JP6576510B1 - Memory device and test read / write method thereof - Google Patents

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Abstract

【課題】一回の周期内でワード線における複数のセンス増幅器を選択して、パラレルテストモードを行うことを実現できるメモリデバイス及びそのテスト読書き方法を提供する。【解決手段】プリチャージ電圧制御回路は、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを生成し、ビット線BLT及び相補ビット線BLNに、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを受信させる。プリチャージ操作中、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは同じであり、プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、プリチャージ電圧制御回路がビット線BLT及び相補ビット線BLNに提供する第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルは異なる。【選択図】図1A memory device capable of selecting a plurality of sense amplifiers in a word line within a single cycle and performing a parallel test mode and a test read / write method thereof are provided. A precharge voltage control circuit generates a first precharge voltage HFVT and a second precharge voltage HFVN, and supplies a first precharge voltage HFVT and a second precharge voltage HFVN to a bit line BLT and a complementary bit line BLN. The precharge voltage HFVN is received. During the precharge operation, the voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are the same. In the test write detection period and the test read detection period after the precharge operation, the precharge voltage control circuit operates the bit line. The voltage levels of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN provided to the BLT and the complementary bit line BLN are different. [Selection] Figure 1

Description

本発明は半導体メモリ技術に関し、特に、パラレルテストモード(parallel test mode)において、選定されたワード線上の全てのセンス回路を一度で読書きできるメモリデバイス及びそのテスト読書き方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory technology, and more particularly to a memory device that can read and write all sense circuits on a selected word line at a time in a parallel test mode and a test read / write method thereof.

一般的な半導体メモリデバイスは、例えば、DRAM中にセンス増幅器が構成されており、メモリユニットアレイのビット線に接続され、且つ、選択されたメモリユニットからデータをアクセスし、データを増幅する。   In a general semiconductor memory device, for example, a sense amplifier is configured in a DRAM, which is connected to a bit line of a memory unit array, accesses data from a selected memory unit, and amplifies the data.

従来の技術において、メモリデバイスに対してテストを行う時、例えば、パラレルテストモードにおいて、正常に読書きする複数の増幅器を一度で選定するが、データ線(Data line)の数より多くのメモリユニットを一度で選定してテストを行うことはできず、如何にして一回の周期(cycle)内でワード線における複数のセンス増幅器を選択して、パラレルテストモードを行うかは、現在解決が望まれている課題の一つになっている。   In a conventional technique, when testing a memory device, for example, in a parallel test mode, a plurality of amplifiers that normally read and write are selected at one time, but more memory units than the number of data lines (Data lines) It is not possible to select a single test at a time, and how to select a plurality of sense amplifiers in a word line and perform a parallel test mode within one cycle is currently desired to be solved. It is one of the rare issues.

本発明は、一回の周期(cycle)内でワード線の複数のセンス増幅器を選択して、パラレルテストモードを行うことができるメモリデバイス及びそのテスト読書き方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a memory device capable of selecting a plurality of sense amplifiers of a word line within one cycle and performing a parallel test mode, and a test read / write method thereof.

本発明は、プリチャージ参照電圧に基づき、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を生成するプリチャージ電圧制御回路と、ビット線及び相補ビット線の間に結合され、ビット線に結合されたメモリユニットのデータを検出するのに用いられ、プリチャージ電圧制御回路に結合され、ビット線及び相補ビット線に、それぞれ第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を受信させるセンス増幅回路と、を含み、プリチャージ操作中、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは、同じであり、プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、プリチャージ電圧制御回路がビット線及び相補ビット線に提供する第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは異なるメモリデバイスを提供する。   The present invention is coupled between a precharge voltage control circuit that generates a first precharge voltage and a second precharge voltage based on a precharge reference voltage, and a bit line and a complementary bit line, and is coupled to the bit line. Sense amplifier coupled to a precharge voltage control circuit and receiving a first precharge voltage and a second precharge voltage on a bit line and a complementary bit line, respectively. The voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are the same during the precharge operation, and the precharge operation and the test read detection period after the precharge operation A first precharge voltage and a second precharge voltage provided to the bit line and the complementary bit line by the charge voltage control circuit. The voltage levels to provide different memory devices.

メモリユニットに対してテスト書込み操作及びテスト読取り操作を行うのに用いられる、メモリデバイス用の読書き方法であって、プリチャージ参照電圧に基づき、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を生成することと、
ビット線及び相補ビット線に、それぞれ第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を受信させることと、を含み、
プリチャージ操作中、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは、同じであり、プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、プリチャージ電圧制御回路がビット線及び相補ビット線に提供する第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは異なる読書き方法を提供する。
A read / write method for a memory device used for performing a test write operation and a test read operation on a memory unit, wherein a first precharge voltage and a second precharge voltage are based on a precharge reference voltage. Generating
Causing the bit line and the complementary bit line to receive a first precharge voltage and a second precharge voltage, respectively,
During the precharge operation, the voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are the same, and the precharge voltage control circuit operates in the test write detection period and the test read detection period after the precharge operation. The voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage provided to the line and the complementary bit line provide different read / write methods.

上述に基づき、一回の周期(cycle)内でワード線における複数のセンス増幅器を選択して、パラレルテストモードを行うことを実現できるメモリデバイス及びそのテスト読書き方法を提供できる。   Based on the above, it is possible to provide a memory device that can implement a parallel test mode by selecting a plurality of sense amplifiers in a word line within one cycle, and a test read / write method thereof.

本発明の上述した特徴と利点を更に明確化するために、以下に、実施例を挙げて図面と共に詳細な内容を説明する。   In order to further clarify the above-described features and advantages of the present invention, detailed contents will be described below with reference to the accompanying drawings.

本発明の実施例に基づくメモリデバイスを図示する模式図である。1 is a schematic diagram illustrating a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスのアレイ構造を図示する模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an array structure of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づく制御テスト回路を図示するブロック模式図である。FIG. 3 is a block schematic diagram illustrating a control test circuit according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくセンス制御回路を図示する回路模式図である。FIG. 3 is a circuit schematic diagram illustrating a sense control circuit according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくテスト読取り書込み回路を図示する回路模式図である。1 is a circuit schematic diagram illustrating a test read / write circuit according to an embodiment of the present invention. FIG. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスの論理「0」及び論理「1」のテスト書込み操作をそれぞれ図示する波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a logic “0” and a logic “1” test write operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスの論理「0」及び論理「1」のテスト書込み操作をそれぞれ図示する波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a logic “0” and a logic “1” test write operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスの論理「0」及び論理「1」のテスト書込み操作をそれぞれ図示する波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a logic “0” and a logic “1” test write operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスのテスト読取り操作をそれぞれ図示する波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a test read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスのテスト読取り操作をそれぞれ図示する波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a test read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に基づくメモリデバイスのテスト読取り操作をそれぞれ図示する波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a test read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の別の実施例に基づくメモリデバイスが全てのメモリユニットに対する論理「0」のテスト書込みを図示する動作波形図である。FIG. 6 is an operational waveform diagram illustrating a test write of logic “0” to all memory units by a memory device according to another embodiment of the present invention.

図1を参照すると、図1は、本発明の実施例に基づくメモリデバイスを図示する模式図である。メモリ回路100は、ワード線WLと、ビット線BLTと、相補ビット線BLNと、メモリユニットMCと、センス増幅回路110と、制御テスト回路120と、を含む。制御テスト回路120は、センス増幅回路110に結合されて、複数の制御信号を提供する。   Referring to FIG. 1, FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a memory device according to an embodiment of the present invention. The memory circuit 100 includes a word line WL, a bit line BLT, a complementary bit line BLN, a memory unit MC, a sense amplifier circuit 110, and a control test circuit 120. The control test circuit 120 is coupled to the sense amplifier circuit 110 and provides a plurality of control signals.

メモリユニットMCは、例えば、データレベルを保存するのに用いられるメモリキャパシタ(memory capacitor)及びスイッチとする金属酸化物半導体トランジスタ(Metal Oxide Semiconductor Transistor、MOSFET)(図には示されていない)を含み、MOSトランジスタの第一端はキャパシタと結合され、第二端はビット線BLTに結合され、ゲートはワード線WLに結合される。ここで、複数のメモリユニットMCは、複数のワード線WL及び複数のビット線BLT、複数の相補ビット線BLNの方向においてアレイ配列をなしてメモリアレイ130を形成する。また、図1に示すワード線信号WLn及びWLmは、異なるワード線WLにおける信号を表す。   The memory unit MC includes, for example, a memory capacitor used to store a data level and a metal oxide semiconductor transistor (MOSFET) (not shown) as a switch. The first end of the MOS transistor is coupled to the capacitor, the second end is coupled to the bit line BLT, and the gate is coupled to the word line WL. Here, the plurality of memory units MC form an array array in the direction of the plurality of word lines WL, the plurality of bit lines BLT, and the plurality of complementary bit lines BLN to form the memory array 130. Further, the word line signals WLn and WLm shown in FIG. 1 represent signals on different word lines WL.

センス増幅回路110は、一対のビット線、即ち、ビット線BLT及び相補ビット線BLNに結合されることで、前記メモリユニットMCのデータを検出するのに用いられ、したがって、メモリユニットMCに対してテスト書込み操作又はテスト読取り操作を行うことができる。   The sense amplifier circuit 110 is used to detect data in the memory unit MC by being coupled to a pair of bit lines, that is, the bit line BLT and the complementary bit line BLN. A test write operation or a test read operation can be performed.

センス増幅回路110は、制御テスト回路120から第一のプリチャージ電圧HFVT、第二のプリチャージ電圧HFVN、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2を受信する。センス増幅回路110は、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1及び第二のプリチャージイネーブル信号BLP2に基づき、ビット線BLT及び相補ビット線BLNに、それぞれ第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを受信させるか否か決定し、プリチャージ操作中、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルは、同じであることから、ビット線BLT及び相補ビット線BLNに、同じ電圧レベルを備えさせるが、プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、制御テスト回路120が提供する第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルは異なり、且つ、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、テスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、電圧レベルを切り換えるタイミングも異なることから、一般的なメモリデバイスとは異なり、検出プロセスにおいて、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの間の電圧差は、主にメモリユニットMCが放出するデータの影響を受け、本実施例におけるビット線BLT及び相補ビット線BLNの間の電圧差は、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの間の電圧差と関連する。以下の実施例では、さらに詳細に説明する。   The sense amplifier circuit 110 receives the first precharge voltage HFVT, the second precharge voltage HFVN, the first precharge enable signal BLP1, and the second precharge enable signal BLP2 from the control test circuit 120. The sense amplifier circuit 110 applies a first precharge voltage HFVT and a second precharge to the bit line BLT and the complementary bit line BLN, respectively, based on the first precharge enable signal BLP1 and the second precharge enable signal BLP2. The voltage level of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN is the same during the precharge operation, so that the bit line BLT and the complementary bit line BLN are received. Are provided with the same voltage level, but the voltage of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN provided by the control test circuit 120 in the test write detection period and the test read detection period after the precharge operation. The level is different and the first precharge enable Since the timing of switching the voltage level is different in the test write detection period and the test read detection period, the signal BLP1 differs between the bit line BLT and the complementary bit line BLN in the detection process, unlike a general memory device. The voltage difference is mainly influenced by the data emitted from the memory unit MC, and the voltage difference between the bit line BLT and the complementary bit line BLN in this embodiment is the first precharge voltage HFVT and the second precharge. Associated with the voltage difference between the voltages HFVN. The following examples are described in more detail.

センス増幅回路110は、第一のスイッチT1と、第二のスイッチT2と、第三のスイッチT3と、センス回路SAと、を含み、第一のスイッチT1と、第二のスイッチT2と、第三のスイッチT3は、ここでは、nチャネルトランジスタを例とするが、これに制限しない。第一のスイッチT1の第一端(ドレイン)は、第一のプリチャージ電圧HFVTを受信し、第二端(ソース)は、ビット線BLTに結合され、ゲート端は、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1を受信して、導通するか否か決定する。第二のスイッチT2の第一端(ドレイン)は、第二のプリチャージ電圧HFVNを受信し、第二端(ソース)は、相補ビット線BLNに結合され、ゲート端は、同様に第一のプリチャージイネーブル信号BLP1を受信して、導通するか否か決定する。第三のスイッチT3は、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの間に結合され、ゲート端は、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2を受信する。   The sense amplifier circuit 110 includes a first switch T1, a second switch T2, a third switch T3, and a sense circuit SA, and includes a first switch T1, a second switch T2, and a second switch T2. Here, the third switch T3 is an n-channel transistor, but is not limited thereto. The first end (drain) of the first switch T1 receives the first precharge voltage HFVT, the second end (source) is coupled to the bit line BLT, and the gate end is the first precharge enable. A signal BLP1 is received to determine whether to conduct. The first end (drain) of the second switch T2 receives the second precharge voltage HFVN, the second end (source) is coupled to the complementary bit line BLN, and the gate end is similarly the first The precharge enable signal BLP1 is received to determine whether or not to conduct. The third switch T3 is coupled between the bit line BLT and the complementary bit line BLN, and the gate terminal receives the second precharge enable signal BLP2.

センス回路SAは、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの間に結合され、センス増幅回路120から受信したpチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANに基づき、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの間の電圧差を大きくするのに用いられる。本実施例において、センス回路SAは、二つのMOSトランジスタQ1、Q2を含むCMOSインバータ及び二つのMOSトランジスタQ3、Q4を含むCMOSインバータによって正帰還経路のフリップフロップに接続されるように実施される。   Sense circuit SA is coupled between bit line BLT and complementary bit line BLN, and is connected between bit line BLT and complementary bit line BLN based on p-channel control voltage SAP and n-channel control voltage SAN received from sense amplifier circuit 120. It is used to increase the voltage difference of. In the present embodiment, the sense circuit SA is implemented so as to be connected to the flip-flop of the positive feedback path by a CMOS inverter including two MOS transistors Q1 and Q2 and a CMOS inverter including two MOS transistors Q3 and Q4.

センス回路SAのトランジスタQ1及びQ3の第一端(ここではソースである)は、第一の中間ノードN1に結合され、この第一の中間ノードN1は、pチャネル制御電圧SAPを受信し、トランジスタQ2及びQ4の第二端(ここではソースである)は、第二の中間ノードN2に結合され、この第二の中間ノードN2は、nチャネル制御電圧SANを受信する。センス回路SAのトランジスタQ1及びQ2の他端(ここではドレインである)及びトランジスタQ3、Q4のゲートは、ビット線BLTに結合され、トランジスタQ3及びQ4の他端(ここではドレインである)及びトランジスタQ1、Q2のゲートは、相補ビット線BLNに結合され、したがって、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの電圧レベルは、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANの影響を受けて、引き上げられて(pull up)、又は引き下げられて(pull down)、論理「1」又は論理「0」を表すことができる。   The first ends (here, the sources) of the transistors Q1 and Q3 of the sense circuit SA are coupled to the first intermediate node N1, which receives the p-channel control voltage SAP, The second ends of Q2 and Q4 (here the source) are coupled to a second intermediate node N2, which receives the n-channel control voltage SAN. The other ends (here, drains) of the transistors Q1 and Q2 of the sense circuit SA and the gates of the transistors Q3, Q4 are coupled to the bit line BLT, and the other ends (here, drains) of the transistors Q3 and Q4 and the transistors The gates of Q1 and Q2 are coupled to the complementary bit line BLN, so that the voltage levels of the bit line BLT and the complementary bit line BLN are raised due to the influence of the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN. (Pull up) or pulled down (pulled down) to represent a logical “1” or a logical “0”.

図2は、本発明の実施例に基づくメモリデバイスのアレイ構造を図示する模式図である。図2の実施例は、図1のメモリデバイス100に適用できる。図2を参照すると、メモリアレイ130は、複数のワード線WL及び複数のビット線BLTの接続箇所のメモリユニットMCからなり、Xデコーダブロック(XDEC)140及びYデコーダブロック(YDEC)150は、メモリアレイ130に結合され、どのメモリユニットMCに対してデータアクセスを行うのか選択するのに用いられる。メモリアレイ130は、センス増幅器ブロック160に結合され、センス増幅器ブロック160は、制御テスト回路120に結合され、センス増幅器ブロック160は、複数の上記センス増幅回路110を含み、制御テスト回路120とセンス増幅器ブロック160のセンス増幅回路110との間の配置関係は、上記図1の開示内容を参考にできる。   FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an array structure of a memory device according to an embodiment of the present invention. The embodiment of FIG. 2 can be applied to the memory device 100 of FIG. Referring to FIG. 2, the memory array 130 includes memory units MC at connection points of a plurality of word lines WL and a plurality of bit lines BLT. The X decoder block (XDEC) 140 and the Y decoder block (YDEC) 150 are memory Coupled to the array 130, it is used to select which memory unit MC to access data. The memory array 130 is coupled to a sense amplifier block 160. The sense amplifier block 160 is coupled to a control test circuit 120. The sense amplifier block 160 includes a plurality of the sense amplifier circuits 110, and the control test circuit 120 and the sense amplifier. The arrangement relation between the block 160 and the sense amplifier circuit 110 can be referred to the disclosed contents of FIG.

図3は、本発明の実施例に基づく制御テスト回路を図示するブロック模式図である。図3を参照すると、制御テスト回路120は、センス制御回路200及びセンス制御回路200近傍に配されたテスト読取り書込み回路300を含む。センス制御回路200及びテスト読取り書込み回路300は、いずれもセンス増幅回路110に結合され、それぞれ第一のプリチャージイネーブル信号BLP1、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2、pチャネル制御電圧SAP、nチャネル制御電圧SAN、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを提供する。テストモードにおいて、テスト読取り書込み回路300は、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一つとテスト参照電圧TMREFとの比較結果に基づき、テスト結果TFAILを生成して、メモリユニットMCが不具合を有するか否かを判定する。以下の実施例は、メモリユニットMCが不具合であるか否かを判定するメカニズムを詳細に記述する。   FIG. 3 is a schematic block diagram illustrating a control test circuit according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, the control test circuit 120 includes a sense control circuit 200 and a test read / write circuit 300 disposed in the vicinity of the sense control circuit 200. The sense control circuit 200 and the test read / write circuit 300 are both coupled to the sense amplifier circuit 110, and the first precharge enable signal BLP1, the second precharge enable signal BLP2, the p channel control voltage SAP, and the n channel control, respectively. A voltage SAN, a first precharge voltage HFVT, and a second precharge voltage HFVN are provided. In the test mode, the test read / write circuit 300 generates a test result TFAIL based on a comparison result between one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN and the test reference voltage TMREF, It is determined whether or not the memory unit MC has a defect. The following example describes in detail a mechanism for determining whether a memory unit MC is defective.

図4は、本発明の実施例に基づくセンス制御回路を図示する回路模式図である。図4を参照すると、本実施例において、センス制御回路200は、プリチャージイネーブル制御回路210及びセンス増幅電圧制御回路220を含む。プリチャージイネーブル制御回路210は、例えば、インバータINV21〜INV26及びNANDゲートNA21が接続してなるものである。   FIG. 4 is a schematic circuit diagram illustrating a sense control circuit according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, in this embodiment, the sense control circuit 200 includes a precharge enable control circuit 210 and a sense amplification voltage control circuit 220. The precharge enable control circuit 210 is formed by connecting inverters INV21 to INV26 and a NAND gate NA21, for example.

具体的には、インバータINV21の入力端は、プリチャージイネーブル信号BLPE1を受信し、プリチャージイネーブル信号BLPE1は、ビット線BLT及び相補ビット線BLNに対していつプリチャージを行うのか決定するのに用いられ、出力端は、NANDゲートNA21のうちの一方の入力端に結合され、NANDゲートNA21の他方の入力端は、ローアドレス信号X12B13Bを受信し、ローアドレス信号X12B13Bは、どのワード線WLを動作(act)させるのか選択するのに用いられ、NANDゲートNA21の出力端は、インバータINV22の入力端に結合され、インバータINV22及びインバータINV23は、直列接続され、インバータINV23は、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1を出力する。インバータINV24、インバータINV25及びインバータINV26は、順に直列接続され、インバータINV24は、ローアドレス信号X12B13Bを受信し、インバータINV26は、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2を出力する。   Specifically, the input terminal of the inverter INV21 receives the precharge enable signal BLPE1, and the precharge enable signal BLPE1 is used to determine when to precharge the bit line BLT and the complementary bit line BLN. The output terminal is coupled to one input terminal of the NAND gate NA21, the other input terminal of the NAND gate NA21 receives the row address signal X12B13B, and the row address signal X12B13B operates which word line WL. The output terminal of the NAND gate NA21 is coupled to the input terminal of the inverter INV22, the inverter INV22 and the inverter INV23 are connected in series, and the inverter INV23 is the first precharge enable. Signal BLP1 Forces. The inverter INV24, the inverter INV25, and the inverter INV26 are connected in series, the inverter INV24 receives the row address signal X12B13B, and the inverter INV26 outputs the second precharge enable signal BLP2.

したがって、プリチャージイネーブル制御回路210は、センス増幅回路110に結合され、プリチャージイネーブル信号BLPE1及びローアドレス信号X12B13Bに基づき、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1及び第二のプリチャージイネーブル信号BLP2を生成して、センス増幅回路110に提供する。メモリユニットMCに対してテスト書込み操作及びテスト読取り操作を行う時、プリチャージイネーブル制御回路210は、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1を制御して、電圧レベルを切り換えることができ、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2の論理レベルは、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1と異なり、テスト書込み操作及びテスト読取り操作終了後、プリチャージイネーブル制御回路210は、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2の電圧レベルを切り換えて、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1の論理レベルと同じレベルに回復する。   Accordingly, the precharge enable control circuit 210 is coupled to the sense amplifier circuit 110 and generates the first precharge enable signal BLP1 and the second precharge enable signal BLP2 based on the precharge enable signal BLPE1 and the row address signal X12B13B. And provided to the sense amplifier circuit 110. When a test write operation and a test read operation are performed on the memory unit MC, the precharge enable control circuit 210 can control the first precharge enable signal BLP1 to switch the voltage level, and the second precharge enable signal BLP1. The logic level of the charge enable signal BLP2 is different from that of the first precharge enable signal BLP1, and after the test write operation and test read operation are completed, the precharge enable control circuit 210 sets the voltage level of the second precharge enable signal BLP2. By switching, the logic level of the first precharge enable signal BLP1 is restored to the same level.

また、センス増幅電圧制御回路220は、インバータINV27〜インバータINV29と、NANDゲートNA22及びNANDゲートNA23と、スイッチQ21〜Q25とが接続されてなり、上記スイッチQ21〜Q25は、トランジスタの方法で実施され、SAP出力ノードNP及びSAN出力ノードNNの電圧レベルをそれぞれプリチャージ参照電圧HFV、電源電圧VDD、接地電圧VSSの間で切り換える。SAP出力ノードNP及びSAN出力ノードNNは、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANを出力できる。   The sense amplification voltage control circuit 220 includes inverters INV27 to INV29, NAND gate NA22 and NAND gate NA23, and switches Q21 to Q25, and the switches Q21 to Q25 are implemented by a transistor method. The voltage levels of the SAP output node NP and the SAN output node NN are switched among the precharge reference voltage HFV, the power supply voltage VDD, and the ground voltage VSS, respectively. The SAP output node NP and the SAN output node NN can output the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN.

具体的には、NANDゲートNA22及びNA23は、ローアドレス信号X12B13Bを受信し、他方の入力端は、それぞれセンスイネーブル信号SE1及びSE2を受信し、NANDゲートNA22及びインバータINV27、インバータINV28は、順に直列接続され、スイッチQ21は、インバータINV28の出力信号によって制御され、且つ、第一端は電源電圧VDDを受信し、第二端はSAP出力ノードNPに結合されて、pチャネル制御電圧SAPを電源電圧VDDに引き上げるのに用いられる。   Specifically, the NAND gates NA22 and NA23 receive the row address signal X12B13B, the other input terminals receive the sense enable signals SE1 and SE2, respectively, and the NAND gate NA22, the inverter INV27, and the inverter INV28 are serially connected in order. Connected, the switch Q21 is controlled by the output signal of the inverter INV28, the first end receives the power supply voltage VDD, the second end is coupled to the SAP output node NP, and the p-channel control voltage SAP is supplied to the power supply voltage. Used to pull up to VDD.

NANDゲートNA23及びインバータINV29は、直列接続され、スイッチQ22は、インバータINV29の出力信号によって制御され、且つ、第一端はSAN出力ノードNNに結合され、第二端は接地電圧VSSに結合され、nチャネル制御電圧SANを接地電圧VSSに引き下げるのに用いられる。   The NAND gate NA23 and the inverter INV29 are connected in series, the switch Q22 is controlled by the output signal of the inverter INV29, the first end is coupled to the SAN output node NN, the second end is coupled to the ground voltage VSS, Used to lower the n-channel control voltage SAN to the ground voltage VSS.

スイッチQ23、スイッチQ24及びスイッチQ25は、いずれも第二のプリチャージイネーブル信号BLP2によって制御され、スイッチQ24及びスイッチQ25の第一端は、プリチャージ参照電圧HFVを受信し、プリチャージ参照電圧HFVは、電源電圧VDDより低く、一般的に、プリチャージ参照電圧HFVの電圧値は、実質的に電源電圧VDDの半分である。スイッチQ24の第二端は、スイッチQ23の第一端に結合され、且つ、スイッチQ25の第二端は、SAP出力ノードNPに結合され、スイッチQ23の第二端は、SAN出力ノードNNに結合される。スイッチQ23〜Q25は、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2のイネーブル期間(例を挙げると、スイッチQ23〜Q25は、ここでは、nチャネルトランジスタを例とし、したがって、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2のイネーブル期間は、ハイレベル状態である)において、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANの電圧レベルをプリチャージ参照電圧HFVに回復させるのに用いられる。   The switches Q23, Q24, and Q25 are all controlled by the second precharge enable signal BLP2, and the first ends of the switches Q24 and Q25 receive the precharge reference voltage HFV, and the precharge reference voltage HFV is The voltage value of the precharge reference voltage HFV is generally half of the power supply voltage VDD. The second end of the switch Q24 is coupled to the first end of the switch Q23, and the second end of the switch Q25 is coupled to the SAP output node NP, and the second end of the switch Q23 is coupled to the SAN output node NN. Is done. The switches Q23 to Q25 are enabled periods of the second precharge enable signal BLP2 (for example, the switches Q23 to Q25 are n-channel transistors here, and therefore the second precharge enable signal BLP2 The enable period is in a high level state), and is used to restore the voltage levels of the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN to the precharge reference voltage HFV.

図5は、本発明の実施例に基づくテスト読取り書込み回路を図示する回路模式図である。図5を参照すると、テスト読取り書込み回路300は、プリチャージ電圧制御回路310及びテスト比較回路320を含み、プリチャージ電圧制御回路310は、テスト比較回路320及びセンス増幅回路110に結合される。例を挙げると、プリチャージ電圧制御回路310は、インバータINV31〜INV33と、NANDゲートNA31〜NA33と、NORゲートNO31及びNO32と、スイッチQ31〜Q36と、伝送ゲートTG31〜TG34と、を含む。テスト比較回路320は、コンパレータ312と、インバータINV34及びINV35と、NANDゲートNA34及びNA35と、NORゲートNO33と、スイッチQ37〜Q39と、を含む。本実施例において、スイッチQ31〜Q39及び伝送ゲートTG31〜TG34は、CMOSトランジスタの方法で実施されるが、これに制限しない。   FIG. 5 is a schematic circuit diagram illustrating a test read / write circuit according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, the test read / write circuit 300 includes a precharge voltage control circuit 310 and a test comparison circuit 320, and the precharge voltage control circuit 310 is coupled to the test comparison circuit 320 and the sense amplifier circuit 110. For example, the precharge voltage control circuit 310 includes inverters INV31 to INV33, NAND gates NA31 to NA33, NOR gates NO31 and NO32, switches Q31 to Q36, and transmission gates TG31 to TG34. Test comparison circuit 320 includes a comparator 312, inverters INV34 and INV35, NAND gates NA34 and NA35, a NOR gate NO33, and switches Q37 to Q39. In the present embodiment, the switches Q31 to Q39 and the transmission gates TG31 to TG34 are implemented by a CMOS transistor method, but are not limited thereto.

本実施例において、テスト比較回路320は、ラッチ回路(latch)314をさらに含むが、必ずしも必要ではなく、別の実施例において、テスト比較回路320は、ラッチ回路314を含まなくてもよい。   In this embodiment, the test comparison circuit 320 further includes a latch circuit (latch) 314. However, this is not always necessary, and in another embodiment, the test comparison circuit 320 may not include the latch circuit 314.

具体的には、プリチャージ電圧制御回路310のNANDゲートNA31は、ローアドレス信号X12B13B及びテストイネーブル信号TESTを受信し、NANDゲートNA31の出力端は、インバータINV31、伝送ゲートTG31及び伝送ゲートTG32のnチャネルゲートに結合され、インバータINV31の出力端は、伝送ゲートTG31及び伝送ゲートTG32のpチャネルゲートに結合され、伝送ゲートTG31及び伝送ゲートTG32の一端は、プリチャージ参照電圧HFVを受信し、他端は、それぞれHFVT出力ノードNHT及びHFVN出力ノードNHNに結合され、HFVT出力ノードNHT及びHFVN出力ノードNHNは、それぞれ、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNをセンス増幅回路110に提供する。ここで、伝送ゲートTG31及び伝送ゲートTG32は、同時に導通又は同時に切断され、導通時には、HFVT出力ノードNHT及びHFVN出力ノードNHNは、プリチャージ参照電圧HFVを同時に受信する。   Specifically, the NAND gate NA31 of the precharge voltage control circuit 310 receives the row address signal X12B13B and the test enable signal TEST, and the output terminal of the NAND gate NA31 has n terminals of the inverter INV31, the transmission gate TG31, and the transmission gate TG32. The output terminal of the inverter INV31 is coupled to the p-channel gates of the transmission gate TG31 and the transmission gate TG32, one end of the transmission gate TG31 and the transmission gate TG32 receives the precharge reference voltage HFV, and the other end Are coupled to HFVT output node NHT and HFVN output node NHN, respectively, and HFVT output node NHT and HFVN output node NHN are respectively connected to first precharge voltage HFVT and second precharge voltage HFVN. Providing the sense amplifier circuit 110. Here, the transmission gate TG31 and the transmission gate TG32 are turned on or off at the same time, and when turned on, the HFVT output node NHT and the HFVN output node NHN receive the precharge reference voltage HFV at the same time.

インバータINV32は、テストデータ信号TDAを受信し、出力端は、伝送ゲートTG33のpチャネルゲート、伝送ゲートTG34のnチャネルゲート、インバータINV33の入力端、NORゲートNO31のうちの一つの入力端に結合される。インバータINV33の出力端は、伝送ゲートTG33のnチャネルゲート、伝送ゲートTG34のpチャネルゲート、NORゲートNO32のうちの一つの入力端に結合される。伝送ゲートTG33及び伝送ゲートTG34の一端は、それぞれHFVT出力ノードNHT及びHFVN出力ノードNHNに結合され、他端は、テスト比較回路320のコンパレータ312の反転入力端に共通結合され、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一つをコンパレータ312に提供するのに用いられる。   The inverter INV32 receives the test data signal TDA, and its output terminal is coupled to one input terminal of the p-channel gate of the transmission gate TG33, the n-channel gate of the transmission gate TG34, the input terminal of the inverter INV33, and the NOR gate NO31. Is done. The output terminal of the inverter INV33 is coupled to one input terminal of the n-channel gate of the transmission gate TG33, the p-channel gate of the transmission gate TG34, and the NOR gate NO32. One end of each of the transmission gate TG33 and the transmission gate TG34 is coupled to the HFVT output node NHT and the HFVN output node NHN, respectively, and the other end is commonly coupled to the inverting input terminal of the comparator 312 of the test comparison circuit 320, and the first precharge One of the voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN is used to provide the comparator 312.

NANDゲートNA32は、ローアドレス信号X12B13B及びテストデータ線プリチャージ信号TPIOを受信し、出力端は、スイッチQ35及びスイッチQ36が導通するか否かを制御し、且つ、スイッチQ35及びスイッチQ36の第一端は、電源電圧VDDを受信し、スイッチQ35の第二端は、HFVN出力ノードNHNに結合され、スイッチQ36の第二端は、HFVT出力ノードNHTに結合される。したがって、テストデータ線プリチャージ信号TPIOのイネーブル期間(ここでは、例えば、ハイレベル状態である)において、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧値を電源電圧VDDに引き上げる。   The NAND gate NA32 receives the row address signal X12B13B and the test data line precharge signal TPIO, and the output terminal controls whether the switch Q35 and the switch Q36 are conductive, and the first of the switches Q35 and Q36. One end receives power supply voltage VDD, the second end of switch Q35 is coupled to HFVN output node NHN, and the second end of switch Q36 is coupled to HFVT output node NHT. Therefore, the voltage values of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are raised to the power supply voltage VDD during the enable period of the test data line precharge signal TPIO (here, for example, in a high level state). .

NANDゲートNA33は、ローアドレス信号X12B13B及びテスト書込みイネーブル信号TWEを受信し、出力端は、NORゲートNO31及びNORゲートNO32の他方の入力端に結合される。NORゲートNO31の出力端は、スイッチQ31及びスイッチQ34が導通するか否かを制御し、NORゲートNO32の出力端は、スイッチQ32及びスイッチQ33が導通するか否かを制御し、スイッチQ31の第一端は、電源電圧VDDを受信し、第二端は、スイッチQ32の第一端及びHFVT出力ノードNHTに結合され、スイッチQ32の第二端は、接地電圧VSSに結合され、したがって、第一のプリチャージ電圧HFVTの電圧レベルを、接地電圧VSS又は電源電圧VDDからスイッチQ31の臨界電圧を引いた電圧にすることができ、スイッチQ33の第一端は、電源電圧VDDを受信し、第二端は、スイッチQ34の第一端及びHFVN出力ノードNHNに結合され、スイッチQ34の第二端は、接地電圧VSSに結合され、したがって、第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルを、接地電圧VSS又は電源電圧VDDからスイッチQ33の臨界電圧を引いた電圧にすることができる。   NAND gate NA33 receives row address signal X12B13B and test write enable signal TWE, and its output end is coupled to the other input ends of NOR gate NO31 and NOR gate NO32. The output terminal of the NOR gate NO31 controls whether the switch Q31 and the switch Q34 are conductive, and the output terminal of the NOR gate NO32 controls whether the switch Q32 and the switch Q33 are conductive. One end receives the power supply voltage VDD, the second end is coupled to the first end of the switch Q32 and the HFVT output node NHT, and the second end of the switch Q32 is coupled to the ground voltage VSS. The precharge voltage HFVT can be set to a voltage obtained by subtracting the critical voltage of the switch Q31 from the ground voltage VSS or the power supply voltage VDD, and the first end of the switch Q33 receives the power supply voltage VDD, The end is coupled to the first end of the switch Q34 and the HFVN output node NHN, and the second end of the switch Q34 is connected to the ground voltage VSS. Together is, therefore, the voltage level of the second precharge voltage HFVN, may be a voltage obtained by subtracting the threshold voltage of the switch Q33 from the ground voltage VSS or the power supply voltage VDD.

したがって、プリチャージ電圧制御回路310は、プリチャージ参照電圧HFVに基づき、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを生成し、且つ、テスト書込みイネーブル信号TWE及びテストデータ信号TDAをさらに受信して、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを、電源電圧VDD、電源電圧VDDからトランジスタの臨界電圧を引いた電圧、接地電圧VSS又はプリチャージ参照電圧HFVにすることができる。   Therefore, the precharge voltage control circuit 310 generates the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN based on the precharge reference voltage HFV, and generates the test write enable signal TWE and the test data signal TDA. Further, the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are changed to the power supply voltage VDD, the voltage obtained by subtracting the critical voltage of the transistor from the power supply voltage VDD, the ground voltage VSS, or the precharge reference voltage HFV. be able to.

具体的には、テスト比較回路320のNANDゲートNA34は、ローアドレス信号X12B13B及びテストデータイネーブル信号TDEを受信し、インバータINV34に出力し、インバータINV34の出力端は、インバータINV35の入力端及びNANDゲートNA35のうちの一つの入力端に結合され、インバータINV35の出力端は、NORゲートNO33のうちの一方の入力端に結合される。コンパレータ312の非反転入力端は、テスト参照電圧TMREFを受信し、反転入力端は、伝送ゲートTG33又は伝送ゲートTG34から第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一つを受信し、コンパレータ312の出力端は、NANDゲートNA35及びNORゲートNO33の他方の入力端に結合される。ここで、テスト参照電圧TMREFは、初期設定の一定の電圧値であり、電圧値は、電源電圧VDDの1/2より大きい、又は、プリチャージ参照電圧HFVより高く、電源電圧VDDより小さく、例えば、テスト参照電圧TMREFは、電源電圧VDDの3/4である。   Specifically, the NAND gate NA34 of the test comparison circuit 320 receives the row address signal X12B13B and the test data enable signal TDE, and outputs them to the inverter INV34. The output terminal of the inverter INV34 is the input terminal of the inverter INV35 and the NAND gate. The output terminal of the inverter INV35 is coupled to one input terminal of the NOR gate NO33. The non-inverting input terminal of the comparator 312 receives the test reference voltage TMREF, and the inverting input terminal is one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN from the transmission gate TG33 or the transmission gate TG34. The output terminal of the comparator 312 is coupled to the other input terminal of the NAND gate NA35 and the NOR gate NO33. Here, the test reference voltage TMREF is an initially set constant voltage value, and the voltage value is larger than ½ of the power supply voltage VDD or higher than the precharge reference voltage HFV and smaller than the power supply voltage VDD. The test reference voltage TMREF is 3/4 of the power supply voltage VDD.

スイッチQ37はNANDゲートNA35によって制御の出力結果によって制御され、第一端は、電源電圧VDDに結合され、第二端は、テストノードNTに結合され、テストノードNTは、テスト結果TFAILを出力する。スイッチQ38はNORゲートNO33の出力結果によって制御され、第一端は、テストノードNTに結合され、第二端は、接地電圧VSSに結合される。したがって、テスト結果TFAILの電圧レベルは、コンパレータ312の出力結果によって電源電圧VDD又は接地電圧VSSになる。   The switch Q37 is controlled by the output result of the control by the NAND gate NA35, the first end is coupled to the power supply voltage VDD, the second end is coupled to the test node NT, and the test node NT outputs the test result TFAIL. . Switch Q38 is controlled by the output result of NOR gate NO33, with the first end coupled to test node NT and the second end coupled to ground voltage VSS. Therefore, the voltage level of the test result TFAIL becomes the power supply voltage VDD or the ground voltage VSS depending on the output result of the comparator 312.

また、スイッチQ39の第一端もテストノードNTに結合され、第二端は、接地電圧VSSに結合され、テストデータ線プリチャージ信号TPIOによって制御されて、テストデータ線プリチャージ信号TPIOのイネーブル期間において、テスト結果TFAILの電圧レベルを接地電圧VSSに引き下げる。ラッチ回路314もテストノードNTに結合され、テスト結果TFAILの電圧レベルをラッチするのに用いられる。   The first end of the switch Q39 is also coupled to the test node NT, the second end is coupled to the ground voltage VSS, and is controlled by the test data line precharge signal TPIO to enable the test data line precharge signal TPIO. , The voltage level of the test result TFAIL is lowered to the ground voltage VSS. Latch circuit 314 is also coupled to test node NT and is used to latch the voltage level of test result TFAIL.

簡単に述べると、テスト比較回路320は、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一つ及びテスト参照電圧TMREFを比較して、テスト結果TFAILを生成して、メモリユニットMCの不具合を有するか否かを判定し、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一つがテスト参照電圧TMREFより大きい時、テスト結果TFAILは、例えば、電源電圧VDD及び接地電圧VSSのうちの一方に実質的に等しく、メモリユニットMCのデータ検出が成功であることを表し、また、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのいずれもテスト参照電圧TMREFより小さい時、テスト結果TFAILは、例えば、電源電圧VDD及び接地電圧VSSのうちの他方に実質的に等しく、メモリユニットMCのデータ検出が失敗であることを表す。以下の実施例は、テスト読書き及びメモリユニットMCの不具合を有するか否かを判定する実施方式について、さらに詳細に説明する。   Briefly, the test comparison circuit 320 compares one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN and the test reference voltage TMREF to generate a test result TFAIL, and It is determined whether or not the unit MC has a defect, and when one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN is higher than the test reference voltage TMREF, the test result TFAIL is, for example, the power supply voltage Substantially equal to one of VDD and ground voltage VSS, indicating that the data detection of the memory unit MC is successful, and both the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are tested. When smaller than the reference voltage TMREF, the test result TFAIL is, for example, the power supply voltage VDD Other substantially equal among the fine ground voltage VSS, represents that the data detected in the memory unit MC has failed. In the following embodiment, an implementation method for determining whether or not the test read / write and the memory unit MC have defects will be described in more detail.

続いて、図6〜図8を参照すると、図6〜図8は、本発明の実施例に基づくメモリデバイスの論理「0」及び論理「1」のテスト書込み操作をそれぞれ図示する波形図である。図6〜図8の動作は、上記図1〜図5の実施例に適用できる。テスト書込み操作において、いずれか一つのメモリユニットMCを例とすると、図6は、対応するワード線WLにおけるワード線信号WLn、テスト書込みイネーブル信号TWE、センスイネーブル信号SE1、SE2、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1及び第二のプリチャージイネーブル信号BLP2の動作波形図を示す。図7は、書込みデータが論理「0」である時のテスト書込み操作、第一のプリチャージ電圧HFVT、第二のプリチャージ電圧HFVN、pチャネル制御電圧SAP、nチャネル制御電圧SAN、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの電圧レベルの動作波形図を示す。特に説明することとして、図7及び図8に示される、異なる符号で説明されている細い直線は、図6における波形動作を表しており、図面が乱雑にならないように、符号を標記していないが、当業者は、図6からこれらの細い直線が表す意味を知り得ることができる。   Subsequently, referring to FIGS. 6 to 8, FIGS. 6 to 8 are waveform diagrams respectively illustrating test write operations of logic “0” and logic “1” of the memory device according to the embodiment of the present invention. . The operations shown in FIGS. 6 to 8 can be applied to the embodiment shown in FIGS. In the test write operation, taking any one memory unit MC as an example, FIG. 6 shows a word line signal WLn, a test write enable signal TWE, sense enable signals SE1, SE2, and a first precharge in the corresponding word line WL. The operation waveform diagram of the enable signal BLP1 and the second precharge enable signal BLP2 is shown. FIG. 7 shows a test write operation when the write data is logic “0”, the first precharge voltage HFVT, the second precharge voltage HFVN, the p channel control voltage SAP, the n channel control voltage SAN, and the bit line BLT. Also, an operation waveform diagram of the voltage level of the complementary bit line BLN is shown. In particular, the thin straight lines described in FIG. 7 and FIG. 8 that are described with different symbols represent the waveform behavior in FIG. 6 and are not labeled to avoid cluttering the drawings. However, those skilled in the art can know the meaning of these thin straight lines from FIG.

まず、図1〜図5を併せて、図6及び図7を参照すると、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNは、テストを行う前に、伝送ゲートTG31及び伝送ゲートTG32は、導通されて、プリチャージ参照電圧HFVの電圧値の大きさに維持される。テスト書込み操作において、特に、テスト書込み検出期間tWにおいて、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一方の電圧値は、電源電圧VDDより低いが、プリチャージ参照電圧HFVより高く、他方の電圧値は、プリチャージ参照電圧HFVより低く、例えば、接地電圧VSSに実質的に等しい。   First, referring to FIG. 6 and FIG. 7 in combination with FIG. 1 to FIG. 5, the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are set to the transmission gate TG31 and the transmission gate TG32 before performing the test. Is conducted and maintained at the magnitude of the voltage value of the precharge reference voltage HFV. In the test write operation, in particular, in the test write detection period tW, the voltage value of one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN is lower than the power supply voltage VDD, but the precharge reference voltage HFV The higher voltage value is lower than the precharge reference voltage HFV and is substantially equal to the ground voltage VSS, for example.

まず、メモリユニットMCに対して論理「0」を表すデータを書き込もうとすることを例とすると、テストデータ信号TDAは、ローレベル状態にされ、且つ、この時、ワード線信号WLn及びテスト書込みイネーブル信号TWEの電圧はハイレベル状態であり、したがって、スイッチQ31及びQ34は切断され、スイッチQ32及びQ33は導通され、ここで、スイッチQ31〜Q34はいずれもnチャネルトランジスタを例とするが、これに制限せず、プリチャージ電圧制御回路310が提供する第一のプリチャージ電圧HFVTの電圧を接地電圧VSSに引き下げ、第二のプリチャージ電圧HFVNは、電源電圧VDDからnチャネルトランジスタの臨界電圧VTNを引いた電圧の大きさに引き上げられる。説明が必要なこととして、電源電圧VDDの電圧値は、プリチャージ参照電圧HFVと臨界電圧VTNの電圧の和より大きい。   First, in the case where data representing logic “0” is to be written to the memory unit MC, the test data signal TDA is set to the low level, and at this time, the word line signal WLn and the test write enable are set. Since the voltage of the signal TWE is in a high level state, the switches Q31 and Q34 are cut off and the switches Q32 and Q33 are turned on. Here, the switches Q31 to Q34 are all n-channel transistors as an example. Without limitation, the voltage of the first precharge voltage HFVT provided by the precharge voltage control circuit 310 is lowered to the ground voltage VSS, and the second precharge voltage HFVN is used to reduce the critical voltage VTN of the n-channel transistor from the power supply voltage VDD. Raised to the magnitude of the pulled voltage. It is necessary to explain that the voltage value of the power supply voltage VDD is larger than the sum of the precharge reference voltage HFV and the critical voltage VTN.

続いて、プリチャージイネーブル制御回路210は、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1を元のローレベル状態からハイレベル状態に切り換えるが、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2はローレベル状態を維持して、第一のスイッチT1及び第二のスイッチT2を導通させ、第三のスイッチT3を切断させ、ビット線BLT及び相補ビット線BLNは、それぞれ第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNを受信できる。   Subsequently, the precharge enable control circuit 210 switches the first precharge enable signal BLP1 from the original low level state to the high level state, while the second precharge enable signal BLP2 maintains the low level state, The first switch T1 and the second switch T2 are turned on and the third switch T3 is disconnected, and the bit line BLT and the complementary bit line BLN are connected to the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN, respectively. Can be received.

特に説明することとして、本実施例において、メモリユニットMCに対してテスト書込み操作を行う時、且つ、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、イネーブル状態に切り換える前、即ち、第一のスイッチT1及び第二のスイッチT2が導通する前に、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルはすでに異なる。   In particular, in this embodiment, when a test write operation is performed on the memory unit MC, and before the first precharge enable signal BLP1 is switched to the enable state, that is, the first switch T1 and Before the second switch T2 becomes conductive, the voltage levels of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are already different.

続いて、センス増幅電圧制御回路220は、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANを、プリチャージ参照電圧HFVからそれぞれ電源電圧VDD及び接地電圧VSSに切り換える。pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANの電圧レベルは、元は電源電圧VDDより低く維持され、ここでは、プリチャージ参照電圧HFVと同じであり、センスイネーブル信号SE1及びSE2のイネーブル期間において、スイッチQ21及びスイッチQ22は導通され、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANは、それぞれ電源電圧VDD及び接地電圧VSSに切り換えられて、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの間の電圧差を大きくすることから、テスト書込み検出期間tWにおいて、ビット線BLTの電圧レベルは、接地電圧VSSに実質的に等しく、相補ビット線BLNの電圧レベルは、電源電圧VDDであり、メモリユニットMCに、論理「0」を表すデータを保存させる。   Subsequently, the sense amplification voltage control circuit 220 switches the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN from the precharge reference voltage HFV to the power supply voltage VDD and the ground voltage VSS, respectively. The voltage levels of the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN are originally maintained lower than the power supply voltage VDD, and are the same as the precharge reference voltage HFV here, and in the enable period of the sense enable signals SE1 and SE2, The switches Q21 and Q22 are turned on, and the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN are switched to the power supply voltage VDD and the ground voltage VSS, respectively, so that the voltage difference between the bit line BLT and the complementary bit line BLN is increased. Therefore, in the test write detection period tW, the voltage level of the bit line BLT is substantially equal to the ground voltage VSS, the voltage level of the complementary bit line BLN is the power supply voltage VDD, and the logic “ Data representing “0” is saved.

続いて、図1〜図5を併せて、図6及び図8を参照すると、図8は、論理「1」であるデータを書込む時のテスト書込み操作、第一のプリチャージ電圧HFVT、第二のプリチャージ電圧HFVN、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANの動作波形図を示す。テスト書込み操作において、メモリユニットMCに対して論理「1」を表すデータを書き込もうとすることを例とすると、テストデータ信号TDAは、ハイレベル状態にされ、テスト書込み検出期間tWにおいて、プリチャージ電圧制御回路310が出力する第一のプリチャージ電圧HFVTの電圧値は、電源電圧VDDからnチャネルトランジスタの臨界電圧VTNを引いた電圧の大きさに引き上げられ、第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルは、接地電圧VSSに引き下げられ、詳細な実施方式は、当業者が上記実施例及び一般的技術から十分な教示及び提示を得ることができ、ここでは繰り返し述べない。   Subsequently, referring to FIGS. 6 and 8 together with FIGS. 1 to 5, FIG. 8 shows a test write operation when writing data of logic “1”, the first precharge voltage HFVT, Operation waveform diagrams of the second precharge voltage HFVN, the p-channel control voltage SAP, and the n-channel control voltage SAN are shown. In the test write operation, for example, when data representing logic “1” is written to the memory unit MC, the test data signal TDA is set to the high level state, and the precharge voltage is set in the test write detection period tW. The voltage value of the first precharge voltage HFVT output from the control circuit 310 is raised to a voltage level obtained by subtracting the critical voltage VTN of the n-channel transistor from the power supply voltage VDD, and the voltage level of the second precharge voltage HFVN Is reduced to ground voltage VSS, and detailed implementation schemes can be obtained by those skilled in the art from the above embodiments and general techniques, and will not be repeated here.

図9〜図11は、本発明の実施例に基づくメモリデバイスのテスト読取り操作をそれぞれ図示する波形図である。図9〜図11の動作は、上記図1〜図8の実施例に適用できる。図1〜図5を併せて、図9〜図11を参照すると、テスト読取り操作において、いずれか一つのメモリユニットMCを例とすると、図9は、ワード線信号WLn、センスイネーブル信号SE1及びSE2、テストデータ線プリチャージ信号TPIO、テストデータイネーブル信号TDE、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1及び第二のプリチャージイネーブル信号BLP2の動作波形図を示す。図10及び図11は、それぞれテスト読取り操作の読取り結果が成功及び失敗と判定した場合の第一のプリチャージ電圧HFVT、第二のプリチャージ電圧HFVN、pチャネル制御電圧SAP、nチャネル制御電圧SAN、ビット線BLT及び相補ビット線BLNの電圧レベルの動作波形図を示す。特に説明することとして、図10及び図11に示される、異なる符号で説明されている細い直線は、図9における波形動作を表しており、図面が乱雑にならないように、符号を標記していないが、当業者は、図9からこれらの細い直線が表す意味を知り得ることができる。   FIGS. 9-11 are waveform diagrams each illustrating a test read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention. The operation shown in FIGS. 9 to 11 can be applied to the embodiment shown in FIGS. 9 to 11 together with FIGS. 1 to 5, when any one memory unit MC is taken as an example in the test read operation, FIG. 9 shows the word line signal WLn, the sense enable signals SE 1 and SE 2. FIG. 5 shows operation waveform diagrams of the test data line precharge signal TPIO, the test data enable signal TDE, the first precharge enable signal BLP1, and the second precharge enable signal BLP2. 10 and 11 show the first precharge voltage HFVT, the second precharge voltage HFVN, the p-channel control voltage SAP, and the n-channel control voltage SAN when it is determined that the read result of the test read operation is successful and unsuccessful, respectively. FIG. 5 shows operation waveform diagrams of voltage levels of the bit line BLT and the complementary bit line BLN. In particular, the thin straight lines described in FIG. 10 and FIG. 11 that are described with different symbols represent the waveform behavior in FIG. 9 and are not labeled so that the drawings do not become cluttered. However, those skilled in the art can know the meaning of these thin straight lines from FIG.

まず、図9及び図10を参照すると、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNは、テストを行う前に、伝送ゲートTG31及び伝送ゲートTG32は、導通されて、プリチャージ参照電圧HFVの電圧値の大きさに維持される。   First, referring to FIGS. 9 and 10, the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are turned on before the test, and the transmission gate TG31 and the transmission gate TG32 are turned on. The voltage value of the voltage HFV is maintained.

メモリユニットMCに対してテスト読取り操作を行う時、メモリユニットMCが論理「0」を表すデータを読取ることを例とすると、ワード線信号WLnにおけるハイレベル状態において、且つ、テスト読取り検出期間tRの前に、まず、データ線プリチャージ操作を行う、即ち、テストデータ線プリチャージ信号TPIOのイネーブル期間において、スイッチQ35、スイッチQ36及びスイッチQ39を導通させることから、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNは、まず電源電圧VDDに実質的に等しい電圧に引き上げられ、テストノードNTは、接地電圧VSSを実質的に受信する。ここで、スイッチQ35及びスイッチQ36は、pチャネルトランジスタ、スイッチQ39は、nチャネルトランジスタを例とする。   As an example, when performing a test read operation on the memory unit MC, the memory unit MC reads data representing logic “0”. In the high level state of the word line signal WLn, and in the test read detection period tR. Before the data line precharge operation is performed, that is, in the enable period of the test data line precharge signal TPIO, the switch Q35, the switch Q36, and the switch Q39 are turned on, so that the first precharge voltage HFVT and the second The second precharge voltage HFVN is first pulled up to a voltage substantially equal to the power supply voltage VDD, and the test node NT substantially receives the ground voltage VSS. Here, the switches Q35 and Q36 are p-channel transistors, and the switch Q39 is an n-channel transistor.

データ線プリチャージ操作終了後、テストデータ線プリチャージ信号TPIOをディスネーブル(例えば、ローレベル状態)にし、センスイネーブル信号SE1及びSE2をイネーブルにすることから、pチャネル制御電圧SAP及びnチャネル制御電圧SANは、それぞれプリチャージ参照電圧HFVから電源電圧VDD及び接地電圧VSSに切り換えられる。   After the data line precharge operation is completed, the test data line precharge signal TPIO is disabled (for example, in a low level state) and the sense enable signals SE1 and SE2 are enabled, so that the p-channel control voltage SAP and the n-channel control voltage SAN is switched from the precharge reference voltage HFV to the power supply voltage VDD and the ground voltage VSS, respectively.

続いて、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、元のローレベル状態からハイレベル状態に切り換えられ、第二のプリチャージイネーブル信号BLP2は、ローレベル状態に維持される。ハイレベル状態に切り換えられた第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、第一のスイッチT1及び第二のスイッチT2を導通させ、同一のワード線WLにおけるメモリユニットMCのデータは、いずれも検出が成功する場合、テスト読取り検出期間tRにおいて、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧レベルは異なり、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一方の電圧レベルは、電源電圧VDDに維持され、他方の電圧レベルは、接地電圧VSSに実質的に等しい電圧に引き下げられ、図9の実施例において、第二のプリチャージ電圧HFVNは、電源電圧VDDに維持され、且つ、第一のプリチャージ電圧HFVTは、接地電圧VSSに引き下げられることを例とする。   Subsequently, the first precharge enable signal BLP1 is switched from the original low level state to the high level state, and the second precharge enable signal BLP2 is maintained in the low level state. The first precharge enable signal BLP1 switched to the high level state makes the first switch T1 and the second switch T2 conductive, and both the data of the memory unit MC in the same word line WL are successfully detected. In the test read detection period tR, the voltage levels of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN are different, and one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN. Is maintained at the power supply voltage VDD and the other voltage level is pulled down to a voltage substantially equal to the ground voltage VSS. In the embodiment of FIG. 9, the second precharge voltage HFVN is the power supply voltage VDD. And the first precharge voltage HFVT is pulled down to the ground voltage VSS. Rukoto the as an example.

特に説明することとして、テスト書込み操作及びテスト読取り操作において、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、ローレベル状態からハイレベル状態に切り換えるタイミングは異なり、具体的には、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、テスト書込み操作を行う時に、電圧レベルを切り換えるタイミングは、テスト読取り操作を行う時のタイミングより早い。テスト書込み操作において、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、センスイネーブル信号SE1及びSE2より早くハイレベル状態に切り換えるが、テスト読取り操作において、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1は、センスイネーブル信号SE1及びSE2より遅くハイレベル状態に切り換える。   In particular, in the test write operation and the test read operation, the first precharge enable signal BLP1 has a different timing for switching from the low level state to the high level state. Specifically, the first precharge enable signal When the BLP1 performs a test write operation, the timing for switching the voltage level is earlier than the timing for performing the test read operation. In the test write operation, the first precharge enable signal BLP1 is switched to the high level earlier than the sense enable signals SE1 and SE2, whereas in the test read operation, the first precharge enable signal BLP1 is switched to the sense enable signal SE1 and Switch to the high level state later than SE2.

続いて、コンパレータ312は、テスト参照電圧TMREF及び第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一つ、例えば、電圧レベルが高いものを受信することから、本実施例において、コンパレータ312は、テスト参照電圧TMREF及び第二のプリチャージ電圧HFVNを受信し、テスト参照電圧TMREFの電圧値は、電源電圧VDDの3/4にされ、第二のプリチャージ電圧HFVNは、この時、電源電圧VDDに実質的に等しい。テスト読取り検出期間tRにおいて、第二のプリチャージ電圧HFVNは、テスト参照電圧TMREFより大きいことから、テスト結果TFAILは、ローレベル状態にされ、例えば、接地電圧VSSに実質的に等しく、同一のワード線WLにおけるメモリユニットMCのデータは、いずれも検出が成功する。 Subsequently, the comparator 312 receives one of the test reference voltage TMREF, the first precharge voltage HFVT, and the second precharge voltage HFVN, for example, one having a high voltage level. The comparator 312 receives the test reference voltage TMREF and the second precharge voltage HFVN, the voltage value of the test reference voltage TMREF is set to 3/4 of the power supply voltage VDD, and the second precharge voltage HFVN is Is substantially equal to the power supply voltage VDD. In the test read detection period tR, since the second precharge voltage HFVN is higher than the test reference voltage TMREF, the test result TFAIL is set to a low level, for example, substantially equal to the ground voltage VSS, and the same word Any data of the memory unit MC on the line WL is successfully detected.

図9及び図11を参照すると、同一のワード線WLにおけるメモリユニットMCにデータ検出の失敗が発生した場合、第一のプリチャージイネーブル信号BLP1がハイレベル状態に切り換わり、第一のスイッチT1及び第二のスイッチT2を導通させてから、電圧値は接地電圧VSSに引き下げられるため、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうち元はハイレベル状態にある信号は、元の電圧レベルより小さい。   Referring to FIGS. 9 and 11, when a data detection failure occurs in the memory unit MC in the same word line WL, the first precharge enable signal BLP1 is switched to the high level state, and the first switch T1 and Since the voltage value is lowered to the ground voltage VSS after the second switch T2 is turned on, the signal that is originally in the high level state among the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN is Less than the voltage level.

本実施例において、第二のプリチャージ電圧HFVNは、元はハイレベル状態にあり、且つ、電圧値は電源電圧VDDに実質的に等しく、第一のプリチャージ電圧HFVTの電圧値の大きさは、接地電圧VSSに実質的に等しい。テスト読取り検出期間tRにおいて、第一のスイッチT1及び第二のスイッチT2が導通してから、第一のプリチャージ電圧HFVTは、接地電圧VSSに等しいが、第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧は、電源電圧VDDの約1/2の大きさに引き下げられ、具体的には、第二のプリチャージ電圧HFVNの電圧は、電源電圧VDDからnチャネルトランジスタの臨界電圧VTNを引いた電圧の大きさに低減され、実施例において、電源電圧VDDは1.5Vであり、nチャネルトランジスタの臨界電圧VTNは0.7Vであり、したがって、第二のプリチャージ電圧HFVNの低減された電圧は、電源電圧VDDの約1/2の大きさである。   In the present embodiment, the second precharge voltage HFVN is originally in a high level state, the voltage value is substantially equal to the power supply voltage VDD, and the magnitude of the voltage value of the first precharge voltage HFVT is , Substantially equal to the ground voltage VSS. In the test read detection period tR, after the first switch T1 and the second switch T2 are turned on, the first precharge voltage HFVT is equal to the ground voltage VSS, but the voltage of the second precharge voltage HFVN is , The voltage of the second precharge voltage HFVN is a voltage obtained by subtracting the critical voltage VTN of the n-channel transistor from the power supply voltage VDD. In the embodiment, the power supply voltage VDD is 1.5V, and the critical voltage VTN of the n-channel transistor is 0.7V. Therefore, the reduced voltage of the second precharge voltage HFVN is the power supply voltage. It is about 1/2 the size of VDD.

続いて、コンパレータ312は、テスト参照電圧TMREF及び第二のプリチャージ電圧HFVNを受信して比較を行い、テスト参照電圧TMREFの電圧値は、初期設定の電源電圧VDDの3/4にされ、第二のプリチャージ電圧HFVNのこの時の電圧値は、電源電圧VDDの約1/2の大きさに等しく、テスト参照電圧TMREFより小さいことから、テスト結果TFAILは、ハイ電圧レベルに変更され、例えば、電源電圧VDDに実質的に等しく、同一のワード線WLにおけるメモリユニットMCのデータの検出が失敗した状態を表す。   Subsequently, the comparator 312 receives and compares the test reference voltage TMREF and the second precharge voltage HFVN, and the voltage value of the test reference voltage TMREF is set to 3/4 of the initially set power supply voltage VDD. Since the voltage value of the second precharge voltage HFVN at this time is equal to about 1/2 of the power supply voltage VDD and smaller than the test reference voltage TMREF, the test result TFAIL is changed to a high voltage level, for example, , Which is substantially equal to the power supply voltage VDD and represents a state in which detection of data in the memory unit MC in the same word line WL has failed.

図9〜図11の実施例において、メモリユニットMCに対して、テスト読取り操作を行う時、テスト読取り検出期間tRにおいて、第一のプリチャージ電圧HFVT及び第二のプリチャージ電圧HFVNのうちの一方の電圧値は、電源電圧VDDより大きくないが、プリチャージ参照電圧HFVより高く、他方の電圧値は、プリチャージ参照電圧HFVより低く、例えば、接地電圧VSSに等しい。   9 to 11, when a test read operation is performed on the memory unit MC, one of the first precharge voltage HFVT and the second precharge voltage HFVN in the test read detection period tR. Is not higher than the power supply voltage VDD, but is higher than the precharge reference voltage HFV, and the other voltage value is lower than the precharge reference voltage HFV, for example, equal to the ground voltage VSS.

別の実施例において、第一のプリチャージ電圧HFVTは、ハイレベル状態であり、且つ、コンパレータ312は、テスト参照電圧TMREF及び第一のプリチャージ電圧HFVTを受信して比較を行ってもよく、詳細な実施方式は、当業者が上記説明及び一般的技術から十分な教示を得ることができ、ここでは繰り返し述べない。   In another embodiment, the first precharge voltage HFVT is in a high level state, and the comparator 312 may receive and compare the test reference voltage TMREF and the first precharge voltage HFVT, Detailed implementations can be fully learned from the above description and general techniques by those skilled in the art and will not be repeated here.

図12を参照すると、図12は、本発明の別の実施例に基づくメモリデバイスが全てのメモリユニットに対する論理「0」のテスト書込みを図示する動作波形図である。本実施例は、上記図1〜図11の実施例のメモリデバイス100に適用できる。図12の実施例において、メモリデバイス100の電源が入る(Power up)又はリセット状態(RESET)後、メモリデバイス100は、拡張書込みサイクルT内、例えば、200μ秒〜300μ秒より小さな範囲内において、図12の実施例において、拡張書込みサイクルTを約300μ秒であることを例とすると、メモリデバイス100における全てのワード線WL及び関連する全てのセンス増幅回路110に対して書込み操作を行い、且つ、図12において省略された符号は、これを表す。即ち、本発明のメモリデバイス100は、短時間内で、全てのワード線WLにおけるメモリユニットMCに対して論理「0」のデータを書込む。図12の動作波形の実施方式について、当業者が図6〜図8の実施例から十分な教示及び提示を得ることができ、ここでは繰り返し述べない。   Referring to FIG. 12, FIG. 12 is an operational waveform diagram illustrating a test write of logic “0” to all memory units by a memory device according to another embodiment of the present invention. This embodiment can be applied to the memory device 100 of the embodiment shown in FIGS. In the embodiment of FIG. 12, after the memory device 100 is powered on (Power up) or reset (RESET), the memory device 100 is within an extended write cycle T, eg, within a range of less than 200 μs to 300 μs. In the embodiment of FIG. 12, taking the extended write cycle T as about 300 μs as an example, a write operation is performed on all word lines WL and all associated sense amplifier circuits 110 in the memory device 100, and The reference numerals omitted in FIG. 12 represent this. That is, the memory device 100 of the present invention writes logic “0” data to the memory units MC in all the word lines WL within a short time. Those skilled in the art will be able to obtain sufficient teaching and presentation from the embodiments of FIGS. 6-8 regarding the manner of implementation of the operating waveforms of FIG. 12, and will not be repeated here.

以上より、本発明は、プリチャージ電圧制御回路及びセンス増幅回路を含むメモリデバイスを提供する。プリチャージ電圧制御回路は、プリチャージ参照電圧に基づき、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を生成する。センス増幅器は、ビット線及び相補ビット線の間に結合され、ビット線に結合されたメモリユニットのデータを検出するのに用いられ、且つ、プリチャージ電圧制御回路に結合され、プリチャージ操作中、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは、同じであり、プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、プリチャージ電圧制御回路がビット線及び相補ビット線に提供する第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは異なる。このように、一回の周期(cycle)内でワード線における複数のセンス増幅器を選択して、パラレルテストモードを行うことを実現できる。   As described above, the present invention provides a memory device including a precharge voltage control circuit and a sense amplifier circuit. The precharge voltage control circuit generates a first precharge voltage and a second precharge voltage based on the precharge reference voltage. A sense amplifier is coupled between the bit line and the complementary bit line, is used to detect data in the memory unit coupled to the bit line, and is coupled to a precharge voltage control circuit, during a precharge operation. The voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are the same. In the test write detection period and the test read detection period after the precharge operation, the precharge voltage control circuit operates the bit line and the complementary bit line. The voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are different from each other. As described above, it is possible to realize a parallel test mode by selecting a plurality of sense amplifiers in a word line within one cycle.

本文は以上の実施例のように示したが、本発明を限定するためではなく、当業者が本発明の精神の範囲から逸脱しない範囲において、変更又は修正することが可能であるが故に、本発明の保護範囲は専利請求の範囲で限定したものを基準とする。   Although the text is shown as the above embodiments, it is not intended to limit the present invention, but can be changed or modified by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. The scope of protection of the invention is based on what is limited in the scope of patent claims.

本発明が提供する検出器は、低い消費電力で、データバス反転機能の検出動作を完了する。メモリデバイスにおいて、データバス反転機能の効率は、効果的に向上する。且つ、メモリデバイスに記載の電子デバイスのデータアクセス効率も効果的に向上される。   The detector provided by the present invention completes the detection operation of the data bus inversion function with low power consumption. In the memory device, the efficiency of the data bus inversion function is effectively improved. In addition, the data access efficiency of the electronic device described in the memory device is also effectively improved.

100:メモリ回路
110:センス増幅回路
120:制御テスト回路
130:メモリアレイ
140:Xデコーダブロック
150:Yデコーダブロック
160:センス増幅器ブロック
200:センス制御回路
210:プリチャージイネーブル制御回路
220:センス増幅電圧制御回路
300:テスト読取り書込み回路
310:プリチャージ電圧制御回路
312:コンパレータ
314:ラッチ回路
320:テスト比較回路
BLT:ビット線
BLN:相補ビット線
BLPE1:プリチャージイネーブル信号
BLP1:第一のプリチャージイネーブル信号
BLP2:第二のプリチャージイネーブル信号
HFV:プリチャージ参照電圧
HFVT:第一のプリチャージ電圧
HFVN:第二のプリチャージ電圧
INV:インバータ
MC:メモリユニット
N1:第一の中間ノード
N2:第二の中間ノード
NP:SAP出力ノード
NN:SAN出力ノード
NHT:HFVT出力ノード
NHN:HFVN出力ノード
NT:テストノード
NA21〜NA23、NA31〜NA35:NANDゲート
NO31〜NO33:NORゲート
Q1、Q2、Q3、Q4:トランジスタ
Q21〜Q25、Q1〜Q39:スイッチ
SA:センス回路
SE1、SE2:センスイネーブル信号
SAP:pチャネル制御電圧
SAN:nチャネル制御電圧
T:拡張書込みサイクル
T1:第一のスイッチ
T2:第二のスイッチ
T3:第三のスイッチ
TFAIL:テスト結果
TG31〜TG34:伝送ゲート
TWE:テスト書込みイネーブル信号
TDA:テストデータ信号
TDE:テストデータイネーブル信号
TEST:テストイネーブル信号
TPIO:テストデータ線プリチャージ信号
tR:テスト読取り検出期間
tW:テスト書込み検出期間
TMREF:テスト参照電圧
VDD:電源電圧
VSS:接地電圧
VTN:nチャネルトランジスタの臨界電圧
WL:ワード線
WLn、WLm:ワード線信号
X12B13B:ローアドレス信号
100: memory circuit 110: sense amplifier circuit 120: control test circuit 130: memory array 140: X decoder block 150: Y decoder block 160: sense amplifier block 200: sense control circuit 210: precharge enable control circuit 220: sense amplification voltage Control circuit 300: Test read / write circuit 310: Precharge voltage control circuit 312: Comparator 314: Latch circuit 320: Test comparison circuit BLT: Bit line BLN: Complementary bit line BLPE1: Precharge enable signal BLP1: First precharge enable Signal BLP2: second precharge enable signal HFV: precharge reference voltage HFVT: first precharge voltage HFVN: second precharge voltage INV: inverter MC: memory unit N1 First intermediate node N2: Second intermediate node NP: SAP output node NN: SAN output node NHT: HFVT output node NHN: HFVN output node NT: Test nodes NA21 to NA23, NA31 to NA35: NAND gates NO31 to NO33: NOR gates Q1, Q2, Q3, Q4: transistors Q21 to Q25, Q1 to Q39: switch SA: sense circuits SE1, SE2: sense enable signal SAP: p channel control voltage SAN: n channel control voltage T: extended write cycle T1: First switch T2: Second switch T3: Third switch TFAIL: Test results TG31 to TG34: Transmission gate TWE: Test write enable signal TDA: Test data signal TDE: Test data enable signal TEST: Test enable Signal TPIO: test data line precharge signal tR: test read detection period tW: test write detection period TMREF: test reference voltage VDD: power supply voltage VSS: ground voltage VTN: critical voltage of n-channel transistors WL: word lines WLn, WLm : Word line signal X12B13B: Row address signal

Claims (14)

プリチャージ参照電圧に基づき、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を生成するプリチャージ電圧制御回路と、
ビット線及び相補ビット線の間に結合され、前記ビット線に結合されたメモリユニットのデータを検出するのに用いられ、前記プリチャージ電圧制御回路に結合され、前記ビット線及び前記相補ビット線に、それぞれ前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧を受信させるセンス増幅回路と、を含み、
プリチャージ操作中、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは、同じであり、前記プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、前記プリチャージ電圧制御回路が前記ビット線及び前記相補ビット線に提供する前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは異なり、
前記プリチャージ電圧制御回路に結合され、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一つ及びテスト参照電圧を比較して、テスト結果を生成するテスト比較回路をさらに含み、
前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一つが前記テスト参照電圧より大きい時、前記テスト結果は、前記メモリユニットのデータ検出が成功であることを表し、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のいずれも前記テスト参照電圧より小さい時、前記テスト結果は、前記メモリユニットのデータ検出が失敗であることを表すメモリデバイス。
A precharge voltage control circuit for generating a first precharge voltage and a second precharge voltage based on the precharge reference voltage;
Coupled between a bit line and a complementary bit line, used to detect data of a memory unit coupled to the bit line, coupled to the precharge voltage control circuit, coupled to the bit line and the complementary bit line; A sense amplifier circuit for receiving the first precharge voltage and the second precharge voltage, respectively.
During the precharge operation, the voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are the same, and in the test write detection period and the test read detection period after the precharge operation, the precharge voltage the voltage level of the first pre-charge voltage and the second precharge voltage control circuit is provided to the bit line and the complementary bit line varies,
And a test comparison circuit coupled to the precharge voltage control circuit and configured to compare one of the first precharge voltage and the second precharge voltage and a test reference voltage to generate a test result. ,
When one of the first precharge voltage and the second precharge voltage is greater than the test reference voltage, the test result indicates that the data detection of the memory unit is successful; When both the precharge voltage and the second precharge voltage are lower than the test reference voltage, the test result indicates that the data detection of the memory unit has failed .
前記センス増幅回路は、
第一端は、前記第一のプリチャージ電圧を受信し、第二端は、前記ビット線に結合され、第一のプリチャージイネーブル信号によって制御される第一のスイッチと、
第一端は、前記第二のプリチャージ電圧を受信し、第二端は、前記相補ビット線に結合され、前記第一のプリチャージイネーブル信号によって制御される第二のスイッチと、
前記ビット線及び前記相補ビット線の間に結合され、第二のプリチャージイネーブル信号によって制御される第三のスイッチと、
前記ビット線及び前記相補ビット線の間に結合され、前記ビット線及び前記相補ビット線の間の電圧差を大きくするのに用いられるセンス回路と、を含む請求項1に記載のメモリデバイス。
The sense amplifier circuit includes:
A first end receives the first precharge voltage and a second end is coupled to the bit line and is controlled by a first precharge enable signal;
A first end receiving the second precharge voltage; a second end coupled to the complementary bit line; and a second switch controlled by the first precharge enable signal;
A third switch coupled between the bit line and the complementary bit line and controlled by a second precharge enable signal;
The memory device of claim 1, further comprising: a sense circuit coupled between the bit line and the complementary bit line and used to increase a voltage difference between the bit line and the complementary bit line.
前記センス増幅回路に結合され、プリチャージイネーブル信号に基づき、前記第一のプリチャージイネーブル信号及び前記第二のプリチャージイネーブル信号を生成するプリチャージイネーブル制御回路を、さらに含み、
前記メモリユニットに対してテスト書込み操作及びテスト読取り操作を行う時、前記第一のプリチャージイネーブル信号の電圧レベルは切り換えられ、前記第二のプリチャージイネーブル信号の論理レベルは前記第一のプリチャージイネーブル信号と異なり、前記テスト書込み操作及び前記テスト読取り操作終了後、前記第二のプリチャージイネーブル信号の電圧レベルは切り換えられて、前記第一のプリチャージイネーブル信号の論理レベルと同じレベルに回復する請求項2に記載のメモリデバイス。
A precharge enable control circuit coupled to the sense amplifier circuit and generating the first precharge enable signal and the second precharge enable signal based on a precharge enable signal;
When performing a test write operation and a test read operation on the memory unit, the voltage level of the first precharge enable signal is switched, and the logic level of the second precharge enable signal is changed to the first precharge enable signal. Unlike the enable signal, after the test write operation and the test read operation, the voltage level of the second precharge enable signal is switched and recovered to the same level as the logic level of the first precharge enable signal. The memory device according to claim 2.
前記テスト参照電圧の電圧レベルは、前記プリチャージ参照電圧より高く、電源電圧より小さい請求項1に記載のメモリデバイス。The memory device according to claim 1, wherein a voltage level of the test reference voltage is higher than the precharge reference voltage and lower than a power supply voltage. 前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一つが前記テスト参照電圧より大きい時、前記テスト結果の電圧値は、前記電源電圧及び接地電圧のうちの一方に実質的に等しく、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のいずれも前記テスト参照電圧より小さい時、前記テスト結果の電圧値は、前記電源電圧及び前記接地電圧のうちの他方に実質的に等しい請求項4に記載のメモリデバイス。When one of the first precharge voltage and the second precharge voltage is greater than the test reference voltage, the voltage value of the test result is substantially equal to one of the power supply voltage and the ground voltage. When both the first precharge voltage and the second precharge voltage are smaller than the test reference voltage, the voltage value of the test result is substantially equal to the other of the power supply voltage and the ground voltage. The memory device according to claim 4, which is equal to: 前記テスト書込み検出期間において、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一方の電圧値は、電源電圧より低いが、前記プリチャージ参照電圧より高く、他方の電圧値は、前記プリチャージ参照電圧より低い請求項1に記載のメモリデバイス。In the test write detection period, one voltage value of the first precharge voltage and the second precharge voltage is lower than the power supply voltage but higher than the precharge reference voltage, and the other voltage value is The memory device of claim 1, lower than the precharge reference voltage. 前記メモリユニットに対して前記テスト読取り操作を行う時、前記テスト読取り検出を行う前に、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧は、まず、電源電圧に実質的に等しい電圧に引き上げられる請求項1に記載のメモリデバイス。When performing the test read operation on the memory unit, before performing the test read detection, the first precharge voltage and the second precharge voltage are first voltages substantially equal to a power supply voltage. The memory device of claim 1, wherein the memory device is pulled up. メモリユニットに対してテスト書込み操作及びテスト読取り操作を行うのに用いられる、メモリデバイス用の読書き方法であって、A read / write method for a memory device used to perform a test write operation and a test read operation on a memory unit,
プリチャージ参照電圧に基づき、第一のプリチャージ電圧及び第二のプリチャージ電圧を生成することと、  Generating a first precharge voltage and a second precharge voltage based on the precharge reference voltage;
ビット線及び相補ビット線に、それぞれ前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧を受信させることと、を含み、Allowing the bit line and the complementary bit line to receive the first precharge voltage and the second precharge voltage, respectively,
プリチャージ操作中、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧の電圧レベルは、同じであり、前記プリチャージ操作後のテスト書込み検出期間及びテスト読取り検出期間において、プリチャージ電圧制御回路が前記ビット線及び前記相補ビット線に提供する前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧(HFVN)の電圧レベルは異なり、During the precharge operation, the voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage are the same, and the precharge voltage control is performed in the test write detection period and the test read detection period after the precharge operation. The voltage levels of the first precharge voltage and the second precharge voltage (HFVN) that the circuit provides to the bit line and the complementary bit line are different,
前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一つ及びテスト参照電圧を比較して、テスト結果を生成することをさらに含み、Comparing one of the first precharge voltage and the second precharge voltage and a test reference voltage to generate a test result;
前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一つが前記テスト参照電圧より大きい時、前記テスト結果は、前記メモリユニットのデータ検出が成功であることを表し、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のいずれも前記テスト参照電圧より小さい時、前記テスト結果は、前記メモリユニットのデータ検出が失敗であることを表す読書き方法。When one of the first precharge voltage and the second precharge voltage is greater than the test reference voltage, the test result indicates that the data detection of the memory unit is successful; When both the precharge voltage and the second precharge voltage are lower than the test reference voltage, the test result indicates that the data detection of the memory unit has failed.
第一のプリチャージイネーブル信号によって第一のスイッチと、第二のスイッチと、を制御して、前記ビット線及び前記相補ビット線は、それぞれ前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧を受信するか否か決定することと、The first switch and the second switch are controlled by a first precharge enable signal, and the bit line and the complementary bit line are connected to the first precharge voltage and the second precharge, respectively. Determining whether to receive the voltage;
第二のプリチャージイネーブル信号によって第三のスイッチを制御して、前記ビット線及び前記相補ビット線を電気的に接続するか否か決定することと、Controlling a third switch with a second precharge enable signal to determine whether to electrically connect the bit line and the complementary bit line;
センス回路によって前記ビット線及び前記相補ビット線の間の電圧差を大きくすることと、をさらに含む請求項8に記載の読書き方法。The read / write method according to claim 8, further comprising increasing a voltage difference between the bit line and the complementary bit line by a sense circuit.
プリチャージイネーブル信号に基づき、前記第一のプリチャージイネーブル信号及び前記第二のプリチャージイネーブル信号を生成すること、をさらに含み、Generating the first precharge enable signal and the second precharge enable signal based on a precharge enable signal;
前記メモリユニットに対して前記テスト書込み操作及び前記テスト読取り操作を行う時、前記第一のプリチャージイネーブル信号の電圧レベルは切り換えられ、前記第二のプリチャージイネーブル信号の論理レベルは前記第一のプリチャージイネーブル信号と異なり、前記テスト書込み操作及び前記テスト読取り操作終了後、前記第二のプリチャージイネーブル信号の電圧レベルは切り換えられて、前記第一のプリチャージイネーブル信号の論理レベルと同じレベルに回復する請求項9に記載の読書き方法。When performing the test write operation and the test read operation on the memory unit, the voltage level of the first precharge enable signal is switched, and the logic level of the second precharge enable signal is the first level. Unlike the precharge enable signal, the voltage level of the second precharge enable signal is switched to the same level as the logic level of the first precharge enable signal after completion of the test write operation and the test read operation. The reading and writing method according to claim 9, wherein the reading and writing method is restored.
前記テスト参照電圧の電圧レベルは、前記プリチャージ参照電圧より高く、電源電圧より小さい請求項8に記載の読書き方法。The read / write method according to claim 8, wherein a voltage level of the test reference voltage is higher than the precharge reference voltage and lower than a power supply voltage. 前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一つが前記テスト参照電圧より大きい時、前記テスト結果の電圧値は、前記電源電圧及び接地電圧のうちの一方に実質的に等しく、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のいずれも前記テスト参照電圧より小さい時、前記テスト結果の電圧値は、前記電源電圧及び前記接地電圧のうちの他方に実質的に等しい請求項11に記載の読書き方法。When one of the first precharge voltage and the second precharge voltage is greater than the test reference voltage, the voltage value of the test result is substantially equal to one of the power supply voltage and the ground voltage. When both the first precharge voltage and the second precharge voltage are smaller than the test reference voltage, the voltage value of the test result is substantially equal to the other of the power supply voltage and the ground voltage. The reading and writing method according to claim 11, which is equal to: 前記テスト書込み検出期間において、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧のうちの一方の電圧値は、電源電圧より低いが、前記プリチャージ参照電圧より高く、他方の電圧値は、前記プリチャージ参照電圧より低い請求項8に記載の読書き方法。In the test write detection period, one voltage value of the first precharge voltage and the second precharge voltage is lower than the power supply voltage but higher than the precharge reference voltage, and the other voltage value is 9. The read / write method according to claim 8, wherein the read / write method is lower than the precharge reference voltage. 前記メモリユニットに対して前記テスト読取り操作を行う時、前記テスト読取り検出を行う前に、前記第一のプリチャージ電圧及び前記第二のプリチャージ電圧は、まず、電源電圧に実質的に等しい電圧に引き上げられる請求項8に記載の読書き方法。When performing the test read operation on the memory unit, before performing the test read detection, the first precharge voltage and the second precharge voltage are first voltages substantially equal to a power supply voltage. The reading and writing method according to claim 8, wherein
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