JP6619816B2 - 磁場検知装置および磁場検知方法 - Google Patents
磁場検知装置および磁場検知方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6619816B2 JP6619816B2 JP2017543601A JP2017543601A JP6619816B2 JP 6619816 B2 JP6619816 B2 JP 6619816B2 JP 2017543601 A JP2017543601 A JP 2017543601A JP 2017543601 A JP2017543601 A JP 2017543601A JP 6619816 B2 JP6619816 B2 JP 6619816B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminal
- magnetic field
- output
- field detection
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 235
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 21
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000007017 scission Effects 0.000 claims description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/07—Hall effect devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/07—Hall effect devices
- G01R33/072—Constructional adaptation of the sensor to specific applications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N52/00—Hall-effect devices
- H10N52/101—Semiconductor Hall-effect devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N52/00—Hall-effect devices
- H10N52/01—Manufacture or treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Description
特許文献1 特開2010−050467号公報
特許文献2 米国公開第2014/0070795号公報
磁場検知装置は、第1端子、第2端子、および第3端子を有する感磁部の第1端子に接続される第1電流源を備えてよい。磁場検知装置は、感磁部の第2端子に接続される第2電流源を備えてよい。磁場検知装置は、感磁部の第1端子側の電圧および感磁部の第2端子側の電圧の差に応じた磁場検知信号を出力する出力部を備えてよい。
(項目2)
第1電流源および第2電流源は、感磁部との間で流す電流を同一に近付けるように調整してよい。
(項目3)
第1電流源および第2電流源は、カレントミラー回路により構成されてよい。
(項目4)
磁場検知装置は、感磁部を備えてよい。感磁部は、一体に形成され、第1端子へと延伸する第1延伸部と、第2端子へと延伸する第2延伸部と、を有してよい。
(項目5)
感磁部は、三叉形状であってよい。第1延伸部は、三叉形状の第1の枝部分に設けられてよい。第2延伸部は、三叉形状の第2の枝部分に設けられてよい。第3端子は、三叉形状の第3の枝部分において延伸する第3延伸部に設けられてよい。
(項目6)
感磁部は、半導体基板に形成されてよい。感磁部の外周を構成する各辺は、半導体基板の(111)面の劈開方向に設けられてよい。
磁場検知装置は、第1端子、第2端子、および第3端子を有する感磁部を備えてよい。磁場検知装置は、感磁部の第1端子、第2端子、第3端子のうち、2つの端子をセンス端子として、センス端子からの出力に基づく磁場検知信号を出力する出力部を備えてよい。磁場検知装置は、感磁部が有する端子の内いずれを出力部に接続するかをスイッチングするスイッチング部を備えてよい。
(項目8)
出力部は、第1端子および第2端子をセンス端子としたときの2つのセンス端子の第1出力差、第2端子および第3端子をセンス端子としたときの2つのセンス端子の第2出力差、および第3端子および第1端子をセンス端子としたときの2つのセンス端子の第3出力差に基づく磁場検知信号を出力してよい。
(項目9)
磁場検知装置は、2つのセンス端子のうち第1センス端子に接続される第1電流源を備えてよい。磁場検知装置は、2つのセンス端子のうち第2センス端子に接続される第2電流源を備えてよい。出力部は、感磁部の第1センス端子側の電圧および感磁部の第2センス端子側の電圧の差に応じた磁場検知信号を出力してよい。
(項目10)
磁場検知装置は、感磁部に接続された駆動電源を備えてよい。出力部は、感磁部の2つのセンス端子のうち一方側の電流および感磁部の2つのセンス端子のうち他方側の電流の差に応じた磁場信検知号を出力してよい。
磁気センサは、磁場を検知する磁気センサであってよい。磁気センサは、駆動端子と、第1出力端子と、第2出力端子と、を備えてよい。磁気センサは、駆動端子および第1出力端子の間で駆動電流を流す第1導電路、並びに、駆動端子および第2出力端子の間で駆動電流を流す第2導電路が一体に形成された感磁部を備えてよい。
(項目12)
感磁部は、第1出力端子へと延伸する第1延伸部と、第2出力端子へと延伸する第2延伸部と、を有してよい。
(項目13)
感磁部は、三叉形状であってよい。第1延伸部は、三叉形状の第1の枝部分に設けられ、第2延伸部は、三叉形状の第2の枝部分に設けられ、駆動端子は、三叉形状の第3の枝部分において延伸する第3延伸部に設けられてよい。
(項目14)
第1出力端子および第2出力端子は、感磁部に印加される磁場に応じた出力差を発生してよい。
(項目15)
磁気センサは、感磁部が形成された半導体基板を更に備えてよい。感磁部の外周を構成する各辺は、半導体基板の(111)面の劈開方向に設けられてよい。
磁場検知装置は、駆動端子および第1出力端子の間の第1導電路および駆動端子および第2出力端子の間の第2導電路が一体に形成された感磁部における駆動端子に駆動電流を供給する駆動電流供給部を備えてよい。磁場検知装置は、第1出力端子および第2出力端子の出力に基づいて、感磁部に印加された磁場を検知する磁場検知部を備えてよい。
(項目17)
磁場検知部は、第1出力端子に流れる第1電流と、第2出力端子に流れる第2電流とに基づいて、磁場を検知してよい。
(項目18)
磁場検知部は、第1電流および第2電流の差に基づいて、磁場を検知してよい。
(項目19)
駆動電流供給部は、第1導電路および第2導電路のそれぞれに対して予め定められた駆動電流を供給してよい。磁場検知部は、第1出力端子の第1電圧と、第2出力端子の第2電圧とに基づいて、磁場を検知してよい。
(項目20)
駆動電流供給部は、第1導電路に流れる第1駆動電流と、第2導電路に流れる第2駆動電流とを同一に近づけるように調整してよい。磁場検知部は、第1電圧および第2電圧の差に基づいて、磁場を検知してよい。
磁場検知方法は、第1の端子、第2の端子、及び、第3の端子を有する感磁部の第1の端子に駆動電流を供給する駆動電流供給段階を備えてよい。磁場検知方法は、第2の端子と第3の端子の出力電流の差に基づいて、感磁部に印加された磁場を検知する磁場検知段階を備えてよい。
(項目22)
磁場検知方法は、第1の端子、第2の端子、及び、第3の端子を有する感磁部より入力磁場を検知する磁場検知方法であってよい。磁場検知方法は、第1の端子および第2の端子の間と、第1の端子および第3の端子の間とに等しい駆動電流を供給する駆動電流供給段階を備えてよい。磁場検知方法は、第2の端子と第3の端子との間の電位差に基づいて、入力磁場を検知する磁場検知段階を備えてよい。
(項目23)
感磁部は、第1の端子および第2の端子の間の第1導電路と、第1の端子および第3の端子の間の第2導電路とが一体に形成されてよい。
(項目24)
磁気センサは、感磁部を備えてよい。感磁部は、中央部と、中央部から上面視で第1方向へ延伸する第1延伸部と、中央部から上面視で第1方向とは異なる第2方向へ延伸する第2延伸部と、中央部から上面視で第1方向及び第2方向とは異なる第3方向へ延伸する第3延伸部と、を有してよい。第1延伸部、第2延伸部、および第3延伸部の端部の各辺は、第1方向、第2方向、および第3方向のいずれかの方向に設けられてよい。磁気センサは、感磁部の第1延伸部に形成された第1出力端子を備えてよい。磁気センサは、感磁部の第2延伸部に形成された第2出力端子を備えてよい。磁気センサは、感磁部の第3延伸部に形成された駆動端子を備えてよい。
(項目25)
磁気センサは、感磁部が形成される半導体基板をさらに備えてよい。感磁部の外周を構成する各辺は、半導体基板の(111)面の劈開方向に設けられてよい。
(項目26)
感磁部の外周を構成する各辺は、第1方向、第2方向、および第3方向のいずれかの方向に設けられてよい。
(項目27)
第1方向、第2方向、および第3方向は、互いに120度異なる方向であってよい。
(式1) I1out=I0+αBz
(式2) I2out=I0−αBz
ここで、αは比例定数であり、物質の物性と形状によって決定される量である。
(式3) I1out−I2out=2αBz
図7及び図8に示す第4例、第5例の磁気センサ100は、半導体基板150の(100)面において、感磁部110の外辺がその劈開方向に平行に形成される。このような第4例、第5例の磁気センサ100は、磁気センサ100の製造において感磁部110を形成する際、エッチングレートが感磁部110の外周におけるすべての方向で等しくなる。このため、感磁部110は、エッチングの手法にかかわらず容易に形成される。
1相目信号:V13S3−V12S1
2相目信号:V21S1−V23S2
3相目信号:V32S2−V31S3
1相目信号:V13S3−V12S2
2相目信号:V21S1−V23S3
3相目信号:V32S2−V31S1
4相目信号:V13S2−V12S3
5相目信号:V21S3−V23S1
6相目信号:V32S1−V31S2
1相目信号:V12S1−V13S2
2相目信号:V23S1−V21S2
3相目信号:V31S1−V32S2
4相目信号:V12S2−V13S1
5相目信号:V23S2−V21S1
6相目信号:V31S2−V32S1
Vx'(x=1,2)は、センス端子の電圧であり、Vxは、検知部Sxで検知した電圧であり、Voffx(x=1,2)は、検知部Sxの持つ電圧のオフセットである。なお、前記Voffxは出力部1400のオフセットも含めてVoffxと表現している。
Icは、電流源により流れる定電流であり、IRyは、抵抗Ry(y=1,2,3)を流れる電流である。Ihy(n)は、第n相において第y端子に磁場印加によって生じる電流を示し、磁場に応じて電流値が増減する電流源として設けたものである。
(Vc−V2')/R3=IR3・・・式(2)
V1−V2=Ic(R3−R2)−(Ih3(1)R3−Ih2(1)R2)−(Voff1−Voff2)・・・(※1式)
(Vc−V2')/R1=IR1・・・式(2)
V1−V2=Ic(R1−R3)−(Ih1(2)R1−Ih3(2)R3)−(Voff1−Voff2)・・・(※2式)
(Vc−V2')/R2=IR2・・・式(2)
V1−V2=Ic(R2−R1)−(Ih2(3)R2−Ih1(3)R1)−(Voff1−Voff2)・・・(※3式)
(Vc−V2')/R2=IR2・・・式(2)
V2−V1=Ic(R3−R2)−(Ih3(4)R3−Ih2(4)R2)−(Voff2−Voff1)・・・(※4式)
(Vc−V2')/R3=IR3・・・式(2)
V2−V1=Ic(R1−R3)−(Ih1(5)R1−Ih3(5)R3)−(Voff2−Voff1)・・・(※5式)
(Vc−V2')/R1=IR1・・・式(2)
V2−V1=Ic(R2−R1)−(Ih2(6)R2−Ih1(6)R1)−(Voff2−Voff1)・・・(※6式)
Claims (9)
- 第1端子、第2端子、および第3端子を有する感磁部と、
前記感磁部の前記第1端子、前記第2端子、前記第3端子のうち、2つの端子をセンス端子として、前記センス端子からの出力に基づく複数の相での磁場検知信号を出力する出力部と、
前記感磁部が有する端子の内いずれを前記出力部に接続するかをスイッチングするスイッチング部と、
を備える磁場検知装置であって、
前記出力部は、前記複数の相での前記磁場検知信号として、少なくとも前記第1端子および前記第2端子を前記センス端子としたときの前記2つのセンス端子の第1出力差、前記第2端子および前記第3端子を前記センス端子としたときの前記2つのセンス端子の第2出力差、および前記第3端子および前記第1端子を前記センス端子としたときの前記2つのセンス端子の第3出力差に基づく前記磁場検知信号を出力し、
前記磁場検知装置は、前記複数の相で出力された前記磁場検知信号を合計することによって、磁場検知結果を得る
磁場検知装置。 - 前記2つのセンス端子のうち第1センス端子に接続される第1電流源と、
前記2つのセンス端子のうち第2センス端子に接続される第2電流源と、
を備え、
前記出力部は、前記感磁部の前記第1センス端子側の電圧および前記感磁部の前記第2センス端子側の電圧の差に応じた磁場信検知号を出力する
請求項1に記載の磁場検知装置。 - 前記第1電流源および前記第2電流源は、前記感磁部との間で流す電流を同一に近付けるように調整する請求項2に記載の磁場検知装置。
- 前記第1電流源および前記第2電流源は、カレントミラー回路により構成される請求項2または3に記載の磁場検知装置。
- 前記感磁部に接続された駆動電源を備え、
前記出力部は、前記感磁部の前記2つのセンス端子のうち一方側の電流および前記感磁部の前記2つのセンス端子のうち他方側の電流の差に応じた磁場信検知号を出力する
請求項1に記載の磁場検知装置。 - 前記感磁部は、一体に形成され、
前記第1端子へと延伸する第1延伸部と、
前記第2端子へと延伸する第2延伸部と、
を有する請求項1から5のいずれか一項に記載の磁場検知装置。 - 前記感磁部は、三叉形状であり、
前記第1延伸部は、前記三叉形状の第1の枝部分に設けられ、
前記第2延伸部は、前記三叉形状の第2の枝部分に設けられ、
前記第3端子は、前記三叉形状の第3の枝部分において延伸する第3延伸部に設けられる
請求項6に記載の磁場検知装置。 - 前記感磁部は、半導体基板に形成され、
前記感磁部の外周を構成する各辺は、前記半導体基板の(111)面の劈開方向に設けられる
請求項1から7のいずれか一項に記載の磁場検知装置。 - 第1端子、第2端子、および第3端子を有する感磁部と、
前記感磁部の前記第1端子、前記第2端子、前記第3端子のうち、2つの端子をセンス端子として、前記センス端子からの出力に基づく複数の相での磁場検知信号を出力する出力部と、
前記感磁部が有する端子の内いずれを前記出力部に接続するかをスイッチングするスイッチング部と、
を備える磁場検知装置を用いた磁場検知方法であって、
前記複数の相での前記磁場検知信号として、少なくとも前記第1端子および前記第2端子を前記センス端子としたときの前記2つのセンス端子の第1出力差、前記第2端子および前記第3端子を前記センス端子としたときの前記2つのセンス端子の第2出力差、および前記第3端子および前記第1端子を前記センス端子としたときの前記2つのセンス端子の第3出力差に基づく前記磁場検知信号を出力するステップと、
前記磁場検知装置は、前記複数の相で出力された磁場検知信号を合計することによって、磁場検知結果を得るステップと
を有する磁場検知方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015193761 | 2015-09-30 | ||
JP2015193761 | 2015-09-30 | ||
PCT/JP2016/078960 WO2017057650A1 (ja) | 2015-09-30 | 2016-09-29 | 磁場検知装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017057650A1 JPWO2017057650A1 (ja) | 2018-08-16 |
JP6619816B2 true JP6619816B2 (ja) | 2019-12-11 |
Family
ID=58424071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017543601A Active JP6619816B2 (ja) | 2015-09-30 | 2016-09-29 | 磁場検知装置および磁場検知方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10677858B2 (ja) |
JP (1) | JP6619816B2 (ja) |
WO (1) | WO2017057650A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7141825B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-09-26 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 磁気センサ |
JP7249865B2 (ja) * | 2019-05-08 | 2023-03-31 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 磁気センサ及び磁気センサモジュール |
GB201913936D0 (en) * | 2019-09-27 | 2019-11-13 | Univ Coventry | A magnetic field sensor |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1207271A (en) * | 1968-03-15 | 1970-09-30 | Solartron Electronic Group | Improvements in chopper stabilized amplifiers |
US5155643A (en) * | 1990-10-30 | 1992-10-13 | Mars Incorporated | Unshielded horizontal magnetoresistive head and method of fabricating same |
JPH08102563A (ja) * | 1994-08-02 | 1996-04-16 | Toshiba Corp | 半導体ホール素子 |
JP2003185685A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-07-03 | Tokai Rika Co Ltd | 検出装置 |
CN101529264A (zh) * | 2006-10-23 | 2009-09-09 | Nxp股份有限公司 | 传感器 |
JP2008166351A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
JP5048033B2 (ja) | 2009-10-01 | 2012-10-17 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 半導体薄膜素子の製造方法 |
US9217783B2 (en) | 2012-09-13 | 2015-12-22 | Infineon Technologies Ag | Hall effect device |
-
2016
- 2016-09-29 JP JP2017543601A patent/JP6619816B2/ja active Active
- 2016-09-29 WO PCT/JP2016/078960 patent/WO2017057650A1/ja active Application Filing
-
2018
- 2018-03-29 US US15/939,284 patent/US10677858B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10677858B2 (en) | 2020-06-09 |
WO2017057650A1 (ja) | 2017-04-06 |
JPWO2017057650A1 (ja) | 2018-08-16 |
US20180217212A1 (en) | 2018-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105652220B (zh) | 霍尔传感器及其温度分布造成的偏移的补偿方法 | |
US9261572B2 (en) | Low offset spinning current hall plate and method to operate it | |
US9983273B2 (en) | Magnetic field detecting sensor and magnetic field detecting apparatus using the same | |
EP3176593B1 (en) | Hall electromotive force signal detection circuit and current sensor | |
JP5577544B2 (ja) | 電流センサ | |
JP6619816B2 (ja) | 磁場検知装置および磁場検知方法 | |
US7119538B2 (en) | Offset-reduced hall sensor | |
EP2851691B1 (en) | Current sensor | |
JP5512561B2 (ja) | ホール電圧検出装置 | |
TWI504031B (zh) | Hall sensor | |
CN105891577B (zh) | 偏移电压补偿 | |
EP3367110B1 (en) | Current sensing system and current sensing method | |
JP2015078949A (ja) | ホール起電力信号検出回路 | |
JP5187598B2 (ja) | 電流検出回路 | |
JP2023029390A (ja) | 半導体装置及びその調整方法 | |
TW201617636A (zh) | 霍爾感測器 | |
JP2015143713A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JP2011043338A (ja) | 電流センサ | |
US11016151B2 (en) | Semiconductor device and method of adjusting the same | |
US11391558B2 (en) | Integrated hall sensor device and method for measuring a magnetic field by means of an integrated hall sensor device | |
JP3323875B2 (ja) | ホール素子および電気量測定装置 | |
CN112985246A (zh) | 位置传感系统及位置传感方法 | |
JP2013134084A (ja) | 磁気センサ | |
JP2010133854A (ja) | 磁気検出回路素子および磁気センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190319 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191115 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6619816 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |