JP6539956B2 - Lead frame, resin molded body, surface mount type electronic component, surface mount type light emitting device, and lead frame manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、チップ部品が取り付けられるリードフレーム、このリードフレームを用いた樹脂成型体、表面実装型電子部品、及び表面実装型発光装置に関する。また、このリードフレームを製造するリードフレーム製造方法に関する。   The present invention relates to a lead frame to which a chip part is attached, a resin molded body using the lead frame, a surface mounted electronic component, and a surface mounted light emitting device. The present invention also relates to a method of manufacturing a lead frame.

従来より、ダイオードやLED(Light Emitting Diode)等のチップ(ベアチップ)をパッケージに封入する際に、チップをパッケージの外部と接続するためのリードフレームが広く用いられている。また、リードフレームにチップを取り付ける際に、ワイヤボンディングではなく、チップを直接リードフレームに取り付けるいわゆるフリップチップ実装技術が知られている。   Conventionally, when a chip (bare chip) such as a diode or a light emitting diode (LED) is sealed in a package, a lead frame for connecting the chip to the outside of the package has been widely used. In addition, when attaching a chip to a lead frame, there is known a so-called flip chip mounting technology in which the chip is directly attached to the lead frame instead of wire bonding.

このようなフリップチップ実装では、リードフレームを例えば正極、負極というように、複数のリードとして用いる場合がある。このような場合、各リードが絶縁のために分離され、チップが分離されたリード間に跨がって実装される(例えば、特許文献1参照)。   In such flip chip mounting, a lead frame may be used as a plurality of leads such as a positive electrode and a negative electrode. In such a case, the leads are separated for insulation, and the chip is mounted across the separated leads (see, for example, Patent Document 1).

特開平5−291345号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 5-291345

ところで、近年、チップの小型化が進み、チップの表面積が減少して放熱の困難性が増大している。そのため、チップの放熱効果をより向上したいというニーズがある。   By the way, in recent years, the miniaturization of chips has progressed, the surface area of the chips has decreased, and the difficulty of heat radiation has increased. Therefore, there is a need to further improve the heat dissipation effect of the chip.

本発明は、チップの放熱効果を向上することが容易なリードフレーム、このリードフレームを用いた樹脂成型体、表面実装型電子部品、及び表面実装型発光装置を提供することを目的とする。また、このリードフレームを製造するリードフレーム製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a lead frame that can easily improve the heat dissipation effect of a chip, a resin molded body using the lead frame, a surface mounted electronic component, and a surface mounted light emitting device. Another object of the present invention is to provide a lead frame manufacturing method for manufacturing this lead frame.

本発明に係るリードフレームは、チップを実装するための板状の第1リードと第2リードとを含み、前記第1及び第2リードとは、同一平面内で間隔をあけて配置され、前記第1リードの前記間隔側の端縁である第1端縁と、前記間隔を挟んで前記第1端縁と対向配置された前記第2リードの端縁である第2端縁とにおける少なくとも一部の第1領域において、前記間隔が前記第1及び第2リードの中央部の厚さより狭く、前記間隔は、前記第1領域において前記チップが当該間隔を跨いでその一端が前記第1リード、他端が前記第2リードに取り付け可能に設けられている。   The lead frame according to the present invention includes a plate-like first lead and a second lead for mounting a chip, and the first and second leads are spaced apart in the same plane, At least one of a first end which is an end on the spacing side of the first lead, and a second end which is an end of the second lead disposed opposite to the first end across the spacing. In the first region of the portion, the distance is narrower than the thickness of the central portion of the first and second leads, and the distance is such that the chip crosses the distance in the first region and one end thereof is the first lead, The other end is provided to be attachable to the second lead.

この構成によれば、第1リードと第2リードには、チップが実装されるから、第1リードと第2リードとは、チップの放熱板として機能する。また、第1リードと第2リードの間隔が、第1及び第2リードの中央部の厚さより狭いので、リードの存在しない領域の面積が少なくなり、第1及び第2リードの面積、すなわち放熱面積が増大する結果、チップの放熱効果を向上することが容易となる。また、このリードフレームの第1領域において、チップを当該間隔を跨いでその一端を第1リード、他端を第2リードに取り付けた場合、チップの下面と対向するリード面積が大きくなるから、チップをリードに接触させて放熱することが容易となる。   According to this configuration, since the chip is mounted on the first lead and the second lead, the first lead and the second lead function as a heat dissipation plate of the chip. In addition, since the distance between the first lead and the second lead is smaller than the thickness of the central portion of the first and second leads, the area of the area where there is no lead is reduced, and the area of the first and second leads As a result of the increase in area, it becomes easy to improve the heat dissipation effect of the chip. Further, in the first region of the lead frame, when the chip is attached to the first lead and the other end to the second lead across the gap, the lead area facing the lower surface of the chip becomes large. It becomes easy to make the lead contact the lead and radiate heat.

また、前記第1領域において前記間隔を挟んで互いに対向する前記第1リードの端面と前記第2リードの端面とは、前記第1及び第2リードにおける前記チップの取り付け面側から前記第1及び第2リードの厚み方向に離れるに従って前記間隔が拡がるように形成されていることが好ましい。   Further, the end face of the first lead and the end face of the second lead, which face each other across the gap in the first region, are the first and second leads from the attachment surface side of the chip in the first and second leads. It is preferable that the space is formed to be wider as it is separated in the thickness direction of the second lead.

第1領域における間隔は、リードの厚さより狭いため、リードフレームを樹脂と一体成形する際に、第1リードと第2リードの間に樹脂が入りにくい。そこでこの構成によれば、間隔を挟んで互いに対向する第1リードの端面と第2リードの端面とを、チップの取り付け面側から第1リード及び第2リードの厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成することで、両端面の間に樹脂が入り易くなり、第1リード、第2リードと樹脂との結合がより強固となり、樹脂が剥離しにくくなる。   Since the distance in the first region is smaller than the thickness of the leads, when the lead frame is integrally molded with the resin, it is difficult for the resin to enter between the first lead and the second lead. Therefore, according to this configuration, the distance between the end face of the first lead and the end face of the second lead facing each other across the gap increases as the distance from the chip attachment surface to the thickness direction of the first lead and the second lead increases. By forming as described above, the resin is easily inserted between the both end surfaces, the bond between the first lead and the second lead and the resin becomes stronger, and the resin becomes difficult to peel off.

また、前記第1及び第2リードの一方の面には、前記第1領域において、前記間隔に沿って延びる端縁付近に突起部が形成されていることが好ましい。   Further, it is preferable that a protrusion is formed in the first area in the vicinity of an end edge extending along the interval on one surface of the first and second leads.

この構成によれば、突起部をチップの取り付け面側に形成した場合、突起部が取り付けられたチップの下面に接触し、チップとリードとの間の熱抵抗が低下する結果、チップの放熱効果を向上することが容易となる。また、突起部をチップの取り付け面とは逆の面に形成した場合、第1リード及び第2リードを樹脂と一体成形した場合に突起部が樹脂にくい込むことで、第1リード、第2リードと樹脂との結合がより強固となり、樹脂が剥離しにくくなる。   According to this configuration, when the projection is formed on the chip mounting surface side, the projection is in contact with the lower surface of the chip to which it is attached, and the thermal resistance between the chip and the lead is reduced. Is easy to improve. In addition, when the projection is formed on the surface opposite to the chip attachment surface, the first lead and the second lead can be made by incorporating the resin into the resin when the first lead and the second lead are integrally molded with the resin. The bond between the resin and the resin becomes stronger, making it difficult for the resin to peel off.

また、前記第1領域は、前記第1及び第2端縁の中央部を含み、前記第1及び第2端縁の両端付近を除く領域であり、前記第1及び第2端縁のうち前記第1領域を除く第2領域では、前記間隔が前記第1及び第2リードの中央部の厚さ以上であることが好ましい。   In addition, the first region is a region including central portions of the first and second edges and excluding the vicinity of both ends of the first and second edges, and the first region is the region among the first and second edges. Preferably, in the second region excluding the first region, the distance is equal to or greater than the thickness of the central portion of the first and second leads.

この構成によれば、間隔が狭い第1領域の両側に、第1領域より間隔が広く、リードの厚さよりも間隔の広い第2領域が設けられるので、間隔の広い第2領域から第1領域の間隔に樹脂を流し入れることができる。その結果、間隔が狭く、樹脂が入り込みにくい第1領域の間隔に樹脂を充填することが容易となる。   According to this configuration, since the second regions, which are wider than the first region and wider than the lead thickness, are provided on both sides of the narrow first region, the second region to the first region are wider. The resin can be poured into the interval of As a result, it becomes easy to fill the resin into the gap of the first region where the gap is narrow and the resin hardly enters.

また、前記第2領域は、前記間隔が略一定の第3領域と、前記第1及び第2端縁の端部に向かって前記間隔が徐々に拡大する第4領域とを含むことが好ましい。   Preferably, the second region includes a third region in which the distance is substantially constant, and a fourth region in which the distance gradually increases toward the ends of the first and second end edges.

この構成によれば、リードフレームを樹脂と一体成形する際に、樹脂の導入路を徐々に狭めることで、第4領域によって樹脂を第3領域へ誘導し、第3領域から第1領域の間隔に樹脂を流し入れることができるので、間隔が狭く、樹脂が入り込みにくい間隔に樹脂を充填することが容易となる。   According to this configuration, when the lead frame is integrally molded with the resin, the resin is guided to the third region by the fourth region by gradually narrowing the introduction path of the resin, and the distance from the third region to the first region Since the resin can be poured into, it is easy to fill the resin in the interval where the interval is narrow and the resin is difficult to enter.

また、前記第1及び第2リードの外縁のうち少なくとも一部は、前記第1及び第2リードの中央部よりも薄くされていることが好ましい。   Preferably, at least a part of the outer edge of the first and second leads is thinner than the central portion of the first and second leads.

この構成によれば、第1及び第2リードの外縁のうち少なくとも一部が薄くされているので、リードフレームを樹脂と一体成形する際に、薄い部分で樹脂の流路が広くなり、リードフレーム全体に樹脂が広がり易くなる結果、リードフレームへの樹脂の供給を効率よく均一化することが容易になる。また、第1リード及び第2リードと樹脂との結合が、より強固となり、第1リード及び第2リードから樹脂が剥離しにくくなる。   According to this configuration, at least a part of the outer edge of the first and second leads is thinned, so when the lead frame is integrally molded with the resin, the resin flow path becomes wider at the thin portion, and the lead frame As a result of the resin being easily spread over the entire surface, it becomes easy to efficiently and uniformly supply the resin to the lead frame. Further, the bond between the first lead and the second lead and the resin becomes stronger, and the resin is less likely to be peeled off from the first lead and the second lead.

また、前記第1領域における前記間隔は、100μm未満であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said space | interval in a said 1st area | region is less than 100 micrometers.

リードによるチップの放熱効果を効果的に生じさせるために、チップが取り付けられる第1領域の間隔は、100μm未満が好適である。   In order to effectively produce the heat dissipation effect of the chip by the leads, the distance between the first regions to which the chip is attached is preferably less than 100 μm.

また、前記第1領域における前記間隔は、50μm未満であることがより好ましい。   Moreover, as for the said space | interval in a said 1st area | region, it is more preferable that it is less than 50 micrometers.

リードによるチップの放熱効果を効果的に生じさせるために、チップが取り付けられる第1領域の間隔は、50μm未満がより好適である。   In order to effectively produce the heat dissipation effect of the chip by the leads, the distance between the first regions to which the chip is attached is more preferably less than 50 μm.

また、前記第1領域における前記間隔は、導電性の板状部材に対して一方の面側からエネルギーを照射して前記板状部材を切断することにより形成されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said space | interval in a said 1st area | region is formed by irradiating energy from one surface side with respect to a conductive plate-shaped member, and cut | disconnecting the said plate-shaped member.

この構成によれば、エネルギーの照射幅を細く絞ることによって、リードの厚さよりも狭い間隔を形成することが容易である。   According to this configuration, it is easy to form an interval narrower than the thickness of the leads by narrowing down the irradiation width of energy.

また、前記エネルギーは、レーザー光であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said energy is a laser beam.

レーザー加工によれば、リードの厚さよりも狭く、100μm未満、あるいは50μm未満の線幅で第1領域の間隔を形成することが容易である。   According to laser processing, it is easy to form the space of the first region with a line width smaller than the thickness of the lead, less than 100 μm, or less than 50 μm.

また、前記第1及び第2リードの外縁における前記第1領域とは異なる領域が、エッチング又は打ち抜き加工により形成されていることが好ましい。   In addition, it is preferable that a region different from the first region at the outer edge of the first and second leads is formed by etching or punching.

エッチング又は打ち抜き加工は、第1領域のようにリードの厚みよりも狭い隙間を形成するには適さないが、加工コストが安価である。そこで、第1領域とは異なり、リードの間隔を狭くする必要のない部分を、エッチング又は打ち抜き加工で加工することによって、リードフレームの製造コストを低減することが容易となる。   Etching or punching is not suitable for forming a gap narrower than the thickness of the leads as in the first region, but the processing cost is low. Therefore, unlike the first region, it is easy to reduce the manufacturing cost of the lead frame by processing the portion where the lead interval does not need to be narrowed by etching or punching.

また、本発明に係る樹脂成型体は、上述のリードフレームと、前記リードフレームと一体形成された樹脂層とを備える。   A resin molded body according to the present invention includes the above-described lead frame and a resin layer integrally formed with the lead frame.

この樹脂成型体は、上述のリードフレームを備えるので、チップの放熱効果を向上することが容易である。   Since this resin molded body is provided with the above-mentioned lead frame, it is easy to improve the heat dissipation effect of the chip.

また、本発明に係る表面実装型電子部品は、上述のリードフレームと、前記リードフレームと一体形成された樹脂層と、前記リードフレームにおける前記第1領域において前記間隔を跨いで一端が前記第1リードに、他端が前記第2リードに取り付けられた前記チップとを備える。   Further, in the surface mount type electronic component according to the present invention, the first end of the lead frame, the resin layer integrally formed with the lead frame, and the first end across the interval in the first region of the lead frame. The lead includes the chip whose other end is attached to the second lead.

この構成によれば、チップで生じた熱が第1及び第2リードによって放熱され、かつ第1領域においてリードの間隔がリードの厚みよりも狭くされることで第1及び第2リードの放熱面積が増大されると共に、チップの下面と対向するリード面積が増大する結果、チップの熱を第1及び第2リードに逃がすことが容易である。その結果、チップの放熱効果を向上することが容易となる。   According to this configuration, the heat generated in the chip is dissipated by the first and second leads, and the distance between the leads in the first region is smaller than the thickness of the leads, whereby the heat radiation area of the first and second leads As a result of the increased lead area and the increased lead area facing the lower surface of the chip, it is easy to dissipate the heat of the chip to the first and second leads. As a result, it becomes easy to improve the heat dissipation effect of the chip.

また、本発明に係る表面実装型発光装置は、上述のリードフレームと、前記リードフレームと一体形成された樹脂層と、前記リードフレームにおける前記第1領域において前記間隔を跨いで一端が前記第1リードに、他端が前記第2リードに取り付けられた前記チップとしての発光素子とを備える。   Further, in the surface mount type light emitting device according to the present invention, the first end of the lead frame, the resin layer integrally formed with the lead frame, and the first end across the distance in the first region of the lead frame. The lead includes the light emitting element as the chip, the other end of which is attached to the second lead.

この構成によれば、発光素子で生じた熱が第1及び第2リードによって放熱され、かつ第1領域においてリードの間隔がリードの厚みよりも狭くされることで第1及び第2リードの放熱面積が増大されると共に、発光素子の下面と対向するリード面積が増大する結果、発光素子の熱を第1及び第2リードに逃がすことが容易である。その結果、発光素子の放熱効果を向上することが容易となる。   According to this configuration, the heat generated in the light emitting element is dissipated by the first and second leads, and the distance between the leads in the first region is made narrower than the thickness of the leads, so that the radiation of the first and second leads is dissipated. As the area is increased and the lead area facing the lower surface of the light emitting element is increased, it is easy to dissipate the heat of the light emitting element to the first and second leads. As a result, the heat dissipation effect of the light emitting element can be easily improved.

また、本発明に係るリードフレーム製造方法は、上述のリードフレームを製造するリードフレーム製造方法であって、導電性の板状部材を、前記第1領域においてレーザー光により切断することによって前記間隔を形成するレーザ加工工程と、前記板状部材を、前記第1領域とは異なる領域でエッチング又は打ち抜き加工により切断することによって前記第1及び第2リードの外縁を形成する外縁加工工程とを含む。   A lead frame manufacturing method according to the present invention is the lead frame manufacturing method for manufacturing the above-described lead frame, and the space is cut by cutting a conductive plate member with a laser beam in the first region. The laser processing step to be formed, and the outer edge processing step of forming the outer edge of the first and second leads by cutting the plate-like member by etching or punching in a region different from the first region.

この構成によれば、第1領域の加工にレーザー光を用いるので、リードの厚さよりも狭い間隔を形成することが容易である。また、第1領域とは異なり、リードの間隔を狭くする必要のない部分を、加工コストが安価なエッチング又は打ち抜き加工で加工することによって、リードフレームの製造コストを低減することが容易となる。   According to this configuration, since the laser light is used for processing the first region, it is easy to form the interval narrower than the thickness of the lead. Further, unlike the first region, it is easy to reduce the manufacturing cost of the lead frame by processing a portion where it is not necessary to narrow the lead interval by etching or punching at low processing cost.

また、前記外縁加工工程は、エッチングを行う工程で有り、前記レーザ加工工程を実行後に前記外縁加工工程を実行することが好ましい。   Further, the outer edge processing step is a step of performing etching, and it is preferable to execute the outer edge processing step after the laser processing step is performed.

この構成によれば、レーザ加工工程で生じたデブリ又はドロスを、エッチングにより取り除くことが可能となる。   According to this configuration, it is possible to remove the debris or dross generated in the laser processing process by etching.

このような構成のリードフレーム、樹脂成型体、表面実装型電子部品、表面実装型発光装置、及びリードフレーム製造方法は、チップの放熱効果を向上することが容易となる。   The lead frame, the resin molded body, the surface mounted electronic component, the surface mounted light emitting device, and the lead frame manufacturing method of such a configuration facilitate improving the heat dissipation effect of the chip.

本発明の一実施形態に係るリードフレームの全体構成を、模式的に示す上面図である。FIG. 1 is a top view schematically showing an entire configuration of a lead frame according to an embodiment of the present invention. 図1に示すリードフレームの部分拡大図である。It is the elements on larger scale of the lead frame shown in FIG. 図2に示す単位実装領域を第三角法で示した三面図である。It is a three-sided figure which showed the unit mounting area | region shown in FIG. 2 by the third trigonometry. 図3に示すリードフレームの変形例を示す正面図である。It is a front view which shows the modification of the lead frame shown in FIG. 図3に示すリードフレームの変形例を示す正面図である。It is a front view which shows the modification of the lead frame shown in FIG. 図3に示すリードフレームの変形例を示すX−X断面図である。It is XX sectional drawing which shows the modification of the lead frame shown in FIG. 図3に示すリードフレームの変形例を示すX−X断面図である。It is XX sectional drawing which shows the modification of the lead frame shown in FIG. 図2に示すリードフレームの変形例を示す部分拡大図である。It is the elements on larger scale which show the modification of the lead frame shown in FIG. 本発明の一実施形態に係るリードフレームの製造方法の一例について説明するための説明図である。It is an explanatory view for explaining an example of a manufacturing method of a lead frame concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るリードフレームの製造方法の一例について説明するための説明図である。It is an explanatory view for explaining an example of a manufacturing method of a lead frame concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る表面実装型発光装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the surface mounted type light-emitting device which concerns on one Embodiment of this invention. 図11に示す表面実装型発光装置の製造方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the surface mounted type light-emitting device shown in FIG. 図11に示す表面実装型発光装置の製造方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the surface mounted type light-emitting device shown in FIG. 図11に示す表面実装型発光装置の製造方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the surface mounted type light-emitting device shown in FIG. 図11に示す表面実装型発光装置の製造方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the surface mounted type light-emitting device shown in FIG.

以下、本発明に係る実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において、互いに対応する構成には同一の符号を付し、その説明を省略する。図1は、本発明の一実施形態に係るリードフレーム1の全体構成を、模式的に示す上面図である。リードフレーム1は、薄板状の導電性を有する略矩形状の金属板などに、例えばエッチング加工やプレスによる打ち抜き加工などの加工処理が施されて形成されている。金属板の材料は特に限定されないが、例えば鉄、銅、リン青銅、銅合金等を用いることができる。また、リードフレーム1の表面全体、又は表面の一部にメッキが施されていてもよい。   Hereinafter, an embodiment according to the present invention will be described based on the drawings. In each of the drawings, the same reference numerals are given to components corresponding to each other, and the description thereof will be omitted. FIG. 1 is a top view schematically showing the entire configuration of a lead frame 1 according to an embodiment of the present invention. The lead frame 1 is formed by subjecting a thin plate-like, substantially rectangular metal plate or the like having a conductive property to processing such as etching or punching using a press. Although the material of the metal plate is not particularly limited, for example, iron, copper, phosphor bronze, copper alloy and the like can be used. In addition, the entire surface of the lead frame 1 or a part of the surface may be plated.

リードフレーム1は、複数の単位実装領域10が、縦横にマトリクス状に配置されて構成されている。各単位実装領域10は、同一平面内で互いに隔離して横方向に並ぶ板状の、第1リード20と第2リード21とを含んでいる。第1リード20と第2リード21との間には、縦方向に延びるスリット22(間隔)が形成されている。スリット22は、単位実装領域10に属する第1リード20と第2リード21との間の間隔を構成している。また、各単位実装領域10相互間で、各単位実装領域10の第1リード20及び第2リード21は、隣接する他の単位実装領域10の第1リード20及び第2リード21との間に間隔を有して配設されている。   The lead frame 1 is configured by arranging a plurality of unit mounting areas 10 in a matrix in vertical and horizontal directions. Each unit mounting area 10 includes a plate-like first lead 20 and a second lead 21 which are arranged in the same plane and separated from each other in the same plane. Slits 22 (spaces) extending in the longitudinal direction are formed between the first lead 20 and the second lead 21. The slits 22 constitute an interval between the first lead 20 and the second lead 21 belonging to the unit mounting area 10. Further, between each unit mounting area 10, the first lead 20 and the second lead 21 of each unit mounting area 10 are between the first lead 20 and the second lead 21 of another adjacent unit mounting area 10. It is arranged with intervals.

第1リード20と第2リード21とは、略矩形形状とされている。第1リード20及び第2リード21には、いわゆるアンカーホール等の貫通孔が形成されていてもよい。なお、リードフレーム1は、複数の単位実装領域10を含む例を示したが、一つの単位実装領域10からリードフレーム1が構成されていてもよい。   The first lead 20 and the second lead 21 have a substantially rectangular shape. Through holes such as so-called anchor holes may be formed in the first lead 20 and the second lead 21. Although the example in which the lead frame 1 includes a plurality of unit mounting areas 10 is shown, the lead frame 1 may be configured from one unit mounting area 10.

以下、第1リード20と第2リード21が並ぶ方向を横方向と称し、横方向と交差(略直交、実質的に直交)する方向を縦方向と称する。また、第1リード20と第2リード21とを総称して、単に”リード”と称することがある。   Hereinafter, the direction in which the first lead 20 and the second lead 21 are arranged will be referred to as the lateral direction, and the direction intersecting (substantially orthogonal, substantially orthogonal) with the lateral direction will be referred to as the longitudinal direction. Also, the first lead 20 and the second lead 21 may be collectively referred to simply as "lead".

複数の単位実装領域10の集合体11の周囲には、間隔を空けて集合体11を囲む略矩形の枠体12が設けられている。枠体12は、図中、集合体11の下側で横方向に沿って延びる帯状の枠辺12aと、集合体11の上側で横方向に沿って延びる帯状の枠辺12bと、集合体11の左側で縦方向に沿って延びる帯状の枠辺12cと、集合体11の右側で縦方向に沿って延びる帯状の枠辺12dとが枠状に連結されて形成されている。   Around the aggregate 11 of the plurality of unit mounting areas 10, a substantially rectangular frame 12 surrounding the aggregate 11 is provided at intervals. In the figure, the frame 12 has a strip-shaped frame side 12 a extending in the lateral direction below the aggregate 11, a strip-like frame side 12 b extending in the lateral direction above the aggregate 11, and the aggregate 11. A strip-like frame side 12c extending along the vertical direction on the left side of the frame and a strip-like frame side 12d extending along the vertical direction on the right side of the assembly 11 are formed in a frame shape.

各第1リード20及び第2リード21は、後述の接続片Cによって他の単位実装領域10の第1リード20や第2リード21と接続されている。集合体11は、接続片Cによって、枠体12と接続されている。これにより、複数の単位実装領域10と枠体12とが、リードフレーム1として一体化され、各単位実装領域10がばらばらにならないようにされている。   The first leads 20 and the second leads 21 are connected to the first leads 20 and the second leads 21 of another unit mounting area 10 by connection pieces C described later. The assembly 11 is connected to the frame 12 by the connection piece C. As a result, the plurality of unit mounting areas 10 and the frame 12 are integrated as the lead frame 1 so that the unit mounting areas 10 are not separated.

枠体12の枠辺12a,12bには、縦方向に長尺の長孔14が、複数、横方向に所定間隔ごとに形成され、枠辺12c,12dには、横方向に長尺の長孔14が、複数、縦方向に所定間隔ごとに形成されている。長孔14は、ダイジングマークを示している。後述の切断工程では、長孔14を目印にして、あるいは長孔14からダイジングブレードを入れることにより、リードフレーム1がまず縦方向に沿って短冊状に切断される。短冊状に切断されたリードフレーム1が、さらに横方向に沿って切断されることで、各単位実装領域10がバラバラに個片化されるようになっている。なお、先に縦方向に沿って切断する例を説明したが、先に横方向に沿って切断してもよい。リードフレーム1は、後述する型締め工程でキャビティを有する金型内に固定される。このとき、例えば金型のキャビティの縁部が、一点鎖線15で示すように、長孔14を横切るように配置される。   A plurality of long holes 14 elongated in the vertical direction are formed at predetermined intervals in the horizontal direction in the frame sides 12a and 12b of the frame 12, and the frame sides 12c and 12d are elongated in the horizontal direction A plurality of holes 14 are formed at predetermined intervals in the longitudinal direction. The long holes 14 indicate the dicing marks. In the cutting process to be described later, the lead frame 1 is first cut into a strip along the longitudinal direction by using the long hole 14 as a mark or inserting a dicing blade from the long hole 14. The lead frame 1 cut into strips is further cut along the lateral direction, whereby each unit mounting area 10 is separated into pieces. Although the example of cutting along the vertical direction has been described above, it may be cut along the horizontal direction first. The lead frame 1 is fixed in a mold having a cavity in a clamping step described later. At this time, for example, the edge of the cavity of the mold is arranged to cross the long hole 14 as indicated by a dashed dotted line 15.

図1に示すリードフレーム1は、いわゆるMAP(Mold Array Package)タイプのリードフレームである。MAPタイプのリードフレームを樹脂と一体成形する際には、集合体11全体を収容する単一の(一つながりの)キャビティが形成された金型を用いる。これにより、例えば図1に一点鎖線15で示す領域全体が、金型の単一のキャビティ内に収納される。この状態で、金型のキャビティの一方端部から樹脂をキャビティ内に供給し、キャビティ内に樹脂を充満させる。このようにして、後述するMAPタイプの樹脂成型体5が形成される。MAPタイプの樹脂成型体5は、集合体11全体が樹脂で覆われている。そして、樹脂とリードフレーム1とをひとまとめに切断することにより個片化され、後述する表面実装型発光装置6が得られる。   The lead frame 1 shown in FIG. 1 is a so-called MAP (Mold Array Package) type lead frame. When integrally molding a MAP type lead frame with a resin, a mold is used in which a single (one connection) cavity for containing the entire assembly 11 is formed. Thereby, for example, the entire area indicated by the alternate long and short dash line 15 in FIG. 1 is accommodated in a single cavity of the mold. In this state, the resin is supplied into the cavity from one end of the cavity of the mold to fill the cavity with the resin. Thus, a MAP-type resin molded body 5 described later is formed. In the MAP-type resin molded body 5, the entire assembly 11 is covered with resin. Then, the resin and the lead frame 1 are cut into a single piece to be singulated, and a surface mounted light emitting device 6 described later can be obtained.

図2は、図1に示すリードフレーム1の部分拡大図である。図2は、四つの単位実装領域10を拡大して示している。図2に示す例では、横方向に互いに隣接する二つの単位実装領域10間で、第2リード21と第1リード20とが例えば帯状に延びる接続片Cによって接続されている。また、縦方向に互いに隣接する二つの単位実装領域10間で、各単位実装領域10の第1リード20同士、及び第2リード21同士が例えば帯状に延びる接続片Cによって接続されている。これにより、各単位実装領域10相互間の位置関係、及び第1リード20と第2リード21との位置関係が、維持されるようになっている。   FIG. 2 is a partially enlarged view of the lead frame 1 shown in FIG. FIG. 2 shows four unit mounting areas 10 in an enlarged manner. In the example shown in FIG. 2, the second lead 21 and the first lead 20 are connected by, for example, a strip C extending between two unit mounting areas 10 adjacent to each other in the lateral direction. Further, between the two unit mounting areas 10 adjacent to each other in the vertical direction, the first leads 20 of each unit mounting area 10 and the second leads 21 are connected by, for example, connection strips C extending in a strip shape. Thereby, the positional relationship between each unit mounting area 10 and the positional relationship between the first lead 20 and the second lead 21 are maintained.

第1リード20及び第2リード21には、それぞれ二つずつ、樹脂成形体との密着性を向上させるためのアンカーホールHが形成されている。   In each of the first lead 20 and the second lead 21, two anchor holes H for improving the adhesion to the resin molded body are formed.

図3は、図2に示す単位実装領域10を第三角法で示した三面図である。第1リード20のスリット22側の端縁である第1端縁23と、スリット22を挟んで第1端縁23と対向配置された第2リード21の端縁である第2端縁24とにおける中央を含む一部の第1領域A1において、第1リード20と第2リード21との間隔W1(スリット22の幅、第1端縁23と第2端縁24との間隔)が第1リード20及び第2リード21の中央部(面積重心の位置)の厚さT1より狭くされている。   FIG. 3 is a trihedral view showing the unit mounting area 10 shown in FIG. 2 by the third trigonometry. A first end edge 23 which is an end edge of the first lead 20 on the slit 22 side, and a second end edge 24 which is an end edge of the second lead 21 disposed opposite to the first end edge 23 across the slit 22 In a part of the first region A1 including the center of the gap, the distance W1 between the first lead 20 and the second lead 21 (the width of the slit 22, the distance between the first edge 23 and the second edge 24) is The thickness T1 is smaller than the thickness T1 of the central portion (the position of the center of gravity of the area) of the lead 20 and the second lead 21.

第1リード20及び第2リード21の中央部の厚さT1は、200μm〜300μm程度とされている。第1領域A1における第1リード20と第2リード21との間隔W1は、30μm〜50μmとされており、T1>W1となるようにされている。間隔W1は、厚さT1より狭く、100μm未満、より好ましくは50μm未満である。   The thickness T1 of the central portion of the first lead 20 and the second lead 21 is about 200 μm to 300 μm. The distance W1 between the first lead 20 and the second lead 21 in the first region A1 is 30 μm to 50 μm, and T1> W1. The spacing W1 is smaller than the thickness T1 and less than 100 μm, more preferably less than 50 μm.

間隔W1を厚さT1より狭く、100μm未満、より好ましくは50μm未満とし、後述するように第1リード20と第2リード21とに跨がるようにチップ3をフリップチップ実装することにより、チップ3の下部に配置される第1リード20と第2リード21の面積が増大するので、チップ3と第1リード20及び第2リード21との接触面積を増大させることが容易となり、第1リード20及び第2リード21を介してチップ3を放熱させることが容易となる。   The chip 3 is flip-chip mounted so that the distance W1 is smaller than the thickness T1 and less than 100 μm, more preferably less than 50 μm, and straddles the first lead 20 and the second lead 21 as described later. Since the area of the first lead 20 and the second lead 21 arranged in the lower part of 3 increases, the contact area between the chip 3 and the first lead 20 and the second lead 21 can be easily increased, and the first lead It becomes easy to dissipate the chip 3 through the 20 and the second lead 21.

また、市場に流通しているチップ3の長さは、0.5mm〜1mm程度であり、さらに0.3mm程度のチップ3がリリースされる見込みである。このように、長さ0.3mmのチップ3であっても、間隔W1が100μm未満であれば、間隔W1を跨いでチップ3をフリップチップ実装した場合であってもチップ3を安定的に第1リード20及び第2リード21に取り付けることができる。さらに間隔W1を50μm未満とすれば、第1リード20及び第2リード21に取り付けられたチップ3の安定性が向上する。   The length of the chips 3 distributed in the market is about 0.5 mm to 1 mm, and it is expected that the chips 3 of about 0.3 mm will be released. As described above, even if the chip 3 is 0.3 mm in length, if the distance W1 is less than 100 μm, the chip 3 can be stably held even if the chip 3 is flip-chip mounted across the distance W1. The first lead 20 and the second lead 21 can be attached. Furthermore, if the distance W1 is less than 50 μm, the stability of the chip 3 attached to the first lead 20 and the second lead 21 is improved.

なお、リードフレーム1(単位実装領域10)は、第1リード20と第2リード21とに跨がるようにチップ3をフリップチップ実装可能であればよく、必ずしも実際に第1リード20と第2リード21とに跨がるようにチップ3がフリップチップ実装されなくてもよい。   The lead frame 1 (unit mounting area 10) may be flip-chip mounted so as to straddle the first lead 20 and the second lead 21. The chip 3 may not be flip chip mounted so as to straddle the two leads 21.

また、間隔W1を狭くすることによって、放熱板として機能する第1リード20及び第2リード21の面積を増大させることができるので、チップ3の放熱効率を向上させることができる。さらに、チップ3として発光素子を用いた場合には、第1リード20及び第2リード21は反射鏡としても機能するから、第1リード20及び第2リード21の面積を増大させることにより、表面実装型発光装置6の発光効率を向上させることができる。   In addition, since the area of the first lead 20 and the second lead 21 functioning as a heat sink can be increased by narrowing the gap W1, the heat radiation efficiency of the chip 3 can be improved. Furthermore, when a light emitting element is used as the chip 3, the first lead 20 and the second lead 21 also function as a reflecting mirror, so the surface of the first lead 20 and the second lead 21 is increased by increasing the area The luminous efficiency of the mounting type light emitting device 6 can be improved.

第1端縁23及び第2端縁24のうち第1領域A1を除く領域である第2領域A2には、第1領域と連なって間隔W3が略一定の第3領域A3と、第3領域A3と連なって第1端縁23及び第2端縁24の端部Eに向かって間隔W4が徐々に拡大する第4領域A4とが含まれる。   In the second area A2 which is an area excluding the first area A1 of the first edge 23 and the second edge 24, a third area A3 connected to the first area and having a substantially constant interval W3, and a third area A fourth area A4 in which the distance W4 gradually expands toward the end E of the first end edge 23 and the second end edge 24 in series with A3 is included.

間隔W3は、厚さT1と同じ例えば200μm〜300μm程度とされている。間隔W4は、端部Eに達したとき、すなわち最大に拡大したとき、厚さT1の2倍程度、例えば400μm〜600μm程度とされている。   The distance W3 is, for example, about 200 μm to 300 μm, which is the same as the thickness T1. The interval W4 is about twice the thickness T1, for example, about 400 μm to 600 μm when the end E is reached, that is, when it is enlarged to the maximum.

これにより、リードフレーム1を樹脂と一体成形する際に、樹脂の導入路を徐々に狭めることで、第4領域A4によって樹脂を第3領域A3へ誘導し、第3領域A3から第1領域A1の間隔W1に樹脂を流し入れることができるので、間隔が狭く、樹脂が入り込みにくい間隔W1に樹脂を充填することが容易となる。   Thereby, when the lead frame 1 is integrally molded with the resin, the resin introduction path is gradually narrowed to guide the resin to the third region A3 by the fourth region A4, and from the third region A3 to the first region A1. Since the resin can be poured into the space W1 of the above, it is easy to fill the resin into the space W1 where the space is narrow and the resin is difficult to enter.

なお、必ずしも第4領域A4を設ける必要はなく、第3領域A3が端部Eまで連続していてもよい。また、第3領域A3を備えず、例えば図4に示すように、第4領域A4が第1領域A1に連なって形成されていてもよい。また、第2領域A2を備えず、例えば図5に示すように、第1領域A1が第1リード20及び第2リード21を横断するように形成されていてもよい。   In addition, it is not necessary to necessarily provide 4th area | region A4, and 3rd area | region A3 may be continued to the edge part E. FIG. In addition, the third area A3 may not be provided, and for example, as shown in FIG. 4, the fourth area A4 may be formed to be continuous with the first area A1. Further, the second region A2 may not be provided, and for example, as shown in FIG. 5, the first region A1 may be formed to cross the first lead 20 and the second lead 21.

また、必ずしも第3領域A3と第1領域A1とが連続している必要はなく、第3領域A3と第4領域A4とが連続している必要もない。例えば図8に示すように、第3領域A3と第1領域A1との間に、間隔が第3領域A3よりも拡がる拡幅部が設けられていてもよい。   Furthermore, the third area A3 and the first area A1 do not necessarily have to be continuous, and the third area A3 and the fourth area A4 do not have to be continuous. For example, as shown in FIG. 8, a widened portion may be provided between the third area A3 and the first area A1 such that the distance is wider than that of the third area A3.

第1リード20及び第2リード21の、各外周部のうち第1領域A1を除く部分には、厚さT1よりも薄い厚さT2の薄縁部20a,21aが形成されている。薄縁部20a,21aは、例えばハーフエッチング等の加工手段により薄肉化されている。厚さT2は、例えば厚さT1の1/2程度とされ、例えば100μm〜150μm程度とされている。   Thin edge portions 20a and 21a having a thickness T2 thinner than the thickness T1 are formed on portions of the outer peripheries of the first lead 20 and the second lead 21 excluding the first region A1. The thin edge portions 20a and 21a are thinned by processing means such as half etching, for example. The thickness T2 is, for example, about half of the thickness T1, and is, for example, about 100 μm to 150 μm.

薄縁部20a,21aがその内側の領域よりも薄くされていることで、リードフレーム1を樹脂と一体成形する際に、集合体11の全域に樹脂が広がり易くなり、集合体11への樹脂の供給を効率よく均一に行なうことができる。また、第1リード20、第2リード21、及び接続片Cと樹脂との結合が、より強固となり、第1リード20、第2リード21、及び接続片Cから樹脂が剥離しにくくなる。   Since the thin edge portions 20a and 21a are thinner than the inner region, when the lead frame 1 is integrally formed with the resin, the resin is easily spread over the entire area of the assembly 11, and the resin of the assembly 11 is Supply can be performed efficiently and uniformly. Further, the bond between the first lead 20, the second lead 21, and the connection piece C and the resin becomes stronger, and the resin is less likely to be peeled from the first lead 20, the second lead 21, and the connection piece C.

また、第1領域A1については、後述するレーザ加工を行う際に、第1領域A1の厚みが薄いと変形が生じるおそれがある。そこで、レーザ加工による変形を防止する観点から、第1領域A1は厚さT1とすることが好ましい。また、後述する突起部26の形成を望まない場合、切断箇所にガスを供給してデブリを排除することが考えられるが、この場合、第1領域A1はハーフエッチングを行わず、第1領域A1を他の箇所と同じ厚さT1とした方が、ガスが流れやすくなる点で好ましい。   In the first region A1, when the thickness of the first region A1 is thin when performing laser processing to be described later, deformation may occur. Therefore, from the viewpoint of preventing deformation due to laser processing, it is preferable to set the first region A1 to a thickness T1. In addition, if it is not desired to form the protrusions 26 described later, it is conceivable to supply gas to the cut portion to eliminate debris, but in this case, the first region A1 is not subjected to half etching and the first region A1 It is preferable to set the same thickness T1 as the other portions in that the gas can easily flow.

なお、例えば図7に示すように、第1領域A1にも薄縁部20a,21aを形成してもよい。また、第1リード20及び第2リード21は、薄縁部20a,21aを有していなくてもよく、第1リード20及び第2リード21のうちいずれか一方のみが薄縁部20a,21aを有していてもよい。   For example, as shown in FIG. 7, the thin edge portions 20a and 21a may be formed in the first area A1. Further, the first lead 20 and the second lead 21 may not have the thin edge portions 20a and 21a, and only one of the first lead 20 and the second lead 21 has the thin edge portions 20a and 21a. It may be done.

図3を参照して、第1領域A1において間隔W1を挟んで互いに対向する第1リードの端面23aと第2リードの端面24aとは、第1リード20及び第2リード21におけるチップのチップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成されている。すなわち、端面23aと端面24aとは、チップ実装面Aから第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って離間するように、傾斜して形成されている。   Referring to FIG. 3, the end face 23a of the first lead and the end face 24a of the second lead facing each other across the gap W1 in the first region A1 are chips mounted on the chip in the first lead 20 and the second lead 21. As the distance from the surface A side in the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21 increases, the distance is increased. That is, the end face 23 a and the end face 24 a are formed to be inclined so as to be separated from the chip mounting surface A in the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21.

第1領域A1における間隔W1は厚さT1より狭いため、リードフレーム1を樹脂と一体成形する際に、端面23aと端面24aの間に樹脂が入りにくい。そこで、端面23aと端面24aとを、チップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成することで、端面23aと端面24aの間に樹脂が入り易くなり、第1リード20、第2リード21と樹脂との結合がより強固となり、樹脂が剥離しにくくなる。   Since the distance W1 in the first region A1 is smaller than the thickness T1, when the lead frame 1 is integrally molded with the resin, the resin is less likely to enter between the end face 23a and the end face 24a. Therefore, by forming the end face 23a and the end face 24a so that the distance increases in the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21 from the chip mounting face A side, resin is formed between the end face 23a and the end face 24a. The bond between the first lead 20 and the second lead 21 and the resin becomes stronger, and the resin becomes difficult to peel off.

端面23aと端面24aとの対向距離は、チップ実装面Aにおいて最も狭くなって間隔W1であり、最も拡がった位置で間隔W1+αとされている。αは、例えば20μm程度とされ、より具体的には、αは、例えば10μm以上、30μm以下の値にされている。   The facing distance between the end face 23a and the end face 24a is the narrowest distance W1 on the chip mounting surface A, and the widest position is the distance W1 + α. α is, for example, about 20 μm, and more specifically, α is, for example, 10 μm or more and 30 μm or less.

図6、図7は、図3に示す単位実装領域10の変形例を示すX−X断面図である。図6(a)に示す単位実装領域10は、第1リード20及び第2リード21のチップ実装面Aにおいて、第1領域A1の第1端縁23及び第2端縁24付近に突起部25が、端縁に沿って複数形成されている。突起部25の高さh1は、例えば0.1μm〜9μm程度とされている。   6 and 7 are cross-sectional views along the line X-X showing a modification of the unit mounting area 10 shown in FIG. The unit mounting area 10 shown in FIG. 6A is a protrusion 25 near the first end 23 and the second end 24 of the first area A1 on the chip mounting surface A of the first lead 20 and the second lead 21. Are formed along the edge. The height h1 of the protrusion 25 is, for example, about 0.1 μm to 9 μm.

図6(b)は、図6(a)に示す単位実装領域10にチップ3を実装した状態を示す説明図である。チップ3は、第1領域A1において、チップ3が間隔W1を跨いでその一端が第1リード20、他端が第2リード21に取り付けられる。チップ3の両端には、例えば正極と負極とに対応する電極31がそれぞれ設けられている。そして、各電極31が第1リード20及び第2リード21に半田32によって半田付けされて取り付けられる。   FIG. 6B is an explanatory view showing a state in which the chip 3 is mounted in the unit mounting area 10 shown in FIG. 6A. The chip 3 is attached to the first lead 20 at one end thereof and to the second lead 21 at the other end thereof in the first region A1 with the chip 3 straddling the gap W1. Electrodes 31 corresponding to, for example, a positive electrode and a negative electrode are respectively provided at both ends of the chip 3. Then, each electrode 31 is soldered and attached to the first lead 20 and the second lead 21 by the solder 32.

ここで、電極31が小さい場合、チップ3の電極31が設けられていない部分は、第1リード20及び第2リード21に密着せずに浮いてしまうおそれがある。   Here, when the electrode 31 is small, the portion of the chip 3 where the electrode 31 is not provided may float without being in close contact with the first lead 20 and the second lead 21.

そこで、第1領域A1の第1端縁23及び第2端縁24付近に突起部25を設けることで、突起部25がチップ3に接触することによって、チップ3とリードフレーム1との間の熱伝導を容易にし、チップ3の放熱性能を向上させることが可能となる。   Therefore, the protrusion 25 is provided in the vicinity of the first end edge 23 and the second end edge 24 of the first region A1 so that the protrusion 25 comes in contact with the chip 3. It is possible to facilitate heat conduction and improve the heat dissipation performance of the chip 3.

図7(a)に示す単位実装領域10は、第1リード20及び第2リード21のチップ実装面Aの反対側の裏面Bにおいて、第1領域A1の第1端縁23及び第2端縁24付近に突起部26が、端縁に沿って複数形成されている。突起部26の高さh2は、例えば0.1μm〜9μm程度とされている。   The unit mounting area 10 shown in FIG. 7A is the first end 23 and the second end of the first area A1 on the back surface B opposite to the chip mounting surface A of the first lead 20 and the second lead 21. A plurality of protrusions 26 are formed near the edge 24 along the edge. The height h2 of the protrusion 26 is, for example, about 0.1 μm to 9 μm.

図7(b)は、図7(a)に示す単位実装領域10にチップ3を実装した状態を示す説明図である。チップ3は、第1領域A1において、チップ3が間隔W1を跨いでその一端が第1リード20、他端が第2リード21に取り付けられる。チップ3の両端には、例えば正極と負極とに対応する電極31がそれぞれ設けられている。そして、各電極31が第1リード20及び第2リード21に半田32によって半田付けされて取り付けられる。   FIG. 7B is an explanatory view showing a state in which the chip 3 is mounted in the unit mounting area 10 shown in FIG. 7A. The chip 3 is attached to the first lead 20 at one end thereof and to the second lead 21 at the other end thereof in the first region A1 with the chip 3 straddling the gap W1. Electrodes 31 corresponding to, for example, a positive electrode and a negative electrode are respectively provided at both ends of the chip 3. Then, each electrode 31 is soldered and attached to the first lead 20 and the second lead 21 by the solder 32.

ここで、図7(b)に示す第1リード20及び第2リード21のチップ実装面Aには突起部が形成されておらず、チップ実装面Aが平坦になっている。その結果、電極31を可能な限り大きくすることで、第1リード20及び第2リード21のチップ実装面Aと電極31とが密着して半田付けされる面積を増大させ、チップ3とリードフレーム1との間の熱伝導を容易にし、チップ3の放熱性能を向上させることが可能となる。   Here, no protrusion is formed on the chip mounting surface A of the first lead 20 and the second lead 21 shown in FIG. 7B, and the chip mounting surface A is flat. As a result, by making the electrode 31 as large as possible, the area where the chip mounting surface A of the first lead 20 and the second lead 21 and the electrode 31 are in close contact and soldered is increased, and the chip 3 and the lead frame It is possible to facilitate heat conduction between 1 and 1 and to improve the heat dissipation performance of the chip 3.

また、第1領域A1の第1端縁23及び第2端縁24付近の裏面B側に突起部26が形成されているので、第1リード20及び第2リード21を樹脂と一体成形した場合に突起部26が樹脂にくい込むことで、第1リード20、第2リード21と樹脂との結合がより強固となり、樹脂が剥離しにくくなる。   In addition, since the protrusion 26 is formed on the back surface B side near the first end edge 23 and the second end edge 24 of the first region A1, when the first lead 20 and the second lead 21 are integrally molded with a resin When the protrusion 26 is embedded in the resin, the bond between the first lead 20 and the second lead 21 and the resin becomes stronger, and the resin becomes difficult to peel off.

特に、突起部26は、第1リード20及び第2リード21にチップ3が実装される重要な箇所の裏面であって、かつ板厚が薄く、リードの強度が弱い薄縁部20a,21aに形成されているので、このように重要かつ強度が弱い箇所の樹脂との結合を強化することで、表面実装型発光装置6等の完成品の信頼性を向上させることが可能となる。   In particular, the protrusion 26 is formed on the thin edge portions 20a and 21a which are the back surfaces of the important places where the chip 3 is mounted on the first lead 20 and the second lead 21 and which have a small thickness and weak lead strength. Because of this, by strengthening the bond with the resin of the portion where the strength is weak as such, it becomes possible to improve the reliability of the finished product such as the surface mount type light emitting device 6 or the like.

次に、リードフレーム1の製造方法について説明する。図9、図10は、本発明の一実施形態に係るリードフレーム1の製造方法の一例について説明するための説明図である。図9、図10では、説明を簡略化するため単位実装領域10のみを示しているが、実際はリードフレーム1全体に対して後述するような加工が行われる。以下の説明では、第1領域A1にも薄縁部20a,21aを形成する例について説明する。以下の説明において、同様の工程には同一のステップ番号を付してその説明を省略する。   Next, a method of manufacturing the lead frame 1 will be described. 9 and 10 are explanatory views for explaining an example of a method of manufacturing the lead frame 1 according to the embodiment of the present invention. Although only the unit mounting area 10 is shown in FIGS. 9 and 10 to simplify the description, in actuality, the entire lead frame 1 is processed as described later. The following description demonstrates the example which forms thin edge part 20a, 21a also to 1st area | region A1. In the following description, the same steps will be denoted by the same step numbers and the description thereof will be omitted.

図9に示す例では、まず、厚さT1の金属板35を用意し(ステップS1)、その金属板35に対してエッチング加工工程を実行し(ステップS2)、その次にレーザ加工工程(ステップS3)を実行する。エッチング加工工程は、外縁加工工程の一例に相当している。   In the example shown in FIG. 9, first, a metal plate 35 of thickness T1 is prepared (step S1), an etching process is performed on the metal plate 35 (step S2), and then a laser process (step S2). Execute S3). The etching process corresponds to an example of the outer edge process.

エッチング加工工程(ステップS2)では、第1リード20及び第2リード21の、第1領域A1と接続片Cとを除く部分をエッチング加工によって形成する。エッチング加工工程では、金属板35を切断したい箇所の両面にはレジストを形成しない。第1リード20及び第2リード21の外縁となる位置の内側付近(薄縁部20a,21aを形成したい箇所)については、チップ実装面Aにはレジストを形成する一方裏面B側には第1領域A1を除きレジストを形成しない。   In the etching process (step S2), portions of the first lead 20 and the second lead 21 excluding the first region A1 and the connection piece C are formed by etching. In the etching process, no resist is formed on both sides of the portion where the metal plate 35 is to be cut. A resist is formed on the chip mounting surface A, while the first region on the back surface B side, in the vicinity of the inner side of the position to be the outer edge of the first lead 20 and the second lead 21 (location where thin edges 20a and 21a are to be formed). No resist is formed except for A1.

これにより、エッチング加工工程では、第1リード20と第2リード21とが第1領域A1でつながった形状の中間体36が形成される。このとき、裏面Bはハーフエッチングされて、肉厚の薄い薄縁部20a,21aが形成される。   Thus, in the etching process, an intermediate body 36 having a shape in which the first lead 20 and the second lead 21 are connected in the first region A1 is formed. At this time, the back surface B is half-etched to form thin thin edge portions 20a and 21a.

次に、レーザ加工工程(ステップS3)において、レーザ加工によって、第1領域A1が、図中上下方向に沿って切断されて、第1リード20と第2リード21との間に間隔W1が形成される。このように、レーザ加工工程において、レーザ加工を行うことによって、厚さT1より狭い微細な間隔W1を形成することが可能となる。   Next, in the laser processing step (step S3), the first region A1 is cut along the vertical direction in the figure by laser processing, and a gap W1 is formed between the first lead 20 and the second lead 21. Be done. As described above, by performing the laser processing in the laser processing step, it is possible to form the minute interval W1 narrower than the thickness T1.

金属板35の加工方法としては、レーザ加工の他、エッチングや金型による打ち抜き加工等、種々の加工方法を用いることができる。しかしながら、第1領域A1のように、金属板35の厚さT1よりも間隔W1の方が狭い場合、エッチングでは、エッチング液により厚さT1を溶融浸食する過程で横方向に溶融浸食が拡がってしまうため、厚さT1よりも間隔W1を狭くすることが困難である。また、金型で打ち抜く打ち抜き加工の場合も、厚さT1よりも間隔W1を狭くしようとすると、金型の凸部の形状が薄い板状となってしまい、金型が厚さT1を打ち抜く強度が保てなくなるため、厚さT1よりも間隔W1を狭くすることができない。   As a method of processing the metal plate 35, various processing methods such as etching and punching with a die can be used besides laser processing. However, if the distance W1 is narrower than the thickness T1 of the metal plate 35, as in the first area A1, in etching, melting erosion spreads in the lateral direction in the process of melting and eroding the thickness T1 by the etchant. As a result, it is difficult to make the distance W1 narrower than the thickness T1. Also, in the case of punching using a die, if the distance W1 is made narrower than the thickness T1, the shape of the convex portion of the die becomes a thin plate, and the die has strength for punching the thickness T1. Therefore, the distance W1 can not be narrower than the thickness T1.

一方、レーザ加工であれば、厚さT1よりも間隔W1を狭くすることが容易である。レーザ加工に用いるレーザ装置として、例えばファイバレーザを用いることができる。また、レーザの発振方式として、例えばCW発振方式(Continuous Wave Operation)とパルス発振方式とを好適に用いることができる。CW発振方式のレーザ装置では、いわゆる熱加工が行われ、パルス発振方式のレーザ装置では、いわゆる非熱加工(アブレーション加工)が行われる。   On the other hand, in the case of laser processing, it is easy to make the distance W1 narrower than the thickness T1. For example, a fiber laser can be used as a laser device used for laser processing. Further, as an oscillation method of a laser, for example, a CW oscillation method (Continuous Wave Operation) and a pulse oscillation method can be suitably used. In the CW oscillation type laser device, so-called thermal processing is performed, and in the pulse oscillation type laser device, so-called non-thermal processing (ablation processing) is performed.

例えばCW発振方式のレーザ装置をレーザ加工工程(ステップS3)で用いた場合、裏面B側から中間体36へレーザ光(エネルギー)を照射することにより、レーザ光の入射側で間隔が広くなる結果、図6(a)に示すように、端面23aと端面24aとを、チップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成することができる。また、このとき、レーザ光で溶融した金属(いわゆるドロス)がチップ実装面Aに残留する結果、突起部25が形成される。   For example, in the case where a CW oscillation type laser device is used in the laser processing step (step S3), the distance between the laser light incident side is increased by irradiating the intermediate body 36 with the laser light (energy) from the back surface B side As shown in FIG. 6A, the end face 23a and the end face 24a can be formed such that the distance increases as the distance from the chip mounting surface A to the first lead 20 and the second lead 21 increases. . At this time, as a result of the metal (so-called dross) melted by the laser light remaining on the chip mounting surface A, the projection 25 is formed.

このように、CW発振方式のレーザ装置(熱加工)によれば、端面23aと端面24aとを、チップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成しつつ、第1領域A1の第1端縁23及び第2端縁24付近でチップ実装面Aに突起部25を形成することが容易である。   Thus, according to the CW oscillation type laser device (thermal processing), the distance between the end face 23a and the end face 24a increases as the distance from the chip mounting surface A to the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21 increases. It is easy to form the projection 25 on the chip mounting surface A in the vicinity of the first end 23 and the second end 24 of the first region A1 while forming as described above.

また、例えばパルス発振方式のレーザ装置をレーザ加工工程(ステップS3)で用いた場合、裏面B側から中間体36へレーザ光を照射することにより、レーザ光の入射側で間隔が広くなる結果、図7(a)に示すように、端面23aと端面24aとを、チップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成することができる。また、このとき、中間体36表面のレーザ光が照射された箇所では金属材料が瞬時に溶融、蒸発、飛散する。そして飛散した金属材料(いわゆるデブリ)がレーザ光の入射側(裏面B側)表面で付着し、突起部26が形成される。   Further, for example, when a pulse oscillation type laser device is used in the laser processing step (step S3), by irradiating the intermediate body 36 with laser light from the back surface B side, the interval becomes wider at the laser light incidence side, As shown in FIG. 7A, the end face 23a and the end face 24a can be formed such that the distance between the end face 23a and the end face 24a increases in the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21 from the chip mounting surface A side. At this time, the metal material is melted, evaporated, and scattered instantaneously at the portion of the surface of the intermediate body 36 where the laser light is irradiated. Then, the scattered metal material (so-called debris) is attached on the surface of the laser beam incident side (rear surface B side), and the projection 26 is formed.

このように、パルス発振方式のレーザ装置(非熱加工)によれば、端面23aと端面24aとを、チップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成しつつ、第1領域A1の第1端縁23及び第2端縁24付近で裏面側に突起部26を形成することが容易である。   Thus, according to the pulse oscillation type laser device (non-thermal processing), the distance between the end face 23a and the end face 24a increases in the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21 from the chip mounting surface A side. It is easy to form the protrusion 26 on the back surface side near the first end edge 23 and the second end edge 24 of the first region A1 while forming to spread.

図10に示す例では、厚さT1の金属板35を用意(ステップS1)した後、先にレーザ加工工程(ステップS3)を実行して中間体37を形成し、その後に中間体37に対してエッチング加工工程(ステップS2)を実行する。図10に記載のレーザ加工工程(ステップS3)では、図中縦方向に金属板35を横断するように金属板35の縦全面にわたってレーザ加工を行っているが、例えば金属板35における第1領域A1に対応する部分のみレーザ加工を行い、その他の部分はステップS2のエッチング加工工程で加工するようにしてもよい。   In the example shown in FIG. 10, after preparing the metal plate 35 of thickness T1 (step S1), the laser processing step (step S3) is first executed to form the intermediate 37, and then the intermediate 37 is formed. The etching process (step S2) is performed. In the laser processing step (step S3) shown in FIG. 10, laser processing is performed over the entire vertical surface of the metal plate 35 so as to cross the metal plate 35 in the vertical direction in the drawing. Only the portion corresponding to A1 may be subjected to laser processing, and the other portions may be processed in the etching processing step of step S2.

図10に示す例では、エッチング加工工程(ステップS2)において、第1リード20及び第2リード21の外縁となる位置の内側付近(薄縁部20a,21aを形成したい箇所)については、チップ実装面Aにはレジストを形成する一方裏面B側には第1領域A1を含めてレジストを形成しない。これにより、第1領域A1についてもハーフエッチングする。   In the example shown in FIG. 10, in the etching process (step S2), the chip mounting surface is located in the vicinity of the inner side of the position to be the outer edge of the first lead 20 and the second lead 21 (location to form thin edge portions 20a and 21a) A resist is formed on A, while no resist is formed on the back surface B side including the first region A1. Thus, the half etching is performed also on the first region A1.

図10に示す例によれば、レーザ加工工程(ステップS3)においてパルス発振方式のレーザ光を裏面B側から金属板35に照射した場合に形成される突起部26が、エッチング加工工程(ステップS2)におけるハーフエッチングにより除去される。リードフレーム1を樹脂と一体成形する際に、樹脂の成形条件によっては、突起部26が樹脂の流れを阻害するおそれがある。そこで、このような場合、図10に示すように、レーザ加工工程(ステップS3)を実行後にエッチング加工工程(ステップS2)を実行することによって、突起部26を除去することができる。   According to the example shown in FIG. 10, the projection 26 formed when the metal plate 35 is irradiated with laser light of pulse oscillation type from the back surface B side in the laser processing step (step S3) is an etching processing step (step S2). ) Is removed by half etching. When the lead frame 1 is integrally molded with a resin, the protrusions 26 may inhibit the flow of the resin depending on the molding conditions of the resin. Therefore, in such a case, as shown in FIG. 10, the projection 26 can be removed by executing the etching process (step S2) after the laser processing (step S3) is performed.

次に、上述のように構成されたリードフレーム1を用いて、樹脂成型体及び表面実装型電子部品の一例である表面実装型発光装置を製造する製造方法について説明する。チップ3として例えば発光ダイオード等の発光素子を用いた表面実装型発光装置6を製造する例について説明する。   Next, a method of manufacturing a surface-mounted light emitting device, which is an example of a resin molded body and a surface-mounted electronic component, using the lead frame 1 configured as described above will be described. An example of manufacturing a surface mounted light emitting device 6 using a light emitting element such as a light emitting diode as the chip 3 will be described.

図11は、本発明の一実施形態に係る表面実装型発光装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。図12〜図15は、図11に示す表面実装型発光装置の製造方法を説明するための説明図である。このような製造方法としては、種々の樹脂成型方法を用いることができるが、例えばトランスファモールド成形法を好適に用いることができる。   FIG. 11 is a flowchart for explaining the method of manufacturing the surface mount type light emitting device according to the embodiment of the present invention. 12 to 15 are explanatory views for explaining a method of manufacturing the surface mount type light emitting device shown in FIG. Although various resin molding methods can be used as such a manufacturing method, for example, a transfer molding method can be suitably used.

まず、リードフレーム1を、作成しようとする樹脂成型体の形状に対応するキャビティが形成された所定の金型内に固定する型締め工程が実行される(ステップS11)。金型は、例えば二つの金型ブロックから構成されており、その二つの金型ブロックでリードフレーム1を挟み込むことにより、金型のキャビティ内に、図1に示す集合体11が収容、固定されるようになっている。金型は、MAP方式に対応し、集合体11全体を単一のキャビティ内に収容可能にされている。   First, a clamping step is performed to fix the lead frame 1 in a predetermined mold in which a cavity corresponding to the shape of the resin molded body to be formed is formed (step S11). The mold comprises, for example, two mold blocks, and the assembly 11 shown in FIG. 1 is accommodated and fixed in the mold cavity by sandwiching the lead frame 1 with the two mold blocks. It has become so. The mold corresponds to the MAP method, and the entire assembly 11 can be accommodated in a single cavity.

次に、リードフレーム1の縦方向の一端側から金型のキャビティ内に樹脂を供給し、MAP方式で樹脂成型体を形成する樹脂成形体形成工程が実行される(ステップS12)。樹脂成形には種々の樹脂を用いることができ、例えば熱硬化性樹脂を好適に用いることができる。熱硬化性樹脂を用いた場合、金型のキャビティ内に充填された樹脂を加熱することにより、樹脂を確実に硬化させることができる。   Next, a resin molded body forming step is performed in which resin is supplied into the cavity of the mold from one end side in the longitudinal direction of the lead frame 1 to form a resin molded body by the MAP method (step S12). Various resin can be used for resin molding, for example, thermosetting resin can be used suitably. When a thermosetting resin is used, the resin can be reliably cured by heating the resin filled in the cavity of the mold.

樹脂成形体形成工程では、各単位実装領域10内における、チップ3の取り付け位置が露出するように、キャビティ内の金型形状が設定されている。これにより、リードフレーム1と一体に樹脂層が形成され、かつ露出した第1リード20及び第2リード21の表面部分にチップ3を実装することが可能にされている。   In the resin molded body forming step, the mold shape in the cavity is set so that the mounting position of the chip 3 in each unit mounting area 10 is exposed. As a result, the resin layer is formed integrally with the lead frame 1, and the chip 3 can be mounted on the exposed surface portions of the first lead 20 and the second lead 21.

樹脂成形体形成工程において、金型のキャビティ内に樹脂が供給され、各第1リード20と各第2リード21との間、第1リード20及び第2リード21と金型との隙間(例えば第1リード20及び第2リード21の上面)に樹脂が充填される。   In the resin molded body forming process, the resin is supplied into the cavity of the mold, and the gap between the first lead 20 and the second lead 21 and the gap between the first lead 20 and the second lead 21 and the mold (for example, The resin is filled in the upper surface of the first lead 20 and the second lead 21.

樹脂成形体形成工程において、第1リード20と第2リード21との間に第3領域A3及び第4領域A4が形成されていること、薄縁部20a,21aの厚さが厚さT1より薄い厚さT2にされていること、及び端面23aと端面24aとが、チップ実装面A側から第1リード20及び第2リード21の厚み方向に離れるに従って間隔が拡がるように形成されていることによって、第1リード20及び第2リード21と樹脂との結合がより強固となる。   In the resin molded body forming step, the third area A3 and the fourth area A4 are formed between the first lead 20 and the second lead 21, and the thickness of the thin edge portions 20a and 21a is thinner than the thickness T1. The thickness T2 and the end face 23a and the end face 24a are formed such that the distance increases in the thickness direction of the first lead 20 and the second lead 21 from the chip mounting surface A side. The bond between the first lead 20 and the second lead 21 and the resin becomes stronger.

樹脂成形体形成工程において、上述のようにして金型のキャビティ内に樹脂が充填された後、樹脂を加熱することによって樹脂を硬化させ、リードフレーム1と樹脂層とが一体成形された樹脂成型体が製造される。これにより、複数の単位実装領域10(集合体11)全体を一括して覆うように樹脂層が形成されたMAPタイプの樹脂成型体が得られる。   In the resin molded body forming step, after the resin is filled in the cavity of the mold as described above, the resin is heated to cure the resin, and the resin molding in which the lead frame 1 and the resin layer are integrally molded The body is manufactured. Thus, a MAP-type resin molded body is obtained in which the resin layer is formed so as to collectively cover the plurality of unit mounting areas 10 (aggregates 11) altogether.

図12は、樹脂成形体形成工程で形成される樹脂成型体の一例である樹脂成型体5の外観を模式的に示す上面図である。図12に示す樹脂成型体5は、リードフレーム1に、樹脂層50が一体成形されて構成されている。これにより、平板型の樹脂成型体5が形成されている。   FIG. 12 is a top view schematically showing the appearance of a resin molded body 5 which is an example of the resin molded body formed in the resin molded body forming step. The resin molded body 5 shown in FIG. 12 is configured by integrally molding a resin layer 50 on the lead frame 1. Thus, a flat plate-shaped resin molded body 5 is formed.

図13は、樹脂成形体形成工程で形成される樹脂成型体5の別の一例を模式的に示す説明図である。図13(a)は樹脂成型体5の全体構成を概略的に示す斜視図である。図13(b)は樹脂成型体5の要部の構成を模式的に示す平面図である。図13(c)は樹脂成型体5を単位実装領域10毎に個片化したリフレクタ63の構成を模式的に示す斜視図である。   FIG. 13 is an explanatory view schematically showing another example of the resin molded body 5 formed in the resin molded body forming step. FIG. 13A is a perspective view schematically showing the entire configuration of the resin molded body 5. FIG. 13 (b) is a plan view schematically showing the structure of the main part of the resin molded body 5. FIG. 13C is a perspective view schematically showing the configuration of the reflector 63 in which the resin molded body 5 is singulated for each unit mounting area 10.

図13に示す樹脂成型体5は、リードフレーム1と、リードフレーム1の表面に一体成形された樹脂層60と、底面62に第1リード20と第2リード21の第1領域A1が露出した凹部61とを備える薄板である。樹脂層60は、凹部61を形成する穴を複数有し、光半導体素子からの光を所定の方向に反射するリフレクタ63を含む。   The resin molded body 5 shown in FIG. 13 has the lead frame 1, the resin layer 60 integrally formed on the surface of the lead frame 1, and the first region A1 of the first lead 20 and the second lead 21 exposed on the bottom surface 62. And a concave portion 61. The resin layer 60 has a plurality of holes forming the recess 61, and includes a reflector 63 that reflects light from the optical semiconductor element in a predetermined direction.

樹脂成型体5の裏面には、第1リード20及び第2リード21の裏面Bが、樹脂層60の裏面と同一平面上に露出することで、表面実装型発光装置の電極として機能する。図13(c)に示すリフレクタ63は、1個の単位実装領域10と、単位実装領域10の表面(発光素子実装面)及び裏面の一部に形成された樹脂層60と、底面62に第1リード20及び第2リード21の第1領域A1が露出した凹部61とを備えている。   The back surface B of the first lead 20 and the second lead 21 is exposed on the same plane as the back surface of the resin layer 60 on the back surface of the resin molded body 5 to function as an electrode of the surface mount type light emitting device. The reflector 63 shown in FIG. 13C includes one unit mounting area 10, a resin layer 60 formed on the surface (light emitting element mounting surface) of the unit mounting area 10 and a part of the back surface, and a bottom surface 62. A concave portion 61 in which the first region A1 of the first lead 20 and the second lead 21 is exposed is provided.

次に、上述のように構成された樹脂成型体5に、チップ3を実装する実装工程が実行される(ステップS13)。チップ3としては、例えば発光ダイオード(LED)等、種々の発光素子を用いることができる。   Next, a mounting step of mounting the chip 3 on the resin molded body 5 configured as described above is performed (step S13). As the chip 3, various light emitting elements such as a light emitting diode (LED) can be used, for example.

具体的には、例えば図12、図13に示す樹脂成型体5の第1リード20と第2リード21との間にまたがるようにチップ3をフリップチップ実装し、チップ3の一方の電極を第1リード20に接続し、他方の電極を第2リード21に接続する。図13に示す樹脂成型体5の場合、凹部61内に収容された状態でチップ3が樹脂成型体5に実装される。   Specifically, for example, the chip 3 is flip-chip mounted so as to straddle between the first lead 20 and the second lead 21 of the resin molded body 5 shown in FIGS. 12 and 13, and one electrode of the chip 3 is The other electrode is connected to the second lead 21. In the case of the resin molded body 5 shown in FIG. 13, the chip 3 is mounted on the resin molded body 5 in a state of being accommodated in the recess 61.

次に、樹脂成型体5に実装されたチップ3を、透光性樹脂で封止する封止工程が実行される(ステップS14)。例えば図12に示す樹脂成型体5の場合、樹脂成型体5の上面に、チップ3が実装された集合体11全体を覆うように透光性樹脂層を形成することによって、チップ3が封止される。例えば図13に示す樹脂成型体5の場合、凹部61に透光性樹脂を充填することにより、チップ3が封止される。   Next, a sealing step of sealing the chip 3 mounted on the resin molded body 5 with a translucent resin is performed (step S14). For example, in the case of the resin molded body 5 shown in FIG. 12, the chip 3 is sealed by forming a translucent resin layer on the upper surface of the resin molded body 5 so as to cover the entire assembly 11 on which the chip 3 is mounted. Be done. For example, in the case of the resin molded body 5 shown in FIG. 13, the chip 3 is sealed by filling the concave portion 61 with the translucent resin.

次に、樹脂成型体5を、その樹脂成型体5と一体化されたリードフレーム1における各単位実装領域10相互間を切り離すように、横方向及び縦方向に沿って切断する切断工程が実行される(ステップS15)。切断工程により、表面実装型発光装置6が個片化される。これにより、表面実装型発光装置6が得られる。   Next, a cutting step of cutting the resin molded body 5 along the lateral direction and the longitudinal direction is performed so as to separate the unit mounting areas 10 of the lead frame 1 integrated with the resin molded body 5 with each other. (Step S15). The surface-mounted light emitting device 6 is singulated by the cutting process. Thereby, the surface mounted light emitting device 6 is obtained.

なお、図11に示す例では、実装工程(ステップS13)及び封止工程(ステップS14)の後に切断工程(ステップS15)が実行される例を示したが、切断工程(ステップS15)の後に実装工程(ステップS13)及び封止工程(ステップS14)が実行される構成としてもよい。あるいは、実装工程(ステップS13)、切断工程(ステップS15)、封止工程(ステップS14)の順に実行される構成としてもよい。   Although the example shown in FIG. 11 shows an example in which the cutting step (step S15) is performed after the mounting step (step S13) and the sealing step (step S14), the mounting step is performed after the cutting step (step S15) The process (step S13) and the sealing process (step S14) may be performed. Alternatively, the configuration may be such that the mounting step (step S13), the cutting step (step S15), and the sealing step (step S14) are performed in order.

また、外縁加工工程の一例としてエッチング加工工程を示したが、エッチング加工工程の代わりに、中間体36又は中間体37に対して金型による打ち抜き加工を行うようにしてもよい。   Further, although the etching process is shown as an example of the outer edge process, the intermediate 36 or the intermediate 37 may be punched by a die instead of the etching process.

図14は、図12に示す樹脂成型体5が個片化されて得られた表面実装型発光装置6の構成の一例を模式的に示す斜視図である。図14に示す表面実装型発光装置6は、図5に示すように第2領域A2を設けず、第1領域A1が第1リード20及び第2リード21を横断するように形成されたリードフレームを用いた例を示している。   FIG. 14 is a perspective view schematically showing an example of the configuration of the surface mount type light emitting device 6 obtained by dividing the resin molded body 5 shown in FIG. 12 into pieces. The surface mount type light emitting device 6 shown in FIG. 14 does not have the second region A2 as shown in FIG. 5, and a lead frame formed such that the first region A1 crosses the first lead 20 and the second lead 21. Shows an example using.

図14に示す表面実装型発光装置6は、樹脂成型体5が、単位実装領域10毎に個片化されて得られた基板51と、基板51の表面に露出している第1領域A1の第1リード20と第2リード21との間にまたがるようにフリップチップ実装されたチップ3と、チップ3、第1リード20、及び第2リード21を透光性樹脂で封止する透光性樹脂層55とを備えている。なお、図14では、透光性樹脂層55が板状に形成される例を示したが、透光性樹脂層55をレンズ状等、板状以外の形状に形成してもよい。   The surface mount type light emitting device 6 shown in FIG. 14 has a substrate 51 obtained by dividing the resin molded body 5 into pieces for each unit mounting region 10, and a first region A1 exposed on the surface of the substrate 51. Translucency that seals the chip 3, the chip 3, the first lead 20, and the second lead 21 flip-chip mounted so as to span between the first lead 20 and the second lead 21 with a translucent resin And a resin layer 55. Although FIG. 14 shows an example in which the light transmitting resin layer 55 is formed in a plate shape, the light transmitting resin layer 55 may be formed in a shape other than a plate shape, such as a lens shape.

図14に示す表面実装型発光装置6は、リフレクタ63を備えていないので、第1リード20及び第2リード21の全域が反射鏡として用いられる。そこで、第1領域A1が第1リード20及び第2リード21を横断するように形成されたリードフレームを用いることで、反射鏡として機能する第1リード20及び第2リード21の面積が増大し、チップ3の発光で得られた光を表面実装型発光装置6の外部への取り出し効率、すなわち表面実装型発光装置6の発光効率を向上させることができる。   Since the surface mount type light emitting device 6 shown in FIG. 14 does not have the reflector 63, the entire area of the first lead 20 and the second lead 21 is used as a reflecting mirror. Therefore, by using a lead frame formed such that the first region A1 crosses the first lead 20 and the second lead 21, the area of the first lead 20 and the second lead 21 functioning as a reflecting mirror is increased. The light extraction efficiency of the light obtained by the light emission of the chip 3 to the outside of the surface mounted light emitting device 6, that is, the light emitting efficiency of the surface mounted light emitting device 6 can be improved.

また、第1領域A1におけるスリット22の間隔W1は、第1リード20及び第2リード21の厚さT1より狭くされているので、厚さT1よりリード間の間隔が広い場合よりも反射鏡及び放熱板として機能する第1リード20及び第2リード21の面積が増大し、表面実装型発光装置6の発光効率及び放熱特性を向上させることができる。   Further, since the distance W1 between the slits 22 in the first region A1 is smaller than the thickness T1 of the first lead 20 and the second lead 21, the reflecting mirror and the distance between the leads are wider than the thickness T1. The area of the first lead 20 and the second lead 21 functioning as a heat dissipation plate can be increased, and the light emission efficiency and heat dissipation characteristics of the surface mount type light emitting device 6 can be improved.

図15は、図13に示す樹脂成型体5が個片化されて得られた表面実装型発光装置6の構成を模式的に示す斜視図である。   FIG. 15 is a perspective view schematically showing a configuration of the surface mounted light emitting device 6 obtained by dividing the resin molded body 5 shown in FIG. 13 into pieces.

図15に示す表面実装型発光装置6は、樹脂成型体5(リードフレーム1)が個片化されて得られた1個の単位実装領域10と、単位実装領域10のチップ実装面A及び裏面Bの一部に形成された樹脂層60と、底面62に第1リード20及び第2リード21の第1領域A1が露出した凹部61と、凹部61内で第1領域A1の第1リード20と第2リード21との間にまたがるようにフリップチップ実装されたチップ3とを備えている。   The surface mount type light emitting device 6 shown in FIG. 15 has one unit mounting area 10 obtained by singulating the resin molded body 5 (lead frame 1), and the chip mounting surface A and the back surface of the unit mounting area 10 A resin layer 60 formed on a portion of B, a recess 61 in which the first region A1 of the first lead 20 and the second lead 21 is exposed on the bottom surface 62, and a first lead 20 of the first region A1 in the recess 61 And the second lead 21 so that the chip 3 is flip-chip mounted.

図15に示す表面実装型発光装置6によれば、第1領域A1におけるスリット22の間隔W1は、第1リード20及び第2リード21の厚さT1より狭くされているので、厚さT1よりリード間の間隔が広い場合よりも反射鏡及び放熱板として機能する第1リード20及び第2リード21の面積が増大し、表面実装型発光装置6の発光効率及び放熱特性を向上させることができる。   According to the surface-mounted light emitting device 6 shown in FIG. 15, since the distance W1 between the slits 22 in the first region A1 is narrower than the thickness T1 of the first lead 20 and the second lead 21, the thickness T1 The area of the first lead 20 and the second lead 21 functioning as a reflecting mirror and a heat sink can be increased compared to when the distance between the leads is wide, and the luminous efficiency and the heat radiation characteristics of the surface mount type light emitting device 6 can be improved. .

また、単位実装領域10における第2領域A2は、リフレクタ63に覆われて露出しないので、第2領域A2の間隔W3,W4が第1領域A1より広くても、反射率の低下を招くことがない。また、第2領域A2の間隔W3,W4内に樹脂が入り込みやすくなるので、第1リード20及び第2リード21とリフレクタ63との結合が強固になる。   In addition, since the second area A2 in the unit mounting area 10 is covered with the reflector 63 and is not exposed, even if the intervals W3 and W4 of the second area A2 are wider than the first area A1, the reflectance may be lowered. Absent. Further, since the resin is easily introduced into the spaces W3 and W4 of the second region A2, the coupling between the first lead 20 and the second lead 21 and the reflector 63 becomes strong.

なお、チップ3は、必ずしも発光素子に限らない。チップ3は、例えばダイオードやサージアブソーバ等、発光素子以外の電極を二つ備えた素子であってもよい。チップ3として発光素子以外のチップを備えた表面実装型電子部品についても、上述の封止工程(ステップS14)にて、透光性樹脂を用いたり、光を反射するレフレクタ63を形成したりする必要がない点を除き、上述と同様の製造方法にて製造される。   The chip 3 is not necessarily limited to the light emitting element. The chip 3 may be an element provided with two electrodes other than the light emitting element, such as a diode or a surge absorber, for example. In the case of a surface mount type electronic component provided with a chip other than a light emitting element as the chip 3, a translucent resin is used or a reflector 63 for reflecting light is formed in the above-mentioned sealing step (step S14). It manufactures by the manufacturing method similar to the above-mentioned except that there is no need.

1 リードフレーム
3 チップ
5 樹脂成型体
6 表面実装型発光装置
10 単位実装領域
11 集合体
12 枠体
12a,12b,12c,12d 枠辺
20 第1リード
21 第2リード
20a,21a 薄縁部
22 スリット
23 第1端縁
24 第2端縁
23a,24a 端面
25,26 突起部
31 電極
32 半田
35 金属板
36,37 中間体
50 樹脂層
51 基板
55 透光性樹脂層
60 樹脂層
61 凹部
62 底面
63 リフレクタ
A チップ実装面
A1 第1領域
A2 第2領域
A3 第3領域
A4 第4領域
B 裏面
C 接続片
E 端部
H アンカーホール
T1,T2 厚さ
W1,W3,W4 間隔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 lead frame 3 chip 5 resin molding 6 surface mounting type light emitting device 10 unit mounting area 11 assembly 12 frame 12 a, 12 b, 12 c, 12 d frame side 20 first lead 21 second lead 20 a, 21 a thin edge 22 slit 23 First edge 24 Second edge 23a, 24a End face 25, 26 Projection 31 Electrode 32 Solder 35 Metal plate 36, 37 Intermediate 50 Resin layer 51 Substrate 55 Transparent resin layer 60 Resin layer 61 Recess 62 Bottom surface 63 Reflector A chip mounting surface A1 first region A2 second region A3 third region A4 fourth region B back surface C connection piece E end H anchor holes T1, T2 thickness W1, W3, W4 distance

Claims (13)

チップを実装するための板状の第1リードと第2リードとを含み、
前記第1及び第2リードとは、同一平面内で間隔をあけて配置され、
前記第1リードの前記間隔側の端縁である第1端縁と、前記間隔を挟んで前記第1端縁と対向配置された前記第2リードの端縁である第2端縁とにおける少なくとも一部の第1領域において、前記間隔が前記第1及び第2リードの中央部の厚さより狭く、
前記間隔は、前記第1領域において前記チップが当該間隔を跨いでその一端が前記第1リード、他端が前記第2リードに取り付け可能に設けられており、
前記第1領域は、前記第1及び第2端縁の中央部を含み、前記第1及び第2端縁の両端付近を除く領域であり、
前記第1及び第2端縁のうち前記第1領域を除く第2領域では、前記間隔が前記第1及び第2リードの中央部の厚さ以上であり、
前記第2領域は、前記間隔が略一定の第3領域と、前記第1及び第2端縁の端部に向かって前記間隔が徐々に拡大する第4領域とを含むリードフレーム。
Including plate-like first leads and second leads for mounting a chip;
The first and second leads are spaced apart in the same plane,
At least a first end edge which is an end edge on the spacing side of the first lead, and a second end edge which is an end edge of the second lead disposed opposite to the first end edge across the spacing In some first regions, the spacing is narrower than the thickness of the central portion of the first and second leads,
In the first area, the chip straddles the space in the first area, and one end of the chip is attachable to the first lead, and the other end is attachable to the second lead.
The first region is a region including central portions of the first and second edges and excluding the vicinity of both ends of the first and second edges,
In the second region of the first and second edges excluding the first region, the distance is equal to or greater than the thickness of the central portion of the first and second leads,
The second region is a lead frame including a third region in which the distance is substantially constant, and a fourth region in which the distance gradually increases toward the ends of the first and second edges.
前記第1領域において前記間隔を挟んで互いに対向する前記第1リードの端面と前記第2リードの端面とは、前記第1及び第2リードにおける前記チップの取り付け面側から前記第1及び第2リードの厚み方向に離れるに従って前記間隔が拡がるように形成されている請求項1記載のリードフレーム。 The end face of the first lead and the end face of the second lead, which face each other across the gap in the first region, are the first and second end faces of the first and second leads from the attachment surface side of the chip. lead frame according to claim 1 Symbol mounting is formed such that the spacing is enlarged as the distance to the lead in the thickness direction. 前記第1及び第2リードの一方の面には、前記第1領域において、前記間隔に沿って延びる端縁付近に突起部が形成されている請求項1又は2に記載のリードフレーム。 3. The lead frame according to claim 1, wherein a protrusion is formed on one surface of the first and second leads near an edge extending along the distance in the first area. 前記第1領域における前記間隔は、100μm未満である請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレーム。 The lead frame according to any one of claims 1 to 3 , wherein the distance in the first region is less than 100 μm. 前記第1領域における前記間隔は、50μm未満である請求項載のリードフレーム。 The lead frame according to claim 4 , wherein the distance in the first region is less than 50 μm. 前記第1領域における前記間隔は、導電性の板状部材に対して一方の面側からエネルギーを照射して前記板状部材を切断することにより形成されている請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレーム。 The space according to any one of claims 1 to 5 , wherein the space in the first region is formed by irradiating the conductive plate-like member with energy from one side to cut the plate-like member. Lead frame as described in Section. 前記エネルギーは、レーザー光である請求項記載のリードフレーム。 The lead frame according to claim 6 , wherein the energy is a laser beam. 前記第1及び第2リードの外縁における前記第1領域とは異なる領域が、エッチング又は打ち抜き加工により形成されている請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレーム。 The lead frame according to any one of claims 1 to 7 , wherein a region different from the first region at the outer edge of the first and second leads is formed by etching or punching. 請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレームと、
前記リードフレームと一体形成された樹脂層とを備える樹脂成型体。
A lead frame according to any one of claims 1 to 8 ;
A resin molded body comprising a resin layer integrally formed with the lead frame.
請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレームと、
前記リードフレームと一体形成された樹脂層と、
前記リードフレームにおける前記第1領域において前記間隔を跨いで一端が前記第1リードに、他端が前記第2リードに取り付けられた前記チップとを備える表面実装型電子部品。
A lead frame according to any one of claims 1 to 8 ;
A resin layer integrally formed with the lead frame;
A surface mount type electronic component comprising: the chip in which one end is attached to the first lead and the other end is attached to the second lead across the distance in the first region of the lead frame.
請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレームと、
前記リードフレームと一体形成された樹脂層と、
前記リードフレームにおける前記第1領域において前記間隔を跨いで一端が前記第1リードに、他端が前記第2リードに取り付けられた前記チップとしての発光素子とを備える表面実装型発光装置。
A lead frame according to any one of claims 1 to 8 ;
A resin layer integrally formed with the lead frame;
A surface mount type light emitting device comprising: a light emitting element as the chip having one end attached to the first lead and the other end attached to the second lead across the distance in the first region of the lead frame.
請求項1〜のいずれか1項に記載のリードフレームを製造するリードフレーム製造方法であって、
導電性の板状部材を、前記第1領域においてレーザー光により切断することによって前記間隔を形成するレーザ加工工程と、
前記板状部材を、前記第1領域とは異なる領域でエッチング又は打ち抜き加工により切断することによって前記第1及び第2リードの外縁を形成する外縁加工工程とを含むリードフレーム製造方法。
A lead frame manufacturing method for manufacturing a lead frame according to any one of claims 1 to 8 , comprising:
A laser processing step of forming the gap by cutting the conductive plate member in the first region with a laser beam;
An outer edge processing step of forming outer edges of the first and second leads by cutting the plate-like member by etching or punching in a region different from the first region.
前記外縁加工工程は、エッチングを行う工程であり、
前記レーザ加工工程を実行後に前記外縁加工工程を実行する請求項12記載のリードフレーム製造方法。
The outer edge processing step is a step of performing etching,
The method for manufacturing a lead frame according to claim 12 , wherein the outer edge processing step is performed after the laser processing step is performed.
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