JP6664935B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に処理を行う基板処理装置に関する。

従来、この種の装置として、基板を反転させる反転ユニットと、基板を処理する処理ユニットと、基板を搬送する搬送機構とを備える基板処理装置がある。搬送機構は、例えば、インデクサロボットとメインロボットを備える。インデクサロボットは、基板を収納する収納容器と反転ユニットに基板を搬送する。メインロボットは、反転ユニットと処理ユニットに基板を搬送する（例えば、特許文献１参照）。

このような構成を有する基板処理装置は、例えば、次のように動作する。インデクサロボットは、収納容器から反転ユニットに基板を搬送する。反転ユニットは基板を反転する。これにより、基板は、表面と裏面が反転した姿勢になる。メインロボットは、反転ユニットから処理ユニットに基板を搬送する。処理ユニットは基板に処理を行う。メインロボットは、処理ユニットから反転ユニットに基板を搬送する。反転ユニットは、再び、基板を反転する。これにより、基板は元の姿勢に戻る。インデクサロボットは、反転ユニットから収納容器に基板を搬送する。

このように、

特開２００８−１６６３６９号公報

しかしながら、従来の装置では、メインロボットが反転ユニットと処理ユニットとの両方にアクセスする。このため、反転ユニットと処理ユニットとの間における基板の搬送効率が低下し易い。

例えば、メインロボットが反転ユニットから基板を搬出する搬出動作は、インデクサロボットから反転ユニットに基板を搬入した後に許容されるのではなく、その後、反転ユニットがその基板を反転した後に初めて許容される。このため、メインロボットが搬出動作を待つ時間が発生しやすい。

さらに、反転ユニットが基板を反転し終わった後には、メインロボットが速やかに搬出動作を行うことが好ましい。メインロボットが反転ユニットから基板を搬出しなければ、インデクサロボットが次の基板を反転ユニットに搬入できないからである。メインロボットの搬出動作の遅れはインデクサロボットの基板搬送の遅れを招き、インデクサロボットの基板搬送の遅れはメインロボットの搬出動作の更なる遅れを招く。

このようにメインロボットの搬出動作に待機や遅延が発生しやすいので、反転ユニットから処理ユニットに基板を効率良く搬送することが困難となる。

同様に、メインロボットが反転ユニットに基板を搬入する搬入動作に関しても、待機や遅延が発生しやすい。よって、処理ユニットから反転ユニットに基板を効率良く搬送することが困難となる。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、反転ユニットと処理ユニットの間で基板を効率良く搬送できる基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明は基板処理装置であって、基板を載置する載置部と、基板を反転する第１反転ユニットと、基板を反転する第２反転ユニットと、基板に処理を行う処理ユニットと、前記載置部と前記第１反転ユニットに基板を搬送する第１反転用搬送機構と、前記載置部と前記第２反転ユニットに基板を搬送する第２反転用搬送機構と、前記載置部と前記処理ユニットに基板を搬送する処理用搬送機構と、を備えている基板処理装置である。

［作用・効果］本発明に係る基板処理装置によれば、処理用搬送機構は、載置部と処理ユニットの間で基板を搬送する。第１反転ユニットに対しては第１反転用搬送機構が基板を搬送し、第２反転ユニットに対しては第２反転用搬送機構が基板を搬送する。第１反転用搬送機構と処理用搬送機構は、第１、第２反転ユニットを介さずに、載置部を介して、基板を相互に搬送する。同様に、第２反転用搬送機構と処理用搬送機構も、第１、第２反転ユニットを介さずに、載置部を介して、基板を相互に搬送する。

このような構成によれば、第１、第２反転用搬送機構が基板を載置部に載置すると、処理用搬送機構は直ちに載置部から基板を搬出できる。このため、処理用搬送機構が載置部から基板を搬出するスケジュールが乱れにくい。よって、処理用搬送機構は、載置部から処理ユニットに基板を効率よく搬送できる。

他方、処理用搬送機構が基板を載置部に載置すると、第１、第２反転用搬送機構は直ちに載置部から基板を搬出でき、その結果、載置部は新たな基板を受けることができる状態になる。このため、処理用搬送機構が載置部に基板を搬送するスケジュールが乱れにくい。よって、処理用搬送機構は、処理ユニットから載置部に基板を効率よく搬送できる。

基板処理装置は、第１、第２反転用搬送機構といった、２つの反転用搬送機構を備えているので、載置部と第１反転ユニットの間、および、載置部と第２反転ユニットの間で基板を効率良く搬送できる。

基板処理装置は、第１、第２反転ユニットといった、２つの反転ユニットを備えているので、基板を効率良く反転できる。したがって、処理ユニットに搬送するための基板を十分に供給でき、処理ユニットから搬出された基板を十分に回収できる。

以上のとおり、処理用搬送機構は載置部と処理ユニットとの間で基板を効率良く搬送でき、第１、第２反転用搬送機構は載置部と第１、第２反転ユニットの間で基板を効率良く搬送でき、第１、第２反転ユニットは基板を効率よく反転できる。よって、本発明によれば、反転ユニットと処理ユニットとの間で基板を効率良く搬送できる。

上述した発明において、前記第１反転用搬送機構および前記第２反転用搬送機構はそれぞれ、前記載置部の側方に配置され、前記第１反転ユニットは、前記第１反転用搬送機構の側方に配置され、前記第２反転ユニットは、前記第２反転用搬送機構の側方に配置され、前記処理用搬送機構は、前記載置部の後方に配置されていることが好ましい。第１反転用搬送機構は載置部の側方に配置され、処理用搬送機構は前記載置部の後方に配置されているので、第１反転用搬送機構と処理用搬送機構はそれぞれ、互いに干渉することなく、載置部に好適にアクセスできる。第２反転ユニットは第２反転用搬送機構の側方に配置されているので、第２反転用搬送機構も、処理用搬送機構と干渉することなく、載置部に好適にアクセスできる。第１反転ユニットは第１反転用搬送機構の側方に配置されているので、第１反転用搬送機構は、第１反転ユニットに好適にアクセスできる。第２反転ユニットは第２反転用搬送機構の側方に配置されているので、第２反転用搬送機構は、第２反転ユニットに好適にアクセスできる。よって、第１、第２反転用搬送機構と処理用搬送機構はそれぞれ、好適に基板を搬送できる。

上述した発明において、前記第１反転ユニットと前記第１反転用搬送機構と前記載置部と前記第２反転ユニットと前記第２反転用搬送機構は、平面視で、この順で１列に並ぶ
ことが好ましい。第１、第２反転用搬送機構はそれぞれ、互いに干渉することなく、載置部に好適にアクセスできる。さらに、第１反転用搬送機構は、第１反転ユニットに好適にアクセスできる。第２反転用搬送機構は、第２反転ユニットに好適にアクセスできる。

上述した発明において、複数の前記載置部は、上下方向に並ぶように配置されており、複数の前記処理用搬送機構は、上下方向に並ぶように配置されており、前記処理用搬送機構のそれぞれが１つ以上の前記載置部と向かい合うことが好ましい。基板処理装置は複数の処理用搬送機構を備えているので、処理ユニットに基板を一層効率良く搬送できる。処理用搬送機構のそれぞれが１つ以上の前記載置部と向かい合うので、各処理用搬送機構はそれぞれ、第１、第２反転用搬送機構と基板を好適に受け渡すことができる。複数の処理用搬送機構は互いに上下方向に並び、かつ、複数の載置部は上下方向に並ぶので、基板処理装置の設置面積が増大することを好適に抑制できる。

上述した発明において、基板を収納する収納容器と前記載置部とに基板を搬送するインデクサ用搬送機構を備えていることが好ましい。処理用搬送機構が載置部と処理ユニットとの間で基板を効率良く搬送できるのと同じような理由により、インデクサ用搬送機構は、載置部と収納容器との間で基板を効率良く搬送できる。具体的には、第１反転用搬送機構とインデクサ用搬送機構は、第１、第２反転ユニットを介さずに、載置部を介して、基板を相互に搬送する。同様に、第２反転用搬送機構とインデクサ用搬送機構も、第１、第２反転ユニットを介さずに、載置部を介して、基板を相互に搬送する。よって、インデクサ用搬送機構は、載置部から収納容器に基板を効率よく搬送でき、収納容器から載置部に基板を効率良く搬送できる。

さらに、上述したとおり、第１、第２反転用搬送機構は載置部と第１、第２反転ユニットの間で基板を効率良く搬送でき、第１、第２反転ユニットは基板を効率よく反転できる。よって、本発明によれば、反転ユニットと収納容器との間で基板を効率良く搬送できる。

上述した発明において、前記インデクサ用搬送機構は、側面視で、前記載置部の前方に配置されていることが好ましい。インデクサ用搬送機構は、第１、第２反転用搬送機構や処理用搬送機構と干渉すること無く、載置部に好適にアクセスできる。

なお、「前記インデクサ用搬送機構は、側面視で、前記載置部の前方に配置されている」とは、インデクサ用搬送機構が載置部の前方に位置する態様のみならず、インデクサ用搬送機構が載置部の斜め前方に位置する態様も含む。

なお、本明細書は、次のような基板処理装置に係る発明も開示している。

（１）上述した発明において、前記処理用搬送機構は、前記第１反転ユニットにアクセス不能であることが好ましい。

前記（１）に記載の発明によれば、第１反転ユニットと処理ユニットの間における基板の搬送効率が低下することを好適に防止できる。

（２）上述した発明において、前記第１反転ユニットには、前記第１反転用搬送機構のみがアクセス可能であることが好ましい。

前記（２）に記載の発明によれば、基板の搬送効率が低下することを好適に防止できる。

（３）上述した発明において、前記処理用搬送機構は、前記第２反転ユニットにアクセス不能であることが好ましい。

前記（３）に記載の発明によれば、第２反転ユニットと処理ユニットの間における基板の搬送効率が低下することを好適に防止できる。

（４）上述した発明において、前記第２反転ユニットには、前記第２反転用搬送機構のみがアクセス可能であることが好ましい。

前記（４）に記載の発明によれば、基板の搬送効率が低下することを好適に防止できる。

（５）上述した発明において、前記第１反転用搬送機構と前記処理用搬送機構は、前記載置部を介して、基板を相互に搬送可能であることが好ましい。

前記（５）に記載の発明によれば、第１反転用搬送機構と処理用搬送機構は、基板を好適に受け渡すことができる。

（６）上述した発明において、前記第２反転用搬送機構と前記処理用搬送機構は、前記載置部を介して、基板を相互に搬送可能であることが好ましい。

前記（６）に記載の発明によれば、第２反転用搬送機構と処理用搬送機構は、基板を好適に受け渡すことができる。

（７）上述した発明において、前記処理ユニットは、前記処理用搬送機構の側方に配置されていることが好ましい。

前記（７）に記載の発明によれば、処理用搬送機構は、処理ユニットに好適にアクセスできる。

（８）上述した発明において、前記第１反転用搬送機構は、前記載置部の一側方に配置され、前記第２反転用搬送機構は、前記載置部の一側方とは反対の他側方に配置され、前記第１反転ユニットは、前記第１反転用搬送機構の前記一側方に配置され、前記第２反転ユニットは、前記第２反転用搬送機構の前記他側方に配置されることが好ましい。

前記（８）に記載の発明によれば、第１、第２反転用搬送機構はそれぞれ、互いに干渉することなく、載置部に好適にアクセスできる。さらに、第１反転用搬送機構は、第１反転ユニットに好適にアクセスできる。第２反転用搬送機構は、第２反転ユニットに好適にアクセスできる。

（９）上述した発明において、複数の前記処理ユニットの一部は、前記処理用搬送機構の一側方に配置され、他の前記処理ユニットは、前記処理用搬送機構の他側方に配置されていることが好ましい。換言すれば、前記処理ユニットは、前記処理用搬送機構の一側方に配置される１つ以上の処理ユニットと、前記処理用搬送機構の他側方に配置される１つ以上の処理ユニットを備えることが好ましい。

前記（９）に記載の発明によれば、処理用搬送機構の周囲に処理ユニットを高密度に配置できる。よって、処理用搬送機構は、複数の処理ユニットに効率良くアクセスできる。

（１０）上述した発明において、前記処理用搬送機構のそれぞれと略同じ高さ位置には、１つ以上の前記載置部が配置されていることが好ましい。

前記（１０）に記載の発明によれば、各処理用搬送機構はそれぞれ、略同じ高さ位置に配置される載置部に好適にアクセスできる。

（１１）上述した発明において、前記インデクサ用搬送機構は、前記第１反転ユニットにアクセス不能であることが好ましい。

前記（１１）に記載の発明によれば、第１反転ユニットと収納容器の間における基板の搬送効率が低下することを好適に防止できる。

（１２）上述した発明において、前記インデクサ用搬送機構は、前記第２反転ユニットにアクセス不能であることが好ましい。

前記（１２）に記載の発明によれば、第２反転ユニットと処理ユニットの間における基板の搬送効率が低下することを好適に防止できる。

（１３）上述した発明において、前記第１反転用搬送機構と前記インデクサ用搬送機構は、前記載置部を介して、基板を相互に搬送可能であることが好ましい。

前記（１３）に記載の発明によれば、第１反転用搬送機構とインデクサ用搬送機構は、基板を好適に受け渡すことができる。

（１４）上述した発明において、前記第２反転用搬送機構と前記インデクサ用搬送機構は、前記載置部を介して、基板を相互に搬送可能であることが好ましい。

前記（１４）に記載の発明によれば、第２反転用搬送機構とインデクサ用搬送機構は、基板を好適に受け渡すことができる。

（１５）上述した発明において、基板処理装置は、インデクサ用搬送機構の前方に配置され、前記収納容器を載置する容器載置台を備えていることが好ましい。

前記（１５）に記載の発明によれば、インデクサ用搬送機構は、第１、第２反転用搬送機構や処理用搬送機構や載置部と干渉すること無く、収納容器に好適にアクセスできる。

本発明に係る基板処理装置によれば、反転ユニットと処理ユニットの間で基板を効率良く搬送できる。

図１（ａ）は、実施例１に係る基板処理装置の平面図である。図１（ｂ）は、実施例１に係る基板処理装置の側面図である。 インデクサ部から見た反転ブロックの正面図である 図３（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、第１、第２反転ユニットの側面図である。 第１、第２反転ユニットの斜視図である。 インデクサ部から処理ブロックの正面図である。 洗浄処理ユニットの構成を示す模式図である。 基板処理装置の制御ブロック図である。 基板に行う処理の手順を例示するフローチャートである。 基板の搬送経路を例示する図である。 図１０（ａ）は実施例２に係る基板処理装置の平面図であり、図１０（ｂ）は実施例２に係る基板処理装置の側面図である。 インデクサ部から見た処理ブロックの正面図である。 インデクサ部から見た反転ブロックの正面図である。 基板の搬送経路を例示する図である。 基板に行う処理の手順を例示するフローチャートである。 基板の搬送経路を例示する図である。 変形実施例に係る基板処理装置の平面図である。 洗浄処理ユニットの構成を示す模式図である。 変形実施例に係る基板処理装置の平面図である。 インデクサ部から反転ブロックの正面図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施例１を説明する。

＜基板処理装置の概要＞
図１（ａ）は、実施例１に係る基板処理装置の平面図である。図１（ｂ）は、実施例１に係る基板処理装置の側面図である。

実施例１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う基板処理装置１である。本明細書では、回路パターン等の各種パターンが形成される基板の面を「表面」と呼び、その反対側の面を「裏面」と呼ぶものとする。また、下方に向けられた基板の面を「下面」と呼び、上方に向けられた基板の面を「上面」と呼ぶものとする。

基板処理装置１は、インデクサ部１０と処理部２０を備えている。インデクサ部１０は、処理部２０に基板Ｗを搬送する。処理部２０は、基板Ｗを適宜に反転し、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部１０と処理部２０は、水平方向に並ぶように配置されている。インデクサ部１０と処理部２０は、互いに直接的に接続されており、相互に基板Ｗを搬送可能である。

本明細書では、インデクサ部１０と処理部２０が並ぶ水平方向を「前後方向Ｘ」と呼ぶ。特に、処理部２０からインデクサ部１０に向かう方向を「前方ＸＦ」と呼び、前方ＸＦとは反対の方向を「後方ＸＢ」と呼ぶ。前後方向Ｘと直交する水平な方向を、「横方向Ｙ」または単に「側方」と呼ぶ。さらに、「横方向Ｙ」の一方向を適宜に「右方ＹＲ」とよび、右方ＹＲとは反対の他方向を「左方ＹＬ」と呼ぶ。垂直な方向を「上下方向Ｚ」と呼ぶ。

処理部２０は、反転ブロックＢＡと処理ブロックＢＢとを備える。反転ブロックＢＡは、基板Ｗを反転する。１回の反転によって、基板Ｗの表面が上を向いている水平姿勢と基板Ｗの表面が下を向いている水平姿勢とが相互に切り替わる。処理ブロックＢＢは、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部１０、反転ブロックＢＡ、処理ブロックＢＢは、この順番で前後方向Ｘに１列に並ぶ。反転ブロックＢＡの前面はインデクサ部１０と直接的に接続しており、反転ブロックＢＡの背面は処理ブロックＢＢと直接的に接続している。インデクサ部１０と反転ブロックＢＡは相互に基板Ｗを搬送可能であり、反転ブロックＢＡと処理ブロックＢＢは相互に基板Ｗを搬送可能である。

＜インデクサ部１０＞
インデクサ部１０は、キャリア載置部１１とインデクサ用搬送機構ＴＩＤとを備えている。

キャリア載置部１１はキャリアＣを載置する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。キャリアＣは、例えば不図示の外部搬送機構によって、キャリア載置部１１上に載置される。キャリアＣは、本発明における収納容器の例である。キャリア載置部１１は、本発明における容器載置台の例である。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、キャリア載置部１１の後方ＸＢに設置されている。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、基板Ｗを搬送する。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、キャリアＣと反転ブロックＢＡにアクセス可能に構成されている。ここで、「アクセスする」とは、キャリアＣなどの要素に基板Ｗを搬送するための位置や、当該要素から基板Ｗを搬出するための位置に、搬送機構が移動することを言う。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤの構造を例示する。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、ハンド１４ａ、１４ｂとハンド駆動部１６を備える。

ハンド１４ａ、１４ｂはそれぞれ、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。例えば、ハンド１４ａ、１４ｂには、上方に突出する複数の支持ピン１５が取り付けられている。各支持ピン１５は、基板Ｗの下面や外周端部と直接的に接触することによって、基板Ｗを支持する。

ハンド駆動部１６は、前後方向Ｘ、横方向Ｙおよび上下方向Ｚにハンド１４ａ、１４ｂを移動させ、かつ、上下方向Ｚと平行な垂直軸回りにハンド１４ａ、１４ｂを回転させる。具体的には、ハンド駆動部１６は、多関節アーム１７ａ、１７ｂと昇降部１８と可動ベース１９とを備える。多関節アーム１７ａは、ハンド１４ａと連結しており、ハンド１４ａを水平方向（前後方向Ｘおよび横方向Ｙ）に移動させ、かつ、垂直軸回りに回転させる。多関節アーム１７ｂは、ハンド１４ｂと連結しており、ハンド１４ｂを水平方向に移動させ、かつ、垂直軸回りに回転させる。多関節アーム１７ａ、１７ｂは、水平方向に屈伸可能であり、かつ、垂直軸回りに旋回可能に構成されている。昇降部１８は、多関節アーム１７ａ、１７ｂと連結しており、多関節アーム１７ａ、１７ｂおよびハンド１４ａ、１４ｂを上下方向Ｚに移動させる。昇降部１８は、例えば、上下方向Ｚに伸縮可能に構成されている。可動ベース１９は、昇降部１８と連結しており、昇降部１８、多関節アーム１７ａ、１７ｂおよびハンド１４ａ、１４ｂを横方向Ｙに移動させる。

このように、インデクサ用搬送機構ＴＩＤはハンド駆動部１６を備えているので、ハンド１７ａ、１７ｂはキャリアＣの内部などに好適に進入できる。すなわち、インデクサ用搬送機構ＴＩＤはキャリアＣなどに好適にアクセスできる。

＜反転ブロックＢＡ＞
図１（ａ）、１（ｂ）、図２を参照する。図２は、インデクサ部１０から反転ブロックＢＡを見た正面図である。

反転ブロックＢＡは、載置部Ｐと第１反転ユニットＲ１と第２反転ユニットＲ２と第１反転用搬送機構ＴＲ１と第２反転用搬送機構ＴＲ２とを備える。載置部Ｐは、基板Ｗを載置する。第１反転ユニットＲ１と第２反転ユニットＲ２はそれぞれ、基板Ｗを反転する。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐと第１反転ユニットＲ１に基板Ｗを搬送する。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、載置部Ｐと第２反転ユニットＲ２に基板Ｗを搬送する。

載置部Ｐは、平面視において、反転ブロックＢＡの横方向Ｙ中央に配置されている。載置部Ｐは、複数の載置部Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄを備える。載置部Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄは、互いに上下方向Ｚに並ぶように配置されている。載置部Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄはそれぞれ、１枚の基板Ｗを載置する。

第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐの右方ＹＲに配置されている。第１反転ユニットＲ１は、第１反転用搬送機構ＴＲ１の右方ＹＲに配置されている。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、載置部Ｐの左方ＹＬに配置されている。第２反転ユニットＲ２は、第２反転用搬送機構ＴＲ２の左方ＹＬに配置されている。換言すれば、平面視で、第１反転ユニットＲ１と第１反転用搬送機構ＴＲ１と載置部Ｐと第２反転用搬送機構ＴＲ２と第２反転ユニットＲ２は、この順で横方向Ｙに１列に並ぶ。

第１反転用搬送機構ＴＲ１は、上下方向Ｚに移動可能かつ垂直軸回りに回転可能に構成され、載置部Ｐおよび第１反転ユニットＲ１にアクセスできる。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、上下方向Ｚに移動可能かつ垂直軸回りに回転可能に構成され、載置部Ｐおよび第２反転ユニットＲ２にアクセスできる。

載置部Ｐは、さらに、インデクサ部１０および処理ブロックＢＢに対して開放されている。インデクサ用搬送機構ＴＩＤが横方向Ｙに移動することによって載置部Ｐの前方に位置しているとき、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは載置部Ｐにアクセスできる。したがって、インデクサ用搬送機構ＴＩＤと第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐを介して、基板Ｗを相互に搬送可能である。インデクサ用搬送機構ＴＩＤと第２反転用搬送機構ＴＲ２も、載置部Ｐを介して、基板Ｗを相互に搬送可能である。

ただし、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、第１反転ユニットＲ１にアクセス不能である。また、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、第２反転ユニットＲ２にアクセス不能である。第１反転ユニットＲ１には、第１反転用搬送機構ＴＲ１のみがアクセスできる。第２反転ユニットＲ２には、第２反転用搬送機構ＴＲ２のみがアクセスできる。

載置部Ｐの構造を例示する。載置部Ｐａ−Ｐｄは互いに同じ構造を有する。すなわち、載置部Ｐａ−Ｐｄはそれぞれ、基板Ｗを載置するプレート２１を備えている。プレート２１は、棚２２上に設置されている。プレート２１はチャンバーなどで閉塞されておらず、基本的に水平方向（前後方向Ｘおよび横方向Ｙ）に開放されている。このため、第１反転用搬送機構ＴＲ１、第２反転用搬送機構ＴＲ２のみならず、インデクサ用搬送機構ＴＩＤなども、載置部Ｐに容易にアクセスできる。

第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の構造を例示する。図３（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の側面図である。図３（ａ）は第１、第２可動板が退避位置にあるときの第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を示し、図３（ｂ）は第１、第２可動板が保持位置にあるときの第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を示す。図４は第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の斜視図である。

第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は互いに同じ構成を有する。第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は、２枚の基板Ｗを同時に反転可能である。

図３（ａ）に示すように、第１、第２反転ユニットＲ１，Ｒ２はそれぞれ、支持板３１、固定板３２、リニアガイド３３ａ，３３ｂ、支持部材３５ａ，３５ｂ、第１可動板３６ａ、第２可動板３６ｂ、シリンダ３７ａ，３７ｂ、支持ピン３８ａ、３８ｂ、３８ｃ、３８ｄ、および、ロータリアクチュエータ３９を備える。

支持板３１は固定板３２を支持する。具体的には、固定板３２は、支持板３１に固定されている。固定板３２は、支持板３１から水平方向に張り出している。固定板３２は略水平な平板形状を有する。

支持板３１は、固定板３２の上方において、第１可動板３６ａを昇降可能に支持する。具体的には、リニアガイド３３ａが支持板３１に固定されている。リニアガイド３３ａは、固定板３２よりも上方において、上下方向Ｚに延びている。支持部材３５ａは、リニアガイド３３ａに摺動自在に取り付けられている。支持部材３５ａは、リニアガイド３３ａに沿って昇降可能である。第１可動板３６ａは、支持部材３５ａに固定されている。第１可動板３６ａは略水平な平板形状を有する。第１可動板３６ａは、固定板３２の上方において、固定板３２と向かい合う。

シリンダ３７ａは、第１可動板３６ａを固定板３２に接離させる。具体的には、シリンダ３７ａは、支持部材３５ａと連結し、支持部材３５ａを上下方向Ｚに駆動する。シリンダ３７ａが支持部材３５ａを駆動すると、第１可動板３６ａは固定板３２に向かって接近し、または、固定板３２から遠ざかる。これにより、第１可動板３６ａは、図３（ａ）に示す退避位置、および、図３（ｂ）に示す保持位置に移動する。固定板３２と退避位置にある第１可動板３６ａとの間隔は、固定板３２と保持位置にある第１可動板３６ａとの間隔よりも、大きい。第１可動板３６ａが退避位置にあるとき、固定板３２と第１可動板３６ａの間に基板Ｗを受け入れることができ、固定板３２と第１可動板３６ａの間にある基板Ｗの搬出を許容する。第１可動板３６ａが保持位置にあるとき、固定板３２と第１可動板３６ａは、それらの間にある基板Ｗを保持する。

支持板３１は、固定板３２の下方において、第２可動板３６ｂを昇降可能に支持する。具体的には、リニアガイド３３ｂが支持板３１に固定されている。リニアガイド３３ｂは、固定板３２よりも下方において、上下方向Ｚに延びている。支持部材３５ｂは、リニアガイド３３ｂに摺動自在に取り付けられている。支持部材３５ｂは、リニアガイド３３ｂに沿って昇降可能である。第２可動板３６ｂは、支持部材３５ｂに固定されている。第２可動板３６ｂは略水平な平板形状を有する。第２可動板３６ｂは、固定板３２の上方において、固定板３２と向かい合う。

シリンダ３７ｂは、第２可動板３６ｂを固定板３２に接離させる。具体的には、シリンダ３７ｂは、支持部材３５ｂと連結し、支持部材３５ｂを上下方向Ｚに駆動する。シリンダ３７ｂが支持部材３５ｂを駆動すると、第２可動板３６ｂは固定板３２に向かって接近し、または、固定板３２から遠ざかる。これにより、第２可動板３６ｂは、図３（ａ）に示す退避位置、および、図３（ｂ）に示す保持位置に移動する。固定板３２と退避位置にある第２可動板３６ｂとの間隔は、固定板３２と保持位置にある第２可動板３６ｂとの間隔よりも、大きい。第２可動板３６ｂが退避位置にあるとき、固定板３２と第２可動板３６ｂの間に基板Ｗを受け入れることができ、固定板３２と第２可動板３６ｂの間にある基板Ｗの搬出を許容する。第２可動板３６ｂが保持位置にあるとき、固定板３２と第２可動板３６ｂは、それらの間にある基板Ｗを保持する。

支持ピン３８ａ、３８ｂ、３８ｃ、３８ｄはそれぞれ、基板Ｗと直接的に接触して、基板Ｗを保持する。具体的には、支持ピン３８ａ、３８ｂは、固定板３２に取り付けられている。支持ピン３８ａは、第１可動板３６ａと向かい合う固定板３２の一面に配置されている。支持ピン３８ｂは、第２可動板３６ｂと向かい合う固定板３２の他の面に配置されている。支持ピン３８ｃは、第１可動板３６ａに取り付けられている。支持ピン３８ｄは、第２可動板３６ｂに取り付けられている。第１可動板３６ａが保持位置にあるとき、支持ピン３８ａと支持ピン３８ｃは１枚の基板Ｗを挟持する。第２可動板３６ｂが保持位置にあるとき、支持ピン３８ｂと支持ピン３８ｄは、別の１枚の基板Ｗを挟持する。これらの支持ピン３８ａ−３８ｄはそれぞれ、それぞれ基板Ｗの下面や外周端部と接触可能な位置に配置されていることが好ましい。

ロータリアクチュエータ３９は、固定板３２、第１可動板３６ａおよび第２可動板３６ｂを回転する。具体的には、ロータリアクチュエータ３９は、支持板３１に連結されている。ロータリアクチュエータ３９が支持板３１を水平軸回りに回転駆動する。水平軸は、前後方向Ｘと平行であってもよいし、横方向Ｙと平行であってもよい。これにより、固定板３２、第１可動板３６ａおよび第２可動板３６ｂが、支持板３１と一体に回転する。その結果、固定板３２と第１可動板３６ａの間の基板Ｗ、および、固定板３２と第２可動板３６ｂの間の基板Ｗが反転する。例えば、基板Ｗの姿勢が、基板Ｗの表面が上を向いている姿勢と、基板Ｗの表面が下を向いている姿勢との間で、相互に切り替わる。

第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２の構造を例示する。図２を参照する。なお、インデクサ用搬送機構ＴＩＤに含まれる部材と同じ部材には、共通の符号を付し、詳細な説明を省略する。

第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２は互いに同じ構成を有する。第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれ、ハンド１４ａ、１４ｂとハンド駆動部４０を備える。ハンド駆動部４０は、ハンド駆動部１６から可動ベース１９を省略したものに相当する。

ハンド駆動部４０は、前後方向Ｘ、横方向Ｙおよび上下方向Ｚにハンド１４ａ、１４ｂを移動させ、かつ、上下方向Ｚと平行な垂直軸回りにハンド１４ａ、１４ｂを回転させる。具体的には、ハンド駆動部４０は、多関節アーム１７ａ、１７ｂと昇降部１８を備える。多関節アーム１７ａは、ハンド１４ａと連結しており、ハンド１４ａを水平方向（前後方向Ｘおよび横方向Ｙ）に移動させ、かつ、垂直軸回りに回転させる。多関節アーム１７ｂは、ハンド１４ｂと連結しており、ハンド１４ｂを水平方向に移動させ、かつ、垂直軸回りに回転させる。昇降部１８は、多関節アーム１７ａ、１７ｂと連結しており、多関節アーム１７ａ、１７ｂおよびハンド１４ａ、１４ｂを上下方向Ｚに移動させる。昇降部１８は、例えば、反転ブロックＢＡに支持されている。

このように、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれハンド駆動部４０を備えているので、第１反転用搬送機構ＴＲ１は載置部Ｐおよび第１反転ユニットＲ１に好適にアクセスでき、第２反転用搬送機構ＴＲ２は載置部Ｐおよび第２反転ユニットＲ２に好適にアクセスできる。

＜処理ブロックＢＢ＞
図１（ａ）、１（ｂ）、図５を参照する。図５は、インデクサ部１０から処理ブロックＢＢを見た正面図である。

処理ブロックＢＢは、洗浄処理ユニットＳＳと処理用搬送機構ＴＳを備える。洗浄処理ユニットＳＳは、基板Ｗに洗浄処理を行う。処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐと洗浄処理ユニットＳＳに基板Ｗに搬送する。

処理用搬送機構ＴＳは、平面視において、処理ブロックＢＢの横方向Ｙ中央に配置されている。処理用搬送機構ＴＳは、平面視において、載置部Ｐの後方に位置する。このため、処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐに好適にアクセスできる。ただし、処理用搬送機構ＴＳは、第１反転ユニットＲ１にアクセス不能である。また、処理用搬送機構ＴＳは、第２反転ユニットＲ２にアクセス不能である。

洗浄処理ユニットＳＳは、処理用搬送機構ＴＳの側方に配置されている。具体的には、洗浄処理ユニットＳＳは、処理用搬送機構ＴＳの右方ＹＲに配置されている複数（例えば２つ）の洗浄処理ユニットＳＳと、処理用搬送機構ＴＳの右方ＹＲに配置されている複数（例えば２つ）の洗浄処理ユニットＳＳと含む。処理用搬送機構ＴＳの右方ＹＲに配置されている複数の洗浄処理ユニットＳＳは、上下方向Ｚに並ぶように配置されている。処理用搬送機構ＴＳの左方ＹＬに配置されている複数の洗浄処理ユニットＳＳも、上下方向Ｚに並ぶように配置されている。

洗浄処理ユニットＳＳの構造を例示する。図６は洗浄処理ユニットＳＳの構成を示す模式図である。

洗浄処理ユニットＳＳは、ブラシを用いた洗浄処理（以下、スクラブ洗浄処理と呼ぶ）を行う。図６に示すように、洗浄ユニットＳＳは、回転保持部４１と液供給部４７とブラシ洗浄機構５１を備えている。

回転保持部４１は、基板Ｗを回転する。具体的には、回転保持部４１は、スピンチャック４２と保持ピン４３と回転軸４４とモータ４５を備える。スピンチャック４２は例えばメカ式である。保持ピン４３は、例えば回転式であり、スピンチャック４２の周縁部に取り付けられている。保持ピン４３は、水平姿勢の基板Ｗの下面の周縁部および外周端部を保持する。回転軸４４は垂直に延びている。回転軸４４の上部はスピンチャック４２の下部に固定され、回転軸４４の下部はモータ４５に連結されている。モータ４５が回転軸４４を回転駆動すると、保持ピン４３によって保持された基板Ｗが水平姿勢を維持しつつ、垂直軸回りに回転する。

液供給部４７は、基板Ｗに処理液を供給する。具体的には、液供給部４７は、液供給管４８とノズル４９とを備えている。液供給管４８はノズル４９に連通接続している。液供給管４８は、ノズル４９に処理液を供給する。処理液は、例えば、洗浄液またはリンス液（純水）である。液供給管４８は、複数種類の処理液を選択的にノズル４９に供給してもよい。ノズル４９は、液供給管４８から供給された処理液を基板Ｗに吐出する。

ブラシ洗浄機構５１は、ブラシ洗浄具５２とアーム５３と駆動部５４とを備えている。ブラシ洗浄具５２は、基板Ｗと直接的に接触することによって基板Ｗを洗浄する。ブラシ洗浄具５２は、例えば略円筒形状を有する。アーム５３は、ブラシ洗浄具５２を支持する。アーム５３は、例えば、略水平方向に延びており、アーム５３の先端部がブラシ洗浄具５２に固定されている。駆動部５４は、アーム５３の基端部と連結しており、アーム５３を垂直軸回りに回転し、かつ、アーム５３を上下方向Ｚに移動する。駆動部５４がアーム５３を駆動することによって、ブラシ洗浄具５２は、基板Ｗの上方から外れた位置と基板Ｗの上方の位置との間にわって旋回し、基板Ｗの上方の位置と基板Ｗと接触する位置との間にわたって昇降する。

洗浄処理ユニットＳＳは、次のように動作する。基板Ｗが回転保持部４１に載置されると、回転保持部４１は基板Ｗを水平姿勢で回転させ、液供給部４７は基板Ｗの上面に処理液を供給し、ブラシ洗浄機構５１は基板Ｗの上面にブラシ洗浄具５２を直接的に接触させる。処理液とブラシ洗浄具５２によって、基板Ｗを洗浄する。この際、ブラシ洗浄具５２を基板Ｗに直接的に接触させた状態で、ブラシ洗浄具５２を揺動させてもよい。あるいは、洗浄処理ユニットＳＳは、ブラシ洗浄具５２を用いずに、処理液のみを用いた単なる洗浄処理を行うことも可能である。

洗浄処理ユニットＳＳは、本発明における処理ユニットの例である。

処理用搬送機構ＴＳの構造を例示する。図１（ａ）、図５に示すとり、処理用搬送機構ＴＳは、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、Ｒ２と略同じ構造を有する。すなわち、処理用搬送機構ＴＳは、ハンド１４ａ、１４ｂとハンド駆動部４０を備える。

＜制御系の構成＞
図７は、基板処理装置１の制御ブロック図である。基板処理装置１は、さらに、制御部５５を備えている。

制御部５５は、例えば、インデクサ部１０に設置されている。制御部５５は、インデクサ部１０および処理部２０を統括的に制御する。具体的には、インデクサ部１０およびブロックＢＡ、ＢＢに設けられる各搬送機構ＴＩＤ、ＴＲ１、ＴＲ２、ＴＳと、ブロックＢＡ、ＢＢに設けられる各ユニットＲ１、Ｒ２、ＳＳの動作を制御する。

制御部５５は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体には、基板Ｗを処理するための処理レシピ（処理プログラム）や、各基板Ｗを識別するための情報など各種情報を記憶されている。

＜動作例＞
次に、実施例１に係る基板処理装置の動作例を説明する。図８は、基板に行う処理の手順を例示するフローチャートである。図９は、基板の搬送経路を例示する図である。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、キャリア載置部１１に載置されているキャリアＣから１枚の基板Ｗを搬出し、その基板Ｗを載置部Ｐａに載置する。このとき、基板Ｗの表面は、上方を向いている。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐａから第１反転ユニットＲ１に基板Ｗを搬送する。

第１反転ユニットＲ１は基板Ｗを反転する（ステップＳ１）。これにより、基板Ｗの表面は下方を向き、基板Ｗの裏面が上方を向く。

第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第１反転ユニットＲ１から載置部Ｐｂに基板Ｗを搬送する。処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐｂから洗浄処理ユニットＳＳに基板Ｗを搬送する。

洗浄処理ユニットＳＳは、洗浄処理を基板Ｗに行う（ステップＳ２）。これにより、基板Ｗの裏面が洗浄される。

処理用搬送機構ＴＳは、洗浄処理ユニットＳＳから載置部Ｐｃに基板Ｗを搬送する。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、載置部Ｐｃから第２反転ユニットＲ２に基板Ｗを搬送する。

第２反転ユニットＲ２は基板Ｗを反転する（ステップＳ３）。これにより、基板Ｗの表面は、再び、上方を向く。

第２反転用搬送機構ＴＲ２は、第２反転ユニットＲ２から載置部Ｐｄに基板Ｗを搬送する。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、載置部ＰｄからキャリアＣに基板Ｗを搬送する。

なお、上述した動作例では、１枚の基板Ｗに関連する動作のみを説明した。例えば、複数枚の基板Ｗが搬送経路を流れているときには、各搬送機構ＴＩＤ、ＴＲ１、ＴＲ２、ＴＳは、次のように動作してもよい。

例えば、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、載置部Ｐにアクセスしたとき、載置部Ｐａに基板Ｗを載置する動作と載置部Ｐｄ上の基板Ｗを取る動作の両方を行う。

例えば、第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐにアクセスしたとき、載置部Ｐａ上の基板Ｗを取る動作と載置部Ｐｂに基板Ｗを載置する動作の両方を行い、第１反転ユニットＲ１にアクセスしたとき、第１反転ユニットＲ１に基板Ｗを搬入する動作と第１反転ユニットＲ１から基板Ｗを搬出する動作の両方を行う。第２反転用搬送機構ＴＲ２も、同様に動作する。

処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐにアクセスしたとき、載置部Ｐｂから基板Ｗを取る動作と載置部Ｐｃに基板Ｗを載置する動作の両方を行い、洗浄処理ユニットＳＳにアクセスしたとき、洗浄処理ユニットＳＳから基板Ｗを搬出する動作と洗浄処理ユニットＳＳに基板Ｗを搬入する動作の両方を行う。

＜実施例１の効果＞
このように、実施例１の基板処理装置１によれば、処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐと洗浄処理ユニットＳＳの間で基板Ｗを搬送する。第１反転ユニットＲ１に対しては第１反転用搬送機構ＴＲ１が基板Ｗを搬送し、第２反転ユニットＲ２に対しては第２反転用搬送機構ＴＲ２が基板Ｗを搬送する。第１反転用搬送機構ＴＲ１と処理用搬送機構ＴＳは、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を介さずに、載置部Ｐを介して、基板Ｗを相互に搬送する。同様に、第２反転用搬送機構ＴＲ２と処理用搬送機構ＴＳも、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を介さずに、載置部Ｐを介して、基板Ｗを相互に搬送する。

このような構成によれば、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２が基板Ｗを載置部Ｐに載置すると、処理用搬送機構ＴＳは直ちに載置部Ｐから基板Ｗを搬出できる。このため、処理用搬送機構ＴＳが載置部Ｐから基板Ｗを搬出するスケジュールが乱れにくい。よって、処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐから洗浄処理ユニットＳＳに基板Ｗを効率よく搬送できる。

他方、処理用搬送機構ＴＳが基板Ｗを載置部Ｐに載置すると、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２は直ちに載置部Ｐから基板Ｗを搬出でき、その結果、載置部Ｐは新たな基板Ｗを受けることができる状態になる。このため、処理用搬送機構ＴＳが載置部Ｐに基板Ｗを搬送するスケジュールが乱れにくい。よって、処理用搬送機構ＴＳは、処理ユニットから載置部Ｐに基板を効率よく搬送できる。

基板処理装置１は、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２といった、２つの反転用搬送機構を備えているので、載置部Ｐと第１反転ユニットＲ１の間、および、載置部Ｐと第２反転ユニットＲ２の間で基板Ｗを効率良く搬送できる。

基板処理装置１は、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２といった、２つの反転ユニットを備えているので、基板Ｗを効率良く反転できる。したがって、洗浄処理ユニットＳＳに搬送するための基板Ｗを十分に供給でき、洗浄処理ユニットＳＳから搬出された基板Ｗを十分に回収できる。

以上のとおり、処理用搬送機構ＴＳは載置部Ｐと洗浄処理ユニットＳＳとの間で基板Ｗを効率良く搬送でき、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２は載置部Ｐと第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の間で基板Ｗを効率良く搬送でき、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は基板Ｗを効率よく反転できる。よって、実施例１に係る基板処理装置１によれば、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２と洗浄処理ユニットＳＳとの間で基板Ｗを効率良く搬送でき、スループットを向上できる。

同様に、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、載置部ＰとキャリアＣとの間で基板Ｗを効率良く搬送できる。具体的には、第１反転用搬送機構ＴＲ１とインデクサ用搬送機構ＴＩＤは、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を介さずに、載置部Ｐを介して、基板Ｗを相互に搬送する。同様に、第２反転用搬送機構ＴＲ２とインデクサ用搬送機構ＴＩＤも、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を介さずに、載置部Ｐを介して、基板Ｗを相互に搬送する。よって、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、載置部ＰからキャリアＣに基板Ｗを効率よく搬送でき、キャリアＣから載置部Ｐに基板Ｗを効率良く搬送できる。

上述したとおり、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２は載置部Ｐと第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の間で基板Ｗを効率良く搬送でき、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は基板Ｗを効率よく反転できる。よって実施例１に係る基板処理装置１によれば、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２とキャリアＣとの間で基板Ｗを効率良く搬送できる。

第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２は載置部Ｐの側方に配置され、処理用搬送機構ＴＳは載置部Ｐの後方に配置されているので、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれ、処理用搬送機構ＴＳと干渉することなく、載置部Ｐにアクセスできる。また、処理用搬送機構ＴＳも、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２と干渉することなく、載置部Ｐにアクセスできる。よって、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２および処理用搬送機構ＴＳはそれぞれ、基板Ｗを載置部Ｐに効率良く搬送できる。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、側面視で、載置部Ｐの前方に配置されているので、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれ、インデクサ用搬送機構ＴＩＤと干渉することなく、載置部Ｐにアクセスできる。また、インデクサ用搬送機構ＴＩＤも、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２と干渉することなく、載置部Ｐにアクセスできる。よって、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２およびインデクサ用搬送機構ＴＩＤはそれぞれ、基板Ｗを載置部Ｐに一層効率良く搬送できる。

第１反転ユニットＲ１は第１反転用搬送機構ＴＲ１の側方に配置されているので、第１反転用搬送機構ＴＲ１は第１反転ユニットＲ１に好適にアクセスできる。よって、第１反転用搬送機構ＴＲ１は基板Ｗを第１反転ユニットＲ１に効率良く搬送できる。

特に、処理用搬送機構ＴＳは第１反転ユニットＲ１にアクセス不能であるので、処理用搬送機構ＴＳの搬送効率が低下することを確実に防止できる。同様に、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは第１反転ユニットＲ１にアクセス不能であるので、インデクサ用搬送機構ＴＩＤの搬送効率が低下することを確実に防止できる。第１反転ユニットＲ１には第１反転用搬送機構ＴＲ１のみがアクセス可能であるので、基板処理装置１全体における基板Ｗの搬送効率が低下することを好適に防止できる。

第２反転ユニットＲ２は第２反転用搬送機構ＴＲ２の側方に配置されているので、第２反転用搬送機構ＴＲ２は第２反転ユニットＲ２に好適にアクセスできる。よって、第２反転用搬送機構ＴＲ２は基板Ｗを第２反転ユニットＲ２に効率良く搬送できる。

特に、処理用搬送機構ＴＳは第２反転ユニットＲ２にアクセス不能であるので、第処理用搬送機構ＴＳの搬送効率が低下することを確実に防止できる。同様に、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは第２反転ユニットＲ２にアクセス不能であるので、インデクサ用搬送機構ＴＩＤの搬送効率が低下することを確実に防止できる。第２反転ユニットＲ２には第２反転用搬送機構ＴＲ２のみがアクセス可能であるので、基板処理装置１全体における基板Ｗの搬送効率が低下することを好適に防止できる。

洗浄処理ユニットＳＳは処理用搬送機構ＴＳの側方に配置されているので、処理用搬送機構ＴＳは、他の搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２、ＴＩＤと干渉すること無く、洗浄処理ユニットＳＳにアクセスできる。よって、処理用搬送機構ＴＳは基板Ｗを洗浄処理ユニットＳＳに効率良く搬送できる。

第１反転ユニットＲ１と第１反転用搬送機構ＴＲ１と載置部Ｐと第２反転用搬送機構ＴＲ２と第２反転ユニットＲ２は、平面視で、この順で１列に並ぶので、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれ、互いに干渉することなく、載置部Ｐに好適にアクセスできる。さらに、第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第２反転用搬送機構ＴＲ２と干渉することなく、第１反転ユニットＲ１にアクセスできる。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、第１反転用搬送機構ＴＲ１と干渉することなく、第２反転ユニットＲ２にアクセスできる。よって、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２はそれぞれ、基板Ｗを一層効率良く搬送できる。

処理用搬送機構ＴＳの右方に複数の洗浄処理ユニットＳＳが設置され、処理用搬送機構ＴＳの左方にも複数の洗浄処理ユニットＳＳが設置されている。これにより、処理用搬送機構ＴＳの周囲に多くの洗浄処理ユニットＳＳを高密度に配置できる。よって、処理用搬送機構ＴＳは、複数の洗浄処理ユニットＳＳのそれぞれに効率良くアクセスできる。

キャリア載置部１１はインデクサ用搬送機構ＴＩＤの前方に配置されているので、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、他の搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２、ＴＳと干渉すること無く、キャリアＣにアクセスできる。よって、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは基板ＷをキャリアＣに効率良く搬送できる。

次に、図面を参照してこの発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

＜基板処理装置１の概要＞
図１０（ａ）は、実施例２に係る基板処理装置の平面図である。図１０（ｂ）は、実施例２に係る基板処理装置の側面図である。

実施例２に係る基板処理装置１では、処理ブロックＢＢは上下方向に並ぶ複数の階層を有する。反転ブロックＢＡは、階層構造の処理ブロックＢＢに適合するような構造を採用する。以下では、まず、処理ブロックＢＢを説明し、その後、反転ブロックＢＡを説明する。

＜処理ブロックＢＢ＞
図１０（ａ）、１０（ｂ）、１１を参照する。図１１は、処理ブロックＢＢをインデクサ部１０から見た正面図である。

処理ブロックＢＢは、上下方向に並ぶ複数の階層Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ４を有する。階層Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ４は、下から上に向かってこの順番で並ぶ。

各階層Ｋ１−Ｋ４には、１つの処理用搬送機構ＴＳが設置されている。具体的には、処理用搬送機構ＴＳは、複数の処理用搬送機構ＴＳ１、ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４を備える。各処理用搬送機構ＴＳ１、ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４はそれぞれ、階層Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ４に設置されている。処理用搬送機構ＴＳ１は、階層Ｋ１内を動き、他の階層Ｋ２−Ｋ４に及ばない。他の処理用搬送機構ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４も、同様である。

処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４は、平面視で、処理ブロックＢＢの横方向Ｙ中央に配置されている。処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４は、互いに上下方向に並ぶようには配置されている。図１１に示すように、上下方向に隣り合う２つの処理用搬送機構ＴＳの間には、遮蔽板６０を設置してもよい。遮蔽板６０は、処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４ごとに、４つの空間に仕切る。

各階層Ｋ１−Ｋ４には、１つ以上の洗浄処理ユニットＳＳが設置されている。具体的には、洗浄処理ユニットＳＳは、４つの洗浄処理ユニットＳＳ１、４つの洗浄処理ユニットＳＳ２、４つの洗浄処理ユニットＳＳ３、洗浄処理ユニットＳＳ４を含む。洗浄処理ユニットＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４はそれぞれ、階層Ｋ１−Ｋ４に設置されている。

各洗浄処理ユニットＳＳ１−ＳＳ４はそれぞれ、処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４の側方に配置されている。具体的には、２つの洗浄処理ユニットＳＳ１は処理用搬送機構ＴＳ１の右方ＹＲに配置され、２つの洗浄処理ユニットＳＳ１は処理用搬送機構ＴＳ１の左方ＹＬに配置されている。処理用搬送機構ＴＳ１の右方ＹＲに配置されている２つの洗浄処理ユニットＳＳ１は互いに前後方向Ｘに並び、処理用搬送機構ＴＳ１の左方ＹＬに配置されている２つの洗浄処理ユニットＳＳ１も互いに前後方向Ｘに並ぶ。同様に、洗浄処理ユニットＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４はそれぞれ、処理用搬送機構ＴＳ２−ＴＳ４の両側方に配置されている。

処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４の右方ＹＲに配置される洗浄処理ユニットＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４は、互いに上下方向Ｚに並ぶ。同様に、処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４の左方ＹＬに配置される洗浄処理ユニットＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４も、互いに上下方向Ｚに並ぶ。

処理用搬送機構ＴＳ１は洗浄処理ユニットＳＳ１にアクセスする。同様に、処理用搬送機構ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４はそれぞれ、洗浄処理ユニットＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４にアクセスする。

処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４の構造を例示する。なお、実施例１で説明したインデクサ用搬送機構ＴＩＤに含まれる部材と同じ部材には、共通の符号を付し、詳細な説明を省略する。

処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４は互いに同じ構成を有する。処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４はそれぞれ、ハンド１４ａ、１４ｂとハンド駆動部６１を備える。ハンド駆動部６１は、ハンド駆動部１６の可動ベース１９を可動ベース６２に置換したものに相当する。

ハンド駆動部６１は、前後方向Ｘ、横方向Ｙおよび上下方向Ｚにハンド１４ａ、１４ｂを移動させ、かつ、上下方向Ｚと平行な垂直軸回りにハンド１４ａ、１４ｂを回転させる。具体的には、ハンド駆動部６１は、多関節アーム１７ａ、１７ｂと昇降部１８と可動ベース６２を備える。多関節アーム１７ａは、ハンド１４ａと連結しており、ハンド１４ａを水平方向（前後方向Ｘおよび横方向Ｙ）に移動させ、かつ、垂直軸回りに回転させる。多関節アーム１７ｂは、ハンド１４ｂと連結しており、ハンド１４ｂを水平方向に移動させ、かつ、垂直軸回りに回転させる。昇降部１８は、多関節アーム１７ａ、１７ｂと連結しており、多関節アーム１７ａ、１７ｂおよびハンド１４ａ、１４ｂを上下方向Ｚに移動させる。可動ベース６２は、昇降部１８と連結しており、昇降部１８、多関節アーム１７ａ、１７ｂおよびハンド１４ａ、１４ｂを前後方向Ｘに移動させる。

このように、処理用搬送機構ＴＳ１はハンド駆動部６１を備えているので、処理用搬送機構ＴＳ１は４つの洗浄処理ユニットＳＳ１のそれぞれに好適にアクセスできる。同様に、処理用搬送機構ＴＳ２−ＴＳ４はそれぞれ、洗浄処理ユニットＳＳ２−ＳＳ４にアクセスできる。

＜反転ブロックＢＡ＞
図１０（ａ）、１０（ｂ）、図１２を参照する。図１２は、インデクサ部１０から反転ブロックＢＡを見た正面図である。

載置部Ｐは、載置部Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４を含む。載置部Ｐ１はさらに４つの載置部Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ、Ｐ１ｄを含む。同様に、載置部Ｐ２は載置部Ｐ２ａ−Ｐ２ｄを含み、載置部Ｐ３は載置部Ｐ３ａ−Ｐ３ｄを含み、載置部Ｐ４は載置部Ｐ４ａ−Ｐ４ｄを含む。各載置部Ｐ１ａ−Ｐ１ｄ、Ｐ２ａ−Ｐ２ｄ、Ｐ３ａ−Ｐ３ｄ、Ｐ４ａ−Ｐ４ｄはそれぞれ、１枚の基板Ｗを載置する。

載置部Ｐ１−Ｐ４は、平面視において、反転ブロックＢＡの横方向Ｙ中央に配置されている。載置部Ｐ１−Ｐ４は、互いに上下方向Ｚに並ぶように配置されている。載置部Ｐ１ーＰ４の右方には第１反転用搬送機構ＴＲ１が設置されている。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第１反転ユニットＲ１のほか、載置部Ｐ１−Ｐ４にアクセス可能である。載置部Ｐ１ーＰ４の左方には第２反転用搬送機構ＴＲ２が設置されている。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、第２反転ユニットＲ２のほか、載置部Ｐ１−Ｐ４にアクセス可能である。

載置部Ｐ１（載置部Ｐ１ａーＰ１ｄ）は階層Ｋ１（処理用搬送機構ＴＳ１）と略同じ高さに設置されており、処理用搬送機構ＴＳ１と向かい合う。処理用搬送機構ＴＳ１は、載置部Ｐ１にアクセス可能である。同様に、載置部Ｐ２−Ｐ４はそれぞれ、階層Ｋ２、Ｋ３、Ｋ４（処理用搬送機構ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４）と略同じ高さに設置されており、処理用搬送機構ＴＳ２−ＴＳ４と向かい合う。処理用搬送機構ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４はそれぞれ、載置部Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４にアクセス可能である。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、各載置部Ｐ１−Ｐ４にアクセス可能である。

＜動作例＞
次に、実施例２に係る基板処理装置の動作例を説明する。以下に説明する動作例では、基板に行う処理の手順は実施例１と同じであるため、便宜上、図８を参照する。図１３は、基板の搬送経路を例示する図である。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、キャリアＣから載置部Ｐ１ａ、Ｐ２ａ、Ｐ３ａ、Ｐ４ａに基板Ｗを搬送する。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、キャリアＣから複数枚（例えば２枚）の基板Ｗを一挙に搬出してもよいし、キャリアＣから基板Ｗを１枚ずつ搬出してもよい。このとき、基板Ｗの表面は、上方を向いている。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐ１ａ、Ｐ２ａ、Ｐ３ａ、Ｐ４ａから第１反転ユニットＲ１に基板Ｗを搬送する。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第１反転ユニットＲ１に複数枚（例えば２枚）の基板Ｗを一挙に搬入してもよい。

第１反転ユニットＲ１は基板Ｗを反転する（ステップＳ１）。これにより、基板Ｗの表面は下方を向き、基板Ｗの裏面が上方を向く。

第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第１反転ユニットＲ１から載置部Ｐ１ｂ、Ｐ２ｂ、Ｐ３ｂ、Ｐ４ｂに基板Ｗを搬送する。処理用搬送機構ＴＳ１は、載置部Ｐ１ｂから洗浄処理ユニットＳＳ１に基板Ｗを搬送する。同様に、処理用搬送機構ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４はそれぞれ、載置部Ｐ２ｂから洗浄処理ユニットＳＳ２に、載置部Ｐ３ｂから洗浄処理ユニットＳＳ３に、載置部Ｐ４ｂから洗浄処理ユニットＳＳ４に基板Ｗを搬送する。

洗浄処理ユニットＳＳ１−ＳＳ４はそれぞれ、洗浄処理を基板Ｗに行う（ステップＳ２）。これにより、基板Ｗの裏面が洗浄される。

処理用搬送機構ＴＳ１は、洗浄処理ユニットＳＳ１から載置部Ｐ１ｃに基板Ｗを搬送する。同様に、処理用搬送機構ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４はそれぞれ、洗浄処理ユニットＳＳ２から載置部Ｐ２ｃに、洗浄処理ユニットＳＳ３から載置部Ｐ３ｃに、洗浄処理ユニットＳＳ４から載置部Ｐ４ｃに基板Ｗを搬送する。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、載置部Ｐ１ｃ、Ｐ２ｃ、Ｐ３ｃ、Ｐ４ｃから第２反転ユニットＲ２に基板Ｗを搬送する。

第２反転ユニットＲ２は基板Ｗを反転する（ステップＳ３）。これにより、基板Ｗの表面は、再び、上方を向く。

第２反転用搬送機構ＴＲ２は、第２反転ユニットＲ２から載置部Ｐ１ｄ、Ｐ２ｄ、Ｐ３ｄ、Ｐ４ｄに基板Ｗを搬送する。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、載置部Ｐ１ｄ、Ｐ２ｄ、Ｐ３ｄ、Ｐ４ｄからキャリアＣに基板Ｗを搬送する。

＜実施例２の効果＞
実施例２に係る基板処理装置１によっても、実施例１と同じような効果を奏する。例えば、実施例２に係る基板処理装置１によっても、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２と洗浄処理ユニットＳＳの間で基板Ｗを効率良く搬送できる。

処理ブロックＢＢは複数の処理用搬送機構ＴＳ１ーＴＳ４を備えているので、洗浄処理ユニットＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４に基板Ｗを効率良く搬送できる。

複数の処理用搬送機構ＴＳ１−ＴＳ４は上下方向に並ぶ。換言すれば、処理ブロックＢＢは多階層構造を有する。よって、処理ブロックＢＢおよび基板処理装置１の設置面積が増大することを好適に抑制できる。

載置部Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４は上下方向に並ぶように配置されいるので、処理ブロックＢＢおよび基板処理装置１の設置面積が増大することを好適に抑制できる。

処理用搬送機構ＴＳ１、ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４のそれぞれが載置部Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４と向かい合うように、載置部Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４が配置されている。よって、処理用搬送機構ＴＳ１ーＴＳ４はそれぞれ、載置部Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４に好適にアクセスできる。例えば、４つの載置部Ｐ１ａ−Ｐ１ｄは処理用搬送機構ＴＳ１と略同じ高さ位置に配置されており、処理用搬送機構ＴＳ１は載置部Ｐ１ａ−Ｐ１ｄと向かい合う。よって、処理用搬送機構ＴＳ１は載置部Ｐ１ａ−Ｐ１ｄに好適にアクセスできる。これにより、処理用搬送機構ＴＳ１ーＴＳ４はそれぞれ、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２と好適に基板Ｗを受け渡すことができる。

このように、反転ブロックＢＡは載置部Ｐを増設することによって、多層階層構造の処理ブロックＢＢと好適に連携できる。言い換えれば、反転ブロックＢＡは、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２を増設しなくても、多層階層構造の処理ブロックＢＢと好適に連携できる。

この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した実施例１、２では、基板Ｗの裏面を洗浄する動作例を例示したが、これに限られない。例えば、基板処理装置１は、基板Ｗの表面を洗浄してもよい。例えば、基板処理装置１は、基板Ｗの表面および裏面をそれぞれ洗浄してもよい。この場合、基板Ｗの裏面を洗浄した後に、基板Ｗの表面を洗浄してもよいし、基板Ｗの裏面を洗浄する前に、基板Ｗの表面を洗浄してもよい。以下では、基板Ｗを表面および裏面を洗浄する動作の一例を説明する。

図１４を参照する。図１４は、基板に行う処理の手順を例示するフローチャートである。図１５は、基板の搬送経路を例示する図である。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、キャリアＣから載置部Ｐａに載置する。このとき、基板Ｗの表面は、上方を向いている。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐａから第１反転ユニットＲ１に基板Ｗを搬送する。

第１反転ユニットＲ１は基板Ｗを反転する（ステップＳ１）。これにより、基板Ｗの表面は下方を向き、基板Ｗの裏面が上方を向く。

第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第１反転ユニットＲ１から載置部Ｐｂに基板Ｗを搬送する。処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐｂから洗浄処理ユニットＳＳに基板Ｗを搬送する。

洗浄処理ユニットＳＳは、洗浄処理を基板Ｗに行う（ステップＳ２）。これにより、基板Ｗの裏面が洗浄される。

処理用搬送機構ＴＳは、洗浄処理ユニットＳＳから載置部Ｐｃに基板Ｗを搬送する。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、載置部Ｐｃから第２反転ユニットＲ２に基板Ｗを搬送する。

第２反転ユニットＲ２は基板Ｗを反転する（ステップＳ３）。これにより、基板Ｗの表面は、再び、上方を向く。

第２反転用搬送機構ＴＲ２は、第２反転ユニットＲ２から載置部Ｐｄに基板Ｗを搬送する。処理用搬送機構ＴＳは、載置部Ｐｄから洗浄処理ユニットＳＳに基板Ｗを搬送する。

洗浄処理ユニットＳＳは、洗浄処理を基板Ｗに行う（ステップＳ４）。これにより、基板Ｗの表面が洗浄される。

処理用搬送機構ＴＳは、洗浄処理ユニットＳＳから載置部Ｐｄに基板Ｗを搬送する。インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、載置部ＰｄからキャリアＣに基板Ｗを搬送する。

このような動作例によれば、基板Ｗの表面および裏面に洗浄処理を行うことができる。

（２）上述した実施例１、２では、処理ブロックＢＢは同種の洗浄処理ユニットＳＳを備えていたが、これに限られない。例えば、処理ブロックＢＢは基板Ｗに供給する処理液が異なる複数種の洗浄処理ユニットＳＳを備えてもよい。例えば、処理ブロックＢＢは構造が異なる複数種の洗浄処理ユニットＳＳを備えてもよい。これらの変形実施例によれば、基板処理装置１は基板Ｗに種々の処理または多様な処理を行うことができる。また、基板処理装置１は、基板Ｗごとに処理を変えることができる。

例えば、処理ブロックＢＢは、基板Ｗの表面を洗浄する表面洗浄処理を行う表面洗浄処理ユニットと、基板Ｗの裏面を洗浄する裏面洗浄処理を行う裏面洗浄処理ユニットを備えてもよい。この変形実施例によれば、基板Ｗの表面および裏面を一層適切に洗浄できる。

以下、図を参照して、変形実施例に係る基板処理装置１を例示する。なお、実施例と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

図１６は、変形実施例に係る基板処理装置の平面図である。図示するとおり、処理ブロックＢＢは、処理用搬送機構ＴＳと洗浄処理ユニットＳＳと洗浄処理ユニットＳＳａを備えている。洗浄処理ユニットＳＳは、処理用搬送機構ＴＳの右方ＹＲに配置されており、洗浄処理ユニットＳＳａは処理用搬送機構ＴＳの左方ＹＬに配置されている。

図１７は、洗浄処理ユニットＳＳａの構成を示す模式図である。図１７に示すとおり、洗浄ユニットＳＳａは、回転保持部４１の構成の点で洗浄処理ユニットＳＳと異なる。具体的には、洗浄処理ユニットＳＳａの回転保持部４１は、スピンチャック４２および保持ピン４３の代わりに、基板Ｗの下面中央部を吸着するスピンチャック７１を備えている。回転軸４４の上端は、スピンチャック７１に固定されている。洗浄処理ユニットＳＳａも、本発明における処理ユニットの例である。

このような変形実施例によれば、洗浄処理ユニットＳＳおよび洗浄処理ユニットＳＳａの一方を表面洗浄処理ユニットと使用し、他方で裏面洗浄処理として使用できる。そして、基板Ｗに対して表面洗浄処理および裏面洗浄処理をそれぞれ品質良く行うことができる。

（３）上述した実施例１、２では、洗浄処理ユニットＳＳはブラシ洗浄機構５１を備えていたが、これに限られない。例えば、純水と不活性ガスとを気液混合させてミストを形成し、このミストをノズルから基板Ｗに供給するように洗浄処理ユニットＳＳを構成する場合などにおいては、洗浄処理ユニットＳＳはブラシ洗浄機構５１を備えていなくてもよい。

（４）上述した実施例１、２では、反転ブロックＢＡの構造を例示したが、これに限られない。以下、図を参照して、変形実施例に係る反転ブロックＢＡの構造を例示する。

図１８は、変形実施例に係る基板処理装置の平面図である。図１９は、インデクサ部１０から反転ブロックＢＡを見た正面図である。図１８、図１９に示すとおり、載置部Ｐと第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は、反転ブロックＢＡの横方向Ｙ中央に配置されている。載置部Ｐ（載置部Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄ）と第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は、互いに上下方向Ｚに並ぶように配置されている。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐおよび第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の右方に配置されている。第１反転用搬送機構ＴＲ１は、載置部Ｐおよび第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２にアクセスする。第２反転用搬送機構ＴＲ２は、載置部Ｐおよび第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２の左方に配置されている。第２反転用搬送機構ＴＲ２も、載置部Ｐおよび第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２にアクセスする。

本変形実施例においても、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２は載置部Ｐの側方に配置されているので、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれ、他の搬送機構ＴＳ、ＴＩＤと干渉すること無く、載置部Ｐにアクセスできる。第１反転用搬送機構ＴＲ１は載置部Ｐの右方に配置され、第２反転用搬送機構ＴＲ２は載置部Ｐの左方に配置されているので、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２はそれぞれ、互いに干渉することなく、載置部Ｐにアクセスできる。

第１反転ユニットＲ１は第１反転用搬送機構ＴＲ１の側方に配置されているので、第１反転用搬送機構ＴＲ１は、第２反転用搬送機構ＴＲ２と干渉することなく、第１反転ユニットＲ１にアクセスできる。第２反転ユニットＲ２は第２反転用搬送機構ＴＲ２の側方に配置されているので、第２反転用搬送機構ＴＲ２は、第１反転用搬送機構ＴＲ１と干渉することなく、第２反転ユニットＲ２にアクセスできる。

（５）上述した実施例１、２では、第１、第２反転ユニットＲ１、Ｒ２は２枚の基板Ｗを同時に反転可能であったが、これに限られない。例えば、基板Ｗを１枚ずつ反転する反転ユニットに変更してもよい。例えば、第１、第２可動板３６ａ、３６ｂのいずれかを省略してもよい。あるいは、３枚以上の基板Ｗを同時に反転可能な反転ユニットに変更してもよい。

（６）上述した実施例１、２で説明した動作例では、第１反転ユニットＲ１と第２反転ユニットＲ２は同じ基板Ｗを反転した。例えば、第１反転ユニットＲ１は洗浄処理前の基板Ｗを反転し、第２反転ユニットＲ２は洗浄処理後の同基板Ｗを反転した。ただし、このような動作例に限られない。例えば、第１反転ユニットＲ１が反転する基板Ｗと第２反転ユニットＲ２が反転する基板Ｗが、異なっていてもよい。例えば、第１反転ユニットＲ１は一部の基板Ｗを反転し、第２反転ユニットＲ２は他の基板Ｗを反転してもよい。

例えば、基板処理装置１が２枚の基板Ｗを処理する場合、第１反転ユニットＲ１は、１枚目の基板Ｗを、洗浄処理の前、および、洗浄処理の後に、２回反転する。第２反転ユニットＲ２は、２枚目の基板Ｗを、洗浄処理の前、および、洗浄処理の後に２回反転する。

本変形実施例によっても、第１反転ユニットＲ１と洗浄処理ユニットＳＳとの間、および、第２反転ユニットＲ２と洗浄処理ユニットＳＳの間で基板を効率良く搬送できる。また、各基板Ｗは、第１反転ユニットＲ１、第２反転ユニットＲ２のいずれか一方のみを通るので、基板Ｗの処理品質や搬送履歴を好適に管理できる。

（７）上述した実施例１、２では、基板処理装置１は、１つの第１反転ユニットＲ１と１つの第２反転ユニットＲ２を備えていたが、これに限られない。例えば、基板処理装置１は、複数の第１反転ユニットＲ１を備えてもよい。基板処理装置１は、複数の第２反転ユニットＲ２を備えてもよい。

（８）上述した実施例１、２では、基板処理装置１は、洗浄処理ユニットＳＳを備えていたが、これに限られない。例えば、基板Ｗに薬液を供給する処理（薬液処理）を行う処理ユニットに変更してもよい。

（９）上述した実施例１、２では、インデクサ用搬送機構ＴＩＤの構造を例示したが、これに限られない。例えば、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、多関節アーム１７ａ、１７ｂに代えて、ハンド１４ａ、１４ｂを水平な一方向に進退移動させる直線ガイド機構を備えてもよい。さらに、この直線ガイド機構を垂直軸回りに回転可能に昇降部１８に連結してもよい。

インデクサ用搬送機構ＴＩＤと同様に、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２および処理用搬送機構ＴＳの構造を変更してもよい。

（１０）上述した実施例１、２では、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは２つのハンド１４ａ、１４ｂを備えていたが、これに限られない。例えば、ハンド１４ａ、１４ｂのいずれか一方を省略し、単一のハンドのみを備えてもよい。あるいは、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは、３つ以上のハンドを備えてもよい。後者の場合には、インデクサ用搬送機構ＴＩＤは同時に３枚以上の基板Ｗを搬送できる。

同様に、第１、第２反転用搬送機構ＴＲ１、ＴＲ２および処理用搬送機構ＴＳが有するハンドの数を、１つ、または、３つ以上に変更してもよい。

（１１）上述した実施例および各変形実施例の各構成を適宜に組み合わせるように変更してもよい。

１ … 基板処理装置
１０ … インデクサ部
１１ … キャリア載置部（容器載置台）
１４ａ、１４ｂ … ハンド
１６、４０、６１ … ハンド駆動部
２０ … 処理部
４１ … 回転保持部
４７ … 液供給部
５１ … ブラシ洗浄機構
６０ … 遮蔽板
ＢＡ … 反転ブロック
ＢＢ … 処理ブロック
ＴＩＤ … インデクサ用搬送機構
ＴＲ１ … 第１反転用搬送機構
ＴＲ２ … 第２反転用搬送機構
ＴＳ、ＴＳ１、ＴＳ２、ＴＳ３、ＴＳ４ … 処理用搬送機構
Ｃ … キャリア（収納容器）
Ｐ、Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄ、Ｐ１ａ−Ｐ１ｄ、Ｐ２ａ−Ｐ２ｄ、Ｐ３ａ−Ｐ３ｄ、Ｐ４ａ−Ｐ４ｄ … 載置部
Ｒ１ … 第１反転ユニット
Ｒ２ … 第２反転ユニット
ＳＳ、ＳＳ１、ＳＳ２、ＳＳ３、ＳＳ４、ＳＳａ … 洗浄処理ユニット（処理ユニット）
Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ４ … 階層
Ｘ … 前後方向
ＸＦ … 前方
ＸＢ … 後方
Ｙ … 横方向
ＹＲ … 右方
ＹＬ … 左方
Ｚ … 上下方向
Ｗ … 基板

Claims (11)

1. 基板処理装置であって、
   基板を載置する載置部と、
   基板を反転する第１反転ユニットと、
   基板を反転する第２反転ユニットと、
   基板に処理を行う処理ユニットと、
   前記載置部と前記第１反転ユニットに基板を搬送する第１反転用搬送機構と、
   前記載置部と前記第２反転ユニットに基板を搬送する第２反転用搬送機構と、
   前記載置部と前記処理ユニットに基板を搬送する処理用搬送機構と、
   を備え、
   前記処理用搬送機構は、
   第１階層に設置される第１処理用搬送機構と、
   前記第１階層の上方に位置する第２階層に設置される第２処理用搬送機構と、
   を含み、
   前記第１処理用搬送機構は、前記第１階層内を動き、かつ、前記第２階層に及ばず、
   前記第２処理用搬送機構は、前記第２階層内を動き、かつ、前記第１階層に及ばず、
   前記載置部は、
   前記第１階層と略同じ高さ位置に設置され、前記第１処理用搬送機構と向かい合う第１載置部と、
   前記第２階層と略同じ高さ位置に設置され、前記第２処理用搬送機構と向かい合う第２載置部と、
   を含み、
   前記第１処理用搬送機構は、前記第１載置部にアクセス可能であり、
   前記第２処理用搬送機構は、前記第２載置部にアクセス可能であり、
   前記第１反転用搬送機構は、前記第１載置部および前記第２載置部にアクセス可能であり、
   前記第２反転用搬送機構は、前記第１載置部および前記第２載置部にアクセス可能である基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記第１処理用搬送機構と前記第２処理用搬送機構は、上下方向に並ぶように配置される基板処理装置。
3. 請求項１または２に記載の基板処理装置において、
   前記第１載置部と前記第２載置部は、上下方向に並ぶように配置される基板処理装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記処理ユニットは、
   前記第１階層に設置される第１処理ユニットと、
   前記第２階層に設置される第２処理ユニットと、
   を含み、
   前記第１処理用搬送機構は、前記第１処理ユニットにアクセス可能であり、
   前記第２処理用搬送機構は、前記第２処理ユニットにアクセス可能である基板処理装置。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
   基板を収納する収納容器と前記載置部とに基板を搬送するインデクサ用搬送機構を備えている基板処理装置。
6. 基板処理装置であって、
   基板を載置する載置部と、
   基板を反転する第１反転ユニットと、
   基板を反転する第２反転ユニットと、
   基板に処理を行う処理ユニットと、
   前記載置部と前記第１反転ユニットに基板を搬送する第１反転用搬送機構と、
   前記載置部と前記第２反転ユニットに基板を搬送する第２反転用搬送機構と、
   前記載置部と前記処理ユニットに基板を搬送する処理用搬送機構と、
   基板を収納する収納容器と前記載置部とに基板を搬送するインデクサ用搬送機構と、
   を備え、
   前記第１反転用搬送機構と前記第２反転用搬送機構と前記処理用搬送機構と前記インデクサ用搬送機構は、同じ前記載置部にアクセス可能である基板処理装置。
7. 請求項６に記載の基板処理装置において、
   複数の前記載置部は、上下方向に並ぶように配置されており、
   複数の前記処理用搬送機構は、上下方向に並ぶように配置されており、
   前記処理用搬送機構のそれぞれが１つ以上の前記載置部と向かい合う基板処理装置。
8. 請求項５から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記インデクサ用搬送機構は、側面視で、前記載置部の前方に配置されている基板処理装置。
9. 請求項５から８のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記インデクサ用搬送機構は、前記第１反転ユニットにアクセス不能であり、
   前記インデクサ用搬送機構は、前記第２反転ユニットにアクセス不能であり、
   前記処理用搬送機構は、前記第１反転ユニットにアクセス不能であり、
   前記処理用搬送機構は、前記第２反転ユニットにアクセス不能である基板処理装置。
10. 請求項１から９のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第１反転用搬送機構および前記第２反転用搬送機構はそれぞれ、前記載置部の側方に配置され、
    前記第１反転ユニットは、前記第１反転用搬送機構の側方に配置され、
    前記第２反転ユニットは、前記第２反転用搬送機構の側方に配置され、
    前記処理用搬送機構は、前記載置部の後方に配置されている基板処理装置。
11. 請求項１から１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第１反転ユニットと前記第１反転用搬送機構と前記載置部と前記第２反転用搬送機構と前記第２反転ユニットは、平面視で、この順で１列に並ぶ基板処理装置。
    

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