JP6673219B2 - Laminated film - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 117
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 117
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 67
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 57
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 43
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical group [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 claims description 18
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 6
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 462
- 239000010408 film Substances 0.000 description 344
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 151
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 151
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 100
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 91
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 description 49
- -1 polyparaphenylene Chemical class 0.000 description 46
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 41
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 39
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 33
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 31
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 31
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 31
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 27
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 25
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 24
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 24
- 239000002585 base Substances 0.000 description 22
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 21
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 19
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 14
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 14
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 12
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 12
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 12
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 12
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 12
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 12
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 12
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 11
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 9
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 8
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 7
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 7
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 7
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 6
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 6
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 5
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXOCGRPBILEGOX-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(dodecanoylamino)propyl-dimethylazaniumyl]-2-hydroxypropane-1-sulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)NCCC[N+](C)(C)CC(O)CS([O-])(=O)=O IXOCGRPBILEGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 2
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)(CCCC)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 2
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXHHBNMLPJOKQD-UHFFFAOYSA-N methyl hydrogen carbonate Chemical compound COC(O)=O CXHHBNMLPJOKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYVLHQRADFNKAU-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[Ti+4] IYVLHQRADFNKAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- WUPCFMITFBVJMS-UHFFFAOYSA-N tetrakis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 WUPCFMITFBVJMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NZNAAUDJKMURFU-UHFFFAOYSA-N tetrakis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)C(C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 NZNAAUDJKMURFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 2
- YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzoate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1 YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXMYPHLWXBXNFF-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-(4-chlorophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1Cl YXMYPHLWXBXNFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-ol Chemical compound CN1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGYJSJUSODGXAR-UHFFFAOYSA-N 1,3,7,9-tetratert-butyl-11-octoxy-5h-benzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphocine Chemical compound C1C2=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C2OP(OCCCCCCCC)OC2=C1C=C(C(C)(C)C)C=C2C(C)(C)C FGYJSJUSODGXAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNYWPPQQCQRHHM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-hydroxyethyl(methyl)azaniumyl]acetate Chemical compound OCCN(C)CC(O)=O XNYWPPQQCQRHHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1-(2-ethoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCC MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(1h-imidazol-5-ylmethyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(CC=2NC=NC=2)=C1O RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZUFHXJTSDPZGB-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 HZUFHXJTSDPZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDVOLDOITVSJGL-UHFFFAOYSA-N 3,7-dihydroxy-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound O1B(O)OB2OB(O)OB1O2 XDVOLDOITVSJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 3,9-dioctadecoxy-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCC21COP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OC2 PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTNFAXLGPSLYEY-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethenylnaphthalen-1-yl)prop-2-enoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C=CC(=O)O)=C(C=C)C=CC2=C1 MTNFAXLGPSLYEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butan-2-yl]-2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(C)CC(C=1C(=CC(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXHRTMJUSBVGMX-UHFFFAOYSA-N 4-n-butyl-2-n,4-n-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-2-n-[6-[(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)amino]hexyl]-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound N=1C=NC(N(CCCCCCNC2CC(C)(C)NC(C)(C)C2)C2CC(C)(C)NC(C)(C)C2)=NC=1N(CCCC)C1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 YXHRTMJUSBVGMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)N(C(C)=O)C(C)(C)C1 RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAYXOHMOQRVFBT-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=CC=C1C(C)(C)C)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=CC=C1C(C)(C)C)C(C)(C)C AAYXOHMOQRVFBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- FDBMBOYIVUGUSL-UHFFFAOYSA-N OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C)C(C)(C)C Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C)C(C)(C)C FDBMBOYIVUGUSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Chemical class 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWEDYNXINZOSSV-AATRIKPKSA-N [2-methyl-4-oxo-3-[(e)-prop-1-enyl]cyclopent-2-en-1-yl] n,n-dimethylcarbamate Chemical compound C\C=C\C1=C(C)C(OC(=O)N(C)C)CC1=O QWEDYNXINZOSSV-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N acrylic acid acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000006701 autoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- LRHPSIAOZILDQN-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-5,6-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound CC1C(C)=CC=CC1(O)C(=O)C1(O)C(C)C(C)=CC=C1 LRHPSIAOZILDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- MRUAUOIMASANKQ-UHFFFAOYSA-N cocamidopropyl betaine Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)NCCC[N+](C)(C)CC([O-])=O MRUAUOIMASANKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073507 cocamidopropyl betaine Drugs 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCIDZIIHRGYJAE-YGFYJFDDSA-L dipotassium;[(2r,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl] phosphate Chemical compound [K+].[K+].OC[C@H]1O[C@H](OP([O-])([O-])=O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O KCIDZIIHRGYJAE-YGFYJFDDSA-L 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- WMYYPFABCQVJMA-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;[1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol;terephthalic acid Chemical compound OCCO.OCC1(CO)CCCCC1.OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WMYYPFABCQVJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYKDLUMZOVATFT-UHFFFAOYSA-N ethenyl acetate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(=O)OC=C CYKDLUMZOVATFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910001940 europium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N europium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Eu+3].[Eu+3] AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000374 eutectic mixture Substances 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- MDQRDWAGHRLBPA-UHFFFAOYSA-N fluoroamine Chemical class FN MDQRDWAGHRLBPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003063 hydroxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940031574 hydroxymethyl cellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 229940116335 lauramide Drugs 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- DKPKKUQZFWYBRB-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3-(tetradecanoylamino)propan-1-amine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)NCCC[N+](C)(C)[O-] DKPKKUQZFWYBRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 description 1
- HLERILKGMXJNBU-UHFFFAOYSA-N norvaline betaine Chemical compound CCCC(C([O-])=O)[N+](C)(C)C HLERILKGMXJNBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N o-[3-pentadecanethioyloxy-2,2-bis(pentadecanethioyloxymethyl)propyl] pentadecanethioate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(=S)OCC(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N oxoborinic acid Chemical compound OB=O VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Chemical class 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Chemical class 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Chemical class 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000009938 salting Methods 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910002029 synthetic silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical class CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940087291 tridecyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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Description
本発明は積層フィルムに関する。 The present invention relates to a laminated film.
一般に高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれの光学的膜厚を調整して交互に積層した積層膜は、特定の波長の光を選択的に反射することが理論的にも裏付けられ、可視光線を透過し、近赤外線を選択的に反射する積層膜として利用されている。かような積層膜は、建築物の窓や車輌用部材などに用いる熱線遮蔽用の反射膜として用いられている。 Generally, a laminated film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated by adjusting their optical film thickness is theoretically supported to selectively reflect light of a specific wavelength, It is used as a laminated film that transmits visible light and selectively reflects near infrared light. Such a laminated film is used as a reflective film for shielding heat rays used for windows of buildings, members for vehicles, and the like.
しかしながら、このような熱線反射膜をフィルム上に形成した赤外(熱線)遮蔽フィルムにおいて、生産性および光学的特性を考慮すると積層膜だけでは赤外領域を十分に遮蔽することが難しい場合がある。かような問題点に対し、赤外線吸収能を有する赤外線吸収剤を混合した層をフィルム中に設けることにより、透過光を補正することが可能である。上記のような技術として、たとえば、特表2008−528313号公報では、第一のポリマー層と第二のポリマー層とが交互に積層された赤外反射層と、該赤外反射層上に隣接して積層された赤外光吸収ナノ粒子層を含む赤外反射多層フィルムを提案している。ここで、赤外光吸収ナノ粒子層は、赤外線吸収剤であるアンチモンドープト酸化スズ(以下、ATO)、酸化インジウムスズ(以下、ITO)等を含む。 However, in the infrared (heat ray) shielding film in which such a heat ray reflective film is formed on a film, it is sometimes difficult to sufficiently shield the infrared region only with the laminated film in consideration of productivity and optical characteristics. . With respect to such a problem, it is possible to correct transmitted light by providing a layer in which an infrared absorbing agent having an infrared absorbing ability is mixed in the film. As a technique as described above, for example, in Japanese Patent Application Publication No. 2008-528313, an infrared reflective layer in which a first polymer layer and a second polymer layer are alternately laminated, and an infrared reflective layer adjacent to the infrared reflective layer Has proposed an infrared reflective multilayer film including an infrared light absorbing nanoparticle layer that is laminated as follows. Here, the infrared light absorbing nanoparticle layer contains antimony-doped tin oxide (hereinafter, ATO), indium tin oxide (hereinafter, ITO), and the like, which are infrared absorbers.
また、特開2008−200983号公報には、赤外線吸収剤としてセシウム含有複合酸化タングステン(CWO)を用いた、近赤外線遮蔽性および可視光線透過性に優れる近赤外線遮蔽フィルムが開示されている。 Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-200983 discloses a near-infrared ray shielding film having excellent near-infrared ray shielding property and visible light ray transmissivity using cesium-containing composite tungsten oxide (CWO) as an infrared ray absorbing agent.
特表2008−528313号公報のように、赤外線吸収剤を含む赤外光吸収ナノ粒子層を設けることにより、赤外線を遮蔽する効果の高い多層フィルムが提供される。 As described in JP-T-2008-528313, a multilayer film having a high effect of shielding infrared rays is provided by providing an infrared ray absorbing nanoparticle layer containing an infrared ray absorbent.
しかしながら、本発明者らは、特表2008−528313号公報のように、赤外線吸収剤を含む赤外光吸収ナノ粒子層が高湿下で太陽光に長期間曝されると、変色やクラック(割れ)が生じるという問題を見出した。また、酸性雨に長期間さらされると、変色が生じることがわかった。 However, as disclosed in JP-T-2008-528313, when the infrared light absorbing nanoparticle layer containing the infrared absorbing agent is exposed to sunlight for a long time under high humidity, discoloration and cracks ( Cracks). It was also found that discoloration occurs when exposed to acid rain for a long time.
また、特開2008−200983号公報のようにCWOを用いると熱線遮蔽性能は高いものの、高湿下で太陽光に長期間曝されると変色してしまうことがわかった。また、酸性雨に長期間さらされると、変色が生じることがわかった。 Further, it was found that when CWO was used as in JP-A-2008-200383, the heat ray shielding performance was high, but the color changed when exposed to sunlight for a long time under high humidity. It was also found that discoloration occurs when exposed to acid rain for a long time.
したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、赤外線吸収剤を含む層を有する積層フィルムにおいて、太陽光の当たる高湿環境下でもクラックの発生および変色が抑制され、硫化耐性に優れる積層フィルムを提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、赤外線吸収剤を含む層を有する積層フィルムにおいて、太陽光の当たる高湿環境下でも、赤外遮蔽効果が保持されうる積層フィルムを提供することにある。本発明のさらなる他の目的は、赤外線吸収剤を含む層を有する積層フィルムにおいて、太陽光の当たる高湿環境下でも、ヘイズを低減することができる積層フィルムを提供することにある。 Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, in a laminated film having a layer containing an infrared absorber, the occurrence of cracks and discoloration even under a high humidity environment exposed to sunlight, is suppressed, sulfuration resistance An object is to provide an excellent laminated film. Another object of the present invention is to provide a laminated film having a layer containing an infrared absorber, which can maintain an infrared shielding effect even in a high humidity environment exposed to sunlight. Still another object of the present invention is to provide a laminated film having a layer containing an infrared absorber, which can reduce haze even under a high humidity environment exposed to sunlight.
本発明者らは、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、下記構成を採ることにより本発明の目的が達成されることが判明した。 The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, it has been found that the object of the present invention can be achieved by adopting the following configuration.
すなわち、本発明の上記課題は、以下の手段により解決される。 That is, the above object of the present invention is solved by the following means.
1.基材と、
前記基材の一方の面上に配置された、赤外線吸収剤、樹脂、および酸化防止剤を含有する赤外線吸収層と、を有し、
前記赤外線吸収層の基材と反対側の表面の膜面pHが6.5以上である、積層フィルム。1. A substrate,
An infrared absorber, a resin, and an infrared absorbing layer containing an antioxidant, disposed on one surface of the base material,
A laminated film in which the surface pH of the surface of the infrared absorbing layer opposite to the substrate is 6.5 or more.
2.前記赤外線吸収剤が、セシウム含有複合酸化タングステンである、前記1に記載の積層フィルム。 2. 2. The laminated film according to the above 1, wherein the infrared absorber is a cesium-containing composite tungsten oxide.
3.前記酸化防止剤が、フェノール系酸化防止剤およびヒンダードアミン系酸化防止剤からなる群から選択される1以上である、前記1または2に記載の積層フィルム。 3. 3. The laminated film according to the above 1 or 2, wherein the antioxidant is one or more selected from the group consisting of a phenolic antioxidant and a hindered amine antioxidant.
4.前記赤外線吸収層が、紫外線硬化型樹脂および光重合開始剤を含む組成物を硬化させてなる、前記1〜3のいずれか1項に記載の積層フィルム。 4. The laminated film according to any one of the above items 1 to 3, wherein the infrared absorbing layer is obtained by curing a composition containing an ultraviolet curable resin and a photopolymerization initiator.
5.低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなり、波長800〜1300nmの領域に少なくとも1つの反射ピークを有する誘電体多層膜をさらに含む、前記1〜4のいずれか1項に記載の積層フィルム。 5. Any one of the above-described items 1 to 4, further comprising a dielectric multilayer film in which a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer are alternately laminated, and further includes a dielectric multilayer film having at least one reflection peak in a wavelength range of 800 to 1300 nm. The laminated film according to the above.
以下、本発明の実施の形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
本発明の第一の形態によれば、基材と、前記基材の一方の面上に配置された、赤外線吸収剤、樹脂、および酸化防止剤を含有する赤外線吸収層と、を有し、前記赤外線吸収層の基材と反対側の表面の膜面pHが6.5以上である、積層フィルムが提供される。 According to the first embodiment of the present invention, a substrate and, disposed on one surface of the substrate, an infrared absorbing agent, a resin, and an infrared absorbing layer containing an antioxidant, A laminated film is provided, wherein the film surface pH of the surface of the infrared absorption layer opposite to the substrate is 6.5 or more.
本発明によれば、赤外線吸収剤を含む層を有する積層フィルムにおいて、太陽光の当たる高湿環境下でもクラックの発生および変色が抑制され、硫化耐性に優れる積層フィルムが提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in the laminated film which has a layer containing an infrared absorber, generation | occurrence | production of a crack and discoloration are suppressed also in a high humidity environment where sunlight shines, and the laminated film excellent in sulfidation resistance is provided.
本発明に係る積層フィルムは、赤外線吸収剤および樹脂を含有する赤外線吸収層を有する。ここで、上述の特表2008−528313号公報の技術のように、赤外線吸収剤を含む赤外線吸収層を有する積層フィルムを作製し、当該積層フィルムを高湿下で太陽光に長期間曝すと、変色やクラックが生じることが判明した。 The laminated film according to the present invention has an infrared absorbing layer containing an infrared absorbing agent and a resin. Here, as in the technique described in JP-T-2008-528313, a laminated film having an infrared absorbing layer containing an infrared absorbing agent is produced, and the laminated film is exposed to sunlight for a long time under high humidity. It was found that discoloration and cracks occurred.
赤外線吸収剤を含む赤外線吸収層は、太陽光が照射されると、赤外線吸収剤が赤外線を吸収して熱に変換される。このとき、赤外線吸収剤の近傍の樹脂は高温となり膨張するが、近傍外の樹脂は劣化収縮が起こり、赤外線吸収層の内部にひずみが生じる。膨張と収縮が繰り返し起こることで、クラックが生じやすくなってしまうと推察される。 When sunlight is irradiated to the infrared absorbing layer containing the infrared absorbing agent, the infrared absorbing agent absorbs infrared rays and is converted into heat. At this time, the resin in the vicinity of the infrared absorbing agent expands at high temperature, but expands and contracts in the resin outside the vicinity, causing distortion inside the infrared absorbing layer. It is presumed that cracks are likely to occur due to repeated expansion and contraction.
これに対して、本発明によれば、酸化防止剤を添加することで、樹脂中のラジカルを捕捉して樹脂の劣化を防止することができる。また、膜面pHを6.5以上とすることで、酸化防止剤の劣化を緩やかにし、樹脂の劣化を防止する効果を高めることができる。その結果、クラックの発生を抑制できるものと考えられる。 On the other hand, according to the present invention, by adding the antioxidant, the radicals in the resin can be captured and the deterioration of the resin can be prevented. Further, by setting the film surface pH to 6.5 or more, it is possible to moderate the deterioration of the antioxidant and enhance the effect of preventing the deterioration of the resin. As a result, it is considered that the occurrence of cracks can be suppressed.
また、赤外線吸収剤を含む赤外線吸収層は、太陽光曝露下、または高湿環境下にさらされることによって、透過率が変化してしまうことがわかった。例えば、ATOやアンチモンドープト酸化亜鉛(AZO)のような赤外線吸収剤は、太陽光曝露下で透過率が低下する(着色する)。一方、CWOのような赤外線吸収剤は、太陽光曝露下では透過率が変化しないが、高湿環境下では透過率が高くなる(脱色する)。このように、赤外線吸収剤が太陽光の照射や高湿にさらされることによって透過率変化を生じるため、積層フィルムの変色が生じてしまう。 In addition, it was found that the transmittance of the infrared absorbing layer containing the infrared absorbing agent was changed by exposure to sunlight or a high humidity environment. For example, infrared absorbers such as ATO and antimony-doped zinc oxide (AZO) have reduced transmittance (color) under sunlight exposure. On the other hand, the transmittance of an infrared absorber such as CWO does not change under exposure to sunlight, but the transmittance increases (decolorizes) under a high humidity environment. As described above, since the transmittance of the infrared absorbing agent changes due to exposure to sunlight or high humidity, discoloration of the laminated film occurs.
これは、赤外線吸収層に含まれる赤外線吸収剤は、太陽光に長期間曝されることにより、その電子状態が変化する結果、光吸収領域が変化し、赤外線吸収層の変色(赤外線吸収剤がATOやAZOなどの場合、着色)を引き起こすと推測される。これに対し、酸化防止剤を添加することで、赤外線吸収剤の電子状態を初期の状態に留めておくことができるため、赤外線吸収層の変色(赤外線吸収剤がATOやAZOなどの場合、着色)を効果的に抑制することができると考えられる。さらに赤外線吸収層の膜面pHを6.5以上とすることで、酸化防止剤の劣化を緩やかにし、酸化防止剤の効果が十分に得られるようになるものと考えられる。 This is because the infrared absorbing agent contained in the infrared absorbing layer changes its electronic state as a result of being exposed to sunlight for a long period of time, resulting in a change in the light absorbing region and discoloration of the infrared absorbing layer (when the infrared absorbing agent is In the case of ATO or AZO, it is presumed to cause coloring. On the other hand, by adding an antioxidant, the electronic state of the infrared absorbing agent can be kept in the initial state, and thus the discoloration of the infrared absorbing layer (when the infrared absorbing agent is ATO, AZO, etc., ) Can be effectively suppressed. Further, it is considered that by setting the film surface pH of the infrared absorbing layer to 6.5 or more, the deterioration of the antioxidant is moderated, and the effect of the antioxidant can be sufficiently obtained.
また、赤外線吸収層に太陽光を照射すると、紫外線の影響によって樹脂中にラジカルが発生し、樹脂の劣化が起こる。この際、高湿環境下においては酸素や水分の関与によって過酸化物が発生し、赤外線吸収層が酸性化しやすい。赤外線吸収剤がセシウム含有複合酸化タングステンである場合、赤外線吸収剤粒子周辺が酸性であるとセシウムが脱離することで脱色するが、膜面pHを6.5以上とすることで、脱色を抑えることができるものと考えられる。さらに酸化防止剤を添加して樹脂の劣化を抑えることで、色の変化をより低減できるものと考えられる。 Further, when the infrared absorbing layer is irradiated with sunlight, radicals are generated in the resin under the influence of ultraviolet rays, and the resin is deteriorated. At this time, in a high-humidity environment, peroxides are generated due to participation of oxygen and moisture, and the infrared absorbing layer is easily acidified. When the infrared absorber is a cesium-containing composite tungsten oxide, if the periphery of the infrared absorber particles is acidic, cesium is desorbed due to desorption, but the decolorization is suppressed by setting the film surface pH to 6.5 or more. It is thought that we can do it. It is considered that the change in color can be further reduced by adding an antioxidant to suppress the deterioration of the resin.
以下、本発明の積層フィルムの構成要素について、詳細に説明する。なお、以下では、低屈折率層および高屈折率層を区別しない場合は、両者を含む概念として「屈折率層」と称する。 Hereinafter, the components of the laminated film of the present invention will be described in detail. In the following, when the low refractive index layer and the high refractive index layer are not distinguished, they are referred to as a “refractive index layer” as a concept including both.
また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%RHの条件で測定する。 In this specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, the operation, physical properties, and the like are measured under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity of 40 to 50% RH.
〔積層フィルム〕
本発明に係る積層フィルムは、基材と、当該基材の一方の面上に配置された赤外線吸収層と、を有する。赤外線吸収層は、基材と隣接して配置されてもよいし、基材と赤外線吸収層との間に他の層(機能性層)が介在していてもよい。また、赤外線吸収層は、積層フィルムに含まれる他の層の耐久性等の観点から、光が入射する面に配置されると好ましい。(Laminated film)
The laminated film according to the present invention has a base material and an infrared absorption layer disposed on one surface of the base material. The infrared absorbing layer may be arranged adjacent to the base material, or another layer (functional layer) may be interposed between the base material and the infrared absorbing layer. Further, it is preferable that the infrared absorbing layer is disposed on a surface on which light is incident, from the viewpoint of the durability of other layers included in the laminated film.
本発明の積層フィルムは、赤外線吸収層を有し、当該赤外線吸収層の基材と反対側の表面の膜面pHが6.5以上であることを特徴の一つとしている。以下では、まず、赤外線吸収層について詳述する。 One of the features of the laminated film of the present invention is that the laminated film has an infrared absorbing layer, and the film surface pH of the surface of the infrared absorbing layer opposite to the substrate is 6.5 or more. Hereinafter, first, the infrared absorbing layer will be described in detail.
[赤外線吸収層]
本発明に係る積層フィルムは、赤外線吸収層を有することにより、赤外遮蔽効果が付与され、赤外遮蔽効果の向上が可能となる。赤外線吸収層とは、波長800〜2500nmの近赤外領域の光の吸収能を有する層であって、赤外線吸収剤、樹脂および酸化防止剤を含む。また、赤外線吸収層は、他の機能を付与するため、あるいは各種特性を向上させるために、その他の添加剤を含んでいてもよい。[Infrared absorbing layer]
Since the laminated film according to the present invention has the infrared absorbing layer, an infrared shielding effect is provided, and the infrared shielding effect can be improved. The infrared absorbing layer is a layer having an ability to absorb light in the near infrared region having a wavelength of 800 to 2500 nm and includes an infrared absorbing agent, a resin, and an antioxidant. Further, the infrared absorbing layer may contain other additives in order to provide other functions or to improve various characteristics.
本発明に係る積層フィルムにおいて、赤外線吸収層の膜面pHは、6.5以上である。膜面pHは、基材上に積層された赤外線吸収層の基材とは反対側の表面のpHであり、赤外線吸収層用塗布液が塗布乾燥され、または紫外線硬化されて形成された赤外線吸収層の膜面に対するものである。なお、本明細書中、膜面pHの具体的な測定方法は、実施例に記載の方法に従うものとする。 In the laminated film according to the present invention, the film surface pH of the infrared absorbing layer is 6.5 or more. The film surface pH is the pH of the surface of the infrared absorbing layer laminated on the substrate opposite to the surface of the substrate, and the infrared absorbing layer formed by applying a coating solution for the infrared absorbing layer, drying it, or curing it with ultraviolet light. For the film surface of the layer. In this specification, a specific method for measuring the film surface pH is in accordance with the method described in Examples.
赤外線吸収層の膜面pHの上限値は特に制限されないが、11以下であれば作業性がよいため好適である。また、樹脂劣化に伴う赤外線吸収剤周辺の樹脂の酸性化を抑制するとともに、赤外線吸収材料の光励起による着色を抑制する効果がある。 The upper limit of the film surface pH of the infrared absorbing layer is not particularly limited, but is preferably 11 or less because the workability is good. In addition, it has the effect of suppressing acidification of the resin around the infrared absorbing agent due to resin deterioration and suppressing coloring of the infrared absorbing material due to light excitation.
好適な膜面pHは用いる赤外線吸収剤や酸化防止剤の種類、所望の性能によるが、例えば、膜面pHが6.5以上であれば、中性〜弱アルカリ性雰囲気のため、酸化防止剤の劣化を緩やかにすることができ、太陽光の当たる高湿環境下での変色抑制効果に優れる。 Suitable film surface pH depends on the type of infrared absorber and antioxidant used and the desired performance. For example, if the film surface pH is 6.5 or more, a neutral to weakly alkaline atmosphere may be used. Deterioration can be moderated, and the effect of suppressing discoloration in a high humidity environment exposed to sunlight is excellent.
また、より好ましくは、赤外線吸収層の膜面pHが7.5〜10.5である。膜面pHが7.5〜10.5であれば、アルカリ性雰囲気のため、特にセシウム含有複合酸化タングステンの粒子の電荷安定化による変色抑制効果に優れる。さらに好ましくは、赤外線吸収層の膜面pHが8.5〜9.5である。 Further, more preferably, the film surface pH of the infrared absorbing layer is 7.5 to 10.5. When the pH of the film surface is 7.5 to 10.5, since the atmosphere is an alkaline atmosphere, the discoloration suppressing effect due to the charge stabilization of the particles of the cesium-containing composite tungsten oxide is particularly excellent. More preferably, the film surface pH of the infrared absorbing layer is 8.5 to 9.5.
本発明の好ましい実施形態において、赤外線吸収層は、赤外線吸収剤としてセシウム含有複合酸化タングステンを含み、赤外線吸収層の膜面pHが7.5〜10.5である。 In a preferred embodiment of the present invention, the infrared absorbing layer contains a cesium-containing composite tungsten oxide as an infrared absorbing agent, and the infrared absorbing layer has a film surface pH of 7.5 to 10.5.
なお、赤外線吸収層の形成方法は後述するが、赤外線吸収層は、赤外線吸収剤、酸化防止剤および樹脂を含む塗布液を塗布した塗膜、赤外線吸収剤、酸化防止剤、活性エネルギー線硬化性化合物(紫外線硬化型樹脂など)、および光重合開始剤を含有する塗布液を塗布し、紫外線の照射によって硬化させた膜のいずれでもよい。ここで、赤外線吸収層の膜面pHは、塗布液のpHを調整することで制御することができる。 The method for forming the infrared absorbing layer will be described later. The infrared absorbing layer is formed by coating a coating liquid containing an infrared absorbing agent, an antioxidant and a resin, an infrared absorbing agent, an antioxidant, and an active energy ray-curable resin. Any of a film obtained by applying a coating liquid containing a compound (such as an ultraviolet-curable resin) and a photopolymerization initiator and curing by applying ultraviolet light may be used. Here, the film surface pH of the infrared absorbing layer can be controlled by adjusting the pH of the coating solution.
赤外線吸収層の厚みは1μm〜20μmが好ましく、3〜15μmがより好ましい。1μm以上であれば赤外線吸収能力が向上する傾向にあり、一方、20μm以下であれば塗膜の耐クラック性が向上する。また、厚みを1〜20μmとすることにより、ヘイズの低減効果を得ることができ、クラックの発生を抑制しつつ、変色の抑制効果をより向上させることができる。 The thickness of the infrared absorbing layer is preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 3 μm to 15 μm. If it is 1 μm or more, the infrared absorbing ability tends to be improved, while if it is 20 μm or less, the crack resistance of the coating film is improved. When the thickness is 1 to 20 μm, the effect of reducing haze can be obtained, and the effect of suppressing discoloration can be further improved while suppressing the occurrence of cracks.
(赤外線吸収剤)
本発明において、赤外線吸収層は、赤外線吸収剤を含む。ここで、「赤外線吸収剤」とは、積層フィルムを構成する樹脂材料よりも赤外線吸収能に優れているものであれば特に制限はなく、一般に透明樹脂に添加して用いられている赤外線吸収剤を用いることができる。ここで、赤外線吸収剤としては、良溶媒100質量部に対し化合物1質量部を溶解・分散した溶液について、800〜2500nmの近赤外線波長領域の一部、または全域で光線透過率が50%以下、さらには30%以下となる化合物が好ましい。(Infrared absorber)
In the present invention, the infrared absorbing layer contains an infrared absorbing agent. Here, the "infrared absorbing agent" is not particularly limited as long as it has a higher infrared absorbing ability than the resin material constituting the laminated film, and the infrared absorbing agent generally added to a transparent resin is used. Can be used. Here, as the infrared absorbing agent, a solution obtained by dissolving and dispersing 1 part by mass of a compound in 100 parts by mass of a good solvent has a light transmittance of 50% or less in a part or the whole of a near infrared wavelength region of 800 to 2500 nm. And more preferably 30% or less.
赤外線吸収層が赤外線吸収剤を含むことにより、赤外線吸収層は赤外線を吸収するが、このとき、赤外線吸収剤が赤外線を吸収して発熱(蓄熱)して赤外線吸収剤粒子近傍の樹脂が膨張し、赤外線吸収剤粒子から離れた領域の樹脂が劣化収縮することからひずみが生じ、クラックが生じやすい。しかしながら、本発明によれば、酸化防止剤を添加すること、さらに、赤外線吸収層の膜面pHを6.5以上に制御することにより、太陽光の照射下でもクラックの発生を効果的に抑制することができる。 Since the infrared absorbing layer contains the infrared absorbing agent, the infrared absorbing layer absorbs the infrared light. At this time, the infrared absorbing agent absorbs the infrared light and generates heat (heat storage) to expand the resin near the infrared absorbing agent particles. In addition, the resin in a region away from the infrared absorbent particles deteriorates and shrinks, so that distortion occurs and cracks are easily generated. However, according to the present invention, by adding an antioxidant and controlling the film surface pH of the infrared absorbing layer to 6.5 or more, the generation of cracks is effectively suppressed even under irradiation of sunlight. can do.
また、赤外線吸収剤は、太陽光に長期間曝される、または高湿下にさらされると、その光吸収特性が変化してしまい、フィルムの変色の原因となる。しかしながら、酸化防止剤を添加すること、さらに、赤外線吸収層の膜面pHを6.5以上に制御することにより、変色(着色など)もまた抑制される。 In addition, when the infrared absorber is exposed to sunlight for a long time or exposed to high humidity, its light absorption characteristics change, which causes discoloration of the film. However, discoloration (coloring, etc.) is also suppressed by adding an antioxidant and controlling the film surface pH of the infrared absorbing layer to 6.5 or more.
赤外線吸収層に含まれる赤外線吸収剤としては特に制限されず、無機赤外線吸収剤であっても有機赤外線吸収剤であってもよい。 The infrared absorbing agent contained in the infrared absorbing layer is not particularly limited, and may be an inorganic infrared absorbing agent or an organic infrared absorbing agent.
赤外線吸収層に含まれうる無機赤外線吸収剤としては、酸化スズ、アンチモンドープト酸化スズ(ATO)、インジウムドープト酸化スズ(ITO)、セシウム含有複合酸化タングステン(セシウムドープト酸化タングステン(CWO))、六ホウ素化ランタン(LaB6)、酸化亜鉛、アンチモンドープト酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープト酸化亜鉛(IZO)、ガリウムドープト酸化亜鉛(GZO)、アルミニウムドープト酸化亜鉛、ニッケル錯体系化合物が挙げられる。Examples of inorganic infrared absorbers that can be included in the infrared absorption layer include tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), indium-doped tin oxide (ITO), and cesium-containing composite tungsten oxide (cesium-doped tungsten oxide (CWO)). , Lanthanum hexaboride (LaB 6 ), zinc oxide, antimony-doped zinc oxide (AZO), indium-doped zinc oxide (IZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), aluminum-doped zinc oxide, nickel complex compound Is mentioned.
また、これらの具体的な商品名としては、酸化亜鉛系として、セルナックスシリーズ(日産化学工業社製)、パゼットシリーズ(ハクスイテック社製);酸化錫系として、ATO分散液(SR35M Advanced Nano Products社製)、ITO分散液(三菱マテリアル電子化成社製)、KHシリーズ(住友金属鉱山社製);セシウム含有複合酸化タングステン系としてCWO分散液(YMF−02A 住友金属鉱山社製);六ホウ素化ランタン系として、LaB6分散液(KHF−7AH 住友金属鉱山社製)等が挙げられる。Specific examples of these trade names include, as zinc oxide, Cellnax series (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and Pazette series (manufactured by Hakusuiteku Co., Ltd.); and as tin oxide, ATO dispersion (SR35M Advanced Nano Products). Co., Ltd.), ITO Dispersion (Mitsubishi Materials Electronic Chemicals), KH Series (Sumitomo Metal Mining); CWO Dispersion (YMF-02A, Sumitomo Metal Mining) as Cesium-Containing Tungsten Oxide; as lanthanum, LaB 6 dispersion (manufactured by KHF-7AH Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.).
さらに、無機赤外線吸収剤として、Cd/Se、GaN、Y2O3、Au、Agなどからなるものも用いられうる。Further, as the inorganic infrared absorbing agent, those composed of Cd / Se, GaN, Y 2 O 3 , Au, Ag and the like can be used.
無機赤外線吸収剤の平均粒子径は、5〜150nmが好ましく、10〜120nmがより好ましい。5nm以上とすることにより、樹脂中の分散性や、赤外線吸収性を良好に保持し、150nm以下とすることにより、可視光線透過率の低下を抑制することができる。なお、平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば50個の粒子を抽出して該粒子径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、長径を測定して算出したものと定義する。 The average particle diameter of the inorganic infrared absorber is preferably from 5 to 150 nm, more preferably from 10 to 120 nm. When the thickness is 5 nm or more, the dispersibility in the resin and the infrared absorptivity are favorably maintained, and when the thickness is 150 nm or less, a decrease in visible light transmittance can be suppressed. The average particle diameter is measured by taking an image with a transmission electron microscope, randomly extracting, for example, 50 particles, measuring the particle diameter, and averaging the particles. When the shape of the particles is not spherical, it is defined as a value calculated by measuring the major axis.
赤外線吸収層に含まれうる有機赤外線吸収剤としては、ポリアセチレン化合物、ポリパラフェニレン化合物、ポリフェニレンビニレン化合物、ポリピロール、ポリチオフェン化合物、PEDOT−PSS等の導電性高分子;イモニウム化合物;フタロシアニン化合物;カーボンナノチューブ、アセチレンブラック、ケッチェンブラック(登録商標)、カーボンブラック等の導電性炭素材料が挙げられる。 Examples of organic infrared absorbers that can be included in the infrared absorption layer include conductive polymers such as polyacetylene compounds, polyparaphenylene compounds, polyphenylenevinylene compounds, polypyrroles, polythiophene compounds, and PEDOT-PSS; immonium compounds; phthalocyanine compounds; Conductive carbon materials such as acetylene black, Ketjen Black (registered trademark), and carbon black are exemplified.
また、これらの具体的な商品名としては、Denatoron P−502S、P−502RG、Denattron PT−432、NIR−IM1、NIR−AM1(ナガセケムテックス社製)、Clevios CPP 105D、CPP 134.18D、CPP141D、CPG130.6(へレウス社製)、SEPLEGYDAシリーズ(信越ポリマー社製)Lumogenシリーズ(BASF社製)等が挙げられる。 Moreover, as these specific trade names, Denatoron P-502S, P-502RG, Denattron PT-432, NIR-IM1, NIR-AM1 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), Cleios CPP 105D, CPP 134.18D, CPP141D, CPG130.6 (produced by Heraeus), SEPLEGYDA series (produced by Shin-Etsu Polymer), Lumogen series (produced by BASF) and the like.
上記の中でも、赤外線吸収層中の分散性や赤外線吸収能等の観点から、赤外線吸収剤は、アンチモンドープト酸化スズ、インジウムドープト酸化スズ、セシウム含有複合酸化タングステン、六ホウ素化ランタン、アンチモンドープト酸化亜鉛、インジウムドープト酸化亜鉛、導電性高分子、導電性炭素材料からなる群から選択される1種または2種以上であることが好ましい。特には、赤外線吸収剤が、セシウム含有複合酸化タングステンであることが好ましい。セシウム含有複合酸化タングステンは、赤外線吸収剤としての光学特性に優れるとともに、特に、太陽光にさらされても着色しにくいなど、耐候性に優れる。 Among the above, from the viewpoint of dispersibility in the infrared absorbing layer and infrared absorbing ability, the infrared absorbing agent is antimony-doped tin oxide, indium-doped tin oxide, cesium-containing composite tungsten oxide, lanthanum hexaboride, antimony-doped It is preferable to use one or more selected from the group consisting of zinc oxide, indium-doped zinc oxide, a conductive polymer, and a conductive carbon material. In particular, the infrared absorbent is preferably a cesium-containing composite tungsten oxide. The cesium-containing composite tungsten oxide has excellent optical properties as an infrared absorber, and also has excellent weather resistance, such as being hardly colored even when exposed to sunlight.
セシウム含有複合酸化タングステンの組成は、特に制限されないが、安定性の観点から、一般式:一般に、CsxWyOzで表される酸化物であることが好ましく、特開2013−64042号公報や特開2010−215451号公報に記載されるものと同様のものが使用できる。上記一般式中、Csはセシウムであり、Wは、タングステンであり、Oは酸素である。x、y及びzは、タングステンとCsとの組成(Wに対するCsの組成、x/y)が0.001≦x/y≦1の関係を満たし、WとOとの組成(Wに対するOの組成、z/y)が2.2≦z/y≦3の関係を満たすことが好ましい。The composition of the cesium-containing composite tungsten oxide is not particularly limited, but from the viewpoint of stability, it is generally preferably an oxide represented by the general formula: Cs x W y O z , and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-64042. And those similar to those described in JP-A-2010-215451 can be used. In the above general formula, Cs is cesium, W is tungsten, and O is oxygen. x, y, and z are such that the composition of tungsten and Cs (the composition of Cs with respect to W, x / y) satisfies the relationship of 0.001 ≦ x / y ≦ 1, and the composition of W and O (the composition of O with respect to W) The composition, z / y) preferably satisfies the relationship of 2.2 ≦ z / y ≦ 3.
セシウム含有複合酸化タングステンの形状は、特に制限されず、粒子状、球状、棒状、針状、板状、柱状、不定形状、燐片状、紡錘状など任意の構造をとりうるが、好ましくは粒子状である。また、セシウム含有複合酸化タングステン粒子の大きさも特に制限されないが、セシウム含有複合酸化タングステンが粒子状である場合には、平均粒径(平均一次粒子径、直径)は、可視光の反射を抑制しつつ、熱線吸収効果を確保できること、また散乱によるヘイズの劣化が生じず、透明性を確保できることから、5〜150nmであることが好ましく、5〜100nmであることがより好ましい。上記平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。 The shape of the cesium-containing composite tungsten oxide is not particularly limited, and may have any structure such as a particle shape, a spherical shape, a rod shape, a needle shape, a plate shape, a column shape, an irregular shape, a scaly shape, and a spindle shape. It is. The size of the cesium-containing composite tungsten oxide particles is not particularly limited. However, when the cesium-containing composite tungsten oxide is in the form of particles, the average particle diameter (average primary particle diameter, diameter) suppresses the reflection of visible light. In addition, the thickness is preferably from 5 to 150 nm, more preferably from 5 to 100 nm, since the heat ray absorbing effect can be ensured, and the haze does not deteriorate due to scattering, and the transparency can be ensured. The average particle diameter is determined by observing the particles themselves or particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope, measuring the particle diameter of 1,000 arbitrary particles, and calculating the simple average value (number average). Is required. Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to its projected area.
なお、上記赤外線吸収剤は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。 In addition, the said infrared absorber can be used individually or in combination of 2 or more types.
赤外線吸収層における赤外線吸収剤の含有量は特に制限されないが、膜強度、膜弾性率などの物性値や透過率等の光学特性を所望の値に調整する観点からは、赤外線吸収層の全質量に対して(赤外線吸収層の全質量を100質量%としたときの固形分換算)、1〜80質量%であることが好ましく、5〜70質量%であることがより好ましい。含有量が1質量%以上であれば、十分な赤外線吸収効果を得ることができ、80質量%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。 The content of the infrared absorbing agent in the infrared absorbing layer is not particularly limited, but from the viewpoint of adjusting physical properties such as film strength and film elasticity and optical properties such as transmittance to desired values, the total mass of the infrared absorbing layer is (In terms of solid content when the total mass of the infrared absorbing layer is 100% by mass), preferably 1 to 80% by mass, more preferably 5 to 70% by mass. When the content is 1% by mass or more, a sufficient infrared absorbing effect can be obtained, and when the content is 80% by mass or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.
(樹脂)
本発明において、赤外線吸収層は、上記赤外線吸収剤と共に、樹脂を含む。当該樹脂としては、水溶性樹脂、有機溶剤溶解性樹脂のいずれも用いることができる。(resin)
In the present invention, the infrared absorbing layer contains a resin together with the infrared absorbing agent. As the resin, any of a water-soluble resin and an organic solvent-soluble resin can be used.
環境負荷・工程負荷を低減するという観点からは、水溶性樹脂を含有することが好ましい。水溶性樹脂としては特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、および反応性官能基を有するポリマーが挙げられる。なお、本明細書において「水溶性」とは、物質が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度となるように水に溶解させた際、G2グラスフィルタ(最大細孔40〜50μm)で濾過した場合に、濾別される不溶物の質量が加えた高分子の50質量%以内であることを意味する。 It is preferable to contain a water-soluble resin from the viewpoint of reducing environmental load and process load. The water-soluble resin is not particularly limited, and examples thereof include polyvinyl alcohol-based resins, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having a reactive functional group. In this specification, “water-soluble” means a G2 glass filter (maximum pores: 40 to 50 μm) when dissolved in water to a concentration of 0.5% by mass at a temperature at which the substance is most dissolved. Means that the mass of the insoluble matter to be separated by filtration is within 50% by mass of the added polymer.
他方、フィルムの湿度変動の影響が小さくなるという観点からは、有機溶剤溶解性樹脂を含有することが好ましい。有機溶剤溶解性樹脂としては特に制限されないが、アクリル樹脂、ウレタン変性アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリ酢酸ビニル、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリブチラール、ポリアミド(ナイロン)樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ABS樹脂、ポリフッ化ビニリデン、紫外線硬化型樹脂が挙げられる。 On the other hand, from the viewpoint that the effect of humidity fluctuation of the film is reduced, it is preferable to contain an organic solvent-soluble resin. The organic solvent-soluble resin is not particularly limited. However, acrylic resin, urethane-modified acrylic resin, polyurethane resin, polyester resin, melamine resin, polyvinyl acetate, cellulose acetate, polycarbonate, polyacetal, polybutyral, polyamide (nylon) resin, polystyrene Examples of the resin include a resin, a polyimide resin, an ABS resin, polyvinylidene fluoride, and an ultraviolet curable resin.
紫外線硬化型樹脂としては(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が挙げられ、これらは無溶剤型の樹脂組成物としても使用できる。 Examples of the ultraviolet curable resin include (meth) acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, epoxy resin, and oxetane resin, and these can also be used as a solventless resin composition.
上記紫外線硬化型樹脂を用いる場合、硬化促進のために、光重合開始剤を添加することが好ましい。 When the above-mentioned ultraviolet curable resin is used, it is preferable to add a photopolymerization initiator in order to promote curing.
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。光重合開始剤の具体例としては、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、2−メチル−4’−メチルチオ−2−モリホリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モリホリノフェニル)−ブタノン1などのアセトフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン類、ベンゾフェノン、2,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、p−クロロベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、アントラキノン類、チオキサントン類などがある。これらの光重合開始剤は単独で用いてもよいし、2種以上組合せや、共融混合物であってもよい。特に、硬化性組成物の安定性や重合反応性等からアセトフェノン類を用いることが好ましい。 As a photopolymerization initiator, acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoroamine compounds Are used. Specific examples of the photopolymerization initiator include 2,2′-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 1-hydroxydimethylphenylketone, 2-methyl-4′-methylthio-2-mol. Acetophenones such as folinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone 1, benzoin such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzyl dimethyl ketal , Benzophenones such as benzophenone, 2,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and p-chlorobenzophenone; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; Rakinon such, there is such as thioxanthones. These photopolymerization initiators may be used alone, in combination of two or more, or in a eutectic mixture. In particular, it is preferable to use acetophenones in view of the stability of the curable composition, the polymerization reactivity, and the like.
このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、例えば、BASFジャパン社製のイルガキュア(登録商標)819、184、907、651などが好ましい例示として挙げられる。 As such a photopolymerization initiator, a commercially available product may be used. For example, preferable examples include Irgacure (registered trademark) 819, 184, 907, and 651 manufactured by BASF Japan.
なお、赤外線吸収層を構成する樹脂の種類によっては、赤外線吸収層に耐擦過性(ハードコート性)を付与することができるため、赤外線吸収層は、後述のハードコート層を兼ねたものであってもよい。例えば、本発明の好ましい実施形態において、赤外線吸収層は、紫外線硬化型樹脂および光重合開始剤を含む組成物を硬化させて形成される。上記紫外線硬化型樹脂を用いることにより、赤外線吸収層にハードコート性を付与することができる。ここで、ハードコート性とは、JIS K 5600−5−4に準じた鉛筆硬度がH以上であることをいい、好ましくは2H以上である。ハードコート層またはハードコート層を兼ねた赤外線吸収層の硬さは、折り曲げ等の外部応力がかかった際に層の破壊や剥がれなどが発生しない範囲で硬い方が耐傷性の点で好ましい。 Note that, depending on the type of the resin constituting the infrared absorbing layer, the infrared absorbing layer can be provided with abrasion resistance (hard coat property). Therefore, the infrared absorbing layer also serves as a hard coat layer described later. You may. For example, in a preferred embodiment of the present invention, the infrared absorbing layer is formed by curing a composition containing an ultraviolet curable resin and a photopolymerization initiator. By using the above-mentioned ultraviolet curable resin, a hard coat property can be imparted to the infrared absorbing layer. Here, the hard coat property means that the pencil hardness according to JIS K 5600-5-4 is H or more, preferably 2H or more. The hardness of the hard coat layer or the hardness of the infrared absorption layer also serving as the hard coat layer is preferably from the viewpoint of scratch resistance as long as the layer is not broken or peeled off when an external stress such as bending is applied.
(酸化防止剤)
本発明において、赤外線吸収層は、酸化防止剤を含む。赤外線吸収層が酸化防止剤を含むことにより、ラジカルを捕捉して樹脂の劣化を防止することができる。また、樹脂の劣化に伴って酸素、水の関与によって過酸化物が発生し、赤外線吸収剤粒子の周辺が酸性化してしまって脱色を引き起こすことを回避できる。(Antioxidant)
In the present invention, the infrared absorbing layer contains an antioxidant. When the infrared absorbing layer contains an antioxidant, it is possible to capture radicals and prevent deterioration of the resin. Further, it is possible to avoid the occurrence of peroxide due to the involvement of oxygen and water due to the deterioration of the resin and the periphery of the infrared absorbent particles being acidified to cause decolorization.
酸化防止剤の種類としては、特に制限されず、公知の酸化防止剤を用いることができるが、好ましい酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤などが挙げられる。 The type of antioxidant is not particularly limited, and known antioxidants can be used. Preferred antioxidants include phenolic antioxidants, thiol antioxidants, and phosphite antioxidants. And hindered amine antioxidants.
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、2,2'−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、テトラキス−〔メチレン−3−(3',5'−ジ−t−ブチル−4'−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(3',5'−ジ−t−ブチル−4'−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、3,9−ビス[1,1−ジ−メチル−2−〔β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、オクタデシル3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が550以上のものが好ましい。 Examples of the phenolic antioxidant include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane and 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t-). Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ,bird Tylene glycol bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis [1,1-di-methyl-2- [β- (3-t-butyl -4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris ( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, octadecyl 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and the like. In particular, the phenolic antioxidant preferably has a molecular weight of 550 or more.
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−3,3'−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)等が挙げられる。 Examples of the thiol-based antioxidant include distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate) and the like.
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)4,4'−ビフェニレン−ジホスホナイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)2−エチルヘキシルホスファイト等が挙げられる。 Examples of the phosphite-based antioxidant include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearylpentaerythritol diphosphite, and di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol. Diphosphite, bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite And 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, 2,2'-methylene bis (4,6-di-t-butylphenyl) 2-ethylhexyl phosphite and the like. .
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、1−メチル−8−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−セバケート、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン、等が挙げられる。 Examples of the hindered amine antioxidants include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)- 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl-8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -Sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) Lopionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)- 1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, triethylenediamine, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] decane- 2,4-dione, and the like.
特にヒンダードアミン系酸化防止剤としては、3級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、または1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノール/トリデシルアルコールと1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。 In particular, as the hindered amine antioxidant, a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine is preferable, and specifically, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)- Sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, tetrakis ( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate or 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol And a condensate of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid.
中でも、フェノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン系酸化防止剤が特に好ましく用いられうる。フェノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン系酸化防止剤は、自動酸化で発生したラジカルを捕捉する効果を有する。これらを用いることによって、太陽光曝露下でも変色を抑える効果がより向上しうる。 Among them, a phenolic antioxidant or a hindered amine antioxidant can be particularly preferably used. A phenolic antioxidant or a hindered amine antioxidant has an effect of capturing radicals generated by autoxidation. By using these, the effect of suppressing discoloration even under sunlight exposure can be further improved.
なお、該酸化防止剤は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。また、該酸化防止剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ノクラック(登録商標)200、ノクラック(登録商標)M−17、ノクラック(登録商標)SP、ノクラック(登録商標)SP−N、ノクラック(登録商標)NS−5、ノクラック(登録商標)NS−6、ノクラック(登録商標)NS−30、ノクラック(登録商標)300、ノクラック(登録商標)NS−7、ノクラック(登録商標)DAH(以上、大内新興化学工業株式会社製)、アデカスタブAO−30、アデカスタブAO−40、アデカスタブAO−50、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−616、アデカスタブAO−635、アデカスタブAO−658、アデカスタブAO−80、アデカスタブAO−15、アデカスタブAO−18、アデカスタブ328、アデカスタブAO−37、アデカスタブLA−52、アデカスタブLA−57、アデカスタブLA−62、アデカスタブLA−67、アデカスタブLA−63、アデカスタブLA−68、アデカスタブLA−82、アデカスタブLA−87、アデカスタブ2112、アデカスタブHP−10(以上、株式会社ADEKA製)、IRGANOX(登録商標)245、IRGANOX(登録商標)259、IRGANOX(登録商標)565、IRGANOX(登録商標)1010、IRGANOX(登録商標)1024、IRGANOX(登録商標)1035、IRGANOX(登録商標)1076、IRGANOX(登録商標)1081、IRGANOX(登録商標)1098、IRGANOX(登録商標)1222、IRGANOX(登録商標)1330、IRGANOX(登録商標)1425WL、IRGAFOS(登録商標)38、IRGAFOS(登録商標)168、IRGAFOS(登録商標)P−EPQ、チヌビンPA144、チヌビン765、チヌビン660DF、Chimassorb2020(BASFジャパン株式会社製)、Sumilizer(登録商標)GM、Sumilizer(登録商標)GA−80(以上、住友化学株式会社製)、等が挙げられる。 The antioxidants may be used alone or in combination of two or more. As the antioxidant, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include, for example, Nocrack (registered trademark) 200, Nocrack (registered trademark) M-17, Nocrack (registered trademark) SP, Nocrack (registered trademark) SP-N, Nocrack (registered trademark) NS-5, Nocrack (registered trademark) NS-6, Nocrack (registered trademark) NS-30, Nocrack (registered trademark) 300, Nocrack (registered trademark) NS-7, Nocrack (registered trademark) DAH (Ouchi Shinko Chemical Industry Co., Ltd. ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-616, ADK STAB AO-635, ADK STAB AO-658, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-15, ADK STAB AO -18, ADK STAB 328, ADK STAB AO-37, DECASTAB LA-52, ADEKASTAB LA-57, ADEKASTAB LA-62, ADEKASTAB LA-67, ADEKASTAB LA-63, ADEKASTAB LA-68, ADEKASTAB LA-82, ADEKASTAB LA-87, ADEKASTAB 2112, ADEKASTAB HP-10 (or more, ADEKA Corporation), IRGANOX (registered trademark) 245, IRGANOX (registered trademark) 259, IRGANOX (registered trademark) 565, IRGANOX (registered trademark) 1010, IRGANOX (registered trademark) 1024, IRGANOX (registered trademark) 1035, IRGANOX ( (Registered trademark) 1076, IRGANOX (registered trademark) 1081, IRGANOX (registered trademark) 1098, IRGANOX (registered trademark) 1222, IRGANOX (registered trademark) 1330, IRGA OX (registered trademark) 1425WL, IRGAFOS (registered trademark) 38, IRGAFOS (registered trademark) 168, IRGAFOS (registered trademark) P-EPQ, tinuvin PA144, tinuvin 765, tinuvin 660DF, Chimassorb 2020 (manufactured by BASF Japan Ltd.), Sumilizer ( (Registered trademark) GM, Sumilizer (registered trademark) GA-80 (all manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and the like.
赤外線吸収層における酸化防止剤の含有量は特に制限されないが、赤外線吸収層の全質量に対して(赤外線吸収層の全質量を100質量%としたときの固形分換算)、0.01〜10質量%であることが好ましく、0.05〜3.0質量%であることがより好ましい。含有量が0.01質量%以上であれば、優れた酸化防止機能を発現することができ、10質量%以下であれば添加量に応じた酸化防止効果が得られるとともに、優れた光学特性が得られうる。 Although the content of the antioxidant in the infrared absorbing layer is not particularly limited, it is 0.01 to 10 with respect to the total weight of the infrared absorbing layer (in terms of solid content when the total weight of the infrared absorbing layer is 100% by mass). %, More preferably 0.05 to 3.0% by mass. When the content is 0.01% by mass or more, an excellent antioxidant function can be exhibited. When the content is 10% by mass or less, an antioxidant effect according to the addition amount can be obtained, and excellent optical characteristics can be obtained. Can be obtained.
(界面活性剤)
赤外線吸収層には、赤外線吸収剤、酸化防止剤および樹脂のほか、レベリング剤や滑り剤などとしての機能を発揮させる目的で、界面活性剤を添加することが好ましい。(Surfactant)
It is preferable to add a surfactant to the infrared absorbing layer for the purpose of exhibiting functions as a leveling agent, a slipping agent, and the like, in addition to the infrared absorbing agent, the antioxidant, and the resin.
界面活性剤としては、特に制限されないが、両性イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤およびシリコン系界面活性剤が挙げられる。これらのうち、塗膜表面の均一性・外観の観点から、アクリル系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、またはフッ素系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤が特に好ましい。界面活性剤としては、長鎖アルキル基を含有する界面活性剤が好ましく、炭素数6〜20のアルキル基を有する界面活性剤がより好ましい。 Examples of the surfactant include, but are not particularly limited to, zwitterionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, fluorine-based surfactants, and silicon-based surfactants. . Among them, from the viewpoint of uniformity and appearance of the coating film surface, an acrylic surfactant, a silicon surfactant, or a fluorine surfactant is preferable, and a fluorine surfactant is particularly preferable. As the surfactant, a surfactant having a long-chain alkyl group is preferable, and a surfactant having an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferable.
両性イオン性界面活性剤としては、アルキルベタイン、アルキルアミンオキサイド、コカミドプロピルベタイン、ラウラミドプロピルベタイン、パーム核脂肪酸アミドプロピルベタイン、ココアンホ酢酸N、ラウロアンホ酢酸Na、ラウラミドプロピルヒドロキシスルタイン、ラウラミドプロピルアミンオキシド、ミリスタミドプロピルアミンオキシド、ヒドロキシアルキル(C12−14)ヒドロキシエチルサルコシンが挙げられる。 Examples of zwitterionic surfactants include alkyl betaine, alkyl amine oxide, cocamidopropyl betaine, lauramide propyl betaine, palm kernel fatty acid amidopropyl betaine, cocoamphoacetic acid N, lauroamphoacetate Na, lauramidepropyl hydroxysultaine, lauramide Propylamine oxide, myristamidopropylamine oxide, hydroxyalkyl (C12-14) hydroxyethylsarcosine.
カチオン性界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩が挙げられる。 Examples of the cationic surfactant include an alkylamine salt and a quaternary ammonium salt.
アニオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、脂肪酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、アルケニルコハク酸ジカリウムが挙げられる。 Examples of the anionic surfactant include an alkyl sulfate, a polyoxyethylene alkyl ether sulfate, an alkylbenzene sulfonate, a fatty acid salt, a polyoxyethylene alkyl ether phosphate, and dipotassium alkenyl succinate.
ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(例えば、花王社製エマルゲン)、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル(例えば、花王社製レオドールTWシリーズ)、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミドが挙げられる。 Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether (for example, Emulgen manufactured by Kao Corporation), polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester (for example, Leodol TW series manufactured by Kao Corporation), glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, and polyoxyethylene fatty acid ester. Oxyethylene alkylamines and alkylalkanolamides are exemplified.
フッ素系界面活性剤としては、サーフロンS−211、S−221、S−231、S−241、S−242、S−243、S−420(AGCセイミケミカル社製)、メガファックF−114、F−410、F−477、F−552、F−553(DIC社製)、FC−430、FC−4430、FC−4432(3M社製)が挙げられる。 Examples of the fluorinated surfactant include Surflon S-211, S-221, S-231, S-241, S-242, S-243, S-420 (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), Megafac F-114, F-410, F-479, F-552, F-553 (manufactured by DIC), FC-430, FC-4430, and FC-4432 (manufactured by 3M).
シリコン系界面活性剤としては、BYK−345、BYK−347、BYK−348、BYK−349(ビックケミー・ジャパン社製)が挙げられる。 Examples of the silicon-based surfactant include BYK-345, BYK-347, BYK-348, and BYK-349 (manufactured by BYK Japan KK).
なお、上記界面活性剤は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。 The above surfactants can be used alone or in combination of two or more.
赤外線吸収層における界面活性剤の含有量は特に制限されないが、レベリング剤や滑り剤などとしての機能を十分に得るという目的からは、赤外線吸収層用塗布液の全質量を100質量%としたとき、0.001〜0.30質量%の範囲であることが好ましく、0.005〜0.10質量%であることがより好ましい。 The content of the surfactant in the infrared absorbing layer is not particularly limited, but for the purpose of sufficiently obtaining a function as a leveling agent, a slipping agent, etc., when the total mass of the coating solution for the infrared absorbing layer is 100% by mass. , 0.001 to 0.30% by mass, more preferably 0.005 to 0.10% by mass.
また、界面活性剤の含有量は、赤外線吸収層の全質量に対して(赤外線吸収層の全質量を100質量%としたとき)、0.005〜5質量%の範囲であることが好ましく、0.01〜3質量%であることがより好ましい。 Further, the content of the surfactant is preferably in the range of 0.005 to 5% by mass relative to the total mass of the infrared absorbing layer (when the total mass of the infrared absorbing layer is 100% by mass), More preferably, it is 0.01 to 3% by mass.
(その他の添加剤)
上記のように、赤外線吸収層は、赤外線吸収剤、樹脂および酸化防止剤以外にも、界面活性剤を含んでいてもよいが、本発明の効果を損なわない限り、さらに、これ以外の他の添加剤を含んでいてもよい。(Other additives)
As described above, in addition to the infrared absorbing agent, the resin and the antioxidant, the infrared absorbing layer may contain a surfactant, but as long as the effects of the present invention are not impaired, further, other components may be used. It may contain additives.
たとえば、赤外線吸収層は、その他の添加剤として、無機ナノ粒子を含んでもよい。無機ナノ粒子を含むことにより、赤外線吸収層を基材と隣接して配置する場合、基材に対する密着性が向上し、積層フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。なお、本明細書中、「無機ナノ粒子」とは、動的散乱法により測定した平均粒子径が200nm以下である無機化合物(好ましくは無機酸化物)からなる粒子を意味する。 For example, the infrared absorbing layer may include inorganic nanoparticles as another additive. By including the inorganic nanoparticles, when the infrared absorbing layer is disposed adjacent to the substrate, the adhesion to the substrate is improved, and the scratch resistance of the laminated film can be improved. In the present specification, “inorganic nanoparticles” mean particles composed of an inorganic compound (preferably inorganic oxide) having an average particle size of 200 nm or less as measured by a dynamic scattering method.
無機ナノ粒子の具体的な組成について特に制限はないが、以下で詳述する誘電体多層膜に用いられうる金属酸化物であるSiO2、Al2O3、ZrO2、TiO2、CeO2などを用いることができる。There are no particular restrictions on the specific composition of the inorganic nanoparticles, but metal oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2 , and CeO 2 that can be used in the dielectric multilayer film described in detail below. Can be used.
赤外線吸収層における無機ナノ粒子の含有量は特に制限されないが、表面硬度、膜弾性率などの物性値や透過率等の光学特性を所望の値に調整する観点からは、好ましくは10〜80質量%であり、より好ましくは20〜65質量%である。 The content of the inorganic nanoparticles in the infrared absorbing layer is not particularly limited, but is preferably from 10 to 80 mass from the viewpoint of adjusting optical properties such as surface hardness and physical properties such as film elastic modulus and transmittance to desired values. %, More preferably 20 to 65% by mass.
(赤外線吸収層の形成方法)
赤外線吸収層の形成方法については、特に制限されず、膜面pHが6.5以上である赤外線吸収層が形成できるものであればよいが、上記構成を有する赤外線吸収層を形成するための赤外線吸収層用塗布液を予め調製し、当該塗布液を塗布する方法(湿式法)を用いると好ましい。(Method of forming infrared absorbing layer)
The method for forming the infrared absorbing layer is not particularly limited as long as the infrared absorbing layer having a film surface pH of 6.5 or more can be formed. It is preferable to use a method (wet method) of preparing a coating solution for the absorbing layer in advance and applying the coating solution.
赤外線吸収層用塗布液の調製方法としては、特定の膜面pHが得られるようにすることができれば、特に制限されない。赤外線吸収層用塗布液は、たとえば、赤外線吸収剤、樹脂、さらに必要に応じて用いられる界面活性剤等のその他の添加剤を溶媒に添加し、撹拌混合することにより調製することができる。紫外線硬化型樹脂を用いる場合はさらに光重合開始剤を添加する。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。 The method for preparing the coating solution for the infrared absorbing layer is not particularly limited as long as a specific film surface pH can be obtained. The coating solution for an infrared absorbing layer can be prepared, for example, by adding an infrared absorbing agent, a resin, and other additives such as a surfactant used as needed to a solvent, and mixing with stirring. When using an ultraviolet curable resin, a photopolymerization initiator is further added. At this time, the order of addition of each component is not particularly limited, and each component may be sequentially added and mixed with stirring, or may be added and mixed at once with stirring.
pHの調整は、任意の酸性または塩基性のpH調整剤、例えば、水系溶媒を用いる場合であれば、炭酸ナトリウムや水酸化ナトリウムのようなアルカリ、および/またはクエン酸、酢酸または硫酸のような酸を赤外線吸収層用塗布液中に添加する方法で行うことができる。 The pH may be adjusted by using any acidic or basic pH adjuster, for example, an alkali such as sodium carbonate or sodium hydroxide when using an aqueous solvent, and / or an acid such as citric acid, acetic acid or sulfuric acid. The method can be carried out by adding an acid to the coating solution for the infrared absorbing layer.
上記のように、膜面pHを調整するための酸性または塩基性のpH調整剤は特に制限されないが、非水の有機溶媒を用いる場合、これに溶解する脂肪酸等の酸、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、4級アミンなど、4級アンモニウム塩を含む溶液、4級アンモニウム塩を構造中に有するポリマーなどを用いると所望のpHの範囲に調整しやすい。 As described above, the acidic or basic pH adjuster for adjusting the pH of the membrane surface is not particularly limited. However, when a non-aqueous organic solvent is used, an acid such as a fatty acid, an alkali metal salt, or an alkali dissolved therein is used. When a solution containing a quaternary ammonium salt such as an earth metal salt or a quaternary amine is used, a polymer having a quaternary ammonium salt in the structure or the like is easily adjusted to a desired pH range.
また、例えば、キレート試薬などの錯体形成化合物を用いてもよい。 Further, for example, a complex forming compound such as a chelating reagent may be used.
赤外線吸収層用塗布液に用いられる溶媒としては、樹脂、赤外線吸収剤および酸化防止剤を十分に分散することができるものであれば、特に限定されず、種々の有機溶媒や水系溶媒を用いることができる。 The solvent used in the coating solution for the infrared absorbing layer is not particularly limited as long as the resin, the infrared absorbing agent and the antioxidant can be sufficiently dispersed, and various organic solvents and aqueous solvents may be used. Can be.
前記有機溶媒としては、特に制限されないが、たとえば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。上記有機溶媒の中でも、樹脂、赤外線吸収剤および酸化防止剤の分散性を考慮すると、エステル類、エーテル類、ケトン類を用いると好ましく、ケトン類を用いるとさらに好ましい。 Examples of the organic solvent include, but are not particularly limited to, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol and i-propanol, ethyl acetate, butyl acetate, esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl ether, and propylene glycol. Examples include ethers such as monomethyl ether, amides such as dimethylformamide, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Among the organic solvents, esters, ethers, and ketones are preferably used, and ketones are more preferably used, in consideration of the dispersibility of the resin, the infrared absorber, and the antioxidant.
前記水系溶媒としては、特に制限されないが、水、または水とメタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノールもしくは酢酸エチルとの混合溶媒などが挙げられる。上記水系溶媒の中でも、樹脂、赤外線吸収剤および酸化防止剤の分散性を考慮すると、水とメタノール、エタノール、n−プロパノール、またはi−プロパノールとの混合溶媒が特に好ましい。 Examples of the aqueous solvent include, but are not particularly limited to, water and a mixed solvent of water and methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, or ethyl acetate. Among the above aqueous solvents, a mixed solvent of water and methanol, ethanol, n-propanol, or i-propanol is particularly preferable in consideration of the dispersibility of the resin, the infrared absorber, and the antioxidant.
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を100質量%として、10〜60質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましい。 When a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent is used, the content of water in the mixed solvent is preferably 10 to 60% by mass, and preferably 20 to 50% by mass based on 100% by mass of the whole mixed solvent. Is more preferable.
赤外線吸収層用塗布液中の樹脂の濃度(複数種類の樹脂を用いる場合は、その合計濃度)は、0.5〜30質量%であることが好ましい。また、赤外線吸収層用塗布液中の赤外線吸収剤の濃度は、0.1〜50質量%であることが好ましい。また、赤外線吸収層用塗布液中の酸化防止剤の濃度は、0.01〜10質量%であることが好ましい。 The concentration of the resin in the coating solution for the infrared absorbing layer (when a plurality of types of resins are used, the total concentration thereof) is preferably 0.5 to 30% by mass. Further, the concentration of the infrared absorbent in the coating liquid for the infrared absorbing layer is preferably 0.1 to 50% by mass. Further, the concentration of the antioxidant in the coating solution for the infrared absorbing layer is preferably 0.01 to 10% by mass.
また、赤外線吸収層用塗布液中の界面活性剤の濃度は、0.005〜0.30質量%であることが好ましい。 The concentration of the surfactant in the coating solution for the infrared absorbing layer is preferably from 0.005 to 0.30% by mass.
上記のように調製した赤外線吸収層用塗布液を塗布することにより、赤外線吸収層を形成することができる。ここで、塗布方式としては特に制限されるものではなく、たとえば、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングによる塗布などによる湿式法によって形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布・製膜することも可能である。 An infrared absorbing layer can be formed by applying the infrared absorbing layer coating solution prepared as described above. Here, the application method is not particularly limited. For example, it can be formed by a wet method such as coating with a wire bar, spin coating, or dip coating. It is also possible to apply and form a film using a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater or a comma coater.
上記赤外線吸収層の塗布・乾燥条件も特に制限はなく、硬化・架橋を促進するため、適当な温度・乾燥時間を採用することができる。特に、樹脂として紫外線硬化型樹脂を用いる場合には、紫外光の照射波長、照度、光量もまた適宜調節される。 The conditions for applying and drying the infrared absorbing layer are not particularly limited, and appropriate temperatures and drying times can be adopted to promote curing and crosslinking. In particular, when an ultraviolet curable resin is used as the resin, the irradiation wavelength, illuminance, and light amount of ultraviolet light are also appropriately adjusted.
[基材]
本発明に係る積層フィルムは、上記赤外線吸収層や、その他の任意で設けられる層(たとえば、誘電体多層膜など)を支持するための基材を含む。積層フィルムの基材としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。[Base material]
The laminated film according to the present invention includes a base material for supporting the infrared absorption layer and other optional layers (for example, a dielectric multilayer film). Various resin films can be used as the base material of the laminated film, such as polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose acetate, etc. Can be used, and a polyester film is preferable. The polyester film (hereinafter, referred to as polyester) is not particularly limited, but is preferably a film-forming polyester having a dicarboxylic acid component and a diol component as main components.
本発明に用いられる基材の厚みは、10〜300μm、特に20〜150μmであることが好ましい。また、基材は、2枚重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。 The thickness of the substrate used in the present invention is preferably from 10 to 300 μm, particularly preferably from 20 to 150 μm. In addition, two substrates may be stacked, and in this case, the types may be the same or different.
基材は、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が85%以上であることが好ましく、特に90%以上であることが好ましい。基材が上記透過率以上であることにより、積層フィルムとしたときのJIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率を50%以上(上限:100%)にするという点で有利であり、好ましい。 The base material preferably has a transmittance of 85% or more, and particularly preferably 90% or more, in a visible light region indicated by JIS R3106-1998. When the substrate has the transmittance or higher, it is advantageous in that the transmittance in the visible light region represented by JIS R3106-1998 in the case of forming a laminated film is 50% or more (upper limit: 100%), preferable.
また、上記樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。 Further, the substrate using the above resin or the like may be an unstretched film or a stretched film. Stretched films are preferred from the viewpoint of improving strength and suppressing thermal expansion.
また、本発明の基材としては、上記に挙げたもののほか、後述の誘電体多層膜で、自己支持性を有するものを使用することができる。自己支持性を有する誘電体多層膜としては、特に制限されないが、例えば共押出法や共流涎法にて作製された誘電体多層膜等が挙げられる。 Further, as the substrate of the present invention, in addition to the above-mentioned substrates, a dielectric multilayer film which will be described later and which has self-supporting properties can be used. The dielectric multilayer film having self-supporting properties is not particularly limited, and examples thereof include a dielectric multilayer film produced by a co-extrusion method or a co-salting method.
[誘電体多層膜]
本発明の積層フィルムは、特定の波長を有する光(たとえば、赤外光)が入射した場合に、少なくともこの光の一部を反射して遮蔽効果(ひいては赤外光の場合には遮熱効果)を発揮するため、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜をさらに有していると好ましい。好ましくは、前記誘電体多層膜は、波長800〜1300nmの領域に少なくとも1つの反射ピークを有する。ここで、誘電体多層膜は、基材を介して赤外線吸収層の反対側に設けられていてもよいし、基材上の赤外線吸収層と同じ側に設けられていてもよい。[Dielectric multilayer film]
When a light having a specific wavelength (for example, infrared light) is incident, the laminated film of the present invention reflects at least a part of this light to thereby have a shielding effect (and, in the case of infrared light, a heat shielding effect). In order to exhibit (3), it is preferable to further include a dielectric multilayer film in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated. Preferably, the dielectric multilayer film has at least one reflection peak in a wavelength range of 800 to 1300 nm. Here, the dielectric multilayer film may be provided on the opposite side of the infrared absorption layer via the base material, or may be provided on the same side of the base material as the infrared absorption layer.
本形態において、誘電体多層膜を構成する屈折率層が、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層である(隣接層は低屈折率層である)と判断される。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層である(隣接層は高屈折率層である)と判断される。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は、隣接層との関係によって高屈折率層にも低屈折率層にもなりうる。 In the present embodiment, whether the refractive index layer constituting the dielectric multilayer film is a low refractive index layer or a high refractive index layer is determined by comparing the refractive index with an adjacent refractive index layer. Specifically, when a certain refractive index layer is used as a reference layer, if the refractive index layer adjacent to the reference layer has a lower refractive index than the reference layer, the reference layer is a high refractive index layer (the adjacent layer has a low refractive index). Rate class). On the other hand, if the refractive index of the adjacent layer is higher than that of the reference layer, it is determined that the reference layer is a low refractive index layer (the adjacent layer is a high refractive index layer). Therefore, whether the refractive index layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is a relative one determined by the relationship with the refractive index of the adjacent layer, and a certain refractive index layer is Depending on the relationship, it can be a high refractive index layer or a low refractive index layer.
屈折率層としては、特に制限はないが、好ましくは当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることが好ましい。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。なかでも、製造効率の観点からは湿式製膜法が好ましく用いられる。 The refractive index layer is not particularly limited, but is preferably a known refractive index layer used in the technical field. As a known refractive index layer, for example, a refractive index layer formed using a dry film forming method, a refractive index layer formed by extrusion molding of a resin, and a refractive index layer formed using a wet film forming method Is mentioned. Among them, a wet film forming method is preferably used from the viewpoint of production efficiency.
上述のように、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は低屈折率層にも高屈折率層にもなりうるが、以下、屈折率層のうち、代表的な高屈折率層および低屈折率層の構成について説明する。 As described above, whether a layer is a low-refractive-index layer or a high-refractive-index layer is a relative one determined by the relationship with an adjacent refractive-index layer. The structure of a typical high refractive index layer and low refractive index layer among the refractive index layers will be described below.
(樹脂の押出成形によって形成される屈折率層)
本発明において、交互する高屈折率層と低屈折率層に使用できる樹脂は、特に限定されないが、少なくとも1層が複屈折性でありかつ配向していることが好ましい。例えば、特表2008−528313号公報に記載されたものや適宜修飾したものが使用できる。(Refractive index layer formed by resin extrusion molding)
In the present invention, the resin that can be used for the alternating high refractive index layer and low refractive index layer is not particularly limited, but it is preferable that at least one layer is birefringent and oriented. For example, those described in JP-T-2008-528313 or those appropriately modified can be used.
具体的な例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートのコポリマー、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(メチルメタクリレート)のコポリマー、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンナフタレートのコポリマー等が挙げられるが、これらに限定されない。各高屈折率層および低屈折率層には、これらの樹脂を1種、または2種以上の組み合わせを用いることができる。また、好適な樹脂の組み合わせの例として、米国特許第6,352,761号明細書に記載のものが挙げられる。上記樹脂を用いて、例えば共押出法により連続フラットフィルム製造ラインにより、誘電体多層膜を形成することができる。 Specific examples include polyethylene terephthalate, a copolymer of polyethylene terephthalate, poly (methyl methacrylate), a copolymer of poly (methyl methacrylate), a copolymer of terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol, polyethylene naphthalate, and a copolymer of polyethylene naphthalate. And the like, but are not limited thereto. Each of the high refractive index layer and the low refractive index layer can use one kind of these resins or a combination of two or more kinds. Examples of suitable resin combinations include those described in US Pat. No. 6,352,761. Using the above resin, a dielectric multilayer film can be formed by a continuous flat film production line by, for example, a coextrusion method.
(湿式製膜法を用いて形成される屈折率層)
湿式成膜法では、塗布液を順次塗布・乾燥する方法、塗布液を重層塗布・乾燥する方法等によって屈折率層が形成されうる。本形態に係る積層フィルムの屈折率層は、この湿式製膜法によって形成されることが好ましく、塗布液を重層塗布・乾燥する方法によって形成されることがより好ましい。(Refractive index layer formed using wet film forming method)
In the wet film forming method, the refractive index layer can be formed by a method of sequentially applying and drying a coating solution, a method of applying and drying a coating solution in a multilayer manner, or the like. The refractive index layer of the laminated film according to this embodiment is preferably formed by this wet film forming method, and more preferably formed by a method of applying and drying a coating solution in a multilayer manner.
−高屈折率層−
高屈折率層は、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含み、その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子および水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第1の金属酸化物粒子」および「第1の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。-High refractive index layer-
The high-refractive-index layer preferably contains metal oxide particles from the viewpoint of easy control of the refractive index, and, if necessary, contains a water-soluble resin, a curing agent, a surfactant, and other additives. You may go out. The metal oxide particles and the water-soluble resin contained in the high refractive index layer are hereinafter referred to as “first metal oxide particles” and “first water-soluble resin” for convenience.
(1)第1の金属酸化物粒子
第1の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、屈折率が2.0〜3.0である金属酸化物粒子であることが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。これらのうち、第1の金属酸化物粒子は、透明で屈折率の高い高屈折率層を形成する観点から酸化チタン、酸化ジルコニウムであることが好ましく、耐候性向上の観点からルチル型(正方晶形)酸化チタンであることがより好ましい。(1) First metal oxide particles The first metal oxide particles are not particularly limited, but are preferably metal oxide particles having a refractive index of 2.0 to 3.0. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, lead tin, graphite, zinc yellow, chromium oxide, ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, water Examples include magnesium oxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide. Among these, the first metal oxide particles are preferably titanium oxide and zirconium oxide from the viewpoint of forming a transparent, high-refractive-index high-refractive-index layer, and are preferably rutile-type (tetragonal-type) from the viewpoint of improving weather resistance. More preferably, it is titanium oxide.
また、酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子の形態であってもよい。当該コア・シェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。 The titanium oxide may be in the form of core-shell particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. The core-shell particles have a structure in which the surface of titanium oxide particles is covered with a shell made of a silicon-containing hydrated oxide on titanium oxide serving as a core.
上述の第1の金属酸化物粒子は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。 The first metal oxide particles described above may be used alone or in combination of two or more.
第1の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層との屈折率差が大きくなる観点から、高屈折率層の固形分100質量%に対して、15〜85質量%であることが好ましく、20〜80質量%であることがより好ましく、30〜77質量%であることがさらに好ましい。 The content of the first metal oxide particles is preferably 15 to 85% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer, from the viewpoint of increasing the difference in the refractive index from the low refractive index layer. Preferably, it is 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 77% by mass.
また、第1の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が1〜100nmであるとより好ましく、3〜50nmであるとさらに好ましい。体積平均粒径が100nm以下であると、ヘイズが少なく可視光透過性に優れることから好ましい。なお、本明細書において、「体積平均粒径」の値は、以下の方法によって測定した値を採用するものとする。具体的には、屈折率層の断面や表面に現れた任意の1000個の粒子を電子顕微鏡で観察して粒径を測定し、それぞれd1、d2……di……dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2……ni……nk個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。 Further, the volume average particle diameter of the first metal oxide particles is more preferably 1 to 100 nm, further preferably 3 to 50 nm. When the volume average particle size is 100 nm or less, it is preferable because the haze is small and the visible light transmittance is excellent. In the present specification, the value of the “volume average particle size” is a value measured by the following method. Specifically, an arbitrary 1,000 particles appearing on the cross section or the surface of the refractive index layer are observed with an electron microscope to measure the particle diameter, and the particles having a particle diameter of d1, d2,..., Di,. , Nik ...... Nk metal oxide particles, where the volume per particle is vi, and the volume average particle diameter mv = {(vi · di)} / The average particle size weighted by the volume represented by {(vi)} is calculated.
(2)第1の水溶性樹脂
第1の水溶性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、および反応性官能基を有するポリマーが用いられうる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。(2) First Water-Soluble Resin The first water-soluble resin is not particularly limited, but a polyvinyl alcohol-based resin, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and a polymer having a reactive functional group can be used. . Among these, it is preferable to use a polyvinyl alcohol-based resin.
ポリビニルアルコール系樹脂
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール(未変性ポリビニルアルコール)、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールにより、膜の密着性、耐水性、柔軟性が改良される場合がある。Polyvinyl alcohol-based resin Examples of the polyvinyl alcohol-based resin include ordinary polyvinyl alcohol (unmodified polyvinyl alcohol) obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate, cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonionic-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol. Modified polyvinyl alcohol such as a system polymer is exemplified. The modified polyvinyl alcohol may improve the adhesion, water resistance, and flexibility of the film in some cases.
ゼラチン
ゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン、分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応し得る基を持った試薬で処理し改質したゼラチン誘導体等が挙げられる。Gelatin As gelatin, various gelatins which have been widely used in the field of silver halide photographic materials can be used. For example, acid-treated gelatin, alkali-treated gelatin, enzyme-treated gelatin which is subjected to an enzyme treatment in the production process of gelatin, a group having an amino group, imino group, hydroxyl group, or carboxyl group as a functional group in the molecule and capable of reacting therewith And a gelatin derivative treated and modified with a reagent having the following formula:
なお、ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチンの硬膜剤を添加することもできる。 When gelatin is used, a hardening agent for gelatin can be added as necessary.
セルロース類
セルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体を好ましく用いることができる。例えば、カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体;カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、カルボキシエチルセルロース等のカルボン酸基含有セルロース類;ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体が挙げられる。Cellulose As the cellulose, a water-soluble cellulose derivative can be preferably used. For example, water-soluble cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose (cellulose carboxymethyl ether), methylcellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, and hydroxypropylcellulose; carboxylic acid group-containing celluloses such as carboxymethylcellulose (cellulose carboxymethylether) and carboxyethylcellulose; Cellulose derivatives such as cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate and cellulose sulfate are exemplified.
増粘多糖類
増粘多糖類は、糖類の重合体であり、分子内に水素結合基を多数有するものである。当該増粘多糖類は、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きいという特性を有する。また、増粘多糖類に金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こす。その粘度上昇幅は、15℃における粘度が、通常、1.0mPa・s以上であり、好ましくは5.0mPa・s以上であり、より好ましくは10.0mPa・s以上である。Thickening polysaccharide Thickening polysaccharide is a polymer of a saccharide and has many hydrogen bonding groups in the molecule. The thickening polysaccharide has a characteristic that a difference in viscosity between a low temperature and a high temperature is large due to a difference in hydrogen bonding force between molecules due to temperature. Further, when metal oxide fine particles are added to the thickening polysaccharide, the viscosity increases at a low temperature, which is considered to be due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles. The increase in the viscosity is such that the viscosity at 15 ° C. is usually at least 1.0 mPa · s, preferably at least 5.0 mPa · s, more preferably at least 10.0 mPa · s.
用いられうる増粘多糖類としては、特に制限はなく、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類、合成複合多糖類が挙げられる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。 The thickening polysaccharide that can be used is not particularly limited, and includes generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. For details of these polysaccharides, reference can be made to “Biochemical Encyclopedia (second edition), Tokyo Kagaku Dojin Publishing”, “Food Industry”, Vol. 31, 1988, p.
反応性官能基を有するポリマー
反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂;スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂;スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体;およびこれらの塩が挙げられる。これらのうち、ポリビニルピロリドン類およびこれを含有する共重合体を用いることが好ましい。Polymer having a reactive functional group Examples of the polymer having a reactive functional group include polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic ester Acrylic resins such as copolymers and acrylic acid-acrylic acid ester copolymers; styrene-acrylic acid copolymers, styrene-methacrylic acid copolymers, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymers, styrene-α Styrene acrylic acid resins such as -methylstyrene-acrylic acid copolymer and styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylate copolymer; styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate Copolymer, polystyrene -2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinylnaphthalene-acrylic acid copolymer, vinylnaphthalene-maleic acid copolymer, Vinyl acetate-based copolymers such as vinyl acetate-maleic acid ester copolymer, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, vinyl acetate-acrylic acid copolymer; and salts thereof. Among these, it is preferable to use polyvinylpyrrolidones and a copolymer containing the same.
上述の水溶性樹脂は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。 The above-mentioned water-soluble resins may be used alone or in combination of two or more.
第1の水溶性樹脂の重量平均分子量は、1000〜200000であることが好ましく、3000〜40000であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によって測定した値を採用するものとする。 The weight average molecular weight of the first water-soluble resin is preferably from 1,000 to 200,000, more preferably from 3,000 to 40,000. In the present specification, the value of the “weight average molecular weight” is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).
第1の水溶性樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。 The content of the first water-soluble resin is preferably from 5 to 50% by mass, more preferably from 10 to 40% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.
(3)硬化剤
硬化剤は、高屈折率層に含有される第1の水溶性樹脂(好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂)と反応して、水素結合のネットワークを形成する機能を有する。(3) Curing Agent The curing agent has a function of forming a hydrogen bond network by reacting with the first water-soluble resin (preferably, a polyvinyl alcohol-based resin) contained in the high refractive index layer.
硬化剤としては、第1の水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には、水溶性樹脂と反応しうる基を有する化合物または水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が挙げられる。 The curing agent is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the first water-soluble resin, but is generally a compound having a group capable of reacting with the water-soluble resin or a different group having a water-soluble resin. Compounds that promote the reaction between each other are included.
具体例として、第1の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合には、硬化剤としてホウ酸およびその塩を用いることが好ましい。また、ホウ酸およびその塩以外の公知の硬化剤を使用してもよい。 As a specific example, when using polyvinyl alcohol as the first water-soluble resin, it is preferable to use boric acid and a salt thereof as a curing agent. Further, a known curing agent other than boric acid and a salt thereof may be used.
なお、ホウ酸およびその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことを意味する。具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、およびこれらの塩が挙げられる。 In addition, boric acid and its salt mean oxyacid and its salt which have a boron atom as a central atom. Specific examples include orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, octaboric acid, and salts thereof.
硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましい。 The content of the curing agent is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 6% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.
特に、第1の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜600mgであることが好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100〜600mgであることがより好ましい。 In particular, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble resin, the total amount of the curing agent used is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol. .
(4)界面活性剤
高屈折率層に含まれうる界面活性剤としては、特に制限されないが、上記赤外線吸収層に添加されうるものと同様のものが使用可能であるため、その詳細な説明は省略する。(4) Surfactant The surfactant that can be contained in the high refractive index layer is not particularly limited, but the same surfactant that can be added to the infrared absorption layer can be used. Omitted.
(5)その他の添加剤
高屈折率層は、その他の添加剤をも含みうる。その他の添加剤としては、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等が挙げられる。また、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤;特開昭57−74192号公報、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、特開平3−13376号公報等に記載の退色防止剤;特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、特開平4−219266号公報等に記載の蛍光増白剤;硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤;消泡剤;ジエチレングリコール等の潤滑剤;防腐剤;防黴剤;帯電防止剤;マット剤;熱安定剤;酸化防止剤;難燃剤;結晶核剤;無機粒子;有機粒子;減粘剤;滑剤;赤外線吸収剤;色素;顔料等の公知の各種添加剤等がその他の添加剤として使用されてもよい。(5) Other additives The high refractive index layer may also contain other additives. Other additives include amino acids, emulsion resins, lithium compounds and the like. UV absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476; JP-A-57-74192, JP-A-57-87989 JP-A-59-42993, JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1-95091, JP-A-3-13376 and the like; Fluorescent brighteners described in JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-242871, JP-A-4-219266, etc .; sulfuric acid, phosphoric acid PH adjusters such as acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide and potassium carbonate; antifoaming agents; lubricants such as diethylene glycol; preservatives; antifungal agents; antistatic agents; Known additives such as an antioxidant; a flame retardant; a crystal nucleating agent; an inorganic particle; an organic particle; a viscosity reducing agent; a lubricant; an infrared absorber; a dye; a pigment, and the like may be used as other additives. .
−低屈折率層−
低屈折率層もまた、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含む。その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子および水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第2の金属酸化物粒子」および「第2の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。−Low refractive index layer−
The low refractive index layer also preferably contains metal oxide particles from the viewpoint that the control of the refractive index becomes easy. In addition, if necessary, a water-soluble resin, a curing agent, a surfactant, and other additives may be contained. The metal oxide particles and the water-soluble resin contained in the low refractive index layer are hereinafter referred to as “second metal oxide particles” and “second water-soluble resin” for convenience.
(1)第2の水溶性樹脂
第2の水溶性樹脂としては、第1の水溶性樹脂と同様のものが用いられうる。(1) Second water-soluble resin As the second water-soluble resin, the same one as the first water-soluble resin can be used.
この際、高屈折率層および低屈折率層が、第1の水溶性樹脂および第2の水溶性樹脂として、ともにポリビニルアルコール系樹脂を使用する場合には、それぞれケン化度の異なるポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。これにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率(赤外遮蔽率)がより良好となり、ヘイズが低くなりうる。なお、本明細書において「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合を意味する。 At this time, when the high refractive index layer and the low refractive index layer both use a polyvinyl alcohol-based resin as the first water-soluble resin and the second water-soluble resin, the polyvinyl alcohol-based resins having different degrees of saponification are used. It is preferable to use a resin. Thereby, mixing at the interface is suppressed, the infrared reflectance (infrared shielding ratio) becomes better, and the haze can be reduced. In addition, in this specification, the "degree of saponification" means the ratio of the hydroxy group to the total number of acetyloxy groups (derived from raw material vinyl acetate) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.
(2)第2の金属酸化物粒子
第2の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させる観点から、第2の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子を用いることが好ましい。(2) Second Metal Oxide Particles The second metal oxide particles are not particularly limited, but it is preferable to use silica (silicon dioxide) such as synthetic amorphous silica and colloidal silica, and acidic colloidal silica sol It is more preferable to use In addition, from the viewpoint of further reducing the refractive index, hollow fine particles having voids inside the particles can be used as the second metal oxide particles, and hollow fine particles of silica (silicon dioxide) are particularly preferably used. .
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理されたものであってもよい。 Colloidal silica may have its surface cationically modified, or may have been treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.
また、第2の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。 Further, the second metal oxide particles may be surface-coated with a surface coating component.
本発明の低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)は、その平均粒径(個数平均;直径)が3〜100nmであることが好ましく、3〜50nmであることがより好ましい。なお、本明細書中、金属酸化物微粒子の「平均粒径(個数平均;直径)」は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。 The second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) contained in the low refractive index layer of the present invention have an average particle size (number average; diameter) of preferably 3 to 100 nm, and more preferably 3 to 50 nm. Is more preferable. In the present specification, the “average particle diameter (number average; diameter)” of the metal oxide fine particles is determined by observing the particles themselves or the particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope, and measuring 1,000 particles. Is measured as a simple average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to its projected area.
低屈折率層における第2の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分100質量%に対して、0.1〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがより好ましく、45〜75質量%であることがさらに好ましい。 The content of the second metal oxide particles in the low refractive index layer is preferably from 0.1 to 85% by mass, and more preferably from 30 to 80% by mass, based on 100% by mass of the total solid content of the low refractive index layer. Is more preferably 45 to 75% by mass.
上述の第2の金属酸化物は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The above-mentioned second metal oxide may be used alone or in combination of two or more kinds from the viewpoint of adjusting the refractive index.
(3)硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤
硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤としては、高屈折率層と同様のものが用いられうることからここでは説明を省略する。(3) Curing Agent, Surfactant, and Other Additives As the curing agent, surfactant, and other additives, the same ones as in the high refractive index layer can be used, and the description is omitted here.
以上のような構成を有する高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなる誘電体多層膜においては、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることが好ましく、高屈折率層および低屈折率層の両方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることがより好ましい。さらに、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。すなわち、本発明の積層フィルムは、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜をさらに含み、低屈折率層または高屈折率層が、金属酸化物粒子を含んでいると好ましい。 In a dielectric multilayer film in which high-refractive-index layers and low-refractive-index layers having the above configuration are alternately laminated, at least one of the high-refractive-index layer and the low-refractive-index layer uses a wet film forming method. Preferably, both the high refractive index layer and the low refractive index layer are refractive index layers formed by a wet film forming method. Further, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer preferably contains metal oxide particles. That is, the laminated film of the present invention further includes a dielectric multilayer film in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated, and the low refractive index layer or the high refractive index layer contains metal oxide particles. It is preferable to include.
さらに、高屈折率層および低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。 More preferably, both the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles.
本発明に係る積層フィルムは、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、低屈折率層および高屈折率層から構成される積層体の少なくとも1つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、0.3以上であることがより好ましい。高屈折率層および低屈折率層の積層体を複数有する場合には、全ての積層体における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも誘電体多層膜の最上層や最下層を構成する屈折率層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。 In the laminated film according to the present invention, it is preferable to design a large difference in the refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. In this embodiment, in at least one of the laminates composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the difference in refractive index between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer is preferably 0.1 or more. It is more preferably 0.3 or more. When there are a plurality of laminates of the high refractive index layer and the low refractive index layer, it is preferable that the difference in the refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the laminates is within the above preferable range. However, even in this case, the refractive index layers constituting the uppermost layer and the lowermost layer of the dielectric multilayer film may have a configuration outside the above-mentioned preferable range.
本形態の積層フィルムの光学特性として、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上、好ましくは75%以上、より好ましくは85%以上であることが好ましく、また、波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。 As the optical characteristics of the laminated film of the present embodiment, the transmittance in the visible light region indicated by JIS R3106-1998 is preferably 50% or more, preferably 75% or more, more preferably 85% or more, and the wavelength 900 nm. It is preferable to have a region having a reflectance of more than 50% in a region of 〜1400 nm.
また、一般的に赤外線遮蔽フィルムは、太陽直達光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格JIS R3106−1998に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長(760nm)から最長波長(3200nm)までの赤外全域の総エネルギーを100としたときの、760nmから各波長までの累積エネルギーをみると、760nmから1300nmのエネルギー合計が赤外域全体の約75%を占めている。従って、この波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による夏場の省エネルギー効果がもっとも効率がよい。本発明の赤外遮蔽フィルムは、誘電体多層膜として、特に800〜1300nmの近赤外波長領域に反射率50%を超える反射ピーク(極大値)を有するように誘電体多層膜の光学膜厚およびユニットを設計することが好ましく、前記領域に最大反射率が約80%以上である反射ピークを有するように誘電体多層膜を設計することがより好ましい。 In general, in the infrared shielding film, the infrared region of the incident spectrum of the sun's direct light is related to an increase in the indoor temperature, and by blocking this, the increase in the indoor temperature can be suppressed. Based on the weighting factor described in Japanese Industrial Standard JIS R3106-1998, when the total energy in the entire infrared region from the shortest wavelength (760 nm) to the longest wavelength (3200 nm) of the infrared ray is assumed to be 100, each energy is from 760 nm. Looking at the accumulated energy up to the wavelength, the total energy from 760 nm to 1300 nm occupies about 75% of the entire infrared region. Therefore, shielding this wavelength region is the most efficient energy saving effect in summer due to heat ray shielding. The infrared shielding film of the present invention has an optical film thickness of a dielectric multilayer film such that the dielectric multilayer film has a reflection peak (maximum value) exceeding 50% in a near infrared wavelength region of 800 to 1300 nm. And a unit are preferably designed, and more preferably, the dielectric multilayer film is designed so as to have a reflection peak having a maximum reflectance of about 80% or more in the region.
誘電体多層膜の屈折率層の層数(高屈折率層および低屈折率層の総層数)としては、上記の観点から、6〜50層であることが好ましく、8〜40層であることがより好ましく、9〜31層であることがさらに好ましく、11〜30層であることが特に好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、優れた遮熱性能および透明性、膜剥がれやひび割れの抑制等が実現されうることから好ましい。なお、誘電体多層膜が、複数の高屈折率層および/または低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層および/または各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。 The number of refractive index layers (the total number of high refractive index layers and low refractive index layers) of the dielectric multilayer film is preferably from 6 to 50, and more preferably from 8 to 40, from the above viewpoint. More preferably, it is more preferably 9 to 31 layers, and particularly preferably 11 to 30 layers. It is preferable that the number of the refractive index layers of the dielectric multilayer film be in the above range since excellent heat shielding performance and transparency, suppression of film peeling and cracking, and the like can be realized. When the dielectric multilayer film has a plurality of high refractive index layers and / or low refractive index layers, the high refractive index layers and / or the low refractive index layers are different even if they are the same. It may be something.
高屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmであることが好ましく、50〜500nmであることがより好ましい。また、低屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmであることが好ましく、50〜500nmであることがより好ましい。 The thickness per layer of the high refractive index layer is preferably from 20 to 800 nm, more preferably from 50 to 500 nm. Further, the thickness of one layer of the low refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, more preferably 50 to 500 nm.
ここで、1層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層および低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなすものとする。 Here, when measuring the thickness per layer, the composition may change continuously without having a clear interface at the boundary between the high refractive index layer and the low refractive index layer. In such an interface region where the composition continuously changes, when the maximum refractive index−the minimum refractive index = Δn, the point of the minimum refractive index between two layers + Δn / 2 is regarded as a layer interface.
なお、高屈折率層および低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。 When the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles, the above composition can be observed from the concentration profile of the metal oxide particles. The metal oxide concentration profile is obtained by performing etching from the surface in the depth direction using a sputtering method, sputtering the surface at 0 nm with an XPS surface analyzer at a rate of 0.5 nm / min, It can be seen by measuring the ratio. Alternatively, the laminated film may be cut, and the cut surface may be confirmed by measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer.
XPS表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該XPS表面分析装置としては、例えば、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いることができる。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。 The XPS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used. As the XPS surface analyzer, for example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific can be used. The measurement is performed at an output of 600 W (acceleration voltage 15 kV, emission current 40 mA) using Mg for the X-ray anode.
[粘着層]
本発明に係る積層フィルムは、さらに粘着層を有していてもよい。この粘着層は通常、基材を介して赤外線吸収層とは反対側の面に設けられ、さらに公知の剥離紙(セパレータ)がさらに設けられていてもよい。粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。[Adhesive layer]
The laminated film according to the present invention may further have an adhesive layer. This adhesive layer is usually provided on the surface opposite to the infrared absorbing layer via the base material, and may further be provided with a known release paper (separator). The constitution of the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat sealing agent, a hot melt agent and the like are used. As the adhesive, for example, a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like is used.
粘着層の層厚は、1〜100μmが好ましく、3〜50μmがより好ましい。1μm以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に100μm以下であれば積層フィルムの透明性が向上するだけでなく、積層フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。 The thickness of the adhesive layer is preferably from 1 to 100 μm, more preferably from 3 to 50 μm. If it is 1 μm or more, the adhesiveness tends to be improved, and a sufficient adhesive strength can be obtained. Conversely, if the thickness is 100 μm or less, not only the transparency of the laminated film is improved, but also after the laminated film is attached to the window glass, cohesive failure does not occur between the adhesive layers when peeled off, and the adhesive remains on the glass surface. Tend to disappear.
粘着層の形成方法としては、特に制限されないが、上記赤外線吸収層が形成された基材とは別に、剥離紙(セパレータ)上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を形成した後、粘着層と誘電体多層膜または基材とを貼り合わせる方法が好ましい。 The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but separately from the substrate on which the infrared absorbing layer is formed, a coating liquid for a pressure-sensitive adhesive layer is applied to release paper (separator) and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, a method of bonding the adhesive layer and the dielectric multilayer film or the base material is preferable.
[ハードコート層]
本発明の積層フィルムは、耐擦過性を高めるための表面保護層として、基材の粘着層を有する側とは逆側の最上層に、熱や紫外線などで硬化する樹脂を含むハードコート層を積層してもよい。特に赤外線吸収層がハードコート層としての機能を兼ねていない場合、ハードコート層をさらに有していると好ましい。[Hard coat layer]
The laminated film of the present invention has a hard coat layer containing a resin that is cured by heat, ultraviolet light, or the like on the uppermost layer on the side opposite to the side having the adhesive layer of the base material, as a surface protective layer for enhancing abrasion resistance. They may be stacked. In particular, when the infrared absorbing layer does not also function as a hard coat layer, it is preferable that the infrared absorbing layer further has a hard coat layer.
ハードコート層で使用される硬化樹脂としては、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、紫外線硬化型樹脂が好ましく、その中でも鉛筆硬度が少なくとも2Hのものがより好ましい。かような硬化型樹脂は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。 Examples of the cured resin used in the hard coat layer include a thermosetting resin and an ultraviolet-curable resin, but an ultraviolet-curable resin is preferable because of easy molding, and among them, those having a pencil hardness of at least 2H are preferable. More preferred. Such curable resins can be used alone or in combination of two or more.
なお、このような紫外線硬化型樹脂としては、上記の[赤外線吸収層]の項において説明した樹脂として用いられうる紫外線硬化型樹脂と同様のものが使用可能であるため、その詳細な説明は省略する。 In addition, as such an ultraviolet-curable resin, those similar to the ultraviolet-curable resin that can be used as the resin described in the section of [Infrared absorbing layer] above can be used, and a detailed description thereof is omitted. I do.
ハードコート層の厚みは、ハードコート性の向上と、積層フィルムの透明性の向上という観点から、0.1〜50μmが好ましく、1〜20μmがより好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably from 0.1 to 50 μm, more preferably from 1 to 20 μm, from the viewpoint of improving the hard coat property and the transparency of the laminated film.
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、上記各成分を含むハードコート層用塗布液を調製した後、塗布液をワイヤーバー等により塗布し、熱および/またはUVで塗布液を硬化させ、ハードコート層を形成する方法などが挙げられる。 The method for forming the hard coat layer is not particularly limited. For example, after preparing a coating solution for the hard coat layer containing each of the above components, the coating solution is applied by a wire bar or the like, and the coating solution is cured by heat and / or UV. And forming a hard coat layer.
[その他の機能性層]
本発明に係る積層フィルムは、上述した層以外の層(その他の機能性層)を有していてもよい。例えば、その他の層として、中間層を設けることができる。ここで「中間層」とは、基材と赤外線吸収層との間の層や、基材と誘電体多層膜との間の層を意味する。[Other functional layers]
The laminated film according to the present invention may have a layer (other functional layer) other than the above-described layer. For example, an intermediate layer can be provided as another layer. Here, the “intermediate layer” means a layer between the base material and the infrared absorption layer or a layer between the base material and the dielectric multilayer film.
中間層の構成材料としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、添加剤の相溶性、Tgが低い物質ものが好ましく用いられる。 Examples of the constituent material of the intermediate layer include a polyester resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetate resin, a polyvinyl acetal resin, an acrylic resin, and a urethane resin. A substance having low additive compatibility and a low Tg is preferably used.
[積層フィルムの製造方法]
積層フィルムの製造方法については、特に制限されず、赤外線吸収剤、樹脂、および酸化防止剤を含み、膜面pHが6.5以上である赤外線吸収層が形成できるのであれば、いかなる方法でも用いられる。ここで、赤外線吸収層、誘電体多層膜、粘着層、ハードコート層自体の形成方法についてはすでに上述したため、ここでは各層(多層膜)の製造方法に係る詳細な説明は省略する。[Production method of laminated film]
The method for producing the laminated film is not particularly limited, and any method may be used as long as an infrared absorbing layer containing an infrared absorbing agent, a resin, and an antioxidant and having a film surface pH of 6.5 or more can be formed. Can be Here, since the method of forming the infrared absorbing layer, the dielectric multilayer film, the adhesive layer, and the hard coat layer itself has already been described above, a detailed description of the method of manufacturing each layer (multilayer film) is omitted here.
積層フィルムを製造する方法としては、たとえば、以下のものが挙げられる。(1)基材の一方の面(セパレータおよび粘着層が配置される面とは反対側の面)に誘電体多層膜を形成し、当該誘電体多層膜の上に赤外線吸収層を形成し、その後、必要に応じて、当該赤外線吸収層上にハードコート層を形成する方法;(2)基材の一方の面(セパレータおよび粘着層が配置される面)に誘電体多層膜を形成し、その後、基材の他方の面に赤外線吸収層を形成し、さらに、必要に応じて、当該赤外線吸収層上にハードコート層を形成する方法;などが挙げられる。上記製造方法(1)および(2)のいずれにおいても、赤外線吸収層がハードコート層を兼ねる構成であると、ハードコート層を形成する工程を省略することができる点で好ましい。 As a method of manufacturing a laminated film, for example, the following method is used. (1) forming a dielectric multilayer film on one surface of the base material (the surface opposite to the surface on which the separator and the adhesive layer are arranged), forming an infrared absorbing layer on the dielectric multilayer film, Thereafter, if necessary, a method of forming a hard coat layer on the infrared absorption layer; (2) forming a dielectric multilayer film on one surface of the base material (the surface on which the separator and the adhesive layer are arranged); Thereafter, a method of forming an infrared absorbing layer on the other surface of the base material and, if necessary, forming a hard coat layer on the infrared absorbing layer. In any of the above production methods (1) and (2), it is preferable that the infrared absorbing layer also serves as the hard coat layer, since the step of forming the hard coat layer can be omitted.
〔積層フィルムの応用〕
本発明に係る積層フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒される設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムや、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。また、自動車用の合わせガラスなどのガラスとガラスとの間に挟む、自動車用積層フィルムとしても好適に用いられる。[Application of laminated film]
The laminated film according to the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, as a window sticking film such as a heat ray reflecting film that imparts a heat ray reflecting effect, and a film for an agricultural greenhouse, etc. Used for the purpose of enhancing weather resistance. Further, it is suitably used as a laminated film for automobiles sandwiched between glass such as laminated glass for automobiles.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「%」の表示を用いる場合があるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量%」を表す。 Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” or “%” may be used, but “parts by mass” or “% by mass” is used unless otherwise specified.
≪積層フィルムの作製≫
<実施例1>
(赤外線吸収層用塗布液1の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌して、赤外線吸収層用塗布液1を調製した。<< Preparation of laminated film >>
<Example 1>
(Preparation of coating liquid 1 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 1 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 633質量部
YMF−02A(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3)、固形分28.7質量%、粒子濃度18.5質量%、平均粒子径15nm、屈折率1.66:住友金属鉱山株式会社製) 294質量部
アデカスタブAO−80(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 3.9質量部
アクリット1SX−1065(4級アンモニウム塩型帯電防止ポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 6.4質量部
メチルエチルケトン 62質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 633 parts by mass YMF-02A (cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ), solids: 28.7% by mass, particle concentration: 18.5) % By mass, average particle diameter 15 nm, refractive index 1.66: manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) 294 parts by mass ADK STAB AO-80 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 3.9 parts by mass Acritt 1SX-1065 ( Quaternary ammonium salt type antistatic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 6.4 parts by mass methyl ethyl ketone 62 parts by mass.
(粘着層用塗布液1の調製)
下記材料を混合し、室温で30分撹拌して、粘着層用塗布液1を調製した。(Preparation of Coating Solution 1 for Adhesive Layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating solution 1 for an adhesive layer.
コーポニールN−2147(アクリル系粘着剤:日本合成化学社製) 638質量部
チヌビン477(ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤:BASFジャパン株式会社製) 20質量部
コロネートHX(架橋剤:日本ポリウレタン工業株式会社製) 0.7質量部
酢酸エチル 341質量部。Coponyl N-2147 (acrylic adhesive: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 638 parts by mass Tinuvin 477 (hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber: BASF Japan Ltd.) 20 parts by mass Coronate HX (crosslinking agent: Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 0.7 parts by mass 341 parts by mass of ethyl acetate.
(積層フィルム1の作製)
基材である厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡製A4300)上に、グラビアコーターを用い、上記で調製した赤外線吸収層用塗布液1を塗布し、乾燥区間温度100℃で1分間乾燥して赤外線吸収層を形成した。(Production of laminated film 1)
Using a gravure coater, the infrared absorbing layer coating liquid 1 prepared above was applied onto a 50 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (A4300 manufactured by Toyobo) as a base material, and dried at a drying zone temperature of 100 ° C. for 1 minute. It dried and the infrared absorption layer was formed.
さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層用塗布液1をセパレータ(NS−23MA:中本パックス社製)に塗布し、80℃で1分間乾燥した後に、上記で作製した赤外線吸収層を積層したフィルムのPET面と、粘着層面とを貼り合わせ、積層フィルム1を作製した。積層フィルム1の赤外線吸収層の膜厚は5μmであり、粘着層の膜厚は10μmであった。 Further, using a die coater, the adhesive layer coating solution 1 prepared above was applied to a separator (NS-23MA: manufactured by Nakamoto Pax Co., Ltd.), dried at 80 ° C. for 1 minute, and then the infrared absorbing layer prepared above The PET surface and the adhesive layer surface of the film laminated with were laminated to produce a laminated film 1. The thickness of the infrared absorbing layer of the laminated film 1 was 5 μm, and the thickness of the adhesive layer was 10 μm.
(膜面pHの測定)
メトラー・トレド社製ファイブイージーFE20(同等性能機器)にSurface電極を取り付けたpH計を用い、赤外線吸収層表面に純水を0.6ml滴下した後、60秒後に水滴のpHを前記pH計で測定した。(Measurement of membrane pH)
Using a pH meter having a Surface electrode attached to METTLER TOLEDO's FiveEasy FE20 (equivalent performance equipment), 0.6 ml of pure water was dropped on the surface of the infrared absorbing layer, and after 60 seconds, the pH of the water droplet was measured with the pH meter. It was measured.
積層フィルム1の赤外線吸収層の膜面pHは6.5であった。 The film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 1 was 6.5.
<実施例2>
(赤外線吸収層用塗布液2の調製)
赤外線吸収層用塗布液1の1SX−1065 6.4質量部を、キレストMZ−8(有機溶媒可溶型キレート剤、pH7.6:キレスト株式会社製)2.8質量部に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液2を調製した。<Example 2>
(Preparation of coating liquid 2 for infrared absorption layer)
6.4 parts by mass of 1SX-1065 of the infrared absorbing layer coating solution 1 was changed to 2.8 parts by mass of Chelesto MZ-8 (organic solvent-soluble chelating agent, pH 7.6: manufactured by Chilesto Co., Ltd.). Except for the above, a coating solution 2 for an infrared absorbing layer was prepared in the same procedure.
(積層フィルム2の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液2を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム2を作製した。(Preparation of laminated film 2)
A laminated film 2 was prepared in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 2 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム2の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorption layer of the laminated film 2 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例3>
(赤外線吸収層用塗布液3の調製)
赤外線吸収層用塗布液1の1SX−1065 6.4質量部を、TBAB−100A(テトラブチルアンモニウムブロマイド:ライオン株式会社製)2.8質量部に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液3を調製した。<Example 3>
(Preparation of coating liquid 3 for infrared absorption layer)
In the same procedure, except that 6.4 parts by mass of 1SX-1065 of the coating liquid 1 for the infrared absorbing layer was changed to 2.8 parts by mass of TBAB-100A (tetrabutylammonium bromide: manufactured by Lion Corporation). Infrared absorbing layer coating solution 3 was prepared.
(積層フィルム3の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液3を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム3を作製した。(Production of laminated film 3)
A laminated film 3 was prepared in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 3 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム3の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは9.0であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 3 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 9.0.
<実施例4>
(赤外線吸収層用塗布液4の調製)
赤外線吸収層用塗布液1の1SX−1065 6.4質量部を、キレスト400(EDTA・4Na・4H2O、pH11.2:キレスト株式会社製)2.8質量部に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液4を調製した。<Example 4>
(Preparation of coating liquid 4 for infrared absorption layer)
The 1SX-1065 6.4 parts by weight of the infrared-absorbing layer coating liquid 1, CHELEST 400 (EDTA · 4Na · 4H 2 O, pH11.2: CHELEST Corp.) except that it was changed to 2.8 parts by weight In the same manner, coating solution 4 for an infrared absorbing layer was prepared.
(積層フィルム4の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液4を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム4を作製した。(Production of laminated film 4)
A laminated film 4 was produced in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 4 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム4の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは11.0であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 4 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 11.0.
<比較例1>
(赤外線吸収層用塗布液5の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液5を調製した。<Comparative Example 1>
(Preparation of coating solution 5 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 5 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 656質量部
YMF−02A(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3)、固形分28.7質量%、粒子濃度18.5質量%、平均粒子径15nm、屈折率1.66:住友金属鉱山株式会社製) 294質量部
メチルエチルケトン 50質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 656 parts by mass YMF-02A (cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ), solid content 28.7 mass%, particle concentration 18.5) Mass%, average particle diameter 15 nm, refractive index 1.66: manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) 294 parts by mass 50 parts by mass of methyl ethyl ketone.
(積層フィルム5の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液5を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム5を作製した。(Preparation of laminated film 5)
A laminated film 5 was produced in the same manner as the laminated film 1, except that the infrared absorbing layer coating liquid 1 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム5の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは5.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 5 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 5.5.
<比較例2>
(赤外線吸収層用塗布液6の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液6を調製した。<Comparative Example 2>
(Preparation of coating liquid 6 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 6 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 643質量部
YMF−02A(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3)、固形分28.7質量%、粒子濃度18.5質量%、平均粒子径15nm、屈折率1.66:住友金属鉱山株式会社製) 294質量部
アデカスタブAO−80(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 3.9質量部
メチルエチルケトン 59質量部。Acryt 8 UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 643 parts by mass YMF-02A (cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ), solids 28.7 mass%, particle concentration 18.5) % By mass, average particle diameter 15 nm, refractive index 1.66: manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) 294 parts by mass ADK STAB AO-80 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 3.9 parts by mass methyl ethyl ketone 59 parts by mass.
(積層フィルム6の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液6を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム6を作製した。(Production of laminated film 6)
A laminated film 6 was produced in the same manner as the laminated film 1, except that the infrared absorbing layer coating liquid 6 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム6の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは5.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 6 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 5.5.
<比較例3>
(赤外線吸収層用塗布液7の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液7を調製した。<Comparative Example 3>
(Preparation of coating solution 7 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 7 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 646質量部
YMF−02A(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3)、固形分28.7質量%、粒子濃度18.5質量%、平均粒子径15nm、屈折率1.66:住友金属鉱山株式会社製) 294質量部
キレストMZ−8(有機溶媒可溶型キレート剤、pH7.6:キレスト株式会社製) 2.8質量部
メチルエチルケトン 56質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 646 parts by mass YMF-02A (cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ), solids 28.7% by mass, particle concentration 18.5) % By mass, average particle diameter: 15 nm, refractive index: 1.66: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) 294 parts by mass: Cherest MZ-8 (organic solvent-soluble chelating agent, pH 7.6: manufactured by Kyrest Co., Ltd.) 2.8 mass Parts: 56 parts by mass of methyl ethyl ketone.
(積層フィルム7の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液7を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム7を作製した。(Production of laminated film 7)
A laminated film 7 was prepared in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 7 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム7の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 7 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<比較例4>
(赤外線吸収層用塗布液8の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液8を調製した。<Comparative Example 4>
(Preparation of coating liquid 8 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 8 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 911質量部
アデカスタブAO−80(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 3.9質量部
キレストMZ−8(有機溶媒可溶型キレート剤、pH7.6:キレスト株式会社製) 2.8質量部
メチルエチルケトン 82質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 911 parts by mass ADK STAB AO-80 (phenol-based antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 3.9 parts by mass Cherest MZ-8 (organic solvent soluble type) Chelating agent, pH 7.6: manufactured by Kyrest Co.) 2.8 parts by mass 82 parts by mass of methyl ethyl ketone.
(積層フィルム8の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液8を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム8を作製した。(Preparation of laminated film 8)
A laminated film 8 was produced in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 8 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム8の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 8 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例5>
(赤外線吸収層用塗布液9の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液9を調製した。<Example 5>
(Preparation of coating solution 9 for infrared absorption layer)
In the same procedure, except that Adekastab AO-80 of the infrared absorbing layer coating liquid 2 was changed to Adekastab AO-50 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation), the infrared absorbing layer coating liquid 9 was used. Was prepared.
(積層フィルム9の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液9を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム9を作製した。(Production of laminated film 9)
A laminated film 9 was prepared in the same manner as the laminated film 2 except that the infrared absorbing layer coating liquid 9 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム9の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 9 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例6>
(赤外線吸収層用塗布液10の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、チヌビンPA144(ヒンダードアミン系酸化防止剤:BASFジャパン株式会社製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液10を調製した。<Example 6>
(Preparation of coating liquid 10 for infrared absorption layer)
The infrared absorbing layer coating solution 10 was prepared in the same procedure except that ADK STAB AO-80 of the infrared absorbing layer coating solution 2 was changed to Tinuvin PA144 (a hindered amine-based antioxidant: manufactured by BASF Japan Ltd.). Prepared.
(積層フィルム10の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液10を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム10を作製した。(Preparation of laminated film 10)
A laminated film 10 was produced in the same manner as the laminated film 2 except that the infrared absorbing layer coating liquid 10 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム10の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 10 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例7>
(赤外線吸収層用塗布液11の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、チヌビン765(ヒンダードアミン系酸化防止剤:BASFジャパン株式会社製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液11を調製した。<Example 7>
(Preparation of coating liquid 11 for infrared absorption layer)
In the same procedure, except that ADK STAB AO-80 of the infrared absorbing layer coating liquid 2 was changed to Tinuvin 765 (hindered amine antioxidant: manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), the infrared absorbing layer coating liquid 11 was prepared. Prepared.
(積層フィルム11の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液11を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム11を作製した。(Production of laminated film 11)
The laminated film 11 was produced in the same manner as the laminated film 2 except that the infrared absorbing layer coating liquid 11 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム11の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorption layer of the laminated film 11 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例8>
(赤外線吸収層用塗布液12の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、チヌビン660DF(ヒンダードアミン系酸化防止剤:BASFジャパン株式会社製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液12を調製した。<Example 8>
(Preparation of coating liquid 12 for infrared absorption layer)
In the same procedure, except that ADK STAB AO-80 of the infrared absorbing layer coating liquid 2 was changed to Tinuvin 660DF (a hindered amine antioxidant: manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), the infrared absorbing layer coating liquid 12 was prepared. Prepared.
(積層フィルム12の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液12を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム12を作製した。(Preparation of laminated film 12)
A laminated film 12 was produced in the same manner as the laminated film 2 except that the infrared absorbing layer coating liquid 12 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム12の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 12 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例9>
(赤外線吸収層用塗布液13の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、Chimassorb2020FDL(ヒンダードアミン系酸化防止剤:BASFジャパン株式会社製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液13を調製した。<Example 9>
(Preparation of coating liquid 13 for infrared absorption layer)
Infrared absorbing layer coating liquid 13 was prepared in the same procedure except that ADK STAB AO-80 of infrared absorbing layer coating liquid 2 was changed to Chimassorb 2020FDL (a hindered amine-based antioxidant: manufactured by BASF Japan Co., Ltd.). did.
(積層フィルム13の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液13を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム13を作製した。(Production of laminated film 13)
A laminated film 13 was produced in the same manner as the laminated film 2, except that the infrared absorbing layer coating liquid 13 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム13の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 13 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例10>
(赤外線吸収層用塗布液14の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、アデカスタブ2112(ホスファイト系酸化防止剤:株式会社ADEKA製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液24を調製した。<Example 10>
(Preparation of coating solution 14 for infrared absorption layer)
In the same procedure, except that ADK STAB AO-80 of the infrared absorbing layer coating liquid 2 was changed to ADK STAB 2112 (phosphite-based antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation), the infrared absorbing layer coating liquid 24 was prepared. Prepared.
(積層フィルム14の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液14を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム14を作製した。(Production of laminated film 14)
A laminated film 14 was produced in the same manner as the laminated film 2 except that the infrared absorbing layer coating liquid 14 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム14の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 14 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例11>
(赤外線吸収層用塗布液15の調製)
赤外線吸収層用塗布液2のアデカスタブAO−80を、アデカスタブHP−10(ホスファイト系酸化防止剤:株式会社ADEKA製)に変更したことを除いては同様の手順で、赤外線吸収層用塗布液15を調製した。<Example 11>
(Preparation of coating solution 15 for infrared absorption layer)
Except that ADK STAB AO-80 of the infrared absorbing layer coating liquid 2 was changed to ADK STAB HP-10 (phosphite antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation), the coating procedure for the infrared absorbing layer was performed in the same procedure. 15 were prepared.
(積層フィルム15の作製)
赤外線吸収層用塗布液2に代えて、赤外線吸収層用塗布液15を用いたことの他は、積層フィルム2と同様にして積層フィルム15を作製した。(Preparation of laminated film 15)
A laminated film 15 was prepared in the same manner as the laminated film 2, except that the infrared absorbing layer coating liquid 15 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 2.
積層フィルム15の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 15 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例12>
(積層フィルム16の作製)
上記で作製した積層フィルム9の赤外線吸収層上に、紫外線硬化型ハードコート層を形成して、積層フィルム16を作製した。<Example 12>
(Preparation of laminated film 16)
An ultraviolet-curable hard coat layer was formed on the infrared absorbing layer of the laminated film 9 produced above, to produce a laminated film 16.
ハードコート層には、ハードコート液UV−3701(東亞合成株式会社製)を用い、グラビアコーターにて塗布し、乾燥温度90℃で乾燥後、高圧水銀ランプを用い積算光量300mJ/cm2として塗布層を硬化させ、乾燥膜厚が2μmになるようにハードコート層を形成した。The hard coat layer was coated with a gravure coater using a hard coat liquid UV-3701 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), dried at a drying temperature of 90 ° C., and coated with a high-pressure mercury lamp at an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2. The layer was cured, and a hard coat layer was formed so that the dry film thickness became 2 μm.
<実施例13>
(積層フィルム17の作製)
厚さ23μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300)上に、上記ハードコート液UV−3701を、グラビアコーターを用いて塗布し、乾燥温度90℃で乾燥後、高圧水銀ランプを用い積算光量300mJ/cm2として塗布層を硬化させ、乾燥膜厚が2μmになるようにハードコート層を形成した。このフィルムのハードコート層と反対側の面に、さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層用塗布液1を塗布し、80℃で1分間乾燥し、粘着層(乾燥膜厚10μm)を得た。その後、上記で作製した積層フィルム9の赤外線吸収層の面と、上記で作製したハードコート層を形成したフィルムの粘着層の面とを貼り合わせ、積層フィルム17を作製した。<Example 13>
(Production of laminated film 17)
The hard coat liquid UV-3701 was applied on a 23 μm-thick polyethylene terephthalate film (A4300 manufactured by Toyobo) using a gravure coater, dried at a drying temperature of 90 ° C., and then integrated with a high-pressure mercury lamp to obtain an integrated light quantity of 300 mJ / cm. As No. 2 , the coating layer was cured, and a hard coat layer was formed so that the dry film thickness became 2 μm. The adhesive layer coating solution 1 prepared above was further applied to the surface of the film opposite to the hard coat layer using a die coater, and dried at 80 ° C. for 1 minute to obtain an adhesive layer (dry film thickness: 10 μm). I got Thereafter, the surface of the infrared absorbing layer of the laminated film 9 produced above was bonded to the surface of the adhesive layer of the film formed with the hard coat layer produced above, whereby a laminated film 17 was produced.
<比較例5>
(赤外線吸収層用塗布液18の調製)
下記材料を混合し、30分撹拌し、赤外線吸収層用塗布液18を調製した。<Comparative Example 5>
(Preparation of coating liquid 18 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred for 30 minutes to prepare a coating liquid 18 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 638質量部
ATO分散物(Advanced Nano Products社製:35質量% MIBK分散物) 238質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 3.9質量部
キレスト400(EDTA・4Na・4H2O、pH11.2:キレスト株式会社製) 1.4質量部
メチルエチルケトン 115質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 638 parts by mass ATO dispersion (manufactured by Advanced Nano Products: 35% by mass MIBK dispersion) 238 parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: ADEKA CORPORATION Ltd.) 3.9 parts by weight CHELEST 400 (EDTA · 4Na · 4H 2 O, pH11.2: Chelest Corp.) 1.4 parts by weight Methyl ethyl ketone 115 parts by weight.
(積層フィルム18の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液18を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム18を作製した。(Preparation of laminated film 18)
A laminated film 18 was produced in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 18 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム18の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは5.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 18 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 5.5.
<実施例14>
(赤外線吸収層用塗布液19の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液19を調製した。<Example 14>
(Preparation of coating solution 19 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating solution 19 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 633質量部
ATO分散物(Advanced Nano Products社製:35質量% MIBK分散物) 238質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 3.9質量部
キレスト400(EDTA・4Na・4H2O、pH11.2:キレスト株式会社製) 2.8質量部
メチルエチルケトン 115質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 633 parts by mass ATO dispersion (manufactured by Advanced Nano Products: 35% by mass MIBK dispersion) 238 parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: ADEKA CORPORATION Ltd.) 3.9 parts by weight CHELEST 400 (EDTA · 4Na · 4H 2 O, pH11.2: Chelest Corp.) 2.8 parts by weight Methyl ethyl ketone 115 parts by weight.
(積層フィルム19の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液19を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム19を作製した。(Preparation of laminated film 19)
A laminated film 19 was prepared in the same manner as the laminated film 1 except that the infrared absorbing layer coating liquid 19 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム19の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 19 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例15>
(赤外線吸収層用塗布液20の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液20を調製した。<Example 15>
(Preparation of coating solution 20 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating solution 20 for an infrared absorbing layer.
アクリット8UA−301(ウレタン変性アクリルポリマー:大成ファインケミカル株式会社製) 633質量部
ATO分散物(Advanced Nano Products社製:35質量% MIBK分散物) 238質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 3.9質量部
キレスト400(EDTA・4Na・4H2O、pH11.2:キレスト株式会社製) 5.6質量部
メチルエチルケトン 115質量部。Acryt 8UA-301 (urethane-modified acrylic polymer: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) 633 parts by mass ATO dispersion (manufactured by Advanced Nano Products: 35% by mass MIBK dispersion) 238 parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: ADEKA CORPORATION Ltd.) 3.9 parts by weight CHELEST 400 (EDTA · 4Na · 4H 2 O, pH11.2: Chelest Corp.) 5.6 parts by weight Methyl ethyl ketone 115 parts by weight.
(積層フィルム20の作製)
赤外線吸収層用塗布液1に代えて、赤外線吸収層用塗布液20を用いたことの他は、積層フィルム1と同様にして積層フィルム20を作製した。(Preparation of laminated film 20)
A laminated film 20 was prepared in the same manner as the laminated film 1, except that the infrared absorbing layer coating liquid 20 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 1.
積層フィルム20の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは10.0であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 20 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 10.0.
<実施例16>
(赤外線吸収層用塗布液21の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液21を調製した。<Example 16>
(Preparation of coating liquid 21 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 21 for an infrared absorbing layer.
アロニックス M−305(ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート:東亞合成株式会社製) 149質量部
紫光UV−7600B(ウレタンアクリレート系UV硬化性樹脂:日本合成化学株式会社製) 70質量部
YMF−02A(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3)、固形分28.7質量%、粒子濃度18.5質量%、平均粒子径15nm、屈折率1.66:住友金属鉱山株式会社製) 368質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 4.9質量部
キレストMZ−8(有機溶媒可溶型キレート剤、pH7.6:キレスト株式会社製) 7.0質量部
イルガキュア819(光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製) 15質量部
フタージェント650A(フッ素系界面活性剤:株式会社ネオス製) 0.1質量部
4−メチル−2−ペンタノン 386質量部。Aronix M-305 (pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 149 parts by mass Purple UV-7600B (urethane acrylate UV curable resin: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70 parts by mass YMF-02A (Cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ), solid content: 28.7% by mass, particle concentration: 18.5% by mass, average particle size: 15 nm, refractive index: 1.66: manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) Parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 4.9 parts by mass Chelesto MZ-8 (organic solvent-soluble chelating agent, pH 7.6: manufactured by Kirest Co., Ltd.) 7.0 parts by mass Irgacure 819 (photopolymerization initiator: BASF Japan Ltd.) Parts by mass: Fentgent 650A (fluorine surfactant: manufactured by Neos Co., Ltd.) 0.1 part by mass 4-methyl-2-pentanone 386 parts by mass.
(積層フィルム21の作製)
厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300)上に、グラビアコーターを用い、上記で調製した赤外線吸収層用塗布液21を塗布し、乾燥区間温度100℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用い積算光量300mJ/cm2で塗布層を硬化させて赤外線吸収層を形成した。(Production of laminated film 21)
The infrared absorbing layer coating solution 21 prepared above was applied to a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) using a gravure coater, and dried at a drying zone temperature of 100 ° C. for 1 minute. Was used to cure the coating layer at an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 to form an infrared absorbing layer.
さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層用塗布液1をセパレータ(NS−23MA:中本パックス社製)に塗布し、80℃で1分間乾燥して粘着層を形成した。その後、上記で作製した赤外線吸収層を形成したフィルムのポリエチレンテレフタレートの面と粘着層の面とを貼り合わせ、積層フィルム21を作製した。赤外線吸収層の膜厚は5μmであり、粘着層の膜厚は10μmであった。 Further, using a die coater, the adhesive layer coating solution 1 prepared above was applied to a separator (NS-23MA: manufactured by Nakamoto Pax Co.) and dried at 80 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer. Then, the polyethylene terephthalate surface and the adhesive layer surface of the film on which the infrared absorbing layer was formed as described above were adhered to each other to produce a laminated film 21. The thickness of the infrared absorbing layer was 5 μm, and the thickness of the adhesive layer was 10 μm.
積層フィルム21の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorption layer of the laminated film 21 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例17>
(赤外線吸収層用塗布液22の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液22を調製した。<Example 17>
(Preparation of coating liquid 22 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 22 for an infrared absorbing layer.
アロニックス M−305(ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート:東亞合成株式会社製) 150質量部
紫光UV−7600B(ウレタンアクリレート系UV硬化性樹脂:日本合成化学株式会社製) 70質量部
YMF−02A(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3)、固形分28.7質量%、粒子濃度18.5質量%、平均粒子径15nm、屈折率1.66:住友金属鉱山株式会社製) 368質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 4.9質量部
TBAB−100A(テトラブチルアンモニウムブロマイド:ライオン株式会社製) 5.3質量部
イルガキュア819(光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製) 15質量部
フタージェント650A(フッ素系界面活性剤:株式会社ネオス製) 0.1質量部
4−メチル−2−ペンタノン 386質量部。Aronix M-305 (pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 150 parts by mass Purple UV-7600B (urethane acrylate UV curable resin: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70 parts by mass YMF-02A (Cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ), solid content: 28.7% by mass, particle concentration: 18.5% by mass, average particle size: 15 nm, refractive index: 1.66: manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) Parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 4.9 parts by mass TBAB-100A (tetrabutylammonium bromide: manufactured by Lion Corporation) 5.3 parts by mass Irgacure 819 (photopolymerization initiator: BASF Japan Co., Ltd.) 15 quality Parts by mass: Fentgent 650A (fluorinated surfactant: manufactured by Neos Co., Ltd.) 0.1 part by mass 386 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone.
(積層フィルム22の作製)
赤外線吸収層用塗布液21に代えて、赤外線吸収層用塗布液22を用いたことの他は、積層フィルム21と同様にして積層フィルム22を作製した。(Production of laminated film 22)
A laminated film 22 was prepared in the same manner as the laminated film 21 except that the infrared absorbing layer coating liquid 22 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 21.
積層フィルム22の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは9.0であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 22 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 9.0.
<比較例6>
(赤外線吸収層用塗布液23の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液23を調製した。<Comparative Example 6>
(Preparation of coating liquid 23 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 23 for an infrared absorbing layer.
アロニックス M−305(ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート:東亞合成株式会社製) 20質量部
紫光UV−7600B(ウレタンアクリレート系UV硬化性樹脂:日本合成化学株式会社製) 105質量部
セルナックスCX−Z410BK(AZO分散液 固形分濃度40%、粒子径80〜120nm:日産化学工業株式会社製) 507質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 4.9質量部
キレスト400(EDTA・4Na・4H2O、pH11.2:キレスト株式会社製) 1.8質量部
イルガキュア819(光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製) 15質量部
フタージェント650A(フッ素系界面活性剤:株式会社ネオス製) 0.1質量部
4−メチル−2−ペンタノン 346質量部。Aronix M-305 (pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 20 parts by mass Violet UV-7600B (urethane acrylate UV curable resin: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 105 parts by mass Cellnax CX -Z410BK (AZO dispersion, solid content concentration: 40%, particle diameter: 80 to 120 nm: manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 507 parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 4.9 parts by mass 400 (EDTA · 4Na · 4H 2 O, pH11.2: Chelest Corp.) 1.8 parts by mass Irgacure 819 (photopolymerization initiator manufactured by BASF Japan Ltd.) 15 parts by weight Ftergent 650A (fluorine surfactant : Made by Neos Co., Ltd.) 0.1 parts by mass 4-346 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone.
(積層フィルム23の作製)
赤外線吸収層用塗布液21に代えて、赤外線吸収層用塗布液23を用いたことの他は、積層フィルム21と同様にして積層フィルム23を作製した。(Production of laminated film 23)
A laminated film 23 was produced in the same manner as the laminated film 21 except that the infrared absorbing layer coating liquid 23 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 21.
積層フィルム23の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは6.2であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 23 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 6.2.
<実施例18>
(赤外線吸収層用塗布液24の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液24を調製した。<Example 18>
(Preparation of coating solution 24 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 24 for an infrared absorbing layer.
アロニックス M−305(ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート:東亞合成株式会社製) 15質量部
紫光UV−7600B(ウレタンアクリレート系UV硬化性樹脂:日本合成化学株式会社製) 105質量部
セルナックスCX−Z410BK(AZO分散液 固形分濃度40%、粒子径80〜120nm:日産化学工業株式会社製) 507質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 4.9質量部
キレストMZ−8(有機溶媒可溶型キレート剤、pH7.6:キレスト株式会社製) 7.0質量部
イルガキュア819(光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製) 15質量部
フタージェント650A(フッ素系界面活性剤:株式会社ネオス製) 0.1質量部
4−メチル−2−ペンタノン 346質量部。Aronix M-305 (pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 15 parts by mass Purple UV-7600B (urethane acrylate UV curable resin: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 105 parts by mass Celnax CX -Z410BK (AZO dispersion, solid content concentration: 40%, particle diameter: 80 to 120 nm: manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 507 parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 4.9 parts by mass MZ-8 (organic solvent-soluble chelating agent, pH 7.6: manufactured by Kyrest Co., Ltd.) 7.0 parts by mass Irgacure 819 (photopolymerization initiator: manufactured by BASF Japan Ltd.) 15 parts by mass Futagent 650A (fluorine-based interface) Activator: Neos Corporation) 0 1 part by weight of 4-methyl-2-pentanone 346 parts by weight.
(積層フィルム24の作製)
赤外線吸収層用塗布液21に代えて、赤外線吸収層用塗布液24を用いたことの他は、積層フィルム21と同様にして積層フィルム24を作製した。(Production of laminated film 24)
A laminated film 24 was prepared in the same manner as the laminated film 21 except that the infrared absorbing layer coating liquid 24 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 21.
積層フィルム24の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.0であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 24 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.0.
<実施例19>
(赤外線吸収層用塗布液25の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液25を調製した。<Example 19>
(Preparation of coating liquid 25 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 25 for an infrared absorbing layer.
アロニックス M−305(ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート:東亞合成株式会社製) 15質量部
紫光UV−7600B(ウレタンアクリレート系UV硬化性樹脂:日本合成化学株式会社製) 105質量部
セルナックスCX−Z410BK(AZO分散液 固形分濃度40%、粒子径80〜120nm:日産化学工業株式会社製) 507質量部
アデカスタブAO−50(フェノール系酸化防止剤:株式会社ADEKA製) 4.9質量部
キレスト400(EDTA・4Na・4H2O、pH11.2:キレスト株式会社製) 7.0質量部
イルガキュア819(光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製) 15質量部
フタージェント650A(フッ素系界面活性剤:株式会社ネオス製) 0.1質量部
4−メチル−2−ペンタノン 346質量部。Aronix M-305 (pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 15 parts by mass Purple UV-7600B (urethane acrylate UV curable resin: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 105 parts by mass Celnax CX -Z410BK (AZO dispersion, solid content concentration: 40%, particle diameter: 80 to 120 nm: manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 507 parts by mass ADK STAB AO-50 (phenolic antioxidant: manufactured by ADEKA Corporation) 4.9 parts by mass 400 (EDTA · 4Na · 4H 2 O, pH11.2: Chelest Corp.) 7.0 parts by mass Irgacure 819 (photopolymerization initiator manufactured by BASF Japan Ltd.) 15 parts by weight Ftergent 650A (fluorine surfactant : Made by Neos Co., Ltd.) 0.1 parts by mass 4-346 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone.
(積層フィルム25の作製)
赤外線吸収層用塗布液21に代えて、赤外線吸収層用塗布液25を用いたことの他は、積層フィルム21と同様にして積層フィルム25を作製した。(Production of laminated film 25)
A laminated film 25 was prepared in the same manner as the laminated film 21 except that the infrared absorbing layer coating liquid 25 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 21.
積層フィルム25の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは10.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 25 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 10.5.
<実施例20>
(低屈折率層用塗布液L1の調製)
コロイダルシリカの10質量%水溶液(スノーテックスOXS、日産化学社工業株式会社製)430質量部、ホウ酸3質量%水溶液150質量部、水85質量部、ポリビニルアルコール(JP−45、日本酢ビ・ポバール株式会社製、重合度4500、鹸化度88mol%)4質量%水溶液300質量部、および界面活性剤5質量%水溶液(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル株式会社製)3質量部を45℃で順に添加し、純水で1000質量部に仕上げ、低屈折率層用塗布液L1を調製した。<Example 20>
(Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer)
430 parts by mass of a 10% by mass aqueous solution of colloidal silica (Snowtex OXS, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 150 parts by mass of a 3% by mass aqueous solution of boric acid, 85 parts by mass of water, polyvinyl alcohol (JP-45, Povar Co., Ltd., polymerization degree 4500, saponification degree 88 mol%) 4 mass% aqueous solution 300 mass parts, and surfactant 5 mass% aqueous solution (softazoline LSB-R, Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) 3 mass parts at 45 ° C. The coating liquid L1 was added in this order, and finished to 1000 parts by mass with pure water to prepare a coating liquid L1 for a low refractive index layer.
(高屈折率層用塗布液H1の調製)
二酸化チタン水和物を水に懸濁させた水性懸濁液(TiO2濃度100g/L)10L(リットル)に、水酸化ナトリウム水溶液(濃度10モル/L)30Lを撹拌下で添加し、90℃に昇温し、5時間熟成した後、塩酸で中和、濾過、水洗することで塩基処理チタン化合物を得た。なお、上記反応(処理)において、二酸化チタン水和物は公知の手法に従い、硫酸チタン水溶液を熱加水分解して得られたものを用いた。(Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer)
To 10 L (liter) of an aqueous suspension (TiO 2 concentration: 100 g / L) in which titanium dioxide hydrate was suspended in water, 30 L of an aqueous sodium hydroxide solution (concentration: 10 mol / L) was added under stirring. After raising the temperature to 5 ° C. and aging for 5 hours, the base-treated titanium compound was obtained by neutralizing with hydrochloric acid, filtering and washing with water. In the above reaction (treatment), titanium dioxide hydrate used was obtained by thermally hydrolyzing an aqueous solution of titanium sulfate according to a known method.
塩基処理チタン化合物をTiO2濃度20g/Lになるよう純水に懸濁させ、撹拌下クエン酸をTiO2量に対し0.4モル%加え昇温した。液温が95℃になったところで、濃塩酸を塩酸濃度30g/Lになるように加え、液温を維持しつつ3時間撹拌した。The base-treated titanium compound was suspended in pure water so as to have a TiO 2 concentration of 20 g / L, and 0.4 mol% of citric acid was added to the amount of TiO 2 with stirring to raise the temperature. When the liquid temperature reached 95 ° C., concentrated hydrochloric acid was added so that the hydrochloric acid concentration became 30 g / L, and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the liquid temperature.
得られた酸化チタンゾル水系分散液のpHおよびゼータ電位を測定したところ、pHは1.4、ゼータ電位は+40mVであった。さらに、マルバーン社製ゼータサイザーナノにより粒径測定を行ったところ、体積平均粒径は35nm、単分散度は16%であった。 When the pH and the zeta potential of the obtained titanium oxide sol aqueous dispersion were measured, the pH was 1.4 and the zeta potential was +40 mV. Further, when the particle size was measured by using Zetasizer Nano manufactured by Malvern, the volume average particle size was 35 nm, and the monodispersity was 16%.
体積平均粒径35nmのルチル型酸化チタン粒子を含む20.0質量%酸化チタンゾル水系分散液1kgに純水1kgを添加した。 1 kg of pure water was added to 1 kg of a 20.0% by mass aqueous titanium oxide sol dispersion containing rutile-type titanium oxide particles having a volume average particle diameter of 35 nm.
上記で得られた10.0質量%酸化チタンゾル水系分散液0.5kgに、純水2kgを加えた後、90℃に加熱した。その後、SiO2濃度が2.0質量%のケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加し、次いで、得られた分散液をオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、さらに濃縮して、ルチル型構造を有する酸化チタンで、被覆層がSiO2である、20.0質量%のシリカ変性酸化チタン粒子のゾル水分散液を得た。2 kg of pure water was added to 0.5 kg of the 10.0% by mass aqueous titanium oxide sol dispersion obtained above, and then heated to 90 ° C. Thereafter, 1.3 kg of an aqueous solution of silicic acid having a SiO 2 concentration of 2.0% by mass was gradually added, and then the obtained dispersion was subjected to a heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, followed by further concentration. An aqueous sol dispersion of 20.0% by mass of silica-modified titanium oxide particles of titanium oxide having a rutile structure and a coating layer of SiO 2 was obtained.
次いで、シリカ変性酸化チタン粒子の20.0質量%ゾル水分散液320質量部、クエン酸の1.92質量%水溶液120質量部、10質量%ポリビニルアルコール溶液20質量部(PVA−103、重合度300、鹸化度99mol%、クラレ社製)、ホウ酸の3質量%水溶液100質量部、ポリビニルアルコールの4質量%溶液350質量部(クラレ社製、PVA−124、重合度2400、鹸化度88mol%)、および界面活性剤の5質量%溶液1質量部(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル社製)を45℃で順に添加し、純水で1000質量部に仕上げ、高屈折率層用塗布液H1を調製した。 Next, 320 parts by mass of a 20.0% by mass sol aqueous dispersion of silica-modified titanium oxide particles, 120 parts by mass of a 1.92% by mass aqueous solution of citric acid, and 20 parts by mass of a 10% by mass polyvinyl alcohol solution (PVA-103; 300, saponification degree 99 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 100 parts by mass of a 3% by mass aqueous solution of boric acid, 350 parts by mass of a 4% by mass solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., PVA-124, polymerization degree 2400, saponification degree 88 mol%) ), And 1 part by mass of a 5% by mass solution of a surfactant (Softazoline LSB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) are added in order at 45 ° C., and finished to 1000 parts by mass with pure water to obtain a coating solution for a high refractive index layer. H1 was prepared.
(積層フィルム26の作製)
9層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、上記で得られた低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を45℃に保温しながら、45℃に加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300)上に、最下層と最上層は低屈折率層とし、それ以外はそれぞれ交互に、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層150nm、高屈折率層は各層130nmになるように計9層の同時重層塗布を行った。なお、層間の混合領域(混合層)の確認および膜厚の測定(確認)は、積層膜(誘電体多層膜フィルム試料)を切断して切断面をXPS表面分析装置で高屈折率材料(TiO2)と低屈折率材料(SiO2)の存在量を測定することで、上記した各層の膜厚が確保されていることが確認できた。(Production of laminated film 26)
The thickness of the low-refractive-index layer coating liquid L1 and the high-refractive-index layer coating liquid H1 obtained above was heated to 45 ° C. using a slide hopper coating apparatus capable of 9-layer coating. On a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film (A4300 manufactured by Toyobo), the lowermost layer and the uppermost layer are low-refractive-index layers, and the other layers are alternately alternately dried. A total of 9 layers were simultaneously coated so that each layer had a thickness of 130 nm. The mixed region (mixed layer) between layers and the measurement (confirmation) of the film thickness were confirmed by cutting the laminated film (dielectric multilayer film sample) and cutting the cut surface with a high refractive index material (TiO 2) using an XPS surface analyzer. By measuring the amount of 2 ) and the low refractive index material (SiO 2 ), it was confirmed that the thickness of each layer described above was secured.
塗布直後、5℃の冷風を吹き付けてセットさせた。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間(セット時間)は5分であった。 Immediately after the application, a cool air of 5 ° C. was blown to set. At this time, even if the surface was touched with the finger, the time (set time) until the finger did not stick was 5 minutes.
セット完了後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、9層からなる誘電体多層膜ユニットを作製した。上記の通り形成した高屈折率層の屈折率は1.95であり、低屈折率層の屈折率は1.45であった。 After the setting was completed, the substrate was dried by blowing hot air at 80 ° C. to produce a dielectric multilayer unit having nine layers. The refractive index of the high refractive index layer formed as described above was 1.95, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.45.
次に、グラビアコーターを用い、上記で調製した赤外線吸収層用塗布液9を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの誘電体多層膜ユニットと反対側の面に塗布し、乾燥温度100℃で1分間乾燥して赤外線吸収層を形成した。 Next, using a gravure coater, the infrared absorbing layer coating solution 9 prepared above was applied to the surface of the polyethylene terephthalate film opposite to the dielectric multilayer unit, and dried at a drying temperature of 100 ° C. for 1 minute to obtain an infrared ray. An absorption layer was formed.
さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層用塗布液1をセパレータ(NS−23MA:中本パックス社製)に塗布し、80℃で1分間乾燥し、粘着層を形成した。その後、上記で作製した赤外線吸収層を形成したフィルムの誘電体多層膜ユニットの面と粘着層の面とを貼り合わせ、積層フィルム26を作製した。積層フィルム26の赤外線吸収層の膜厚は5μmであり、粘着層の膜厚は10μmであった。 Further, the adhesive layer coating solution 1 prepared above was applied to a separator (NS-23MA: manufactured by Nakamoto Pax Co.) using a die coater and dried at 80 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer. Then, the surface of the dielectric multilayer unit and the surface of the adhesive layer of the film on which the infrared absorbing layer was formed as described above were bonded to each other to form a laminated film 26. The thickness of the infrared absorbing layer of the laminated film 26 was 5 μm, and the thickness of the adhesive layer was 10 μm.
積層フィルム26の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 26 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<実施例21>
(積層フィルム27の作製)
赤外線吸収層用塗布液9に代えて、赤外線吸収層用塗布液2を用いたことの他は、積層フィルム26の作製と同様の操作を行い、積層フィルム27を作製した。<Example 21>
(Production of laminated film 27)
A laminated film 27 was produced in the same manner as in the production of the laminated film 26, except that the infrared absorbing layer coating liquid 2 was used instead of the infrared absorbing layer coating liquid 9.
積層フィルム27の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは7.5であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 27 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 7.5.
<比較例7>
(赤外線吸収層用塗布液28の調製)
下記材料を混合し、室温で30分間撹拌し、赤外線吸収層用塗布液28を調製した。<Comparative Example 7>
(Preparation of coating liquid 28 for infrared absorption layer)
The following materials were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating liquid 28 for an infrared absorbing layer.
サートマーSR399E(サートマー・ジャパン株式会社製) 100質量部
YMF−01(セシウム含有複合酸化タングステン(Cs0.33WO3):住友金属鉱山株式会社製) 500質量部
イルガキュア127(光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製) 5質量部
トルエン 100質量部
(積層フィルム28の作製)
厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、商品名「PET25T600EW07」)の片面に、グラビアコーターを用い、上記で調製した赤外線吸収層用塗布液28を塗布し、塗布層を乾燥区間温度70℃で1分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用い積算光量125mJ/cm2で塗布層を硬化させて赤外線吸収層を形成した。Sartomer SR399E (manufactured by Sartomer Japan KK) 100 parts by mass YMF-01 (cesium-containing composite tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ): manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) 500 parts by mass Irgacure 127 (photopolymerization initiator: BASF Japan Co., Ltd.) 5 parts by mass Toluene 100 parts by mass (Preparation of laminated film 28)
One surface of a 25 μm thick polyethylene terephthalate film (trade name “PET25T600EW07” manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) is coated with the infrared absorbing layer coating solution 28 prepared above using a gravure coater, and the coating layer is dried. It was dried at an interval temperature of 70 ° C. for 1 minute. Thereafter, the coating layer was cured with an integrated light amount of 125 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to form an infrared absorbing layer.
さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層用塗布液1をセパレータ(NS−23MA:中本パックス社製)に塗布し、80℃で1分間乾燥して粘着層を形成した。 Further, using a die coater, the adhesive layer coating solution 1 prepared above was applied to a separator (NS-23MA: manufactured by Nakamoto Pax Co.) and dried at 80 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer.
次いで、赤外線吸収層を形成したフィルムのPET面と粘着層面とを貼り合わせ、積層フィルム28を作製した。当該積層フィルム28の赤外線吸収層の膜厚は4μmであり、粘着層の膜厚は10μmであった。 Next, the PET surface and the adhesive layer surface of the film on which the infrared absorbing layer was formed were attached to each other to produce a laminated film 28. The thickness of the infrared absorbing layer of the laminated film 28 was 4 μm, and the thickness of the adhesive layer was 10 μm.
積層フィルム28の赤外線吸収層の膜面pHを上記と同様にして測定したところ、膜面pHは6.0であった。 When the film surface pH of the infrared absorbing layer of the laminated film 28 was measured in the same manner as described above, the film surface pH was 6.0.
≪積層フィルムの評価≫
上記作製した積層フィルムについて、以下の評価を行った。結果を下記の表1、2に示す。≫Evaluation of laminated film≫
The following evaluation was performed about the laminated film produced above. The results are shown in Tables 1 and 2 below.
<耐候性の評価>
促進耐候性試験機として、キセノン灯を用いたキセノンウェザーメーターを利用し、照度180mW/cm2、温度40℃、湿度50%RHにて、120分照射中に、18分間水噴射を繰り返し行い、その後、2000時間照射した(耐候性試験)。その後、以下の方法で、変色の測定、クラックの有無の観察、およびヘイズの測定を行った。<Evaluation of weather resistance>
As an accelerated weather resistance tester, a xenon weather meter using a xenon lamp was used, and at 180 mW / cm 2 of illuminance, temperature of 40 ° C. and humidity of 50% RH, water jet was repeatedly performed for 18 minutes during irradiation for 120 minutes, Thereafter, irradiation was performed for 2000 hours (weather resistance test). Thereafter, measurement of discoloration, observation of the presence or absence of cracks, and measurement of haze were performed by the following methods.
(変色の測定)
上記の耐候性試験後の積層フィルム試料を、日立U−4100同等性能の分光光度計で透過率を測定し、L*a*b*色空間におけるL*、a*、b*を算出し、(耐候性試験後)−(耐候性試験前(初期))の色空間上の変化ΔEを算出した。ΔEは3.5以下であればよく、3未満が好ましく、2未満が特に好ましい。(Measurement of discoloration)
The laminated film samples after weathering test described above, the transmittance was measured with a spectrophotometer Hitachi U-4100 equivalent performance, L * in the L * a * b * color space, a *, calculates b *, The change ΔE in the color space (after the weather resistance test) − (before the weather resistance test (initial)) was calculated. ΔE may be 3.5 or less, preferably less than 3, and particularly preferably less than 2.
(クラックの有無の観察)
積層フィルム試料15cm×5cm(75cm2)の赤外線吸収層側の最表面の層を目視にて観察し、クラックの数を計数し、積層フィルム試料10枚の平均値に基づき、以下の基準で評価した。(Observation of cracks)
The outermost layer on the infrared absorption layer side of the laminated film sample of 15 cm × 5 cm (75 cm 2 ) is visually observed, the number of cracks is counted, and the evaluation is made based on the average value of 10 laminated film samples according to the following criteria. did.
◎:0個、
○:1〜5個、
○△:6〜10個、
△:11〜25個、
×:26個以上。◎: 0 pieces,
○: 1 to 5,
○ △: 6 to 10,
Δ: 11 to 25,
×: 26 or more.
なお、◎、○、○△、△は実用上問題なく使用できる。 Note that ○, ○, ○ △, and Δ can be used without any practical problems.
(ヘイズの測定)
ISO 14782に準拠し、積層フィルム試料15cm×5cm(75cm2)をヘイズメーター(日本電色工業社製 NDH−7000)で5箇所測定した平均値をヘイズ測定値とした。遮熱フィルムのヘイズ値としては1.5%以下が好ましい。(Haze measurement)
Based on ISO 14782, the average value of 15 cm × 5 cm (75 cm 2 ) of the laminated film sample measured with a haze meter (NDH-7000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) was defined as a haze measurement value. The haze value of the heat shielding film is preferably 1.5% or less.
<遮熱性の評価>
分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、品名:U−4000型)を用い、測定試料の透過率と5°反射率(%)を測定した。次にJIS R3106に記載の方法に従い、該測定値と日射反射重価係数との演算処理を行って日射反射率、日射透過率を求め、さらに日射熱取得率(Tts)を求めた。<Evaluation of heat insulation>
The transmittance and 5 ° reflectance (%) of the measurement sample were measured using a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., product name: U-4000 type). Next, in accordance with the method described in JIS R3106, the measured values and the solar reflectance weighting factor were subjected to arithmetic processing to determine the solar reflectance and the solar transmittance, and further the solar heat gain (Tts).
Ttsは数値が小さいほど良好な遮熱性を示す。 The smaller the value of Tts, the better the heat shielding property.
遮熱性の変化率は、上記の耐候性試験を行った後のTtsを求め、(耐候性試験後のTts−耐候性試験前のTts)/(耐候性試験前のTts)×100(%)の値を求めた。 The rate of change in the thermal insulation was determined by calculating Tts after the above-mentioned weather resistance test, and (Tts after the weather resistance test-Tts before the weather resistance test) / (Tts before the weather resistance test) × 100 (%). Was determined.
<酸性雨耐性>
上記で作製した積層フィルムを、30℃の5%硫酸アンモニウム水溶液の液に7日間浸漬した。その後、積層フィルムをガラスフィルムに貼り付けて、日立U−4100同等性能の分光光度計で透過率を測定し、L*a*b*色空間におけるL*、a*、b*を算出し、(硫酸アンモニウム水溶液に浸漬後)−(浸漬前)の色空間上の変化ΔEを算出した。<Acid rain resistance>
The laminated film prepared above was immersed in a 5% aqueous solution of ammonium sulfate at 30 ° C. for 7 days. Then, a laminated film adhered to the glass film, the transmittance was measured with a spectrophotometer Hitachi U-4100 equivalent performance, L * in the L * a * b * color space, a *, calculates b *, The change ΔE in the color space (after immersion in an aqueous solution of ammonium sulfate) − (before immersion) was calculated.
○:ΔE 1未満、
○△:ΔE 1以上、2未満、
△:ΔE 2以上、3未満、
×:ΔE 3以上。:: less than ΔE 1,
○ △: ΔE 1 or more and less than 2,
Δ: ΔE 2 or more and less than 3,
×: ΔE 3 or more.
なお、○、○△、△は実用上問題なく使用できる。 In addition, ○, ○ △, and Δ can be used without any practical problem.
以上の評価結果を表1、2に示す。 Tables 1 and 2 show the above evaluation results.
上記表1および表2により、赤外線吸収層中に赤外線吸収剤および酸化防止剤を含み、膜面pHを6.5以上とするとき、赤外線遮蔽性能に優れるとともに、変色しにくく、クラックの発生が少なく、変色を抑えることでヘイズの増加も抑制された積層フィルムを得ることができることが示された。さらに膜面pHを6.5以上とすることで、酸性雨に触れた部分で膜の酸性化が起こり、赤外線吸収層が変質することを抑制できるために変色を抑制できる。 According to the above Tables 1 and 2, when the infrared absorbing layer contains an infrared absorbing agent and an antioxidant and has a film surface pH of 6.5 or more, the infrared absorbing layer is excellent in infrared shielding performance, hardly discolors, and is free from cracks. It was shown that a laminated film in which the increase in haze was suppressed by suppressing discoloration was small. Further, when the pH of the film surface is set to 6.5 or more, acidification of the film occurs at a portion where the film is exposed to the acid rain, and it is possible to suppress the infrared absorbing layer from being deteriorated.
一方で、積層フィルム5、6、18、23、28のように、赤外線吸収層の膜面pHが6.5未満である場合は、高湿、太陽光曝露下では変色しやすく、クラックも生じやすい。また、赤外線遮蔽性能が低下してしまうことがわかった。さらに、硫酸アンモニウム水溶液浸漬後に変色が生じた。 On the other hand, when the film surface pH of the infrared absorbing layer is less than 6.5 as in the laminated films 5, 6, 18, 23, and 28, the film is easily discolored under high humidity and exposure to sunlight, and cracks are generated. Cheap. It was also found that the infrared shielding performance was reduced. Further, discoloration occurred after immersion in the ammonium sulfate aqueous solution.
赤外線吸収剤がCWOであると赤外線遮蔽性能に優れ、変色を抑制する効果が高い。特に膜面pHが7.5〜10.5であり、赤外線吸収剤がCWOである場合、発明の効果がより顕著に得られうる。 If the infrared absorbent is CWO, it has excellent infrared shielding performance and a high effect of suppressing discoloration. In particular, when the film surface pH is 7.5 to 10.5 and the infrared absorbent is CWO, the effects of the invention can be more remarkably obtained.
また、積層フィルム9〜15の結果を比較すると、酸化防止剤としてフェノール系、またはヒンダードアミン系酸化防止剤を用いると、高湿、太陽光曝露下での変色を抑制する効果に優れることがわかる。 Comparing the results of the laminated films 9 to 15, it is understood that the use of a phenol-based or hindered amine-based antioxidant as the antioxidant has an excellent effect of suppressing discoloration under high humidity and exposure to sunlight.
また、積層フィルム26、27のように、積層フィルムが誘電体多層膜をさらに備えることにより、遮蔽効果がさらに向上しうることがわかった。 Moreover, it was found that the shielding effect can be further improved by further providing the multilayer film with the dielectric multilayer film as in the multilayer films 26 and 27.
ハードコート性を有する赤外線吸収層を設けた積層フィルム21、22、24、25では、さらに表面の耐傷性が向上した。 In the laminated films 21, 22, 24, and 25 provided with the infrared absorbing layer having the hard coat property, the surface scratch resistance was further improved.
なお、本出願は、2014年12月3日に出願された日本特許出願第2014−245412号に基づいており、その開示内容は、参照により全体として引用されている。 This application is based on Japanese Patent Application No. 2014-245412 filed on December 3, 2014, the disclosure of which is incorporated by reference in its entirety.
Claims (6)
前記基材の一方の面上に配置された、赤外線吸収剤、樹脂、および酸化防止剤を含有する赤外線吸収層と、を有し、
前記赤外線吸収剤が、セシウム含有複合酸化タングステンであり、
前記赤外線吸収層の基材と反対側の表面の膜面pHが8.5以上である、積層フィルム。 A substrate,
An infrared absorber, a resin, and an infrared absorbing layer containing an antioxidant, disposed on one surface of the base material,
The infrared absorber is a cesium-containing composite tungsten oxide,
A laminated film in which the surface pH of the surface of the infrared absorbing layer opposite to the substrate is 8.5 or more .
前記基材の一方の面上に配置された、赤外線吸収剤、樹脂、および酸化防止剤を含有する赤外線吸収層と、を有し、
前記赤外線吸収剤が、セシウム含有複合酸化タングステンであり、
前記赤外線吸収層の基材と反対側の表面の膜面pHが6.5以上であり、
前記赤外線吸収層が、4級アンモニウム塩(ポリマー構造中に含まれない)、または、エチレンジアミン四酢酸またはその塩を有する、積層フィルム。 A substrate,
An infrared absorber, a resin, and an infrared absorbing layer containing an antioxidant, disposed on one surface of the base material,
The infrared absorber is a cesium-containing composite tungsten oxide,
Wherein Ri der film surface pH of the substrate opposite the surface 6.5 or more infrared-absorbing layer,
A laminated film , wherein the infrared absorbing layer has a quaternary ammonium salt (not included in the polymer structure), or ethylenediaminetetraacetic acid or a salt thereof .
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014245412 | 2014-12-03 | ||
JP2014245412 | 2014-12-03 | ||
PCT/JP2015/084053 WO2016088850A1 (en) | 2014-12-03 | 2015-12-03 | Laminated film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016088850A1 JPWO2016088850A1 (en) | 2017-09-14 |
JP6673219B2 true JP6673219B2 (en) | 2020-03-25 |
Family
ID=56091790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016562682A Expired - Fee Related JP6673219B2 (en) | 2014-12-03 | 2015-12-03 | Laminated film |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6673219B2 (en) |
CN (1) | CN107003450B (en) |
WO (1) | WO2016088850A1 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2017164024A1 (en) * | 2016-03-22 | 2019-01-31 | Jsr株式会社 | Optical filter and device using optical filter |
US11555950B2 (en) * | 2016-12-12 | 2023-01-17 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Transparent article |
KR102259624B1 (en) * | 2017-01-11 | 2021-06-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | Composition, film, optical filter, pattern forming method, solid-state image sensor, image display device and infrared sensor |
CN109677083A (en) * | 2019-03-01 | 2019-04-26 | 北京伊斯普电子技术有限公司 | A kind of infrared laser blocking thin film and preparation method thereof |
JP2022173934A (en) * | 2021-05-10 | 2022-11-22 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | Heat ray cutting film with anti-fogging function, heat ray cutting paint with anti-fogging function and heat ray cutting film with anti-fogging function |
CN116102760B (en) * | 2023-01-14 | 2024-09-20 | 宁波瑞成包装材料有限公司 | Production method of flame-retardant and easily-infiltrated CPP film |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007111940A (en) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | Near infrared absorbing material |
JP2008156539A (en) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Soken Chem & Eng Co Ltd | Binder resin for near-ir absorptive film and near-ir absorptive filter utilizing the same |
JP2008197142A (en) * | 2007-02-08 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | Near-infrared light-absorbing film and production method therefor |
JP2008238646A (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Toray Ind Inc | Hard coat film and anti-reflection film |
JP2010008818A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Near infrared ray absorption filter for plasma display panel, and plasma display panel |
JP5703855B2 (en) * | 2011-03-07 | 2015-04-22 | コニカミノルタ株式会社 | Near-infrared reflective film, method for producing near-infrared reflective film, and near-infrared reflector |
JP5896685B2 (en) * | 2011-10-21 | 2016-03-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Laminated body for heat shielding and laminated film used for manufacturing the same |
JP6013252B2 (en) * | 2013-03-28 | 2016-10-25 | 富士フイルム株式会社 | Heat ray shielding material, interlayer film for laminated glass and laminated glass |
-
2015
- 2015-12-03 WO PCT/JP2015/084053 patent/WO2016088850A1/en active Application Filing
- 2015-12-03 CN CN201580065392.2A patent/CN107003450B/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-12-03 JP JP2016562682A patent/JP6673219B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2016088850A1 (en) | 2017-09-14 |
CN107003450A (en) | 2017-08-01 |
WO2016088850A1 (en) | 2016-06-09 |
CN107003450B (en) | 2020-02-21 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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