JP6546992B2 - Release processing method, method of manufacturing antireflective film, and release processing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、離型処理方法、反射防止膜の製造方法および離型処理装置に関する。ここでいう「型」は、種々の加工方法(スタンピングやキャスティング)に用いられる型を包含し、スタンパということもある。また、印刷(ナノプリントを含む)にも用いられ得る。 The present invention relates to a mold release treatment method, a method of manufacturing an antireflective film, and a mold release treatment apparatus. The term "mold" as used herein includes molds used for various processing methods (stamping and casting), and may be referred to as a stamper. It can also be used for printing (including nanoprinting).
テレビや携帯電話などに用いられる表示装置やカメラレンズなどの光学素子には、通常、表面反射を低減して光の透過量を高めるために反射防止技術が施されている。例えば、空気とガラスとの界面に光が入射する場合のように屈折率が異なる媒体の界面を光が通過する場合、フレネル反射などによって光の透過量が低減し、視認性が低下するからである。 2. Description of the Related Art In general, optical elements such as display devices and camera lenses used in TVs and mobile phones are subjected to anti-reflection technology in order to reduce surface reflection and increase the amount of light transmission. For example, when light passes through an interface between media having different refractive indices as in the case where light is incident on the interface between air and glass, the amount of light transmission is reduced due to Fresnel reflection or the like, and the visibility is reduced. is there.
近年、反射防止技術として、凹凸の周期が可視光の波長(λ=380nm〜780nm)以下に制御された微細な凹凸パターンを基板表面に形成する方法が注目されている(特許文献1から4を参照)。反射防止機能を発現する凹凸パターンを構成する凸部の2次元的な大きさは10nm以上500nm未満である。 In recent years, a method of forming on a substrate surface a fine uneven pattern in which the period of unevenness is controlled to the wavelength of visible light (λ = 380 nm to 780 nm) or less is attracting attention as an anti-reflection technique (Patent Documents 1 to 4) reference). The two-dimensional size of the convex part which comprises the uneven | corrugated pattern which expresses a reflection preventing function is 10 nm or more and less than 500 nm.
この方法は、いわゆるモスアイ(Motheye、蛾の目)構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を凹凸の深さ方向に沿って入射媒体の屈折率から基板の屈折率まで連続的に変化させることによって反射を防止したい波長域の反射を抑えている。 This method utilizes the principle of so-called moth eye (Motheye) structure, and the refractive index for light incident on the substrate, the refractive index of the incident medium along the depth direction of the asperity, and the refractive index of the substrate By continuously changing up to the point, the reflection in the wavelength range where the reflection is desired to be prevented is suppressed.
モスアイ構造は、広い波長域にわたって入射角依存性の小さい反射防止作用を発揮できるほか、多くの材料に適用でき、凹凸パターンを基板に直接形成できるなどの利点を有している。その結果、低コストで高性能の反射防止膜(または反射防止表面)を提供できる。 The moth-eye structure can exhibit an antireflection effect with small incident angle dependency over a wide wavelength range, and can be applied to many materials, and has advantages such as being able to form a concavo-convex pattern directly on a substrate. As a result, a low cost and high performance antireflective film (or antireflective surface) can be provided.
モスアイ構造の製造方法として、アルミニウムを陽極酸化することによって得られる陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いる方法が注目されている(特許文献2から4)。 As a method for producing a moth-eye structure, a method using an anodized porous alumina layer obtained by anodizing aluminum has attracted attention (Patent Documents 2 to 4).
ここで、アルミニウムを陽極酸化することによって得られる陽極酸化ポーラスアルミナ層について簡単に説明する。従来から、陽極酸化を利用した多孔質構造体の製造方法は、規則正しく配列されたナノオーダーの円柱状の細孔(微細な凹部)を形成できる簡易な方法として注目されてきた。硫酸、蓚酸、または燐酸等の酸性電解液またはアルカリ性電解液中に基材を浸漬し、これを陽極として電圧を印加すると、基材の表面で酸化と溶解が同時に進行し、その表面に細孔を有する酸化膜を形成することができる。この円柱状の細孔は、酸化膜に対して垂直に配向し、一定の条件下(電圧、電解液の種類、温度等)では自己組織的な規則性を示すため、各種機能材料への応用が期待されている。 Here, the anodized porous alumina layer obtained by anodizing aluminum will be briefly described. Heretofore, a method for producing a porous structure utilizing anodization has attracted attention as a simple method capable of forming regularly arranged nano-order cylindrical pores (fine recesses). When the substrate is immersed in an acidic electrolytic solution such as sulfuric acid, oxalic acid or phosphoric acid or alkaline electrolytic solution and a voltage is applied with this as the anode, oxidation and dissolution proceed simultaneously on the surface of the substrate, and pores on the surface Can be formed. The cylindrical pores are oriented perpendicularly to the oxide film, and exhibit self-organizing regularity under certain conditions (such as voltage, type of electrolyte, temperature, etc.), so application to various functional materials Is expected.
特定の条件下で形成されたポーラスアルミナ層は、膜面に垂直な方向から見たときに、ほぼ正六角形のセルが二次元的に最も高密度で充填された配列をとっている。それぞれのセルはその中央に細孔を有しており、細孔の配列は周期性を有している。セルは局所的な皮膜の溶解および成長の結果形成されるものであり、バリア層と呼ばれる細孔底部で、皮膜の溶解と成長とが同時に進行する。このとき、セルのサイズすなわち、隣接する細孔の間隔(中心間距離)は、バリア層の厚さのほぼ2倍に相当し、陽極酸化時の電圧にほぼ比例することが知られている。また、細孔の直径は、電解液の種類、濃度、温度等に依存するものの、通常、セルのサイズ(膜面に垂直な方向からみたときのセルの最長対角線の長さ)の1/3程度であることが知られている。このようなポーラスアルミナの細孔は、特定の条件下では高い規則性を有する(周期性を有する)配列、また、条件によってはある程度規則性の乱れた配列、あるいは不規則(周期性を有しない)な配列を形成する。 The porous alumina layer formed under the specific conditions takes an arrangement in which almost regular hexagonal cells are two-dimensionally and densely packed when viewed from the direction perpendicular to the film surface. Each cell has a pore at its center, and the arrangement of pores has a periodicity. The cells are formed as a result of local dissolution and growth of the film, and dissolution and growth of the film proceed simultaneously at the bottom of the pores called barrier layer. At this time, it is known that the cell size, that is, the distance between adjacent pores (center-to-center distance) corresponds to approximately twice the thickness of the barrier layer, and is approximately proportional to the voltage during anodic oxidation. In addition, although the diameter of the pore depends on the type, concentration, temperature, etc. of the electrolyte, it is usually 1/3 of the size of the cell (the length of the longest diagonal of the cell when viewed from the direction perpendicular to the film surface). It is known to be a degree. The pores of such porous alumina are highly ordered (having periodicity) arrangement under certain conditions, and, to some extent, irregularly ordered arrangement or irregular (less periodicity depending on conditions). Form an array.
特許文献2は、陽極酸化ポーラスアルミナ膜を表面に有するスタンパを用いて、反射防止膜(反射防止表面)を形成する方法を開示している。 Patent Document 2 discloses a method of forming an antireflective film (antireflective surface) using a stamper having an anodized porous alumina film on the surface.
また、特許文献3に、アルミニウムの陽極酸化と孔径拡大処理を繰り返すことによって、連続的に細孔径が変化するテーパー形状の凹部を形成する技術が開示されている。 Further, Patent Document 3 discloses a technique for forming a tapered concave portion in which the pore diameter changes continuously by repeating the anodic oxidation of aluminum and the hole diameter enlargement process.
本出願人は、特許文献4に、微細な凹部が階段状の側面を有するアルミナ層を用いて反射防止膜を形成する技術を開示している。 The applicant of the present application has disclosed, in Patent Document 4, a technique of forming an antireflective film using an alumina layer in which fine recesses have stepped side surfaces.
また、特許文献1、2および4に記載されているように、モスアイ構造(ミクロ構造)に加えて、モスアイ構造よりも大きな凹凸構造(マクロ構造)を設けることによって、反射防止膜(反射防止表面)にアンチグレア(防眩)機能を付与することができる。アンチグレア機能を発揮する凹凸を構成する凸部の2次元的な大きさは1μm以上100μm未満である。特許文献1、2および4の開示内容の全てを参考のために本明細書に援用する。 Further, as described in Patent Documents 1, 2 and 4, in addition to the moth-eye structure (micro structure), an anti-reflection film (anti-reflection surface) is provided by providing a concavo-convex structure (macro structure) larger than the moth-eye structure. ) Can be provided with an antiglare (antiglare) function. The two-dimensional size of the convex part which comprises the unevenness | corrugation which exhibits an anti-glare function is one to 100 micrometer. The entire disclosures of Patent Documents 1, 2 and 4 are incorporated herein by reference.
陽極酸化ポーラスアルミナ膜を利用することによって、モスアイ構造を表面に形成するための型(以下、「モスアイ用型」という。)を容易に製造することができる。特に、特許文献2および4に記載されているように、アルミニウムの陽極酸化膜の表面をそのまま型として利用すると、製造コストを低減する効果が大きい。モスアイ構造を形成することができるモスアイ用型の表面の構造を「反転されたモスアイ構造」ということにする。 By using the anodized porous alumina film, it is possible to easily manufacture a mold for forming a moth-eye structure on the surface (hereinafter, referred to as “moth-eye mold”). In particular, as described in Patent Documents 2 and 4, when the surface of the anodic oxide film of aluminum is used as it is as a mold, the effect of reducing the manufacturing cost is large. The structure of the surface of the moth-eye mold capable of forming a moth-eye structure is referred to as "inverted moth-eye structure".
モスアイ用型を用いた反射防止膜の製造方法としては、光硬化性樹脂を用いる方法が知られている。まず、基板上に光硬化性樹脂を付与する。続いて、離型処理を施したモスアイ用型の凹凸表面を真空中で光硬化性樹脂に押圧することにより、モスアイ用型の表面の凹凸構造中に光硬化性樹脂が充填される。続いて、凹凸構造中の光硬化性樹脂に紫外線を照射し、光硬化性樹脂を硬化する。その後、基板からモスアイ用型を分離することによって、モスアイ用型の凹凸構造が転写された光硬化性樹脂の硬化物層が基板の表面に形成される。光硬化性樹脂を用いた反射防止膜の製造方法は、例えば特許文献4に記載されている。 As a method for producing an antireflective film using a moth-eye mold, a method using a photocurable resin is known. First, a photocurable resin is applied on a substrate. Subsequently, the concavo-convex structure of the surface of the moth-eye mold is filled with the photo-curable resin by pressing the concavo-convex surface of the moth-eye mold which has been subjected to the mold release treatment against the photocurable resin in vacuum. Subsequently, the photocurable resin in the concavo-convex structure is irradiated with ultraviolet light to cure the photocurable resin. Thereafter, by separating the moth-eye mold from the substrate, a cured product layer of the photocurable resin to which the uneven structure of the moth-eye mold has been transferred is formed on the surface of the substrate. A method for producing an antireflective film using a photocurable resin is described, for example, in Patent Document 4.
本出願人は、ロール状のモスアイ用型を用いて、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を効率良く製造する方法を開発している(例えば特許文献5)。特許文献5は、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面に、むらの無いように離型剤を付与することができる離型処理方法を開示している。特許文献5の開示内容の全てを参考のために本明細書に援用する。 The applicant has developed a method for efficiently manufacturing an antireflective film by a roll-to-roll method using a roll-shaped moth-eye mold (for example, Patent Document 5). Patent Document 5 discloses a mold release treatment method capable of applying a mold release agent to the surface of a mold having a porous alumina layer on the surface without unevenness. The entire disclosure of Patent Document 5 is incorporated herein by reference.
しかしながら、本発明者が、モスアイ用型に離型処理を行ったところ、モスアイ用型の表面にむらが生じることがあった。むらは、特許文献5の離型処理方法で離型剤を付与してもなお生じる場合があった。本発明者の検討によると、離型剤をモスアイ用型の表面に付与した後、離型剤を乾燥させる工程でむらが生じることが分かった。詳細は、後述する。 However, when the present inventor performed a mold release treatment on the moth-eye mold, unevenness sometimes occurred on the surface of the moth-eye mold. Even in the case where the mold release agent is applied by the mold release treatment method of Patent Document 5, unevenness may still occur. According to the study of the inventor of the present invention, it was found that unevenness is generated in the step of drying the release agent after applying the release agent to the surface of the moth-eye mold. Details will be described later.
この問題は、モスアイ用型に限らず、サブミクロンオーダーの微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を表面に有する型に共通の問題である。 This problem is not limited to the moth-eye mold, and is a common problem in the mold having a porous alumina layer having fine depressions on the submicron order on the surface.
本発明の主な目的は、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理する方法を提供することにある。 The main object of the present invention is to provide a method for releasing the surface of a mold having a porous alumina layer on the surface without unevenness.
本発明の実施形態による離型処理方法は、(a)離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤と、表面にポーラスアルミナ層を有する円筒状または円柱状の型とを用意する工程と、(b)前記型の前記表面に、前記離型剤を付与する工程と、(c)前記工程(b)において付与された前記離型剤を乾燥させる工程であって、前記型の前記表面に対して、前記型の軸に平行な方向に流れる気流を生成させる工程、および、前記型の軸を中心に前記型を回転させる工程を含む乾燥工程とを包含する。 The mold release treatment method according to the embodiment of the present invention comprises (a) a mold release agent containing a fluorine compound having mold release property and a solvent, and a cylindrical or cylindrical mold having a porous alumina layer on the surface. (B) applying the mold release agent to the surface of the mold, and (c) drying the mold release agent applied in the step (b), the mold Generating a flow of air flowing in a direction parallel to the mold axis with respect to the surface of the mold, and drying comprising rotating the mold about the mold axis.
ある実施形態において、前記工程(c)における、前記型の回転速度は、0.5rpm以上10rpm以下である。 In one embodiment, the rotational speed of the mold in the step (c) is 0.5 rpm or more and 10 rpm or less.
ある実施形態において、前記工程(c)における、前記気流の流速は、前記型の軸に垂直な断面における前記型の直径をD(m)とすると、0.05D(m/s)以上0.52D(m/s)以下である。 In one embodiment, the flow rate of the air flow in the step (c) is 0.05 D (m / s) or more, where D (m) is the diameter of the mold in a cross section perpendicular to the mold axis. 52 D (m / s) or less.
ある実施形態において、前記工程(c)における、前記気流を生成させる工程は、前記離型剤に含まれる前記フッ素化合物を溶解する溶剤を含む気体を供給する工程を含む。 In one embodiment, the step of generating the gas flow in the step (c) includes the step of supplying a gas containing a solvent which dissolves the fluorine compound contained in the release agent.
ある実施形態において、前記溶剤を含む気体は、前記離型剤に含まれる前記溶剤と同じ溶剤を含む。 In one embodiment, the gas containing a solvent contains the same solvent as the solvent contained in the release agent.
ある実施形態において、前記ポーラスアルミナ層は、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが50nm以上500nm未満の複数の凹部を有する、反転されたモスアイ構造を表面に有する。 In one embodiment, the porous alumina layer has an inverted moth-eye structure on the surface, which has a plurality of recesses having a two-dimensional size of 50 nm or more and less than 500 nm when viewed in the normal direction of the surface.
本発明の実施形態による反射防止膜の製造方法は、上記のいずれかの離型処理方法によって離型処理が施された型を用意する工程と、被加工物を用意する工程と、前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、前記型から、硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜を剥離する工程とを包含する。 A method of manufacturing an antireflective film according to an embodiment of the present invention comprises the steps of preparing a mold on which a mold release treatment has been performed by any of the above-described mold release treatment methods, preparing a workpiece, and A step of curing the photocurable resin by irradiating the photocurable resin with light in a state in which the photocurable resin is applied to the surface of the workpiece, and photocuring cured from the mold And exfoliating the antireflective film formed of resin.
本発明の実施形態による離型処理装置は、第1開口と第2開口とを有する円筒状のカバーと、円筒状または円柱状の型を、前記カバーの前記第1開口と前記第2開口との間において、前記カバーの軸と略平行に、前記型の軸の周りに回転可能に支持する、回転支持構造体とを有する。 A mold release processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a cylindrical cover having a first opening and a second opening, a cylindrical or cylindrical mold, the first opening and the second opening of the cover, and the like. Between and, substantially parallel to the axis of the cover, rotatably supporting structure rotatably supported about the axis of the mold.
ある実施形態において、前記離型処理装置は、前記第1開口から前記カバーの前記軸に略平行な気流を供給する、気流供給装置をさらに有する。 In one embodiment, the release processing apparatus further includes an air flow supply device which supplies an air flow substantially parallel to the axis of the cover from the first opening.
ある実施形態において、前記気流供給装置は、前記第1開口に設けられたフィルタを有する。 In one embodiment, the air flow supply device has a filter provided in the first opening.
ある実施形態において、前記回転支持構造体は、モータと、前記モータの駆動軸に結合された台座とを有し、前記台座の少なくとも一部は、前記第1開口と前記第2開口との間に位置する。 In one embodiment, the rotary support structure includes a motor and a pedestal coupled to a drive shaft of the motor, at least a portion of the pedestal being between the first opening and the second opening. Located in
本発明の実施形態によると、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。 According to the embodiment of the present invention, the surface of the mold having the porous alumina layer on the surface can be subjected to release treatment without unevenness.
本発明者が、ロール状(例えば円筒状または円柱状)のモスアイ用型に離型処理を行ったところ、モスアイ用型の表面にむらが生じることがあった。本発明者の検討によると、むらは、離型剤をモスアイ用型の表面に付与する工程の後、モスアイ用型の表面に付与された離型剤を乾燥させる工程(「離型剤乾燥工程」ということがある。)において生じていた。以下、詳細を説明する。 When the present inventor performed release processing on a roll-like (for example, cylindrical or cylindrical) moth-eye mold, unevenness sometimes occurred on the surface of the moth-eye mold. According to the study of the present inventor, the unevenness is a step of drying the release agent applied to the surface of the moth-eye mold after the step of applying the release agent to the surface of the moth-eye mold ("release agent drying step It may have occurred in Details will be described below.
図6(a)〜(c)を参照して、従来の離型処理方法を説明する。図6(a)〜(c)は、従来の離型処理方法およびそれに用いられる比較例の離型処理装置90を説明するための模式的な図である。図6(a)は、比較例の離型処理装置90の模式的な図であり、図6(b)は、比較例の離型処理装置90の模式的な断面図であり、図6(c)は、従来の離型処理方法において発生したむらの原因を調べる方法を説明するための模式的な図である。
A conventional mold release processing method will be described with reference to FIGS. 6 (a) to 6 (c). FIGS. 6A to 6C are schematic views for explaining a conventional mold release processing method and a mold
図6(a)に示すように、比較例の離型処理装置90は、第1開口92aと第2開口92bとを有する角筒状のカバー92を有する。比較例の離型処理装置90は、円筒状または円柱状のモスアイ用型100を、型100の長軸方向がカバー92の長軸方向と略平行になるように、カバー92の内側に保持する。モスアイ用型100は、例えば、長軸方向が鉛直方向と略平行となるように立てて配置される。典型的には、モスアイ用型100の長軸方向およびカバー92の長軸方向が、鉛直方向に略一致するように配置される。
As shown to Fig.6 (a), the
離型剤乾燥工程では、モスアイ用型100の、反転されたモスアイ構造を有する表面(すなわち、円筒または円柱の側面)に対して、モスアイ用型100の中心軸に平行な方向に流れる気流105’が供給される。図6(a)に示す例では、カバー92の第1開口92aから第2開口92bに向かって流れる気流105’が供給される。気流105’は、例えば、HEPAフィルタ94を介してカバー92内に送り込まれる。
In the release agent drying step, the
図6(b)は、比較例の離型処理装置90を、鉛直方向から見たときの模式的な断面図である。気流105’は、カバー92とモスアイ用型100との間の領域全体を流れる。図6(b)に示すように、モスアイ用型100の断面(底面)はほぼ円であるのに対し、カバー92の断面(底面)は矩形状である。カバー92の断面は、典型的には、第1開口92aおよび第2開口92bと同じ形状である。例えば、モスアイ用型100の底面は直径300mmの円であり、カバー92の断面は一辺600mmの正方形である。モスアイ用型100は、例えば、厚さ15mmのアルミニウムの円筒から形成され、円筒の長軸方向の長さは1600mmである。
FIG. 6B is a schematic cross-sectional view of the mold
離型剤を付与する工程は、例えば特許文献5に記載の方法および装置を用いる。特許文献5に記載の方法および/または装置によると、離型剤の塗布むらの発生が防止される。すなわち、むらの無いように離型剤を付与することができる。 The step of applying the release agent uses, for example, the method and apparatus described in Patent Document 5. According to the method and / or apparatus described in Patent Document 5, the occurrence of uneven application of the release agent is prevented. That is, the release agent can be applied without unevenness.
比較例の離型処理装置90は、例えば、モスアイ用型100を、軸を中心に回転させるモータ97をさらに有する。特許文献5に記載されているように、離型剤を付与する工程においてモスアイ用型100を回転させてもよい。例えば、離型剤をスプレーコート法によって付与する場合に、モスアイ用型100の長軸方向に移動するスプレーノズルを用いると、モスアイ用型100を、軸を中心に回転させることで、モスアイ用型100の側面全体に離型剤を付与することができる。これに対して、従来の離型処理方法において、離型剤乾燥工程ではモスアイ用型100を回転させない。離型剤乾燥工程では、上述したように、気流105’は、カバー92とモスアイ用型100との間の領域全体を流れる。従って、モスアイ用型100を回転させなくても、気流105’はモスアイ用型100の側面全体に及び得るからである。
The
比較例の離型処理装置90で離型処理(離型剤を付与する工程および離型剤乾燥工程を含む。)を施したロール状のモスアイ用型100の表面には、むら101a、101bが生じることがあった。本発明者の検討によると、むらは、発生する場所によって、主に2種類に大別することができる。本明細書において、むら101aは、モスアイ用型100の側面のうち、長軸方向における端部に主に生じるむらを指す。むら101aは、モスアイ用型100の側面の両端のうち、特に気流105’の下流側の端部、すなわち図6(a)に示す例ではモスアイ用型100の下端100e付近に生じることが多い。むら101bは、モスアイ用型100の側面のうち、長軸方向における中央部分、すなわち、両端部以外の部分に主に生じるむらを指す。むら101aは、筋状であることが多い。図6(a)に示すように、むら101aが生じている範囲102aは、モスアイ用型100の長軸方向において、モスアイ用型100の下端100eから、長さL102aの範囲に及ぶ。比較例の離型処理装置90で離型処理を施したモスアイ用型100において、長さL102aは、例えば200mm以上であり、300mm以上であることもあった。
On the surface of the roll-like moth-
上述したように、離型剤を付与する工程には、特許文献5に記載の方法および装置を用いているので、離型剤の塗布むらの発生は抑制される。すなわち、むら101a、101bは、離型剤を付与する工程で生じたものではないと考えられる。
As described above, since the method and apparatus described in Patent Document 5 are used in the step of applying the release agent, the occurrence of uneven application of the release agent is suppressed. That is, it is considered that the
本発明者は、むら101a、101bが生じた原因を調べるために、比較例の離型処理装置90内での気流105’の流れを、スモークワイヤ法を用いて調べた。図6(c)に示すように、カバー92内に高抵抗の細線(抵抗線)110を設置した。抵抗線110に流動パラフィンを塗布し、電流を流すことで白煙を発生させ、気流105’の流れを可視化する。スモークワイヤ法には、株式会社菅原研究所製のスモークワイヤ発生装置MS−405を用いた。調べた結果、気流105’の流れが乱れている箇所と、むら101a、101bが生じている箇所が一致していた。すなわち、モスアイ用型100の表面(側面)のうち、長軸方向における端部、および、長軸方向における中央部分において、気流105’のむら(不均一性)が生じることがあった。本発明者は、気流105’のむら(不均一性)が、むら101a、101bの発生に寄与していると考え、本発明に想到した。
In order to investigate the cause of the
モスアイ用型100のむら101a、101bは、蛍光灯直下で、目視により、観察することができる。また、モスアイ用型100がむら101a、101bを有すると、モスアイ用型100を用いて作製した反射防止膜の表面にも、モスアイ構造の不均一性(むら)が形成された。
The
以上は、本発明者の考察であり、本発明を限定するものではない。 The above is a discussion of the inventor and does not limit the present invention.
以下で、図面を参照して、本発明の実施形態による離型処理方法を説明する。なお、本発明は以下で例示する実施形態に限られない。以下、ロール状のモスアイ用型に離型処理をする場合を例に説明する。「ロール状のモスアイ用型」には、円筒状のモスアイ用型および円柱状のモスアイ用型が含まれる。以下の図面において、実質的に同じ機能を有する構成要素は共通の参照符号で示し、その説明を省略することがある。 Hereinafter, a mold release processing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to the embodiments exemplified below. Hereinafter, the case where a release treatment is performed on a roll-shaped moth-eye mold will be described as an example. The “roll-shaped moth-eye mold” includes a cylindrical moth-eye mold and a cylindrical moth-eye mold. In the following drawings, components having substantially the same functions are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.
(実施形態1)
図1(a)〜(e)を参照して、本発明の実施形態1による離型処理方法および離型処理装置を説明する。図1(a)〜(e)は、本発明の実施形態1による離型処理方法および離型処理装置50を説明するための模式的な図である。図1(a)は、離型処理装置50の模式的な図であり、図1(b)は、離型処理装置50の模式的な断面図である。図1(c)および(d)は、モスアイ用型100を模式的に示す図である。図1(e)は、台座56の具体的な構成の一例を模式的に示す図である。(Embodiment 1)
A release processing method and a release processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 (a) to 1 (e). 1 (a) to 1 (e) are schematic views for explaining a mold release processing method and a mold
本発明の実施形態1による離型処理方法は、離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤と、表面にポーラスアルミナ層14を有する円筒状または円柱状の型100とを用意する工程(A)と、型100の表面に離型剤を付与する工程(B)と、工程(B)において付与された離型剤を乾燥させる工程(C)とを有する。工程(C)は、型100の軸100zに平行な方向に流れる気流105を生成させる工程(C1)、および、型100の軸100zを中心に型100を回転させる工程(C2)を含む。
The mold release treatment method according to Embodiment 1 of the present invention prepares a mold release agent containing a fluorine compound having mold release property and a solvent, and a cylindrical or
本発明の実施形態1による離型処理方法によると、後に実験例を示すように、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。特に、離型剤乾燥工程におけるむらの発生を防止することができる。 According to the mold release treatment method according to the first embodiment of the present invention, as shown in an experimental example later, the surface of a mold having a porous alumina layer on the surface can be subjected to mold release treatment without unevenness. In particular, the occurrence of unevenness in the release agent drying process can be prevented.
以下、本発明の実施形態1による離型処理方法の詳細を説明する。 Hereinafter, details of the mold release processing method according to Embodiment 1 of the present invention will be described.
まず、図1(c)および(d)に示すようなロール状のモスアイ用型100と、離型剤(不図示)とを用意する。モスアイ用型100は、表面(すなわち円筒または円柱の側面)にポーラスアルミナ層14を有する。ロール状のモスアイ用型100を用いると、例えば、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を効率良く量産することができるという利点がある。
First, a roll-shaped moth-
モスアイ用型100は、例えば図1(d)に示すように、ロール状の支持体12(例えばステンレス鋼製の管)と、ロール状の支持体12の表面上に形成されたアルミニウム膜18と、アルミニウム膜18の上に形成されたポーラスアルミナ層14とを有する。なお、図1(d)では、簡単のため、モスアイ用型100について、ロール状の支持体12の一部、アルミニウム膜18の一部、およびポーラスアルミナ層14の一部のみを示す。ポーラスアルミナ層14は、複数の微細な凹部(細孔)14pを有する。複数の微細な凹部14pの、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさは50nm以上500nm未満である。モスアイ用型100は、後に詳述するように、ロール状の支持体12上に形成されたアルミニウム膜18の陽極酸化およびエッチングを繰り返すことにより作製できる。モスアイ用型100の作製には、例えば、上記特許文献3および4に記載されている方法を用いることができる。
For example, as shown in FIG. 1D, the moth-
次に、離型剤の付与を行う。離型剤としては、離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含むフッ素系離型剤を用いる。フッ素系離型剤としては、公知のものを広く用いることができる。例えば、フロロテクノロジー社製のフロロサーフを用いることができる。フロロサーフとしては、例えばフロロサーフFG−5010Z130−0.1を用いることができる。フロロサーフFG−5010Z130−0.1には、フッ素系化合物としてパーフルオロオクチルエチルアクリレートの単独重合物が含まれ、溶剤として希釈剤ZV(ハイドロフルオロエーテル)が含まれている。例えば、フロロサーフFG−5010Z130−0.1のパーフルオロオクチルエチルアクリレートの単独重合物の濃度は、0.1%である。フロロサーフには、溶剤として、上記以外に、例えば、不燃性フッ素系溶剤または石油系溶剤が含まれているものがある。不燃性フッ素系溶剤は、ハイドロフルオロエーテル以外に、例えば、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルカン、ハイドロフルオロポリエーテル、ハイドロフルオロカーボン等が挙げられる。これらの不燃性フッ素系溶剤は、一種単独で、又は二種以上を混合して使用される。石油系溶剤としては、例えば、n−ヘプタン、アセトン、またはn−ヘプタンとアセトンとを混合させた溶剤が使用される。 Next, the release agent is applied. As the release agent, a fluorine-based release agent containing a fluorine-based compound having releasability and a solvent is used. A well-known thing can be used widely as a fluorine-type mold release agent. For example, Florosurf manufactured by Fluoro Technology can be used. For example, Fluorosurf FG-5010Z130-0.1 can be used as Fluorosurf. Fluorosurf FG-5010Z130-0.1 contains a homopolymer of perfluorooctylethyl acrylate as a fluorine-based compound, and contains a diluent ZV (hydrofluoroether) as a solvent. For example, the concentration of homopolymers of perfluorooctylethyl acrylate of Fluorosurf FG-5010 Z130-0.1 is 0.1%. In addition to the above-described solvents, fluorosurf includes, for example, nonflammable fluorine-based solvents or petroleum-based solvents. As the nonflammable fluorine-based solvent, in addition to the hydrofluoroether, for example, perfluoropolyether, perfluoroalkane, hydrofluoropolyether, hydrofluorocarbon and the like can be mentioned. These nonflammable fluorine-based solvents are used singly or in combination of two or more. As a petroleum solvent, for example, n-heptane, acetone, or a solvent in which n-heptane and acetone are mixed is used.
フッ素系離型剤としては、上記以外に、例えば、ダイキン社製のオプツールDSXを用いることができる。また、三井デュポンフロロケミカル社製のクリアコートを用いることもできる。また、フッ素系離型剤の溶剤としては、フッ素系の溶剤を用いることが好ましい。ただし、水系の溶剤、または公知の有機溶剤を適宜選択して用いることもできる。なお、溶剤は、フッ素系化合物を溶解するものだけでなく、溶剤中にフッ素系化合物を分散させるものであってもよい。 As the fluorine-based mold release agent, for example, OPTOOL DSX manufactured by Daikin Industries, Ltd. can be used. In addition, clear coat made by Mitsui DuPont Fluorochemicals can also be used. Moreover, as a solvent of a fluorine-type mold release agent, it is preferable to use a fluorine-type solvent. However, an aqueous solvent or a known organic solvent can be appropriately selected and used. The solvent is not limited to the one that dissolves the fluorine-based compound, but may be one that disperses the fluorine-based compound in the solvent.
フッ素系離型剤は、フッ素系離型剤以外の、例えばシリコーン系の離型剤等の離型剤に比べ、反射防止膜の製造に用いられる紫外線硬化性樹脂に対する離型性が高いという利点がある。また、フッ素系の離型剤は、紫外線に対する耐性が高いという利点がある。また、フッ素系の離型剤の層は、薄膜化しやすい。 Fluorine-based release agents have an advantage that they have high releasability with respect to UV curable resins used in the production of antireflective films, as compared with release agents such as silicone-based release agents other than fluorine-based release agents. There is. In addition, fluorine-based release agents have the advantage of being highly resistant to ultraviolet light. In addition, the layer of the fluorine-based release agent is easily made thin.
離型剤の付与には、例えば、以下のように、特許文献5に記載の方法および装置を用いることができる。特許文献5に記載の方法および/または装置を用いることによって、離型剤の塗布むらを防ぐことができる。また、特許文献5に記載されているように、離型剤を付与する工程の前に、洗浄工程、表面を乾燥させる工程、表面をベークする工程等をさらに行ってもよい。 For example, the method and apparatus described in Patent Document 5 can be used to apply a release agent, as described below. Uneven application of the release agent can be prevented by using the method and / or apparatus described in Patent Document 5. In addition, as described in Patent Document 5, a washing step, a step of drying the surface, a step of baking the surface, and the like may be further performed before the step of applying the release agent.
まず、モスアイ用型100の表面に溶剤を付与する。ここで付与する溶剤は、典型的には、離型剤に含まれる溶剤であるが、これに限られず離型剤に含まれる離型性を有するフッ素系化合物を溶解することができる溶剤であればよい。溶剤は、例えば、スプレーノズルを用いて、スプレーコート方式により付与される。続いて、モスアイ用型100の表面に離型剤を付与する。離型剤は、例えば、スプレーノズルを用いて、スプレーコート方式により付与される。
First, a solvent is applied to the surface of the moth-
続いて、モスアイ用型100の表面に付与された離型剤を乾燥させる。離型剤乾燥工程では、モスアイ用型100の表面に対して、モスアイ用型100の軸100zに平行な方向に流れる気流105を生成させ、かつ、軸100zを中心に、モスアイ用型100を回転させる。軸100zは、モスアイ用型100の中心軸である。気流105は、例えば空気の流れであってよいし、他のガス(例えば不活性ガス(例えば窒素ガス、Arガスなど)、二酸化炭素ガス(CO2)、酸素ガスなど)であってもよい。Subsequently, the release agent applied to the surface of the moth-
本発明の実施形態による離型処理方法の離型剤乾燥工程によると、従来の離型処理方法で発生し得るむら101a、101bの発生を抑制することができる。本発明の実施形態による離型処理方法の離型剤乾燥工程によると、モスアイ用型100の表面に流れる気流105の均一性を、モスアイ用型100の側面のうち、端部および中央部の両方において向上させることができる。
According to the release agent drying process of the release treatment method according to the embodiment of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of
モスアイ用型100の回転速度は、実験例を参照して後述するように、例えば、0.5rpm以上10rpm以下であることが好ましく、1rpm以上10rpm以下であることがさらに好ましい。気流105の流速は、例えば、0.05×100d(m/s)以上0.52×100d(m/s)以下であることが好ましい。ここで、モスアイ用型100の底面の直径は100d(m)である。モスアイ用型100の底面は、モスアイ用型100の軸100zに垂直な断面である。気流105の流速の上記範囲は、回転速度に換算すると、1rpm以上10rpm以下の範囲に相当する。rpmは一分間あたりの回転数を表す単位なので、1rpmは(π×100d)/60(m/s)に相当するからである。気流105の流速と、モスアイ用型100の回転速度との関係については、実験例を参照して後述する。
The rotational speed of the moth-
次に、本実施形態による離型処理装置50を説明する。離型処理装置50によると、本実施形態による離型処理方法を行うことができる。ただし、本発明の実施形態による離型処理装置は、以下に例示するものに限られない。
Next, the mold
離型処理装置50は、図1(a)に示すように、第1開口52aと第2開口52bとを有する円筒状のカバー52と、回転支持構造体58とを有する。回転支持構造体58は、円筒状または円柱状の型100を、カバー52の第1開口52aと第2開口52bとの間において、カバー52の軸52zと略平行に、型100の軸100zの周りに回転可能に支持する。
As shown in FIG. 1A, the mold
離型処理装置50によると、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。特に、離型剤乾燥工程におけるむらの発生を防止することができる。
According to the mold
図1(b)は、離型処理装置50の模式的な断面図である。モスアイ用型100およびカバー52は、例えば、長軸方向が鉛直方向とほぼ平行となるように、配置される。すなわち、モスアイ用型100の軸100z方向およびカバー52の軸52z方向が、鉛直方向と略一致するように、配置され得る。モスアイ用型100は、例えば、モスアイ用型100に取り付けられた吊り下げ部材69(図1(a)参照)によって、上方から吊り下げられていてもよい。カバー52は、例えば角柱状または角筒状の付与室62(図1(b)参照)の内側に設けられていてもよい。
FIG. 1 (b) is a schematic cross-sectional view of the mold
比較例の離型処理装置90は、角筒状のカバー92を有するので、モスアイ用型100の表面の各点から、カバー92までの距離は均一ではない。このことが、気流105’の不均一性に寄与し得ると考えられる。
Since the mold
これに対して、本発明の実施形態による離型処理装置50では、図1(b)に示すように、カバー52の断面およびモスアイ用型100の断面は、ともにほぼ円である。典型的には、カバー52の第1開口52aおよび第2開口52bの形状は、互いに同じ直径を有する円である。典型的には、鉛直方向から見たとき、カバー52およびモスアイ用型100の中心が一致するように設置される。このとき、モスアイ用型100の表面の各点に対して、カバー52までの距離が等しい。本発明の実施形態による離型処理装置50では、モスアイ用型100の表面の各点に対して、気流105の流速が均一になり得る。この効果は、モスアイ用型100の表面(側面)のうち、長軸方向における端部、および、長軸方向における中央部分の両方において得られ得る。従って、例えば比較例の離型処理装置90において発生し得るむら101a、101b(図6(a)参照)の発生が抑制される。
On the other hand, in the mold
例えば、カバー52の断面は直径500mmの円である。モスアイ用型100の底面は直径300mmの円であり、モスアイ用型100は、例えば、厚さ15mmのアルミニウムの円筒から形成され、円筒の長軸方向の長さは1600mmである。カバー52は、例えば金属(例えばステンレス鋼、陽極酸化加工したAl板など)または樹脂(例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、BS系樹脂など)から形成されている。異なる材料から形成された半円筒を組み合わせて、カバー52を形成してもよい。例えば、ここでは、ステンレス鋼およびアクリル樹脂から形成された半円筒を組み合わせてカバー52を形成する。カバー52の少なくとも一部を、アクリル樹脂等透明な材料で形成すると、例えばスモークワイヤ法を用いてカバー52内の気流105を観察することが容易である。
For example, the cross section of the
回転支持構造体58は、例えば、モータ57と、モータ57の駆動軸57dに結合された台座56とを有する。台座56の少なくとも一部は、第1開口52aと第2開口52bとの間に位置する。回転支持構造体58は、台座56と、モータ57の駆動軸57dとを結合する結合部材(不図示)をさらに有していてもよい。
The
モータ57は、モスアイ用型100の軸100zを中心に、モスアイ用型100を回転させる。モータ57によって、離型剤乾燥工程において、軸100zを中心にモスアイ用型100を回転させることができる。これにより、実験例を後に示すように、比較例の離型処理装置90において発生し得るむら101a、101b(図6(a)参照)の発生が抑制される。むらが発生する原因の一つは、気流105の不均一性に起因して、離型剤が乾燥する速さが不均一であることと考えられる。モスアイ用型100を回転させると、気流105を均一化することができ、むらの発生を抑制することができると考えられる。気流105の流速およびモスアイ用型100の回転速度の好ましい範囲については、実験例を参照して後述する。離型剤を付与する工程においても、モータ57によってモスアイ用型100を回転させてももちろんよい。
The
台座56の少なくとも一部が、カバー52の第1開口52aと第2開口52bとの間に位置すると、鉛直方向における、カバー52の第2開口52bと、モスアイ用型100の下端100eとの間の距離Lを大きくすることができる。ここで、鉛直方向において、カバー52の第2開口52bは、モスアイ用型100の下端100eよりも下方にある。また、離型処理工程において、モスアイ用型100を安定に支持することができる。
When at least a part of the
比較例の離型処理装置90を用いた従来の離型処理方法においては、モスアイ用型100の表面(側面)のうち、長軸方向における端部(特に下端部)を中心にむら101aが生じることがあった(図6(a)参照)。比較例の離型処理装置90においては、カバー52の第2開口52bが、モスアイ用型100の下端100eよりも上方にあるか、または、下方にあったとしても距離Lが小さいので、モスアイ用型100の側面の下端100e付近で気流105’が乱れ、むら101aが発生したと考えられる。本発明の実施形態による離型処理装置50では、距離Lが大きいので、モスアイ用型100の側面の下端100e周辺において気流105が乱れることが抑制され、むら101aの発生が抑制される。距離Lは、例えば200mm以上であることが好ましく、300mm以上であることがさらに好ましい。
In the conventional mold release processing method using the mold
むら101aの発生が完全に抑制されなくても、むら101aが生じている範囲102a(図6(a)参照)が小さい場合は、実用上問題なく使用することができる場合がある。モスアイ用型を用いて膜(例えば反射防止膜)を作製する際、作製された膜のうち、型の有効領域に対応する部分以外の部分は、余剰スペースとして取り扱われることがある。モスアイ用型100の下端100eからの長軸方向における長さが例えば20mm〜50mm以内である範囲は、型の有効領域に含まれないことがある。従って、モスアイ用型100において、むら101aが生じている範囲102aの、下端100eからの長軸方向における長さL102a(図6(a)参照)が、例えば20mm以下であれば、実用上問題なく使用することができる。
Even if the occurrence of the
台座56は、例えば、円柱状であり、台座56の軸方向が、型100の軸100z方向と略一致するように設けられる。例えば、型100の軸100zに垂直な面における台座56の断面積は、型100の軸100zに垂直な面における型100の断面積と略一致する。
The
台座56は、例えば、図1(e)に示すような構造を有していてもよい。図1(e)は、台座56の具体的な構成の一例を模式的に示す図である。
The
図1(e)に例示するように、台座56は、型100を装着・固定する台板(マウントプレート)56aと、型100の表面から滴下した液体を受ける液受け板56bと、これらの板を互いに接続する接続部材56zとを有する。台板56aおよび液受け板56bの、鉛直方向から見たときの断面形状は、それぞれ、典型的には略円である。
As illustrated in FIG. 1E, the
台板56aの鉛直方向から見たときの断面の直径は、モスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面の直径と略同じである。台板56aの鉛直方向から見たときの断面の中心は、例えば、モスアイ用型100の長軸上にある。
The diameter of the cross section of the
液受け板56bの鉛直方向から見たときの断面の直径は、モスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面の直径よりも大きい。液受け板56bの鉛直方向から見たときの断面の中心は、例えば、モスアイ用型100の長軸上にある。液受け板56bは、テーパー状の側面を有する。液受け板56bの上面(台板56a側の面)の直径は、液受け板56bの下面(台板56aとは反対側の面)の直径よりも小さい。液受け板56bの上面の直径は、例えばモスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面の直径と略同じである。液受け板56bの下面の直径は、例えばモスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面の直径よりも大きい。
The diameter of the cross section of the
台板56aの鉛直方向から見たときの断面の中心および直径が、モスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面の中心および直径と略一致すると、モスアイ用型100の表面に付着した液体を、スムーズに流すことができる。さらに、モスアイ用型100の下端100e付近における気流105の乱れを抑制することができる。
When the center and diameter of the cross section as viewed from the vertical direction of the
液受け板56bの側面がテーパー状であると、モスアイ用型100の下方に設けられた液溜め59内に滴下した液体が、跳ねてモスアイ用型100に付着することを防ぐことができる。
When the side surface of the
液受け板56bの下面(台板56aとは反対側の面)の直径が、モスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面の直径よりも大きいと、モスアイ用型100の下方からカバー52内に侵入し得る気体やダストを低減することができる。
If the diameter of the lower surface (surface opposite to the
鉛直方向から見たとき、接続部材56zの全ては、モスアイ用型100と重なる。接続部材56zの鉛直方向から見たときの断面積は、モスアイ用型100の長軸方向から見たときの断面積よりも小さい。これにより、台板56aと液受け板56bとの間に空間が形成される。形成された空間には、気化した溶剤および/または離型剤が滞留し得る。モスアイ用型100の表面に塗布された離型剤が、モスアイ用型100の下端100e側から乾燥することを防ぐことができる。離型剤が乾燥する速度を均一にすることで、むらの発生を抑制することができる。
When viewed from the vertical direction, all of the
離型処理装置50は、例えば、第1開口52aからカバー52の軸52zに略平行な気流105を供給する、気流供給装置55をさらに有する。気流供給装置55によって供給された気流105は、第1開口52aから第2開口52bに向かって流れる。
The
気流供給装置55は、例えば、第1開口52aに設けられたフィルタ53を有する。気流供給装置は、例えば、フィルタ53の、第1開口52aの外側に設けられたHEPAフィルタ54をさらに有してもよい。
The air
気流供給装置55には、例えば、図示しない送風部から気流が導入される。送風部は、離型処理装置50とは別に設けられていてもよい。送風部から導入された気流は、フィルタ53を通過することで均一化される。型100の軸100zに平行な方向に流れる気流105がカバー52内に供給される。フィルタ53は、例えばパンチングプレート(パンチングメタル)である。パンチングプレートの厚さは、例えば0.5mm〜1.5mmである。パンチングプレートの開口径は、例えば1.0mm〜8.0mmである。パンチングプレートの開口のピッチは、例えば1mm〜20mmである。パンチングプレートの開口率は、例えば20%〜50%である。ここでは、例えば、丸孔60°千鳥パターン(円形の開口が正三角格子の格子点上に配列されているパターン)のパンチングプレートを用いる。このパンチングパターンの開口率は、90.6×D2/P2(%)(P:孔間ピッチ、D:孔直径)で得られる。An air flow is introduced into the air
上述した例に限られず、送風部は、気流供給装置55の一部として設けられていてもよい。気流供給装置55は、例えば、ファン、送風機、扇風機等である送風部(不図示)をさらに有していてもよい。
Not limited to the above-described example, the blower may be provided as part of the air
離型剤を付与する工程および離型剤乾燥工程は、ともに離型処理装置50を用いて行うことができる。共通の装置を用いると、両工程の間にモスアイ用型を移動させる必要がなく、製造歩留りを向上させることができる。本出願人による国際公開第2012/133390号は、離型剤を付与する工程を2回以上行うことで、離型性の持続性を向上させる離型処理方法を開示している。離型剤を付与する工程を行う毎に、離型剤を乾燥させる工程が必要である。従って、国際公開第2012/133390号に記載の離型処理方法においても、離型剤を付与する工程および離型剤乾燥工程の両方を共通の装置を用いて行うことで、製造歩留りを向上させることができる。参考のために、国際公開第2012/133390号の開示内容の全てを本明細書に援用する。
Both the step of applying the release agent and the release agent drying step can be performed using the
(実施形態2)
本発明の実施形態2における離型処理方法および離型処理装置を説明する。以下では、本実施形態における離型処理方法および離型処理装置が、実施形態1における離型処理方法および離型処理装置と異なる点を中心に説明を行う。Second Embodiment
A mold release treatment method and a mold release treatment apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described. The following description will be made focusing on differences between the mold release processing method and the mold release processing apparatus in the present embodiment from the mold release processing method and the mold release processing apparatus in the first embodiment.
実施形態2による離型処理方法では、気流105を生成させる工程は、離型剤に含まれるフッ素化合物を溶解する溶剤を含む気体を供給する工程を含む。気化した溶剤は、例えば、離型剤に含まれる溶剤と同じ溶剤である。気化した溶剤は、離型剤に含まれる溶剤と異なる溶剤であってもよい。気化した溶剤は、例えば、離型剤に含まれる離型性を有するフッ素系化合物を溶解することができる溶剤であればよい。
In the mold release treatment method according to Embodiment 2, the step of generating the
本発明の実施形態2による離型処理方法によると、後に実験例を示すように、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。特に、離型剤乾燥工程におけるむらの発生を防止することができる。 According to the mold release treatment method according to the second embodiment of the present invention, as shown in an experimental example later, the surface of a mold having a porous alumina layer on the surface can be subjected to mold release treatment without unevenness. In particular, the occurrence of unevenness in the release agent drying process can be prevented.
本発明の実施形態2による離型処理方法は、気流105に気化した溶剤が含まれるので、離型剤の乾燥速度が遅くなる効果を有し得る。実験例を後に示すように、実施形態1の離型処理方法よりも効果的にむらの発生を防止することができる場合があった。
The mold release treatment method according to Embodiment 2 of the present invention may have the effect of reducing the drying speed of the mold release agent because the
本実施形態の離型処理方法を行う離型処理装置の気流供給装置55は、例えば、容器(例えばフラスコ)をさらに有する。容器の口は、HEPAフィルタ54とフィルタ53との間に設けられた蒸気導入口と連結されている。容器中に溶剤を入れると、溶剤が自然気化し、気化した溶剤を含む気流105を供給することができる。あるいは、フラスコに溶剤を入れ、フラスコ内の溶剤中に気体(例えば窒素ガスまたは空気)を導入しバブリングすることで、気化した溶剤を気体に含ませることができる。気化した溶剤を含む気流105を供給することができる。容器に連結される蒸気導入口は、HEPAフィルタ54およびフィルタ53の外側に設けられてもよい。
The air
本発明の実施形態2による離型処理装置は、上記の例示に限られない。例えば、蒸発皿をフィルタ53の外側に設置してもよい。溶剤を蒸発皿に入れて自然気化させて、気化した溶剤を含む空気によって、気流105を生成してもよい。溶剤を入れる容器は、蒸発皿に限られず、液体を内側に保持できる形状であればよい。容器の断面は、例えばU字状またはV字状であり得る。溶剤を入れる容器は、例えば、円筒状のカバー52の内側に接して設けられていてもよい。例えば、溶剤を入れる容器は、離型処理装置50と一体として設けられていてもよい。例えば、気流105が第1開口52aから第2開口52bに向かって流れる場合には、溶剤を入れる容器は、カバー52の内側の第1開口52a付近に設けられていることが好ましい。または、気化させた溶剤を、図示しないエアーノズルから噴射して気体中に含ませてもよい。このとき、気流の流れを大きく変化させないためには、溶剤をミスト状の小さい粒子にして噴霧することが好ましい。さらに、その後フィルタ53を介することで、均一化された気流105が得られ得る。
The mold release processing apparatus according to Embodiment 2 of the present invention is not limited to the above example. For example, the evaporation pan may be placed outside the
(実験例)
以下、実験例を示す。図2(a)および(b)は、実験例を行った離型処理装置を説明するための模式的な図である。実験例として、上述した実施形態1または実施形態2の離型処理方法により、離型処理を施した。ここでは、気流105の流速およびモスアイ用型100の回転速度、ならびに気流105中の溶剤の有無を変えて、離型処理を行った。(Experimental example)
An experimental example is shown below. FIGS. 2 (a) and 2 (b) are schematic views for explaining the mold release processing apparatus in which the experimental example was performed. As an experimental example, release processing was performed by the release processing method of Embodiment 1 or Embodiment 2 described above. Here, the mold release treatment was performed while changing the flow velocity of the
ここで用いたモスアイ用型は、例えば上記特許文献3および4に記載されている方法を用いて、アルミニウム基材の陽極酸化とエッチングとを繰り返すことにより作製した。アルミニウム基材として、ロール状の支持体(ステンレス鋼製の管)の表面上にスパッタ法により、厚さが1μmのアルミニウム膜18を成膜して作製した基材を用いた。アルミニウム基材の底面の直径は300mm、長軸方向の長さは1600mm、厚さは15mmである。
The moth-eye mold used here was produced by repeating the anodic oxidation and etching of the aluminum base using the methods described in, for example, Patent Documents 3 and 4 above. As an aluminum substrate, a substrate produced by forming an
この基材を用いて、まず、陽極酸化を行うことにより、アルミニウム膜18の表面にポーラスアルミナ層を形成した。陽極酸化工程は、シュウ酸水溶液(濃度0.05mol/L、液温3℃)を用いて、80V印加して60秒間行った。電極としては、Ptプレートを用いた。電極と基材との距離は150mmとした。
A porous alumina layer was formed on the surface of the
次に、エッチングを行うことにより、ポーラスアルミナ層を完全に除去した。エッチング工程は、リン酸水溶液(濃度8mol/L、液温30℃)を用いて90分間行った。 Next, the porous alumina layer was completely removed by etching. The etching step was performed for 90 minutes using a phosphoric acid aqueous solution (concentration 8 mol / L, solution temperature 30 ° C.).
次に、陽極酸化工程とエッチング工程とを交互に5回(陽極酸化を5回、エッチングを4回)行った。陽極酸化工程は、上記と同様に、シュウ酸水溶液(濃度0.05mol/L、液温3℃)を用いて、80V印加して60秒間行った。エッチング工程は、リン酸水溶液(濃度8mol/L、液温30℃)を用いて20分間行った。 Next, the anodic oxidation step and the etching step were alternately performed five times (five times for anodic oxidation and four times for etching). The anodizing step was carried out for 60 seconds by applying 80 V using an oxalic acid aqueous solution (concentration 0.05 mol / L, solution temperature 3 ° C.) as described above. The etching step was performed for 20 minutes using a phosphoric acid aqueous solution (concentration 8 mol / L, solution temperature 30 ° C.).
こうして得られたモスアイ用型は、深さ400nm程度、細孔間隔180nm程度の複数の細孔が形成されていた。 In the moth-eye mold thus obtained, a plurality of pores with a depth of about 400 nm and a pore spacing of about 180 nm were formed.
次に、以下に示すように、上述した実施形態1または実施形態2の離型処理方法で、モスアイ用型の離型処理を行った。このとき、離型剤乾燥工程において、下記表1のように、気流105の流速およびモスアイ用型100の回転速度、ならびに気流105中の溶剤の有無を変えて、離型処理を施した。ここで、用いたカバー52の底面の直径は500mm、鉛直方向の長さは2000mmである。鉛直方向における、カバー52の第2開口52bと、モスアイ用型100の下端100eとの間の距離L(図1(a)参照)は、200mmとした。
Next, as shown below, mold release processing of the moth-eye mold was performed by the mold release processing method of Embodiment 1 or Embodiment 2 described above. At this time, in the release agent drying step, as shown in Table 1 below, the mold release treatment was performed while changing the flow velocity of the
気流105の流速は、以下のように測定した。図2(a)および(b)に模式的に示すように、カバー52の内側の4箇所のそれぞれに、2種類の流速計120(ベアトリックス株式会社製、超微風速センサーBS−03およびBS−05)を設けた。計測可能な流速範囲が互いに異なる2種類の流速計を設置することで、より広い範囲の流速を測定することが可能になる。図2(b)は離型処理装置50を鉛直方向から見た模式的な断面図である。図2(b)に示すように、周方向において等間隔に4箇所に、2個ずつ流速計120を設置した。流速計120を設置する4箇所の、鉛直方向における位置は、互いに同じである。流速計120は、鉛直方向において、カバー52のほぼ中心に設置した。気流105の流速は、4箇所の流速計120によってそれぞれ3回ずつ計測し、その平均値(すなわち、計12データの平均値)とした。
The flow velocity of the
スモークワイヤ法を用いて、離型剤乾燥工程における気流105の流れを観察し、気流105の不均一性の有無を調べた。図2(b)に示すように、カバー52内に、略半円状の高抵抗の細線(抵抗線)110を設けた。スモークワイヤ法には、株式会社菅原研究所製のスモークワイヤ発生装置MS−405を用いた。抵抗線110に流動パラフィンを塗布し、電流を流すことで白煙を発生させ、気流105の流れを可視化し、気流105の流れに不均一性(乱れ)が生じていないかどうかを目視で調べた。
The smoke wire method was used to observe the flow of the
離型処理後のモスアイ用型100の表面について、蛍光灯直下で、目視により、むらの有無を調べた。
With respect to the surface of the moth-
結果を下記表1に示す。 The results are shown in Table 1 below.
表1中、「○」は、モスアイ用型100の表面のむらが、実用上問題なく使用することができる程度に抑制されていたことを示す。具体的には、むらが生じている範囲の、下端100eからの長軸方向における長さ(図6(a)中のL102a)が、20mm以下であったことを示す。「◎」は、モスアイ用型100の表面のむらは視認されなかったことを示す。「×」および「△」は、ともに、モスアイ用型100の表面にはむらが視認され、むらが生じている範囲の、下端100eからの長軸方向における長さ(図6(a)中のL102a)が、20mm超であったことを示す。「△」は、「×」よりはモスアイ用型の表面のむらが軽減されていたことを示す。
In Table 1, "(circle)" shows that the unevenness | corrugation of the surface of the type |
気流105の流れを可視化したことで、モスアイ用型100の表面のむらは、気流105の乱れに対応して生じていることを確認した。「◎」の場合は、気流105の流れに乱れが生じていなかった。「○」の場合は、気流105の流れに乱れが生じていたが、下端100eからの長軸方向における長さ(図6(a)中のL102a)が20mm以下の範囲内においてのみ、乱れが生じていた。「×」および「△」の場合は、気流105の流れに乱れが生じ、乱れが生じていた範囲の、下端100eからの長軸方向における長さ(図6(a)中のL102a)は20mm超であった。
By visualizing the flow of the
表1から分かるように、モスアイ用型100の回転速度は、例えば、0.5rpm以上10rpm以下であることが好ましく、1rpm以上10rpm以下であることがさらに好ましい。表1中、「回転速度」の欄には、回転速度(rpm)と、それを速度(m/s)に換算した値を併記している。上述したように、rpmは一分間あたりの回転数を表す単位なので、モスアイ用型100の底面の直径を100d(m)とすると、1rpmは(π×100d)/60(m/s)に相当する。回転速度が30(rpm)の実験例では、回転速度が大きいことによって、気流105に乱れが生じたと考えられる。
As seen from Table 1, the rotational speed of the moth-
表1から分かるように、気流105の流速は、例えば、0.016(m/s)以上0.157(m/s)以下であることが好ましい。気流105が気化した溶剤を含まない場合には、気流105の流速は、例えば、0.016(m/s)以上0.126(m/s)以下であることがさらに好ましい。気流105の流速が0.157(m/s)の場合には、気流105が気化した溶剤を含むことによって、気流105の均一化およびモスアイ用型100の表面の均一化が、より効果的に行われたことが分かる。気流105の流速が0.01(m/s)の実験例では、流速が小さく、気流105が均一にならなかったと考えられる。気流105の流速が0.471(m/s)の実験例では、流速が大きいことによって、気流105に乱れが生じたと考えられる。
As can be seen from Table 1, the flow velocity of the
上述した気流105の流速の好ましい範囲、0.016(m/s)以上0.157(m/s)以下、と同じ範囲のモスアイ用型100の回転速度(m/s)を、回転速度(rpm)に換算すると、1rpm以上10rpm以下である。これは、モスアイ用型100の底面の直径を100d(m)とすると、(π×100d)/60(m/s)以上(π×100d)/6(m/s)以下(すなわち、0.05×100d(m/s)以上0.52×100d(m/s)以上)に相当する。すなわち、気流105の流速およびモスアイ用型100の回転速度は、同じオーダーの大きさであることが好ましいことが分かった。例えば、気流105の流速およびモスアイ用型100の回転速度は、同じ大きさであってもよい。この理由について、本発明者は以下のように考察した。
The rotational speed (m / s) of the moth-
気流105の流速vf(m/s)とモスアイ用型100の回転速度vr(m/s)との合成からなる総速度vt(m/s)を考える。気流105の流速vfとモスアイ用型100の回転速度vrとは、向きが互いに直交しているとする。従って、vt 2=vf 2+vr 2の関係が成り立つ。離型剤が乾燥する速さは、vtに依存する(例えばvtに比例する)と考えられる。Consider a total velocity v t (m / s) which is a combination of the flow velocity v f (m / s) of the
気流105の流速vfとモスアイ用型100の回転速度vrとの関係について考えるために、極端な例として2つの場合を考える。(i)下記式(1−1)〜(1−3)で表される場合と、(ii)下記式(2−1)〜(2−3)で表される場合とを考える。To consider the relationship between the rotational speed v r of the flow velocity v f and
(i)と(ii)とで、vtの値が同じになるように、(ii)におけるvfの係数を決定した(式(2−1))。これらの場合において、流速vfに変化が生じたときの、総速度vtの変化量の絶対値を比較する。The coefficient of v f in (ii) was determined so that the value of v t would be the same between (i) and (ii) (equation (2-1)). In these cases, the absolute value of the amount of change in the total velocity v t when the change in the flow velocity v f occurs is compared.
流速vfがavfに変化したとする。aは、0超の実数である。0<a<1の場合は、流速vfが減少したことを表し、a>1の場合は、流速vfが増加したことを表す。a=1の場合は、流速vfに変化はない。それぞれの場合における総速度vtの変化量の絶対値は、(i)の場合は下記式(3)で、(ii)の場合は下記式(4)で、それぞれ表される。It is assumed that the flow velocity v f changes to av f . a is a real number greater than zero. In the case of 0 <a <1, it represents that the flow velocity v f decreased, and in the case of a> 1, it represents that the flow velocity v f increased. For a = 1, there is no change in the flow velocity v f. Absolute value of the change amount of the total velocity v t in each case, by the following equation in the case of (i) (3), in the case of (ii) by the following formula (4) are represented respectively.
AとBとの差をプロットしたグラフを図3に示す。図3から分かるように、常にBの方がAよりも大きい(常にAの方がBよりも小さい)。つまり、(i)の場合の方が、(ii)の場合よりも、総速度vtの変化量が常に小さい。従って、(i)の場合の方が、(ii)の場合よりも、流速vfに変化が生じたときの、総速度vtの変化量が小さく、離型剤の乾燥速度が均一に保たれ易いと考えられる。A graph plotting the difference between A and B is shown in FIG. As can be seen from FIG. 3, B is always larger than A (Al is always smaller than B). That is, in the case of (i), the change amount of the total velocity v t is always smaller than in the case of (ii). Therefore, in the case of (i), the amount of change in the total velocity v t is smaller when the flow velocity v f changes than in the case of (ii), and the drying rate of the release agent is uniformly maintained. It is considered to be easy to catch.
以上のように、気流105の流速およびモスアイ用型100の回転速度が同じオーダーの大きさであることが好ましい理由について、考察され得る。ただし、上記は本発明者の考察であり、本発明を限定するものではない。
As described above, the reason why it is preferable that the flow velocity of the
次に、図4を参照して、モスアイ用型の製造工程を説明する。図4(a)〜(e)は、モスアイ用型の製造方法を説明するための模式的な断面図である。なお、以下では、基板16と、基板16上に堆積されたアルミニウム膜18とを有するアルミニウム基材10を用いて陽極酸化およびエッチングを行うことにより平板状のモスアイ用型を作製する場合を例示する。
Next, with reference to FIG. 4, the manufacturing process of the moth-eye mold will be described. FIGS. 4A to 4E are schematic cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a moth-eye mold. In the following, the case of producing a flat moth-eye mold by anodizing and etching using the
まず、図4(a)に示すように、アルミニウム基材10を用意する。アルミニウム基材10は、基板16と、基板16上に堆積されたアルミニウム膜18とを有する。
First, as shown in FIG. 4A, the
次に、図4(b)に示すように、基材10の表面(アルミニウム膜18の表面18s)を陽極酸化することによって複数の細孔14p(微細な凹部)を有するポーラスアルミナ層14を形成する。ポーラスアルミナ層14は、細孔14pを有するポーラス層と、バリア層とを有している。ポーラスアルミナ層14は、例えば、酸性の電解液中で表面18sを陽極酸化することによって形成される。ポーラスアルミナ層14を形成する工程で用いられる電解液は、例えば、蓚酸、酒石酸、燐酸、クロム酸、クエン酸およびリンゴ酸からなる群から選択される酸を含む水溶液である。例えば、アルミニウム膜18の表面18sを、蓚酸水溶液(濃度0.06wt%、液温5℃)を用いて、印加電圧80Vで30秒間陽極酸化を行うことにより、ポーラスアルミナ層14を形成する。陽極酸化条件(例えば、電解液の種類、印加電圧)を調整することにより、細孔間隔、細孔の深さ、細孔の形状等を調節できる。なお、ポーラスアルミナ層の厚さは適宜変更され得る。アルミニウム膜18を完全に陽極酸化してもよい。
Next, as shown in FIG. 4B, the surface of the substrate 10 (the
次に、図4(c)に示すように、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより細孔14pの孔径を拡大する。ここで、ウェットエッチングを採用することによって、細孔壁およびバリア層をほぼ等方的にエッチングすることができる。エッチング液の種類・濃度、およびエッチング時間を調整することによって、エッチング量(すなわち、細孔14pの大きさおよび深さ)を制御することができる。エッチング液としては、例えば10質量%の燐酸や、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸の水溶液やクロム燐酸混合水溶液を用いることができる。例えば、燐酸(濃度1mol/L、液温30℃)を用いて25分間エッチングを行うことにより、細孔14pを拡大する。
Next, as shown in FIG. 4C, the pore diameter of the
次に、図4(d)に示すように、再び、アルミニウム膜18を部分的に陽極酸化することにより、細孔14pを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層14を厚くする。ここで細孔14pの成長は、既に形成されている細孔14pの底部から始まるので、細孔14pの側面は階段状になる。
Next, as shown in FIG. 4D, the
さらにこの後、必要に応じて、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによってさらにエッチングすることにより細孔14pの孔径をさらに拡大する。エッチング液としては、ここでも上述したエッチング液を用いることが好ましく、現実的には、同じエッチング液を用いればよい。
After this, if necessary, the pore diameter of the
このように、上述した陽極酸化工程およびエッチング工程を繰り返すことによって、図4(e)に示すように、所望の凹凸形状を有するポーラスアルミナ層14を有するモスアイ用型100が得られる。この後、モスアイ用型100は、例えば実施形態1または実施形態2の離型処理方法により離型処理が施された後に、反射防止膜の製造に用いられる。
Thus, by repeating the anodic oxidation step and the etching step described above, as shown in FIG. 4E, a moth-
なお、上記では、基板16と、基板16上に堆積されたアルミニウム膜18とを有するアルミニウム基材10を用いて、平板状のモスアイ用型を作製する場合を例に説明したが、ロール状のモスアイ用型は、例えばロール状の支持体(例えばステンレス鋼製の管)と、ロール状の支持体上に形成されたアルミニウム膜とを有するアルミニウム基材を用いて陽極酸化およびエッチングを行うことにより、作製することができる。また、ロール状のモスアイ用型は、基板16として可撓性を有する高分子フィルムを用いて、高分子フィルム上にアルミニウム膜を形成し、アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによりポーラスアルミナ層を形成した後、高分子フィルムを、ロール状の支持体の外周面に固定することによっても作製することができる。
In the above, the case of producing a flat moth-eye mold using the
次に、図5を参照して、本発明による実施形態の反射防止膜の製造方法を説明する。図5は、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を製造する方法を説明するための模式的な断面図である。 Next, with reference to FIG. 5, a method of manufacturing an antireflective film according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing an antireflective film by a roll-to-roll method.
本発明の実施形態による反射防止膜の製造方法は、上記のいずれかの離型処理方法によって離型処理が施された型を用意する工程と、被加工物を用意する工程と、前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、前記型から、硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜を剥離する工程とを包含する。 A method of manufacturing an antireflective film according to an embodiment of the present invention comprises the steps of preparing a mold on which a mold release treatment has been performed by any of the above-described mold release treatment methods, preparing a workpiece, and A step of curing the photocurable resin by irradiating the photocurable resin with light in a state in which the photocurable resin is applied to the surface of the workpiece, and photocuring cured from the mold And exfoliating the antireflective film formed of resin.
被加工物として、ロール状のフィルムを用いると、ロール・ツー・ロール方式で、反射防止膜を製造することができる。フィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルム上に形成されたハードコート層とを有し、反射防止膜は、ハードコート層の上に形成されていることが好ましい。ベースフィルムとしては、例えば、TAC(トリアセチルセルロース)フィルムを好適に用いることができる。ハードコート層としては、例えば、アクリル系のハードコート材料を用いることができる。 When a roll-shaped film is used as a workpiece, the antireflective film can be manufactured by a roll-to-roll method. The film preferably has a base film and a hard coat layer formed on the base film, and the antireflective film is preferably formed on the hard coat layer. As a base film, for example, a TAC (triacetyl cellulose) film can be suitably used. As the hard coat layer, for example, an acrylic hard coat material can be used.
まず、ロール状のモスアイ用型100を用意する。例えば実施形態1または実施形態2の離型処理方法により離型処理が施されたモスアイ用型100を用意する。
First, a roll-shaped moth-
次に、図5に示すように、紫外線硬化樹脂32’が表面に付与された被加工物42を、モスアイ用型100に押し付けた状態で、紫外線硬化樹脂32’に紫外線(UV)を照射することによって紫外線硬化樹脂32’を硬化する。紫外線硬化樹脂32’としては、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。被加工物42は、例えば、TAC(トリアセチルセルロース)フィルムである。被加工物42は、図示しない巻き出しローラから巻き出され、その後、表面に、例えばスリットコータ等により紫外線硬化樹脂32’が付与される。被加工物42は、図5に示すように、支持ローラ46および48によって支持されている。支持ローラ46および48は、回転機構を有し、被加工物42を搬送する。また、ロール状のモスアイ用型100は、被加工物42の搬送速度に対応する回転速度で、図5に矢印で示す方向に回転される。
Next, as shown in FIG. 5, the ultraviolet
その後、被加工物42からモスアイ用型100を分離(剥離)することによって、モスアイ用型100の凹凸構造(反転されたモスアイ構造)が転写された硬化物層32が被加工物42の表面に形成される。表面に硬化物層32が形成された被加工物42は、図示しない巻き取りローラにより巻き取られる。
Thereafter, the moth-
なお、反射防止性能の優れた反射防止膜を形成するためには、モスアイ用型100の細孔14pは、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが10nm以上500nm未満であることが好ましく(上記特許文献1、2および4)、50nm以上500nm未満であることがさらに好ましい。
In addition, in order to form an anti-reflection film excellent in anti-reflection performance, the
以上、モスアイ用型に離型処理をする場合を例に説明したが、本発明による実施形態の離型処理方法は、モスアイ用型以外の、表面にポーラスアルミナ層を有する型の離型処理にも用いることができる。例えば、フォトニック結晶を形成する型の離型処理に用いることができる。 As described above, the moth-eye mold has been described by way of example in which the mold release treatment is performed. However, in the mold release treatment method of the embodiment according to the present invention, the mold release treatment has a porous alumina layer on the surface other than the moth-eye mold. Can also be used. For example, it can be used for mold release treatment of a type for forming a photonic crystal.
上記では、モスアイ構造を有する表面を備える膜として、反射防止膜を例示したが、本発明の実施形態による型は、これに限られず、モスアイ構造を有する表面を備える膜の製造に広く適用され得る。 In the above, although the anti-reflective film was illustrated as a film provided with the surface which has a moth-eye structure, the type | mold by embodiment of this invention is not restricted to this, It can be widely applied to manufacture of the film provided with the surface which has a moth-eye structure .
また、上記では、モスアイ構造を形成するためのモスアイ用型を例示したが、本発明の実施形態による型は、これに限られず、例えば先端が尖っていない凸部(例えばナノピラー)などを形成するための型に広く用いることができる。すなわち、本発明の実施形態による型が表面に有するミクロな凹部の形状は、略円錐に限られず、例えば略円錐台であってもよいし、略円柱であってもよい。ミクロな凹部の底部は、点に限られず、例えば丸みを帯びていてもよいし、平面であってもよい。ミクロな凹部の開口部の形状は、円に限られず、例えば矩形状であってもよい。また、複数のミクロな凹部は、規則的に配置されていてもよいし、不規則に(ランダムに)配置されていてもよい。 Furthermore, although the moth-eye mold for forming the moth-eye structure has been illustrated above, the mold according to the embodiment of the present invention is not limited thereto, and for example, a convex portion (for example, nanopillar) or the like having a blunt tip is formed It can be widely used in That is, the shape of the micro concave portion provided on the surface of the mold according to the embodiment of the present invention is not limited to a substantially conical shape, and may be, for example, a substantially truncated cone or a substantially cylindrical shape. The bottom of the micro recess is not limited to a point, and may be, for example, rounded or flat. The shape of the opening of the micro recess is not limited to a circle, and may be, for example, a rectangular shape. Also, the plurality of micro recesses may be regularly arranged or irregularly (randomly) arranged.
本発明による離型処理方法は、反射防止膜、フォトニック結晶等の形成のための型の離型処理方法として用いることができる。 The mold release treatment method according to the present invention can be used as a mold release treatment method of a mold for forming an antireflective film, a photonic crystal or the like.
14 ポーラスアルミナ層
50 離型処理装置
52 カバー
52a 第1開口
52b 第2開口
53 フィルタ
54 HEPAフィルタ
55 気流供給装置
56 台座
57 モータ
57d 駆動軸
58 回転支持構造体
100 モスアイ用型
105 気流14
Claims (11)
(b)前記型の前記表面に、前記離型剤を付与する工程と、
(c)前記工程(b)において付与された前記離型剤を乾燥させる工程であって、前記型を、第1開口と第2開口とを有する円筒状のカバーの前記第1開口と前記第2開口との間において、前記型の軸が前記カバーの軸と略平行になるように、かつ、前記型の軸方向から見たとき、前記カバーの中心および前記型の中心が略一致するように、配置した状態で、前記型の前記表面に対して、前記型の軸に垂直な断面における前記型の直径をD(m)とすると、前記型の軸に平行な方向に少なくとも0.05D(m/s)で流れる気流を生成させながら、前記型の軸を中心に前記型を少なくとも0.5rpmで回転させる工程を含む乾燥工程と
を包含する、離型処理方法。 (A) preparing a mold release agent containing a fluorine compound having mold release property and a solvent, and a cylindrical or cylindrical mold having a porous alumina layer on the surface;
(B) applying the mold release agent to the surface of the mold;
(C) drying the mold release agent applied in the step (b), wherein the mold comprises a first opening and a second opening of a cylindrical cover having a first opening and a second opening. Between the two openings, the axis of the mold is substantially parallel to the axis of the cover, and when viewed from the axial direction of the mold, the center of the cover and the center of the mold substantially coincide with each other. In the arranged state, when the diameter of the mold in a cross section perpendicular to the axis of the mold is D (m) with respect to the surface of the mold , at least 0.05 D in a direction parallel to the axis of the mold A drying step including the step of rotating the mold at least 0.5 rpm about the axis of the mold while generating an air flow flowing at (m / s) .
被加工物を用意する工程と、
前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、
前記型から、硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜を剥離する工程と
を包含する、反射防止膜の製造方法。 A process of preparing a mold which has been subjected to a release treatment by the release treatment method according to any one of claims 1 to 7 ;
Preparing a workpiece;
Curing the photocurable resin by irradiating the photocurable resin with light in a state in which the photocurable resin is applied between the mold and the surface of the workpiece;
And exfoliating an antireflective film formed of a cured photocurable resin from the mold.
前記型を、前記カバーの軸と略平行に、前記型の軸の周りに回転可能に支持し、前記型を少なくとも0.5rpmで回転させるように構成されている、回転支持構造体と、
前記第1開口から、前記カバーの軸に略平行な気流であって、前記型の軸に垂直な断面における前記型の直径をD(m)とすると、少なくとも0.05D(m/s)の流速を有する気流を供給するように構成されている、気流供給装置と
を有する、離型処理装置。 A cylindrical cover having a first opening and a second opening, wherein a cylindrical or cylindrical mold having a porous alumina layer on the surface is disposed between the first opening and the second opening of the cover. A cover disposed so that the center of the cover and the center of the mold substantially coincide with each other when viewed in the axial direction of the cover;
A rotational support structure, rotatably supported about the mold axis substantially parallel to the axis of the cover and configured to rotate the mold at least 0.5 rpm;
An air flow substantially parallel to the axis of the cover from the first opening, and the diameter of the mold in a cross section perpendicular to the axis of the mold is D (m), at least 0.05 D (m / s) An air flow supply device and an air flow supply device configured to supply an air flow having a flow velocity
A mold release processing apparatus.
前記台座の少なくとも一部は、前記第1開口と前記第2開口との間に位置する、請求項9または10に記載の離型処理装置。 The rotary support structure comprises a motor and a pedestal coupled to a drive shaft of the motor,
The mold release processing apparatus according to claim 9 , wherein at least a part of the pedestal is located between the first opening and the second opening.
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