JP6597177B2 - Manufacturing method of optical fiber preform - Google Patents
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Description
本発明は、光ファイバ用母材の製造方法、特に多孔質母材の焼結工程に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an optical fiber preform, and more particularly to a porous preform preform sintering process.
特許文献1は、光ファイバ母材の多孔質スート体のガラス化方法に関する発明であって、多孔質スート体の下端部のガラス化温度をT1、多孔質スート体の上端部のガラス化温度をT3、下端部と上端部との間の中間部のガラス化温度をT2としたとき、T1>T2≧T3となるようにガラス化温度を制御することが開示されている。
特許文献1に記載の方法においては、多孔質スート体の上端部のガラス化温度が低いために上端部の透明ガラス化が不十分となる。その結果、後工程での多孔質スート体の割れや気泡の原因となりやすい。特に、光ファイバのコア用の多孔質スート体はGeが添加されているため焼結により作製される焼結体に歪みが多く、割れが発生しやすい。また、コア用多孔質スート体の中心には柔らかいガラス微粒子が堆積されているため、気泡が残りやすい。そのため、コア用多孔質スート体を焼結する焼結工程において、上端部のガラス化温度が低いと割れの発生や気泡の残留が顕著である。
In the method described in
本発明は、割れや気泡等の製品不良の発生を防止可能な光ファイバ用母材の製造方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method of the preform | base_material for optical fibers which can prevent generation | occurrence | production of product defects, such as a crack and a bubble.
本発明の光ファイバ用母材の製造方法は、
多孔質母材を加熱炉の上下方向に順次移動させることにより透明ガラス化を行う光ファイバ用母材の製造方法であって、
前記多孔質母材の上端部の加熱温度が前記多孔質母材の中間部の加熱温度よりも高くなるように前記加熱炉の温度を調整する、または前記多孔質母材の前記上端部を加熱するときの前記多孔質母材の移動速度が前記中間部を加熱するときの前記多孔質母材の移動速度よりも遅くなるように前記多孔質母材の移動速度を調整する。
The manufacturing method of the optical fiber preform of the present invention is as follows:
A method for producing a preform for an optical fiber that performs transparent vitrification by sequentially moving a porous preform in the vertical direction of a heating furnace,
The temperature of the heating furnace is adjusted so that the heating temperature of the upper end portion of the porous base material is higher than the heating temperature of the intermediate portion of the porous base material, or the upper end portion of the porous base material is heated. The moving speed of the porous base material is adjusted so that the moving speed of the porous base material is slower than the moving speed of the porous base material when the intermediate portion is heated.
本発明によれば、割れや気泡等の製品不良の発生を防止可能な光ファイバ用母材の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical fiber preform | base_material which can prevent generation | occurrence | production of product defects, such as a crack and a bubble, can be provided.
<本発明の実施形態の概要>
最初に本発明の実施形態の概要を説明する。
本実施形態にかかる光ファイバ用母材の製造方法は、
(1)多孔質母材を加熱炉の上下方向に順次移動させることにより透明ガラス化を行う光ファイバ用母材の製造方法であって、
前記多孔質母材の上端部の加熱温度が前記多孔質母材の中間部の加熱温度よりも高くなるように前記加熱炉の温度を調整する、または前記多孔質母材の前記上端部を加熱するときの前記多孔質母材の移動速度が前記中間部を加熱するときの前記多孔質母材の移動速度よりも遅くなるように前記多孔質母材の移動速度を調整する。
この構成によれば、多孔質母材の加熱温度や移動速度を制御することで、特に多孔質母材の上端部における割れや気泡等の発生を防止することができる。
<Outline of Embodiment of the Present Invention>
First, an outline of an embodiment of the present invention will be described.
The manufacturing method of the optical fiber preform according to the present embodiment is as follows.
(1) A method for producing an optical fiber preform, in which transparent vitrification is performed by sequentially moving a porous preform in the vertical direction of a heating furnace,
The temperature of the heating furnace is adjusted so that the heating temperature of the upper end portion of the porous base material is higher than the heating temperature of the intermediate portion of the porous base material, or the upper end portion of the porous base material is heated. The moving speed of the porous base material is adjusted so that the moving speed of the porous base material is slower than the moving speed of the porous base material when the intermediate portion is heated.
According to this configuration, by controlling the heating temperature and the moving speed of the porous base material, it is possible to prevent the occurrence of cracks, bubbles and the like particularly at the upper end portion of the porous base material.
(2)前記加熱炉の前記温度を調整する場合には、前記多孔質母材の下端部の加熱温度が前記中間部の加熱温度よりも高くなるように前記加熱炉の前記温度を調整することが好ましい。
この構成によれば、多孔質母材の下端部における割れや気泡等の発生も防止することができる。
(2) When adjusting the temperature of the heating furnace, the temperature of the heating furnace is adjusted so that the heating temperature of the lower end portion of the porous base material is higher than the heating temperature of the intermediate portion. Is preferred.
According to this structure, generation | occurrence | production of the crack in the lower end part of a porous preform | base_material, a bubble, etc. can also be prevented.
(3)前記多孔質母材の前記上端部および前記下端部の加熱温度と、前記中間部の加熱温度との差が5℃以上100℃以下であることが好ましい。
多孔質母材の両端部の加熱温度と中間部の加熱温度との差を上記範囲とすることで、多孔質母材の伸びや内部気泡の残留を防止しつつ、適切に透明ガラス化を行うことができる。
(3) It is preferable that the difference of the heating temperature of the said upper end part and the said lower end part of the said porous preform | base_material and the heating temperature of the said intermediate part is 5 to 100 degreeC.
By making the difference between the heating temperature at both ends of the porous base material and the heating temperature at the intermediate part within the above range, the glass is appropriately transparent vitrified while preventing the extension of the porous base material and the remaining of internal bubbles. be able to.
(4)前記加熱炉の前記移動速度を調整する場合には、前記多孔質母材の下端部を加熱するときの前記多孔質母材の移動速度が前記中間部を加熱するときの前記多孔質母材の移動速度よりも遅くなるように前記移動速度を調整することが好ましい。
この構成によれば、多孔質母材の下端部における割れや気泡等の発生も防止することができる。
(4) When adjusting the moving speed of the heating furnace, the porous speed when the moving speed of the porous base material when the lower end portion of the porous base material is heated heats the intermediate part. It is preferable to adjust the moving speed so as to be slower than the moving speed of the base material.
According to this structure, generation | occurrence | production of the crack in the lower end part of a porous preform | base_material, a bubble, etc. can also be prevented.
<本発明の実施形態の詳細>
以下、本発明に係る光ファイバ用母材の製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
<Details of Embodiment of the Present Invention>
Hereinafter, an example of an embodiment of a method for manufacturing an optical fiber preform according to the present invention will be described with reference to the drawings.
図1に示すように、本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法を実施する加熱炉10は、炉心管11の中間部外周側にヒータ12を備えている。この加熱炉10は、ガラス微粒子堆積体1の脱水工程および焼結(透明ガラス化)工程に用いられ、ガラス微粒子堆積体1に与える単位時間当たりの熱量を制御することができる。
As shown in FIG. 1, a
炉心管11内には、火炎加水分解反応によりガラス微粒子を出発ガラスロッド2に堆積させた多孔質体であるガラス微粒子堆積体1(多孔質母材の一例)が吊り下げられている。本実施形態におけるガラス微粒子堆積体1は、例えば光ファイバのコア部分のガラスロッドとなる部分であり、屈折率を高めるためのドーパントとしてGeが添加されている。ガラス微粒子堆積体1は、その上端部が支持棒13を介して昇降機構14に固定されている。支持棒13は、制御装置15によって制御される昇降機構14により上下方向(ガラス微粒子堆積体1の長手方向)に移動可能である。昇降機構14は、脱水時および焼結時に、ガラス微粒子堆積体1をあらかじめ設定された下降速度でヒータ12のヒートゾーンに対して上方から下方へ向けて移動させる。昇降装置14によるガラス微粒子堆積体1の上下方向への移動はガラス微粒子堆積体1の全長にわたってほぼ一定の速度で行われる。
A glass particulate deposit 1 (an example of a porous base material), which is a porous body in which glass particulates are deposited on the starting glass rod 2 by a flame hydrolysis reaction, is suspended in the furnace core tube 11. The
炉心管11の下部には、処理ガス供給管16が設けられている。この処理ガス供給管16から炉心管11内に、脱水時および焼結時に処理ガスが不図示のガス供給制御装置によって供給される。また、炉心管11の上部には、不図示の排ガス処理装置に接続された処理ガス排気管17が設けられている。この処理ガス排気管17から炉心管11の外に、処理ガスや脱水時や焼結時にガラス微粒子堆積体1から放出された水分等が排出される。
A processing
本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法では、図2の例1(実施例)のグラフに示されるように、脱水工程の後工程である焼結(透明ガラス化)工程が行われる際に、ガラス微粒子堆積体1の上端部1A(図1参照)および下端部1Bの加熱温度(すなわち、ヒータ12の設定温度)T1がガラス微粒子堆積体1の中間部1Cの加熱温度T2よりも高くなるように、加熱炉10の温度を調整している。ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bの加熱温度T1は、例えば1400℃〜1600℃、中間部1Cの加熱温度T2は例えば1350℃〜1550℃となるように調整される。ここで、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aとは上側のテーパ部分を示し、下端部1Bとは下側のテーパ部分を示し、中間部1Cとは上端部1Aと下端部1Bとの間の外径が一定な外径定常部を示す。
In the optical fiber preform manufacturing method of the present embodiment, as shown in the graph of Example 1 (Example) in FIG. 2, a sintering (transparent vitrification) step, which is a subsequent step of the dehydration step, is performed. Further, the heating temperature T1 of the
なお、焼結時の加熱炉10の温度の調整に関しては、ガラス微粒子堆積体1の両端部(上端部1Aおよび下端部1B)の加熱温度T1と、ガラス微粒子堆積体1の中間部1Cの加熱温度T2との差が5℃以上100℃以下であることが好ましい。さらに好ましくは、加熱温度T1と加熱温度T2との差は20℃程度である。両端部1A,1Bの加熱温度T1と、中間部1Cの加熱温度T2との差が5℃以下であると、両端部1A,1Bが十分に焼結できないか、あるいは中間部1Cに熱がかかり過ぎてしまう。また、両端部1A,1Bの加熱温度T1と、中間部1Cの加熱温度T2との差が100℃以上であると、逆に、両端部1A,1Bに熱がかかり過ぎてしまうか、中間部1Cが十分に焼結できない。
In addition, regarding adjustment of the temperature of the
次に、ガラス微粒子堆積体1の脱水方法および焼結方法について説明する。
まず、炉心管11内部の温度を所定温度に保持した状態で、図1に示すように、ガラス微粒子堆積体1を炉心管11内に挿入し、炉心管11内の所定位置にガラス微粒子堆積体1がセットされるように吊り下げる。
Next, a dehydration method and a sintering method of the glass
First, in a state where the temperature inside the core tube 11 is maintained at a predetermined temperature, as shown in FIG. 1, the
次に、ヒータ12のヒートゾーンの設定温度を約1300℃に上げ、ガラス微粒子堆積体1をあらかじめ設定された下降速度でヒータ12のヒートゾーンに対して上方から下方へ向けて移動させつつ、ガラス微粒子堆積体1の全長にわたって加熱することで脱水処理が行われる。
Next, the set temperature of the heat zone of the
次に、ヒータ12のヒートゾーンの設定温度を温度T1、例えば1400℃〜1600℃に上げるとともに、ガラス微粒子堆積体1の下端部1Bがヒータ12の上端付近の高さになるように位置合わせをし、ガラス微粒子堆積体1を昇降機構14により所定の設定速度で下降させる。そして、ガラス微粒子堆積体1の中間部1Cがヒートゾーンに到達するまでガラス微粒子堆積体1を下方向に移動させながら、ヒートゾーンの設定温度を温度T1よりも低い温度T2、例えば1350℃〜1550℃に下げる。その後、ガラス微粒子堆積体1をさらに下方向に移動させながらガラス微粒子堆積体1の外径定常部(中間部1C)を設定温度T2のまま加熱する。そして、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aがヒートゾーンに到達したら、ガラス微粒子堆積体1を下方向に移動させながらヒートゾーンの設定温度を再び温度T1へ上げる。ガラス微粒子堆積体1が炉心管11内の最下部(終了位置)に到達したら、焼結工程(透明ガラス化工程)を終了する。
Next, the set temperature of the heat zone of the
以上のように、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bの加熱温度T1がガラス微粒子堆積体1の中間部1Cの加熱温度T2よりも高くなるように加熱炉10の温度を調整しながら、ガラス微粒子堆積体1をその下端部1Bから上端部1Aにかけて順次ヒータ12によるヒートゾーンを通過させることで焼結する。これにより、ガラス微粒子堆積体1は、その長手方向に沿って下端部1Bから上端部1Aにかけて順次加熱され、透明ガラス化された光ファイバ用母材(コア用ガラス母材)が作製される。
As described above, the temperature of the
ところで、従来は、図2の例2(従来例)に示されるように、ガラス微粒子堆積体の全長にわたってヒータのヒートゾーンの設定温度が一定の温度(例えば、約1500℃)に維持されたまま、ガラス微粒子堆積体を上下方向に移動させつつ透明ガラス化処理が行われていた。この場合、ガラス微粒子堆積体の中間部よりも開放端である上端部および下端部は放熱されやすいため、両端部を十分に加熱することができない。そのため、ガラス微粒子堆積体の両端が未焼結となり十分に透明ガラス化できず、後工程での割れや気泡の原因となってしまう。また、ガラス微粒子堆積体の両端部を十分に透明ガラス化するためにヒートゾーンの設定温度を上げると、ガラス微粒子堆積体の中間部に熱がかかり過ぎて、伸び等の変形が生じてしまったり、またはガラス微粒子堆積体が速く収縮しすぎてガスが閉じ込められて気泡が残留したりしてしまう。特に、コア用のガラス微粒子堆積体はドーパントとしてGeが添加されているため歪みが多く割れが発生しやすく、また嵩密度が低いため気泡が残りやすい。 By the way, conventionally, as shown in Example 2 (conventional example) of FIG. 2, the set temperature of the heater heat zone is maintained at a constant temperature (for example, about 1500 ° C.) over the entire length of the glass particulate deposit. The transparent vitrification process was performed while moving the glass particulate deposit in the vertical direction. In this case, the upper end portion and the lower end portion, which are open ends, are more easily radiated than the intermediate portion of the glass fine particle deposit, so that both end portions cannot be heated sufficiently. For this reason, both ends of the glass fine particle deposit are unsintered and cannot be sufficiently transparent vitrified, causing cracks and bubbles in the subsequent process. Also, if the temperature of the heat zone is increased to make both ends of the glass particulate deposit sufficiently transparent, the heat will be applied to the middle portion of the glass particulate deposit and deformation such as elongation may occur. Or, the glass particulate deposits contract too quickly and the gas is trapped, leaving bubbles. In particular, the glass fine particle deposit for the core contains Ge as a dopant, so that it is distorted and easily cracked, and bubbles are likely to remain because the bulk density is low.
これに対して、本実施形態によれば、透明ガラス化工程において、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bの加熱温度T1がガラス微粒子堆積体1の中間部1Cの加熱温度T2よりも高くなるように加熱炉10の温度を調整している。これにより、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bについては十分に焼結できるような高い温度で加熱しつつ、ガラス微粒子堆積体1の中間部1Cには熱がかかり過ぎないように両端部1A,1Bよりも低い温度で加熱する構成としているため、ガラス微粒子堆積体1の割れや気泡等の発生を防止することができる。なお、本実施形態のガラス微粒子堆積体1はコア用多孔質体であるため、焼結時に中間部1Cの加熱温度T2よりも両端部1A,1Bの加熱温度T1を高くすることで割れの発生や気泡の残留を防止することが特に好ましい。
On the other hand, according to this embodiment, in the transparent vitrification step, the heating temperature T1 of the
さらに、本実施形態においては、ガラス微粒子堆積体1の下端部1Bがヒートゾーンに到達するときのヒータ12の設定温度T1を高くしているため、中間部1Cを加熱する際のヒータ12の設定温度T2を従来よりも低くしても、炉心管11内の温度をある程度高温に維持しつつ中間部1Cを十分に加熱することができる。そのため、従来と比べて加熱温度を下げた時間を長くすることができ、ガラス微粒子堆積体1の焼結処理時の消費電力を低減させることができる。
Furthermore, in this embodiment, since the set temperature T1 of the
また、本実施形態においては、ガラス微粒子堆積体1の両端部1A,1Bの加熱温度T1と、中間部1Cの加熱温度T2との差が5℃以上100℃以下であることが好ましい。このように、ガラス微粒子堆積体1の両端部1A,1Bの加熱温度T1と中間部1Cの加熱温度T2との差を上記範囲とすることで、ガラス微粒子堆積体1の伸びや内部気泡の残留を防止しつつ、適切に透明ガラス化を行うことができる。
Moreover, in this embodiment, it is preferable that the difference between the heating temperature T1 of the both
次に、本実施形態に係る光ファイバ用母材の製造方法の一実施例を説明する。 Next, an example of the manufacturing method of the optical fiber preform according to the present embodiment will be described.
(実施例)
ガラス微粒子堆積体を加熱炉の炉心管内に吊り下げて、昇降装置によりガラス微粒子堆積体を下降させた。図2の例1に示すように、ガラス微粒子堆積体の下端部がヒートゾーンに到達する際にはヒータによるヒートゾーンの設定温度を1520℃とし、一定時間経過した後にガラス微粒子堆積体の下側テーパ部分(下端部)に対応する長さを下方向に移動させながらヒートゾーンの設定温度を1480℃まで下げた。その後、ガラス微粒子堆積体をさらに下降させながらガラス微粒子堆積体の外径定常部(中間部)全体をヒートゾーンの設定温度1480℃のまま加熱した。その後、ガラス微粒子堆積体の上側テーパ部分(上端部)に到達したら上側テーパ部分に対応する長さを下方向に移動させながらヒートゾーンの設定温度を1520℃まで上げて一定時間経過した後にガラス微粒子堆積体の焼結を終了した。
その結果、ガラス微粒子堆積体の上端部側における未焼結部分は、上側テーパ部分の長さの1/3程度にまで抑えることができ、外径定常部に気泡がない透明な光ファイバ用母材を得ることができた。また、ガラス微粒子堆積体の下端部(下側テーパ部分)においては未焼結となる部分はなかった。
(Example)
The glass fine particle deposit was suspended in the furnace tube of the heating furnace, and the glass fine particle deposit was lowered by the lifting device. As shown in Example 1 of FIG. 2, when the lower end of the glass particulate deposit reaches the heat zone, the set temperature of the heat zone by the heater is set to 1520 ° C. The set temperature of the heat zone was lowered to 1480 ° C. while moving the length corresponding to the taper portion (lower end) downward. Then, the whole glass particle deposit body was further lowered, and the entire outer diameter steady portion (intermediate portion) of the glass particle deposit body was heated at the set temperature of 1480 ° C. in the heat zone. Thereafter, when the upper taper portion (upper end portion) of the glass fine particle deposit is reached, the temperature corresponding to the upper taper portion is moved downward, the set temperature of the heat zone is increased to 1520 ° C., and after a certain time has elapsed, the glass fine particles are passed. Sintering of the deposit was finished.
As a result, the unsintered portion on the upper end portion side of the glass particulate deposit can be suppressed to about 1/3 of the length of the upper tapered portion, and the transparent optical fiber mother body having no bubbles in the outer diameter steady portion. The material could be obtained. Further, there was no unsintered portion at the lower end portion (lower tapered portion) of the glass particulate deposit.
(比較例)
図2の例2に示すように、ヒートゾーンの設定温度をガラス微粒子堆積体の全長にわたって1500℃に維持したままで、ガラス微粒子堆積体を上方から下方へ向かって移動させてヒートゾーンを通過させ焼結を行った。
その結果、ガラス微粒子堆積体の上側テーパ部分のほぼ全体が未焼結となった。また、ガラス微粒子堆積体の下側テーパ部分も未焼結となり、外径定常部には直径5mm程度の気泡が10個発生した。
(Comparative example)
As shown in Example 2 of FIG. 2, the glass particulate deposit is moved from above to below while passing through the heat zone while maintaining the set temperature of the heat zone at 1500 ° C. over the entire length of the glass particulate deposit. Sintering was performed.
As a result, almost the entire upper tapered portion of the glass fine particle deposit was not sintered. Further, the lower tapered portion of the glass fine particle deposit was also unsintered, and 10 bubbles having a diameter of about 5 mm were generated in the outer diameter steady portion.
なお、実施例は、比較例に比べてガラス微粒子堆積体の中間部を加熱する際の加熱温度を低くしている、すなわち比較例に比べて加熱温度を下げた時間が長くすることができるため、消費電力を3%程度低減することができた。 In the examples, the heating temperature at the time of heating the intermediate part of the glass fine particle deposit is lower than that in the comparative example, that is, the heating time can be increased as compared with the comparative example. The power consumption was reduced by about 3%.
以上、本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。また、上記説明した構成部材の数、位置、形状等は上記実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好適な数、位置、形状等に変更することができる。 While the invention has been described in detail and with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. In addition, the number, position, shape, and the like of the constituent members described above are not limited to the above-described embodiments, and can be changed to a number, position, shape, and the like that are suitable for carrying out the present invention.
なお、上記実施形態においては、昇降装置14によるガラス微粒子堆積体1の上下方向への移動はガラス微粒子堆積体1の全長にわたってほぼ一定の速度で行われているが、この例に限られない。例えば、加熱炉10の加熱温度(ヒータ12の設定温度)はガラス微粒子堆積体1の全長にわたってほぼ一定としつつ、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bを加熱する(すなわち、上端部1Aおよび下端部1Bがヒータ12のヒートゾーンを通過する)ときのガラス微粒子堆積体1の移動速度が、ガラス微粒子堆積体1の中間部1Cを加熱する(すなわち、中間部1Cがヒータ12のヒートゾーンを通過する)ときのガラス微粒子堆積体1の移動速度よりも遅くなるように、昇降装置14によるガラス微粒子堆積体1の移動速度を調整する構成としても良い。これにより、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bに与えられる単位面積あたりの熱量を中間部1Cよりも多くすることができ、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
In the above embodiment, the vertical movement of the glass
また、上記実施形態においては、ガラス微粒子堆積体1は、昇降機構14によりヒータ12のヒートゾーンに対して設定された下降速度で上方から下方へ向けて移動させる構成となっているが、ガラス微粒子堆積体1を設定された上昇速度で下方から上方へ向けて移動させてヒータ12のヒートゾーンを通過させる構成としても良い。この場合も、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bの加熱温度T1を、中間部1Cの加熱温度T2よりも高くなるように制御することで上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。
In the above embodiment, the glass
さらに、上記実施形態においては、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aおよび下端部1Bの加熱温度T1を、中間部1Cの加熱温度T2よりも高くなるように制御しているが、下端部1Bおよび中間部1Cの加熱温度は一定としつつ、上端部1Aの加熱温度を下端部1Bおよび中間部1Cの加熱温度よりも高くする構成としても良い。この構成によれば、ガラス微粒子堆積体1の上端部1Aにおける割れや気泡の発生を防止することができるが、上記の実施形態のように上端部1Aだけではなく下端部1Bにおいても加熱温度を上げる構成とすれば、ガラス微粒子堆積体1の全体にわたって割れの発生や気泡の残留を抑えることができるため、より好ましい。なお、加熱温度の調整する代わりにガラス微粒子堆積体1の移動速度を調整する構成の場合も、上端部1Aを加熱するときのみガラス微粒子堆積体1の移動速度を遅くする構成とすることができるが、上記と同様に上端部1Aだけではなく下端部1Bを加熱するときのガラス微粒子堆積体1の移動速度を遅くする構成とすることがより好ましい。
Further, in the above embodiment, the heating temperature T1 of the
また、上記実施形態においては、コア用多孔質体であるガラス微粒子堆積体1について両端部1A,1Bの加熱温度T1を中間部1Cの加熱温度T2よりも高くする構成としているが、この例に限られない。例えば、コア部分のガラスロッドの外周にクラッド層となるガラス微粒子が堆積された光ファイバ用母材を焼結する際にも、上記実施の形態と同様に上端部および下端部の加熱温度を中間部の加熱温度よりも高くするか、上端部および下端部の移動速度を中間部の移動速度よりも遅くする制御を行うことで、コアおよびクラッド層を備えた光ファイバ用母材の割れの発生や気泡の残留を防止することができる。
Moreover, in the said embodiment, although it is set as the structure which makes heating temperature T1 of both ends 1A and 1B higher than heating temperature T2 of the intermediate part 1C about the glass fine
1:ガラス微粒子堆積体(多孔質母材の一例)
1A:上端部
1B:下端部
1C:中間部
2:ガラスロッド
10:加熱炉
11:炉心管
12:ヒータ
13:支持棒
14:昇降装置
15:制御装置
16:処理ガス供給管
17:処理ガス排気管
T1:上端部および下端部の加熱温度
T2:中間部の加熱温度
1: Glass particulate deposit (an example of a porous matrix)
1A:
Claims (3)
前記透明ガラス化処理において、前記多孔質母材の中間部の加熱温度は一定となるように前記加熱炉の温度を調整するとともに、前記多孔質母材の上端部の加熱温度が前記多孔質母材の前記中間部の加熱温度よりも高くなるように前記加熱炉の温度を調整する、光ファイバ用母材の製造方法。 A method for producing a preform for an optical fiber that performs a transparent vitrification process by sequentially moving a porous preform in the vertical direction of a heating furnace,
In the transparent vitrification treatment, the temperature of the heating furnace is adjusted so that the heating temperature of the intermediate portion of the porous base material is constant, and the heating temperature of the upper end portion of the porous base material is set to the porous base material. adjust the furnace temperature to be higher than the heating temperature of the intermediate portion of the timber, a manufacturing method for an optical fiber preform.
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