JP6584742B2 - Manufacturing method of rubber products - Google Patents

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本発明は基材と、ゴム系樹脂層とを有するゴム製製品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a rubber product having a base material and a rubber-based resin layer and a method for producing the same.

従来より基材と、ゴム系樹脂層とを有するゴム製製品が知られている。このようなゴム製製品は、予め金型内に基材を配置し、この基材に対してゴム系樹脂を射出することにより得られる。   Conventionally, rubber products having a base material and a rubber-based resin layer are known. Such a rubber product is obtained by placing a base material in a mold in advance and injecting a rubber-based resin onto the base material.

しかしながら、従来のゴム製製品では、基材とゴム系樹脂層との接着性が十分でなく、ゴム製製品の基材とゴム系樹脂層とが分離することがある。このためゴム系樹脂層にくさび形状を設けて、このくさび形状により基材との密着性を高める工夫も考えられている。   However, in the conventional rubber product, the adhesion between the base material and the rubber-based resin layer is not sufficient, and the base material of the rubber product and the rubber-based resin layer may be separated. For this reason, it has been considered to provide a wedge shape in the rubber-based resin layer and to improve the adhesion to the base material by this wedge shape.

しかしながらゴム系樹脂層にくさび形状を設けるためには、金型の内面を複雑な形状に形成する必要があり、製造コストが上昇する。   However, in order to provide a wedge shape in the rubber-based resin layer, it is necessary to form the inner surface of the mold in a complicated shape, which increases the manufacturing cost.

特開平１０−１２８８６３JP-A-10-128863

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基材とゴム系樹脂層との接着性を高めることができるゴム製製品およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object thereof is to provide a rubber product and a method for manufacturing the same, which can improve the adhesion between the base material and the rubber-based resin layer.

本発明は、合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜とを有する基材と、基材の蒸着膜上に積層されたゴム系樹脂層とを備えたことを特徴とするゴム製製品である。   The present invention relates to a base material having a base material body made of a synthetic resin, a vapor deposition film of an inorganic compound formed on one surface of the base material body, and a rubber resin laminated on the vapor deposition film of the base material And a rubber product characterized by comprising a layer.

本発明は、基材本体はポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品である。   The present invention is a rubber product characterized in that the base material body includes any one of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon.

本発明は、ゴム系樹脂層は、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品である。   The present invention is a rubber product characterized in that the rubber-based resin layer contains any of isoprene rubber, butadiene rubber, and silicone rubber.

本発明は、蒸着膜はアルミナ蒸着膜またはシリカ蒸着膜を含むことを特徴とするゴム製製品である。   The present invention is the rubber product characterized in that the deposited film includes an alumina deposited film or a silica deposited film.

本発明は、金型内に合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜とを有する基材を配置する工程と、金型内の少なくとも蒸着膜側にゴム系樹脂を射出してゴム系樹脂層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。   The present invention includes a step of disposing a base material having a base material body made of a synthetic resin and a vapor deposition film of an inorganic compound formed on one surface of the base material body in the mold, and at least in the mold And a step of forming a rubber-based resin layer by injecting a rubber-based resin on the vapor deposition film side.

本発明は、基材本体はポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。   The present invention is the method for producing a rubber product, characterized in that the base body includes any one of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon.

本発明は、ゴム系樹脂層は、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。   The present invention is the method for producing a rubber product, wherein the rubber-based resin layer contains any of isoprene rubber, butadiene rubber, and silicone rubber.

本発明は、蒸着膜はアルミナ蒸着膜またはシリカ蒸着膜を含むことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。   The present invention is the method for producing a rubber product, wherein the deposited film includes an alumina deposited film or a silica deposited film.

以上のように本発明によれば、基材とゴム系樹脂層との接着性を高めることができる。   As described above, according to the present invention, the adhesion between the base material and the rubber-based resin layer can be enhanced.

図１は第１の実施の形態によるゴム製製品を示す側断面図。FIG. 1 is a side sectional view showing a rubber product according to the first embodiment. 図２は第１の実施の形態によるゴム製製品の製造方法を示す側断面図。FIG. 2 is a side sectional view showing a method for manufacturing a rubber product according to the first embodiment. 図３は第２の実施の形態によるゴム製製品を示す側断面図。FIG. 3 is a side sectional view showing a rubber product according to the second embodiment. 図４は第２の実施の形態によるゴム製製品の製造方法を示す側断面図。FIG. 4 is a side sectional view showing a method for manufacturing a rubber product according to the second embodiment. 図５は第３の実施の形態によるゴム製製品を示す側断面図。FIG. 5 is a side sectional view showing a rubber product according to the third embodiment. 図６は比較例としてのゴム製製品の製造方法を示す側断面図。FIG. 6 is a side sectional view showing a method for producing a rubber product as a comparative example.

＜第１の実施の形態＞
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。 <First Embodiment>
The first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

まず図１および図２により、本発明の第１の実施の形態について説明する。   First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図１に示すようにゴム製製品１０は、合成樹脂製の基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜１２、例えばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔ）により得られたシリカ蒸着膜（ＳｉＯ２）あるいはＣＶＤにより得られた酸化アルミ蒸着膜（Ａｌ２Ｏ３）とを有する合成樹脂製の基材１１と、基材１１の蒸着膜１２上に積層されたゴム系樹脂層１３とを備えている。 As shown in FIG. 1, a rubber product 10 includes a base body 11A made of a synthetic resin and an inorganic compound vapor-deposited film 12 formed on one surface of the base body 11A, for example, CVD (Chemical Vapor Deposition). The substrate 11 made of synthetic resin having the obtained silica deposited film (SiO 2 ) or the aluminum oxide deposited film (Al 2 O 3 ) obtained by CVD was laminated on the deposited film 12 of the substrate 11. And a rubber-based resin layer 13.

また基材１１は基材本体１１Ａの蒸着膜１２と反対側の面に設けられた印刷層１４を有する。   Moreover, the base material 11 has the printing layer 14 provided in the surface on the opposite side to the vapor deposition film 12 of 11 A of base material main bodies.

次に各構成部材の材料について説明する。   Next, the material of each component will be described.

合成樹脂製の基材１１の基材本体１１Ａとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかの材料を用いることがきる。   As the base body 11A of the base 11 made of synthetic resin, any material of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon can be used.

また、無機系化合物の蒸着膜１２としては、上述したシリカ蒸着膜、あるいは酸化アルミ蒸着膜を挙げることができ、これらシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜はいずれも透明体からなる。   Examples of the inorganic compound vapor-deposited film 12 include the silica vapor-deposited film and the aluminum oxide vapor-deposited film described above, and both the silica vapor-deposited film and the aluminum oxide vapor-deposited film are made of a transparent body.

このような蒸着膜１２は、基材１１の基材本体１１Ａ上に直接ＣＶＤにより蒸着することができるが、蒸着膜１２を蒸着用基材（図示せず）上に形成し、蒸着膜１２が形成された蒸着用基材を上述した基材１１の基材本体１１Ａ上に貼り付けてもよい。   Such a deposited film 12 can be deposited directly on the substrate body 11A of the substrate 11 by CVD. However, the deposited film 12 is formed on a deposition substrate (not shown), and the deposited film 12 You may affix the formed base material for vapor deposition on the base-material main body 11A of the base material 11 mentioned above.

なお、蒸着膜１２としては、上述した透明体からなるシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜に限らず、アルミ蒸着膜（Ａｌ）を用いてもよい。   The vapor deposition film 12 is not limited to the above-described silica vapor deposition film or aluminum oxide vapor deposition film made of a transparent body, and an aluminum vapor deposition film (Al) may be used.

またゴム系樹脂１３としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムの他にスチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。   As the rubber resin 13, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber, etc. can be used in addition to isoprene rubber, butadiene rubber, and silicone rubber.

次にこのような構成からなる実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the embodiment having such a configuration will be described.

まず図２に示すように、基材本体１１Ａの一方の面に蒸着膜１２が形成され、基材本体１１Ａの他方の面に印刷層１４が形成された基材１１を準備し、この基材１１を金型２１内に配置する。   First, as shown in FIG. 2, a base material 11 is prepared in which a vapor deposition film 12 is formed on one surface of a base material body 11A and a printed layer 14 is formed on the other surface of the base material body 11A. 11 is placed in the mold 21.

次に金型２１のゲート２２からゴム系樹脂１３を金型２１内へ射出する。この場合、ゲート２２から金型２１内に射出されたゴム系樹脂１３は、基材１１のうち蒸着膜１２上に積層される。   Next, the rubber resin 13 is injected into the mold 21 from the gate 22 of the mold 21. In this case, the rubber-based resin 13 injected from the gate 22 into the mold 21 is laminated on the vapor deposition film 12 in the base material 11.

このようにして、基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの一方の面に形成された蒸着膜１２と、基材本体１１Ａの他方の面に形成された印刷層１４とを有する基材１１と、基材１１の蒸着膜１２上に積層されたゴム系樹脂層１３とを有するゴム製製品１０が得られる。   In this way, the substrate 11 having the substrate body 11A, the vapor deposition film 12 formed on one surface of the substrate body 11A, and the printed layer 14 formed on the other surface of the substrate body 11A, A rubber product 10 having a rubber-based resin layer 13 laminated on the vapor deposition film 12 of the substrate 11 is obtained.

このようにして得られたゴム製製品１０は、例えば名札のようなタグとして用いることができる。   The rubber product 10 thus obtained can be used as a tag such as a name tag.

またゴム製製品１０は、基材本体１１Ａと、蒸着膜１２と、印刷層１４とを有する基材１１と、基材１１の蒸着膜１２上に積層されたゴム系樹脂層１３とを備えており、基材１１の蒸着膜１２が一種のアンカー効果をもつため、基材１１とゴム系樹脂層１３とを堅固に接着することができる。   Further, the rubber product 10 includes a base body 11 having a base body 11A, a vapor deposition film 12, and a printed layer 14, and a rubber-based resin layer 13 laminated on the vapor deposition film 12 of the base material 11. In addition, since the deposited film 12 of the base material 11 has a kind of anchor effect, the base material 11 and the rubber-based resin layer 13 can be firmly bonded.

このため、ゴム製製品１０の基材１１からゴム系樹脂層１３が剥離することはない。   For this reason, the rubber-based resin layer 13 does not peel from the base material 11 of the rubber product 10.

ここで図６により比較例としてのゴム製製品１０を示す。図６に示すように、基材１１の基材本体１１Ａ上に蒸着膜１２を設けることなくゴム系樹脂層１３を設けた場合、基材１１からゴム系樹脂層１３が剥離することも考えられる。   Here, FIG. 6 shows a rubber product 10 as a comparative example. As shown in FIG. 6, when the rubber-based resin layer 13 is provided on the base material body 11 </ b> A of the base material 11 without providing the vapor deposition film 12, the rubber-based resin layer 13 may be peeled off from the base material 11. .

このため、図６に示すように、金型２１内に配置される基材１１に予め貫通孔１１ａを形成するとともに金型２１に溝部２３を形成している。   For this reason, as shown in FIG. 6, the through hole 11 a is formed in advance in the base material 11 disposed in the mold 21, and the groove portion 23 is formed in the mold 21.

図６において、ゲート２２から金型２１内に射出されたゴム系樹脂層１３は、基材１１の貫通孔１１ａを通って金型２１の溝部２３に達し、この溝部２３によってくさび１３ｂを形成する。この場合、ゴム系樹脂層１３は、基材１１の貫通孔１１ａに対応する貫通部１３ａと、くさび１３ｂとを有し、このくさび１３ｂにより基材１１とゴム系樹脂層１３との剥離を防止している。   In FIG. 6, the rubber-based resin layer 13 injected into the mold 21 from the gate 22 reaches the groove portion 23 of the mold 21 through the through hole 11 a of the base material 11, and a wedge 13 b is formed by the groove portion 23. . In this case, the rubber-based resin layer 13 has a through-hole 13a corresponding to the through-hole 11a of the base material 11 and a wedge 13b, and the wedge 13b prevents the base material 11 and the rubber-based resin layer 13 from peeling off. is doing.

これに対して本実施の形態によれば、ゴム系樹脂層１３にくさびを設けることなく、基材１１の基材本体１１Ａの一方の面に蒸着膜１２を設け、基材本体１１Ａの他方の面に印刷層１４を設けるとともに、基材１１の蒸着膜１２上にゴム系樹脂層１３を積層するだけで、ゴム製製品１０を得ることができる。この場合、蒸着膜１２がゴム系樹脂層１３に対してアンカー効果を発揮するため基材１１からゴム系樹脂層１３が剥離することはない。   On the other hand, according to the present embodiment, the vapor deposition film 12 is provided on one surface of the base body 11A of the base 11 without providing a wedge on the rubber-based resin layer 13, and the other side of the base body 11A is provided. The rubber product 10 can be obtained simply by providing the printing layer 14 on the surface and laminating the rubber-based resin layer 13 on the vapor deposition film 12 of the substrate 11. In this case, since the vapor deposition film 12 exhibits an anchor effect on the rubber-based resin layer 13, the rubber-based resin layer 13 does not peel from the base material 11.

＜第２の実施の形態＞
次に図３および図４により、本発明の第２の実施の形態について説明する。 <Second Embodiment>
Next, referring to FIG. 3 and FIG. 4, a second embodiment of the present invention will be described.

図１に示すようにゴム製製品１０は、合成樹脂製の基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの両面に形成された無機系化合物の蒸着膜１２、例えばＣＶＤにより得られたシリカ蒸着膜（ＳｉＯ２）あるいはＣＶＤにより得られた酸化アルミ蒸着膜（Ａｌ２Ｏ３）とを有する合成樹脂製の基材１１と、基材１１の基材本体１１Ａの両面に設けられた蒸着膜１２上に積層された一対のゴム系樹脂層１３とを備えている。 As shown in FIG. 1, a rubber product 10 includes a base body 11A made of synthetic resin, and a vapor deposition film 12 of an inorganic compound formed on both surfaces of the base body 11A, for example, a silica vapor deposition film ( On the base material 11 made of synthetic resin having a SiO 2 ) or aluminum oxide vapor deposition film (Al 2 O 3 ) obtained by CVD, and the vapor deposition film 12 provided on both surfaces of the base body 11A of the base material 11 A pair of laminated rubber-based resin layers 13 is provided.

また基材１１の上面には凹部１６が形成され、この凹部１６内にＩＣチップ１５が搭載されている。   A recess 16 is formed on the upper surface of the substrate 11, and an IC chip 15 is mounted in the recess 16.

次に各構成部材の材料について説明する。   Next, the material of each component will be described.

合成樹脂製の基材１１の基材本体１１Ａとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかの材料を用いることができる。   As the base body 11A of the base 11 made of synthetic resin, any material of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon can be used.

また、無機系化合物の蒸着膜１２としては、上述したシリカ蒸着膜、あるいは酸化アルミ蒸着膜を挙げることができ、これらシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜はいずれも透明体からなる。   Examples of the inorganic compound vapor-deposited film 12 include the silica vapor-deposited film and the aluminum oxide vapor-deposited film described above, and both the silica vapor-deposited film and the aluminum oxide vapor-deposited film are made of a transparent body.

このような蒸着膜１２は、基材１１の基材本体１１Ａ上に直接ＣＶＤにより蒸着することができるが、蒸着膜１２を蒸着用基材上に形成し、蒸着膜１２が形成された蒸着用基材を上述した基材１１上に貼り付けてもよい。   Such a deposited film 12 can be directly deposited on the substrate body 11A of the substrate 11 by CVD. However, the deposited film 12 is formed on the deposited substrate, and the deposited film 12 is formed. You may affix a base material on the base material 11 mentioned above.

なお、蒸着膜１２としては、上述した透明体からなるシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜に限らず、アルミ蒸着膜（Ａｌ）を用いてもよい。   The vapor deposition film 12 is not limited to the above-described silica vapor deposition film or aluminum oxide vapor deposition film made of a transparent body, and an aluminum vapor deposition film (Al) may be used.

またゴム系樹脂１３としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムイソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムの他にスチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。   As the rubber-based resin 13, isoprene rubber, butadiene rubber, silicone rubber isoprene rubber, butadiene rubber, silicone rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber, or the like can be used.

次にこのような構成からなる実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the embodiment having such a configuration will be described.

まず図４に示すように、基材本体１１Ａの両面に蒸着膜１２が形成された基材１１を準備し、この基材１１を金型２１内に配置する。   First, as shown in FIG. 4, a base material 11 having vapor deposition films 12 formed on both surfaces of a base body 11 </ b> A is prepared, and the base material 11 is placed in a mold 21.

次に金型２１の上部と下部に設けられた一対のゲート２２から順次ゴム系樹脂１３を金型２１内へ射出する。この場合、一対のゲート２２から金型２１内に射出されたゴム系樹脂１３は、基材１１のうち上面の蒸着膜１２上および下面の蒸着膜１２上に順次積層される。   Next, the rubber-based resin 13 is sequentially injected into the mold 21 from a pair of gates 22 provided at the upper and lower portions of the mold 21. In this case, the rubber-based resin 13 injected into the mold 21 from the pair of gates 22 is sequentially stacked on the upper vapor deposition film 12 and the lower vapor deposition film 12 of the base material 11.

このようにして、基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの両面に形成された蒸着膜１２とを有する基材１１と、基材１１の基材本体１１Ａの両面に設けられた蒸着膜１２上に積層された一対のゴム系樹脂層１３とを有するゴム製製品１０が得られる。   Thus, on the base material 11 which has 11 A of base-material main bodies and the vapor deposition film 12 formed in both surfaces of the base-material main body 11A, and the vapor deposition film 12 provided in both surfaces of the base-material main body 11A of the base material 11 A rubber product 10 having a pair of rubber-based resin layers 13 laminated on each other is obtained.

このようにして得られたゴム製製品１０は基材１１の上面に形成された凹部１６内に搭載されたＩＣチップ１５を有しており、例えばＩＣタグとして用いることができる。   The rubber product 10 thus obtained has an IC chip 15 mounted in a recess 16 formed on the upper surface of the substrate 11, and can be used as an IC tag, for example.

またゴム製製品１０は、基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの両面に設けられた蒸着膜１２とを有する基材１１と、基材１１の基材本体１１Ａの両面に設けられた蒸着膜１２上に積層された一対のゴム系樹脂層１３とを備えており、基材１１の一対の蒸着膜１２が一種のアンカー効果をもつため、基材１１と一対のゴム系樹脂層１３とを堅固に接着することができる。   The rubber product 10 includes a base material 11 having a base body 11A and a vapor deposition film 12 provided on both sides of the base body 11A, and a vapor deposition film provided on both sides of the base body 11A of the base material 11. 12 and a pair of rubber-based resin layers 13 laminated on each other, and since the pair of deposited films 12 of the base material 11 has a kind of anchor effect, the base material 11 and the pair of rubber-based resin layers 13 are Can be firmly bonded.

このため、ゴム製製品１０の基材１１からゴム系樹脂層１３が剥離することはない。   For this reason, the rubber-based resin layer 13 does not peel from the base material 11 of the rubber product 10.

＜第３の実施の形態＞
次に図５により、本発明の第３の実施の形態について説明する。 <Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図５に示すようにゴム製製品１０は、基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜１２、例えばＣＶＤにより得られた（ＳｉＯ２）あるいはＣＶＤにより得られた酸化アルミ蒸着膜（Ａｌ２Ｏ３）とを有する合成樹脂製の基材１１と、基材１１の蒸着膜１２上に積層されたゴム系樹脂からなる接点スイッチ１３Ａとを備えている。 As shown in FIG. 5, the rubber product 10 includes a base body 11A and an inorganic compound vapor-deposited film 12 formed on one surface of the base body 11A, for example, obtained by CVD (SiO 2 ) or CVD. A synthetic resin base material 11 having an aluminum oxide vapor-deposited film (Al 2 O 3 ) obtained by the above and a contact switch 13A made of a rubber-based resin laminated on the vapor-deposited film 12 of the base material 11. Yes.

図５に示すように、蒸着膜１２上には回路配線１８が設けられ、接点スイッチ１３Ａの内部には、回路配線１８を導通させる導通部１７が設けられている。   As shown in FIG. 5, circuit wiring 18 is provided on the vapor deposition film 12, and a conduction portion 17 that conducts the circuit wiring 18 is provided inside the contact switch 13 </ b> A.

次に各構成部材の材料について説明する。   Next, the material of each component will be described.

合成樹脂製の基材１１の基材本体１１Ａとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれの材料を用いることができる。   As the base body 11A of the base 11 made of synthetic resin, any material of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic and nylon can be used.

また、無機系化合物の蒸着膜１２としては、上述したシリカ蒸着膜、あるいは酸化アルミ蒸着膜を挙げることができ、これらシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜はいずれも透明体からなる。   Examples of the inorganic compound vapor-deposited film 12 include the silica vapor-deposited film and the aluminum oxide vapor-deposited film described above, and both the silica vapor-deposited film and the aluminum oxide vapor-deposited film are made of a transparent body.

このような蒸着膜１２は、基材１１の基材本体１１Ａ上に直接ＣＶＤにより蒸着することができるが、蒸着膜１２を蒸着用基材上に形成し、蒸着膜１２が形成された蒸着用基材を上述した基材１１の基材本体１１Ａ上に貼り付けてもよい。   Such a deposited film 12 can be directly deposited on the substrate body 11A of the substrate 11 by CVD. However, the deposited film 12 is formed on the deposited substrate, and the deposited film 12 is formed. You may affix a base material on the base-material main body 11A of the base material 11 mentioned above.

また接点スイッチ１３Ａを構成するゴム系樹脂としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムの他にスチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。   In addition to isoprene rubber, butadiene rubber, and silicone rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber, and the like can be used as the rubber resin constituting the contact switch 13A.

次にこのような構成からなる実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the embodiment having such a configuration will be described.

まず図５に示すように、基材本体１１Ａの一方の面に蒸着膜１２が形成された基材１１を準備し、この基材１１の蒸着膜１２上に回路配線１８を設ける。   First, as shown in FIG. 5, a substrate 11 having a deposited film 12 formed on one surface of a substrate body 11 </ b> A is prepared, and circuit wiring 18 is provided on the deposited film 12 of the substrate 11.

次に基材１１の蒸着膜１２上に、内部に導通部１７が設けられたゴム系樹脂からなる接点スイッチ１３Ａを載置する。次に基材１１の下方からレーザ光Ｌを照射する。   Next, a contact switch 13 </ b> A made of a rubber-based resin having a conduction portion 17 provided therein is placed on the vapor deposition film 12 of the base material 11. Next, the laser beam L is irradiated from below the substrate 11.

レーザ光Ｌは基材１１の基材本体１１Ａおよび蒸着膜１２を通過して接点スイッチ１３Ａの下面を加熱し、接点スイッチ１３Ａを蒸着膜１２上に接着させる。   The laser light L passes through the base material body 11A and the vapor deposition film 12 of the base material 11, heats the lower surface of the contact switch 13A, and adheres the contact switch 13A to the vapor deposition film 12.

この場合、基材１１および蒸着膜１２は、いずれも透明体からなっていることが好ましい。   In this case, it is preferable that both the base material 11 and the vapor deposition film 12 are made of a transparent body.

このようにして得られたゴム製製品１０は、例えば接点スイッチ１３Ａを有する回路基板として用いることができる。   The rubber product 10 thus obtained can be used as a circuit board having, for example, a contact switch 13A.

またゴム製製品１０は、基材本体１１Ａと、基材本体１１Ａの一方の面に設けられた蒸着膜１２とを有する基材１１と、基材１１の基材本体１１Ａ上の蒸着膜１２上に積層されたゴム系樹脂からなる接点スイッチ１３Ａとを備えており、基材１１の蒸着膜１２が一種のアンカー効果をもつため、基材１１とゴム系樹脂からなる接点スイッチ１３Ａとを堅固に接着することができる。   Further, the rubber product 10 includes a base material 11 having a base material body 11A and a vapor deposition film 12 provided on one surface of the base material body 11A, and a vapor deposition film 12 on the base material body 11A of the base material 11. And a contact switch 13A made of a rubber-based resin, and since the deposited film 12 of the base material 11 has a kind of anchor effect, the base material 11 and the contact switch 13A made of a rubber-based resin are firmly connected. Can be glued.

このため、ゴム製製品１０の基材１１からゴム系樹脂からなる接点スイッチ１３Ａが剥離することはない。   For this reason, the contact switch 13A made of a rubber-based resin does not peel from the base material 11 of the rubber product 10.

次に本発明の具体的実施例について述べる。   Next, specific examples of the present invention will be described.

実施例１：シリカ蒸着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（厚み１２μｍ）の処理面を残し、未処理面に接着剤で２００μｍ厚のＰＥＴを貼り合せ、厚さ約２１７μｍのラミネートＰＥＴを作製した（接着剤は約５μｍの厚さで熱乾燥のドライラミネート）。   Example 1: Silica-deposited polyethylene terephthalate (PET) (thickness: 12 μm) was left, and 200 μm-thick PET was bonded to the untreated surface with an adhesive to produce a laminated PET having a thickness of about 217 μm (adhesive was Heat-dried dry laminate with a thickness of about 5 μm).

この蒸着面に液状シリコン（信越シリコンＫＥ―１９５０−４０Ａ／Ｂ）をスポイトで２ｇ半球状に滴下し、１５０℃、２分硬化させ、接着を確認した。基材の変形はなく、シリコンとＰＥＴは良好に接着した。   Liquid silicon (Shin-Etsu silicon KE-1950-40A / B) was dropped into a 2 g hemisphere with a dropper on this vapor-deposited surface and cured at 150 ° C. for 2 minutes to confirm adhesion. There was no deformation of the base material, and silicon and PET adhered well.

比較例１：上記シリカ蒸着ＰＥＴを用いず、２００μｍＰＥＴの未処理面上に実施例１と同様に液状シリコンを添加し、硬化させた。実施例１と同様に基材の変化はなかったが、半球のシリコンは指で軽くさわると簡単にはがれた。   Comparative Example 1: Liquid silicon was added and cured on the untreated surface of 200 μm PET in the same manner as in Example 1 without using the silica-deposited PET. The substrate was not changed as in Example 1, but the hemispherical silicon was easily peeled off when touched lightly with a finger.

１０ ゴム製製品
１１ 基材
１１Ａ 基材本体
１２ 蒸着膜
１３ ゴム系樹脂層
１３Ａ 接点スイッチ
１４ 印刷層
１５ ＩＣチップ
１６ 凹部
１７ 導通部
１８ 回路配線
２１ 金型
２２ ゲート DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Rubber product 11 Base material 11A Base material main body 12 Deposition film 13 Rubber-type resin layer 13A Contact switch 14 Print layer 15 IC chip 16 Concave part 17 Conductive part 18 Circuit wiring 21 Mold 22 Gate

Claims (2)

合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面にＣＶＤ法により形成されたシリカ蒸着膜とを有する基材を準備する工程と、
少なくともシリカ蒸着膜側にシリコーンゴムを射出し加熱硬化させてシリコーンゴム層を積層する工程と、
を備えたことを特徴とするゴム製製品の製造方法。 A step of preparing a base material having a base material body made of synthetic resin and a silica vapor deposition film formed on one surface of the base material body by a CVD method;
A process of laminating a silicone rubber layer by injecting silicone rubber at least on the silica vapor deposition film side and heating and curing;
A method for producing a rubber product, comprising: 基材本体はポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかを含むことを特徴とする請求項１記載のゴム製製品の製造方法。 The substrate main body is a polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, a manufacturing method of a rubber product according to claim 1, comprising any of nylon.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2870783B2 (en) * 1989-02-10 1999-03-17 株式会社ブリヂストン Low permeability rubber hose
JP2001161790A (en) * 1999-12-08 2001-06-19 Ohtsu Tire & Rubber Co Ltd :The Medical rubber plug and method of manufacturing it
EP1344658A1 (en) * 2002-03-12 2003-09-17 Siemens Aktiengesellschaft Device for obtaining the tyre pressure of a vehicle tyre
JP3993464B2 (en) * 2002-05-24 2007-10-17 株式会社ブリヂストン Rubber composite material and rubber article using the same
JP2007038556A (en) * 2005-08-04 2007-02-15 Bridgestone Corp Manufacturing method of rubber base composite material
JP5256571B2 (en) * 2005-09-06 2013-08-07 凸版印刷株式会社 Blanket for printing
JP5338062B2 (en) * 2007-09-28 2013-11-13 大日本印刷株式会社 Multilayer laminated film
JP2010076341A (en) * 2008-09-29 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd Multilayer laminated film with easy peelability and transparency
JP5895468B2 (en) * 2011-11-18 2016-03-30 大日本印刷株式会社 Laminated film and rubber molded body using the same
JP2013189567A (en) * 2012-03-14 2013-09-26 Mitsubishi Chemicals Corp Resin composition and laminate

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