JP2016014710A - Optical filter device, optical module, and electronic apparatus - Google Patents

Optical filter device, optical module, and electronic apparatus Download PDF

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大輔 齋▲藤▼
Daisuke Saito
大輔 齋▲藤▼
松野 靖史
Yasushi Matsuno
靖史 松野
繁光 小池
Shigemitsu Koike
繁光 小池
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter device, an optical module, and an electronic apparatus with which it is possible to suppress a reduction in the resolution of an interference filter.SOLUTION: An optical filter device 600 comprises: a wavelength variable interference filter 5 (interference filter) having a pair of reflection coatings facing each other and a movable circuit board 52 on which either of the pair of reflection coatings is provided; a base 620 (base unit); a first fixation member 640 for fixing a portion of the movable circuit board 52 to the base 620; and a second fixation member 641 for fixing the movable circuit board 52 to the base 620 in an area that encloses a facing area S1 in which, in a plan view in thickness direction of the movable circuit board 52, the pair of reflection coatings on the circuit board surface crossing in the thickness direction face each other, the second fixation member 641 having a lower coefficient of elasticity to the movable circuit board 52 than the first fixation member 640.

Description

本発明は、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器に関する。   The present invention relates to an optical filter device, an optical module, and an electronic apparatus.

従来、一対の基板の互いに対向する面に、それぞれ反射膜を所定のギャップを介して対向配置した干渉フィルターを筐体内に収納した光学フィルターデバイスが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の光学フィルターデバイスでは、筐体は、干渉フィルターが固定部材で固定されるベース基板を備えている。干渉フィルターの基板は、ベース基板に対向する対向面の一箇所で、当該ベース基板に対して接着固定されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is known an optical filter device in which an interference filter in which a reflective film is disposed to face each other with a predetermined gap on a pair of substrates facing each other is housed in a casing (see, for example, Patent Document 1).
In the optical filter device described in Patent Document 1, the housing includes a base substrate to which the interference filter is fixed by a fixing member. The substrate of the interference filter is bonded and fixed to the base substrate at one place on the facing surface facing the base substrate.

この光学フィルターデバイスでは、例えば接着剤を用いて接着固定した場合でも、基板の対向面の略全面を接着した構成と比べて、接着剤から受ける応力を小さくすることができる。すなわち、基板の対向面の接着面積が小さいほど、硬化時に収縮する接着剤からの引張応力や、基板とベース基板との熱膨張係数差により生じる応力の影響を抑制することができる。   In this optical filter device, even when it is bonded and fixed using, for example, an adhesive, the stress received from the adhesive can be reduced as compared with a configuration in which substantially the entire opposing surface of the substrate is bonded. That is, as the adhesion area of the opposing surface of the substrate is smaller, the influence of tensile stress from the adhesive that shrinks at the time of curing and the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the base substrate can be suppressed.

特開2013−167701号公報JP2013-167701A

しかしながら、干渉フィルターの基板を一箇所で固定しているため、例えば、光学フィルターデバイスに、干渉フィルターの固有振動数に近い周波数の外乱が加わると、当該干渉フィルターが、固定箇所を中心として振動する場合がある。このような振動が生じると、基板が歪むことにより、反射膜間のギャップの寸法の反射面に沿った面内の均一性が低下するため、干渉フィルターの分解能が低下するという課題がある。   However, since the substrate of the interference filter is fixed at one location, for example, when a disturbance having a frequency close to the natural frequency of the interference filter is applied to the optical filter device, the interference filter vibrates around the fixed location. There is a case. When such vibrations occur, the substrate is distorted, and the in-plane uniformity along the reflecting surface of the gap size between the reflecting films is lowered, so that there is a problem that the resolution of the interference filter is lowered.

本発明の目的は、干渉フィルターの分解能の低下を抑制できる光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供することである。   An object of the present invention is to provide an optical filter device, an optical module, and an electronic apparatus that can suppress a decrease in resolution of an interference filter.

本発明の一適用例に係る光学フィルターデバイスは、互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を有する干渉フィルターと、ベース部と、前記基板の一部を前記ベース部に固定する第一固定部材と、前記基板の厚み方向の平面視において、前記厚み方向に交差する基板表面の、前記一対の反射膜が対向する対向領域を囲う領域で、前記基板を前記ベース部に固定し、前記第一固定部材よりも、前記基板への弾性率が低い第二固定部材と、を備えたことを特徴とする。   An optical filter device according to an application example of the present invention includes a pair of reflective films facing each other, an interference filter including a substrate provided with any one of the pair of reflective films, a base portion, and one of the substrates. A first fixing member that fixes a portion to the base portion, and a region surrounding a facing region of the substrate surface that intersects the thickness direction facing the pair of reflective films, in plan view in the thickness direction of the substrate, A substrate is fixed to the base portion, and a second fixing member having a lower elastic modulus to the substrate than the first fixing member is provided.

本適用例では、干渉フィルターは、基板の一部で第一固定部材によってベース部に固定されている。また、干渉フィルターは、基板厚み方向の平面視において、基板表面の反射膜の対向領域を囲う領域で、第一固定部材よりも、弾性率が低い第二固定部材によって固定されている。
ここで、上述のように、基板の一部を固定した場合、固定位置を固定端とした基板厚み方向の振動が、基板に生じる場合があり、当該振動による基板の歪みにより、干渉フィルターの分解能が低下するおそれがある。例えば、干渉フィルターの基板を一箇所で固定した場合、固定端から最も離れた位置(最遠部)を振幅が最大の自由端とする振動(1次モード振動)が、干渉フィルターに生じる場合がある。
また、干渉フィルターから所望波長の光を安定して出射させるためには、一対の反射膜間を一定にする必要があるが、例えば基板のばね性により反射膜が振動する場合がある。この場合、例えば基板のばね定数等に基づいた固有振動数で振動することになる。この際、基板のばね定数等に基づいた固有振動数と、上記1次モード振動等の干渉フィルターの固有振動数とが近い場合は共振により反射膜の振動が増大する。
また、このような振動の影響を避けるため、ベース部に対する干渉フィルターの振動が収束して、干渉フィルターの分解能が所望の範囲となるまで待機することも考えられる。しかしながら、この場合、干渉フィルターから所望波長の光を出射させるまでの時間(待機時間)が長くなる。
In this application example, the interference filter is fixed to the base portion by the first fixing member at a part of the substrate. The interference filter is fixed by a second fixing member having a lower elastic modulus than that of the first fixing member in a region surrounding the opposing region of the reflective film on the substrate surface in plan view in the substrate thickness direction.
Here, as described above, when a part of the substrate is fixed, vibration in the substrate thickness direction with the fixed position as the fixed end may occur in the substrate, and the resolution of the interference filter is caused by the distortion of the substrate due to the vibration. May decrease. For example, when the substrate of the interference filter is fixed at one place, vibration (first mode vibration) having a free end with the maximum amplitude at the position farthest from the fixed end (farthest part) may occur in the interference filter. is there.
Further, in order to stably emit light having a desired wavelength from the interference filter, it is necessary to make the distance between the pair of reflection films constant. For example, the reflection film may vibrate due to the spring property of the substrate. In this case, it vibrates at a natural frequency based on, for example, the spring constant of the substrate. At this time, if the natural frequency based on the spring constant of the substrate is close to the natural frequency of the interference filter such as the primary mode vibration, the vibration of the reflecting film increases due to resonance.
Further, in order to avoid the influence of such vibration, it is conceivable to wait until the vibration of the interference filter with respect to the base portion converges and the resolution of the interference filter becomes a desired range. However, in this case, the time (standby time) until the light having the desired wavelength is emitted from the interference filter becomes long.

これに対して、本適用例では、第一固定部材によって、基板の一部をベース部に対して強固に固定する。さらに、第一固定部材よりも密着性及び弾性率が低い第二固定部材によって、厚み方向に交差する基板表面を固定する。これにより、上記1次モード振動等の基板厚み方向の振動を第二固定部材で吸収でき、当該振動を抑制できる。したがって、振動の影響による分解能の低下を抑制でき、かつ、待機時間を短縮できる。
また、本適用例では、干渉フィルターは、基板表面の、上記平面視における一対の反射膜の対向領域を囲う領域で、第二固定部材によってベース部に固定されている。このような構成では、平面視において、基板表面に沿って対向領域の中心から外側に向かう放射方向に、第二固定部材から基板に対して作用する応力の均一化を図ることができる。これにより、基板とベース部との間に熱膨張係数差が存在する場合や、第二固定部材が硬化収縮するような場合でも、熱膨張係数差や硬化収縮の影響を小さくでき、対向領域における基板の歪みを抑制できる。
さらに、本適用例では、第二固定部材の弾性率を、第一固定部材よりも大きくすることにより、熱膨張係数差により基板とベース部との間の膨張量(又は収縮量)が異なる場合でも、第一固定部材により基板を位置決め固定しつつ、第二固定部材を弾性変形させることができ、熱膨張係数差による基板の歪みを抑制できる。
以上から、本適用例によれば、第一固定部材により干渉フィルターを適切に固定でき、かつ、第二固定部材により干渉フィルターの振動や、熱膨張係数差による影響を低減して、干渉フィルターの分解能の低下を抑制できる。
On the other hand, in this application example, a part of the substrate is firmly fixed to the base portion by the first fixing member. Furthermore, the board | substrate surface which cross | intersects the thickness direction is fixed by the 2nd fixing member whose adhesiveness and elastic modulus are lower than a 1st fixing member. Thereby, the vibration in the substrate thickness direction such as the primary mode vibration can be absorbed by the second fixing member, and the vibration can be suppressed. Therefore, a decrease in resolution due to the influence of vibration can be suppressed, and the standby time can be shortened.
In this application example, the interference filter is fixed to the base portion by the second fixing member in a region surrounding the opposing region of the pair of reflection films in the plan view on the substrate surface. With such a configuration, in a plan view, the stress acting on the substrate from the second fixing member can be made uniform in the radial direction from the center of the opposing region to the outside along the substrate surface. As a result, even when there is a difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the base portion, or even when the second fixing member is cured and contracted, the influence of the difference in thermal expansion coefficient and curing contraction can be reduced. The distortion of the substrate can be suppressed.
Furthermore, in this application example, when the elastic modulus of the second fixing member is made larger than that of the first fixing member, the expansion amount (or contraction amount) between the substrate and the base portion differs due to the difference in thermal expansion coefficient. However, the second fixing member can be elastically deformed while the substrate is positioned and fixed by the first fixing member, and distortion of the substrate due to a difference in thermal expansion coefficient can be suppressed.
From the above, according to this application example, the interference filter can be appropriately fixed by the first fixing member, and the influence of the vibration of the interference filter and the difference in thermal expansion coefficient can be reduced by the second fixing member. A reduction in resolution can be suppressed.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記第二固定部材は、前記基板への密着性が前記第一固定部材よりも低いことが好ましい。
ここで、固定部材は、密着性及び弾性率がともに高いほど、固定力が大きくなる。
本適用例では、第二固定部材の密着性及び弾性率を、第一固定部材よりも低くすることにより、第二固定部材による固定力を第一固定部材よりも小さくできる。一方、第一固定部材による固定力を第二固定部材よりも大きくできる。これにより、干渉フィルターを適切に固定するのに十分な固定力を、第一固定部材により得るとともに、第二固定部材から基板に作用する応力を低減できる。
In the optical filter device of this application example, it is preferable that the second fixing member has lower adhesion to the substrate than the first fixing member.
Here, the fixing member has a higher fixing force as its adhesion and elastic modulus are higher.
In this application example, by making the adhesion and elastic modulus of the second fixing member lower than those of the first fixing member, the fixing force by the second fixing member can be made smaller than that of the first fixing member. On the other hand, the fixing force by the first fixing member can be larger than that of the second fixing member. As a result, a sufficient fixing force for appropriately fixing the interference filter can be obtained by the first fixing member, and the stress acting on the substrate from the second fixing member can be reduced.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記基板は、前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられる第一基板と、前記一対の反射膜の他方が設けられる第二基板とを含み、前記第二基板は、前記反射膜が設けられた可動部、及び前記可動部を前記厚み方向に移動可能に保持する保持部を含む駆動領域を有し、前記第二固定部材は、前記平面視において、前記駆動領域を囲う領域で、前記第二基板を前記ベース部に固定することが好ましい。
本適用例では、干渉フィルターは、基板は第一基板及び第二基板を含み、駆動領域を有する第二基板を第一基板側に撓ませて一対の反射膜のギャップ寸法を変更することができる。したがって、干渉フィルターは、反射膜間のギャップの寸法を変更し、当該寸法に応じた波長の光を出射させることができる。しかしながら、第二基板は、第一基板よりも強度が低下するため、応力が作用した際に、変形しやすくなっている。
これに対して、本適用例では、第二固定部材は、平面視において、第二基板における駆動領域を囲う領域で、当該第二基板をベース部に固定する。
このような構成では、上記平面視において、駆動領域の外側に、駆動領域の中心から外側に向かう方向に第二固定部材から作用する応力の均一化を図ることができる。これにより、第二基板における脆弱部分を含む駆動領域で、第二基板が歪むことを抑制でき、ギャップ寸法の制御精度の低下を抑制できる。
In the optical filter device of this application example, the substrate includes a first substrate on which one of the pair of reflective films is provided, and a second substrate on which the other of the pair of reflective films is provided, and the second substrate The substrate has a drive region including a movable portion provided with the reflective film, and a holding portion that holds the movable portion so as to be movable in the thickness direction. It is preferable that the second substrate is fixed to the base portion in a region surrounding the driving region.
In this application example, the interference filter includes a first substrate and a second substrate, and the second substrate having the drive region can be bent toward the first substrate to change the gap dimension of the pair of reflective films. . Therefore, the interference filter can change the dimension of the gap between the reflective films and emit light having a wavelength corresponding to the dimension. However, since the strength of the second substrate is lower than that of the first substrate, it is easily deformed when stress is applied.
On the other hand, in this application example, the second fixing member fixes the second substrate to the base portion in a region surrounding the drive region in the second substrate in a plan view.
In such a configuration, the stress acting from the second fixing member in the direction from the center of the drive region to the outside can be made uniform outside the drive region in the plan view. Thereby, it can suppress that a 2nd board | substrate is distorted in the drive area | region containing the weak part in a 2nd board | substrate, and can suppress the fall of the control precision of a gap dimension.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記第二固定部材は、前記平面視において、前記駆動領域の外周に沿った第一縁と、前記第一縁からの距離が一定の第二縁とを有することが好ましい。
本適用例では、平面視において、駆動領域の外周に沿った第一縁と、第一縁からの距離が一定の第二縁とを有する領域で、第二基板が第二固定部材によって固定される。
このような構成では、平面視における第二固定部材の幅寸法(駆動領域の中心に対して放射方向における幅寸法)を一定とすることができる。これにより、第二固定部材から第二基板に作用する応力を、より均一にすることができ、基板の歪みをより確実に抑制できる。
In the optical filter device of this application example, the second fixing member has a first edge along the outer periphery of the drive region and a second edge having a constant distance from the first edge in the plan view. It is preferable.
In this application example, the second substrate is fixed by the second fixing member in a region having a first edge along the outer periphery of the drive region and a second edge having a constant distance from the first edge in plan view. The
In such a configuration, the width dimension of the second fixing member in the plan view (the width dimension in the radial direction with respect to the center of the drive region) can be made constant. Thereby, the stress which acts on the second substrate from the second fixing member can be made more uniform, and the distortion of the substrate can be more reliably suppressed.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記第二固定部材は、前記平面視において環状であることが好ましい。
本適用例では、第二固定部材を環状とすることにより、駆動領域の中心に対する放射方向に、第二固定部材から第二基板に作用する応力の一層の均一化を図ることができ、基板の歪みをより確実に抑制できる。
In the optical filter device of this application example, it is preferable that the second fixing member is annular in the plan view.
In this application example, by making the second fixing member annular, it is possible to further uniform the stress acting on the second substrate from the second fixing member in the radial direction with respect to the center of the drive region. Distortion can be suppressed more reliably.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記第二固定部材は、スリットを有することが好ましい。
本適用例では、例えば、第二固定部材に接着剤を用い、当該接着剤から放出ガスが発生した場合でも、フィルター平面視において、第二固定部材よりも内側の空間から、スリットを介して外部に排出することができる。また、フィルター平面視において、第二固定部材よりも内側の空間と、外側の空間との間で内圧の差が生じることを抑制でき、当該内圧差が生じることによる、反射膜間ギャップの制御精度の低下を抑制できる。
In the optical filter device of this application example, it is preferable that the second fixing member has a slit.
In this application example, for example, even when an adhesive is used for the second fixing member and a release gas is generated from the adhesive, the filter is viewed from the space inside the second fixing member through the slit in the plan view. Can be discharged. Moreover, in the filter plan view, it is possible to suppress a difference in internal pressure between the space inside the second fixing member and the space outside, and control accuracy of the gap between the reflection films due to the internal pressure difference. Can be suppressed.

本適用例の光学フィルターデバイスにおいて、前記第二固定部材は、複数の前記スリットを有し、前記平面視において、前記駆動領域の中心に対して回転対称となる形状を有することが好ましい。
本適用例では、複数のスリットが第二固定部材を複数部分に分割しており、各部分が互いに回転対称となる形状を有する。したがって、第二固定部材にスリットを設けた場合でも、第二固定部材から基板の駆動領域に対して作用する応力の均一化を図ることができ、基板の駆動領域における歪みを抑制できる。
In the optical filter device according to this application example, it is preferable that the second fixing member has a plurality of the slits and has a shape that is rotationally symmetric with respect to the center of the driving region in the plan view.
In this application example, the plurality of slits divide the second fixing member into a plurality of parts, and each part has a shape that is rotationally symmetric with each other. Therefore, even when a slit is provided in the second fixing member, it is possible to equalize the stress acting on the driving region of the substrate from the second fixing member, and to suppress distortion in the driving region of the substrate.

本発明の一適用例に係る光学モジュールは、互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を有する干渉フィルターと、ベース部と、前記基板の一部を前記ベース部に固定する第一固定部材と、前記基板の厚み方向の平面視において、前記厚み方向に交差する基板表面の、前記一対の反射膜が対向する対向領域を囲う領域で、前記基板を前記ベース部に固定し、前記第一固定部材よりも、前記基板への密着性及び弾性率が低い第二固定部材と、前記干渉フィルターにより取り出された光を検出する検出部と、を備えたことを特徴とする。
本適用例では、上記のように、光学フィルターデバイスにおける干渉フィルターの分解能の低下を抑制でき、分解能を維持した状態で光学フィルターデバイスから光を出射させることができる。したがって、光学モジュールにおいて、受光部で高い分解能で、所望波長の光の光量を検出することができる。
An optical module according to an application example of the invention includes a pair of reflective films facing each other, an interference filter including a substrate provided with any one of the pair of reflective films, a base portion, and a part of the substrate A first fixing member that fixes the substrate to the base portion, and a region of the substrate surface that intersects the thickness direction in a plan view in the thickness direction of the substrate and that surrounds a facing region where the pair of reflective films face each other. A second fixing member that has lower adhesion and elastic modulus to the substrate than the first fixing member, and a detection unit that detects light extracted by the interference filter. It is characterized by that.
In this application example, as described above, it is possible to suppress a decrease in resolution of the interference filter in the optical filter device, and it is possible to emit light from the optical filter device while maintaining the resolution. Therefore, in the optical module, it is possible to detect the amount of light having a desired wavelength with high resolution at the light receiving unit.

本発明の一適用例に係る電子機器は、互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を有する干渉フィルターと、ベース部と、前記基板の一部を前記ベース部に固定する第一固定部材と、前記基板の厚み方向の平面視において、前記厚み方向に交差する基板表面の、前記一対の反射膜が対向する対向領域を囲う領域で、前記基板を前記ベース部に固定し、前記第一固定部材よりも、前記基板への密着性及び弾性率が低い第二固定部材と、前記干渉フィルターを制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
本適用例では、上記のように、光学フィルターデバイスにおける干渉フィルターの分解能の低下を抑制でき、分解能を維持した状態で光学フィルターデバイスから光を出射させることができる。したがって、光学フィルターデバイスから出力される高い分解能の光に基づいた、高精度な処理を実施可能な電子機器を提供できる。
An electronic apparatus according to an application example of the invention includes a pair of reflective films facing each other, an interference filter including a substrate provided with any one of the pair of reflective films, a base portion, and a part of the substrate A first fixing member that fixes the substrate to the base portion, and a region of the substrate surface that intersects the thickness direction in a plan view in the thickness direction of the substrate and that surrounds a facing region where the pair of reflective films face each other. A second fixing member that has lower adhesion and elastic modulus to the substrate than the first fixing member, and a control unit that controls the interference filter. To do.
In this application example, as described above, it is possible to suppress a decrease in resolution of the interference filter in the optical filter device, and it is possible to emit light from the optical filter device while maintaining the resolution. Therefore, it is possible to provide an electronic apparatus capable of performing high-precision processing based on high-resolution light output from the optical filter device.

本発明に係る第一実施形態の光学フィルターデバイスの概略構成を示す平面図。The top view which shows schematic structure of the optical filter device of 1st embodiment which concerns on this invention. 第一実施形態の光学フィルターデバイスの概略構成を示す断面図。Sectional drawing which shows schematic structure of the optical filter device of 1st embodiment. 第一実施形態の波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図。The top view which shows schematic structure of the wavelength variable interference filter of 1st embodiment. 第一実施形態の波長可変干渉フィルターの概略構成を示す断面図。1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a variable wavelength interference filter according to a first embodiment. 波長可変干渉フィルターにおける1次モード振動を模式的に示す図。The figure which shows typically the primary mode vibration in a wavelength variable interference filter. 波長可変干渉フィルターにおける2次モード振動を模式的に示す図。The figure which shows typically the secondary mode vibration in a wavelength variable interference filter. 波長可変干渉フィルターの安定化時間を示すグラフ。The graph which shows the stabilization time of a wavelength variable interference filter. 第二実施形態の測色装置の概略構成を示すブロック図。The block diagram which shows schematic structure of the color measuring apparatus of 2nd embodiment. 本発明の電子機器の一例であるガス検出装置を示す概略図。Schematic which shows the gas detection apparatus which is an example of the electronic device of this invention. 図9のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of the control system of the gas detection apparatus of FIG. 本発明の電子機器の一例である食物分析装置の概略構成を示す図。The figure which shows schematic structure of the food analyzer which is an example of the electronic device of this invention. 本発明の電子機器の一例である分光カメラの概略構成を示す模式図。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a spectroscopic camera that is an example of the electronic apparatus of the invention.

以下、本発明に係る第一実施形態を図面に基づいて説明する。
[光学フィルターデバイスの構成]
図1は、本発明の光学フィルターデバイスの第一実施形態である、光学フィルターデバイス600の概略構成を示す平面図である。図2は、図1のA−A線における断面図である。なお、図2では後述する波長可変干渉フィルターの構造を簡略化して模式的に示している。
光学フィルターデバイス600は、入射した検査対象光から、所定の目的波長の光を取り出して射出させる装置であり、筐体610と、筐体610の内部に収納される波長可変干渉フィルター5を備えている。このような光学フィルターデバイス600は、例えば測色センサー等の光学モジュールや、測色装置やガス分析装置等の電子機器に組み込むことができる。なお、光学フィルターデバイス600を備えた光学モジュールや電子機器の構成については、後に詳述する。
Hereinafter, a first embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[Configuration of optical filter device]
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an optical filter device 600 which is a first embodiment of the optical filter device of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. In FIG. 2, the structure of the wavelength variable interference filter described later is schematically shown in a simplified manner.
The optical filter device 600 is a device that extracts and emits light having a predetermined target wavelength from incident light to be inspected, and includes a housing 610 and a wavelength variable interference filter 5 housed in the housing 610. Yes. Such an optical filter device 600 can be incorporated into an optical module such as a colorimetric sensor, or an electronic device such as a colorimetric device or a gas analyzer. Note that the configuration of an optical module or electronic device including the optical filter device 600 will be described in detail later.

[波長可変干渉フィルターの構成]
図3は、波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す平面図である。図4は、図3のB−B線で切断した波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、図3及び図4に示すように、本発明の第一基板に相当する固定基板51、及び本発明の第二基板に相当する可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば各種ガラスや、水晶等により形成されており、本実施形態では、石英ガラスにより構成されるものとする。そして、これらの基板51,52は、図4に示すように、接合膜53(第一接合膜531及び第二接合膜532)により接合されることで、一体的に構成されている。具体的には、固定基板51の第一接合部513、及び可動基板52の第二接合部523が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜等により構成された接合膜53により接合されている。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51又は可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定基板51、接合膜53、及び可動基板52の積層方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。
[Configuration of wavelength tunable interference filter]
FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of the variable wavelength interference filter 5. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the variable wavelength interference filter 5 cut along the line BB in FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, the variable wavelength interference filter 5 includes a fixed substrate 51 corresponding to the first substrate of the present invention and a movable substrate 52 corresponding to the second substrate of the present invention. The fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are each formed of, for example, various types of glass, quartz, or the like. In the present embodiment, the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are configured of quartz glass. Then, as shown in FIG. 4, these substrates 51 and 52 are integrally formed by being bonded by a bonding film 53 (first bonding film 531 and second bonding film 532). Specifically, the first bonding portion 513 of the fixed substrate 51 and the second bonding portion 523 of the movable substrate 52 are bonded by a bonding film 53 made of, for example, a plasma polymerized film mainly containing siloxane. .
In the following description, the wavelength tunable interference filter 5 was seen from a plan view seen from the thickness direction of the fixed substrate 51 or the movable substrate 52, that is, from the stacking direction of the fixed substrate 51, the bonding film 53, and the movable substrate 52. The plan view is referred to as a filter plan view.

固定基板51には、図4に示すように、本発明の一対の反射膜の一方を構成する固定反射膜54が設けられている。また、可動基板52には、本発明の一対の反射膜の他方を構成する可動反射膜55が設けられている。これらの固定反射膜54及び可動反射膜55は、反射膜間ギャップG1を介して対向配置されている。
そして、波長可変干渉フィルター5には、反射膜54,55間のギャップG1の距離(ギャップ寸法)を調整するのに用いられる、本発明のギャップ変更部に相当する静電アクチュエーター56が設けられている。この静電アクチュエーター56は、固定基板51に設けられた固定電極561と、可動基板52に設けられた可動電極562と、を備え、各電極561,562が対向することにより構成されている。これらの固定電極561,可動電極562は、電極間ギャップを介して対向する。ここで、これらの電極561,562は、それぞれ固定基板51及び可動基板52の基板表面に直接設けられる構成であってもよく、他の膜部材を介して設けられる構成であってもよい。
なお、本実施形態では、反射膜間ギャップG1が電極間ギャップよりも小さく形成される構成を例示するが、例えば波長可変干渉フィルター5により透過させる波長域によっては、反射膜間ギャップG1を電極間ギャップよりも大きく形成してもよい。
また、フィルター平面視において、可動基板52の一辺側(例えば、図3における辺C3−C4)は、固定基板51の辺C3´−C4´よりも外側に突出する。この可動基板52の突出部分は、固定基板51と接合されない電装部525であり、波長可変干渉フィルター5を固定基板51側から見た際に露出する面は、後述する電極パッド564P,565Pが設けられる電装面524となる。
同様に、フィルター平面視において、固定基板51の一辺側(電装部525とは反対側)は、可動基板52よりも外側に突出する。
As shown in FIG. 4, the fixed substrate 51 is provided with a fixed reflective film 54 constituting one of the pair of reflective films of the present invention. The movable substrate 52 is provided with a movable reflective film 55 that constitutes the other of the pair of reflective films of the present invention. The fixed reflection film 54 and the movable reflection film 55 are disposed to face each other via the inter-reflection film gap G1.
The wavelength variable interference filter 5 is provided with an electrostatic actuator 56 corresponding to the gap changing portion of the present invention, which is used to adjust the distance (gap size) of the gap G1 between the reflective films 54 and 55. Yes. The electrostatic actuator 56 includes a fixed electrode 561 provided on the fixed substrate 51 and a movable electrode 562 provided on the movable substrate 52, and each electrode 561 and 562 are opposed to each other. These fixed electrode 561 and movable electrode 562 are opposed to each other through an interelectrode gap. Here, the electrodes 561 and 562 may be provided directly on the substrate surfaces of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52, respectively, or may be provided via other film members.
In the present embodiment, the configuration in which the gap G1 between the reflection films is formed smaller than the gap between the electrodes is exemplified. However, depending on the wavelength range transmitted by the wavelength variable interference filter 5, for example, the gap G1 between the reflection films is formed between the electrodes. You may form larger than a gap.
Further, in the filter plan view, one side of the movable substrate 52 (for example, the side C <b> 3-C <b> 4 in FIG. 3) protrudes outside the side C <b> 3 ′ -C <b> 4 ′ of the fixed substrate 51. The protruding portion of the movable substrate 52 is an electrical component 525 that is not bonded to the fixed substrate 51, and the surface exposed when the wavelength tunable interference filter 5 is viewed from the fixed substrate 51 side is provided with electrode pads 564P and 565P described later. The electrical surface 524 is obtained.
Similarly, in the filter plan view, one side of the fixed substrate 51 (the side opposite to the electrical component 525) protrudes outside the movable substrate 52.

(固定基板の構成)
固定基板51には、図4に示すように、エッチングにより電極配置溝511及び反射膜設置部512が形成されている。この固定基板51は、可動基板52に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極561及び可動電極562間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極561の内部応力による固定基板51の撓みはない。
(Configuration of fixed substrate)
As shown in FIG. 4, the fixed substrate 51 is formed with an electrode placement groove 511 and a reflection film installation portion 512 by etching. The fixed substrate 51 is formed to have a thickness larger than that of the movable substrate 52, and the fixed substrate is caused by electrostatic attraction when a voltage is applied between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 or internal stress of the fixed electrode 561. There is no 51 deflection.

電極配置溝511は、フィルター平面視で、固定基板51の平面中心点Oを中心とした環状に形成されている(図3参照)。この電極配置溝511の溝底面は、固定電極561が配置される電極設置面511Aとなる。
反射膜設置部512は、前記平面視において、電極配置溝511の中心部から可動基板52側に突出して形成されている。この反射膜設置部512の突出先端面は、反射膜設置面512Aとなる。
The electrode arrangement groove 511 is formed in an annular shape centering on the plane center point O of the fixed substrate 51 in the filter plan view (see FIG. 3). The groove bottom surface of the electrode arrangement groove 511 is an electrode installation surface 511A on which the fixed electrode 561 is arranged.
The reflection film installation part 512 is formed so as to protrude from the center part of the electrode arrangement groove 511 toward the movable substrate 52 in the plan view. The protruding front end surface of the reflection film installation portion 512 is a reflection film installation surface 512A.

電極設置面511Aには、静電アクチュエーター56を構成する固定電極561が設けられている。この固定電極561は、電極設置面511Aのうち、後述する可動部521の可動電極562に対向する領域に設けられている。また、固定電極561上に、固定電極561及び可動電極562の間の絶縁性を確保するための絶縁膜が積層される構成としてもよい。
そして、固定基板51には、図3に示すように、固定電極561の外周縁に接続された固定引出電極563が設けられている。この固定引出電極563は、電極配置溝511から辺C3´−C4´側(電装部525側)に向かって形成された接続電極溝511B(図4参照)に沿って設けられている。この接続電極溝511Bには、可動基板52側に向かって突設されたバンプ565Aが設けられ、固定引出電極563は、バンプ565A上まで延出する。そして、バンプ565A上で可動基板52側に設けられた固定接続電極565に当接し、電気的に接続される。この固定接続電極565は、接続電極溝511Bに対向する領域から電装面524まで延出し、電装面524において固定電極パッド565Pを構成する。
A fixed electrode 561 constituting the electrostatic actuator 56 is provided on the electrode installation surface 511A. The fixed electrode 561 is provided in a region of the electrode installation surface 511 </ b> A that faces a movable electrode 562 of the movable portion 521 described later. In addition, an insulating film for ensuring insulation between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 may be stacked over the fixed electrode 561.
As shown in FIG. 3, the fixed substrate 51 is provided with a fixed extraction electrode 563 connected to the outer peripheral edge of the fixed electrode 561. The fixed extraction electrode 563 is provided along a connection electrode groove 511B (see FIG. 4) formed from the electrode placement groove 511 toward the side C3′-C4 ′ (electrical component 525 side). The connection electrode groove 511B is provided with a bump 565A projecting toward the movable substrate 52, and the fixed extraction electrode 563 extends to the bump 565A. Then, the bump 565A comes into contact with the fixed connection electrode 565 provided on the movable substrate 52 side to be electrically connected. The fixed connection electrode 565 extends from a region facing the connection electrode groove 511B to the electrical surface 524, and forms a fixed electrode pad 565P on the electrical surface 524.

なお、本実施形態では、電極設置面511Aに1つの固定電極561が設けられる構成を示すが、例えば、平面中心点Oを中心とした同心円となる2つの電極が設けられる構成(二重電極構成)などとしてもよい。その他、固定反射膜54上に透明電極を設ける構成や、導電性の固定反射膜54を用い、当該固定反射膜54から固定側電装部に接続電極を形成してもよく、この場合、固定電極561として、接続電極の位置に応じて、一部が切り欠かれた構成などとしてもよい。   In the present embodiment, a configuration in which one fixed electrode 561 is provided on the electrode installation surface 511A is shown. For example, a configuration in which two concentric circles centered on the plane center point O are provided (double electrode configuration). ) Etc. In addition, a configuration in which a transparent electrode is provided on the fixed reflective film 54 or a conductive fixed reflective film 54 may be used to form a connection electrode from the fixed reflective film 54 to the fixed-side electrical component. In this case, the fixed electrode 561 may have a structure in which a part thereof is cut off in accordance with the position of the connection electrode.

反射膜設置部512は、上述したように、電極配置溝511と同軸上で、電極配置溝511よりも小さい径寸法となる略円柱状に形成され、当該反射膜設置部512の可動基板52に対向する反射膜設置面512Aを備えている。
この反射膜設置部512には、図4に示すように、固定反射膜54が設置されている。この固定反射膜54としては、例えばAg等の金属膜や、Ag合金等の合金膜を用いることができる。また、例えば高屈折層をTiO、低屈折層をSiOとした誘電体多層膜を用いてもよい。さらに、誘電体多層膜上に金属膜(又は合金膜)を積層した反射膜や、金属膜(又は合金膜)上に誘電体多層膜を積層した反射膜、単層の屈折層(TiOやSiO等)と金属膜(又は合金膜)とを積層した反射膜などを用いてもよい。
As described above, the reflective film installation portion 512 is formed in a substantially cylindrical shape that is coaxial with the electrode arrangement groove 511 and has a smaller diameter than the electrode arrangement groove 511, and is formed on the movable substrate 52 of the reflection film installation portion 512. An opposing reflection film installation surface 512A is provided.
As shown in FIG. 4, a fixed reflection film 54 is installed in the reflection film installation portion 512. As the fixed reflective film 54, for example, a metal film such as Ag or an alloy film such as an Ag alloy can be used. For example, a dielectric multilayer film in which the high refractive layer is TiO 2 and the low refractive layer is SiO 2 may be used. Further, a reflective film in which a metal film (or alloy film) is laminated on a dielectric multilayer film, a reflective film in which a dielectric multilayer film is laminated on a metal film (or alloy film), a single refractive layer (TiO 2 or SiO 2) and a metal film (or alloy film) and the like may be used reflective film formed by laminating a.

また、固定基板51の光入射面(固定反射膜54が設けられない面)には、固定反射膜54に対応する位置に反射防止膜を形成してもよい。この反射防止膜は、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、固定基板51の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させる。   Further, an antireflection film may be formed at a position corresponding to the fixed reflection film 54 on the light incident surface of the fixed substrate 51 (the surface on which the fixed reflection film 54 is not provided). This antireflection film can be formed by alternately laminating a low refractive index film and a high refractive index film, and reduces the reflectance of visible light on the surface of the fixed substrate 51 and increases the transmittance.

そして、固定基板51の可動基板52に対向する面のうち、エッチングにより、電極配置溝511、反射膜設置部512、及び接続電極溝511Bが形成されない面は、第一接合部513を構成する。この第一接合部513には、第一接合膜531が設けられ、この第一接合膜531が、可動基板52に設けられた第二接合膜532に接合されることで、上述したように、固定基板51及び可動基板52が接合される。   Of the surfaces of the fixed substrate 51 facing the movable substrate 52, the surfaces on which the electrode placement groove 511, the reflective film installation portion 512, and the connection electrode groove 511 </ b> B are not formed by etching constitute the first bonding portion 513. The first bonding portion 513 is provided with a first bonding film 531. By bonding the first bonding film 531 to the second bonding film 532 provided on the movable substrate 52, as described above, The fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are joined.

(可動基板の構成)
可動基板52は、平面中心点Oを中心とした円形状の可動部521と、可動部521と同軸であり可動部521を保持する保持部522と、を備えている。
(Configuration of movable substrate)
The movable substrate 52 includes a circular movable portion 521 centered on the plane center point O, and a holding portion 522 that is coaxial with the movable portion 521 and holds the movable portion 521.

可動部521は、保持部522よりも厚み寸法が大きく形成される。この可動部521は、フィルター平面視において、少なくとも反射膜設置面512Aの外周縁の径寸法よりも大きい径寸法に形成されている。そして、この可動部521には、可動電極562及び可動反射膜55が設けられている。
なお、固定基板51と同様に、可動部521の固定基板51とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板52の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
The movable part 521 is formed with a thickness dimension larger than that of the holding part 522. The movable portion 521 is formed to have a diameter larger than at least the diameter of the outer peripheral edge of the reflection film installation surface 512A in the filter plan view. The movable part 521 is provided with a movable electrode 562 and a movable reflective film 55.
Similar to the fixed substrate 51, an antireflection film may be formed on the surface of the movable portion 521 opposite to the fixed substrate 51. Such an antireflection film can be formed by alternately laminating a low refractive index film and a high refractive index film, reducing the reflectance of visible light on the surface of the movable substrate 52 and increasing the transmittance. Can be made.

可動電極562は、所定の電極間ギャップを介して固定電極561に対向し、固定電極561と同一形状となる環状に形成されている。この可動電極562は、固定電極561とともに静電アクチュエーター56を構成する。また、可動基板52には、可動電極562の外周縁に接続された可動接続電極564が設けられている。この可動接続電極564は、可動部521から、固定基板51に設けられた接続電極溝511Bに対向する位置に沿って、電装面524に亘って設けられており、電装面524において、内側端子部に電気的に接続される可動電極パッド564Pを構成する。
また、可動基板52には、上述したように、固定接続電極565が設けられており、この固定接続電極565は、バンプ565A(図3参照)の形成位置で固定引出電極563に接続されている。
The movable electrode 562 is opposed to the fixed electrode 561 with a predetermined inter-electrode gap, and is formed in an annular shape having the same shape as the fixed electrode 561. The movable electrode 562 forms an electrostatic actuator 56 together with the fixed electrode 561. The movable substrate 52 is provided with a movable connection electrode 564 connected to the outer peripheral edge of the movable electrode 562. The movable connection electrode 564 is provided over the electrical surface 524 along a position facing the connection electrode groove 511 </ b> B provided in the fixed substrate 51 from the movable portion 521, and the inner terminal portion is provided on the electrical surface 524. A movable electrode pad 564P that is electrically connected to is configured.
Further, as described above, the fixed connection electrode 565 is provided on the movable substrate 52, and this fixed connection electrode 565 is connected to the fixed extraction electrode 563 at the formation position of the bump 565A (see FIG. 3). .

可動反射膜55は、可動部521の可動面521Aの中心部に、固定反射膜54とギャップG1を介して対向して設けられる。この可動反射膜55としては、上述した固定反射膜54と同一の構成の反射膜が用いられる。
なお、本実施形態では、上述したように、電極間ギャップが反射膜間ギャップG1の寸法よりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外線や遠赤外線を用いる場合等、測定対象光の波長域によっては、ギャップG1の寸法が、電極間ギャップの寸法よりも大きくなる構成としてもよい。
The movable reflective film 55 is provided in the central part of the movable surface 521A of the movable part 521 so as to face the fixed reflective film 54 via the gap G1. As the movable reflective film 55, a reflective film having the same configuration as that of the fixed reflective film 54 described above is used.
In the present embodiment, as described above, an example in which the interelectrode gap is larger than the dimension of the inter-reflection film gap G1 is shown, but the present invention is not limited to this. For example, when infrared rays or far infrared rays are used as the measurement target light, the gap G1 may be larger than the gap between the electrodes depending on the wavelength range of the measurement target light.

保持部522は、可動部521の周囲を囲うダイアフラムであり、可動部521よりも厚み寸法が小さく形成されている。このような保持部522は、可動部521よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部521を固定基板51側に変位させることが可能となる。この際、可動部521が保持部522よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部522が静電引力により固定基板51側に引っ張られた場合でも、可動部521の形状変化が起こらない。したがって、可動部521に設けられた可動反射膜55の撓みも生じず、固定反射膜54及び可動反射膜55を常に平行状態に維持することが可能となる。
なお、本実施形態では、ダイアフラム状の保持部522を例示するが、これに限定されず、例えば、平面中心点Oを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
The holding part 522 is a diaphragm that surrounds the periphery of the movable part 521, and has a thickness dimension smaller than that of the movable part 521. Such a holding part 522 is easier to bend than the movable part 521, and the movable part 521 can be displaced toward the fixed substrate 51 by a slight electrostatic attraction. At this time, since the movable portion 521 has a thickness dimension larger than that of the holding portion 522 and becomes rigid, even when the holding portion 522 is pulled toward the fixed substrate 51 by electrostatic attraction, the shape of the movable portion 521 changes. Absent. Therefore, the movable reflective film 55 provided on the movable portion 521 is not bent, and the fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55 can be always maintained in a parallel state.
In this embodiment, the diaphragm-like holding part 522 is illustrated, but the present invention is not limited to this. For example, a configuration in which beam-like holding parts arranged at equiangular intervals around the plane center point O are provided. And so on.

可動基板52において、第一接合部513に対向する領域は、第二接合部523となる。この第二接合部523には、第二接合膜532が設けられ、上述したように、第二接合膜532が第一接合膜531に接合されることで、固定基板51及び可動基板52が接合される。   In the movable substrate 52, a region facing the first joint portion 513 is a second joint portion 523. The second bonding portion 523 is provided with the second bonding film 532. As described above, the second bonding film 532 is bonded to the first bonding film 531, so that the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are bonded. Is done.

[筐体の構成]
筐体610は、図2に示すように、本発明のベース部に相当するベース620と、リッド630と、を備え、内部に波長可変干渉フィルター5を収納する。
ベース620は、セラミック薄層を積層して焼成することで形成されたセラミック基板である。このベース620は、リッド630に対向する面に、フィルター平面視において枠状となる側壁部621が設けられている。また、ベース620は、当該側壁部621に囲まれて形成された凹部622を有する。また、側壁部621のリッド630側の面であるリッド接合面621Aにリッド630が接合される。
この凹部622の底部622Aには、可動基板52を底部622A側に向けた状態で、波長可変干渉フィルター5が載置される。波長可変干渉フィルター5は、第一固定部材640と第二固定部材641とによって、二箇所でベース620に対して固定される。
[Case configuration]
As shown in FIG. 2, the housing 610 includes a base 620 corresponding to the base portion of the present invention and a lid 630, and houses the variable wavelength interference filter 5 therein.
The base 620 is a ceramic substrate formed by laminating and firing ceramic thin layers. The base 620 is provided with a side wall portion 621 having a frame shape in a plan view of the filter on a surface facing the lid 630. In addition, the base 620 has a concave portion 622 formed so as to be surrounded by the side wall portion 621. Further, the lid 630 is joined to the lid joining surface 621A that is the surface of the side wall portion 621 on the lid 630 side.
The variable wavelength interference filter 5 is placed on the bottom 622A of the recess 622 with the movable substrate 52 facing the bottom 622A. The variable wavelength interference filter 5 is fixed to the base 620 at two locations by the first fixing member 640 and the second fixing member 641.

第一固定部材640は、図1に示すように、可動基板52の頂点C4を含む角部に設けられている。この第一固定部材640は、図2に示すように、可動基板52の基板厚み方向に沿った面である基板側面52A及びベース620の底部622Aに接している。
この第一固定部材640は、第二固定部材641よりも弾性率(剛性)及び密着性が高い固定材料で形成されている。固定部材は、弾性率及び密着性が高い程、固定力が大きくなるので、第一固定部材640は、第二固定部材641よりも固定力が大きくなる。
このような第一固定部材640としては、例えば、弾性率が1GPa以上の、ポリイミド系の接着剤を用いることができる。
As shown in FIG. 1, the first fixed member 640 is provided at a corner including the vertex C <b> 4 of the movable substrate 52. As shown in FIG. 2, the first fixed member 640 is in contact with the substrate side surface 52 </ b> A that is a surface along the substrate thickness direction of the movable substrate 52 and the bottom portion 622 </ b> A of the base 620.
The first fixing member 640 is formed of a fixing material having higher elastic modulus (rigidity) and adhesion than the second fixing member 641. The higher the elastic modulus and adhesion of the fixing member, the higher the fixing force. Therefore, the first fixing member 640 has a higher fixing force than the second fixing member 641.
As such a first fixing member 640, for example, a polyimide adhesive having an elastic modulus of 1 GPa or more can be used.

第二固定部材641は、図1に示すように、フィルター平面視において、各反射膜54,55が対向する対向領域S1を含む駆動領域S2を囲う領域で、可動基板52の基板表面52B(図2参照)とベース620とを固定する。この駆動領域S2は、フィルター平面視において、可動部521及び保持部522を含む領域であり、その外周縁は、保持部522の外周縁に重なっている。第二固定部材641は、フィルター平面視において、駆動領域S2の外側で、駆動領域S2の外周に沿って設けられる。図示例では、第二固定部材641は、平面中心点Oを中心(すなわち対向領域S1の重心)とし、幅寸法が一定の略円環状に設けられている。すなわち、第二固定部材641では、フィルター平面視において、駆動領域S2の外周に沿った内縁(本発明の第一縁)と、外縁(本発明の第二縁)との距離が一定である。   As shown in FIG. 1, the second fixing member 641 is a region surrounding the driving region S2 including the facing region S1 where the reflecting films 54 and 55 face each other in the filter plan view. 2) and the base 620 are fixed. The drive region S2 is a region including the movable portion 521 and the holding portion 522 in the filter plan view, and the outer peripheral edge thereof overlaps with the outer peripheral edge of the holding portion 522. The second fixing member 641 is provided along the outer periphery of the drive region S2 outside the drive region S2 in the filter plan view. In the illustrated example, the second fixing member 641 is provided in a substantially annular shape with the plane center point O as the center (that is, the center of gravity of the facing region S1) and a constant width dimension. That is, in the second fixing member 641, the distance between the inner edge (first edge of the present invention) and the outer edge (second edge of the present invention) along the outer periphery of the drive region S2 is constant in the filter plan view.

第二固定部材641は、図1に示すように、フィルター平面視において、平面中心点Oに対して回転対称となる位置に、上記放射方向に沿った複数のスリット641Aを有する。この第二固定部材641は、スリット641Aによって、平面中心点Oに対して回転対称となる複数部分(図示例では2つ)に分かれている。このスリット641Aを設けることにより、例えば、第二固定部材641や、後述する透光性部材629を接着する接着剤等から放出ガスが発生した場合でも、スリット641Aを介して、第二固定部材641よりも内側の空間から、外側に排出することができる。   As shown in FIG. 1, the second fixing member 641 has a plurality of slits 641A along the radial direction at positions that are rotationally symmetric with respect to the plane center point O in the filter plan view. The second fixing member 641 is divided into a plurality of portions (two in the illustrated example) that are rotationally symmetric with respect to the plane center point O by the slits 641A. By providing the slit 641A, for example, even when a released gas is generated from the second fixing member 641 or an adhesive that adheres the translucent member 629 described later, the second fixing member 641 is inserted through the slit 641A. It is possible to discharge to the outside from the inner space.

この第二固定部材641は、第一固定部材640よりも弾性率と、可動基板に対する密着性とが低い部材である。なお、第二固定部材641は、固定基板51やベース620に対して、弾性率が100分の1以下であることが好ましい。これにより、固定基板51とベース620との間で熱膨張係数差により、膨張量(又は収縮量)に差が生じた場合、固定基板51とベース620とを接合している第二固定部材641を変形させることができ、上記熱膨張係数差に起因して固定基板51に作用する応力を抑制できる。   The second fixing member 641 is a member having a lower elastic modulus and adhesion to the movable substrate than the first fixing member 640. The second fixing member 641 preferably has an elastic modulus of 1/100 or less with respect to the fixed substrate 51 and the base 620. Accordingly, when a difference in expansion (or contraction) occurs due to a difference in thermal expansion coefficient between the fixed substrate 51 and the base 620, the second fixing member 641 that joins the fixed substrate 51 and the base 620 to each other. And the stress acting on the fixed substrate 51 due to the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed.

このような第二固定部材641としては、例えば、弾性率が0.01GPa以上、かつ、10GPa未満のシリコーン系の接着剤を用いることができる。
また、例えば、第二固定部材641として、フィルム状の基材に、上述のシリコーン系接着剤等の低弾性接着剤を塗布した、低弾性接着フィルムを用いてもよい。このような接着フィルムを用いることにより、第二固定部材641を所定の設置領域に形成することが容易となる。
As such a second fixing member 641, for example, a silicone-based adhesive having an elastic modulus of 0.01 GPa or more and less than 10 GPa can be used.
Further, for example, as the second fixing member 641, a low elastic adhesive film in which a low elastic adhesive such as the above-mentioned silicone adhesive is applied to a film-like substrate may be used. By using such an adhesive film, it is easy to form the second fixing member 641 in a predetermined installation area.

凹部622の底部622Aには、第二固定部材641を配置する溝部623が設けられている。溝部623の溝底部623Aには、上述の第二固定部材641が配置されている。
この溝部623は、フィルター平面視において、可動基板52と少なくとも重なる領域に設けられている。溝部623の、基板厚み方向の寸法は、第二固定部材641の寸法以下であり、好ましくは略同じ寸法である。
A groove 623 in which the second fixing member 641 is disposed is provided in the bottom 622A of the recess 622. The above-described second fixing member 641 is disposed on the groove bottom portion 623A of the groove portion 623.
The groove 623 is provided in a region at least overlapping the movable substrate 52 in the filter plan view. The dimension of the groove part 623 in the substrate thickness direction is equal to or smaller than the dimension of the second fixing member 641, and preferably is substantially the same dimension.

溝部623を設けて、内部に第二固定部材641を収納することにより、当該溝部623を設けず、第二固定部材641を底部622Aに直に設けた場合と比べて、基板厚み方向における光学フィルターデバイス600の寸法を小さくすることができる。
また、溝部623が、フィルター平面視において、波長可変干渉フィルター5の可動基板52と少なくとも重なる位置に、溝部623を設けることにより、第一固定部材640の固定位置を固定端とした、基板厚み方向の振動が可動基板52に発生しても。波長可変干渉フィルター5とベース620との干渉を抑制することができる。
By providing the groove portion 623 and accommodating the second fixing member 641 therein, the optical filter in the substrate thickness direction is compared with the case where the groove portion 623 is not provided and the second fixing member 641 is provided directly on the bottom portion 622A. The size of the device 600 can be reduced.
Further, the groove portion 623 is provided at a position at least overlapping with the movable substrate 52 of the wavelength tunable interference filter 5 in the filter plan view, whereby the fixing position of the first fixing member 640 is used as the fixed end. Even if this vibration occurs in the movable substrate 52. Interference between the wavelength variable interference filter 5 and the base 620 can be suppressed.

また、底部622Aには、波長可変干渉フィルター5から出射された光(又は波長可変干渉フィルターに入射される光)を通過させるための光通過孔628が設けられている。光通過孔628には、例えば低融点ガラス等の接合剤により、例えばガラス板等の透光性部材629が接合されている。   The bottom 622A is provided with a light passage hole 628 for allowing light emitted from the wavelength variable interference filter 5 (or light incident on the wavelength variable interference filter) to pass therethrough. A translucent member 629 such as a glass plate is bonded to the light passage hole 628 by a bonding agent such as low melting point glass.

また、凹部622の底部622Aには、筐体610外部に貫通する封止孔622Bが設けられている。この封止孔622Bは、光学フィルターデバイス600の製造時において、例えば筐体610内部の気体を吸引したり、不活性ガスに置換するための孔部であり、筐体610の内部を真空又は減圧した状態で、例えばAu等の封止部材622C(図2参照)により金属封止することができる。   In addition, a sealing hole 622 </ b> B that penetrates to the outside of the housing 610 is provided in the bottom 622 </ b> A of the recess 622. The sealing hole 622B is, for example, a hole for sucking the gas inside the housing 610 or replacing it with an inert gas when the optical filter device 600 is manufactured. The inside of the housing 610 is vacuumed or decompressed. In this state, metal sealing can be performed with a sealing member 622C (see FIG. 2) such as Au.

さらに、凹部622の底部622Aには、波長可変干渉フィルターの電極パッド564P,565Pに接続される内部端子622D(図1参照)が設けられている。この内部端子622Dの形成部分には、例えば筐体610の外部に貫通する貫通孔(図示略)が設けられ、当該貫通孔には内部端子622Dと電気的に接続される例えばAg等の金属部材が充填されている。この金属部材は、ベース620の外部に設けられた外部端子(図示略)に接続されており、これにより、内部端子622Dと外部端子とが電気接続されている。   Furthermore, an internal terminal 622D (see FIG. 1) connected to the electrode pads 564P and 565P of the wavelength variable interference filter is provided on the bottom 622A of the recess 622. In a portion where the internal terminal 622D is formed, for example, a through hole (not shown) that penetrates to the outside of the housing 610 is provided, and a metal member such as Ag that is electrically connected to the internal terminal 622D is provided in the through hole. Is filled. This metal member is connected to an external terminal (not shown) provided outside the base 620, whereby the internal terminal 622D and the external terminal are electrically connected.

リッド630は、フィルター平面視において、ベース620と同様の矩形状の外形を有し、光を透過可能なガラスによって形成されている。このリッド630は、ベース620に波長可変干渉フィルター5が配置された状態で、リッド接合面621Aに接合される。   The lid 630 has a rectangular outer shape similar to that of the base 620 in the filter plan view, and is formed of glass that can transmit light. The lid 630 is bonded to the lid bonding surface 621A in a state where the wavelength variable interference filter 5 is disposed on the base 620.

[光学フィルターデバイスの製造方法]
まず、第二固定部材641を溝部623の溝底部623Aの所定の位置に配置する。そして、波長可変干渉フィルター5を位置合わせしながら、第二固定部材641が配置された溝底部623Aに配置する。この後、第二固定部材641を硬化させる。
その後、第一固定部材640を塗布し、第一固定部材640を硬化させる。
このようにして、波長可変干渉フィルター5に対する所定の位置に、第二固定部材641を配置することができる。
[Method of manufacturing optical filter device]
First, the second fixing member 641 is disposed at a predetermined position of the groove bottom portion 623A of the groove portion 623. Then, the wavelength tunable interference filter 5 is positioned and positioned at the groove bottom 623A where the second fixing member 641 is positioned. Thereafter, the second fixing member 641 is cured.
Thereafter, the first fixing member 640 is applied and the first fixing member 640 is cured.
In this way, the second fixing member 641 can be disposed at a predetermined position with respect to the wavelength variable interference filter 5.

本実施形態では、可動基板52をベース620側に向けて波長可変干渉フィルター5を配置する。このため、可動基板52と溝底部623Aとの距離は、フィルター平面視において、保持部522の形成位置で、保持部522の外側位置よりも大きくなっている。したがって、波長可変干渉フィルター5の配置時に、溝底部623Aに配置された第二固定部材641が、基板表面52Bに沿って変形した場合でも、保持部522の外周縁よりも内側で、可動基板52に第二固定部材641が接触することを抑制できる。   In the present embodiment, the wavelength variable interference filter 5 is disposed with the movable substrate 52 facing the base 620 side. For this reason, the distance between the movable substrate 52 and the groove bottom portion 623A is larger at the formation position of the holding portion 522 than the outer position of the holding portion 522 in the filter plan view. Therefore, even when the second fixing member 641 disposed on the groove bottom 623A is deformed along the substrate surface 52B when the wavelength tunable interference filter 5 is disposed, the movable substrate 52 is located on the inner side of the outer peripheral edge of the holding unit 522. It can suppress that the 2nd fixing member 641 contacts.

この後、波長可変干渉フィルター5の各電極パッド564P,565Pと、内部端子622Dとをワイヤボンディング等により電気的に接続する。
そして、ベース620及びリッド630を、例えば低融点ガラス等を用いて接合する。
この後、封止孔622Bから筐体610内部の気体を吸引し、筐体内部空間を真空又は減圧状態とする。そして、その状態を維持したまま、例えばAu等の封止部材622Cを封止孔622Bに挿通し、溶融させて封止孔622Bを閉塞する。
以上により、本実施形態の光学フィルターデバイス600が製造される。
Thereafter, the electrode pads 564P and 565P of the variable wavelength interference filter 5 and the internal terminal 622D are electrically connected by wire bonding or the like.
Then, the base 620 and the lid 630 are joined using, for example, low melting glass.
Thereafter, the gas inside the housing 610 is sucked from the sealing hole 622B, and the housing internal space is brought into a vacuum or a reduced pressure state. While maintaining this state, a sealing member 622C such as Au is inserted into the sealing hole 622B and melted to close the sealing hole 622B.
As described above, the optical filter device 600 of this embodiment is manufactured.

[波長可変干渉フィルターの振動と第二固定部材との関係]
以下、波長可変干渉フィルター5を第一固定部材640の一箇所で固定した際に生じる振動における、各モード振動について説明する。
図5は、波長可変干渉フィルター5における1次モード振動における振動状態を模式的に示す図である。
頂点C4側の一箇所で固定された波長可変干渉フィルター5では、図5に示すように1次モード振動による振動が生じる場合がある。すなわち、波長可変干渉フィルター5には、頂点C4が固定端となり、当該頂点C4の対角である頂点C2´が自由端となる基板厚み方向の振動である1次モード振動が生じる場合がある。1次モード振動では、図5に示すように、固定端である頂点C4から頂点C2´側に向かうにしたがって振幅が大きくなる。
[Relationship between vibration of tunable interference filter and second fixing member]
Hereinafter, each mode vibration in the vibration generated when the wavelength variable interference filter 5 is fixed at one place of the first fixing member 640 will be described.
FIG. 5 is a diagram schematically showing a vibration state in the primary mode vibration in the wavelength tunable interference filter 5.
In the tunable interference filter 5 fixed at one place on the vertex C4 side, vibration due to primary mode vibration may occur as shown in FIG. That is, in the wavelength tunable interference filter 5, there may be a primary mode vibration that is a vibration in the substrate thickness direction in which the vertex C <b> 4 is a fixed end and the vertex C <b> 2 ′ that is the diagonal of the vertex C <b> 4 is a free end. In the primary mode vibration, as shown in FIG. 5, the amplitude increases from the vertex C4 which is the fixed end toward the vertex C2 ′ side.

図6は、波長可変干渉フィルター5における2次モード振動における振動状態を模式的に示す図である。
頂点C4側の一箇所や、頂点C4及び頂点C2´側の二箇所で固定された波長可変干渉フィルター5では、図6に示すように2次モード振動による振動が生じる場合がある。すなわち、フィルター平面視において頂点C4及び頂点C2´を通過する仮想線Vを軸とし、頂点C4を固定端とした捻じれによる振動が生じる場合がある。2次モード振動では、図6に示すように、各基板51,52の厚み方向に直交する面に沿って、仮想線Vから離れるにしたがって振幅が大きくなる。
FIG. 6 is a diagram schematically showing a vibration state in the secondary mode vibration in the wavelength variable interference filter 5.
In the wavelength variable interference filter 5 fixed at one place on the vertex C4 side or at two places on the vertex C4 and vertex C2 ′ side, vibration due to secondary mode vibration may occur as shown in FIG. That is, in the filter plan view, vibration due to torsion with the imaginary line V passing through the vertex C4 and the vertex C2 ′ as an axis and the vertex C4 as a fixed end may occur. In the secondary mode vibration, as shown in FIG. 6, the amplitude increases as the distance from the imaginary line V increases along the plane orthogonal to the thickness direction of each of the substrates 51 and 52.

上述のように1次モード振動や2次モード振動等の基板厚み方向の屈曲振動が波長可変干渉フィルター5に生じると、各反射膜54,55が歪んだり、反射膜間のギャップG1の寸法の面内均一性が低下して、波長可変干渉フィルター5の分解能が低下するおそれがある。また、各モードの固有振動数と、波長可変干渉フィルター5の反射膜の振動における固有振動数(以下、ミラー振動数とも称する)が近い場合、共振により、ギャップG1の寸法が変動するおそれがある。なお、ミラー振動数は、可動部521の質量や、保持部522のばね係数等の主に可動基板52の構成に応じた値である。
本実施形態では、波長可変干渉フィルター5は、基板表面52Bに設けられた第二固定部材641によって、ベース620に対して固定されている。このような構成により、上記各モード振動等の基板厚み方向に可動基板52が変形する振動を、第二固定部材641に吸収させることができ、残留振動を抑制できる。
As described above, when bending vibration in the substrate thickness direction such as primary mode vibration or secondary mode vibration occurs in the wavelength variable interference filter 5, each of the reflective films 54 and 55 is distorted or the size of the gap G1 between the reflective films is reduced. The in-plane uniformity may be reduced, and the resolution of the wavelength variable interference filter 5 may be reduced. Further, when the natural frequency of each mode is close to the natural frequency (hereinafter also referred to as mirror frequency) in the vibration of the reflection film of the wavelength variable interference filter 5, there is a possibility that the dimension of the gap G1 varies due to resonance. . The mirror frequency is a value that mainly depends on the configuration of the movable substrate 52, such as the mass of the movable portion 521 and the spring coefficient of the holding portion 522.
In the present embodiment, the wavelength variable interference filter 5 is fixed to the base 620 by a second fixing member 641 provided on the substrate surface 52B. With such a configuration, the second fixing member 641 can absorb vibrations of the movable substrate 52 that are deformed in the substrate thickness direction, such as the above-described mode vibrations, and residual vibrations can be suppressed.

[第一実施形態の作用効果]
本実施形態では、波長可変干渉フィルター5は、可動基板52の一箇所で、第一固定部材640によって、ベース620に固定されている。また、波長可変干渉フィルター5は、フィルター平面視において、基板表面52Bの対向領域S1を囲う領域で、第一固定部材640よりも密着性及び弾性率が低い第二固定部材641によって、固定されている。
ここで、波長可変干渉フィルター5を一箇所で固定すると、上述のように1次モード振動(図5参照)や2次モード振動(図6参照)等が生じる場合があり、波長可変干渉フィルター5の分解能が低下するおそれがある。このような分解能の低下の影響を避けるため、波長可変干渉フィルター5の振動が収束するまで待機すると、所望波長の光を出射させるまでの待機時間が長くなる。
これに対して、本実施形態では、可動基板52の基板表面52Bを、第一固定部材640よりも弾性率が低い、第二固定部材641で固定する。これにより、上述のように、波長可変干渉フィルター5における残留振動を抑制できる。したがって、波長可変干渉フィルター5の分解能の低下を抑制でき、かつ、上記待機時間を短縮できる。
また、第二固定部材641の弾性率を、第一固定部材640よりも大きくすることにより、熱膨張係数差により可動基板52とベース620との間の膨張量(又は収縮量)が異なる場合でも、第一固定部材640により可動基板52を位置決め固定しつつ、第二固定部材641を弾性変形させることができ、熱膨張係数差による各基板51,52の歪みを抑制できる。
[Operational effects of the first embodiment]
In the present embodiment, the variable wavelength interference filter 5 is fixed to the base 620 by a first fixing member 640 at one location of the movable substrate 52. The wavelength variable interference filter 5 is fixed by a second fixing member 641 having lower adhesion and elastic modulus than the first fixing member 640 in a region surrounding the facing region S1 of the substrate surface 52B in the filter plan view. Yes.
Here, when the wavelength tunable interference filter 5 is fixed at one place, the first-order mode vibration (see FIG. 5), the second-order mode vibration (see FIG. 6) or the like may occur as described above. There is a risk that the resolution will be reduced. In order to avoid the influence of such a decrease in resolution, when waiting until the vibration of the wavelength tunable interference filter 5 converges, the waiting time until the light having the desired wavelength is emitted becomes longer.
On the other hand, in this embodiment, the substrate surface 52B of the movable substrate 52 is fixed by the second fixing member 641 having a lower elastic modulus than the first fixing member 640. Thereby, the residual vibration in the wavelength variable interference filter 5 can be suppressed as described above. Therefore, a decrease in resolution of the wavelength variable interference filter 5 can be suppressed, and the waiting time can be shortened.
In addition, by making the elastic modulus of the second fixing member 641 larger than that of the first fixing member 640, even when the expansion amount (or contraction amount) between the movable substrate 52 and the base 620 differs due to the difference in thermal expansion coefficient. While the movable substrate 52 is positioned and fixed by the first fixing member 640, the second fixing member 641 can be elastically deformed, and distortion of the substrates 51 and 52 due to the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed.

また、第二固定部材641の密着性及び弾性率を、第一固定部材640よりも低くすることにより、第二固定部材641による固定力を第一固定部材640よりも小さくできる。一方、第一固定部材640による固定力を第二固定部材641よりも大きくできる。これにより、波長可変干渉フィルター5を適切に固定するのに十分な固定力を、第一固定部材640により得るとともに、第二固定部材641から可動基板52に作用する応力を低減できる。   Further, by making the adhesion and elastic modulus of the second fixing member 641 lower than those of the first fixing member 640, the fixing force by the second fixing member 641 can be made smaller than that of the first fixing member 640. On the other hand, the fixing force by the first fixing member 640 can be larger than that of the second fixing member 641. As a result, a sufficient fixing force for appropriately fixing the variable wavelength interference filter 5 can be obtained by the first fixing member 640, and the stress acting on the movable substrate 52 from the second fixing member 641 can be reduced.

また、波長可変干渉フィルター5は、基板表面52Bの、フィルター平面視における対向領域S1を囲う領域で、第二固定部材641によって、ベース620に固定されている。
このような構成では、平面視において、基板表面52Bに沿って対向領域S1の中心である平面中心点Oから外側に向かう放射方向に、第二固定部材641から可動基板52の対向領域S1に対して作用する応力の均一化を図ることができる。これにより、可動基板52とベース620との間に熱膨張係数差が存在する場合や、第二固定部材641が硬化収縮するような場合でも、熱膨張係数差や硬化収縮の影響を小さくでき、対向領域S1における各基板51,52の歪みを抑制できる。
The wavelength variable interference filter 5 is fixed to the base 620 by a second fixing member 641 in a region surrounding the facing region S1 in the filter plan view of the substrate surface 52B.
In such a configuration, in plan view, the second fixed member 641 faces the opposing region S1 of the movable substrate 52 in the radial direction from the planar center point O that is the center of the opposing region S1 along the substrate surface 52B. The stress acting can be made uniform. Thereby, even when the thermal expansion coefficient difference exists between the movable substrate 52 and the base 620, or even when the second fixing member 641 is cured and contracted, the influence of the thermal expansion coefficient difference and the curing contraction can be reduced. Distortion of each substrate 51, 52 in the facing region S1 can be suppressed.

図7は、平面視において対向領域S1を囲むように、可動基板52の4辺に沿って第二固定部材641を設けた場合(図7において各測定点を丸で示す)と、角部の1箇所で固定した場合(図7において各測定点を四角で示す)と、のそれぞれについて、各測定対象波長(nm)における安定化時間(ms)を示すグラフである。なお、安定化時間とは、ギャップG1の寸法が、所望の測定精度に対する許容範囲に収束するまでの所要時間である。また、安定化時間の許容値の上限値(測定限界)を点線で、目標値を一点鎖線で示す。
図7に示すように、角部の1箇所で固定した場合、安定化時間が、全測定波長において測定限界以下となるものの、複数の測定波長において目標値以上となる。これに対して、平面視において対向領域S1を囲むように固定されている場合、安定化時間が、全測定波長において目標値以下となる。このように、対向領域S1を囲むように可動基板52をベース620に固定することにより、安定化時間を短縮することができる。
FIG. 7 shows a case where the second fixing member 641 is provided along the four sides of the movable substrate 52 so as to surround the facing region S1 in plan view (each measurement point is indicated by a circle in FIG. 7). It is a graph which shows the stabilization time (ms) in each measurement object wavelength (nm) about each when it fixes at one place (in FIG. 7, each measurement point is shown with a square). The stabilization time is a time required until the dimension of the gap G1 converges to an allowable range for a desired measurement accuracy. Moreover, the upper limit (measurement limit) of the allowable value of the stabilization time is indicated by a dotted line, and the target value is indicated by a one-dot chain line.
As shown in FIG. 7, when fixed at one corner, the stabilization time is equal to or greater than the target value at a plurality of measurement wavelengths, although the stabilization time is equal to or less than the measurement limit at all measurement wavelengths. On the other hand, when it is fixed so as to surround the facing region S1 in a plan view, the stabilization time is equal to or less than the target value at all measurement wavelengths. As described above, the stabilization time can be shortened by fixing the movable substrate 52 to the base 620 so as to surround the facing region S1.

ここで、本実施形態では、一対の基板51,52のうちの可動基板52には、可動反射膜55が形成された可動部521が、保持部522によって移動可能に保持されている。
このような波長可変干渉フィルター5では、外乱等により波長可変干渉フィルター5に生じた振動(例えば1次モード振動や2次モード振動が生じた)に対する可動部521の共振が発生し易く、分解能が低下しやすい。また、静電アクチュエーター56によって、可動部521を移動させた際に、その反動により波長可変干渉フィルター5に振動が発生する場合がある。そして、波長可変干渉フィルター5が振動すると、上述の共振により、やはり分光精度が低下することになる。
これに対して、本実施形態では第二固定部材641は、可動基板52における、駆動領域S2の外側で、駆動領域S2の外周縁に沿って設けられている。上述のように波長可変干渉フィルター5の振動や共振を抑制できる。したがって、可動基板52の残留振動を好適に抑制でき、分解能の低下を抑制できる。
また、第二固定部材641は、可動基板52における駆動領域S2の外側で、駆動領域S2の外周縁に沿って設けられている。このような構成では、平面中心点Oから基板表面52Bに沿って外側に向かう放射方向において、可動基板52の、保持部522よりも外側の領域に作用する応力の均一化を図ることができる。これにより、可動基板52に設けられた保持部522が歪むことを抑制でき、ギャップG1の寸法の制御精度の低下を抑制できる。
Here, in this embodiment, the movable portion 521 on which the movable reflective film 55 is formed is movably held by the holding portion 522 on the movable substrate 52 of the pair of substrates 51 and 52.
In such a wavelength tunable interference filter 5, resonance of the movable portion 521 is likely to occur with respect to vibrations generated in the wavelength tunable interference filter 5 due to disturbance or the like (for example, primary mode vibration or secondary mode vibration has occurred), and the resolution is high. It tends to decline. Further, when the movable portion 521 is moved by the electrostatic actuator 56, vibration may occur in the wavelength variable interference filter 5 due to the reaction. When the wavelength variable interference filter 5 vibrates, the spectral accuracy is also lowered due to the resonance described above.
On the other hand, in the present embodiment, the second fixing member 641 is provided along the outer peripheral edge of the drive region S2 outside the drive region S2 in the movable substrate 52. As described above, the vibration and resonance of the wavelength variable interference filter 5 can be suppressed. Therefore, the residual vibration of the movable substrate 52 can be suitably suppressed, and a decrease in resolution can be suppressed.
The second fixing member 641 is provided along the outer peripheral edge of the drive region S2 outside the drive region S2 in the movable substrate 52. In such a configuration, the stress acting on the region of the movable substrate 52 outside the holding portion 522 can be made uniform in the radial direction from the plane center point O toward the outside along the substrate surface 52B. Thereby, it can suppress that the holding | maintenance part 522 provided in the movable substrate 52 is distorted, and can suppress the fall of the control precision of the dimension of the gap G1.

また、本実施形態では、第二固定部材641は、略円環状であり、幅寸法が一定である。これにより、平面中心点Oから上記放射方向の外側に向かって、第二固定部材641から可動基板52に作用する応力を、より均一にすることができ、各基板51,52の歪みをより確実に抑制できる。   Moreover, in this embodiment, the 2nd fixing member 641 is a substantially annular shape, and the width dimension is constant. Thereby, the stress acting on the movable substrate 52 from the second fixed member 641 can be made more uniform from the plane center point O toward the outside in the radial direction, and the distortion of each of the substrates 51 and 52 can be more reliably performed. Can be suppressed.

本実施形態では、第二固定部材641は、スリット641Aを有する。これにより、例えば、第二固定部材641等の接着剤から放出ガスが発生した場合でも、フィルター平面視において、第二固定部材641よりも内側の空間から、スリット641Aを介して外部に排出することができる。また、フィルター平面視において、第二固定部材641よりも内側の空間と、外側の空間との間で内圧の差が生じることを抑制でき、当該内圧差が生じることによる反射膜間ギャップG1の制御精度の低下を抑制できる。   In the present embodiment, the second fixing member 641 has a slit 641A. Thereby, for example, even when a release gas is generated from the adhesive such as the second fixing member 641, the gas is discharged to the outside through the slit 641 </ b> A from the space inside the second fixing member 641 in the filter plan view. Can do. Moreover, in the filter plan view, it is possible to suppress the difference in internal pressure between the space inside the second fixing member 641 and the space outside, and control of the inter-reflective film gap G1 due to the internal pressure difference occurring. A decrease in accuracy can be suppressed.

また、本実施形態では、第二固定部材641は、フィルター平面視において、平面中心点Oに対して互いに回転対称となる位置にスリット641Aが設けられ、互いに回転対称となる複数部分に分割されている。したがって、第二固定部材641にスリット641Aを設けた場合でも、第二固定部材641から可動基板52に対して作用する応力の均一化を図ることができる。   Further, in the present embodiment, the second fixing member 641 is provided with slits 641A at positions that are rotationally symmetric with respect to the plane center point O in the filter plan view, and is divided into a plurality of portions that are rotationally symmetric with respect to each other. Yes. Therefore, even when the slit 641A is provided in the second fixing member 641, the stress acting on the movable substrate 52 from the second fixing member 641 can be made uniform.

本実施形態では、第一固定部材640は、可動基板52を一箇所で固定している。このような構成では、第一固定部材640としてより高い弾性率を有し、可動基板52との密着性が高い材料を用いることができ、第一固定部材640による固定力をより増大させることができる。
例えば、可動基板52を第一固定部材640によって複数箇所で固定すると、上記熱膨張係数差に応じて、複数の固定箇所の間で可動基板52を圧縮する方向や引っ張る方向の応力が作用し、各基板51,52が歪むおそれがある。
これに対して、本実施形態では、一箇所で固定しているため、第一固定部材640として高弾性率の部材を用いても、上記応力を抑制でき、各基板51,52の歪みを抑制できる。
また、第一固定部材640による固定力を増大させることができるので、第二固定部材641の固定力を減少させることができる。したがって、第二固定部材641として、より弾性率及び密着性が低い材料を用いることができ、第二固定部材641から可動基板52に作用する応力をより一層抑制することができる。
In the present embodiment, the first fixing member 640 fixes the movable substrate 52 at one place. In such a configuration, a material having a higher elastic modulus and higher adhesion to the movable substrate 52 can be used as the first fixing member 640, and the fixing force by the first fixing member 640 can be further increased. it can.
For example, when the movable substrate 52 is fixed at a plurality of locations by the first fixing member 640, stress in a direction in which the movable substrate 52 is compressed or pulled acts between the plurality of fixed locations according to the difference in thermal expansion coefficient. Each substrate 51, 52 may be distorted.
On the other hand, in this embodiment, since it fixes at one place, even if it uses a highly elastic member as the 1st fixing member 640, the said stress can be suppressed and distortion of each board | substrate 51,52 is suppressed. it can.
Moreover, since the fixing force by the first fixing member 640 can be increased, the fixing force of the second fixing member 641 can be decreased. Therefore, a material having a lower elastic modulus and adhesion can be used as the second fixing member 641, and the stress acting on the movable substrate 52 from the second fixing member 641 can be further suppressed.

また、本実施形態では、第一固定部材640は、矩形状の可動基板52の頂点C4を含む角部を一箇所で、波長可変干渉フィルター5を固定している。このような構成では、上述のように、1次モード振動(図5参照)として、頂点C4を固定端とし、頂点C2´を自由端とする振動が生じる。このような構成では、波長可変干渉フィルター5に生じる1次モード振動において、固定端と自由端との距離を最大とすることができ、波長可変干渉フィルター5に生じる1次モード振動の固有振動数(1次振動数)を小さくすることができる。本実施形態のように、一対の基板51,52を備え、可動基板52の可動部521を移動させるように構成された波長可変干渉フィルター5では、可動部521における固有振動数(ミラー振動数)は、1次振動数よりも大きい。したがって、1次振動数を小さくすることにより、ミラー振動数から1次振動数を遠ざけることができ、1次モード振動による共振を抑制できる。   In the present embodiment, the first fixing member 640 fixes the wavelength variable interference filter 5 at one corner including the vertex C4 of the rectangular movable substrate 52. In such a configuration, as described above, vibration with the vertex C4 as the fixed end and the vertex C2 ′ as the free end occurs as the primary mode vibration (see FIG. 5). In such a configuration, in the primary mode vibration generated in the wavelength variable interference filter 5, the distance between the fixed end and the free end can be maximized, and the natural frequency of the primary mode vibration generated in the wavelength variable interference filter 5. (Primary frequency) can be reduced. In the variable wavelength interference filter 5 including the pair of substrates 51 and 52 and configured to move the movable portion 521 of the movable substrate 52 as in the present embodiment, the natural frequency (mirror frequency) of the movable portion 521 is provided. Is greater than the primary frequency. Therefore, by reducing the primary frequency, the primary frequency can be kept away from the mirror frequency, and resonance due to the primary mode vibration can be suppressed.

また、本実施形態では、第一固定部材640は、可動基板52の厚み方向に沿った側面で可動基板52を固定している。このような構成では、第一固定部材640から、可動基板52に対して、基板表面52Bに沿った方向の応力が作用することを抑制することができる。したがって、可動基板52の対向領域S1に対して作用する、基板表面52Bに沿って平面中心点Oに対する放射方向の応力のより一層の均一化を図ることができる。   In the present embodiment, the first fixing member 640 fixes the movable substrate 52 on the side surface along the thickness direction of the movable substrate 52. In such a configuration, it is possible to suppress the stress in the direction along the substrate surface 52 </ b> B from acting on the movable substrate 52 from the first fixed member 640. Therefore, it is possible to further uniform the radial stress with respect to the plane center point O along the substrate surface 52B, which acts on the facing region S1 of the movable substrate 52.

[第二実施形態]
次に、本発明に係る第二実施形態について、図面に基づいて説明する。
第二実施形態では、上記第一実施形態の光学フィルターデバイス600が組み込まれた光学モジュールである測色センサー3、及び光学フィルターデバイス600が組み込まれた電子機器である測色装置1を説明する。
[Second Embodiment]
Next, 2nd embodiment which concerns on this invention is described based on drawing.
In the second embodiment, a colorimetric sensor 3 that is an optical module in which the optical filter device 600 of the first embodiment is incorporated, and a colorimetric apparatus 1 that is an electronic apparatus in which the optical filter device 600 is incorporated will be described.

[測色装置の概略構成]
図8は、測色装置1の概略構成を示すブロック図である。
測色装置1は、本発明の電子機器である。この測色装置1は、図8に示すように、検査対象Xに光を射出する光源装置2と、測色センサー3と、測色装置1の全体動作を制御する制御装置4と、を備える。そして、この測色装置1は、光源装置2から射出され検査対象Xにて反射された検査対象光を測色センサー3にて受光する。そして、測色装置1は、受光した測色センサー3から出力される検出信号に基づいて、検査対象光の色度、すなわち検査対象Xの色を分析して測定する装置である。
[Schematic configuration of color measuring device]
FIG. 8 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the colorimetric apparatus 1.
The color measuring device 1 is an electronic device of the present invention. As shown in FIG. 8, the color measurement device 1 includes a light source device 2 that emits light to the inspection target X, a color measurement sensor 3, and a control device 4 that controls the overall operation of the color measurement device 1. . In this color measurement device 1, the color measurement sensor 3 receives the inspection target light emitted from the light source device 2 and reflected by the inspection target X. The color measurement device 1 is a device that analyzes and measures the chromaticity of the inspection target light, that is, the color of the inspection target X, based on the detection signal output from the received color measurement sensor 3.

[光源装置の構成]
光源装置2は、光源21、複数のレンズ22(図8には1つのみ記載)を備え、検査対象Xに対して白色光を射出する。また、複数のレンズ22には、コリメーターレンズが含まれてもよく、この場合、光源装置2は、光源21から射出された白色光をコリメーターレンズにより平行光とし、図示しない投射レンズから検査対象Xに向かって射出する。なお、本実施形態では、光源装置2を備える測色装置1を例示するが、例えば検査対象Xが液晶パネル等の発光部材である場合、光源装置2が設けられない構成としてもよい。
[Configuration of light source device]
The light source device 2 includes a light source 21 and a plurality of lenses 22 (only one is shown in FIG. 8), and emits white light to the inspection target X. The plurality of lenses 22 may include a collimator lens. In this case, the light source device 2 converts the white light emitted from the light source 21 into parallel light by the collimator lens and inspects from a projection lens (not shown). Inject toward the target X. In the present embodiment, the colorimetric device 1 including the light source device 2 is illustrated. However, for example, when the inspection target X is a light emitting member such as a liquid crystal panel, the light source device 2 may not be provided.

[測色センサーの構成]
測色センサー3は、本発明の光学モジュールを構成し、上記第一実施形態の光学フィルターデバイス600を備えている。この測色センサー3は、図8に示すように、光学フィルターデバイス600と、光学フィルターデバイス600を透過した光を受光する検出部31と、波長可変干渉フィルター5の透過光の波長を変更する電圧制御部32と、を備える。
また、測色センサー3は、波長可変干渉フィルター5に対向する位置に、検査対象Xで反射された反射光(検査対象光)を、内部に導光する図示しない入射光学レンズを備えている。そして、この測色センサー3は、光学フィルターデバイス600内の波長可変干渉フィルター5により、入射光学レンズから入射した検査対象光のうち、所定波長の光を分光し、分光した光を検出部31にて受光する。
[Configuration of colorimetric sensor]
The colorimetric sensor 3 constitutes the optical module of the present invention, and includes the optical filter device 600 of the first embodiment. As shown in FIG. 8, the colorimetric sensor 3 includes an optical filter device 600, a detection unit 31 that receives light transmitted through the optical filter device 600, and a voltage that changes the wavelength of light transmitted through the wavelength variable interference filter 5. And a control unit 32.
Further, the colorimetric sensor 3 includes an incident optical lens (not shown) that guides reflected light (inspection light) reflected by the inspection target X to a position facing the wavelength variable interference filter 5. Then, the colorimetric sensor 3 uses the wavelength variable interference filter 5 in the optical filter device 600 to split the light having a predetermined wavelength out of the inspection target light incident from the incident optical lens. Receive light.

検出部31は、本発明の受光部であり、複数の光電交換素子により構成されており、受光量に応じた電気信号を生成する。ここで、検出部31は、例えば回路基板311を介して、制御装置4に接続されており、生成した電気信号を受光信号として制御装置4に出力する。
また、この回路基板311には、筐体610の外側表面に形成された外側端子が接続されており、回路基板311に形成された回路を介して、電圧制御部32に接続されている。
このような構成では、回路基板311を介して、光学フィルターデバイス600及び検出部31を一体的に構成でき、測色センサー3の構成を簡略化することができる。
The detection unit 31 is a light receiving unit according to the present invention, and includes a plurality of photoelectric exchange elements, and generates an electric signal corresponding to the amount of received light. Here, the detection unit 31 is connected to the control device 4 via, for example, the circuit board 311, and outputs the generated electric signal to the control device 4 as a light reception signal.
The circuit board 311 is connected to an outer terminal formed on the outer surface of the housing 610, and is connected to the voltage control unit 32 through a circuit formed on the circuit board 311.
In such a configuration, the optical filter device 600 and the detection unit 31 can be integrally configured via the circuit board 311, and the configuration of the colorimetric sensor 3 can be simplified.

電圧制御部32は、回路基板311を介して光学フィルターデバイス600の外側端子に接続される。そして、電圧制御部32は、制御装置4から入力される制御信号に基づいて、電極パッド564P,565Pに所定のステップ電圧を印加することで、静電アクチュエーター56を駆動させる。これにより、電極間ギャップに静電引力が発生し、保持部522が撓むことで、可動部521が固定基板51側に変位し、反射膜間ギャップG1を所望の寸法に設定することが可能となる。   The voltage control unit 32 is connected to the outer terminal of the optical filter device 600 via the circuit board 311. The voltage control unit 32 drives the electrostatic actuator 56 by applying a predetermined step voltage to the electrode pads 564P and 565P based on a control signal input from the control device 4. As a result, an electrostatic attractive force is generated in the gap between the electrodes, and the holding portion 522 is bent, so that the movable portion 521 is displaced toward the fixed substrate 51, and the gap G1 between the reflection films can be set to a desired dimension. It becomes.

[制御装置の構成]
制御装置4は、測色装置1の全体動作を制御する。
この制御装置4としては、例えば汎用パーソナルコンピューターや、携帯情報端末、そ
の他、測色専用コンピューター等を用いることができる。
そして、制御装置4は、図8に示すように、光源制御部41、測色センサー制御部42、及び測色処理部43等を備えて構成されている。
光源制御部41は、光源装置2に接続されている。そして、光源制御部41は、例えば利用者の設定入力に基づいて、光源装置2に所定の制御信号を出力し、光源装置2から所定の明るさの白色光を射出させる。
測色センサー制御部42は、測色センサー3に接続されている。そして、測色センサー制御部42は、例えば利用者の設定入力に基づいて、測色センサー3にて受光させる光の波長を設定し、この波長の光の受光量を検出する旨の制御信号を測色センサー3に出力する。これにより、測色センサー3の電圧制御部32は、制御信号に基づいて、利用者が所望する光の波長のみを透過させるよう、静電アクチュエーター56への印加電圧を設定する。
測色処理部43は、検出部31により検出された受光量から、検査対象Xの色度を分析する。
[Configuration of control device]
The control device 4 controls the overall operation of the color measurement device 1.
As this control device 4, for example, a general-purpose personal computer, a portable information terminal, a color measurement dedicated computer, or the like can be used.
And the control apparatus 4 is provided with the light source control part 41, the colorimetric sensor control part 42, the colorimetric processing part 43 grade | etc., As shown in FIG.
The light source control unit 41 is connected to the light source device 2. Then, the light source control unit 41 outputs a predetermined control signal to the light source device 2 based on, for example, a user setting input, and causes the light source device 2 to emit white light with a predetermined brightness.
The colorimetric sensor control unit 42 is connected to the colorimetric sensor 3. The colorimetric sensor control unit 42 sets a wavelength of light received by the colorimetric sensor 3 based on, for example, a user's setting input, and outputs a control signal for detecting the amount of light received at this wavelength. Output to the colorimetric sensor 3. Thereby, the voltage control unit 32 of the colorimetric sensor 3 sets the voltage applied to the electrostatic actuator 56 so as to transmit only the wavelength of light desired by the user based on the control signal.
The colorimetric processing unit 43 analyzes the chromaticity of the inspection target X from the amount of received light detected by the detection unit 31.

[第二実施形態の作用効果]
本実施形態の測色装置1は、上記第一実施形態のような光学フィルターデバイス600を備えている。上述したように、光学フィルターデバイス600は、接合時における可動基板52の撓みや反りを低減でき、波長可変干渉フィルター5から所望波長の光を精度よく出射させることができる。
したがって、光学モジュールである測色センサー3は、検出部31により所望波長の光量を高精度に検出することが可能となる。これにより、電子機器である測色装置1は、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御することで、検査対象Xに対する高精度な測色処理を実施できる。
[Operational effects of the second embodiment]
The color measurement device 1 of this embodiment includes an optical filter device 600 as in the first embodiment. As described above, the optical filter device 600 can reduce bending and warping of the movable substrate 52 at the time of bonding, and can emit light having a desired wavelength from the wavelength variable interference filter 5 with high accuracy.
Therefore, the colorimetric sensor 3 which is an optical module can detect the light amount of the desired wavelength with high accuracy by the detection unit 31. Thereby, the colorimetric apparatus 1 which is an electronic apparatus can perform highly accurate colorimetric processing on the inspection target X by controlling the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600.

[実施形態の変形]
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、上記各実施形態では、フィルター平面視において、第一固定部材640を角部の一箇所に設ける構成について例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第一固定部材640を、角部以外の他の場所に設ける構成としてもよい。また、第一固定部材640を、複数箇所に設ける構成としてもよい。
また、上記各実施形態では、第一固定部材640を可動基板52の基板側面52Aに設ける構成を例示したが、これに限定されず、基板表面52Bに設けてもよい。
なお、基板側面52Aの一箇所に第一固定部材640を設け、波長可変干渉フィルター5を固定することにより、基板表面52Bに沿った方向の応力が、波長可変干渉フィルター5に作用することを抑制でき、波長可変干渉フィルター5の分解能の低下をより確実に抑制できる。
[Modification of Embodiment]
In addition, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, The deformation | transformation in the range which can achieve the objective of this invention, improvement, etc. are included in this invention.
For example, in each of the above embodiments, the configuration in which the first fixing member 640 is provided at one corner in the filter plan view is illustrated, but the present invention is not limited to this. For example, the first fixing member 640 may be provided in a place other than the corner. Moreover, it is good also as a structure which provides the 1st fixing member 640 in multiple places.
Further, in each of the above embodiments, the configuration in which the first fixing member 640 is provided on the substrate side surface 52A of the movable substrate 52 is exemplified, but the present invention is not limited thereto, and may be provided on the substrate surface 52B.
In addition, by providing the first fixing member 640 at one location on the substrate side surface 52A and fixing the wavelength variable interference filter 5, it is possible to suppress the stress in the direction along the substrate surface 52B from acting on the wavelength variable interference filter 5. It is possible to suppress the decrease in the resolution of the wavelength variable interference filter 5 more reliably.

上記各実施形態では、第二固定部材641が、フィルター平面視において円環状である構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、平面中心点Oに対して回転対称性を有する、例えば矩形状や多角形状等の構成であってもよい。また、第二固定部材641は、回転対称性を有する構成に限定されず、フィルター平面視において、対向領域S1を囲む位置に略環状に設けられていればよい。具体的には、フィルター平面視において、一対の基板51,52が重なる重畳領域の外周縁に沿って、第二固定部材641を設けてもよい。   In each of the above embodiments, the second fixing member 641 has an annular configuration in the filter plan view, but the present invention is not limited to this, and has rotational symmetry with respect to the plane center point O. The configuration may be a rectangular shape or a polygonal shape. Further, the second fixing member 641 is not limited to the configuration having rotational symmetry, and may be provided in a substantially annular shape at a position surrounding the facing region S1 in the filter plan view. Specifically, the second fixing member 641 may be provided along the outer peripheral edge of the overlapping region where the pair of substrates 51 and 52 overlap in the filter plan view.

上記各実施形態では、第二固定部材641に2つのスリット641Aが設けられている構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、3つ以上のスリット641Aを互いに回転対称となる位置に設けてもよく、複数のスリットを、回転対称となる位置以外の任意の位置に設ける構成としてもよい。また、1つのスリット641Aを設ける構成としてもよい。また、上述の放出ガスの発生等の不具合が発生しなければ、スリット641Aを設けなくてもよい。   In each of the embodiments described above, the configuration in which the two fixing members 641 are provided with the two slits 641A is illustrated, but the present invention is not limited to this, and the three or more slits 641A are positioned at rotationally symmetrical positions. A plurality of slits may be provided at any position other than the rotationally symmetric position. Alternatively, one slit 641A may be provided. In addition, the slit 641A may not be provided if the above-described problem such as the generation of the released gas does not occur.

上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター5の可動基板52を固定する構成としたが、本発明はこれに限定されず、固定基板51をベース620に固定する構成としてもよい。例えば、固定基板51をベース620側に向けて波長可変干渉フィルター5を配置し、固定基板51をベース620に固定する構成が挙げられる。
なお、各基板51,52のうちの一方を第一固定部材640で固定し、他方を第二固定部材641で固定する構成としてもよい。
In each of the above embodiments, the movable substrate 52 of the variable wavelength interference filter 5 is fixed. However, the present invention is not limited to this, and the fixed substrate 51 may be fixed to the base 620. For example, the wavelength variable interference filter 5 is disposed with the fixed substrate 51 facing the base 620 side, and the fixed substrate 51 is fixed to the base 620.
One of the substrates 51 and 52 may be fixed by the first fixing member 640 and the other may be fixed by the second fixing member 641.

上記各実施形態では、ギャップ変更部として、固定電極561、及び可動電極562に電圧を印加することで、静電引力により反射膜間ギャップG1の大きさを変更する静電アクチュエーター56を備える構成を例示したが、これに限定されない。
例えば、ギャップ変更部として、誘導アクチュエーターを用いてもよい。この場合、固定電極561の代わりに、第一誘導コイルを配置し、可動電極562の代わりに第二誘導コイル又は永久磁石を配置する構成を例示できる。
さらに、ギャップ変更部として、圧電アクチュエーターを用いてもよい。この場合、保持部522に下部電極層、圧電膜、及び上部電極層を積層配置させ、下部電極層及び上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部522を撓ませる構成を例示できる。
また、上記各実施形態では、ギャップ変更部としての静電アクチュエーター56を一対の基板の一方のみに設けた構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、ギャップ変更部を両方の基板に設けてもよい。
In each of the above-described embodiments, the gap change unit includes the electrostatic actuator 56 that changes the size of the gap G1 between the reflection films by applying electrostatic voltage to the fixed electrode 561 and the movable electrode 562. Although illustrated, it is not limited to this.
For example, an induction actuator may be used as the gap changing unit. In this case, a configuration in which the first induction coil is arranged instead of the fixed electrode 561 and the second induction coil or permanent magnet is arranged instead of the movable electrode 562 can be exemplified.
Furthermore, a piezoelectric actuator may be used as the gap changing unit. In this case, the lower electrode layer, the piezoelectric film, and the upper electrode layer are stacked on the holding unit 522, and the voltage applied between the lower electrode layer and the upper electrode layer is varied as an input value, so that the piezoelectric film can be expanded and contracted. A configuration in which the holding portion 522 is bent can be exemplified.
Moreover, in each said embodiment, although the structure which provided the electrostatic actuator 56 as a gap change part only in one side of a pair of board | substrate was illustrated, this invention is not limited to this, A gap change part is provided in both board | substrates. It may be provided.

上記各実施形態では、反射膜間ギャップG1を変更可能に構成された波長可変干渉フィルター5を例示したが、これに限定されず、反射膜間ギャップG1の大きさが固定された干渉フィルターであってもよい。
また、上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター5として、一対の基板51,52と、各基板51,52のそれぞれに設けられた一対の反射膜54,55を備える構成を例示したが、これに限定されない。例えば、可動基板52が設けられない構成とし、固定基板51を筐体610に固定する構成としてもよい。この場合、例えば、基板(固定基板)の一面に第一反射膜、ギャップスペーサ、及び第二反射膜を積層形成し、第一反射膜と第二反射膜とがギャップを介して対向する構成とする。当該構成では、一枚の基板からなる構成となり、分光素子をより薄型化することができる。
In each of the above embodiments, the wavelength variable interference filter 5 configured to be able to change the inter-reflective film gap G1 is exemplified, but the present invention is not limited to this, and the interference filter is an interference filter in which the size of the inter-reflective film gap G1 is fixed. May be.
In each of the above-described embodiments, the wavelength variable interference filter 5 includes a pair of substrates 51 and 52 and a pair of reflective films 54 and 55 provided on the substrates 51 and 52, respectively. It is not limited to. For example, the movable substrate 52 may not be provided, and the fixed substrate 51 may be fixed to the housing 610. In this case, for example, the first reflective film, the gap spacer, and the second reflective film are stacked on one surface of the substrate (fixed substrate), and the first reflective film and the second reflective film are opposed to each other through the gap. To do. In this configuration, a single substrate is used, and the spectral element can be made thinner.

また、本発明の電子機器として、第二実施形態において測色装置1を例示したが、その他、様々な分野により本発明の光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器を用いることができる。
以下、本発明の光学フィルターデバイスを利用した電子機器の変形例について説明する。なお、以下に例示する電子機器は、上記光学フィルターデバイス600を備え、波長可変干渉フィルター5が筐体610に収納されている。
Moreover, although the colorimetric apparatus 1 was illustrated in the second embodiment as the electronic apparatus of the present invention, the optical filter device, optical module, and electronic apparatus of the present invention can be used in various other fields.
Hereinafter, modified examples of the electronic apparatus using the optical filter device of the present invention will be described. Note that an electronic apparatus exemplified below includes the optical filter device 600, and the wavelength variable interference filter 5 is housed in a housing 610.

本発明の電子機器は、例えば、特定物質の存在を検出するための光ベースのシステムとして用いることができる。このようなシステムとしては、例えば、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターを用いた分光計測方式を採用して特定ガスを高感度検出する車載用ガス漏れ検出器や、呼気検査用の光音響希ガス検出器等のガス検出装置を例示できる。
このようなガス検出装置の一例を以下に図面に基づいて説明する。
The electronic device of the present invention can be used, for example, as a light-based system for detecting the presence of a specific substance. As such a system, for example, an in-vehicle gas leak detector that detects a specific gas with high sensitivity by adopting a spectroscopic measurement method using a variable wavelength interference filter provided in the optical filter device of the present invention, or a breath test A gas detection device such as a photoacoustic rare gas detector can be exemplified.
An example of such a gas detection device will be described below with reference to the drawings.

図9は、波長可変干渉フィルターを備えたガス検出装置の一例を示す概略図である。
図10は、図9のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図である。
このガス検出装置100は、図9に示すように、センサーチップ110と、吸引口120A、吸引流路120B、排出流路120C、及び排出口120Dを備えた流路120と、本体部130と、を備えて構成されている。
本体部130は、流路120を着脱可能な開口を有するセンサー部カバー131、排出手段133、筐体134、光学部135、フィルター136、光学フィルターデバイス600、及び受光素子137(検出部)等を含む検出装置と、検出された信号を処理し、検出部を制御する制御部138、電力を供給する電力供給部139等から構成されている。また、光学部135は、光を射出する光源135Aと、光源135Aから入射された光をセンサーチップ110側に反射し、センサーチップ側から入射された光を受光素子137側に透過するビームスプリッター135Bと、レンズ135C,レンズ135D,レンズ135Eと、により構成されている。
また、図9に示すように、ガス検出装置100の表面には、操作パネル140、表示部141、外部とのインターフェイスのための接続部142、電力供給部139が設けられている。電力供給部139が二次電池の場合には、充電のための接続部143を備えてもよい。
さらに、ガス検出装置100の制御部138は、図10に示すように、CPU等により構成された信号処理部144、光源135Aを制御するための光源ドライバー回路145、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御するための電圧制御部146、受光素子137からの信号を受信する受光回路147、センサーチップ110のコードを読み取り、センサーチップ110の有無を検出するセンサーチップ検出器148からの信号を受信するセンサーチップ検出回路149及び排出手段133を制御する排出ドライバー回路150等を備えている。
FIG. 9 is a schematic diagram illustrating an example of a gas detection apparatus including a wavelength variable interference filter.
FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of a control system of the gas detection device of FIG.
As illustrated in FIG. 9, the gas detection device 100 includes a sensor chip 110, a flow path 120 including a suction port 120A, a suction flow path 120B, a discharge flow path 120C, and a discharge port 120D, a main body 130, It is configured with.
The main body unit 130 includes a sensor unit cover 131 having an opening through which the flow channel 120 can be attached, a discharge unit 133, a housing 134, an optical unit 135, a filter 136, an optical filter device 600, a light receiving element 137 (detection unit), and the like. And a control unit 138 that processes a detected signal and controls the detection unit, a power supply unit 139 that supplies power, and the like. The optical unit 135 emits light, and a beam splitter 135B that reflects light incident from the light source 135A toward the sensor chip 110 and transmits light incident from the sensor chip toward the light receiving element 137. And a lens 135C, a lens 135D, and a lens 135E.
Further, as shown in FIG. 9, an operation panel 140, a display unit 141, a connection unit 142 for interface with the outside, and a power supply unit 139 are provided on the surface of the gas detection device 100. When the power supply unit 139 is a secondary battery, a connection unit 143 for charging may be provided.
Further, as shown in FIG. 10, the control unit 138 of the gas detection apparatus 100 includes a signal processing unit 144 configured by a CPU, a light source driver circuit 145 for controlling the light source 135A, and a wavelength variable interference of the optical filter device 600. A voltage control unit 146 for controlling the filter 5, a light receiving circuit 147 that receives a signal from the light receiving element 137, a code of the sensor chip 110 is read, and a signal from the sensor chip detector 148 that detects the presence or absence of the sensor chip 110 is obtained. A sensor chip detection circuit 149 for receiving and a discharge driver circuit 150 for controlling the discharge means 133 are provided.

次に、上記のようなガス検出装置100の動作について、以下に説明する。
本体部130の上部のセンサー部カバー131の内部には、センサーチップ検出器148が設けられており、このセンサーチップ検出器148でセンサーチップ110の有無が検出される。信号処理部144は、センサーチップ検出器148からの検出信号を検出すると、センサーチップ110が装着された状態であると判断し、表示部141へ検出動作を実施可能な旨を表示させる表示信号を出す。
Next, operation | movement of the above gas detection apparatuses 100 is demonstrated below.
A sensor chip detector 148 is provided inside the sensor unit cover 131 at the upper part of the main body unit 130, and the sensor chip detector 148 detects the presence or absence of the sensor chip 110. When the signal processing unit 144 detects the detection signal from the sensor chip detector 148, the signal processing unit 144 determines that the sensor chip 110 is attached, and displays a display signal for displaying on the display unit 141 that the detection operation can be performed. put out.

そして、例えば利用者により操作パネル140が操作され、操作パネル140から検出処理を開始する旨の指示信号が信号処理部144へ出力されると、まず、信号処理部144は、光源ドライバー回路145に光源作動の信号を出力して光源135Aを作動させる。光源135Aが駆動されると、光源135Aから単一波長で直線偏光の安定したレーザー光が射出される。また、光源135Aには、温度センサーや光量センサーが内蔵されており、その情報が信号処理部144へ出力される。そして、信号処理部144は、光源135Aから入力された温度や光量に基づいて、光源135Aが安定動作していると判断すると、排出ドライバー回路150を制御して排出手段133を作動させる。これにより、検出すべき標的物質(ガス分子)を含んだ気体試料が、吸引口120Aから、吸引流路120B、センサーチップ110内、排出流路120C、排出口120Dへと誘導される。なお、吸引口120Aには、除塵フィルター120A1が設けられ、比較的大きい粉塵や一部の水蒸気等が除去される。   For example, when the operation panel 140 is operated by the user and an instruction signal to start the detection process is output from the operation panel 140 to the signal processing unit 144, the signal processing unit 144 first sends the signal processing unit 144 to the light source driver circuit 145. A light source activation signal is output to activate the light source 135A. When the light source 135A is driven, laser light having a single wavelength and stable linear polarization is emitted from the light source 135A. The light source 135A includes a temperature sensor and a light amount sensor, and the information is output to the signal processing unit 144. When the signal processing unit 144 determines that the light source 135A is stably operating based on the temperature and light quantity input from the light source 135A, the signal processing unit 144 controls the discharge driver circuit 150 to operate the discharge unit 133. Thereby, the gas sample containing the target substance (gas molecule) to be detected is guided from the suction port 120A to the suction channel 120B, the sensor chip 110, the discharge channel 120C, and the discharge port 120D. The suction port 120A is provided with a dust removal filter 120A1, and relatively large dust, a part of water vapor, and the like are removed.

また、センサーチップ110は、金属ナノ構造体が複数組み込まれ、局在表面プラズモン共鳴を利用したセンサーである。このようなセンサーチップ110では、レーザー光により金属ナノ構造体間で増強電場が形成され、この増強電場内にガス分子が入り込むと、分子振動の情報を含んだラマン散乱光及びレイリー散乱光が発生する。
これらのレイリー散乱光やラマン散乱光は、光学部135を通ってフィルター136に入射し、フィルター136によりレイリー散乱光が分離され、ラマン散乱光が光学フィルターデバイス600に入射する。そして、信号処理部144は、電圧制御部146を制御し、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5に印加する電圧を調整し、検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光を光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5で分光させる。この後、分光した光が受光素子137で受光され
ると、受光量に応じた受光信号が受光回路147を介して信号処理部144に出力される。
信号処理部144は、上記のようにして得られた検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光のスペクトルデータと、ROMに格納されているデータとを比較し、目的のガス分子か否かを判定し、物質の特定をする。また、信号処理部144は、表示部141にその結果情報を表示させたり、接続部142から外部へ出力したりする。
The sensor chip 110 is a sensor that incorporates a plurality of metal nanostructures and uses localized surface plasmon resonance. In such a sensor chip 110, an enhanced electric field is formed between the metal nanostructures by laser light, and when gas molecules enter the enhanced electric field, Raman scattered light and Rayleigh scattered light including information on molecular vibrations are generated. To do.
These Rayleigh scattered light and Raman scattered light enter the filter 136 through the optical unit 135, and the Rayleigh scattered light is separated by the filter 136, and the Raman scattered light enters the optical filter device 600. Then, the signal processing unit 144 controls the voltage control unit 146 to adjust the voltage applied to the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600, and the Raman scattered light corresponding to the gas molecule to be detected is converted into the optical filter device. The light is dispersed by 600 wavelength variable interference filter 5. Thereafter, when the dispersed light is received by the light receiving element 137, a light reception signal corresponding to the amount of received light is output to the signal processing unit 144 via the light receiving circuit 147.
The signal processing unit 144 compares the spectrum data of the Raman scattered light corresponding to the gas molecule to be detected obtained as described above and the data stored in the ROM, and determines whether or not the target gas molecule is the target gas molecule. To determine the substance. Further, the signal processing unit 144 displays the result information on the display unit 141 or outputs the result information from the connection unit 142 to the outside.

なお、図9及び図10において、ラマン散乱光を光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5により分光して分光されたラマン散乱光からガス検出を行うガス検出装置100を例示した。この他、ガス検出装置として、ガス固有の吸光度を検出することでガス種別を特定するガス検出装置として用いてもよい。この場合、センサー内部にガスを流入させ、入射光のうちガスにて吸収された光を検出するガスセンサーを本発明の光学モジュールとして用いる。そして、このようなガスセンサーによりセンサー内に流入されたガスを分析、判別するガス検出装置を本発明の電子機器とする。このような構成でも、波長可変干渉フィルターを用いてガスの成分を検出することができる。   9 and 10 exemplify the gas detection device 100 that performs gas detection from the Raman scattered light obtained by spectrally dividing the Raman scattered light by the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600. In addition, as a gas detection apparatus, you may use as a gas detection apparatus which specifies gas classification by detecting the intrinsic absorbance of gas. In this case, a gas sensor that allows gas to flow into the sensor and detects light absorbed by the gas in the incident light is used as the optical module of the present invention. A gas detection device that analyzes and discriminates the gas flowing into the sensor by such a gas sensor is an electronic apparatus of the present invention. Even in such a configuration, it is possible to detect a gas component using the wavelength variable interference filter.

また、特定物質の存在を検出するためのシステムとして、上記のようなガスの検出に限られず、近赤外線分光による糖類の非侵襲的測定装置や、食物や生体、鉱物等の情報の非侵襲的測定装置等の、物質成分分析装置を例示できる。
以下に、上記物質成分分析装置の一例として、食物分析装置を説明する。
In addition, the system for detecting the presence of a specific substance is not limited to the detection of the gas as described above, but a non-invasive measuring device for saccharides by near-infrared spectroscopy, and non-invasive information on food, living body, minerals, etc. A substance component analyzer such as a measuring device can be exemplified.
Hereinafter, a food analyzer will be described as an example of the substance component analyzer.

図11は、光学フィルターデバイス600を利用した電子機器の一例である食物分析装置の概略構成を示す図である。
この食物分析装置200は、図11に示すように、検出器210(光学モジュール)と、制御部220と、表示部230と、を備えている。検出器210は、光を射出する光源211と、測定対象物からの光が導入される撮像レンズ212と、撮像レンズ212から導入された光を分光する光学フィルターデバイス600と、分光された光を検出する撮像部213(検出部)と、を備えている。
また、制御部220は、光源211の点灯・消灯制御、点灯時の明るさ制御を実施する光源制御部221と、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5を制御する電圧制御部222と、撮像部213を制御し、撮像部213で撮像された分光画像を取得する検出制御部223と、信号処理部224と、記憶部225と、を備えている。
FIG. 11 is a diagram illustrating a schematic configuration of a food analysis apparatus that is an example of an electronic apparatus using the optical filter device 600.
As shown in FIG. 11, the food analysis apparatus 200 includes a detector 210 (optical module), a control unit 220, and a display unit 230. The detector 210 includes a light source 211 that emits light, an imaging lens 212 into which light from a measurement object is introduced, an optical filter device 600 that splits light introduced from the imaging lens 212, and the dispersed light. And an imaging unit 213 (detection unit) for detection.
The control unit 220 also turns on and off the light source 211 and controls the brightness at the time of lighting, a voltage control unit 222 that controls the wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600, and imaging. A detection control unit 223 that controls the unit 213 to acquire a spectral image captured by the imaging unit 213, a signal processing unit 224, and a storage unit 225.

この食物分析装置200は、システムを駆動させると、光源制御部221により光源211が制御されて、光源211から測定対象物に光が照射される。そして、測定対象物で反射された光は、撮像レンズ212を通って光学フィルターデバイス600に入射する。光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5は電圧制御部222の制御により所望の波長を分光可能な電圧が印加されており、分光された光が、例えばCCDカメラ等により構成される撮像部213で撮像される。また、撮像された光は分光画像として、記憶部225に蓄積される。また、信号処理部224は、電圧制御部222を制御して波長可変干渉フィルター5に印加する電圧値を変化させ、各波長に対する分光画像を取得する。   In the food analyzer 200, when the system is driven, the light source 211 is controlled by the light source control unit 221, and light is irradiated from the light source 211 to the measurement object. Then, the light reflected by the measurement object enters the optical filter device 600 through the imaging lens 212. The wavelength variable interference filter 5 of the optical filter device 600 is applied with a voltage capable of dispersing a desired wavelength under the control of the voltage control unit 222, and the dispersed light is captured by an imaging unit 213 configured by, for example, a CCD camera or the like. Imaged. The captured light is accumulated in the storage unit 225 as a spectral image. In addition, the signal processing unit 224 controls the voltage control unit 222 to change the voltage value applied to the wavelength tunable interference filter 5, and acquires a spectral image for each wavelength.

そして、信号処理部224は、記憶部225に蓄積された各画像における各画素のデータを演算処理し、各画素におけるスペクトルを求める。また、記憶部225には、例えばスペクトルに対する食物の成分に関する情報が記憶されており、信号処理部224は、求めたスペクトルのデータを、記憶部225に記憶された食物に関する情報を基に分析し、検出対象に含まれる食物成分、及びその含有量を求める。また、得られた食物成分及び含有量から、食物カロリーや鮮度等をも算出することができる。さらに、画像内のスペクトル分布を分析することで、検査対象の食物の中で鮮度が低下している部分の抽出等をも実
施することができ、さらには、食物内に含まれる異物等の検出をも実施することができる。
そして、信号処理部224は、上述のようにして得られた検査対象の食物の成分や含有量、カロリーや鮮度等の情報を表示部230に表示させる処理をする。
Then, the signal processing unit 224 performs arithmetic processing on the data of each pixel in each image accumulated in the storage unit 225, and obtains a spectrum at each pixel. In addition, the storage unit 225 stores, for example, information related to food components with respect to the spectrum, and the signal processing unit 224 analyzes the obtained spectrum data based on the information related to food stored in the storage unit 225. The food component contained in the detection target and its content are obtained. Moreover, a food calorie, a freshness, etc. are computable from the obtained food component and content. Furthermore, by analyzing the spectral distribution in the image, it is possible to extract a portion of the food to be inspected that has reduced freshness, and to detect foreign substances contained in the food. Can also be implemented.
Then, the signal processing unit 224 performs processing for causing the display unit 230 to display information such as the components and contents of the food to be examined, the calories, and the freshness obtained as described above.

また、図11において、食物分析装置200の例を示すが、略同様の構成により、上述したようなその他の情報の非侵襲的測定装置としても利用することができる。例えば、血液等の体液成分の測定、分析等、生体成分を分析する生体分析装置として用いることができる。このような生体分析装置としては、例えば血液等の体液成分を測定する装置として、エチルアルコールを検知する装置とすれば、運転者の飲酒状態を検出する酒気帯び運転防止装置として用いることができる。また、このような生体分析装置を備えた電子内視鏡システムとしても用いることができる。
さらには、鉱物の成分分析を実施する鉱物分析装置としても用いることができる。
Moreover, although the example of the food analysis apparatus 200 is shown in FIG. 11, it can utilize also as a noninvasive measurement apparatus of the other information as mentioned above by the substantially same structure. For example, it can be used as a biological analyzer for analyzing biological components such as measurement and analysis of body fluid components such as blood. As such a bioanalytical device, for example, a device that detects ethyl alcohol as a device that measures a body fluid component such as blood, it can be used as a drunk driving prevention device that detects the drunk state of the driver. Further, it can also be used as an electronic endoscope system provided with such a biological analyzer.
Furthermore, it can also be used as a mineral analyzer for performing component analysis of minerals.

さらには、本発明の波長可変干渉フィルター、光学モジュール、電子機器としては、以下のような装置に適用することができる。
例えば、各波長の光の強度を経時的に変化させることで、各波長の光でデータを伝送させることも可能であり、この場合、光学モジュールに設けられた波長可変干渉フィルターにより特定波長の光を分光し、受光部で受光させることで、特定波長の光により伝送されるデータを抽出することができ、このようなデータ抽出用光学モジュールを備えた電子機器により、各波長の光のデータを処理することで、光通信を実施することもできる。
Furthermore, the variable wavelength interference filter, the optical module, and the electronic apparatus of the present invention can be applied to the following apparatuses.
For example, it is possible to transmit data using light of each wavelength by changing the intensity of light of each wavelength over time. In this case, light of a specific wavelength is transmitted by a wavelength variable interference filter provided in the optical module. The data transmitted by the light of the specific wavelength can be extracted by separating the light and receiving the light at the light receiving unit, and the electronic data having such a data extraction optical module can be used to extract the light data of each wavelength. By processing, optical communication can be performed.

また、電子機器としては、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターにより光を分光することで、分光画像を撮像する分光カメラ、分光分析機等にも適用できる。このような分光カメラの一例として、波長可変干渉フィルターを内蔵した赤外線カメラが挙げられる。
図12は、分光カメラの概略構成を示す模式図である。分光カメラ300は、図12に示すように、カメラ本体310と、撮像レンズユニット320と、撮像部330(検出部)と、を備えている。
カメラ本体310は、利用者により把持、操作される部分である。
撮像レンズユニット320は、カメラ本体310に設けられ、入射した画像光を撮像部330に導光する。また、この撮像レンズユニット320は、図12に示すように、対物レンズ321、結像レンズ322、及びこれらのレンズ間に設けられた光学フィルターデバイス600を備えて構成されている。
撮像部330は、受光素子により構成され、撮像レンズユニット320により導光された画像光を撮像する。
このような分光カメラ300では、光学フィルターデバイス600の波長可変干渉フィルター5により撮像対象となる波長の光を透過させることで、所望波長の光の分光画像を撮像することができる。
The electronic apparatus can also be applied to a spectroscopic camera, a spectroscopic analyzer, or the like that captures a spectroscopic image by dispersing light with a wavelength variable interference filter included in the optical filter device of the present invention. An example of such a spectroscopic camera is an infrared camera incorporating a wavelength variable interference filter.
FIG. 12 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the spectroscopic camera. As shown in FIG. 12, the spectroscopic camera 300 includes a camera body 310, an imaging lens unit 320, and an imaging unit 330 (detection unit).
The camera body 310 is a part that is gripped and operated by a user.
The imaging lens unit 320 is provided in the camera body 310 and guides incident image light to the imaging unit 330. In addition, as shown in FIG. 12, the imaging lens unit 320 includes an objective lens 321, an imaging lens 322, and an optical filter device 600 provided between these lenses.
The imaging unit 330 includes a light receiving element, and images the image light guided by the imaging lens unit 320.
In such a spectroscopic camera 300, a spectral image of light having a desired wavelength can be captured by transmitting light having a wavelength to be imaged by the variable wavelength interference filter 5 of the optical filter device 600.

さらには、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターをバンドパスフィルターとして用いてもよく、例えば、発光素子が射出する所定波長域の光のうち、所定の波長を中心とした狭帯域の光のみを波長可変干渉フィルターで分光して透過させる光学式レーザー装置としても用いることができる。
また、本発明の光学フィルターデバイスが備える波長可変干渉フィルターを生体認証装置として用いてもよく、例えば、近赤外領域や可視領域の光を用いた、血管や指紋、網膜、虹彩等の認証装置にも適用できる。
Furthermore, the tunable interference filter provided in the optical filter device of the present invention may be used as a bandpass filter. For example, among the light in a predetermined wavelength range emitted from the light emitting element, a narrow band centering on a predetermined wavelength is used. It can also be used as an optical laser device that transmits only light by spectrally splitting it with a variable wavelength interference filter.
In addition, the wavelength variable interference filter provided in the optical filter device of the present invention may be used as a biometric authentication device, for example, an authentication device for blood vessels, fingerprints, retinas, irises, etc. using light in the near infrared region or visible region. It can also be applied to.

さらには、光学モジュール及び電子機器を、濃度検出装置として用いることができる。この場合、波長可変干渉フィルターにより、物質から射出された赤外エネルギー(赤外光)を分光して分析し、サンプル中の被検体濃度を測定する。   Furthermore, an optical module and an electronic device can be used as a concentration detection device. In this case, the infrared energy (infrared light) emitted from the substance is spectrally analyzed by the variable wavelength interference filter, and the analyte concentration in the sample is measured.

上記に示すように、本発明の光学フィルターデバイス及び電子機器は、入射光から所定の光を分光するいかなる装置にも適用することができる。そして、上記光学フィルターデバイスは、上述のように、1デバイスで複数の波長を分光させることができるため、複数の波長のスペクトルの測定、複数の成分に対する検出を精度よく実施することができる。したがって、複数デバイスにより所望の波長を取り出す従来の装置に比べて、光学モジュールや電子機器の小型化を促進でき、例えば、携帯用や車載用の電子機器に好適に利用できる。   As described above, the optical filter device and the electronic apparatus of the present invention can be applied to any apparatus that separates predetermined light from incident light. And since the said optical filter device can disperse | distribute a some wavelength with one device as mentioned above, the measurement of the spectrum of a some wavelength and the detection with respect to a some component can be implemented accurately. Therefore, compared with the conventional apparatus which takes out a desired wavelength with a plurality of devices, it is possible to promote downsizing of the optical module and the electronic device, and for example, it can be suitably used for a portable or in-vehicle electronic device.

上述の測色装置1、ガス検出装置100、食物分析装置200、及び分光カメラ300の説明では、第一実施形態の光学フィルターデバイス600を適用した例を示したが、これに限定されない。もちろん、他の実施形態の光学フィルターデバイスも同様に測色装置1等に適用できる。   In the description of the colorimetric device 1, the gas detection device 100, the food analysis device 200, and the spectroscopic camera 300 described above, an example in which the optical filter device 600 of the first embodiment is applied is shown, but the present invention is not limited to this. Of course, optical filter devices of other embodiments can be similarly applied to the colorimetric apparatus 1 and the like.

その他、本発明の実施の際の具体的な構造は、本発明の目的を達成できる範囲で上記各実施形態及び変形例を適宜組み合わせることで構成してもよく、また他の構造等に適宜変更してもよい。   In addition, the specific structure for carrying out the present invention may be configured by appropriately combining the above-described embodiments and modification examples within the scope in which the object of the present invention can be achieved, and may be appropriately changed to other structures and the like. May be.

1…測色装置(電子機器)、3…測色センサー(光学モジュール)、4…制御装置(制御部)、5…波長可変干渉フィルター(干渉フィルター)、31…検出部(受光部)、51…固定基板、52…可動基板、52B…基板表面、54…固定反射膜、55…可動反射膜、100…ガス検出装置(電子機器)、137…受光素子(受光部)、138…制御部、200…食物分析装置(電子機器)、213…撮像部(受光部)、220…制御部、300…分光カメラ(電子機器)、330…撮像部(受光部)、521…可動部、522…保持部、600…光学フィルターデバイス、620…ベース(ベース部)、640…第一固定部材、641…第二固定部材。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color measuring apparatus (electronic device), 3 ... Color measuring sensor (optical module), 4 ... Control apparatus (control part), 5 ... Variable wavelength interference filter (interference filter), 31 ... Detection part (light-receiving part), 51 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Fixed substrate, 52 ... Movable substrate, 52B ... Substrate surface, 54 ... Fixed reflection film, 55 ... Movable reflection film, 100 ... Gas detection apparatus (electronic device), 137 ... Light receiving element (light receiving part), 138 ... Control part, DESCRIPTION OF SYMBOLS 200 ... Food analyzer (electronic device), 213 ... Imaging part (light receiving part), 220 ... Control part, 300 ... Spectral camera (electronic device), 330 ... Imaging part (light receiving part), 521 ... Movable part, 522 ... Holding Part, 600 ... optical filter device, 620 ... base (base part), 640 ... first fixing member, 641 ... second fixing member.

Claims (9)

互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を有する干渉フィルターと、
ベース部と、
前記基板の一部を前記ベース部に固定する第一固定部材と、
前記基板の厚み方向の平面視において、前記厚み方向に交差する基板表面の、前記一対の反射膜が対向する対向領域を囲う領域で、前記基板を前記ベース部に固定し、前記第一固定部材よりも、前記基板への弾性率が低い第二固定部材と、を備えた
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
An interference filter having a pair of reflective films facing each other and a substrate provided with any one of the pair of reflective films;
A base part;
A first fixing member for fixing a part of the substrate to the base portion;
In a plan view of the substrate in the thickness direction, the substrate is fixed to the base portion in a region surrounding a facing region of the substrate surface that intersects the thickness direction, where the pair of reflective films face each other, and the first fixing member And a second fixing member having a lower elastic modulus to the substrate.
請求項1に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記第二固定部材は、前記基板への密着性が前記第一固定部材よりも低い
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device of claim 1.
The optical filter device, wherein the second fixing member has lower adhesion to the substrate than the first fixing member.
請求項1又は請求項2に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記基板は、前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられる第一基板と、前記一対の反射膜の他方が設けられる第二基板とを含み、
前記第二基板は、前記反射膜が設けられた可動部、及び前記可動部を前記厚み方向に移動可能に保持する保持部を含む駆動領域を有し、
前記第二固定部材は、前記平面視において、前記駆動領域を囲う領域で、前記第二基板を前記ベース部に固定する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 1 or 2,
The substrate includes a first substrate on which one of the pair of reflective films is provided, and a second substrate on which the other of the pair of reflective films is provided,
The second substrate has a drive region including a movable portion provided with the reflective film, and a holding portion that holds the movable portion movably in the thickness direction,
The optical filter device, wherein the second fixing member fixes the second substrate to the base portion in an area surrounding the driving area in the plan view.
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記第二固定部材は、前記平面視において、前記駆動領域の外周に沿った第一縁と、前記第一縁からの距離が一定の第二縁とを有する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to any one of claims 1 to 3,
The optical filter device, wherein the second fixing member has a first edge along an outer periphery of the drive region and a second edge having a constant distance from the first edge in the plan view.
請求項4に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記第二固定部材は、前記平面視において環状である
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 4.
Said 2nd fixing member is cyclic | annular in the said planar view. The optical filter device characterized by the above-mentioned.
請求項5に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記第二固定部材は、スリットを有する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 5, wherein
The optical filter device, wherein the second fixing member has a slit.
請求項6に記載の光学フィルターデバイスにおいて、
前記第二固定部材は、複数の前記スリットを有し、前記平面視において、前記駆動領域の中心に対して回転対称となる形状を有する
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
The optical filter device according to claim 6.
The second fixing member includes a plurality of the slits, and has a shape that is rotationally symmetric with respect to the center of the driving region in the plan view.
互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を有する干渉フィルターと、
ベース部と、
前記基板の一部を前記ベース部に固定する第一固定部材と、
前記基板の厚み方向の平面視において、前記厚み方向に交差する基板表面の、前記一対の反射膜が対向する対向領域を囲う領域で、前記基板を前記ベース部に固定し、前記第一固定部材よりも、前記基板への弾性率が低い第二固定部材と、
前記干渉フィルターにより取り出された光を検出する検出部と、を備えた
ことを特徴とする光学モジュール。
An interference filter having a pair of reflective films facing each other and a substrate provided with any one of the pair of reflective films;
A base part;
A first fixing member for fixing a part of the substrate to the base portion;
In a plan view of the substrate in the thickness direction, the substrate is fixed to the base portion in a region surrounding a facing region of the substrate surface that intersects the thickness direction, where the pair of reflective films face each other, and the first fixing member Than the second fixing member having a low elastic modulus to the substrate,
An optical module comprising: a detection unit that detects light extracted by the interference filter.
互いに対向する一対の反射膜、及び前記一対の反射膜のいずれか一方が設けられた基板を有する干渉フィルターと、
ベース部と、
前記基板の一部を前記ベース部に固定する第一固定部材と、
前記基板の厚み方向の平面視において、前記厚み方向に交差する基板表面の、前記一対の反射膜が対向する対向領域を囲う領域で、前記基板を前記ベース部に固定し、前記第一固定部材よりも、前記基板への弾性率が低い第二固定部材と、
前記干渉フィルターを制御する制御部と、を備えた
ことを特徴とする電子機器。
An interference filter having a pair of reflective films facing each other and a substrate provided with any one of the pair of reflective films;
A base part;
A first fixing member for fixing a part of the substrate to the base portion;
In a plan view of the substrate in the thickness direction, the substrate is fixed to the base portion in a region surrounding a facing region of the substrate surface that intersects the thickness direction, where the pair of reflective films face each other, and the first fixing member Than the second fixing member having a low elastic modulus to the substrate,
An electronic device comprising: a control unit that controls the interference filter.
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