JP6730171B2 - 液槽形成方法,測定装置及び分析デバイス - Google Patents
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Description
最初に,本実施例に関係する分析デバイスと測定装置について概略を説明する。
図5から図10は,分析デバイスの一例を示す要部断面模式図である。本実施例の分析デバイスは,メンブレン付き基板113,独立電極つき基板114,及び隔壁106を有する。メンブレン付き基板113は,メンブレン100,第1の基板101,第1の電極102,及び第1の液槽サポート部103を有する。第1の基板101には表裏を貫通する複数の開口部120がアレイ状に設けられている。メンブレン100は,第1の基板101の複数の開口部120を塞ぐように第1の基板101の片面に設けられている。独立電極付き基板114は,第2の基板104及び独立電極105A,105Bを有する。独立電極105A,105Bは,第1の基板101の複数の開口部120に一対一に対応するようにアレイ状に配置されている。第1の電極102と独立電極105A,105Bは,メンブレン100を挟んで互いに反対側に配置されている。隔壁106はアレイ状に配置された独立電極に対応する複数の開口を有し,各独立電極は隔壁の各開口内に1個ずつ囲まれて配置される。
はじめに,図2に示すように,隔壁106を備える独立電極付き基板114を制御回路部115及び下部ステージ116に取り付け,メンブレン付き基板113を上部ステージ112に取り付けた状態で,独立電極付き基板114上に溶液107を導入し,メンブレン付き基板113の一面を溶液107に浸漬させる。こうして,メンブレン付き基板113と独立電極付き基板114の間に溶液が導入される。溶液107の導入は,隔壁106の複数の開口を覆うようにして行われる。図5に示すように,この溶液導入の工程を経て,メンブレン100と,独立電極105A,105Bの間を溶液で満たす。溶液107には,KCl等の電解質を含む。
次に,上部ステージ112を下部ステージ116側に駆動し,図4に示すように,上部ステージ112と下部ステージ116に備わる挿入ピン131と窪み132を組み合わせ,機械的に上部ステージ112と下部ステージ116の位置をアライメントする。このアライメント工程によって,メンブレン付き基板113と独立電極付き基板114は,第1の基板101の開口部120と独立電極付き基板114の独立電極が一対一対応するようにアライメントされる。
ステップS11の工程とステップS12の工程は順序が逆であっても構わない。
更に,図3に示すように,上部ステージ112を下部ステージ116に近づけ,メンブレン付き基板113と独立電極付き基板114を,隔壁106を介して圧着し,メンブレン付き基板113と独立電極付き基板114の位置を固定する。
ここで,独立液槽108A,108B間に,溶液のリークがあると,後に説明する細孔形成工程で細孔が形成されない,また,試料分析工程で,信号ノイズを発生させるなど,様々な不具合を生じさせる。そこで,隣接する独立電極105A,105B間に電圧を印加し,リーク電流値を測定する。
リーク電流値は,この後説明する細孔形成工程や,試料分析工程で問題のないある一定のレベルを閾値と設定し,測定したリーク電流値を閾値と比較する。その閾値は,印加する電圧が0.1Vである場合に,後述のステップS21の際に細孔を流れる電流に比べて十分に小さな値,例えば100pAとする。
ステップS15の判定でリーク電流値が閾値より小さければ,ステップS16に進み,図7に示すように,溶液の入ったノズル121を用いてメンブレン100の上側に溶液を導入し,第1の液槽109を形成する。これにより,メンブレン100の上下が溶液で満たされる。
続いて,図8に示すように,第1の電極102と,独立電極105A,105B其々の間に電圧を印加し,既知の絶縁破壊のメカニズムによりメンブレン100に,ナノメートルサイズの細孔110A,110Bを形成する。
ここで,細孔110A,110Bの径は,細孔に流れる電流値が大きいほど大きくなることから,電流値で制御できる(WO 2015/097765 A参照)。しかし,メンブレン100の親水化が不十分でメンブレン100と溶液が接しない場合,メンブレン上下に電圧が正常に印加されず,細孔が形成されない。そのため,所望のサイズの細孔が形成されたかを判断するために,第1の電極と複数の独立電極105A,105B間に,細孔形成工程で印加した電圧よりも小さい電圧を印加し,第1の電極102と,複数の独立電極105A,105B間に流れる電流値を測定する。
第1の電極102と,独立電極105A,105B其々の間に流れる電流値が所望のサイズの細孔に対応する値になっているかどうかを判定する。
次に,図9に示すように,ノズル121から第1の液槽109に試料118を導入する。
最後に,図10に示すように,第1の電極102と独立電極105A,105B其々の間に電圧を印加する。電圧を印加することにより,細孔110A,110Bの周辺に電場が発生し,液中でチャージした生体試料118A,118Bが電場に引き寄せられる電気泳動の力が発生する。これにより,試料118A,118Bが細孔110A,110Bに導入され,細孔110A,110Bを通過する。ここで,検出される電流値は,生体試料が細孔110A,110Bを通過する前と,生体試料118A,118Bが細孔110A,110Bを通過中との間で変化する。生体試料118A,118Bの断面積により,細孔110A,110Bが一部封鎖され,細孔110A,110Bの抵抗値が変化するためである。これらの測定した電流値から,試料の構造を分析する。この封鎖電流測定による試料の構造分析は,不良区画以外の区画に対して実施すればよい。
本実施例では,実施例1と同等の効果が得られる溶液の導入方法の別の例を示す。溶液の導入方法以外は,実施例1の方法を適用するため,工程や構造の説明を省略する。図1を用いて説明した実施例1の工程と異なるのは最初のステップS11の工程のみであるため,ここでは本実施例におけるステップS11の工程についてのみ説明し,その後の工程については説明を省略する。
本実施例では,図1の独立液槽形成における溶液107の導入は,図13に示す通り,メンブレン付き基板113の一面と独立電極付き基板114の一面の2箇所に対して行う。例えば,メンブレン付き基板113への溶液の導入には,上部ステージ112を用いて裏面が上側にくるように反転させ,反転させた状態でメンブレン付き基板113の裏面に溶液107を導入する。ただし,メンブレン付き基板113の溶液導入部が十分に濡れ性の高い状態であれば,基板を反転させることなく溶液を導入することができる。独立電極付き基板114への溶液導入方法は,実施例1に示す内容に準ずるため省略する。
本実施例では,実施例1に示した分析デバイスに比べて,液槽形成時の不良率を低減するデバイス構造を示す。
本実施例では,実施例3に示した分析デバイスより,デバイスの信頼性を向上させるデバイス構造を示す。隔壁以外は,実施例3の構造及び方法を適用するため,工程や構造の説明を省略する。
本実施例では,実施例1に示した分析デバイスより,液槽形成時の不良率を低減するためのデバイス構造を示す。実施例1では,独立液槽内に,余分な溶液が流入した場合,メンブレン損傷がおこり,不良を発生させることがある。
101:第1の基板
102:第1の電極
103:第1の液槽サポート部
104:第2の基板
105,105A,105B:独立電極
106:隔壁
107:溶液
108A,108B:独立液槽
109:第1の液槽
110A,110B:細孔
111:気相領域
112:上部ステージ
113:メンブレン付き基板
114:独立電極付き基板
115:制御回路部
116:下部ステージ
117:電源及び制御・検出データ取得ユニット
118,118A,118B:試料
119:カメラ
120:第1の基板の開口部
121:ノズル
Claims (12)
- アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,アレイ状に配置された複数の独立電極を有する独立電極付き基板の間に溶液を導入する工程と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を,前記開口部と前記独立電極が一対一対応するようにアライメントする工程と,
前記アレイ状に配置された前記複数の独立電極に対応する複数の開口を有する隔壁を間に介して前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を圧着する工程と,
前記圧着により,少なくとも前記メンブレンと前記隔壁で囲まれた密封された液槽を形成する工程と,を含み,
前記溶液を導入する工程において前記隔壁の複数の開口を覆うように前記溶液を導入することで,少なくとも,前記メンブレンと前記複数の開口を有する隔壁で囲まれた複数の密封された液槽を形成し,
前記溶液を導入する工程において,前記独立電極付き基板上に前記溶液を導入し,前記メンブレン付き基板の一面を浸漬させることで,前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板の間に前記溶液を導入する,方法。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,アレイ状に配置された複数の独立電極を有する独立電極付き基板の間に溶液を導入する工程と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を,前記開口部と前記独立電極が一対一対応するようにアライメントする工程と,
前記アレイ状に配置された前記複数の独立電極に対応する複数の開口を有する隔壁を間に介して前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を圧着する工程と,
前記圧着により,少なくとも前記メンブレンと前記隔壁で囲まれた密封された液槽を形成する工程と,を含み,
前記溶液を導入する工程において前記隔壁の複数の開口を覆うように前記溶液を導入することで,少なくとも,前記メンブレンと前記複数の開口を有する隔壁で囲まれた複数の密封された液槽を形成し,
前記溶液を導入する工程の前に,前記メンブレン付き基板及び前記独立電極付き基板に,前記溶液の濡れ性を向上するための表面処理工程を有する,方法。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,アレイ状に配置された複数の独立電極を有する独立電極付き基板の間に溶液を導入する工程と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を,前記開口部と前記独立電極が一対一対応するようにアライメントする工程と,
前記アレイ状に配置された前記複数の独立電極に対応する複数の開口を有する隔壁を間に介して前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を圧着する工程と,
前記圧着により,少なくとも前記メンブレンと前記隔壁で囲まれた密封された液槽を形成する工程と,を含み,
前記溶液を導入する工程において前記隔壁の複数の開口を覆うように前記溶液を導入することで,少なくとも,前記メンブレンと前記複数の開口を有する隔壁で囲まれた複数の密封された液槽を形成し,
前記溶液を導入する工程において,前記メンブレン付き基板の一面及び前記独立電極付き基板の一面それぞれに前記溶液を導入し,導入した前記溶液同士を接触させる,方法。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,アレイ状に配置された複数の独立電極を有する独立電極付き基板の間に溶液を導入する工程と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を,前記開口部と前記独立電極が一対一対応するようにアライメントする工程と,
前記アレイ状に配置された前記複数の独立電極に対応する複数の開口を有する隔壁を間に介して前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を圧着する工程と,
前記圧着により,少なくとも前記メンブレンと前記隔壁で囲まれた密封された液槽を形成する工程と,を含み,
前記溶液を導入する工程において前記隔壁の複数の開口を覆うように前記溶液を導入することで,少なくとも,前記メンブレンと前記複数の開口を有する隔壁で囲まれた複数の密封された液槽を形成し,
前記複数の密封された液槽を形成した後に,
隣接する前記独立電極の間に電圧を印加してリーク電流を測定する工程と,
前記リーク電流の値が予め設定した閾値以上である場合に当該独立電極を含む区画を不良と判定する,方法。 - 前記複数の密封された液槽を形成した後,
前記メンブレンに電圧を印加し前記メンブレンに細孔を形成する工程と,
前記細孔に試料を導入する工程と,
試料が前記細孔を通過するとき前記細孔を流れる電流を測定することで試料の構造を分析する工程と,を有する請求項1〜4いずれか1項に記載の方法。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,アレイ状に配置された複数の独立電極を有する独立電極付き基板の間に溶液を導入する工程と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を,前記開口部と前記独立電極が一対一対応するようにアライメントする工程と,
前記アレイ状に配置された前記複数の独立電極に対応する複数の開口を有する隔壁を間に介して前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を圧着する工程と,
前記圧着により,少なくとも前記メンブレンと前記隔壁で囲まれた密封された液槽を形成する工程と,を含み,
前記溶液を導入する工程において前記隔壁の複数の開口を覆うように前記溶液を導入することで,少なくとも,前記メンブレンと前記複数の開口を有する隔壁で囲まれた複数の密封された液槽を形成し,
前記複数の密封された液槽を形成した後,
前記メンブレンに電圧を印加し前記メンブレンに細孔を形成する工程と,
前記細孔を流れる電流を測定し,所定の電流値に達しない区画を不良区画とする工程と,
前記細孔に試料を導入する工程と,
試料が前記細孔を通過するとき不良区画以外の区画に対して前記細孔を流れる電流を測定して試料の構造を分析する工程と,を有する方法。 - 開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,
独立電極が設けられた独立電極付き基板と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板の間に前記独立電極を内包する区画を形成する隔壁と,
前記メンブレン付き基板に接続する第1のステージと,
前記独立電極付き基板に接続する第2のステージと,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板をアライメントする機構と,
前記第1のステージと前記第2のステージを接近させ,前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板を前記隔壁を介して押し付ける駆動部と,
前記メンブレンを挟んで前記独立電極と反対側に配置された電極と前記独立電極の間に電圧を印加するための電源と,
前記電源から電圧を印加することにより前記独立電極に流れる電流を測定する測定部と,
を有する測定装置。 - 前記メンブレン付き基板には複数の前記開口部がアレイ状に配置され,前記独立電極付き基板には複数の前記独立電極がアレイ状に配置され,前記隔壁は前記アレイ状の独立電極に対応する複数の開口を有し,
前記測定部は,複数の前記独立電極にそれぞれ接続しており,各前記独立電極に流れる電流をそれぞれ測定する,請求項7に記載の測定装置。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,
複数の独立電極がアレイ状に設けられた独立電極付き基板と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板の間に前記独立電極をそれぞれ内包する複数区画を形成する隔壁とを有し,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板と前記隔壁により,溶液が充填された液槽が複数構成されており,
前記複数の独立電極は前記隔壁により溶液が隔離されて実質的に絶縁されており,前記液槽には流路がなく溶液が前記液槽に密閉されており,
前記液槽それぞれの内部もしくは隣接部に溶液領域よりも低圧力な領域が存在する,分析デバイス。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,
複数の独立電極がアレイ状に設けられた独立電極付き基板と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板の間に前記独立電極をそれぞれ内包する複数区画を形成する隔壁とを有し,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板と前記隔壁により,溶液が充填された液槽が複数構成されており,
前記複数の独立電極は前記隔壁により溶液が隔離されて実質的に絶縁されており,前記液槽には流路がなく溶液が前記液槽に密閉されており,
前記隔壁はリング状であり,隣接する前記独立電極間に前記隔壁が2重に存在する,分析デバイス。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,
複数の独立電極がアレイ状に設けられた独立電極付き基板と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板の間に前記独立電極をそれぞれ内包する複数区画を形成する隔壁とを有し,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板と前記隔壁により,溶液が充填された液槽が複数構成されており,
前記複数の独立電極は前記隔壁により溶液が隔離されて実質的に絶縁されており,前記液槽には流路がなく溶液が前記液槽に密閉されており,
前記独立電極付き基板の表面を前記隔壁の材料が覆っており,
前記独立電極付き基板の表面を覆う前記隔壁の材料には前記独立電極の少なくとも一部が露出するように開口部が設けてある,分析デバイス。 - アレイ状に配置された複数の開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,
複数の独立電極がアレイ状に設けられた独立電極付き基板と,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板の間に前記独立電極をそれぞれ内包する複数区画を形成する隔壁とを有し,
前記メンブレン付き基板と前記独立電極付き基板と前記隔壁により,溶液が充填された液槽が複数構成されており,
前記複数の独立電極は前記隔壁により溶液が隔離されて実質的に絶縁されており,前記液槽には流路がなく溶液が前記液槽に密閉されており,
前記液槽内に気相領域を有するマイクロカプセルあるいはマイクロバブルを有する,分析デバイス。
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