JP6705535B1 - Film set for attaching functional layers and insulating film - Google Patents

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Abstract

【課題】凹凸を有する貼着用基材に対して、機能層を優れた被覆精度で被覆することができる機能層貼付用フィルムセットを提供すること。【解決手段】本発明の機能層貼付用フィルムセットは、絶縁層を有する絶縁フィルムと、機能層を有する機能性フィルムとを備え、貼付用基材の凹凸を前記機能層で被覆するために用いられるものであり、前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとを、前記機能性フィルムを前記貼付用基材側にして積層した状態で、前記機能層を前記凹凸の形状に対応して押し込むことで、前記凹凸が前記機能層で被覆され、前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下である。【選択図】図3PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film set for sticking a functional layer capable of covering a sticking substrate having irregularities with a functional layer with excellent covering accuracy. A functional layer-adhering film set of the present invention includes an insulating film having an insulating layer and a functional film having a functional layer, and is used for coating the unevenness of a sticking base material with the functional layer. That is, the insulating film and the functional film, in a state in which the functional film is laminated on the sticking substrate side, by pressing the functional layer corresponding to the shape of the unevenness, When the unevenness is covered with the functional layer, and the insulating layer has a storage elastic modulus at 130° C. in MD of A [MPa] and a storage elastic modulus at 130° C. of B in the TD is B [MPa]. , A/B is 0.75 or more and 1.25 or less. [Selection diagram] Fig. 3

Description

本発明は、機能層貼付用フィルムセットおよび絶縁フィルムに関する。 The present invention relates to a film set for sticking a functional layer and an insulating film.

従来、携帯電話、スマートフォン、電卓、電子新聞、タブレット端末、テレビ電話、パーソナルコンピュータのような電子機器には、例えば、半導体素子、コンデンサー、コイルのような電子部品が搭載された電子部品搭載基板が基板上に実装されるが、この電子部品搭載基板は、湿気や埃等の外部因子との接触を防止することを目的に、樹脂により封止がなされることがある。 Conventionally, in electronic devices such as mobile phones, smartphones, calculators, electronic newspapers, tablet terminals, videophones, and personal computers, for example, electronic component mounting boards on which electronic components such as semiconductor elements, capacitors, and coils are mounted. Although mounted on a substrate, this electronic component mounting substrate may be sealed with resin for the purpose of preventing contact with external factors such as moisture and dust.

このような樹脂による封止は、例えば、電子部品搭載基板を金属キャビティ内に配置した後に、流動性の高いウレタン樹脂のような熱硬化性樹脂を注入して封止するポッティング法の他、熱可塑性樹脂を溶融状態で電子部品搭載基板に塗布した後に、固化させることで塗布した領域をコーティング(封止)するコーティング法が知られている。 Such sealing with a resin includes, for example, a potting method in which a thermosetting resin such as a urethane resin having a high fluidity is injected and sealed after the electronic component mounting substrate is placed in a metal cavity, and a thermosetting resin is also used. A coating method is known in which a plastic resin is applied in a molten state to an electronic component mounting substrate and then the applied region is coated (sealed) by solidifying.

しかしながら、ポッティング法では、熱硬化性樹脂の硬化に時間を要し、さらには、通常、封止に金属キャビティを要するため、得られる電子機器の重量化を招くと言う問題があった。また、コーティング法では、溶融状態とする熱可塑性樹脂の粘度管理、および、熱可塑性樹脂の塗布領域に対する塗り分けに時間と手間を有すると言う問題があった。 However, the potting method has a problem that it takes a long time to cure the thermosetting resin and further usually requires a metal cavity for sealing, which results in weight increase of the obtained electronic device. Further, the coating method has a problem that it takes time and labor to manage the viscosity of the thermoplastic resin in a molten state and to apply the thermoplastic resin separately to the application area.

かかる問題点を解決することを目的に、ホットメルト性を有するバリアフィルムを電子部品搭載基板に保護層(機能層)として貼付することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。 For the purpose of solving such a problem, it has been proposed to attach a barrier film having a hot melt property to an electronic component mounting substrate as a protective layer (functional layer) (see, for example, Patent Document 1).

ところが、この場合、電子部品搭載基板が電子部品を備えることに起因して形成される凹凸に対する保護層の追従性が十分に得られず、その結果、湿気や埃等の外部因子に対するバリア性を十分に向上させるには至っていない。 However, in this case, the conformability of the protective layer to the irregularities formed due to the electronic component mounting substrate having the electronic component is not sufficiently obtained, and as a result, the barrier property against external factors such as moisture and dust is not obtained. It has not been fully improved.

そこで、基材(絶縁層)上に保護層が設けられているフィルムを用意し、このフィルムから保護層を転写することで、電子部品搭載基板が備える凹凸を、保護層で被覆することも考えられるが、この場合、凹凸の凸部を構成する電子部品の側面に対して、優れた被覆精度で被覆することができないと言う問題点を有していた。特に、電子部品搭載基板における、基板上に複数の同一形状をなす電子部品が格子状に配列されている領域では、電子部品搭載基板に保護層を被覆させる際に、かかる問題点がより顕著に認められるのが実情であった。なお、この場合、格子状に配列された複数の電子部品を備える電子部品搭載基板により、保護層(機能層)が被覆される、複数の凹部が並設された構成を含む凹凸を備える貼付用基材が構成される。 Therefore, it is also possible to prepare a film in which a protective layer is provided on the base material (insulating layer) and transfer the protective layer from this film to cover the unevenness of the electronic component mounting board with the protective layer. However, in this case, there is a problem that the side surface of the electronic component forming the convex and concave portions cannot be coated with excellent coating accuracy. In particular, in a region in which a plurality of electronic components having the same shape are arranged in a grid on the electronic component mounting board, such a problem becomes more remarkable when the electronic component mounting board is covered with the protective layer. It was the actual situation that was recognized. In addition, in this case, for sticking with unevenness including a configuration in which a plurality of recesses are arranged side by side, the protective layer (functional layer) is covered by an electronic component mounting board including a plurality of electronic components arranged in a grid pattern. A substrate is constructed.

また、このような問題は、保護層が基材(絶縁層)上に設けられたフィルムから、電子部品搭載基板が備える凹凸に、機能層としての保護層を貼付(転写)する場合の他、機能層としてのノイズ抑制層(電磁波シールド層)を、電子部品搭載基板が備える凹凸に、フィルムから貼付(転写)する場合についても同様に生じている。 In addition, such a problem is caused by sticking (transferring) a protective layer as a functional layer onto the unevenness of the electronic component mounting board from the film in which the protective layer is provided on the base material (insulating layer), The same applies to the case where the noise suppression layer (electromagnetic wave shield layer) as the functional layer is attached (transferred) from the film to the unevenness provided on the electronic component mounting board.

特開2009−99417号公報JP, 2009-99417, A

本発明の目的は、凹凸を有する貼着用基材に対して、機能層を優れた被覆精度で被覆することができる機能層貼付用フィルムセットを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a functional layer sticking film set capable of covering a sticking base material having irregularities with a functional layer with excellent covering accuracy.

このような目的は、下記(1)〜(11)に記載の本発明により達成される。
(1) 絶縁層を有する絶縁フィルムと、機能層を有する機能性フィルムとを備え、貼付用基材の凹凸を前記機能層で被覆するために用いられる機能層貼付用フィルムセットであって、
前記貼付用基材の前記凹凸は、一方向に沿って形成された複数の凹部と、前記一方向に直交する方向に沿って形成された複数の凹部とがこれら同士が重なる十字部において直交した状態で並設して形成されており、
前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとを、前記機能性フィルムを前記貼付用基材側にして積層した状態で、前記機能層を前記凹凸の形状に対応して押し込むことで、前記凹凸が前記機能層で被覆され、
前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下であることを特徴とする機能層貼付用フィルムセット。
Such an object is achieved by the present invention described in (1) to (11) below.
(1) A functional layer laminating film set comprising an insulating film having an insulating layer and a functional film having a functional layer, the functional layer laminating film set being used for covering the irregularities of a laminating substrate with the functional layer,
The unevenness of the sticking substrate is such that a plurality of concave portions formed along one direction and a plurality of concave portions formed along a direction orthogonal to the one direction are orthogonal to each other at a cross portion where they overlap each other. It is formed side by side in the state,
The insulating film and the functional film, in a state where the functional film is laminated with the sticking substrate side, by pushing the functional layer corresponding to the shape of the unevenness, the unevenness has the function Coated with layers,
When the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the insulating layer is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD thereof is B [MPa], A/B is 0.75 or more 1 A film set for sticking a functional layer, characterized in that the film set is 25 or less.

(2) 前記絶縁層は、融点が110℃以上の熱可塑性樹脂で構成される上記(1)に記載の機能層貼付用フィルムセット。 (2) The functional layer-attaching film set according to (1), wherein the insulating layer is made of a thermoplastic resin having a melting point of 110° C. or higher.

(3) 前記熱可塑性樹脂は、ポリオレフィン系樹脂を含む上記(2)に記載の機能層貼付用フィルムセット。 (3) The film set for sticking a functional layer according to (2), wherein the thermoplastic resin contains a polyolefin resin.

(4) 前記絶縁層は、その平均厚さが5μm以上1000μm以下である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の機能層貼付用フィルムセット。 (4) The functional layer laminating film set according to any one of (1) to (3), wherein the insulating layer has an average thickness of 5 μm or more and 1000 μm or less.

(5) 前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での前記貯蔵弾性率Aが、1MPa以上1000MPa以下である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の機能層貼付用フィルムセット。 (5) The functional layer laminating film set according to any one of (1) to (4), wherein the storage elastic modulus A at 130° C. in MD of the insulating layer is 1 MPa or more and 1000 MPa or less.

(6) 前記絶縁フィルムは、さらに、前記絶縁層の少なくとも前記機能性フィルム側の面に積層された離型層を有する上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の機能層貼付用フィルムセット。 (6) The functional layer sticking film according to any one of (1) to (5), wherein the insulating film further has a release layer laminated on at least the surface of the insulating layer on the functional film side. set.

(7) 前記離型層は、その平均厚さが5μm以上500μm以下である上記(6)に記載の機能層貼付用フィルムセット。 (7) The functional layer laminating film set according to (6), wherein the release layer has an average thickness of 5 μm or more and 500 μm or less.

(8) 前記機能層は、前記貼付用基材を保護する保護層である上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の機能層貼付用フィルムセット。 (8) The functional layer laminating film set according to any of (1) to (7) above, wherein the functional layer is a protective layer that protects the laminating substrate.

(9) 前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとは、一体的に形成されている上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の機能層貼付用フィルムセット。 (9) The functional layer laminating film set according to any one of (1) to (8), wherein the insulating film and the functional film are integrally formed.

(10) 前記絶縁フィルムは、前記貼付用基材の前記凹凸に対する前記機能層の被覆の後に、前記機能性フィルムから剥離されるものである上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の機能層貼付用フィルムセット。 (10) The insulating film is peeled from the functional film after coating the functional layer on the irregularities of the sticking substrate, according to any one of the above (1) to (9). Film set for attaching functional layers.

(11) 絶縁層を有する絶縁フィルムであって、
機能性フィルムが備える機能層で貼付用基材の凹凸を被覆するために用いられ、前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとを、前記機能性フィルムを前記貼付用基材側にして積層した状態で、前記機能層を前記凹凸の形状に対応して押し込むことで、前記凹凸が前記機能層で被覆され、
前記貼付用基材の前記凹凸は、一方向に沿って形成された複数の凹部と、前記一方向に直交する方向に沿って形成された複数の凹部とがこれら同士が重なる十字部において直交した状態で並設して形成されており、
前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下であることを特徴とする絶縁フィルム。

(11) An insulating film having an insulating layer,
Used to cover the unevenness of the sticking substrate with a functional layer provided by the functional film, in a state where the insulating film and the functional film are laminated with the functional film being the sticking substrate side. By pressing the functional layer corresponding to the shape of the unevenness, the unevenness is covered with the functional layer,
The unevenness of the sticking substrate is such that a plurality of concave portions formed along one direction and a plurality of concave portions formed along a direction orthogonal to the one direction are orthogonal to each other at a cross portion where they overlap each other. It is formed side by side in the state,
When the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the insulating layer is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD thereof is B [MPa], A/B is 0.75 or more 1 An insulating film having a thickness of 25 or less.

本発明の機能層貼付用フィルムセットによれば、凹凸を有する貼着用基材に対して、機能層を優れた被覆精度で被覆することができる。特に、格子状に複数の電子部品が配列されている領域のように、複数の凹部が並設された領域を有する貼付用基材であったとしても、かかる凹部に対して、機能層を優れた被覆精度で被覆することができる。 According to the functional layer laminating film set of the present invention, the functional layer can be coated with excellent coating accuracy on the laminating substrate having the irregularities. In particular, even if it is a sticking base material having a region in which a plurality of recesses are arranged in parallel, such as a region in which a plurality of electronic components are arranged in a grid pattern, a functional layer is excellent for such recesses. It can be coated with high coating accuracy.

また、絶縁層を有する本発明の絶縁フィルムによれば、格子状に複数の電子部品が配列されている領域のように、複数の凹部が並設された領域を有する貼付用基材であったとしても、かかる凹部に対して、例えば、この絶縁フィルムと機能層を有する機能性フィルムとを、機能性フィルムを貼付用基材側にして積層した状態で、機能層を凹凸の形状に対応して押し込む際に、機能層を優れた被覆精度で被覆することができる。 Further, according to the insulating film of the present invention having an insulating layer, it is a sticking substrate having a region in which a plurality of recesses are juxtaposed, such as a region in which a plurality of electronic components are arranged in a grid pattern. Even in such a recess, for example, in a state in which the insulating film and a functional film having a functional layer are laminated with the functional film on the sticking substrate side, the functional layer corresponds to the uneven shape. When pushed in, the functional layer can be coated with excellent coating accuracy.

本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて製造された保護層被覆電子部品搭載基板の実施形態の一部を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows a part of embodiment of the protective layer coating electronic component mounting substrate manufactured using the film set for functional layer sticking of this invention. 図1に示す保護層被覆電子部品搭載基板が備える電子部品搭載基板を示す平面図である。It is a top view which shows the electronic component mounting substrate with which the protective layer coating electronic component mounting substrate shown in FIG. 1 is equipped. 図1に示す保護層被覆電子部品搭載基板を、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて製造する製造方法を説明するための縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view for explaining the manufacturing method which manufactures the protective layer coating electronic component mounting substrate shown in FIG. 1 using the film set for functional layer sticking of this invention. 図3(b)において、電子部品搭載基板に対して、本発明の機能層貼付用フィルムセットを配置した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which has arrange|positioned the film set for functional layer attachment of this invention with respect to the electronic component mounting substrate in FIG.3(b).

以下、本発明の機能層貼付用フィルムセットを添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, the functional layer-adhering film set of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

以下では、本発明の機能層貼付用フィルムセットを説明するのに先立って、まず、機能層として保護層を備える機能層貼付用フィルムセット(本発明の機能層貼付用フィルムセット)を、貼付用基材としての電子部品搭載基板に対して貼付することで製造された、保護層被覆電子部品搭載基板について説明する。 In the following, prior to explaining the functional layer sticking film set of the present invention, first, the functional layer sticking film set having a protective layer as a functional layer (the functional layer sticking film set of the present invention) is used for sticking. A protective layer-covered electronic component mounting substrate manufactured by sticking to an electronic component mounting substrate as a base material will be described.

<保護層被覆電子部品搭載基板>
図1は、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて製造された保護層被覆電子部品搭載基板の実施形態の一部を示す縦断面図、図2は、図1に示す保護層被覆電子部品搭載基板が備える電子部品搭載基板を示す平面図である。なお、以下の説明では、図1中の上側、図2中の紙面手前側を「上」、図1中の下側、図2中の紙面奥側を「下」と言う。
<Substrate with electronic components coated with protective layer>
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing a part of an embodiment of a protective layer-covered electronic component mounting board manufactured using the functional layer laminating film set of the present invention, and FIG. 2 is a protective layer-covered electron shown in FIG. It is a top view which shows the electronic component mounting board with which a component mounting board is equipped. In the following description, the upper side in FIG. 1, the front side in the plane of FIG. 2 are referred to as “upper”, the lower side in FIG. 1 and the rear side in FIG. 2 are referred to as “lower”.

図1に示す保護層被覆電子部品搭載基板50(電子装置)は、基板5と、この基板5上に搭載(載置)された電子部品4と、これら基板5および電子部品4で構成される電子部品搭載基板45を、基板5の上面側において被覆する保護層3(機能層)とを有している。 A protective layer-covered electronic component mounting substrate 50 (electronic device) shown in FIG. 1 is composed of a substrate 5, an electronic component 4 mounted (placed) on the substrate 5, and the substrate 5 and the electronic component 4. The electronic component mounting substrate 45 has a protective layer 3 (functional layer) that covers the upper surface side of the substrate 5.

基板5は、電子部品4を支持するための平板であり、その平面視形状は、通常、正方形、長方形等の四角形とされる。この基板5は、例えば、シート状をなす配線(配線板)と、この配線をその上下で被覆する樹脂層とを備え、電子部品4が有する端子に対応する位置で配線が露出している露出部を有するプリント配線基板で構成される。 The substrate 5 is a flat plate for supporting the electronic component 4, and its plan view shape is usually a quadrangle such as a square or a rectangle. The substrate 5 includes, for example, a sheet-shaped wiring (wiring board) and a resin layer that covers the wiring above and below the wiring, and the wiring is exposed at a position corresponding to a terminal included in the electronic component 4. And a printed wiring board having parts.

電子部品4としては、例えば、半導体素子、コンデンサー、コイル、コネクターおよび抵抗等が挙げられる。このような電子部品4は、電子部品4が有する端子が前記露出部において配線に対して電気的に接続された状態で、基板5上に搭載されている。そして、この電子部品4は、本実施形態では、図1、図2に示す領域において、同一形状をなす複数のものが基板5上に格子状(マトリクス状)に配列されている。 Examples of the electronic component 4 include semiconductor elements, capacitors, coils, connectors and resistors. Such an electronic component 4 is mounted on the substrate 5 in a state where the terminals of the electronic component 4 are electrically connected to the wiring at the exposed portion. In the present embodiment, a plurality of electronic components 4 having the same shape are arranged in a grid (matrix) on the substrate 5 in the regions shown in FIGS. 1 and 2.

これら基板5と電子部品4とにより電子部品搭載基板45が構成され、この電子部品搭載基板45において、基板5上への電子部品4の搭載により、基板5上に凸部61と凹部62とからなる凹凸6が形成される(図1、図2、図3(a)参照)。特に、図1、図2に示す領域では、同一形状をなす複数の電子部品4が基板5上に格子状に配列されることで、X方向に沿って形成された複数の凹部62と、Y方向に沿って形成された複数の凹部62とがこれら同士が重なる十字部63において直交(90°で交差)した状態で並設して形成されている。 An electronic component mounting substrate 45 is configured by the substrate 5 and the electronic component 4. In the electronic component mounting substrate 45, by mounting the electronic component 4 on the substrate 5, a convex portion 61 and a concave portion 62 are formed on the substrate 5. The unevenness 6 is formed (see FIGS. 1, 2, and 3A). In particular, in the regions shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of electronic components 4 having the same shape are arranged on the substrate 5 in a grid pattern, so that a plurality of concave portions 62 formed along the X direction and a Y portion. A plurality of recesses 62 formed along the direction are formed side by side in a state of being orthogonal (intersecting at 90°) at a cross portion 63 where these recesses overlap each other.

そして、保護層3は、電子部品4の上面および電子部品4の側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆して設けられており、これにより、基板5上への電子部品4の搭載により形成された凹凸6を被覆している。この保護層3の形成により、電子部品搭載基板45、特に、電子部品4における、湿気や埃等の外部因子との接触を抑制または防止するバリア性が向上する。この保護層3は、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて形成されるものであり、その詳細な説明は後に行うこととする。 The protective layer 3 is provided so as to cover the upper surface of the electronic component 4, the side surface of the electronic component 4, and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4, whereby the electronic component on the substrate 5 is provided. The unevenness 6 formed by mounting 4 is covered. The formation of the protective layer 3 improves the barrier property of the electronic component mounting substrate 45, particularly the electronic component 4, for suppressing or preventing contact with external factors such as moisture and dust. The protective layer 3 is formed using the film set for sticking a functional layer of the present invention, and its detailed description will be given later.

なお、本実施形態では、基板5上に搭載される電子部品4は、図1、図2に示す領域において、同一形状をなすものが格子状に配列されているが、このように配列された構成に限定されず、電子部品4は、例えば、図1、図2に示す領域において、異なる形状をなすものがランダムに配置されていてもよいし、さらに、図1、図2に示す領域以外では、同一形状をなすものが格子状に配列されていてもよく、もしくは、異なる形状をなすものがランダムに配置されていてもよい。 In the present embodiment, the electronic components 4 mounted on the substrate 5 have the same shape arranged in a grid in the regions shown in FIGS. 1 and 2, but are arranged in this manner. The electronic component 4 is not limited to the configuration, and, for example, the electronic components 4 having different shapes may be randomly arranged in the regions shown in FIGS. 1 and 2, and further, other than the regions shown in FIGS. 1 and 2. In the above, those having the same shape may be arranged in a grid pattern, or those having different shapes may be randomly arranged.

(保護層被覆電子部品搭載基板の製造方法)
以上のような構成をなす保護層被覆電子部品搭載基板の製造に、本発明の機能層貼付用フィルムセットが用いられる。
(Method for manufacturing a protective layer-covered electronic component mounting board)
The functional layer-adhering film set of the present invention is used in the production of the protective layer-covered electronic component mounting board having the above-described structure.

すなわち、本発明の機能層貼付用フィルムセットは、貼付用基材としての電子部品搭載基板45が備える凹凸6を、機能層としての保護層で被覆することで保護層被覆電子部品搭載基板50(電子部品)を製造するために用いられるものであり、より詳細には、絶縁層を有する絶縁フィルムと、保護層3(機能層)を有する機能性フィルムとを備え、これら絶縁フィルムと機能性フィルムとを、機能性フィルム(保護層)を電子部品搭載基板45側にして積層した状態で、保護層を凹凸6の形状に対応して押し込むことで、凹凸6を保護層(機能層)で被覆するために用いられるものである。そして、本発明では、絶縁層は、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を満足している。 That is, in the functional layer sticking film set of the present invention, the unevenness 6 included in the electronic component mounting board 45 as the sticking base material is covered with the protective layer as the functional layer to cover the protective layer-covered electronic part mounting board 50 ( It is used for manufacturing an electronic component), and more specifically, includes an insulating film having an insulating layer and a functional film having a protective layer 3 (functional layer), and the insulating film and the functional film. And the functional film (protective layer) are laminated on the electronic component mounting substrate 45 side, and the protective layer is pushed in according to the shape of the unevenness 6 to cover the unevenness 6 with the protective layer (functional layer). It is used to do. In the present invention, when the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the insulating layer is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD thereof is B [MPa], A/B is The relationship of 0.75 or more and 1.25 or less is satisfied.

以下、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いた、保護層被覆電子部品搭載基板50の製造方法について詳述する。 Hereinafter, a method of manufacturing the protective layer-covered electronic component mounting board 50 using the functional layer laminating film set of the present invention will be described in detail.

図3は、図1に示す保護層被覆電子部品搭載基板を、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて製造する製造方法を説明するための縦断面図、図4は、図3(b)において、電子部品搭載基板に対して、本発明の機能層貼付用フィルムセットを配置した状態を示す平面図である。なお、以下の説明では、図3中の上側および図4中の紙面手前側を「上」、図3中の下側および図4中の紙面奥側を「下」と言う。 FIG. 3 is a vertical cross-sectional view for explaining a manufacturing method for manufacturing the protective layer-covered electronic component mounting board shown in FIG. 1 using the functional layer laminating film set of the present invention, and FIG. 3] is a plan view showing a state in which the film for attaching a functional layer of the present invention is arranged on the electronic component mounting substrate in FIG. In the following description, the upper side of FIG. 3 and the front side of the paper surface of FIG. 4 are referred to as “upper”, and the lower side of FIG. 3 and the rear side of the paper surface of FIG. 4 are referred to as “lower”.

[1]まず、基板5上に電子部品4が搭載された電子部品搭載基板45を用意する(準備工程)。 [1] First, an electronic component mounting substrate 45 in which the electronic component 4 is mounted on the substrate 5 is prepared (preparing step).

電子部品搭載基板45は、基板5が有する配線が樹脂層から露出する露出部において、電子部品4が有する端子が配線に電気的に接続されるように、電子部品4を基板5上に搭載することで得ることができる。 The electronic component mounting board 45 mounts the electronic component 4 on the substrate 5 so that the terminals of the electronic component 4 are electrically connected to the wiring at the exposed portions where the wiring of the substrate 5 is exposed from the resin layer. It can be obtained.

なお、基板5において、配線が樹脂層から露出する露出部は、電子部品4を搭載すべき位置に対応して、電子部品4が備える端子の数と同じ数で形成されており、露出部に対応した電子部品4が有する端子との電気的な接続により、電子部品4は、基板5上に搭載される。 In the substrate 5, the exposed portion where the wiring is exposed from the resin layer is formed in the same number as the number of terminals included in the electronic component 4 corresponding to the position where the electronic component 4 is to be mounted. The electronic component 4 is mounted on the substrate 5 by electrical connection with the terminals of the corresponding electronic component 4.

このような電子部品4の基板5上への搭載の際に、図1、図2に示す領域において、電子部品4は、格子状(マトリクス状)をなして基板5上に配列される。このような電子部品4の配列により、隣接する電子部品4同士間に、互いに直交するX方向(短手方向)およびY方向(長手方向)の2方向に沿って、電子部品4の側面を露出させる、凹部62がそれぞれ並設される。すなわち、X方向に沿って形成された複数の凹部62と、Y方向に沿って形成された複数の凹部62とは、これら同士が重なる十字部63において直交(90°で交差)した状態で形成される。 When the electronic components 4 are mounted on the substrate 5 as described above, the electronic components 4 are arranged on the substrate 5 in a grid shape (matrix shape) in the regions shown in FIGS. 1 and 2. Due to such arrangement of the electronic components 4, the side surfaces of the electronic components 4 are exposed between the adjacent electronic components 4 along two directions of the X direction (short direction) and the Y direction (longitudinal direction) orthogonal to each other. The recesses 62 are arranged side by side. That is, the plurality of recesses 62 formed along the X direction and the plurality of recesses 62 formed along the Y direction are formed in a state of being orthogonal (intersecting at 90°) at the cross portion 63 where these are overlapped. To be done.

[2]次に、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆する保護層3(機能層)を形成する(保護層形成工程)。 [2] Next, the protective layer 3 (functional layer) that covers the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4 is formed by using the film set for sticking a functional layer of the present invention. Form (protective layer forming step).

なお、本実施形態では、本発明の機能層貼付用フィルムセットとして、絶縁フィルムおよび機能性フィルムが、それぞれ、剥離層1(絶縁層)および保護層3で構成され、これら剥離層1と保護層3とを積層した状態で一体的に形成されている保護層貼付用フィルム100を用いる場合を一例に説明する。 In addition, in this embodiment, the insulating film and the functional film are each comprised by the peeling layer 1 (insulating layer) and the protective layer 3 as the functional layer sticking film set of this invention. The case where the protective layer sticking film 100, which is integrally formed in the state where 3 and 3 are laminated, is used will be described as an example.

この保護層貼付用フィルム100を用いて、保護層3は、例えば、下記工程[2−1]および下記工程[2−2]を経ることにより形成される。 Using the protective layer sticking film 100, the protective layer 3 is formed by, for example, the following step [2-1] and the following step [2-2].

[2−1]まず、本発明の機能層貼付用フィルムセットとして、上述した保護層貼付用フィルム100を用意し、すなわち、剥離層1(絶縁層)と、剥離層1に積層された保護層3(機能層)とを有する保護層貼付用フィルム100を用意し(図3(a)参照)、電子部品搭載基板45において、基板5上に電子部品4が搭載されている面側(上面側)で、電子部品4に保護層貼付用フィルム100を、保護層3を電子部品4側にして、積層(貼付)する(図3(c)参照;貼付工程)。 [2-1] First, as the functional layer sticking film set of the present invention, the above-mentioned protective layer sticking film 100 is prepared, that is, the release layer 1 (insulating layer) and the protective layer laminated on the release layer 1. A protective layer laminating film 100 having 3 (functional layer) is prepared (see FIG. 3A), and in the electronic component mounting board 45, the surface side on which the electronic component 4 is mounted (top surface side) ), the protective layer laminating film 100 is laminated (attached) on the electronic component 4 with the protective layer 3 on the electronic component 4 side (see FIG. 3C; attaching step).

この電子部品4に保護層貼付用フィルム100を貼付する方法としては、特に限定されないが、例えば、真空圧空成形法またはプレス成型法が挙げられる。 The method for sticking the protective layer sticking film 100 to the electronic component 4 is not particularly limited, and examples thereof include a vacuum pressure molding method or a press molding method.

真空圧空成形法とは、例えば、真空加圧式ラミネーターを用いて、保護層貼付用フィルム100で、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆する方法であり、まず、図3(b)に示すように、真空雰囲気下とし得る閉空間内に、電子部品4の基板5と反対側の面と、保護層貼付用フィルム100の保護層3側の面とが対向するように、電子部品搭載基板45と保護層貼付用フィルム100とを重ね合わせた状態でセットし、その後、これらを加熱下において、保護層貼付用フィルム100側から均一に保護層貼付用フィルム100と電子部品搭載基板45が備える電子部品4とが互いに接近するように、前記閉空間を真空雰囲気下にし、その後加圧することにより実施される。 The vacuum pressure forming method is, for example, a method of covering the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4 with the protective layer sticking film 100 using a vacuum pressure type laminator. First, as shown in FIG. 3( b ), the surface of the electronic component 4 opposite to the substrate 5 and the surface of the protective layer sticking film 100 on the protective layer 3 side are provided in a closed space that can be under a vacuum atmosphere. The electronic component mounting substrate 45 and the protective layer sticking film 100 are set in a state of being superposed so that and face each other, and then these are heated and the protective layer sticking film 100 is evenly stuck from the protective layer sticking film 100 side. The closed space is placed in a vacuum atmosphere so that the film 100 and the electronic component 4 provided on the electronic component mounting substrate 45 come close to each other, and then pressure is applied.

上記の通り、保護層貼付用フィルム100側から均一に加圧しつつ、前記閉空間を真空雰囲気下とすることで、剥離層1が凹部62の形状に対応して保護層3を押し込み、この押し込みに併せて、剥離層1よりも電子部品4側に位置する、保護層3が凹部62の形状に対応して変形する。これにより、図3(c)に示すように、凹部62の形状に対応して保護層3が押し込まれた状態で、保護層3により電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面が被覆される。 As described above, the pressure is evenly applied from the protective layer sticking film 100 side, and the closed space is placed in a vacuum atmosphere so that the peeling layer 1 pushes the protective layer 3 corresponding to the shape of the recess 62, At the same time, the protective layer 3 located closer to the electronic component 4 than the peeling layer 1 is deformed according to the shape of the recess 62. As a result, as shown in FIG. 3C, with the protective layer 3 being pushed in corresponding to the shape of the concave portion 62, the protective layer 3 exposes the upper surface and side surfaces of the electronic component 4 and the electronic component 4. The upper surface of the substrate 5 is covered.

このように、保護層3により、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆することで、得られる保護層被覆電子部品搭載基板50に、湿気や埃等の外部因子との接触を的確に抑制または防止する保護性(バリア性)を付与することができる。 As described above, by covering the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4 with the protective layer 3, the obtained protective layer-covered electronic component mounting substrate 50 is provided with moisture and dust. It is possible to impart a protective property (barrier property) for appropriately suppressing or preventing contact with an external factor such as.

上記のような、保護層貼付用フィルム100(本発明の機能層貼付用フィルムセット)を用いた貼付方法によれば、剥離層1により、保護層3が凹部62の形状に対応して押し込まれる。これにより、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面が保護層3(被覆層)で被覆される。 According to the sticking method using the protective layer sticking film 100 (the functional layer sticking film set of the present invention) as described above, the protective layer 3 is pressed by the release layer 1 in correspondence with the shape of the recess 62. .. As a result, the upper surface and side surfaces of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4 are covered with the protective layer 3 (covering layer).

ここで、本発明では、保護層貼付用フィルム100が備える剥離層1(絶縁層)において、剥離層1のMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、剥離層1のTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を満足している。 Here, in the present invention, in the peeling layer 1 (insulating layer) included in the protective layer sticking film 100, the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the peeling layer 1 is A [MPa], and in the TD of the peeling layer 1. When the storage elastic modulus at 130° C. is B [MPa], the relationship that A/B is 0.75 or more and 1.25 or less is satisfied.

これに対して、従来の通り、A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を満足しない場合、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面のうち、特に電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対して、優れた被覆精度で被覆することができないと言う問題があった。 On the other hand, as in the conventional case, when A/B does not satisfy the relationship of 0.75 or more and 1.25 or less, among the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4, In particular, there is a problem that the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 cannot be coated with excellent coating accuracy.

かかる問題点について、本発明者が検討を行ったところ、以下に示す内容が要因となり、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対して、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができなくなっていると推察された。 The inventors of the present invention have studied this problem and found that the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 are coated with the protective layer 3 with excellent coating accuracy due to the following factors. It is presumed that it is no longer possible.

すなわち、保護層貼付用フィルム100の電子部品4に対する載置は、図4に示すように、電子部品4のY方向(長手方向)と、保護層貼付用フィルム100(剥離層1(絶縁層))のMD(またはTD)とが同一方向(平行)となるように行うことが、保護層貼付用フィルム100を効率的に使用することが出来ることから、一般的である。また、電子部品搭載基板45を被覆する保護層貼付用フィルム100(特に、剥離層1)は、その製造方法等に起因して、不可避的または意図的に、MD(流れ方向)とTD(流れに直角な方向)との延伸倍率が異なっている。 That is, as shown in FIG. 4, the protective layer sticking film 100 is placed on the electronic component 4 in the Y direction (longitudinal direction) of the electronic part 4 and the protective layer sticking film 100 (peeling layer 1 (insulating layer)). It is general that the protective layer sticking film 100 can be used efficiently so that the MD (or TD) of the above) is in the same direction (parallel). In addition, the protective layer sticking film 100 (particularly the peeling layer 1) that covers the electronic component mounting substrate 45 is unavoidably or intentionally caused by the manufacturing method or the like of MD (flow direction) and TD (flow). (Direction perpendicular to the direction).

このような状態で、真空圧空成形法またはプレス成型法等を用いて、剥離層1により、保護層3を凹部62の形状に対応して押し込むと、保護層貼付用フィルム100のMD(流れ方向)とTD(流れに直角な方向)との延伸倍率が異なることに起因して、剥離層1のMDにおける130℃での貯蔵弾性率A[MPa]と剥離層1のTDにおける130℃での貯蔵弾性率B[MPa]との関係A/Bが0.75以上1.25以下を満足しておらず、その結果、Y方向(長手方向)に沿った凹部62と、X方向(短手方向)に沿った凹部62と、さらにこれら凹部62同士が重なる十字部63とにおいて、保護層3の押し込み速度に差が生じてしまう。 In such a state, when the protective layer 3 is pushed in by the release layer 1 so as to correspond to the shape of the concave portion 62 using a vacuum pressure forming method or a press molding method, the MD of the protective layer sticking film 100 (flow direction). ) And TD (direction perpendicular to the flow) are different in draw ratio, the storage elastic modulus A [MPa] at 130° C. in MD of the release layer 1 and the 130° C. in TD of the release layer 1. The relationship A/B with the storage elastic modulus B [MPa] does not satisfy 0.75 or more and 1.25 or less, and as a result, the concave portion 62 along the Y direction (longitudinal direction) and the X direction (short side). The pressing speed of the protective layer 3 is different between the concave portion 62 along the (direction) and the cross portion 63 where the concave portions 62 overlap each other.

より具体的には、例えば、剥離層1において、MDの延伸倍率がTDの延伸倍率よりも高い場合、Y方向(長手方向)に沿った凹部62における剥離層1の押し込み速度(Y方向)と、X方向(短手方向)に沿った凹部62における剥離層1の押し込み速度(X方向)と、十字部63における剥離層1の押し込み速度(十字部63)とは、押し込み速度(剥離層1、十字部63)>押し込み速度(剥離層1、X方向)>押し込み速度(剥離層1、Y方向)なる速度の関係を満足する速度差が生じることとなる。 More specifically, for example, in the peeling layer 1, when the MD stretching ratio is higher than the TD stretching ratio, the pushing speed (Y direction) of the peeling layer 1 in the concave portion 62 along the Y direction (longitudinal direction) is , The pushing speed of the peeling layer 1 in the concave portion 62 along the X direction (short direction) (X direction) and the pushing speed of the peeling layer 1 in the cross portion 63 (cross portion 63) are the pushing speed (the peeling layer 1 , Cross portion 63)>pushing speed (peeling layer 1, X direction)>pushing speed (peeling layer 1, Y direction).

そのため、剥離層1により凹部62内に押し込まれる保護層3についても、剥離層1と同様に、Y方向(長手方向)に沿った凹部62における保護層3の押し込み速度(Y方向)と、X方向(短手方向)に沿った凹部62における保護層3の押し込み速度(X方向)と、十字部63における保護層3の押し込み速度(十字部63)とは、押し込み速度(保護層3、十字部63)>押し込み速度(保護層3、X方向)>押し込み速度(保護層3、Y方向)なる速度の関係を満足する速度差が生じることとなる。 Therefore, also for the protective layer 3 pushed into the recess 62 by the peeling layer 1, the pushing speed (Y direction) of the protective layer 3 in the concave portion 62 along the Y direction (longitudinal direction) and X as in the peeling layer 1. The pushing speed of the protective layer 3 in the concave portion 62 (X direction) along the direction (widthwise direction) and the pushing speed of the protective layer 3 in the cross portion 63 (cross portion 63) are the pushing speeds (the protective layer 3 and the cross portion). Part 63)>pushing speed (protective layer 3, X direction)>pushing speed (protective layer 3, Y direction).

したがって、凹部62の形状に対応して剥離層1により押し込まれた保護層3は、凹部62の底部に対して、十字部63、X方向(短手方向)に沿った凹部62およびY方向(長手方向)に沿った凹部62の順で、到達する。そのため、到達するのが最も遅いY方向(長手方向)に沿った凹部62に対して、先に十字部63に到着していた保護層3が広がり、保護層3の浮きが生じることに起因して、十字部63の周辺部に位置する凹部62において、明らかな保護層3の突起が認められ、その結果、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対して、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができなくなると推察された。 Therefore, the protective layer 3 pressed by the peeling layer 1 corresponding to the shape of the recess 62 has the cross portion 63, the recess 62 along the X direction (short direction) and the Y direction (with respect to the bottom of the recess 62). The recesses 62 arrive in this order along the longitudinal direction). Therefore, the protective layer 3 that has reached the cross portion 63 first spreads with respect to the concave portion 62 along the Y direction (longitudinal direction) that is the slowest to reach, and the protective layer 3 floats. As a result, clear protrusions of the protective layer 3 are recognized in the recesses 62 located around the cross portion 63, and as a result, the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 are covered with the excellent protective layer 3. It was presumed that the coating could not be performed with accuracy.

上記の通り、剥離層1の押し込みにより、保護層3を凹部62の形状に対応して押し込む際に、剥離層1のMDとTDとの異方性が生じることに起因して、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができなくなると推察されたが、かかる点について、本発明者がさらなる検討を行った結果、剥離層1のMDとTDとの異方性に起因する、保護層3を押し込む際の速度差は、剥離層1(絶縁層)のMDにおける貯蔵弾性率と、剥離層1のTDにおける貯蔵弾性率とが密接に関連していることを突き止めた。特に、剥離層1のMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、剥離層1のTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bを0.75以上1.25以下なる関係を満足させることで、剥離層1のMDとTDとの異方性が改善されることを、本発明者は見出した。これにより、保護層3のMDとTDとの異方性も改善されることから、保護層3および剥離層1の押し込み速度(Y方向)と、保護層3および剥離層1の押し込み速度(X方向)とをほぼ等しく設定することができるため、前述した速度の関係を、押し込み速度(保護層3および剥離層1、十字部63)>押し込み速度(保護層3および剥離層1、X方向)≒押し込み速度(保護層3および剥離層1、Y方向)なる関係を満足するものとすることができる。したがって、先に十字部63に到着していた保護層3の広がりを、Y方向(長手方向)に沿った凹部62と、X方向(短手方向)に沿った凹部62との双方に対して、同程度に抑制することができることから、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対して、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができる。 As described above, when the protective layer 3 is pushed in according to the shape of the concave portion 62 due to the pushing of the peeling layer 1, anisotropy between MD and TD of the peeling layer 1 is generated, so that the protective layer 3 is formed. It is presumed that the coating cannot be coated with excellent coating accuracy. However, as a result of further study by the present inventor on this point, the protection due to the anisotropy between MD and TD of the release layer 1 It has been found that the difference in speed when the layer 3 is pushed in is closely related to the storage elastic modulus in MD of the release layer 1 (insulating layer) and the storage elastic modulus in TD of the release layer 1. In particular, when the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the release layer 1 is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD of the release layer 1 is B [MPa], A/B is 0. The present inventors have found that satisfying the relationship of 75 or more and 1.25 or less improves the anisotropy of MD and TD of the release layer 1. Thereby, the anisotropy between MD and TD of the protective layer 3 is also improved. Therefore, the pushing speed of the protective layer 3 and the peeling layer 1 (Y direction) and the pushing speed of the protective layer 3 and the peeling layer 1 (X Direction) can be set to be substantially equal to each other. Therefore, the relationship of the above-described speeds can be expressed by pressing speed (protective layer 3 and peeling layer 1, cross portion 63)> pressing speed (protective layer 3 and peeling layer 1, X direction). It is possible to satisfy the relationship of ≅pushing speed (protective layer 3 and peeling layer 1, Y direction). Therefore, the spread of the protective layer 3 that has reached the cross portion 63 earlier is determined with respect to both the concave portion 62 along the Y direction (longitudinal direction) and the concave portion 62 along the X direction (transverse direction). Since they can be suppressed to the same degree, the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 can be coated with the protective layer 3 with excellent coating accuracy.

なお、凹部62は、その幅が好ましくは0.05mm以上1mm以下、より好ましくは0.1mm以上0.5mm以下に設定され、その深さが好ましくは0.1mm以上3mm以下、より好ましくは0.5mm以上1mm以下に設定される。このような幅および深さを有する凹部62に対しても、本発明によれば、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対して、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができる。 The width of the recess 62 is preferably 0.05 mm or more and 1 mm or less, more preferably 0.1 mm or more and 0.5 mm or less, and the depth thereof is preferably 0.1 mm or more and 3 mm or less, more preferably 0 mm or more. It is set to 0.5 mm or more and 1 mm or less. According to the present invention, the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 can be coated with the protective layer 3 with excellent coating accuracy even for the recess 62 having such a width and depth. ..

また、プレス成型法とは、例えば、基板5上に搭載された電子部品4上に保護層貼付用フィルム100を配置し、さらに、この保護層貼付用フィルム100上に、クッション材を配置した状態で、これらを、その上面側および下面側から、2つの平板で挾持し、その後、2つの平板を接近させて、加圧することにより実施される。 In addition, the press molding method means, for example, a state in which the protective layer sticking film 100 is arranged on the electronic component 4 mounted on the substrate 5, and the cushion material is arranged on the protective layer sticking film 100. Then, these are held by two flat plates from the upper surface side and the lower surface side thereof, and then the two flat plates are brought close to each other and pressed.

このように、保護層貼付用フィルム100上に、クッション材を配置した状態で、保護層貼付用フィルム100と電子部品4とを接近させることによっても、剥離層1が凹部62の形状に対応して保護層3を押し込み、この押し込みに併せて、剥離層1よりも電子部品4側に位置する、保護層3を凹部62の形状に対応して変形させることができる。そのため、図3(c)に示すように、凹部62の形状に対応して保護層3が押し込まれた状態で、保護層3により電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆することができる。 As described above, the release layer 1 corresponds to the shape of the recess 62 also by bringing the protective layer sticking film 100 and the electronic component 4 close to each other in the state where the cushion material is arranged on the protective layer sticking film 100. The protective layer 3 is pushed in by pressing the protective layer 3 and the protective layer 3 located on the electronic component 4 side of the peeling layer 1 can be deformed corresponding to the shape of the recess 62 in accordance with the pushing. Therefore, as shown in FIG. 3C, in a state where the protective layer 3 is pushed in corresponding to the shape of the recess 62, the protective layer 3 exposes the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the electronic component 4. The upper surface of the substrate 5 can be coated.

以上のような真空圧空成形法またはプレス成型法を用いた貼付工程[2−1]において、貼付する温度は、特に限定されないが、15℃以上220℃以下であることが好ましく、より好ましくは20℃以上210℃以下である。 In the pasting step [2-1] using the vacuum pressure forming method or the press molding method as described above, the temperature to be pasted is not particularly limited, but is preferably 15°C or higher and 220°C or lower, and more preferably 20°C or higher. The temperature is in the range of ℃ to 210 ℃

また、貼付する圧力は、特に限定されないが、0.1MPa以上20.0MPa以下であることが好ましく、より好ましくは0.5MPa以上15.0MPa以下である。 The pressure to be applied is not particularly limited, but is preferably 0.1 MPa or more and 20.0 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or more and 15.0 MPa or less.

さらに、貼付する時間は、特に限定されないが、5秒以上90分以下であることが好ましく、より好ましくは30秒以上10分以下である。 Furthermore, the time of application is not particularly limited, but is preferably 5 seconds or more and 90 minutes or less, and more preferably 30 seconds or more and 10 minutes or less.

貼付工程における条件を上記範囲内に設定することにより、隣接する電子部品4同士間の凹部62に対して保護層3を押し込んだ状態で、この保護層3により電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を優れた被覆精度で被覆することができる。 By setting the conditions in the pasting step within the above range, the protective layer 3 is pushed into the concave portions 62 between the adjacent electronic components 4, and the upper surface and the side surface of the electronic component 4 are protected by the protective layer 3. The upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4 can be coated with excellent coating accuracy.

上記のような保護層貼付用フィルム100において、剥離層1は、凹部62の形状に追従して保護層3を押し込むことで、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆する際に、保護層3を押し込み、かつ、押し込まれた保護層3が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能するものである。また、次工程[2−2]において、保護層3から剥離されるものである。 In the protective layer sticking film 100 as described above, the release layer 1 pushes the protective layer 3 in conformity with the shape of the recess 62 to thereby expose the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the substrate exposed from the electronic component 4. When the upper surface of 5 is covered, the protective layer 3 is pushed in, and it functions as a protective (buffer) material for preventing the pushed protective layer 3 from breaking. In the next step [2-2], the protective layer 3 is peeled off.

この剥離層1は、本発明では、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、TDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を満足している。これにより、前述の通り、凹部62における、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対しても、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができる。 In the present invention, the release layer 1 has an A/B of 0 when the storage elastic modulus at 130° C. in MD is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD is B [MPa]. The relationship of 0.75 or more and 1.25 or less is satisfied. Thereby, as described above, the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 in the recess 62 can be coated with the protective layer 3 with excellent coating accuracy.

このような剥離層1の構成材料としては、A/Bを0.75以上1.25以下の範囲内に設定し得るものであれば、特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のαオレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を共重合体成分として有する、エチレン等のαオレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のようなαオレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、融点が110℃以上の熱可塑性樹脂であることが好ましく、融点が110℃以上のオレフィン系樹脂であることがより好ましい。これにより、剥離層1を、A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を確実に満足するものとできる。 The constituent material of the release layer 1 is not particularly limited as long as A/B can be set within the range of 0.75 or more and 1.25 or less, and examples thereof include polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene. Α-olefin polymers such as ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, methylpentene, etc. as copolymer components, copolymers of α-olefins such as ethylene and (meth)acrylic acid esters, ethylene and acetic acid Examples include α-olefin copolymers such as copolymers with vinyl, thermoplastic resins such as engineering plastics resins such as polyether sulfone and polyphenylene sulfide, and a combination of one or more of them. Can be used. Among these, a thermoplastic resin having a melting point of 110° C. or higher is preferable, and an olefin resin having a melting point of 110° C. or higher is more preferable. Thereby, the peeling layer 1 can surely satisfy the relationship that A/B is 0.75 or more and 1.25 or less.

剥離層1の平均厚さは、特に限定されないが、例えば、5μm以上1000μm以下であることが好ましく、20μm以上500μm以下がより好ましく、200μm以上350μm以下であることがさらに好ましい。これにより、前述した剥離層1としての機能を確実に発揮させることができる。 The average thickness of the release layer 1 is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 1000 μm or less, more preferably 20 μm or more and 500 μm or less, and further preferably 200 μm or more and 350 μm or less. As a result, the function of the release layer 1 described above can be reliably exhibited.

また、この剥離層1は、前述のように、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率A[MPa]と、TDにおける130℃での貯蔵弾性率B[MPa]との関係A/Bが0.75以上1.25以下を満足していればよいが、0.9以上1.1以下を満足することが好ましく、1.0であることがより好ましい。これにより、凹部62における、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対しても、保護層3をより優れた被覆精度で被覆することができる。 Further, as described above, in the peeling layer 1, the relation A/B between the storage elastic modulus A [MPa] at 130° C. in MD and the storage elastic modulus B [MPa] at 130° C. in TD is 0. It suffices to satisfy 0.75 or more and 1.25 or less, but 0.9 or more and 1.1 or less is preferable, and 1.0 is more preferable. Accordingly, the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 in the recess 62 can be coated with the protective layer 3 with higher coating accuracy.

さらに、剥離層1のMDにおける130℃での貯蔵弾性率A[MPa]は、1MPa以上1000MPa以下であることが好ましく、10MPa以上500MPa以下であることがより好ましく、50MPa以上300MPa以下であることがさらに好ましい。A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を満足する際に、貯蔵弾性率A[MPa]を前記範囲内に設定することにより、A/Bが0.75以上1.25以下なる関係を満足する際に得られる効果をより顕著に発揮させることができる。 Furthermore, the storage elastic modulus A [MPa] at 130° C. in MD of the release layer 1 is preferably 1 MPa or more and 1000 MPa or less, more preferably 10 MPa or more and 500 MPa or less, and 50 MPa or more and 300 MPa or less. More preferable. When satisfying the relationship that A/B is 0.75 or more and 1.25 or less, by setting the storage elastic modulus A [MPa] within the above range, A/B is 0.75 or more and 1.25 or less. The effect obtained when satisfying the relationship can be more remarkably exhibited.

なお、剥離層1の貯蔵弾性率Aおよび貯蔵弾性率Bは、例えば、動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、「型番DMS6100」)を用いて求めることができる。 The storage elastic modulus A and the storage elastic modulus B of the release layer 1 can be obtained by using, for example, a dynamic viscoelasticity measuring device (“Model DMS6100” manufactured by SII Nanotechnology Inc.).

また、保護層貼付用フィルム100は、本実施形態では、絶縁フィルムと機能性フィルムとが一体的に形成され、さらに、絶縁フィルムが剥離層1(絶縁層)の単層体で構成されるが、かかる構成に限定されず、例えば、剥離層1の上面(保護層3と反対側の面)および下面(保護層3側の面)にそれぞれ設けられた、第1離型層および第2離型層のうちの少なくとも一方を備えるものであってもよい。 Further, in the present embodiment, the protective layer sticking film 100 is formed by integrally forming an insulating film and a functional film, and the insulating film is composed of a single layer body of the release layer 1 (insulating layer). However, the present invention is not limited to such a configuration, and for example, the first release layer and the second release layer provided on the upper surface (the surface on the side opposite to the protective layer 3) and the lower surface (the surface on the protective layer 3 side) of the release layer 1, respectively. It may include at least one of the mold layers.

第1離型層は、本工程[2−1]において、電子部品搭載基板45上の凹凸6に保護層3を押し込む際に、真空圧空成形法で用いられる押圧部またはプレス成型法で用いられる平板との離型性の機能を、保護層貼付用フィルム100により確実に付与するためのものである。また、剥離層1側に押圧部または平板からの押圧力を伝播するためのものである。 In this step [2-1], the first release layer is used in a pressing portion or a press molding method used in a vacuum pressure air molding method when the protective layer 3 is pressed into the irregularities 6 on the electronic component mounting substrate 45. This is for reliably imparting the function of releasability from the flat plate to the protective layer sticking film 100. Further, it is for propagating the pressing force from the pressing portion or the flat plate to the release layer 1 side.

また、第2離型層は、本工程[2−1]において、電子部品搭載基板45上の凹凸6に保護層3を押し込んだ後に、次工程[2−2]において、剥離層1を剥離させる際に、保護層3との離型性の機能を、保護層貼付用フィルム100により確実に付与するためのものである。また、本工程[2−1]において、また、電子部品搭載基板45上の凹凸形状に応じて、第2離型層が追従する追従性の機能を有し、かつ、剥離層1側に押圧部または平板からの押圧力を伝播するためのものである。 In addition, the second release layer peels off the release layer 1 in the next step [2-2] after the protective layer 3 is pushed into the irregularities 6 on the electronic component mounting substrate 45 in this step [2-1]. In doing so, the function of releasability from the protective layer 3 is more surely imparted to the protective layer sticking film 100. In addition, in this step [2-1], the second release layer has a followability function of following the uneven shape on the electronic component mounting substrate 45, and is pressed against the release layer 1 side. It is for propagating the pressing force from the part or the flat plate.

これら第1離型層および第2離型層の構成材料としては、例えば、シンジオタクチックポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、環状オレフィンポリマー、シリコーンのような樹脂材料、が挙げられる。これらの中でも、シンジオタクチックポリスチレンを用いることが好ましい。このように、ポリスチレンとしてシンジオタクチック構造を有するものを用いることにより、ポリスチレンを、結晶性を備えるものとすることができるため、これに起因して、第1離型層および第2離型層としての機能を確実に発揮させることができる。 Examples of the constituent materials of the first release layer and the second release layer include syndiotactic polystyrene, polymethylpentene, polybutylene terephthalate, polypropylene, cyclic olefin polymer, and resin materials such as silicone. Among these, it is preferable to use syndiotactic polystyrene. As described above, by using polystyrene having a syndiotactic structure, polystyrene can be made to have crystallinity. Due to this, the first release layer and the second release layer are caused. The function as can be surely exhibited.

第1離型層および第2離型層の平均厚さは、特に限定されないが、例えば、5μm以上1000μm以下であることが好ましく、20μm以上100μm以下であることがより好ましい。これにより、前述した第1離型層および第2離型層としての機能を、第1離型層および第2離型層のそれぞれに確実に発揮させることができる。 The average thickness of the first release layer and the second release layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 1000 μm or less, more preferably 20 μm or more and 100 μm or less. Accordingly, the functions of the first release layer and the second release layer described above can be reliably exerted in each of the first release layer and the second release layer.

保護層3(機能層)は、本実施形態では、電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面を被覆して設けられている。 In the present embodiment, the protective layer 3 (functional layer) is provided so as to cover the upper surface and side surfaces of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4.

この保護層3は、電子部品搭載基板45、特に、電子部品4と、湿気や埃等の外部因子との電子部品搭載基板45(電子部品4)の上面側からの接触を抑制または防止するバリア性を保護層被覆電子部品搭載基板50に付与する機能を有する。 The protective layer 3 is a barrier that suppresses or prevents contact between the electronic component mounting board 45, particularly the electronic component 4, and external factors such as moisture and dust from the upper surface side of the electronic component mounting board 45 (electronic component 4). And a function of imparting the property to the protective layer-covered electronic component mounting substrate 50.

このような保護層3は、樹脂材料を主材料として構成されるものであり、この樹脂材料としては、湿気や埃等の外部因子に対してバリア性を有するものであれば、特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性エラストマー等の熱硬化性樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマーのような熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Such a protective layer 3 is mainly composed of a resin material, and the resin material is not particularly limited as long as it has a barrier property against external factors such as moisture and dust. , For example, epoxy resin, phenol resin, amino resin, unsaturated polyester resin, thermosetting resin such as thermosetting elastomer, acrylic resin, polyester resin, vinyl chloride resin, styrene resin, styrene-based thermoplastic elastomer, olefin-based heat Examples thereof include thermoplastic resins such as thermoplastic elastomers such as a thermoplastic elastomer, and one kind or a combination of two or more kinds thereof can be used.

保護層3の平均厚さは、特に限定されないが、1μm以上300μm以下であることが好ましく、2μm以上100μm以下であることがより好ましい。 The average thickness of the protective layer 3 is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 300 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 100 μm or less.

[2−2]次に、図3(d)に示すように、電子部品4に貼付された保護層貼付用フィルム100から、剥離層1(絶縁層)を剥離する。 [2-2] Next, as shown in FIG. 3D, the release layer 1 (insulating layer) is released from the protective layer application film 100 attached to the electronic component 4.

すなわち、保護層貼付用フィルム100を用いた保護層3の形成の後、剥離層1を保護層3から剥離させる。 That is, after forming the protective layer 3 using the protective layer sticking film 100, the release layer 1 is peeled from the protective layer 3.

この剥離層1の剥離では、保護層貼付用フィルム100における剥離層1と保護層3との界面において、剥離が生じ、その結果、保護層3から剥離層1が剥離される。これにより、保護層3から剥離層1を剥離した状態で、保護層3により電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面が被覆された保護層被覆電子部品搭載基板50を得ることができる。 In the peeling of the peeling layer 1, peeling occurs at the interface between the peeling layer 1 and the protective layer 3 in the protective layer sticking film 100, and as a result, the peeling layer 1 is peeled from the protective layer 3. As a result, with the release layer 1 peeled from the protective layer 3, the protective layer 3 covers the upper surface and the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed from the electronic component 4, and the protective layer-covered electronic component is mounted. The substrate 50 can be obtained.

また、剥離層1を剥離する方法としては、特に限定されないが、例えば、手作業による剥離が好ましい。 The method for peeling the release layer 1 is not particularly limited, but, for example, manual peeling is preferable.

この手作業による剥離では、例えば、まず、剥離層1の一方の端部を把持し、この把持した端部から剥離層1を保護層3から引き剥がし、次いで、この端部から中央部へさらには他方の端部へと順次剥離層1を引き剥がすことにより、保護層3から剥離層1が剥離される。 In the manual peeling, for example, first, one end of the peeling layer 1 is gripped, the peeling layer 1 is peeled from the protective layer 3 from the gripped end, and then the peeling layer 1 is further separated from the end to the center. The peeling layer 1 is peeled from the protective layer 3 by sequentially peeling off the peeling layer 1 to the other end.

剥離する温度は、180℃以下であることが好ましく、より好ましくは165℃以下、さらに好ましくは150℃以下である。 The peeling temperature is preferably 180° C. or lower, more preferably 165° C. or lower, still more preferably 150° C. or lower.

以上のような工程[2−1]および工程[2−2]を経ることにより、保護層3から剥離層1を剥離した状態で、保護層3により電子部品4の上面および側面、ならびに、電子部品4から露出する基板5の上面が被覆された保護層被覆電子部品搭載基板50を得ることができる。
以上のような工程を経て、保護層被覆電子部品搭載基板50が製造される。
Through the steps [2-1] and [2-2] as described above, with the release layer 1 peeled from the protective layer 3, the upper surface and the side surface of the electronic component 4 by the protective layer 3, and the electron. It is possible to obtain the protective layer-covered electronic component mounting substrate 50 in which the upper surface of the substrate 5 exposed from the component 4 is coated.
Through the steps described above, the protective layer-covered electronic component mounting board 50 is manufactured.

なお、本実施形態では、基板5上に搭載される電子部品4が、図1、図2に示す領域において、同一形状をなすものが格子状に配列されることにより形成された十字部63を有する凹部62に対して、保護層3が押し込まれ、本発明によれば、かかる構成の凹部62において露出する、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対しても、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができることを説明したが、本発明を適用して、保護層3を押し込むことができる凹部の構成は、上記のような十字部63を有する凹部62に限定されるものではない。すなわち、凹部は、異なる形状をなす電子部品4がランダムに配置されることで形成されたものであっても良く、本発明によれば、十字部63を有する凹部62のような微細形状を有するものに対して、優れた被覆精度で保護層3を被覆することができる。そのため、前記ランダムに配置されることで形成された凹部62に対しても、優れた被覆精度で保護層3を被覆することができる。 In the present embodiment, the electronic component 4 mounted on the substrate 5 has a cross portion 63 formed by arranging components having the same shape in a grid pattern in the regions shown in FIGS. According to the present invention, the protective layer 3 is pushed into the recessed portion 62, and the protective layer 3 is excellent also on the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 exposed in the recessed portion 62 having such a configuration. Although it has been described that the coating can be performed with the coating accuracy, the configuration of the recess into which the protective layer 3 can be pushed by applying the present invention is not limited to the recess 62 having the cross portion 63 as described above. Absent. That is, the recess may be formed by randomly arranging the electronic components 4 having different shapes. According to the present invention, the recess has a fine shape like the recess 62 having the cross portion 63. The protective layer 3 can be coated on an object with excellent coating accuracy. Therefore, the recesses 62 formed by the random arrangement can be coated with the protective layer 3 with excellent coating accuracy.

以上、本発明の機能層貼付用フィルムセットについて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。 The film set for sticking a functional layer of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to these.

例えば、前記実施形態では、貼着用基材としての、凹凸6を備える電子部品搭載基板45に、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて、機能層としての保護層3を被覆して保護層被覆電子部品搭載基板50を得る場合について説明したが、これに限定されず、本発明の機能層貼付用フィルムセットは、機能層として電磁波シールド層を備える機能性フィルムを有するものであり、かかる構成の機能性フィルムセットを用いて、貼付用基材が有する凹凸の形状に対応して電磁波シールド層を押し込むために用いられるものであってもよい。 For example, in the above-described embodiment, the electronic component mounting substrate 45 having the unevenness 6 as the sticking base material is protected by covering the protective layer 3 as the functional layer with the functional layer sticking film set of the present invention. The case of obtaining the layer-covered electronic component mounting substrate 50 has been described, but the present invention is not limited to this, and the functional layer-adhering film set of the present invention has a functional film having an electromagnetic wave shielding layer as a functional layer. It may be used to press the electromagnetic wave shield layer in correspondence with the shape of the unevenness of the sticking substrate by using the functional film set having the constitution.

また、前記実施形態では、凹凸6を備える電子部品搭載基板45に、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて、保護層3を形成する際に、剥離層1(絶縁層)からなる絶縁フィルムと保護層3(機能層)からなる機能性フィルムとが厚さ方向に積層することで一体化された保護層貼付用フィルム100をフィルムセットとして用いる場合について説明したが、用いるフィルムセットはかかる構成のものに限定されず、例えば、剥離層1(絶縁層)で構成される絶縁フィルムと、保護層3(機能層)で構成される機能性フィルムとを別体として備え、これらを重ね合わせて用いるフィルムセットであってもよい。 Further, in the above-described embodiment, when the protective layer 3 is formed on the electronic component mounting substrate 45 having the unevenness 6 by using the functional layer-adhesive film set of the present invention, the insulating layer 1 (insulating layer) is used as the insulating layer. The case where the protective layer sticking film 100 in which the film and the functional film composed of the protective layer 3 (functional layer) are integrated in the thickness direction is used as a film set has been described. The present invention is not limited to the constitution, and for example, an insulating film composed of the peeling layer 1 (insulating layer) and a functional film composed of the protective layer 3 (functional layer) are provided as separate bodies, and these are superposed. It may be a film set to be used.

さらに、前記実施形態では、電子部品搭載基板45が備える凹凸6のほぼ全面に、本発明の機能層貼付用フィルムセットを用いて、保護層3を形成する場合について説明したが、保護層3を形成する領域は、凹凸6のほぼ全面に限らず、凹凸6の一部であってもよい。このように、凹凸6の一部を保護層3で被覆する場合、機能層貼付用フィルムセットとして、保護層3を形成すべき領域に対応して選択的に保護層3が形成されたものを用意し、かかる領域に対応するように保護層3を配置した状態で、凹凸6に保護層3を押し込むことで、凹凸6の一部を保護層3で選択的に被覆することができる。 Further, in the above-described embodiment, the case where the protective layer 3 is formed on almost the entire surface of the unevenness 6 of the electronic component mounting board 45 by using the functional layer laminating film set of the present invention has been described. The area to be formed is not limited to substantially the entire surface of the unevenness 6, and may be a part of the unevenness 6. In this way, when a part of the unevenness 6 is covered with the protective layer 3, a functional layer laminating film set in which the protective layer 3 is selectively formed corresponding to the region where the protective layer 3 is to be formed is used. By preparing and pressing the protective layer 3 into the unevenness 6 in a state where the protective layer 3 is arranged so as to correspond to such a region, a part of the unevenness 6 can be selectively covered with the protective layer 3.

また、本発明にかかる絶縁層(剥離層)を有する絶縁フィルムは、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下であることを特徴とする。これにより、例えば、前記保護層貼付用フィルム100の剥離層として使用した場合に凹部62における、電子部品4の側面ならびに基板5の上面に対しても、保護層3を優れた被覆精度で被覆することができる。また、絶縁層を有する絶縁フィルムは、前記保護層貼付用フィルム100の剥離層として用いる以外にも、例えば、絶縁フィルムに対する機能性フィルムの積層を省略し、この絶縁フィルムを単独で貼付用基材に対して積層させた状態で、絶縁層を凹凸の形状に対応して押し込むことで、絶縁層により凹凸を被覆する場合等の用途に使用できる。 The insulating film having an insulating layer (release layer) according to the present invention has a storage elastic modulus at 130° C. in MD of A [MPa] and a storage elastic modulus at 130° C. in TD of B [MPa]. Then, A/B is 0.75 or more and 1.25 or less. Thereby, for example, when used as a release layer of the protective layer sticking film 100, the protective layer 3 is also coated with excellent coating accuracy on the side surface of the electronic component 4 and the upper surface of the substrate 5 in the recess 62. be able to. In addition, the insulating film having an insulating layer is used as a release layer of the protective layer sticking film 100, and for example, lamination of a functional film on the insulating film is omitted, and the insulating film alone is used as a sticking substrate. By pressing the insulating layer corresponding to the shape of the concavities and convexities in the laminated state, it can be used for the purpose of covering the concavities and convexities with the insulating layer.

さらに、絶縁フィルムの構成や製造方法等は、前記剥離層1と同様の材料、方法を使用することができるため、前記剥離層1の記載内容を準用する。 Further, the same material and method as those used for the release layer 1 can be used for the structure and the manufacturing method of the insulating film, and therefore the description of the release layer 1 is applied correspondingly.

以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples, but the present invention is not limited thereto.

<実施例1>
1.保護層貼付用フィルムの製造
まず、剥離層1の上面および下面にそれぞれ第1離型層および第2離型層が積層された積層体を得るために、第1および第2離型層を形成するための樹脂材料としてポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を用意した。また、剥離層1を形成するための樹脂材料として、ポリプロピレン(融点:160℃、プライムポリマー社製、商品名:E−203GP)を60wt%、ポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を40wt%含む混合物を用意した。
<Example 1>
1. Manufacture of a film for sticking a protective layer First, in order to obtain a laminate in which a first release layer and a second release layer are laminated on the upper surface and the lower surface of the release layer 1, respectively, first and second release layers are formed. Polymethylpentene (melting point: 230° C., manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., trade name: TPX DX231) was prepared as a resin material for this purpose. Further, as a resin material for forming the release layer 1, 60 wt% of polypropylene (melting point: 160° C., manufactured by Prime Polymer Co., trade name: E-203GP), polymethylpentene (melting point: 230° C., manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) A mixture containing 40 wt% of trade name: TPX DX231) was prepared.

次いで、用意した第1離型層、剥離層1および第2離型層を形成するための樹脂材料を、フィードブロックおよびマルチマニホールドダイを用いて共押出により、フィルム化することで、第1離型層と剥離層1と第2離型層とがこの順で積層された積層体を得た。 Then, the prepared resin material for forming the first release layer, the release layer 1 and the second release layer is formed into a film by co-extrusion using a feed block and a multi-manifold die to form a first release layer. A laminate was obtained in which the mold layer, the release layer 1 and the second release layer were laminated in this order.

また、保護層3を形成するための樹脂材料(液状材料)として、エポキシ樹脂(DIC社製、商品名:EPICRON N−670)を22重量部、アクリルゴム(ナガセケムテックス社製、商品名:SG−708−6)を22重量部、およびフェノールノボラック樹脂(住友ベークライト社製、商品名:PR−HF−3)を11重量部含み、さらに、溶媒としてメチルエチルケトンを含むものを用意した。 Further, as a resin material (liquid material) for forming the protective layer 3, 22 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by DIC, trade name: EPICRON N-670), acrylic rubber (manufactured by Nagase Chemtex Co., trade name: SG-708-6) was contained in an amount of 22 parts by weight, and a phenol novolac resin (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., trade name: PR-HF-3) was included in an amount of 11 parts by weight, and a solvent containing methyl ethyl ketone as a solvent was prepared.

次いで、送出しローラーと巻取りローラーとの間で、送出された前記積層体に、保護層3を形成するための樹脂材料を、塗布した後に乾燥させることで保護層3を形成して保護層貼付用フィルム100を作製した。 Then, between the delivery roller and the winding roller, the resin material for forming the protective layer 3 is applied to the delivered laminated body and then dried to form the protective layer 3 to form the protective layer. A sticking film 100 was produced.

なお、得られた保護層貼付用フィルム100において、剥離層1の厚さは300μm、保護層3の平均厚さは40μmであった。 In the obtained protective layer sticking film 100, the release layer 1 had a thickness of 300 μm, and the protective layer 3 had an average thickness of 40 μm.

また、130℃におけるMDの貯蔵弾性率AおよびTDの貯蔵弾性率Bを測定したところ、それぞれ、227MPaおよび206MPaであった。 Further, when the storage elastic modulus A of MD and the storage elastic modulus B of TD at 130° C. were measured, they were 227 MPa and 206 MPa, respectively.

2.凹部が設けられた電子部品搭載基板の製造
凹部62が設けられた電子部品搭載基板45を得るために、まず、FR4基板(ガラス繊維の布をエポキシ樹脂の硬化物で封止して形成された疑似配線基板)上に、縦5mm×横10mm×厚さ0.8mmのSi基板(擬似電子部品)を隣接するSi基板同士の離間距離が0.2mmとなるように格子状に配列することで電子部品搭載基板45を得た。
2. Manufacture of Electronic Component Mounting Substrate Provided with Recesses In order to obtain the electronic component mounting substrate 45 provided with the recesses 62, first, FR4 substrate (glass fiber cloth is sealed with a cured product of epoxy resin to form) By arranging Si substrates (pseudo electronic components) of 5 mm in length×10 mm in width×0.8 mm in thickness on the pseudo wiring substrate) so that the distance between adjacent Si substrates is 0.2 mm. The electronic component mounting board 45 was obtained.

3.評価
作製した保護層貼付用フィルム100について、凹部62が設けられた電子部品搭載基板45を用いて、以下の評価を行った。
3. Evaluation The following evaluation was performed on the produced protective layer sticking film 100 using the electronic component mounting substrate 45 provided with the recesses 62.

保護層貼付用フィルム100を、凹部62が設けられた電子部品搭載基板45上に、保護層貼付用フィルム100(剥離層1)の長手方向が、電子部品搭載基板45の長手方向と平行となるように配置した。 The protective layer sticking film 100 is placed on the electronic component mounting board 45 having the recess 62, and the longitudinal direction of the protective layer sticking film 100 (release layer 1) is parallel to the longitudinal direction of the electronic component mounting board 45. So that

次いで、真空加圧式ラミネーターを用いて、真空雰囲気下において、保護層貼付用フィルム100と電子部品搭載基板45とが互いに接近するように、圧力2MPa、温度170℃、時間240秒の条件で加圧して、保護層貼付用フィルム100を電子部品搭載基板45に貼付することで、保護層貼付用フィルム100が備える保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ。 Next, using a vacuum pressurizing laminator, in a vacuum atmosphere, pressure is applied under conditions of a pressure of 2 MPa, a temperature of 170° C., and a time of 240 seconds so that the protective layer sticking film 100 and the electronic component mounting substrate 45 come close to each other. Then, by attaching the protective layer attaching film 100 to the electronic component mounting substrate 45, the protective layer 3 included in the protective layer attaching film 100 is made to correspond to the shape of the concave portion 62 provided in the electronic component mounting substrate 45. Pushed into.

次いで、電子部品搭載基板45に貼付された保護層貼付用フィルム100から剥離層1を、剥離層1の一端を持って剥離させた。 Then, the release layer 1 was peeled from the protective layer application film 100 attached to the electronic component mounting substrate 45 by holding one end of the release layer 1.

その後、凹部62の形状に対応するように押し込まれた保護層3について、凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を下記に示す評価基準に基づいて評価した。 After that, with respect to the protective layer 3 pressed so as to correspond to the shape of the concave portion 62, the coating accuracy with respect to the bottom of the concave portion 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria shown below.

[評価基準]
◎:凹部62の底部まで保護層3は被覆できており、
保護層3の凹部62の底部からの浮きなどに起因する突起は観測されない。
○:凹部62の底部まで保護層3は被覆できているが、
十字部63の周辺部に保護層3の僅かな突起が観測される。
×:凹部62の底部まで保護層3は被覆できているが、
十字部63の周辺部に保護層3の凹部62の底部からの浮きに起因する
明らかな突起が観測される。
[Evaluation criteria]
⊚: The protective layer 3 covers the bottom of the recess 62,
No protrusion due to floating from the bottom of the recess 62 of the protective layer 3 is observed.
◯: The protective layer 3 covers the bottom of the recess 62,
A slight protrusion of the protective layer 3 is observed around the cross portion 63.
X: The protective layer 3 covers the bottom of the recess 62,
Due to the floating of the protective layer 3 from the bottom of the concave portion 62 in the peripheral portion of the cross portion 63.
Obvious protrusions are observed.

<実施例2>
剥離層1を形成するための樹脂材料として、ポリプロピレン(融点:160℃、プライムポリマー社製、商品名:E−203GP)を40wt%、ポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を60wt%含む混合物を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 2>
As a resin material for forming the release layer 1, 40 wt% of polypropylene (melting point: 160° C., manufactured by Prime Polymer, trade name: E-203GP), polymethylpentene (melting point: 230° C., manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., product Name: TPX DX 231) except that a mixture containing 60 wt% was prepared, and the protective layer 3 was pressed in the same manner as in Example 1 so as to correspond to the shape of the recess 62 provided in the electronic component mounting board 45. After that, the peeling layer 1 was peeled from the protective layer sticking film 100.

そして、実施例2について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, in Example 2, the coating accuracy of the protective layer 3 pressed into the recess 62 with respect to the bottom of the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.

<実施例3>
剥離層1を形成するための樹脂材料として、ポリプロピレン(融点:160℃、プライムポリマー社製、商品名:E−203GP)を20wt%、ポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を80wt%含む混合物を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 3>
As a resin material for forming the release layer 1, 20 wt% polypropylene (melting point: 160° C., manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: E-203GP), polymethylpentene (melting point: 230° C., manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., product Name: TPX DX231) 80% by weight of the mixture was prepared, and the protective layer 3 was pressed in the same manner as in Example 1 so as to correspond to the shape of the recess 62 provided in the electronic component mounting board 45. After that, the peeling layer 1 was peeled from the protective layer sticking film 100.

そして、実施例3について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, in Example 3, the coating accuracy of the protective layer 3 pressed into the recess 62 with respect to the bottom of the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.

<実施例4>
剥離層1を形成するための樹脂材料として、ポリエチレン(融点:130℃、プライムポリマー社製、商品名:ハイゼックス 3300F)を60wt%、ポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を40wt%含む混合物を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 4>
As a resin material for forming the peeling layer 1, 60 wt% of polyethylene (melting point: 130° C., manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., product name: Hi-Zex 3300F), polymethylpentene (melting point: 230° C., manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., product name) : TPX DX231) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture containing 40 wt% of TPX DX231) was prepared, and the protective layer 3 was pressed into the recess 62 provided in the electronic component mounting substrate 45. Then, the peeling layer 1 was peeled from the protective layer sticking film 100.

そして、実施例4について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, in Example 4, the covering precision of the protective layer 3 pushed into the concave portion 62 with respect to the bottom of the concave portion 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the above-mentioned evaluation criteria.

<実施例5>
剥離層1を形成するための樹脂材料として、ポリエチレン(融点:130℃、プライムポリマー社製、商品名:ハイゼックス 3300F)を40wt%、ポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を60wt%含む混合物を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 5>
As a resin material for forming the peeling layer 1, 40 wt% of polyethylene (melting point: 130° C., made by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Hi-Zex 3300F), polymethylpentene (melting point: 230° C., manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., trade name : TPX DX231) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture containing 60 wt% of TPX DX231) was prepared, and the protective layer 3 was pressed so as to correspond to the shape of the concave portion 62 provided in the electronic component mounting substrate 45. Then, the peeling layer 1 was peeled from the protective layer sticking film 100.

そして、実施例5について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, in Example 5, the covering accuracy of the protective layer 3 pressed into the recess 62 with respect to the bottom of the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.

<実施例6>
保護層3を形成するための樹脂材料として、エポキシ樹脂(DIC社製、商品名:EPICRON N−670)を12重量部、アクリルゴム(ナガセケムテックス社製、商品名:SG−708−6)を37重量部、およびフェノールノボラック樹脂(住友ベークライト社製、商品名:PR−HF−3)を6重量部含む混合物を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 6>
As a resin material for forming the protective layer 3, 12 parts by weight of epoxy resin (manufactured by DIC, trade name: EPICRON N-670), acrylic rubber (manufactured by Nagase Chemtex, trade name: SG-708-6) And a phenol novolak resin (Sumitomo Bakelite Co., Ltd., trade name: PR-HF-3) in an amount of 6 parts by weight, the protective layer 3 was formed in the same manner as in Example 1 except that a mixture was prepared. Then, the release layer 1 was peeled off from the protective layer sticking film 100 after being pushed in so as to correspond to the shape of the concave portion 62 provided in the electronic component mounting substrate 45.

そして、実施例6について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, with respect to Example 6, the covering precision of the bottom of the recess 62 of the protective layer 3 pressed into the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.

<実施例7>
剥離層1の厚さが200μmの保護層貼付用フィルム100を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 7>
The protective layer 3 was formed in the shape of the recess 62 provided in the electronic component mounting substrate 45 in the same manner as in Example 1 except that the protective layer sticking film 100 having a thickness of the release layer 1 of 200 μm was prepared. After pressing in a corresponding manner, the release layer 1 was released from the protective layer-adhesive film 100.

そして、実施例7について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, in Example 7, the coating accuracy of the protective layer 3 pressed into the recess 62 with respect to the bottom of the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.

<実施例8>
剥離層1の厚さが150μmの保護層貼付用フィルム100を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Example 8>
The protective layer 3 was formed into the shape of the recess 62 provided in the electronic component mounting substrate 45 in the same manner as in Example 1 except that the protective layer sticking film 100 having a thickness of the release layer 1 of 150 μm was prepared. After pressing in a corresponding manner, the release layer 1 was released from the protective layer-adhesive film 100.

そして、実施例8について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。 Then, in Example 8, the coating accuracy of the protective layer 3 pressed into the recess 62 with respect to the bottom of the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.

<比較例1>
剥離層1を形成するための樹脂材料として、エチレン−メチルアクリレート共重合体(融点:100℃、三井・デュポンポリケミカル社製、商品名:ニュクレルAN4214C)を50wt%、ポリプロピレン(融点:160℃、プライムポリマー社製、商品名:E−203GP)を30wt%、ポリメチルペンテン(融点:230℃、三井化学社製、商品名:TPX DX231)を20wt%含む混合物を用意したこと以外は、前記実施例1と同様にして、保護層3を、電子部品搭載基板45に設けられた凹部62の形状に対応するように押し込んだ後、保護層貼付用フィルム100から剥離層1を剥離させた。
<Comparative Example 1>
As a resin material for forming the release layer 1, 50 wt% of ethylene-methyl acrylate copolymer (melting point: 100° C., Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd., trade name: Nucrel AN4214C), polypropylene (melting point: 160° C., The procedure described above was performed except that a mixture containing 30 wt% of Prime Polymer Co., Ltd., trade name: E-203GP) and 20 wt% of polymethylpentene (melting point: 230° C., Mitsui Chemicals Co., trade name: TPX DX231) was prepared. In the same manner as in Example 1, the protective layer 3 was pressed so as to correspond to the shape of the recess 62 provided in the electronic component mounting substrate 45, and then the release layer 1 was peeled from the protective layer sticking film 100.

そして、比較例1について、それぞれ、凹部62に押し込まれた保護層3の凹部62の底部に対する被覆精度を、目視にて観察し、その結果を前記評価基準に基づいて評価した。
これらの評価結果を表1に示す。
Then, in Comparative Example 1, the covering accuracy of the protective layer 3 pressed into the recess 62 with respect to the bottom of the recess 62 was visually observed, and the result was evaluated based on the evaluation criteria.
The results of these evaluations are shown in Table 1.

Figure 0006705535
Figure 0006705535

表1に示すように、各実施例では、剥離層1のMDにおける130℃での貯蔵弾性率A[MPa]と、TDにおける130℃での貯蔵弾性率B[MPa]との関係A/Bが0.75以上1.25以下を満足しており、その結果、保護層3の凹部62の底部からの浮きに起因する明らかな突起は観測されず、凹部62に対して保護層3を優れた被覆精度で被覆し得ることが明らかとなった。 As shown in Table 1, in each example, the relation A/B between the storage elastic modulus A [MPa] of the release layer 1 at 130° C. in MD and the storage elastic modulus B [MPa] at 130° C. of TD. Satisfies 0.75 or more and 1.25 or less, and as a result, no obvious protrusion due to the floating of the protective layer 3 from the bottom of the recess 62 is observed, and the protective layer 3 is superior to the recess 62. It has been revealed that the coating can be performed with high coating accuracy.

これに対して、比較例では、前記A/Bが0.75以上1.25以下を満足しておらず、これにより、保護層3の凹部62の底部からの浮きに起因する明らかな突起が認められ、そのため、凹部62に対して保護層3を優れた被覆精度で被覆することができない結果を示した。 On the other hand, in the comparative example, the A/B does not satisfy the range of 0.75 or more and 1.25 or less, and as a result, the apparent protrusion due to the floating of the concave portion 62 of the protective layer 3 from the bottom is generated. Therefore, the result was that the protective layer 3 could not be coated on the recess 62 with excellent coating accuracy.

1 剥離層
3 保護層
4 電子部品
5 基板
6 凹凸
45 電子部品搭載基板
50 保護層被覆電子部品搭載基板
61 凸部
62 凹部
63 十字部
100 保護層貼付用フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 peeling layer 3 protective layer 4 electronic component 5 substrate 6 unevenness 45 electronic component mounting substrate 50 protective layer coating electronic component mounting substrate 61 convex portion 62 concave portion 63 cross portion 100 protective layer sticking film

Claims (11)

絶縁層を有する絶縁フィルムと、機能層を有する機能性フィルムとを備え、貼付用基材の凹凸を前記機能層で被覆するために用いられる機能層貼付用フィルムセットであって、
前記貼付用基材の前記凹凸は、一方向に沿って形成された複数の凹部と、前記一方向に直交する方向に沿って形成された複数の凹部とがこれら同士が重なる十字部において直交した状態で並設して形成されており、
前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとを、前記機能性フィルムを前記貼付用基材側にして積層した状態で、前記機能層を前記凹凸の形状に対応して押し込むことで、前記凹凸が前記機能層で被覆され、
前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下であることを特徴とする機能層貼付用フィルムセット。
An insulating film having an insulating layer, and a functional film having a functional layer, a functional layer sticking film set used for covering the unevenness of the sticking substrate with the functional layer,
The unevenness of the sticking substrate is such that a plurality of concave portions formed along one direction and a plurality of concave portions formed along a direction orthogonal to the one direction are orthogonal to each other at a cross portion where they overlap each other. It is formed side by side in the state,
The insulating film and the functional film, in a state where the functional film is laminated with the sticking substrate side, by pushing the functional layer corresponding to the shape of the unevenness, the unevenness has the function Coated with layers,
When the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the insulating layer is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD thereof is B [MPa], A/B is 0.75 or more 1 A film set for sticking a functional layer, characterized in that the film set is 25 or less.
前記絶縁層は、融点が110℃以上の熱可塑性樹脂で構成される請求項1に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The film set for attaching a functional layer according to claim 1, wherein the insulating layer is made of a thermoplastic resin having a melting point of 110° C. or higher. 前記熱可塑性樹脂は、ポリオレフィン系樹脂を含む請求項2に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer laminating film set according to claim 2, wherein the thermoplastic resin contains a polyolefin resin. 前記絶縁層は、その平均厚さが5μm以上1000μm以下である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer sticking film set according to any one of claims 1 to 3, wherein the insulating layer has an average thickness of 5 µm or more and 1000 µm or less. 前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での前記貯蔵弾性率Aが、1MPa以上1000MPa以下である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer sticking film set according to any one of claims 1 to 4, wherein the insulating layer has a storage elastic modulus A at 130°C in MD of 1 MPa or more and 1000 MPa or less. 前記絶縁フィルムは、さらに、前記絶縁層の少なくとも前記機能性フィルム側の面に積層された離型層を有する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の機能層貼付用フィルムセット。 6. The functional layer laminating film set according to claim 1, wherein the insulating film further has a release layer laminated on at least the surface of the insulating layer on the functional film side. 前記離型層は、その平均厚さが5μm以上500μm以下である請求項6に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer sticking film set according to claim 6, wherein the release layer has an average thickness of 5 μm or more and 500 μm or less. 前記機能層は、前記貼付用基材を保護する保護層である請求項1ないし7のいずれか1項に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer laminating film set according to any one of claims 1 to 7, wherein the functional layer is a protective layer that protects the laminating substrate. 前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとは、一体的に形成されている請求項1ないし8のいずれか1項に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer sticking film set according to any one of claims 1 to 8, wherein the insulating film and the functional film are integrally formed. 前記絶縁フィルムは、前記貼付用基材の前記凹凸に対する前記機能層の被覆の後に、前記機能性フィルムから剥離されるものである請求項1ないし9のいずれか1項に記載の機能層貼付用フィルムセット。 The functional layer sticking according to any one of claims 1 to 9, wherein the insulating film is peeled from the functional film after coating the functional layer on the irregularities of the sticking base material. Film set. 絶縁層を有する絶縁フィルムであって、
機能性フィルムが備える機能層で貼付用基材の凹凸を被覆するために用いられ、前記絶縁フィルムと前記機能性フィルムとを、前記機能性フィルムを前記貼付用基材側にして積層した状態で、前記機能層を前記凹凸の形状に対応して押し込むことで、前記凹凸が前記機能層で被覆され、
前記貼付用基材の前記凹凸は、一方向に沿って形成された複数の凹部と、前記一方向に直交する方向に沿って形成された複数の凹部とがこれら同士が重なる十字部において直交した状態で並設して形成されており、
前記絶縁層は、そのMDにおける130℃での貯蔵弾性率をA[MPa]とし、そのTDにおける130℃での貯蔵弾性率をB[MPa]としたとき、A/Bが0.75以上1.25以下であることを特徴とする絶縁フィルム。
An insulating film having an insulating layer,
Used to cover the unevenness of the sticking substrate with a functional layer provided by the functional film, in a state where the insulating film and the functional film are laminated with the functional film being the sticking substrate side. By pressing the functional layer corresponding to the shape of the unevenness, the unevenness is covered with the functional layer,
The unevenness of the sticking substrate is such that a plurality of concave portions formed along one direction and a plurality of concave portions formed along a direction orthogonal to the one direction are orthogonal to each other at a cross portion where they overlap each other. It is formed side by side in the state,
When the storage elastic modulus at 130° C. in MD of the insulating layer is A [MPa] and the storage elastic modulus at 130° C. in TD thereof is B [MPa], A/B is 0.75 or more 1 An insulating film having a thickness of 25 or less.
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