JP6614449B2 - Anti-inflammatory agent - Google Patents

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Description

本発明は、紫外線による皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤に関する。   The present invention relates to an anti-inflammatory agent that suppresses skin inflammation caused by ultraviolet rays.

太陽光線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼすことが知られている。太陽光線には、様々な波長の光が混在している。太陽光線のうち、皮膚に悪影響を及ぼすのは、紫外線A(UVA)、紫外線B(UVB)、及び近赤外線といわれている。
UVA(波長320nm〜400nm)は、UVB(波長280nm〜320nm)と比べてエネルギー量が低いものの、皮膚の深部にある真皮まで到達する。長期間にわたる皮膚へのUVAの暴露は、アレルギーや皮膚がんといった疾病を引き起こす原因となる。
Sun rays are known to have various effects on human skin. Sunlight contains light of various wavelengths. Of the sun rays, it is said that ultraviolet rays A (UVA), ultraviolet rays B (UVB), and near infrared rays have an adverse effect on the skin.
Although UVA (wavelength 320 nm to 400 nm) has a lower energy amount than UVB (wavelength 280 nm to 320 nm), it reaches the dermis deep in the skin. Long-term exposure of UVA to the skin can cause diseases such as allergies and skin cancer.

より詳細には、皮膚にUVAを照射すると、表皮において、炎症性のサイトカインおよびシクロオキシゲネースー2(COX2)が産生される。炎症性のサイトカインおよびCOX2は、炎症に関わるプロスタグランジンE2の産生亢進を誘導する。その結果、微弱な炎症が長期間にわたって引き起こされ、アレルギーなどの皮膚疾病の原因となる(例えば、非特許文献1および非特許文献2参照。)。   More specifically, when the skin is irradiated with UVA, inflammatory cytokines and cyclooxygenase-2 (COX2) are produced in the epidermis. Inflammatory cytokines and COX2 induce increased production of prostaglandin E2 involved in inflammation. As a result, weak inflammation is caused over a long period of time, causing skin diseases such as allergies (see, for example, Non-Patent Document 1 and Non-Patent Document 2).

また、UVAは、UVBが透過し得ないガラスをも透過する。このため、UVAは、室内にいる人間の皮膚にも到達する。これらのことにより、近年、UVAに起因する皮膚への悪影響を抑制することの重要性が高まっている。   UVA also penetrates glass that UVB cannot penetrate. For this reason, UVA also reaches the human skin in the room. For these reasons, in recent years, the importance of suppressing adverse effects on the skin caused by UVA has increased.

従来、紫外線による皮膚への悪影響を回避するために、紫外線遮蔽剤を含む皮膚外用剤が用いられている。紫外線遮蔽剤としては、有機系または無機系の種々の紫外線吸収剤および/または紫外線散乱剤が知られている。
例えば、特許文献1には、シリカ、アルミナ、またはアルミナ/シリカにより被覆された酸化チタン粒子および酸化亜鉛粒子が併用配合されてなる化粧料が記載されている。
また、特許文献2には、植物生息微生物であるメチロバクテリウム属の細菌から抽出した紫外線吸収成分を含む紫外線吸収剤組成物が記載されている。
Conventionally, an external preparation for skin containing an ultraviolet shielding agent has been used in order to avoid the adverse effects of ultraviolet rays on the skin. As the ultraviolet shielding agent, various organic or inorganic ultraviolet absorbers and / or ultraviolet scattering agents are known.
For example, Patent Document 1 describes a cosmetic comprising a combination of titanium oxide particles and zinc oxide particles coated with silica, alumina, or alumina / silica.
Patent Document 2 describes an ultraviolet absorbent composition containing an ultraviolet absorbing component extracted from a bacterium belonging to the genus Methylobacterium which is a plant-inhabiting microorganism.

特開2002−154915号公報JP 2002-154915 A 特開2013−127027号公報JP2013-127027A

炎症 VOL.20 NO.1 JANUARY 2000,pp45-50Inflammation VOL.20 NO.1 JANUARY 2000, pp45-50 Journal of Investigative Dermatology Symposium Proceedings 4:177-183,1999Journal of Investigative Dermatology Symposium Proceedings 4: 177-183,1999

従来、皮膚をUVAから遮蔽する機能を有し、かつ皮膚をUVAに暴露することによって起こる皮膚の炎症を生理的に抑制する抗炎症剤はなかった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、皮膚をUVAに暴露することによって起こる皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤を提供することを課題とする。
Conventionally, no anti-inflammatory agent has a function of shielding the skin from UVA and physiologically suppresses inflammation of the skin caused by exposing the skin to UVA.
This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the anti-inflammatory agent which suppresses the inflammation of the skin which arises by exposing skin to UVA.

本発明者らは、上記課題を解決するために、UVA吸収能を有する下記式(I)で表わされる化合物に着目し、鋭意検討した。その結果、本発明者らは、式(I)で表わされる化合物が、皮膚をUVAに暴露することによって起こる皮膚の炎症を抑制する作用を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の構成を採用する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors paid attention to a compound represented by the following formula (I) having UVA absorption ability, and conducted intensive studies. As a result, the present inventors have found that the compound represented by the formula (I) has an action of suppressing skin inflammation caused by exposing the skin to UVA, and completed the present invention.
That is, the present invention adopts the following configuration.

[1] 紫外線による皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤であり、式(I)で表わされる化合物またはその塩を含有する抗炎症剤。 [1] An anti-inflammatory agent which suppresses skin inflammation caused by ultraviolet rays and which contains a compound represented by the formula (I) or a salt thereof.

Figure 0006614449
Figure 0006614449

(式(I)において、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基を表す。Rは、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基を表す。Xは、水素原子、糖分子数1〜10の直鎖状または分岐状の糖鎖を表す。) (In Formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched structure having 1 to 5 carbon atoms. Represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 3 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. X represents a hydrogen atom or a linear or branched sugar chain having 1 to 10 sugar molecules.)

[2] 式(I)で表わされる化合物またはその塩が、式(I)におけるRおよびRがメチル基であり、Rが水素原子である式(II)で表わされる化合物またはその塩である[1]に記載の抗炎症剤。 [2] A compound represented by the formula (I) or a salt thereof, a compound represented by the formula (II) or a salt thereof, wherein R 1 and R 2 in the formula (I) are methyl groups and R 3 is a hydrogen atom The anti-inflammatory agent according to [1].

Figure 0006614449
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[3] 式(I)において、RおよびRがメチル基であり、Rが水素原子であり、Xが糖分子数5の直鎖状の糖鎖である[1]に記載の抗炎症剤。 [3] In Formula (I), R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 is a hydrogen atom, and X is a linear sugar chain having 5 sugar molecules. Inflammatory agent.

本発明の抗炎症剤は、紫外線による皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤であり、式(I)で表わされる化合物またはその塩を含有する。このことによって、本発明の抗炎症剤を塗布した皮膚がUVAに暴露された場合、シクロオキシゲネースー2(COX2)を産生する遺伝子の発現が抑制される。その結果、COX2によるプロスタグランジンE2の産生亢進が抑制される。したがって、本発明の抗炎症剤を皮膚に塗布することで、UVAに暴露することによる皮膚の表皮の炎症が抑制される。   The anti-inflammatory agent of the present invention is an anti-inflammatory agent that suppresses skin inflammation caused by ultraviolet rays, and contains a compound represented by the formula (I) or a salt thereof. This suppresses the expression of the gene that produces cyclooxygenase-2 (COX2) when the skin coated with the anti-inflammatory agent of the present invention is exposed to UVA. As a result, increased production of prostaglandin E2 by COX2 is suppressed. Therefore, by applying the anti-inflammatory agent of the present invention to the skin, inflammation of the skin epidermis due to exposure to UVA is suppressed.

また、本発明の抗炎症剤は、UVA吸収能を有する。よって、本発明の抗炎症剤は、これを塗布した皮膚がUVAに暴露された場合に、皮膚をUVAから遮蔽し、UVAに暴露されることによる皮膚の炎症を効果的に抑制する。   The anti-inflammatory agent of the present invention has UVA absorption ability. Therefore, the anti-inflammatory agent of this invention shields skin from UVA when the skin which apply | coated this is exposed to UVA, and suppresses the inflammation of the skin by being exposed to UVA effectively.

実施例で得られた粗精製物のHPLC解析における紫外線吸収強度と溶出時間との関係を示したグラフである。It is the graph which showed the relationship between the ultraviolet absorption intensity and the elution time in the HPLC analysis of the crudely purified product obtained in the examples.

以下、本発明について詳細に説明する。
「抗炎症剤」
本実施形態の抗炎症剤は、紫外線による皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤であり、式(I)で表わされる化合物またはその塩を有効成分として含有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
"Anti-inflammatory agents"
The anti-inflammatory agent of this embodiment is an anti-inflammatory agent that suppresses skin inflammation caused by ultraviolet rays, and contains a compound represented by the formula (I) or a salt thereof as an active ingredient.

Figure 0006614449
Figure 0006614449

(式(I)において、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基を表す。Rは、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基を表す。Xは、水素原子、糖分子数1〜10の直鎖状または分岐状の糖鎖を表す。) (In Formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched structure having 1 to 5 carbon atoms. Represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 3 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. X represents a hydrogen atom or a linear or branched sugar chain having 1 to 10 sugar molecules.)

式(I)において、Rは、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基であり、炭素数1〜5の直鎖状のアルキル基、メトキシ基、ビニル基であることが好ましく、炭素数1〜2のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが最も好ましい。 In the formula (I), R 1 is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a C 1 to 5 carbon atom. A linear or branched alkenyl group, preferably a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, or a vinyl group, and more preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. Preferably, it is a methyl group.

は、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基であり、炭素数1〜5の直鎖状のアルキル基、メトキシ基であることが好ましく、炭素数1〜2のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが最も好ましい。
なお、Rが炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基である場合、−CH−C基であると、紫外線吸収能に関係のある電子の共役に対する影響が少ないため好ましい。
R 2 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear or branched group having 1 to 5 carbon atoms. It is preferably a linear alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms and a methoxy group, more preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and most preferably a methyl group. preferable.
In addition, when R 2 is a linear or branched alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, if it is a —CH 2 —C 4 H 7 group, it has an influence on the conjugation of electrons related to the ultraviolet absorption ability. It is preferable because there are few.

は、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基であり、水素原子または炭素数1〜2アルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが最も好ましい。 R 3 is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 2 carbon atoms. It is preferably a group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom.

式(I)において、Rが水素原子である場合、式(I)で表わされる化合物が有しているカルボキシル基は、塩を形成していてもよい。化合物の有しているカルボキシル基が塩を形成している場合、カルボン酸アルカリ金属塩またはカルボン酸アミン塩であることが好ましく、カルボン酸アルカリ金属塩であることがより好ましく、カルボン酸ナトリウム塩であることが最も好ましい。 In formula (I), when R 3 is a hydrogen atom, the carboxyl group possessed by the compound represented by formula (I) may form a salt. When the carboxyl group of the compound forms a salt, it is preferably a carboxylic acid alkali metal salt or a carboxylic acid amine salt, more preferably a carboxylic acid alkali metal salt, and a carboxylic acid sodium salt. Most preferably it is.

Xは、水素原子、糖分子数1〜10の直鎖状または分岐状の糖鎖であり、水素原子または糖分子数1〜10の直鎖状の糖鎖であることが好ましく、水素原子または糖分子数3〜8の直鎖状の糖鎖であることがより好ましく、水素原子または糖分子数5の直鎖状の糖鎖であることがさらに好ましい。   X is a hydrogen atom or a linear or branched sugar chain having 1 to 10 sugar molecules, preferably a hydrogen atom or a linear sugar chain having 1 to 10 sugar molecules, A linear sugar chain having 3 to 8 sugar molecules is more preferable, and a linear sugar chain having 5 or 5 sugar molecules is more preferable.

式(I)で表わされる化合物またはその塩は、特に、RおよびRがメチル基であり、RおよびXが水素原子である式(II)で表される化合物またはその塩、またはRおよびRがメチル基であり、Rが水素原子であり、Xが糖分子数5の直鎖状の糖鎖である化合物またはその塩であることが好ましい。糖分子はピラノースでもフラノースでもよいが、ピラノースであることが好ましい。 The compound represented by the formula (I) or a salt thereof is particularly a compound represented by the formula (II) or a salt thereof, wherein R 1 and R 2 are methyl groups, and R 3 and X are hydrogen atoms, or R It is preferable that 1 and R 2 are methyl groups, R 3 is a hydrogen atom, and X is a straight-chain sugar chain having 5 sugar molecules or a salt thereof. The sugar molecule may be pyranose or furanose, but is preferably pyranose.

Figure 0006614449
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およびRがメチル基であり、Rが水素原子であり、Xが糖分子数5の直鎖状の糖鎖である化合物またはその塩は、Xが互いに1,4−グリコシド結合した5つの六炭糖(ピラノース)からなる糖鎖である式(III)で表される化合物またはその塩、Xが互いに1,6−グリコシド結合した5つの六炭糖(ピラノース)からなる糖鎖である式(IV)で表される化合物またはその塩、式(I)におけるXが5つの六炭糖(ピラノース)からなる直鎖状の糖鎖であって六炭糖同士が1,4−グリコシド結合している部分と1,6−グリコシド結合している部分とが混在している糖鎖である化合物またはその塩であることが好ましい。式(III)で表される化合物またはその塩、式(IV)で表される化合物またはその塩、式(I)におけるXが5つの六炭糖(ピラノース)からなる直鎖状の糖鎖であって六炭糖同士が1,4−グリコシド結合している部分と1,6−グリコシド結合している部分とが混在している糖鎖である化合物またはその塩は、これらの中から選ばれる2種以上が任意の割合で混合された混合物として存在していてもよい。 R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 is a hydrogen atom, X is a linear sugar chain having 5 sugar molecules, or a salt thereof, X is 1,4-glycosidically bonded to each other A compound represented by the formula (III), which is a sugar chain consisting of five hexoses (pyranose) or a salt thereof, and a sugar chain consisting of five hexoses (pyranose) in which X is 1,6-glycosidically bonded to each other A compound represented by a formula (IV) or a salt thereof, wherein X in the formula (I) is a linear sugar chain composed of five hexoses (pyranose), and the hexoses are 1,4-glycosides A compound or a salt thereof which is a sugar chain in which a bonded part and a 1,6-glycoside bonded part are mixed is preferable. A compound represented by formula (III) or a salt thereof, a compound represented by formula (IV) or a salt thereof, and X in formula (I) is a linear sugar chain composed of five hexoses (pyranose) A compound or a salt thereof, which is a sugar chain in which a portion where hexoses are bonded with 1,4-glycosides and a portion where 1,6-glycosides are bonded, is selected from these. Two or more kinds may exist as a mixture in which an arbitrary ratio is mixed.

Figure 0006614449
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Figure 0006614449
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式(II)で表わされる化合物またはその塩は、式(V)で表わされる平衡状態の分子内塩として存在しているものであってもよい。より詳細には、式(V)では、式(II)で表わされる化合物またはその塩における炭素原子と二重結合している窒素原子から別の窒素原子との間の構造(N=C−C=C−N)が、平衡状態(N=C−C=C−N⇔N−C=C−C=N)となっている。 The compound represented by the formula (II) or a salt thereof may exist as an inner salt in an equilibrium state represented by the formula (V). More specifically, in the formula (V), a structure (N = C—C) between a nitrogen atom double-bonded to a carbon atom and another nitrogen atom in the compound represented by the formula (II) or a salt thereof. = C−N) is in an equilibrium state (N + = C−C = C−N⇔N−C = C−C = N + ).

Figure 0006614449
Figure 0006614449

式(I)、式(III)、式(IV)で表される化合物またはその塩においても、式中における(N=C−C=C−N)の部分が、平衡状態(N=C−C=C−N⇔N−C=C−C=N(式(V)参照))の分子内塩として存在していてもよい。
また、式(I)で表される化合物またはその塩には、複数の立体異性体が存在する。式(I)で表される化合物またはその塩には、これらすべての立体異性体が包含される。
Also in the compound represented by the formula (I), the formula (III), the formula (IV) or a salt thereof, the (N = C—C═C—N) moiety in the formula is in an equilibrium state (N + = C -C = C-N 分子 N-C = C-C = N + (see formula (V))) may be present as an inner salt.
In addition, the compound represented by the formula (I) or a salt thereof has a plurality of stereoisomers. The compound represented by the formula (I) or a salt thereof includes all these stereoisomers.

本実施形態の抗炎症剤に含まれる化合物またはその塩は、式(I)で表わされる構造を有するため、水系溶媒に対する溶解性を有し、皮膚をUVAに暴露することによって起こる皮膚の炎症を抑制する機能と、UVA領域での紫外線を吸収する機能とに優れる。
式(I)で表わされる化合物またはその塩における紫外線吸収能は、式(I)における共役系(炭素原子と二重結合している窒素原子からRの結合した窒素原子との間の構造(N=C−C=C−N))が寄与するものと推定される。詳細なメカニズムは不明だが、pH等を調整することにより、式(I)における(N=C−C=C−N)の部分が平衡状態(N=C−C=C−N⇔N−C=C−C=N(式(V)参照))を形成し、電子の共役に関与して、紫外線吸収能を示すものと考えられる。
Since the compound or salt thereof contained in the anti-inflammatory agent of the present embodiment has the structure represented by the formula (I), it has solubility in an aqueous solvent and causes skin inflammation caused by exposing the skin to UVA. It is excellent in the function to suppress and the function to absorb ultraviolet rays in the UVA region.
The ultraviolet absorptivity of the compound represented by the formula (I) or a salt thereof is determined by the conjugated system in the formula (I) (the structure between the nitrogen atom double-bonded to the carbon atom and the nitrogen atom bonded to R 1 ( N = C−C = C−N)) is presumed to contribute. Although the detailed mechanism is unknown, by adjusting pH or the like, the part of (N = C—C = C—N) in the formula (I) is in an equilibrium state (N + = C—C = C−N⇔N− C = C-C = N + (see formula (V))) and participates in the conjugation of electrons, and is considered to exhibit ultraviolet absorbing ability.

なお、式(I)で表わされる化合物またはその塩では、R、R、R、Xはいずれも上述した電子の共役に影響を与えない位置に配置されている。このため、式(I)で表わされる化合物またはその塩におけるR、R、R、Xが、上述した如何なるものであっても同様に優れた紫外線吸収能が得られる。 In the compound represented by formula (I) or a salt thereof, R 1 , R 2 , R 3 , and X are all arranged at positions that do not affect the above-described electron conjugation. For this reason, the excellent ultraviolet absorptivity is similarly obtained regardless of R 1 , R 2 , R 3 , and X in the compound represented by the formula (I) or a salt thereof.

「化合物またはその塩の製造方法」
本実施形態の抗炎症剤に含まれる式(I)で表される化合物またはその塩は、例えば、以下に示す製造方法により製造できる。
すなわち、植物に生育する微生物を培養して菌体を得る工程(第1工程)と、菌体を溶媒で抽出して抽出物を得る工程(第2工程)と、抽出物から式(I)で表される化合物またはその塩を回収する工程(第3工程)とを行う。
"Method for producing compound or salt thereof"
The compound represented by the formula (I) or a salt thereof contained in the anti-inflammatory agent of this embodiment can be produced, for example, by the production method shown below.
That is, a step of culturing microorganisms growing on a plant to obtain microbial cells (first step), a step of extracting microbial cells with a solvent to obtain an extract (second step), and formula (I) from the extract And a step (third step) of recovering the compound represented by the formula:

(第1工程)
本実施形態において培養する微生物は、植物に成育しているものである。
微生物を採取する植物の種類は、特に限定されるものではない。植物の種類としては、例えば、コムギ穂、イチゴ葉、月見草の花弁、イネ葉鞘などが挙げられる。これらの植物は、式(I)で表わされる化合物またはその塩を生成するメチロバクテリウム属の微生物が多く生育しているため好ましい。
植物に生育する微生物を植物から採取する方法としては、例えば、植物をリン酸緩衝液中に浸漬して、乳鉢中で磨砕し、微生物を含む磨砕液を得る方法などが挙げられる。
(First step)
The microorganisms cultured in this embodiment are grown on plants.
The type of plant from which the microorganism is collected is not particularly limited. Examples of plant types include wheat ears, strawberry leaves, evening primrose petals, and rice leaf sheaths. These plants are preferable because many microorganisms of the genus Methylobacterium that produce the compound represented by the formula (I) or a salt thereof are grown.
Examples of the method for collecting microorganisms that grow on the plant from the plant include a method of immersing the plant in a phosphate buffer solution and grinding it in a mortar to obtain a grinding solution containing the microorganisms.

微生物の培養方法としては、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、微生物の培養方法として、液体培養法を用いてもよいし、固体培養法を用いてもよいし、液体培養法および固体培養法を用いてもよく、培養する菌体の種類等に応じて適宜決定できる。
微生物の培養に用いる培地としては、例えば、標準寒天培地、L(Lennox)培地、LB(Luria Bertani)培地、NB(Nutrient Broth)培地、PD(ポテトデキストロース)培地、PPD(ポテト・ぺプトン・デキストロース)培地、TB(Terrific broth)培地などを使用できる。
A conventionally known method can be used as a method for culturing microorganisms. Specifically, as a method for culturing microorganisms, a liquid culture method, a solid culture method, a liquid culture method or a solid culture method may be used, and the types of cells to be cultured. It can be appropriately determined according to the like.
Examples of the medium used for culturing the microorganism include standard agar medium, L (Lennox) medium, LB (Luria Bertani) medium, NB (Nutrient Broth) medium, PD (potato dextrose) medium, PPD (potato peptone dextrose). ) Medium, TB (Terrific broth) medium, etc. can be used.

本実施形態では、微生物の培養方法の一例として、以下に示す方法を用いる場合を例に挙げて説明する。
まず、植物から採取した微生物を固体培養法により培養し、植物から採取した微生物中に含まれる各菌体を分離回収する。具体的には、上記の方法により植物から採取した微生物を含む磨砕液を、固体培地の表面に塗布(塗抹)して培養し、コロニーを形成させる。固体培地を用いる場合における微生物の培養条件としては、従来公知の条件を採用できる。具体的には、例えば、25℃で3〜7日間、好気条件とすることができる。
In the present embodiment, as an example of a microorganism culturing method, a case where the following method is used will be described as an example.
First, a microorganism collected from a plant is cultured by a solid culture method, and each microbial cell contained in the microorganism collected from the plant is separated and recovered. Specifically, a grinding liquid containing microorganisms collected from a plant by the above method is applied (smeared) on the surface of a solid medium and cultured to form colonies. Conventionally known conditions can be adopted as culture conditions for microorganisms in the case of using a solid medium. Specifically, for example, aerobic conditions can be set at 25 ° C. for 3 to 7 days.

次いで、固体培地の表面に出現した単コロニーを掻き取る方法により、単コロニーを形成している菌体を回収し、植物から採取した微生物中に含まれる各菌体を分離する。
固体培地の表面に出現した単コロニーから回収した各菌体は、必要に応じて、各菌体毎に、新たな固体培地の表面に塗布して培養(純粋培養)し、回収してもよい。
Next, the cells forming single colonies are collected by a method of scraping the single colonies appearing on the surface of the solid medium, and the individual cells contained in the microorganisms collected from the plant are separated.
Each bacterial cell recovered from a single colony that appears on the surface of the solid medium may be applied to the surface of a new solid medium and cultured (pure culture) for each bacterial cell, if necessary, and recovered. .

次に、このようにして植物から採取した微生物中から分離回収した各菌体について、分光測色方法、吸光光度法などにより、紫外線吸収能の有無を調べる。
次いで、分離回収した各菌体のうち紫外線吸収能を有する菌体を同定する。菌体の同定方法としては、例えば、rRNA遺伝子の塩基配列に基づき同定する方法など、従来公知の方法を用いることができる。
Next, the presence or absence of ultraviolet absorbing ability is examined by spectrocolorimetric method, absorptiometric method, etc. for each bacterial cell separated and recovered from the microorganisms collected from the plant in this way.
Next, among the separated and recovered cells, cells having ultraviolet absorbing ability are identified. As a method for identifying a bacterial cell, a conventionally known method such as a method of identifying based on the base sequence of an rRNA gene can be used.

本実施形態では、同定した菌体のうち、メチロバクテリウム属の菌体を、液体培養法により培養する。メチロバクテリウム属の微生物は、式(I)で表される化合物またはその塩を生成する。メチロバクテリウム属に属する微生物の中でも特に、後述するWI−182株(菌株名)、W−213株(菌株名)、f11株(菌株名)、24N−25株(菌株名)を用いることが好ましい。これらの菌株は、植物に成育する微生物であり、培養により増やすことができ、式(I)で表される化合物またはその塩を効率よく生成できる。特に、WI−182株(菌株名)は、培養により容易に増やすことができ、好ましい。   In the present embodiment, among the identified bacterial cells, the bacterial cells of the genus Methylobacterium are cultured by the liquid culture method. A microorganism belonging to the genus Methylobacterium produces a compound represented by the formula (I) or a salt thereof. Among microorganisms belonging to the genus Methylobacterium, the WI-182 strain (strain name), the W-213 strain (strain name), the f11 strain (strain name), and the 24N-25 strain (strain name) described later are used. Is preferred. These strains are microorganisms that grow on plants, can be increased by culture, and can efficiently produce the compound represented by the formula (I) or a salt thereof. In particular, WI-182 strain (strain name) is preferable because it can be easily increased by culture.

次に、植物から採取した微生物中から上記の方法により分離回収したメチロバクテリウム属の菌体を、液体培養法により培養する。植物から採取した微生物から分離回収した菌体中に、複数種のメチロバクテリウム属の菌体が含まれている場合、複数種のメチロバクテリウム属の菌体から紫外線吸収能の最も高い菌体を選択して、液体培養法により培養することが好ましい。
本実施形態では、植物から採取した微生物を個体培養法により培養・分離回収し、得られた各菌体のうち、紫外線吸収能を有するメチロバクテリウム属の菌体のみを液体培養法により培養する。このため、植物から採取した微生物中に含まれる紫外線吸収能を有する菌体を、効率よく増やすことができる。
Next, the cells of the genus Methylobacterium separated and recovered from the microorganisms collected from the plant by the above method are cultured by a liquid culture method. When the cells isolated from the microorganisms collected from the plant contain multiple types of Methylobacterium, the highest UV-absorbing ability from the multiple types of Methylobacterium It is preferable to select cells and culture them by a liquid culture method.
In the present embodiment, microorganisms collected from plants are cultured and separated and collected by an individual culture method, and among the obtained bacterial cells, only the cells of the genus Methylobacterium having ultraviolet absorption ability are cultured by a liquid culture method. To do. For this reason, the microbial cell which has the ultraviolet absorption ability contained in the microorganisms extract | collected from the plant can be increased efficiently.

液体培地を用いる場合における菌体の培養条件としては、従来公知の条件を採用できる。具体的には、例えば、25℃で3〜7日間、好気条件とすることができる。
液体培養法では、菌体を効率よく増やすために、菌体を含む液体培地を撹拌したり振盪したり、菌体を含む液体培地に空気を供給したりしながら培養してもよい。
液体培地を用いて培養して得られた菌体は、例えば、遠心分離法、濾過法などを用いて回収できる。液体培地から回収した菌体は、凍結し、真空乾燥してから、次の工程において溶媒で抽出してもよいし、回収した状態のまま、次の工程において溶媒で抽出してもよい。
Conventionally known conditions can be employed as the culture conditions for the bacterial cells when using a liquid medium. Specifically, for example, aerobic conditions can be set at 25 ° C. for 3 to 7 days.
In the liquid culture method, in order to increase the number of cells efficiently, the liquid medium containing the cells may be cultured while being stirred or shaken, or air is supplied to the liquid medium containing the cells.
Bacteria obtained by culturing using a liquid medium can be recovered using, for example, a centrifugation method, a filtration method, or the like. The cells recovered from the liquid medium may be frozen and vacuum dried, and then extracted with a solvent in the next step, or may be extracted with a solvent in the next step while being recovered.

また、液体培地で培養した菌体は、式(I)で表される化合物またはその塩の生成量を十分に確保するために、必要に応じて、新たな液体培地を用いてさらに培養してから回収してもよい。   In addition, the cells cultured in a liquid medium may be further cultured using a new liquid medium as necessary in order to secure a sufficient amount of the compound represented by formula (I) or a salt thereof. May be recovered from.

(第2工程)
次に、第1工程で培養して回収したメチロバクテリウム属の菌体を、溶媒で抽出して抽出物を得る。抽出物を得る方法としては、例えば、以下に示す方法が挙げられる。まず、菌体に溶媒を加えて撹拌し、菌体から溶媒中に式(I)で表される化合物またはその塩を抽出する。次いで、抽出後の菌体を含む溶媒を濾過することにより、濾過液として抽出液を得る。その後、抽出液を濃縮し、凍結、真空乾燥させることにより、抽出物が得られる。
本実施形態において、菌体の抽出に用いる溶媒としては、例えば、アルコール、またはアルコールと水との混合溶液などが挙げられる。これらの中でも、溶媒として、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、またはこれらと水との混合溶液を用いることが好ましく、メタノールと水との混合溶液を用いることがより好ましい。
(Second step)
Next, the cells of the genus Methylobacterium collected by culturing in the first step are extracted with a solvent to obtain an extract. Examples of the method for obtaining the extract include the following methods. First, a solvent is added to the cells and stirred, and the compound represented by the formula (I) or a salt thereof is extracted from the cells in the solvent. Next, the solvent containing the cells after extraction is filtered to obtain an extract as a filtrate. Thereafter, the extract is concentrated, frozen and vacuum dried to obtain an extract.
In the present embodiment, examples of the solvent used for bacterial cell extraction include alcohol or a mixed solution of alcohol and water. Among these, as a solvent, it is preferable to use methanol, ethanol, isopropyl alcohol, or a mixed solution of these and water, and it is more preferable to use a mixed solution of methanol and water.

(第3工程)
次に、第2工程で得た抽出物から目的物である式(I)で表される化合物またはその塩を回収する工程を行う。
本実施形態では、抽出物から目的物を回収する工程として、アルカリ処理と精製処理とを行う。アルカリ処理は、精製処理の前に行ってもよいし、精製処理の後に行ってもよいし、精製処理とともに行ってもよい。
(Third step)
Next, a step of recovering the compound represented by the formula (I) or a salt thereof, which is the target product, from the extract obtained in the second step.
In the present embodiment, alkali treatment and purification treatment are performed as a step of recovering the target product from the extract. The alkali treatment may be performed before the purification treatment, after the purification treatment, or may be performed together with the purification treatment.

アルカリ処理は、抽出物とアルカリ性溶液とを接触させて、抽出物からさらに目的物を抽出することにより実施する。アルカリ性溶液のpHは、好ましくは9.0〜14.0、より好ましくは10.0〜13.0、さらに好ましくは11.0〜12.0である。アルカリ性溶液としては、例えば、アンモニア水とメタノールとの混合溶液が挙げられる。   The alkali treatment is carried out by bringing the extract into contact with an alkaline solution and further extracting the target product from the extract. The pH of the alkaline solution is preferably 9.0 to 14.0, more preferably 10.0 to 13.0, and still more preferably 11.0 to 12.0. Examples of the alkaline solution include a mixed solution of aqueous ammonia and methanol.

精製処理の方法としては、従来公知の方法を用いることができ、例えば、アニオン交換クロマトグラフィー法、カチオン交換クロマトグラフィー法、疎水性クロマトグラフィー法、アフィニティークロマトグラフィー法、逆相クロマトグラフィー法などが挙げられる。精製処理は、上記のクロマトグラフィー法を混合した混合モードクロマトグラフィー法により行ってもよいし、異なる種類のクロマトグラフィー法を複数回実施する方法により行ってもよい。精製処理の方法としては、上記の中でも特に、カラムとしてWATERS製のPoraPak Rxn CX等を用いるカチオン交換クロマトグラフィー法、カラムとしてクロマニックテクノロジーズ製のSunrise C28等を用いる疎水性クロマトグラフィー法が好ましい。   As a purification method, a conventionally known method can be used, and examples thereof include anion exchange chromatography, cation exchange chromatography, hydrophobic chromatography, affinity chromatography, and reverse phase chromatography. It is done. The purification treatment may be performed by a mixed mode chromatography method in which the above chromatography methods are mixed, or may be performed by a method in which different types of chromatography methods are performed a plurality of times. Among the methods described above, the purification method is particularly preferably a cation exchange chromatography method using Porata Pak Rxn CX manufactured by WATERS as a column and a hydrophobic chromatography method using Sunrise C28 manufactured by Chromanic Technologies as a column.

精製処理とともにアルカリ処理を行う方法としては、例えば、前述のクロマトグラフィー法を前述のアルカリ性溶液を用いて実施する方法が挙げられる。具体的には、カラムとしてWATERS製のPoraPak Rxn CXを用いるカチオン交換クロマトグラフィー法を用い、アルカリ性溶液であるアンモニア水とメタノールとの混合溶液で溶出した成分を回収する方法を用いることが好ましい。   Examples of the method of performing the alkali treatment together with the purification treatment include a method of performing the above-described chromatography method using the above-mentioned alkaline solution. Specifically, it is preferable to use a cation exchange chromatography method using Porata Px Rxn CX manufactured by WATERS as a column and recovering components eluted with a mixed solution of aqueous ammonia and methanol as an alkaline solution.

以上の工程を行うことにより、目的物である式(I)で表される化合物またはその塩が得られる。   By performing the above steps, the compound represented by the formula (I) or a salt thereof, which is the target product, is obtained.

本実施形態の製造方法により回収した目的物は、LC/MS(液体クロマトグラフィー質量分析)解析、NMR(核磁気共鳴)解析、X線結晶構造解析などを用いて、式(I)で表される化合物であることを確認できる。   The target product recovered by the production method of the present embodiment is represented by the formula (I) using LC / MS (liquid chromatography mass spectrometry) analysis, NMR (nuclear magnetic resonance) analysis, X-ray crystal structure analysis, and the like. Can be confirmed.

LC/MS解析は、例えば、以下に示す条件で実施できる。
LC(液体クロマトグラフィー)としては、株式会社島津製作所製のLCSolution、PDA検出器(SPD−M10A)を用い、カラム温度40℃、流速1.0ml/minm、移動相として、ギ酸アンモニウム、ギ酸水溶液、ギ酸メタノール溶液から選ばれるいずれか1種以上を用いて実施できる。MS(質量分析)は、ESI(エレクトロスプレーイオン化)イオントラップ法にしたがって実施できる。
NMR解析は、例えば、BRUKER BIOSPIN製のAVANCE500を使用して、重水中で実施できる。
The LC / MS analysis can be performed, for example, under the following conditions.
As LC (liquid chromatography), LCSolution manufactured by Shimadzu Corporation, PDA detector (SPD-M10A), column temperature 40 ° C., flow rate 1.0 ml / minm, as mobile phase, ammonium formate, formic acid aqueous solution, Any one or more selected from formic acid methanol solutions can be used. MS (mass spectrometry) can be performed according to an ESI (electrospray ionization) ion trap method.
The NMR analysis can be performed in heavy water using, for example, AVANCE500 manufactured by BRUKER BIOSPIN.

式(I)で表わされる化合物またはその塩は、紫外線吸収能および水系溶媒に対する溶解性を有する。特に、式(I)で表わされる化合物またはその塩は、波長350〜360nm領域に高い吸収ピークを有し、UVA領域での紫外線吸収能に優れる。
また、本実施形態の化合物またはその塩は、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトニトリル、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオールのいずれか1種以上と水との混合液、アルカリ金属、アルカリ土類金属塩、有機酸、アミノ酸のいずれか1種以上と水との混合液、水などの水系溶媒に対する溶解性に優れるので、抗炎症剤の材料として用いる場合、水系溶媒を用いて容易に配合できる。
The compound represented by the formula (I) or a salt thereof has ultraviolet absorbing ability and solubility in an aqueous solvent. In particular, the compound represented by the formula (I) or a salt thereof has a high absorption peak in the wavelength region of 350 to 360 nm, and is excellent in ultraviolet absorbing ability in the UVA region.
In addition, the compound of the present embodiment or a salt thereof is a mixed solution of any one or more of methanol, ethanol, propanol, acetonitrile, ethylene glycol, propylene glycol, and butanediol and water, an alkali metal, an alkaline earth metal salt, Since it is excellent in solubility in an aqueous solvent such as water, a mixture of one or more of organic acids and amino acids and water, when used as a material for an anti-inflammatory agent, it can be easily formulated using an aqueous solvent.

また、本実施形態の化合物またはその塩の製造方法によれば、高純度の式(I)で表わされる化合物またはその塩を製造できる。したがって、例えば、本実施形態の製造方法で得られた式(I)で表わされる化合物またはその塩を、抗炎症剤の材料として用いた場合、式(I)で表わされる化合物またはその塩に含まれる不純物に起因する不具合が生じにくく、好ましい。   Moreover, according to the manufacturing method of the compound or its salt of this embodiment, the compound or its salt represented by highly purified formula (I) can be manufactured. Therefore, for example, when the compound represented by the formula (I) obtained by the production method of the present embodiment or a salt thereof is used as a material for an anti-inflammatory agent, it is included in the compound represented by the formula (I) or a salt thereof. This is preferable because defects caused by impurities are less likely to occur.

なお、式(I)で表わされる化合物またはその塩の製造方法は、上記の方法に限定されるものではない。
例えば、本実施形態の製造方法により製造した目的物を原料として化学的に合成することにより、製造した目的物と式(I)中のR、R、R、Xのうちのいずれか1以上が異なっている式(I)で表わされる化合物またはその塩を製造してもよい。
また、原料として、植物に生育する微生物を培養して得た菌体から抽出したものを用いず、天然に由来しない成分のみを用いて、式(I)で表わされる化合物またはその塩を化学的に合成してもよい。
In addition, the manufacturing method of the compound represented by Formula (I) or its salt is not limited to said method.
For example, by chemically synthesizing the target product manufactured by the manufacturing method of this embodiment as a raw material, any one of R 1 , R 2 , R 3 , and X in the formula (I) You may manufacture the compound or its salt represented by the formula (I) from which 1 or more differs.
In addition, the compound represented by the formula (I) or a salt thereof is chemically used only as a raw material by using only components that are not derived from nature without using those extracted from cells obtained by culturing microorganisms that grow on plants. May be synthesized.

本実施形態の抗炎症剤に含まれる式(I)で表わされる化合物またはその塩は、1種類のみであってもよいし、2種類以上であってもよい。本実施形態の抗炎症剤は、式(I)で表わされる化合物のみを含有し、式(I)で表わされる化合物の塩を含有していないものでもよいし、式(I)で表わされる化合物の塩のみを含有し、式(I)で表わされる化合物を含有していないものでもよいし、式(I)で表わされる化合物および式(I)で表わされる化合物の塩を共に含有するものでもよい。抗炎症剤の含有する式(I)で表わされる化合物またはその塩が2種以上である場合、その組み合わせおよび比率は、目的に応じて適宜選択できる。   The compound represented by the formula (I) or the salt thereof contained in the anti-inflammatory agent of this embodiment may be only one type or two or more types. The anti-inflammatory agent of this embodiment contains only the compound represented by the formula (I) and may not contain the salt of the compound represented by the formula (I), or the compound represented by the formula (I) It may contain only the salt of, and may not contain the compound represented by formula (I), or may contain both the compound represented by formula (I) and the salt of the compound represented by formula (I). Good. When there are two or more compounds represented by the formula (I) or salts thereof contained in the anti-inflammatory agent, the combination and ratio can be appropriately selected according to the purpose.

本実施形態の抗炎症剤は、式(I)で表わされる化合物またはその塩の他に、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、薬学的に許容される担体などの他の成分を、一般的な濃度で含有していてもよい。
薬学的に許容される担体としては、特に制限されず、例えば、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、乳化剤、安定剤、希釈剤、増粘剤、湿潤剤、pH調整剤、油剤、注射剤用溶剤等を使用できる。
In addition to the compound represented by the formula (I) or a salt thereof, the anti-inflammatory agent of the present embodiment includes other pharmacologically acceptable carriers and the like as long as they do not impair the effects of the present invention. Ingredients may be included in common concentrations.
The pharmaceutically acceptable carrier is not particularly limited, and examples thereof include excipients, binders, disintegrants, lubricants, emulsifiers, stabilizers, diluents, thickeners, wetting agents, pH adjusting agents, Oils, solvents for injections, etc. can be used.

その他の成分としては、特に制限されず、例えば、保湿剤、感触向上剤、界面活性剤、高分子化合物、増粘・ゲル化剤、溶剤、噴射剤、酸化防止剤、還元剤、酸化剤、防腐剤、抗菌剤、キレート剤、pH調整剤、酸、アルカリ、粉体、無機塩、紫外線吸収剤、美白剤、ビタミン類及びその誘導体、消炎剤、抗炎症剤、育毛用薬剤、血行促進剤、刺激剤、ホルモン類、抗しわ剤、抗老化剤、ひきしめ剤、冷感剤、温感剤、創傷治癒促進剤、刺激緩和剤、鎮痛剤、細胞賦活剤、植物・動物・微生物エキス、鎮痒剤、角質剥離・溶解剤、制汗剤、清涼剤、収れん剤、酵素、核酸、香料、色素、着色剤、染料、顔料、水、金属含有化合物、不飽和単量体、多価アルコール、高分子添加剤、消炎鎮痛剤、抗真菌剤、抗ヒスタミン剤、催眠鎮静剤、精神安定剤、抗高血圧剤、降圧利尿剤、抗生物質、麻酔剤、抗菌性物質、抗てんかん剤、冠血管拡張剤、生薬、補助剤、湿潤剤、収れん剤、増粘剤、粘着付与物質、止痒剤、角質軟化剥離剤、紫外線遮断剤、防腐殺菌剤、金属セッケン等が挙げられる。   Other components are not particularly limited, for example, moisturizers, feel improvers, surfactants, polymer compounds, thickening / gelling agents, solvents, propellants, antioxidants, reducing agents, oxidizing agents, Preservatives, antibacterial agents, chelating agents, pH adjusters, acids, alkalis, powders, inorganic salts, UV absorbers, whitening agents, vitamins and their derivatives, anti-inflammatory agents, anti-inflammatory agents, hair growth agents, blood circulation promoters , Stimulants, hormones, anti-wrinkle agents, anti-aging agents, squeeze agents, cooling sensation agents, warming sensation agents, wound healing promoters, stimulation relieving agents, analgesics, cell activators, plant / animal / microbe extracts, antipruritic agents Agent, exfoliating / dissolving agent, antiperspirant, refreshing agent, astringent, enzyme, nucleic acid, fragrance, pigment, colorant, dye, pigment, water, metal-containing compound, unsaturated monomer, polyhydric alcohol, high Molecular additive, anti-inflammatory analgesic, antifungal, antihistamine, hypnotic sedative, mental health Agent, antihypertensive agent, antihypertensive diuretic, antibiotic, anesthetic, antibacterial agent, antiepileptic agent, coronary vasodilator, herbal medicine, adjuvant, wetting agent, astringent, thickener, tackifier, antipruritic Agent, keratin softening release agent, ultraviolet ray blocking agent, antiseptic disinfectant, metal soap and the like.

薬学的に許容される担体及びその他の成分としては、例えば、第十六改正日本薬局方、化粧品原料基準第二版注解(日本公定書教会編、薬事日報社、1984年)、化粧品原料基準外成分規格(厚生省薬務局審査課監修、薬事日報社、1993年)、化粧品原料基準外成分規格追補(厚生省薬務局審査課監修、薬事日報社、1993年)、化粧品種別許可基準(厚生省薬務局審査課監修、薬事日報社、1993年)、化粧品原料辞典(日光ケミカルズ社、平成3年)、International Cosmetic Ingredient Dictionary and Handbook 2002 Ninth Edition Vol.1〜4,by CTFA等に記載されている一般的な原料を使用できる。より具体的には、例えば、特開2014−114289号公報に記載された各原料等が挙げられる。   Examples of pharmaceutically acceptable carriers and other ingredients include, for example, the 16th revised Japanese Pharmacopoeia, Cosmetic Raw Material Standards Second Edition Commentary (Edited by the Japanese Official Church, Yakuji Nipposha, 1984), non-cosmetic raw material standards Ingredient standards (supervised by the Ministry of Health and Welfare Pharmacy Examination Division, Yakuji Nippo, 1993), supplements for ingredients outside the standard of cosmetic ingredients (supervised by the Ministry of Health and Welfare Pharmacy Examination Division, Pharmacy Daily, 1993) Supervised by the Bureau of Public Affairs, Yakuji Nippo, 1993), Cosmetic Raw Material Dictionary (Nikko Chemicals, 1991), International Cosmetic Ingredient Dictionary and Handbook 2002 Ninth Edition Vol. General raw materials described in 1-4, by CTFA and the like can be used. More specifically, for example, each raw material described in JP 2014-114289 A can be mentioned.

本実施形態の抗炎症剤は、常法(例えば、日本薬局方記載の方法)にしたがって、式(I)で表わされる化合物またはその塩、および必要に応じて含有される他の成分を混合して製剤化することにより製造できる。   The anti-inflammatory agent of the present embodiment is prepared by mixing the compound represented by the formula (I) or a salt thereof and other components contained as necessary according to a conventional method (for example, a method described in the Japanese Pharmacopoeia). It can be manufactured by formulating.

抗炎症剤としては、具体的には、クリーム、ローション、化粧水、乳液、ファンデーション、パック剤、フォーム剤、皮膚洗浄剤、エキス剤、硬膏剤、軟膏剤、酒精剤、懸濁剤、チンキ剤、パップ剤、リニメント剤、エアゾール剤等の剤型が挙げられる。   Specific examples of anti-inflammatory agents include creams, lotions, lotions, emulsions, foundations, packs, foams, skin cleansers, extracts, plasters, ointments, spirits, suspensions, tinctures , Dosage forms such as cataplasms, liniments and aerosols.

本実施形態の抗炎症剤は、紫外線による皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤であり、式(I)で表わされる化合物またはその塩を含有する。このことによって、本実施形態の抗炎症剤を塗布した皮膚がUVAに暴露された場合、シクロオキシゲネースー2(COX2)を産生する遺伝子の発現が抑制される。その結果、COX2によるプロスタグランジンE2の産生亢進が抑制される。したがって、本実施形態の抗炎症剤を皮膚に塗布することで、UVAに暴露することによる皮膚の表皮の炎症を抑制できる。   The anti-inflammatory agent of this embodiment is an anti-inflammatory agent that suppresses skin inflammation caused by ultraviolet rays, and contains a compound represented by the formula (I) or a salt thereof. As a result, when the skin to which the anti-inflammatory agent of this embodiment is applied is exposed to UVA, the expression of a gene that produces cyclooxygen 2 (COX2) is suppressed. As a result, increased production of prostaglandin E2 by COX2 is suppressed. Therefore, by applying the anti-inflammatory agent of this embodiment to the skin, inflammation of the skin epidermis caused by exposure to UVA can be suppressed.

また、本実施形態明の抗炎症剤は、UVA吸収能を有する。よって、本実施形態の抗炎症剤は、これを塗布した皮膚がUVAに暴露された場合に、皮膚をUVAから遮蔽し、UVAに暴露されることによる皮膚の炎症を効果的に抑制する。   In addition, the anti-inflammatory agent of the present embodiment has UVA absorption ability. Therefore, the anti-inflammatory agent of this embodiment shields skin from UVA when the skin to which it is applied is exposed to UVA, and effectively suppresses skin inflammation caused by exposure to UVA.

なお、従来の紫外線遮蔽剤は、物理化学的に紫外線を吸収したり、散乱させたりする機能によって、紫外線に起因する炎症を防止するものであり、皮膚をUVAに暴露することによって起こる皮膚の炎症自体を生理的に抑制する機能を有するものではなかった。
これに対し、本実施形態の抗炎症剤を皮膚に塗布した場合、皮膚をUVAから遮蔽する効果と、皮膚をUVAに暴露することにより生じる皮膚の炎症を生理的に抑制する効果とが得られる。上記効果は、UVAに暴露された後の皮膚に、本実施形態の抗炎症剤を塗布した場合にも発現する。
In addition, the conventional ultraviolet shielding agent prevents inflammation caused by ultraviolet rays by physicochemically absorbing or scattering ultraviolet rays, and skin inflammation caused by exposure of the skin to UVA. It did not have a function to suppress itself physiologically.
On the other hand, when the anti-inflammatory agent of this embodiment is applied to the skin, the effect of shielding the skin from UVA and the effect of physiologically suppressing the inflammation of the skin caused by exposing the skin to UVA can be obtained. . The above effects are also exhibited when the anti-inflammatory agent of this embodiment is applied to the skin after being exposed to UVA.

また、本実施形態の抗炎症剤は、水系溶媒に対する溶解性を有する式(I)で表わされる化合物またはその塩を含むため、疎水性溶媒を使わずに製造できるとともに、用途に応じて様々な剤型にすることができる。   In addition, since the anti-inflammatory agent of the present embodiment contains a compound represented by the formula (I) having a solubility in an aqueous solvent or a salt thereof, it can be produced without using a hydrophobic solvent, Can be in dosage form.

本実施形態の抗炎症剤の具体的な組成としては、例えば、表1〜表5に示す組成例1〜組成例8の組成が挙げられる。   As a specific composition of the anti-inflammatory agent of this embodiment, the composition of the composition example 1-the composition example 8 shown in Table 1-Table 5, for example is mentioned.

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以下、実施例により本発明を詳細に説明する。本発明は、以下に示す実施例によって何ら限定されるものではない。
<実施例>
「1.微生物の採取」
イチゴ葉を10mMリン酸緩衝液中に浸漬して、乳鉢中で磨砕し、微生物を含む磨砕液を得た。
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples. The present invention is not limited by the following examples.
<Example>
“1. Collecting microorganisms”
Strawberry leaves were immersed in a 10 mM phosphate buffer and ground in a mortar to obtain a ground solution containing microorganisms.

「2.微生物の培養」
「1.微生物の採取」で得た微生物を含む磨砕液を、標準寒天培地(Difco製)の表面に塗布し、25℃で5日間、好気条件で培養した。その後、標準寒天培地の表面に出現した単コロニーを掻き取り、単コロニーを形成している菌体を分離回収した。
次に、単コロニーから回収した各菌体を、複数のNB(Nutrient Broth)寒天平板培地(Difco製)の表面に塗布して、それぞれ25℃で6日間、好気条件で培養した。その後、寒天平板培地の表面に出現したコロニーを掻き取り、菌体を回収した。
“2. Culture of microorganisms”
The ground solution containing microorganisms obtained in “1. Collecting microorganisms” was applied to the surface of a standard agar medium (manufactured by Difco) and cultured at 25 ° C. for 5 days under aerobic conditions. Then, the single colony which appeared on the surface of the standard agar medium was scraped off, and the bacterial cells forming the single colony were separated and recovered.
Next, each microbial cell recovered from a single colony was applied to the surface of a plurality of NB (Nutrient Broth) agar plates (manufactured by Difco) and cultured at 25 ° C. for 6 days under aerobic conditions. Thereafter, the colonies that appeared on the surface of the agar plate medium were scraped off, and the cells were collected.

次に、このようにして植物から採取した微生物中から分離回収した各菌体について、吸光光度法により、紫外線吸収能の有無を調べた。
次いで、分離回収した各菌体のうち最も高い紫外線吸収能を有する菌体を同定した。菌体の同定は、rRNA遺伝子の塩基配列に基づいて行った。その結果、菌体はメチロバクテリウム属であった。この菌体をWI−182株と名付けた。
Next, each bacterial cell separated and recovered from the microorganisms collected from the plant in this manner was examined for the presence or absence of ultraviolet absorbing ability by absorptiometry.
Next, among the separated and recovered bacterial cells, the bacterial cell having the highest ultraviolet absorption ability was identified. The bacterial cells were identified based on the base sequence of the rRNA gene. As a result, the cells were of the genus Methylobacterium. This microbial cell was named WI-182 strain.

次に、メチロバクテリウム属の菌体(WI−182株)の得られた寒天平板培地を2枚用意し、各寒天平板培地にそれぞれ無菌精製水10mlを加えて懸濁し、懸濁液を得た。2枚の寒天平板培地から得た懸濁液を混合して混合液とし、7本の100mlのPD培地(Difco製)にそれぞれ2mlずつ加え、25℃で90時間、好気条件で培養した。
7本のPD培地で培養した培養物から600ml採取して、30LのPD培地(Difco製)に加えた。そして、菌体を含む液体培地を回転速度400rpmで撹拌機を用いて撹拌しながら、液体培地に15L/minの空気を供給し、好気状態で、25℃で7日間培養した。
Next, two agar plate media from which the cells of the genus Methylobacterium (WI-182 strain) were obtained were prepared and suspended by adding 10 ml of sterile purified water to each agar plate medium. Obtained. Suspensions obtained from two agar plate media were mixed to prepare a mixed solution, each 2 ml was added to seven 100 ml PD media (manufactured by Difco), and cultured at 25 ° C. for 90 hours under aerobic conditions.
600 ml was collected from a culture cultured in 7 PD media and added to 30 L of PD media (Difco). Then, 15 L / min of air was supplied to the liquid medium while stirring the liquid medium containing the bacterial cells using a stirrer at a rotational speed of 400 rpm, and cultured at 25 ° C. for 7 days.

「3.菌体の回収」
上記の通りにして培養した培養物28kg(培養した菌体を含む液体培地)を、回転速度8000rpmで20分間遠心分離して、ウェット状の菌体を回収した。その後、回収した菌体を凍結し、真空乾燥して、51gの菌体を得た。
“3. Recovery of bacterial cells”
28 kg of the culture cultured as described above (liquid medium containing the cultured cells) was centrifuged at a rotational speed of 8000 rpm for 20 minutes to collect wet cells. Thereafter, the collected cells were frozen and vacuum-dried to obtain 51 g of cells.

「4.微生物からの抽出」
上記の通りにして得た菌体(WI−182株)45gに、水とメタノールとの混合溶液(水:メタノール(体積比)=2:8)2250mlを加えて、25℃で1時間、スリーワンモータ(登録商標)撹拌翼を用いて回転速度140rpmで撹拌することにより抽出した。次いで、抽出後の菌体を含む溶媒を吸引濾過することにより、濾過液として抽出液を回収した。その後、回収した抽出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、凍結、真空乾燥させて12.2gの抽出物を得た。
“4. Extraction from microorganisms”
To 45 g of the microbial cells (WI-182 strain) obtained as described above, 2250 ml of a mixed solution of water and methanol (water: methanol (volume ratio) = 2: 8) was added, and the three-one at 25 ° C. for 1 hour. Extraction was performed by stirring with a motor (registered trademark) stirring blade at a rotation speed of 140 rpm. Next, the solvent containing the cells after the extraction was suction filtered to collect the extract as a filtrate. Thereafter, the recovered extract was concentrated with a rotary evaporator, frozen and vacuum dried to obtain 12.2 g of extract.

「5.抽出物からの目的物の回収(1)」
以下に示すように、アルカリ性溶液を用いるカチオン交換クロマトグラフィー法により、抽出物を精製した。
まず、メタノールに抽出物を加えて溶解し、メタノール溶液とした。次いで、メタノール溶液をカラム(WATERS製 PoraPak Rxn CX)に通過させて、イオン交換樹脂に抽出物を吸着させた。次に、カラムに、アルカリ性溶液としてアンモニア水(28質量%)とメタノールとの混合溶液(アンモニア水:メタノール(体積比)=5:95(pH11.2))を通過させて、イオン交換樹脂に吸着した抽出物からアルカリ性溶液に溶解する成分を溶出させて溶出液を得た。
その後、溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、凍結、真空乾燥させて粗精製物である1.36gの黄褐色化合物を回収した。
"5. Recovery of target product from extract (1)"
As shown below, the extract was purified by cation exchange chromatography using an alkaline solution.
First, an extract was added to methanol and dissolved to obtain a methanol solution. Next, the methanol solution was passed through a column (PoraPak Rxn CX manufactured by WATERS) to adsorb the extract on the ion exchange resin. Next, a mixed solution of ammonia water (28% by mass) and methanol (ammonia water: methanol (volume ratio) = 5: 95 (pH 11.2)) as an alkaline solution is passed through the column to obtain an ion exchange resin. From the adsorbed extract, components dissolved in the alkaline solution were eluted to obtain an eluate.
Thereafter, the eluate was concentrated on a rotary evaporator, frozen and vacuum dried to recover 1.36 g of a tan compound as a crude product.

「6.抽出物からの目的物の回収(2)」
上記の通りにして得られた粗精製物を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)(株式会社島津製作所製LCSolution、PDA(フォトダイオードアレイ)検出器(SPD−M10A))を用いて精製した。条件は下記の通りとした。
"6. Recovery of target product from extract (2)"
The crude product obtained as described above was purified using high performance liquid chromatography (HPLC) (LCSolution manufactured by Shimadzu Corporation, PDA (photodiode array) detector (SPD-M10A)). The conditions were as follows.

カラム:Sunrise C28(カラム内に充填されている基材の粒子径:5μm、カラムの内径:10mm、カラムの長さ:250mm、クロマニックテクノロジーズ製)
カラム温度:40℃
流速:5.0ml/min
移動相A:10mMギ酸アンモニウム、0.2%ギ酸
溶媒 水
移動相B:10mMギ酸アンモニウム、0.2%ギ酸
溶媒 水とメタノールとの混合溶液(メタノール:水(体積比)=95:5)
グラジエント条件:0〜7min 移動相A100%で固定
7〜15min 移動相A:移動相B=100:0〜移動相A:移動相B=24:76のリニアグラジエント
15〜25min 移動相B95%で固定
25〜35min 移動相A100%で固定
Column: Sunrise C28 (particle diameter of the substrate packed in the column: 5 μm, column inner diameter: 10 mm, column length: 250 mm, manufactured by Chromanic Technologies)
Column temperature: 40 ° C
Flow rate: 5.0 ml / min
Mobile phase A: 10 mM ammonium formate, 0.2% formic acid
Solvent Water mobile phase B: 10 mM ammonium formate, 0.2% formic acid
Solvent Mixed solution of water and methanol (methanol: water (volume ratio) = 95: 5)
Gradient condition: 0 to 7 min Fixed at 100% mobile phase A
7 to 15 min Mobile phase A: Mobile phase B = 100: 0 to Mobile phase A: Mobile phase B = 24: 76 linear gradient
15-25min Fixed at 95% mobile phase B
25 to 35 min Fixed at 100% mobile phase A

高速液体クロマトグラフィー解析結果を図1に示す。図1は、実施例で得られた粗精製物の紫外線吸収強度と溶出時間との関係を示したグラフである。図1に示すように、実施例で得られた粗精製物では、UV測定波長360nmで測定したときに、溶出時間3.3min、4.3min、5.2min、16.8min、17.6minの位置に主要ピークが検出された。溶出時間4.3min、16.8min、17.6minのピークにおいては、波長350〜360nm領域に高い吸収ピークを示すことが確認された。   The results of high performance liquid chromatography analysis are shown in FIG. FIG. 1 is a graph showing the relationship between the ultraviolet absorption intensity and elution time of the crude product obtained in the examples. As shown in FIG. 1, the crude product obtained in the examples had elution times of 3.3 min, 4.3 min, 5.2 min, 16.8 min, and 17.6 min when measured at a UV measurement wavelength of 360 nm. A major peak was detected at the position. It was confirmed that the peaks at elution times of 4.3 min, 16.8 min, and 17.6 min show high absorption peaks in the wavelength region of 350 to 360 nm.

「COX2遺伝子発現抑制効果」
実施例で得られた粗精製物をイオン交換カラムにて精製し、5%アンモニア水で溶出する画分を分取後、エバポレーターにて溶媒を除去し、精製された固形分を得た。この精製物は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)解析結果の面積比から、前項記載のUV測定波長360nmで測定したときに、式(II)で表される化合物と式(V)で表される化合物に相当する溶出時間4.3minの主要ピークを64%、その他の化合物を36%の割合(質量比)で含むものであると推定される。
次いで、得られた精製物について、以下に示す方法により、シクロオキシゲネースー2(COX2)遺伝子発現抑制効果を調べた。
"COX2 gene expression suppression effect"
The crude product obtained in the examples was purified with an ion exchange column, and the fraction eluted with 5% aqueous ammonia was collected, and then the solvent was removed with an evaporator to obtain a purified solid. This purified product is represented by the compound represented by the formula (II) and the formula (V) when measured at the UV measurement wavelength of 360 nm described in the previous section from the area ratio of the high performance liquid chromatography (HPLC) analysis result. It is estimated that it contains 64% of the main peak with an elution time of 4.3 min corresponding to the compound and 36% of other compounds (mass ratio).
Subsequently, the purified product thus obtained was examined for cyclooxygenase-2 (COX2) gene expression inhibitory effect by the following method.

(試料1)
クラボウ社製の正常ヒト表皮角化細胞(NHEK細胞)を、10000個/cmの播種密度でプラスチックシャーレに播種し、クラボウ社製の正常ヒト表皮角化細胞増殖用培地中で24時間培養した。
(Sample 1)
Normal human epidermal keratinocytes (NHEK cells) manufactured by Kurabo Industries Co., Ltd. were seeded in a plastic petri dish at a seeding density of 10,000 cells / cm 2 and cultured in a normal human epidermal keratinocyte growth medium manufactured by Kurabo Industries for 24 hours. .

続いて、NHEK細胞に、UVP社のUVA照射装置を用いて15J/cmのUVAを照射した。その後、プラスチックシャーレに、60%エタノールに溶解した上記精製物を、DMEM培地中の培養液に含まれる上記精製物の濃度が0.01質量%となるように添加し、更に24時間培養して試料1を得た。 Subsequently, the NHEK cells were irradiated with 15 J / cm 2 of UVA using a UVA irradiation apparatus manufactured by UVP. Thereafter, the purified product dissolved in 60% ethanol is added to a plastic petri dish so that the concentration of the purified product contained in the culture solution in the DMEM medium is 0.01% by mass, and further cultured for 24 hours. Sample 1 was obtained.

(試料2)
UVAを照射した後、プラスチックシャーレに上記精製物の濃度が0.10%となるように添加したこと以外は、試料1と同様にして試料2を得た。
(Sample 2)
Sample 2 was obtained in the same manner as Sample 1 except that the purified product was added to a plastic petri dish so that the concentration of the purified product was 0.10% after irradiation with UVA.

(試料3)
UVAを照射した後、プラスチックシャーレに、60%エタノールに溶解した上記精製物に代えて、60%エタノールを添加したこと以外は、試料1と同様にして試料3を得た。
(試料4)
UVAを照射しなかったこと以外は、試料3と同様にして試料4を得た。
(Sample 3)
Sample 3 was obtained in the same manner as Sample 1 except that 60% ethanol was added to the plastic petri dish instead of the purified product dissolved in 60% ethanol after UVA irradiation.
(Sample 4)
Sample 4 was obtained in the same manner as Sample 3, except that UVA was not irradiated.

試料1〜試料4の細胞からそれぞれ総RNA(リボ核酸)を抽出し、cDNA(相補的デオキシリボ核酸)を合成した。続いて、上記のcDNAを鋳型として、定量リアルタイムPCR(ポリメラーゼ連鎖反応)を行い、試料1〜試料4のNHEK細胞におけるCOX2遺伝子の発現量を定量した。   Total RNA (ribonucleic acid) was extracted from each of the samples 1 to 4, and cDNA (complementary deoxyribonucleic acid) was synthesized. Subsequently, quantitative real-time PCR (polymerase chain reaction) was performed using the above cDNA as a template, and the expression level of the COX2 gene in NHEK cells of Sample 1 to Sample 4 was quantified.

また、試料1〜試料4のNHEK細胞におけるCOX2遺伝子の発現量と同様にして、試料1〜試料4のNHEK細胞における内部標準遺伝子の発現量を定量した。内部標準遺伝子として、化合物添加により発現に変動がみられないハウスキーピング遺伝子である、グリセルアルデヒド−3−リン酸デヒドロゲナーゼ(GAPDH)遺伝子を用いた。
そして、試料1〜試料4のNHEK細胞におけるGAPDH遺伝子の発現量に基づいて、NHEK細胞におけるCOX2遺伝子の発現量を標準化し、試料4のCOX2遺伝子の発現量を1.00としたときの発現量(相対値)を算出した。その結果を表6に示す。
Moreover, the expression level of the internal standard gene in the NHEK cells of Sample 1 to Sample 4 was quantified in the same manner as the expression level of the COX2 gene in NHEK cells of Sample 1 to Sample 4. As an internal standard gene, a glyceraldehyde-3-phosphate dehydrogenase (GAPDH) gene, which is a housekeeping gene whose expression is not changed by addition of a compound, was used.
Based on the expression level of GAPDH gene in NHEK cells of Sample 1 to Sample 4, the expression level of COX2 gene in NHEK cells is standardized, and the expression level when the expression level of COX2 gene in Sample 4 is 1.00 (Relative value) was calculated. The results are shown in Table 6.

なお、COX2遺伝子増幅用プライマーとしては、タカラバイオ社製のCOX2(ID:HA033050)を使用した。また、GAPDH遺伝子増幅用プライマーとしては、タカラバイオ社製のGAPDH(ID:HA067812)を使用した。   In addition, as a COX2 gene amplification primer, COX2 (ID: HA033050) manufactured by Takara Bio Inc. was used. As a GAPDH gene amplification primer, GAPDH (ID: HA067812) manufactured by Takara Bio Inc. was used.

Figure 0006614449
Figure 0006614449

表6に示すように、NHEK細胞を入れたプラスチックシャーレに上記精製物を添加した試料1および試料2では、上記精製物を添加していない試料3と比較して、UVAを照射したことによるCOX2遺伝子の発現量が少なかった。   As shown in Table 6, in Sample 1 and Sample 2 in which the purified product was added to a plastic petri dish containing NHEK cells, COX2 due to UVA irradiation was compared with Sample 3 in which the purified product was not added. The gene expression level was low.

Claims (3)

紫外線による皮膚の炎症を抑制する抗炎症剤であり、式(I)で表わされる化合物またはその塩を含有する抗炎症剤。
Figure 0006614449
(式(I)において、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基を表す。Rは、水素原子、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基、炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルケニル基を表す。Xは、水素原子、糖分子数1〜10の直鎖状または分岐状の糖鎖を表す。)
An anti-inflammatory agent containing a compound represented by the formula (I) or a salt thereof, which is an anti-inflammatory agent that suppresses skin inflammation caused by ultraviolet rays.
Figure 0006614449
(In Formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched structure having 1 to 5 carbon atoms. Represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 3 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. X represents a hydrogen atom or a linear or branched sugar chain having 1 to 10 sugar molecules.)
式(I)で表わされる化合物またはその塩が、式(I)におけるRおよびRがメチル基であり、Rが水素原子である式(II)で表わされる化合物またはその塩である請求項1に記載の抗炎症剤。
Figure 0006614449
The compound represented by the formula (I) or a salt thereof is a compound represented by the formula (II) or a salt thereof in which R 1 and R 2 in the formula (I) are methyl groups and R 3 is a hydrogen atom. Item 2. The anti-inflammatory agent according to Item 1.
Figure 0006614449
式(I)において、RおよびRがメチル基であり、Rが水素原子であり、Xが糖分子数5の直鎖状の糖鎖である請求項1に記載の抗炎症剤。 The anti-inflammatory agent according to claim 1, wherein in formula (I), R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 is a hydrogen atom, and X is a linear sugar chain having 5 sugar molecules.
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