JP6537707B2 - フォーカシング機構および撮像モジュール - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 116
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 32
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 13
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 241000877463 Lanio Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004121 SrRuO Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/04—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification
- G02B7/08—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification adapted to co-operate with a remote control mechanism
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/04—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification
- G02B7/10—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification by relative axial movement of several lenses, e.g. of varifocal objective lens
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
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- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/023—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
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- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/026—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using retaining rings or springs
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- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
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- G02B7/04—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification
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- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
- H10N30/2041—Beam type
- H10N30/2042—Cantilevers, i.e. having one fixed end
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Description
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、簡易な構造で光学レンズを高変位量で移動させることが可能であり、高速かつ低消費電力で駆動可能なフォーカシング機構を提供することを目的とする。
また、本発明は、画質の品位を低下させることなく、簡易な構造で、高速かつ低消費電力で駆動させることが可能な撮像モジュールを提供することを目的とする。
3つ以上のカンチレバー式圧電アクチュエータが放射状に配置されてなる駆動源と、
外枠、光学レンズ、光学レンズを光学レンズの周囲で保持するレンズ保持部、およびレンズ保持部を外枠に連結し光学レンズの半径方向に伸縮する弾性体からなる光学レンズユニットと、
を備え、
カンチレバー式圧電アクチュエータは、カンチレバー式圧電アクチュエータの駆動先端の光学レンズの光軸方向に対して垂直な面でレンズ保持部に接し、カンチレバー式圧電アクチュエータの駆動によって光学レンズを光学レンズの光軸方向に動かしてフォーカシングする。
また、本発明の撮像モジュールによれば、画質の品位を低下させることなく、簡易な構造で、高速かつ低消費電力で駆動させることが可能である。
[フォーカシング機構]
まず、本発明のフォーカシング機構の一実施形態について説明する。図1に、本発明のフォーカシング機構の電圧無印加の状態の概略断面図を示す。図2に、本発明のフォーカシング機構の電圧印加時の概略断面図を示す。図3に駆動源の概略上面図を示す。図4に光学レンズユニットの概略上面図を示す。
外枠35、光学レンズ36、光学レンズ36を光学レンズ36の周囲で保持するレンズ保持部33、およびレンズ保持部33を外枠35に連結し光学レンズの半径方向に伸縮する弾性体34からなる光学レンズユニット30と、
を備えるものである。
アクチュエータ21は、アクチュエータ21の駆動先端24における光学レンズの光軸方向に対して垂直な面25でレンズ保持部33に接し、アクチュエータ21の駆動によって光学レンズ36を光学レンズ36の光軸方向Aに動かしてフォーカシングするものである。
次に、駆動源について、さらに詳細に説明する。
駆動源10は、図3に示すように、32個の矩形状のアクチュエータ21が放射状に配置されてなるものである。本実施形態では、アクチュエータ21は、リング状の支持体22を共通の支持体として放射状に配置されている。図1に示すように、アクチュエータ21は、その駆動先端24における、光学レンズの光軸方向Aに対して垂直な面25上に突起部18が設けられている。この突起部18が光学レンズユニット30のレンズ保持部33と接する。突起部18が設けられていることにより、アクチュエータ21とレンズ保持部33とが点接触となるので摩擦による変位量の低下を改善することができる。本実施形態では、突起部18は、さらに静摩擦係数が0.5以下の材料で覆われている(不図示)。突起部18が静摩擦係数0.5以下の材料で覆われていることにより、アクチュエータ21とレンズ保持部33との駆動時の滑りが良く、構造的な拘束がほとんどない。従来技術であるダイアフラムやビーム型の構造では、アクチュエータの駆動において拘束が強いため変位量は大きく低減し、フォーカシングに必要な変位量を達成できない。このように静摩擦係数が0.5以下と低摩擦な材料によって光学レンズを支持しているので、高い変位量を理想的に実現することが可能である。
次に、光学レンズユニットについてさらに詳細に説明する。
光学レンズユニット30は、図4に示すように、外枠35、光学レンズ36、光学レンズ36を光学レンズ36の周囲で保持するレンズ保持部33、およびレンズ保持部33を外枠35に連結し光学レンズ36の半径方向に伸縮する弾性体からなる。弾性体34は、光学レンズ36の全周囲に形成され、光学レンズの半径方向に伸縮する蛇腹構造である。
次に駆動源10の製造方法について説明する。図5に駆動源の一実施形態の作製過程の概略断面図を示す。
アクチュエータ21の主な材料は、結晶シリコンは避け、ポリシリコン、アモルフォスシリコン、およびアモルフォスシリコンカーバイドなどの等方性材料を用いることが好ましい。結晶シリコンは、異方性材料であるため、放射状にアクチュエータが配置されたンチレバー式圧電アクチュエータを作製すると、面内でアクチュエータの剛性にバラつきが生じる。そうすると、全てのアクチュエータに同一電圧が印加されても、駆動時の変位量にアクチュエータ間で差が生じてしまい、光軸方向に垂直な面に平行にレンズを移動させることができない。よって、アクチュエータ21の主材料としては、ポリシリコンなどの等方性材料を用いることが好ましい。
Pbx(Zry,Tiz,Mb−y−z)Oc・・・(1)
式中、Mが、V、Nb、Ta、Sb、Cr、Mo、W、Mn、Mg、Sc、Co、Cu、In、Sn、Ga、Zn、Cd、Fe、Ni、Hf、およびAlからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素を含む。x、y、およびzは、0<y<b、0<z<b、および0≦b−y−zの関係を満たす。
また、x:b:c=1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。
なお、本明細書において、静摩擦係数は、ISO 8295に準拠した測定方法により測定された値とする。
次に、裏面からシリコン深堀エッチングするためのリソグラフィを行い、ウェットエッチングにより熱酸化膜12を除去し、ボッシュ法ドライエッチングによりシリコン基板11の深堀を行う。熱酸化膜13がエッチングストップ層となる(図5kおよび図5l参照)。
最後に摩擦係数を下げるため表面にテフロンをスパッタ成膜する。静摩擦係数が0.5以下の材料で突起を覆う場合は、スパッタ成膜された膜の厚さは、摩耗耐性及び残留応力による剥離防止の観点から、40nm〜500nmが好ましい。
異なる長さのカンチレバー式圧電アクチュエータを複数本配置する場合は、それぞれの変位量が異なるため、全てのアクチュエータを駆動させた時に、駆動によって動かす対象である光学レンズが光軸方向に平行に移動するように各アクチュエータを設計することが好ましい。
また、カンチレバーの配置形状は、本実施形態のように、円の中心から放射状となるように配置してもよいし、渦巻き放射状(後述の実施例2の場合)としてもよい。円形の光学レンズを保持するために、複数のアクチュエータの駆動先端が円を形成するように配置されていればよい。
次に、光学レンズユニット30の作製方法について説明する。光学レンズユニット30は、通常のリソグラフィ技術を用いて作製することができる。図6に光学レンズユニット30の作製過程の概略断面図を示す。
図6aに示すように、シリコン基板31を準備し、弾性体を形成する領域に凹凸構造31aを設ける。この凹部の深さは、用いる材料によっても異なるが、アクチュエータ21の変位を最大限利用する観点と、光学レンズが重力や慣性力により落下しないように駆動源10側に押さえつけられている状態にする観点とから、0.5μm〜50μmが好ましく、1μm〜10μm程度が好ましい。また、凹凸周期は1μm〜100μmが好ましく、2μm〜20μm程度が好ましい。
基板としては、シリコン以外にガラス、ステンレス、イットリウム安定化ジルコニア、アルミナ、サファイヤ、およびシリコンカーバイド等を用いることができる。
また、シリコン基板31の厚さは、例えば300μm〜800μm程度が好ましい。
上記のように作製した駆動源10の突起部18の上に光学レンズユニット30のレンズ保持部33が接するように配置し、光学レンズユニットの外枠35とアクチュエータ21を接着材により接着する。接着剤としては、エポキシ系ダイボンド樹脂を用いることが好ましい。
次に、本発明のフォーカシング機構を用いた撮像モジュールの一実施形態について説明する。図7に撮像モジュールの一実施形態を示す概略断面図を示す。
図7に示すように、本実施形態の撮像モジュール50は、駆動源10および光学レンズユニット30からなる本発明のフォーカシング機構40が、内部に固定レンズ群52と、撮像素子53とが配置された筐体51上に接着材で固着されてなる。
光学レンズユニット30の光学レンズ36は、カンチレバー式圧電アクチュエータ21の駆動によって、光軸方向Aに移動して、フォーカシングレンズの役割をする。このフォーカシングレンズの役割をする光学レンズ36と固定レンズ群52とにより、任意の距離にある被撮像体に対してフォーカシングし、撮像素子53上に光学像を結像する。
ここで、上記のような渦巻き放射状に配置されたアクチュエータ61の長さとは、図10に示すように、アクチュエータ61の先端面63の中心Lと、アクチュエータ61が支持体62と接する端部の中心Mとの間を結んだ直線L2の長さと定義する。
駆動源および光学レンズユニットを、実施形態に記載の作製方法により以下の条件で作製し、駆動源と光学レンズユニットを接着剤により接着してフォーカシング機構を作製した。
シリコン基板:直径150mm、厚さ350μm
熱酸化膜:厚さ0.5μm
ポリシリコン膜:厚さ10μm
下部電極:Ti(厚さ20nm)/Ir(厚さ100nm)
上部電極:Ir(厚さ100nm)
圧電膜:チタン酸ジルコン酸鉛(NbがBサイトに12%添加されたPZT)、厚さ3μm
カンチレバー式圧電アクチュエータの長さL1:1mm。
突起部材料:低粘度型ウレタンアクリレートUV硬化樹脂
突起部被覆材料:テフロン(静摩擦係数0.1)
シリコン基板:直径150mm、厚さ350μm
窒化シリコン膜:1μm
光学レンズのサイズ:直径2.5mm
実施例2のフォーカシング機構は、上記駆動源60を用いた以外は実施例1と同様である。
実施例2の駆動源のカンチレバー式圧電アクチュエータ61の長さL2は2mmとした。それ以外の駆動源の構成は実施例1と同様である。
上記のように作製したフォーカシング機構に電圧を0V〜30Vまで印加して、以下の測定方法に従って光学レンズの光軸方向の変位量を測定した。
各印加電圧において、レンズ36の中心と外枠35の高さの差を白色干渉形状測定装置により静的に計測し、電圧0Vの時の値をゼロとした。
上記実施例1および実施例2の測定結果を図11に示す。
11 シリコン基板
12,13 熱酸化膜
14 ポリシリコン膜
15 下部電極
16 強誘電体薄膜
17 上部電極
18,68 突起部
19 レジスト
21,61 アクチュエータ
22,62 支持体
23 先端面
24 駆動先端
25 光学レンズの光軸方向に対して垂直な面
30 光学レンズユニット
31 シリコン基板
32 窒化シリコン膜
33 レンズ保持部
34 弾性体
35 外枠
36 光学レンズ
40 フォーカシング機構
50 撮像モジュール
51 筐体
52 固定レンズ群
53 撮像素子
63 先端面
L1,L2 カンチレバー式圧電アクチュエータの長さ
Claims (9)
- 3つ以上のカンチレバー式圧電アクチュエータが放射状に配置されてなる駆動源と、
外枠、光学レンズ、該光学レンズを該光学レンズの周囲で保持するレンズ保持部、およ
び該レンズ保持部を前記外枠に連結し前記光学レンズの半径方向に伸縮する弾性体からな
る光学レンズユニットと、
を備え、
前記カンチレバー式圧電アクチュエータが、該カンチレバー式圧電アクチュエータの駆
動先端の前記光学レンズの光軸方向に対して垂直な面で前記レンズ保持部に接し、前記カ
ンチレバー式圧電アクチュエータの駆動によって前記光学レンズを該光学レンズの光軸方
向に動かしてフォーカシングし、
前記カンチレバー式圧電アクチュエータの駆動方向に垂直な面が、0.5以下の静摩擦係数を有する材料で覆われているフォーカシング機構。 - 前記カンチレバー式圧電アクチュエータの駆動方向に垂直な面に突起部を有し、該突起部が前記レンズ保持部に接している請求項1記載のフォーカシング機構。
- 前記突起部の表面が、0.5以下の静摩擦係数を有する材料で覆われている請求項2記載のフォーカシング機構。
- 前記3つ以上のカンチレバー式圧電アクチュエータが渦巻き放射状に配置されている請求項1から3いずれか1項記載のフォーカシング機構。
- 前記カンチレバー式圧電アクチュエータが等方性材料からなる請求項1から4いずれか1項記載のフォーカシング機構。
- 前記等方性材料がポリシリコンである請求項5記載のフォーカシング機構。
- 前記カンチレバー式圧電アクチュエータが薄膜からなる請求項1から6いずれか1項記載のフォーカシング機構。
- 前記弾性体が蛇腹状の窒化膜である請求項1から7いずれか1項記載のフォーカシング機構。
- 請求項1から8いずれか1項記載のフォーカシング機構を備えた撮像モジュール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016065306 | 2016-03-29 | ||
JP2016065306 | 2016-03-29 | ||
PCT/JP2017/011477 WO2017170046A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-03-22 | フォーカシング機構および撮像モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017170046A1 JPWO2017170046A1 (ja) | 2018-09-13 |
JP6537707B2 true JP6537707B2 (ja) | 2019-07-03 |
Family
ID=59965363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018509127A Active JP6537707B2 (ja) | 2016-03-29 | 2017-03-22 | フォーカシング機構および撮像モジュール |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10921548B2 (ja) |
JP (1) | JP6537707B2 (ja) |
WO (1) | WO2017170046A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019028439A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-02-21 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 形状記憶合金薄膜アクチュエータアレイによるオートフォーカス駆動機構 |
CN110365247A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-10-22 | 西安工程大学 | 一种基于液压放大机构的压电驱动器及其驱动方法 |
CN112825542B (zh) * | 2019-11-20 | 2022-10-14 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 一种成像模组 |
CN112825321B (zh) * | 2019-11-21 | 2022-03-22 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 一种成像模组的制造方法 |
CN113131782A (zh) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 一种压电驱动器及其制造方法和成像模组 |
CN111399164B (zh) * | 2020-03-27 | 2021-08-31 | 睿恩光电有限责任公司 | 压电片式对焦装置、相机装置及电子设备 |
CN111856694A (zh) * | 2020-08-17 | 2020-10-30 | 精拓丽音科技(北京)有限公司 | 一种可变焦镜头组件及应用其的电子设备 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6891240B2 (en) * | 2002-04-30 | 2005-05-10 | Xerox Corporation | Electrode design and positioning for controlled movement of a moveable electrode and associated support structure |
NO326372B1 (no) | 2006-09-21 | 2008-11-17 | Polight As | Polymerlinse |
CN101646966B (zh) * | 2007-11-05 | 2012-05-09 | 松下电器产业株式会社 | 使用面驱动聚合物致动器的透镜夹持体驱动装置以及摄像装置 |
JP5158720B2 (ja) | 2009-03-11 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 光学モジュールおよびその製造方法、並びに撮像装置 |
JP5430413B2 (ja) | 2010-01-07 | 2014-02-26 | 富士フイルム株式会社 | 可変焦点レンズ及びその駆動方法 |
JP5790003B2 (ja) * | 2011-02-04 | 2015-10-07 | セイコーエプソン株式会社 | 加速度センサー |
JP2013068875A (ja) | 2011-09-26 | 2013-04-18 | Panasonic Corp | 可変焦点レンズおよびその製造方法ならびに可変焦点レンズを備えた撮像装置 |
US8711495B2 (en) | 2012-10-01 | 2014-04-29 | Apple Inc. | MEMS autofocus actuator |
-
2017
- 2017-03-22 WO PCT/JP2017/011477 patent/WO2017170046A1/ja active Application Filing
- 2017-03-22 JP JP2018509127A patent/JP6537707B2/ja active Active
-
2018
- 2018-08-29 US US16/116,422 patent/US10921548B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017170046A1 (ja) | 2017-10-05 |
US20180364449A1 (en) | 2018-12-20 |
US10921548B2 (en) | 2021-02-16 |
JPWO2017170046A1 (ja) | 2018-09-13 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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