JP6642235B2 - Optical reflection film and method for manufacturing optical reflection film - Google Patents

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Description

本発明は、光学反射フィルムおよび光学反射フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to an optical reflection film and a method for manufacturing an optical reflection film.

一般に、低屈折率層と高屈折率層とを、それぞれ光学的膜厚を調整して基材の表面に積層させた多層膜は、特定の波長の光を選択的に反射することが知られている。このような多層膜は、例えば、建築物の窓や車両用部材などに設置される光学反射フィルムとして利用されている。このような光学反射フィルムは、各層の膜厚や屈折率を調整するだけで、反射波長をコントロールすることができ、赤外線、紫外線、可視光といった種々の光を反射することが可能である。   In general, it is known that a multilayer film in which a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer are respectively laminated on the surface of a substrate by adjusting the optical film thickness selectively reflects light of a specific wavelength. ing. Such a multilayer film is used, for example, as an optical reflection film installed on a window of a building or a member for a vehicle. Such an optical reflection film can control the reflection wavelength only by adjusting the thickness and refractive index of each layer, and can reflect various lights such as infrared rays, ultraviolet rays, and visible lights.

近年、省エネルギー対策への関心が高まり、建築用ガラスや車両用ガラスにおいて、室内あるいは車内に入る太陽輻射エネルギーを遮蔽し、温度上昇、冷房負荷を低減する目的で、赤外線の遮蔽性を有する断熱ガラスが採用されている。一方、従来、屈折率の異なる層を積層して形成した赤外遮蔽フィルムが知られており、この赤外遮蔽フィルムをガラスに貼付することにより、太陽光の中、熱線の透過を遮断する方法が、より簡便な方法として注目されている。   In recent years, interest in energy conservation measures has increased, and insulated glass with infrared shielding properties for the purpose of shielding solar radiation energy entering the room or inside the vehicle, reducing the temperature rise and cooling load in architectural glass and vehicle glass Has been adopted. On the other hand, conventionally, an infrared shielding film formed by laminating layers having different refractive indexes is known, and a method of blocking transmission of heat rays in sunlight by attaching the infrared shielding film to glass. However, attention is being paid as a simpler method.

赤外遮蔽フィルムとしては、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層させた積層膜を蒸着法、スパッタ法などの気相成膜法で作製する方法がある。しかしながら、気相成膜法は製造コストが高く、大面積化が困難であり、耐熱性素材に限定される等の課題がある。   As the infrared shielding film, there is a method in which a laminated film in which low-refractive-index layers and high-refractive-index layers are alternately laminated is produced by a vapor deposition method such as an evaporation method or a sputtering method. However, the vapor deposition method has problems such as high production cost, difficulty in increasing the area, and limitation to heat-resistant materials.

かような課題に対し、製造コストが安く、大面積化が可能であり、基材の選択幅が広いといった観点から、液相成膜法(ウェット)を用いて赤外遮蔽フィルム(光学反射フィルム)を製造する技術が提案されている。かような液相成膜法を用いた技術として、特許文献1には、チタニア等の金属酸化物粒子および水溶性高分子を含む高屈折率層と、シリカ等の酸化物粒子および水溶性高分子を含む低屈折率層とを同時重層塗布により積層する技術が開示されている。   In view of such a problem, the manufacturing cost is low, the area can be increased, and the selection range of the base material is wide. ) Has been proposed. As a technique using such a liquid phase film forming method, Patent Document 1 discloses a high refractive index layer containing metal oxide particles such as titania and a water-soluble polymer, and an oxide particle such as silica and a water-soluble A technique for laminating a low refractive index layer containing molecules by simultaneous multi-layer coating is disclosed.

また、上記のような液相成膜法を用いた技術として、特許文献2には、上記のような高屈折率層または低屈折率層に無機ポリマー(カチオンポリマー)を添加する技術が開示されている。   As a technique using the liquid phase film forming method as described above, Patent Literature 2 discloses a technique in which an inorganic polymer (cationic polymer) is added to the high refractive index layer or the low refractive index layer as described above. ing.

特開2012−252148号公報JP 2012-252148 A 特開2012−27288号公報JP 2012-27288 A

しかしながら、近年、より高水準な光学特性を有する光学反射フィルムが求められており、光学特性のさらなる向上が求められている。そして、かような要求を満たすための技術の一つとして、ヘイズを低減するだけでなく、塗布ムラを抑制することができる技術が求められている。   However, in recent years, an optical reflection film having a higher level of optical characteristics has been demanded, and further improvement in optical characteristics has been demanded. As one of the techniques for satisfying such demands, there is a demand for a technique capable of not only reducing haze but also suppressing coating unevenness.

したがって、本発明の目的は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光学反射フィルムにおいて、ヘイズを効果的に低減すると共に、塗布ムラを抑制することができる手段を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide means for effectively reducing haze and suppressing coating unevenness in an optical reflection film.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った。その結果、低屈折率層および高屈折率層を積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射フィルムにおいて、以下のような構成を有する低屈折率層を形成することにより、上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventor has conducted intensive studies in view of the above problems. As a result, in an optical reflection film including at least one unit in which a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer are laminated, the above-described problem is solved by forming a low-refractive-index layer having the following configuration. And completed the present invention.

すなわち、上記目的は、基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射フィルムであって、前記低屈折率層が、水溶性高分子と、酸化ケイ素粒子と、カチオンポリマーと、カルボキシル基を含まないアミノアルコールと、を含有する、光学反射フィルムにより達成される。   That is, the above object is an optical reflection film including at least one unit in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated on a substrate, wherein the low refractive index layer is a water-soluble polymer, This is achieved by an optical reflection film containing silicon oxide particles, a cationic polymer, and an amino alcohol containing no carboxyl group.

本発明によれば、光学反射フィルムにおいて、低屈折率層が、水溶性高分子、酸化ケイ素粒子およびカチオンポリマーと共に、特定のアミノアルコールを含有することにより、ヘイズを効果的に低減すると共に、塗布ムラを抑制することができる技術が提供される。   According to the present invention, in the optical reflection film, the low-refractive-index layer contains a specific amino alcohol together with a water-soluble polymer, silicon oxide particles and a cationic polymer, thereby effectively reducing haze and coating. A technique capable of suppressing unevenness is provided.

本発明の一形態によれば、基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射フィルムであって、前記低屈折率層が、水溶性高分子と、酸化ケイ素粒子と、カチオンポリマーと、カルボキシル基を含まないアミノアルコールと、を含有する、光学反射フィルムが提供される。かような構成を有する光学反射フィルムは、ヘイズだけでなく、塗布ムラもまた効果的に低減されているため、良好な光学特性を発揮する。   According to one embodiment of the present invention, there is provided an optical reflection film including at least one unit in which a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer are laminated on a substrate, wherein the low-refractive-index layer has a water-soluble high refractive index layer. An optical reflection film is provided that contains a molecule, silicon oxide particles, a cationic polymer, and an amino alcohol without a carboxyl group. The optical reflection film having such a configuration exhibits good optical characteristics because not only haze but also coating unevenness is effectively reduced.

液相成膜法による低屈折率層の形成は、水溶性高分子や酸化ケイ素粒子等の材料を含む塗布液(以下、「低屈折率層塗布液」とも称する)を調製し、当該塗布液を高屈折率層塗布液と交互に積層するように塗布し、乾燥することにより行われる。そして、この乾燥は、乾燥風(温風等)を吹き付けながら行うことが一般的である。ここで、本発明者は、検討の過程において、水溶性高分子および酸化ケイ素粒子に加え、カチオンポリマーをさらに含む低屈折率層塗布液を基材上に塗布した後に乾燥すると、場合によっては基材上に塗布された塗布液が乾燥風により押し流され、塗布ムラ(乾燥ムラ)を生じることがあることを見出した。   The low-refractive-index layer is formed by a liquid-phase film-forming method by preparing a coating solution containing a material such as a water-soluble polymer or silicon oxide particles (hereinafter, also referred to as a “low-refractive-index layer coating solution”), Is applied so as to be alternately laminated with the coating solution for the high refractive index layer, and dried. This drying is generally performed while blowing dry air (warm air or the like). Here, in the course of the study, the present inventor applied a low-refractive-index layer coating solution further containing a cationic polymer in addition to the water-soluble polymer and silicon oxide particles on a substrate, and then dried the substrate. It has been found that the coating liquid applied on the material may be swept away by the drying air to cause coating unevenness (drying unevenness).

かような塗布ムラを抑制すべく、本発明者が鋭意検討を行ったところ、驚くべきことに、カルボキシル基を含まないアミノアルコールの添加により、ヘイズの低減効果とともに、塗布ムラの抑制効果が得られることを見出した。かような効果が得られるメカニズムは明確ではないが、以下のように推測される。   The present inventors have conducted intensive studies in order to suppress such coating unevenness, and surprisingly, by adding an amino alcohol that does not contain a carboxyl group, a haze reducing effect and a coating unevenness suppressing effect are obtained. Was found to be. The mechanism by which such an effect is obtained is not clear, but is presumed as follows.

水溶性高分子と酸化ケイ素粒子とを含む低屈折率層塗布液において、カチオンポリマーを含まない場合、酸化ケイ素粒子の表面に存在するヒドロキシル基と、水溶性高分子(より具体的には、ヒドロキシル基等の親水性基)とが物理的および/または化学的な相互作用をすることにより、ネットワーク構造が形成される。これにより、低屈折率層塗布液は、適度な粘度を保持しやすく、塗布ムラは生じにくいと推測される。一方、低屈折率層塗布液がカチオンポリマーをさらに含む場合には、当該ポリマーが酸化ケイ素粒子の表面に吸着することで、水溶性高分子と酸化ケイ素粒子表面との相互作用を阻害し、上記のようなネットワーク構造が形成しにくくなり、結果として低屈折率層塗布液の粘度が低下しやすくなると考えられる。したがって、上記のように乾燥風によって押し流され、塗布ムラが生じやすくなる。   In a low refractive index layer coating solution containing a water-soluble polymer and silicon oxide particles, when a cationic polymer is not contained, a hydroxyl group present on the surface of the silicon oxide particles and a water-soluble polymer (more specifically, a hydroxyl group) (A hydrophilic group such as a group) physically and / or chemically interact to form a network structure. Thus, it is presumed that the low-refractive-index layer coating liquid easily maintains an appropriate viscosity, and coating unevenness hardly occurs. On the other hand, when the coating solution for the low refractive index layer further contains a cationic polymer, the polymer is adsorbed on the surface of the silicon oxide particles, thereby inhibiting the interaction between the water-soluble polymer and the surface of the silicon oxide particles. It is considered that such a network structure is unlikely to be formed, and as a result, the viscosity of the coating solution for the low refractive index layer tends to decrease. Therefore, it is swept away by the drying air as described above, and coating unevenness easily occurs.

これに対し、本発明のように、アミノアルコールを添加すると、アミノアルコールのアミノ基が、上記カチオンポリマーの隙間に入り込むようにして酸化ケイ素粒子表面と相互作用することが可能となると共に、アミノアルコールのヒドロキシル基が水溶性高分子と相互作用をする。このようにして、上記アミノアルコールは、水溶性高分子と酸化ケイ素粒子との架橋剤のような役割を果たしていると考えられる。その結果、水溶性高分子および酸化ケイ素粒子によるネットワーク構造の形成が容易となり、カチオンポリマーを含む低屈折率層塗布液であっても、粘度の低下を抑制することができる。したがって、塗布ムラが効果的に抑制されると考えられる。   On the other hand, when an amino alcohol is added as in the present invention, it becomes possible for the amino group of the amino alcohol to interact with the surface of the silicon oxide particles so as to enter the gap of the cationic polymer, and Interact with the water-soluble polymer. Thus, the amino alcohol is considered to play a role as a crosslinking agent between the water-soluble polymer and the silicon oxide particles. As a result, it is easy to form a network structure using the water-soluble polymer and the silicon oxide particles, and it is possible to suppress a decrease in viscosity even with a low refractive index layer coating solution containing a cationic polymer. Therefore, it is considered that coating unevenness is effectively suppressed.

さらに、本発明において、アミノアルコールとして、カルボキシル基を含まないものを用いる。かような化合物を採用することにより、低屈折率層塗布液中における凝集や結晶化あるいは水溶性高分子との部分的な反応を抑制することができ、より厳しい基準を満たすためのヘイズの低減を達成することができる。   Furthermore, in the present invention, an amino alcohol that does not contain a carboxyl group is used. By adopting such a compound, aggregation and crystallization in the coating solution for the low refractive index layer or partial reaction with the water-soluble polymer can be suppressed, and the haze is reduced to meet stricter standards. Can be achieved.

さらに、上記低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子はアニオン性であるため、共存するカチオンポリマーが酸化ケイ素粒子に吸着しやすい。その結果、酸化ケイ素粒子のゼータ電位がプラスとなり、酸化ケイ素粒子の表面はカチオン性となると考えられる。   Further, since the silicon oxide particles contained in the low refractive index layer are anionic, the coexisting cationic polymer is easily adsorbed to the silicon oxide particles. As a result, it is considered that the zeta potential of the silicon oxide particles becomes positive and the surface of the silicon oxide particles becomes cationic.

ここで、低屈折率層と共に光学反射フィルムを構成する高屈折率層は、高屈折率を発現するための材料を含むことが望ましいが、これら材料は、カチオン性材料であることが一般的である(例えば、特許文献1や特許文献2に開示されたような、チタニアやジルコニア等)。したがって、上記のようにカチオンポリマーが添加された低屈折率層と、高屈折率層との電気的な反発により、低屈折率層と高屈折率層との界面混合が抑制される。よって、界面における反応や懸濁が抑制され、光学反射フィルムのヘイズがさらに低減されると推測される。   Here, it is desirable that the high-refractive-index layer constituting the optical reflection film together with the low-refractive-index layer contains a material for expressing a high refractive index, but these materials are generally cationic materials. (For example, titania and zirconia as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2). Therefore, interfacial mixing between the low-refractive index layer and the high-refractive index layer is suppressed by the electrical repulsion between the low-refractive index layer to which the cationic polymer is added and the high-refractive index layer as described above. Therefore, it is assumed that the reaction and suspension at the interface are suppressed, and the haze of the optical reflection film is further reduced.

なお、上述した本発明の構成による作用効果の発揮のメカニズムは推測であり、本発明は、上記推測によって限定されない。   Note that the mechanism of exhibiting the function and effect of the configuration of the present invention described above is speculation, and the present invention is not limited to the above speculation.

以下、本発明の光学反射フィルムの構成要素について、詳細に説明する。本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は、XおよびYを含み、「X以上Y以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%RHの条件で測定する。   Hereinafter, components of the optical reflection film of the present invention will be described in detail. In this specification, “X to Y” indicating a range includes X and Y, and means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, the operation, physical properties, and the like are measured under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity of 40 to 50% RH.

〔光学反射フィルム〕
本発明に係る光学反射フィルムは、基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む。なお、本明細書において、「低屈折率層」および「高屈折率層」なる用語は、隣接した2層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層とすることを意味する。本発明では、「低屈折率層」には、酸化ケイ素粒子(シリカ粒子)が含まれるため、それに隣接する屈折率層は、当該「低屈折率層」よりも屈折率が高くなるように設計された「高屈折率層」となる。
(Optical reflection film)
The optical reflection film according to the present invention includes at least one unit in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated on a substrate. In this specification, the terms “low-refractive-index layer” and “high-refractive-index layer” refer to a lower refractive index layer having a lower refractive index when comparing the refractive index difference between two adjacent layers. Means that the higher refractive index layer is a high refractive index layer. In the present invention, since the “low refractive index layer” contains silicon oxide particles (silica particles), the refractive index layer adjacent thereto is designed to have a higher refractive index than the “low refractive index layer”. This results in a “high refractive index layer”.

また、本明細書中、低屈折率層および高屈折率層を区別しない場合は、両者を含む概念として「屈折率層」と称することがある。さらに、本明細書中、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットが複数積層された部分を単に「光学反射層」または「反射層」と称することがある。   Further, in the present specification, when the low refractive index layer and the high refractive index layer are not distinguished from each other, a concept including both of them may be referred to as a “refractive index layer”. Further, in this specification, a portion in which a plurality of units in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are stacked may be simply referred to as an “optical reflection layer” or a “reflection layer”.

光学反射フィルムは、基材、光学反射層をこの順に有し、光学反射層は、光が入射する面に配置されると好ましい。さらに、光学反射層は、基材と隣接して配置されてもよいし、基材と光学反射層との間に他の層が介在していてもよい。   The optical reflection film preferably has a substrate and an optical reflection layer in this order, and the optical reflection layer is preferably arranged on a surface on which light is incident. Further, the optical reflection layer may be arranged adjacent to the base material, or another layer may be interposed between the base material and the optical reflection layer.

≪低屈折率層≫
本発明の光学反射フィルムは、光学反射層を構成する低屈折率層において、カルボキシル基を含まないアミノアルコールと、カチオンポリマーと、酸化ケイ素粒子と、水溶性高分子とを含む。以下では、まず、低屈折率層に含まれる各成分について詳述する。なお、上記カルボキシル基を含まないアミノアルコール、カチオンポリマー、酸化ケイ素粒子および水溶性高分子は、複数存在する低屈折率層の少なくとも1層に含まれていればよい。
≪Low refractive index layer≫
The optical reflection film of the present invention comprises, in the low refractive index layer constituting the optical reflection layer, an amino alcohol having no carboxyl group, a cationic polymer, silicon oxide particles, and a water-soluble polymer. Hereinafter, first, each component included in the low refractive index layer will be described in detail. The carboxyl-free amino alcohol, cationic polymer, silicon oxide particles, and water-soluble polymer may be contained in at least one of a plurality of low refractive index layers.

<カルボキシル基を含まないアミノアルコール>
本発明に係る光学反射フィルムにおいて、低屈折率層は、カルボキシル基を含まないアミノアルコール(本明細書中、単に「アミノアルコール」と称することもある)を含む。本発明において用いられるアミノアルコールは、分子内に、一以上のアミノ基および一以上のヒドロキシル基(−OH)の双方を有し、カルボキシル基(−COOH)を含まない。なお、本発明におけるアミノ基とは、第1級アミンに属する一般的なアミノ基(−NH)以外にも、第2級アミンおよび第3級アミンなどの構造を包含するものとする。なお、アミノアルコールのアミノ基は、プロトンが配位結合した−NH の形態で低屈折率層中に存在していてもよい。一つの低屈折率層中、アミノアルコールは1種単独で用いられてもよいし、2種以上が混合されて用いられてもよい。
<Amino alcohol containing no carboxyl group>
In the optical reflection film according to the present invention, the low refractive index layer contains an amino alcohol that does not contain a carboxyl group (in this specification, it may be simply referred to as “amino alcohol”). The amino alcohol used in the present invention has both one or more amino groups and one or more hydroxyl groups (-OH) in the molecule and does not contain a carboxyl group (-COOH). In addition, the amino group in the present invention shall include structures such as a secondary amine and a tertiary amine in addition to a general amino group (—NH 2 ) belonging to a primary amine. In addition, the amino group of the amino alcohol may be present in the low refractive index layer in the form of -NH 3 + to which a proton is coordinated. In one low refractive index layer, one kind of amino alcohol may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

本発明に係るアミノアルコールは、上述のように、低屈折率層中に含まれる酸化ケイ素粒子の表面に対し、アミノ基によって相互作用(吸着)すると共に、低屈折率層中に含まれる水溶性高分子に対し、ヒドロキシル基によって相互作用する。よって、アミノアルコールを介して水溶性高分子と酸化ケイ素粒子とが相互作用することができ、これらがネットワーク構造を形成しやすくなる。換言すると、本発明に係るアミノアルコールは、水溶性高分子と酸化ケイ素粒子との相互作用を促進する役割を果たす。その結果、低屈折率層塗布液の粘度の低下が抑制され、塗布ムラを効果的に抑制することができる。   As described above, the amino alcohol according to the present invention interacts (adsorbs) with the surface of the silicon oxide particles contained in the low-refractive-index layer by an amino group, and has a water-soluble property contained in the low-refractive-index layer. Interacts with macromolecules via hydroxyl groups. Therefore, the water-soluble polymer and the silicon oxide particles can interact with each other via the amino alcohol, and these easily form a network structure. In other words, the amino alcohol according to the present invention plays a role in promoting the interaction between the water-soluble polymer and the silicon oxide particles. As a result, a decrease in the viscosity of the coating solution for the low refractive index layer is suppressed, and uneven coating can be effectively suppressed.

また、本発明に係るアミノアルコールは、カルボキシル基を含まないため、当該アミノアルコール自体の凝集や結晶化等もまた抑制することができ、これによって効果的にヘイズの低減が図られる。   Further, since the amino alcohol according to the present invention does not contain a carboxyl group, aggregation and crystallization of the amino alcohol itself can also be suppressed, thereby effectively reducing haze.

低屈折率層中におけるアミノアルコールの含有量(アミノアルコールを二種以上を含む場合は、その合計量)は、特に制限されないが、酸化ケイ素粒子と水溶性高分子とのネットワーク構造を形成しやすくし、低屈折率層塗布液に適度な粘度を与えるという目的から、以下の範囲であると好ましい。すなわち、低屈折率層中のアミノアルコールの含有量は、酸化ケイ素粒子の全量(複数の種類の酸化ケイ素粒子を含む場合には、その合計質量)に対して0.01〜5質量%であると好ましく、0.05〜2質量%であるとより好ましく、0.05質量%を超えて2.0質量%未満であると特に好ましい。なお、複数の種類のアミノアルコールを含む場合には、その合計量が、上記範囲内であると好ましい。0.01質量%以上とすることにより、上記ネットワーク構造を形成する効果を十分に得ることができる。このように、本発明に係るアミノアルコールは、非常に少量であっても十分な塗布ムラ抑制効果が得られる。また、5質量%以下とすることにより、アミノアルコールの添加によるヘイズの上昇も問題とならず、このような観点からも、ヘイズの抑制に寄与する。   The content of the amino alcohol (when two or more amino alcohols are included, the total amount thereof) in the low refractive index layer is not particularly limited, but it is easy to form a network structure between the silicon oxide particles and the water-soluble polymer. However, for the purpose of imparting an appropriate viscosity to the coating solution for the low refractive index layer, the content is preferably within the following range. That is, the content of the amino alcohol in the low refractive index layer is 0.01 to 5% by mass based on the total amount of the silicon oxide particles (when a plurality of types of silicon oxide particles are included, the total mass thereof). And more preferably 0.05 to 2% by mass, and particularly preferably more than 0.05% by mass and less than 2.0% by mass. When a plurality of types of amino alcohols are contained, the total amount is preferably within the above range. When the content is 0.01% by mass or more, the effect of forming the network structure can be sufficiently obtained. As described above, the amino alcohol according to the present invention can provide a sufficient coating unevenness suppressing effect even in a very small amount. When the content is 5% by mass or less, the increase in haze due to the addition of amino alcohol does not pose a problem, and from such a viewpoint, it contributes to the suppression of haze.

ここで、低屈折率層中の上記アミノアルコールの含有量(M:質量)および酸化ケイ素粒子の含有量(MSiO2:質量)は、低屈折率層について、下記の分析を行うことにより測定される。 Here, the content (M A : mass) of the amino alcohol and the content (M SiO2 : mass) of the silicon oxide particles in the low refractive index layer are measured by performing the following analysis on the low refractive index layer. Is done.

まず、低屈折率層中のアミノアルコールの含有量(モル数)は、光学反射フィルムのFT−IR(フーリエ変換赤外分光法)を用いて分析することにより、測定することができる。そして、得られたアミノアルコールのモル数から、予め求められたアミノアルコールの分子量に基づき、低屈折率層中に含まれるアミノアルコールの質量(M)が算出される。このときの測定は、水分子の吸光による影響を減らすため、基材の溶融温度以下の温度で、1〜60分間乾燥させた後に行うことが好ましい。なお、上記アミノアルコールの分子量は、電子イオン化法による質量分析により測定することができる。 First, the content (mole number) of amino alcohol in the low refractive index layer can be measured by analyzing the optical reflection film using FT-IR (Fourier transform infrared spectroscopy). Then, the mass (M A ) of the amino alcohol contained in the low refractive index layer is calculated from the obtained number of moles of the amino alcohol based on the molecular weight of the amino alcohol obtained in advance. The measurement at this time is preferably performed after drying at a temperature lower than the melting temperature of the base material for 1 to 60 minutes in order to reduce the influence of the absorption of water molecules. In addition, the molecular weight of the amino alcohol can be measured by mass spectrometry using an electron ionization method.

次に、低屈折率層中の酸化ケイ素粒子の含有量は、走査透過型電子顕微鏡とエネルギー分散型X線分光分析を組み合わせた方法(STEM−EDX)により、低屈折率層中のケイ素量を求め、得られた結果より、酸化ケイ素粒子の質量(MSiO2)を求めることができる。 Next, the content of silicon oxide particles in the low-refractive-index layer was determined by a method (STEM-EDX) combining scanning transmission electron microscope and energy dispersive X-ray spectroscopy. From the obtained and obtained results, the mass (M SiO2 ) of the silicon oxide particles can be obtained.

本発明において用いられるアミノアルコールとしては特に制限されず、上記のような水溶性高分子と酸化ケイ素粒子との相互作用を促進することができるものであればいかなるアミノアルコールを用いてもよい。例えば、モノエタノールアミン、ネオペンタノールアミン、2−アミノプロパノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、3−アミノプロパノール、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン等の第1級アミン;ジエタノールアミン、ジ−n−プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、3,4−ピロリジンジオール等の第2級アミン;トリエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、1−ピペリジン−1−プロパノール、N−エチル−3,4−ピペリジンジオール、N−エチル−3,5−ピペリジンジオール、N−(2−ヒドロキシプロピル)−3,5−ピペリジンジオール等の第3級アミン;等を用いることができる。これらアミノアルコールは、1種単独で使用されても、または2種以上が混合されて使用されてもよい。   The amino alcohol used in the present invention is not particularly limited, and any amino alcohol that can promote the interaction between the water-soluble polymer and the silicon oxide particles as described above may be used. For example, primary amines such as monoethanolamine, neopentanolamine, 2-aminopropanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol, 3-aminopropanol and tris (hydroxymethyl) aminomethane; diethanolamine, diethanolamine Secondary amines such as n-propanolamine, diisopropanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine and 3,4-pyrrolidinediol; triethanolamine, dimethylethanolamine, dibutylethanolamine, methyldiethanolamine, Ethyl diethanolamine, triisopropanolamine, 1-piperidine-1-propanol, N-ethyl-3,4-piperidinediol, N-ethyl-3,5-piperidinediol, N- (2-hydroxypropanol) Tertiary amines Le) -3,5-piperidine-diol and the like; and the like can be used. These amino alcohols may be used alone or in a combination of two or more.

水溶性高分子とより相互作用しやすく、水溶性高分子とのネットワーク構造の形成が容易であり、低屈折率層塗布液の粘度の低下を抑制しやすいという観点から、アミノアルコールは、二価アルコールまたは三価アルコールであると好ましい。すなわち、アミノアルコールは、ヒドロキシル基を二つまたは三つ含んでいると好ましい。これらのアミノアルコールは、一価アルコールと比較して、架橋点となるヒドロキシル基を多く有することから、上記の効果が得られやすい。また、このような効果を得るためには、四価以上のアルコールであってもよいが、四価以上のアルコールと比較して、二価および三価のアルコールは、入手が容易であり、光学反射フィルムの製造コストを低廉に抑えることができる。   Amino alcohols are divalent from the viewpoint that they can more easily interact with water-soluble polymers, easily form a network structure with water-soluble polymers, and can easily suppress a decrease in viscosity of the coating solution for the low refractive index layer. It is preferably an alcohol or a trihydric alcohol. That is, the amino alcohol preferably contains two or three hydroxyl groups. These amino alcohols have more hydroxyl groups serving as cross-linking points than monohydric alcohols, so that the above-mentioned effects are easily obtained. In order to obtain such an effect, alcohols having a valency of 4 or more may be used. The production cost of the reflective film can be reduced.

また、低屈折率層に含まれるアミノアルコールは、上記の通り、第1級〜第3級アミンのいずれであってもよいが、なかでも、第1級アミンであると好ましい。すなわち、アミノアルコールは、第1級アミノ基を有していると好ましい。第1級アミノ基は、第2級および第3級アミノ基と比較して、窒素原子の周囲の立体障害が小さいため、酸化ケイ素粒子の表面に吸着したカチオンポリマーの隙間に入り込みやすい。したがって、アミノアルコールと酸化ケイ素粒子とが相互作用しやすくなるため、アミノアルコールを介して酸化ケイ素粒子と水溶性高分子との相互作用が容易となる。その結果、これらがネットワーク構造を形成しやすくなり、低屈折率層塗布液の粘度の低下を抑制することができる。   The amino alcohol contained in the low refractive index layer may be any of primary to tertiary amines as described above, and among them, primary amines are preferred. That is, the amino alcohol preferably has a primary amino group. The primary amino group has less steric hindrance around the nitrogen atom than the secondary and tertiary amino groups, and thus easily enters the gap of the cationic polymer adsorbed on the surface of the silicon oxide particles. Therefore, the interaction between the amino alcohol and the silicon oxide particles is facilitated, and the interaction between the silicon oxide particles and the water-soluble polymer is facilitated via the amino alcohol. As a result, these can easily form a network structure, and a decrease in the viscosity of the low refractive index layer coating solution can be suppressed.

以上より、アミノアルコールは、二価アルコールまたは三価アルコールであり、かつ、第1級アミノ基を有するものであるとより好ましく、三価アルコールであり、かつ、第1級アミノ基を有するものであると特に好ましい。かようなアミノアルコールは、酸化ケイ素粒子と水溶性高分子とのネットワーク構造をより強固に形成しやすくなるため、低屈折率層塗布液の粘度の低下をさらに抑制しやすくなる。   From the above, the amino alcohol is more preferably a dihydric alcohol or a trihydric alcohol and having a primary amino group, more preferably a trihydric alcohol and having a primary amino group. It is particularly preferred that there is. Such an amino alcohol can more easily form a network structure between the silicon oxide particles and the water-soluble polymer, so that the viscosity of the coating solution for the low refractive index layer can be more easily suppressed from decreasing.

さらに、アミノアルコールの炭素数は特に制限されないが、立体障害が小さく、酸化ケイ素粒子の表面との相互作用が容易であるという観点から、12以下であると好ましく、1〜10であると好ましく、2〜8であるとより好ましく、2〜6であると特に好ましい。また、上記範囲であれば、アミノアルコールの添加に起因するヘイズの悪化も問題とならないという点でも好ましい。   Furthermore, the number of carbon atoms of the amino alcohol is not particularly limited, but is preferably 12 or less, more preferably 1 to 10, from the viewpoint that steric hindrance is small and interaction with the surface of the silicon oxide particles is easy. It is more preferably from 2 to 8, and particularly preferably from 2 to 6. Further, if the content is within the above range, it is also preferable that deterioration of haze caused by addition of amino alcohol does not pose a problem.

また、上記例示した化合物によって示されるように、アミノアルコールは、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよい。なかでも、酸化ケイ素粒子表面における立体障害をより小さくし、アミノアルコールと酸化ケイ素粒子の表面との相互作用を促進するという観点からは、アミノアルコールは、直鎖状または分岐鎖状であると好ましい。   Further, as shown by the compounds exemplified above, the amino alcohol may be linear, branched, or cyclic. Among them, from the viewpoint of reducing the steric hindrance on the surface of the silicon oxide particles and promoting the interaction between the amino alcohol and the surface of the silicon oxide particles, the amino alcohol is preferably linear or branched. .

よって以上より、低屈折率層に含まれるアミノアルコールとしては、得られる効果および入手容易性等を併せて考慮すると、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンからなる群から選択されると好ましく、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンからなる群カラン選択されるとより好ましく、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンであると特に好ましい。   Therefore, from the above, as the amino alcohol contained in the low refractive index layer, considering the effects obtained and the availability, the monoethanolamine, diethanolamine, N-ethylethanolamine, triethanolamine and tris (hydroxymethyl A) preferably selected from the group consisting of aminomethane, more preferably selected from the group consisting of monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and tris (hydroxymethyl) aminomethane, more preferably tris (hydroxymethyl) aminomethane Is particularly preferred.

<カチオンポリマー>
本発明に係る光学反射フィルムにおいて、低屈折率層は、水溶性高分子、酸化ケイ素粒子および上記アミノアルコールとともに、カチオンポリマーを含む。当該カチオンポリマーは、アニオン性である酸化ケイ素粒子の表面に吸着し、酸化ケイ素粒子のゼータ電位をプラスとし、カチオン性を帯びさせるように作用する。その結果、以下で詳説する高屈折率層との界面混合が抑制され、ヘイズを低減することができる。なお、低屈折率層同様、高屈折率層においてもカチオンポリマーを含むと好ましい。この場合、高低屈折率層に含まれるカチオンポリマーは、低屈折率層に含まれる樹脂と同じであっても、互いに異なるものであってもよい。
<Cationic polymer>
In the optical reflection film according to the present invention, the low refractive index layer contains a cationic polymer together with a water-soluble polymer, silicon oxide particles and the above-mentioned amino alcohol. The cationic polymer is adsorbed on the surface of the silicon oxide particles that are anionic, acts to make the zeta potential of the silicon oxide particles positive, and imparts cationicity. As a result, interfacial mixing with the high refractive index layer described in detail below is suppressed, and haze can be reduced. Note that, like the low refractive index layer, the high refractive index layer preferably contains a cationic polymer. In this case, the cationic polymer contained in the high and low refractive index layers may be the same as or different from the resin contained in the low refractive index layer.

本明細書中、カチオンポリマーはカチオンまたはカチオン性基を有するポリマーを意味する。また、「カチオン性基」とは、酸の存在下でカチオンに変換される基を指す。   In the present specification, the cationic polymer means a polymer having a cationic or cationic group. Further, “cationic group” refers to a group that is converted to a cation in the presence of an acid.

カチオンポリマーは、無機ポリマーであってもよいし、有機ポリマーであってもよい。   The cationic polymer may be an inorganic polymer or an organic polymer.

無機ポリマーとしては、加水分解重縮合が可能な金属塩化合物を、所謂ゾル・ゲル法によって、加水分解重縮合することで形成される金属酸化物からなる無機ポリマーが挙げられる。なかでも、ジルコニウム原子を含む化合物、またはアルミニウム原子を含む化合物等を用いて、これを、加水分解重縮合することで形成される無機ポリマーが好ましい。   Examples of the inorganic polymer include an inorganic polymer composed of a metal oxide formed by subjecting a metal salt compound capable of hydrolysis and polycondensation to hydrolysis and polycondensation by a so-called sol-gel method. Among them, an inorganic polymer formed by using a compound containing a zirconium atom, a compound containing an aluminum atom, or the like and subjecting it to hydrolysis and polycondensation is preferable.

これらの無機ポリマーは、加水分解の過程で生じるOH基が、重縮合反応後にも残るため、OH基の水素結合のネットワークを形成するため柔軟性が向上すると考えられる。   In these inorganic polymers, OH groups generated in the course of hydrolysis remain even after the polycondensation reaction, and thus it is considered that the OH groups form a hydrogen bonding network of the OH groups, thereby improving flexibility.

ジルコニウム原子を含む無機ポリマーの具体例としては、塩化ジルコニル、硝酸ジルコニル等が挙げられる。上記化合物の具体的商品名としては、第一稀元素化学工業製のジルコゾール(登録商標)ZC−2(塩化ジルコニル)、第一稀元素化学工業製のジルコゾール(登録商標)ZN(硝酸ジルコニル)等が挙げられる。   Specific examples of the inorganic polymer containing a zirconium atom include zirconyl chloride and zirconyl nitrate. Specific product names of the above compounds include Zircosol (registered trademark) ZC-2 (zirconyl chloride) manufactured by Daiichi Kagaku Kagaku Kogyo, and Zircosol (registered trademark) ZN (zirconyl nitrate) manufactured by Daiichi Kagaku Kagaku Kogyo. Is mentioned.

アルミニウム原子を含む無機ポリマーの具体例としては、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硫酸珪酸アルミニウム等が挙げられる。これらの中でも、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウムが好ましい。上記化合物の商品名としては、多木化学株式会社製のタキバイン(登録商標)#1500等が挙げられる。   Specific examples of the inorganic polymer containing an aluminum atom include basic aluminum chloride, basic aluminum sulfate, and basic aluminum sulfate silicate. Among these, basic aluminum chloride and basic aluminum sulfate are preferable. Examples of the trade name of the above compound include Takibain (registered trademark) # 1500 manufactured by Taki Kagaku Co., Ltd.

前記タキバイン(登録商標)#1500の構造式を下記に示す。   The structural formula of Takibaine (registered trademark) # 1500 is shown below.

ただし、s、t、uは1以上の整数を表す。   Here, s, t, and u represent an integer of 1 or more.

上記無機ポリマーは、1種単独で用いられてもよいし、2種以上が混合されて用いられてもよい。   The above-mentioned inorganic polymers may be used alone or in a combination of two or more.

本発明におけるカチオンポリマーは、有機ポリマーであることが好ましい。これは、無機ポリマーに比べ有機ポリマーは伸縮性に優れるため、屈折率を維持するために酸化ケイ素粒子を高充填した場合であっても、温度変化による層の膨張、収縮に追随しやすく、クラックが生じにくいためである。   The cationic polymer in the present invention is preferably an organic polymer. This is because organic polymers have better stretchability than inorganic polymers, so even if silicon oxide particles are highly filled to maintain the refractive index, they can easily follow the expansion and contraction of the layer due to temperature change, and crack This is because it is unlikely to occur.

有機ポリマーであるカチオンポリマーとしては、特に制限されないが、ビニルピロリドン・N,N−ジメチルアミノエチルメタクリル酸共重合体ジエチル硫酸塩、デンプン糖ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドエーテル、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリビニルピリジン、ポリエチレンイミン−エピクロルヒドリン反応物、ポリアミド−ポリアミン樹脂、ポリアミド−エピクロルヒドリン樹脂、キトサン類、カチオン化デンプン、ポリアミンスルフォン、ポリビニルイミダゾール、ポリアミジン、ジシアンアミドポリアルキレンポリアミン縮合物、ポリアルキレンポリアミンジシアンジアミドアンモニウム塩縮合物、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合物及び共重合物、ビニルピロリドン・ビニルイミダゾール共重合体、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド重合物及び共重合物、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート重合物及び共重合物、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルキルアンモニウムクロライド重合物及び共重合物、(メタ)アクリロイルオキシアルキルジアルキルベンジルアンモニウムクロライド重合物などが挙げられる。   Examples of the cationic polymer which is an organic polymer include, but are not particularly limited to, vinylpyrrolidone / N, N-dimethylaminoethyl methacrylic acid copolymer diethyl sulfate, starch sugar hydroxypropyltrimethylammonium chloride ether, polyethyleneimine, polyallylamine, and polyvinylamine , Polyvinylpyridine, polyethyleneimine-epichlorohydrin reactant, polyamide-polyamine resin, polyamide-epichlorohydrin resin, chitosans, cationized starch, polyaminesulfone, polyvinylimidazole, polyamidine, dicyanamide polyalkylenepolyamine condensate, polyalkylenepolyamine dicyandiamide ammonium Salt condensate, dicyandiamide formalin condensate, diallyldimethyl ammonium chloride Ride polymer and copolymer, vinylpyrrolidone / vinylimidazole copolymer, vinylbenzyltrimethylammonium chloride polymer and copolymer, dimethylaminoethyl (meth) acrylate polymer and copolymer, (meth) acryloyloxyalkyl tri Examples thereof include alkyl ammonium chloride polymers and copolymers, and (meth) acryloyloxyalkyldialkylbenzyl ammonium chloride polymers.

また、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第1級〜第3級アミノ基や第4級アンモニウム基をポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するカチオン変性ポリビニルアルコールを用いることもできる。カチオン変性ポリビニルアルコールは、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Further, for example, a cation-modified polyvinyl having a primary to tertiary amino group or quaternary ammonium group in the main chain or side chain of polyvinyl alcohol as described in JP-A-61-10483. Alcohol can also be used. The cation-modified polyvinyl alcohol is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、例えば、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer in the cation-modified polyvinyl alcohol is, for example, 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, based on vinyl acetate.

本発明におけるカチオンポリマーは、カチオン性基として、第1級から第3級アミノ基およびそのカチオン(塩)、ならびに第4級アンモニウム基からなる群から選択される少なくとも一種を含む有機アミン系ポリマーであると好ましい。これらのポリマーは、上記カチオン性基によって酸化ケイ素粒子の表面に比較的強く結合し、酸化ケイ素粒子の表面をカチオン性とすることができる。よって、高屈折率層にてカチオン性の金属酸化物粒子を含む場合、高屈折率層と低屈折率層との界面混合を抑制する効果が高まり、ヘイズの低減効果をより向上させることができる。なかでも、カチオンポリマーは、第3級アミノ基、第3級アミノ基のカチオン、および第4級アンモニウム基からなる群から選択される少なくとも一種のカチオン性基を含んでいると好ましい。これらのカチオン性基はカチオンが安定化して酸化ケイ素粒子表面に特異的に吸着しやすい。したがって、低屈折率層のカチオン性がより高まり、界面混合を抑制しやすくなる結果、よりヘイズを低減することができる。   The cationic polymer in the present invention is an organic amine polymer containing at least one selected from the group consisting of primary to tertiary amino groups and their cations (salts), and quaternary ammonium groups as cationic groups. It is preferred that there is. These polymers are relatively strongly bonded to the surface of the silicon oxide particles by the cationic group, and can make the surface of the silicon oxide particles cationic. Therefore, when the high refractive index layer contains cationic metal oxide particles, the effect of suppressing interfacial mixing between the high refractive index layer and the low refractive index layer is increased, and the effect of reducing haze can be further improved. . Especially, it is preferable that the cationic polymer contains at least one kind of cationic group selected from the group consisting of a tertiary amino group, a cation of a tertiary amino group, and a quaternary ammonium group. These cationic groups are stabilized by cations and are easily adsorbed specifically on the surface of the silicon oxide particles. Therefore, the cationicity of the low-refractive-index layer is further increased, and interface mixing is easily suppressed, so that haze can be further reduced.

例えば、有機アミン系ポリマーとして、ポリアリルアミンおよびその第4級化物、ポリアリルアミン塩酸塩(PAH)、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)、ポリビニルピリジン(PVP)、ポリリジン、ポリアクリルアミド、ポリピロール、ポリアニリン、ポリパラフェニレン(+)、ポリパラフェニレンビニレン、ポリエチレンイミンおよびそれらを少なくとも2種以上含む共重合体や塩の種類を変えたものなどを用いることができる。   For example, as organic amine polymers, polyallylamine and its quaternized products, polyallylamine hydrochloride (PAH), polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA), polyvinylpyridine (PVP), polylysine, polyacrylamide, polypyrrole, polyaniline, polyaniline Paraphenylene (+), polyparaphenylene vinylene, polyethyleneimine, and copolymers containing at least two or more of them and those having different kinds of salts can be used.

より具体的には、ポリアリルアミンアミド硫酸塩、アリルアミン塩酸塩とジアリルアミン塩酸塩との共重合体、アリルアミン塩酸塩とジメチルアリルアミン塩酸塩との共重合体、アリルアミン塩酸塩とその他の共重合体、部分メトキシカルボニル化アリルアミン重合体、部分メチルカルボニル化アリルアミン酢酸塩重合体、ジアリルアミン塩酸塩重合体、メチルジアリルアミン塩酸塩重合体、メチルジアリルアミンアミド硫酸塩重合体、メチルジアリルアミン酢酸塩重合体、ジアリルアミン塩酸塩と二酸化イオウの共重合体、ジアリルアミン酢酸塩と二酸化イオウとの共重合体、ジアリルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェイトと二酸化イオウとの共重合体、メチルジアリルアミン塩酸塩と二酸化イオウとの共重合体、ジアリルジメチルアンモニウムクロライドと二酸化イオウとの共重合体、ジアリルジメチルアンモニウムクロライドとアクリルアミドとの共重合体、ジアリルジメチルアンモニウムクロライドとジアリルアミン塩酸塩誘導体との共重合体、ジメチルアミンとエピクロロヒドリンとの共重合体、ジメチルアミンとエチレンジアミンとエピクロロヒドリンとの共重合体、ポリアミドポリアミンとエピクロロヒドリンとの共重合体等が挙げられる。   More specifically, polyallylamine amide sulfate, a copolymer of allylamine hydrochloride and diallylamine hydrochloride, a copolymer of allylamine hydrochloride and dimethylallylamine hydrochloride, an allylamine hydrochloride and other copolymer, partially Methoxycarbonylated allylamine polymer, partially methylcarbonylated allylamine acetate polymer, diallylamine hydrochloride polymer, methyldiallylamine hydrochloride polymer, methyldiallylamine amide sulfate polymer, methyldiallylamine acetate polymer, diallylamine hydrochloride and carbon dioxide Sulfur copolymer, copolymer of diallylamine acetate and sulfur dioxide, copolymer of diallylmethylethylammonium ethyl sulfate and sulfur dioxide, copolymer of methyldiallylamine hydrochloride and sulfur dioxide, diallyldimethyl Copolymer of ammonium chloride and sulfur dioxide, copolymer of diallyldimethylammonium chloride and acrylamide, copolymer of diallyldimethylammonium chloride and diallylamine hydrochloride derivative, copolymer of dimethylamine and epichlorohydrin And a copolymer of dimethylamine, ethylenediamine and epichlorohydrin, and a copolymer of polyamidepolyamine and epichlorohydrin.

上記有機ポリマーは、1種単独で用いられてもよいし、2種以上が混合されて用いられてもよい。   The organic polymer may be used alone or in a combination of two or more.

本発明においては、低屈折率層に2種以上のカチオンポリマーを用いることが好ましい。1種類のカチオンポリマーだけを用いる場合と比較して、酸化ケイ素粒子を微凝集させつつ、沈降させずに低屈折率層中に分散させることが可能になり、その結果、ヘイズの少ない光学反射フィルムが得られる。したがって、酸化ケイ素粒子の分散安定性を保つ効果の高いカチオンポリマーと、凝集性の高いカチオンポリマーとの2種類のカチオンポリマーを併用すると、本願発明の効果がより顕著に得られうる。例えば、カチオン性基として、第1級アミノ基、第2級アミノ基、第3級アミノ基またはこれらのカチオン(塩)を有するカチオンポリマー、特に第3級アミノ基、またはそのカチオン(塩)を有するカチオンポリマーは酸化ケイ素粒子の表面を効果的にカチオン化し、低屈折率層塗布液中の酸化ケイ素粒子の分散安定性を保つことに寄与する。そのため、低屈折率層中のカチオンポリマーは、カチオン性基として第3級アミノ基またはそのカチオン(塩)を有するカチオンポリマーを含むことが好ましい。一方、カチオン性基として、第4級アンモニウム基、第1級アミノ基、第2級アミノ基およびこれらのカチオン(塩)を有するカチオンポリマー、特に第4級アンモニウム基を有するカチオンポリマーは、酸化ケイ素粒子の微凝集を発生させ、酸化ケイ素粒子を保護する効果を有する。そのため、第4級アンモニウム基を有するカチオンポリマーをさらに用いることで、酸化ケイ素粒子を沈降させずに微凝集を起こすことが容易となり、本発明の効果がさらに顕著に得られうる。すなわち、本発明においては、カチオンポリマーとして、第3級アミノ基またはそのカチオン(塩)を有するカチオンポリマーと、第4級アンモニウム基を有するカチオンポリマーとを併用すると好ましい。   In the present invention, it is preferable to use two or more cationic polymers for the low refractive index layer. Compared to the case where only one kind of cationic polymer is used, it is possible to disperse the silicon oxide particles in the low-refractive-index layer without causing sedimentation while finely aggregating, and as a result, the optical reflection film with less haze Is obtained. Therefore, when two types of cationic polymers, that is, a cationic polymer having a high effect of maintaining the dispersion stability of silicon oxide particles and a cationic polymer having a high cohesiveness, are used in combination, the effect of the present invention can be more remarkably obtained. For example, as the cationic group, a cationic polymer having a primary amino group, a secondary amino group, a tertiary amino group or a cation (salt) thereof, particularly a tertiary amino group, or a cation (salt) thereof is used. The cationic polymer contained therein effectively cationizes the surface of the silicon oxide particles and contributes to maintaining the dispersion stability of the silicon oxide particles in the coating solution for the low refractive index layer. Therefore, the cationic polymer in the low refractive index layer preferably contains a cationic polymer having a tertiary amino group or a cation (salt) thereof as a cationic group. On the other hand, cationic polymers having a quaternary ammonium group, a primary amino group, a secondary amino group and a cation (salt) thereof, particularly a cationic polymer having a quaternary ammonium group as a cationic group include silicon oxide. It has the effect of causing fine aggregation of the particles and protecting the silicon oxide particles. Therefore, by further using a cationic polymer having a quaternary ammonium group, it becomes easy to cause micro-aggregation without sedimentation of the silicon oxide particles, and the effect of the present invention can be more remarkably obtained. That is, in the present invention, it is preferable to use a cationic polymer having a tertiary amino group or a cation (salt) thereof in combination with a cationic polymer having a quaternary ammonium group as the cationic polymer.

特に、メチルジアリルアミン塩酸塩重合体、メチルジアリルアミンアミド硫酸塩重合体、メチルジアリルアミン酢酸塩重合体などが第3級アミノ基またはそのカチオン(塩)を含むカチオンポリマーとして好適に用いられ、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体などが第4級アンモニウム基を含むカチオンポリマーとして好適に用いられうる。   In particular, a methyldiallylamine hydrochloride polymer, a methyldiallylamine amide sulfate polymer, a methyldiallylamine acetate polymer and the like are preferably used as a cationic polymer containing a tertiary amino group or a cation (salt) thereof, and diallyldimethylammonium chloride is used. Polymers and the like can be suitably used as the cationic polymer containing a quaternary ammonium group.

上記カチオンポリマーの含有量は、本発明の効果が発揮される限り特に制限されないが、カチオンポリマーの含有量が、低屈折率層中に含まれる酸化ケイ素粒子(複数種類の酸化ケイ素粒子を含む場合には、その合計質量)に対して、0.5〜20質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましく、2〜8質量%であることが特に好ましい。なお、複数の種類のカチオンポリマーを含む場合には、その合計が、上記範囲内であると好ましい。カチオンポリマーの含有量が低屈折率層中に含まれる酸化ケイ素粒子の総量に対して0.5質量%以上であれば、本発明の効果がより顕著に得られうる。一方、20質量%以下であれば、塗膜の物性へのカチオンポリマー由来の耐候性劣化がなく好適である。   The content of the cationic polymer is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exerted. However, the content of the cationic polymer is preferably set to a value of the silicon oxide particles contained in the low refractive index layer (including a plurality of types of silicon oxide particles). Is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, and particularly preferably 2 to 8% by mass. When a plurality of types of cationic polymers are included, the total is preferably within the above range. When the content of the cationic polymer is 0.5% by mass or more based on the total amount of the silicon oxide particles contained in the low refractive index layer, the effect of the present invention can be more remarkably obtained. On the other hand, when the content is 20% by mass or less, there is no deterioration in weather resistance due to the cationic polymer to the physical properties of the coating film, which is preferable.

上記カチオンポリマーの重量平均分子量は、特に制限されないが、例えば、10,000〜100,000であると好ましく、20,000〜50,000であるとより好ましく、20,000〜30,000であるとさらに好ましい。また、カチオンポリマーを二種以上用いる場合には、2種以上のカチオンポリマーのいずれもの重量平均分子量が10,000〜100,000であると好ましく、20,000〜50,000であるとより好ましく、20,000〜30,000であるとさらに好ましい。上記範囲であると、本発明の効果が特に顕著に得られうる。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によって測定した値を採用するものとする。   The weight average molecular weight of the cationic polymer is not particularly limited, but is preferably, for example, 10,000 to 100,000, more preferably 20,000 to 50,000, and 20,000 to 30,000. Is more preferable. When two or more cationic polymers are used, the weight average molecular weight of any of the two or more cationic polymers is preferably from 10,000 to 100,000, more preferably from 20,000 to 50,000. , 20,000 to 30,000. When the content is within the above range, the effects of the present invention can be obtained particularly remarkably. In the present specification, the value of the “weight average molecular weight” is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).

<酸化ケイ素粒子>
本発明の光学反射フィルムにおいて、低屈折率層は、酸化ケイ素(二酸化ケイ素)粒子を含む。具体的な例としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、コロイダルシリカゾル、特に酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層の酸化ケイ素粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特に酸化ケイ素(二酸化ケイ素)の中空微粒子が好ましい。低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子としては、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
<Silicon oxide particles>
In the optical reflection film of the present invention, the low refractive index layer contains silicon oxide (silicon dioxide) particles. Specific examples include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Among these, it is more preferable to use a colloidal silica sol, particularly an acidic colloidal silica sol, and it is particularly preferable to use a colloidal silica dispersed in an organic solvent. In order to further reduce the refractive index, hollow fine particles having voids inside the particles may be used as silicon oxide particles of the low refractive index layer, and hollow fine particles of silicon oxide (silicon dioxide) are particularly preferable. As the silicon oxide particles contained in the low refractive index layer, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子は、その平均粒径(個数平均;直径)が1〜100nmであることが好ましい。二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(一次平均粒径、塗布前の分散液状態での粒径)は、1〜50nmであることがより好ましく、1〜40nmであることがさらに好ましく、3〜20nmであることが特に好ましく、4〜10nmであることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The silicon oxide particles contained in the low refractive index layer preferably have an average particle size (number average; diameter) of 1 to 100 nm. The average particle size of the primary particles of silicon dioxide (primary average particle size, particle size in a dispersion before coating) is more preferably 1 to 50 nm, still more preferably 1 to 40 nm, and 3 to 3 nm. It is particularly preferably 20 nm, and most preferably 4 to 10 nm. The average particle size of the secondary particles is preferably 30 nm or less from the viewpoint of less haze and excellent visible light transmittance.

上記一次平均粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。透過型電子顕微鏡により求める場合、粒子の一次平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   The primary average particle diameter can be measured from an electron micrograph by a transmission electron microscope (TEM) or the like. It may be measured by a particle size distribution analyzer using a dynamic light scattering method, a static light scattering method, or the like. When determined by a transmission electron microscope, the primary average particle size of the particles is observed by an electron microscope on the particles themselves or particles that appear on the cross section or surface of the refractive index layer, and the particle size of 1,000 arbitrary particles is measured. It is obtained as its simple average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to its projected area.

本発明で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、および国際公開第94/26530号などに記載されているものである。   Colloidal silica used in the present invention is obtained by heating and aging a silica sol obtained by double decomposition of sodium silicate with an acid or the like and passing through an ion exchange resin layer, for example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284. JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142 And Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-179029, 7-137431, and WO 94/26530. It is.

このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックス(登録商標、以下同じ)シリーズ(スノーテックスOS、OXS、S、OS、20、30、40、O、N、C等)が挙げられる。   As such colloidal silica, a synthetic product or a commercially available product may be used. Commercially available products include Snowtex (registered trademark, the same applies hereinafter) series (Snowtex OS, OXS, S, OS, 20, 30, 40, O, N, C, etc.) sold by Nissan Chemical Industries, Ltd. No.

コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理されたものであってもよい。   Colloidal silica may have its surface cationically modified, or may have been treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

また、低屈折率層の酸化ケイ素粒子としては、上述のように、中空微粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、3〜70nmであると好ましく、5〜50nmであるとより好ましく、5〜45nmであるとさらに好ましい。なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低減される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに50個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、2本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。   As described above, hollow fine particles can be used as the silicon oxide particles of the low refractive index layer. When hollow fine particles are used, the average particle pore diameter is preferably from 3 to 70 nm, more preferably from 5 to 50 nm, and even more preferably from 5 to 45 nm. In addition, the average particle pore diameter of the hollow fine particles is an average value of the inner diameter of the hollow fine particles. When the average particle pore diameter of the hollow fine particles is in the above range, the refractive index of the low refractive index layer is sufficiently reduced. The average particle pore diameter is obtained by observing at least 50 pore diameters that can be observed as a circle, an ellipse, or a substantially circular ellipse by electron microscopy, calculating the pore diameter of each particle, and calculating the number average value. Is obtained. In addition, the average particle pore diameter means a minimum distance among distances in which an outer edge of a pore diameter observable as a circle, an ellipse, or a substantially circle or an ellipse is sandwiched between two parallel lines.

低屈折率層における酸化ケイ素粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、20〜90質量%であることが好ましく、30〜85質量%であることがより好ましく、40〜80質量%であることがさらに好ましい。20質量%以上であると、所望の屈折率が得られ90質量%以下であると塗布性が良好となり好ましい。なお、複数の種類の酸化ケイ素粒子を含む場合には、その合計が、上記範囲内であると好ましい。   The content of the silicon oxide particles in the low refractive index layer is preferably 20 to 90% by mass, more preferably 30 to 85% by mass, and more preferably 40 to 90% by mass based on the total solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is 80% by mass. When the content is 20% by mass or more, a desired refractive index is obtained, and when the content is 90% by mass or less, the coatability is improved, which is preferable. When a plurality of types of silicon oxide particles are included, the total is preferably within the above range.

<水溶性高分子>
本発明の光学反射フィルムにおいて、低屈折率層は、アミノアルコール、カチオンポリマーおよび酸化ケイ素粒子と共に、バインダーとしての水溶性高分子を含む。水溶性高分子は、溶剤として水を用いることができるため、後述の基材に対して腐食、溶解、浸透を起こさないという点で好ましい。また、水溶性高分子は、柔軟性が高いため、屈曲時の光学反射層の耐久性が向上するため好ましい。さらに、低屈折率層同様、高屈折率層においても水溶性高分子を含むと好ましい。なお、低屈折率層に含まれる水溶性高分子は、高屈折率層に含まれる水溶性高分子と同じであっても、互いに異なるものであってもよい。
<Water-soluble polymer>
In the optical reflection film of the present invention, the low refractive index layer contains a water-soluble polymer as a binder together with an amino alcohol, a cationic polymer and silicon oxide particles. Since water can be used as a solvent, the water-soluble polymer is preferable in that it does not corrode, dissolve, or penetrate into a substrate described later. Further, the water-soluble polymer is preferable because the flexibility is high and the durability of the optical reflection layer at the time of bending is improved. Further, like the low refractive index layer, the high refractive index layer preferably contains a water-soluble polymer. The water-soluble polymer contained in the low refractive index layer may be the same as or different from the water-soluble polymer contained in the high refractive index layer.

本発明において、水溶性高分子としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類などの合成水溶性高分子;ゼラチン、増粘多糖類などの天然水溶性高分子などが挙げられる。これらの中でも、酸化ケイ素粒子との相互作用の観点から、水溶性高分子は、ヒドロキシル基を有するものであると好ましい。なかでも、酸素透過性が低いという観点から、ポリビニルアルコール類を用いると好ましい。また、ポリビニルアルコール類は、屈折率層が光触媒作用を有する金属酸化物粒子をさらに含む場合には、その光触媒作用を抑制するという効果も得られる。これらの観点から、ポリビニルアルコール類は、高屈折率層および低屈折率層の両方において含まれていると好ましい。   In the present invention, examples of the water-soluble polymer include, but are not particularly limited to, synthetic water-soluble polymers such as polyvinyl alcohols and polyvinylpyrrolidones; and natural water-soluble polymers such as gelatin and thickening polysaccharides. Among these, from the viewpoint of interaction with silicon oxide particles, it is preferable that the water-soluble polymer has a hydroxyl group. Among them, polyvinyl alcohols are preferably used from the viewpoint of low oxygen permeability. In addition, when the refractive index layer further includes metal oxide particles having a photocatalytic action, the polyvinyl alcohol has an effect of suppressing the photocatalytic action. From these viewpoints, the polyvinyl alcohol is preferably contained in both the high refractive index layer and the low refractive index layer.

本発明において水溶性高分子として含まれるポリビニルアルコール類には、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン性基を有するノニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。   The polyvinyl alcohols contained as a water-soluble polymer in the present invention include, in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate, anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group such as a carboxyl group, and nonionic. Modified polyvinyl alcohols such as nonionic modified polyvinyl alcohol having a functional group and silyl modified polyvinyl alcohol having a silyl group are also included.

ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が200以上のものが好ましく用いられ、さらに、1,000以上のものが好ましく、平均重合度が1,500〜5,000のものがより好ましく、2,000〜5,000のものが特に好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が200以上であると塗布膜のひび割れがなく、5,000以下であると塗布液が安定するからである。なお、塗布液が安定するとは塗布液が経時的に安定することを意味する。以下、同様である。   Polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 200 or more, more preferably 1,000 or more, and has an average degree of polymerization of 1,500 to 5,000. Are more preferable, and 2,000 to 5,000 are particularly preferably used. When the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 200 or more, there is no crack in the coating film, and when the polymerization degree is 5,000 or less, the coating liquid is stabilized. In addition, that the coating liquid is stable means that the coating liquid is stabilized with time. Hereinafter, the same applies.

また、ケン化度は、70〜100%のものが好ましく、80〜99.5%のものが水への溶解性の点でより好ましい。   The saponification degree is preferably from 70 to 100%, and more preferably from 80 to 99.5% from the viewpoint of solubility in water.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報および同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基とを有するビニル化合物との共重合体および特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   The anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-2060888, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples of such a copolymer include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and a modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。   Examples of the nonion-modified polyvinyl alcohol include, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group is added to a part of vinyl alcohol as described in JP-A-7-9758, and JP-A-8-25795. Block copolymer of vinyl compound and vinyl alcohol having a hydrophobic group described, silanol-modified polyvinyl alcohol having a silanol group, reactive group modification having a reactive group such as an acetoacetyl group, a carbonyl group, and a carboxyl group Polyvinyl alcohol and the like.

これらポリビニルアルコール類は、単独でも、または重合度や変性の種類違いなどの2種以上を併用してもよい。また、ポリビニルアルコール類は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、PVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−135、PVA−203、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235等のポバール(登録商標、以上、株式会社クラレ製)、JC−25、JC−33、JC−40、JF−03、JF−04、JF−05、JP−03、JP−04JP−05、JP−45(以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)、RS−4104、RS−2117、RS−1117、RS−2817、RS−1717、RS−1113、RS−1713、HR−3010等のエクセバール(登録商標、以上、株式会社クラレ製)、ニチゴーGポリマー(登録商標、日本合成化学工業株式会社製)等が挙げられる。   These polyvinyl alcohols may be used alone or in combination of two or more kinds having different degrees of polymerization and types of modification. As the polyvinyl alcohol, a commercially available product or a synthetic product may be used. Examples of commercially available products include, for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA-135, PVA-203, PVA-205, PVA -210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, and PVA-235 (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JC-25, JC-33, JC-40, JF-03, JF -04, JF-05, JP-03, JP-04JP-05, JP-45 (all manufactured by Japan Vineyard Poval Co., Ltd.), RS-4104, RS-2117, RS-1117, RS-2817, RS Exeval (registered trademark, Kuraray Co., Ltd.) such as -1717, RS-1113, RS-1713, and HR-3010, and Nichigo G-Poly Over (registered trademark, manufactured by The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

屈折率層におけるポリビニルアルコールの含有量は、屈折率層の全固形分に対して、好ましくは3〜70質量%、より好ましくは5〜60質量%、さらに好ましくは10〜50質量%、特に好ましくは13〜45質量%である。なお、複数の種類のポリビニルアルコールを含む場合には、その合計が、上記範囲内であると好ましい。   The content of polyvinyl alcohol in the refractive index layer is preferably 3 to 70% by mass, more preferably 5 to 60% by mass, still more preferably 10 to 50% by mass, and particularly preferably, based on the total solid content of the refractive index layer. Is from 13 to 45% by mass. When a plurality of types of polyvinyl alcohols are included, the total is preferably within the above range.

<硬化剤>
本発明においては、低屈折率層および高屈折率層の形成には、硬化剤を用いてもよい。バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを用いた場合、その効果は特に発揮されうる。
<Curing agent>
In the present invention, a hardener may be used for forming the low refractive index layer and the high refractive index layer. When polyvinyl alcohol is used as the binder resin, the effect can be particularly exhibited.

ポリビニルアルコールと共に用いることのできる硬化剤としては、ポリビニルアルコールと硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、ホウ酸およびその塩が好ましい。ホウ酸またはその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。硬化剤としてのホウ酸およびホウ酸塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用してもよい。   The curing agent that can be used together with polyvinyl alcohol is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with polyvinyl alcohol, but boric acid and a salt thereof are preferable. Boric acid or a salt thereof refers to an oxygen acid or a salt thereof having a boron atom as a central atom, and specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, and octaboric acid. Acids and their salts. Boric acid and borate as a curing agent may be used alone or in a mixture of two or more.

硬化剤としては、上記ホウ酸およびその塩以外にも、公知のものを使用することができ、一般的にはポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5,−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬等が挙げられる。   As the curing agent, besides the above-mentioned boric acid and salts thereof, known ones can be used. Generally, a compound having a group capable of reacting with polyvinyl alcohol or a reaction between different groups of polyvinyl alcohol is used. It is a compound that promotes and is appropriately selected and used. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl- 4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc., aldehyde curing agents (formaldehyde, glyoxal, etc.), active halogen curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5) , -S-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.

各屈折率層が硬化剤を含む場合、上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール(複数のポリビニルアルコールを用いる場合には、その合計量)1g当たり10〜600mgが好ましく、20〜500mgがより好ましい。   When each refractive index layer contains a curing agent, the total amount of the curing agent used is preferably 10 to 600 mg, more preferably 20 to 500 mg per 1 g of polyvinyl alcohol (when a plurality of polyvinyl alcohols are used, the total amount). preferable.

<界面活性剤>
本発明に係る低屈折率層および高屈折率層には、塗布性の観点から界面活性剤を含有することが好ましい。
<Surfactant>
The low refractive index layer and the high refractive index layer according to the present invention preferably contain a surfactant from the viewpoint of applicability.

塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、両性界面活性剤がより好ましい。   Anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, and the like can be used as the surfactant used for adjusting the surface tension at the time of coating, but an amphoteric surfactant is more preferable.

本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤としては、アミドスルホベタイン型、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、イミダゾリウム型などがある。本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤の具体例を以下に示す。本発明ではスルホベタイン型、カルボキシベタイン型が塗布ムラの観点から好ましく、製品としてはソフタゾリン(登録商標、以下同じ)LSB−R、LSB、LMEB−R(以上、川研ファインケミカル株式会社製)、アンヒトール(登録商標)20HD(花王株式会社製)等が挙げられる。界面活性剤は、1種単独で用いられてもよいし、2種以上が混合されて用いられてもよい。   As the amphoteric surfactant preferably used in the present invention, there are amide sulfobetaine type, carboxybetaine type, sulfobetaine type, imidazolium type and the like. Specific examples of the amphoteric surfactant preferably used in the present invention are shown below. In the present invention, sulfobetaine type and carboxybetaine type are preferable from the viewpoint of coating unevenness. Examples of products include sofazoline (registered trademark, the same applies hereinafter) LSB-R, LSB, LMEB-R (all manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), Amphitol (Registered trademark) 20HD (manufactured by Kao Corporation). The surfactants may be used alone or as a mixture of two or more.

各屈折率層が界面活性剤を含む場合、屈折率層における界面活性剤の含有量は、屈折率層の全固形分に対して、0.001〜1質量%であることが好ましく、0.005〜0.80質量%であることがより好ましい。   When each refractive index layer contains a surfactant, the content of the surfactant in the refractive index layer is preferably 0.001 to 1% by mass relative to the total solid content of the refractive index layer. More preferably, it is 005 to 0.80% by mass.

<その他の樹脂>
低屈折率層は、上記水溶性高分子に加え、他の樹脂を含んでいてもよい。かような樹脂としては、例えば、水分散性疎水性樹脂が挙げられる。水分散性疎水性樹脂は、水系溶媒に分散された疎水性ポリマーが、光学反射フィルムの製造工程における屈折率層の成膜時に融着して形成される樹脂である。かような樹脂を含むことにより、融着して造膜されたときに疎水性の強い膜が得られる。そのため、大気中の水分量変化による膜の膨張、収縮を低減できるため、クラックの発生が防止できる。また、塗布膜が柔軟化し、大気中の水分量変化による膜の膨張、収縮の際に塗膜にかかる力が低減されうる。
<Other resins>
The low refractive index layer may contain another resin in addition to the water-soluble polymer. Examples of such a resin include a water-dispersible hydrophobic resin. The water-dispersible hydrophobic resin is a resin formed by fusing a hydrophobic polymer dispersed in an aqueous solvent at the time of forming a refractive index layer in a process of manufacturing an optical reflection film. By including such a resin, a film having high hydrophobicity can be obtained when the film is formed by fusion. Therefore, expansion and contraction of the film due to a change in the amount of water in the atmosphere can be reduced, so that cracks can be prevented. Further, the coating film becomes flexible, and the force applied to the coating film when the film expands or contracts due to a change in the amount of moisture in the atmosphere can be reduced.

前記水分散性疎水性樹脂は、エマルジョン樹脂でありうる。エマルジョン樹脂とは、水系媒体中に微細な、例えば、一次平均粒径が2.0μm以下の樹脂粒子がエマルジョン状態で分散されている樹脂であって、油溶性のモノマーを、高分子分散剤などの分散剤を用いてエマルジョン重合して得られる。エマルジョン樹脂の一次平均粒径は、動的光散乱法によって測定することができる。   The water-dispersible hydrophobic resin may be an emulsion resin. Emulsion resin is a resin in which fine resin particles having an average primary particle size of 2.0 μm or less are dispersed in an emulsion state in an aqueous medium, and an oil-soluble monomer is used as a polymer dispersant. And obtained by emulsion polymerization using a dispersant. The primary average particle size of the emulsion resin can be measured by a dynamic light scattering method.

用いられうる油溶性のモノマーは、特に制限されないが、エチレン、プロピレン、ブタジエン、酢酸ビニルおよびその部分加水分解物、ビニルエーテル、アクリル酸およびそのエステル類、メタクリル酸およびそのエステル類、アクリルアミドおよびその誘導体、メタクリルアミドおよびその誘導体、スチレン、ジビニルベンゼン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、マレイン酸、ビニルピロリドン、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート類、ポリイソシアネート類、ジオール類、ポリオール類、ジカルボン酸類などが挙げられる。   Oil-soluble monomers that can be used are not particularly limited, but ethylene, propylene, butadiene, vinyl acetate and its partial hydrolyzate, vinyl ether, acrylic acid and its esters, methacrylic acid and its esters, acrylamide and its derivatives, Methacrylamide and its derivatives, styrene, divinylbenzene, vinyl chloride, vinylidene chloride, maleic acid, vinylpyrrolidone, diisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate, polyisocyanates, diols, polyols, dicarboxylic acids and the like. Can be

また、用いられうる分散剤は、特に制限されないが、例えば、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジエチルアミン、エチレンジアミン、4級アンモニウム塩のような低分子の分散剤の他に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエキシエチレンラウリル酸エーテル、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドンのような高分子分散剤が挙げられる。   The dispersant that can be used is not particularly limited. For example, in addition to low-molecular dispersants such as alkyl sulfonates, alkylbenzene sulfonates, diethylamine, ethylenediamine, and quaternary ammonium salts, polyoxyethylene nonyl can be used. Polymer dispersants such as phenyl ether, polyethylene ethylene laurate ether, hydroxyethyl cellulose, and polyvinylpyrrolidone are exemplified.

上記のエマルジョン重合される樹脂(エマルジョン樹脂)としては、例えばアクリル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アクリル酸エステル樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin to be emulsion-polymerized (emulsion resin) include acrylic resin, styrene-butadiene resin, ethylene-vinyl acetate resin, urethane resin, phenol resin, and acrylate resin.

エマルジョン樹脂としては、市販されているものを用いてもよく、例えば、モビニール(登録商標)718A、710A、731A、LDM7582、5450、6960(以上、日本合成化学工業株式会社製)、スーパーフレックス(登録商標)150、170、300、500M、620、650(以上、第一工業製薬株式会社製)、アデカボンタイター(登録商標)HUX−232、HUX−380、HUX−386、HUX−830、HUX−895(以上、株式会社ADEKA製)、AE−116、AE−120A、AE−200A、AE−336B、AE−981A、AE−986B(以上、株式会社イーテック製)、ETERNACOLL(登録商標) UW−1005E、UW−5002、UW−5034E、UE−5502(以上、宇部興産株式会社製)、およびアクリット(登録商標)UW−309、UW−319SX、UW−520(以上、大成ファインケミカル株式会社製)などが挙げられる。   Commercially available emulsion resins may be used. For example, Movinyl (registered trademark) 718A, 710A, 731A, LDM7582, 5450, 6960 (all manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), Superflex (registered trademark) Trademarks) 150, 170, 300, 500M, 620, 650 (all manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Adecabon Titer (registered trademark) HUX-232, HUX-380, HUX-386, HUX-830, HUX- 895 (all manufactured by ADEKA Corporation), AE-116, AE-120A, AE-200A, AE-336B, AE-981A, AE-986B (all manufactured by E-Tech Co., Ltd.), ETERNACOLL (registered trademark) UW-1005E , UW-5002, UW-5034E, UE-550 (Manufactured by Ube Industries, Ltd.), and ACRIT (TM) UW-309, UW-319SX, UW-520 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.).

エマルジョン樹脂としては、アニオン性エマルジョン樹脂、カチオン性エマルジョン樹脂、ノニオン性エマルジョン樹脂のいずれも用いられうる。   As the emulsion resin, any of an anionic emulsion resin, a cationic emulsion resin, and a nonionic emulsion resin can be used.

エマルジョン樹脂の屈折率も特に制限されないが、1.3〜1.7であることが好ましく、1.4〜1.6であることがより好ましい。上記範囲であれば、水溶性樹脂の屈折率に近くなるため、得られる光学反射フィルムのヘイズが低減されうる。   Although the refractive index of the emulsion resin is not particularly limited, it is preferably from 1.3 to 1.7, and more preferably from 1.4 to 1.6. Within the above range, the refractive index of the water-soluble resin is close to that of the water-soluble resin, so that the haze of the obtained optical reflection film can be reduced.

上記水分散性疎水性樹脂は、1種単独で用いられてもよいし、2種以上が混合されて用いられてもよい。   The water-dispersible hydrophobic resin may be used singly or as a mixture of two or more.

屈折率層において上記水分散性疎水性樹脂を含む場合、水分散性疎水性樹脂の含有量は、屈折率層の全固形分に対して、好ましくは1〜30質量%、より好ましくは3〜20質量%、特に好ましくは5〜10質量%である。なお、複数の種類の水分散性疎水性樹脂を含む場合には、その合計が、上記範囲内であると好ましい。   When the water-dispersible hydrophobic resin is contained in the refractive index layer, the content of the water-dispersible hydrophobic resin is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 30% by mass based on the total solid content of the refractive index layer. It is 20% by mass, particularly preferably 5 to 10% by mass. When a plurality of types of water-dispersible hydrophobic resins are included, the total is preferably within the above range.

<その他の添加剤>
本発明に係る低屈折率層および高屈折率層には、例えば、特開昭57−74193号公報、同57−87988号公報及び同62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号公報、同57−87989号公報、同60−72785号公報、同61−146591号公報、特開平1−95091号公報および同3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭59−42993号公報、同59−52689号公報、同62−280069号公報、同61−242871号公報および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。
<Other additives>
The low refractive index layer and the high refractive index layer according to the present invention include, for example, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988 and JP-A-62-261476; JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1-95091 and JP-A-3-13376, etc. Fluorescent brighteners described in JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-242871 and JP-A-4-219266. PH adjusters such as phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, defoamers, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, Antistatic agents, may contain various known additives such as a matting agent.

≪高屈折率層≫
高屈折率層は、上記低屈折率層よりも屈折率が高い層であれば特に限定されない。本発明において、高屈折率層は、高屈折率層塗布液の塗布によって形成されると好ましい。高屈折率層塗布液は上記の水溶性高分子のみで構成されても良いが、屈折率の観点から金属酸化物粒子を含むことが好ましい。また、金属酸化物粒子を含むことにより、高屈折率層をカチオン性とすることができ、低屈折率層中に含まれるカチオンポリマーとの電気的な反発を利用して、界面混合を抑制することができる。その結果、ヘイズを効果的に抑制できるという効果も奏される。
≪High refractive index layer≫
The high refractive index layer is not particularly limited as long as it has a higher refractive index than the low refractive index layer. In the present invention, the high refractive index layer is preferably formed by applying a high refractive index layer coating solution. The coating solution for the high refractive index layer may be composed of only the above water-soluble polymer, but preferably contains metal oxide particles from the viewpoint of the refractive index. In addition, by including metal oxide particles, the high refractive index layer can be made cationic, and interfacial mixing is suppressed by utilizing electric repulsion with the cationic polymer contained in the low refractive index layer. be able to. As a result, there is an effect that haze can be effectively suppressed.

<高屈折率層中に含まれる金属酸化物粒子>
高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛粒子、アルミナ粒子、コロイダルアルミナ、酸化ニオブ粒子、酸化ユーロピウム粒子、ジルコン粒子等の高屈折率金属酸化物粒子を挙げることができる。屈折率を調整するために、金属酸化物粒子は1種であっても2種以上を併用してもよい。
<Metal oxide particles contained in high refractive index layer>
Examples of the metal oxide particles used in the high refractive index layer include high refractive index metals such as titanium oxide particles, zirconium oxide particles, zinc oxide particles, alumina particles, colloidal alumina, niobium oxide particles, europium oxide particles, and zircon particles. Oxide particles can be mentioned. In order to adjust the refractive index, the metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.

高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の大きさは、特に制限されるものではないが、体積平均粒径または一次平均粒径により規定することができる。高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の体積平均粒径は、100nm以下であると好ましく、1〜100nmであるとより好ましく、2〜50nmであるとさらに好ましい。また、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の一次平均粒径は、100nm以下であることが好ましく、1〜100nmであることがより好ましく、2〜50nmであることがさらに好ましい。体積平均粒径または一次平均粒径が上記範囲であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The size of the metal oxide particles contained in the high refractive index layer is not particularly limited, but can be defined by a volume average particle diameter or a primary average particle diameter. The volume average particle diameter of the metal oxide particles contained in the high refractive index layer is preferably 100 nm or less, more preferably 1 to 100 nm, and even more preferably 2 to 50 nm. Further, the primary average particle diameter of the metal oxide particles contained in the high refractive index layer is preferably 100 nm or less, more preferably 1 to 100 nm, and further preferably 2 to 50 nm. When the volume average particle diameter or the primary average particle diameter is in the above range, it is preferable from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance.

なお、本明細書でいう体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。   The volume average particle size referred to in the present specification is a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer. The size of 1,000 arbitrary particles is measured by a method of observing an image with an electron microscope, and particles having a particle size of d1, d2... Di ... dk are respectively n1, n2. · Ni ... In the group of nk particles, assuming that the volume per particle is vi, the volume average particle diameter is expressed as mv = {(vi · di)} / {(vi)}. The average particle size weighted by the volume to be calculated is calculated.

また、一次平均粒径は、上述の<酸化ケイ素粒子>の項において説明した一次平均粒子の測定方法により求めることができる。   The primary average particle diameter can be determined by the primary average particle measurement method described in the section of <Silicon oxide particles> above.

高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の全固形分に対して、15〜95質量%であると好ましく、20〜90質量%であるとより好ましく、30〜90質量%であると特に好ましい。なお、複数の種類の金属酸化物粒子を含む場合には、その合計が、上記範囲内であると好ましい。   The content of the metal oxide particles in the high refractive index layer is preferably 15 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass based on the total solid content of the high refractive index layer. Particularly preferred is 90% by mass. When a plurality of types of metal oxide particles are included, the total is preferably within the above range.

透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層は、高屈折率を有する酸化チタン粒子または酸化ジルコニウム粒子を含むことが好ましく、酸化ジルコニウム粒子を含むことが特に好ましい。酸化ジルコニウム粒子を含む高屈折率層は、透明でより高い屈折率を発現することができる。また、光触媒活性が低いことから、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐光性、耐候性が高くなる。なお、本発明において、酸化ジルコニウムとは二酸化ジルコニウム(ZrO)を意味する。 In order to form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, the high refractive index layer preferably contains titanium oxide particles or zirconium oxide particles having a high refractive index, and particularly preferably contains zirconium oxide particles. . The high refractive index layer containing zirconium oxide particles is transparent and can exhibit a higher refractive index. Further, since the photocatalytic activity is low, the light resistance and weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent low refractive index layer are increased. In the present invention, zirconium oxide means zirconium dioxide (ZrO 2 ).

上記酸化ジルコニウム粒子は、立方晶でも正方晶であってもよく、また、それらの混合物であってもよい。   The zirconium oxide particles may be cubic or tetragonal, or may be a mixture thereof.

また、酸化ジルコニウム粒子としては、水系の酸化ジルコニウムゾルの表面を変性して有機溶剤等に分散可能な状態にしたものを用いてもよい。   As the zirconium oxide particles, those obtained by modifying the surface of an aqueous zirconium oxide sol so as to be dispersible in an organic solvent or the like may be used.

酸化ジルコニウム粒子またはその分散液の調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、特開2014−80361号公報に記載されるように、ジルコニウム塩を水中にてアルカリと反応させて、酸化ジルコニウム粒子のスラリーを調製し、有機酸を加えて水熱処理する方法が用いられうる。   As a method for preparing the zirconium oxide particles or a dispersion thereof, any conventionally known method can be used. For example, as described in JP-A-2014-80361, a method of reacting a zirconium salt with an alkali in water to prepare a slurry of zirconium oxide particles, adding an organic acid, and performing a hydrothermal treatment can be used. .

酸化ジルコニウム粒子は、市販のものを使用してもよく、例えば、SZR−W、SZR−CW、SZR−M、およびSZR−K等(以上、堺化学工業株式会社製)を好適に使用することができる。   Commercially available zirconium oxide particles may be used. For example, SZR-W, SZR-CW, SZR-M, SZR-K, and the like (all manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) are preferably used. Can be.

さらに、本発明で用いられる酸化ジルコニウム粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が40%以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは30%以下であり、特に好ましくは0.1〜20%である。   Further, the zirconium oxide particles used in the present invention are preferably monodispersed. Here, the monodispersion means that the degree of monodispersion determined by the following formula is 40% or less. This monodispersity is more preferably 30% or less, particularly preferably 0.1 to 20%.

高屈折率層における酸化ジルコニウム粒子の含有量としては、特に制限されないが、高屈折率層の全固形分に対して、15〜95質量%であると好ましく、20〜90質量%であるとより好ましく、30〜90質量%であると特に好ましい。上記範囲とすることで、光学反射特性の良好なものとできる。   The content of the zirconium oxide particles in the high refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 15 to 95% by mass, and more preferably 20 to 90% by mass based on the total solid content of the high refractive index layer. It is particularly preferably 30 to 90% by mass. By setting the content in the above range, the optical reflection characteristics can be improved.

本発明に係る光学反射フィルムにおいて、さらに、屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層には、酸化ジルコニウム粒子に加え、酸化チタン粒子等の高屈折率金属酸化物微粒子を含有していてもよい。高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子の総量(酸化ジルコニウム粒子と上記酸化ジルコニウム以外の高屈折率金属酸化物微粒子との合計量)に対して、酸化ジルコニウム粒子の含有量は80〜100質量%であることが好ましく、90〜100質量%であることが好ましく、100質量%であることがさらに好ましい。   In the optical reflection film according to the present invention, in order to further form a high refractive index layer having a high refractive index, the high refractive index layer includes, in addition to zirconium oxide particles, high refractive index metal oxide fine particles such as titanium oxide particles. May be contained. The content of the zirconium oxide particles is 80 to 100 mass with respect to the total amount of the metal oxide particles used in the high refractive index layer (the total amount of the zirconium oxide particles and the high refractive index metal oxide fine particles other than the zirconium oxide). %, Preferably 90 to 100% by mass, and more preferably 100% by mass.

≪基材≫
本発明に係る光学反射フィルムは、上記高屈折率層および低屈折率層を支持するための基材を含む。光学反射フィルムの基材としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。
≪Substrate≫
The optical reflection film according to the present invention includes a substrate for supporting the high refractive index layer and the low refractive index layer. Various resin films can be used as the base material of the optical reflection film, and polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose triacetate And the like, and a polyester film is preferable. The polyester film (hereinafter, referred to as polyester) is not particularly limited, but is preferably a film-forming polyester having a dicarboxylic acid component and a diol component as main components.

本発明に用いられる基材の厚みは、10〜300μm、特に20〜150μmであることが好ましい。また、基材は、2枚重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。   The thickness of the substrate used in the present invention is preferably from 10 to 300 μm, particularly preferably from 20 to 150 μm. In addition, two substrates may be stacked, and in this case, the types may be the same or different.

基材は、JIS R3106(1998)で示される可視光領域の透過率が85%以上であることが好ましく、特に90%以上であることが好ましい。基材が上記透過率以上であることにより、赤外遮蔽フィルムとしたときのJIS R3106(1998)で示される可視光領域の透過率を50%以上(上限:100%)にするという点で有利であり、好ましい。   The base material preferably has a transmittance in the visible light region of 85% or more, and particularly preferably 90% or more, according to JIS R3106 (1998). When the base material has the above transmittance, the transmittance in the visible light region indicated by JIS R3106 (1998) when the infrared shielding film is formed is 50% or more (upper limit: 100%). Is preferred.

また、上記樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。   Further, the substrate using the above resin or the like may be an unstretched film or a stretched film. Stretched films are preferred from the viewpoint of improving strength and suppressing thermal expansion.

基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ(縦軸)方向、または基材の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。   The substrate can be manufactured by a conventionally known general method. For example, a resin as a material is melted by an extruder, extruded by an annular die or a T die, and quenched, whereby a substantially amorphous, unoriented, unstretched substrate can be produced. In addition, the unstretched base material is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, or the like, in the flow direction (vertical axis) of the base material, or A stretched base material can be manufactured by stretching in a direction (horizontal axis) perpendicular to the flow direction of the base material.

また、基材は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理された基材は、オフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。   Further, the substrate may be subjected to a relaxation treatment or an off-line heat treatment in view of dimensional stability. It is preferable that the relaxation treatment is performed in a process from heat fixing in the stretching film forming process of the polyester film, in a transverse stretching tenter, or winding up after leaving the tenter. The substrate subjected to the relaxation treatment is subjected to off-line heat treatment so that the heat resistance is improved and the dimensional stability is further improved.

基材は、製膜過程で片面または両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。なお、製膜工程中での下引塗布をインライン下引という。下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂(ポリビニルアルコール)、変性ポリビニルアルコール樹脂(変性ポリビニルアルコール)およびゼラチン等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。これらの下引層には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。   The base material is preferably coated with the undercoat layer coating solution in-line on one or both sides during the film formation process. In addition, the undercoating application during the film forming process is called in-line undercoating. As the resin used for the undercoat layer coating solution, polyester resin, acrylic-modified polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin, vinyl resin, vinylidene chloride resin, polyethyleneimine vinylidene resin, polyethyleneimine resin, polyvinyl alcohol resin (polyvinyl alcohol), Modified polyvinyl alcohol resin (modified polyvinyl alcohol), gelatin and the like can be mentioned, and any of them can be preferably used. Conventionally known additives can be added to these undercoat layers. The undercoat layer can be coated by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating and the like.

なお、上記の基材には、添加剤として、例えば安定剤、界面活性剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色剤、色素、接着調整剤等を含有させることもできる。   In the above-mentioned base material, additives such as stabilizers, surfactants, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, flame retardants, antistatic agents, antioxidants, heat stabilizers, lubricants, fillers, coloring Agents, pigments, adhesion regulators, and the like.

〔光学反射フィルムの製造方法〕
本発明の光学反射フィルムの製造方法は、基材上に、上記低屈折率層と高屈折率層とから構成されるユニットを少なくとも1つ形成することができるものであれば、いかなる方法でも用いられうる。
(Production method of optical reflection film)
The method for producing an optical reflection film of the present invention uses any method as long as at least one unit composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer can be formed on a substrate. Can be

本発明の光学反射フィルムの製造方法では、基材上に低屈折率層と高屈折率層とから構成されるユニットを積層して形成される。   In the method for producing an optical reflection film of the present invention, the optical reflection film is formed by laminating a unit composed of a low refractive index layer and a high refractive index layer on a substrate.

具体的には低屈折率層と高屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。具体的には以下の形態が挙げられる;(1)基材上に、高屈折率層塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成し、光学反射フィルムを形成する方法;(2)基材上に、低屈折率層塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成し、光学反射フィルムを形成する方法;(3)基材上に、高屈折率層塗布液と、低屈折率層塗布液とを交互に逐次重層塗布した後乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法;(4)基材上に、高屈折率層塗布液と、低屈折率層塗布液とを同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法;などが挙げられる。なかでも、より簡便な製造プロセスとなる上記(4)の方法が好ましい。すなわち、本発明の光学反射フィルムの製造方法は、同時重層塗布法により前記高屈折率層と前記低屈折率層とを積層することを含むことが好ましい。   Specifically, it is preferable that a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately applied and dried to form a laminate. Specific examples include the following forms: (1) A coating liquid for a high refractive index layer is applied on a substrate and dried to form a high refractive index layer, and then a coating liquid for a low refractive index layer is applied and dried. Forming a low refractive index layer and forming an optical reflection film; (2) coating a low refractive index layer coating solution on a substrate and drying to form a low refractive index layer; A method of forming a high refractive index layer by applying and drying a layer coating liquid to form an optical reflection film; (3) alternately applying a high refractive index layer coating liquid and a low refractive index layer coating liquid on a substrate. A method of forming an optical reflection film including a high refractive index layer and a low refractive index layer by successively applying a multi-layer and drying the coating; and (4) a coating liquid for a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate. A method of simultaneously coating with a coating solution and drying to form an optical reflection film including a high refractive index layer and a low refractive index layer; and the like.Among them, the method (4), which is a simpler manufacturing process, is preferable. That is, the method for producing an optical reflection film of the present invention preferably includes laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer by a simultaneous multilayer coating method.

本発明においては、低屈折率層を形成するため、低屈折率層塗布液が、上記水溶性高分子と、酸化ケイ素粒子と、カチオンポリマーと、カルボキシル基を含まないアミノアルコールとを含む。したがって、光学反射フィルムの製造方法は、基材上に低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射フィルムの製造方法であって、水溶性高分子と、酸化ケイ素粒子と、カチオンポリマーと、カルボキシル基を含まないアミノアルコールとを添加して調製した塗布液を塗布することを含む。   In the present invention, in order to form a low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating solution contains the water-soluble polymer, silicon oxide particles, a cationic polymer, and an amino alcohol containing no carboxyl group. Therefore, the method for producing an optical reflection film is a method for producing an optical reflection film including at least one unit in which a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer are laminated on a substrate, wherein the water-soluble polymer and the oxidized The method includes applying a coating liquid prepared by adding silicon particles, a cationic polymer, and an amino alcohol containing no carboxyl group.

また、塗布液調製時、アミノアルコールは、固体の形態で添加されてもよいし、溶液の形態で添加されてもよい。なお、アミノアルコールは、上述したため、ここでは詳細な説明を省略する。   In preparing the coating solution, the amino alcohol may be added in a solid form or in a solution form. In addition, since the amino alcohol has been described above, the detailed description is omitted here.

塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   Examples of the coating method include a roll coating method, a rod bar coating method, an air knife coating method, a spray coating method, a curtain coating method, and the methods described in U.S. Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791. A slide bead coating method using a hopper, an extrusion coating method, and the like are preferably used.

高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。本発明においては、低屈折率層および高屈折率層の両方において水溶性高分子を用いることが好ましいが、このように、水溶性高分子を用いることにより、水系溶媒による塗布が可能となる。さらに、本発明では、ヘイズの低減のため、カチオンポリマーを低屈折率層塗布液に添加するが、カチオンポリマーもまた、水溶性の高いものを用いると好ましい。ただし、本発明において、カチオンポリマーは、上述のようなカチオンまたはカチオン性基を有している一方、本発明における水溶性ポリマーはカチオンまたはカチオン性基を有していない点で、これらのポリマー(高分子)は互いに区別される。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。   The solvent for preparing the coating liquid for the high refractive index layer and the coating liquid for the low refractive index layer is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. In the present invention, it is preferable to use a water-soluble polymer in both the low-refractive-index layer and the high-refractive-index layer. However, by using the water-soluble polymer, coating with an aqueous solvent becomes possible. Further, in the present invention, a cationic polymer is added to the coating solution for the low refractive index layer in order to reduce the haze, but it is preferable to use a cationic polymer having high water solubility. However, in the present invention, the cationic polymer has a cation or a cationic group as described above, whereas the water-soluble polymer in the present invention does not have a cation or a cationic group. Macromolecules) are distinguished from each other. The aqueous solvent does not require large-scale production equipment as compared with the case where an organic solvent is used, and is therefore preferable in terms of productivity and environmental protection.

塗布液の調製時に有機溶媒を用いる場合、有機溶媒としては、特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。   When using an organic solvent at the time of preparing the coating liquid, the organic solvent is not particularly limited, for example, alcohols such as methanol, ethanol, ethyl acetate, butyl acetate, esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl ether, Ethers such as propylene glycol monomethyl ether; amides such as dimethylformamide; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水系溶媒が好ましく、水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。   From the viewpoint of environment, simplicity of operation, and the like, the solvent of the coating solution is preferably an aqueous solvent, more preferably water, or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and particularly preferably water.

水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を100質量%として、80〜99.9質量%であることが好ましく、85〜99.5質量%であることがより好ましい。ここで、80質量%以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、99.9質量%以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。   When using a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent, the content of water in the mixed solvent is preferably 80 to 99.9% by mass, based on 100% by mass of the whole mixed solvent, and 85 to 99% by mass. More preferably, it is 0.5% by mass. Here, when the content is 80% by mass or more, the volume fluctuation due to the volatilization of the solvent can be reduced, and the handling is improved. When the content is 99.9% by mass or less, the homogeneity at the time of adding the liquid is increased, and the stability is improved. This is because the obtained liquid properties can be obtained.

低屈折率層塗布液中の水溶性高分子の濃度(複数種類の水溶性高分子を用いる場合は、その合計濃度)は、0.5〜10質量%であることが好ましい。また、低屈折率層塗布液中の酸化ケイ素粒子の濃度(複数種類の酸化ケイ素粒子を用いる場合は、その合計濃度)は、1〜50質量%であることが好ましい。また、低屈折率層塗布液中のカチオンポリマーの含有量は、カチオンポリマーが、酸化ケイ素粒子の合計質量に対して、上述した好ましい範囲内となるように調整されると好ましい。さらに、低屈折率層塗布液中のアミノアルコールの含有量は、アミノアルコールが、酸化ケイ素粒子の合計質量に対して、上述した好ましい範囲内となるように調整されると好ましい。   The concentration of the water-soluble polymer in the coating liquid for the low refractive index layer (when a plurality of types of water-soluble polymers are used, the total concentration thereof) is preferably 0.5 to 10% by mass. Further, the concentration of silicon oxide particles in the coating solution for the low refractive index layer (when a plurality of types of silicon oxide particles are used, the total concentration thereof) is preferably 1 to 50% by mass. In addition, the content of the cationic polymer in the coating solution for the low refractive index layer is preferably adjusted so that the cationic polymer is in the above-described preferable range with respect to the total mass of the silicon oxide particles. Furthermore, it is preferable that the content of the amino alcohol in the coating solution for the low refractive index layer is adjusted so that the amino alcohol is within the above-described preferable range with respect to the total mass of the silicon oxide particles.

高屈折率層塗布液中の水溶性高分子の濃度(複数種類の水溶性高分子を用いる場合は、その合計濃度)は、0.5〜10質量%であることが好ましい。また、高屈折率層塗布液中の金属酸化物粒子の濃度(複数種類の金属酸化物粒子を用いる場合は、その合計濃度)は、1〜50質量%であることが好ましい。   The concentration of the water-soluble polymer in the coating solution for the high refractive index layer (when a plurality of types of water-soluble polymers are used, the total concentration thereof) is preferably 0.5 to 10% by mass. Further, the concentration of the metal oxide particles in the coating liquid for the high refractive index layer (when a plurality of types of metal oxide particles are used, the total concentration thereof) is preferably 1 to 50% by mass.

低屈折率層塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、水溶性高分子、酸化ケイ素粒子、カチオンポリマーおよびアミノアルコール、さらに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。   The method for preparing the low refractive index layer coating solution is not particularly limited. For example, a water-soluble polymer, silicon oxide particles, a cationic polymer, an amino alcohol, and other additives that are added as necessary are added, and the mixture is stirred. A method of mixing is used. At this time, the order of addition of each component is not particularly limited, and each component may be sequentially added and mixed with stirring, or may be added and mixed at once with stirring.

高屈折率層塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、水溶性高分子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子、さらに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。   The method for preparing the coating solution for the high refractive index layer is not particularly limited. For example, a water-soluble polymer, metal oxide particles such as zirconium oxide particles, and other additives that are added as needed, are added, and stirred. A method of mixing is used. At this time, the order of addition of each component is not particularly limited, and each component may be sequentially added and mixed with stirring, or may be added and mixed at once with stirring.

また、上述のように、本発明の好ましい形態として、高屈折率層および低屈折率層において、水溶性高分子としてのポリビニルアルコールを含む形態が挙げられる。この場合、同時重層塗布を行う場合は高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液に用いるポリビニルアルコールの鹸化度が異なることが好ましい。鹸化度が異なることによって塗布、乾燥工程の各工程において層の混合を抑制することができる。この仕組みはいまだ明らかではないが、鹸化度差に由来する表面張力差によって混合が抑制されていると考えられる。本発明においては高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液とに用いるポリビニルアルコールの鹸化度の差は3モル%以上が好ましく、8モル%以上がより好ましい。すなわち、高屈折率層の鹸化度と低屈折率層の鹸化度との差が3モル%以上であることが好ましく、8モル%以上であることがより好ましい。高屈折率層の鹸化度と低屈折率層の鹸化度との差の上限は、高屈折率層と低屈折率層との層間混合の抑制/防止効果を考慮すると、高いほど好ましいため、特に制限されないが、20モル%以下であることが好ましく、15モル%以下であることがより好ましい。   Further, as described above, a preferred embodiment of the present invention includes an embodiment in which the high refractive index layer and the low refractive index layer contain polyvinyl alcohol as a water-soluble polymer. In this case, when performing simultaneous multi-layer coating, it is preferable that the polyvinyl alcohol used for the high refractive index layer coating liquid and the low refractive index layer coating liquid have different degrees of saponification. Due to the difference in the degree of saponification, mixing of layers in each of the coating and drying steps can be suppressed. Although this mechanism is not yet clear, it is considered that the mixing is suppressed by the difference in surface tension resulting from the difference in the degree of saponification. In the present invention, the difference in the degree of saponification of polyvinyl alcohol used for the coating liquid for the high refractive index layer and the coating liquid for the low refractive index layer is preferably 3 mol% or more, more preferably 8 mol% or more. That is, the difference between the degree of saponification of the high refractive index layer and the degree of saponification of the low refractive index layer is preferably at least 3 mol%, more preferably at least 8 mol%. The upper limit of the difference between the degree of saponification of the high-refractive index layer and the degree of saponification of the low-refractive index layer is preferably higher in consideration of the effect of suppressing / preventing interlayer mixing between the high-refractive index layer and the low-refractive index layer. Although not limited, it is preferably at most 20 mol%, more preferably at most 15 mol%.

各屈折率層中で鹸化度の相違を比較する際、各屈折率層が(鹸化度および重合度が異なる)複数のポリビニルアルコールを含む場合には、屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールを比較する。ここで、「屈折率層中で最も含有量が高いポリビニルアルコール」という際には、鹸化度の差が3モル%以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。具体的には、鹸化度が90モル%、鹸化度が91モル%、鹸化度が93モル%のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ10質量%、40質量%、50質量%含まれる場合には、これら3つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら3つの混合物の鹸化度は、(90×0.1+91×0.4+93×0.5)/1=91.9モル%となる。また、上記「鹸化度の差が3モル%以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に3モル%以内であれば足り、例えば、90、91、92、94モル%のビニルアルコールを含む場合には、91モル%のビニルアルコールに着目した場合にいずれのポリビニルアルコールも3モル%以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。   When comparing the difference in the degree of saponification in each refractive index layer, when each refractive index layer contains a plurality of polyvinyl alcohols (having different degrees of saponification and polymerization), the polyvinyl alcohol having the highest content in the refractive index layer is used. Compare alcohol. Here, in the case of “polyvinyl alcohol having the highest content in the refractive index layer”, the degree of polymerization is calculated on the assumption that polyvinyl alcohols having a difference in saponification degree of 3 mol% or less are the same polyvinyl alcohol. Specifically, when polyvinyl alcohol having a saponification degree of 90 mol%, a saponification degree of 91 mol%, and a saponification degree of 93 mol% is contained in the same layer at 10% by mass, 40% by mass, and 50% by mass, respectively. These three polyvinyl alcohols are the same polyvinyl alcohol, and the degree of saponification of these three mixtures is (90 × 0.1 + 91 × 0.4 + 93 × 0.5) /1=91.9 mol%. The term “polyvinyl alcohol having a difference in the degree of saponification of 3 mol% or less” is sufficient if it is within 3 mol% when focusing on any polyvinyl alcohol, for example, 90, 91, 92, 94 mol%. When the vinyl alcohol of the formula (1) contains 91 mol% of vinyl alcohol, all polyvinyl alcohols are within 3 mol%, so that the same polyvinyl alcohol is obtained.

同一層内に鹸化度が3モル%以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度と鹸化度を算出する。   When the same layer contains polyvinyl alcohols having different degrees of saponification of 3 mol% or more, it is regarded as a mixture of different polyvinyl alcohols, and the degree of polymerization and the degree of saponification are calculated for each.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。   The temperature of the high-refractive-index layer coating solution and the low-refractive-index layer coating solution during simultaneous multilayer coating is preferably in the range of 25 to 60 ° C, and in the range of 30 to 45 ° C when the slide bead coating method is used. Is more preferred. When the curtain coating method is used, a temperature range of 25 to 60C is preferable, and a temperature range of 30 to 45C is more preferable.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜160mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは60〜140mPa・sの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜1200mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは25〜500mPa・sの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。本発明によれば、低屈折率層塗布液においてカチオンポリマーを含む場合であっても、上記範囲のような良好な粘度を確保することができる。   The viscosity of the high-refractive-index layer coating liquid and the low-refractive-index layer coating liquid during simultaneous multilayer coating is not particularly limited. However, when the slide bead coating method is used, the temperature is preferably in the range of 5 to 160 mPa · s, more preferably in the range of 60 to 140 mPa · s, in the above-mentioned preferable temperature range of the coating solution. When the curtain coating method is used, the temperature is preferably in the range of 5 to 1200 mPa · s, and more preferably in the range of 25 to 500 mPa · s, in the preferable temperature range of the coating liquid. Within such a viscosity range, simultaneous multilayer coating can be performed efficiently. According to the present invention, even when a cationic polymer is contained in the coating solution for the low refractive index layer, a good viscosity within the above range can be secured.

また、塗布液の15℃における粘度としては、100mPa・s以上が好ましく、100〜30,000mPa・sがより好ましく、さらに好ましくは2,500〜30,000mPa・sである。   The viscosity of the coating solution at 15 ° C. is preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 30,000 mPa · s, and still more preferably 2,500 to 30,000 mPa · s.

塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、30〜60℃に加温した高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液のいずれか一方を基材上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して積層膜前駆体(ユニット)を形成する。次に、所望の遮蔽性能を発現するために必要なユニット数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、30℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度5〜50℃、膜面温度5〜100℃(好ましくは10〜50℃)の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、40〜60℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度<減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は30〜60℃、減率乾燥部の温度範囲は50〜100℃にするのが好ましい。   The conditions of the coating and drying methods are not particularly limited. For example, in the case of the sequential coating method, first, one of the high-refractive-index layer coating solution and the low-refractive-index layer coating solution heated to 30 to 60 ° C. After coating and drying on a base material to form a layer, another coating liquid is applied on this layer and dried to form a laminated film precursor (unit). Next, the number of units required to exhibit desired shielding performance is sequentially applied by the above-described method, dried, and laminated to obtain a laminated film precursor. When drying, it is preferable to dry the formed coating film at 30 ° C. or higher. For example, it is preferable to dry at a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 5 to 100 ° C. (preferably 10 to 50 ° C.), for example, by blowing hot air at 40 to 60 ° C. for 1 to 5 seconds. dry. As a drying method, warm air drying, infrared drying, and microwave drying are used. Further, drying in a multi-stage process is preferable to drying in a single process, and it is more preferable that the temperature in the constant rate drying section <the temperature in the decreasing rate drying section. In this case, the temperature range of the constant rate drying section is preferably 30 to 60 ° C, and the temperature range of the reduced rate drying section is preferably 50 to 100 ° C.

また、同時重層塗布を行う場合の塗布および乾燥方法の条件は、高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液を30〜60℃に加温して、基材上に高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは1〜15℃にいったん冷却し(セット)、その後10℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件である。例えば、40〜80℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   The conditions for the coating and drying methods in the case of performing simultaneous multi-layer coating are as follows: the high-refractive-index layer coating solution and the low-refractive-index layer coating solution are heated to 30 to 60 ° C. After the simultaneous multi-layer coating of the liquid and the low-refractive-index layer coating liquid, the temperature of the formed coating film is preferably once cooled to 1 to 15 ° C (set), and then dried at 10 ° C or higher. More preferable drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. For example, it is dried by blowing warm air of 40 to 80 ° C. for 1 to 5 seconds. Further, as a cooling method immediately after the application, it is preferable to perform a horizontal setting method from the viewpoint of improving the uniformity of the formed coating film.

ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め、各層間および各層内の物質の流動性を低下させたり、またゲル化する工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。   Here, the above-mentioned set means that the viscosity of the coating film composition is increased by means of lowering the temperature by applying cold air or the like to the coating film, and the fluidity of the substance in each interlayer and in each layer is reduced, and Means the process of forming A state in which cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film and the finger no longer sticks is defined as a setting completed state.

塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間(セット時間)は、5分以内であることが好ましく、2分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、45秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が短すぎると、層中の成分の混合が不十分となる虞がある。一方、セット時間が長すぎると、金属酸化物粒子の層間拡散が進み、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となるおそれがある。   The time (set time) from the time of application to the completion of setting by applying cool air is preferably within 5 minutes, more preferably within 2 minutes. Although the lower limit time is not particularly limited, it is preferable to take a time of 45 seconds or more. If the setting time is too short, mixing of the components in the layer may be insufficient. On the other hand, if the setting time is too long, interlayer diffusion of the metal oxide particles proceeds, and the difference in the refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer may be insufficient.

セット時間の調整は、水溶性高分子(ポリビニルアルコール)の濃度、金属酸化物粒子の濃度を調整したり、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギ−ナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など、他の成分を添加することにより調整することができる。   The setting time is adjusted by adjusting the concentration of the water-soluble polymer (polyvinyl alcohol), the concentration of the metal oxide particles, and various known gelling agents such as gelatin, pectin, agar, carrageenan, and gellan gum. Can be adjusted by adding the component (1).

冷風の温度は、0〜25℃であることが好ましく、5〜10℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、好ましくは10〜360秒、より好ましくは10〜300秒、さらに好ましくは10〜120秒である。   The temperature of the cold air is preferably from 0 to 25 ° C, more preferably from 5 to 10 ° C. The time during which the coating film is exposed to cold air depends on the transport speed of the coating film, but is preferably 10 to 360 seconds, more preferably 10 to 300 seconds, and still more preferably 10 to 120 seconds.

高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の塗布厚は、以下で示すような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。   The high-refractive-index layer coating solution and the low-refractive-index layer coating solution may be applied in such a manner as to have a preferable thickness when dried as described below.

〔膜設計〕
本発明の光学反射フィルムは、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む。好適には基材の片面上または両面上に、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層して形成された多層の光学干渉膜を有する。生産性の観点から、基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、100層以下、より好ましくは45層以下である。基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲の下限は特に限定されるものではないが、5層以上であることが好ましい。
(Membrane design)
The optical reflection film of the present invention includes at least one unit in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated. Preferably, on one or both sides of the substrate, there is a multilayer optical interference film formed by alternately laminating high refractive index layers and low refractive index layers. From the viewpoint of productivity, the preferable range of the total number of the high refractive index layers and the low refractive index layers on one side of the substrate is 100 or less, more preferably 45 or less. The lower limit of the range of the total number of preferred high refractive index layers and low refractive index layers per one side of the substrate is not particularly limited, but is preferably 5 or more.

なお、前記の好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、基材の片面にのみ積層される場合においても適応可能であり、基材の両面に同時に積層される場合においても適応可能である。基材の両面に積層される場合において、基材一の面と他の面との高屈折率層および低屈折率層の総層数は、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、本発明の光学反射フィルムにおいて、最下層(基材と接触する層)および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。   Incidentally, the range of the total number of the preferred high refractive index layer and the low refractive index layer is applicable even when laminated on only one side of the substrate, in the case of being simultaneously laminated on both sides of the substrate Is also applicable. When laminated on both surfaces of the substrate, the total number of high refractive index layers and low refractive index layers on one surface of the substrate and the other surface may be the same or different. Further, in the optical reflection film of the present invention, the lowermost layer (the layer in contact with the substrate) and the outermost layer may be either a high refractive index layer or a low refractive index layer.

一般に、光学反射フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明においては、少なくとも隣接した2層(高屈折率層および低屈折率層)の屈折率差が0.15以上であることが好ましく、より好ましくは0.2以上であり、特に好ましくは0.21以上である。また、上限には特に制限はないが通常0.5以下である。   In general, in the optical reflection film, it is preferable to design a large difference in the refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer from the viewpoint that the reflectance for a desired light beam can be increased with a small number of layers. . In the present invention, the difference in refractive index between at least two adjacent layers (the high refractive index layer and the low refractive index layer) is preferably 0.15 or more, more preferably 0.2 or more, and particularly preferably 0 or more. .21 or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 0.5 or less.

この屈折率差および必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。   The difference in the refractive index and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software.

光学反射フィルムにおいて高屈折率層および低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。ただし、例えば、最表層がフィルムを保護するための層として形成される場合、または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合などにおいて、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。   When alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer in the optical reflection film, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is within the range of the preferred refractive index difference. Is preferred. However, for example, when the outermost layer is formed as a layer for protecting the film, or when the lowermost layer is formed as an adhesion improving layer with the substrate, the uppermost layer and the lowermost layer are preferably The configuration may be outside the range of the refractive index difference.

隣接した層界面(高屈折率層と低屈折率層との界面)での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、n・d=波長/4、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、nは屈折率、またdは層の物理膜厚、n・dは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率を高くすることができる。   Reflection at the interface between adjacent layers (the interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer) depends on the refractive index ratio between the layers. Therefore, the greater the refractive index ratio, the higher the reflectance. When the light path difference between the reflected light on the surface of the layer and the reflected light on the bottom of the layer is expressed as n · d = wavelength / 4 when viewed as a single-layer film, control is performed so that the reflected light is enhanced by the phase difference. And reflectivity can be increased. Here, n is the refractive index, d is the physical thickness of the layer, and n · d is the optical thickness. By utilizing this optical path difference, reflection can be controlled. Utilizing this relationship, the refractive index and the film thickness of each layer are controlled to control the reflection of visible light and near-infrared light. That is, the reflectance in a specific wavelength region can be increased by the refractive index of each layer, the thickness of each layer, and the manner of stacking each layer.

本発明の光学反射フィルムは、反射率の高い特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。即ち、反射率の高い特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。また、反射率の高い特定波長領域を紫外光領域に設定すれば、紫外線反射フィルムとなる。本発明の光学反射フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、(近)赤外反射(遮蔽)フィルムとすればよい。赤外反射フィルムの場合、高分子フィルムに互いに屈折率が異なる膜を積層させた多層膜を形成し、JIS R3106(1998)で示される可視光領域の550nmでの透過率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、75%以上であることがさらに好ましい。また、1200nmでの透過率が35%以下であることが好ましく、25%以下であることがより好ましく、20%以下であることがさらに好ましい。かような好適な範囲となるように光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。また、波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   The optical reflection film of the present invention can be made into a visible light reflection film or a near infrared reflection film by changing a specific wavelength region having a high reflectance. That is, if the specific wavelength region having a high reflectance is set in the visible light region, the film becomes a visible light reflecting film, and if it is set in the near infrared region, the film becomes a near infrared reflecting film. If a specific wavelength region having a high reflectance is set in an ultraviolet light region, an ultraviolet reflective film is obtained. When the optical reflection film of the present invention is used as a heat shielding film, it may be a (near) infrared reflection (shielding) film. In the case of an infrared reflective film, a multilayer film in which films having different refractive indices are laminated on a polymer film is formed, and the transmittance at 550 nm in the visible light region indicated by JIS R3106 (1998) is 50% or more. Is preferably 70% or more, more preferably 75% or more. Further, the transmittance at 1200 nm is preferably 35% or less, more preferably 25% or less, and further preferably 20% or less. It is preferable to design the optical film thickness and the unit so as to have such a preferable range. Further, it is preferable to have a region having a reflectance exceeding 50% in a region of a wavelength of 900 nm to 1400 nm.

太陽直達光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格JIS R3106(1998)に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長(760nm)から最長波長3200nmまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長760nmから最長波長3200nmまでの赤外全域の総エネルギーを100としたときの、760nmから各波長までの累積エネルギーを算出すると、760から1300nmのエネルギー合計が赤外域全体の約75%を占めている。従って、1300nmまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。   The infrared region of the incident spectrum of the solar direct light is related to the rise in the room temperature, and by blocking this, the rise in the room temperature can be suppressed. Looking at the cumulative energy ratio from the shortest wavelength (760 nm) to the longest wavelength of 3200 nm based on the weighting factor described in Japanese Industrial Standards JIS R3106 (1998), the red energy from the wavelength of 760 nm to the longest wavelength of 3200 nm When the accumulated energy from 760 nm to each wavelength is calculated when the total energy of the entire outer region is 100, the total energy from 760 to 1300 nm occupies about 75% of the entire infrared region. Therefore, shielding the wavelength region up to 1300 nm is effective in the energy saving effect by the heat ray shielding.

低屈折率層は、屈折率が1.10〜1.60であることが好ましく、より好ましくは1.30〜1.50である。高屈折率層は、屈折率が1.65〜1.8であることが好ましく、より好ましくは1.7〜1.75である。   The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.10 to 1.60, and more preferably 1.30 to 1.50. The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.65 to 1.8, and more preferably 1.7 to 1.75.

屈折率層の1層(最下層、最表層を除く)あたりの厚み(乾燥後の厚み)は、20〜1000nmであることが好ましく、50〜500nmであることがより好ましく、50〜350nmであることがより好ましい。   The thickness (thickness after drying) per one layer (excluding the lowermost layer and the outermost layer) of the refractive index layer is preferably 20 to 1000 nm, more preferably 50 to 500 nm, and more preferably 50 to 350 nm. Is more preferable.

本発明の光学反射フィルムの全体の厚み(基材を含む)は、好ましくは12〜315μm、より好ましくは15〜200μm、さらに好ましくは20〜100μmである。   The total thickness (including the substrate) of the optical reflection film of the present invention is preferably 12 to 315 μm, more preferably 15 to 200 μm, and further preferably 20 to 100 μm.

さらに、光学特性をより良好なものとするために、光学反射フィルムのヘイズは小さい方が好ましく、0〜1.5%であるとより好ましく、0〜1.2%であると特に好ましい。なお、ヘイズは、実施例の方法により測定された値を指すものとする。   Further, in order to improve the optical characteristics, the haze of the optical reflection film is preferably small, more preferably 0 to 1.5%, and particularly preferably 0 to 1.2%. In addition, haze shall indicate the value measured by the method of the Example.

〔光学反射フィルムの層構成〕
光学反射フィルムは、基材上に低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む。該ユニットは、基材の片面にのみ形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。特定波長の反射率が向上することから、該ユニットが基材の両面に形成されてなることが好ましい。
(Layer configuration of optical reflection film)
The optical reflection film includes at least one unit in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated on a substrate. The unit may be formed on only one side of the substrate, or may be formed on both sides. The unit is preferably formed on both surfaces of the substrate because the reflectance at a specific wavelength is improved.

光学反射フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、上記高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上を有していてもよい。   The optical reflection film is provided under the base material or on the outermost surface layer on the side opposite to the base material, for the purpose of adding further functions, a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer (adhesion layer), Antifouling layer, deodorant layer, drip layer, slippery layer, hard coat layer, abrasion resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorbing layer, infrared absorbing layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer , Release layer, adhesive layer, adhesive layer, infrared cut layer (metal layer, liquid crystal layer) other than the above high refractive index layer and low refractive index layer, coloring layer (visible light absorbing layer), interlayer film used for laminated glass It may have one or more functional layers such as layers.

光学反射フィルムにおける上述の各種の機能層の積層順は、特に制限されない。   The order of laminating the above-described various functional layers in the optical reflection film is not particularly limited.

例えば、窓ガラスの室内側に光学反射フィルムを貼る(内貼り)仕様では、基材表面に、上記高屈折率層および低屈折率層を積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層を塗設する形態が好ましい一例として挙げられる。また、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層、基材、または赤外線吸収剤などを有していてもよい。また、窓ガラスの室外側に本発明の光学反射フィルムを貼る(外貼り)仕様でも好ましい一例を挙げると、基材表面に光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層を塗設する構成である。内貼りの場合と同様に、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。   For example, in a specification in which an optical reflection film is stuck (inside stuck) on the indoor side of a window glass, an optical reflection layer and an adhesive layer each including at least one unit in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated on the base material surface. Are preferred, and a hard coat layer is applied on the surface of the substrate on the side opposite to the side on which these layers are laminated, as a preferred example. In addition, the order of the adhesive layer, the base material, the optical reflection layer, and the hard coat layer may be in this order, and further, another functional layer, a base material, or an infrared absorber may be included. In addition, a preferred example of the specification in which the optical reflection film of the present invention is stuck (outside stuck) to the outdoor side of a window glass is as follows. An optical reflection layer and an adhesive layer are stacked on the substrate surface in this order, and these layers are further stacked. This is a configuration in which a hard coat layer is provided on the surface of the base material on the side opposite to the side on which it is provided. As in the case of the inner coating, the adhesive layer, the base material, the optical reflection layer, the hard coat layer may be in this order, and may further have another functional layer base material, or an infrared absorber. .

〔光学反射フィルムの応用:光学反射体〕
本発明の光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、上記光学反射フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられた、光学反射体が提供される。本発明の光学反射フィルムは、耐候性を高める目的で用いることができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備(基体)に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等の用途が挙げられる。特に、本発明に係る光学反射フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂等の基体に貼合されている部材には好適である。
[Application of Optical Reflective Film: Optical Reflector]
The optical reflection film of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, an optical reflector is provided in which the optical reflection film is provided on at least one surface of a base. The optical reflection film of the present invention can be used for the purpose of enhancing weather resistance. For example, a film for window application such as a heat ray reflection film which gives a heat ray reflection effect, and a film for a greenhouse for agriculture, which is attached to equipment (substrate) exposed to sunlight for a long time, such as an outdoor window of a building or an automobile window. And the like. In particular, it is suitable for a member in which the optical reflection film according to the present invention is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via an adhesive.

基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを2種以上組み合わせて用いても良い。基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常0.1mm〜5cmである。   Specific examples of the substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, phenol Resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, vinyl chloride resin, metal plate, ceramic, and the like. The resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation-curable resin, and may be used in combination of two or more. The substrate can be manufactured by a known method such as extrusion molding, calender molding, injection molding, hollow molding, and compression molding. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually 0.1 mm to 5 cm.

光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、光学反射フィルムが日光(熱線)入射面側にあるように設置することが好ましい。また光学反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の光学反射フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。   It is preferable that the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer for bonding the optical reflection film and the substrate is provided such that the optical reflection film is on the sunlight (heat ray) incident surface side when bonded to a window glass or the like. Also, when the optical reflection film is sandwiched between the window glass and the base material, it can be sealed from ambient gas such as moisture, which is preferable in durability. Even if the optical reflection film of the present invention is installed outdoors or outside a car (for external application), it is preferable because of its environmental durability.

本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。   As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly containing a photo-curable or thermosetting resin can be used. The adhesive preferably has durability to ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量%」を表す。また、特記しない限り、各操作は、室温(25℃)で行った。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” or “%” is used, but “parts by weight” or “% by weight” is used unless otherwise specified. Unless otherwise specified, each operation was performed at room temperature (25 ° C.).

[製造例1:高屈折率層塗布液1の作製]
30質量%の酸化ジルコニウム粒子の分散液(SZR−W、ジルコニアゾル、粒度分布:D50 3nm〜5nm、堺化学工業株式会社製)384.8gに対してクエン酸水溶液(1.9質量%)を175.4g加えた。これに界面活性剤(ソフタゾリン(登録商標)LMEB−R、川研ファインケミカル株式会社製)の5質量%水溶液を1.94g添加し、これを40℃まで加温した。次いで、さらにエチレン変性ポリビニルアルコールの8質量%水溶液(株式会社クラレ製、エクセバール(登録商標)RS−2117、鹸化度:97.5〜99モル%)を120.4g加え、さらに純水9.9gを加えた。これを10分撹拌後、ポリビニルアルコールの6質量%水溶液(JC−40、鹸化度:99モル%〜 日本酢ビポバール株式会社製)240.8gおよび純水66.7gを加えた。この後、40℃で180分間撹拌し、高屈折率層塗布液1を得た。
[Production Example 1: Production of coating liquid 1 for high refractive index layer]
An aqueous citric acid solution (1.9% by mass) was added to 384.8 g of a 30% by mass dispersion of zirconium oxide particles (SZR-W, zirconia sol, particle size distribution: D50 3 nm to 5 nm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.). 175.4 g were added. 1.94 g of a 5% by mass aqueous solution of a surfactant (Softazoline (registered trademark) LMEB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was added thereto, and the mixture was heated to 40 ° C. Next, 120.4 g of an 8% by mass aqueous solution of ethylene-modified polyvinyl alcohol (Exeval (registered trademark) RS-2117, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree: 97.5 to 99 mol%) was further added, and 9.9 g of pure water was further added. Was added. After stirring this for 10 minutes, 240.8 g of a 6% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (JC-40, saponification degree: 99 mol%-manufactured by Nippon Vinevar Co., Ltd.) and 66.7 g of pure water were added. Thereafter, the mixture was stirred at 40 ° C. for 180 minutes to obtain a coating liquid 1 for a high refractive index layer.

高屈折率層塗布液1を用いて作製した単層の屈折率は1.73であった。なお、屈折率の測定方法は下記の通りである(以下同様)。   The refractive index of the single layer produced using the high refractive index layer coating solution 1 was 1.73. The method for measuring the refractive index is as follows (the same applies hereinafter).

(各層の単膜屈折率の測定)
屈折率を測定するため、基材上に上記高屈折率層塗布液1を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。株式会社日立製作所製の分光光度計 U−4100(固体試料測定システム)を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面(裏面)を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5°正反射の条件にて400nm〜2500nmの反射率の測定を行い、結果より屈折率を求めた。下記の屈折率は屈折率の波長依存性を考え1000nmの屈折率とした。
(Measurement of single-layer refractive index of each layer)
In order to measure the refractive index, a sample was prepared by applying the high refractive index layer coating solution 1 in a single layer on a substrate, and the sample was cut into 10 cm × 10 cm, and the refractive index was determined according to the following method. . Using a spectrophotometer U-4100 (solid sample measurement system) manufactured by Hitachi, Ltd., roughen the surface (back surface) opposite to the measurement surface of each sample, and then absorb light with a black spray. The treatment was performed to prevent reflection of light on the back surface, and the reflectance of 400 nm to 2500 nm was measured under the condition of 5 ° regular reflection, and the refractive index was determined from the result. The following refractive index was set to 1000 nm in consideration of the wavelength dependence of the refractive index.

[製造例2:低屈折率層塗布液1の作製]
撹拌容器にカチオンポリマーとしてジアリルアミン塩酸塩重合体(第2級アミン塩を含む)(PAS−21CL、重量平均分子量50000、25質量%水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製)6.77gと、水26.1gと、ホウ酸(3質量%水溶液)16.05gとを混合した。ここに10質量%の酸性コロイダルシリカの水溶液(ST−OXS、一次平均粒径:4〜6nm、日産化学工業株式会社製)を245.16g加えた。さらにアミノアルコールとしてのN−エチルエタノールアミン(コロイダルシリカの固形分全量に対して0.06質量%となる量)を加え、これを撹拌しながら40℃まで加温した。ここに、ポリビニルアルコールの8質量%水溶液(JP−45、重合度4500、鹸化度88モル%、日本酢ビポバール株式会社製)183.9g、26質量%の水性ウレタン樹脂(エマルジョン樹脂、スーパーフレックス(登録商標)650、第一工業製薬株式会社)15.1g、5質量%の界面活性剤の溶液(ソフタゾリン(登録商標)LMEB−R、川研ファインケミカル株式会社)6.3gを加え40℃で撹拌、混合し、低屈折率層塗布液1を得た。低屈折率層塗布液1を用いて作製した単層の屈折率は1.48であった。
[Production Example 2: Production of low refractive index layer coating liquid 1]
6.77 g of diallylamine hydrochloride polymer (including a secondary amine salt) (PAS-21CL, weight average molecular weight 50,000, 25% by mass aqueous solution, manufactured by Nitto Bo Medical Co., Ltd.) as a cationic polymer in a stirring vessel, and 26.1 g of water And boric acid (3% by mass aqueous solution) (16.05 g) were mixed. To this was added 245.16 g of a 10% by mass aqueous solution of acidic colloidal silica (ST-OXS, primary average particle size: 4 to 6 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). Further, N-ethylethanolamine (an amount of 0.06% by mass based on the total solid content of colloidal silica) as an amino alcohol was added, and the mixture was heated to 40 ° C. while stirring. Here, 183.9 g of an 8% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (JP-45, degree of polymerization: 4500, degree of saponification: 88 mol%, manufactured by Nippon Vineyard Co., Ltd.), 26% by mass of an aqueous urethane resin (emulsion resin, superflex ( (Registered trademark) 650, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and 6.3 g of a 5% by mass surfactant solution (Softazoline (registered trademark) LMEB-R, Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) are added and stirred at 40 ° C. To obtain a coating liquid 1 for a low refractive index layer. The refractive index of the single layer produced using the low refractive index layer coating solution 1 was 1.48.

[製造例3〜6:低屈折率層塗布液2〜5の作製]
上記製造例2(低屈折率層塗布液1の作製)において、アミノアルコールの種類を変更し、以下の表1に記載のものにそれぞれ変更したこと以外は、製造例1と同様にして低屈折率層塗布液2〜5をそれぞれ作製した。上記低屈折率層塗布液2〜5を用いて作製した単層の屈折率はいずれも1.48であった。
[Production Examples 3 to 6: Preparation of low refractive index layer coating liquids 2 to 5]
Low refractive index was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the type of amino alcohol was changed in Production Example 2 (preparation of coating liquid for low refractive index layer 1) and the amino alcohol was changed to those shown in Table 1 below. Rate layer coating solutions 2 to 5 were respectively prepared. The refractive indices of the single layers prepared using the low refractive index layer coating solutions 2 to 5 were all 1.48.

[製造例7〜9および11:低屈折率層塗布液6〜8および10の作製]
上記製造例6(低屈折率層塗布液5の作製)において、カチオンポリマーの種類を変更し、以下の表1に記載のものにそれぞれ変更したこと以外は、製造例1と同様にして低屈折率層塗布液6〜8および10をそれぞれ作製した。上記低屈折率層塗布液6〜8および10を用いて作製した単層の屈折率はいずれも1.48であった。
[Production Examples 7 to 9 and 11: Preparation of Coating Solutions 6 to 8 and 10 for Low Refractive Index Layer]
In the above Production Example 6 (preparation of coating liquid for low refractive index layer 5), low refractive index was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the kind of the cationic polymer was changed to those shown in Table 1 below. Rate layer coating solutions 6 to 8 and 10 were prepared, respectively. The refractive index of each of the single layers produced using the above low refractive index layer coating solutions 6 to 8 and 10 was 1.48.

なお、カチオンポリマーとして、低屈折率層塗布液6ではポリ塩化アルミニウム(タキバイン(登録商標)#1500、23質量%水溶液、多木化学株式会社製)を5.37g、低屈折率層塗布液7ではメチルジアリルアミン塩酸塩重合体(第3級アミン塩を含む)(PAS M−1、重量平均分子量20,000、50質量%水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製)を3.33g、低屈折率層塗布液8ではジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体(第4級アンモニウム基を含む)(PAS H−5、重量平均分子量30,000、28質量%水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製)を5.95g、それぞれ用いた。また、低屈折率層塗布液10では、カチオンポリマーとして、上記メチルジアリルアミン塩酸塩重合体(PAS M−1)を2.02gおよびジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体(PAS H−5)を2.45g、混合して用いた。   As the cationic polymer, 5.37 g of polyaluminum chloride (Takibaine (registered trademark) # 1500, 23% by mass aqueous solution, manufactured by Taki Kagaku Co., Ltd.) was used in the low refractive index layer coating liquid 6, and the low refractive index layer coating liquid 7 was used as the cationic polymer. 3.33 g of a methyldiallylamine hydrochloride polymer (including a tertiary amine salt) (PAS M-1, weight average molecular weight 20,000, 50% by mass aqueous solution, manufactured by Nittobo Medical Co., Ltd.), low refractive index layer coating For Liquid 8, 5.95 g of diallyldimethylammonium chloride polymer (containing a quaternary ammonium group) (PASH-5, weight average molecular weight 30,000, 28% by mass aqueous solution, manufactured by Nittobo Medical Co., Ltd.) was used. . In the low-refractive-index layer coating liquid 10, 2.02 g of the above methyldiallylamine hydrochloride polymer (PAS M-1) and 2.45 g of the diallyldimethylammonium chloride polymer (PASH-5) were used as the cationic polymers. Used as a mixture.

[製造例10および12〜14:低屈折率層塗布液9および11〜13の作製]
上記製造例11(低屈折率層塗布液10の作製)において、アミノアルコールの添加量を変更し、以下の表1に記載の量となるようにそれぞれ変更したこと以外は、製造例11と同様にして低屈折率層塗布液9および11〜13をそれぞれ作製した。上記低屈折率層塗布液9および11〜13を用いて作製した単層の屈折率はいずれも1.48であった。
[Production Examples 10 and 12 to 14: Production of Low Refractive Index Layer Coating Liquids 9 and 11 to 13]
Same as Production Example 11 except that in Production Example 11 (preparation of coating liquid for low refractive index layer 10), the added amount of amino alcohol was changed to be the amounts shown in Table 1 below, respectively. Thus, coating liquids for low refractive index layers 9 and 11 to 13 were prepared, respectively. The refractive index of each of the single layers prepared using the low refractive index layer coating solutions 9 and 11 to 13 was 1.48.

[製造例15:低屈折率層塗布液14の作製]
上記製造例2(低屈折率層塗布液1の作製)において、アミノアルコールおよびカチオンポリマーを添加しなかったこと以外は、製造例2と同様にして低屈折率層塗布液14を作製した。上記低屈折率層塗布液14を用いて作製した単層の屈折率は1.48であった。
[Production Example 15: Preparation of coating liquid 14 for low refractive index layer]
A low-refractive-index layer coating liquid 14 was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that amino alcohol and a cationic polymer were not added in Production Example 2 (preparation of low-refractive-index layer coating liquid 1). The refractive index of the single layer produced using the low refractive index layer coating solution 14 was 1.48.

[製造例16:低屈折率層塗布液15の作製]
上記製造例2(低屈折率層塗布液1の作製)において、アミノアルコールを添加しなかったこと以外は、製造例2と同様にして低屈折率層塗布液15を作製した。上記低屈折率層塗布液15を用いて作製した単層の屈折率は1.48であった。
[Production Example 16: Preparation of coating liquid 15 for low refractive index layer]
A low-refractive-index layer coating liquid 15 was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that amino alcohol was not added in Production Example 2 (preparation of low-refractive-index layer coating liquid 1). The refractive index of the single layer produced using the low refractive index layer coating solution 15 was 1.48.

[製造例17:低屈折率層塗布液16の作製]
上記製造例2(低屈折率層塗布液1の作製)において、アミノアルコールの代わりにセリンを添加たこと以外は、製造例2と同様にして低屈折率層塗布液16を作製した。なお、セリンの添加量は、コロイダルシリカの固形分全量に対して0.48質量%となる量とした。上記低屈折率層塗布液16を用いて作製した単層の屈折率は1.48であった。
[Production Example 17: Production of low refractive index layer coating liquid 16]
A low-refractive-index layer coating liquid 16 was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that serine was added instead of amino alcohol in the above-mentioned Production Example 2 (preparation of low-refractive-index layer coating liquid 1). The amount of serine added was 0.48% by mass based on the total solid content of colloidal silica. The refractive index of the single layer produced using the low refractive index layer coating solution 16 was 1.48.

<実施例1>
21層重層塗布可能なスライドビード(スライドホッパー)塗布装置を用いて、上記で作製された高屈折率層塗布液1および低屈折率層塗布液1を、40℃に保温しながら、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡株式会社製A4300、両面易接着層、長さ200m×幅210mm)上に積層した。このとき、最下層および最上層(最表層)は低屈折率層とし、それ以外は高屈折率層と低屈折率層とがそれぞれ交互になるように、計21層の同時重層塗布を行った。この際、乾燥時の膜厚は、最下層が1510nm、最表層が100nm、最下層および最表層以外の低屈折率層の各層が150nm、および高屈折率層の各層が150nmになるように調整した。
<Example 1>
Using a slide bead (slide hopper) coating apparatus capable of applying a 21-layer multi-layer coating, the high-refractive-index layer coating liquid 1 and the low-refractive-index layer coating liquid 1 prepared as described above were kept at 40 ° C. and 50 μm in thickness. (A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd., double-sided adhesive layer, length 200 m × width 210 mm). At this time, a total of 21 layers were simultaneously coated so that the lowermost layer and the uppermost layer (outermost layer) were low refractive index layers, and the other layers were alternately high refractive index layers and low refractive index layers. . At this time, the thickness at the time of drying is adjusted so that the lowermost layer is 1510 nm, the outermost layer is 100 nm, the lower refractive index layers other than the lowermost layer and the low refractive index layers are 150 nm, and the high refractive index layers are 150 nm. did.

塗布直後、5℃の冷風を吹き付けて増粘させた。増粘後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、計21層からなる光学反射層を有する光学反射フィルム1を作製した。   Immediately after the application, cold air at 5 ° C. was sprayed to increase the viscosity. After thickening, hot air of 80 ° C. was blown and dried to produce an optical reflection film 1 having a total of 21 optical reflection layers.

<実施例2〜13および比較例1〜3>
実施例1において、低屈折率層を形成するために用いる塗布液を、それぞれ表1に示される低屈折率層塗布液2〜16に変更した以外は、実施例1と同様にして光学反射フィルム2〜13および比較光学反射フィルム1〜3を、それぞれ作製した。なお、表1中、アミノアルコール(またはそれに対応する化合物)の含有量は、酸化ケイ素粒子の質量に対する割合(質量%)を示す。
<Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 3>
In Example 1, the optical reflection film was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquids used for forming the low refractive index layer were changed to the low refractive index layer coating liquids 2 to 16 shown in Table 1, respectively. 2 to 13 and Comparative Optical Reflective Films 1 to 3 were produced, respectively. In Table 1, the content of amino alcohol (or a compound corresponding thereto) indicates a ratio (% by mass) to the mass of the silicon oxide particles.

〔評価〕
(塗布ムラ評価)
上記実施例および比較例でそれぞれ得られた光学反射フィルムについて、太陽光および蛍光灯の下でそれぞれ目視し、以下の基準で評価した。下記評価基準において、3〜5が合格と判断される。
[Evaluation]
(Evaluation of coating unevenness)
The optical reflection films obtained in the above Examples and Comparative Examples were visually observed under sunlight and fluorescent light, respectively, and evaluated according to the following criteria. In the following evaluation criteria, 3 to 5 are judged to be acceptable.

−評価基準−
5:太陽光で見ても問題なし
4:蛍光灯では問題ないが、太陽光で見ると薄いムラがほんのわずかに見られる
3:蛍光灯では問題ないが、太陽光で見るとムラが見られる
2:蛍光灯で薄いムラがほんのわずかに観察され、太陽光で見るとムラがはっきりわかる
1:蛍光灯でも太陽光で見てもムラがはっきりわかる。
-Evaluation criteria-
5: No problem when viewed with sunlight 4: No problem with fluorescent light, but slight slight unevenness when viewed with sunlight 3: No problem with fluorescent light, but unevenness when viewed with sunlight 2: Only slight unevenness is observed with a fluorescent lamp, and the unevenness is clearly seen when viewed with sunlight. 1: The unevenness is clearly seen with a fluorescent lamp even when viewed with sunlight.

(ヘイズの測定)
上記実施例および比較例でそれぞれ得られた光学反射フィルムについて、ヘイズメーター(日本電色工業株式会社製、NDH2000)によりヘイズを測定した。なお、ヘイズメーターの光源は、5V9Wのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル(比視感度フィルター付き)を使用した。また、ヘイズの測定は、23℃で55%RHの条件下にて行った。なお、光学反射フィルムのヘイズ値としては、1.2%以下であると好ましい。
(Haze measurement)
The haze of each of the optical reflection films obtained in the above Examples and Comparative Examples was measured by a haze meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). In addition, the light source of the haze meter was a halogen bulb of 5V9W, and the light receiving unit used a silicon photocell (with a relative luminous efficiency filter). The haze was measured at 23 ° C. and 55% RH. The haze value of the optical reflection film is preferably 1.2% or less.

以下、上記の各種評価の結果を、それぞれ表1に示す。なお、比較例3では、本発明におけるアミノアルコールの代わりにセリンを添加したため、「アミノアルコール」に関する項目は、当該化合物を記載した。また、実施例6では、カチオンポリマーとして無機ポリマーを使用したため、「カチオン性基」に関する項目は、カチオンポリマーの種類を記載した。なお、カチオンポリマーについて、「PAS−M1」を「M1」と、「PAS−H5」を「H5」と略記する。   The results of the various evaluations are shown in Table 1 below. In Comparative Example 3, serine was added in place of the amino alcohol in the present invention, and the item related to “amino alcohol” described the compound. In Example 6, since an inorganic polymer was used as the cationic polymer, the item relating to the “cationic group” described the type of the cationic polymer. In addition, about a cationic polymer, "PAS-M1" is abbreviated as "M1" and "PAS-H5" is abbreviated as "H5".

上記表1より、本発明に係る構成を有する光学反射フィルムは、ヘイズに加え、塗布ムラも抑制されていることが示された。特に、実施例1〜5の対比より、アミノアルコールとしてトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンを用いると好ましいことが示された。また、実施例5〜8および10の対比より、3級アミノ基および4級アンモニウム基の両方を含むようにカチオンポリマーを選択することにより、ヘイズがさらに低減されることが示された。   From Table 1 above, it was shown that the optical reflection film having the configuration according to the present invention also suppressed application unevenness in addition to haze. In particular, comparison of Examples 1 to 5 showed that it is preferable to use tris (hydroxymethyl) aminomethane as the amino alcohol. Further, the comparison of Examples 5 to 8 and 10 showed that the haze was further reduced by selecting the cationic polymer so as to contain both the tertiary amino group and the quaternary ammonium group.

Claims (7)

基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射フィルムであって、
前記低屈折率層が、水溶性高分子と、酸化ケイ素粒子と、カチオンポリマーと、カルボキシル基を含まないアミノアルコールと、を含有する、光学反射フィルム。
An optical reflection film including at least one unit in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated on a base material,
An optical reflection film, wherein the low refractive index layer contains a water-soluble polymer, silicon oxide particles, a cationic polymer, and an amino alcohol containing no carboxyl group.
前記アミノアルコールが、二価アルコールまたは三価アルコールである、請求項1に記載の光学反射フィルム。   The optical reflection film according to claim 1, wherein the amino alcohol is a dihydric alcohol or a trihydric alcohol. 前記アミノアルコールが、第1級アミノ基を有する、請求項1または2に記載の光学反射フィルム。   The optical reflection film according to claim 1, wherein the amino alcohol has a primary amino group. 前記アミノアルコールが、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   The optical reflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the amino alcohol is tris (hydroxymethyl) aminomethane. 前記カチオンポリマーが、第3級アミノ基、第3級アミノ基のカチオン、および第4級アンモニウム基からなる群から選択される少なくとも一種のカチオン性基を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   The cationic polymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the cationic polymer includes at least one cationic group selected from the group consisting of a tertiary amino group, a cation of a tertiary amino group, and a quaternary ammonium group. Item 6. The optical reflection film according to item 1. 前記低屈折率層中の前記アミノアルコールの含有量が、前記酸化ケイ素粒子の全量に対して0.05〜2質量%である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   The optical reflection film according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the amino alcohol in the low refractive index layer is 0.05 to 2% by mass based on the total amount of the silicon oxide particles. . 同時重層塗布法により前記高屈折率層と前記低屈折率層とを積層することを含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学反射フィルムの製造方法。   The method for producing an optical reflection film according to any one of claims 1 to 6, comprising laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer by a simultaneous multilayer coating method.
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