JP6607127B2 - X-ray residual stress measurement method and X-ray residual stress measurement system - Google Patents

X-ray residual stress measurement method and X-ray residual stress measurement system Download PDF

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Description

本発明は、X線残留応力測定方法及びX線残留応力測定システムに関し、特に、測定対象物に対してX線を照射し、回折されたX線により形成される回折環の形状から測定対象物の応力を測定するX線残留応力測定方法及びX線残留応力測定システムに関する。   The present invention relates to an X-ray residual stress measurement method and an X-ray residual stress measurement system, and more particularly, an object to be measured from the shape of a diffraction ring formed by diffracting X-rays by irradiating the object to be measured with X-rays. The present invention relates to an X-ray residual stress measurement method and an X-ray residual stress measurement system for measuring the stress of a wire.

従来より、測定対象物に対してX線を照射し、回折されたX線により形成される回折環の形状を測定し、cosα法を用いて、測定対象物の応力を測定する方法が知られている(特許文献1、2)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a method is known in which a measurement object is irradiated with X-rays, the shape of a diffraction ring formed by diffracted X-rays is measured, and the stress of the measurement object is measured using the cos α method. (Patent Documents 1 and 2).

特許文献1では、X線を照射したときに発生する回折環の強度分布から測定対象物に対するX線の入射角度を検出している。特許文献2では、複雑な形状の物体にX線を照射したときに発生する回折環の欠けを極力少なくするため、レーザにて形状を測定することで測定対象物の一部で妨害されないX線照射方向を見つけている。   In patent document 1, the incident angle of the X-ray with respect to the measuring object is detected from the intensity distribution of the diffraction ring generated when the X-ray is irradiated. In Patent Document 2, in order to minimize the missing diffraction ring generated when X-rays are irradiated on an object having a complicated shape, X-rays that are not obstructed by a part of the measurement object by measuring the shape with a laser. Finding the irradiation direction.

特開2015−145862号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-145862 特開2014−238295号公報JP 2014-238295 A

cosα法はX線の単一入射で残留応力評価ができ、装置小型化及び短時間評価可能という利点があるが、凹凸形状がある部位については、単一入射故に、凹凸等がある場合の入射角のずれや材料による吸収の影響が、測定領域でも大きく異なり、これにより精度が著しく低下する。   The cosα method has the advantage that the residual stress can be evaluated with a single incident X-ray, and the device can be downsized and evaluated for a short time. The influence of angular deviation and absorption due to the material varies greatly even in the measurement region, and this significantly reduces the accuracy.

本発明は、上記事情を鑑みて成されたものであり、本発明の目的は、測定対象物の表面に凹凸が存在しても、測定対象物の応力を精度良く算出することができるX線残留応力測定方法及びX線残留応力測定システムを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an X-ray capable of accurately calculating the stress of a measurement object even when there is unevenness on the surface of the measurement object. To provide a residual stress measurement method and an X-ray residual stress measurement system.

上記目的を達成するために、本発明に係るX線残留応力測定方法は、測定対象物表面の所定方向に沿った凹凸形状を測定する形状測定工程と、測定された凹凸形状の直線に近似される部分により定まる領域を決定する領域決定工程と、前記決定された領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定するビーム径選定工程と、前記決定された領域の、基準面とのなす角度を決定する角度決定工程と、前記選定されたX線のビーム径にて、前記決定された領域にX線を照射し、前記決定された領域から回折されたX線により形成される回折環の形状を測定する回折環測定工程と、前記測定された回折環の形状の、基準形状からの変形を評価する回折環評価工程と、前記決定された基準面とのなす角度に基づいて、前記決定された領域の応力を算出する応力算出工程とを含む方法である。   In order to achieve the above object, the X-ray residual stress measurement method according to the present invention is approximated by a shape measuring step for measuring a concavo-convex shape along a predetermined direction on the surface of a measurement object and a straight line of the measured concavo-convex shape. A region determining step for determining a region determined by a portion to be determined, a beam diameter selecting step for selecting a beam diameter of X-rays so that only the determined region is irradiated with X-rays, and a reference plane of the determined region An angle determining step for determining an angle between the X-ray and the selected X-ray beam diameter, and irradiating the determined region with X-rays and diffracting from the determined region; A diffraction ring measurement step for measuring the shape of the diffraction ring, a diffraction ring evaluation step for evaluating deformation of the measured diffraction ring shape from a reference shape, and an angle formed by the determined reference plane The response of the determined area The method comprising the stress calculation step of calculating a.

また、本発明に係るX線残留応力測定システムは、測定対象物表面の所定方向に沿った凹凸形状を測定する形状測定装置と、前記測定対象物の表面にX線を照射し、回折されたX線により形成される回折環の形状を測定するX線回折測定装置と、前記形状測定装置による測定結果に基づいて、測定された凹凸形状の直線に近似される部分により定まる領域を決定する領域決定部と、前記決定された領域の、基準面とのなす角度を決定する角度決定部、前記決定された領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定するビーム径選定部と、前記X線回折測定装置により、前記選定されたX線のビーム径にて前記決定された領域にX線を照射して測定された前記回折環の形状に基づいて、前記回折環の形状の、基準形状からの変形を評価する回折環評価部、及び前記決定された基準面とのなす角度に基づいて、評価された回折環の変形から、前記決定された領域の応力を算出する応力算出部を含むコンピュータと、を含んで構成されている。   Further, the X-ray residual stress measurement system according to the present invention is diffracted by irradiating the surface of the measurement object with X-rays by measuring a concavo-convex shape along a predetermined direction on the surface of the measurement object. An X-ray diffraction measurement device that measures the shape of a diffraction ring formed by X-rays, and a region that determines a region determined by a portion approximated to a straight line of a measured uneven shape based on a measurement result by the shape measurement device A determination unit; an angle determination unit that determines an angle between the determined region and a reference plane; and a beam diameter selection unit that selects an X-ray beam diameter so that only the determined region is irradiated with X-rays And the shape of the diffraction ring based on the shape of the diffraction ring measured by irradiating the determined area with the selected X-ray beam diameter by the X-ray diffraction measurement device. Evaluate deformation from reference shape And a computer including a stress calculation unit that calculates stress of the determined region from deformation of the evaluated diffraction ring based on an angle formed with the determined reference plane. It consists of

本発明によれば、測定対象物の表面の形状を測定して、測定された凹凸形状の直線に近似される部分により定まる領域を決定すると共に、基準面とのなす角度を決定し、決定された領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定し、選定されたビーム径にて決定された領域にX線を照射したときに回折されたX線により形成される回折環を測定し、測定された回折環の基準形状からの変形と、前記決定された基準面とのなす角度とに基づいて、決定された領域の応力を算出することにより、測定対象物の表面に凹凸が存在しても、測定対象物の応力を精度良く算出することができる、という効果を奏する。   According to the present invention, the surface shape of the object to be measured is measured to determine the region determined by the portion approximated to the measured straight line of the concavo-convex shape, and the angle formed with the reference plane is determined and determined. A diffraction ring formed by X-rays diffracted when the X-ray beam diameter is selected so that only the region is irradiated with X-rays, and the region determined with the selected beam diameter is irradiated with X-rays And measuring the stress of the determined region based on the deformation of the measured diffraction ring from the reference shape and the angle formed with the determined reference surface, and thereby measuring the surface of the object to be measured. Even if there is unevenness, there is an effect that the stress of the measurement object can be calculated with high accuracy.

(A)測定対象物に凹凸がない場合の回折環の一断面の回折線を示す図、(B)測定対象物に凹凸がある場合の回折環の一断面の回折線を示す図、及び(C)見かけ上のピークシフトを説明するための図である。(A) The figure which shows the diffraction line of one cross section of a diffraction ring when a measurement object has no unevenness, (B) The figure which shows the diffraction line of one cross section of a diffraction ring when a measurement object has unevenness, and ( C) It is a figure for demonstrating an apparent peak shift. 本実施の形態に係るX線残留応力測定システムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the X-ray residual stress measurement system which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る3次元形状測定装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the three-dimensional shape measuring apparatus which concerns on this Embodiment. 測定対象物の表面上のレーザ照射点を示す図である。It is a figure which shows the laser irradiation point on the surface of a measuring object. イメージングプレートを回折環読取り領域内の読取り開始位置へ移動させた状態を示す図である。It is a figure which shows the state which moved the imaging plate to the reading start position in a diffraction ring reading area. 本実施の形態に係るX線残留応力測定システムのコントローラの構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the controller of the X-ray residual stress measuring system which concerns on this Embodiment. 2次元形状データの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of two-dimensional shape data. 本実施の形態に係るX線残留応力測定方法の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the X-ray residual stress measuring method which concerns on this Embodiment. (A)回折環像の一例を示す図、及び(B)回折環を展開した図である。(A) The figure which shows an example of a diffraction ring image, (B) The figure which expand | deployed the diffraction ring. 回折環のピーク位置の強度分布を示す図である。It is a figure which shows intensity distribution of the peak position of a diffraction ring. (A)回折環像の一例を示す図、及び(B)回折環を展開した図である。(A) The figure which shows an example of a diffraction ring image, (B) The figure which expand | deployed the diffraction ring. 回折環のピーク位置の強度分布を示す図である。It is a figure which shows intensity distribution of the peak position of a diffraction ring.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例を詳細に説明するが、まず、図1を参照して、本実施の形態に係るX線残留応力測定システムおよびX線残留応力測定方法の原理について説明する。   Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, an X-ray residual stress measurement system and an X-ray residual stress measurement method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The principle will be described.

X線回折を用いた応力測定においては、応力が存在することによる回折環の半径方向のピーク位置のシフトにより応力を評価する(図1(A)参照)。ここで、図1(B)に示すように、測定対象物の表面SのX線照射領域P内に凹凸が存在する場合、回折されたX線の透過経路に応じて測定対象物中をX線が透過する距離が大きく変化するため、図1(C)に示すように、回折環の半径方向のピーク位置が見かけ上シフトしてしまい、そのシフトを応力として計算してしまうため、測定精度が著しく低下する。   In stress measurement using X-ray diffraction, stress is evaluated by shifting the peak position in the radial direction of the diffraction ring due to the presence of stress (see FIG. 1A). Here, as shown in FIG. 1B, when unevenness exists in the X-ray irradiation region P of the surface S of the measurement object, the X in the measurement object is X in accordance with the transmission path of the diffracted X-rays. Since the distance through which the line passes changes greatly, as shown in FIG. 1C, the peak position in the radial direction of the diffraction ring is apparently shifted, and the shift is calculated as stress. Is significantly reduced.

測定対象物の表面SのX線照射領域P内に図1(B)のような凹凸が存在する場合、回折角が大きい回折線より回折角が小さい回折線のほうが測定対象物中を透過する経路が長くなり、より吸収され、ピーク強度がより小さくなり、見かけ上、ピーク位置がシフトする。   When unevenness as shown in FIG. 1B exists in the X-ray irradiation region P of the surface S of the measurement object, a diffraction line having a smaller diffraction angle transmits through the measurement object than a diffraction line having a large diffraction angle. The path becomes longer, more absorbed, the peak intensity becomes smaller, and the peak position apparently shifts.

そこで、本発明の実施の形態では、残留応力評価を実施したい凹凸のある表面について、レーザ等で凹凸形状を測定し、測定領域として、所定方向の形状が直線近似できる領域を決定する。次に、決定した測定領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定する。その選定したX線のビーム径にて、決定した測定領域にX線を照射し、残留応力評価を実施する。決定された測定領域の近似直線の、基準面に対するなす角度を用いてX線の入射角を補正して、残留応力評価を実施し、曲線等の凹凸形状を有する対象試料の表面残留応力評価の精度を向上させる。   Therefore, in the embodiment of the present invention, an uneven shape is measured with a laser or the like on a surface with unevenness for which residual stress evaluation is to be performed, and a region in which a shape in a predetermined direction can be linearly approximated is determined as a measurement region. Next, the X-ray beam diameter is selected so that only the determined measurement region is irradiated with X-rays. X-rays are irradiated to the determined measurement region with the selected X-ray beam diameter, and the residual stress is evaluated. The X-ray incident angle is corrected using the angle formed by the approximate straight line of the determined measurement region with respect to the reference plane, and the residual stress evaluation is performed, and the surface residual stress evaluation of the target sample having an uneven shape such as a curve is performed. Improve accuracy.

(X線残留応力測定システムの構成)
図2および図3を参照して、本実施の形態に係るX線残留応力測定システム100について説明する。なお、図2および図3に示すシステム構成は、X線残留応力測定システム100の一例である。
(Configuration of X-ray residual stress measurement system)
The X-ray residual stress measurement system 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. The system configuration shown in FIGS. 2 and 3 is an example of the X-ray residual stress measurement system 100.

図2に示すように、X線残留応力測定システム100は、X線回折測定装置10と、3次元形状測定装置20と、ステージ30を有する走査機構32と、ステージ80を有する走査機構82と、走査制御装置40と、コンピュータ装置50とを含んで構成されている。   As shown in FIG. 2, the X-ray residual stress measurement system 100 includes an X-ray diffraction measurement device 10, a three-dimensional shape measurement device 20, a scanning mechanism 32 having a stage 30, a scanning mechanism 82 having a stage 80, The scanning control device 40 and the computer device 50 are included.

X線回折測定装置10は、X線回折により発生する回折環の形状を測定する。X線回折測定装置10は、X線照射部11、イメージングプレート12、読み取り部14、及び制御部15、イメージングプレート12を取り付けるためのテーブル16、及びテーブル駆動機構17を備えており、X線回折測定装置10はステージ30と接続されておりステージ30を有する走査機構32と、走査制御装置40と、コンピュータ装置50により駆動することが可能となっている。   The X-ray diffraction measurement apparatus 10 measures the shape of a diffraction ring generated by X-ray diffraction. The X-ray diffraction measurement apparatus 10 includes an X-ray irradiating unit 11, an imaging plate 12, a reading unit 14, a control unit 15, a table 16 for attaching the imaging plate 12, and a table driving mechanism 17, and X-ray diffraction. The measuring device 10 is connected to the stage 30 and can be driven by a scanning mechanism 32 having the stage 30, a scanning control device 40, and a computer device 50.

ここで、X線照射部11は、電子線をターゲットに衝突させてX線を発生させる装置と、発生したX線を細束のX線ビームとして計測対象物に照射するX線光学系とを備えている。X線発生装置は、たとえば、電子線を高電圧で加速して陽極に衝突させCr-Kα特性X線を発生させるためのX線管球(真空管)であり、また、X線光学系は、たとえば、発生したX線を細いビームに絞り照射するコリメータである。コリメータは、所望のビーム径に応じて切り替え可能となっている。   Here, the X-ray irradiation unit 11 includes an apparatus that generates an X-ray by colliding an electron beam with a target, and an X-ray optical system that irradiates the measurement target object with the generated X-ray as a bundle of X-ray beams. I have. The X-ray generator is, for example, an X-ray tube (vacuum tube) for accelerating an electron beam at a high voltage and colliding with an anode to generate Cr-Kα characteristic X-rays. For example, it is a collimator that irradiates the generated X-ray with a narrow beam. The collimator can be switched according to a desired beam diameter.

X線照射部11は、高電圧電源(図示省略)からX線出射のための高電圧及び電流の供給を受け、制御部15により制御されて、X線を出射して測定対象物OBに照射し、イメージングプレート12に、回折されたX線の像である回折環像を記録する。   The X-ray irradiation unit 11 is supplied with a high voltage and current for X-ray emission from a high-voltage power supply (not shown), and is controlled by the control unit 15 to emit X-rays and irradiate the measurement object OB. Then, a diffraction ring image, which is a diffracted X-ray image, is recorded on the imaging plate 12.

制御部15は、X線照射部11、テーブル駆動機構17、及び読み取り部14に接続されて作動制御したり、読み取り部14から出力されたデータを取得したりする。   The control unit 15 is connected to the X-ray irradiation unit 11, the table driving mechanism 17, and the reading unit 14 to control operation and acquire data output from the reading unit 14.

制御部15は、コンピュータ装置50を構成するコントローラ51によって制御され、X線照射部11から一定の強度のX線が出射されるように、X線照射部11に高電圧電源から供給される駆動電流及び駆動電圧を制御する。また、X線照射部11は、図示しない冷却装置を備えていて、制御部15は、この冷却装置に供給される駆動信号も制御する。これにより、X線照射部11の温度が一定に保たれる。   The control unit 15 is controlled by a controller 51 that configures the computer device 50, and is driven by a high-voltage power source supplied to the X-ray irradiation unit 11 so that X-rays with a certain intensity are emitted from the X-ray irradiation unit 11. Control current and drive voltage. Further, the X-ray irradiation unit 11 includes a cooling device (not shown), and the control unit 15 also controls a drive signal supplied to the cooling device. Thereby, the temperature of the X-ray irradiation part 11 is kept constant.

読み取り部14は、イメージングプレート12に記録された回折環像を読み取る。例えば、読み取り部14は、回折環を撮像したイメージングプレート12にレーザ光を照射して、X線が照射された部分を再度励起して発光させ、イメージングプレート12から入射した光の強度を検出することにより、イメージングプレート12に記録された回折環像を読み取る。   The reading unit 14 reads the diffraction ring image recorded on the imaging plate 12. For example, the reading unit 14 irradiates the imaging plate 12 that has imaged the diffraction ring with laser light, reexcites the portion irradiated with the X-rays to emit light, and detects the intensity of light incident from the imaging plate 12. Thereby, the diffraction ring image recorded on the imaging plate 12 is read.

また、読み取り部14は、読み取り部14に設けられているLED光源(図示省略)から可視光を発して、イメージングプレート12に撮像された回折環を消去する。   The reading unit 14 emits visible light from an LED light source (not shown) provided in the reading unit 14 and erases the diffraction ring imaged on the imaging plate 12.

テーブル駆動機構17は、イメージングプレート12が取り付けられたテーブル16を回転及び移動させるためのものである。   The table driving mechanism 17 is for rotating and moving the table 16 to which the imaging plate 12 is attached.

イメージングプレート12が回折環撮像位置にある状態(図2の状態)において、テーブル16及びイメージングプレート12の各々に形成されている貫通孔(図示省略)の中心軸と、X線照射部11のX線の光軸とが一致するように、テーブル駆動機構17はテーブル16を移動させる。これにより、X線照射部11から出射されるX線は貫通孔から出射され、X線照射部11から出射されたX線がステージ30を駆動することで、測定対象物OB上の目的の領域に照射される。   In the state where the imaging plate 12 is at the diffraction ring imaging position (the state shown in FIG. 2), the central axis of a through-hole (not shown) formed in each of the table 16 and the imaging plate 12 and the X-ray of the X-ray irradiation unit 11 The table driving mechanism 17 moves the table 16 so that the optical axis of the line matches. As a result, the X-rays emitted from the X-ray irradiation unit 11 are emitted from the through holes, and the X-rays emitted from the X-ray irradiation unit 11 drive the stage 30 so that a target region on the measurement object OB is obtained. Is irradiated.

また、イメージングプレート12は、テーブル駆動機構17によって駆動されて、撮像した回折環を読み取る回折環読取り領域内、及び回折環を消去する回折環消去領域内へ移動する。   In addition, the imaging plate 12 is driven by the table driving mechanism 17 and moves into a diffraction ring reading region for reading the imaged diffraction ring and a diffraction ring erasing region for erasing the diffraction ring.

また、X線回折測定装置10は、X線照射部11、イメージングプレート12、読み取り部14、及び制御部15を収容するケース18を備えている。   In addition, the X-ray diffraction measurement apparatus 10 includes a case 18 that houses the X-ray irradiation unit 11, the imaging plate 12, the reading unit 14, and the control unit 15.

このケース18の側面壁は、支持アーム52に接続されており、支持アーム52は、図示されていないアーム式移動装置の先端であり、アーム式移動装置を操作することにより、ケース18を任意の位置、姿勢にすることができる。さらに支持アーム52はステージ30に接続されており、測定対象物の任意の位置にX線照射をできるよう駆動機構を備えている。   The side wall of the case 18 is connected to a support arm 52, and the support arm 52 is a tip of an arm type moving device (not shown). Position and posture can be set. Further, the support arm 52 is connected to the stage 30 and includes a drive mechanism so that X-ray irradiation can be performed on an arbitrary position of the measurement object.

3次元形状測定装置20は、測定対象物OBの表面の所定方向に沿った凹凸形状を測定する。3次元形状測定装置20は、例えば、レーザ変位計を用いて構成され、図3に示すように、測定対象物OBの表面にレーザ光を照射し、測定対象物OBのレーザ照射点までの距離を測定する。このとき、レーザ照射点を、所定方向(図4のX軸方向)に走査して、X軸方向に沿って各レーザ照射点までの距離を測定する。なお、図4に示すように、測定対象物OBの表面は、X軸方向に凹凸が存在し、Y軸方向には凹凸が存在しない場合は、2次元形状測定のみで十分である。奥ゆき方向に凹凸が存在する場合は、奥ゆき方向にも2次元の凹凸測定を繰返し実施することにより、3次元形状を測定するものとする。   The three-dimensional shape measuring apparatus 20 measures the uneven shape along the predetermined direction of the surface of the measurement object OB. The three-dimensional shape measuring apparatus 20 is configured using, for example, a laser displacement meter, and irradiates the surface of the measurement object OB with laser light as shown in FIG. 3, and the distance to the laser irradiation point of the measurement object OB. Measure. At this time, the laser irradiation point is scanned in a predetermined direction (X-axis direction in FIG. 4), and the distance to each laser irradiation point is measured along the X-axis direction. As shown in FIG. 4, when the surface of the measurement object OB has irregularities in the X-axis direction and no irregularities in the Y-axis direction, only two-dimensional shape measurement is sufficient. When unevenness exists in the depth direction, the three-dimensional shape is measured by repeatedly performing the two-dimensional unevenness measurement in the depth direction.

また、3次元形状測定装置20の側面壁は、1軸駆動可動なステージを持つ支持アーム56に接続されており、支持アーム56は、図示されていないアーム式移動装置の先端であり、アーム式移動装置を操作することにより、3次元形状測定装置20を任意の位置、姿勢にすることができる。   Further, the side wall of the three-dimensional shape measuring apparatus 20 is connected to a support arm 56 having a stage that can be driven in a single axis, and the support arm 56 is a tip of an arm type moving device (not shown). By operating the moving device, the three-dimensional shape measuring device 20 can be set to an arbitrary position and posture.

コンピュータ装置50は、コントローラ51と、表示装置53と、入力装置54とを備えている。   The computer device 50 includes a controller 51, a display device 53, and an input device 54.

コントローラ51は、X線回折測定装置10及び3次元形状測定装置20により得られたデータから、測定対象物OBの応力を算出する部位であり、たとえば、PC(Personal Computer)等を用いて構成されている。   The controller 51 is a part that calculates the stress of the measurement object OB from the data obtained by the X-ray diffraction measurement device 10 and the three-dimensional shape measurement device 20, and is configured using, for example, a PC (Personal Computer). ing.

コントローラ51は、機能的には、図6に示すように、形状測定部60、測定領域決定部62、角度決定部63、ビーム径選定部64、回折環撮像制御部66、回折環読取り制御部68、回折環消去制御部70、X線入射角度補正部71、及び残留応力計算部72を備えている。   As shown in FIG. 6, the controller 51 functionally includes a shape measuring unit 60, a measurement region determining unit 62, an angle determining unit 63, a beam diameter selecting unit 64, a diffraction ring imaging control unit 66, and a diffraction ring reading control unit. 68, a diffraction ring elimination control unit 70, an X-ray incident angle correction unit 71, and a residual stress calculation unit 72.

形状測定部60は、入力装置54により形状測定開始指令を受け付ける。このとき、オペレータによりアーム式移動装置が操作され、3次元形状測定装置20から照射されるレーザ光の照射位置が、測定対象物OBの基準位置に配置されているものとする。形状測定部60は、3次元形状測定装置20を制御して、3次元形状測定装置20からレーザ光を照射させてレーザ照射点までの距離を測定すると共に、所定方向にレーザ照射点を走査させる。形状測定部60は、3次元形状測定装置20から入力される各レーザ照射点までの距離を表す点群データを用いて、図6に示すような、測定対象物OBの2次元形状データを作成し、作成された2次元形状データを表示装置53に表示する。   The shape measuring unit 60 receives a shape measurement start command from the input device 54. At this time, it is assumed that the arm type moving device is operated by the operator, and the irradiation position of the laser light irradiated from the three-dimensional shape measuring apparatus 20 is arranged at the reference position of the measurement object OB. The shape measuring unit 60 controls the three-dimensional shape measuring apparatus 20 to measure the distance to the laser irradiation point by irradiating laser light from the three-dimensional shape measuring apparatus 20 and to scan the laser irradiation point in a predetermined direction. . The shape measuring unit 60 creates two-dimensional shape data of the measurement object OB as shown in FIG. 6 using point cloud data representing the distance to each laser irradiation point input from the three-dimensional shape measuring apparatus 20. Then, the created two-dimensional shape data is displayed on the display device 53.

測定領域決定部62は、2次元形状データが表す測定対象物OBの表面の所定方向に沿った凹凸形状のうち、形状が直線に近似される領域を測定領域として決定する。例えば、2次元形状データに含まれる各レーザ照射点までの距離データから、2点のレーザ照射点の組み合わせの各々について、当該組み合わせのレーザ照射点間の形状と近似直線との相関値を算出し、相関値が所定値(例えば、0.9)以上となるレーザ照射点の組み合わせを特定し、特定されたレーザ照射点の組み合わせで規定される領域を、測定領域として、測定領域決定部62にて決定する。また、角度決定部63は、2次元形状データから得られる測定領域の近似直線と、基準面(測定試料において水平と仮定した面)とのなす角度を求め、X線入射角度補正部71にて上記測定領域決定部62にて特定された近似直線に対する実際のX線の入射角を算出する。   The measurement region determination unit 62 determines, as the measurement region, a region whose shape is approximated to a straight line among the concavo-convex shapes along the predetermined direction of the surface of the measurement object OB represented by the two-dimensional shape data. For example, for each combination of two laser irradiation points, a correlation value between the shape between the laser irradiation points of the combination and an approximate straight line is calculated from distance data to each laser irradiation point included in the two-dimensional shape data. The combination of laser irradiation points with a correlation value equal to or greater than a predetermined value (for example, 0.9) is specified, and an area defined by the specified combination of laser irradiation points is set as a measurement area in the measurement area determination unit 62. To decide. Further, the angle determination unit 63 obtains an angle formed between the approximate straight line of the measurement region obtained from the two-dimensional shape data and the reference surface (a surface assumed to be horizontal in the measurement sample), and the X-ray incident angle correction unit 71 The incident angle of the actual X-ray with respect to the approximate straight line specified by the measurement area determination unit 62 is calculated.

ビーム径選定部64は、切り替え可能なコリメータで形成されるX線のビーム径のうち、測定領域決定部62で決定された測定領域の大きさに収まるものを選定し、選定したビーム径を表示装置53に表示する。なお、選定されるX線のビーム径は、測定対象物OBの材料において回折環が形成可能なものとする。オペレータは、表示装置53に表示されたビーム径を見て、X線回折測定装置10で用いるコリメータを切り替える。   The beam diameter selection unit 64 selects an X-ray beam diameter formed by a switchable collimator that fits within the measurement region size determined by the measurement region determination unit 62, and displays the selected beam diameter. It is displayed on the device 53. Note that the selected X-ray beam diameter is such that a diffraction ring can be formed in the material of the measurement object OB. The operator switches the collimator used in the X-ray diffraction measurement device 10 by looking at the beam diameter displayed on the display device 53.

回折環撮像制御部66は、入力装置54により回折環撮像開始指令を受け付ける。このとき、オペレータによりアーム式移動装置が操作され、X線回折測定装置10から照射されるX線の照射位置が、測定対象物OBの基準位置に配置されているものとする。   The diffraction ring imaging control unit 66 receives a diffraction ring imaging start command from the input device 54. At this time, it is assumed that the arm type moving device is operated by the operator, and the X-ray irradiation position irradiated from the X-ray diffraction measurement apparatus 10 is arranged at the reference position of the measurement object OB.

回折環撮像制御部66は、測定領域決定部62で決定された測定領域が、X線回折測定装置10から照射されるX線の照射位置となるように、走査機構制御部40を制御する。   The diffraction ring imaging control unit 66 controls the scanning mechanism control unit 40 so that the measurement region determined by the measurement region determination unit 62 is the irradiation position of the X-rays irradiated from the X-ray diffraction measurement apparatus 10.

また、回折環撮像制御部66は、イメージングプレート12が撮像位置にある状態で、X線回折測定装置10を制御して、X線照射部11にX線の出射を開始させ、所定時間の経過後に、X線照射部11にX線の出射を停止させる。これにより、X線照射部11から出射されたX線は、貫通孔を介して外部に出射され、測定対象物OBの測定箇所に所定時間だけ照射される。このX線照射により、測定対象物OBのX線照射箇所から回折X線が発生し、イメージングプレート12には回折環が撮像される。   In addition, the diffraction ring imaging control unit 66 controls the X-ray diffraction measurement device 10 in a state where the imaging plate 12 is at the imaging position, and causes the X-ray irradiation unit 11 to start emitting X-rays, so that a predetermined time has elapsed. Later, the X-ray irradiation unit 11 stops the emission of X-rays. Thereby, the X-rays emitted from the X-ray irradiation unit 11 are emitted to the outside through the through holes, and are irradiated to the measurement location of the measurement object OB for a predetermined time. By this X-ray irradiation, diffracted X-rays are generated from the X-ray irradiation position of the measurement object OB, and the diffraction ring is imaged on the imaging plate 12.

回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、図7に示すように、イメージングプレート12を回折環読取り領域内の読取り開始位置へ移動させる。このイメージングプレート12の読取り開始位置とは、読み取り部14によるレーザ光の照射位置が回折環基準半径Roの円に対して若干だけ内側になるような位置である。   The diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 to move the imaging plate 12 to a reading start position in the diffraction ring reading region as shown in FIG. The reading start position of the imaging plate 12 is a position where the irradiation position of the laser beam by the reading unit 14 is slightly inside the circle with the diffraction ring reference radius Ro.

回折環基準半径Roとは、測定対象物OBの残留応力が「0」であるときに、測定対象物OBに対するX線の照射によりイメージングプレート12上に形成される回折環の半径であり、測定対象物OBにおけるX線の回折角度φx及びイメージングプレート12から測定対象物OBまでの距離Lに応じて決まる。そして、X線の回折角度φxは測定対象物OBの材質で決まり、前記距離Lは予め設定されている距離である。したがって、測定対象物OBの材質ごとに予め回折角φxを記憶しておけば、前記入力した測定対象物OBの材質を用いることにより、コントローラ51は回折環基準半径RoをRo=L・tan(φx)の演算によって自動的に計算する。   The diffraction ring reference radius Ro is the radius of the diffraction ring formed on the imaging plate 12 by X-ray irradiation on the measurement object OB when the residual stress of the measurement object OB is “0”. It is determined according to the X-ray diffraction angle φx of the object OB and the distance L from the imaging plate 12 to the measurement object OB. The X-ray diffraction angle φx is determined by the material of the measurement object OB, and the distance L is a preset distance. Accordingly, if the diffraction angle φx is stored in advance for each material of the measurement object OB, the controller 51 sets the diffraction ring reference radius Ro to Ro = L · tan (by using the material of the measurement object OB that has been input. It is automatically calculated by the calculation of φx).

次に、回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、読み取り部14からレーザ光の出射を指令する。これにより、回転するイメージングプレート12上にレーザ光が照射される。回折環読取り制御部68は、読み取り部14から出力された受光強度を、基準位置からの回転角度θpと、移動距離0に基づくイメージングプレート12の中心からのレーザ光の照射位置の径方向距離r(半径値r)とに対応させて記憶する。   Next, the diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 and commands the emission of laser light from the reading unit 14. As a result, the rotating imaging plate 12 is irradiated with laser light. The diffraction ring reading control unit 68 uses the received light intensity output from the reading unit 14 as the radial distance r of the irradiation position of the laser beam from the center of the imaging plate 12 based on the rotation angle θp from the reference position and the moving distance 0. Stored in correspondence with (radius value r).

次に、回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、イメージングプレート12を読取り開始位置から図2の右下方向へ一定速度で移動させる。これにより、レーザ光の照射位置が、イメージングプレート12において、回折環基準半径Roの若干内側の位置から外側方向に一定速度で相対移動し始める。   Next, the diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 to move the imaging plate 12 from the reading start position to the lower right direction in FIG. 2 at a constant speed. Thereby, the irradiation position of the laser light starts to move relative to the imaging plate 12 from the position slightly inside the diffraction ring reference radius Ro toward the outside at a constant speed.

このとき、回折環読取り制御部68は、読み取り部14から出力された受光強度を、基準位置からの回転角度θpと、移動距離xに基づくイメージングプレート12の中心からのレーザ光の照射位置の径方向距離r(半径値r)とに対応させて順次記憶する。   At this time, the diffraction ring reading control unit 68 uses the received light intensity output from the reading unit 14 as the diameter of the irradiation position of the laser beam from the center of the imaging plate 12 based on the rotation angle θp from the reference position and the movement distance x. The information is sequentially stored in correspondence with the direction distance r (radius value r).

その後、回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、イメージングプレート12が所定の小さな角度だけ回転するごとに、同様に、読み取り部14からのレーザ光の出射、及びイメージングプレート12の相対移動を行って、読み取り部14から出力された受光強度を、基準位置からの回転角度θpと、移動距離xに基づくイメージングプレート12の中心からのレーザ光の照射位置の径方向距離r(半径値r)とに対応させて順次記憶する。   Thereafter, the diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 so that each time the imaging plate 12 rotates by a predetermined small angle, emission of laser light from the reading unit 14 and imaging are performed in the same manner. Relative movement of the plate 12 is performed, and the received light intensity output from the reading unit 14 is determined based on the rotational angle θp from the reference position and the radial distance of the irradiation position of the laser beam from the center of the imaging plate 12 based on the movement distance x. The data are sequentially stored in correspondence with r (radius value r).

また、読み取り部14から出力されたデータ、回転角度θp及び半径値rを表すデータの所定回転角度ごとの記憶動作と並行して、回折環読取り制御部68は、所定角度ごとに、読み取り部14から出力された受光強度のピークに対応した半径値rを回折環の半径値とする。   In parallel with the storage operation for each predetermined rotation angle of the data output from the reading unit 14 and the data representing the rotation angle θp and the radius value r, the diffraction ring reading control unit 68 performs the reading unit 14 for each predetermined angle. The radius value r corresponding to the peak of the received light intensity output from is set as the radius value of the diffraction ring.

回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、イメージングプレート12を回折環消去領域内の消去開始位置へ移動させる。このイメージングプレート12の消去開始位置とは、読み取り部14のLED光源から出力される可視光の中心が回折環基準半径Roの円に対して前記読取り開始位置の場合よりもさらに内側になるような位置である。   The diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement device 10 to move the imaging plate 12 to the erase start position in the diffraction ring erase region. The erasing start position of the imaging plate 12 is such that the center of visible light output from the LED light source of the reading unit 14 is further inside than the reading start position with respect to the circle having the diffraction ring reference radius Ro. Position.

次に、回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、読み取り部14のLED光源による可視光のイメージングプレート12に対する照射を開始させるとともに、イメージングプレート12を前記消去開始位置から消去終了位置まで一定速度で移動させる。消去終了位置とは、LED光源によるLED光の中心が回折環基準半径Roよりも前記消去開始位置と同じ程度の距離だけ外側となる位置である。これにより、LED光源による可視光が、消去開始位置から消去終了位置まで、イメージングプレート12上に照射され、回折X線によって形成された回折環の一部が消去される。   Next, the diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 to start irradiation of the visible light to the imaging plate 12 by the LED light source of the reading unit 14 and remove the imaging plate 12 from the erasing start position. To the end position of erasing at a constant speed. The erase end position is a position where the center of the LED light from the LED light source is outside the diffraction ring reference radius Ro by the same distance as the erase start position. Thereby, visible light from the LED light source is irradiated onto the imaging plate 12 from the erase start position to the erase end position, and a part of the diffraction ring formed by the diffracted X-rays is erased.

その後、回折環読取り制御部68は、X線回折測定装置10を制御して、イメージングプレート12が所定の小さな角度だけ回転するごとに、同様に、読み取り部14からの可視光の出射、及びイメージングプレート12の相対移動を行って、回転角度ごとに、LED光源による可視光が、消去開始位置から消去終了位置まで、イメージングプレート12上に照射され、回折X線によって形成された回折環の全てが消去される。   Thereafter, the diffraction ring reading control unit 68 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 so that the visible light is emitted from the reading unit 14 and imaged each time the imaging plate 12 rotates by a predetermined small angle. The relative movement of the plate 12 is performed, and the visible light from the LED light source is irradiated on the imaging plate 12 from the erasing start position to the erasing end position for every rotation angle, and all the diffraction rings formed by the diffracted X-rays are Erased.

残留応力計算部72は、測定領域決定部62により得られた測定領域の近似直線と基準面とのなす角を用いて、cosα法により、回折環撮像読取り制御部68により得られた回折環像を解析して、測定対象物OBの測定領域の残留応力を計算する。   The residual stress calculation unit 72 uses the angle formed between the approximate straight line of the measurement region obtained by the measurement region determination unit 62 and the reference plane, and the diffraction ring image obtained by the diffraction ring imaging read control unit 68 by the cos α method. And the residual stress in the measurement region of the measurement object OB is calculated.

具体的には、前述した回折環の読み取りにおいて得られた回折環の形状を表すデータ、すなわち回転角度ごとの回折環の半径値rに基づいて、回折環の形状と真円(基準形状)との半径方向のずれを、回折環の中心角αをパラメーターとする変形εαとして算出する。中心角αは、回折環の中心を通る基準となる線と、回折環の円周上の点とのなす中心角であり、円周角αとも呼ぶ。 Specifically, based on the data representing the shape of the diffraction ring obtained in the above-described reading of the diffraction ring, that is, the radius r of the diffraction ring for each rotation angle, the shape of the diffraction ring and the perfect circle (reference shape) Is calculated as a deformation ε α using the central angle α of the diffraction ring as a parameter. The central angle α is a central angle formed by a reference line passing through the center of the diffraction ring and a point on the circumference of the diffraction ring, and is also referred to as a circumferential angle α.

また、残留応力計算部72は、測定領域の応力を平面応力であると仮定して、X軸の応力σx、せん断応力τxyを、以下の式に従って算出する。 The residual stress calculation unit 72 calculates X-axis stress σ x and shear stress τ xy according to the following equations, assuming that the stress in the measurement region is plane stress.



ただし、Eは、ヤング率、νはポアソン比、ηは回折角の余角、ψ0は、X線入射角度補正部71により、予め定められた基準面(ステージ30の載置面)に対するX線の入射角を、基準面とのなす角度で補正した入射角である。 Where E is the Young's modulus, ν is the Poisson's ratio, η is the residual angle of the diffraction angle, and ψ 0 is X with respect to a reference surface (the surface on which the stage 30 is mounted) predetermined by the X-ray incident angle correction unit 71. This is an incident angle obtained by correcting the incident angle of the line by an angle formed with the reference plane.

残留応力計算部72は、算出したX軸の応力σx、せん断応力τxyを、測定対象物OBのX線照射位置における残留圧縮応力、残留せん断応力として表示装置53に表示する。オペレータは表示された残留圧縮応力及び残留せん断応力の大きさを見て、測定対象物OBの疲労強度への影響の評価等を行う。 The residual stress calculator 72 displays the calculated X-axis stress σ x and shear stress τ xy on the display device 53 as residual compressive stress and residual shear stress at the X-ray irradiation position of the measurement object OB. The operator looks at the magnitudes of the displayed residual compressive stress and residual shear stress, and evaluates the influence on the fatigue strength of the measurement object OB.

(X線残留応力測定方法)
以下に、上記のように構成したX線残留応力測定システム100を用いて、測定対象物OBである鉄製の部材に対して、X線を照射し、測定対象物OBの残留応力を測定する具体的方法について説明する。この残留応力の測定は、図8に示すように、形状測定工程S100、測定領域決定工程S102、角度決定工程S103、ビーム径選定工程S104、回折環撮像工程S106、回折環読取り工程S108、回折環消去工程S110、入射角度補正工程S111、及び残留応力計算工程S112を実行することにより行われる。なお、残留応力計算工程S112が、回折環評価工程及び応力算出工程の一例である。
(X-ray residual stress measurement method)
Hereinafter, the X-ray residual stress measurement system 100 configured as described above is used to irradiate an iron member as the measurement object OB with X-rays and measure the residual stress of the measurement object OB. A typical method will be described. As shown in FIG. 8, this residual stress is measured by a shape measurement step S100, a measurement region determination step S102, an angle determination step S103, a beam diameter selection step S104, a diffraction ring imaging step S106, a diffraction ring reading step S108, a diffraction ring. This is performed by executing an erasing step S110, an incident angle correcting step S111, and a residual stress calculating step S112. The residual stress calculation step S112 is an example of a diffraction ring evaluation step and a stress calculation step.

まず、形状測定工程S100について説明する。オペレータは、測定対象物OBの近傍に3次元形状測定装置20を設置し、3次元形状測定装置20に接続された支持アーム56のアーム式移動装置を操作して、3次元形状測定装置20の位置と姿勢を調整する。この位置と姿勢の調整は目視にて行う調整であり、3次元形状測定装置20から照射されるレーザ光が、測定対象物OBの基準位置に照射されるようにする。次にオペレータは、入力装置54を操作して、形状測定工程S100の開始をコントローラ51に指示する。この指示に応答して、コントローラ51は、3次元形状測定装置20からの測定データを取得すると共に、3次元形状測定装置20を制御して、レーザ照射点をX方向に走査させる。これにより、X方向の各レーザ照射点までの距離を表す点群データが得られる。コントローラ51は、得られた点群データから、測定対象物OBの2次元形状データを作成し、作成された2次元形状データを表示装置53に表示する。   First, the shape measurement step S100 will be described. The operator installs the three-dimensional shape measuring apparatus 20 in the vicinity of the measurement object OB, operates the arm type moving device of the support arm 56 connected to the three-dimensional shape measuring apparatus 20, and operates the three-dimensional shape measuring apparatus 20. Adjust position and posture. This adjustment of the position and orientation is performed by visual observation, and the laser beam irradiated from the three-dimensional shape measuring apparatus 20 is irradiated to the reference position of the measurement object OB. Next, the operator operates the input device 54 to instruct the controller 51 to start the shape measurement step S100. In response to this instruction, the controller 51 acquires measurement data from the three-dimensional shape measuring apparatus 20 and controls the three-dimensional shape measuring apparatus 20 to scan the laser irradiation point in the X direction. Thereby, point cloud data representing the distance to each laser irradiation point in the X direction is obtained. The controller 51 creates two-dimensional shape data of the measurement object OB from the obtained point cloud data, and displays the created two-dimensional shape data on the display device 53.

次の測定領域決定工程S102では、まず、オペレータが、表示装置53に表示された2次元形状データを確認した上で、入力装置54を操作して、測定領域決定工程S102の開始をコントローラ51に指示する。この指示に応答して、コントローラ51は、2次元形状データから、測定領域として決定する
次の角度決定工程S103では、2次元形状データから得られる測定領域の測定形状に基づいて、測定領域の近似直線と基準面とのなす角度を求める。
In the next measurement region determination step S102, the operator first confirms the two-dimensional shape data displayed on the display device 53, and then operates the input device 54 to start the measurement region determination step S102 to the controller 51. Instruct. In response to this instruction, the controller 51 determines the measurement region from the two-dimensional shape data. In the next angle determination step S103, the measurement region is approximated based on the measurement shape of the measurement region obtained from the two-dimensional shape data. Find the angle between the straight line and the reference plane.

ビーム径選定工程S104では、コントローラ51は、切り替え可能なコリメータで形成されるX線のビーム径のうち、測定領域決定工程で決定された測定領域の大きさに収まるものを選定し、選定したビーム径を表示装置53に表示する。オペレータは、表示装置53に表示されたビーム径を見て、X線回折測定装置10で用いるコリメータを切り替える。   In the beam diameter selection step S104, the controller 51 selects an X-ray beam diameter formed by a switchable collimator that fits within the measurement region size determined in the measurement region determination step, and selects the selected beam. The diameter is displayed on the display device 53. The operator switches the collimator used in the X-ray diffraction measurement device 10 by looking at the beam diameter displayed on the display device 53.

回折環撮像工程S106では、オペレータは、測定対象物OBの近傍にX線回折測定装置10を設置し、ケース18に接続された支持アームのアーム式移動装置を操作して、X線回折測定装置10の位置と姿勢を調整する。この位置と姿勢の調整は目視にて行う調整であり、X線回折測定装置10から出射されるX線が、ステージ30の載置面(基準面)に対する入射角が所定角度で、測定対象物OBの基準位置に照射されるようにする。   In the diffraction ring imaging step S106, the operator installs the X-ray diffraction measurement device 10 in the vicinity of the measurement object OB, operates the arm type moving device of the support arm connected to the case 18, and operates the X-ray diffraction measurement device. 10 position and posture are adjusted. The adjustment of the position and orientation is performed by visual observation, and the X-ray emitted from the X-ray diffraction measurement apparatus 10 has an incident angle with respect to the mounting surface (reference surface) of the stage 30 at a predetermined angle, and the measurement object The OB reference position is irradiated.

次にオペレータは、入力装置54を操作して、測定対象物OBの材質(本実施例では、鉄)を入力し、残留応力の測定開始をコントローラ51に指示する。これにより、コントローラ51は、まずイメージングプレート12が撮像位置にある状態で、走査制御装置40を制御して、X線回折測定装置10から出射されるX線が、測定領域決定工程S102で決定された、測定対象物OBの測定領域に照射されるように、ステージ30を移動させる。   Next, the operator operates the input device 54 to input the material of the measurement object OB (in this embodiment, iron) and instructs the controller 51 to start measuring the residual stress. Thereby, the controller 51 first controls the scanning control device 40 in a state where the imaging plate 12 is at the imaging position, and the X-rays emitted from the X-ray diffraction measurement device 10 are determined in the measurement region determination step S102. The stage 30 is moved so that the measurement area of the measurement object OB is irradiated.

次に、コントローラ51は、X線回折測定装置10を制御して、X線照射部11にX線の出射を開始させ、所定時間の経過後に、X線照射部11にX線の出射を停止させる。これにより、X線照射部11から出射されたX線は、貫通孔を介して外部に出射され、測定対象物OBの測定箇所に所定時間だけ照射される。この測定対象物OBへのX線の所定時間の照射により、測定対象物OBの測定箇所から回折X線が発生し、イメージングプレート12には回折環が撮像される。   Next, the controller 51 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 to cause the X-ray irradiation unit 11 to start emitting X-rays, and after a predetermined time has elapsed, the X-ray irradiation unit 11 stops emitting X-rays. Let Thereby, the X-rays emitted from the X-ray irradiation unit 11 are emitted to the outside through the through holes, and are irradiated to the measurement location of the measurement object OB for a predetermined time. By irradiating the measurement object OB with X-rays for a predetermined time, diffracted X-rays are generated from the measurement location of the measurement object OB, and a diffraction ring is imaged on the imaging plate 12.

このような回折環撮像工程S106の後、コントローラ51は、自動的に又はオペレータによる入力装置54を用いた指示により、回折環読取り工程S108を実行する。   After such a diffractive ring imaging step S106, the controller 51 executes the diffractive ring reading step S108 automatically or according to an instruction from the operator using the input device 54.

コントローラ51は、X線回折測定装置10を制御して、イメージングプレート12を回折環読取り領域内の読取り開始位置へ移動させる。コントローラ51は、X線回折測定装置10を制御して、読み取り部14によるレーザ光のイメージングプレート12に対する照射を開始させ、かつ、イメージングプレート12が所定の一定回転速度で回転させる。次に、コントローラ51は、読み取り部14から出力された受光強度を、基準位置からの回転角度θpと、移動距離xに基づくイメージングプレート12の中心からのレーザ光の照射位置の径方向距離r(半径値r)とに対応させて順次記憶する。   The controller 51 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 to move the imaging plate 12 to a reading start position in the diffraction ring reading region. The controller 51 controls the X-ray diffraction measurement device 10 to start the irradiation of the laser light to the imaging plate 12 by the reading unit 14 and rotates the imaging plate 12 at a predetermined constant rotational speed. Next, the controller 51 uses the received light intensity output from the reading unit 14 as the radial distance r () of the irradiation position of the laser beam from the center of the imaging plate 12 based on the rotation angle θp from the reference position and the movement distance x. The data are sequentially stored in correspondence with the radius value r).

また、読み取り部14から出力された受光強度、回転角度θp及び半径値rを表すデータの所定回転角度ごとの記憶動作と並行して、コントローラ51は、所定角度ごとに、読み取り部14から出力された受光強度のピークに対応した半径値rを回折環の半径値とする。   Further, in parallel with the storing operation for each predetermined rotation angle of the data indicating the received light intensity, the rotation angle θp, and the radius value r output from the reading unit 14, the controller 51 outputs the data from the reading unit 14 for each predetermined angle. The radius value r corresponding to the peak of the received light intensity is taken as the radius value of the diffraction ring.

このような回折環読取り工程S108の後、コントローラ51は、自動的に又は作業者による入力装置54を用いた指示により、回折環消去工程S110を実行する。この回折環消去工程S110においては、コントローラ51は、X線回折測定装置10を制御して、イメージングプレート12を回折環消去領域内の消去開始位置へ移動させる。   After such a diffractive ring reading step S108, the controller 51 executes the diffractive ring erasing step S110 automatically or according to an instruction from the operator using the input device 54. In this diffractive ring erasing step S110, the controller 51 controls the X-ray diffraction measuring apparatus 10 to move the imaging plate 12 to the erasure start position in the diffractive ring erasing region.

次に、コントローラ51は、X線回折測定装置10を制御して、読み取り部14のLED光源による可視光のイメージングプレート12に対する照射を開始させるとともに、イメージングプレート12を前記消去開始位置から消去終了位置まで一定速度で移動させ、更に、イメージングプレート12を回転させる。LED光源による可視光が、消去開始位置から消去終了位置まで、イメージングプレート12上に螺旋状に照射され、回折X線によって形成された回折環が消去される。   Next, the controller 51 controls the X-ray diffraction measurement apparatus 10 to start the irradiation of the visible light from the LED light source of the reading unit 14 to the imaging plate 12 and to move the imaging plate 12 from the erase start position to the erase end position. Until the imaging plate 12 is rotated. Visible light from the LED light source is irradiated spirally on the imaging plate 12 from the erase start position to the erase end position, and the diffraction ring formed by the diffracted X-rays is erased.

このような回折環消去工程S110の後、コントローラ51は、自動的に又は作業者による入力装置54を用いた指示により、入射角度補正工程S111を行って、直線と近似された測定領域に対するX線入射角度を計算し補正する。そして、コントローラ51は、残留応力計算工程S112を行う。   After such a diffraction ring elimination step S110, the controller 51 performs an incident angle correction step S111 automatically or in accordance with an instruction from the operator using the input device 54, and performs X-rays on the measurement region approximated to a straight line. Calculate and correct the incident angle. And the controller 51 performs residual stress calculation process S112.

コントローラ51は、回折環読取り工程S108により得られた回折環の形状を表すデータ、すなわち回転角度ごとの回折環の半径値rに基づいて、回折環と真円との半径方向のずれを、回折環の中心角αをパラメーターとする変形εαとして算出する。 Based on the data representing the shape of the diffraction ring obtained in the diffraction ring reading step S108, that is, the radius value r of the diffraction ring for each rotation angle, the controller 51 diffracts the radial deviation between the diffraction ring and the perfect circle. The deformation is calculated as the deformation ε α using the central angle α of the ring as a parameter.

コントローラ51は、測定領域決定工程S102により得られた測定領域の近似直線と基準面とのなす角と、算出された各中心角αの変形εαとに基づいて、X軸の応力σx、せん断応力τxyを算出する。コントローラ51は、算出したX軸の応力σx、せん断応力τxyを、測定対象物OBのX線照射位置における残留圧縮応力、残留せん断応力として表示装置53に表示する。オペレータは表示された残留圧縮応力及び残留せん断応力の大きさを見て、測定対象物OBの疲労強度への影響の評価等を行う。 The controller 51 determines the X-axis stress σ x , based on the angle formed between the approximate straight line of the measurement region obtained in the measurement region determination step S102 and the reference plane and the calculated deformation ε α of each central angle α. Shear stress τ xy is calculated. The controller 51 displays the calculated X-axis stress σ x and shear stress τ xy on the display device 53 as residual compressive stress and residual shear stress at the X-ray irradiation position of the measurement object OB. The operator looks at the magnitudes of the displayed residual compressive stress and residual shear stress, and evaluates the influence on the fatigue strength of the measurement object OB.

<実施例>
レーザ変位計にて測定対象物の形状測定を実施し、上記図7に示す2次元形状データが得られ、測定領域として、上記図7中X=0mmの付近の領域を決定し、測定領域の近似直線(上記図7の点線参照)と水平面とのなす角度θ[deg]=20.3°を算出した。上記測定領域の大きさ1mm以内となるコリメータ(φ0.3mm)を選定した。
<Example>
The shape of the object to be measured is measured with a laser displacement meter, and the two-dimensional shape data shown in FIG. 7 is obtained. The area near X = 0 mm in FIG. The angle θ [deg] = 20.3 ° formed by the approximate straight line (see the dotted line in FIG. 7 above) and the horizontal plane was calculated. A collimator (φ0.3 mm) having a size within 1 mm of the measurement area was selected.

ここで、測定領域に上記決定したX線のコリメータ(φ0.3mm)にて上記図6のXY平面でX軸に45°方向からX線を照射した場合に得られた回折環像を図9(A)に示す。図9(A)は、高さで受光強度を示した3次元表示である。図9(B)は、回折環のみを切り出して展開したものを示しており、高さで受光強度を示している。この回折環像から得られる回折環の変形を用いてcosα法にてX方向の応力解析を行った結果、σx=-79±10MPaとなった。また、図10に、回折環の各ピーク位置における強度分布を示す。上記図10における回折環の強度分布の差異は、実際の測定対象物に対するX線の照射方向が45°でないため、生じており、これにより応力解析に誤差が生じていると推定される。 Here, a diffraction ring image obtained when the X-ray collimator (φ0.3 mm) determined in the measurement region is irradiated with X-rays from the 45 ° direction on the X axis on the XY plane of FIG. 6 is shown in FIG. Shown in (A). FIG. 9A is a three-dimensional display showing the received light intensity by height. FIG. 9B shows an exploded view of only the diffraction ring, and the received light intensity is indicated by the height. As a result of stress analysis in the X direction by the cos α method using deformation of the diffraction ring obtained from the diffraction ring image, σ x = −79 ± 10 MPa. FIG. 10 shows the intensity distribution at each peak position of the diffraction ring. The difference in the intensity distribution of the diffraction rings in FIG. 10 is caused because the X-ray irradiation direction with respect to the actual measurement object is not 45 °, and it is estimated that an error is caused in the stress analysis.

次に、測定領域に上記決定したX線のコリメータ(φ0.3mm)にて上記図6のXY平面でX軸に45°方向からX線を照射した場合に得られた回折環像について、入射角度を、45-20.3=24.7°として補正し、回折環像の強度の補正を行った補正後の回折環像を図11(A)に示す。図11(A)は、高さで受光強度を示した3次元表示である。図11(B)は、回折環のみを切り出して展開したものを示しており、高さで受光強度を示している。この回折環像から得られる図11(B)は、回折環のみを切り出して展開したものを示している。この回折環像から得られる回折環の変形と、補正された入射角とを用いてcosα法にてX方向の応力解析を行った結果、σx=-132±13MPaとなった。また、図12に、回折環の各ピーク位置における強度分布を示す。上記図12における回折環の強度分布の差異は上記図10の補正無しの場合に比べ、測定対象物に対するX線の入射角を補正することで著しく改善されており、これによりこの補正後の回折環を用いて応力解析することで、応力評価精度は向上していると推定される。 Next, the diffraction ring image obtained when the X-ray collimator (φ0.3 mm) determined above is irradiated with X-rays from the 45 ° direction on the X-axis on the XY plane in FIG. FIG. 11A shows a corrected diffraction ring image obtained by correcting the angle as 45-20.3 = 24.7 ° and correcting the intensity of the diffraction ring image. FIG. 11A is a three-dimensional display in which the received light intensity is indicated by the height. FIG. 11 (B) shows a state in which only the diffraction ring is cut out and developed, and the received light intensity is indicated by the height. FIG. 11B obtained from this diffraction ring image shows a state in which only the diffraction ring is cut out and developed. As a result of stress analysis in the X direction by the cos α method using the deformation of the diffraction ring obtained from the diffraction ring image and the corrected incident angle, σ x = −132 ± 13 MPa. FIG. 12 shows the intensity distribution at each peak position of the diffraction ring. The difference in the intensity distribution of the diffraction rings in FIG. 12 is remarkably improved by correcting the incident angle of the X-ray with respect to the measurement object as compared with the case without correction in FIG. It is estimated that the stress evaluation accuracy is improved by performing stress analysis using the ring.

以上詳述したように、本実施の形態に係るX線残留応力測定システム及びX線残留応力測定方法によれば、測定対象物の表面の所定方向に沿った凹凸形状を測定して、所定方向の凹凸形状が直線に近似される領域を測定領域として決定すると共に、基準面とのなす角度を決定し、決定された測定領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定し、選定されたビーム径を用いて決定された測定領域にX線を照射したときの回折X線により形成される回折環の基準形状からの変形を測定し、測定された回折環の変形と、基準面に対するX線の入射角と、基準面とのなす角度とに基づいて、決定された領域の残留応力を算出することにより、測定対象物の表面に凹凸が存在しても、測定対象物の残留応力を精度良く算出することができる。   As described above in detail, according to the X-ray residual stress measurement system and the X-ray residual stress measurement method according to the present embodiment, the concavo-convex shape along the predetermined direction of the surface of the measurement object is measured, and the predetermined direction is measured. In addition to determining the region where the concavo-convex shape is approximated to a straight line as the measurement region, the angle formed with the reference plane is determined, and the X-ray beam diameter is selected so that only the determined measurement region is irradiated with X-rays. Measuring the deformation from the reference shape of the diffraction ring formed by the diffracted X-rays when the measurement region determined using the selected beam diameter is irradiated with X-rays, Even if unevenness exists on the surface of the measurement object by calculating the residual stress of the determined region based on the incident angle of the X-ray with respect to the reference surface and the angle formed with the reference surface, the measurement object The residual stress can be calculated with high accuracy.

また、残留応力評価を実施したい凹凸のある表面について、レーザ等で凹凸形状を測定し、測定箇所として、直線近似できる領域を決定し、直線近似できる領域の直線と基準面とのなす角度と、基準面に対するX線の入射角を用いて、凹凸形状の残留応力評価への影響を考慮して、残留応力評価を実施することにより、曲率等の凹凸形状を有する測定対象物の表面残留応力評価の精度を向上させることができる。   In addition, for the surface with unevenness for which residual stress evaluation is to be performed, the uneven shape is measured with a laser or the like, the region that can be linearly approximated is determined as the measurement location, the angle between the straight line of the region that can be linearly approximated and the reference plane Surface residual stress evaluation of a measurement object having a concavo-convex shape such as a curvature by performing a residual stress evaluation in consideration of the influence on the residual stress evaluation of the concavo-convex shape using the incident angle of the X-ray with respect to the reference surface Accuracy can be improved.

なお、上記の実施の形態では、3次元形状測定装置として、レーザ変位計を用いる場合を例に説明したが、これに限定されるものではなく、凹凸形状は、触診式の凹凸形状評価法、またはその他の凹凸形状測定可能な各種顕微鏡を用いた評価法等により計測されてもよい。また、X線の照射領域の限定にコリメータを用いる場合を例に説明したが、これに限定されるものではなく、X線の照射領域の限定には、スリット等を用いてもよい。   In the above embodiment, the case where a laser displacement meter is used as the three-dimensional shape measuring apparatus has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the uneven shape is a palpable uneven shape evaluation method, Alternatively, it may be measured by an evaluation method using various microscopes capable of measuring other uneven shapes. Moreover, although the case where a collimator is used for limiting the X-ray irradiation region has been described as an example, the present invention is not limited to this, and a slit or the like may be used for limiting the X-ray irradiation region.

10 X線回折測定装置
11 X線照射部
12 イメージングプレート
14 読み取り部
15 制御部
16 テーブル
17 テーブル駆動機構
18 ケース
20 3次元形状測定装置
30、80 ステージ
32、82 走査機構
40 操作制御装置
50 コンピュータ装置
51 コントローラ
53 表示装置
54 入力装置
60 形状測定部
62 測定領域決定部
63 角度決定部
64 ビーム径選定部
66 回折環撮像制御部
68 回折環読取り制御部
70 回折環消去制御部
71 X線入射角度補正部
72 残留応力計算部
100 X線残留応力測定システム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 X-ray-diffraction measuring apparatus 11 X-ray irradiation part 12 Imaging plate 14 Reading part 15 Control part 16 Table 17 Table drive mechanism 18 Case 20 Three-dimensional shape measuring apparatus 30, 80 Stage 32, 82 Scan mechanism 40 Operation control apparatus 50 Computer apparatus 51 Controller 53 Display Device 54 Input Device 60 Shape Measurement Unit 62 Measurement Region Determination Unit 63 Angle Determination Unit 64 Beam Diameter Selection Unit 66 Diffraction Ring Imaging Control Unit 68 Diffraction Ring Reading Control Unit 70 Diffraction Ring Erasing Control Unit 71 X-ray Incident Angle Correction Unit 72 Residual stress calculation unit 100 X-ray residual stress measurement system

Claims (6)

測定対象物表面の所定方向に沿った凹凸形状を測定する形状測定工程と、
測定された凹凸形状の直線に近似される部分により定まる領域を決定する領域決定工程と、
前記決定された領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定するビーム径選定工程と、
前記決定された領域の、基準面とのなす角度を決定する角度決定工程と、
前記選定されたX線のビーム径にて、前記決定された領域にX線を照射し、前記決定された領域から回折されたX線により形成される回折環の形状を測定する回折環測定工程と、
前記測定された回折環の形状の、基準形状からの変形を評価する回折環評価工程と、
前記決定された基準面とのなす角度に基づいて、評価された回折環の変形から、前記決定された領域の応力を算出する応力算出工程と、
を含むX線残留応力測定方法。
A shape measuring step for measuring a concavo-convex shape along a predetermined direction of the surface of the measurement object;
A region determining step for determining a region determined by a portion approximated to a measured uneven shape straight line;
A beam diameter selection step of selecting an X-ray beam diameter so that only the determined region is irradiated with X-rays;
An angle determining step for determining an angle of the determined area with a reference plane;
A diffraction ring measurement step of irradiating the determined region with X-rays at the selected X-ray beam diameter and measuring the shape of the diffraction ring formed by the X-rays diffracted from the determined region. When,
A diffraction ring evaluation step for evaluating deformation of the measured diffraction ring shape from a reference shape;
A stress calculating step of calculating a stress of the determined region from deformation of the evaluated diffraction ring based on an angle formed with the determined reference plane;
X-ray residual stress measurement method including
前記領域決定工程では、測定された凹凸形状と近似直線との相関値が所定値以上となる部分により定まる領域を決定し、
前記角度決定工程では、前記決定された領域の前記近似直線と前記基準面とのなす角度を決定する請求項1記載の請求項1記載のX線残留応力測定方法。
In the region determination step, a region determined by a portion where a correlation value between the measured uneven shape and the approximate straight line is a predetermined value or more is determined,
The X-ray residual stress measurement method according to claim 1, wherein in the angle determination step, an angle formed by the approximate straight line of the determined region and the reference plane is determined.
前記応力算出工程では、前記評価された回折環の変形と、前記決定された基準面とのなす角度と、予め求められた前記基準面に対するX線の入射角とに基づいて、cosα法を用いて、前記決定された領域の応力を算出する請求項1又は2記載のX線残留応力測定方法。   In the stress calculation step, a cos α method is used based on an angle formed by the deformation of the evaluated diffraction ring, the determined reference plane, and an X-ray incident angle with respect to the reference plane determined in advance. The X-ray residual stress measurement method according to claim 1, wherein the stress in the determined region is calculated. 前記応力算出工程では、前記測定された回折環の各円周角αの変形εαと、前記基準面に対するX線の入射角を、前記決定された基準面とのなす角度で補正した入射角と、前記測定対象物のヤング率、ポアソン比、及び回折角の余角とに基づいて、cosα法を用いて、前記決定された領域の応力を算出する請求項3記載のX線残留応力測定方法。 In the stress calculation step, the incident angle obtained by correcting the incident angle of the X-ray with respect to the reference plane and the deformation angle ε α of each circumferential angle α of the measured diffraction ring with the determined reference plane The X-ray residual stress measurement according to claim 3, wherein the stress in the determined region is calculated using a cos α method based on the Young's modulus, Poisson's ratio, and residual angle of the diffraction angle of the measurement object. Method. 前記応力算出工程では、前記決定された領域の応力を平面応力であると仮定して、X軸方向の応力σx、及びせん断応力τxyを、以下の式に従って算出する請求項4記載のX線残留応力測定方法。


ただし、Eは、ヤング率、νはポアソン比、ηは回折角の余角、ψ0は、前記基準面に対するX線の入射角を、前記決定された基準面とのなす角度で補正した入射角である。
5. The X of claim 4, wherein in the stress calculation step, the stress σ x and the shear stress τ xy in the X-axis direction are calculated according to the following equations, assuming that the stress in the determined region is a plane stress. Wire residual stress measurement method.


Where E is the Young's modulus, ν is the Poisson's ratio, η is the reciprocal angle of the diffraction angle, ψ 0 is the incident angle obtained by correcting the incident angle of the X-ray with respect to the reference plane by the angle formed with the determined reference plane It is a horn.
測定対象物表面の所定方向に沿った凹凸形状を測定する形状測定装置と、
前記測定対象物の表面にX線を照射し、回折されたX線により形成される回折環の形状を測定するX線回折測定装置と、
前記形状測定装置による測定結果に基づいて、測定された凹凸形状の直線に近似される部分により定まる領域を決定する領域決定部、
前記決定された領域の、基準面とのなす角度を決定する角度決定部、
前記決定された領域のみにX線を照射するようにX線のビーム径を選定するビーム径選定部と、
前記X線回折測定装置により、前記選定されたX線のビーム径にて前記決定された領域にX線を照射して測定された前記回折環の形状に基づいて、前記回折環の形状の、基準形状からの変形を評価する回折環評価部、及び
前記決定された基準面とのなす角度に基づいて、評価された回折環の変形から、前記決定された領域の応力を算出する応力算出部
を含むコンピュータと、
を含むX線残留応力測定システム。
A shape measuring device for measuring the concavo-convex shape along a predetermined direction of the surface of the measurement object;
An X-ray diffraction measurement device for irradiating the surface of the measurement object with X-rays and measuring the shape of a diffraction ring formed by the diffracted X-rays;
An area determination unit that determines an area determined by a portion approximated to a straight line of the measured uneven shape, based on a measurement result by the shape measuring device,
An angle determining unit that determines an angle of the determined region with a reference plane;
A beam diameter selection unit for selecting an X-ray beam diameter so that only the determined region is irradiated with X-rays;
Based on the shape of the diffraction ring measured by irradiating the determined region with X-rays at the selected X-ray beam diameter by the X-ray diffraction measurement apparatus, A diffraction ring evaluation unit that evaluates deformation from a reference shape, and a stress calculation unit that calculates stress in the determined region from deformation of the evaluated diffraction ring based on an angle formed with the determined reference plane A computer including:
X-ray residual stress measurement system.
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