JP6550705B2 - Multi-faced substrate for display front panel - Google Patents
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Description
本発明は、表示装置の前面に配置される表示装置用前面板に関するものである。 The present invention relates to a front plate for a display device disposed on the front surface of the display device.
一般に、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等の表示装置の前面には、表示装置の保護のために前面板が設けられている。前面板としては、耐衝撃性の観点から強化ガラス基板を用いることが知られている。このような表示装置においては、前面板と空気との界面の屈折率差により光の反射が起こり、視認性が低下する。そこで、前面板の最表面に反射防止フィルムや反射防止層を配置することが提案されている。 In general, a front plate is provided on the front surface of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an organic EL display device, electronic paper and the like to protect the display device. As the front plate, it is known to use a tempered glass substrate from the viewpoint of impact resistance. In such a display device, the reflection of light occurs due to the refractive index difference at the interface between the front plate and the air, and the visibility decreases. Therefore, it has been proposed to dispose an antireflection film or an antireflection layer on the outermost surface of the front plate.
反射防止フィルムとしては、例えばＴＡＣフィルムやＰＥＴフィルム等の透明基材上に反射防止層を形成したものを挙げることができ、反射防止層としては、例えば高屈折率層および低屈折率層が積層されたものが挙げられる。このような反射防止フィルムは、前面板の最表面に粘着層や接着層を介して貼付される。
反射防止フィルムは前面板に貼付するだけで反射防止性を付与することができる。しかしながら、反射防止フィルムにおいては透明基材および粘着層または接着層が存在するため、光学設計が複雑になる。また、透明基材にはうねりがあるため、平坦性が低下し、表示品位が劣化する。また、反射防止フィルムを貼付する際に異物や気泡の混入等の不具合が生じ、歩留りが低下する。また、透明基材および粘着層または接着層によって、透過率が低下する。
Examples of the antireflective film include those in which an antireflective layer is formed on a transparent substrate such as a TAC film or a PET film. As the antireflective layer, for example, a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated. The thing which was done is mentioned. Such an antireflective film is attached to the outermost surface of the front plate via an adhesive layer or an adhesive layer.
The antireflective film can be provided with antireflective properties simply by being attached to the front plate. However, the optical design is complicated by the presence of the transparent substrate and the adhesive layer or adhesive layer in the antireflective film. In addition, since the transparent base material has undulations, the flatness is lowered and the display quality is deteriorated. Moreover, when sticking an antireflection film, troubles, such as mixing of a foreign material and a bubble, arise and a yield falls. Further, the transmittance is lowered by the transparent substrate and the adhesive layer or the adhesive layer.
一方、反射防止層を配置する場合は、強化ガラス基板上に形成可能であることから、上述の反射防止フィルムにおける問題点を解消することができる。反射防止層としては、例えばスパッタリング法や真空蒸着法等のドライプロセスにより無機膜の反射防止層を形成する技術や、特許文献１〜５に記載するように塗布により反射防止層を形成する技術が提案されている。塗布により反射防止層を形成する技術は、ドライプロセスにより無機膜の反射防止層を形成する場合に比べて、生産性が良好であり製造コストを低減することができるといった利点や、反射防止層の厚みの面内分布のばらつきが小さくすることができるといった利点を有する。
On the other hand, when the antireflective layer is disposed, since it can be formed on a strengthened glass substrate, it is possible to solve the problems in the above-mentioned antireflective film. As an antireflection layer, for example, a technique of forming an antireflection layer of an inorganic film by a dry process such as a sputtering method or a vacuum deposition method, or a technique of forming an antireflection layer by coating as described in
塗布により反射防止層を形成する場合、反射防止層を構成する低屈折率層や高屈折率層等としては、樹脂および微粒子を含有するものを用い、厚みを薄くすることが提案されている。低屈折率層や高屈折率層の形成方法としては、例えば硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が用いられている。しかしながら、硬化性樹脂組成物中の樹脂成分の種類によっては、空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合がある。特に、微粒子が含有されている場合や、厚みが薄い場合には、硬化反応が不十分になりやすく、密着性が低下する傾向がある。 In the case of forming an antireflection layer by coating, it has been proposed to use a material containing a resin and fine particles as the low refractive index layer and high refractive index layer constituting the antireflection layer and to reduce the thickness. As a method of forming the low refractive index layer or the high refractive index layer, for example, a method of applying and curing a curable resin composition is used. However, depending on the type of resin component in the curable resin composition, the curing reaction may be inhibited by oxygen in the air. In particular, when fine particles are contained or when the thickness is thin, the curing reaction tends to be insufficient and the adhesion tends to be lowered.
ところで、前面板には、何らかの衝撃等により前面板が破損した場合に、その破片の飛散を防止する飛散防止機能を備えることが望まれている。前面板に飛散防止機能を付与する方法としては、従来から、飛散防止フィルムを前面板の表面に粘着層や接着層を介して貼付する方法が挙げられる。しかしながら、飛散防止フィルムを貼り合わせる工程は煩雑であり、また工程数が増えることにより、前面板の製造コストが増大するという問題がある。また、上述の反射防止フィルムを貼り合わせる場合と同様に、飛散防止層と前面板とを粘着層や接着層を介して貼付する場合は、前面板の光学設計の複雑化、平坦性の低下による表示品位の劣化、歩留まりの低下、透過率の低下等の問題が生じる。 By the way, it is desired that the front plate has a scattering prevention function for preventing the fragments from being scattered when the front plate is damaged by some impact or the like. As a method of imparting a scattering prevention function to the front plate, there has been conventionally mentioned a method of sticking a scattering prevention film to the surface of the front plate via an adhesive layer or an adhesive layer. However, the step of bonding the anti-scattering film is complicated, and there is a problem that the manufacturing cost of the front plate is increased due to the increase in the number of steps. In addition, in the case where the anti-scattering layer and the front plate are attached via the adhesive layer or the adhesive layer as in the case where the above-mentioned anti-reflection film is attached, the optical design of the front plate is complicated and the flatness is lowered. Problems such as deterioration in display quality, reduction in yield, and reduction in transmittance occur.
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、飛散防止機能を有し、ガラス基板に対する反射防止層の密着性が良好である表示装置用前面板を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and its main object is to provide a front panel for a display device having a scattering prevention function and having excellent adhesion of the antireflective layer to the glass substrate.
上記目的を達成するために、本発明は、ガラス基板と、上記ガラス基板上に直に形成された飛散防止層と、上記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層とを有することを特徴とする表示装置用前面板を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention has a glass substrate, an anti-scattering layer formed directly on the glass substrate, and an organic layer formed directly on the anti-scattering layer and having one or more layers. There is provided a front plate for a display device characterized by comprising an antireflective layer.
本発明によれば、飛散防止層を有することにより、本発明の表示装置用前面板に対して飛散防止機能を付与することができる。また本発明によれば、飛散防止層を介してガラス基板上に反射防止層が形成されていることにより、ガラス基板に対する反射防止層の密着性を高めることができる。 According to the present invention, by having the anti-scattering layer, the anti-scattering function can be provided to the front plate for a display device of the present invention. Further, according to the present invention, the adhesion of the antireflection layer to the glass substrate can be enhanced by forming the antireflection layer on the glass substrate via the scattering prevention layer.
上記発明においては、上記飛散防止層が、上記ガラス基板上に直にパターン状に形成されていることが好ましい。飛散防止機能を有する表示装置用前面板を多面付けで形成することができるからである。 In the said invention, it is preferable that the said scattering prevention layer is directly formed in the pattern form on the said glass substrate. This is because the front plate for a display device having a scattering prevention function can be formed with multiple faces.
本発明の表示装置用前面板は、飛散防止機能を有し、ガラス基板に対する反射防止層の密着性が良好であるといった作用効果を奏する。 The front plate for a display device of the present invention has an anti-scattering function, and exhibits an effect that the adhesion of the antireflective layer to the glass substrate is good.
以下、本発明の表示装置用前面板について詳細に説明する。
本発明の表示装置用前面板は、ガラス基板と、上記ガラス基板上に直に形成された飛散防止層と、上記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層とを有するものである。
Hereinafter, the front plate for a display device of the present invention will be described in detail.
The display device front plate according to the present invention includes a glass substrate, an anti-scattering layer formed directly on the glass substrate, and an anti-reflection having one or more organic layers formed directly on the anti-scattering layer. And a layer.
ここで、「ガラス基板上に直に形成された飛散防止層」とは、ガラス基板と飛散防止層とが直に接しており、ガラス基板と飛散防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等が形成されていないことをいう。
また、「飛散防止層上に直に形成された反射防止層」とは、飛散防止層と反射防止層とが直に接しており、飛散防止層と反射防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等が形成されていないことをいう。
Here, “the anti-scattering layer formed directly on the glass substrate” means that the glass substrate and the anti-scattering layer are in direct contact with each other, and for example, an adhesive layer or an adhesive layer between the glass substrate and the anti-scattering layer. It means that a transparent substrate or the like is not formed.
In addition, the “antireflection layer formed directly on the anti-scattering layer” means that the anti-scattering layer and the antireflection layer are in direct contact with each other, and an adhesive layer or the like is interposed between the anti-scattering layer and the antireflection layer. It means that an adhesive layer, a transparent substrate and the like are not formed.
本発明の表示装置用前面板について図を用いて説明する。
図１は本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の表示装置用前面板１は、ガラス基板２と、ガラス基板２上に直に形成された飛散防止層３と、飛散防止層３上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層４とを有するものである。反射防止層４は、飛散防止層３上に形成された高屈折率層５と、高屈折率層５上に形成された低屈折率層６とを有している。本発明においては、高屈折率層５および低屈折率層６のいずれも有機層であることが好ましい。
The front plate for a display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a front plate for a display device of the present invention. As shown in FIG. 1, the display
図２（ａ）は本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。本発明においては、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、飛散防止層３をガラス基板２上に直にパターン状に形成してもよい。図２（ａ）、（ｂ）においては、多面付け前面板において、個々の表示装置用前面板に対応する領域ｘのガラス基板２上に直に飛散防止層３が形成されており、個々の表示装置用前面板に対応する領域ｘの間の切断部分ｙには飛散防止層３が形成されていない例について示している。なお、図２（ａ）においては、飛散防止層３が形成されている領域を破線で示している。また、図２（ｂ）において説明していない符号については図１と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
FIG. 2A is a schematic plan view showing another example of the front plate for a display device of the present invention, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. In the present invention, as shown in FIGS. 2A and 2B, the
本発明によれば、飛散防止層を有することにより、本発明の表示装置用前面板に対して飛散防止機能を付与することができる。また本発明によれば、飛散防止層を介してガラス基板上に反射防止層が形成されていることにより、ガラス基板に対する反射防止層の密着性を高めることができる。
また本発明においては、飛散防止層および反射防止層はいずれもウェットプロセスにより形成可能であり、大面積であっても均一な層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる安価な表示装置用前面板を得ることが可能である。
According to the present invention, the anti-scattering function can be imparted to the front plate for a display device of the present invention by having the anti-scattering layer. Moreover, according to this invention, the adhesiveness of the antireflection layer with respect to a glass substrate can be improved by forming the antireflection layer on a glass substrate through the scattering prevention layer.
In the present invention, both the anti-scattering layer and the anti-reflection layer can be formed by a wet process, and even a large area can easily form a uniform layer. Therefore, it is possible to obtain an inexpensive front plate for a display device having excellent antireflection properties.
また本発明においては、飛散防止層をガラス基板上に直にパターン状に形成することができるため、本発明の表示装置用前面板を多面付けで形成することができる。
ここで、一般的に、ガラス基板上に飛散防止フィルムを密着させて貼り合わせた場合、ガラス基板および飛散防止フィルムを積層させた状態で切断することは困難である。そのため、従来においては、多面付け前面板から個々の表示装置用前面板を切断して個片化した後、個片化された表示装置用前面板に飛散防止フィルムを貼り合わせる必要があるため、製造コストが増大するという問題がある。
これに対して、本発明においては、飛散防止層をガラス基板上に直にパターン状に形成することができるため、多面付け基板における切断部分には飛散防止層が形成されないようにすることができる。また、後述するように、反射防止層は飛散防止層に比べて厚みが薄いことから、上記切断部分においてガラス基板上に直に反射防止層が形成されていたとしても、切断が可能である。
In the present invention, since the anti-scattering layer can be formed directly on the glass substrate in a pattern, the front plate for a display device of the present invention can be formed with multiple faces.
Here, generally, when a scattering prevention film is stuck on a glass substrate and bonded together, it is difficult to cut the glass substrate and the scattering prevention film in a laminated state. Therefore, in the related art, it is necessary to cut the individual display device front plates from the multifaceted front plate into individual pieces, and then to bond the shatterproof film to the individualized display device front plates. There is a problem that the manufacturing cost increases.
On the other hand, in the present invention, since the anti-scattering layer can be directly formed on the glass substrate in a pattern, it is possible to prevent the anti-scattering layer from being formed on the cut portion of the multi-sided substrate. . Further, as will be described later, since the antireflection layer is thinner than the antiscattering layer, the antireflection layer can be cut even if the antireflection layer is formed directly on the glass substrate at the cut portion.
以下、本発明の表示装置用前面板の各構成について説明する。 Hereafter, each structure of the front plate for display apparatuses of this invention is demonstrated.
１．飛散防止層
本発明における飛散防止層は、ガラス基板上に直に形成されるものである。また、飛散防止層は、本発明の表示装置用前面板に飛散防止機能を付与するとともに、ガラス基板に対する反射防止層の密着性を向上させるアンカー層として機能するものである。
また、本発明におけるガラス基板として、後述するソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等を用いる場合は、飛散防止層を形成することにより、ガラス基板の強度を高くすることができ、割れにくくすることができる。
1. Scattering prevention layer The scattering prevention layer in this invention is formed directly on a glass substrate. The anti-scattering layer functions as an anchor layer that imparts an anti-scattering function to the front plate for a display device of the present invention and improves the adhesion of the anti-reflection layer to the glass substrate.
In the case of using soda glass, quartz glass, non-alkali glass, etc. described later as the glass substrate in the present invention, the strength of the glass substrate can be increased by forming the anti-scattering layer, making it difficult to break. Can do.
飛散防止層は、ガラス基板上に直に形成されていればよく、ガラス基板の全域に形成されていてもよく、パターン状に形成されていてもよい。飛散防止層がパターン状に形成されている場合は、例えば、多面付け前面板における個々の表示装置用前面板に対応する領域のガラス基板上に直に飛散防止層が形成されることが好ましい。 The scattering prevention layer should just be formed directly on the glass substrate, may be formed in the whole region of the glass substrate, and may be formed in pattern shape. In the case where the anti-scattering layer is formed in a pattern, for example, it is preferable that the anti-scattering layer be formed directly on the glass substrate in the region corresponding to the individual display device front plate in the multifaceted front plate.
飛散防止層の屈折率としては、ガラス基板の屈折率以上であることが好ましく、また飛散防止層上に形成される高屈折率層の屈折率以下であることが好ましい。また、飛散防止層の屈折率は、ガラス基板の屈折率との差が小さいあるいは高屈折率層の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば強化ガラス基板の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内あるいは高屈折率層の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内であることが好ましい。特に、飛散防止層の屈折率はガラス基板の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、ガラス基板が強化ガラスであって、上記強化ガラス基板の屈折率が１．５１である場合、飛散防止層の屈折率は１．４９５〜１．５２５の範囲内であることが好ましい。この場合、飛散防止層と強化ガラス基板との界面で光が反射するのを抑制することができる。
なお、飛散防止層が複数層が積層されたものである場合、飛散防止層とガラス基板との屈折率の大小関係については、ガラス基板に接する層とガラス基板との屈折率が上記の関係を満たしていればよい。また、飛散防止層と高屈折率層との屈折率の大小関係については、高屈折率層に接する層と高屈折率層との屈折率が上記の関係を満たしていればよい。
The refractive index of the scattering prevention layer is preferably not less than the refractive index of the glass substrate, and preferably not more than the refractive index of the high refractive index layer formed on the scattering prevention layer. Moreover, it is preferable that the difference between the refractive index of the scattering prevention layer and the refractive index of the glass substrate is small or the difference between the refractive index of the high refractive index layer is small. It is preferably within 03, particularly within 0.015, or within 0.03, particularly preferably within 0.015, with respect to the refractive index of the high refractive index layer. In particular, it is preferable that the difference in refractive index of the scattering prevention layer is small from the refractive index of the glass substrate. Specifically, when the glass substrate is tempered glass and the refractive index of the tempered glass substrate is 1.51, the scattering layer has a refractive index in the range of 1.495 to 1.525. preferable. In this case, it is possible to suppress light from being reflected at the interface between the scattering prevention layer and the strengthened glass substrate.
In the case where the anti-scattering layer is formed by laminating a plurality of layers, regarding the magnitude relationship of the refractive index between the anti-scattering layer and the glass substrate, the relationship between the refractive index of the layer in contact with the glass substrate and the glass substrate It only has to satisfy. Further, regarding the magnitude relationship of the refractive index between the scattering prevention layer and the high refractive index layer, the refractive index between the layer in contact with the high refractive index layer and the high refractive index layer may satisfy the above relationship.
ここで、各部材の「屈折率」とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は特に限定されないが、例えば、分光反射スペクトルから算出する方法、エリプソメーターを用いて測定する方法、アッベ法を挙げることができる。エリプソメーターとしてはジョバンーイーボン社製ＵＶＳＥＬが挙げられる。具体的には、テクノ・シナジー社製ＤＦ１０３０Ｒにて屈折率を測定することができる。 Here, the “refractive index” of each member refers to the refractive index with respect to light having a wavelength of 550 nm. The method for measuring the refractive index is not particularly limited, and examples thereof include a method of calculating from a spectral reflection spectrum, a method of measuring using an ellipsometer, and an Abbe method. The ellipsometer includes UV-SEL manufactured by Giovanni-Ebon. Specifically, the refractive index can be measured with DF1030R manufactured by Techno Synergy.
飛散防止層に用いられる樹脂としては、表示装置用前面板に飛散防止機能を付与することができ、ガラス基板および反射防止層との密着性を有し、透明性を有し、上述の屈折率を満たす飛散防止層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂を挙げることができる。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。 The resin used for the anti-scattering layer can impart an anti-scattering function to the front plate for a display device, has adhesion with the glass substrate and the anti-reflection layer, has transparency, and has the above refractive index. It will not be specifically limited if it is a thing which can obtain the scattering prevention layer which satisfy | fills, For example, the cured resin hardened | cured by irradiation of ionizing radiation, such as a heat | fever or an ultraviolet-ray, an electron beam, can be mentioned. As a cured resin, thermosetting resin and ionizing radiation cured resin are mentioned, for example.
ここで、「電離放射線硬化樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化した樹脂をいう。「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。 Here, “ionizing radiation curable resin” refers to a resin cured by irradiation with ionizing radiation. "Ionizing radiation" refers to an electromagnetic wave or charged particle beam that has an energy quantum that can polymerize or crosslink a molecule, for example, an ultraviolet ray, an electron beam, an electromagnetic wave such as X-ray or γ-ray, an α-ray And charged particle beams such as ion beams.
例えば、樹脂としては、アクリル樹脂等を用いることができ、具体的には、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等が挙げられる。 For example, an acrylic resin etc. can be used as resin, Specifically, urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyol acrylate, polyether acrylate, melamine acrylate etc. are mentioned.
また、飛散防止層に用いられる樹脂としては、感光性樹脂も用いることができる。感光性樹脂としては、一般的なものを用いることができ、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム等の反応性ビニル基等の光反応性基を有する感光性樹脂が挙げられる。感光性樹脂は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。 Moreover, photosensitive resin can also be used as resin used for a scattering prevention layer. As a photosensitive resin, a general thing can be used, For example, photoreactivity, such as reactive vinyl groups, such as acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, polyvinyl cinnamate resin, cyclization rubber, etc. The photosensitive resin which has group is mentioned. The photosensitive resin may be used alone or in combination of two or more.
アクリル系樹脂の場合、例えばアルカリ可溶性樹脂、多官能アクリレート系モノマー、光重合開始剤、その他添加剤等を含有する感光性樹脂組成物を樹脂成分として用いることができる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えばベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体等のメタクリル酸エステル共重合体、ビスフェノールフルオレン構造を有するエポキシアクリレート等のカルド樹脂等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
多官能アクリレート系モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
なお、本発明において、（メタ）アクリレートとは、メタクリレートまたはアクリレートのいずれかであることを意味する。
光重合開始剤としては、例えばアルキルフェノン系、オキシムエステル系、トリアジン系、チタネート系等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
感光性樹脂組成物は、上記の他、光増感剤、分散剤、界面活性剤、安定剤、レベリング剤等の公知の各種添加剤を含むことができる。
In the case of an acrylic resin, for example, a photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin, a polyfunctional acrylate monomer, a photopolymerization initiator, other additives, and the like can be used as the resin component.
Examples of the alkali-soluble resin include methacrylic acid ester copolymers such as benzyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, and cardo resins such as epoxy acrylate having a bisphenol fluorene structure. These may be used singly or in combination of two or more.
Examples of the polyfunctional acrylate monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. These may be used singly or in combination of two or more.
In the present invention, (meth) acrylate means that it is either methacrylate or acrylate.
As a photoinitiator, an alkyl phenone type, an oxime ester type, a triazine type, a titanate type etc. are mentioned, for example. These may be used singly or in combination of two or more.
The photosensitive resin composition can contain various known additives such as photosensitizers, dispersants, surfactants, stabilizers, and leveling agents, in addition to the above.
また、飛散防止層はフィラーを含有していてもよい。飛散防止層の硬度を高めることができる。フィラーとしては、無機系、有機系のいずれも用いることができる。無機系フィラーとしては、例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫等の微粒子や、ガラスビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。また、有機系フィラーとしては、例えば樹脂ビーズを用いることができ、具体的にはアクリルビーズ、ウレタンビーズ、ナイロンビーズ、シリコーンビーズ、シリコーンゴムビーズ、ポリカーボネートビーズ等が挙げられる。 In addition, the anti-scattering layer may contain a filler. The hardness of the scattering prevention layer can be increased. Both inorganic and organic fillers can be used as the filler. Examples of the inorganic filler include fine particles such as silica, alumina, titania, zirconia, zinc oxide, tin oxide, and indium tin oxide, glass beads, and glass fibers. Further, as the organic filler, for example, resin beads can be used, and specific examples thereof include acrylic beads, urethane beads, nylon beads, silicone beads, silicone rubber beads, polycarbonate beads and the like.
フィラーの平均粒径としては、例えば５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内、特に５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。フィラーの平均粒径が上記範囲内にあれば、飛散防止層の透明性を損なうことがなく、良好なフィラーの分散状態が得られる。一方、フィラーの平均粒径が小さすぎると取り扱いが困難になり、大きすぎると硬度を高める効果が十分に得られない場合がある。なお、フィラーの平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、またフィラーが鎖状に連なっていてもよい。
ここで、フィラーの平均粒径は、飛散防止層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
The average particle diameter of the filler is, for example, preferably in the range of 5 nm to 50 nm, more preferably in the range of 5 nm to 40 nm, and particularly preferably in the range of 5 nm to 30 nm. When the average particle diameter of the filler is in the above range, the transparency of the scattering prevention layer is not impaired, and a good filler dispersion state can be obtained. On the other hand, when the average particle diameter of the filler is too small, handling becomes difficult, and when it is too large, the effect of increasing the hardness may not be obtained sufficiently. If the average particle size of the filler is within the above range, the average particle size may be either the primary particle size or the secondary particle size, and the fillers may be continuous in a chain shape.
Here, the average particle diameter of the filler refers to the average value of 20 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of the cross section of the anti-scattering layer.
フィラーの形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。 The shape of the filler is not particularly limited, and examples thereof include spheres, chains, needles and the like.
飛散防止層における樹脂およびフィラーの含有量としては、飛散防止機能を有することができれば特に限定されず、目的とする硬度や強度、屈折率等に応じて適宜設定される。 The content of the resin and filler in the scattering prevention layer is not particularly limited as long as it has a scattering prevention function, and is appropriately set according to the intended hardness, strength, refractive index, and the like.
また、飛散防止層は、必要に応じて、重合開始剤等の各種添加剤を含有していてもよい。 Moreover, the scattering prevention layer may contain various additives, such as a polymerization initiator, as needed.
図３に示すように、飛散防止層３はガラス基板２とは反対側の面に凹凸を有していてもよい。これにより、飛散防止層と飛散防止層上に形成される有機層との密着性を高めることができる。凹凸の高低差やピッチとしては、飛散防止層上に形成される有機層との密着性を高めることが可能な程度であればよく、適宜調整される。凹凸は、規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。
なお、図３は本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。図３において説明していない符号については、上述した図１と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
As shown in FIG. 3, the
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of the front plate for a display device of the present invention. Since reference numerals not described in FIG. 3 can be the same as those in FIG. 1 described above, description thereof is omitted here.
また、本発明における飛散防止層は、単層であってもよく、複数層が積層されたものであってもよい。 In addition, the anti-scattering layer in the present invention may be a single layer, or a plurality of layers may be laminated.
飛散防止層の厚みとしては、所望の飛散防止機能を発揮し、ガラス基板および反射防止層との密着性を有することができれば特に限定されず、本発明の表示装置用前面板の用途、飛散防止層の材料等に応じて適宜選択することができる。飛散防止層の厚みとしては、例えば、１５μｍ〜１５０μｍの範囲内、中でも１５μｍ〜１００μｍの範囲内、特に２０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。飛散防止層の厚みが薄すぎると十分な飛散防止機能を付与することが困難となる可能性があるからである。また、飛散防止層の厚みが厚すぎると本発明の表示装置用前面板の透過性が低下する可能性があるからである。 The thickness of the anti-scattering layer is not particularly limited as long as it can exhibit a desired anti-scattering function and can be adhered to the glass substrate and the antireflective layer, and the use of the front plate for display devices of the present invention, anti-scattering It can be appropriately selected according to the material of the layer and the like. The thickness of the scattering prevention layer is, for example, preferably in the range of 15 μm to 150 μm, more preferably in the range of 15 μm to 100 μm, and particularly preferably in the range of 20 μm to 80 μm. If the thickness of the scattering prevention layer is too thin, it may be difficult to provide a sufficient scattering prevention function. In addition, when the thickness of the scattering prevention layer is too thick, the transmittance of the front plate for a display device of the present invention may be reduced.
ここで、各部材の「厚み」とは、一般的な測定方法によって得られる厚みをいう。厚みの測定方法としては、例えば、触針で表面をなぞり凹凸を検出することによって厚みを算出する触針式の方法や、分光反射スペクトルに基づいて厚みを算出する光学式の方法等を挙げることができる。具体的には、ケーエルエー・テンコール株式会社製の触針式膜厚計Ｐ−１５を用いて厚みを測定することができる。なお、厚みとして、対象となる部材の複数箇所における厚み測定結果の平均値が用いられてもよい。 Here, the "thickness" of each member means a thickness obtained by a general measurement method. As a method of measuring the thickness, for example, a stylus type method in which the thickness is calculated by detecting unevenness on the surface with a stylus, or an optical method in which the thickness is calculated based on the spectral reflection spectrum, etc. Can do. Specifically, the thickness can be measured using a stylus type film thickness meter P-15 manufactured by KLA-Tencor Corporation. In addition, as thickness, the average value of the thickness measurement result in the several location of the member used as object may be used.
飛散防止層の形成方法としては、ガラス基板上に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。また、飛散防止層をパターン状に形成する場合は、フォトリソグラフィ法、印刷法等を挙げることができる。
なお、飛散防止層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
Examples of the method for forming the scattering prevention layer include a method in which a curable resin composition for the scattering prevention layer is applied on a glass substrate and cured. Moreover, when forming a scattering prevention layer in pattern shape, the photolithographic method, the printing method, etc. can be mentioned.
In addition, since the formation method of a scattering prevention layer is described in "5. Manufacturing method of the front plate for display apparatuses", description here is abbreviate | omitted.
本発明においては、必要に応じて、ガラス基板の飛散防止層側とは反対側の面上に直に第２飛散防止層を形成してもよい。本発明の表示装置用前面板の飛散防止機能を補強することができる。第２飛散防止層の形成位置、材料、厚みについては、上述した飛散防止層の形成位置、材料、厚みに応じて適宜選択することができる。 In the present invention, if necessary, the second scattering prevention layer may be formed directly on the surface of the glass substrate opposite to the scattering prevention layer. The scattering prevention function of the front plate for a display device of the present invention can be reinforced. The formation position, material, and thickness of the second shatterproof layer can be appropriately selected according to the formation position, material, and thickness of the shatterproof layer described above.
２．反射防止層
本発明における反射防止層は、上記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有するものである。本発明においては、反射防止層は、少なくとも飛散防止層上に直に形成される層が有機層であればよいが、有機層のみを有するものであることが好ましい。反射防止層をウェットプロセスにより形成可能であり、大面積であっても均一な層を容易に形成することができるからである。
2. Antireflection layer The antireflection layer in the present invention is formed directly on the anti-scattering layer and has one or more organic layers. In the present invention, the anti-reflection layer may be at least an organic layer formed directly on the anti-scattering layer, but it is preferable to have only the organic layer. This is because the antireflection layer can be formed by a wet process, and a uniform layer can be easily formed even in a large area.
反射防止層は、１層以上の有機層を有し、有機層のみを有するものである場合としては、特に限定されるものではなく、例えば、図示しないがガラス基板よりも屈折率の低い低屈折率層を有する単層の反射防止層や、図１に例示するように飛散防止層３上に高屈折率層５および低屈折率層６が順に積層された反射防止層４、図示しないが飛散防止層上に中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層が順に積層された反射防止層、飛散防止層上に高屈折率層、中屈折率層および低屈折率層が順に積層された反射防止層等が挙げられる。
The antireflection layer has one or more organic layers, and is not particularly limited as a layer having only an organic layer. For example, although not shown, a low refractive index having a refractive index lower than that of a glass substrate. A single-layer antireflection layer having a refractive index layer, an
以下、低屈折率層、高屈折率層および中屈折率層について説明する。 Hereinafter, the low refractive index layer, the high refractive index layer, and the medium refractive index layer will be described.
（１）低屈折率層
本発明における低屈折率層は、有機層であり、高屈折率層および中屈折率層よりも屈折率が低いものである。
(1) Low Refractive Index Layer The low refractive index layer in the present invention is an organic layer and has a refractive index lower than that of the high refractive index layer and the middle refractive index layer.
低屈折率層の屈折率としては、高屈折率層および中屈折率層の屈折率よりも低く、ガラス基板の屈折率よりも低ければよい。具体的には、低屈折率層の屈折率は１．２〜１．４の範囲内であることが好ましい。 The refractive index of the low refractive index layer may be lower than the refractive index of the high refractive index layer and the medium refractive index layer and lower than the refractive index of the glass substrate. Specifically, the refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.2 to 1.4.
低屈折率層としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する有機層であれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂を含有するものや、バインダー樹脂および低屈折率微粒子を含有するもの等が挙げられる。 The low refractive index layer is not particularly limited as long as the organic layer satisfies the above refractive index and has transparency. For example, the low refractive index layer contains a resin, or contains a binder resin and low refractive index fine particles. Etc.
低屈折率層に用いられる樹脂およびバインダー樹脂としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する低屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。例えば、樹脂およびバインダー樹脂としては、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂が挙げられる。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂や電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。低屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。また、電離放射線硬化樹脂としては、例えば紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を用いることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。 The resin and binder resin used for the low refractive index layer are not particularly limited as long as they can satisfy the above refractive index and can obtain a low refractive index layer having transparency. It is appropriately selected from the viewpoint of film strength and the like. For example, as resin and binder resin, the cured resin hardened | cured by irradiation of ionizing radiation, such as a heat | fever or an ultraviolet-ray and an electron beam, is mentioned. As a cured resin, thermosetting resin and ionizing radiation cured resin are mentioned, for example. Among them, ionizing radiation curable resins are preferred. This is because the surface hardness of the low refractive index layer can be increased. Further, as the ionizing radiation curable resin, for example, an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin can be used. Among them, UV curable resins are preferred.
具体的に、樹脂およびバインダー樹脂としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報、特開２００９−８６３６０号公報、特開２００８−９３４７号公報等に記載されている低屈折率層に用いられるものを挙げることができる。
樹脂およびバインダー樹脂は、フッ素を含有するフッ素系樹脂であってもよい。低屈折率層に防汚性を付与することができるからである。また、屈折率を低くすることができる。また、フッ素系樹脂は、ケイ素を含有していてもよい。
また、低屈折率層は、防汚剤を含有していてもよい。防汚剤としては、フッ素系化合物またはケイ素系化合物等を用いることができる。具体的に、防汚剤としては、特開２０１２−１５０２２６号公報等に記載されているものを挙げることができる。
Specifically, as the resin and the binder resin, JP-A-2013-142817, JP-A-2012-150226, JP-A-2011-170208, JP-A-2009-86360, JP-A-2008-9347 are disclosed. What is used for the low refractive index layer described in etc. can be mentioned.
The resin and the binder resin may be a fluorine-based resin containing fluorine. This is because antifouling properties can be imparted to the low refractive index layer. Further, the refractive index can be lowered. Moreover, the fluorine resin may contain silicon.
The low refractive index layer may contain an antifouling agent. As the antifouling agent, a fluorine-based compound or a silicon-based compound can be used. Specifically, examples of the antifouling agent include those described in JP2012-150226A.
低屈折率微粒子としては、バインダー樹脂よりも屈折率が低く、上記の屈折率を満たす低屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、無機系、有機系のいずれも用いることができる。中でも、屈折率が低いことから、中空粒子や多孔質粒子が好ましく用いられる。中空粒子および多孔質粒子としては、例えば、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、多孔質ポリマー粒子、中空ポリマー粒子が挙げられる。 The low refractive index fine particles are not particularly limited as long as they can obtain a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the binder resin and satisfying the above refractive index, and inorganic or organic Either can be used. Among them, hollow particles and porous particles are preferably used because the refractive index is low. The hollow particles and the porous particles include, for example, porous silica particles, hollow silica particles, porous polymer particles, and hollow polymer particles.
また、低屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。低屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、低屈折率微粒子の分散が均一となり、低屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、低屈折率層の透明性の低下や、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布性、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された低屈折率微粒子としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２００８−９３４８号公報に記載されているものを挙げることができる。
Further, the low refractive index fine particles may be subjected to a surface treatment. By surface-treating the low refractive index fine particles, the affinity with the binder resin and the solvent is improved, the dispersion of the low refractive index fine particles becomes uniform, and the aggregation of the low refractive index fine particles becomes difficult to occur. It is possible to suppress the reduction in the transparency of the layer, the coatability of the curable resin composition for the low refractive index layer, and the reduction in the coating film strength of the curable resin composition for the low refractive index layer.
Examples of the surface-treated low refractive index fine particles include those described in JP2013-142817A and JP2008-9348A.
また、低屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。 The low refractive index fine particles may be reactive fine particles having a photocurable group on the surface thereof.
具体的に、低屈折率微粒子としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報、特開２００９−８６３６０号公報、特開２００８−９３４７号公報等に記載されている低屈折率層に用いられるものを挙げることができる。 Specifically, as low refractive index fine particles, JP-A-2013-142817, JP-A-2012-150226, JP-A-2011-170208, JP-A-2009-86360, JP-A-2008-9347 are disclosed. What is used for the low refractive index layer described in etc. can be mentioned.
低屈折率微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する低屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な低屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また低屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、低屈折率微粒子の平均粒径は、低屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
The average particle diameter of the low refractive index fine particles may be such that it can form a low refractive index layer having a uniform thickness, for example, preferably in the range of 5 nm to 200 nm, and more preferably in the range of 5 nm to 100 nm In particular, it is preferably within the range of 10 nm to 80 nm. If the average particle diameter of the low refractive index fine particles is in the above range, the good dispersion state of the low refractive index fine particles can be obtained without deteriorating the transparency of the low refractive index layer. In addition, as long as the average particle diameter of the low refractive index fine particles is within the above range, the average particle diameter may be any of the primary particle diameter and the secondary particle diameter, and the low refractive index fine particles are connected in a chain. May be.
Here, the average particle diameter of the low refractive index fine particles refers to the average value of 20 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of the cross section of the low refractive index layer.
低屈折率微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。 The shape of the low refractive index fine particles is not particularly limited, and examples thereof include spheres, chains, and needles.
低屈折率層におけるバインダー樹脂および低屈折率微粒子の含有量としては、低屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜調整される。 The content of the binder resin and the low refractive index fine particles in the low refractive index layer is appropriately adjusted so that the refractive index of the entire low refractive index layer satisfies the above refractive index.
電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、低屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。 When an ultraviolet curable resin is used as the ionizing radiation curable resin, the low refractive index layer may contain a photopolymerization initiator. As a photoinitiator, it can select suitably from a general thing.
低屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば分散助剤、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等が挙げられる。 The low refractive index layer may contain various additives according to desired physical properties. Additives include, for example, dispersion aids, weatherability improvers, wear resistance improvers, polymerization inhibitors, crosslinkers, infrared absorbers, adhesion improvers, antioxidants, leveling agents, thixotropy imparting agents, cups A ring agent, a plasticizer, an antifoamer, a filler etc. are mentioned.
低屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、可視光領域における反射を低減する観点から、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the low refractive index layer varies depending on the refractive index, but is preferably in the range of 50 nm to 200 nm from the viewpoint of reducing reflection in the visible light region.
低屈折率層の形成方法としては、低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、低屈折率層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
As a method of forming the low refractive index layer, a method of applying and curing the curable resin composition for the low refractive index layer may be mentioned.
The method of forming the low refractive index layer is described in “5. Method of manufacturing front plate for display device”, and thus the description thereof is omitted here.
（２）高屈折率層
本発明における高屈折率層は、有機層であり、低屈折率層および中屈折率層よりも屈折率が高いものである。
(2) High Refractive Index Layer The high refractive index layer in the present invention is an organic layer, and has a refractive index higher than that of the low refractive index layer and the medium refractive index layer.
高屈折率層の屈折率としては、低屈折率層および中屈折率層の屈折率よりも高く、ガラス基板の屈折率よりも高ければよい。なお、強化ガラス基板の屈折率は、例えば１．５１である。具体的には、高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７の範囲内であることが好ましい。 The refractive index of the high refractive index layer may be higher than the refractive index of the low refractive index layer and the medium refractive index layer and higher than the refractive index of the glass substrate. The refractive index of the tempered glass substrate is, for example, 1.51. Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.5 to 1.7.
高屈折率層としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する有機層であれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂を含有するものや、バインダー樹脂および高屈折率微粒子を含有するもの等が挙げられる。中でも、屈折率の調整が容易であることから、高屈折率層はバインダー樹脂および高屈折率微粒子を含有することが好ましい。 The high refractive index layer is not particularly limited as long as the organic layer satisfies the above refractive index and has transparency, and includes, for example, a resin, a binder resin, and a high refractive index fine particle. Etc. Among them, the high refractive index layer preferably contains a binder resin and high refractive index fine particles because the refractive index can be easily adjusted.
高屈折率層に用いられるバインダー樹脂としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する高屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。中でも、バインダー樹脂は、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂であることが好ましい。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。高屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。また、電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。 The binder resin used for the high refractive index layer is not particularly limited as long as it can satisfy the above refractive index and can obtain a high refractive index layer having transparency. It is appropriately selected from the viewpoint of strength and the like. Among them, the binder resin is preferably a cured resin cured by irradiation with heat or ionizing radiation such as ultraviolet light and electron beam. As a cured resin, thermosetting resin and ionizing radiation cured resin are mentioned, for example. Among them, ionizing radiation curable resins are preferred. This is because the surface hardness of the high refractive index layer can be increased. Examples of the ionizing radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin. Among them, UV curable resins are preferred.
具体的に、バインダー樹脂としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報等に記載されている高屈折率層に用いられるものを挙げることができる。 Specifically, as the binder resin, those used for the high refractive index layer described in JP 2013-142817 A, JP 2012-150226 A, JP 2011-170208 A etc. may be mentioned. it can.
高屈折率微粒子としては、バインダー樹脂よりも屈折率が高く、上記の屈折率を満たす高屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、中でも高屈折率微粒子の屈折率は１．５〜２．８程度であることが好ましい。
このような高屈折率微粒子としては、例えば金属酸化物微粒子を挙げることができ、具体的には酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、ガリウム亜鉛酸化物（屈折率：１．９０〜２．００）、β−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、γ−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、ＢａＴｉＯ３（屈折率：２．４）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９〜２．０）等が挙げられる。
The high refractive index fine particles are not particularly limited as long as the refractive index is higher than that of the binder resin and a high refractive index layer satisfying the above refractive index can be obtained. The refractive index is preferably about 1.5 to 2.8.
Examples of such high refractive index fine particles include metal oxide fine particles, and specifically, zirconium oxide (ZrO 2 , refractive index: 2.10), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index: 2.04), antimony tin oxide (ATO, refractive index: 1.75 to 1.95), indium tin oxide (ITO, refractive index: 1.95 to 2.00), phosphorus tin compound (PTO, refractive index Ratio: 1.75 to 1.85), gallium zinc oxide (refractive index: 1.90 to 2.00), β-Al 2 O 5 (refractive index: 1.63 to 1.76), γ-Al 2 O 5 (refractive index: 1.63 to 1.76), BaTiO 3 (refractive index: 2.4), titanium oxide (TiO 2 , refractive index: 2.71), cerium oxide (CeO 2 , refractive index: 2.20), tin oxide (SnO 2, refractive index: 2.00), aluminum Um zinc oxide (AZO, refractive index: 1.90 to 2.00), gallium zinc oxide (GZO, refractive index: 1.90 to 2.00), zinc antimonate (ZnSb 2 O 6, refractive index: 1.9 to 2.0).
また、高屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。高屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、高屈折率微粒子の分散が均一となり、高屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、高屈折率層の透明性の低下や、高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布性、高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された高屈折率微粒子としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報に記載されているものを挙げることができる。
The high refractive index fine particles may be surface-treated. By surface-treating the high refractive index fine particles, the affinity with the binder resin and the solvent is improved, the dispersion of the high refractive index fine particles becomes uniform, and the aggregation of the high refractive index fine particles is difficult to occur. It is possible to suppress the reduction in the transparency of the layer, the coatability of the curable resin composition for the high refractive index layer, and the decrease in the coating strength of the curable resin composition for the high refractive index layer.
Examples of the surface-treated high refractive index fine particles include those described in JP2013-142817A.
また、高屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。 The high refractive index fine particles may be reactive fine particles having a photocurable group on the surface thereof.
高屈折率微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する高屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な高屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また高屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、高屈折率微粒子の平均粒径は、高屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
The average particle diameter of the high refractive index fine particles may be such that it can form a high refractive index layer having a uniform thickness, for example, preferably in the range of 5 nm to 200 nm, and more preferably in the range of 5 nm to 100 nm In particular, it is preferably within the range of 10 nm to 80 nm. If the average particle diameter of the high refractive index fine particles is in the above range, the high refractive index fine particles can be dispersed well without impairing the transparency of the high refractive index layer. In addition, as long as the average particle diameter of the high refractive index fine particles is within the above range, the average particle diameter may be any of the primary particle diameter and the secondary particle diameter, and the high refractive index fine particles are connected in a chain. May be.
Here, the average particle diameter of the high refractive index fine particles refers to the average value of 20 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of the cross section of the high refractive index layer.
高屈折率微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。 The shape of the high refractive index fine particles is not particularly limited, and examples thereof include spheres, chains, and needles.
高屈折率層におけるバインダー樹脂および高屈折率微粒子の含有量としては、高屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。 The content of the binder resin and the high refractive index fine particles in the high refractive index layer is appropriately set such that the refractive index of the entire high refractive index layer satisfies the above refractive index.
電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、高屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。また、高屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。なお、光重合開始剤、各種添加剤については、上記高屈折率層と同様とすることができる。 When an ultraviolet curable resin is used as the ionizing radiation curable resin, the high refractive index layer may contain a photopolymerization initiator. Moreover, the high refractive index layer may contain various additives according to desired physical properties. In addition, about a photoinitiator and various additives, it can be made the same as that of the said high refractive index layer.
高屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。高屈折率層の厚みが上記のように薄い場合、高屈折率層に含有されるバインダー樹脂の種類によっては空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合がある。このような場合、密着性の低下が懸念される。これに対し本発明においては、高屈折率層の下に飛散防止層が形成されているため、高屈折率層の厚みが薄くとも密着性を確保することができる。 The thickness of the high refractive index layer varies depending on the refractive index, but is preferably in the range of 50 nm to 200 nm. When the thickness of the high refractive index layer is thin as described above, depending on the type of binder resin contained in the high refractive index layer, oxygen in the air may inhibit the curing reaction. In such a case, there is a concern that adhesion may be reduced. On the other hand, in the present invention, since the anti-scattering layer is formed under the high refractive index layer, the adhesiveness can be ensured even if the thickness of the high refractive index layer is thin.
高屈折率層の形成方法としては、高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、高屈折率層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
As a method of forming the high refractive index layer, a method of applying and curing a curable resin composition for a high refractive index layer may be mentioned.
In addition, about the formation method of a high refractive index layer, since it describes in "5. Manufacturing method of the front plate for display apparatuses", description here is abbreviate | omitted.
（３）中屈折率層
本発明における中屈折率層は、有機層であり、高屈折率層よりも屈折率が低く、低屈折率層よりも屈折率が高いものである。
(3) Middle Refractive Index Layer The middle refractive index layer in the present invention is an organic layer, which has a refractive index lower than that of the high refractive index layer and higher than that of the low refractive index layer.
中屈折率層の屈折率としては、高屈折率層の屈折率よりも低く、低屈折率層の屈折率よりも高ければよい。具体的には、中屈折率層の屈折率は１．４〜１．６の範囲内であることが好ましい。 The refractive index of the middle refractive index layer may be lower than the refractive index of the high refractive index layer and higher than the refractive index of the low refractive index layer. Specifically, the refractive index of the middle refractive index layer is preferably in the range of 1.4 to 1.6.
中屈折率層としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する有機層であれば特に限定されるものではない。具体的には、上記高屈折率層と同様の材料を用いることができる。 The medium refractive index layer is not particularly limited as long as it is an organic layer satisfying the above refractive index and having transparency. Specifically, the same material as that of the high refractive index layer can be used.
中屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、可視光領域における反射を低減する観点から、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the middle refractive index layer varies depending on the refractive index, but is preferably in the range of 50 nm to 200 nm from the viewpoint of reducing the reflection in the visible light region.
中屈折率層の形成方法としては、中屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、中屈折率層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
As a method of forming the middle refractive index layer, a method of applying and curing a curable resin composition for middle refractive index layer may be mentioned.
The method of forming the middle refractive index layer is described in “5. Method of manufacturing front plate for display device”, and thus the description thereof is omitted here.
３．ガラス基板
本発明におけるガラス基板は、飛散防止層、および反射防止層を支持するものである。
3. Glass substrate The glass substrate in this invention supports a scattering prevention layer and an antireflection layer.
ガラス基板に用いられるガラスとしては、例えば、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等を挙げることができる。また、ガラス基板としては、強化ガラス基板を用いることができる。本発明においては、中でも、強化ガラス基板を用いることが好ましい。 Examples of the glass used for the glass substrate include soda glass, quartz glass, and non-alkali glass. Further, as a glass substrate, a tempered glass substrate can be used. In the present invention, among these, it is preferable to use a tempered glass substrate.
ここで、「強化ガラス」とは、ガラスの表面に圧縮応力層が設けられたものである。圧縮応力層は、例えばガラス中のナトリウムをカリウムに置換することにより形成される。このような圧縮応力層がガラスの表面に形成されていることにより、強化ガラス基板に何らかの衝撃が加えられた場合に強化ガラス基板が割れるのを抑制することができる。
圧縮応力層の厚みは特に限定されることはなく、要求特性に応じて適宜設定される。例えば、ガラスにある程度の強度を付与しながら、ガラスの切断性および生産性も確保される必要がある場合、圧縮応力層の厚みは約５μｍ〜１０μｍの範囲内に設定される。また、ガラスにさらに高い強度を付与することが求められる場合、圧縮応力層の厚みは、約１０μｍ〜３５μｍの範囲内に設定されてもよく、３５μｍ以上に設定されてもよい。圧縮応力層の厚みが約１０μｍ〜３５μｍの範囲内である場合は、ガラスはある程度の切断性を有している。一方、圧縮応力層の厚みが３５μｍ以上である場合は、仮にダイヤモンドカッター等の高性能の切断手段が用いられる場合であっても、ガラスを切断することが困難になる。そのため、圧縮応力層の厚みを３５μｍ以上にすることが求められる場合、所望の形状に切り出された後のガラスにイオン交換処理を施すことにより、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されることが好ましい。
このように表面に圧縮応力層が形成されたガラスの例としては、コーニング社のＧｏｒｉｌｌａ Ｇｌａｓｓ（ゴリラガラス）や、旭硝子社のＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（ドラゴントレイル）等が挙げられる。
Here, “tempered glass” is a glass in which a compressive stress layer is provided on the surface of the glass. The compressive stress layer is formed, for example, by replacing sodium in glass with potassium. By forming such a compressive stress layer on the surface of the glass, it is possible to prevent the tempered glass substrate from cracking when an impact is applied to the tempered glass substrate.
The thickness of the compressive stress layer is not particularly limited and is appropriately set according to the required characteristics. For example, when it is necessary to ensure the cutting property and productivity of the glass while imparting a certain degree of strength to the glass, the thickness of the compressive stress layer is set within a range of about 5 μm to 10 μm. In addition, when it is required to impart higher strength to glass, the thickness of the compressive stress layer may be set in the range of about 10 μm to 35 μm, and may be set to 35 μm or more. When the thickness of the compressive stress layer is in the range of about 10 μm to 35 μm, the glass has a certain degree of cuttability. On the other hand, when the thickness of the compressive stress layer is 35 μm or more, it is difficult to cut the glass even if a high-performance cutting means such as a diamond cutter is used. Therefore, when the thickness of the compressive stress layer is required to be 35 μm or more, the compressive stress layer may be formed on the surface of the glass by performing ion exchange treatment on the glass after being cut into a desired shape. preferable.
Examples of the glass having a compressive stress layer formed on the surface as described above include Gorilla Glass (gorilla glass) manufactured by Corning, and Dragontrail (dragon trail) manufactured by Asahi Glass.
強化ガラス基板の材料としては、例えば化学強化ガラスを用いることができ、透明性や耐久性等に応じて適宜選択される。 As a material of the tempered glass substrate, for example, chemically tempered glass can be used, and it is appropriately selected according to the transparency, the durability, and the like.
ガラス基板の厚みとしては、表示装置用前面板として使用可能な程度であればよく、表示装置用前面板に求められる強度や、表示装置用前面板が使用される表示装置の寸法等に応じて適宜設定され、例えば０．１ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲内にすることができる。 The thickness of the glass substrate is not limited as long as it can be used as a front plate for a display device, depending on the strength required of the front plate for a display device, the dimensions of the display device in which the front plate for a display device is used, and the like. It sets suitably, for example, can be in the range of 0.1 mm-1.5 mm.
４．表示装置用前面板
本発明の表示装置用前面板は、図２（ａ）、（ｂ）に例示するような多面付け前面板であってもよい。飛散防止層、および反射防止層はウェットプロセスにより形成可能であることから、大面積であっても安価かつ容易に均一な層を形成することができるので、多面付けが容易である。多面付け前面板の大きさは、特に限定されるものではないが、例えば２２００ｍｍ×２５００ｍｍまでの大きさであれば適用可能である。一方、従来のように表示装置用前面板に飛散防止フィルムを貼り合わせる場合には、上記のような大型の基板には適用が困難である。
4. Front panel for display device The front panel for display device of the present invention may be a multi-faced front panel as exemplified in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Since the anti-scattering layer and the anti-reflection layer can be formed by a wet process, a uniform layer can be easily formed at a low cost even with a large area, so that multi-faceting is easy. The size of the multi-faced front plate is not particularly limited, but any size up to 2200 mm × 2500 mm is applicable. On the other hand, when the anti-scattering film is bonded to the front plate for a display device as in the past, it is difficult to apply to the large substrate as described above.
図４は本発明の表示装置用前面板を備える表示装置の一例を示す概略断面図である。図４に示す表示装置１０においては、表示パネル１１の観察者側に粘着層または接着層１２を介して表示装置用前面板１が貼り合わされている。表示装置用前面板１は、反射防止層４側が観察者側になり、反射防止層４側と反対側が表示パネル１１と対向するように配置されている。なお、表示装置用前面板１は、上述の図１に示すものと同様である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display device including the display device front plate of the present invention. In the
本発明の表示装置用前面板は、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等の表示装置に用いることができる。また、本発明の表示装置用前面板の用途としては、例えばスマートフォン、携帯電話、タブレット端末、ノートパソコン、テレビ、デジタルサイネージ、ウェアラブル端末等を挙げることができる。中でも、飛散防止層および反射防止層はウェットプロセスにより形成可能であることから、大面積であっても安価かつ容易に均一な層を形成することができるので、本発明の表示装置用前面板は大面積の表示装置に好適である。特に、テレビが好ましく、大型テレビがより好ましい。 The front plate for a display device of the present invention can be used, for example, in a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an organic EL display device, an inorganic EL display device, and electronic paper. In addition, examples of applications of the display device front plate of the present invention include a smartphone, a mobile phone, a tablet terminal, a notebook computer, a television, digital signage, a wearable terminal and the like. Among them, since the anti-scattering layer and the anti-reflection layer can be formed by a wet process, even if it has a large area, it is possible to form a uniform layer inexpensively and easily. It is suitable for a display device with a large area. In particular, a television is preferable, and a large television is more preferable.
５．表示装置用前面板の製造方法
本発明の表示装置用前面板の製造方法としては、例えば、ガラス基板上に直に飛散防止層を形成する飛散防止層形成工程と、上記飛散防止層上に直に１層以上の有機層を有する反射防止層を形成する反射防止層形成工程とを有する方法が挙げられる。
5. Manufacturing method of front plate for display device As a manufacturing method of the front plate for display device of the present invention, for example, an anti-scattering layer forming step of directly forming an anti-scattering layer on a glass substrate and an anti-scattering layer directly on the anti-scattering layer. And an antireflective layer forming step of forming an antireflective layer having one or more organic layers.
ここで、「ガラス基板上に直に飛散防止層を形成する」とは、ガラス基板と飛散防止層とが直に接しており、ガラス基板と飛散防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を形成しないことをいう。
また、「飛散防止層上に直に反射防止層を形成する」とは、飛散防止層と反射防止層とが直に接しており、飛散防止層と反射防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を形成しないことをいう。
以下、各工程について説明する。
Here, "to directly form the anti-scattering layer on the glass substrate" means that the glass substrate and the anti-scattering layer are in direct contact with each other, for example, an adhesive layer or an adhesive layer between the glass substrate and the anti-scattering layer. It means not forming a transparent substrate.
In addition, “to form an antireflection layer directly on the anti-scattering layer” means that the anti-scattering layer and the antireflection layer are in direct contact with each other, for example, an adhesive layer or an antireflection layer between the antireflection layer and the antireflection layer. It means not forming an adhesive layer, a transparent substrate or the like.
Each step will be described below.
（１）飛散防止層形成工程
本発明における飛散防止層形成工程は、ガラス基板上に直に飛散防止層を形成する工程である。
飛散防止層の形成方法としては、例えばガラス基板上に直に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて飛散防止層を形成する方法が挙げられる。
(1) Spattering prevention layer formation process The scattering prevention layer formation process in this invention is a process of forming a scattering prevention layer directly on a glass substrate.
Examples of the method for forming the anti-scattering layer include a method in which the anti-scattering layer curable resin composition is applied directly on a glass substrate and cured to form the anti-scattering layer.
飛散防止層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、適宜選択される。 The anti-scattering layer curable resin composition contains, for example, a resin component, various additives, and a solvent. The solvent is not particularly limited as long as each component can be dissolved or dispersed, and is appropriately selected.
塗布方法としては、例えば、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法等のガラス基板の全域に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布する方法や、インクジェット法等のガラス基板上に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を吐出する方法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、シルクスクリーン印刷法等の印刷法等が挙げられる。
飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線または電子線の照射が挙げられる。
The coating method may be, for example, a method of applying a curable resin composition for anti-scattering layer to the whole area of a glass substrate such as die coating method, spin coating method, dip coating method, roll coating method, etc. And a printing method such as a gravure printing method, an offset printing method, a silk screen printing method, and the like.
After the application of the anti-scattering layer curable resin composition, the composition may be dried to remove the solvent.
As a curing method, although it changes according to the kind of resin component, irradiation of a heat | fever, an ultraviolet-ray, or an electron beam is mentioned, for example.
また、表面に凹凸を有する飛散防止層を形成する場合には、例えばガラス基板上に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布し乾燥させた後、塗膜に凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを圧着させた状態で硬化し、凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを剥離する方法や、飛散防止層表面を研磨する方法が挙げられる。 Moreover, when forming the scattering prevention layer which has an unevenness | corrugation on the surface, for example, after apply | coating and drying the curable resin composition for scattering prevention layers on a glass substrate, it is a substrate for unevenness formation or unevenness formation in a coating film. It hardens | hardens in the state which crimped | bonded the roll, and the method of peeling the board | substrate for unevenness formation or the roll for unevenness formation, and the method of grind | polishing the scattering prevention layer surface are mentioned.
また、飛散防止層をガラス基板上に直にパターン状に形成する場合は、例えば上述した飛散防止層用硬化性樹脂組成物を用いて、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、インクジェット法等の印刷法を用いてパターン状に形成してもよい。また例えば、飛散防止層用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン状に形成してもよい。フォトリソグラフィ法については、一般的なパターン状の樹脂層の形成方法に用いられるものと同様とすることができる。 Moreover, when forming a scattering prevention layer in pattern shape directly on a glass substrate, printing methods, such as the screen printing method, the gravure method, the inkjet method, are used, for example using curable resin composition for scattering prevention layers mentioned above. You may form in pattern shape using. For example, you may form in pattern form by the photolithographic method using the photosensitive resin composition for scattering prevention layers. The photolithography method can be the same as that used in a general method for forming a patterned resin layer.
なお、飛散防止層のその他の点については、上記「１．飛散防止層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。 In addition, about the other point of a scattering prevention layer, since it described in said "1. scattering prevention layer" in detail, description here is abbreviate | omitted.
（２）反射防止層形成工程
本発明における反射防止層形成工程は、飛散防止層上に直に、１層以上の有機層を有する反射防止層を形成する工程である。本発明においては、有機層のみを有する反射防止層を形成することが好ましい。
(2) Step of Forming Antireflection Layer The step of forming an antireflection layer in the present invention is a step of directly forming an antireflection layer having one or more organic layers on the scattering prevention layer. In the present invention, it is preferable to form an antireflection layer having only an organic layer.
反射防止層形成工程としては、例えば、飛散防止層上に直に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程を有する工程や、飛散防止層上に直に高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、高屈折率層上に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有する工程、飛散防止層上に直に中屈折率層を形成する中屈折率層形成工程と、中屈折率層上に高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、高屈折率層上に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有する工程、飛散防止層上に直に高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、高屈折率層上に中屈折率層を形成する中屈折率層形成工程と、中屈折率層上に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有する工程等とすることができる。
以下、反射防止層形成工程における各工程について説明する。
As the antireflective layer forming step, for example, a step having a low refractive index layer forming step of forming a low refractive index layer directly on the antiscattering layer, or a high refractive index layer directly forming on the antiscattering layer A step of forming a refractive index layer and a step of forming a low refractive index layer forming a low refractive index layer on the high refractive index layer, forming a middle refractive index layer directly forming a middle refractive index layer on the anti-scattering layer A step of forming the high refractive index layer on the middle refractive index layer, and a low refractive index layer forming the low refractive index layer on the high refractive index layer Forming a high refractive index layer directly on the layer, forming a middle refractive index layer on the high refractive index layer, and forming a low refractive index on the middle refractive index layer It can be a process including the low refractive index layer forming process of forming a layer.
Hereinafter, each step in the antireflection layer forming step will be described.
（ａ）低屈折率層形成工程
低屈折率層の形成方法としては、例えば低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて低屈折率層を形成する方法が挙げられる。
(A) Low-refractive-index layer formation process As a formation method of a low-refractive-index layer, the method of apply | coating and hardening curable resin composition for low-refractive-index layers, for example is mentioned, and the low refractive index layer is formed.
低屈折率層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と低屈折率微粒子と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報、特開２００９−８６３６０号公報、特開２００８−９３４７号公報等に記載されている低屈折率層の形成に用いられるものを挙げることができる。 The curable resin composition for a low refractive index layer contains, for example, a resin component, low refractive index fine particles, various additives, and a solvent. The solvent is not particularly limited as long as each component can be dissolved or dispersed, and, for example, JP-A-2013-142817, JP-A-2012-150226, and JP-A-2011-170208. What is used for formation of the low refractive index layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-86360, 2008-9347 grade | etc., Can be mentioned.
塗布方法としては、飛散防止層の形成方法と同様とすることができる。
低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
The coating method can be the same as the method for forming the scattering prevention layer.
After application of the low refractive index layer curable resin composition, it may be dried to remove the solvent.
硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線や電子線等の電離放射線の照射が挙げられる。硬化条件としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報等に記載されている条件を適用することができる。また、塗膜を硬化させる際には、酸素による硬化阻害を抑制するために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気とすることが好ましい。いわゆる、窒素パージを行うことで、低屈折率層の耐擦傷性を高めることができる。 As a curing method, although it changes according to the kind of resin component, irradiation of ionizing radiation, such as heat or an ultraviolet-ray and an electron beam, is mentioned, for example. As the curing conditions, for example, the conditions described in JP-A-2013-142817, JP-A-2012-150226 and the like can be applied. Moreover, when hardening a coating film, in order to suppress the hardening inhibition by oxygen, it is preferable to set it as inert gas atmosphere, for example, nitrogen gas atmosphere. By performing so-called nitrogen purge, the scratch resistance of the low refractive index layer can be enhanced.
また、電離放射線の照射後に、耐擦傷性や硬度を高めるために、加熱を行ってもよい。加熱温度としては、例えば５０℃〜２３０℃の範囲内とすることができる。 In addition, heating may be performed after ionizing radiation irradiation in order to increase the scratch resistance and hardness. The heating temperature can be, for example, in the range of 50 ° C to 230 ° C.
なお、低屈折率層のその他の点については、上記「２．反射防止層 （１）低屈折率層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。 The other points of the low refractive index layer are described in detail in the above-mentioned "2. Antireflection layer (1) Low refractive index layer", so the description thereof is omitted here.
（ｂ）高屈折率層形成工程
高屈折率層の形成方法としては、例えば高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて高屈折率層を形成する方法が挙げられる。
(B) High refractive index layer formation process As a formation method of a high refractive index layer, the method of apply | coating the curable resin composition for high refractive index layers, making it harden | cure, and forming a high refractive index layer is mentioned, for example.
高屈折率層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と高屈折率微粒子と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報等に記載されている高屈折率層の形成に用いられるものを挙げることができる。 The curable resin composition for a high refractive index layer contains, for example, a resin component, high refractive index fine particles, various additives, and a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse each component, and, for example, JP-A-2013-142817, JP-A-2012-150226, JP-A-2011-170208, etc. What is used for formation of the high refractive index layer described in can be mentioned.
高屈折率層の形成方法は、上記低屈折率層の形成方法と同様とすることができる。 The method of forming the high refractive index layer can be the same as the method of forming the low refractive index layer.
飛散防止層上に高屈折率層を形成する場合には、飛散防止層形成工程および高屈折率層形成工程では、飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗膜上に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布した後、飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗膜および高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させてもよい。すなわち、飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗膜が未硬化または半硬化の状態で高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布してもよい。この場合、密着性が良好な飛散防止層および高屈折率層を得ることができる。
このような場合において、飛散防止層の屈折率は、高屈折率層の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば高屈折率層の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内であることが好ましい。
When a high refractive index layer is formed on the anti-scattering layer, the high refractive index layer is cured on the coating of the anti-scattering layer curable resin composition in the anti-scattering layer forming step and the high refractive index layer forming step. After applying the conductive resin composition, the coating film of the curable resin composition for the shatterproof layer and the coating film of the curable resin composition for the high refractive index layer may be cured. That is, the curable resin composition for the high refractive index layer may be applied in a state where the coating film of the curable resin composition for the shatterproof layer is uncured or semi-cured. In this case, a shatterproof layer and a high refractive index layer having good adhesion can be obtained.
In such a case, the refractive index of the scattering prevention layer preferably has a small difference from the refractive index of the high refractive index layer, for example, the difference from the refractive index of the high refractive index layer is within 0.03, and particularly preferably 0. It is preferably within 015.
なお、高屈折率層のその他の点については、上記「２．反射防止層 （２）高屈折率層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。 The other points of the high refractive index layer are described in detail in the above-mentioned "2. Antireflection layer (2) High refractive index layer", and therefore the description thereof is omitted here.
（ｃ）中屈折率層形成工程
中屈折率層の形成方法としては、例えば中屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて中屈折率層を形成する方法が挙げられる。
中屈折率層用硬化性樹脂組成物としては、上記の高屈折率層用硬化性樹脂組成物と同様とすることができる。
また、中屈折率層の形成方法は、上記低屈折率層の形成方法と同様とすることができる。
なお、中屈折率層のその他の点については、上記「２．反射防止層 （３）中屈折率層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
(C) Middle Refractive Index Layer Forming Step As a method for forming the middle refractive index layer, for example, a method of applying a curable resin composition for the middle refractive index layer and curing it to form a middle refractive index layer can be mentioned.
The curable resin composition for the middle refractive index layer can be the same as the curable resin composition for the high refractive index layer described above.
In addition, the method of forming the medium refractive index layer can be the same as the method of forming the low refractive index layer.
The other points of the middle refractive index layer are described in detail in the above “2. Antireflection layer (3) Middle refractive index layer”, and therefore the description thereof is omitted here.
（ｄ）その他
本発明においては、飛散防止層上に直に上述の反射防止層を形成することができれば特に限定されないが、例えば、飛散防止層が、ガラス基板上に直にパターン状に形成されている場合は、通常、反射防止層は、飛散防止層上およびガラス基板上に直に形成される。具体的には、上述した低屈折率層用硬化性樹脂組成物、高屈折率層用硬化性樹脂組成物、中屈折率層用硬化性樹脂組成物等を飛散防止層が形成されたガラス基板上に直に塗布し、硬化させることにより、反射防止層を形成することができる。
本発明における反射防止層は、飛散防止層に比べて薄いことから、多面付け基板である場合は、切断部分においてガラス基板上に直に反射防止層が形成されている場合も、切断することができる。
(D) Others In the present invention, it is not particularly limited as long as the above-mentioned antireflection layer can be formed directly on the anti-scattering layer, but for example, the anti-scattering layer is directly formed in a pattern on the glass substrate If so, the antireflective layer is usually formed directly on the anti-scatter layer and on the glass substrate. Specifically, the glass substrate on which the anti-scattering layer is formed of the above-described curable resin composition for low refractive index layer, curable resin composition for high refractive index layer, curable resin composition for medium refractive index layer, etc. The antireflective layer can be formed by applying it directly on top and curing it.
Since the antireflection layer in the present invention is thinner than the scattering prevention layer, when it is a multi-sided substrate, it can be cut even when the antireflection layer is formed directly on the glass substrate at the cut portion. it can.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has the substantially same constitution as the technical idea described in the claims of the present invention, and the same effects can be exhibited by any invention. It is included in the technical scope of
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
[参考例１〜２、実施例１〜５]
（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２′-アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
[Reference Examples 1-2, Examples 1-5]
(Preparation of curable resin composition A)
In a polymerization tank, 63 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by weight of acrylic acid (AA), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) After stirring and dissolving, 7 parts by weight of 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and uniformly dissolved. Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour. Further, 7 parts by weight of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by weight of triethylamine, and 0.2 parts by weight of hydroquinone are added to the obtained solution, and the mixture is stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.
次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Ａとした。
＜硬化性樹脂組成物Ａの組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）：１６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）：２４重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０）：４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン：４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：５２重量部
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to obtain a curable resin composition A.
<Composition of curable resin composition A>
-Copolymer resin solution (solid content 50%): 16 parts by weight-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight- Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Epicoat 180S70): 4 weights Part: 2-Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight Diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight
（飛散防止層の形成）
厚み０．７ｍｍの強化ガラス基板（旭硝子（株） Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ）上に、上記硬化性樹脂組成物Ａを塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像し、その後、１８０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理して、厚さ２μｍ〜５０μｍの飛散防止層を形成した。
(Formation of anti-scattering layer)
The curable resin composition A is applied on a tempered glass substrate (Asahi Glass Co., Ltd. Dragontrail) with a thickness of 0.7 mm, exposed through a photomask, developed, and then developed for 30 minutes in an atmosphere of 180 ° C. It was heat-treated by being left to form an anti-scattering layer having a thickness of 2 μm to 50 μm.
（反射防止層の形成）
反射防止層には下記の材料を用いた。
高屈折率層材 ：ＫＺ６６６１（ＪＳＲ社製、ｎ＝１．６０）
低屈折率層材 ：ＴＵ２２０５（ＪＳＲ社製、ｎ＝１．３５）
飛散防止層が形成された強化ガラス基板上にＪＳＲ社製のＫＺ６６６１をスピンコーティングし、窒素雰囲気下で露光照度３０ｍＷの高圧水銀ランプを用いて３０秒間露光し、２３０℃で２０分間熱処理して、厚さ１５０ｎｍの高屈折率層を形成した。続いて、ＪＳＲ社製のＴＵ２２０５を用いて、高屈折率層の形成と同様の工程で、高屈折率層上に厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、表示装置用前面板を得た。
(Formation of antireflection layer)
The following materials were used for the antireflection layer.
High refractive index layer material: KZ6661 (manufactured by JSR, n = 1.60)
Low refractive index layer material: TU2205 (manufactured by JSR, n = 1.35)
KZ6661 manufactured by JSR Corporation is spin-coated on a strengthened glass substrate on which a scattering prevention layer is formed, exposed for 30 seconds using a high pressure mercury lamp with exposure illuminance of 30 mW under a nitrogen atmosphere, and heat treated at 230 ° C. for 20 minutes. A high refractive index layer having a thickness of 150 nm was formed. Subsequently, a low refractive index layer with a thickness of 100 nm was formed on the high refractive index layer in the same step as the formation of the high refractive index layer, using TU2205 manufactured by JSR Corporation, to obtain a front plate for a display device .
[比較例]
飛散防止層を形成しないこと以外は、上記参考例１〜２、および実施例１〜５と同様にして、反射防止層を形成した。
[Comparative example]
An antireflection layer was formed in the same manner as in Reference Examples 1 and 2 and Examples 1 to 5 except that no scattering prevention layer was formed.
［評価］
土台の上に強化ガラス基板表面を下にして置き、高さ５０ｃｍから金属球を落下させ、飛散の有無を確認した。各サンプルについて同条件で５回、評価を行った。結果を表１に示す。
[Evaluation]
The surface of the tempered glass substrate was placed down on the base, and a metal ball was dropped from a height of 50 cm to confirm the presence or absence of scattering. Each sample was evaluated five times under the same conditions. The results are shown in Table 1.
◎：５回目の試験後も強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかった。
○：５回目の試験後、強化ガラス基板については破損（亀裂）が観察されたが、飛散を生じなかった。
△：１回目の試験後においては、強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかったが、２回目〜５回目の試験後に、強化ガラス基板の破損および飛散が観察された。
×：１回目の試験後に強化ガラス基板が破損して、飛散が生じた。
◎: The tempered glass substrate was not damaged even after the fifth test, and no scattering occurred.
○: After the fifth test, breakage (crack) was observed for the tempered glass substrate, but no scattering occurred.
Δ: The tempered glass substrate was not broken and shattered after the first test, but breakage and shattering of the tempered glass substrate were observed after the second to fifth tests.
X: The tempered glass substrate was damaged after the first test, and scattering occurred.
実施例１においては、１回目の試験後においては、強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかったが、２回目の試験後に強化ガラス基板の破損および飛散が観察された。また、実施例２においては、１〜４回目の試験後においては、強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかったが、５回目の試験後に強化ガラス基板の破損および飛散が観察された。 In Example 1, after the first test, the tempered glass substrate was not broken and scattering did not occur, but breakage and scattering of the tempered glass substrate were observed after the second test. Further, in Example 2, after the first to fourth tests, the tempered glass substrate was not broken and scattering did not occur, but breakage and scattering of the tempered glass substrate were observed after the fifth test. .
実施例１〜５、比較例に示すように、飛散防止層を形成した場合は、飛散防止機能を付与することが確認できた。
また、参考例１〜２に示すように、飛散防止層の厚みが薄い場合は、強化ガラス基板に追従して破損され、十分に飛散防止機能を発揮することが困難な場合があることが確認された。
As shown in Examples 1 to 5 and Comparative Example, it was confirmed that the anti-scattering function was imparted when the anti-scattering layer was formed.
In addition, as shown in Reference Examples 1 and 2, when the thickness of the scattering prevention layer is thin, it is damaged following the tempered glass substrate, and it is confirmed that it may be difficult to sufficiently exhibit the scattering prevention function. It was done.
１ … 表示装置用前面板
２ … ガラス基板
３ … 飛散防止層
４ … 反射防止層
５ … 高屈折率層
６ … 低屈折率層
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記ガラス基板上に直に形成された飛散防止層と、
前記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層と、
を有する表示装置用前面板が複数個形成されてなる表示装置用前面板の多面付け基板であって、
前記飛散防止層に用いられる樹脂が、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、およびメラミンアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種のアクリル樹脂であり、
前記飛散防止層が、前記ガラス基板上に直にパターン状に形成されており、
前記多面付基板における切断部分には飛散防止層が形成されていないことを特徴とする表示装置用前面板の多面付け基板。 A glass substrate;
An anti-scattering layer formed directly on the glass substrate;
An antireflection layer formed directly on the anti-scattering layer and having one or more organic layers;
A multi-faced substrate for a display front plate in which a plurality of display front plates having a plurality of
The resin used for the anti-scattering layer is at least one acrylic resin selected from the group consisting of urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyol acrylate, polyether acrylate, and melamine acrylate,
The scattering prevention layer is directly formed in a pattern on the glass substrate,
An anti-scattering layer is not formed on a cut portion of the multi-faced substrate, and the multi-faced substrate for a display front plate is characterized in that
前記飛散防止層の厚みが、１５μｍ〜１５０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用前面板の多面付け基板。 The glass substrate is a tempered glass substrate having a plate thickness in the range of 0.1 mm to 1.5 mm,
The thickness of the said scattering prevention layer exists in the range of 15 micrometers-150 micrometers, The polyhedral substrate of the front plate for display apparatuses of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
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