JP6705292B2 - 低反射アルミニウム材及びその製造方法 - Google Patents
低反射アルミニウム材及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6705292B2 JP6705292B2 JP2016109945A JP2016109945A JP6705292B2 JP 6705292 B2 JP6705292 B2 JP 6705292B2 JP 2016109945 A JP2016109945 A JP 2016109945A JP 2016109945 A JP2016109945 A JP 2016109945A JP 6705292 B2 JP6705292 B2 JP 6705292B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- low
- treatment
- aluminum material
- reflection
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
また、本発明の他の目的は、可視光及び紫外線の波長領域(200〜700nmの波長領域)における低反射性能及び反射光の一様性に優れた低反射アルミニウム材の製造方法を提供することにある。
(1) アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材の表面に低反射層を有する低反射アルミニウム材であり、前記低反射層が凹凸平均ピッチ5〜200μm及び凹凸平均深さ10μm以上の凹凸表層部とこの凹凸表層部の表面に形成された陽極酸化皮膜とを有すると共に、この低反射層における波長200〜700nmの光線に対する平均反射率が1〜5%であることを特徴とする低反射アルミニウム材。
(2) 前記低反射層におけるL値が10〜25であることを特徴とする前記(1)に記載の低反射アルミニウム材。
(4) 前記レーザー照射処理の出力が8〜50Aの範囲内であることを特徴とする前記(3)に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
(5) 前記陽極酸化処理に引き続いて、この陽極酸化処理で形成された陽極酸化皮膜の半封孔処理を行うことを特徴とする前記(3)又は(4)に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
(6) 前記半封孔処理に先駆けて、陽極酸化処理で形成された陽極酸化皮膜に着色処理を行うことを特徴とする前記(3)〜(5)のいずれかに記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
(7) 前記着色処理が電解着色処理であることを特徴とする前記(6)に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
また、本発明の製造方法によれば、このような可視光及び紫外線の波長領域における反射率が低いだけでなく、反射光の一様性においても優れている低反射アルミニウム材を容易に製造することができる。
先ず、本発明の低反射アルミニウム材は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材の表面に、凹凸平均ピッチ5μm以上200μm以下、好ましくは30μm以上90μm以下、及び凹凸平均深さ10μm以上、好ましくは10μm以上100μm以下の凹凸表層部と、この凹凸表層部の表面に形成された陽極酸化皮膜とからなる低反射層を有するものであり、そして、この低反射層における波長200〜700nmの光線に対する平均反射率が1%以上5%以下である。
なお、以下の実験例において、低反射アルミニウム材の低反射層について、表面性状〔凹凸平均ピッチ、凹凸平均深さ、レーザー照射処理後の色調(L値)、摩耗による表面状態の評価、及び波長200〜700μmの平均反射率〕の測定と、性能評価〔耐変退色性、反射性、反射光の一様性、及び低反射層の総合評価〕とをそれぞれ以下に記載の方法で実施した。
各実験例で得られた低反射アルミニウム材の試料片から、糸鋸等で1cm角のサンプルを切り出し、更に2液性エポキシ樹脂に埋め込み、断面研磨を行うことにより断面を有する観察試料を作製し、この観察試料の断面を顕微鏡(株式会社ニコン製ECLIPSE MA200)を用いて観察し、凹凸表層部の凹凸ピッチ及び凹凸深さを測定し、求められた各測定値から凹凸平均ピッチ及び凹凸平均深さを求めた。
各実験例で得られた低反射アルミニウム材の試料片について、測色色差計(コニカミノルタ製CR400)を用いてC光源により、JIS Z8781-4:2013のLab表色系のL値(明度)の測定法に準じて測定した。
凹凸平均ピッチ及び凹凸平均深さの測定時に観察試料の断面を顕微鏡で観察した際に、レーザー未処理の最表面とレーザー照射処理を行った最表面との差が材料規格値〔光沢度計(可視光ポータブル)で1以下の数値〕を外れる程度の減耗があったか否かを確認し、減耗がない場合を「〇」と評価し、また、摩耗があった場合を「×」と評価した。
各実験例で得られた低反射アルミニウム材の試料片について、分光光度計(パーキンエルマージャパン製ラムダ750S)を用い、積分球が60mmφであって内面がスペクトラロンであり、反射試料入射角が8°の条件で測定した。各波長における反射率は押出方向や圧延方向に対して垂直方向、水平方向の2水準を測定し、その値の平均値を求めて平均反射率とした。
また、反射性の評価については、平均反射率が1〜5%のものを「〇」と評価し、また、平均反射率が6%以上のものを「×」評価した。
各実験例で得られた低反射アルミニウム材の試験片を温度98℃及び湿度100%の結露雰囲気(純水)中に240時間放置する湿潤試験を実施し、試験片の表面に色落ちが認められるか否か等の表面の色調の変化を目視で観察し、色調の変化が認められない場合を「〇」と評価し、また、色調の変化が認められる場合を「×」と評価した。
各実験例で得られた低反射アルミニウム材の試験片について、分光光度計(パーキンエルマージャパン製ラムダ750S)を利用し、「縦方向から見た光沢度(GP)」と「横方向から見た光沢度(GV)」とを測定して、これらGPとGVとの比(GP/GV)を求め、この比(GP/GV)の値が0.9≦GP/GV≦1.1の範囲内である場合を「○:反射光の一様性有り」と評価し、また、この比(GP/GV)の値が上記の範囲を外れた場合を「×:反射光の一様性無し」と評価した。
反射層の陽極酸化皮膜に半封孔処理又は完全封孔処理を施した表2及び表3の各実験例で得られた低反射アルミニウム材の試験片について、反射層の総合評価については、反射層の表面性状における減耗による表面状態の評価と、反射層の性能評価項目の耐変退色性、反射性、及び反射光の一様性とについて、上記全ての評価項目が○である場合を「○:総合的に優れている」と評価し、また、上記評価項目のいずれかにおいて×が存在する場合を「×:総合的には劣っている」と評価した。
原材料のアルミニウム材として厚さ10mmのアルミニウム板材(JIS A5052)を用い、この板材から試験用として用いる40mm×40mm×10mmの大きさのアルミ片を切り出した。
アルミニウム材から切り出されたアルミ片について、ウェスにアセトンを染み込ませて全体を拭って清浄化するアセトン処理を実施し、アルミ片の表面の脱脂処理を行うと共に、アルミ片の表面上の塵・埃等を除去した。
以上のようにして調製された前処理後の各アルミ片について、レーザー照射装置(株式会社アマダミヤチ製ML-7320DL)を用い、表1(NF系実験例)、表2(HF系実験例)、及び表3(CF系実験例)に示す照射条件で各アルミ片に対してレーザー照射処理を行い、各NF系実験例、HF系実験例、及びCF系実験例のアルミ片の表面に低反射層を形成し、表面に低反射層が形成されたレーザー照射処理後のアルミ片を調製した。
次に、以上のようにして調製されたレーザー照射処理後のアルミ片について、先ず、前処理として、100g/L-硫酸水溶液に室温(20℃)で3分間浸漬した後に純水で洗浄する脱脂処理を実施し、次いで、50g/L-水酸化ナトリウム水溶液に48℃で300秒間浸漬した後に純水で洗浄し、更に、100g/L-硝酸水溶液に常温(20℃)で2分間浸漬した後に純水で洗浄するエッチング処理を実施した。
上記の陽極酸化処理前の前処理を済ませたレーザー照射処理後のアルミ片について、以下に示す電解液を用い、また、以下に示す処理条件で陽極酸化処理を実施し、アルミ片の表面に陽極酸化皮膜を形成した。
電解液としては150g/L濃度の硫酸水溶液を用い、また、電流密度120A/m2、電解電圧15V、及び電解温度20℃の条件で0.5時間の陽極酸化処理を行い、レーザー照射処理後のアルミ片の低反射層の凹凸表層部の表面に陽極酸化皮膜を有する陽極酸化処理後のアルミ片を調製した。
上記の陽極酸化処理後のアルミ片に対して、ユニコール法による電解着色処理を施し、アルミ片を黒色に着色した。
この電解着色処理においては、先ず、予備電解処理として、陽極酸化処理後のアルミ片を陽極とし、対極としてSUS304極を使用し、硫酸ニッケル6水和物:140g/l、ホウ酸:40g/l、及び酒石酸:4g/lの組成を有する電解浴(pH5、温度30℃)中において、陽極電流密度25A/m2及び通電時間5秒間の条件で直流電流を流した。
次に、上記の予備電解処理後のアルミ片を陰極として、対極(SUS304極)との間にパルス電圧を重畳した直流電流を流し、周波数:5Hz、ta/tc比:1/9、波形:方形波、陰極電流密度:25A/m2、及び電解時間:360秒の条件で電解着色処理を行った。
陽極酸化処理及び電解着色処理後のアルミ片について、下記の方法で陽極酸化皮膜のポアが未封孔と完全封孔とを含まない中間状態になるまで封孔を実施する半封孔処理(HF処理)を行った。
すなわち、封孔液としてリン酸含有水溶液(ミックラボ社製商品名:MIC-SEAL)を用い、この封孔液を2質量%の割合で含有する98℃の熱水を調製し、この熱水中にアルミ片を30分間浸漬させる方法で半封孔処理(HF処理)を実施し、HF系実験例のアルミ試験片(低反射アルミニウム材)とした。
陽極酸化処理及び電解着色処理後のアルミ片について、下記の方法で陽極酸化皮膜のポアを完全に封孔させる完全封孔処理(CF処理)を行った。
すなわち、封孔液としてリン酸含有水溶液(花見化学社製商品名:シーリングX)を用い、この封孔液を40mL/Lの割合で含有する85℃の熱水を調製し、この熱水中にアルミ片を20分間浸漬させる方法で完全封孔処理(HF処理)を実施し、CF系実験例のアルミ試験片(低反射アルミニウム材)とした。
NF系実験例の結果を表1に、HF系実験例の結果を表2に、及びCF系実験例の結果を表3にそれぞれ示す
前記レーザー照射処理を行わなかったこと以外の点については、上記の実施例及び比較例に係る実験例の場合と同様にして陽極酸化処理及び電解着色処理後のアルミ片を調製し、このアルミ片について、陽極酸化皮膜の封孔処理不実施(NF)のNF系実験例用と、陽極酸化皮膜の半封孔処理(HF処理)を実施するHF系実験例用と、陽極酸化皮膜の完全封孔処理(CF処理)を実施するCF系実験例用とに分け、NF系実験例用のアルミ片については陽極酸化処理及び電解着色処理後のアルミ片をそのままアルミ試験片(低反射アルミニウム材)として用い、また、HF系実験例用のアルミ片については上記と同様の半封孔処理を行ってアルミ試験片(低反射アルミニウム材)として用い、更に、CF系実験例用のアルミ片については上記と同様の完全封孔処理を行ってアルミ試験片(低反射アルミニウム材)として用いた。
結果を表4に示す
Claims (7)
- アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材の表面に低反射層を有する低反射アルミニウム材であり、
前記低反射層が凹凸平均ピッチ5〜200μm及び凹凸平均深さ10μm以上の凹凸表層部とこの凹凸表層部の表面に形成された陽極酸化皮膜とを有すると共に、
この低反射層における波長200〜700nmの光線に対する平均反射率が1〜5%であり、また、分光光度計を用いて測定された縦方向光沢度(GP)と横方向光沢度(GV)との比(GP/GV)が0.9≦GP/GV≦1.1の範囲内であることを特徴とする低反射アルミニウム材。 - 前記低反射層におけるL値が10〜25であることを特徴とする請求項1に記載の低反射アルミニウム材。
- アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材の表面に低反射層を有する請求項1又は2に記載の低反射アルミニウム材を製造するための方法であり、
前記アルミニウム材の表面に出力8〜50A、周波数5〜400Hz、及び照射プローブ速度20〜800mm/sの条件でレーザー照射処理を行って凹凸表層部を形成し、また、形成されたアルミニウム材の凹凸表層部の表面に陽極酸化処理を行って陽極酸化皮膜を形成し、前記凹凸表層部と陽極酸化皮膜とを備えた低反射層を形成することを特徴とする低反射アルミニウム材の製造方法。 - 前記陽極酸化処理に引き続いて、この陽極酸化処理で形成された陽極酸化皮膜の半封孔処理を行い、耐変退色性に優れた低反射層を形成することを特徴とする請求項3に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
- 前記レーザー照射処理を出力8〜50A、周波数5〜100Hz、及び照射プローブ速度20〜300mm/sの条件で実施し、また、前記陽極酸化処理に引き続いて、この陽極酸化処理で形成された陽極酸化皮膜の完全封孔処理を行い、耐変退色性に優れた低反射層を形成することを特徴とする請求項3に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
- 前記半封孔処理又は完全封孔処理に先駆けて、陽極酸化処理で形成された陽極酸化皮膜に着色処理を行うことを特徴とする請求項4又は5に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
- 前記着色処理が電解着色処理であることを特徴とする請求項6に記載の低反射アルミニウム材の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015231500 | 2015-11-27 | ||
JP2015231500 | 2015-11-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017106095A JP2017106095A (ja) | 2017-06-15 |
JP6705292B2 true JP6705292B2 (ja) | 2020-06-03 |
Family
ID=59059141
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016109945A Active JP6705292B2 (ja) | 2015-11-27 | 2016-06-01 | 低反射アルミニウム材及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6705292B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7248399B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2023-03-29 | 株式会社Lixil | アルミニウム形材、建具及びアルミニウム形材の製造方法 |
EP4071522A4 (en) * | 2019-12-02 | 2023-05-31 | Nippon Light Metal Co., Ltd. | OPTICAL ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
-
2016
- 2016-06-01 JP JP2016109945A patent/JP6705292B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017106095A (ja) | 2017-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105671615B (zh) | 一种实现电子产品3d效果的表面处理工艺 | |
TW201512460A (zh) | 鋁及鋁合金的表面處理方法及鋁製品 | |
WO2014099162A1 (en) | Cosmetic and protective metal surface treatments | |
JP6705292B2 (ja) | 低反射アルミニウム材及びその製造方法 | |
CA2162423C (en) | Aluminium surfaces for technical lighting purposes | |
CN105543933A (zh) | 一种3d效果表面处理工艺 | |
US6866945B2 (en) | Magnesium containing aluminum alloys and anodizing process | |
CN112458512A (zh) | 一种镁合金微弧氧化黑色超疏水膜层的制备方法 | |
EP3088564B1 (en) | Color-treated base material and base material color treatment method therefor | |
KR102403548B1 (ko) | 펠리클용 지지 프레임 및 펠리클, 그리고 그 제조 방법 | |
US7018521B2 (en) | Method of producing bright anodized finishes for high magnesium, aluminum alloys | |
JP6812714B2 (ja) | ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法 | |
CN107400915B (zh) | 兼具多孔亚表层和耐磨表层的铝合金阳极氧化膜及其制备方法 | |
KR20160140867A (ko) | 용기용 강판 | |
US3704210A (en) | Process for coloring aluminum objects | |
JP3105322B2 (ja) | 光輝性アルミホイールの無色クロメート皮膜形成方法 | |
US20160376725A1 (en) | Method for performing electropolishing treatment on aluminum material | |
US5288372A (en) | Altering a metal body surface | |
CN216585268U (zh) | 阳极化铝合金轮辋 | |
JPS5827997A (ja) | 発色ステンレス鋼用前処理法 | |
JP2000355795A (ja) | アルミニウムおよびアルミニウム合金の表面処理方法 | |
WO2023079671A1 (ja) | 導電性に優れたアルミニウム金属材料およびその製造方法 | |
US3174916A (en) | Treatment of aluminum oxide coatings | |
JPH11256394A (ja) | 陽極処理したアルミニウムまたはアルミニウム合金の着色物品の製造方法およびそれにより製造された着色物品 | |
US3276980A (en) | Method of anodizing aluminum |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190521 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190718 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200414 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200427 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6705292 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |