JP6617949B2 - Conductive laminate - Google Patents

Conductive laminate Download PDF

Info

Publication number
JP6617949B2
JP6617949B2 JP2015111581A JP2015111581A JP6617949B2 JP 6617949 B2 JP6617949 B2 JP 6617949B2 JP 2015111581 A JP2015111581 A JP 2015111581A JP 2015111581 A JP2015111581 A JP 2015111581A JP 6617949 B2 JP6617949 B2 JP 6617949B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive
group
resin
acid
conductive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015111581A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016221874A (en
Inventor
達也 大堀
達也 大堀
隆裕 櫻井
隆裕 櫻井
義真 常田
義真 常田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagase Chemtex Corp
Original Assignee
Nagase Chemtex Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nagase Chemtex Corp filed Critical Nagase Chemtex Corp
Priority to JP2015111581A priority Critical patent/JP6617949B2/en
Publication of JP2016221874A publication Critical patent/JP2016221874A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6617949B2 publication Critical patent/JP6617949B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、導電積層体に関する。 The present invention relates to a conductive laminate.

液晶ディスプレイ中のノイズカット膜や偏光板として、基材上に導電層が積層された構造を有する導電積層体が広く使用されている。このような導電積層体は、基材上に導電性組成物を配置し、ベークにより加熱硬化させて導電層を形成することにより作製されている。 As a noise cut film and a polarizing plate in a liquid crystal display, a conductive laminate having a structure in which a conductive layer is laminated on a substrate is widely used. Such a conductive laminate is produced by disposing a conductive composition on a base material and heat-curing it by baking to form a conductive layer.

導電層を形成するための導電性組成物の1つとして、導電性ポリマーを用いたものが知られているが、耐熱性が充分でなく、高温条件下に保持した後にヘイズ値及び表面抵抗率が増大してしまうという問題があった。 Although one using a conductive polymer is known as one of the conductive compositions for forming the conductive layer, the heat resistance is not sufficient, and the haze value and surface resistivity are maintained after being kept under high temperature conditions. There has been a problem that increases.

本発明は、耐熱性に優れ、高温条件下に保持した後のヘイズ値及び表面抵抗率の上昇が抑制された導電層を有する導電積層体を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the electrically conductive laminated body which has the electrically conductive layer which was excellent in heat resistance and the raise of the haze value and surface resistivity after hold | maintaining on high temperature conditions was suppressed.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定量の酸化防止剤を含む導電性組成物を用いて形成された導電層が、耐熱性に優れ、高温条件下に保持した後のヘイズ値及び表面抵抗率の上昇が抑制されることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a conductive layer formed using a conductive composition containing a specific amount of antioxidant has excellent heat resistance and is maintained under high temperature conditions. The inventors found that the subsequent increase in haze value and surface resistivity was suppressed, and completed the present invention.

すなわち、本発明の導電積層体は、
基材(A)の少なくとも一方の面に導電層(B)を有する導電積層体であって、
導電層(B)は、導電性高分子(b−1)、酸化防止剤(b−2)、及び、バインダー(b−3)を含む導電性組成物を用いて形成されたものであり、
酸化防止剤(b−2)の含有量は、導電性高分子(b−1)100重量部に対して50〜400重量部であり、
100℃で24時間保持した後のヘイズ値が、保持前のヘイズ値の5倍以下であることを特徴とする。
That is, the conductive laminate of the present invention is
A conductive laminate having a conductive layer (B) on at least one surface of a substrate (A),
The conductive layer (B) is formed using a conductive composition containing a conductive polymer (b-1), an antioxidant (b-2), and a binder (b-3).
The content of the antioxidant (b-2) is 50 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductive polymer (b-1),
The haze value after holding at 100 ° C. for 24 hours is not more than 5 times the haze value before holding.

本発明の導電積層体において、バインダー(b−3)が、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリケート樹脂、アクリレート及びメラミン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, the binder (b-3) is preferably at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a silicate resin, an acrylate, and a melamine resin. .

本発明の導電積層体において、バインダー(b−3)が、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つであり、Tgが0℃以上であることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, it is preferable that the binder (b-3) is at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin, and Tg is 0 ° C. or higher.

本発明の導電積層体において、酸化防止剤(b−2)が、2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、及び/又は、フェノール性水酸基を2個以上有する化合物であることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, the antioxidant (b-2) is preferably a compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups and / or a compound having two or more phenolic hydroxyl groups. .

本発明の導電積層体において、酸化防止剤(b−2)のpKaが6以下であることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, the pKa of the antioxidant (b-2) is preferably 6 or less.

本発明の導電積層体において、導電層(B)は、100℃で100時間保持した後の表面抵抗率が、保持前の表面抵抗率の5倍以下であることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, the conductive layer (B) preferably has a surface resistivity after holding at 100 ° C. for 100 hours that is not more than 5 times the surface resistivity before holding.

本発明の導電積層体において、導電層(B)の表面抵抗率が10Ω/□以下であることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, the surface resistivity of the conductive layer (B) is preferably 10 5 Ω / □ or less.

本発明の導電積層体において、導電性高分子(b−1)が、ポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体であることが好ましい。 In the conductive laminate of the present invention, the conductive polymer (b-1) is preferably a composite of poly (3,4-alkylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid.

本発明の導電積層体において、導電性組成物が、導電性向上剤(b−4)をさらに含み、
導電性向上剤(b−4)は、沸点が100℃以上であって、分子内に、少なくとも1つのスルフィニル基、少なくとも1つのアミド基又は少なくとも2つのヒドロキシル基を有する化合物であることが好ましい。
In the conductive laminate of the present invention, the conductive composition further includes a conductivity improver (b-4),
The conductivity improver (b-4) is preferably a compound having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one sulfinyl group, at least one amide group, or at least two hydroxyl groups in the molecule.

本発明の導電性組成物は、本発明の導電積層体における導電層(B)を形成するために用いられることを特徴とする。 The conductive composition of the present invention is used for forming the conductive layer (B) in the conductive laminate of the present invention.

本発明の導電積層体は、特定量の酸化防止剤を含む導電性組成物を用いて形成された導電層を備えるため、耐熱性に優れ、高温条件下に保持した後のヘイズ値及び表面抵抗率の上昇が抑制される。 Since the conductive laminate of the present invention includes a conductive layer formed using a conductive composition containing a specific amount of an antioxidant, it has excellent heat resistance and haze value and surface resistance after being held under high temperature conditions. The rate increase is suppressed.

<<導電積層体>>
本発明の導電積層体は、基材(A)の少なくとも一方の面に導電層(B)を有する導電積層体であって、
導電層(B)は、導電性高分子(b−1)、酸化防止剤(b−2)、及び、バインダー(b−3)を含む導電性組成物を用いて形成されたものであり、
酸化防止剤(b−2)の含有量は、導電性高分子(b−1)100重量部に対して50〜400重量部であり、
100℃で24時間保持した後のヘイズ値が、保持前のヘイズ値の5倍以下であることを特徴とする。
<< Conductive laminate >>
The conductive laminate of the present invention is a conductive laminate having a conductive layer (B) on at least one surface of the substrate (A),
The conductive layer (B) is formed using a conductive composition containing a conductive polymer (b-1), an antioxidant (b-2), and a binder (b-3).
The content of the antioxidant (b-2) is 50 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductive polymer (b-1),
The haze value after holding at 100 ° C. for 24 hours is not more than 5 times the haze value before holding.

<基材(A)>
基材(A)の材質としては、特に限定されないが、例えば、ガラス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリスチレン(PS)、ポリアクリロニトリル(PAN)、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、エチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)、ポリアミド(PA)等が挙げられる。これらの中では、導電層(B)の硬度、透明性、密着性及び耐熱性の観点から、ガラス、ポリエチレンテレフタラート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の材料を含むことが好ましい。これらの材質は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<Base material (A)>
The material of the base material (A) is not particularly limited. For example, glass, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC), polymethyl methacrylate (PMMA), cycloolefin polymer (COP) ), Polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polystyrene (PS), polyacrylonitrile (PAN), ethylene vinyl acetate copolymer ( EVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA), polyamide (PA) and the like. Among these, from the viewpoint of hardness, transparency, adhesion and heat resistance of the conductive layer (B), selected from the group consisting of glass, polyethylene terephthalate, polycarbonate, triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate and cycloolefin polymer. It is preferable to include at least one material. These materials may be used alone or in combination of two or more.

基材(A)の表面の算術平均粗さ(Ra)は、特に限定されないが、20nm以下であることが好ましく、15nm以下であることがより好ましい。算術平均粗さが20nmを超えると、透明性が損なわれることがある。なお、本発明において、算術平均粗さ(Ra)とは、原子間力顕微鏡(AFM)により測定したものをいう。 The arithmetic average roughness (Ra) of the surface of the substrate (A) is not particularly limited, but is preferably 20 nm or less, and more preferably 15 nm or less. When the arithmetic average roughness exceeds 20 nm, transparency may be impaired. In the present invention, the arithmetic average roughness (Ra) means that measured by an atomic force microscope (AFM).

基材(A)の厚みは、特に限定されないが、10〜10000μmであることが好ましく、25〜5000μmであることがより好ましい。また、基材(A)の全光線透過率は、60%以上である限り特に限定されないが、70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。基材(A)のヘイズ値は、特に限定されないが、3%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましい。なお、ヘイズ値の下限は特に限定されないが、例えば、0.01%である。 Although the thickness of a base material (A) is not specifically limited, It is preferable that it is 10-10000 micrometers, and it is more preferable that it is 25-5000 micrometers. Further, the total light transmittance of the substrate (A) is not particularly limited as long as it is 60% or more, but it is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more. Although the haze value of a base material (A) is not specifically limited, It is preferable that it is 3% or less, and it is more preferable that it is 1% or less. In addition, although the minimum of a haze value is not specifically limited, For example, it is 0.01%.

<導電層(B)>
導電層(B)は、導電性高分子(b−1)、酸化防止剤(b−2)、及び、バインダー(b−3)を含む導電性組成物を用いて形成されたものである。以下、導電性組成物に含まれる各成分について説明する。
<Conductive layer (B)>
The conductive layer (B) is formed using a conductive composition containing a conductive polymer (b-1), an antioxidant (b-2), and a binder (b-3). Hereinafter, each component contained in the conductive composition will be described.

(導電性高分子(b−1))
導電性高分子(b−1)は、導電層(B)に導電性を付与するための配合物である。導電性高分子(b−1)としては特に限定されず、従来公知の導電性高分子を用いることができ、具体例としては、例えば、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリナフタレン、及びこれらの誘導体が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用してもよい。中でも、チオフェン環を分子内に含むことで導電性が高い分子ができやすい点で、分子内にチオフェン環を少なくとも1つ含む導電性高分子が好ましい。導電性高分子(b−1)は、ポリ陰イオン等のドーパントと複合体を形成していてもよい。
(Conductive polymer (b-1))
The conductive polymer (b-1) is a compound for imparting conductivity to the conductive layer (B). It does not specifically limit as a conductive polymer (b-1), A conventionally well-known conductive polymer can be used, For example, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, polyphenylene vinylene, polynaphthalene, And derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a conductive polymer including at least one thiophene ring in the molecule is preferable in that a molecule having high conductivity can be easily formed by including a thiophene ring in the molecule. The conductive polymer (b-1) may form a complex with a dopant such as a polyanion.

分子内にチオフェン環を少なくとも1つ含む導電性高分子の中でも、導電性や化学的安定性に極めて優れている点で、ポリ(3,4−二置換チオフェン)がより好ましい。また、導電性組成物がポリ(3,4−二置換チオフェン)、又は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオン(ドーパント)との複合体を含有する場合、低温かつ短時間で導電層(B)を形成することができ、生産性にも優れることとなる。なお、ポリ陰イオンは導電性高分子(b−1)のドーパントであり、その内容については後述する。 Among conductive polymers containing at least one thiophene ring in the molecule, poly (3,4-disubstituted thiophene) is more preferable because it is extremely excellent in conductivity and chemical stability. When the conductive composition contains poly (3,4-disubstituted thiophene) or a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion (dopant), the temperature is low and the time is short. Thus, the conductive layer (B) can be formed and the productivity is also excellent. The polyanion is a dopant for the conductive polymer (b-1), and the content thereof will be described later.

ポリ(3,4−二置換チオフェン)としては、ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)としては、以下の式(I): Poly (3,4-disubstituted thiophene) is particularly preferably poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene). As poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene), the following formula (I):

Figure 0006617949
Figure 0006617949

で示される反復構造単位からなる陽イオン形態のポリチオフェンが好ましい。
ここで、R及びRは相互に独立して水素原子又はC1−4のアルキル基を表すか、又は、R及びRが結合している場合にはC1−4のアルキレン基を表す。C1−4のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。
また、R及びRが結合している場合、C1−4のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1−メチル−1,2−エチレン基、1−エチル−1,2−エチレン基、1−メチル−1,3−プロピレン基、2−メチル−1,3−プロピレン基等が挙げられる。これらの中では、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基が好ましく、1,2−エチレン基がより好ましい。C1−4のアルキル基、及び、C1−4のアルキレン基は、その水素の一部が置換されていても良い。C1−4のアルキレン基を有するポリチオフェンとしては、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。
A polythiophene in a cationic form consisting of repeating structural units represented by
Here, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, or when R 1 and R 2 are bonded, a C 1-4 alkylene group. Represents. The C 1-4 alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a t-butyl group. .
In addition, when R 1 and R 2 are bonded, the C 1-4 alkylene group is not particularly limited, and examples thereof include a methylene group, 1,2-ethylene group, 1,3-propylene group, 4-butylene group, 1-methyl-1,2-ethylene group, 1-ethyl-1,2-ethylene group, 1-methyl-1,3-propylene group, 2-methyl-1,3-propylene group, etc. Can be mentioned. Among these, a methylene group, 1,2-ethylene group, and 1,3-propylene group are preferable, and a 1,2-ethylene group is more preferable. In the C 1-4 alkyl group and the C 1-4 alkylene group, a part of hydrogen may be substituted. As the polythiophene having a C 1-4 alkylene group, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) is particularly preferable.

導電性高分子(b−1)の重量平均分子量は、特に限定されないが、500〜100000であることが好ましく、1000〜50000であることがより好ましく、1500〜20000であることが最も好ましい。重量平均分子量が500未満であると、導電性組成物とした場合に要求される粘度を確保することができないことや、導電積層体とした場合の導電層(B)の導電性が低下することがある。 Although the weight average molecular weight of a conductive polymer (b-1) is not specifically limited, It is preferable that it is 500-100000, It is more preferable that it is 1000-50000, It is most preferable that it is 1500-20000. When the weight average molecular weight is less than 500, the viscosity required when the conductive composition is used cannot be secured, and the conductivity of the conductive layer (B) when the conductive laminate is formed decreases. There is.

ドーパントは特に限定されないが、ポリ陰イオンが好ましい。ポリ陰イオンは、ポリチオフェン(誘導体)とイオン対をなすことにより複合体を形成し、ポリチオフェン(誘導体)を水中に安定に分散させることができる。ポリ陰イオンとしては、特に限定されないが、例えば、カルボン酸ポリマー類(例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等)、スルホン酸ポリマー類(例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等)等が挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類及びスルホン酸ポリマー類はまた、ビニルカルボン酸類及びビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えば、アクリレート類、スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物との共重合体であっても良い。これらの中では、ポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。 The dopant is not particularly limited, but a polyanion is preferable. The polyanion forms a complex by forming an ion pair with the polythiophene (derivative), and the polythiophene (derivative) can be stably dispersed in water. Although it does not specifically limit as a poly anion, For example, carboxylic acid polymers (for example, polyacrylic acid, polymaleic acid, polymethacrylic acid, etc.), sulfonic acid polymers (for example, polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyisoprene) Sulfonic acid etc.). These carboxylic acid polymers and sulfonic acid polymers are also copolymers of vinyl carboxylic acids and vinyl sulfonic acids with other polymerizable monomers such as aromatic vinyl compounds such as acrylates, styrene, vinyl naphthalene, etc. It may be. Among these, polystyrene sulfonic acid is particularly preferable.

ポリスチレンスルホン酸は、重量平均分子量が20000〜500000であることが好ましく、40000〜200000であることがより好ましい。分子量がこの範囲外のポリスチレンスルホン酸を使用すると、ポリチオフェン系導電性高分子の水に対する分散安定性が低下する場合がある。なお、重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。 The polystyrene sulfonic acid preferably has a weight average molecular weight of 20,000 to 500,000, more preferably 40,000 to 200,000. If polystyrene sulfonic acid having a molecular weight outside this range is used, the dispersion stability of the polythiophene-based conductive polymer in water may decrease. The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).

導電性高分子(b−1)とポリ陰イオンとの複合体としては、透明性及び導電性に特に優れることから、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体であることが好ましい。 As a complex of the conductive polymer (b-1) and the polyanion, since it is particularly excellent in transparency and conductivity, a complex of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid. It is preferable that

導電性高分子(b−1)の導電率は、特に限定されないが、導電層(B)に十分な導電性を付与する観点からは、0.01S/cm以上であることが好ましく、0.05S/cm以上であることがより好ましい。 The conductivity of the conductive polymer (b-1) is not particularly limited, but is preferably 0.01 S / cm or more from the viewpoint of imparting sufficient conductivity to the conductive layer (B). More preferably, it is 05 S / cm or more.

導電性組成物における導電性高分子(b−1)の含有量は特に限定されないが、導電層(B)とした際に、0.01〜50.0mg/mとなる量が好ましく、0.1〜10.0mg/mとなる量がより好ましい。0.01mg/m未満では、導電層(B)中の導電性高分子(b−1)の存在割合が少なくなり、導電層(B)の導電性を十分に確保することができない場合があり、一方、50.0mg/mを超えると、導電層(B)中の導電性高分子(b−1)の存在割合が多くなり、導電層(B)の強度、成膜性に悪影響を与える原因となる場合があるからである。 Although content of the conductive polymer (b-1) in a conductive composition is not specifically limited, When it is set as a conductive layer (B), the quantity used as 0.01-50.0 mg / m < 2 > is preferable, 0 More preferable is an amount of 1 to 10.0 mg / m 2 . If it is less than 0.01 mg / m 2 , the proportion of the conductive polymer (b-1) in the conductive layer (B) decreases, and the conductivity of the conductive layer (B) may not be sufficiently secured. On the other hand, if it exceeds 50.0 mg / m 2 , the proportion of the conductive polymer (b-1) in the conductive layer (B) increases, which adversely affects the strength and film formability of the conductive layer (B). It is because it may be a cause to give.

(酸化防止剤(b−2))
導電性組成物に酸化防止剤(b−2)を配合することにより、導電性組成物を用いて形成された導電層(B)の耐湿熱性を向上させつつ、導電層(B)の経時的な導電性劣化の進行を緩やかにすることができる。酸化防止剤(b−2)としては、特に限定されず、還元性の水溶性酸化防止剤、非還元性の水溶性酸化防止剤等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
(Antioxidant (b-2))
By blending the antioxidant (b-2) with the conductive composition, the heat and moisture resistance of the conductive layer (B) formed using the conductive composition is improved, and the conductive layer (B) is changed over time. It is possible to moderate the progress of the conductive deterioration. It does not specifically limit as antioxidant (b-2), A reducing water-soluble antioxidant, a non-reducing water-soluble antioxidant, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、L−アスコルビン酸、L−アスコルビン酸ナトリウム、L−アスコルビン酸カリウム、D(−)−イソアスコルビン酸(エリソルビン酸)、エリソルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸カリウム等の2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物;マルトース、ラクトース、セロビオース、キシロース、アラビノース、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース等の単糖類又は二糖類(但し、スクロースを除く);カテキン、ルチン、ミリセチン、クエルセチン、ケンフェロール、サンメリン(登録商標)Y−AF等のフラボノイド;没食子酸、没食子酸メチル、没食子酸プロピル、タンニン酸、クルクミン、ロズマリン酸、クロロゲン酸、ヒドロキノン、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸等のフェノール性水酸基を2個以上有する化合物;システイン、グルタチオン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)等のチオール基を有する化合物等が挙げられる。 Examples of reducing water-soluble antioxidants include L-ascorbic acid, sodium L-ascorbate, potassium L-ascorbate, D (-)-isoascorbic acid (erythorbic acid), sodium erythorbate, potassium erythorbate A compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups such as maltose, lactose, cellobiose, xylose, arabinose, glucose, fructose, galactose, mannose and the like monosaccharides or disaccharides (excluding sucrose); Flavonoids such as rutin, myricetin, quercetin, kaempferol, sanmerin (registered trademark) Y-AF; gallic acid, methyl gallate, propyl gallate, tannic acid, curcumin, rosmarinic acid, chlorogenic acid, hydroquinone, 3,4,5 -Birds Compounds having two or more phenolic hydroxyl group such as Dorokishi benzoic acid; cysteine, glutathione, a compound having a pentaerythritol tetrakis (3-mercapto butyrate) thiol groups, such as and the like.

非還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、フェニルイミダゾールスルホン酸、フェニルトリアゾールスルホン酸、2−ヒドロキシピリミジン、サリチル酸フェニル、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸ナトリウム等の酸化劣化の原因となる紫外線を吸収する化合物が挙げられる。 Non-reducing water-soluble antioxidants include, for example, oxidative degradation such as phenylimidazolesulfonic acid, phenyltriazolesulfonic acid, 2-hydroxypyrimidine, phenyl salicylate, sodium 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate. The compound which absorbs the ultraviolet rays which cause this is mentioned.

これらの中では、2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、及び/又は、フェノール性水酸基を2個以上有する化合物が好ましく、L−アスコルビン酸、L−アスコルビン酸ナトリウム、L−アスコルビン酸カリウム、D(−)−イソアスコルビン酸、没食子酸、没食子酸メチル、没食子酸プロピル及びタンニン酸からなる群より選択される少なくとも1つがより好ましい。 Among these, a compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups and / or a compound having two or more phenolic hydroxyl groups is preferable, and L-ascorbic acid, sodium L-ascorbate, L-ascorbic acid More preferred is at least one selected from the group consisting of potassium, D (-)-isoascorbic acid, gallic acid, methyl gallate, propyl gallate and tannic acid.

本発明の導電積層体は、高い透明性と良好な外観とを有する必要があるが、酸化防止剤(b−2)の中でも、2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、フェノール性水酸基を2個以上有する化合物は、ポリチオフェン系導電性高分子やバインダー(b−3)と相互作用するため導電層(B)中に留まりやすく、ブリードアウトによる外観の劣化が起きづらいため好適に使用される。 The conductive laminate of the present invention needs to have high transparency and good appearance. Among the antioxidants (b-2), a compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups, phenolic A compound having two or more hydroxyl groups is preferably used because it interacts with the polythiophene-based conductive polymer and the binder (b-3), so that it tends to stay in the conductive layer (B) and hardly deteriorates in appearance due to bleed-out. Is done.

酸化防止剤(b−2)のpKaは、特に限定されないが、6以下であることが好ましく、5以下であることがより好ましい。pKaが6を超えると、酸から水素イオンが放出されにくく、酸化防止機構であるラジカルトラップが機能しにくくなるため、酸化防止剤としての効果が弱くなることがある。 Although pKa of antioxidant (b-2) is not specifically limited, It is preferable that it is 6 or less, and it is more preferable that it is 5 or less. When the pKa exceeds 6, hydrogen ions are hardly released from the acid, and the radical trap which is an antioxidant mechanism is difficult to function, so that the effect as an antioxidant may be weakened.

酸化防止剤(b−2)の含有量は、導電性高分子(b−1)100重量部に対して50〜400重量部である限り特に限定されないが、75〜400重量部であることが好ましく、100〜400重量部であることがより好ましい。含有量が50重量部未満であると、耐湿熱性の向上効果が充分に得られないことがあり、400重量部を超えると、導電層(B)を形成した後に酸化防止剤(b−2)がブリードアウトしてしまうことがある。 Although content of antioxidant (b-2) is not specifically limited as long as it is 50-400 weight part with respect to 100 weight part of conductive polymers (b-1), It is 75-400 weight part. Preferably, it is 100-400 weight part. When the content is less than 50 parts by weight, the effect of improving wet heat resistance may not be sufficiently obtained. When the content exceeds 400 parts by weight, the antioxidant (b-2) is formed after forming the conductive layer (B). May bleed out.

(バインダー(b−3))
導電性組成物にバインダー(b−3)を配合することにより、導電性組成物中の配合物同士を結合させ、より確実に導電層(B)を形成することができる。バインダー(b−3)としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリケート樹脂、アクリレート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、オレフィン樹脂等が挙げられる。これらの中で、基材密着性、分散性の観点からは、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリケート樹脂、アクリレート及びメラミン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つが好ましく、基材密着性の観点からは、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つが好ましい。これらのバインダー(b−3)は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
(Binder (b-3))
By mix | blending a binder (b-3) with an electroconductive composition, the compound in an electroconductive composition can be couple | bonded and a conductive layer (B) can be formed more reliably. Although it does not specifically limit as a binder (b-3), For example, a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a silicate resin, an acrylate, a melamine resin, a phenol resin, an olefin resin etc. are mentioned. Among these, from the viewpoint of substrate adhesion and dispersibility, at least one selected from the group consisting of polyester resin, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, silicate resin, acrylate and melamine resin is preferable. From the viewpoint of adhesion, at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin is preferable. These binders (b-3) may be used alone or in combination of two or more.

ポリエステル樹脂としては、2つ以上のカルボキシル基を分子内に有する化合物と2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物とを重縮合して得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The polyester resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound obtained by polycondensation of a compound having two or more carboxyl groups in the molecule and a compound having two or more hydroxyl groups. Examples include terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene naphthalate. These may be used alone or in combination of two or more.

アクリル樹脂としては、特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂等が挙げられる。これらのアクリル樹脂としては、例えば、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、燐酸基等の酸基を有する重合性単量体を構成モノマーとして含む重合体であればよく、例えば、酸基を有する重合性単量体の単独又は共重合体、酸基を有する重合性単量体と共重合性単量体との共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The acrylic resin is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylic resins and vinyl ester resins. The acrylic resin may be a polymer containing a polymerizable monomer having an acid group such as a carboxyl group, an acid anhydride group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group as a constituent monomer. Or a copolymer of a polymerizable monomer having an acid group and a copolymerizable monomer. These may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル系単量体を主たる構成モノマー(例えば、50モル%以上)として含んでいれば共重合性単量体と重合していてもよく、この場合、(メタ)アクリル系単量体及び共重合性単量体のうち、少なくとも一方が酸基を有していればよい。(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、酸基を有する(メタ)アクリル系単量体[(メタ)アクリル酸、スルホアルキル(メタ)アクリレート、スルホン酸基含有(メタ)アクリルアミド等]又はその共重合体、酸基を有していてもよい(メタ)アクリル系単量体と、酸基を有する他の重合性単量体[他の重合性カルボン酸、重合性多価カルボン酸又は無水物、ビニル芳香族スルホン酸等]及び/又は共重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、芳香族ビニル単量体等]との共重合体、酸基を有する他の重合体単量体と(メタ)アクリル系共重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等]との共重合体、ロジン変性ウレタンアクリレート、特殊変性アクリル樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートエマルジョン等が挙げられる。 The (meth) acrylic resin may be polymerized with a copolymerizable monomer as long as it contains a (meth) acrylic monomer as a main constituent monomer (for example, 50 mol% or more). It is sufficient that at least one of the (meth) acrylic monomer and the copolymerizable monomer has an acid group. Examples of the (meth) acrylic resin include an acid group-containing (meth) acrylic monomer [(meth) acrylic acid, sulfoalkyl (meth) acrylate, sulfonic acid group-containing (meth) acrylamide, etc.] or a combination thereof. Polymer, (meth) acrylic monomer optionally having acid group, and other polymerizable monomer having acid group [other polymerizable carboxylic acid, polymerizable polyvalent carboxylic acid or anhydride Vinyl aromatic sulfonic acid, etc.] and / or copolymerizable monomers [for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, aromatic vinyl monomer, etc.] Polymer, other polymer monomer having an acid group and (meth) acrylic copolymerizable monomer [for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, hydroxyalkyl (meth) acrylate, Rishijiru (meth) acrylate, copolymers of (meth) acrylonitrile, etc.], rosin-modified urethane acrylate, special modified acrylic resins, urethane acrylates, epoxy acrylates, and urethane acrylates emulsion and the like.

これらの(メタ)アクリル系樹脂の中では、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル重合体(アクリル酸−メタクリル酸メチル共重合体等)、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル−スチレン共重合体(アクリル酸−メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等)等が好ましい。 Among these (meth) acrylic resins, (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester polymers (acrylic acid-methyl methacrylate copolymer etc.), (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid An ester-styrene copolymer (such as acrylic acid-methyl methacrylate-styrene copolymer) is preferred.

ウレタン樹脂としては、イソシアネート基を有する化合物とヒドロキシル基を有する化合物とを共重合させて得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、エステル・エーテル系ポリウレタン、エーテル系ポリウレタン、ポリエステル系ポリウレタン、カーボネート系ポリウレタン、アクリル系ポリウレタン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The urethane resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound obtained by copolymerization of a compound having an isocyanate group and a compound having a hydroxyl group. For example, an ester / ether polyurethane, an ether polyurethane, or a polyester Examples thereof include polyurethane, carbonate polyurethane, and acrylic polyurethane. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、フェノールノボラック型、ベンゼン環を多数有した多官能型であるテトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型又はトリス(ヒドロキシフェニル)メタン型、ビフェニル型、トリフェノールメタン型、ナフタレン型、オルソノボラック型、ジシクロペンタジエン型、アミノフェノール型、脂環式等のエポキシ樹脂、シリコーンエポキシ樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The epoxy resin is not particularly limited. For example, a bisphenol A type, a bisphenol F type, a phenol novolak type, a tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type or a tris (hydroxyphenyl) methane type which is a polyfunctional type having a large number of benzene rings. , Biphenyl type, triphenolmethane type, naphthalene type, orthonovolak type, dicyclopentadiene type, aminophenol type, alicyclic epoxy resin, silicone epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

シリケート樹脂としては、特に限定されないが、例えば、下記式(II)により表されるアルコキシシランのモノマー同士が縮合することで形成される高分子量化されたアルコキシシランであり、シロキサン結合(Si−O−Si)を1分子内に1個以上有するオリゴマー等が挙げられる。
SiR (II)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いフェニル基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である)
アルコキシシランオリゴマーの構造は特に限定されず、直鎖状であっても良く、分岐状でも良い。また、アルコキシシランオリゴマーは、式(II)により表される化合物を単独で用いても良いし、2種以上併用しても良い。
Although it does not specifically limit as silicate resin, For example, it is the alkoxysilane made into high molecular weight formed by condensation of the monomers of the alkoxysilane represented by following formula (II), and a siloxane bond (Si-O). Examples include oligomers having at least one -Si) in one molecule.
SiR 3 4 (II)
(In the formula, R 3 is hydrogen, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group which may have a substituent, or a phenyl group which may have a substituent. At least one of 3 is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group)
The structure of the alkoxysilane oligomer is not particularly limited, and may be linear or branched. Moreover, the alkoxysilane oligomer may use the compound represented by Formula (II) independently, and may use 2 or more types together.

アクリレートとしては、特に限定されないが、例えば、多官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂等が挙げられる。多官能(メタ)アクリレートとしては、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂、2官能以上のポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、カルボキシル変性型反応性ポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネートとを反応させて得られる化合物等が挙げられる。ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びトリメチロールプロパンジアクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Although it does not specifically limit as acrylate, For example, polyfunctional (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate resin, etc. are mentioned. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include epoxy (meth) acrylate resin, bifunctional or higher polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, carboxyl-modified reactive poly (meth) acrylate, and the like. Examples of the urethane (meth) acrylate resin include compounds obtained by reacting a hydroxy group-containing (meth) acrylate with a polyisocyanate. Examples of the hydroxy group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, diester Examples include pentaerythritol pentaacrylate and trimethylolpropane diacrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

メラミン樹脂としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(III)で表わされる化合物が挙げられる。 Although it does not specifically limit as a melamine resin, For example, the compound represented by the following general formula (III) is mentioned.

Figure 0006617949
Figure 0006617949

式中、R〜RはH又はCHOR10で表され、R10はH又はC1−4のアルキル基を表す。 In the formula, R 4 to R 9 are represented by H or CH 2 OR 10 , and R 10 represents H or a C 1-4 alkyl group.

置換基R〜Rがすべて水素原子であるメラミン樹脂がイミノ型メラミン樹脂であり、置換基R〜RがすべてCHOHであるメラミン樹脂がメチロール型メラミン樹脂であり、置換基R〜RがすべてCHOR10であり、R10がC1−4のアルキル基で置換された構造のメラミン樹脂がフルエーテル型メラミン樹脂である。また、3つの置換基のうち2つが1分子中に混在した構造のメラミン樹脂は、イミノメチロール型、メチロールエーテル型又はイミノエーテル型に分類され、すべてが混在したメラミン樹脂がイミノメチロールエーテル型である。R〜RがCHOR10で表され、かつ、R10がC1−4のアルキル基である場合、C1−4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等がある。メラミン樹脂は、式(III)を基本骨格として自己縮合したオリゴマーであっても良い。これらのメラミン樹脂は、単独で用いても良いし、2種以上を併用してもよい。 The melamine resin in which all the substituents R 4 to R 9 are hydrogen atoms is an imino type melamine resin, the melamine resin in which all the substituents R 4 to R 9 are CH 2 OH is a methylol type melamine resin, and the substituent R A melamine resin having a structure in which 4 to R 9 are all CH 2 OR 10 and R 10 is substituted with a C 1-4 alkyl group is a full ether melamine resin. Melamine resins having a structure in which two of the three substituents are mixed in one molecule are classified into iminomethylol type, methylol ether type, or imino ether type, and the melamine resin in which all are mixed is an iminomethylol ether type. . When R 4 to R 9 are represented by CH 2 OR 10 and R 10 is a C 1-4 alkyl group, examples of the C 1-4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and butyl. There are groups. The melamine resin may be an oligomer self-condensed with formula (III) as a basic skeleton. These melamine resins may be used alone or in combination of two or more.

バインダー(b−3)のTgは、特に限定されないが、0℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましい。Tgが0℃未満であると、導電層(B)を形成した後に導電層(B)中から酸化防止剤(b−2)がブリードアウトしてしまうことがある。 Although Tg of a binder (b-3) is not specifically limited, It is preferable that it is 0 degreeC or more, and it is more preferable that it is 20 degreeC or more. When Tg is less than 0 ° C., the antioxidant (b-2) may bleed out from the conductive layer (B) after the conductive layer (B) is formed.

バインダー(b−3)の含有量は、特に限定されないが、導電性組成物の固形分中5〜90重量%であることが好ましく、10〜80重量%であることがより好ましい。含有量が5重量%未満であると、硬化不良が起こったり密着性が不充分となることがあり、90重量%を超えると、分散性が悪化し、粘度が高くなり過ぎ、導電性組成物の塗布性が低下することがある。 Although content of a binder (b-3) is not specifically limited, It is preferable that it is 5-90 weight% in solid content of an electroconductive composition, and it is more preferable that it is 10-80 weight%. When the content is less than 5% by weight, poor curing may occur or adhesion may be insufficient. When the content exceeds 90% by weight, dispersibility deteriorates and the viscosity becomes too high, and the conductive composition. The applicability of the coating may deteriorate.

導電性組成物は、導電性高分子(b−1)、酸化防止剤(b−2)及びバインダー(b−3)以外に、本発明の目的を損なわない範囲内で、任意に他の成分を含有していても良い。他の成分としては、特に限定されないが、例えば、導電性向上剤(b−4)、金属ナノワイヤ、溶媒、架橋剤、触媒、界面活性剤及び/又はレベリング剤、消泡剤、レオロジーコントロール剤、増粘剤、中和剤等が挙げられる。 In addition to the conductive polymer (b-1), the antioxidant (b-2), and the binder (b-3), the conductive composition may optionally include other components as long as the object of the present invention is not impaired. It may contain. Examples of other components include, but are not limited to, conductivity improvers (b-4), metal nanowires, solvents, crosslinking agents, catalysts, surfactants and / or leveling agents, antifoaming agents, rheology control agents, A thickener, a neutralizing agent, etc. are mentioned.

(導電性向上剤(b−4))
導電性組成物に導電性向上剤(b−4)を配合することにより、導電性組成物を用いて形成された導電層(B)の導電性を向上させることができる。導電性向上剤(b−4)は、導電層(B)を形成する際に加熱により蒸散するが、その際に導電性高分子(b−1)の配向を制御することで導電層(B)の導電性を向上させるものと推定される。また、導電性向上剤(b−4)を使用する場合、導電性向上剤(b−4)を使用しない場合と比較して、表面抵抗率を維持しつつ導電性高分子(b−1)の配合量を少なく出来る結果、透明性を改善できる利点がある。
(Conductivity improver (b-4))
By mix | blending electroconductivity improver (b-4) with an electroconductive composition, the electroconductivity of the conductive layer (B) formed using the electroconductive composition can be improved. The conductivity improver (b-4) evaporates by heating when forming the conductive layer (B). At that time, the conductive layer (B-1) is controlled by controlling the orientation of the conductive polymer (b-1). ) Is estimated to improve the conductivity. Moreover, when using a conductive improvement agent (b-4), compared with the case where a conductive improvement agent (b-4) is not used, a conductive polymer (b-1), maintaining surface resistivity. As a result, the blending amount can be reduced, and there is an advantage that transparency can be improved.

導電性向上剤(b−4)は、導電層(B)に要求される導電性を確実に確保するとの観点から、以下(i)〜(vii)からなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。
(i)沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物
(ii)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物
(iii)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合物
(iv)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物
(v)沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物
(vi)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも2つのヒドロキシル基を有する化合物
(vii)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物
The conductivity improver (b-4) is at least one selected from the group consisting of (i) to (vii) below from the viewpoint of ensuring the conductivity required for the conductive layer (B). Preferably there is.
(I) a compound having a boiling point of 60 ° C. or more and having at least one ketone group in the molecule (ii) a compound having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least one ether group in the molecule (iii) a molecule having a boiling point of 100 ° C. or more Compound (iv) having at least one sulfinyl group in it (iv) Compound having a boiling point of 100 ° C. or more and at least one amide group in the molecule (v) Compound having a boiling point of 50 ° C. or more and having at least one carboxyl group in the molecule (Vi) a compound having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least two hydroxyl groups in the molecule (vii) a compound having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least one lactam group in the molecule

沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物(i)としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i) having a boiling point of 60 ° C. or more and having at least one ketone group in the molecule include isophorone, propylene carbonate, γ-butyrolactone, β-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物(ii)としては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−フェノキシエタノール、ジオキサン、モルホリン、4−アクリロイルモルホリン、N−メチルモルホリンN−オキシド、4−エチルモルホリン、2−メトキシフラン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (ii) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one ether group in the molecule include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 2-phenoxyethanol, dioxane, morpholine, 4-acryloylmorpholine, N-methylmorpholine N-oxide, 4-ethylmorpholine, 2-methoxyfuran and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合物(iii)としては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。 Examples of the compound (iii) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one sulfinyl group in the molecule include dimethyl sulfoxide and the like.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物(iv)としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−エチルアセトアミド、N−フェニル−N−プロピルアセトアミド、ベンズアミド等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (iv) having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least one amide group in the molecule include N, N-dimethylacetamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-ethylacetamide. N-phenyl-N-propylacetamide, benzamide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物(v)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メタン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、安息香酸、p−トルイル酸、p−クロロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸、フタル酸、イソフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (v) having a boiling point of 50 ° C. or more and having at least one carboxyl group in the molecule include acrylic acid, methacrylic acid, methanoic acid, ethanoic acid, propanoic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, and octane. Acid, decanoic acid, dodecanoic acid, benzoic acid, p-toluic acid, p-chlorobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, oxalic acid, malonic acid, Examples include succinic acid, adipic acid, maleic acid, fumaric acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも2つのヒドロキシル基を有する化合物(vi)としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、β−チオジグリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、カテコール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、エリトリトール、グリセリン、インマトール、ラクチトール、マルチトール、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、スクロース等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (vi) having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least two hydroxyl groups in the molecule include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, β-thiodiglycol, triethylene glycol, and tripropylene glycol. 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, catechol, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, glycerin, erythritol, glycerin, immutol, Examples include lactitol, maltitol, mannitol, sorbitol, xylitol, and sucrose. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物(vii)としては、例えば、N−メチルピロリドン、β−ラクタム、γ−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム、ラウロラクタム等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (vii) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one lactam group in the molecule include N-methylpyrrolidone, β-lactam, γ-lactam, δ-lactam, ε-caprolactam, laurolactam and the like. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

導電性向上剤(b−4)は、揮発性、分散性の観点から、沸点が100℃以上であって、分子内に、少なくとも1つのスルフィニル基、少なくとも1つのアミド基又は少なくとも2つのヒドロキシル基を有する化合物であることが好ましい。 The conductivity improver (b-4) has a boiling point of 100 ° C. or higher from the viewpoint of volatility and dispersibility, and has at least one sulfinyl group, at least one amide group or at least two hydroxyl groups in the molecule. It is preferable that it is a compound which has this.

導電性向上剤(b−4)の沸点が特定温度以上であると、導電層(B)形成時の加熱によって導電性向上剤(b−4)が徐々に揮発していくことになるが、その過程で、導電性高分子(b−1)の配向を導電性にとって有利な配向に制御することになり、その結果、導電性が向上するものと考えられる。一方、導電性向上剤(b−4)の沸点が特定温度に満たないものであると、急激に導電性向上剤(b−4)が蒸発してしまうため、導電性高分子(b−1)の配向が十分に制御されず導電性の向上につながらないものと考えられる。 When the boiling point of the conductivity improver (b-4) is equal to or higher than a specific temperature, the conductivity improver (b-4) is gradually volatilized by heating during the formation of the conductive layer (B). In the process, the orientation of the conductive polymer (b-1) is controlled to an orientation advantageous for the conductivity, and as a result, the conductivity is considered to be improved. On the other hand, when the boiling point of the conductivity improver (b-4) is less than the specific temperature, the conductivity improver (b-4) is suddenly evaporated, and thus the conductive polymer (b-1). ) Is not sufficiently controlled, and it is considered that the conductivity is not improved.

導電性組成物が導電性向上剤(b−4)を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、導電性高分子(b−1)の固形分100重量部に対して0.01〜100000重量部が好ましく、0.1〜10000重量部がより好ましく、1〜5000重量部がさらに好ましい。 When the conductive composition contains the conductivity improver (b-4), the content is not particularly limited, but is 0.01 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the conductive polymer (b-1). 100000 parts by weight is preferred, 0.1 to 10,000 parts by weight is more preferred, and 1 to 5000 parts by weight is even more preferred.

(金属ナノワイヤ)
導電性組成物に金属ナノワイヤを配合することにより、導電性組成物を用いて形成された導電層(B)の導電性を向上させることができる。
(Metal nanowires)
By mix | blending metal nanowire with a conductive composition, the electroconductivity of the conductive layer (B) formed using the conductive composition can be improved.

(溶媒)
溶媒としては、特に限定されず、例えば、水;メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレングリコール類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン(o−、m−、あるいはp−キシレン)、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類:酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類:クロロメタン(塩化メチル)、ジクロロメタン(塩化メチレン)、トリクロロメタン(クロロホルム)、テトラクロロメタン(四塩化炭素)等のハロゲン類、アセトニトリル、水とこれらの有機溶媒との混合溶媒(含水有機溶媒)、2種以上の有機溶媒の混合溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
(solvent)
The solvent is not particularly limited. For example, water; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-propanol; ethylene glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol; ethylene glycol monomethyl Glycol ethers such as ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether; Glycol ether acetates such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate; propylene glycol, dipropylene glycol, Such as tripropylene glycol Propylene glycols; propylene such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether Glycol ethers; Propylene glycol ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate; diethyl ether, diisopropyl ether Ethers such as methyl-t-butyl ether and tetrahydrofuran; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Carbonization such as toluene, xylene (o-, m-, or p-xylene), benzene, hexane, heptane, etc. Hydrogen: Esters such as ethyl acetate and butyl acetate: Halogens such as chloromethane (methyl chloride), dichloromethane (methylene chloride), trichloromethane (chloroform), tetrachloromethane (carbon tetrachloride), acetonitrile, water and these And a mixed solvent (hydrous organic solvent) with two or more organic solvents, and a mixed solvent of two or more organic solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒は、水、有機溶媒、又は、水と有機溶媒との混合溶媒であることが好ましい。導電性組成物が溶媒として水を含有する場合、水の含有量は、特に限定されないが、導電性組成物中70重量%以下であることが好ましく、50重量%以下であることがより好ましい。含有量が70重量%を超えると、粘度が低下し、導電性組成物の塗布性が低下することがある。 The solvent is preferably water, an organic solvent, or a mixed solvent of water and an organic solvent. When the conductive composition contains water as a solvent, the content of water is not particularly limited, but is preferably 70% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less in the conductive composition. When content exceeds 70 weight%, a viscosity will fall and the applicability | paintability of an electroconductive composition may fall.

溶媒は、導電性組成物を用いて形成する導電層(B)中には残留しないことが好ましい。なお、本明細書においては、導電性組成物の全ての成分を完全に溶解させるもの(即ち、「溶媒」)と、不溶成分を分散させるもの(即ち、「分散媒」)とを特に区別せずに、いずれも「溶媒」と記載する。 It is preferable that the solvent does not remain in the conductive layer (B) formed using the conductive composition. In the present specification, there is a particular distinction between those in which all components of the conductive composition are completely dissolved (ie, “solvent”) and those in which insoluble components are dispersed (ie, “dispersion medium”). All are described as “solvent”.

(架橋剤)
架橋剤を配合することによりバインダー(b−3)を架橋させることができ、導電性組成物を用いて形成された導電層(B)の強度をさらに向上させることができる。架橋剤としては、特に限定されないが、例えば、メラミン系、ポリカルボジイミド系、ポリオキサゾリン系、ポリエポキシ系、ポリイソシアネート系、ポリアクリレート系等の架橋剤が挙げられる。これらの架橋剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Crosslinking agent)
By blending the crosslinking agent, the binder (b-3) can be crosslinked, and the strength of the conductive layer (B) formed using the conductive composition can be further improved. Although it does not specifically limit as a crosslinking agent, For example, crosslinking agents, such as a melamine type, a polycarbodiimide type, a polyoxazoline type, a polyepoxy type, a polyisocyanate type, a polyacrylate type, are mentioned. These crosslinking agents may be used independently and may use 2 or more types together.

導電性組成物が架橋剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、導電性組成物の固形分中30重量%以下であることが好ましく、20重量%以下であることがより好ましい。 When the conductive composition contains a cross-linking agent, the content is not particularly limited, but is preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less in the solid content of the conductive composition.

(触媒)
導電性組成物がバインダー(b−3)及び架橋剤を含有する場合、バインダー(b−3)を架橋させるための触媒としては、特に限定されず、例えば、光重合開始剤や熱重合開始剤等が挙げられる。導電性組成物がバインダー(b−3)としてアクリル樹脂を含有する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。
(catalyst)
When the conductive composition contains a binder (b-3) and a crosslinking agent, the catalyst for crosslinking the binder (b-3) is not particularly limited. For example, a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator is used. Etc. When the conductive composition contains an acrylic resin as the binder (b-3), it is preferable to use a photopolymerization initiator.

(界面活性剤及び/又はレベリング剤)
界面活性剤及び/又はレベリング剤を配合することにより、導電性組成物のレベリング性を向上させることができ、このような導電性組成物を用いることで均一な導電層(B)を形成することができる。
(Surfactant and / or leveling agent)
By blending a surfactant and / or a leveling agent, the leveling property of the conductive composition can be improved, and a uniform conductive layer (B) is formed by using such a conductive composition. Can do.

(増粘剤)
増粘剤を導電性組成物に配合することにより、導電性組成物の粘度やレオロジー特性を調整することができる。増粘剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリアクリル酸系樹脂、セルロースエーテル樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、カルボキシビニルポリマー、ポリビニルアルコール等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用してもよい。
(Thickener)
By mix | blending a thickener with an electroconductive composition, the viscosity and rheological characteristic of an electroconductive composition can be adjusted. Although it does not specifically limit as a thickener, For example, polyacrylic acid-type resin, a cellulose ether resin, polyvinylpyrrolidone, a polyurethane, a carboxy vinyl polymer, polyvinyl alcohol etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

導電性組成物を用いて導電層(B)を形成する方法としては、特に限定されないが、導電性組成物を基材(A)上に塗布した後、加熱処理、光照射処理等する方法等が挙げられる。導電性組成物を基材(A)上に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ブレードコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、パッド印刷等を用いることができる。これらの中では、特にスプレーコート法、スクリーン印刷が好ましい。 The method for forming the conductive layer (B) using the conductive composition is not particularly limited, but the method of applying the conductive composition on the substrate (A) and then performing heat treatment, light irradiation treatment, etc. Is mentioned. A method for applying the conductive composition on the substrate (A) is not particularly limited, and examples thereof include a roll coating method, a bar coating method, a dip coating method, a spin coating method, a blade coating method, a curtain coating method, and a spray. A coating method, a doctor coating method, screen printing, offset printing, gravure offset printing, pad printing, or the like can be used. Of these, spray coating and screen printing are particularly preferred.

導電性組成物を基材(A)上に塗布する際には、あらかじめ基材(A)上にプライマー層等の層を形成し、その層上に導電性組成物を塗布しても良い。また、必要に応じて、あらかじめ基材(A)の表面に表面処理を施した後に導電性組成物を塗布しても良い。表面処理としては、特に限定されないが、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、イトロ処理、火炎処理等が挙げられる。 When applying a conductive composition on a base material (A), layers, such as a primer layer, may be previously formed on a base material (A), and a conductive composition may be apply | coated on the layer. Moreover, you may apply | coat an electroconductive composition, after giving surface treatment to the surface of a base material (A) previously as needed. The surface treatment is not particularly limited, and examples thereof include corona treatment, plasma treatment, itro treatment, and flame treatment.

基材(A)上に塗布された導電性組成物を加熱処理、光照射処理等することにより、基材(A)上に導電層(B)を形成することができる。加熱処理は、特に限定されず公知の方法により行えば良く、例えば、送風オーブン、赤外線オーブン、真空オーブン等を用いて行えば良い。なお、導電性組成物が溶媒を含有する場合、溶媒は、加熱処理により除去される。 The conductive layer (B) can be formed on the substrate (A) by subjecting the conductive composition applied on the substrate (A) to heat treatment, light irradiation treatment, or the like. The heat treatment is not particularly limited and may be performed by a known method. For example, the heat treatment may be performed using a blow oven, an infrared oven, a vacuum oven, or the like. Note that when the conductive composition contains a solvent, the solvent is removed by heat treatment.

加熱処理は、特に限定されないが、150℃以下の温度条件で行うことが好ましい。加熱処理の温度が150℃を超えると、用いる基材(A)の材質が限定され、例えば、PETフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム等の一般に透明電極フィルムに用いられる材質からなる基材(A)を用いることが出来なくなる。本発明では、150℃以下の温度条件での加熱処理であっても、十分な透明性及び導電性を有する導電積層体を得ることが出来る利点を有する。加熱処理の温度は、50〜140℃であることが好ましく、60〜130℃であることがより好ましい。加熱処理の処理時間は、特に限定されないが、0.1〜60分間であることが好ましく、0.5〜30分間であることがより好ましい。 Although heat processing is not specifically limited, It is preferable to perform on 150 degreeC or less temperature conditions. When the temperature of the heat treatment exceeds 150 ° C., the material of the base material (A) to be used is limited. For example, the base material (A) made of a material generally used for a transparent electrode film such as a PET film, a polycarbonate film, or an acrylic film. Can no longer be used. In this invention, even if it is heat processing on 150 degreeC or less temperature conditions, it has an advantage which can obtain the electrically conductive laminated body which has sufficient transparency and electroconductivity. The temperature of the heat treatment is preferably 50 to 140 ° C, and more preferably 60 to 130 ° C. Although the processing time of heat processing is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1 to 60 minutes, and it is more preferable that it is 0.5 to 30 minutes.

光照射処理には、特に限定されないが、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源から発する紫外線等を使用することができる。ここで、エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50〜5000mJ/cm程度である。 The light irradiation treatment is not particularly limited, but mainly ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, etc. are used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, or a metal halide lamp can be used. Here, the irradiation amount of the energy ray source is about 50 to 5000 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm.

本発明の導電積層体において、導電層(B)の表面抵抗率は、特に限定されないが、10Ω/□以下であることが好ましく、10Ω/□以下であることがより好ましい。なお、表面抵抗率は小さければ小さいほど好ましいため、その下限は限定されないが、例えば、0.1Ω/□である。表面抵抗率が10Ω/□を超えると、電極として性能を発揮できないことがある。 In the conductive laminate of the present invention, the surface resistivity of the conductive layer (B) is not particularly limited, but is preferably 10 5 Ω / □ or less, and more preferably 10 4 Ω / □ or less. In addition, since it is so preferable that a surface resistivity is small, the minimum is not limited, For example, it is 0.1 ohm / square. When the surface resistivity exceeds 10 5 Ω / □, performance as an electrode may not be exhibited.

導電層(B)について、100℃で100時間保持した後の表面抵抗率は、特に限定されないが、保持前の表面抵抗率の5倍以下であることが好ましく、3倍以下であることがより好ましい。保持後の表面抵抗率が保持前の表面抵抗率の5倍を超えると、透明性が不十分となることがある。 The surface resistivity of the conductive layer (B) after being held at 100 ° C. for 100 hours is not particularly limited, but is preferably 5 times or less of the surface resistivity before holding, and more preferably 3 times or less. preferable. If the surface resistivity after holding exceeds 5 times the surface resistivity before holding, the transparency may be insufficient.

本発明の導電積層体の全光線透過率は、特に限定されないが、50%以上が好ましく、60%以上がより好ましく、80%以上がさらに好ましい。一方、上限は100%である。 The total light transmittance of the conductive laminate of the present invention is not particularly limited, but is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and further preferably 80% or more. On the other hand, the upper limit is 100%.

本発明の導電積層体のヘイズ値は、特に限定されないが、1.0%以下が好ましく、0.8%以下がより好ましく、0.5%以下がさらに好ましい。ヘイズ値は小さければ小さいほど好ましいため、下限は特に限定されないが、例えば、0.01%である。 The haze value of the conductive laminate of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1.0% or less, more preferably 0.8% or less, and further preferably 0.5% or less. The smaller the haze value is, the better. Therefore, the lower limit is not particularly limited, but is 0.01%, for example.

本発明の導電積層体について、100℃で24時間保持した後のヘイズ値は、保持前のヘイズ値の5倍以下である限り特に限定されないが、2倍以下であることが好ましい。保持後のヘイズ値が保持前のヘイズ値の5倍を超えると、透明性が不十分となることがある。 About the electrically conductive laminated body of this invention, the haze value after hold | maintaining for 24 hours at 100 degreeC is not specifically limited as long as it is 5 times or less of the haze value before holding | maintenance, but it is preferable that it is 2 times or less. If the haze value after holding exceeds 5 times the haze value before holding, the transparency may be insufficient.

<<導電性組成物>>
本発明の導電性組成物は、本発明の導電積層体における導電層(B)を形成するために用いられることを特徴とする。本発明の導電性組成物の詳細については、上述の通りである。
<< Conductive composition >>
The conductive composition of the present invention is used for forming the conductive layer (B) in the conductive laminate of the present invention. The details of the conductive composition of the present invention are as described above.

以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。以下、「部」又は「%」は特記ない限り、それぞれ「重量部」又は「重量%」を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated, this invention is not limited to a following example. Hereinafter, “part” or “%” means “part by weight” or “% by weight”, respectively, unless otherwise specified.

1.使用材料
1−1. 導電性ポリマー
・導電性ポリマー(下記製造例1に示す)
・導電性ポリマー(ヘレウス社製、Clevios PH1000、固形分1.0%)
1. Materials used 1-1. Conductive polymer / conductive polymer (shown in Production Example 1 below)
-Conductive polymer (manufactured by Heraeus, Clevios PH1000, solid content 1.0%)

(製造例1)導電性ポリマーの製造
スターラー及び窒素入り口を装備した10Lの反応容器中に、5508gのイオン交換水、492gの12.8重量%ポリスチレンスルホン酸(PSS)(Mw=56000)水溶液を入れ、窒素を吹き込みながら25℃に保って1時間撹拌した。この時の溶液中の温度は25℃、酸素濃度は0.5mg/L、pHは0.8、撹拌速度は300rpmであった[酸素濃度はインプロ6000シリーズOセンサーを用いるニック・プロセス・ユニット73O(メトラー・トレド株式会社製)を用いて測定した]。次に、25.4g(179ミリモル)の3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)、0.45gのFe(SO・3HO、30gのNaを加え、重合反応を開始させた。25℃において12時間反応させた後、さらに30gのNaを加えた。12時間の追加反応時間後に、イオン交換樹脂LewatitS100H、LewatitMP62を用いて処理することにより、濃青色の高粘度PEDOT/PSSを4200g得た(固形分 2.2%)。
(Production Example 1) Production of conductive polymer In a 10 L reaction vessel equipped with a stirrer and a nitrogen inlet, 5508 g of ion-exchanged water, 492 g of 12.8 wt% polystyrene sulfonic acid (PSS) (Mw = 56000) aqueous solution were added. The mixture was kept at 25 ° C. with nitrogen blowing and stirred for 1 hour. At this time, the temperature in the solution was 25 ° C., the oxygen concentration was 0.5 mg / L, the pH was 0.8, and the stirring speed was 300 rpm. [The oxygen concentration is a nick process unit using an Impro 6000 series O 2 sensor. 73O 2 (measured using METTLER TOLEDO Co., Ltd.)]. Next, 25.4 g (179 mmol) 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), 0.45 g Fe 2 (SO 4 ) 3 .3H 2 O, 30 g Na 2 S 2 O 8 were added, The polymerization reaction was started. After reacting for 12 hours at 25 ° C., an additional 30 g of Na 2 S 2 O 8 was added. After an additional reaction time of 12 hours, 4200 g of dark blue high-viscosity PEDOT / PSS was obtained by treatment with ion exchange resins Lewatit S100H and Lewatit MP62 (solid content 2.2%).

1−2.バインダー(b−3)
・ポリエステル樹脂(東洋紡株式会社製、バイロナールMD−1245、Tg61℃、固形分30%)
・ポリエステル樹脂(ナガセケムテックス株式会社製、ガブセンES−9020、Tg25℃、固形分25%)
・ポリエステル樹脂(互応化学工業株式会社製、プラスコートZ−3310、Tg−20℃、固形分25%)
・ウレタン樹脂(第一工業製薬株式会社製、スーパーフレックス150、Tg40℃、固形分30%)
・ウレタン樹脂(DIC株式会社製、ハイドランWLS−210、Tg−30℃、固形分35%)
・シリケート樹脂(扶桑化学工業株式会社製、N−POS、Tg150℃以上、固形分70%)
・シリケート樹脂(信越化学工業株式会社製、KBE−402、Tg150℃以上、固形分100%)
・アクリレート(第一工業製薬株式会社製、ニューフロンティアR−1150D、Tg150℃以上、固形分85%)
1-2. Binder (b-3)
Polyester resin (Toyobo Co., Ltd., Vironal MD-1245, Tg 61 ° C., solid content 30%)
Polyester resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, Gabsen ES-9020, Tg 25 ° C., solid content 25%)
・ Polyester resin (manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd., plus coat Z-3310, Tg-20 ° C., solid content 25%)
-Urethane resin (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Superflex 150, Tg 40 ° C, solid content 30%)
-Urethane resin (manufactured by DIC Corporation, Hydran WLS-210, Tg-30 ° C, solid content 35%)
・ Silicate resin (manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd., N-POS, Tg 150 ° C. or higher, solid content 70%)
・ Silicate resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBE-402, Tg 150 ° C. or higher, solid content 100%)
Acrylate (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., New Frontier R-1150D, Tg 150 ° C. or higher, solid content 85%)

1−3.酸化防止剤(b−2)
・アスコルビン酸(和光純薬工業株式会社製、pKa4.1)
・タンニン酸(和光純薬工業株式会社製、pKa3.0)
・没食子酸(和光純薬工業株式会社製、pKa4.4)
・ヒドロキノン(和光純薬工業株式会社製、pKa9.9)
・グルコース(和光純薬工業株式会社製、pKa12.0)
1-3. Antioxidant (b-2)
・ Ascorbic acid (Wako Pure Chemical Industries, pKa4.1)
・ Tannic acid (Wako Pure Chemical Industries, pKa3.0)
・ Gallic acid (Wako Pure Chemical Industries, pKa4.4)
Hydroquinone (Wako Pure Chemical Industries, pKa9.9)
・ Glucose (Wako Pure Chemical Industries, pKa12.0)

1−4.導電性向上剤(b−4)
・ジメチルスルホキシド(DMSO)(和光純薬工業株式会社製)
・ジオキサン(和光純薬工業株式会社製)
・エチレングリコール(和光純薬工業株式会社製)
1-4. Conductivity improver (b-4)
・ Dimethyl sulfoxide (DMSO) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
・ Dioxane (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
・ Ethylene glycol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

2.評価方法
各実施例及び比較例で得た導電積層体について、以下のとおり評価を行った。
2. Evaluation Method The conductive laminates obtained in the respective examples and comparative examples were evaluated as follows.

2−1.初期表面抵抗率(SR)
導電層(B)の表面抵抗率を、抵抗率計(三菱化学社製、ロレスターGP MCP−T600)を用いて測定した。
2-1. Initial surface resistivity (SR)
The surface resistivity of the conductive layer (B) was measured using a resistivity meter (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Lorester GP MCP-T600).

2−2.耐熱性(ヘイズ値)
導電積層体形成直後のヘイズ値と、送風定温乾燥器(東京理化器械株式会社製、WFO−401型)を用いて100℃で24時間保持した後のヘイズ値とを、JIS K7150に従いヘイズコンピュータ(スガ試験機社製、HGM−2B)を用いて測定し、下記3段階で耐熱性(ヘイズ値)を評価した。
○:保持後のヘイズ値が、保持前のヘイズ値の2倍以下である
△:保持後のヘイズ値が、保持前のヘイズ値の2倍より大きく5倍以下である
×:保持後のヘイズ値が、保持前のヘイズ値の5倍より大きい
2-2. Heat resistance (haze value)
The haze value immediately after the formation of the conductive laminate and the haze value after being kept at 100 ° C. for 24 hours using a blower constant temperature dryer (manufactured by Tokyo Rika Kikai Co., Ltd., model WFO-401) are used in accordance with JIS K7150. It was measured using HGM-2B) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and the heat resistance (haze value) was evaluated in the following three stages.
○: Haze value after holding is 2 times or less of haze value before holding Δ: Haze value after holding is larger than 2 times haze value before holding and 5 times or less x: Haze after holding The value is larger than 5 times the haze value before holding

2−3.耐熱性(表面抵抗率)
導電積層体形成直後の表面抵抗率と、送風定温乾燥器(東京理化器械株式会社製、WFO−401型)を用いて100℃で100時間保持した後の表面抵抗率とを、抵抗率計(三菱化学社製、ロレスターGP MCP−T600)を用いて測定し、下記3段階で耐熱性(表面抵抗率)を評価した。
○:保持後の表面抵抗率が、保持前の表面抵抗率の3倍以下である
△:保持後の表面抵抗率が、保持前の表面抵抗率の3倍より大きく、5倍以下である。
×:保持後の表面抵抗率が、保持前の表面抵抗率の5倍より大きい
2-3. Heat resistance (surface resistivity)
A resistivity meter (the surface resistivity immediately after the formation of the conductive laminate and the surface resistivity after being held at 100 ° C. for 100 hours using a constant air dryer (Tokyo Rika Kikai Co., Ltd., WFO-401 type)) Measured using Mitsubishi Chemical Corporation, Lorester GP MCP-T600), the heat resistance (surface resistivity) was evaluated in the following three stages.
◯: The surface resistivity after holding is 3 times or less of the surface resistivity before holding Δ: The surface resistivity after holding is larger than 3 times the surface resistivity before holding and 5 times or less.
X: The surface resistivity after holding is larger than 5 times the surface resistivity before holding

(実施例1〜47、比較例1〜13)
表1〜3に記載した重量比にて各成分を混合し、導電性組成物を作製した。次に、得られた導電性組成物を、基材(A)としてのルミラーT−60(東レ株式会社製)上にバーコーター(株式会社安田精機製作所製)を用いて塗布し、送風定温乾燥機を用いて130℃で10分間加熱処理を行うことにより、導電層(B)を形成し、導電積層体を得た。
(Examples 1-47, Comparative Examples 1-13)
Each component was mixed by the weight ratio described in Tables 1-3, and the electrically conductive composition was produced. Next, the obtained conductive composition was applied onto Lumirror T-60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) as a base material (A) using a bar coater (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusyo Co., Ltd.), and dried at a constant air temperature. The conductive layer (B) was formed by heat-processing for 10 minutes at 130 degreeC using a machine, and the electrically conductive laminated body was obtained.

実施例1〜47及び比較例1〜13で得られた導電積層体を用いて、上述した方法により、初期表面抵抗率(SR)を測定するとともに、耐熱性(ヘイズ値)、耐熱性(表面抵抗率)を評価した。結果を表1〜3に示す。 Using the conductive laminates obtained in Examples 1 to 47 and Comparative Examples 1 to 13, the initial surface resistivity (SR) was measured by the method described above, and the heat resistance (haze value) and heat resistance (surface Resistivity). The results are shown in Tables 1-3.

Figure 0006617949
Figure 0006617949

Figure 0006617949
Figure 0006617949

Figure 0006617949
Figure 0006617949

Claims (9)

基材(A)の少なくとも一方の面に導電層(B)を有する導電積層体であって、
導電層(B)は、導電性高分子(b−1)、酸化防止剤(b−2)、及び、バインダー(b−3)を含む導電性組成物を用いて形成されたものであり、
酸化防止剤(b−2)の含有量は、導電性高分子(b−1)100重量部に対して50〜400重量部であり、
酸化防止剤(b−2)が、2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、及び/又は、フェノール性水酸基を2個以上有する化合物であり、
100℃で24時間保持した後のヘイズ値が、保持前のヘイズ値の5倍以下であることを特徴とする導電積層体。
A conductive laminate having a conductive layer (B) on at least one surface of a substrate (A),
The conductive layer (B) is formed using a conductive composition containing a conductive polymer (b-1), an antioxidant (b-2), and a binder (b-3).
The content of the antioxidant (b-2) is 50 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductive polymer (b-1).
The antioxidant (b-2) is a compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups, and / or a compound having two or more phenolic hydroxyl groups,
A conductive laminate, wherein a haze value after being held at 100 ° C. for 24 hours is 5 times or less of a haze value before being held.
バインダー(b−3)が、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリケート樹脂、アクリレート及びメラミン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項1に記載の導電積層体。 The conductive laminate according to claim 1, wherein the binder (b-3) is at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a silicate resin, an acrylate, and a melamine resin. バインダー(b−3)が、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つであり、Tgが0℃以上である、請求項1又は2に記載の導電積層体。 The conductive laminate according to claim 1, wherein the binder (b-3) is at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin, and Tg is 0 ° C. or higher. 酸化防止剤(b−2)のpKaが6以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の導電積層体。 The electrically conductive laminated body of any one of Claims 1-3 whose pKa of antioxidant (b-2) is 6 or less. 導電層(B)は、100℃で100時間保持した後の表面抵抗率が、保持前の表面抵抗率の5倍以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の導電積層体。 The conductive layered product according to any one of claims 1 to 4 , wherein the conductive layer (B) has a surface resistivity after being held at 100 ° C for 100 hours being 5 times or less of a surface resistivity before holding. . 導電層(B)の表面抵抗率が10Ω/□以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の導電積層体。 Conductive layer surface resistivity of the (B) is 10 5 Ω / □ or less, the conductive laminate according to any one of claims 1-5. 導電性高分子(b−1)が、ポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体である、請求項1〜のいずれか1項に記載の導電積層体。 The conductive laminate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the conductive polymer (b-1) is a composite of poly (3,4-alkylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid. 導電性組成物が、導電性向上剤(b−4)をさらに含み、
導電性向上剤(b−4)は、沸点が100℃以上であって、分子内に、少なくとも1つのスルフィニル基、少なくとも1つのアミド基又は少なくとも2つのヒドロキシル基を有する化合物である請求項1〜のいずれか1項に記載の導電積層体。
The conductive composition further includes a conductivity improver (b-4),
The conductivity improver (b-4) is a compound having a boiling point of 100 ° C or higher and having at least one sulfinyl group, at least one amide group, or at least two hydroxyl groups in the molecule. conductive laminate according to any one of 7.
請求項1〜のいずれか1項に記載の導電積層体における導電層(B)を形成するために用いられることを特徴とする導電性組成物。 Conductive composition characterized in that it is used to form the conductive layer (B) in the conductive laminate according to any one of claims 1-8.
JP2015111581A 2015-06-01 2015-06-01 Conductive laminate Active JP6617949B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015111581A JP6617949B2 (en) 2015-06-01 2015-06-01 Conductive laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015111581A JP6617949B2 (en) 2015-06-01 2015-06-01 Conductive laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016221874A JP2016221874A (en) 2016-12-28
JP6617949B2 true JP6617949B2 (en) 2019-12-11

Family

ID=57746949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015111581A Active JP6617949B2 (en) 2015-06-01 2015-06-01 Conductive laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6617949B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6910854B2 (en) * 2017-06-02 2021-07-28 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer dispersion, conductive substrate and its manufacturing method
JP7097832B2 (en) * 2019-01-29 2022-07-08 信越ポリマー株式会社 Manufacturing method of conductive laminate
JP7100603B2 (en) * 2019-03-22 2022-07-13 信越ポリマー株式会社 A conductive adhesive composition, a conductive adhesive structure and a method for manufacturing the same, and a conductive laminate and a method for manufacturing the same.

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5740925B2 (en) * 2010-11-15 2015-07-01 ナガセケムテックス株式会社 Conductive coating composition and laminate
JP2015078338A (en) * 2013-09-11 2015-04-23 ナガセケムテックス株式会社 Composition for formation of functional film and functional film laminate

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016221874A (en) 2016-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI664232B (en) Conductive resin composition and transparent conductive laminate
JP6417621B2 (en) Ink composition and transparent electrode
TWI541304B (en) Conductive coating composition and laminate
TWI679655B (en) Method for repairing and regenerating transparent conductive film and transparent conductive laminated body
JP5316000B2 (en) Conductive polymer / dopant organic solvent dispersion and composition containing the dispersion
JP5812311B1 (en) Transparent conductor, liquid crystal display device, and method of manufacturing transparent conductor
JP5509462B2 (en) Composition for conductive coating
JP6575893B2 (en) Conductive resin composition and transparent conductive laminate
JP6617949B2 (en) Conductive laminate
US20160196892A1 (en) Conductive resin composition and transparent conductive laminated body
JP2016132679A (en) Conductive layer forming composition, conductive laminate, electromagnetic wave shield member and method for producing conductive laminate having three-dimensional shape
WO2014132794A1 (en) Plating primer composition, method for manufacturing plated article, and plated article
JP5136195B2 (en) Conductive composition, conductive film using the same, and laminate having the conductive film
JP2012172024A (en) Composition for electroconductive coating, electroconductive thin film, and electroconductive film
JP6292443B2 (en) Repair composition for transparent conductive film and transparent conductive film
JP2015199641A (en) transparent conductive member
JP2008169308A (en) Conductive composition
JP2006028439A (en) Electroconductive polymer solution and electroconductive coated film
JP6779477B2 (en) Coating composition
JP5470831B2 (en) Polythiophene composition, conductive film using the same, and laminate
US20130308180A1 (en) Infrared reflective substrate
JP5516685B2 (en) Conductive composition, conductive film using the same, and laminate having the conductive film
JP2014148674A (en) Conductive coating composition
JP6361125B2 (en) Conductive composition
JP2021004300A (en) Conductive polymer-containing liquid, conductive film, and method of producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180411

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190108

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190308

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190508

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191001

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191031

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6617949

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250