixed by a fixing member 624 to a surface 621B facing the side surface 51A including the sides C1′-C2′ of the fixed substrate 51 among the side surfaces inside the side wall portion 621 (hereinafter, fixed surface 621B. Called)). In the variable wavelength interference filter 5, with the movable substrate 52 facing the bottom portion 622A side, as shown in FIG. 2, the side surface 51A of the fixed substrate 51 is fixed to the fixed surface 621B in a state of being separated from the bottom portion 622A. The fixing structure for fixing the variable wavelength interference filter 5 to the base 620 will be described in detail later.

凹部622の底部622Aには、波長可変干渉フィルター5から出射された光(又は波長可変干渉フィルターに入射される光)を通過させるための光通過孔628が設けられている。光通過孔628には、例えば低融点ガラス等の接合剤により、例えばガラス板等の透光性部材629が接合されている。 A light passage hole 628 for passing the light emitted from the variable wavelength interference filter 5 (or the light incident on the variable wavelength interference filter) is provided in the bottom portion 622A of the recess 622. A transparent member 629 such as a glass plate is bonded to the light passage hole 628 with a bonding agent such as low melting glass.

また、凹部622の底部622Aには、筐体610外部に貫通する封止孔622Bが設けられている。この封止孔622Bは、光学フィルターデバイス600の製造時において、例えば筐体610内部の気体を吸引したり、不活性ガスに置換するための孔部であり、筐体610の内部を真空又は減圧した状態で、例えばAu等の封止部材622C(図2参照)により金属封止することができる。 A sealing hole 622B penetrating the outside of the housing 610 is provided in the bottom portion 622A of the recess 622. The sealing hole 622B is a hole for sucking gas inside the housing 610 or substituting it with an inert gas when the optical filter device 600 is manufactured, and the inside of the housing 610 is vacuumed or decompressed. In this state, for example, metal can be sealed with a sealing member 622C (see FIG. 2) such as Au.

さらに、凹部622の底部622Aには、波長可変干渉フィルターの電極パッド564P,565Pに接続される内部端子622D(図1参照)が設けられている。この内部端子622Dの形成部分には、例えば筐体610の外部に貫通する貫通孔(図示略)が設けられ、当該貫通孔には内部端子622Dと電気的に接続される例えばAg等の金属部材が充填されている。この金属部材は、ベース620の外部に設けられた外部端子(図示略)に接続されており、これにより、内部端子622Dと外部端子とが電気接続されている。 Further, a bottom portion 622A of the recess 622 is provided with an internal terminal 622D (see FIG. 1) connected to the electrode pads 564P and 565P of the variable wavelength interference filter. A through hole (not shown) penetrating the outside of the housing 610 is provided in a portion where the internal terminal 622D is formed, and a metal member such as Ag electrically connected to the internal terminal 622D is provided in the through hole. Is filled. This metal member is connected to an external terminal (not shown) provided outside the base 620, whereby the internal terminal 622D and the external terminal are electrically connected.

リッド630は、フィルター平面視において、ベース620と同様の矩形状の外形を有し、光を透過可能なガラスによって形成されている。このリッド630は、ベース620に波長可変干渉フィルター5が配置された状態で、リッド接合面621Aに接合される。 The lid 630 has a rectangular outer shape similar to that of the base 620 in a filter plan view, and is made of glass capable of transmitting light. The lid 630 is joined to the lid joining surface 621A in a state where the variable wavelength interference filter 5 is arranged on the base 620.

[波長可変干渉フィルターの固定構造]
図1及び図2に示すように、波長可変干渉フィルター5の側面51Aが固定される固定面621Bには突出部623が設けられている。突出部623は、先端623Aで固定基板51の側面51Aに当接する。側面51Aと固定面621Bとは、突出部623によって規定された距離で離間し、側面51Aと固定面621Bとの間に設けられた固定部材624によって固定される。
[Fixed structure of variable wavelength interference filter]
As shown in FIGS. 1 and 2, a protrusion 623 is provided on the fixed surface 621B to which the side surface 51A of the variable wavelength interference filter 5 is fixed. The protrusion 623 abuts the side surface 51A of the fixed substrate 51 at the tip 623A. The side surface 51A and the fixed surface 621B are separated from each other by a distance defined by the protruding portion 623, and are fixed by a fixing member 624 provided between the side surface 51A and the fixed surface 621B.

突出部623は、固定面621Bに直交する方向、当該固定面621Bから側壁部621に向かって突出している。この突出部623は、突出方向に向かうにしたがって、固定面621Bに平行な面方向の断面積が小さくなる形状、例えば、略半球状に形成されている。このような突出部623は、後述するが、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の液体から固体に硬化する材料を用いて形成される。 The projecting portion 623 projects from the fixed surface 621B toward the side wall portion 621 in a direction orthogonal to the fixed surface 621B. The projecting portion 623 is formed in a shape such that the cross-sectional area in the plane direction parallel to the fixed surface 621B becomes smaller toward the projecting direction, for example, substantially hemispherical. As will be described later, such a protruding portion 623 is formed by using a material such as a thermosetting resin or a photocurable resin that hardens from a liquid to a solid.

このような突出部623は、図1に示すように、辺C1´−C2´に沿って互いに異なる位置に複数(図示例では2つ)設けられている。複数の突出部623は、それぞれ先端623Aで側面51Aに当接することにより、波長可変干渉フィルター5が固定面621Bに対して位置決めされる。 As shown in FIG. 1, a plurality of such protrusions 623 (two in the illustrated example) are provided at different positions along the side C1′-C2′. The tunable interference filter 5 is positioned with respect to the fixed surface 621B by abutting the side surface 51A at the tip 623A of each of the plurality of protrusions 623.

ここで、突出部623は、固定部材624よりも弾性率が高い高弾性材料で形成されている。これにより、後述するように固定部材624の硬化収縮により、側面51Aから固定面621Bに向かう力が突出部623に作用しても、当該突出部623の変形を抑制できる。したがって、波長可変干渉フィルター5の固定面621Bに対する位置が変化することを抑制できる。 Here, the protruding portion 623 is formed of a highly elastic material having a higher elastic modulus than the fixing member 624. As a result, as described later, even if a force from the side surface 51A toward the fixed surface 621B acts on the protrusion 623 due to hardening and shrinkage of the fixing member 624, the deformation of the protrusion 623 can be suppressed. Therefore, it is possible to prevent the position of the variable wavelength interference filter 5 from changing with respect to the fixed surface 621B.

固定部材624は、固定面621Bに対して側面51Aを固定する。この固定部材624は、図1に示すように、固定基板51の辺C1´−C2´に沿って側面51Aの全面に設けられている。図2に示すように、波長可変干渉フィルター5は、可動基板52を底部622A側に向けた状態で、固定部材624によって固定面621Bに固定されている。本実施形態では、波長可変干渉フィルター5の側面51A以外の面と、ベース620との間に間隙が設けられている。例えば、図2に示すように、可動基板52の底部622Aに対向する下面52Bと、当該底部622Aとの間には、間隙CL1が設けられている。なお、固定基板51とリッド630との間にも間隙が設けられている。 The fixing member 624 fixes the side surface 51A to the fixing surface 621B. As shown in FIG. 1, the fixing member 624 is provided on the entire side surface 51A along the sides C1′-C2′ of the fixed substrate 51. As shown in FIG. 2, the variable wavelength interference filter 5 is fixed to the fixed surface 621B by the fixing member 624 with the movable substrate 52 facing the bottom portion 622A side. In the present embodiment, a gap is provided between the surface of the variable wavelength interference filter 5 other than the side surface 51A and the base 620. For example, as shown in FIG. 2, a gap CL1 is provided between the bottom surface 622A and the lower surface 52B of the movable substrate 52 that faces the bottom portion 622A. A gap is also provided between the fixed substrate 51 and the lid 630.

ここで、波長可変干渉フィルター5に、外乱等により基板厚み方向の力が作用すると、固定部材624によって固定された当該辺C1´−C2´を含む側面51Aを固定端とする、基板厚み方向(図2の矢印M)に沿った振動(以下、フィルター振動とも称する)が生じる場合がある。このフィルター振動のうち、波長可変干渉フィルター5の一次共振による振動(一次共振振動)では、フィルター平面視において、固定端側の側面51Aから最も離れた可動基板52の側面52A側の端部(自由端)において、振幅が最大となる。なお、フィルター振動は、外乱以外に、静電アクチュエーター56の駆動によって可動部521が移動した際の反動によっても誘起される場合がある。 Here, when a force in the substrate thickness direction acts on the wavelength tunable interference filter 5 due to a disturbance or the like, the side face 51A including the side C1′-C2′ fixed by the fixing member 624 serves as a fixed end, and the substrate thickness direction ( Vibration along the arrow M in FIG. 2 (hereinafter, also referred to as filter vibration) may occur. Among the filter vibrations, in the vibration due to the primary resonance of the wavelength tunable interference filter 5 (primary resonance vibration), the end portion on the side surface 52A side of the movable substrate 52 farthest from the side surface 51A on the fixed end side in the filter plan view (freedom) At the edge), the amplitude becomes maximum. In addition to the disturbance, the filter vibration may be induced by a reaction when the movable portion 521 is moved by driving the electrostatic actuator 56.

本実施形態では、基板厚み方向(図2の矢印M方向)における、下面52Bと底部622Aとの間の間隙CL1の寸法h1(波長可変干渉フィルター5の静止時)は、フィルター振動が発生したとしても、自由端である側面52Aの下端(側面52Aと下面52Bとの交差部分)における最大振幅(一次共振振動における振幅)よりも大きくなるように設定されている。例えば、固定基板51の寸法が約10mmで、かつ上記最大振幅が数μmの場合、間隙CL1の寸法h1は数十μm以上(例えば20μm以上)に設定されている。これにより、フィルター振動が発生した場合でも、可動基板52が底部622Aに接触することを抑制できる。
なお、フィルター振動が発生した際の、上記側面52A側の下面52Bの最大振幅は、波長可変干渉フィルター5の寸法、各基板51,52、固定部材624の弾性率、及び外乱振動の大きさ等に応じて変化するものであり、シミュレーションや実験等で取得すればよい。
In the present embodiment, in the substrate thickness direction (direction of arrow M in FIG. 2), the size h1 of the gap CL1 between the lower surface 52B and the bottom portion 622A (when the wavelength tunable interference filter 5 is stationary) indicates that filter vibration occurs. Is also set to be larger than the maximum amplitude (amplitude in primary resonance vibration) at the lower end of the side surface 52A that is the free end (the intersection of the side surface 52A and the lower surface 52B). For example, when the size of the fixed substrate 51 is about 10 mm and the maximum amplitude is several μm, the size h1 of the gap CL1 is set to several tens of μm or more (for example, 20 μm or more). Accordingly, even when the filter vibration occurs, the movable substrate 52 can be prevented from coming into contact with the bottom portion 622A.
The maximum amplitude of the lower surface 52B on the side surface 52A side when the filter vibration occurs is the size of the wavelength tunable interference filter 5, the modulus of elasticity of the substrates 51 and 52, the fixing member 624, and the magnitude of the disturbance vibration. It can be obtained by simulation or experiment.

また、本実施形態では、固定部材624は、このフィルター振動によって、側面51A側を固定端として回転しようとする波長可変干渉フィルター5からの応力を受けて弾性変形可能な弾性率(例えば、500MPa以下)を有する。このように、固定部材624が弾性変形することにより、フィルター振動を吸収することができ、当該フィルター振動の影響によりギャップG1の寸法が変動して波長可変干渉フィルター5の分解能が低下することを抑制できる。 Further, in the present embodiment, the fixing member 624 is elastically deformable (for example, 500 MPa or less) due to the filter vibration, which receives the stress from the wavelength tunable interference filter 5 which is about to rotate with the side surface 51A as the fixed end. ) Has. In this way, elastic deformation of the fixing member 624 can absorb the filter vibration, and suppress the deterioration of the resolution of the wavelength tunable interference filter 5 due to the size variation of the gap G1 due to the influence of the filter vibration. it can.

ここで、固定部材624は、弾性率が小さいほど、固定力が小さくなる。すなわち、固定部材624の弾性率を小さくすることで、弾性変形によりフィルター振動を抑制できるものの、固定力が低下して波長可変干渉フィルター5の脱落のおそれがある。このため、弾性率の下限値は、波長可変干渉フィルター5の質量や寸法等に応じて波長可変干渉フィルター5が脱落を抑制可能な固定力を得るのに十分な値に設定する。一方で、弾性率の上限値は、同様に、フィルター振動に応じた弾性変形を許容する値に設定する。
このような固定部材624として、例えばシリコーン系接着剤を用いることができる。また、固定部材624の弾性率としては、例えば、10MPa以上500MPa以下であることが好ましく、50MPa以上100MPa以下であることがより好ましい。これにより、波長可変干渉フィルター5の脱落を抑制しつつ、フィルター振動を効果的に抑制できる。
Here, the smaller the elastic modulus of the fixing member 624, the smaller the fixing force. That is, by reducing the elastic modulus of the fixing member 624, the filter vibration can be suppressed by elastic deformation, but the fixing force may decrease and the wavelength tunable interference filter 5 may fall off. For this reason, the lower limit value of the elastic modulus is set to a value sufficient to obtain a fixing force capable of suppressing the wavelength tunable interference filter 5 from dropping according to the mass and size of the wavelength tunable interference filter 5. On the other hand, similarly, the upper limit of the elastic modulus is set to a value that allows elastic deformation according to filter vibration.
For example, a silicone adhesive can be used as the fixing member 624. Further, the elastic modulus of the fixing member 624 is, for example, preferably 10 MPa or more and 500 MPa or less, and more preferably 50 MPa or more and 100 MPa or less. Accordingly, it is possible to effectively suppress the filter vibration while suppressing the falling of the variable wavelength interference filter 5.

[光学フィルターデバイスの製造方法]
次に、上述したような光学フィルターデバイス600の製造方法について図面に基づいて説明する。
図5は、光学フィルターデバイス600の製造工程の一例を示す工程図である。
また、図6〜図10は、図5に示すデバイス組立工程における、波長可変干渉フィルター5やベース620等の部材を模式的に示している。なお、図6(A)は、ベース620を底部622Aに向かってみた場合の上面図であり、図6(B)は、図6(A)のC−C線で切断した切断面を示す断面図であり、図7〜図9についても同様である。
ここで、以下の説明では、底部622Aに直交する方向をZ方向、Z方向に直交し、かつ、固定面621Bに直交する方向をX方向、X方向及びZ方向に直交する方向をY方向とする。また、底部622Aを基点としてベース620から離れる方向を+Z方向とする。
また、図6〜図9では、Z方向を鉛直方向に平行、かつ、下から上に向かう方向に一致させてベース620が配置されている状態を示す。一方、図10では、Z方向を鉛直方向に一致させてベース620が配置されている状態を示す。
[Method for manufacturing optical filter device]
Next, a method of manufacturing the optical filter device 600 as described above will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a process chart showing an example of a manufacturing process of the optical filter device 600.
6 to 10 schematically show members such as the variable wavelength interference filter 5 and the base 620 in the device assembly process shown in FIG. Note that FIG. 6A is a top view of the base 620 when viewed toward the bottom portion 622A, and FIG. 6B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line C-C in FIG. 6A. It is a figure, and is the same also about FIGS. 7-9.
Here, in the following description, the direction orthogonal to the bottom portion 622A is the Z direction, the direction orthogonal to the Z direction, and the direction orthogonal to the fixed surface 621B is the X direction, and the direction orthogonal to the X direction and the Z direction is the Y direction. To do. Further, the direction away from the base 620 with the bottom portion 622A as a base point is defined as +Z direction.
6 to 9 show a state in which the base 620 is arranged with the Z direction parallel to the vertical direction and aligned with the direction from the bottom to the top. On the other hand, FIG. 10 shows a state in which the base 620 is arranged with the Z direction aligned with the vertical direction.

図5に示す、光学フィルターデバイス600の製造工程では、光学フィルターデバイス600を構成する波長可変干渉フィルター5を製造するフィルター準備工程(S1)、ベース620を準備するベース準備工程(S2)、リッド630を準備するリッド準備工程(S3)をそれぞれ実施した後、これら波長可変干渉フィルター5、ベース620、及びリッド630を用いて光学フィルターデバイス600を組み立てるデバイス組み立て工程(S4)を実施する。 In the manufacturing process of the optical filter device 600 shown in FIG. 5, a filter preparation process (S1) for manufacturing the wavelength tunable interference filter 5 constituting the optical filter device 600, a base preparation process (S2) for preparing the base 620, and a lid 630. After performing the lid preparation step (S3) for preparing the optical filter device 600, the device assembly step (S4) of assembling the optical filter device 600 using the variable wavelength interference filter 5, the base 620, and the lid 630 is performed.

(フィルター準備工程)
フィルター準備工程S1では、まず、固定基板51及び可動基板52を適宜エッチング処理等により形成する。そして、固定基板51に対しては、固定電極561及び固定引出電極563を成膜し、その後、固定反射膜54を成膜する。また、可動基板52に対しては、可動電極562、可動接続電極564、固定接続電極565、及び各電極パッド564P,565Pを成膜した後、可動反射膜55を成膜する。この後、固定基板51及び可動基板52を、接合膜53を介して接合することで波長可変干渉フィルター5が得られる。
(Filter preparation process)
In the filter preparation step S1, first, the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are appropriately formed by etching or the like. Then, the fixed electrode 561 and the fixed extraction electrode 563 are formed on the fixed substrate 51, and then the fixed reflection film 54 is formed. Further, on the movable substrate 52, after forming the movable electrode 562, the movable connection electrode 564, the fixed connection electrode 565, and the electrode pads 564P and 565P, the movable reflection film 55 is formed. Then, the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are bonded to each other via the bonding film 53, whereby the wavelength tunable interference filter 5 is obtained.

(ベース基板準備工程)
ベース準備工程S2では、まず、ベース620の外形を形成する。具体的には、まず、セラミック基板の形成素材であるシートを積層した焼成前基板に、切削加工やレーザー加工等を適宜施し、凹部622や光通過孔628を有するベース620の形状を成形する。そして、焼成前基板を焼成することで、ベース620を形成する。
この後、図示を省略するが、内部端子622Dと、外部端子(図示略)とを電気的に接続するための貫通孔(図示略)を底部622Aに形成し、形成した貫通孔には導電性部材を充填する。そして、内部端子622D及び外部端子を形成する。
(Base substrate preparation process)
In the base preparation step S2, first, the outer shape of the base 620 is formed. Specifically, first, a pre-fired substrate obtained by laminating sheets, which are materials for forming a ceramic substrate, is appropriately subjected to cutting processing, laser processing, or the like to form the shape of the base 620 having the recess 622 and the light passage hole 628. Then, the base 620 is formed by baking the substrate before baking.
After that, although not shown, a through hole (not shown) for electrically connecting the internal terminal 622D and the external terminal (not shown) is formed in the bottom portion 622A, and the formed through hole has a conductive property. Fill the part. Then, the internal terminal 622D and the external terminal are formed.

(リッド準備工程)
リッド準備工程S3では、所定の厚みのガラスの板材を、ベース620と同様の矩形状の部分に分割し、複数のリッド630を同時に形成する。
(Lid preparation process)
In the lid preparation step S3, a glass plate material having a predetermined thickness is divided into rectangular portions similar to the base 620, and a plurality of lids 630 are simultaneously formed.

(デバイス組み立て工程)
デバイス組み立て工程S4では、波長可変干渉フィルター5をベース620に固定した後、リッド630をベース620に接合して光学フィルターデバイス600を形成する。
(Device assembly process)
In the device assembly step S4, the wavelength tunable interference filter 5 is fixed to the base 620, and then the lid 630 is joined to the base 620 to form the optical filter device 600.

このデバイス組み立て工程S4では、まず、ベース620の凹部622の固定面621Bに突出部623を形成する突出部形成工程を実施する(S41)。
本実施形態では、図6に示すように、固定面621Bの波長可変干渉フィルター5の固定位置に、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の液状の硬化材料を塗布し、硬化させることで固定面621Bを形成する。すなわち、液状の硬化材料は、固定面621Bに塗布されると、表面張力により略半球状となる。この略半球状の硬化材料を硬化させる。このようにして形成された突出部623は、固定面621Bから離れるにしたがって固定面621Bに平行な切断面の面積が小さくなる、略半球状に形成される。なお、突出部623の形状やサイズは、硬化材料の粘度や、塗布量によって調整することができる。
In this device assembly step S4, first, a protrusion forming step of forming a protrusion 623 on the fixed surface 621B of the recess 622 of the base 620 is performed (S41).
In the present embodiment, as shown in FIG. 6, fixing is performed by applying a liquid curable material such as a thermosetting resin or a photocurable resin to the fixing position of the wavelength tunable interference filter 5 on the fixing surface 621B and curing the liquid. Form surface 621B. That is, when the liquid curable material is applied to the fixed surface 621B, it becomes substantially hemispherical due to the surface tension. The substantially hemispherical curable material is cured. The protrusion 623 formed in this manner is formed in a substantially hemispherical shape in which the area of the cut surface parallel to the fixed surface 621B becomes smaller as the distance from the fixed surface 621B increases. The shape and size of the protruding portion 623 can be adjusted by the viscosity of the curable material and the coating amount.

次に、固定面621Bの波長可変干渉フィルター5の固定位置に固定部材624を塗布する、固定部材塗布工程を実施する(S42)。
固定部材624は、図7に示すように、固定面621Bに直交する方向における寸法が、突出部623の寸法以上となる塗布量で、固定面621Bに塗布される。これにより、波長可変干渉フィルター5の側面51Aを、突出部623の先端623Aに接触する前に、固定部材624に接触させることができ、側面51Aが固定部材624に接触しないことによる接合不良を抑制できる。
Next, a fixing member application step of applying the fixing member 624 to the fixing position of the wavelength tunable interference filter 5 on the fixing surface 621B is performed (S42).
As shown in FIG. 7, the fixing member 624 is applied to the fixing surface 621B with an application amount such that the dimension in the direction orthogonal to the fixing surface 621B is equal to or larger than the dimension of the protrusion 623. As a result, the side surface 51A of the variable wavelength interference filter 5 can be brought into contact with the fixing member 624 before coming into contact with the tip 623A of the protruding portion 623, and a joint failure due to the side surface 51A not coming into contact with the fixing member 624 is suppressed. it can.

次に、波長可変干渉フィルター5を固定位置に固定するフィルター固定工程を実施する(S43)。
フィルター固定工程S43では、波長可変干渉フィルター5を、固定部材624に接触しないように底部622Aに配置した後(図7参照)、底部622Aと波長可変干渉フィルター5とを離間させた状態で、波長可変干渉フィルター5の側面51Aを突出部623の先端623Aに当接させ、波長可変干渉フィルター5をベース620に固定する。
Next, a filter fixing step of fixing the variable wavelength interference filter 5 at a fixed position is carried out (S43).
In the filter fixing step S43, the wavelength tunable interference filter 5 is arranged on the bottom portion 622A so as not to come into contact with the fixing member 624 (see FIG. 7), and then the wavelength is varied with the bottom portion 622A and the wavelength tunable interference filter 5 separated. The side surface 51A of the variable interference filter 5 is brought into contact with the tip 623A of the protruding portion 623, and the wavelength variable interference filter 5 is fixed to the base 620.

具体的には、図8に示すように、波長可変干渉フィルター5の辺C1−C4を含む端面5Aと、当該端面5Aに対向する側壁部621の内面621Cとの間の空間CL2(図7参照)にガイド部材71を配置する。同様に、波長可変干渉フィルター5の辺C2−C3を含む端面5Bと、当該端面5Bに対向するベース620の内面621Dとの間の空間CL3(図7参照)にガイド部材71を配置する。また、波長可変干渉フィルター5の底部622Aとは反対側の面、すなわち固定基板51の上面51B上に位置決め部材72を配置する。 Specifically, as shown in FIG. 8, a space CL2 between the end surface 5A including the sides C1-C4 of the variable wavelength interference filter 5 and the inner surface 621C of the side wall portion 621 facing the end surface 5A (see FIG. 7). ), the guide member 71 is arranged. Similarly, the guide member 71 is arranged in the space CL3 (see FIG. 7) between the end surface 5B including the sides C2-C3 of the wavelength tunable interference filter 5 and the inner surface 621D of the base 620 facing the end surface 5B. Further, the positioning member 72 is arranged on the surface of the variable wavelength interference filter 5 opposite to the bottom portion 622A, that is, on the upper surface 51B of the fixed substrate 51.

ガイド部材71は、波長可変干渉フィルター5の移動方向を規制し、固定面621Bに直交するX方向に移動させる。ガイド部材71は、端面5Bに直交するY方向における空間CL2の寸法と、厚み寸法が略同一の板状部材であり、ガラス等で形成される。ガイド部材71が空間CL2に挿入された状態で、波長可変干渉フィルター5が、ガイド部材71の表面に沿って、X方向に移動される。 The guide member 71 regulates the moving direction of the variable wavelength interference filter 5 and moves it in the X direction orthogonal to the fixed surface 621B. The guide member 71 is a plate-shaped member whose thickness dimension is substantially the same as the dimension of the space CL2 in the Y direction orthogonal to the end surface 5B, and is made of glass or the like. The variable wavelength interference filter 5 is moved in the X direction along the surface of the guide member 71 with the guide member 71 inserted in the space CL2.

位置決め部材72は、後述するように、波長可変干渉フィルター5のZ方向の位置決めを行い、間隙CL1の寸法h1(図2参照)を所望値に設定するための部材である。この位置決め部材72は、平板状であり、ガラス等で形成される。位置決め部材72は、波長可変干渉フィルター5に当接するフィルター当接面72Aと、当該フィルター当接面72Aとは反対側の上面72Bとを有する。位置決め部材72が波長可変干渉フィルター5の上に配置された状態で、フィルター当接面72A及び上面72BはZ方向に直交する。
ここで、Z方向における、位置決め部材72の厚み寸法h2は、凹部622の深さ寸法H、及び波長可変干渉フィルター5の厚み寸法h3に対して、間隙CL1の寸法h1が、上述の所望値となるように設定されている。すなわち、各寸法h1,h2,h3の和が、凹部622の深さ寸法Hとなるように、位置決め部材72の厚み寸法h2が設定されている。
The positioning member 72 is a member for positioning the wavelength tunable interference filter 5 in the Z direction and setting the dimension h1 (see FIG. 2) of the gap CL1 to a desired value, as described later. The positioning member 72 has a flat plate shape and is made of glass or the like. The positioning member 72 has a filter contact surface 72A that contacts the variable wavelength interference filter 5 and an upper surface 72B opposite to the filter contact surface 72A. With the positioning member 72 disposed on the variable wavelength interference filter 5, the filter contact surface 72A and the upper surface 72B are orthogonal to the Z direction.
Here, the thickness dimension h2 of the positioning member 72 in the Z direction is the depth dimension H of the recess 622 and the thickness dimension h3 of the wavelength tunable interference filter 5, and the dimension h1 of the gap CL1 is the above-described desired value. Is set to be. That is, the thickness dimension h2 of the positioning member 72 is set such that the sum of the respective dimensions h1, h2, h3 becomes the depth dimension H of the recess 622.

図8に示すように、ガイド部材71及び位置決め部材72を配置した状態で、波長可変干渉フィルター5をX方向に突出部623に向かって移動させる。波長可変干渉フィルター5は、X方向に移動され、図9に示すように、側面51Aが突出部623の先端623Aに当接される。この際、側面51Aの全面に固定部材624が密着している。
ここで、波長可変干渉フィルター5のY方向に交差する一対の端面5A,5Bのそれぞれに当接するようにガイド部材71が配置されている。これにより、波長可変干渉フィルター5をX方向に移動させる際に、Y方向における位置が変化することを抑制できる。
As shown in FIG. 8, with the guide member 71 and the positioning member 72 arranged, the wavelength tunable interference filter 5 is moved toward the protrusion 623 in the X direction. The wavelength tunable interference filter 5 is moved in the X direction, and the side surface 51A is brought into contact with the tip 623A of the protrusion 623 as shown in FIG. At this time, the fixing member 624 is in close contact with the entire surface of the side surface 51A.
Here, the guide member 71 is arranged so as to abut on each of the pair of end faces 5A and 5B of the variable wavelength interference filter 5 which intersect in the Y direction. This can prevent the position in the Y direction from changing when moving the variable wavelength interference filter 5 in the X direction.

次に、図10に示すように、リッド接合面621Aに当接する第一挟持部材73と、Z方向において当該第一挟持部材73とは逆側からベース620に当接する第二挟持部材74とで、Z方向の両側からベース620を挟持し、+Z方向が鉛直方向の上から下に向かう方向となるように上下を反転させて、波長可変干渉フィルター5のZ方向の位置決めを行う。
すなわち、ベース620の上下を反転させると、波長可変干渉フィルター5及び位置決め部材72が+Z方向(下方)に移動する。そして、第一挟持部材73のリッド接合面621Aに当接する当接平面73A(Z方向に直交する面)に、位置決め部材72の上面72Bが当接し、Z方向において波長可変干渉フィルター5が位置決めされる。
上述のように、凹部622の深さ寸法H、間隙CL1の寸法h1、位置決め部材72の厚み寸法h2、及び波長可変干渉フィルター5の厚み寸法h3は、寸法h1が所望値となるように設定されているので、可動基板52の下面52Bと底部622Aとの間に所望の寸法h1の間隙CL1が設けられる。
Next, as shown in FIG. 10, a first holding member 73 that contacts the lid joint surface 621A and a second holding member 74 that contacts the base 620 from the side opposite to the first holding member 73 in the Z direction. , The base 620 is sandwiched from both sides in the Z direction, and the +Z direction is turned upside down so that the vertical direction is from the top to the bottom, and the tunable interference filter 5 is positioned in the Z direction.
That is, when the base 620 is turned upside down, the variable wavelength interference filter 5 and the positioning member 72 move in the +Z direction (downward). Then, the upper surface 72B of the positioning member 72 contacts the contact plane 73A (the surface orthogonal to the Z direction) that contacts the lid joint surface 621A of the first holding member 73, and the wavelength tunable interference filter 5 is positioned in the Z direction. It
As described above, the depth dimension H of the recess 622, the dimension h1 of the gap CL1, the thickness dimension h2 of the positioning member 72, and the thickness dimension h3 of the wavelength tunable interference filter 5 are set so that the dimension h1 becomes a desired value. Therefore, a gap CL1 having a desired dimension h1 is provided between the lower surface 52B of the movable substrate 52 and the bottom portion 622A.

そして、波長可変干渉フィルター5が、位置決めされた状態で固定部材624を硬化させて、波長可変干渉フィルター5の側面51Aと、ベース620の固定面621Bとを固定部材624で固定する。固定部材624を硬化させた後、ガイド部材71及び位置決め部材72を取り除く。このようにして、波長可変干渉フィルター5が、側面51Aの略全面の一箇所で、ベース620に対して固定される。そして、側面51A以外では、波長可変干渉フィルター5の表面と、ベース620との間に間隙が設けられている(図1及び図2参照)。すなわち、固定基板51及び可動基板52の表面のうちの外部に露出している領域と、ベース620とが、間隙を介して配置されている。 Then, the tunable interference filter 5 cures the fixing member 624 in the positioned state, and fixes the side surface 51A of the tunable interference filter 5 and the fixing surface 621B of the base 620 with the fixing member 624. After the fixing member 624 is hardened, the guide member 71 and the positioning member 72 are removed. In this way, the wavelength tunable interference filter 5 is fixed to the base 620 at one location on substantially the entire side surface 51A. Then, except for the side surface 51A, a gap is provided between the surface of the variable wavelength interference filter 5 and the base 620 (see FIGS. 1 and 2). That is, the regions of the surfaces of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 exposed to the outside and the base 620 are arranged with a gap therebetween.

なお、固定基板51の上面51Bとリッド630との距離は寸法h2以上となる(厳密には、寸法h2と接合部材の厚み寸法との和)。したがって、上面51Bとリッド630との距離の最小値を、寸法h2によって規定することができる。例えば、寸法h1と同様に、固定基板51の固定端となる側面51Aとは反対側の自由端側の上端の最大振幅よりも大きくなるように、寸法h2を設定することにより、上面51Bがリッド630に接触することを抑制できる。 The distance between the upper surface 51B of the fixed substrate 51 and the lid 630 is the dimension h2 or more (strictly speaking, the dimension h2 and the thickness dimension of the joining member). Therefore, the minimum value of the distance between the upper surface 51B and the lid 630 can be defined by the dimension h2. For example, like the dimension h1, by setting the dimension h2 so that it is larger than the maximum amplitude of the upper end on the free end side opposite to the side surface 51A that is the fixed end of the fixed substrate 51, the upper surface 51B is set to the lid 51B. It is possible to suppress contact with the 630.

次に、配線接続工程を実施する(S44)。このS44では、ワイヤーボンディングにより、波長可変干渉フィルター5の各電極パッド564P,565Pと、各内部端子622Dとをそれぞれワイヤーで接続する。
この後、ベース620及びリッド630を接合するリッド接合工程を実施する(S45)。なお、リッド630の接合とともに、光通過孔628を覆う位置に透光性部材629を接合する。このS45では、例えば真空チャンバー装置等において、真空雰囲気に設定された環境下でベース620と、透光性部材629及びリッド630とを接合する。
以上により、光学フィルターデバイス600が製造される。
Next, a wiring connection process is performed (S44). In S44, the electrode pads 564P and 565P of the variable wavelength interference filter 5 and the internal terminals 622D are connected by wires by wire bonding.
After that, a lid joining step of joining the base 620 and the lid 630 is performed (S45). Along with joining the lid 630, a translucent member 629 is joined to a position covering the light passage hole 628. In S45, the base 620 is joined to the translucent member 629 and the lid 630 under an environment set in a vacuum atmosphere, for example, in a vacuum chamber device or the like.
Through the above steps, the optical filter device 600 is manufactured.

[実施形態の作用効果]
本実施形態では、波長可変干渉フィルター5の固定基板51の一箇所を、固定部材624でベース620に固定する。そして、波長可変干渉フィルター5の固定部材624による固定部分以外の部分と、ベース620とが間隙(間隙CL1)を介して配置されている。
ここで、固定基板51を一箇所で固定した場合、例えば、外乱の影響により、上述のようにフィルター振動が生じる場合がある。
本実施形態では、波長可変干渉フィルター5が側面51Aの一箇所で固定部材624により固定されているものの、固定部材624の固定部分以外の部分では、ベース620との間に間隙CL1が設けられており、ベース620に接触していない。このため、外乱による振動がベース620から各基板51,52に伝達することを抑制でき、外乱の影響による上記フィルター振動の発生を抑制できる。したがって、上記フィルター振動による基板の各基板51,52の歪みを抑制でき、波長可変干渉フィルター5の分解能の低下を抑制できる。
[Operation and effect of the embodiment]
In this embodiment, one portion of the fixed substrate 51 of the variable wavelength interference filter 5 is fixed to the base 620 by the fixing member 624. Then, the portion of the wavelength tunable interference filter 5 other than the portion fixed by the fixing member 624 and the base 620 are arranged with a gap (gap CL1) therebetween.
Here, when the fixed substrate 51 is fixed at one place, the filter vibration may occur as described above due to the influence of disturbance, for example.
In the present embodiment, the wavelength tunable interference filter 5 is fixed by the fixing member 624 at one place on the side surface 51A, but a gap CL1 is provided between the fixed member 624 and the base 620 at a portion other than the fixing portion. And does not contact the base 620. Therefore, it is possible to suppress the vibration due to the disturbance from being transmitted from the base 620 to the substrates 51 and 52, and it is possible to suppress the occurrence of the filter vibration due to the influence of the disturbance. Therefore, it is possible to suppress the distortion of each of the substrates 51 and 52 of the substrate due to the filter vibration, and it is possible to prevent the resolution of the variable wavelength interference filter 5 from being lowered.

本実施形態では、固定部材は、基板の厚み方向に沿った側面を一箇所で固定している。
通常、固定基板51の厚み方向に対する剛性(撓みに対する耐性)は、平面方向に対する剛性よりも低い。このため、上述のように、側面51Aの一箇所に固定部材624を設けることで、固定部材624からの応力の方向を側面51Aに沿った平面方向とすることができ、固定部材624からの応力による固定基板51の歪みを抑制でき、波長可変干渉フィルター5の分解能の低下を抑制できる。
In this embodiment, the fixing member fixes the side surface along the thickness direction of the substrate at one place.
Generally, the rigidity of the fixed substrate 51 in the thickness direction (resistance to bending) is lower than the rigidity in the plane direction. Therefore, as described above, by providing the fixing member 624 at one place on the side surface 51A, the direction of the stress from the fixing member 624 can be set to the planar direction along the side surface 51A, and the stress from the fixing member 624 can be reduced. It is possible to suppress the distortion of the fixed substrate 51 due to, and to suppress the deterioration of the resolution of the variable wavelength interference filter 5.

本実施形態では、側面51Aの厚み方向に交差する辺C1´−C2´に沿って固定部材624が設けられている。このような構成では、例えば、側面51Aの略全面に固定部材624を設けることができ、固定部材624の側面51Aの一部を固定する場合と比べて、固定面積を大きくすることができる。これにより、固定部材624の弾性率を低くしたとしても、固定部材624による固定力を所望値以上とすることができ、固定基板51の脱落を抑制できる。 In the present embodiment, the fixing member 624 is provided along the side C1′-C2′ that intersects the side surface 51A in the thickness direction. In such a configuration, for example, the fixing member 624 can be provided on the substantially entire surface of the side surface 51A, and the fixing area can be increased as compared with the case where a part of the side surface 51A of the fixing member 624 is fixed. Thereby, even if the elastic modulus of the fixing member 624 is reduced, the fixing force of the fixing member 624 can be set to a desired value or more, and the fixing substrate 51 can be prevented from falling off.

本実施形態では、固定部材624は、側面51Aを固定端とする基板の回転に応じた応力で弾性変形する。
ここで、固定基板51の側面51Aを一箇所で固定する構成では、上述のように、外乱の影響でフィルター振動が発生する場合がある。この場合、固定位置を固定端(基点)として回転しようとする応力が、固定部材624や固定基板51に作用する。
これに対して、本実施形態では、固定部材624が、上記応力を受けて弾性変形する程度の低弾性材料で形成されている。このため、フィルター振動を誘起する力が、光学フィルターデバイス600や、波長可変干渉フィルター5に作用した場合でも、固定部材624が弾性変形することで上記フィルター振動が残留することを抑制できる。
In this embodiment, the fixing member 624 is elastically deformed by the stress according to the rotation of the substrate having the side surface 51A as the fixed end.
Here, in the configuration in which the side surface 51A of the fixed substrate 51 is fixed at one place, as described above, filter vibration may occur due to the influence of disturbance. In this case, the stress that attempts to rotate with the fixed position as the fixed end (base point) acts on the fixed member 624 and the fixed substrate 51.
On the other hand, in the present embodiment, the fixing member 624 is formed of a low elastic material that is elastically deformed by receiving the stress. Therefore, even when the force that induces the filter vibration acts on the optical filter device 600 and the variable wavelength interference filter 5, it is possible to suppress the residual filter vibration due to the elastic deformation of the fixing member 624.

また、本実施形態では、ギャップ変更部としての静電アクチュエーター56によって可動部521が駆動される。上述のように、この可動部521の駆動に応じて、波長可変干渉フィルター5に上記フィルター振動が誘起される場合がある。
これに対して、本実施形態では、上記フィルター振動が生じた場合でも、固定部材624が弾性変形することにより、上記フィルター振動の残留を好適に抑制できる。また、間隙CL1を設けることにより、波長可変干渉フィルター5とベース620との接触を抑制でき、接触の衝撃による波長可変干渉フィルター5の劣化や、脱落を抑制できる。
Further, in this embodiment, the movable portion 521 is driven by the electrostatic actuator 56 serving as the gap changing portion. As described above, the filter vibration may be induced in the variable wavelength interference filter 5 in response to the driving of the movable portion 521.
On the other hand, in the present embodiment, even when the filter vibration occurs, the fixing member 624 elastically deforms, so that the residual filter vibration can be preferably suppressed. Further, by providing the gap CL1, it is possible to suppress contact between the wavelength tunable interference filter 5 and the base 620, and it is possible to suppress deterioration and dropout of the wavelength tunable interference filter 5 due to impact of contact.

本実施形態では、突出部623が、ベース620の固定面621Bから側面51Aに向かって突出し、当該側面51Aに当接している。
このような構成では、側面51Aと固定面621Bとの間の距離を、突出部623の突出方向の寸法で規定することができ、側面51Aと固定面621Bを離間させつつも、ベース620に対して固定基板51を位置決めして固定することができる。
In the present embodiment, the projecting portion 623 projects from the fixed surface 621B of the base 620 toward the side surface 51A and is in contact with the side surface 51A.
In such a configuration, the distance between the side surface 51A and the fixed surface 621B can be defined by the dimension of the protruding portion 623 in the protruding direction, and the side surface 51A and the fixed surface 621B can be spaced apart from the base 620. The fixed substrate 51 can be positioned and fixed.

本実施形態では、突出部623は、複数設けられ、突出方向に向かうにしたがって、固定面621Bに沿った方向の断面積が小さくなる曲面形状を有する。
このような構成では、側面51Aと突出部623との間の接触面積を小さくできるため、外乱による振動がベース620から固定基板51に伝達されることをより確実に抑制できる。また、複数の突出部623で当接することで、接触面積を小さくしながらも位置決め精度を向上させることができる。
In the present embodiment, a plurality of protrusions 623 are provided, and have a curved surface shape in which the cross-sectional area in the direction along the fixed surface 621B decreases in the protrusion direction.
With such a configuration, the contact area between the side surface 51A and the protruding portion 623 can be reduced, so that vibration due to disturbance can be more reliably suppressed from being transmitted from the base 620 to the fixed substrate 51. Further, by abutting with the plurality of protrusions 623, it is possible to improve the positioning accuracy while reducing the contact area.

本実施形態では、突出部623は、ベース620の固定面621Bに設けられ、固定部材624よりも高い弾性率を有する材料で形成されている。
このような構成では、例えば、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の液体から固体に硬化する材料を、固定面621Bに塗布し硬化させることで、突出部623を容易に形成することができる。また、突出部623の形成材料が硬化収縮した際の応力が、波長可変干渉フィルター5に作用することがないため、当該硬化収縮による歪みがなく、突出部623を設けることによる波長可変干渉フィルター5の分解能の低下を抑制できる。また、高弾性の材料(例えば、エポキシ樹脂等)を用いて突出部623を形成したとしても、硬化収縮による波長可変干渉フィルター5の歪みを抑制できる。
In this embodiment, the protruding portion 623 is provided on the fixed surface 621B of the base 620 and is made of a material having a higher elastic modulus than the fixing member 624.
In such a configuration, for example, the protrusion 623 can be easily formed by applying a material, such as a thermosetting resin or a photocurable resin, that hardens from a liquid to a solid to the fixing surface 621B and hardening the material. .. Further, since the stress when the forming material of the protrusion 623 is cured and contracted does not act on the wavelength tunable interference filter 5, there is no distortion due to the curing and contraction, and the wavelength tunable interference filter 5 provided by the protrusion 623 is provided. It is possible to suppress the deterioration of the resolution of. Further, even if the protruding portion 623 is formed using a highly elastic material (for example, epoxy resin or the like), it is possible to suppress the distortion of the wavelength tunable interference filter 5 due to curing contraction.

ここで、本実施形態では、固定部材624として、シリコーン系接着剤等の低弾性材料を用いて、波長可変干渉フィルター5をベース620に固定している。これにより、波長可変干渉フィルター5の各基板51,52とベース620との間での熱膨張係数差により、膨張量(又は収縮量)に差が生じたとしても、固定部材624を変形させることができ、上記熱膨張係数差によって固定基板51に作用する応力で、当該固定基板51が撓むことを抑制できる。 Here, in this embodiment, the variable wavelength interference filter 5 is fixed to the base 620 by using a low elastic material such as a silicone adhesive as the fixing member 624. Accordingly, even if the expansion amount (or the contraction amount) is different due to the difference in the thermal expansion coefficient between the substrates 51 and 52 of the variable wavelength interference filter 5 and the base 620, the fixing member 624 is deformed. Therefore, it is possible to prevent the fixed substrate 51 from bending due to the stress acting on the fixed substrate 51 due to the difference in thermal expansion coefficient.

また、固定部材624として、突出部623よりも弾性率が低い低弾性材料を用いている。例えば、固定部材624としてシリコーン系接着剤を用いる場合、突出部623としてのエポキシ樹脂を使用できる。これにより、固定部材624が硬化収縮することで、波長可変干渉フィルター5に+X方向の応力が作用し、突出部623がX方向に押圧されても、突出部623の変形を抑制でき、波長可変干渉フィルター5の位置ズレを抑制できる。
また、波長可変干渉フィルター5のX方向の位置が突出部623で規制された状態で、固定部材624に硬化収縮が発生したとして、固定部材624として低弾性材料を用いることにより、固定部材624を弾性変形させることができ、波長可変干渉フィルター5の脱落を抑制できる。
Further, as the fixing member 624, a low elastic material whose elastic modulus is lower than that of the protruding portion 623 is used. For example, when a silicone adhesive is used as the fixing member 624, an epoxy resin can be used as the protruding portion 623. As a result, when the fixing member 624 is cured and shrunk, a stress in the +X direction acts on the variable wavelength interference filter 5, and even if the protruding portion 623 is pressed in the X direction, the deformation of the protruding portion 623 can be suppressed, and the variable wavelength can be changed. The position shift of the interference filter 5 can be suppressed.
In addition, assuming that the fixing member 624 undergoes curing shrinkage in a state where the position of the wavelength tunable interference filter 5 in the X direction is regulated by the protruding portion 623, the fixing member 624 is fixed by using a low-elasticity material. It can be elastically deformed, and the variable wavelength interference filter 5 can be prevented from falling off.

[第二実施形態]
次に、本発明に係る第二実施形態について、図面に基づいて説明する。
第二実施形態では、上記第一実施形態の光学フィルターデバイス600が組み込まれた光学モジュールである測色センサー3、及び光学フィルターデバイス600が組み込まれた電子機器である測色装置1を説明する。
[Second embodiment]
Next, a second embodiment according to the present invention will be described based on the drawings.
In the second embodiment, a colorimetric sensor 3 which is an optical module in which the optical filter device 600 of the first embodiment is incorporated, and a colorimetric device 1 which is an electronic device in which the optical filter device 600 is incorporated will be described.

[測色装置の概略構成]
図11は、測色装置1の概略構成を示すブロック図である。
測色装置1は、本発明の電子機器である。この測色装置1は、図11に示すように、検査対象Xに光を射出する光源装置2と、測色センサー3と、測色装置1の全体動作を制御する制御装置4と、を備える。そして、この測色装置1は、光源装置2から射出され検査対象Xにて反射された検査対象光を測色センサー3にて受光する。そして、測色装置1は、受光した測色センサー3から出力される検出信号に基づいて、検査対象光の色度、すなわち検査対象Xの色を分析して測定する装置である。
[Schematic configuration of color measuring device]
FIG. 11 is a block diagram showing a schematic configuration of the color measuring device 1.
The color measuring device 1 is the electronic device of the present invention. As shown in FIG. 11, the color measurement device 1 includes a light source device 2 that emits light to the inspection target X, a color measurement sensor 3, and a control device 4 that controls the overall operation of the color measurement device 1. .. Then, in the color measurement device 1, the inspection target light emitted from the light source device 2 and reflected by the inspection target X is received by the color measurement sensor 3. The color measurement device 1 is a device that analyzes and measures the chromaticity of the inspection target light, that is, the color of the inspection target X, based on the detection signal output from the received color measurement sensor 3.

[光源装置の構成]
光源装置2は、光源21、複数のレンズ22(図11には1つのみ記載)を備え、検査対象Xに対して白色光を射出する。また、複数のレンズ22には、コリメーターレンズが含まれてもよく、この場合、光源装置2は、光源21から射出された白色光をコリメーターレンズにより平行光とし、図示しない投射レンズから検査対象Xに向かって射出する。なお、本実施形態では、光源装置2を備える測色装置1を例示するが、例えば検査対象Xが液晶パネル等の発光部材である場合、光源装置2が設けられない構成としてもよい。
[Configuration of light source device]
The light source device 2 includes a light source 21 and a plurality of lenses 22 (only one is shown in FIG. 11), and emits white light to the inspection target X. Further, the plurality of lenses 22 may include a collimator lens. In this case, the light source device 2 collimates the white light emitted from the light source 21 by the collimator lens and inspects it from a projection lens (not shown). Eject toward the target X. In the present embodiment, the colorimetric device 1 including the light source device 2 is illustrated, but when the inspection target X is a light emitting member such as a liquid crystal panel, the light source device 2 may not be provided.

[測色センサーの構成]
測色センサー3は、本発明の光学モジュールを構成し、上記第一実施形態の光学フィルターデバイス600を備えている。この測色センサー3は、図11に示すように、光学フィルターデバイス600と、光学フィルターデバイス600を透過した光を受光する検出部31と、波長可変干渉フィルター5の透過光の波長を変更する電圧制御部32と、を備える。
また、測色センサー3は、波長可変干渉フィルター5に対向する位置に、検査対象Xで反射された反射光(検査対象光)を、内部に導光する図示しない入射光学レンズを備えている。そして、この測色センサー3は、光学フィルターデバイス600内の波長可変干渉フィルター5により、入射光学レンズから入射した検査対象光のうち、所定波長の光を分光し、分光した光を検出部31にて受光する。
[Configuration of colorimetric sensor]
The colorimetric sensor 3 constitutes the optical module of the present invention and includes the optical filter device 600 of the first embodiment. As shown in FIG. 11, the colorimetric sensor 3 includes an optical filter device 600, a detection unit 31 that receives light transmitted through the optical filter device 600, and a voltage that changes the wavelength of the transmitted light of the variable wavelength interference filter 5. And a control unit 32.
Further, the colorimetric sensor 3 is provided with an incident optical lens (not shown) that guides the reflected light (inspection target light) reflected by the inspection target X to the inside at a position facing the variable wavelength interference filter 5. Then, the colorimetric sensor 3 uses the variable wavelength interference filter 5 in the optical filter device 600 to disperse the light having a predetermined wavelength out of the inspection object light incident from the incident optical lens, and disperse the separated light to the detection unit 31. To receive light.

検出部31は、複数の光電交換素子により構成されており、受光量に応じた電気信号を生成する。ここで、検出部31は、例えば回路基板311を介して、制御装置4に接続されており、生成した電気信号を受光信号として制御装置4に出力する。
また、この回路基板311には、筐体610の外側表面に形成された外側端子が接続されており、回路基板311に形成された回路を介して、電圧制御部32に接続されている。
このような構成では、回路基板311を介して、光学フィルターデバイス600及び検出部31を一体的に構成でき、測色センサー3の構成を簡略化することができる。
The detection unit 31 includes a plurality of photoelectric conversion elements, and generates an electric signal according to the amount of received light. Here, the detection unit 31 is connected to the control device 4 via, for example, the circuit board 311, and outputs the generated electric signal to the control device 4 as a light reception signal.
Further, an outer terminal formed on the outer surface of the housing 610 is connected to the circuit board 311, and is connected to the voltage control unit 32 via a circuit formed on the circuit board 311.
With such a configuration, the optical filter device 600 and the detection unit 31 can be integrally configured via the circuit board 311, and the configuration of the colorimetric sensor 3 can be simplified.

電圧制御部32は、回路基板311を介して光学フィルターデバイス600の外側端子に接続される。そして、電圧制御部32は、制御装置4から入力される制御信号に基づいて、電極パッド564P,565Pに所定のステップ電圧を印加することで、静電アクチュエーター56を駆動させる。これにより、電極間ギャップに静電引力が発生し、保持部522が撓むことで、可動部521が固定基板51側に変位し、反射膜間ギャップG1を所望の寸法に設定することが可能となる。 The voltage control unit 32 is connected to the outer terminal of the optical filter device 600 via the circuit board 311. Then, the voltage controller 32 drives the electrostatic actuator 56 by applying a predetermined step voltage to the electrode pads 564P and 565P based on a control signal input from the control device 4. As a result, electrostatic attraction is generated in the inter-electrode gap, and the holding part 522 bends, whereby the movable part 521 is displaced toward the fixed substrate 51 side, and the inter-reflective film gap G1 can be set to a desired dimension. Becomes

[制御装置の構成]
制御装置4は、本発明の処理部に相当し、測色装置1の全体動作を制御する。
この制御装置4としては、例えば汎用パーソナルコンピューターや、携帯情報端末、その他、測色専用コンピューター等を用いることができる。
そして、制御装置4は、図11に示すように、光源制御部41、測色センサー制御部42、及び測色処理部43等を備えて構成されている。
光源制御部41は、光源装置2に接続されている。そして、光源制御部41は、例えば利用者の設定入力に基づいて、光源装置2に所定の制御信号を出力し、光源装置2から所定の明るさの白色光を射出させる。
測色センサー制御部42は、測色センサー3に接続されている。そして、測色センサー制御部42は、例えば利用者の設定入力に基づいて、測色センサー3にて受光させる光の波長を設定し、この波長の光の受光量を検出する旨の制御信号を測色センサー3に出力する。これにより、測色センサー3の電圧制御部32は、制御信号に基づいて、利用者が所望する光の波長のみを透過させるよう、静電アクチュエーター56への印加電圧を設定する。
測色処理部43は、検出部31により検出された受光量から、検査対象Xの色度を分析する。
[Configuration of control device]
The control device 4 corresponds to the processing unit of the present invention and controls the overall operation of the colorimetric device 1.
As the control device 4, for example, a general-purpose personal computer, a mobile information terminal, or a computer dedicated to color measurement can be used.
As shown in FIG. 11, the control device 4 includes a light source control unit 41, a color measurement sensor control unit 42, a color measurement processing unit 43, and the like.
The light source control unit 41 is connected to the light source device 2. Then, the light source control unit 41 outputs a predetermined control signal to the light source device 2 based on, for example, a user's setting input, and causes the light source device 2 to emit white light with a predetermined brightness.
The colorimetric sensor control unit 42 is connected to the colorimetric sensor 3. Then, the colorimetric sensor control unit 42 sets the wavelength of the light to be received by the colorimetric sensor 3 based on, for example, the user's setting input, and outputs a control signal for detecting the amount of received light of this wavelength. Output to the colorimetric sensor 3. Accordingly, the voltage control unit 32 of the colorimetric sensor 3 sets the voltage applied to the electrostatic actuator 56 based on the control signal so that only the wavelength of the light desired by the user is transmitted.
The colorimetric processing unit 43 analyzes the chromaticity of the inspection target X based on the amount of received light detected by the detection unit 31.

[第二実施形態の作用効果]
本実施形態の測色装置1は、上記第一実施形態のような光学フィルターデバイス600を備えている。上述したように、光学フィルターデバイス600は、接合時における可動基板52の撓みや反りを低減でき、波長可変干渉フィルター5から所望波長の光を精度よく出射させることができる。
したがって、光学モジュールである測色センサー3は、検出部31により所望波長の光量を高精度に検出することが可能となる。これにより、電子機器である測色装置1は、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御することで、検査対象Xに対する高精度な測色処理を実施できる。
[Operation and Effect of Second Embodiment]
The colorimetric device 1 of this embodiment includes the optical filter device 600 as in the first embodiment. As described above, the optical filter device 600 can reduce the bending and warpage of the movable substrate 52 at the time of joining, and can accurately emit the light of the desired wavelength from the variable wavelength interference filter 5.
Therefore, the colorimetric sensor 3, which is an optical module, can detect the light amount of the desired wavelength with high accuracy by the detection unit 31. As a result, the colorimetric device 1, which is an electronic device, can control the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600 to perform highly accurate colorimetric processing on the inspection target X.

[実施形態の変形]
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター5の固定基板51の側面51Aの全面を固定する構成を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、固定基板51の側面51Aの一部を一箇所で固定する構成でもよい。この場合、固定面積を小さくすることができ、固定部材624からの応力による固定基板51の歪みをより確実に抑制できる。
また、側面51Aに限らず、固定基板51の辺C1´−C4´を含む側面や、辺C2´−C3´を含む側面の一箇所を固定してもよい。また、側面に限らず、底部622Aに対向する可動基板の下面52Bの一部を一箇所で固定してもよい。
また、固定基板51の4つの頂点C1〜C4のうちの1つを含む角部を1箇所で固定してもよく、同様に、可動基板52の4つの頂点C1´〜C4´のうちの1つを含む角部を1箇所で固定してもよい。
上述のいずれの場合も、突出部623は、波長可変干渉フィルター5における固定部材624の固定位置と、当該固定位置に対向する凹部622の内面との間に設けられる。
例えば、頂点C1´を含む角部、すなわち頂点C1´を跨ぎ、辺C1´−C2´を含む側面51Aから、辺C1´−C4´を含む側面を固定する場合、凹部622の内面における、固定部材624に固定される各側面の固定位置と対向する位置に、突出部623が設けられる。
[Modification of Embodiment]
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, etc. within the scope of achieving the object of the present invention are included in the present invention.
In each of the above-described embodiments, the configuration in which the entire side surface 51A of the fixed substrate 51 of the variable wavelength interference filter 5 is fixed is illustrated, but the present invention is not limited to this. For example, the side surface 51A of the fixed substrate 51 may be partly fixed at one place. In this case, the fixing area can be reduced, and the distortion of the fixed substrate 51 due to the stress from the fixing member 624 can be suppressed more reliably.
In addition to the side surface 51A, one side surface of the fixed substrate 51 including the sides C1′-C4′ and one side surface including the sides C2′-C3′ may be fixed. Moreover, not only the side surface but also a part of the lower surface 52B of the movable substrate facing the bottom portion 622A may be fixed at one place.
Further, the corner portion including one of the four vertices C1 to C4 of the fixed substrate 51 may be fixed at one place, and similarly, one of the four vertices C1′ to C4′ of the movable substrate 52 may be fixed. You may fix the corner part containing one in one place.
In any of the above cases, the protrusion 623 is provided between the fixed position of the fixing member 624 in the variable wavelength interference filter 5 and the inner surface of the recess 622 facing the fixed position.
For example, in the case of fixing a corner portion including the apex C1′, that is, a side surface 51A including the side C1′-C2′ across the apex C1′ and a side surface including the side C1′-C4′, the inner surface of the recess 622 is fixed The protrusion 623 is provided at a position facing the fixed position of each side face fixed to the member 624.

上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター5の固定基板51を固定する構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、可動基板52をベース620に固定する構成としてもよい。例えば、固定基板51をベース620側に向けて波長可変干渉フィルター5を配置し、可動基板52をベース620に固定する構成が挙げられる。
なお、固定基板51及び可動基板52の両方を固定部材624で固定してもよい。例えば、固定基板51の辺C1´−C4´側の波長可変干渉フィルター5の側面や、辺C2´−C3´側の波長可変干渉フィルター5の側面を固定部材624で固定する際に、可動基板52の側面も共に固定してもよい。
In each of the above embodiments, the fixed substrate 51 of the variable wavelength interference filter 5 is fixed, but the present invention is not limited to this, and the movable substrate 52 may be fixed to the base 620. For example, there is a configuration in which the variable wavelength interference filter 5 is arranged with the fixed substrate 51 facing the base 620 side, and the movable substrate 52 is fixed to the base 620.
Note that both the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 may be fixed by the fixing member 624. For example, when fixing the side surface of the wavelength tunable interference filter 5 on the side C1′-C4′ side of the fixed substrate 51 or the side surface of the wavelength tunable interference filter 5 on the side C2′-C3′ side with the fixing member 624, the movable substrate The side surfaces of 52 may be fixed together.

上記各実施形態では、突出部623は、ベース620に設けられている構成を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、固定基板51及び可動基板52の少なくとも一方、すなわち波長可変干渉フィルター5側に突出部623が形成されてもよく、波長可変干渉フィルター5とベース620との両側に突出部623が形成されてもよい。 In each of the above-described embodiments, the configuration in which the protrusion 623 is provided on the base 620 is illustrated, but the present invention is not limited to this. For example, the protrusion 623 may be formed on at least one of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52, that is, on the variable wavelength interference filter 5 side, and the protrusions 623 may be formed on both sides of the variable wavelength interference filter 5 and the base 620. Good.

上記各実施形態では、突出部623が、突出方向に向かうにしたがって固定面621Bに平行な面方向の断面積が小さくなる半球状である構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、錘状や台形状であってもよい。
また、突出部623は、突出方向に向かうにしたがって上述のように断面積が小さくなる形状に限定されず、断面積が略変化しない柱状の形状でもよい。なお、断面積が小さくなるように例えば半球状とすることにより、突出部623の剛性を確保しつつ、波長可変干渉フィルター5とベース620との間の接触面積を小さくすることができる。
In each of the above embodiments, the protrusion 623 has a hemispherical configuration in which the cross-sectional area in the plane direction parallel to the fixed surface 621B decreases toward the protrusion direction, but the present invention is not limited thereto. For example, it may be in the shape of a cone or a trapezoid.
Further, the projecting portion 623 is not limited to the shape in which the cross-sectional area decreases as it goes in the projecting direction as described above, and may have a columnar shape in which the cross-sectional area does not substantially change. In addition, by making the cross-sectional area small, for example, hemispherical, it is possible to reduce the contact area between the wavelength tunable interference filter 5 and the base 620 while ensuring the rigidity of the protrusion 623.

上記各実施形態では、ギャップ変更部として、固定電極561、及び可動電極562に電圧を印加することで、静電引力により反射膜間ギャップG1の大きさを変更する静電アクチュエーター56を備える構成を例示したが、これに限定されない。
例えば、ギャップ変更部として、誘導アクチュエーターを用いてもよい。この場合、固定電極561の代わりに、第一誘導コイルを配置し、可動電極562の代わりに第二誘導コイル又は永久磁石を配置する構成を例示できる。
さらに、ギャップ変更部として、圧電アクチュエーターを用いてもよい。この場合、保持部522に下部電極層、圧電膜、及び上部電極層を積層配置させ、下部電極層及び上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部522を撓ませる構成を例示できる。
また、上記各実施形態では、ギャップ変更部としての静電アクチュエーター56を一対の基板の一方のみに設けた構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、ギャップ変更部を両方の基板に設けてもよい。
In each of the above-described embodiments, the gap changing unit includes the electrostatic actuator 56 that changes the size of the inter-reflective film gap G1 by electrostatic attraction by applying a voltage to the fixed electrode 561 and the movable electrode 562. Although illustrated, it is not limited thereto.
For example, an induction actuator may be used as the gap changing unit. In this case, a configuration in which the first induction coil is arranged instead of the fixed electrode 561 and the second induction coil or the permanent magnet is arranged instead of the movable electrode 562 can be exemplified.
Furthermore, a piezoelectric actuator may be used as the gap changing unit. In this case, the lower electrode layer, the piezoelectric film, and the upper electrode layer are stacked and arranged on the holding portion 522, and the voltage applied between the lower electrode layer and the upper electrode layer is changed as an input value to expand and contract the piezoelectric film. A configuration in which the holding portion 522 is bent can be exemplified.
Further, in each of the above-described embodiments, the configuration in which the electrostatic actuator 56 as the gap changing unit is provided on only one of the pair of substrates is illustrated, but the present invention is not limited to this, and the gap changing unit is provided on both substrates. It may be provided.

上記各実施形態では、反射膜間ギャップG1を変更可能に構成された波長可変干渉フィルター5を例示したが、これに限定されず、反射膜間ギャップG1の大きさが固定された干渉フィルターであってもよい。
また、上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター5として、一対の基板51,52と、各基板51,52のそれぞれに設けられた一対の反射膜54,55を備える構成を例示したが、これに限定されない。例えば、可動基板52が設けられない構成とし、固定基板51を筐体610に固定する構成としてもよい。この場合、例えば、基板(固定基板)の一面に第一反射膜、ギャップスペーサ、及び第二反射膜を積層形成し、第一反射膜と第二反射膜とがギャップを介して対向する構成とする。当該構成では、一枚の基板からなる構成となり、分光素子をより薄型化することができる。
In each of the above-described embodiments, the variable wavelength interference filter 5 configured to be able to change the inter-reflection film gap G1 has been exemplified, but the present invention is not limited to this, and the size of the inter-reflection film gap G1 is fixed. May be.
In addition, in each of the above-described embodiments, the wavelength variable interference filter 5 has a configuration including a pair of substrates 51 and 52 and a pair of reflection films 54 and 55 provided on the substrates 51 and 52, respectively. Not limited to. For example, the movable substrate 52 may not be provided, and the fixed substrate 51 may be fixed to the housing 610. In this case, for example, the first reflection film, the gap spacer, and the second reflection film are laminated on one surface of the substrate (fixed substrate), and the first reflection film and the second reflection film face each other with a gap interposed therebetween. To do. With this configuration, the configuration is made of one substrate, and the spectroscopic element can be made thinner.

また、本発明の電子機器として、第二実施形態において測色装置1を例示したが、その他、様々な分野により本発明の光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器を用いることができる。
以下、本発明の光学フィルターデバイスを利用した電子機器の変形例について説明する。なお、以下に例示する電子機器は、上記光学フィルターデバイス600を備え、波長可変干渉フィルター5が筐体610に収納されている。
Further, as the electronic device of the present invention, the colorimetric device 1 is exemplified in the second embodiment, but the optical filter device, the optical module, and the electronic device of the present invention can be used in various other fields.
Hereinafter, modified examples of electronic equipment using the optical filter device of the present invention will be described. The electronic equipment illustrated below includes the optical filter device 600, and the variable wavelength interference filter 5 is housed in the housing 610.

本発明の電子機器は、例えば、特定物質の存在を検出するための光ベースのシステムとして用いることができる。このようなシステムとしては、例えば、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターを用いた分光計測方式を採用して特定ガスを高感度検出する車載用ガス漏れ検出器や、呼気検査用の光音響希ガス検出器等のガス検出装置を例示できる。
このようなガス検出装置の一例を以下に図面に基づいて説明する。
The electronic device of the present invention can be used, for example, as a light-based system for detecting the presence of a specific substance. As such a system, for example, a vehicle-mounted gas leak detector that detects a specific gas with high sensitivity by adopting a spectroscopic measurement method using a variable wavelength interference filter included in the optical filter device of the present invention, or for a breath test A gas detection device such as a photoacoustic rare gas detector can be exemplified.
An example of such a gas detection device will be described below with reference to the drawings.

図12は、波長可変干渉フィルターを備えたガス検出装置の一例を示す概略図である。
図13は、図12のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図である。
このガス検出装置100は、図12に示すように、センサーチップ110と、吸引口120A、吸引流路120B、排出流路120C、及び排出口120Dを備えた流路120と、本体部130と、を備えて構成されている。
本体部130は、流路120を着脱可能な開口を有するセンサー部カバー131、排出手段133、筐体134、光学部135、フィルター136、光学フィルターデバイス600、及び受光素子137(検出部)等を含む検出装置と、検出された信号を処理し、検出部を制御する制御部138、電力を供給する電力供給部139等から構成されている。また、光学部135は、光を射出する光源135Aと、光源135Aから入射された光をセンサーチップ110側に反射し、センサーチップ側から入射された光を受光素子137側に透過するビームスプリッター135Bと、レンズ135C,レンズ135D,レンズ135Eと、により構成されている。
また、図13に示すように、ガス検出装置100の表面には、操作パネル140、表示部141、外部とのインターフェイスのための接続部142、電力供給部139が設けられている。電力供給部139が二次電池の場合には、充電のための接続部143を備えてもよい。
さらに、ガス検出装置100の制御部138は、図13に示すように、CPU等により構成された信号処理部144、光源135Aを制御するための光源ドライバー回路145、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御するための電圧制御部146、受光素子137からの信号を受信する受光回路147、センサーチップ110のコードを読み取り、センサーチップ110の有無を検出するセンサーチップ検出器148からの信号を受信するセンサーチップ検出回路149及び排出手段133を制御する排出ドライバー回路150等を備えている。
FIG. 12 is a schematic diagram showing an example of a gas detection device including a variable wavelength interference filter.
FIG. 13 is a block diagram showing the configuration of the control system of the gas detection device of FIG.
As shown in FIG. 12, the gas detection device 100 includes a sensor chip 110, a flow path 120 including a suction port 120A, a suction flow channel 120B, a discharge flow channel 120C, and a discharge port 120D, and a main body 130. Is configured.
The main body part 130 includes a sensor part cover 131 having an opening to which the flow path 120 can be attached and detached, a discharging means 133, a housing 134, an optical part 135, a filter 136, an optical filter device 600, a light receiving element 137 (detection part), and the like. It includes a detection device including the same, a control unit 138 that processes the detected signal and controls the detection unit, a power supply unit 139 that supplies electric power, and the like. In addition, the optical unit 135 emits a light source 135A and a beam splitter 135B that reflects the light incident from the light source 135A to the sensor chip 110 side and transmits the light incident from the sensor chip side to the light receiving element 137 side. And a lens 135C, a lens 135D, and a lens 135E.
Further, as shown in FIG. 13, an operation panel 140, a display unit 141, a connection unit 142 for an interface with the outside, and a power supply unit 139 are provided on the surface of the gas detection device 100. When the power supply unit 139 is a secondary battery, the connection unit 143 for charging may be provided.
Further, as shown in FIG. 13, the control unit 138 of the gas detection apparatus 100 includes a signal processing unit 144 configured by a CPU and the like, a light source driver circuit 145 for controlling the light source 135A, and wavelength tunable interference of the optical filter device 600. A signal from a voltage control unit 146 for controlling the filter 5, a light receiving circuit 147 that receives a signal from the light receiving element 137, a code from the sensor chip 110, and a signal from a sensor chip detector 148 that detects the presence or absence of the sensor chip 110 is output. The sensor chip detection circuit 149 for receiving and the ejection driver circuit 150 for controlling the ejection means 133 are provided.

次に、上記のようなガス検出装置100の動作について、以下に説明する。
本体部130の上部のセンサー部カバー131の内部には、センサーチップ検出器148が設けられており、このセンサーチップ検出器148でセンサーチップ110の有無が検出される。信号処理部144は、センサーチップ検出器148からの検出信号を検出すると、センサーチップ110が装着された状態であると判断し、表示部141へ検出動作を実施可能な旨を表示させる表示信号を出す。
Next, the operation of the gas detection device 100 as described above will be described below.
A sensor chip detector 148 is provided inside the sensor unit cover 131 above the main body unit 130, and the presence or absence of the sensor chip 110 is detected by this sensor chip detector 148. When the signal processing unit 144 detects the detection signal from the sensor chip detector 148, the signal processing unit 144 determines that the sensor chip 110 is mounted, and displays a display signal indicating that the detection operation can be performed on the display unit 141. put out.

そして、例えば利用者により操作パネル140が操作され、操作パネル140から検出処理を開始する旨の指示信号が信号処理部144へ出力されると、まず、信号処理部144は、光源ドライバー回路145に光源作動の信号を出力して光源135Aを作動させる。光源135Aが駆動されると、光源135Aから単一波長で直線偏光の安定したレーザー光が射出される。また、光源135Aには、温度センサーや光量センサーが内蔵されており、その情報が信号処理部144へ出力される。そして、信号処理部144は、光源135Aから入力された温度や光量に基づいて、光源135Aが安定動作していると判断すると、排出ドライバー回路150を制御して排出手段133を作動させる。これにより、検出すべき標的物質(ガス分子)を含んだ気体試料が、吸引口120Aから、吸引流路120B、センサーチップ110内、排出流路120C、排出口120Dへと誘導される。なお、吸引口120Aには、除塵フィルター120A1が設けられ、比較的大きい粉塵や一部の水蒸気等が除去される。 Then, for example, when the user operates the operation panel 140 and an instruction signal to the effect that the detection process is started is output from the operation panel 140 to the signal processing unit 144, the signal processing unit 144 first causes the light source driver circuit 145 to operate. A light source activation signal is output to activate the light source 135A. When the light source 135A is driven, a stable linearly polarized laser beam having a single wavelength is emitted from the light source 135A. Further, the light source 135A includes a temperature sensor and a light amount sensor, and the information thereof is output to the signal processing unit 144. When the signal processing unit 144 determines that the light source 135A is operating stably based on the temperature and the amount of light input from the light source 135A, the signal processing unit 144 controls the ejection driver circuit 150 to operate the ejection unit 133. As a result, the gas sample containing the target substance (gas molecule) to be detected is guided from the suction port 120A to the suction channel 120B, the inside of the sensor chip 110, the discharge channel 120C, and the discharge port 120D. A dust removal filter 120A1 is provided at the suction port 120A to remove relatively large dust and some water vapor.

また、センサーチップ110は、金属ナノ構造体が複数組み込まれ、局在表面プラズモン共鳴を利用したセンサーである。このようなセンサーチップ110では、レーザー光により金属ナノ構造体間で増強電場が形成され、この増強電場内にガス分子が入り込むと、分子振動の情報を含んだラマン散乱光及びレイリー散乱光が発生する。
これらのレイリー散乱光やラマン散乱光は、光学部135を通ってフィルター136に入射し、フィルター136によりレイリー散乱光が分離され、ラマン散乱光が光学フィルターデバイス600に入射する。そして、信号処理部144は、電圧制御部146を制御し、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5に印加する電圧を調整し、検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光を光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5で分光させる。この後、分光した光が受光素子137で受光されると、受光量に応じた受光信号が受光回路147を介して信号処理部144に出力される。
信号処理部144は、上記のようにして得られた検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光のスペクトルデータと、ROMに格納されているデータとを比較し、目的のガス分子か否かを判定し、物質の特定をする。また、信号処理部144は、表示部141にその結果情報を表示させたり、接続部142から外部へ出力したりする。
The sensor chip 110 is a sensor that incorporates a plurality of metal nanostructures and uses localized surface plasmon resonance. In such a sensor chip 110, an enhanced electric field is formed between the metal nanostructures by the laser light, and when gas molecules enter the enhanced electric field, Raman scattered light and Rayleigh scattered light containing information on molecular vibration are generated. To do.
These Rayleigh scattered light and Raman scattered light enter the filter 136 through the optical section 135, the filter 136 separates the Rayleigh scattered light, and the Raman scattered light enters the optical filter device 600. Then, the signal processing unit 144 controls the voltage control unit 146, adjusts the voltage applied to the wavelength tunable interference filter 5 of the optical filter device 600, and the Raman scattered light corresponding to the gas molecule to be detected is the optical filter device. The wavelength tunable interference filter 5 of 600 is used for spectral separation. After that, when the dispersed light is received by the light receiving element 137, a light receiving signal corresponding to the amount of received light is output to the signal processing unit 144 via the light receiving circuit 147.
The signal processing unit 144 compares the spectrum data of the Raman scattered light corresponding to the gas molecule to be detected obtained as described above with the data stored in the ROM, and determines whether the gas molecule is the target gas molecule. And determine the substance. In addition, the signal processing unit 144 causes the display unit 141 to display the result information and outputs the result information from the connection unit 142 to the outside.

なお、図12及び図13において、ラマン散乱光を光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5により分光して分光されたラマン散乱光からガス検出を行うガス検出装置100を例示した。この他、ガス検出装置として、ガス固有の吸光度を検出することでガス種別を特定するガス検出装置として用いてもよい。この場合、センサー内部にガスを流入させ、入射光のうちガスにて吸収された光を検出するガスセンサーを本発明の光学モジュールとして用いる。そして、このようなガスセンサーによりセンサー内に流入されたガスを分析、判別するガス検出装置を本発明の電子機器とする。このような構成でも、波長可変干渉フィルターを用いてガスの成分を検出することができる。 In addition, in FIG. 12 and FIG. 13, the gas detection apparatus 100 which performs gas detection from the Raman scattered light obtained by dispersing the Raman scattered light by the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600 is illustrated. In addition, the gas detection device may be used as a gas detection device that identifies the gas type by detecting the absorbance specific to the gas. In this case, a gas sensor is used as the optical module of the present invention, in which gas is introduced into the sensor and the light absorbed by the gas among the incident light is detected. A gas detection device that analyzes and discriminates the gas flowing into the sensor by such a gas sensor is the electronic device of the present invention. Even with such a configuration, the gas component can be detected using the variable wavelength interference filter.

また、特定物質の存在を検出するためのシステムとして、上記のようなガスの検出に限られず、近赤外線分光による糖類の非侵襲的測定装置や、食物や生体、鉱物等の情報の非侵襲的測定装置等の、物質成分分析装置を例示できる。
以下に、上記物質成分分析装置の一例として、食物分析装置を説明する。
Further, the system for detecting the presence of a specific substance is not limited to the detection of gas as described above, a non-invasive measuring device for sugars by near-infrared spectroscopy, and non-invasive information for food, living organisms, minerals, etc. A substance component analyzer such as a measuring device can be exemplified.
Hereinafter, a food analyzer will be described as an example of the substance component analyzer.

図14は、光学フィルターデバイス600を利用した電子機器の一例である食物分析装置の概略構成を示す図である。
この食物分析装置200は、図14に示すように、検出器210(光学モジュール)と、制御部220と、表示部230と、を備えている。検出器210は、光を射出する光源211と、測定対象物からの光が導入される撮像レンズ212と、撮像レンズ212から導入された光を分光する光学フィルターデバイス600と、分光された光を検出する撮像部213(検出部)と、を備えている。
また、制御部220は、光源211の点灯・消灯制御、点灯時の明るさ制御を実施する光源制御部221と、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御する電圧制御部222と、撮像部213を制御し、撮像部213で撮像された分光画像を取得する検出制御部223と、信号処理部224と、記憶部225と、を備えている。
FIG. 14 is a diagram showing a schematic configuration of a food analyzer which is an example of an electronic apparatus using the optical filter device 600.
As shown in FIG. 14, the food analysis device 200 includes a detector 210 (optical module), a control unit 220, and a display unit 230. The detector 210 emits light, a light source 211, an image pickup lens 212 into which light from a measurement object is introduced, an optical filter device 600 that separates the light introduced from the image pickup lens 212, and the separated light. And an image pickup unit 213 (detection unit) for detecting.
Further, the control unit 220 includes a light source control unit 221 that performs lighting/extinction control of the light source 211 and brightness control at the time of lighting, a voltage control unit 222 that controls the wavelength tunable interference filter 5 of the optical filter device 600, and an imaging function. A detection control unit 223 that controls the unit 213 and acquires the spectral image captured by the image capturing unit 213, a signal processing unit 224, and a storage unit 225 are provided.

この食物分析装置200は、システムを駆動させると、光源制御部221により光源211が制御されて、光源211から測定対象物に光が照射される。そして、測定対象物で反射された光は、撮像レンズ212を通って光学フィルターデバイス600に入射する。光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5は電圧制御部222の制御により所望の波長を分光可能な電圧が印加されており、分光された光が、例えばCCDカメラ等により構成される撮像部213で撮像される。また、撮像された光は分光画像として、記憶部225に蓄積される。また、信号処理部224は、電圧制御部222を制御して波長可変干渉フィルター5に印加する電圧値を変化させ、各波長に対する分光画像を取得する。 When the food analyzer 200 drives the system, the light source controller 221 controls the light source 211, and the light source 211 irradiates the measurement object with light. Then, the light reflected by the measurement object passes through the imaging lens 212 and enters the optical filter device 600. The wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600 is applied with a voltage capable of dispersing a desired wavelength under the control of the voltage control unit 222, and the dispersed light is imaged by the image pickup unit 213 including, for example, a CCD camera. The image is taken. The captured light is stored in the storage unit 225 as a spectral image. Further, the signal processing unit 224 controls the voltage control unit 222 to change the voltage value applied to the variable wavelength interference filter 5, and acquires the spectral image for each wavelength.

そして、信号処理部224は、記憶部225に蓄積された各画像における各画素のデータを演算処理し、各画素におけるスペクトルを求める。また、記憶部225には、例えばスペクトルに対する食物の成分に関する情報が記憶されており、信号処理部224は、求めたスペクトルのデータを、記憶部225に記憶された食物に関する情報を基に分析し、検出対象に含まれる食物成分、及びその含有量を求める。また、得られた食物成分及び含有量から、食物カロリーや鮮度等をも算出することができる。さらに、画像内のスペクトル分布を分析することで、検査対象の食物の中で鮮度が低下している部分の抽出等をも実施することができ、さらには、食物内に含まれる異物等の検出をも実施することができる。
そして、信号処理部224は、上述のようにして得られた検査対象の食物の成分や含有量、カロリーや鮮度等の情報を表示部230に表示させる処理をする。
Then, the signal processing unit 224 performs arithmetic processing on the data of each pixel in each image accumulated in the storage unit 225 to obtain the spectrum of each pixel. Further, the storage unit 225 stores, for example, information about food components with respect to the spectrum, and the signal processing unit 224 analyzes the obtained spectrum data based on the food information stored in the storage unit 225. , Food components contained in the detection target, and their contents are obtained. Moreover, food calories, freshness, etc. can also be calculated from the obtained food components and contents. Furthermore, by analyzing the spectral distribution in the image, it is possible to extract parts of the food to be inspected whose freshness has decreased, and to detect foreign substances contained in food. Can also be implemented.
Then, the signal processing unit 224 performs a process of causing the display unit 230 to display the information such as the component and content of the food to be inspected, the calorie, and the freshness obtained as described above.

また、図14において、食物分析装置200の例を示すが、略同様の構成により、上述したようなその他の情報の非侵襲的測定装置としても利用することができる。例えば、血液等の体液成分の測定、分析等、生体成分を分析する生体分析装置として用いることができる。このような生体分析装置としては、例えば血液等の体液成分を測定する装置として、エチルアルコールを検知する装置とすれば、運転者の飲酒状態を検出する酒気帯び運転防止装置として用いることができる。また、このような生体分析装置を備えた電子内視鏡システムとしても用いることができる。
さらには、鉱物の成分分析を実施する鉱物分析装置としても用いることができる。
In addition, although an example of the food analysis device 200 is shown in FIG. 14, it can be used as a non-invasive measurement device for other information as described above with a substantially similar configuration. For example, it can be used as a bioanalyzer for analyzing biological components such as measurement and analysis of body fluid components such as blood. As such a bioanalyzer, for example, a device for measuring a body fluid component such as blood and a device for detecting ethyl alcohol can be used as a drunk driving preventive device for detecting a drinking state of a driver. Further, it can be used as an electronic endoscope system including such a bioanalyzer.
Furthermore, it can also be used as a mineral analyzer for carrying out component analysis of minerals.

さらには、本発明の波長可変干渉フィルター、光学モジュール、電子機器としては、以下のような装置に適用することができる。
例えば、各波長の光の強度を経時的に変化させることで、各波長の光でデータを伝送させることも可能であり、この場合、光学モジュールに設けられた波長可変干渉フィルターにより特定波長の光を分光し、受光部で受光させることで、特定波長の光により伝送されるデータを抽出することができ、このようなデータ抽出用光学モジュールを備えた電子機器により、各波長の光のデータを処理することで、光通信を実施することもできる。
Furthermore, the variable wavelength interference filter, the optical module, and the electronic device of the present invention can be applied to the following devices.
For example, by changing the intensity of light of each wavelength over time, it is also possible to transmit data by light of each wavelength. In this case, a variable wavelength interference filter provided in the optical module is used to transmit light of a specific wavelength. The data transmitted by the light of the specific wavelength can be extracted by separating the light into the light receiving section, and the data of the light of each wavelength can be extracted by the electronic device equipped with such an optical module for data extraction. Optical communication can also be performed by processing.

また、電子機器としては、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターにより光を分光することで、分光画像を撮像する分光カメラ、分光分析機等にも適用できる。このような分光カメラの一例として、波長可変干渉フィルターを内蔵した赤外線カメラが挙げられる。
図15は、分光カメラの概略構成を示す模式図である。分光カメラ300は、図15に示すように、カメラ本体310と、撮像レンズユニット320と、撮像部330(検出部)と、を備えている。
カメラ本体310は、利用者により把持、操作される部分である。
撮像レンズユニット320は、カメラ本体310に設けられ、入射した画像光を撮像部330に導光する。また、この撮像レンズユニット320は、図15に示すように、対物レンズ321、結像レンズ322、及びこれらのレンズ間に設けられた光学フィルターデバイス600を備えて構成されている。
撮像部330は、受光素子により構成され、撮像レンズユニット320により導光された画像光を撮像する。
このような分光カメラ300では、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5により撮像対象となる波長の光を透過させることで、所望波長の光の分光画像を撮像することができる。
Further, the electronic device can be applied to a spectroscopic camera, a spectroscopic analyzer, or the like that takes a spectroscopic image by dispersing light with a variable wavelength interference filter included in the optical filter device of the present invention. An example of such a spectroscopic camera is an infrared camera incorporating a variable wavelength interference filter.
FIG. 15 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the spectroscopic camera. As shown in FIG. 15, the spectroscopic camera 300 includes a camera body 310, an imaging lens unit 320, and an imaging section 330 (detection section).
The camera body 310 is a portion that is gripped and operated by the user.
The imaging lens unit 320 is provided in the camera body 310 and guides the incident image light to the imaging unit 330. Further, as shown in FIG. 15, the image pickup lens unit 320 includes an objective lens 321, an imaging lens 322, and an optical filter device 600 provided between these lenses.
The image capturing section 330 is configured by a light receiving element and captures the image light guided by the image capturing lens unit 320.
In such a spectroscopic camera 300, the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600 allows light of a wavelength to be imaged to pass therethrough, and thus a spectroscopic image of light of a desired wavelength can be imaged.

さらには、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターをバンドパスフィルターとして用いてもよく、例えば、発光素子が射出する所定波長域の光のうち、所定の波長を中心とした狭帯域の光のみを波長可変干渉フィルターで分光して透過させる光学式レーザー装置としても用いることができる。
また、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターを生体認証装置として用いてもよく、例えば、近赤外領域や可視領域の光を用いた、血管や指紋、網膜、虹彩等の認証装置にも適用できる。
Furthermore, the wavelength tunable interference filter provided in the optical filter device of the present invention may be used as a bandpass filter. For example, in the light of a predetermined wavelength range emitted from the light emitting element, a narrow band centered around a predetermined wavelength It can also be used as an optical laser device that separates and transmits only light with a variable wavelength interference filter.
Further, the variable wavelength interference filter provided in the optical filter device of the present invention may be used as a biometric authentication device, for example, an authentication device for blood vessels, fingerprints, retinas, iris, etc., using light in the near infrared region or visible region. Can also be applied to.

さらには、光学モジュール及び電子機器を、濃度検出装置として用いることができる。この場合、波長可変干渉フィルターにより、物質から射出された赤外エネルギー(赤外光)を分光して分析し、サンプル中の被検体濃度を測定する。 Furthermore, the optical module and the electronic device can be used as a concentration detection device. In this case, the infrared energy (infrared light) emitted from the substance is dispersed and analyzed by the variable wavelength interference filter, and the concentration of the analyte in the sample is measured.

上記に示すように、本発明の光学フィルターデバイス及び電子機器は、入射光から所定の光を分光するいかなる装置にも適用することができる。そして、上記光学フィルターデバイスは、上述のように、1デバイスで複数の波長を分光させることができるため、複数の波長のスペクトルの測定、複数の成分に対する検出を精度よく実施することができる。したがって、複数デバイスにより所望の波長を取り出す従来の装置に比べて、光学モジュールや電子機器の小型化を促進でき、例えば、携帯用や車載用の電子機器に好適に利用できる。 As described above, the optical filter device and the electronic equipment of the present invention can be applied to any device that disperses a predetermined light from incident light. Since the optical filter device can disperse a plurality of wavelengths with one device as described above, it is possible to accurately measure spectra of a plurality of wavelengths and detect a plurality of components with high accuracy. Therefore, it is possible to promote miniaturization of the optical module and the electronic device as compared with a conventional device that extracts a desired wavelength by using a plurality of devices, and for example, it can be suitably used for a portable or in-vehicle electronic device.

上述の測色装置1、ガス検出装置100、食物分析装置200、及び分光カメラ300の説明では、第一実施形態の光学フィルターデバイス600を適用した例を示したが、これに限定されない。もちろん、他の実施形態の光学フィルターデバイスも同様に測色装置1等に適用できる。 In the above description of the color measurement device 1, the gas detection device 100, the food analysis device 200, and the spectroscopic camera 300, an example in which the optical filter device 600 of the first embodiment is applied has been shown, but the invention is not limited to this. Of course, the optical filter devices of other embodiments can be similarly applied to the color measuring device 1 and the like.

その他、本発明の実施の際の具体的な構造は、本発明の目的を達成できる範囲で上記各実施形態及び変形例を適宜組み合わせることで構成してもよく、また他の構造等に適宜変更してもよい。 In addition, the specific structure for carrying out the present invention may be configured by appropriately combining the above-described embodiments and modifications within a range in which the object of the present invention can be achieved, and is appropriately changed to another structure or the like. You may.

1…測色装置(電子機器)、3…測色センサー(光学モジュール)、4…制御装置(制御部)、5…波長可変干渉フィルター(干渉フィルター)、31…検出部(受光部)、51…固定基板、51A…側面、52…可動基板、52B…基板表面、54…固定反射膜、55…可動反射膜、56…静電アクチュエーター(ギャップ変更部)、100…ガス検出装置(電子機器)、137…受光素子(受光部)、138…制御部、200…食物分析装置(電子機器)、213…撮像部(受光部)、220…制御部、300…分光カメラ(電子機器)、330…撮像部(受光部)、521…可動部、522…保持部、600…光学フィルターデバイス、620…ベース(ベース部)、621B…固定面、623…突出部、624…固定部材、CL1…間隙。 1... Colorimetric device (electronic device), 3... Colorimetric sensor (optical module), 4... Control device (control unit), 5... Wavelength variable interference filter (interference filter), 31... Detection unit (light receiving unit), 51 ... Fixed substrate, 51A... Side surface, 52... Movable substrate, 52B... Substrate surface, 54... Fixed reflective film, 55... Movable reflective film, 56... Electrostatic actuator (gap changing unit), 100... Gas detection device (electronic device) Reference numeral 137... Light receiving element (light receiving section), 138... Control section, 200... Food analysis device (electronic device), 213... Imaging section (light receiving section), 220... Control section, 300... Spectroscopic camera (electronic apparatus), 330... Image pickup part (light receiving part), 521... Movable part, 522... Holding part, 600... Optical filter device, 620... Base (base part), 621B... Fixing surface, 623... Projection part, 624... Fixing member, CL1.

Claims (11)

第一反射膜が設けられた第一基板と、第二反射膜が設けられた第二基板とが対向して配置されている干渉フィルターと、
前記第一基板が固定されるベース部と、
前記第一基板の側面を前記ベース部に固定する固定部材と、を備え、
前記ベース部は、底部及び側壁部により構成された凹部を備え、
前記干渉フィルターは、前記凹部内に配置され、前記第二基板が、前記底部と前記第一基板との間に位置し、前記第一基板の前記側面が、前記側壁部に対向し、
前記第一基板は、前記側面に交差する面として、前記第二基板に対向する対向面と、前記対向面と同一面であって前記第二基板に対向しない非対向面とを備え、
前記非対向面と、前記底部とが間隙を隔てて配置され、
前記側面に交差するように配置される前記第二基板の面と、前記底部とが間隙を隔てて配置されている
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
An interference filter in which a first substrate provided with a first reflection film and a second substrate provided with a second reflection film are arranged to face each other,
A base portion to which the first substrate is fixed,
A fixing member for fixing the side surface of the first substrate to the base portion,
The base portion includes a concave portion formed of a bottom portion and a side wall portion,
The interference filter is disposed in the recess, the second substrate is located between the bottom portion and the first substrate, the side surface of the first substrate is opposed to the side wall portion,
The first substrate includes a facing surface facing the second substrate and a non-facing surface that is the same surface as the facing surface and does not face the second substrate, as a surface intersecting the side surface.
The non-opposing surface and the bottom portion are arranged with a gap,
An optical filter device, wherein a surface of the second substrate arranged so as to intersect the side surface and the bottom portion are arranged with a gap therebetween.
請求項1に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記固定部材は、前記側面の一辺に沿って設けられている
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 1,
The optical filter device, wherein the fixing member is provided along one side of the side surface.
請求項1又は請求項2に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記固定部材は、前記側面を固定端とする前記第一基板の回転に応じた応力で弾性変形する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 1 or 2,
The optical filter device, wherein the fixing member is elastically deformed by a stress according to the rotation of the first substrate having the side surface as a fixed end.
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記側壁部は、前記側面に対向し、当該側面が固定される固定面を有し、
前記側面及び前記固定面のいずれか一方は、前記側面及び前記固定面の他方に向かって突出し、前記他方に当接する突出部を有する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to any one of claims 1 to 3,
The side wall portion has a fixing surface facing the side surface and fixed to the side surface,
One of the side surface and the fixing surface has a protruding portion that protrudes toward the other of the side surface and the fixing surface and that abuts on the other side.
請求項4に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記側面及び前記固定面のいずれか一方は、複数の前記突出部を有し、
前記突出部は、前記他方に向かって凸となる曲面形状を有する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 4,
Any one of the side surface and the fixed surface has a plurality of the protrusions,
The optical filter device, wherein the protruding portion has a curved surface shape that is convex toward the other side.
請求項4又は請求項5に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記突出部は、前記固定面側に設けられ、前記固定部材よりも弾性率が高い
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 4 or 5,
The optical filter device, wherein the protruding portion is provided on the fixed surface side and has a higher elastic modulus than the fixing member.
請求項1から請求項のいずれか1項に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記干渉フィルターは、前記第一反射膜と前記第二反射膜とのギャップ寸法を変更するギャップ変更部をさらに備える
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to any one of claims 1 to 6 ,
The optical filter device, wherein the interference filter further includes a gap changing unit that changes a gap size between the first reflective film and the second reflective film.
請求項1から請求項のいずれか1項に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記干渉フィルターは、前記第一反射膜と前記第二反射膜とのギャップ寸法を変更するギャップ変更部をさらに備え、
前記ギャップ変更部は、前記第二基板を前記第一基板側に撓ませることで、前記ギャップ寸法を変更し、
前記固定部材は、前記ギャップ変更部の駆動時における、前記固定部材の固定位置を固定端とした前記第一基板の回転に応じた応力で弾性変形する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to any one of claims 1 to 6 ,
The interference filter further includes a gap changing unit that changes a gap size between the first reflective film and the second reflective film,
The gap changing unit changes the gap size by bending the second substrate toward the first substrate,
The optical filter device, wherein the fixing member is elastically deformed by a stress according to rotation of the first substrate with a fixed position of the fixing member as a fixed end when the gap changing unit is driven.
請求項1から請求項のいずれか1項に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記第二基板は、前記第一基板に対向する面と、前記第一基板に対向する面に対して交差する複数の第二側面とを備え、
前記第基板における全ての前記第二側面と、前記ベース部とは、接触していない
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to any one of claims 1 to 8 ,
The second substrate comprises a surface facing the first substrate and a plurality of second side surfaces intersecting with the surface facing the first substrate,
An optical filter device, wherein all the second side surfaces of the second substrate are not in contact with the base portion.
第一反射膜が設けられた第一基板と、第二反射膜が設けられた第二基板とが対向して配置されている干渉フィルターと、
前記第一基板が固定されるベース部と、
前記第一基板の側面を前記ベース部に固定する固定部材と、
前記干渉フィルターにより取り出された光を検出する検出部と、を備え、
前記ベース部は、底部及び側壁部により構成された凹部を備え、
前記干渉フィルターは、前記凹部内に配置され、前記第二基板が、前記底部と前記第一基板との間に位置し、前記第一基板の前記側面が、前記側壁部に対向し、
前記第一基板は、前記側面に交差する面として、前記第二基板に対向する対向面と、前記対向面と同一面であって前記第二基板に対向しない非対向面とを備え、
前記非対向面と、前記底部とが間隙を隔てて配置され、
前記側面に交差するように配置される前記第二基板の面と、前記底部とが間隙を隔てて配置されている
ことを特徴とする光学モジュール。
An interference filter in which a first substrate provided with a first reflection film and a second substrate provided with a second reflection film are arranged to face each other,
A base portion to which the first substrate is fixed,
A fixing member for fixing the side surface of the first substrate to the base portion,
A detection unit for detecting the light extracted by the interference filter,
The base portion includes a concave portion formed of a bottom portion and a side wall portion,
The interference filter is disposed in the recess, the second substrate is located between the bottom portion and the first substrate, the side surface of the first substrate is opposed to the side wall portion,
The first substrate includes a facing surface facing the second substrate and a non-facing surface that is the same surface as the facing surface and does not face the second substrate, as a surface intersecting the side surface.
The non-opposing surface and the bottom portion are arranged with a gap,
The optical module, wherein a surface of the second substrate arranged so as to intersect the side surface and the bottom portion are arranged with a gap therebetween.
第一反射膜が設けられた第一基板と、第二反射膜が設けられた第二基板とが対向して配
置されている干渉フィルターと、
前記第一基板が固定されるベース部と、
前記第一基板の側面を前記ベース部に固定する固定部材と、
前記干渉フィルターからの光に基づく処理を実施する処理部と、を備え、
前記ベース部は、底部及び側壁部により構成された凹部を備え、
前記干渉フィルターは、前記凹部内に配置され、前記第二基板が、前記底部と前記第一基板との間に位置し、前記第一基板の前記側面が、前記側壁部に対向し、
前記第一基板は、前記側面に交差する面として、前記第二基板に対向する対向面と、前記対向面と同一面であって前記第二基板に対向しない非対向面とを備え、
前記非対向面と、前記底部とが間隙を隔てて配置され、
前記側面に交差するように配置される前記第二基板の面と、前記底部とが間隙を隔てて配置されている
ことを特徴とする電子機器。
An interference filter in which a first substrate provided with a first reflection film and a second substrate provided with a second reflection film are arranged to face each other,
A base portion to which the first substrate is fixed,
A fixing member for fixing the side surface of the first substrate to the base portion,
A processing unit that performs processing based on light from the interference filter,
The base portion includes a concave portion formed of a bottom portion and a side wall portion,
The interference filter is disposed in the recess, the second substrate is located between the bottom portion and the first substrate, the side surface of the first substrate is opposed to the side wall portion,
The first substrate includes a facing surface facing the second substrate and a non-facing surface that is the same surface as the facing surface and does not face the second substrate, as a surface intersecting the side surface.
The non-opposing surface and the bottom portion are arranged with a gap,
An electronic device, wherein a surface of the second substrate arranged so as to intersect the side surface and the bottom portion are arranged with a gap therebetween.
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