JP6683204B2 - Sealing resin composition - Google Patents

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Description

本発明は封止用樹脂組成物に関し、特に有機EL素子の封止等に好適に使用できる封止用樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a sealing resin composition, and particularly to a sealing resin composition that can be suitably used for sealing an organic EL element and the like.

有機EL(Electroluminescence)素子は発光材料に有機物質を使用した発光素子であり、低電圧で高輝度の発光を得ることができる近年脚光を浴びている素材である。しかしながら、有機EL素子は水分に極めて弱く、有機材料自体が水分によって変質して、輝度が低下したり、発光しなくなったり、電極と有機EL層との界面が水分の影響で剥離したり、金属が酸化して高抵抗化してしまったりする問題があった。   An organic EL (Electroluminescence) element is a light-emitting element that uses an organic substance as a light-emitting material, and is a material that has recently been in the spotlight because it can emit light with high brightness at low voltage. However, the organic EL element is extremely vulnerable to moisture, and the organic material itself deteriorates due to moisture, resulting in a decrease in brightness, no emission of light, peeling of the interface between the electrode and the organic EL layer due to moisture, and metal. However, there was a problem that it was oxidized and the resistance was increased.

熱硬化樹脂組成物を全面封止材料として使用する場合、硬化前の材料粘度が低いことから積層作業が容易であることや、熱硬化後の硬化物の耐透湿性が高いことが利点として挙げられる。しかし、その一方で、熱硬化時の加熱温度によって有機EL素子が劣化するという問題がある。また、従来の缶封止構造では脱水を目的として封止空間内に組み込まれるゲッター剤層によって光が遮断されるため、封止面側からの光取出しの効率が悪い欠点があるが、樹脂組成物で全面封止する構造では封止面側からの発光が効率よく取り出せる利点が挙げられる。   When the thermosetting resin composition is used as the entire surface encapsulating material, it is easy to laminate because the material viscosity before curing is low, and the moisture resistance of the cured product after thermosetting is high. To be However, on the other hand, there is a problem that the organic EL element deteriorates due to the heating temperature during thermosetting. Further, in the conventional can sealing structure, since the light is blocked by the getter agent layer incorporated in the sealing space for the purpose of dehydration, there is a drawback that the efficiency of extracting light from the sealing surface side is poor. The structure in which the entire surface is sealed with an object has an advantage that light emission from the sealing surface side can be efficiently extracted.

このような有機EL素子等の電子部品の熱劣化の問題を回避するのに適した封止材料としては、ポリイソブチレン等のポリオレフィンやポリオレフィン系共重合体と、粘着付与剤を含有する樹脂組成物などが知られている。また、耐透湿性を向上させるため、封止用樹脂組成物に、吸湿性金属酸化物を配合することが知られている(例えば、特許文献1および2)。   As a sealing material suitable for avoiding the problem of heat deterioration of electronic parts such as organic EL devices, a resin composition containing a polyolefin such as polyisobutylene or a polyolefin-based copolymer and a tackifier Are known. Further, it is known that a hygroscopic metal oxide is blended with a sealing resin composition in order to improve moisture permeability (for example, Patent Documents 1 and 2).

国際公開2011/62167号International publication 2011/62167 国際公開2013/108731号International Publication 2013/108731

耐透湿性を高めるために、ポリオレフィン系樹脂を含む封止用樹脂組成物に吸湿性金属酸化物を添加すると、透明性が低下するという問題が生じる。従って本発明の目的は、熱劣化の問題を回避し得るポリオレフィン系樹脂を使用した上で、良好な耐透湿性および透明性を併せ持つ封止用樹脂組成物を提供することにある。   When a hygroscopic metal oxide is added to a resin composition for encapsulation containing a polyolefin-based resin in order to improve the moisture resistance, there is a problem that transparency is lowered. Therefore, an object of the present invention is to provide a resin composition for encapsulation which has good moisture permeation resistance and transparency while using a polyolefin resin which can avoid the problem of heat deterioration.

本発明者らが鋭意検討した結果、ポリオレフィン系樹脂に特定の金属水酸化物を添加することにより、上記目的を達成し得ることを見出した。この知見に基づく本発明は以下の通りである。   As a result of intensive studies by the present inventors, they have found that the above object can be achieved by adding a specific metal hydroxide to a polyolefin resin. The present invention based on this finding is as follows.

[1] (A)ポリオレフィン系樹脂、並びに(B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物を含む封止用樹脂組成物。   [1] A sealing resin composition containing (A) a polyolefin resin and (B) a metal hydroxide selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite.

[2] (A)ポリオレフィン系樹脂が、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂および/またはエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含む前記[1]に記載の樹脂組成物。
[3] (A)ポリオレフィン系樹脂中の酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂の量が、0〜70質量%である前記[2]に記載の樹脂組成物。
[4] (A)ポリオレフィン系樹脂中のエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂の量は、0〜70質量%である前記[2]または[3]に記載の樹脂組成物。
[2] The resin composition according to the above [1], wherein the (A) polyolefin-based resin contains a polyolefin-based resin having an acid anhydride group and / or a polyolefin-based resin having an epoxy group.
[3] The resin composition according to the above [2], wherein the amount of the polyolefin resin having an acid anhydride group in the (A) polyolefin resin is 0 to 70% by mass.
[4] The resin composition according to the above [2] or [3], wherein the amount of the polyolefin resin having an epoxy group in the (A) polyolefin resin is 0 to 70% by mass.

[5] (A)ポリオレフィン系樹脂が、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含む前記[1]に記載の樹脂組成物。
[6] (A)ポリオレフィン系樹脂中の酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂の量が、10〜50質量%である前記[5]に記載の樹脂組成物。
[7] (A)ポリオレフィン系樹脂中のエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂の量は、10〜50質量%である前記[5]または[6]に記載の樹脂組成物。
[5] The resin composition according to the above [1], in which the (A) polyolefin-based resin contains a polyolefin-based resin having an acid anhydride group and a polyolefin-based resin having an epoxy group.
[6] The resin composition according to [5], wherein the amount of the polyolefin resin having an acid anhydride group in the polyolefin resin (A) is 10 to 50% by mass.
[7] The resin composition according to the above [5] or [6], wherein the amount of the polyolefin resin having an epoxy group in the polyolefin resin (A) is 10 to 50% by mass.

[8] エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂のエポキシ基と、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂の酸無水物基とのモル比(エポキシ基:酸無水物基)が、100:10〜100:200である前記[5]〜[7]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[9] エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂のエポキシ基と、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂の酸無水物基とのモル比(エポキシ基:酸無水物基)が、100:50〜100:150である前記[5]〜[7]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[10] エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂のエポキシ基と、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂の酸無水物基とのモル比(エポキシ基:酸無水物基)が、100:90〜100:110である前記[5]〜[7]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[8] The molar ratio (epoxy group: acid anhydride group) between the epoxy group of the polyolefin resin having an epoxy group and the acid anhydride group of the polyolefin resin having an acid anhydride group is 100: 10 to 100: The resin composition according to any one of [5] to [7], which is 200.
[9] The molar ratio of the epoxy group of the polyolefin resin having an epoxy group to the acid anhydride group of the polyolefin resin having an acid anhydride group (epoxy group: acid anhydride group) is 100: 50 to 100: The resin composition according to any one of the above [5] to [7], which is 150.
[10] The molar ratio (epoxy group: acid anhydride group) of the epoxy group of the polyolefin resin having an epoxy group and the acid anhydride group of the polyolefin resin having an acid anhydride group is 100: 90 to 100: 110. The resin composition according to any one of [5] to [7], which is 110.

[11] 酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂中の酸無水物基の濃度が、0.05〜10mmol/gである前記[2]〜[10]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[12] 酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂中の酸無水物基の濃度が、0.1〜5mmol/gである前記[2]〜[10]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[11] The resin composition according to any one of [2] to [10], wherein the acid anhydride group-containing polyolefin resin has a concentration of acid anhydride groups of 0.05 to 10 mmol / g. .
[12] The resin composition according to any one of [2] to [10], wherein the concentration of the acid anhydride group in the polyolefin resin having an acid anhydride group is 0.1 to 5 mmol / g. .

[13] エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂中のエポキシ基の濃度が、0.05〜10mmol/gである前記[2]〜[12]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[14] エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂中のエポキシ基の濃度が、0.1〜5mmol/gである前記[2]〜[12]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[13] The resin composition according to any one of [2] to [12], wherein the concentration of the epoxy group in the polyolefin resin having an epoxy group is 0.05 to 10 mmol / g.
[14] The resin composition according to any one of [2] to [12], wherein the concentration of the epoxy group in the polyolefin resin having an epoxy group is 0.1 to 5 mmol / g.

[15] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、1,000,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[16] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、750,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[17] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、500,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[18] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、400,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[19] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、300,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[20] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、200,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[21] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、150,000以下である前記[1]〜[14]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[15] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the number average molecular weight of the (A) polyolefin resin is 1,000,000 or less.
[16] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the polyolefin resin (A) has a number average molecular weight of 750,000 or less.
[17] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the polyolefin resin (A) has a number average molecular weight of 500,000 or less.
[18] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the polyolefin resin (A) has a number average molecular weight of 400,000 or less.
[19] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the (A) polyolefin resin has a number average molecular weight of 300,000 or less.
[20] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the polyolefin resin (A) has a number average molecular weight of 200,000 or less.
[21] The resin composition according to any one of the above [1] to [14], wherein the polyolefin resin (A) has a number average molecular weight of 150,000 or less.

[22] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、1,000以上である前記[1]〜[21]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[23] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、3,000以上である前記[1]〜[21]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[24] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、5,000以上である前記[1]〜[21]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[25] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、10,000以上である前記[1]〜[21]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[26] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、30,000以上である前記[1]〜[21]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[27] (A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量が、50,000以上である前記[1]〜[21]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[22] The resin composition according to any one of the above [1] to [21], wherein the (A) polyolefin resin has a number average molecular weight of 1,000 or more.
[23] The resin composition according to any one of the above [1] to [21], wherein the (A) polyolefin resin has a number average molecular weight of 3,000 or more.
[24] The resin composition according to any one of the above [1] to [21], wherein the (A) polyolefin resin has a number average molecular weight of 5,000 or more.
[25] The resin composition according to any one of the above [1] to [21], wherein the (A) polyolefin resin has a number average molecular weight of 10,000 or more.
[26] The resin composition according to any one of the above [1] to [21], wherein the (A) polyolefin resin has a number average molecular weight of 30,000 or more.
[27] The resin composition according to any one of the above [1] to [21], wherein the polyolefin resin (A) has a number average molecular weight of 50,000 or more.

[28] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、80質量%以下である前記[1]〜[27]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[29] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、75質量%以下である前記[1]〜[27]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[30] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、70質量%以下である前記[1]〜[27]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[31] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、60質量%以下である前記[1]〜[27]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[32] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、55質量%以下である前記[1]〜[27]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[33] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、50質量%以下である前記[1]〜[27]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[28] The content of the (A) polyolefin-based resin is 80% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [27]. Resin composition.
[29] The content of the (A) polyolefin-based resin is 75% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [27]. Resin composition.
[30] The content of the (A) polyolefin-based resin is 70% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [27]. Resin composition.
[31] The content of the (A) polyolefin-based resin is 60% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [27]. Resin composition.
[32] The content of the (A) polyolefin-based resin is 55% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [27]. Resin composition.
[33] The content of the (A) polyolefin-based resin is 50% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [27]. Resin composition.

[34] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、1質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[35] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、3質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[36] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[37] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、7質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[38] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、10質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[39] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、35質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[40] (A)ポリオレフィン系樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、40質量%以上である前記[1]〜[33]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[34] The content of the polyolefin resin (A) is 1% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.
[35] The content of the (A) polyolefin-based resin is 3% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.
[36] The content of the (A) polyolefin-based resin is 5% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.
[37] The content of the (A) polyolefin-based resin is 7% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.
[38] The content of the (A) polyolefin-based resin is 10% by mass or more per 100% by mass of the total non-volatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.
[39] The content of the polyolefin resin (A) is 35% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.
[40] The content of the (A) polyolefin-based resin is 40% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [33]. Resin composition.

[41] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物が、半焼成ハイドロタルサイトからなる前記[1]〜[40]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。   [41] The metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is the calcined hydrotalcite as described in any one of [1] to [40] above. Resin composition.

[42] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物のBET比表面積が、1〜200m/gである前記[1]〜[41]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[43] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物のBET比表面積が、5〜150m/gである前記[1]〜[41]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[42] Any one of the above-mentioned [1] to [41], wherein the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite has a BET specific surface area of 1 to 200 m 2 / g. The resin composition according to one.
[43] (B) Any of the above-mentioned [1] to [41], wherein the metal hydroxide selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite has a BET specific surface area of 5 to 150 m 2 / g. The resin composition according to one.

[44] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の平均粒子径が、1〜1000nmである前記[1]〜[43]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[45] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の平均粒子径が、10〜500nmである前記[1]〜[43]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[44] (B) In any one of the above [1] to [43], wherein the metal hydroxide selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite has an average particle diameter of 1 to 1000 nm. The resin composition described.
[45] In any one of the above [1] to [43], the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite has an average particle diameter of 10 to 500 nm. The resin composition described.

[46] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、60質量%以下である前記[1]〜[45]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[47] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、55質量%以下である前記[1]〜[45]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[48] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、50質量%以下である前記[1]〜[45]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[49] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、45質量%以下である前記[1]〜[45]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[46] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 60 mass% or less per 100 mass% of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [45].
[47] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 55 mass% or less per 100 mass% of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [45].
[48] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 50% by mass or less per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [45].
[49] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 45% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [45].

[50] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、10質量%以上である前記[1]〜[49]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[51] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、20質量%以上である前記[1]〜[49]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[52] (B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、30質量%以上である前記[1]〜[49]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[50] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 10% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [49].
[51] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 20% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [49].
[52] The content of the metal hydroxide selected from the group consisting of (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite is 30% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. The resin composition according to any one of [1] to [49].

[53] さらに(C)粘着付与樹脂を含む前記[1]〜[52]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。   [53] The resin composition according to any one of [1] to [52], further including (C) a tackifying resin.

[54] (C)粘着付与樹脂の軟化点が、50〜200℃である前記[53]に記載の樹脂組成物。
[55] (C)粘着付与樹脂の軟化点が、90〜180℃である前記[53]に記載の樹脂組成物。
[56] (C)粘着付与樹脂の軟化点が、100〜150℃である前記[53]に記載の樹脂組成物。
[54] The resin composition according to the above [53], wherein the tackifying resin (C) has a softening point of 50 to 200 ° C.
[55] The resin composition according to the above [53], wherein the tackifying resin (C) has a softening point of 90 to 180 ° C.
[56] The resin composition according to the above [53], wherein the tackifying resin (C) has a softening point of 100 to 150 ° C.

[57] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、80質量%以下である前記[53]〜[56]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[58] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、60質量%以下である前記[53]〜[56]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[59] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、50質量%以下である前記[53]〜[56]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[60] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、40質量%以下である前記[53]〜[56]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[57] The content of the tackifying resin (C) according to any one of the above [53] to [56], which is 80% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Resin composition.
[58] The content of the tackifying resin (C) according to any one of the above [53] to [56], which is 60% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Resin composition.
[59] The content of the tackifying resin (C) according to any one of the above [53] to [56], which is 50% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Resin composition.
[60] The content of the tackifying resin (C) is 40% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [53] to [56]. Resin composition.

[61] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以上である前記[53]〜[60]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[62] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、10質量%以上である前記[53]〜[60]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[63] (C)粘着付与樹脂の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、15質量%以上である前記[53]〜[60]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[61] The content of the tackifying resin (C) according to any one of the above [53] to [60], which is 5% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Resin composition.
[62] The content of the tackifying resin (C) according to any one of the above [53] to [60], which is 10% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Resin composition.
[63] The content of the tackifying resin (C) according to any one of the above [53] to [60], which is 15% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Resin composition.

[64] さらに(D)硬化剤を含む前記[1]〜[63]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。   [64] The resin composition according to any one of [1] to [63], further including (D) a curing agent.

[65] (D)硬化剤の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以下である前記[64]に記載の樹脂組成物。
[66] (D)硬化剤の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、1質量%以下である前記[64]に記載の樹脂組成物。
[65] The resin composition according to the above [64], wherein the content of the (D) curing agent is 5% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition.
[66] The resin composition according to the above [64], wherein the content of the (D) curing agent is 1% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition.

[67] (D)硬化剤の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、0.01質量%以上である前記[64]〜[66]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[68] (D)硬化剤の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、0.05質量%以上である前記[64]〜[66]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[67] The content of the curing agent (D) is 0.01% by mass or more based on 100% by mass of the total non-volatile components in the resin composition, according to any one of the above [64] to [66]. Resin composition.
[68] The content of the (D) curing agent is 0.05% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [64] to [66]. Resin composition.

[69] 吸湿性金属酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、1質量%以下である前記[1]〜[68]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[70] 吸湿性金属酸化物の含有量が、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、0.5質量%以下である前記[1]〜[68]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[69] The resin according to any one of the above [1] to [68], wherein the content of the hygroscopic metal oxide is 1% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Composition.
[70] The content of the hygroscopic metal oxide is 0.5% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, according to any one of the above [1] to [68]. Resin composition.

[71] 感圧性接着剤である前記[1]〜[70]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[72] 有機EL素子の封止用である前記[1]〜[71]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[71] The resin composition according to any one of [1] to [70], which is a pressure-sensitive adhesive.
[72] The resin composition according to any one of [1] to [71], which is used for sealing an organic EL element.

[73] 厚さが20μmである樹脂組成物層の波長450nmでの全光線透過率(平行線透過率)が、90%以上である前記[1]〜[72]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[74] 厚さが20μmである樹脂組成物層の波長450nmでの全光線透過率(平行線透過率)が、95%以上である前記[1]〜[72]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[73] The total light transmittance (parallel light transmittance) at a wavelength of 450 nm of the resin composition layer having a thickness of 20 μm is 90% or more, and the resin composition layer is described in any one of the above [1] to [72]. Resin composition.
[74] The total light transmittance (parallel transmittance) at a wavelength of 450 nm of the resin composition layer having a thickness of 20 μm is 95% or more, and the resin composition layer according to any one of the above [1] to [72]. Resin composition.

[75] 前記[1]〜[74]のいずれか一つに記載の樹脂組成物からなる樹脂組成物層が支持体の片面または両面に形成されている封止用シート。
[76] (A)ポリオレフィン系樹脂が、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含み、樹脂組成物層が、酸無水物基とエポキシ基が反応した架橋構造を有する、前記[75]に記載の封止用シート。
[77] 有機EL素子の封止用である前記[75]または[76]に記載の封止用シート。
[75] A sealing sheet in which a resin composition layer comprising the resin composition according to any one of [1] to [74] is formed on one side or both sides of a support.
[76] (A) The polyolefin-based resin contains a polyolefin-based resin having an acid anhydride group and a polyolefin-based resin having an epoxy group, and the resin composition layer has a crosslinked structure in which an acid anhydride group and an epoxy group are reacted. The encapsulating sheet according to the above [75].
[77] The encapsulating sheet according to the above [75] or [76] for encapsulating an organic EL element.

[78] 前記[1]〜[74]のいずれか一つに記載の樹脂組成物で封止された有機EL素子を有する有機ELデバイス。
[79] 前記[75]〜[77]のいずれか一つに記載の封止用シートで封止された有機EL素子を有する有機ELデバイス。
[78] An organic EL device having an organic EL element sealed with the resin composition according to any one of [1] to [74].
[79] An organic EL device having an organic EL element sealed with the sealing sheet according to any one of [75] to [77].

本発明によれば、熱劣化の問題を回避し得るポリオレフィン系樹脂を使用し、良好な耐透湿性と透明性の双方の特性を併せ持つ封止用組成物の提供が可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the sealing composition which uses the polyolefin resin which can avoid the problem of heat deterioration, and has the characteristics of both favorable moisture-proof property and transparency.

本発明の封止用樹脂組成物は、(A)ポリオレフィン系樹脂(以下「(A)成分」と略称することがある)、並びに(B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物(以下「(B)成分」と略称することがある)を含むことを特徴とする。   The encapsulating resin composition of the present invention is selected from the group consisting of (A) a polyolefin resin (hereinafter sometimes abbreviated as “(A) component”), and (B) hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite. It is characterized by containing a selected metal hydroxide (hereinafter sometimes abbreviated as “(B) component”).

本発明の封止用樹脂組成物から、良好な耐透湿性および透明性を有する封止層(樹脂組成物層)を形成することができる。この透明性は、樹脂組成物層の全光線透過率(平行線透過率)によって判断することができる。厚さが20μmである樹脂組成物層の波長450nmでの全光線透過率(平行線透過率)が、90%以上であるのが好ましく、95%以上であるのがより好ましい。この全光線透過率は、後述する実施例に記載するようにして、ガラスをリファレンスとすることによって算出される。   From the encapsulating resin composition of the present invention, an encapsulating layer (resin composition layer) having good moisture resistance and transparency can be formed. This transparency can be judged by the total light transmittance (parallel line transmittance) of the resin composition layer. The total light transmittance (parallel light transmittance) at a wavelength of 450 nm of the resin composition layer having a thickness of 20 μm is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. This total light transmittance is calculated by using glass as a reference, as described in Examples described later.

<(A)ポリオレフィン系樹脂>
本発明で使用するポリオレフィン系樹脂としては、オレフィンモノマー由来の骨格を有するものであれば特に限定されない。例えば、特許文献1および2に記載されているポリオレフィン系樹脂が、公知のものとして挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリイソブチレン系樹脂が好ましい。これらポリオレフィン系樹脂は、単独重合体でもよく、ランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体でもよい。共重合体としては、2種以上のオレフィンの共重合体、およびオレフィンと非共役ジエン、スチレン等のオレフィン以外のモノマーとの共重合体が挙げられる。好ましい共重合体の例として、エチレン−非共役ジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、プロピレン−ブテン共重合体、プロピレン−ブテン−非共役ジエン共重合体、スチレン−イソブチレン共重合体、スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体等が挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、特許文献1に記載のイソブチレン変性樹脂、特許文献2に記載のスチレン−イソブチレン変性樹脂等が好ましく用いられる。
<(A) Polyolefin resin>
The polyolefin resin used in the present invention is not particularly limited as long as it has a skeleton derived from an olefin monomer. For example, the polyolefin-based resins described in Patent Documents 1 and 2 are known. The polyolefin resin is preferably a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polybutene resin, or a polyisobutylene resin. These polyolefin resins may be homopolymers or copolymers such as random copolymers and block copolymers. Examples of the copolymer include copolymers of two or more kinds of olefins, and copolymers of olefins with monomers other than olefins such as non-conjugated dienes and styrene. Examples of preferred copolymers include ethylene-non-conjugated diene copolymers, ethylene-propylene copolymers, ethylene-propylene-non-conjugated diene copolymers, ethylene-butene copolymers, propylene-butene copolymers, propylene. -Butene-non-conjugated diene copolymer, styrene-isobutylene copolymer, styrene-isobutylene-styrene copolymer and the like. As the polyolefin-based resin, for example, the isobutylene-modified resin described in Patent Document 1 and the styrene-isobutylene-modified resin described in Patent Document 2 are preferably used.

(A)ポリオレフィン系樹脂は、接着性、接着湿熱耐性等の優れた物性を付与する観点から、酸無水物基(即ち、カルボニルオキシカルボニル基(−CO−O−CO−))を有するポリオレフィン系樹脂および/またはエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含むことが好ましい。酸無水物基としては、例えば、無水コハク酸に由来する基、無水マレイン酸に由来する基、無水グルタル酸に由来する基等が挙げられる。酸無水物基は1種または2種以上を有することができる。酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂は、例えば、酸無水物基を有する不飽和化合物で、ポリオレフィン系樹脂をラジカル反応条件下にてグラフト変性することで得られる。また、酸無水物基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合するようにしてもよい。同様に、エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂は、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有する不飽和化合物で、ポリオレフィン系樹脂をラジカル反応条件下にてグラフト変性することで得られる。また、エポキシ基を有する不飽和化合物を、オレフィン等とともにラジカル共重合するようにしてもよい。(A)成分は1種または2種以上を使用でき、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を併用してもよい。   The polyolefin resin (A) is a polyolefin resin having an acid anhydride group (that is, a carbonyloxycarbonyl group (—CO—O—CO—)) from the viewpoint of imparting excellent physical properties such as adhesiveness and adhesion wet heat resistance. It is preferable to include a resin and / or a polyolefin resin having an epoxy group. Examples of the acid anhydride group include a group derived from succinic anhydride, a group derived from maleic anhydride, a group derived from glutaric anhydride, and the like. The acid anhydride group can have 1 type (s) or 2 or more types. The polyolefin resin having an acid anhydride group is obtained, for example, by graft-modifying the polyolefin resin with an unsaturated compound having an acid anhydride group under radical reaction conditions. Further, the unsaturated compound having an acid anhydride group may be radically copolymerized with an olefin or the like. Similarly, the polyolefin resin having an epoxy group is, for example, an unsaturated compound having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, and allyl glycidyl ether. It is obtained by graft modification with. Further, an unsaturated compound having an epoxy group may be radically copolymerized with an olefin or the like. As the component (A), one type or two or more types can be used, and a polyolefin resin having an acid anhydride group and a polyolefin resin having an epoxy group may be used in combination.

酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂中の酸無水物基の濃度は、0.05〜10mmol/gが好ましく、0.1〜5mmol/gがより好ましい。酸無水物基の濃度はJIS K 2501の記載に従い、樹脂1g中に存在する酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのmg数として定義される酸価の値より得られる。また、(A)成分中の酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂の量は、好ましくは0〜70質量%、より好ましくは10〜50質量%である。   The concentration of the acid anhydride group in the polyolefin resin having an acid anhydride group is preferably 0.05 to 10 mmol / g, more preferably 0.1 to 5 mmol / g. The concentration of the acid anhydride group is obtained from the value of the acid value defined as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize the acid present in 1 g of the resin, according to the description of JIS K 2501. Moreover, the amount of the polyolefin resin having an acid anhydride group in the component (A) is preferably 0 to 70% by mass, and more preferably 10 to 50% by mass.

また、エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂中のエポキシ基の濃度は、0.05〜10mmol/gが好ましく、0.1〜5mmol/gがより好ましい。エポキシ基濃度はJIS K 7236−1995に基づいて得られるエポキシ当量から求められる。また、(A)成分中のエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂の量は、好ましくは0〜70質量%、より好ましくは10〜50質量%である。   Further, the concentration of the epoxy group in the polyolefin resin having an epoxy group is preferably 0.05 to 10 mmol / g, more preferably 0.1 to 5 mmol / g. The epoxy group concentration is determined from the epoxy equivalent obtained according to JIS K 7236-1995. The amount of the epoxy group-containing polyolefin resin in the component (A) is preferably 0 to 70% by mass, more preferably 10 to 50% by mass.

(A)ポリオレフィン系樹脂は、耐透湿性等の優れた物性を付与する観点から、特に酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂の両方を含むことが好ましい。このようなポリオレフィン系樹脂は、酸無水物基とエポキシ基を加熱により反応させ架橋構造を形成し、耐透湿性等に優れた封止層を形成することができる。架橋構造形成は封止後に行うこともできるが、例えば有機EL素子等、封止対象が熱に弱いものである場合、封止フィルムを用いて封止し、該封止フィルムを製造する際に架橋構造を形成しておくのが望ましい。酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂とエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂の割合は適切な架橋構造が形成できれば特に限定されないが、エポキシ基と酸無水物基とのモル比(エポキシ基:酸無水物基)は、好ましくは100:10〜100:200、より好ましくは100:50〜100:150、特に好ましくは100:90〜100:110である。   The polyolefin resin (A) preferably contains both a polyolefin resin having an acid anhydride group and a polyolefin resin having an epoxy group, from the viewpoint of imparting excellent physical properties such as moisture resistance. Such a polyolefin resin can form a cross-linked structure by reacting an acid anhydride group with an epoxy group by heating to form a sealing layer having excellent moisture resistance and the like. The crosslinked structure can be formed after sealing, but when the sealing target is one that is weak to heat, such as an organic EL element, when sealing is performed using a sealing film, the sealing film is produced. It is desirable to form a crosslinked structure. The ratio of the polyolefin resin having an acid anhydride group and the polyolefin resin having an epoxy group is not particularly limited as long as a suitable crosslinked structure can be formed, but the molar ratio of the epoxy group and the acid anhydride group (epoxy group: acid anhydride The group) is preferably 100: 10 to 100: 200, more preferably 100: 50 to 100: 150, and particularly preferably 100: 90 to 100: 110.

(A)ポリオレフィン系樹脂の数平均分子量は、特に限定はされないが、樹脂組成物のワニスの良好な塗工性と樹脂組成物における他の成分との良好な相溶性をもたらすという観点から、1,000,000以下が好ましく、750,000以下がより好ましく、500,000以下がより一層好ましく、400,000以下がさらに好ましく、300,000以下がさらに一層好ましく、200,000以下が特に好ましく、150,000以下が最も好ましい。一方、樹脂組成物のワニスの塗工時のハジキを防止し、形成される樹脂組成物層の耐透湿性を発現させ、機械強度を向上させるという観点から、この数平均分子量は、1,000以上が好ましく、3,000以上がより好ましく、5,000以上がより一層好ましく、10,000以上がさらに好ましく、30,000以上がさらに一層好ましく、50,000以上が特に好ましい。なお、本発明における数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレン換算)で測定される。GPC法による数平均分子量は、具体的には、測定装置として社島津製作所製LC−9A/RID−6Aを、カラムとして昭和電工社製Shodex K−800P/K−804L/K−804Lを、移動相としてトルエン等を用いて、カラム温度40℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。   The number average molecular weight of the (A) polyolefin resin is not particularly limited, but from the viewpoint of providing good coatability of the varnish of the resin composition and good compatibility with other components in the resin composition, 1 1,000,000 or less is preferred, 750,000 or less is more preferred, 500,000 or less is even more preferred, 400,000 or less is still more preferred, 300,000 or less is even more preferred, 200,000 or less is particularly preferred, Most preferably, it is 150,000 or less. On the other hand, from the viewpoint of preventing cissing at the time of applying a varnish of the resin composition, developing moisture resistance of the formed resin composition layer, and improving mechanical strength, the number average molecular weight is 1,000. The above is preferable, 3,000 or more is more preferable, 5,000 or more is still more preferable, 10,000 or more is further preferable, 30,000 or more is still more preferable, 50,000 or more is particularly preferable. The number average molecular weight in the present invention is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene conversion). The number average molecular weight measured by the GPC method is, specifically, LC-9A / RID-6A manufactured by Shimadzu Corporation as a measuring device and Shodex K-800P / K-804L / K-804L manufactured by Showa Denko KK as a column. It can be calculated by using toluene or the like as a phase at a column temperature of 40 ° C. and using a calibration curve of standard polystyrene.

本発明における(A)ポリオレフィン系樹脂は、ワニスの増粘による流動性の低下を抑制する観点から非晶性であるのが好ましい。ここで、非晶性とは、ポリオレフィン系樹脂が明確な融点を有しないことを意味し、例えば、ポリオレフィン系樹脂のDSC(示差走査熱量測定)で融点を測定した場合に明確なピークが観察されないものを使用することができる。   The polyolefin resin (A) in the present invention is preferably amorphous from the viewpoint of suppressing a decrease in fluidity due to thickening of the varnish. Here, the term "amorphous" means that the polyolefin resin does not have a definite melting point, and for example, a definite peak is not observed when the melting point is measured by DSC (differential scanning calorimetry) of the polyolefin resin. Things can be used.

本発明の樹脂組成物中の(A)成分の含有量は特に制限はない。しかし、良好な塗工性と相溶性をもたらし、良好な湿熱耐性と取り扱い性(タック抑制)を確保できるという観点から、該含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、80質量%以下が好ましく、75質量%以下がより好ましく、70質量%以下がより一層好ましく、60質量%以下がさらに好ましく、55質量%以下がさらに一層好ましく、50質量%以下が特に好ましい。一方、耐透湿性を向上させ、透明性も向上させるという観点から、該含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、1質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、5質量%以上がより一層好ましく、7質量%以上がさらに好ましく、10質量%以上がさらに一層好ましく、35質量%以上が特に好ましく、40質量%以上が最も好ましい。   The content of the component (A) in the resin composition of the present invention is not particularly limited. However, from the viewpoint of providing good coatability and compatibility, and ensuring good wet heat resistance and handleability (tack suppression), the content is 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, 80 mass% or less is preferable, 75 mass% or less is more preferable, 70 mass% or less is still more preferable, 60 mass% or less is still more preferable, 55 mass% or less is still more preferable, and 50 mass% or less is especially preferable. On the other hand, the content is preferably 1% by mass or more and more preferably 3% by mass or more per 100% by mass of the total non-volatile content in the resin composition from the viewpoint of improving moisture permeability resistance and improving transparency. It is more preferably 5 mass% or more, still more preferably 7 mass% or more, still more preferably 10 mass% or more, particularly preferably 35 mass% or more, and most preferably 40 mass% or more.

次に、(A)ポリオレフィン系樹脂の具体例を説明する。ポリイソブチレン樹脂の具体例としては、BASF社製「オパノールB100」(粘度平均分子量:1,110,000)、BASF社製「B50SF」(粘度平均分子量:400,000)が挙げられる。   Next, a specific example of the (A) polyolefin resin will be described. Specific examples of the polyisobutylene resin include "Opanol B100" (viscosity average molecular weight: 1,110,000) manufactured by BASF and "B50SF" (viscosity average molecular weight: 400,000) manufactured by BASF.

ポリブテン系樹脂の具体例としては、JXエネルギー社製「HV−1900」(ポリブテン、数平均分子量:2,900)、東邦化学工業社製「HV−300M」(無水マレイン酸変性液状ポリブテン(「HV−300」(数平均分子量:1,400)の変性品)、数平均分子量:2,100、酸無水物基を構成するカルボキシ基の数:3.2個/1分子、酸価:43.4mgKOH/g、酸無水物基濃度:0.77mmol/g)が挙げられる。   Specific examples of the polybutene-based resin include "HV-1900" (polybutene, number average molecular weight: 2,900) manufactured by JX Energy Co., Ltd., "HV-300M" (maleic anhydride-modified liquid polybutene ("HV" manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.). -300 "(modified product of number average molecular weight: 1,400), number average molecular weight: 2,100, number of carboxy groups constituting an acid anhydride group: 3.2 per molecule, acid value: 43. 4 mgKOH / g, acid anhydride group concentration: 0.77 mmol / g).

スチレン−イソブチレン共重合体の具体例としては、カネカ社製「SIBSTAR T102」(スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体、数平均分子量:100,000、スチレン含量:30質量%)、星光PMC社製「T−YP757B」(無水マレイン酸変性スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体、酸無水物基濃度:0.464mmol/g、数平均分子量:100,000)、星光PMC社製「T−YP766」(グリシジルメタクリレート変性スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:100,000)、星光PMC社製「T−YP8920」(無水マレイン酸変性スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体、酸無水物基濃度:0.464mmol/g、数平均分子量:35,800)、星光PMC社製「T−YP8930」(グリシジルメタクリレート変性スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:48,700)が挙げられる。   Specific examples of the styrene-isobutylene copolymer include "SIBSTAR T102" (styrene-isobutylene-styrene block copolymer, number average molecular weight: 100,000, styrene content: 30 mass%) manufactured by Kaneka Corporation, manufactured by Starlight PMC. "T-YP756B" (maleic anhydride-modified styrene-isobutylene-styrene block copolymer, acid anhydride group concentration: 0.464 mmol / g, number average molecular weight: 100,000), "T-YP766" manufactured by Seikou PMC Co., Ltd. (Glycidyl methacrylate modified styrene-isobutylene-styrene block copolymer, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight: 100,000), "T-YP8920" manufactured by Starlight PMC (maleic anhydride modified styrene-isobutylene) -Styrene copolymer, acid anhydride group concentration 0.464 mmol / g, number average molecular weight: 35,800), "T-YP8930" (Glycidyl methacrylate modified styrene-isobutylene-styrene copolymer, manufactured by Seikou PMC, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight : 48,700).

ポリエチレン系樹脂またはポリプロピレン系樹脂の具体例としては、三井化学社製「EPT X−3012P」(エチレン−プロピレン−5−エチリデン−2−ノルボルネン共重合体、三井化学社製「EPT1070」(エチレン−プロピレン−ジシクロペンタジエン共重合体)、三井化学社製「タフマーA4085」(エチレン−ブテン共重合体)が挙げられる。   Specific examples of the polyethylene-based resin or polypropylene-based resin include "EPT X-3012P" (ethylene-propylene-5-ethylidene-2-norbornene copolymer manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., "EPT1070" (ethylene-propylene manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). -Dicyclopentadiene copolymer) and "Tufmer A4085" (ethylene-butene copolymer) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.

プロピレン−ブテン系共重合体の具体例としては、星光PMC社製「T−YP341」(グリシジルメタクリレート変性プロピレン−ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計100質量%あたりのブテン単位の量:29質量%、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:155,000)、星光PMC社製「T−YP279」(無水マレイン酸変性プロピレン−ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計100質量%あたりのブテン単位の量:36質量%、酸無水物基濃度:0.464mmol/g、数平均分子量:35,000)、星光PMC社製「T−YP276」(グリシジルメタクリレート変性プロピレン−ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計100質量%あたりのブテン単位の量:36質量%、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:57,000)、星光PMC社製「T−YP312」(無水マレイン酸変性プロピレン−ブテンランダム共共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計100質量%あたりのブテン単位の量:29質量%、酸無水物基濃度:0.464mmol/g、数平均分子量:60,900)、星光PMC社製「T−YP313」(グリシジルメタクリレート変性プロピレン−ブテンランダム共重合体、プロピレン単位とブテン単位の合計100質量%あたりのブテン単位の量:29質量%、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:155,000)、星光PMC社製「T−YP429」(無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン単位とメチルメタクリレート単位の合計100質量%あたりのメチルメタクリレート単位の量:32質量%、酸無水物基濃度:0.46mmol/g、数平均分子量:2,300)、星光PMC社製「T−YP430」(無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン単位とメチルメタクリレート単位の合計100質量%あたりのメチルメタクリレート単位の量:32質量%、酸無水物基濃度:1.18mmol/g、数平均分子量:4,500)、星光PMC社製「T−YP431」(グリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エポキシ基濃度:0.64mmol/g、数平均分子量:2,400)、星光PMC社製「T−YP432」(グリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エポキシ基濃度:1.63mmol/g、数平均分子量:3,100)が挙げられる。   Specific examples of the propylene-butene-based copolymer include "T-YP341" manufactured by Seikou PMC (glycidyl methacrylate-modified propylene-butene random copolymer, the amount of butene units per 100 mass% of the total of propylene units and butene units). : 29% by mass, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight: 155,000, "T-YP279" manufactured by Seikou PMC (maleic anhydride-modified propylene-butene random copolymer, propylene unit and butene) Amount of butene units per total 100 mass% of units: 36 mass%, acid anhydride group concentration: 0.464 mmol / g, number average molecular weight: 35,000, "T-YP276" (Glycidyl methacrylate) manufactured by Starlight PMC. Modified propylene-butene random copolymer, total of propylene unit and butene unit 1 Amount of butene unit per 0% by mass: 36% by mass, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight: 57,000), "T-YP312" manufactured by Seikou PMC (maleic anhydride-modified propylene-butene) Random copolymer, amount of butene units per total 100% by weight of propylene units and butene units: 29% by weight, acid anhydride group concentration: 0.464 mmol / g, number average molecular weight: 60,900), Starlight PMC "T-YP313" (glycidyl methacrylate modified propylene-butene random copolymer, amount of butene units per total 100% by weight of propylene units and butene units: 29% by weight, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, Number average molecular weight: 155,000, "T-YP429" manufactured by Hoshiko PMC (maleic anhydride modified ethylene Methyl methacrylate copolymer, amount of methyl methacrylate unit per total 100 mass% of ethylene unit and methyl methacrylate unit: 32 mass%, acid anhydride group concentration: 0.46 mmol / g, number average molecular weight: 2,300), Star light PMC "T-YP430" (maleic anhydride-modified ethylene-methylmethacrylate copolymer, the amount of methylmethacrylate units per 100% by weight of total ethylene units and methylmethacrylate units: 32% by weight, acid anhydride group concentration : 1.18 mmol / g, number average molecular weight: 4,500), "T-YP431" manufactured by Seikou PMC (glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer, epoxy group concentration: 0.64 mmol / g, number average molecular weight : 2,400), "T-YP432" manufactured by Hoshiko PMC Ltd. (Glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer, epoxy group concentration: 1.63 mmol / g, number average molecular weight: 3,100).

<(B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物>
本発明における「ハイドロタルサイト」は、焼成されていない天然ハイドロタルサイト(MgAl(OH)16CO・4HO)および合成ハイドロタルサイト(ハイドロタルサイト様化合物)を含む概念である。即ち、本発明における「ハイドロタルサイト」とは、「未焼成ハイドロタルサイト」を意味する。
<(B) Metal hydroxide selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite>
"Hydrotalcite" in the present invention is a concept including natural hydrotalcite uncalcined (Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 · 4H 2 O) and synthetic hydrotalcite (hydrotalcite-like compound) is there. That is, the "hydrotalcite" in the present invention means "unbaked hydrotalcite".

吸湿性の観点からは、(B)成分として、半焼成ハイドロタルサイトが好ましい。即ち、金属水酸化物が半焼成ハイドロタルサイトからなることが好ましい。ここで「半焼成ハイドロタルサイト」とは、ハイドロタルサイト(即ち、天然ハイドロタルサイトまたは合成ハイドロタルサイト(ハイドロタルサイト様化合物))を焼成して得られる、層間水の量が減少または消失した金属水酸化物をいう。「層間水」とは、組成式を用いて説明すれば、上述の天然ハイドロタルサイトおよび後述の合成ハイドロタルサイト(ハイドロタルサイト様化合物)の組成式に記載の「HO」を指す。From the viewpoint of hygroscopicity, semi-calcined hydrotalcite is preferable as the component (B). That is, it is preferable that the metal hydroxide comprises semi-calcined hydrotalcite. The term "semi-calcined hydrotalcite" as used herein means that the amount of interlayer water obtained by calcining hydrotalcite (that is, natural hydrotalcite or synthetic hydrotalcite (hydrotalcite-like compound)) decreases or disappears. Referred to as a metal hydroxide. The “interlayer water” refers to “H 2 O” described in the composition formula of the above-mentioned natural hydrotalcite and the synthetic hydrotalcite (hydrotalcite-like compound) described below, if it is explained using the composition formula.

ハイドロタルサイト(即ち、天然ハイドロタルサイトまたは合成ハイドロタルサイト(ハイドロタルサイト様化合物))または半焼成ハイドロタルサイトを焼成して得られる、層間水だけでなく、水酸基も縮合脱水によって消失した焼成ハイドロタルサイトは金属酸化物であり、金属水酸化物である本発明の(B)成分(即ち、ハイドロタルサイトおよび/または半焼成ハイドロタルサイト)に含まれない。なお、ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトは、それらのTG−DTA(Thermogravimetry-Differential Thermal Analysis)曲線でピークが観察されるが、焼成ハイドロタルサイトは、水酸基の消失によりアモルファス状態になるため、TG−DTA曲線でピークが観察されない。そのため、ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトと、焼成ハイドロタルサイトとは、TG−DTAで明確に区別することができる。   Calcination of hydrotalcite (that is, natural hydrotalcite or synthetic hydrotalcite (hydrotalcite-like compound)) or semi-calcined hydrotalcite obtained by calcining not only interlayer water but also hydroxyl groups by condensation dehydration Hydrotalcite is a metal oxide and is not included in the component (B) of the present invention (that is, hydrotalcite and / or semi-calcined hydrotalcite) which is a metal hydroxide. In addition, hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite have peaks observed in their TG-DTA (Thermogravimetry-Differential Thermal Analysis) curves, but calcined hydrotalcite becomes amorphous due to disappearance of hydroxyl groups, No peak is observed on the TG-DTA curve. Therefore, hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite and calcined hydrotalcite can be clearly distinguished by TG-DTA.

また、ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトと、焼成ハイドロタルサイトとは、熱重量分析で測定される熱重量減少率により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトの280℃における熱重量減少率は15質量%未満であり、かつその380℃における熱重量減少率は12質量%以上である。一方、ハイドロタルサイトの280℃における熱重量減少率は、15質量%以上であり、焼成ハイドロタルサイトの380℃における熱重量減少率は、12質量%未満である。   Further, hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite can be distinguished from calcined hydrotalcite by the thermogravimetric reduction rate measured by thermogravimetric analysis. The thermal weight loss rate of the semi-calcined hydrotalcite at 280 ° C is less than 15% by mass, and the thermal weight loss rate at 380 ° C is 12% by mass or more. On the other hand, the thermal weight loss rate of hydrotalcite at 280 ° C is 15% by mass or more, and the thermal weight loss rate of calcined hydrotalcite at 380 ° C is less than 12% by weight.

熱重量分析は、日立ハイテクサイエンス社製TG/DTA EXSTAR6300を用いて、AL製のサンプルパンにハイドロタルサイトを5mg秤量し、蓋をせずオープンの状態で、窒素流量200mL/分の雰囲気下、30℃から550℃まで昇温速度10℃/分の条件で行うことができる。熱重量減少率は、下記式:
熱重量減少率(質量%)
=100×(加熱前の質量−所定温度に達した時の質量)/加熱前の質量
で求めることができる。
Thermogravimetric analysis was performed using Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. TG / DTA EXSTAR6300, 5 mg of hydrotalcite was weighed in a sample pan made of AL, in an open state without a lid, under an atmosphere of nitrogen flow rate of 200 mL / min, It can be performed at a temperature rising rate of 10 ° C./min from 30 ° C. to 550 ° C. The thermal weight loss rate is the following formula:
Thermal weight loss rate (mass%)
= 100 × (mass before heating−mass when reaching a predetermined temperature) / mass before heating.

また、ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトと焼成ハイドロタルサイトとは、粉末X線回折で測定されるピークおよび相対強度比により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトは、粉末X線回折により2θが8〜18°付近に二つにスプリットしたピーク、または二つのピークの合成によりショルダーを有するピークを示し、低角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度(=低角側回折強度)と、高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度(=高角側回折強度)の相対強度比(低角側回折強度/高角側回折強度)は、0.001〜1,000である。一方、ハイドロタルサイトは8〜18°付近で一つのピークしか有しないか、または低角側に現れるピークまたはショルダーと高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度の相対強度比が前述の範囲外となる。焼成ハイドロタルサイトは8°〜18°の領域に特徴的ピークを有さず、43°に特徴的なピークを有する。粉末X線回折測定は、粉末X線回折装置(PANalytical社製, Empyrean)により、対陰極CuKα(1.5405Å)、電圧:45V、電流:40mA、サンプリング幅:0.0260°、走査速度:0.0657°/S、測定回折角範囲(2θ):5.0131〜79.9711°の条件で行うことができる。ピークサーチは、回折装置付属のソフトウエアのピークサーチ機能を利用し、「最小有意度:0.50、最小ピークチップ:0.01°、最大ピークチップ:1.00°、ピークベース幅:2.00°、方法:2次微分の最小値」の条件で行うことができる。   Further, hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite can be distinguished from calcined hydrotalcite by the peak and the relative intensity ratio measured by powder X-ray diffraction. Semi-calcined hydrotalcite shows a peak split by 2 in the vicinity of 8 to 18 ° by powder X-ray diffraction, or a peak having a shoulder due to the synthesis of the two peaks, and a peak or shoulder appearing on the low angle side. The relative intensity ratio (low-angle side diffraction intensity / high-angle side diffraction intensity) between the diffraction intensity (= low-angle side diffraction intensity) and the peak or shoulder diffraction intensity (= high-angle side diffraction intensity) appearing on the high-angle side is 0.001. ~ 1,000. On the other hand, hydrotalcite has only one peak around 8 to 18 °, or the relative intensity ratio of the diffraction intensity of the peak or shoulder appearing on the low angle side and the peak or shoulder appearing on the high angle side is out of the above range. Become. Calcined hydrotalcite does not have a characteristic peak in the region of 8 ° to 18 °, but has a characteristic peak at 43 °. The powder X-ray diffraction measurement was performed using a powder X-ray diffractometer (PANalytical, Empyrean) with an anticathode CuKα (1.5405Å), voltage: 45 V, current: 40 mA, sampling width: 0.0260 °, scanning speed: 0. 0.0657 ° / S, and measurement diffraction angle range (2θ): 5.0131 to 79.9711 °. The peak search uses the peak search function of the software attached to the diffractometer, and "minimum significance: 0.50, minimum peak tip: 0.01 °, maximum peak tip: 1.00 °, peak base width: 2 "0.000, method: minimum value of second derivative".

例えば、上記条件の粉末X線回折測定では、協和化学工業社製のハイドロタルサイト「DHT−4A」は、11.4°に一つのピークを有する。また、協和化学工業社製の半焼成ハイドロタルサイト「DHT−4C」は、13.2°に主ピークおよび11.4°に二つ目のピークを有する。   For example, in powder X-ray diffraction measurement under the above conditions, hydrotalcite "DHT-4A" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. has one peak at 11.4 °. The semi-calcined hydrotalcite "DHT-4C" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. has a main peak at 13.2 ° and a second peak at 11.4 °.

また、ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトと、焼成ハイドロタルサイトとは、飽和吸水率により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、1重量%以上20重量%未満である。一方、ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、1重量%未満であり、焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、20重量%以上である。   Further, hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite can be distinguished from calcined hydrotalcite by the saturated water absorption. The saturated water absorption of the semi-calcined hydrotalcite is 1% by weight or more and less than 20% by weight. On the other hand, the saturated water absorption rate of hydrotalcite is less than 1% by weight, and the saturated water absorption rate of calcined hydrotalcite is 20% by weight or more.

本発明における「飽和吸水率」とは、ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトまたは焼成ハイドロタルサイトを天秤にて1.5g量り取り、初期質量を測定した後、大気圧下、60℃、90%RH(相対湿度)に設定した小型環境試験器(エスペック社製SH−222)に200時間静置した場合の、初期質量に対する質量増加率を言い、下記式:
飽和吸水率(質量%)
=100×(吸湿後の質量−初期質量)/初期質量
で求めることができる。
The "saturated water absorption" in the present invention means that hydrotalcite, semi-calcined hydrotalcite or calcined hydrotalcite is weighed by a balance in an amount of 1.5 g, and the initial mass is measured. % RH (Relative Humidity) When set to a small environment tester (SH-222 manufactured by Espec Co., Ltd.) for 200 hours, it refers to the mass increase rate relative to the initial mass.
Saturated water absorption (% by mass)
= 100 × (mass after moisture absorption−initial mass) / initial mass.

合成ハイドロタルサイト(ハイドロタルサイト様化合物)としては、例えば、式(I):
[M2+ 1−x3+ (OH)x+・[(An−x/n・mHO]x− (I)
(式中、M2+はMg2+、Zn2+などの2価の金属イオンを表し、M3+はAl3+、Fe3+などの3価の金属イオンを表し、An−はCO 2−、Cl、NO などのn価のアニオンを表し、0<x<1であり、0≦m<1であり、nは正の数である。)で表されるものが挙げられる。式(I)中、M2+は、好ましくはMg2+であり、M3+は、好ましくはAl3+であり、An−は、好ましくはCO 2−である。
Examples of the synthetic hydrotalcite (hydrotalcite-like compound) include compounds represented by the formula (I):
[M 2+ 1-x M 3+ x (OH) 2 ] x + · [(A n− ) x / n · mH 2 O] x− (I)
(In the formula, M 2+ represents a divalent metal ion such as Mg 2+ and Zn 2+ , M 3+ represents a trivalent metal ion such as Al 3+ and Fe 3+ , and A n− represents CO 3 2− and Cl. , NO 3 −, and other n-valent anions, and 0 <x <1, 0 ≦ m <1, and n is a positive number. Wherein (I), M 2+ is preferably Mg 2+, M 3+ is preferably Al 3+, A n-is preferably CO 3 2-.

また、合成ハイドロタルサイト(ハイドロタルサイト様化合物)としては、例えば、式(II):
2+ Al(OH)2x+6−nz(An−・mHO (II)
(式中、M2+はMg2+、Zn2+などの2価の金属イオンを表し、An−はCO 2−、Cl、NO などのn価のアニオンを表し、xは2以上の正の数であり、zは2以下の正の数であり、mは正の数であり、nは正の数である。)
で表されるものが挙げられる。式(II)中、M2+は、好ましくはMg2+であり、An−は、好ましくはCO 2−である。
Further, as the synthetic hydrotalcite (hydrotalcite-like compound), for example, a compound represented by the formula (II):
M 2+ x Al 2 (OH) 2x + 6-nz (A n− ) z · mH 2 O (II)
(In the formula, M 2+ represents a divalent metal ion such as Mg 2+ and Zn 2+ , A n− represents an n-valent anion such as CO 3 2− , Cl , NO 3 , and x is 2 or more. Is a positive number, z is a positive number less than or equal to 2, m is a positive number, and n is a positive number.)
What is represented by. In formula (II), M 2+ is preferably Mg 2+ and A n− is preferably CO 3 2− .

(B)成分のBET比表面積は、1〜200m/gが好ましく、5〜150m/gがより好ましい。(B)成分のBET比表面積は、BET法に従って、比表面積測定装置(Macsorb HM Model-1210 マウンテック社製)を用いて試料表面に窒素ガスを吸着させ、BET多点法を用いて比表面積を算出することで得られる。(B) BET specific surface area of the component is preferably 1~200m 2 / g, 5~150m 2 / g is more preferable. The BET specific surface area of the component (B) is determined according to the BET method by using a specific surface area measuring device (manufactured by Macsorb HM Model-1210 manufactured by Mountech Co., Ltd.) to adsorb nitrogen gas on the sample surface, and using the BET multipoint method. It is obtained by calculating.

(B)成分の平均粒子径は、1〜1000nmが好ましく、10〜500nmがより好ましい。(B)成分の平均粒子径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定(JIS Z 8825)により粒度分布を体積基準で作成したときの該粒度分布のメディアン径で得られる。   The average particle diameter of the component (B) is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm. The average particle diameter of the component (B) is obtained as the median diameter of the particle size distribution when the particle size distribution is prepared on the volume basis by laser diffraction / scattering particle size distribution measurement (JIS Z 8825).

(B)成分は、表面処理剤で表面処理したものを用いることができる。表面処理に使用する表面処理剤としては、例えば、高級脂肪酸、アルキルシラン類、シランカップリング剤等を使用することができ、なかでも、高級脂肪酸、アルキルシラン類が好適である。表面処理剤は、1種または2種以上を使用できる。   As the component (B), those surface-treated with a surface treatment agent can be used. As the surface treatment agent used for the surface treatment, for example, higher fatty acids, alkylsilanes, silane coupling agents and the like can be used, and among them, higher fatty acids and alkylsilanes are preferable. As the surface treatment agent, one kind or two or more kinds can be used.

高級脂肪酸としては、例えば、ステアリン酸、モンタン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸などの炭素数18以上の高級脂肪酸が挙げられ、中でも、ステアリン酸が好ましい。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。アルキルシラン類としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、n−オクタデシルジメチル(3−(トリメトキシシリル)プロピル)アンモニウムクロライド等が挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。シランカップリング剤としては、例えば、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシランおよび2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ系シランカップリング剤;3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランおよび11−メルカプトウンデシルトリメトキシシランなどのメルカプト系シランカップリング剤;3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランおよびN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメトキシメチルシランなどのアミノ系シランカップリング剤;3−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド系シランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルメチルジエトキシシランなどのビニル系シランカップリング剤;p−スチリルトリメトキシシランなどのスチリル系シランカップリング剤;3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリレート系シランカップリング剤;3−イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート系シランカップリング剤、ビス(トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどのスルフィド系シランカップリング剤;フェニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾールシラン、トリアジンシラン等を挙げることができる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   Examples of the higher fatty acid include higher fatty acids having 18 or more carbon atoms such as stearic acid, montanic acid, myristic acid, and palmitic acid. Among them, stearic acid is preferable. These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the alkylsilanes include methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, octyltriethoxysilane, and n-octadecyldimethyl ( 3- (trimethoxysilyl) propyl) ammonium chloride and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the silane coupling agent include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyl (dimethoxy) methylsilane and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Epoxy-based silane coupling agents such as silane; mercapto-based silane coupling agents such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 11-mercaptoundecyltrimethoxysilane 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyldimethoxymethylsilane, N-phenyl-3-aminopropyltrisilane Amino-based silane cups such as toxysilane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyldimethoxymethylsilane Ring agent; ureido silane coupling agent such as 3-ureidopropyltriethoxysilane, vinyl silane coupling agent such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and vinylmethyldiethoxysilane; p-styryltrimethoxysilane, etc. Styryl-based silane coupling agent; acrylate-based silane coupling agent such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; 3-isocyanatopropyltrimetho Isocyanate-based silane coupling agents such as silane, sulfide-based silane coupling agents such as bis (triethoxysilylpropyl) disulfide, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide; phenyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, imidazole Examples thereof include silane and triazine silane. These may be used alone or in combination of two or more.

(B)成分の表面処理は、例えば、未処理の(B)成分を混合機で常温にて攪拌分散させながら、表面処理剤を添加噴霧して5〜60分間攪拌することによって行なうことができる。混合機としては、公知の混合機を使用することができ、例えば、Vブレンダー、リボンブレンダー、バブルコーンブレンダー等のブレンダー、ヘンシェルミキサーおよびコンクリートミキサー等のミキサー、ボールミル、カッターミル等が挙げられる。又、ボールミルなどで吸湿材を粉砕する際に、前記の高級脂肪酸、アルキルシラン類またはシランカップリング剤を混合し、表面処理する方法も可能である。表面処理剤の処理量は(B)成分の種類または表面処理剤の種類等によっても異なるが、(B)成分100質量部に対して1〜10質量部が好ましい。   The surface treatment of the component (B) can be carried out, for example, by adding and spraying a surface treatment agent and stirring for 5 to 60 minutes while stirring and dispersing the untreated component (B) at room temperature with stirring. . As the mixer, a known mixer can be used, and examples thereof include a blender such as a V blender, a ribbon blender, and a bubble cone blender, a mixer such as a Henschel mixer and a concrete mixer, a ball mill, a cutter mill, and the like. In addition, when pulverizing the hygroscopic material with a ball mill or the like, a method of mixing the above-mentioned higher fatty acid, alkylsilanes or silane coupling agent and surface-treating is also possible. The treatment amount of the surface treatment agent varies depending on the type of the component (B) or the type of the surface treatment agent, but is preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (B).

本発明の樹脂組成物における(B)成分の含有量は特に限定されるものではない。しかし、樹脂組成物層とガラス等の基板との密着性および樹脂組成物層の透明性を維持する観点から、該含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、60質量%以下が好ましく、55質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、45質量%以下がさらに好ましい。また、吸湿性の効果を十分得るという観点から、該含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、10質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましい。   The content of the component (B) in the resin composition of the present invention is not particularly limited. However, from the viewpoint of maintaining the adhesion between the resin composition layer and a substrate such as glass and the transparency of the resin composition layer, the content is 60 mass per 100 mass% of the total nonvolatile content in the resin composition. % Or less, preferably 55% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, still more preferably 45% by mass or less. Further, from the viewpoint of sufficiently obtaining the effect of hygroscopicity, the content is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and 30% by mass with respect to 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. The above is more preferable.

本発明における(B)成分の具体例としては、以下のものが挙げられる:
・DHT−4C(協和化学工業社製):半焼成ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:15m/g)
・DHT−4A−2(協和化学工業社製):半焼成ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:10m/g)
・DHT−4A(協和化学工業社製):ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:10m/g)
Specific examples of the component (B) in the present invention include the following:
DHT-4C (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): Semi-calcined hydrotalcite (average particle diameter: 400 nm, BET specific surface area: 15 m 2 / g)
DHT-4A-2 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): Semi-calcined hydrotalcite (average particle diameter: 400 nm, BET specific surface area: 10 m 2 / g)
DHT-4A (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): Hydrotalcite (average particle size: 400 nm, BET specific surface area: 10 m 2 / g)

<吸湿性金属酸化物>
ポリオレフィン系樹脂を含む樹脂組成物に吸湿性金属酸化物を添加すると、その透明性が低下する傾向にある。そのため、透明性を向上させる観点からは、本発明の樹脂組成物では、実質的に吸湿性金属酸化物を含まないことが好ましい。吸湿性金属酸化物の含有量は、例えば、後掲する樹脂組成物層の透過率の値が、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上となるような範囲であるのが望ましい。例えば、吸湿性金属酸化物の含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、1質量%以下(即ち、0〜1質量%)が好ましく、0.5質量%以下(即ち、0〜0.5質量%)がより好ましい。吸湿性金属酸化物としては、例えば、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化アルミニウム、酸化バリウム、焼成ドロマイト(酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムを含む混合物)、焼成ハイドロタルサイトが挙げられる。
<Hygroscopic metal oxide>
When a hygroscopic metal oxide is added to a resin composition containing a polyolefin resin, its transparency tends to decrease. Therefore, from the viewpoint of improving transparency, the resin composition of the present invention preferably contains substantially no hygroscopic metal oxide. The content of the hygroscopic metal oxide is, for example, preferably in a range such that the transmittance value of the resin composition layer described later is preferably 90% or more, more preferably 95% or more. For example, the content of the hygroscopic metal oxide is preferably 1% by mass or less (i.e., 0 to 1% by mass), and 0.5% by mass or less (i.e., 100% by mass) based on the total 100% by mass of the nonvolatile components in the resin composition. , 0 to 0.5 mass%) is more preferable. Examples of the hygroscopic metal oxide include calcium oxide, magnesium oxide, strontium oxide, aluminum oxide, barium oxide, calcined dolomite (mixture containing calcium oxide and magnesium oxide), calcined hydrotalcite.

<(C)粘着付与樹脂>
本発明の樹脂組成物は、さらに(C)粘着付与樹脂(以下「(C)成分」と略称することがある)を含んでいてもよい。粘着付与樹脂は、タッキファイヤーとも呼ばれ、可塑性高分子に配合して粘着性を付与させる樹脂である。(C)成分としては、特に限定されるものではなく、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂(水素添加テルペン樹脂、テルペンフェノール共重合樹脂、芳香族変性テルペン樹脂等)、クマロン樹脂、インデン樹脂、石油樹脂(脂肪族系石油樹脂、水添脂環式石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、ジシクロペンタジエン系石油樹脂およびその水素化物等)が好ましく使用される。
<(C) Tackifying resin>
The resin composition of the present invention may further contain (C) a tackifying resin (hereinafter sometimes abbreviated as “(C) component”). The tackifying resin is also called a tackifier, and is a resin that is blended with a plastic polymer to impart tackiness. The component (C) is not particularly limited and includes terpene resins, modified terpene resins (hydrogenated terpene resins, terpene phenol copolymer resins, aromatic modified terpene resins, etc.), coumarone resins, indene resins, petroleum resins ( Aliphatic petroleum resin, hydrogenated alicyclic petroleum resin, aromatic petroleum resin, aliphatic aromatic copolymer petroleum resin, alicyclic petroleum resin, dicyclopentadiene petroleum resin and its hydride etc.) Preferably used.

(C)成分として使用できる市販品としては、例えば、以下のものが挙げられる。テルペン樹脂として、YSレジンPX、YSレジンPXN(いずれもヤスハラケミカル社製)等が挙げられ、芳香族変性テルペン樹脂として、YSレジンTO、TRシリーズ(いずれもヤスハラケミカル社製)等が挙げられ、水素添加テルペン樹脂として、クリアロンP、クリアロンM、クリアロンKシリーズ(いずれもヤスハラケミカル社製)等が挙げられ、テルペンフェノール共重合樹脂として、YSポリスター2000、ポリスターU、ポリスターT、ポリスターS、マイティエースG(いずれもヤスハラケミカル社製)等が挙げられ、水添脂環式石油樹脂として、Escorez5300シリーズ、5600シリーズ(いずれもエクソンモービル社製)等が挙げられ、芳香族系石油樹脂としてENDEX155(イーストマン社製)等が挙げられ、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂としてQuintoneD100(日本ゼオン社製)等が挙げられ、脂環族系石油樹脂としてQuintone1325、Quintone1345(いずれも日本ゼオン社製)等が挙げられ、シクロヘキサン環含有水素化石油樹脂としてアルコンP100、アルコンP125、アルコンP140(いずれも荒川化学社製)等が挙げられ、シクロヘキサン環含有飽和炭化水素樹脂としてTFS13−030(荒川化学社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available products that can be used as the component (C) include the following. Examples of the terpene resin include YS resin PX and YS resin PXN (both manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd.), and aromatic modified terpene resins include YS resin TO and TR series (both manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd.). The terpene resin includes Clearon P, Clearon M, Clearon K series (all manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd.), and the terpene phenol copolymer resin is YS Polystar 2000, Polystar U, Polystar T, Polystar S, Mighty Ace G (any Yasuhara Chemical Co., Ltd.) and the like, hydrogenated alicyclic petroleum resins such as Escorez 5300 series, 5600 series (both manufactured by ExxonMobil) and the like, and ENDEX155 (Eastman Co.) as aromatic petroleum resin. Examples thereof include Quintone D100 (manufactured by Zeon Corporation) as the aliphatic aromatic copolymer-based petroleum resin, and Quintone 1325, Quintone 1345 (both manufactured by Nippon Zeon) as the alicyclic petroleum resin, and cyclohexane. Examples of the ring-containing hydrogenated petroleum resin include Alcon P100, Alcon P125, Alcon P140 (all manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) and the like, and examples of the cyclohexane ring-containing saturated hydrocarbon resin include TFS13-030 (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.).

(C)成分の軟化点は、樹脂組成物シートの積層工程でシートが軟化し、かつ所望の耐熱性を持つという観点から、50〜200℃が好ましく、90〜180℃がより好ましく、100〜150℃がさらに好ましい。なお、軟化点の測定は、JIS K2207に従い環球法により測定される。   The softening point of the component (C) is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 90 to 180 ° C, and more preferably 100 to 200, from the viewpoint that the sheet softens in the laminating step of the resin composition sheet and has desired heat resistance. 150 ° C. is more preferable. The softening point is measured by the ring and ball method according to JIS K2207.

(C)成分は1種または2種以上を組み合わせて使用してもよい。樹脂組成物中の(C)成分の含有量は特に制限はない。しかし、樹脂組成物の良好な耐透湿性を維持するという観点から、(C)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、80質量%以下が好ましく、60質量%以下がより好ましく、50質量%以下がさらに好ましく、40質量%以下が特に好ましい。一方、十分な接着性を有するという観点から、(C)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上がさらに好ましい。   The component (C) may be used alone or in combination of two or more. The content of the component (C) in the resin composition is not particularly limited. However, from the viewpoint of maintaining good moisture permeation resistance of the resin composition, when the component (C) is used, its content is 80% by mass or less per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. Is preferred, 60% by mass or less is more preferred, 50% by mass or less is more preferred, and 40% by mass or less is particularly preferred. On the other hand, from the viewpoint of having sufficient adhesiveness, when the component (C) is used, its content is preferably 5% by mass or more based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, and 10% by mass. The above is more preferable, and 15% by mass or more is further preferable.

なかでも、樹脂組成物の接着性、耐透湿性、透明性等の観点から、石油樹脂が好ましい。石油樹脂としては、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環族系石油樹脂等が挙げられる。なかでも、樹脂組成物の接着性、耐透湿性、相溶性等の観点から、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環族系石油樹脂がより好ましい。また透明性を良好にする観点から、脂環族系石油樹脂が特に好ましい。脂環族系石油樹脂は芳香族系石油樹脂を水素添加処理したものを用いることもできる。この場合、脂環族系石油樹脂の水素化率は30〜99%が好ましく、40〜97%がより好ましく、50〜90%がさらに好ましい。水素化率が低すぎると、着色により透明性が低下する問題が生じる傾向にあり、水素化率が高すぎると生産コストが上昇する傾向となる。水素化率は水添前と水素添加後の芳香環の水素のH−NMRのピーク強度の比から求めることができる。脂環族系石油樹脂としては、特にシクロヘキサン環含有水素化石油樹脂、ジシクロペンタジエン系水素化石油樹脂が好ましい。石油樹脂は1種または2種以上を組み合わせて使用してもよい。石油樹脂の数平均分子量Mnは100〜2,000が好ましく、700〜1,500がより好ましく、500〜1,000がさらに好ましい。Among them, petroleum resin is preferable from the viewpoint of adhesiveness, moisture permeability resistance, transparency, etc. of the resin composition. Examples of the petroleum resin include an aliphatic petroleum resin, an aromatic petroleum resin, an aliphatic aromatic copolymer petroleum resin, and an alicyclic petroleum resin. Among them, aromatic petroleum resins, aliphatic aromatic copolymer petroleum resins, and alicyclic petroleum resins are more preferable from the viewpoint of adhesiveness, moisture permeability resistance, compatibility, etc. of the resin composition. From the viewpoint of improving transparency, alicyclic petroleum resin is particularly preferable. As the alicyclic petroleum resin, a hydrogenated aromatic petroleum resin may be used. In this case, the hydrogenation rate of the alicyclic petroleum resin is preferably 30 to 99%, more preferably 40 to 97%, even more preferably 50 to 90%. If the hydrogenation rate is too low, the transparency tends to decrease due to coloring, and if the hydrogenation rate is too high, the production cost tends to increase. The hydrogenation rate can be determined from the ratio of the 1 H-NMR peak intensities of hydrogen in the aromatic ring before hydrogenation and after hydrogenation. As the alicyclic petroleum resin, a cyclohexane ring-containing hydrogenated petroleum resin and a dicyclopentadiene type hydrogenated petroleum resin are particularly preferable. The petroleum resins may be used alone or in combination of two or more. The number average molecular weight Mn of the petroleum resin is preferably 100 to 2,000, more preferably 700 to 1,500, and further preferably 500 to 1,000.

<(D)硬化剤>
本発明の樹脂組成物は、樹脂組成物の硬化性能を向上させる観点から、さらに(D)硬化剤(以下「(D)成分」と略称することがある)を含んでいてもよい。(D)成分としては、特に限定はされないが、アミン系硬化剤、グアニジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、ホスホニウム系硬化剤、フェノール系硬化剤などが挙げられる。(D)成分は1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
<(D) Curing agent>
The resin composition of the present invention may further contain (D) a curing agent (hereinafter sometimes abbreviated as “(D) component”) from the viewpoint of improving the curing performance of the resin composition. The component (D) is not particularly limited, but examples thereof include amine-based curing agents, guanidine-based curing agents, imidazole-based curing agents, phosphonium-based curing agents, and phenol-based curing agents. The component (D) may be used alone or in combination of two or more.

アミン系硬化剤としては、特に制限はないが、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩;DBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5)、DBU−フェノール塩、DBU−オクチル酸塩、DBU−p−トルエンスルホン酸塩、DBU−ギ酸塩、DBU−フェノールノボラック樹脂塩等のジアザビシクロ化合物;ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジアミノメチル)フェノール等の3級アミンおよびそれらの塩、芳香族ジメチルウレア、脂肪族ジメチルウレア、芳香族ジメチルウレア等のジメチルウレア化合物;等が挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   The amine-based curing agent is not particularly limited, but quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide; DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7), DBN ( 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5), DBU-phenol salt, DBU-octylate, DBU-p-toluenesulfonate, DBU-formate, DBU-phenol novolac resin salt, etc. Diazabicyclo compounds; tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (diaminomethyl) phenol and salts thereof, aromatic dimethylurea, aliphatic dimethylurea, aromatic Dimethylurea compounds such as dimethylurea; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

グアニジン系硬化剤としては、特に制限はないが、ジシアンジアミド、1−メチルグアニジン、1−エチルグアニジン、1−シクロヘキシルグアニジン、1−フェニルグアニジン、1−(o−トリル)グアニジン、ジメチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トリメチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、1−メチルビグアニド、1−エチルビグアニド、1−n−ブチルビグアニド、1−n−オクタデシルビグアニド、1,1−ジメチルビグアニド、1,1−ジエチルビグアニド、1−シクロヘキシルビグアニド、1−アリルビグアニド、1−フェニルビグアニド、1−(o−トリル)ビグアニド等が挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   The guanidine-based curing agent is not particularly limited, but includes dicyandiamide, 1-methylguanidine, 1-ethylguanidine, 1-cyclohexylguanidine, 1-phenylguanidine, 1- (o-tolyl) guanidine, dimethylguanidine, diphenylguanidine, Trimethylguanidine, tetramethylguanidine, pentamethylguanidine, 1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] dec-5-ene, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4] .0] deca-5-ene, 1-methyl biguanide, 1-ethyl biguanide, 1-n-butyl biguanide, 1-n-octadecyl biguanide, 1,1-dimethyl biguanide, 1,1-diethyl biguanide, 1-cyclohexyl Biguanide, 1-allyl biguanide, 1-phenyl biguanide, - (o-tolyl) biguanide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

イミダゾール系硬化剤としては、特に制限はないが、1H−イミダゾール、2−メチル−イミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチルー2−エチル−4−メチル−イミダゾール、2−フェニル−4,5−ビス(ヒドロキシメチル)−イミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−イミダゾール、2−ドデシル−イミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチル−イミダゾール等が挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   The imidazole-based curing agent is not particularly limited, but 1H-imidazole, 2-methyl-imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methyl-imidazole, 2-phenyl-4. , 5-bis (hydroxymethyl) -imidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-imidazole, 2-dodecyl-imidazole, 2-heptadecyl imidazole, 1,2-dimethyl-imidazole and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

ホスホニウム系硬化剤としては、特に制限はないが、トリフェニルホスフィン、ホスホニウムボレート化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラブチルホスホニウムデカン酸塩、(4−メチルフェニル)トリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート等が挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   The phosphonium-based curing agent is not particularly limited, but includes triphenylphosphine, phosphonium borate compound, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetrabutylphosphonium decanoate, (4-methylphenyl) tri Examples thereof include phenylphosphonium thiocyanate, tetraphenylphosphonium thiocyanate, and butyltriphenylphosphonium thiocyanate. These may be used alone or in combination of two or more.

フェノール系硬化剤の種類は、特に制限はないが、MEH−7700、MEH−7810、MEH−7851(明和化成社製)、NHN、CBN、GPH(日本化薬社製)、SN170、SN180、SN190、SN475、SN485、SN495、SN375、SN395(東都化成社製)、TD2090(DIC社製)等が挙げられる。トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤の具体例としては、LA3018(DIC社製)等が挙げられる。トリアジン骨格含有フェノールノボラック硬化剤の具体例としては、LA7052、LA7054、LA1356(DIC社製)等が挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   The type of the phenol-based curing agent is not particularly limited, but MEH-7700, MEH-7810, MEH-7851 (manufactured by Meiwa Kasei Co.), NHN, CBN, GPH (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), SN170, SN180, SN190. , SN475, SN485, SN495, SN375, SN395 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), TD2090 (manufactured by DIC), and the like. Specific examples of the triazine skeleton-containing phenolic curing agent include LA3018 (manufactured by DIC). Specific examples of the triazine skeleton-containing phenol novolac curing agent include LA7052, LA7054, LA1356 (manufactured by DIC) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

樹脂組成物中の(D)成分の含有量は特に制限はない。しかし、耐透湿性の低下を防止するという観点から、(D)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以下が好ましく、1質量%以下がより好ましい。一方、タックを抑制させるという観点から、(D)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、0.01質量%以上が好ましく、0.05質量%以上がより好ましい。   The content of component (D) in the resin composition is not particularly limited. However, when the component (D) is used, the content thereof is preferably 5% by mass or less per 100% by mass of the total non-volatile components in the resin composition from the viewpoint of preventing a decrease in moisture permeability resistance. It is more preferably not more than mass%. On the other hand, from the viewpoint of suppressing tack, when the component (D) is used, its content is preferably 0.01% by mass or more, based on 100% by mass of the total non-volatile components in the resin composition, and 0.05. It is more preferably at least mass%.

<(E)エポキシ基と反応し得る官能基を有する樹脂>
本発明の樹脂組成物において、(A)成分としてエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を用いる場合、(A)成分と架橋構造を形成するための成分として、(E)エポキシ基と反応し得る官能基を有する樹脂(以下「(E)成分」と略称することがある)を使用するのが望ましい。エポキシ基と反応し得る官能基としては、水酸基、フェノール性水酸基、アミノ基、カルボキシ基および酸無水物基等が挙げられ、酸無水物基が好ましい。酸無水物基としては、例えば、無水コハク酸に由来する基、無水マレイン酸に由来する基、無水グルタル酸に由来する基等が挙げられる。樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂(但し、(A)成分である酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂を除く)、アクリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン、ポリイミド樹脂などが挙げられ、ポリオレフィン系樹脂が好ましい。(E)成分であるポリオレフィン系樹脂としては、官能基として、酸無水物基ではなく、水酸基、フェノール性水酸基、アミノ基、カルボキシ基等を有すること以外は、上述した(A)成分と同様のポリオレフィン系樹脂が挙げられ、ポリブテンが好ましい。
<(E) Resin having functional group capable of reacting with epoxy group>
When a polyolefin resin having an epoxy group is used as the component (A) in the resin composition of the present invention, a functional group capable of reacting with the epoxy group (E) as a component for forming a crosslinked structure with the component (A). It is desirable to use a resin having a (hereinafter sometimes referred to as “component (E)”). Examples of the functional group capable of reacting with the epoxy group include a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, an amino group, a carboxy group and an acid anhydride group, and an acid anhydride group is preferable. Examples of the acid anhydride group include a group derived from succinic anhydride, a group derived from maleic anhydride, a group derived from glutaric anhydride, and the like. As the resin, a polyolefin resin (however, excluding the polyolefin resin having an acid anhydride group which is the component (A)), an acrylic resin, a melamine resin, a phenol resin, a urea resin, a polyester resin, an alkyd resin, a polyurethane, a polyimide Examples thereof include resins, and polyolefin resins are preferable. The polyolefin resin as the component (E) is the same as the above-mentioned component (A) except that it has a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, an amino group, a carboxy group or the like as a functional group instead of an acid anhydride group. A polyolefin resin is mentioned, and polybutene is preferable.

樹脂組成物中の(E)成分の含有量は特に制限はない。しかし、耐透湿性の低下を防止するという観点から、(E)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましい。一方、タックを抑制させるという観点から、(E)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。   The content of component (E) in the resin composition is not particularly limited. However, when the component (E) is used, the content thereof is preferably 30% by mass or less based on 100% by mass of the total non-volatile content in the resin composition from the viewpoint of preventing the deterioration of the moisture resistance. It is more preferably not more than mass%. On the other hand, in the case of using the component (E) from the viewpoint of suppressing tack, the content thereof is preferably 5% by mass or more, and 10% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. More preferable.

<(F)酸無水物基と反応し得る官能基を有する樹脂>
本発明の樹脂組成物において、(A)成分として酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂を用いる場合、(A)成分と架橋構造を形成するための成分として、(F)酸無水物基と反応し得る官能基を有する樹脂(以下「(F)成分」と略称することがある)を使用するのが望ましい。酸無水物基と反応し得る官能基としては、水酸基、1級または2級のアミノ基、チオール基、エポキシ基、オキセタン基等が挙げられ、エポキシ基が好ましい。樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂(但し、(A)成分であるエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を除く)、アクリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン、ポリイミド樹脂などが挙げられ、ポリオレフィン系樹脂が好ましい。(F)成分であるポリオレフィン系樹脂としては、官能基として、エポキシ基ではなく、水酸基、1級または2級のアミノ基、チオール基、エポキシ基、オキセタン基等を有すること以外は、上述した(A)成分と同様のポリオレフィン系樹脂が挙げられ、ポリブテンが好ましい。
<(F) Resin having functional group capable of reacting with acid anhydride group>
In the resin composition of the present invention, when a polyolefin resin having an acid anhydride group is used as the component (A), it reacts with the acid anhydride group (F) as a component for forming a crosslinked structure with the component (A). It is desirable to use a resin having a functional group capable of controlling (hereinafter sometimes abbreviated as “(F) component”). Examples of the functional group capable of reacting with the acid anhydride group include a hydroxyl group, a primary or secondary amino group, a thiol group, an epoxy group and an oxetane group, and an epoxy group is preferable. Examples of the resin include polyolefin resins (excluding the polyolefin resin having an epoxy group as the component (A)), acrylic resin, melamine resin, phenol resin, urea resin, polyester resin, alkyd resin, polyurethane, polyimide resin, etc. And a polyolefin resin is preferable. The polyolefin resin as the component (F) has the functional group described above, except that it has a hydroxyl group, a primary or secondary amino group, a thiol group, an epoxy group, an oxetane group, etc., instead of an epoxy group ( The same polyolefin-based resin as the component A) can be mentioned, and polybutene is preferable.

樹脂組成物中の(F)成分の含有量は特に制限はない。しかし、耐透湿性の低下を防止するという観点から、(F)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましい。一方、タックを抑制させるという観点から、(F)成分を使用する場合、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。   The content of the component (F) in the resin composition is not particularly limited. However, in the case of using the component (F) from the viewpoint of preventing a decrease in moisture permeability, the content thereof is preferably 30% by mass or less per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition, It is more preferably not more than mass%. On the other hand, in the case of using the component (F) from the viewpoint of suppressing tack, the content thereof is preferably 5% by mass or more, and 10% by mass or more per 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition. More preferable.

<(G)可塑剤>
本発明の樹脂組成物は、さらに(G)可塑剤(以下「(G)成分」と略称することがある)を含んでいてもよい。(G)成分を使用することにより、樹脂組成物の柔軟性や成形性を向上させることができる。(G)成分としては、特に限定はされないが、室温で液状の材料が好適に用いられる。可塑剤の具体例としては、パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、流動パラフィン、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、ワセリン等の鉱物油、ヒマシ油、綿実油、菜種油、大豆油、パーム油、ヤシ油、オリーブ油等の植物油、液状ポリブテン、水添液状ポリブテン、液状ポリブタジエン、水添液状ポリブタジエン等の液状ポリαオレフィン類等が挙げられる。本発明に使用する可塑剤としては、液状ポリαオレフィン類が好ましく、特に液状ポリブタジエンが好ましい。また液状ポリαオレフィンとしては接着性の観点から分子量が低いものが好ましく、重量平均分子量で500〜5,000、さらには1,000〜3,000の範囲のものが好ましい。これら可塑剤は1種を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、ここで「液状」とは、室温(25℃)での可塑剤の状態である。(G)成分を使用する場合、有機EL素子への悪影響を及ぼさないという観点から、その含有量は、樹脂組成物中の不揮発分の合計100質量%あたり、50質量%以下が好ましい。
<(G) Plasticizer>
The resin composition of the present invention may further contain (G) a plasticizer (hereinafter sometimes abbreviated as “(G) component”). By using the component (G), the flexibility and moldability of the resin composition can be improved. The component (G) is not particularly limited, but a liquid material at room temperature is preferably used. Specific examples of the plasticizer include paraffin-based process oil, naphthene-based process oil, liquid paraffin, polyethylene wax, polypropylene wax, mineral oil such as vaseline, castor oil, cottonseed oil, rapeseed oil, soybean oil, palm oil, coconut oil, olive oil. And other liquid oils such as vegetable oils, liquid polybutene, hydrogenated liquid polybutene, liquid polybutadiene, hydrogenated liquid polybutadiene, and the like. As the plasticizer used in the present invention, liquid polyα-olefins are preferable, and liquid polybutadiene is particularly preferable. Further, as the liquid poly-α-olefin, those having a low molecular weight are preferable from the viewpoint of adhesiveness, and those having a weight average molecular weight of 500 to 5,000, more preferably 1,000 to 3,000 are preferable. These plasticizers may be used alone or in combination of two or more. The term "liquid" as used herein means the state of the plasticizer at room temperature (25 ° C). When the component (G) is used, the content thereof is preferably 50% by mass or less based on 100% by mass of the total nonvolatile content in the resin composition from the viewpoint of not adversely affecting the organic EL device.

<その他の添加剤>
本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない程度に、上述した成分以外の各種添加剤を任意で含有させてもよい。このような添加剤としては、例えば、上述した(A)成分、(E)成分および(F)成分以外の樹脂(例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂等)、シリカ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム等の無機充填材(但し、吸湿性金属酸化物を除く);ゴム粒子、シリコーンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素樹脂パウダー等の有機充填剤;オルベン、ベントン等の増粘剤;シリコン系、フッ素系、高分子系の消泡剤またはレベリング剤;トリアゾール化合物、チアゾール化合物、トリアジン化合物、ポルフィリン化合物等の密着性付与剤;等を挙げることができる。
<Other additives>
The resin composition of the present invention may optionally contain various additives other than the above-mentioned components to the extent that the effects of the present invention are not impaired. Examples of such additives include resins other than the above-mentioned components (A), (E) and (F) (for example, epoxy resin, urethane resin, acrylic resin, polyamide resin, etc.), silica, barium sulfate. , Talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, zircon Inorganic fillers such as barium acid salt and calcium zirconate (excluding hygroscopic metal oxides); organic fillers such as rubber particles, silicone powder, nylon powder, fluororesin powders; thickeners such as Orben and Benton; Silicon-based, fluorine-based, polymer-based defoamer or level Grayed agent; triazole compounds, thiazole compounds, triazine compounds, adhesion imparting agents such as porphyrin compounds; and the like.

<感圧性接着剤>
本発明の封止用樹脂組成物は、感圧性接着剤であることが好ましい。感圧性接着剤とは、常温で比較的短時間圧力を加えるだけで接着する接着剤を意味し、当業者によく知られている。また、本発明の封止用樹脂組成物は、(C)粘着付与樹脂を含み、粘着性を有する感圧性接着剤であることがより好ましい。
<Pressure sensitive adhesive>
The encapsulating resin composition of the present invention is preferably a pressure sensitive adhesive. The pressure-sensitive adhesive means an adhesive that adheres only by applying pressure at room temperature for a relatively short time, and is well known to those skilled in the art. Further, the encapsulating resin composition of the present invention is more preferably a pressure-sensitive adhesive having tackiness, containing (C) a tackifying resin.

<樹脂組成物の製造方法>
本発明の樹脂組成物の製造方法は、特に限定されるものではなく、配合成分を、必要により溶媒等を添加し、混練ローラーや回転ミキサーなどを用いて混合する方法などが挙げられる。
<Method for producing resin composition>
The method for producing the resin composition of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a method of adding the solvent and the like to the compounding ingredients and mixing them using a kneading roller or a rotary mixer.

<樹脂組成物の用途>
本発明の樹脂組成物は、半導体、太陽電池、高輝度LED、LCD、EL素子等の電子部品、好ましくは太陽電池、有機EL素子等の光学半導体の封止に使用される。本発明の樹脂組成物は、特に有機EL素子の封止に好適に使用される。具体的には、有機EL素子の発光部の上部および/または周囲(側部)に適用して有機EL素子の発光部を外部から保護するために、本発明の樹脂組成物を用いることができる。
<Use of resin composition>
The resin composition of the present invention is used for sealing electronic parts such as semiconductors, solar cells, high-intensity LEDs, LCDs and EL elements, and preferably optical semiconductors such as solar cells and organic EL elements. The resin composition of the present invention is particularly preferably used for sealing an organic EL device. Specifically, the resin composition of the present invention can be used in order to protect the light emitting portion of the organic EL element from the outside by applying it to the upper portion and / or the periphery (side portion) of the light emitting portion of the organic EL element. .

本発明の樹脂組成物を有機EL素子の封止のために使用する場合、樹脂組成物により形成される封止層(樹脂組成物層)の透明性は、分光光度計により測定することができる。透明性は有機EL素子の発光効率を向上させるという点で高いほど良い。後述する実施例に記載するようにリファレンスをガラスとする場合に、封止層の波長450nmでの全光線透過率(平行線透過率)が、90%以上であるのが好ましく、95%以上であるのが特に好ましい。なお、上述した450nmでの全光線透過率の値は、厚さが20μmである封止層(樹脂組成物層)での測定値であるが、封止層の厚さは、一般には3〜200μmの範囲で設定される。   When the resin composition of the present invention is used for sealing an organic EL device, the transparency of the sealing layer (resin composition layer) formed by the resin composition can be measured by a spectrophotometer. . The higher the transparency, the better in terms of improving the luminous efficiency of the organic EL element. When glass is used as the reference as described in Examples described later, the total light transmittance (parallel light transmittance) at a wavelength of 450 nm of the sealing layer is preferably 90% or more, and 95% or more. It is particularly preferable to have. The value of the total light transmittance at 450 nm described above is a value measured with a sealing layer (resin composition layer) having a thickness of 20 μm, but the thickness of the sealing layer is generally 3 to It is set in the range of 200 μm.

<封止用シート>
本発明は、上述した本発明の樹脂組成物を含む封止用シートも提供する。具体的な態様としては、支持体、および前記支持体上に本発明の樹脂組成物から形成された樹脂組成物層を有する封止用シートが挙げられる。樹脂組成物層は、当業者に公知の方法で形成すればよく、例えば、有機溶剤に本発明の樹脂組成物を溶解したワニスを調製し、支持体上に、ワニスを塗布および乾燥することで形成することができる。有機溶剤の乾燥は熱風吹きつけ等によって行うことができる。なお、本発明の樹脂組成物が、エポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂等の硬化性成分を含む場合、樹脂組成物層をさらに加熱して、硬化した樹脂組成物層を形成してもよい。
<Sealing sheet>
The present invention also provides a sealing sheet containing the above-described resin composition of the present invention. Specific embodiments include a support and a sealing sheet having a resin composition layer formed from the resin composition of the present invention on the support. The resin composition layer may be formed by a method known to those skilled in the art. For example, a varnish prepared by dissolving the resin composition of the present invention in an organic solvent is prepared, and the varnish is applied and dried on a support. Can be formed. The organic solvent can be dried by blowing hot air or the like. When the resin composition of the present invention contains a curable component such as a polyolefin resin having an epoxy group, the resin composition layer may be further heated to form a cured resin composition layer.

有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(以下「MEK」と略称することがある)、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類;セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等;ソルベントナフサ等の芳香族系混合溶剤を挙げることができる。芳香族系混合溶剤として「スワゾール」(丸善石油社製、商品名)、「イプゾール」(出光興産社製、商品名)が挙げられる。有機溶剤は1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。   Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (hereinafter sometimes abbreviated as “MEK”), cyclohexanone; acetic acid such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and carbitol acetate. Esters; carbitols such as cellosolve and butyl carbitol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like; aromatic mixed solvents such as solvent naphtha and the like. it can. Examples of the aromatic mixed solvent include "Swazol" (manufactured by Maruzen Petroleum Co., Ltd.) and "Ipsol" (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.). The organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

乾燥条件は特に制限はないが、50〜100℃で1〜60分が好ましい。50℃以上とすることで、樹脂組成物層中に残存する溶剤量を低下させ易くなる。   The drying condition is not particularly limited, but 50 to 100 ° C. and 1 to 60 minutes are preferable. By setting the temperature to 50 ° C. or higher, the amount of solvent remaining in the resin composition layer can be easily reduced.

本発明の封止用樹脂組成物において、(1)(A)成分として酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂の両方を使用する、(2)(A)成分としてエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を使用し、且つ(E)成分(即ち、硬化剤エポキシ基と反応し得る官能基を有する樹脂)を使用する、または(3)(A)成分として酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂を使用し、且つ(F)成分(即ち、酸無水物基と反応し得る官能基を有する樹脂)を使用することによって、封止工程前に樹脂組成物を加熱して架橋構造を形成してもよく、また封止工程後に加熱して架橋構造を形成してもよい。例えば、本発明の封止用シートを用いて、素子(例えば、有機EL素子)の封止を行う場合、封止工程前に樹脂組成物層を予め加熱して架橋構造を形成してもよいし、封止工程後に樹脂組成物層を加熱して架橋構造を形成してもよい。素子(例えば、有機EL素子)の熱劣化を低減させるという観点から、封止工程前に予め加熱して架橋構造を形成することが好ましい。   In the encapsulating resin composition of the present invention, both (1) a polyolefin resin having an acid anhydride group and a polyolefin resin having an epoxy group are used as the component (A), and the component (2) (A) is used. Polyolefin resin having epoxy group is used, and component (E) (that is, resin having functional group capable of reacting with curing agent epoxy group) is used, or (3) Acid anhydride group as component (A) By using a polyolefin-based resin having a component (F) (that is, a resin having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group), the resin composition is heated and crosslinked before the sealing step. A structure may be formed, or a crosslinked structure may be formed by heating after the sealing step. For example, in the case of encapsulating an element (for example, an organic EL element) using the encapsulating sheet of the present invention, the resin composition layer may be preheated to form a crosslinked structure before the encapsulating step. Then, the resin composition layer may be heated after the sealing step to form a crosslinked structure. From the viewpoint of reducing the thermal deterioration of the element (for example, organic EL element), it is preferable to preheat before the sealing step to form the crosslinked structure.

封止工程前に樹脂組成物層を加熱する場合は、加熱条件は特に制限はないが、温度は、50〜200℃が好ましく、100〜180℃がより好ましく、120〜160℃がさらに好ましい。加熱時間は、15〜120分が好ましく、30〜100分がより好ましい。   When heating the resin composition layer before the sealing step, the heating conditions are not particularly limited, but the temperature is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 100 to 180 ° C, and further preferably 120 to 160 ° C. The heating time is preferably 15 to 120 minutes, more preferably 30 to 100 minutes.

封止工程後に樹脂組成物層を熱硬化する場合は、素子(例えば、有機EL素子)の熱劣化を防止する観点から、硬化温度は、50〜150℃が好ましく、60〜100℃がより好ましく、60〜80℃がさらに好ましい。   When the resin composition layer is thermally cured after the sealing step, the curing temperature is preferably 50 to 150 ° C., more preferably 60 to 100 ° C., from the viewpoint of preventing thermal deterioration of the device (for example, organic EL device). , 60 to 80 ° C. is more preferable.

封止用シートにおける樹脂組成物層の厚さは、3〜200μmが好ましく、5〜100μmがより好ましく、5〜50μmがさらに好ましい。   The thickness of the resin composition layer in the encapsulating sheet is preferably from 3 to 200 μm, more preferably from 5 to 100 μm, even more preferably from 5 to 50 μm.

なお、後述のように、目的とする最終的な封止構造が、樹脂組成物層に封止基材が積層された構造の場合、水分が浸入し得る部分は樹脂組成物層の側部のみになるため、樹脂組成物層の層厚を薄くすることで、側部の外気と接触する面積が小さくなる。従って、樹脂組成物層の層厚を薄くすることが、水分を遮断する上で望ましい。しかし、樹脂組成物層の厚さが小さすぎると、封止基材を貼り合わせる際に素子にダメージを与えるおそれがあり、また、封止基材を貼り合わせる際の作業性が低下する傾向にある。また、樹脂組成物層の厚さを上記の好適範囲とすることは、封止対象(例えば、有機EL素子等の素子が形成された基板)に樹脂組成物層を転写した後の樹脂組成物層の厚さの均一性を保つ上でも有効である。   As will be described later, when the final sealing structure of interest is a structure in which a sealing base material is laminated on the resin composition layer, the water-permeable portion is only the side portion of the resin composition layer. Therefore, by reducing the layer thickness of the resin composition layer, the area of the side portion in contact with the outside air is reduced. Therefore, it is desirable to reduce the layer thickness of the resin composition layer in order to block moisture. However, if the thickness of the resin composition layer is too small, the element may be damaged when the sealing base material is attached, and the workability in attaching the sealing base material tends to decrease. is there. In addition, setting the thickness of the resin composition layer within the above-mentioned preferable range means that the resin composition after transferring the resin composition layer to a sealing target (for example, a substrate on which an element such as an organic EL element is formed) is sealed. It is also effective in maintaining the uniformity of the layer thickness.

封止用シートに使用する支持体としては、防湿性を有する支持体が好ましい。防湿性を有する支持体としては、防湿性を有するプラスチックフィルムや、銅箔、アルミニウム箔などの金属箔等が挙げられる。防湿性を有するプラスチックフィルムとしては、酸化ケイ素(シリカ)、窒化ケイ素、SiCN、アモルファスシリコン等の無機物を表面に蒸着させたプラスチックフィルム等が挙げられる。ここで、表面に無機物が蒸着されるプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等)、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックフィルムが好適であり、PETフィルムが特に好ましい。市販されている防湿性を有するプラスチックフィルムの例としては、テックバリアHX、AX、LX、Lシリーズ(三菱樹脂社製)や、該テックバリアHX、AX、LX、Lシリーズよりもさらに防湿効果を高めたX−BARRIER(三菱樹脂社製)等が挙げられる。また、防湿性を有する支持体として、2層以上の複層構造を有するもの、例えば、上記のプラスチックフィルムと上記の金属箔とを接着剤を介して張り合わせたものも使用できる。このものは安価であり、ハンドリング性の観点からも有利である。なお、樹脂組成物シートの支持体には、防湿性を有しない支持体(例えば、上記の表面に無機物が蒸着されていないプラスチックフィルムの単体)も使用できる。   As the support used for the encapsulating sheet, a support having moisture resistance is preferable. Examples of the moisture-proof support include moisture-proof plastic films and metal foils such as copper foil and aluminum foil. Examples of the moisture-proof plastic film include plastic films having a surface deposited with an inorganic substance such as silicon oxide (silica), silicon nitride, SiCN, and amorphous silicon. Here, examples of the plastic film on the surface of which an inorganic substance is vapor-deposited include polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, etc.), polyester (eg, polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as “PET”).) , Polyethylene naphthalate, etc.), polycarbonate, polyimide, and other plastic films are preferable, and PET films are particularly preferable. Examples of commercially available moisture-proof plastic film include Tech Barrier HX, AX, LX, L series (manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd.) and more moisture-proof effect than the Tech Barrier HX, AX, LX, L series. For example, an enhanced X-BARRIER (manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) and the like can be mentioned. Further, as the moisture-proof support, a support having a multilayer structure of two or more layers, for example, a support obtained by laminating the above plastic film and the above metal foil with an adhesive can be used. This is inexpensive and advantageous from the viewpoint of handleability. As the support of the resin composition sheet, a support having no moisture-proof property (for example, a single plastic film having no inorganic substance deposited on the surface) can also be used.

支持体の厚さは特に限定されないが、封止用シートの取り扱い性等の観点から、10〜150μmが好ましく、20〜100μmがより好ましい。   Although the thickness of the support is not particularly limited, it is preferably 10 to 150 μm, more preferably 20 to 100 μm from the viewpoint of handleability of the encapsulating sheet.

また、本発明の封止用シートは実際に封止構造の形成に使用する前までは、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止するために樹脂組成物層表面が保護フィルムで保護されているのが好ましく、保護フィルムとしては、上記の支持体で例示したプラスチックフィルムを用いることができる。保護フィルムは予めマット処理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。離型剤としては、具体的には、フッ素系離型剤、シリコン系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤等が挙げられる。離型剤は異なる種類のものを混合して用いてもよい。保護フィルムの厚さも特に制限されないが、1〜40μmが好ましく、10〜30μmがより好ましい。   In addition, the encapsulating sheet of the present invention has a protective film on the surface of the resin composition layer in order to prevent adhesion of dust or the like to the surface of the resin composition layer or scratches before actually used for forming the encapsulation structure. It is preferable that the above-mentioned support is used as the protective film. The protective film may be subjected to a matte treatment, a corona treatment, or a release treatment in advance. Specific examples of the release agent include a fluorine-based release agent, a silicon-based release agent, and an alkyd resin-based release agent. The release agent may be a mixture of different types. The thickness of the protective film is not particularly limited, but is preferably 1 to 40 μm, more preferably 10 to 30 μm.

本発明の封止用シートは、封止対象にラミネートして使用される。ここでいう、「ラミネート」は支持体を備えたままの封止用シートで封止対象が被覆された状態の他、封止対象が封止用シートから転写された樹脂組成物層で被覆された状態を含む。支持体が防湿性を有しない支持体(例えば、上記の表面に無機物が蒸着されていないプラスチックフィルムの単体)である封止用シートを使用する場合、封止対象に封止用シートをラミネートした後、支持体を剥離し(即ち、樹脂組成物層を転写し)、その後、樹脂組成物層上に、別途、封止基材を積層するのが好ましい。特に、有機EL素子が形成された基板(以下「有機EL素子形成基板」ともいう)が封止対象である場合、かかる封止基材を積層する態様が好ましい。なお、本発明でいう「封止基材」は、封止用シートに用いた防湿性を有する支持体を、それに樹脂組成物層を形成せずに、それ単体で使用するものである。また、封止用シートの支持体として使用するには不向きな、ガラス板、金属板、鋼板等の可とう性を有しないが、防湿性の高い板も「封止基材」に含まれる。   The encapsulating sheet of the present invention is used by being laminated on an object to be encapsulated. As used herein, the term "laminate" refers to a state in which the encapsulation target is covered with the encapsulating sheet with the support, and the encapsulation target is covered with the resin composition layer transferred from the encapsulating sheet. Including the state. When the encapsulating sheet is a substrate having a non-moisture proof property (for example, a single plastic film having no inorganic substance deposited on the above surface), the encapsulating sheet is laminated on the object to be encapsulated. After that, it is preferable that the support is peeled off (that is, the resin composition layer is transferred), and then a sealing base material is separately laminated on the resin composition layer. In particular, when the substrate on which the organic EL element is formed (hereinafter, also referred to as “organic EL element formation substrate”) is a sealing target, a mode in which such a sealing base material is laminated is preferable. The "sealing base material" in the present invention means that the moisture-proof support used for the sealing sheet is used alone without forming a resin composition layer on the support. Further, a glass plate, a metal plate, a steel plate or the like which is not suitable for use as a support for a sealing sheet and which has no flexibility, but has a high moisture resistance is also included in the “sealing substrate”.

本発明の封止用樹脂組成物は、上記に記載した好ましい条件を適宜採用することにより、容易に、耐透湿性に優れる封止用樹脂組成物とすることができる。耐透湿性は、樹脂組成物層(封止層)の厚さによらず、以下の条件で水蒸気透過量を測定した場合に、水蒸気透過量が15g/m・24hr未満であるのが好ましく、10g/m・24hr未満であるのがより好ましい。水蒸気透過量は、樹脂組成物層(厚さは任意でよい)の1mあたりの水蒸気透過量を、JIS Z0208に準拠する方法にて、温度40℃、湿度90%RHおよび24時間の条件で測定する。封止層の厚さは特に限定されず、好ましくは耐透湿性が上記値となるように、その厚さを調整すればよい。封止層の厚さは、一般には3〜200μmの範囲で設定される。The encapsulating resin composition of the present invention can be easily made into an encapsulating resin composition having excellent moisture permeation resistance by appropriately adopting the preferable conditions described above. It is preferable that the moisture permeation resistance is less than 15 g / m 2 · 24 hr, regardless of the thickness of the resin composition layer (sealing layer), when the water vapor permeation amount is measured under the following conditions. More preferably, it is less than 10 g / m 2 · 24 hr. The water vapor transmission rate is the water vapor transmission rate per 1 m 2 of the resin composition layer (thickness may be arbitrary) according to JIS Z0208, under the conditions of temperature 40 ° C., humidity 90% RH and 24 hours. taking measurement. The thickness of the sealing layer is not particularly limited, and the thickness may be adjusted so that the moisture permeation resistance becomes the above value. The thickness of the sealing layer is generally set in the range of 3 to 200 μm.

本発明において、厚さが20μmである樹脂組成物層の450nmでの全光線透過率が90%以上であることが好ましい。このような樹脂組成物層は、目視において透明であると認識できる。本発明の封止用樹脂組成物は、上記に記載した好ましい条件を適宜採用することにより、容易に、全光線透過率に優れる樹脂組成物層(封止層)を形成することができる。厚さが20μmである樹脂組成物層の450nmでの全光線透過率は、90%以上であるのが好ましく、95%以上であるのがより好ましい。樹脂組成物層の450nmでの全光線透過率は、後述する実施例に記載するようにして、樹脂組成物層をガラス板にラミネートして積層体を形成し(ラミネート条件は後掲実施例参照)、ガラス板をリファレンスとすることによって算出される。なお、上述した450nmでの全光線透過率の値は、厚さが20μmである樹脂組成物層の測定値であるが、樹脂組成物層の厚さは、一般には3〜200μmの範囲である。   In the present invention, the total light transmittance at 450 nm of the resin composition layer having a thickness of 20 μm is preferably 90% or more. It can be visually recognized that such a resin composition layer is transparent. The resin composition for encapsulation of the present invention can easily form a resin composition layer (encapsulation layer) having excellent total light transmittance by appropriately adopting the preferable conditions described above. The total light transmittance at 450 nm of the resin composition layer having a thickness of 20 μm is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. The total light transmittance at 450 nm of the resin composition layer was determined by laminating the resin composition layer on a glass plate to form a laminate as described in Examples below (see Examples below for lamination conditions. ), Using a glass plate as a reference. The value of the total light transmittance at 450 nm described above is a measured value of the resin composition layer having a thickness of 20 μm, but the thickness of the resin composition layer is generally in the range of 3 to 200 μm. .

<有機ELデバイス>
本発明は、上述した本発明の樹脂組成物で封止された有機EL素子を有する有機ELデバイスも提供する。例えば、有機EL素子を有する基板に本発明の封止用シートをラミネートすることで、本発明の有機ELデバイスが得られる。封止用シートが保護フィルムで保護されている場合はこれを剥離した後、樹脂組成物層が該基板に直接接するように、封止用シートを該基板上にラミネートする。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。
<Organic EL device>
The present invention also provides an organic EL device having an organic EL element sealed with the above-mentioned resin composition of the present invention. For example, the organic EL device of the present invention is obtained by laminating the sealing sheet of the present invention on a substrate having an organic EL element. When the encapsulating sheet is protected by a protective film, the encapsulating sheet is peeled off, and then the encapsulating sheet is laminated on the substrate so that the resin composition layer directly contacts the substrate. The laminating method may be a batch method or a continuous method using rolls.

封止用シートの支持体が防湿性を有する支持体である場合は、有機EL素子を有する基板上に封止用シートをラミネートした後、支持体を剥離せず、そのまま有機EL素子の封止工程が完了する。封止工程後に熱硬化が必要な場合は、熱硬化を行う。   When the support of the sealing sheet is a moisture-proof support, after the sealing sheet is laminated on the substrate having the organic EL element, the support is not peeled off and the organic EL element is directly sealed. The process is complete. If heat curing is required after the sealing step, heat curing is performed.

一般的に、有機EL素子の封止用材料は、封止作業の前に乾燥させて、吸水した水分を除去することが必要であり、その作業が煩雑であるが、防湿性を有する支持体を使用した本発明の封止用シートは耐透湿性が高いため、保存時やデバイス製造作業時における吸水率も低い。また、封止作業時の有機EL素子に与えるダメージも著しく軽減される。   Generally, the sealing material for an organic EL element needs to be dried before the sealing operation to remove the absorbed water, and the operation is complicated, but a support having moisture resistance is used. Since the encapsulating sheet of the present invention using is highly moisture-permeable, it has a low water absorption rate during storage and device manufacturing operations. Further, the damage given to the organic EL element during the sealing work is also remarkably reduced.

防湿性を有しない支持体を使用した封止用シートを使用する場合、有機EL素子を有する基板に封止用シートをラミネート後、支持体を剥離し、露出した樹脂組成物層に封止基材を圧着することで、有機EL素子の封止工程が完了する。封止基材は、防湿効果が上がるという観点から、2枚またはそれ以上を貼り合わせて使用してもよい。また、封止基材の厚さは、有機ELデバイス自体を薄くかつ軽くするという観点から、5mm以下が好ましく、1mm以下がより好ましく、100μm以下がさらに好ましくい。また、水分透過を防ぐ観点から、5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、20μm以上がさらに好ましい。封止基材の圧着時の圧力は0.3〜10kgf/cm程度が好適であり、加熱下に圧着する場合、25℃〜130℃が好適である。When the encapsulating sheet using a support having no moisture proof property is used, after laminating the encapsulating sheet on the substrate having the organic EL element, the support is peeled off and the exposed resin composition layer is provided with a encapsulating group. The step of sealing the organic EL element is completed by pressing the material. Two or more sealing base materials may be used in combination from the viewpoint of increasing the moisture-proof effect. Further, the thickness of the sealing base material is preferably 5 mm or less, more preferably 1 mm or less, and further preferably 100 μm or less from the viewpoint of making the organic EL device itself thin and light. From the viewpoint of preventing water permeation, it is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, still more preferably 20 μm or more. The pressure at the time of pressure-bonding the sealing substrate is preferably about 0.3 to 10 kgf / cm 2 , and when pressure-bonding under heating, 25 ° C to 130 ° C is preferable.

有機EL素子を有する基板が、透明基板上に有機EL素子が形成されたものである場合、透明基板側をディスプレイの表示面や照明器具の発光面にすれば、封止用シートの支持体には必ずしも透明材料を使用する必要はなく、金属板、金属箔、不透明のプラスチックフィルムまたは板等を使用してもよい。また、有機EL素子を有する基板が、不透明または透明性の低い材料からなる基板上に有機EL素子が形成されたものである場合、封止基材側をディスプレイの表示面や照明器具の発光面にする必要から、封止基材には、透明プラスチックフィルム、ガラス板、透明プラスチック板等が使用される。   When the substrate having the organic EL element is a transparent substrate on which the organic EL element is formed, if the transparent substrate side is used as the display surface of the display or the light emitting surface of the lighting device, it becomes a support for the sealing sheet. It is not always necessary to use a transparent material, and a metal plate, a metal foil, an opaque plastic film or plate, or the like may be used. Further, when the substrate having the organic EL element is one in which the organic EL element is formed on the substrate made of an opaque or low-transparency material, the sealing substrate side is placed on the display surface of the display or the light emitting surface of the lighting fixture. Therefore, a transparent plastic film, a glass plate, a transparent plastic plate or the like is used as the sealing substrate.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の記載において、成分および共重合単位の量における「部」および「%」は、特に断りがない限り、それぞれ、「質量部」および「質量%」を意味する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following description, "parts" and "%" in the amounts of components and copolymerized units mean "parts by mass" and "mass%", respectively, unless otherwise specified.

実施例および比較例に用いた原料は以下の通りである。
(A)ポリオレフィン系樹脂
・T−YP429(星光PMC社製):無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(エチレン単位/メチルメタクリレート単位=68%/32%、酸無水物基濃度:0.46mmol/g、数平均分子量:2,300)
・T−YP431(星光PMC社製):グリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(エポキシ基濃度:0.64mmol/g、数平均分子量:2,400)
・T−YP430(星光PMC社製):無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(エチレン単位/メチルメタクリレート単位=68%/32%、酸無水物基濃度:1.18mmol/g、数平均分子量:4,500)
・T−YP432(星光PMC社製):グリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(エポキシ基濃度:1.63mmol/g、数平均分子量:3,100)
・T−YP8920(星光PMC社製):無水マレイン酸変性スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体(スチレン単位/イソブチレン単位=20%/80%、酸無水物基濃度:0.464mmol/g、数平均分子量:35,800)
・T−YP8930(星光PMC社製):グリシジルメタクリレート変性スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体(スチレン単位/イソブチレン単位=20%/80%、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:48,700)
・T−YP312(星光PMC社製):無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(プロピレン単位/ブテン単位=71%/29%、酸無水物基濃度:0.464mmol/g、数平均分子量:60,900)
・T−YP313(星光PMC社製):グリシジルメタクリレート変性プロピレン−ブテン共重合体(プロピレン単位/ブテン単位=71%/29%、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:155,000)
・T−YP341(星光PMC社製):グリシジルメタクリレート変性プロピレン−ブテン共重合体(プロピレン単位/ブテン単位:71%/29%、エポキシ基濃度:0.638mmol/g、数平均分子量:155,000)
・HV−300M(東邦化学工業社):無水マレイン酸変性液状ポリブテン(酸無水物基濃度:0.77mmol/g、数平均分子量:2,100)
・HV−1900(JXエネルギー社製):ポリブテン(数平均分子量:2,900)
The raw materials used in Examples and Comparative Examples are as follows.
(A) Polyolefin resin / T-YP429 (manufactured by Seikou PMC): Maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (ethylene unit / methyl methacrylate unit = 68% / 32%, acid anhydride group concentration: 0. 46 mmol / g, number average molecular weight: 2,300)
-T-YP431 (made by Seikou PMC): Glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (epoxy group concentration: 0.64 mmol / g, number average molecular weight: 2,400)
-T-YP430 (manufactured by Seikou PMC): Maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (ethylene unit / methyl methacrylate unit = 68% / 32%, acid anhydride group concentration: 1.18 mmol / g, number average) (Molecular weight: 4,500)
-T-YP432 (manufactured by Seikou PMC): Glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (epoxy group concentration: 1.63 mmol / g, number average molecular weight: 3,100)
T-YP8920 (manufactured by Seikou PMC): Maleic anhydride-modified styrene-isobutylene-styrene copolymer (styrene unit / isobutylene unit = 20% / 80%, acid anhydride group concentration: 0.464 mmol / g, number average) Molecular weight: 35,800)
-T-YP8930 (manufactured by Seikou PMC): Glycidyl methacrylate modified styrene-isobutylene-styrene copolymer (styrene unit / isobutylene unit = 20% / 80%, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight: 48) , 700)
-T-YP312 (made by Seikou PMC): Maleic anhydride modified propylene-butene copolymer (propylene unit / butene unit = 71% / 29%, acid anhydride group concentration: 0.464 mmol / g, number average molecular weight: 60,900)
-T-YP313 (made by Seikou PMC): Glycidyl methacrylate modified propylene-butene copolymer (propylene unit / butene unit = 71% / 29%, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight: 155,000) )
-T-YP341 (manufactured by Seikou PMC): Glycidyl methacrylate modified propylene-butene copolymer (propylene unit / butene unit: 71% / 29%, epoxy group concentration: 0.638 mmol / g, number average molecular weight: 155,000) )
HV-300M (Toho Chemical Industry Co., Ltd.): maleic anhydride-modified liquid polybutene (concentration of acid anhydride group: 0.77 mmol / g, number average molecular weight: 2,100)
HV-1900 (manufactured by JX Energy Co.): polybutene (number average molecular weight: 2,900)

(B)金属水酸化物
・DHT−4C(協和化学工業社製):半焼成ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:15m/g)
・DHT−4A−2(協和化学工業社製):半焼成ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:10m/g)
・DHT−4A(協和化学工業社製):ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:10m/g)
(B) Metal hydroxide / DHT-4C (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): Semi-calcined hydrotalcite (average particle size: 400 nm, BET specific surface area: 15 m 2 / g)
DHT-4A-2 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): Semi-calcined hydrotalcite (average particle size: 400 nm, BET specific surface area: 10 m 2 / g)
DHT-4A (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): Hydrotalcite (average particle size: 400 nm, BET specific surface area: 10 m 2 / g)

(B’)吸湿性金属酸化物
・KW2200(協和化学工業社製):焼成ハイドロタルサイト(平均粒子径:400nm、BET比表面積:129m/g)
・N41S:焼成ハイドロタルサイト(戸田工業社製)(平均粒径:40nm、BET比表面積:133m/g)
・モイストップ#10(三共製粉社製):酸化カルシウム(平均粒子径:4μm、BET比表面積:5m/g)
・FNM−G(タテホ化学工業社製):酸化マグネシウム(平均粒子径:400nm、BET比表面積:74m/g)
(B ') Hygroscopic metal oxide KW2200 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.): calcined hydrotalcite (average particle diameter: 400 nm, BET specific surface area: 129 m 2 / g)
N41S: calcined hydrotalcite (manufactured by Toda Kogyo Co., Ltd.) (average particle size: 40 nm, BET specific surface area: 133 m 2 / g)
Moistop # 10 (manufactured by Sankyo Flour Mills): calcium oxide (average particle size: 4 μm, BET specific surface area: 5 m 2 / g)
FNM-G (manufactured by Tateho Chemical Industry Co., Ltd.): Magnesium oxide (average particle diameter: 400 nm, BET specific surface area: 74 m 2 / g)

(C)粘着付与樹脂
・アルコンP125(荒川化学社製):シクロヘキサン環含有水素化石油樹脂(軟化点125℃)
(C) Tackifying resin Alcon P125 (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.): Cyclohexane ring-containing hydrogenated petroleum resin (softening point 125 ° C.)

(D)硬化剤
・アミン系硬化剤(2,4,6−トリス(ジアミノメチル)フェノール、以下「TAP」と略記する。)
(D) Hardener / Amine hardener (2,4,6-tris (diaminomethyl) phenol, hereinafter abbreviated as "TAP".)

有機溶剤
・トルエン
・スワゾール#1000(丸善石油社製):芳香族系混合溶剤
Organic solvent / Toluene / Swasol # 1000 (Maruzen Oil Co., Ltd.): Aromatic mixed solvent

次に示す手順にて実施例および比較例の各組成物を調製した。配合は表1および2に示す量で行った。なお、表1および2に記載の有機溶剤以外の成分の量は、不揮発分で換算した値である。   The compositions of Examples and Comparative Examples were prepared by the following procedure. The compounding was carried out in the amounts shown in Tables 1 and 2. In addition, the amounts of components other than the organic solvent described in Tables 1 and 2 are values converted into non-volatile components.

<実施例1>
シクロヘキサン環含有水素化石油樹脂(アルコンP125、60%スワゾール#1000溶液)130部に、無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP429、20%トルエン溶液)120部、ポリブテン(HV−1900)60部、および半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)100部を3本ロールで分散させて、混合物を得た。得られた混合物に、グリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP431、20%トルエン溶液)90部、アミン系硬化剤(TAP)0.5部およびトルエン170部を配合し、得られた混合物を高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物のワニスを得た。得られたワニスをシリコーン系離型剤で処理されたPETフィルム(厚さ38μm)の離型処理面上に、ダイコーターにて均一に塗布し、130℃で60分間加熱することにより、厚さ20μmの樹脂組成物層を有する封止用シートを得た。
<Example 1>
Cyclohexane ring-containing hydrogenated petroleum resin (Alcon P125, 60% Swazol # 1000 solution) 130 parts, maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP429, 20% toluene solution) 120 parts, polybutene (HV- 1900) 60 parts and semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C) 100 parts were dispersed with a three-roll mill to obtain a mixture. 90 parts of a glycidyl methacrylate-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP431, 20% toluene solution), 0.5 parts of an amine-based curing agent (TAP) and 170 parts of toluene were added to the obtained mixture to obtain a mixture. The mixture was uniformly dispersed with a high-speed rotary mixer to obtain a varnish of the resin composition. The resulting varnish was applied uniformly on a release-treated surface of a PET film (thickness 38 μm) treated with a silicone-based release agent with a die coater, and heated at 130 ° C. for 60 minutes to give a thickness of A sealing sheet having a resin composition layer of 20 μm was obtained.

<実施例2>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の使用量を100部から80部に変えたこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 2>
A varnish of the resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C) used was changed from 100 parts to 80 parts.

<実施例3>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の代わりに同量の半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4A−2)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 3>
In the same manner as in Example 1 except that the same amount of semi-calcined hydrotalcite (DHT-4A-2) was used instead of semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C), the varnish of the resin composition and A sealing sheet was produced.

<実施例4>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の代わりに同量のハイドロタルサイト(DHT−4A)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 4>
Varnish of resin composition and encapsulating sheet in the same manner as in Example 1 except that the same amount of hydrotalcite (DHT-4A) was used instead of semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C). Was produced.

<実施例5>
無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP429、20%トルエン溶液)の代わりに、同量の無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP430、20%トルエン溶液)を使用したこと、およびグリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP431、20%トルエン溶液)の代わりに、同量のグリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP432、20%トルエン溶液)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 5>
Instead of the maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP429, 20% toluene solution), the same amount of maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP430, 20% toluene solution) was used. Instead of using glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP431, 20% toluene solution), the same amount of glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP432, 20% toluene) was used. A varnish of the resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that the solution) was used.

<実施例6>
無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP429、20%トルエン溶液)の代わりに、同量の無水マレイン酸変性スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体(T−YP8920、20%トルエン溶液)を使用したこと、およびグリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP431、20%トルエン溶液)の代わりに、同量のグリシジルメタクリレート変性スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体(T−YP8930、20%トルエン溶液)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 6>
Instead of maleic anhydride-modified ethylene-methylmethacrylate copolymer (T-YP429, 20% toluene solution), the same amount of maleic anhydride-modified styrene-isobutylene-styrene copolymer (T-YP8920, 20% toluene solution). In place of the glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP431, 20% toluene solution), the same amount of glycidyl methacrylate modified styrene-isobutylene-styrene copolymer (T-YP8930, 20) was used. % Toluene solution), a varnish of the resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1.

<実施例7>
無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP429、20%トルエン溶液)の代わりに、同量の無水マレイン酸変性プロピレン−ポリブテン共重合体(T−YP312、20%トルエン溶液)を使用したこと、およびグリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP431、20%トルエン溶液)の代わりに、同量のグリシジルメタクリレート変性プロピレン−ブテン共重合体(T−YP313、20%トルエン溶液)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 7>
Instead of the maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP429, 20% toluene solution), the same amount of maleic anhydride-modified propylene-polybutene copolymer (T-YP312, 20% toluene solution) was used. And instead of the glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP431, 20% toluene solution), the same amount of glycidyl methacrylate modified propylene-butene copolymer (T-YP313, 20% toluene solution) A varnish of the resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that was used.

<実施例8>
無水マレイン酸変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP429、20%トルエン溶液)120部の代わりに、グリシジルメタクリレート変性プロピレンーブテン共重合体(T−YP341、20%トルエン溶液)200部を使用したこと、およびグリシジルメタクリレート変性エチレン−メチルメタクリレート共重合体(T−YP431、20%トルエン溶液)90部の代わりに、無水マレイン酸変性液状ポリブテン(HV−300M)35部を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Example 8>
Instead of 120 parts of maleic anhydride-modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP429, 20% toluene solution), 200 parts of glycidyl methacrylate-modified propylene-butene copolymer (T-YP341, 20% toluene solution) was used. And carried out except that 35 parts of maleic anhydride modified liquid polybutene (HV-300M) was used in place of 90 parts of glycidyl methacrylate modified ethylene-methyl methacrylate copolymer (T-YP431, 20% toluene solution). In the same manner as in Example 1, a varnish of resin composition and a sealing sheet were produced.

<比較例1>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の代わりに焼成ハイドロタルサイト(KW2200)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Comparative Example 1>
A varnish of resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that calcined hydrotalcite (KW2200) was used instead of semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C).

<比較例2>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の代わりに焼成ハイドロタルサイト(N41S)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Comparative example 2>
A varnish of resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that calcined hydrotalcite (N41S) was used instead of semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C).

<比較例3>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の代わりに酸化カルシウム(モイストップ#10)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Comparative example 3>
A varnish of resin composition and a sheet for encapsulation were produced in the same manner as in Example 1 except that calcium oxide (moistop # 10) was used instead of the semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C). .

<比較例4>
半焼成ハイドロタルサイト(DHT−4C)の代わりに酸化マグネシウム(FNM−G)を使用したこと以外は実施例1と同様の方法にて、樹脂組成物のワニスおよび封止用シートを作製した。
<Comparative example 4>
A varnish of the resin composition and a sealing sheet were produced in the same manner as in Example 1 except that magnesium oxide (FNM-G) was used instead of the semi-calcined hydrotalcite (DHT-4C).

上述のようにして得られた実施例および比較例の封止用シートの樹脂組成物層を以下のようにして評価した。結果を表1および2に示す。   The resin composition layers of the encapsulating sheets of Examples and Comparative Examples obtained as described above were evaluated as follows. The results are shown in Tables 1 and 2.

1.耐透湿性(水蒸気透過量)の評価
実施例および比較例で作製した封止用シートの支持体(PETフィルム)から剥離した樹脂組成物層(厚さ:45μm)の1mあたりの水蒸気透過量を、JIS Z0208に準拠する方法にて、温度40℃、湿度90%RHおよび24時間の条件で測定し、以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
良好(○):水蒸気透過量が10g/m・24hr未満
可(△):水蒸気透過量が10g/m・24hr以上、20g/m・24hr未満
不良(×):水蒸気透過量が20g/m・24hr以上
1. Evaluation of moisture permeation resistance (water vapor transmission amount) Water vapor transmission amount per 1 m 2 of the resin composition layer (thickness: 45 μm) peeled from the support (PET film) of the encapsulating sheets prepared in Examples and Comparative Examples. Was measured under the conditions of a temperature of 40 ° C., a humidity of 90% RH and 24 hours by a method according to JIS Z0208, and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
Good (○): Water vapor transmission rate is less than 10 g / m 2 · 24 hr Poor (△): Water vapor transmission rate is 10 g / m 2 · 24 hr or more, less than 20 g / m 2 · 24 hr Poor (x): Water vapor transmission rate is 20 g / M 2 · 24hr or more

2.全光線透過率の評価
実施例および比較例で作製した封止用シート(樹脂組成物層の厚さ:20μm)を長さ50mmおよび幅20mmにカットし、カットした封止用シートをガラス板(長さ76mm、幅26mmおよび厚さ1.2mmのマイクロスライドガラス、松浪ガラス工業社製白スライドグラスS1112 縁磨No.2)にバッチ式真空ラミネーター(ニチゴー・モートン社製、V−160)を用いてラミネートした。ラミネート条件は、温度80℃、減圧時間30秒の後、圧力0.3MPaにて30秒加圧であった。その後、封止用シートのPETフィルムを剥離し、露出した硬化した樹脂組成物層にさらに上記と同じガラス板をラミネートして、積層体を作製した。得られた積層体の光透過率スペクトルを、φ80mm積分球(型名SRS−99−010、反射率99%)を装着したファイバー式分光光度計(MCPD−7700、形式311C、大塚電子社製、外部光源ユニット:ハロゲンランプMC−2564(24V、150W仕様))を用いて測定し、波長450nmでの全光線透過率を算出し、以下の基準で評価した。なお、積分球とサンプル(積層体)の距離を0mmとし、リファレンスとしてはガラスを用いた。
良好(○):95%以上
可(△):90%以上、95%未満
不良(×):90%未満
2. Evaluation of Total Light Transmittance The encapsulating sheet (thickness of resin composition layer: 20 μm) produced in Examples and Comparative Examples was cut into a length of 50 mm and a width of 20 mm, and the cut encapsulating sheet was a glass plate ( A batch type vacuum laminator (V-160, manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd.) is used for a micro slide glass having a length of 76 mm, a width of 26 mm and a thickness of 1.2 mm, and Matsunami Glass Industry Co., Ltd. white slide glass S1112 edge polishing No. 2). Laminated. The lamination conditions were a temperature of 80 ° C., a pressure reduction time of 30 seconds, and a pressure of 0.3 MPa for 30 seconds. Then, the PET film of the encapsulating sheet was peeled off, and the exposed cured resin composition layer was further laminated with the same glass plate as above to prepare a laminate. The light transmittance spectrum of the obtained laminated body, a fiber type spectrophotometer (MCPD-7700, type 311C, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) equipped with a φ80 mm integrating sphere (type name SRS-99-010, reflectance 99%). External light source unit: Halogen lamp MC-2564 (24V, 150W specification)) was used for measurement, and the total light transmittance at a wavelength of 450 nm was calculated and evaluated according to the following criteria. The distance between the integrating sphere and the sample (laminate) was 0 mm, and glass was used as a reference.
Good (○): 95% or more Acceptable (△): 90% or more, less than 95% Poor (x): Less than 90%

表1および2に示されるように、ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物(DHT−4C、DHT−4A−2またはDHT−4A)を使用する実施例1〜8は、吸湿性金属酸化物(KW2200、N41S、モイストップ#10またはFNM−G)を使用する比較例1〜4に比べて、透明性(全光線透過率)の結果が良好である。   As shown in Tables 1 and 2, Example 1 using a metal hydroxide (DHT-4C, DHT-4A-2 or DHT-4A) selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite. Nos. 8 to 8 have favorable results of transparency (total light transmittance) as compared with Comparative Examples 1 to 4 using a hygroscopic metal oxide (KW2200, N41S, Moistop # 10 or FNM-G).

本発明の封止用樹脂組成物は、透明性の高い封止層(樹脂組成物層)を形成することができる。そのため本発明の封止用樹脂組成物は、電子部品(特に有機EL素子)の封止に好適に使用することができる。   The encapsulating resin composition of the present invention can form a highly transparent encapsulating layer (resin composition layer). Therefore, the encapsulating resin composition of the present invention can be suitably used for encapsulating electronic components (particularly organic EL devices).

本願は、日本で出願された特願2015−193115号を基礎としており、その内容は本願明細書に全て包含される。   This application is based on Japanese Patent Application No. 2015-193115 filed in Japan, the contents of which are incorporated in full herein.

Claims (14)

(A)ポリオレフィン系樹脂、並びに
(B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物
を含む封止用樹脂組成物であって、
(A)ポリオレフィン系樹脂が、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂および/またはエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含む封止用樹脂組成物
A sealing resin composition comprising (A) a polyolefin resin and (B) a metal hydroxide selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite :
(A) A sealing resin composition in which the polyolefin-based resin contains a polyolefin-based resin having an acid anhydride group and / or a polyolefin-based resin having an epoxy group .
(A)ポリオレフィン系樹脂が、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含む請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the polyolefin resin (A) contains a polyolefin resin having an acid anhydride group and a polyolefin resin having an epoxy group. 酸無水物基とエポキシ基の反応により形成された架橋構造を有する請求項2に記載の樹脂組成物。The resin composition according to claim 2, which has a crosslinked structure formed by the reaction of an acid anhydride group and an epoxy group. 感圧性接着剤である請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。The resin composition according to claim 1, which is a pressure-sensitive adhesive. (A)ポリオレフィン系樹脂、並びに(A) Polyolefin resin, and
(B)ハイドロタルサイトおよび半焼成ハイドロタルサイトからなる群から選ばれる金属水酸化物(B) Metal hydroxide selected from the group consisting of hydrotalcite and semi-calcined hydrotalcite
を含む感圧性接着剤である、封止用樹脂組成物。A resin composition for sealing, which is a pressure-sensitive adhesive containing
さらに(C)粘着付与樹脂を含む請求項1〜のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 Further (C) resin composition according to any one of claims 1 to 5 including a tackifying resin. さらに(D)硬化剤を含む請求項1〜のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 Furthermore (D) resin composition according to any one of claims 1 to 6 including the curing agent. 有機EL素子の封止用である請求項1〜のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 7 which is for sealing an organic EL device. 厚さが20μmである樹脂組成物層の波長450nmでの全光線透過率(平行線透過率)が、90%以上である請求項1〜のいずれか一項に記載の樹脂組成物 The resin composition according to any one of claims 1 to 9 , wherein the resin composition layer having a thickness of 20 µm has a total light transmittance (parallel light transmittance) at a wavelength of 450 nm of 90% or more. 請求項1〜のいずれか一項に記載の樹脂組成物からなる樹脂組成物層が支持体の片面または両面に形成されている封止用シート。 Simplex or sheet for sealing which are formed on both surfaces of the resin composition layer comprising a resin composition support as claimed in any one of claims 1-9. (A)ポリオレフィン系樹脂が、酸無水物基を有するポリオレフィン系樹脂およびエポキシ基を有するポリオレフィン系樹脂を含み、樹脂組成物層が、酸無水物基とエポキシ基反応により形成された架橋構造を有する、請求項10に記載の封止用シート。 (A) The polyolefin-based resin contains a polyolefin-based resin having an acid anhydride group and a polyolefin-based resin having an epoxy group, and the resin composition layer has a crosslinked structure formed by the reaction of the acid anhydride group and the epoxy group. The encapsulating sheet according to claim 10, which has. 有機EL素子の封止用である請求項10または11に記載の封止用シート。 The encapsulating sheet according to claim 10 or 11 , which is for encapsulating an organic EL element. 請求項1〜のいずれか一項に記載の樹脂組成物で封止された有機EL素子を有する有機ELデバイス。 The organic EL device having an organic EL device sealed with a resin composition according to any one of claims 1-9. 請求項1012のいずれか一項に記載の封止用シートで封止された有機EL素子を有する有機ELデバイス。 Organic EL devices having a sealed organic EL device with a sealing sheet according to any one of claims 10-12.
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