JP6590309B2 - Plastic substrate with conductive layer and manufacturing method thereof - Google Patents

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本件発明は、導電層付プラスチック基板及びその製造方法に関する。特に、プラスチック基板として、ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN)、ポリイミド樹脂(PI)、シクロオレフィンポリマー樹脂(COP)を用いたものに関する。   The present invention relates to a plastic substrate with a conductive layer and a method for manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a plastic substrate using polyethylene naphthalate resin (PEN), polyimide resin (PI), or cycloolefin polymer resin (COP).

現在も先進国企業における配線板製造は、国際的な価格競争に晒され、厳しい戦いを強いられている。従って、常に品質を落とすことなく、より安価な配線板製造方法が研究されてきた。   Even today, the manufacturing of printed circuit boards in industrialized countries is faced with a tough fight due to international price competition. Therefore, a cheaper method for manufacturing a wiring board has been studied without always degrading the quality.

その中で、本件発明の関する出願人等は、配線板の絶縁層を構成する基板の表面に紫外線(UV)照射して、無電解法で導体層を形成する方法を提唱してきた。例えば、特許文献1に開示しているように、誘電特性に優れたシクロオレフィンポリマー材を用い、密着性が良好な金属皮膜の形成を可能にする表面改質方法と、金属皮膜付シクロオレフィンポリマー材を提供することを目的とし、「シクロオレフィンポリマー材に、有酸素雰囲気下で紫外線を照射し、シクロオレフィンポリマー材を構成するC−H基を−OH基及び/又は−C=O基に転化するとともに、表面に凹凸形状を形成する。このようにして改質された表面に、析出速度の遅い無電解めっきを下地として電解めっきを行うことにより、所定の厚さで、密着性の良好な金属皮膜付シクロオレフィンポリマー材を得ることができる。」ことを提唱している。   Among them, the applicants related to the present invention have proposed a method of forming a conductor layer by an electroless method by irradiating ultraviolet rays (UV) onto the surface of a substrate constituting an insulating layer of a wiring board. For example, as disclosed in Patent Document 1, a surface modification method using a cycloolefin polymer material having excellent dielectric properties and forming a metal film with good adhesion, and a cycloolefin polymer with a metal film In order to provide a material, “cycloolefin polymer material is irradiated with ultraviolet rays in an aerobic atmosphere, and C—H group constituting the cycloolefin polymer material is changed to —OH group and / or —C═O group. In addition, the surface of the surface thus modified is subjected to electroplating with the electroless plating having a slow deposition rate as a base, thereby providing good adhesion at a predetermined thickness. A cycloolefin polymer material with a metal coating can be obtained. "

また、特許文献2においては、液晶ポリマーフィルムと導体層との密着性を向上させた金属張積層板の提供を目的とし、「液晶ポリマーフィルム基材の表面に金属層を備える液晶ポリマーフィルム金属張積層板であって、当該金属層は、表面粗さ(Rzjis)が1.0μm以下の液晶ポリマーフィルム基材の表面に無電解法で形成した無電解金属メッキ層であることを特徴とした液晶ポリマーフィルム金属張積層板を採用する。特に、前記液晶ポリマーフィルム基材は、無電解金属メッキ層の形成前にUV照射による表面改質処理を施したものを用いることが好ましい。」ことを提唱している。   In addition, Patent Document 2 aims to provide a metal-clad laminate with improved adhesion between a liquid crystal polymer film and a conductor layer, and “a liquid crystal polymer film with a metal layer on the surface of a liquid crystal polymer film substrate”. A liquid crystal, wherein the metal layer is an electroless metal plating layer formed by an electroless method on the surface of a liquid crystal polymer film substrate having a surface roughness (Rzjis) of 1.0 μm or less. A polymer film metal-clad laminate is adopted.In particular, the liquid crystal polymer film substrate preferably uses a surface modified by UV irradiation before the formation of the electroless metal plating layer. is doing.

更に、特許文献3においては、樹脂材に要求される寸法精度を満足することができ、且つ、密着性の良好な微細な金属パターンを樹脂材に形成することのできる金属パターン付樹脂材の製造方法及び金属パターン付きの樹脂材を提供することを目的として、「パターン形成用の基材の表面に無電解めっき法により金属パターンを形成する工程と、その基材上に、液状の樹脂組成物を用いて樹脂組成物膜を形成し、これを固化又は硬化させて当該金属パターンと密着した樹脂層を得る工程と、樹脂層と基材とを剥離して、金属パターン付樹脂材を得る工程とを含むことを特徴とする金属パターン付樹脂材の製造方法。」が開示されており、ここでも、精度よくパターンニングを行うことができるように、触媒付与前の表面改質処理として、紫外線照射処理を採用することを開示している。   Furthermore, in Patent Document 3, the production of a resin material with a metal pattern that can satisfy the dimensional accuracy required for a resin material and can form a fine metal pattern with good adhesion on the resin material. For the purpose of providing a method and a resin material with a metal pattern, “a step of forming a metal pattern on the surface of a substrate for pattern formation by an electroless plating method, and a liquid resin composition on the substrate Forming a resin composition film using, solidifying or curing the resin layer to obtain a resin layer in close contact with the metal pattern, and separating the resin layer and the substrate to obtain a resin material with a metal pattern The manufacturing method of the resin material with a metal pattern characterized by including the above-mentioned ", and also in this case, as the surface modification treatment before applying the catalyst, ultraviolet rays are used so that the patterning can be performed with high accuracy. It discloses adopting irradiation treatment.

特開2008−94923号公報JP 2008-94923 A 特開2008−221488号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2008-212488 特開2015−59244号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-59244

しかしながら、上述の先行技術文献に開示された無電解めっきで形成されるめっき層は、膜厚均一性に優れていても、プラスチック基板に対する密着性にバラツキが生じる場合のあることが指摘されていた。そして、近年においては、プラスチック基板の表面に金層を形成した金層付プラスチック基板が要求され、電子部品材料、医療機器等の種々の分野での利用が考えられている。   However, it has been pointed out that even if the plating layer formed by the electroless plating disclosed in the above-mentioned prior art documents has excellent film thickness uniformity, the adhesion to the plastic substrate may vary. . In recent years, a plastic substrate with a gold layer in which a gold layer is formed on the surface of the plastic substrate is required, and its use in various fields such as electronic component materials and medical devices is considered.

よって、本件発明では、プラスチック基板の表面に、膜厚均一性及び密着性に優れる金層を形成した金層付プラスチック基板及びその製造方法の提供を目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a plastic substrate with a gold layer in which a gold layer having excellent film thickness uniformity and adhesion is formed on the surface of the plastic substrate, and a method for manufacturing the same.

そこで、本件発明者等の鋭意研究によって、以下に述べるような手段をもって、上記課題を解決することに想到した。   Accordingly, the inventors have intensively studied to arrive at the solution of the above problems by the means described below.

金層付プラスチック基材: 本件出願に係る金層付プラスチック基材は、プラスチック基材の表面に金層を備える金層付プラスチック基材であって、当該金層は、水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子を用いて得られた金ナノ粒子層と、無電解金めっき層とからなることを特徴とする。 Plastic substrate with gold layer: The plastic substrate with gold layer according to the present application is a plastic substrate with a gold layer having a gold layer on the surface of the plastic substrate, and the gold layer is a water-soluble gold salt-containing solution. It is characterized by comprising a gold nanoparticle layer obtained by using gold nanoparticles obtained by reduction precipitation using a solution plasma reaction, and an electroless gold plating layer.

本件出願に係る金層付プラスチック基材において、前記金ナノ粒子層を構成する金ナノ粒子は、平均粒径が1nm〜50nmであることが好ましい。   In the plastic base material with a gold layer according to the present application, the gold nanoparticles constituting the gold nanoparticle layer preferably have an average particle diameter of 1 nm to 50 nm.

本件出願に係る金層付プラスチック基材において用いるプラスチック基材は、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂のいずれかの樹脂成分を含むものであることが好ましい。   It is preferable that the plastic base material used in the plastic base material with a gold layer according to the present application includes any resin component of polyethylene naphthalate resin, polyimide resin, and cycloolefin polymer resin.

本件出願に係る金層付プラスチック基材の製造方法: 本件出願に係る金層付プラスチック基材の製造方法は、以下の工程a〜工程cを備えることを特徴とする。 Manufacturing method of plastic substrate with gold layer according to the present application: The manufacturing method of the plastic substrate with gold layer according to the present application includes the following steps a to c.

工程a: 金層を形成するプラスチック基材の表面を、アルカリ溶液処理するか、又は、アルカリ溶液処理と紫外線照射処理とを組み合わせて、表面改質プラスチック基材を得る。
工程b: 当該表面改質プラスチック基材の改質表面と、水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子を含有する金ナノ粒子含有スラリーとを接触させ、当該表面改質プラスチック基材の改質表面に金ナノ粒子を付着させて金ナノ粒子層を形成し、金ナノ粒子層付プラスチック基材を得る。
工程c: 金ナノ粒子層付プラスチック基材の金ナノ粒子層上に、無電解金めっき層を設けて金層付プラスチック基材を得る。
Step a: The surface of the plastic substrate on which the gold layer is to be formed is treated with an alkali solution, or an alkali solution treatment and an ultraviolet irradiation treatment are combined to obtain a surface-modified plastic substrate.
Step b: Modified surface of the surface-modified plastic substrate, and a gold nanoparticle-containing slurry containing gold nanoparticles obtained by reduction precipitation using a solution plasma reaction in a water-soluble gold salt-containing solution, Are contacted, gold nanoparticles are adhered to the modified surface of the surface-modified plastic substrate to form a gold nanoparticle layer, and a plastic substrate with a gold nanoparticle layer is obtained.
Step c: An electroless gold plating layer is provided on the gold nanoparticle layer of the plastic substrate with a gold nanoparticle layer to obtain a plastic substrate with a gold layer.

本件出願に係る金層付プラスチック基材の製造方法で用いる前記水溶性金塩含有溶液は、アルコール成分を8vol%〜15vol%の範囲で添加したものを用いることが好ましい。   It is preferable to use what added the alcohol component in the range of 8 vol%-15 vol% as the said water-soluble gold salt containing solution used with the manufacturing method of the plastic base material with a gold layer which concerns on this application.

本件出願に係る金層付プラスチック基材の製造方法で用いる前記金ナノ粒子含有スラリーは、水溶性金塩を0.03mM〜0.1mM濃度で含有する水溶液を溶媒として用い、この溶媒中で液中プラズマを発生させ、溶解した金イオンを還元することで平均粒径が1nm〜50nmの金ナノ粒子を生成させ、当該金ナノ粒子が0.01vol%〜2vol%含まれるように調製したものを用いることを特徴とする。
The gold nanoparticle-containing slurry used in the method for producing a plastic substrate with a gold layer according to the present application uses an aqueous solution containing a water-soluble gold salt at a concentration of 0.03 mM to 0.1 mM as a solvent. An intermediate plasma is generated, and gold ions having an average particle diameter of 1 nm to 50 nm are generated by reducing dissolved gold ions, and the gold nanoparticles are prepared so as to contain 0.01 vol% to 2 vol%. It is characterized by using.

本件出願に係る金層付プラスチック基材は、従来の無電解金めっき法で使用されてきた塩化パラジウム触媒を使用することなく得られたものであり、金層が「金ナノ粒子層」と、「無電解金めっき層」とからなる。このときの無電解金めっき層とプラスチック基材との密着性が非常に高い。その結果、当該無電解金めっき層の表面に銅層を形成して、更に回路形成を行っても、プラスチック基材に対して良好な密着性を備える製品が得られる。   The plastic substrate with a gold layer according to the present application is obtained without using a palladium chloride catalyst that has been used in the conventional electroless gold plating method, and the gold layer is a "gold nanoparticle layer", It consists of “electroless gold plating layer”. At this time, the adhesion between the electroless gold plating layer and the plastic substrate is very high. As a result, even if a copper layer is formed on the surface of the electroless gold plating layer and a circuit is further formed, a product having good adhesion to the plastic substrate can be obtained.

また、本件出願に係る金層付プラスチック基材の製造方法は、アルカリ処理等により化学的微細粗化を施したプラスチック基板の表面に、予め「水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子」を付着させ、その後自己触媒型無電解金めっきを施すため、当該金ナノ粒子が金層の微細アンカーとして寄与して、プラスチック基材に対する金層の密着性を高くできる。   In addition, the method for producing a plastic substrate with a gold layer according to the present application uses a solution plasma reaction in a solution containing a water-soluble gold salt in advance on the surface of a plastic substrate subjected to chemical fine roughening by alkali treatment or the like. In order to attach gold nanoparticles obtained by reduction deposition and then apply autocatalytic electroless gold plating, the gold nanoparticles contribute as a fine anchor of the gold layer, and the gold layer on the plastic substrate High adhesion can be achieved.

液中プラズマ発生装置のイメージ図である。It is an image figure of an in-liquid plasma generator.

以下、本件出願に係る「金層付プラスチック基材の形態」及び「金層付プラスチック基材の製造形態」に関して述べる。   Hereinafter, the “form of the plastic substrate with a gold layer” and the “production form of the plastic substrate with a gold layer” according to the present application will be described.

A.金層付プラスチック基材の形態
本件出願に係る金層付プラスチック基材は、プラスチック基材の表面に金層を備えるものである。そして、当該金層は、水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子を用いて得られた金ナノ粒子層と、無電解金めっき層とからなることを特徴とする。
A. Form of plastic substrate with gold layer The plastic substrate with a gold layer according to the present application comprises a gold layer on the surface of the plastic substrate. The gold layer includes a gold nanoparticle layer obtained by using gold nanoparticles obtained by reduction deposition using a solution plasma reaction in a water-soluble gold salt-containing solution, an electroless gold plating layer, It is characterized by comprising.

プラスチック基材: 本件出願にいうプラスチック基材とは、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂のいずれかの樹脂成分を含むものをいう。これらの樹脂は、化学的・熱的に安定で、電子部品材料、生体適合材料としての利用が有力視されているものであり、めっき層との密着性が得られにくいといわれてきたものである。このときの「プラスチック基材」とは、厚さ・大きさ・形状等に限定はなく、単なるフィルムのような平面形状に限らず、立体的な三次元形状であっても構わない。 Plastic base material: The plastic base material referred to in the present application refers to a material containing any resin component of polyethylene naphthalate resin, polyimide resin, and cycloolefin polymer resin. These resins are chemically and thermally stable, and are expected to be used as electronic component materials and biocompatible materials, and have been said to be difficult to obtain adhesion to the plating layer. is there. In this case, the “plastic substrate” is not limited in thickness, size, shape, etc., and is not limited to a planar shape like a simple film, but may be a three-dimensional shape.

金ナノ粒子層: 本件出願に言う金ナノ粒子層は、平均粒径が1nm〜50nmのものを用いることが好ましい。以下に述べる製造方法の形態で述べるが、プラスチック基板の表面を、エッチング処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、アルカリ処理等により微細粗化を施して用いる。この微細粗化により形成した微細凹凸の凹部に金ナノ粒子が侵入して固定付着することが好ましい。よって、平均粒径が50nmを超えると、プラスチック基板の表面にある微細凹凸の凹部に金ナノ粒子が侵入し難くなるため、金層とプラスチック基材との密着性の向上が望めなくなる。一方、ここでは一応の平均粒径の下限を1nmとしているが、1nm未満の範囲を排除する趣旨ではない。透過型電子顕微鏡等の高倍率観察による直接的観察が困難となるため、一応の下限を示したに過ぎない。なお、本件出願における平均粒径は、「W.Haiss, N.T.K.Thanh, J.Aveyard, and D.G.Fernig (2007) Determination of size and concentration of gold nanoparticles from UV−Vis spectra, Anal.Chem, 79, 4215−4221」に開示されている実験式を用いて算出したものである。 Gold nanoparticle layer: The gold nanoparticle layer referred to in the present application preferably has an average particle diameter of 1 nm to 50 nm. Although described in the form of a manufacturing method described below, the surface of the plastic substrate is used after being finely roughened by etching, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, alkali treatment, or the like. It is preferable that the gold nanoparticles enter and be fixedly attached to the concave portions of the fine irregularities formed by this fine roughening. Therefore, if the average particle diameter exceeds 50 nm, it becomes difficult for gold nanoparticles to enter the concave portions of the fine irregularities on the surface of the plastic substrate, and thus it is not possible to improve the adhesion between the gold layer and the plastic substrate. On the other hand, although the lower limit of the average particle diameter is 1 nm here, it is not intended to exclude the range of less than 1 nm. Since direct observation by high-magnification observation such as a transmission electron microscope becomes difficult, only a temporary lower limit is shown. The average particle size in this application is “W. Haiss, NTK Thanh, J. Aveard, and D. G. Fernig (2007) Determination of size and concentration of nanoparticulate UV. Anal. Chem, 79, 4215-4221 "was calculated using an empirical formula disclosed in" Anal.

無電解金めっき層: 本件出願に言う無電解金めっき層は、上述の金ナノ粒子層を触媒代わりに用いて、自己触媒型の無電解金めっき液で形成したものである。このときの無電解金めっき層は、厚さ、含有する不純物等に特段の限定はない。しかし、経済性を考慮すると、厚さ0.1μm〜2.0μmの範囲であることが好ましい。無電解金めっき層の厚さが0.1μm未満の場合、プラスチック基材表面を均一に被覆できていない可能性があり膜厚均一性に欠ける傾向があり好ましくない。一方、無電解金めっき層の厚さが2.0μmを超えると、無電解金めっき層の色調にバラツキが生じやすくなる傾向があり、コストも上昇するため好ましくない。 Electroless gold plating layer: The electroless gold plating layer referred to in the present application is formed of an autocatalytic electroless gold plating solution using the above-described gold nanoparticle layer instead of a catalyst. The electroless gold plating layer at this time is not particularly limited in thickness, impurities contained therein, and the like. However, considering the economy, the thickness is preferably in the range of 0.1 μm to 2.0 μm. If the thickness of the electroless gold plating layer is less than 0.1 μm, the surface of the plastic substrate may not be uniformly coated, which is not preferable because the film thickness tends to be poor. On the other hand, when the thickness of the electroless gold plating layer exceeds 2.0 μm, the color tone of the electroless gold plating layer tends to vary, and the cost increases.

以上に述べてきた本件出願に係る金層付プラスチック基材は、そのままで生体適合材料として使用したり、無電解金めっき層の表面に銅めっき層を設ける等して電子部品材料を製造するための基礎材料となる。   The plastic substrate with a gold layer according to the present application described above is used as a biocompatible material as it is or for producing an electronic component material by providing a copper plating layer on the surface of an electroless gold plating layer. It becomes the basic material.

金層付プラスチック基材の製造形態: 金層付プラスチック基材の製造方法は、以下の工程a〜工程cを備えることを特徴とする。以下、各工程毎に説明する。 Production form of plastic substrate with gold layer: The method for producing a plastic substrate with gold layer comprises the following steps a to c. Hereinafter, each step will be described.

工程a: この工程では、金層を形成するプラスチック基材の表面を、アルカリ溶液処理するか、又は、アルカリ溶液処理と紫外線照射処理とを組み合わせて、表面改質プラスチック基材を得る。 Step a: In this step, the surface of the plastic substrate on which the gold layer is formed is treated with an alkali solution, or a surface-modified plastic substrate is obtained by combining the alkali solution treatment and the ultraviolet irradiation treatment.

ここで用いる「アルカリ溶液処理」とは、水酸化ナトリウム・水酸化カリウム等のアルカリ成分濃度が8wt%以上、液温45℃〜55℃のアルカリ溶液を用いて処理することである。このときのアルカリ溶液のアルカリ成分濃度が8wt%未満の場合、長時間の処理を行っても、プラスチック基材の表面を改質し微細凹凸を形成することが困難だからである。   The “alkaline solution treatment” used herein is treatment using an alkaline solution having an alkali component concentration of 8 wt% or more such as sodium hydroxide and potassium hydroxide and a liquid temperature of 45 ° C. to 55 ° C. This is because if the alkali component concentration of the alkaline solution at this time is less than 8 wt%, it is difficult to modify the surface of the plastic substrate and form fine irregularities even after long-time treatment.

また、上述と同様のアルカリ溶液処理の前後において、プラスチック基材表面に紫外線照射処理して、表面改質処理を行い微細凹凸を形成することも好ましい。紫外線照射を行うことで、プラスチック基材の表面の水との接触角が小さく、濡れ性が向上するようになるからである。本件出願における紫外線照射処理による表面改質には、UV露光装置(江東電気製KOL1−300)を用いている。この装置の波長154nm領域での照射量でみると、照射量が300mJ/cm程度になると水の接触角が50°〜60°の範囲となり、照射量が900mJ/cm前後で濡れ性向上効果が飽和するようである。このことは、紫外線照射前のプラスチック基材表面(照射量が0mJ/cm:Rz=4.7nm)からみて、紫外線の照射量が増えるにつれて、プラスチック基材表面の粗さが増加する(照射量が300mJ/cm:Rz=4.7nm)ことからも理解できる。なお、このときのプラスチック基板の表面粗さは、原子間力顕微鏡(日立ハイテクサイエンス社製,SPI−3800N)にて測定した。 In addition, before and after the alkaline solution treatment similar to that described above, it is also preferable that the surface of the plastic substrate is subjected to ultraviolet irradiation treatment to perform surface modification treatment to form fine irregularities. This is because by performing ultraviolet irradiation, the contact angle with water on the surface of the plastic substrate is small, and the wettability is improved. For the surface modification by the ultraviolet irradiation treatment in the present application, a UV exposure apparatus (KOL1-300 manufactured by Koto Electric Co., Ltd.) is used. Looking at the irradiation amount in the wavelength region of 154 nm of this apparatus, when the irradiation amount is about 300 mJ / cm 2 , the contact angle of water is in the range of 50 ° to 60 °, and the wettability is improved when the irradiation amount is around 900 mJ / cm 2. The effect seems to saturate. This is because the roughness of the surface of the plastic substrate increases as the irradiation amount of ultraviolet rays increases as seen from the surface of the plastic substrate before irradiation with ultraviolet rays (irradiation amount is 0 mJ / cm 2 : Rz = 4.7 nm). It can be understood from the fact that the amount is 300 mJ / cm 2 : Rz = 4.7 nm). In addition, the surface roughness of the plastic substrate at this time was measured with an atomic force microscope (Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., SPI-3800N).

工程b: この工程では、当該表面改質プラスチック基材の改質表面と、水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子を含有する金ナノ粒子含有スラリーとを接触させ、当該表面改質プラスチック基材の改質表面に金ナノ粒子を付着させて金ナノ粒子層を形成し、金ナノ粒子層付プラスチック基材を得る。 Step b: In this step, gold nano-particles containing gold nanoparticles obtained by reduction precipitation using a solution plasma reaction in a water-soluble gold salt-containing solution and a modified surface of the surface-modified plastic base material The particle-containing slurry is brought into contact, and gold nanoparticles are adhered to the modified surface of the surface-modified plastic substrate to form a gold nanoparticle layer, thereby obtaining a plastic substrate with a gold nanoparticle layer.

金ナノ粒子含有スラリーは、次のようにして調製する。図1に示すような液中プラズマ発生装置1を用いた。この液中プラズマ発生装置1は、パルス電源3、整流器2を備え、整流器2から水溶性金塩含有溶液6を収容する溶液槽5内に配置したタングステン電極4に通電し電圧を印加すると、電極の周囲が加熱され沸騰状態となり気泡が発生し、気泡中で絶縁破壊が起こり、気泡内でプラズマが発生し連続的プラズマを形成するものである。その他、液中プラズマ発生装置1においては、前記溶液槽5は水冷槽8の内部に収容配置され、マグネティックスターラー装置7、及び、撹拌子9を備えている。   The gold nanoparticle-containing slurry is prepared as follows. A submerged plasma generator 1 as shown in FIG. 1 was used. This submerged plasma generator 1 includes a pulse power source 3 and a rectifier 2. When a voltage is applied from the rectifier 2 to a tungsten electrode 4 disposed in a solution tank 5 containing a water-soluble gold salt-containing solution 6, The surroundings are heated to a boiling state, bubbles are generated, dielectric breakdown occurs in the bubbles, and plasma is generated in the bubbles to form continuous plasma. In addition, in the in-liquid plasma generator 1, the solution tank 5 is accommodated in the water-cooled tank 8, and includes a magnetic stirrer device 7 and a stirrer 9.

そして、この液中プラズマ発生装置の溶液槽内に入れる水溶性金塩含有溶液としては、亜硫酸金ナトリウム、シアン化金ナトリウム、シアン化金カリウム、塩化金酸ナトリウム、塩化金酸カリウム等を含有する水溶液であるが、金供給源として用いることの可能な全ての水溶性金塩を用いることができる。そして、水溶性金塩濃度は、0.03mM〜0.1mMとすることが好ましい。水溶性金塩濃度が0.03mM未満の場合、金ナノ粒子の還元析出速度が遅く、金ナノ粒子含有スラリーに含まれる金ナノ粒子含有量も低下し、本件出願におけるするため好ましくない。一方、水溶性金塩濃度が高すぎる場合、金ナノ粒子含有スラリーに含まれる金ナノ粒子含有量が過剰になるため、プラスチック基材の表面を改質して形成した微細凹凸の凹部に対する金ナノ粒子の侵入が困難となる傾向があり好ましくない。   The water-soluble gold salt-containing solution to be placed in the solution tank of the in-liquid plasma generator contains sodium gold sulfite, sodium gold cyanide, potassium gold cyanide, sodium chloroaurate, potassium chloroaurate, etc. Although it is an aqueous solution, all the water-soluble gold salts which can be used as a gold supply source can be used. The water-soluble gold salt concentration is preferably 0.03 mM to 0.1 mM. When the water-soluble gold salt concentration is less than 0.03 mM, the reduction precipitation rate of the gold nanoparticles is slow, and the gold nanoparticle content contained in the gold nanoparticle-containing slurry is also lowered, which is undesirable in the present application. On the other hand, when the concentration of the water-soluble gold salt is too high, the gold nanoparticle content contained in the gold nanoparticle-containing slurry becomes excessive. There is a tendency that the penetration of particles becomes difficult, which is not preferable.

更に、前記水溶性金塩含有溶液には、アルコール成分を8vol%〜15vol%の範囲で含有させることが好ましい。アルコール成分を含有させることで、得られる金ナノ粒子の粒径を、10nm以下に制御することが容易になるからである。金ナノ粒子含有スラリーが含有するアルコール成分が8vol%未満の場合、金ナノ粒子の粒径を微細化させることが困難となる。一方、金ナノ粒子含有スラリーが含有するアルコール成分が15vol%を超えても、金ナノ粒子の粒径を微細化させる効果が飽和するため、単なる資源の無駄使いとなり好ましくない。   Further, the water-soluble gold salt-containing solution preferably contains an alcohol component in the range of 8 vol% to 15 vol%. It is because it becomes easy to control the particle size of the obtained gold nanoparticles to 10 nm or less by containing the alcohol component. When the alcohol component contained in the gold nanoparticle-containing slurry is less than 8 vol%, it is difficult to reduce the particle size of the gold nanoparticle. On the other hand, even if the alcohol component contained in the gold nanoparticle-containing slurry exceeds 15 vol%, the effect of refining the particle size of the gold nanoparticle is saturated, which is not preferable because it is merely a waste of resources.

以上に述べた水溶性金塩含有溶液の中で、液中プラズマを発生させ、溶解した金イオンを還元することで平均粒径が1nm〜50nmの金ナノ粒子を生成させ、当該金ナノ粒子が0.01vol%〜2vol%含まれるように調製して金ナノ粒子含有スラリーが得られる。なお、このときの液中プラズマの発生条件に関しては、液中でプラズマ発生状態を維持できる限り、特段の限定はない。例えば、電源の周波数20kHz、パルス幅0.8μm、1.2μm、2次電圧1.5〜2.0kVとする等である。   In the water-soluble gold salt-containing solution described above, plasma in the liquid is generated, and dissolved gold ions are reduced to generate gold nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 50 nm. A gold nanoparticle-containing slurry can be obtained by adding 0.01 vol% to 2 vol%. Note that the conditions for generating the plasma in liquid at this time are not particularly limited as long as the plasma generation state can be maintained in the liquid. For example, the frequency of the power source is 20 kHz, the pulse width is 0.8 μm, 1.2 μm, and the secondary voltage is 1.5 to 2.0 kV.

以上に述べてきた金ナノ粒子含有スラリーと、表面改質プラスチック基材の改質表面とを接触させ、当該表面改質プラスチック基材の改質表面に金ナノ粒子を付着させて金ナノ粒子層を形成し、金ナノ粒子層付プラスチック基材を得る。このときの金ナノ粒子含有スラリーと表面改質プラスチック基材の改質表面との接触は、金ナノ粒子含有スラリーに表面改質プラスチック基材を浸漬する方法、表面改質プラスチック基材の表面に金ナノ粒子含有スラリーを噴霧する方法等、表面改質プラスチック基材の改質表面に金ナノ粒子を付着させることができれば良い。   The gold nanoparticle layer is obtained by bringing the gold nanoparticle-containing slurry described above into contact with the modified surface of the surface-modified plastic substrate, and attaching the gold nanoparticles to the modified surface of the surface-modified plastic substrate. To obtain a plastic substrate with a gold nanoparticle layer. The contact between the gold nanoparticle-containing slurry and the modified surface of the surface-modified plastic substrate is performed by immersing the surface-modified plastic substrate in the gold nanoparticle-containing slurry. It is only necessary that the gold nanoparticles can be attached to the modified surface of the surface-modified plastic substrate, such as a method of spraying the gold nanoparticle-containing slurry.

工程c: この工程では、金ナノ粒子層付プラスチック基材の金ナノ粒子層上に、無電解金めっき層を設けて金層付プラスチック基材を得る。このとき自己触媒型無電解金めっき浴であれば、公知の如何なるものの使用も可能である。以下、実施例及び比較例に関して述べる。 Step c: In this step, an electroless gold plating layer is provided on the gold nanoparticle layer of the plastic substrate with a gold nanoparticle layer to obtain a plastic substrate with a gold layer. At this time, any known electrocatalytic electroless gold plating bath can be used. Hereinafter, examples and comparative examples will be described.

この実施例1では、プラスチック基材としてポリエチレンナフタレート樹脂フィルムを用い、この表面に表1に示したプロセスで金層を形成して金層付ポリエチレンナフタレート樹脂基材を得た。このプロセスで条件を変更して得られた複数の金層付ポリエチレンナフタレート樹脂フィルムの評価は、以下の表3にまとめて示す。   In Example 1, a polyethylene naphthalate resin film was used as a plastic substrate, and a gold layer was formed on the surface by the process shown in Table 1 to obtain a polyethylene naphthalate resin substrate with a gold layer. The evaluation of a plurality of polyethylene naphthalate resin films with a gold layer obtained by changing the conditions in this process is summarized in Table 3 below.

Figure 0006590309
Figure 0006590309

この表1でいう「無電解金めっき」には、以下の表2に示す組成の自己触媒型無電解めっき浴を採用した。 For “electroless gold plating” in Table 1, an autocatalytic electroless gold plating bath having the composition shown in Table 2 below was employed.

Figure 0006590309
Figure 0006590309

そして、実施例1の触媒付与に用いる金ナノ粒子含有スラリーは、金ナノ粒子径が5nmのものを得る場合には、水溶性金塩含有溶液として塩化金酸ナトリウム水溶液(0.05mM)、エタノール(10vol%)のものを用いた。そして、金ナノ粒子径が75nm及び90nmのものを得る場合には塩化金酸ナトリウム水溶液(0.05mM)を用いた。液中プラズマ用いて金イオンを還元することにより、金ナノ粒子の形成を行った。パルス電源装置には栗田製作所製MPP−HV04を使用し、電源条件は周波数20kHz、パルス幅0.8μm又は1.2μm、2次電圧1.5kV〜2.0kVとして,UV/Visでのピーク吸収帯域が522nm,540nm,560nmと異なる金ナノ粒子含有スラリーを調整した。ピーク吸収帯域とHaissの実験式から推定される合成粒子径はそれぞれ50nm〜150nmであった。   And when the gold nanoparticle containing slurry used for catalyst provision of Example 1 obtains a gold nanoparticle diameter 5nm, sodium chloroaurate aqueous solution (0.05mM), ethanol as a water-soluble gold salt containing solution (10 vol%) was used. And when obtaining a thing with a gold nanoparticle diameter of 75 nm and 90 nm, the sodium chloroaurate aqueous solution (0.05 mM) was used. Gold nanoparticles were formed by reducing gold ions using plasma in liquid. MPP-HV04 manufactured by Kurita Seisakusho is used for the pulse power supply, and the power supply conditions are a frequency of 20 kHz, a pulse width of 0.8 μm or 1.2 μm, a secondary voltage of 1.5 kV to 2.0 kV, and peak absorption at UV / Vis. Gold nanoparticle-containing slurries with zones different from 522 nm, 540 nm, and 560 nm were prepared. The synthetic particle size estimated from the peak absorption band and the empirical formula of Haiss was 50 nm to 150 nm, respectively.

この実施例2は、実施例1で用いたプラスチック基材であるポリエチレンナフタレート樹脂フィルムを、ポリイミド樹脂フィルムに変更した点が異なるのみである。ここで得られた複数の金層付ポリイミド樹脂フィルムの評価は、以下の表3にまとめて示す。   This Example 2 is different only in that the polyethylene naphthalate resin film, which is a plastic substrate used in Example 1, is changed to a polyimide resin film. The evaluation of the polyimide resin films with a plurality of gold layers obtained here is summarized in Table 3 below.

この実施例2は、実施例1で用いたプラスチック基材であるポリエチレンナフタレート樹脂フィルムを、シクロオレフィンポリマー樹脂フィルムに変更した点が異なるのみである。ここで得られた複数の金層付シクロオレフィンポリマー樹脂フィルムの評価は、以下の表3にまとめて示す。   Example 2 differs from Example 2 only in that the polyethylene naphthalate resin film, which is a plastic substrate used in Example 1, is changed to a cycloolefin polymer resin film. The evaluation of the obtained cycloolefin polymer resin films with a gold layer is summarized in Table 3 below.

比較例Comparative example

この比較例は、実施例1の触媒付与のプロセスが異なるものである。実施例1では金ナノ粒子の付着を触媒化と捉えられるが、比較例においては、従来のパラジウム触媒を用いた。このときのパラジウムによる触媒化は、市販のパラジウム触媒液であるNNPアクセラ(奥野製薬工業株式会社製)に1分間浸漬し、その後純水に1分間浸漬し放置する洗浄工程を施すものとした。そして、実施例1と同様の無電解金めっきを行い、ここで得られた複数の金層付ポリエチレンナフタレート樹脂フィルムの評価は、以下の表3にまとめて示す。   This comparative example differs in the catalyst application process of Example 1. In Example 1, the adhesion of gold nanoparticles can be regarded as catalysis, but in the comparative example, a conventional palladium catalyst was used. Catalysis with palladium at this time was performed by performing a washing step of immersing in NNP Axela (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), which is a commercially available palladium catalyst solution, for 1 minute, and then immersing in pure water for 1 minute. And the electroless gold plating similar to Example 1 was performed, and the evaluation of the several polyethylene naphthalate resin film with a gold layer obtained here is put together in the following Table 3, and is shown.

[評価結果]
以下の表3に各実施例と比較例との評価結果を示す。以下、表3を参照しつつ説明する。
[Evaluation results]
Table 3 below shows the evaluation results of the examples and comparative examples. Hereinafter, a description will be given with reference to Table 3.

Figure 0006590309
Figure 0006590309

表3から次のようなことが分かる。実施例と比較例とを対比すると、金層付ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム等の金層の外観においては、むしろ従来のパラジウム触媒を用いた比較例の方が有利にみえる。しかしながら、比較試料1〜比較試料8の全てにおいて、クロスカット試験におけるテープによる剥離が起きている。これに対し、実施試料の全てにおいて、当該テープ剥離は確認できず、良好なプラスチック基材との密着性を確保できていることが分かる。   Table 3 shows the following. Comparing the examples with the comparative examples, the appearance of the gold layer such as a polyethylene naphthalate resin film with a gold layer is more advantageous than the comparative example using a conventional palladium catalyst. However, in all of Comparative Samples 1 to 8, peeling due to the tape in the cross-cut test occurs. On the other hand, in all of the implementation samples, the tape peeling cannot be confirmed, and it can be seen that good adhesion to the plastic substrate can be secured.

更に、実施例の中を見ると、各実施例において触媒として用いた金ナノ粒子の粒径が小さいほど、金層付ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム等の金層の外観が美麗になることが分かる。   Furthermore, when the inside of an Example is seen, it turns out that the external appearance of gold layers, such as a polyethylene naphthalate resin film with a gold layer, becomes beautiful, so that the particle size of the gold nanoparticle used as a catalyst in each Example is small.

本件出願に係る金層付プラスチック基材の金層には不純物成分が少なく、且つ、無電解金めっき層とプラスチック基材との密着性が非常に高い。そのため電子部品材料、医療機器等の種々の分野での利用が可能である。また、本件出願に係る金層付プラスチック基材の製造方法は、アルカリ処理等により化学的微細粗化を施したプラスチック基板の表面に、予め触媒として寄与する「水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子」を付着させ、その後自己触媒型無電解金めっきを施すため、異種成分の含有の少ない金層を得ることができる。  The gold layer of the plastic substrate with a gold layer according to the present application has few impurity components and has very high adhesion between the electroless gold plating layer and the plastic substrate. Therefore, it can be used in various fields such as electronic component materials and medical equipment. In addition, the method for producing a plastic substrate with a gold layer according to the present application includes a “solution in a water-soluble gold salt-containing solution that contributes in advance to the surface of a plastic substrate that has been subjected to chemical fine roughening by alkali treatment or the like. Since gold nanoparticles obtained by reduction deposition using a plasma reaction are adhered, and then autocatalytic electroless gold plating is performed, a gold layer containing a small amount of different components can be obtained.

1 液中プラズマ発生装置
2 整流器
3 パルス電源
4 タングステン電極
5 溶液槽
6 水溶性金塩含有溶液
7 マグネティックスターラー装置
8 水冷槽
9 撹拌子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Submerged plasma generator 2 Rectifier 3 Pulse power supply 4 Tungsten electrode 5 Solution tank 6 Water-soluble gold salt containing solution
7 Magnetic stirrer 8 Water cooling tank 9 Stir bar

Claims (6)

プラスチック基材の表面に金層を備える金層付プラスチック基材であって、
当該金層は、水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子を用いて得られた金ナノ粒子層と、無電解金めっき層とからなることを特徴とする金層付プラスチック基材。
A plastic substrate with a gold layer comprising a gold layer on the surface of the plastic substrate,
The gold layer comprises a gold nanoparticle layer obtained by using gold nanoparticles obtained by reduction deposition using a solution plasma reaction in a water-soluble gold salt-containing solution, and an electroless gold plating layer. A plastic base material with a gold layer.
前記金ナノ粒子層を構成する金ナノ粒子は、平均粒径が1nm〜50nmである請求項1に記載の金層付プラスチック基材。 2. The plastic substrate with a gold layer according to claim 1, wherein the gold nanoparticles constituting the gold nanoparticle layer have an average particle diameter of 1 nm to 50 nm. 前記プラスチック基材は、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂のいずれかの樹脂成分を含むものである請求項1又は請求項2に記載の金層付プラスチック基材。 The plastic substrate with a gold layer according to claim 1 or 2, wherein the plastic substrate contains a resin component of any one of polyethylene naphthalate resin, polyimide resin, and cycloolefin polymer resin. プラスチック基材の表面に金層を備える金層付プラスチック基材の製造方法であって、以下の工程a〜工程cを備えることを特徴とする金層付プラスチック基材の製造方法。
工程a: 金層を形成するプラスチック基材の表面を、アルカリ溶液処理するか、又は、アルカリ溶液処理と紫外線照射処理とを組み合わせて、表面改質プラスチック基材を得る。
工程b: 当該表面改質プラスチック基材の改質表面と、水溶性金塩含有溶液中で溶液プラズマ反応を利用して還元析出させて得られた金ナノ粒子を含有する金ナノ粒子含有スラリーとを接触させ、当該表面改質プラスチック基材の改質表面に金ナノ粒子を付着させて金ナノ粒子層を形成し、金ナノ粒子層付プラスチック基材を得る。
工程c: 金ナノ粒子層付プラスチック基材の金ナノ粒子層上に、無電解金めっき層を設けて金層付プラスチック基材を得る。
A method for producing a plastic substrate with a gold layer comprising a gold layer on the surface of a plastic substrate, comprising the following steps a to c.
Step a: The surface of the plastic substrate on which the gold layer is to be formed is treated with an alkali solution, or an alkali solution treatment and an ultraviolet irradiation treatment are combined to obtain a surface-modified plastic substrate.
Step b: a modified surface of the surface-modified plastic substrate, and a gold nanoparticle-containing slurry containing gold nanoparticles obtained by reduction precipitation using a solution plasma reaction in a water-soluble gold salt-containing solution; Are contacted, gold nanoparticles are adhered to the modified surface of the surface-modified plastic substrate to form a gold nanoparticle layer, and a plastic substrate with a gold nanoparticle layer is obtained.
Step c: An electroless gold plating layer is provided on the gold nanoparticle layer of the plastic substrate with a gold nanoparticle layer to obtain a plastic substrate with a gold layer.
前記水溶性金塩含有溶液は、アルコール成分を8vol%〜15vol%の範囲で含有したものを用いる請求項4に記載の金層付プラスチック基材の製造方法。 The said water-soluble gold salt containing solution is a manufacturing method of the plastic base material with a gold layer of Claim 4 using what contains the alcohol component in the range of 8 vol%-15 vol%. 前記金ナノ粒子含有スラリーとして、水溶性金塩を0.03mM〜0.1mM濃度で含有する水溶液を溶媒として用い、この溶媒中で液中プラズマを発生させ、溶解した金イオンを還元することで平均粒径が1nm〜50nmの金ナノ粒子を生成させ、当該金ナノ粒子が0.01vol%〜2vol%含まれるように調製したものを用いる請求項4又は請求項5に記載の金層付プラスチック基材の製造方法。 As the gold nanoparticle-containing slurry, an aqueous solution containing a water-soluble gold salt at a concentration of 0.03 mM to 0.1 mM is used as a solvent, plasma is generated in the solvent in this solvent, and dissolved gold ions are reduced. The gold layered plastic according to claim 4 or 5, wherein gold nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 50 nm are generated and prepared so that the gold nanoparticles are contained in an amount of 0.01 vol% to 2 vol%. A method for producing a substrate.
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