JP6528681B2 - Laminated film, and method of manufacturing laminated film - Google Patents
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Description
本発明は耐擦傷性、特に反復擦過耐性と成型性を両立した積層フィルムに関する。 The present invention relates to a laminated film having both abrasion resistance, in particular, repeated scratch resistance and moldability.
近年、カラーフィルターなどの光学材料やフラットパネルディスプレー、自動車ボディの表面保護(傷付き防止や防汚性付与等)を目的として、合成樹脂等からなる表面層が設けられたプラスチックフィルムが用いられている。 In recent years, a plastic film provided with a surface layer made of a synthetic resin or the like has been used for the purpose of protecting an optical material such as a color filter or a flat panel display or surface of an automobile body There is.
これらの表面層には、表面保護の観点で耐擦傷性が重要な特性として要求されるため、一般的には、非特許文献1に記載のオルガノシラン系や多官能アクリル系などの各種プレポリマー、オリゴマー等を含む塗料組成物を、塗布−乾燥−熱もしくはUV硬化させることによる「高架橋密度材料」や、さらに各種表面修飾フィラーを組み合わせた「有機−無機ハイブリッド材料」などを用いて塗膜の表面硬度を高めた、いわゆる「ハードコート材料」を用いることで耐擦傷性を付与している。 Since these surface layers are required to have scratch resistance as an important characteristic from the viewpoint of surface protection, various prepolymers such as organosilanes and polyfunctional acrylics described in Non-Patent Document 1 are generally used. , A coating composition containing an oligomer, etc., by coating-drying-heating or UV curing, a "highly crosslinked density material", or an "organic-inorganic hybrid material" combining various surface modification fillers, etc. The scratch resistance is imparted by using a so-called "hard coat material" having an increased surface hardness.
一方、表面層には、表面保護の観点で耐擦傷性が必須の特性として要求される他、用途に応じて、耐薬品性、耐油性、成型性など様々な特性が要求される。特に成型性は単に塗膜を硬くするだけでは変形に対して「ひび割れ」や「剥離」などが生じ易くなるため、傷付きにくいが柔軟である、耐擦傷性と成型性の両立が要求されている。 On the other hand, the surface layer is required to have scratch resistance as an essential characteristic from the viewpoint of surface protection, and various properties such as chemical resistance, oil resistance and moldability are also required according to the application. In particular, since the moldability is likely to cause "cracks" or "peel" to deformation simply by hardening the coating, it is hard to be damaged but is flexible, and it is required to have both abrasion resistance and moldability. There is.
ハードコート材料において、耐擦傷性と成型性を両立した積層フィルムとして、特許文献1には「基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層が設けられた積層フィルムであって、超微小硬度計におけるハードコート層の表面硬度の最大値が0.05GPa以上4.0GPa以下であり、100℃雰囲気下のクラック伸度が15%以上250%未満であることを特徴とする積層フィルム」が提案されている。 As a laminate film having both abrasion resistance and moldability in a hard coat material, Patent Document 1 states that “It is a laminate film in which a hard coat layer is provided on at least one surface of a substrate film, and it is It is proposed that the maximum value of the surface hardness of the hard coat layer is 0.05 GPa or more and 4.0 GPa or less, and the crack elongation under 100 ° C. atmosphere is 15% or more and less than 250%. There is.
一方で、表面についた傷を表面層の材料の弾性回復範囲の変形により修復し、耐擦傷性を達成する、いわゆる「自己修復材料」を用いたフィルムが、特許文献2および3に提案されており、さらに、自己修復材料の伸長性を向上させることにより成型性を向上させた材料として、特許文献4には「エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ビニルエーテル樹脂から選ばれた少なくとも1つの樹脂(A)と、数平均分子量が400以上のポリオール(B)、および活性エネルギー線感応触媒(C)からなる樹脂組成物であって、ポリオール(B)が炭素−炭素結合からなる主鎖を有するポリオール(B1)、ポリカーボネートポリオール(B2)、ポリエステルポリオール(B3)、ポリエーテルポリオール(B4)から選ばれた少なくとも1つのポリオールであることを特徴とする活性エネルギー線硬化性コーティング剤」が提案されている。 On the other hand, films using a so-called "self-healing material" are proposed in Patent Documents 2 and 3 which repair scratches on the surface by deformation of the elastic recovery range of the material of the surface layer and achieve scratch resistance. Furthermore, as a material whose moldability is improved by improving the extensibility of the self-repairing material, Patent Document 4 states that “at least one resin (A) selected from epoxy resin, oxetane resin, vinyl ether resin A resin composition comprising a polyol (B) having a number average molecular weight of 400 or more and an active energy ray-sensitive catalyst (C), wherein the polyol (B) has a main chain consisting of carbon-carbon bonds (B1) , Polycarbonate polyol (B2), polyester polyol (B3), and polyether polyol (B4) The active energy ray-curable coating agent "is proposed, which is a Lumpur.
また、自己修復材料の成型性を向上させる他の方法として、積層構造に着目した発明として、特許文献5では「樹脂基材の少なくとも一方の面に、応力緩和層と自己修復層とをこの順で積層した自己修復層付積層体において、該自己修復層は少なくとも軟質合成樹脂から構成され、該自己修復層に接する該応力緩和層のナノインデンテーションによる硬度Hが、自己修復層のナノインデンテーションによる硬度Hと同等または低いことを特徴とする自己修復層付積層体」が提案されている。 Further, as another method of improving the moldability of the self-repairing material, as an invention focusing on the laminated structure, Patent Document 5 “In at least one surface of the resin substrate, a stress relaxation layer and a self-repairing layer The self-repairing layer is made of at least a soft synthetic resin, and the hardness H of the stress relaxation layer in contact with the self-repairing layer is the nanoindentation of the self-repairing layer. A laminate with a self-repairing layer, which is characterized by being equal to or lower than the hardness H according to
しかしながら、前記表面層に前記「ハードコート材料」を用いた成型体は、表面硬度が極めて高いにもかかわらず、日常生活においては傷が付き、外観を損ねることが多く、これについて本発明者らが調べたところ、「ハードコート材料」は表面の硬度が高いが、やわらかい布などで反復擦過すると表面に微細な傷を生じて、表面が白濁することがわかった。 However, despite the extremely high surface hardness, molded articles using the above-mentioned "hard coat material" for the surface layer are often damaged in daily life and often impair the appearance, and the inventors of the present invention As a result, it was found that the "hard coat material" had a high surface hardness, but when repeatedly rubbed with a soft cloth or the like, it caused fine scratches on the surface and the surface became cloudy.
これに対して、特許文献2、特許文献3に提案されている材料について本発明者らが確認したところ、日常生活においては傷が付きにくく、反復擦過しても自己修復機能により傷が回復することで、ハードコート材料同等以上の耐擦傷性が得られていることがわかった。 On the other hand, when the present inventors confirmed the materials proposed in Patent Document 2 and Patent Document 3, it is hard to be scratched in daily life, and the scratch is recovered by the self-repairing function even after repeated rubbing. Thus, it was found that the abrasion resistance equal to or higher than that of the hard coat material was obtained.
しかしながら、自己修復材料は柔軟な材料であるため、一見、成型性が優れているように見えるが、実際に成型を行うと成型直後に、または成型後の保管時に表面層に、表面層にひび(クラック)や、これを起点として表面層が剥離することがあることがわかった。 However, the self-healing material appears to be excellent in formability because it is a flexible material, but when it is actually formed, the surface layer and crack in the surface layer immediately after the formation, or at storage after the formation It has been found that (cracks) and the surface layer may peel from this as a starting point.
また、特許文献4、5には自己修復性と成型性を両立することを課題の一つとした提案がなされているが、本発明者らが確認したところ、いずれもその効果は成型時のクラック、または反復擦過の面で不十分であった。また、特許文献1から5のいずれもが本発明の構造について着想には至っていない。そこで本発明の目的は耐擦傷性、特に反復擦過耐性と成型性を両立した積層フィルムを提供することにある。 Further, Patent Documents 4 and 5 propose that one of the problems is to achieve both self-repairing property and moldability, but the present inventors confirmed that in any case, the effect is a crack during molding Or was not sufficient in terms of repeated abrasion. Further, none of Patent Documents 1 to 5 has been conceived about the structure of the present invention. Therefore, an object of the present invention is to provide a laminated film having both abrasion resistance, in particular, repeated abrasion resistance and moldability.
上記課題を解決するために本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
(1)支持基材の少なくとも一方の面に、A層とB層とを含む表面層を有する積層フィルムであって、支持基材側からB層、A層がこの順で接しており、A層、B層、支持基材の微小硬度計により測定された25℃の貯蔵弾性率(以下、EA25、EB25、EC25)、120℃の貯蔵弾性率(以下、EA120、EB120、EC120)が、以下の条件を満たすことを特徴とする積層フィルム。
条件1 EA25<EB25≦EC25
条件2 EB120≦EA120<EC120
条件3 EA25≦100MPa
(2)前記A層、B層、支持基材が、以下の条件を満たすことを特徴とする(1)に記載の積層フィルム。
条件4 0<EC25−EB25<5GPa
条件5 0<EA120−EB120<50MPa
(3)前記B層のガラス転移温度(以下、TgB)が、以下の条件を満たすことを特徴とする(1)または(2)に記載の積層フィルム。
条件6 60℃≦TgB≦130℃
(4)前記B層の厚み(以下、TB)が、以下の条件を満たすことを特徴とする(1)から(3)のいずれかに記載の積層フィルム。
条件7 0.1μm≦TB≦5μm
(5)前記表面層の基材に垂直な断面において、表面層の表面から、表面層厚みの10%の位置(以降、位置1とする)、50%(以降、位置2とする)、99%(以降、位置3とする)の各位置における、原子間力顕微鏡による弾性率E1、E2、E3が、以下の条件を満たすことを特徴とする(1)から(4)のいずれかに記載の積層フィルム。
条件8 E1≦E2<E3
条件9 E1≦100MPa
条件10 E3≧1GPa
(6)前記(1)から(5)のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法であって、前記表面層が、2種類以上の塗料組成物を支持基材上に逐次に塗布、乾燥、硬化することにより形成されることを特徴とする積層フィルムの製造方法。
(7)前記(1)から(5)のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法であって、前記表面層が、2種類以上の塗料組成物を支持基材上に同時に塗布し、乾燥、硬化することにより形成されることを特徴とする積層フィルムの製造方法。MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, as a result of repeating earnest research, the present inventors completed the following invention. That is, the present invention is as follows.
(1) A laminated film having a surface layer including an A layer and a B layer on at least one surface of a supporting substrate, the B layer and the A layer being in contact in this order from the supporting substrate side, A Storage elastic modulus (hereinafter referred to as E A25 , E B25 , E C25 ) measured by a microhardness tester of the layer, B layer, and the supporting substrate (hereinafter referred to as E 120 , E B 120 , etc.) E C120 ) A laminated film characterized by satisfying the following conditions.
Condition 1 E A 25 <E B 25 ≦ E C 25
Condition 2 E B120 ≦ E A 120 <E C 120
Condition 3 E A 25 ≦ 100 MPa
(2) The laminated film according to (1), wherein the layer A, the layer B, and the supporting substrate satisfy the following conditions.
Condition 4 0 <E C25 −E B25 <5 GPa
Condition 5 0 <E A120 -E B120 <50 MPa
(3) The laminated film according to (1) or (2), wherein the glass transition temperature (hereinafter, Tg B ) of the layer B satisfies the following conditions.
Condition 6 60 ° C. ≦ Tg B ≦ 130 ° C.
(4) The laminated film according to any one of (1) to (3), wherein the thickness (hereinafter referred to as TB) of the layer B satisfies the following condition.
Condition 7 0.1 μm ≦ T B ≦ 5 μm
(5) In a cross section perpendicular to the base material of the surface layer, the position of 10% of the surface layer thickness (hereinafter referred to as position 1), 50% (hereinafter referred to as position 2), 99 from the surface of the surface layer The elastic modulus E1, E2 or E3 by atomic force microscope at each position of% (hereinafter referred to as position 3) is characterized by the following condition (1) to (4) Laminated film.
Condition 8 E1 ≦ E2 <E3
Condition 9 E1 ≦ 100 MPa
Condition 10 E3 1 1 GPa
(6) The method for producing a laminated film according to any one of (1) to (5), wherein the surface layer is formed by sequentially applying two or more types of coating compositions onto a supporting substrate, and A method of producing a laminated film characterized by being cured.
(7) The method for producing a laminated film according to any one of (1) to (5), wherein the surface layer simultaneously applies two or more types of coating compositions onto a supporting substrate, and then dried A method of producing a laminated film characterized by being cured.
本発明によれば耐擦傷性、特に反復擦過耐性と成型性とを両立した積層フィルムを提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide a laminated film having both abrasion resistance, in particular, repeated scratch resistance and moldability.
上記課題を達成するにあたり、本発明者らは(1)実使用環境で、自己修復材料がハードコート材料よりも耐擦傷性に優れる理由、(2)柔軟な自己修復材料が成型直後、または成型後の保管時に表面層にひび(クラック)が入ることや、クラックを起点として表面層が剥離する理由、について詳細に検討し以下の考察に至った。 In achieving the above problems, the present inventors (1) why the self-healing material is superior in abrasion resistance to the hard coat material in a practical use environment, (2) the soft self-healing material immediately after molding, or The reason why the surface layer is cracked in the later storage and the reason why the surface layer is peeled off starting from the crack was examined in detail, and the following discussion was reached.
まず、前述の(1)について述べる。プラスチック表面への傷の形成は、「圧力」、「擦過するものの硬度」、「擦過回数」の3つの要素が影響している。ハードコート材料が実使用環境で傷が入りやすい理由は、実使用環境における傷形成メカニズム、すなわち「実使用環境では、表面を擦過するものの硬度は低い一方で、接触する回数は非常に多い」ことに起因する。ハードコート材料では、擦過するものの硬度が低い、もしくは擦過時の圧力が低く、1回の擦過で表面に傷がつかない条件であっても、材料表面に傷には至らない内部ひずみが残り、これが「擦過回数」が多くなることでひずみとして蓄積される。この結果、硬度が高く、弾性変形可能なひずみ範囲が小さい、ハードコート材料には、ひずみの許容範囲を超えて最終的に傷が形成されると考えられる。一方で、自己修復材料が実使用環境に強く、反復擦過に対して有効である原因は、材料の弾性回復範囲が大きいため、前述の条件で擦過してもひずみを解放でき、傷が形成しないと考えられる。 First, the above (1) will be described. The formation of flaws on the plastic surface is affected by three factors: "pressure", "hardness of abrading" and "number of times of rubbing". The reason why hardcoat materials are easily scratched in the actual use environment is that the scratching mechanism in the actual use environment, that is, "in the actual use environment, the surface is scratched but the contact frequency is very high while the surface hardness is low". caused by. With hard-coat materials, internal hardness does not lead to scratches on the surface of the material, even under conditions where the hardness of the abrasive is low or the pressure at the time of abrasion is low and the surface is not scratched by one abrasion, This is accumulated as distortion as the "number of times of abrasion" increases. As a result, it is considered that the hard coat material having high hardness and small strain range capable of elastic deformation is finally scratched beyond the strain tolerance. On the other hand, the self-repairing material is strong in the actual use environment and effective for repeated abrasions because the elastic recovery range of the material is large, so that the strain can be released even under the above-mentioned conditions and no scratch is formed it is conceivable that.
次に前述の(2)について述べる。特許文献2から3に記載の、弾性回復により自己修復性を発現する材料を表面層に、一般的な熱可塑性樹脂を基材に用いた積層フィルムは、表面層が「エントロピー弾性体=ゴム弾性体」、支持基材が「エネルギー弾性体」となるため、熱に対する力学的挙動が大きく異なる材料により形成されているともいえる。このようなフィルムを加熱、成型すると、支持基材は塑性変形し固定化されるが、自己修復層は弾性変形範囲で変形するため、支持基材によって伸長方法に引っ張られた状態になり、表面層内に残留応力が発生する。そして、後工程、例えば射出成型により更なる加熱を受けたり、または使用環境において高い温度になったりすると、表面層はエントロピー弾性体であるが故、成型時よりも弾性率が上昇し、成型時の伸長が大きい場合には破断限界に達して、クラックが生じると考えられる。 Next, the above-mentioned (2) will be described. The laminated film using a material that develops self-repairing property by elastic recovery as a surface layer and a general thermoplastic resin as a base material described in Patent Documents 2 to 3 has a surface layer “entropy elastic body = rubber elasticity It can be said that the body and the supporting base material are "energy elastic bodies", and therefore they are formed of materials whose mechanical behavior to heat is largely different. When such a film is heated and molded, the supporting base material is plastically deformed and fixed, but the self-repairing layer is deformed in the elastic deformation range, and thus becomes stretched by the supporting base material, and the surface Residual stress occurs in the layer. When the surface layer is an entropy elastic body when subjected to further heating in a post-process, for example, injection molding, or reaches a high temperature in the use environment, the elastic modulus is higher than at the time of molding, and at the time of molding It is considered that when the elongation of E is large, the fracture limit is reached and a crack occurs.
そこで、本発明者らは積層フィルムの表面層として、前述のように優れた耐擦傷性、特に実使用環境における反復擦過耐性を有しながら十分な成型適性を両立する、以下の構造をもつ表面層有する積層フィルムを見出した。 Therefore, as the surface layer of the laminated film, the present inventors have a surface having the following structure, which has both the excellent scratch resistance as described above, in particular sufficient moldability while having repeated scratch resistance in a practical use environment. A laminated film having a layer was found.
まず、本発明の積層フィルムは、図1に示すように支持基材3の少なくとも一方の面に、A層とB層とを含む表面層を有し、支持基材側からB層、A層がこの順で接している。 First, the laminated film of the present invention has a surface layer including A layer and B layer on at least one surface of the supporting substrate 3 as shown in FIG. 1, and B layer and A layer from the supporting substrate side Are in contact in this order.
前記表面層で支持基材側から2層目にある層(図1中の1、すなわちA層)、支持基材に接している層(図1中の2、すなわちB層)、支持基材(図1中の3、以下、C層とする)の微小硬度計により測定された25℃の貯蔵弾性率(以下、EA25、EB25、EC25)、120℃の貯蔵弾性率(以下、EA120、EB120、EC120)が以下の条件を満たすことが好ましい。
条件1 EA25 <EB25 ≦EC25
条件2 EB120≦EA120<EC120
条件3 EA25 ≦100MPa。The layer which is the second layer from the side of the supporting substrate in the surface layer (1 in FIG. 1, ie A layer), the layer in contact with the supporting substrate (2 in FIG. 1 ie B layer), the supporting substrate Storage modulus of elasticity at 25 ° C. (hereinafter referred to as E 25 , E B 25 , E C 25 ) measured by a microhardness tester (3 in FIG. 1, hereinafter referred to as C layer), storage modulus of 120 ° C. (hereinafter, It is preferable that E A120 , E B120 , E C120 ) satisfy the following conditions.
Condition 1 E A 25 <E B 25 ≦ E C 25
Condition 2 E B120 ≦ E A 120 <E C 120
Condition 3 E A 25 ≦ 100 MPa.
ここで条件1は、25℃における弾性率、すなわち積層フィルムを実使用において使用する温度におけるA層(表面層においてB層に接する層)、B層(表面層において支持基材に接している層)、C層(支持基材)の貯蔵弾性率の関係を示している。C層は最も貯蔵弾性率が高く、B層はA層より貯蔵弾性率が高く、かつC層と同じかC層より貯蔵弾性率が低く、A層は最も貯蔵弾性率が低いことを意味しており、より好ましくは、EA25 <EB25 <EC25である。Here, condition 1 is the elastic modulus at 25 ° C., that is, the layer A (layer in contact with the layer B in the surface layer) at the temperature at which the laminated film is used in actual use, the layer B in contact with the support substrate in the surface layer And C) (support base material). The C layer has the highest storage modulus, the B layer has a higher storage modulus than the A layer, and the same as or lower than the C layer, meaning that the A layer has the lowest storage modulus. More preferably, E A25 <E B25 <E C25 .
このような構成にすることで、B層は十分な凝集力を有することになり、表面層はC層に対し十分な密着力を有し、実使用において反復擦過しても剥離を生じにくいため好ましい。 With such a configuration, the layer B has sufficient cohesion, and the surface layer has sufficient adhesion to the layer C, and peeling does not easily occur even in repeated use in practical use. preferable.
表面層はA層とB層とを含んでいれば他の層を含んでいてもよい。すなわち、表面層の構成は、図3のように3層以上で構成されていてもよく、この場合のA層よりも表面側にある層(Z層とする)の弾性率は特に限定されないが、Z層はA層に近い弾性率であることが好ましい。ここでZ層は防汚性、耐指紋性、耐染着性、反射防止性、防眩性、帯電防止性、など他の機能を有していてもよい。 The surface layer may include other layers as long as it includes an A layer and a B layer. That is, the constitution of the surface layer may be composed of three or more layers as shown in FIG. 3. In this case, the elastic modulus of the layer (referred to as Z layer) on the surface side of layer A is not particularly limited. The Z layer preferably has an elastic modulus close to that of the A layer. Here, the Z layer may have other functions such as antifouling property, fingerprint resistance, anti-dyeing property, antireflective property, antiglare property, antistatic property, and the like.
前述の微小硬度計により測定された貯蔵弾性率とは、積層フィルムの表面層の断面の超薄切片を作製して、微小硬度計により測定した値を示す。具体的な測定方法、計算方法の詳細については後述する。 The storage elastic modulus measured by the above-described microhardness tester means a value measured by using a microhardness tester by preparing an ultrathin section of the cross section of the surface layer of the laminated film. Details of the specific measurement method and calculation method will be described later.
この弾性率の順番が逆、すなわちEA25>EB25>EC25になると、表面層の弾性回復によるひずみ解放ができなくなるため反復擦過に弱くなる場合がある。また、順番が入れ替わる、すなわちEB25>EA25>EB25などになると、層内に応力集中部が形成されて、その近傍で剥離が起こる場合がある。If the order of the elastic modulus is reversed, that is, E A 25 > E B 25 > E C 25 , strain release due to elastic recovery of the surface layer can not be released, and therefore, it may be weak to repeated abrasion. In addition, when the order changes, that is, E B25 > E A25 > E B25, etc., a stress concentration portion may be formed in the layer, and peeling may occur in the vicinity thereof.
また条件2は、120℃における弾性率、すなわち積層フィルムの成型温度付近におけるA層、B層、C層の弾性率の関係を示しており、B層がもっとも弾性率が低い、もしくはA層と同じで、A層はC層よりも弾性率が低く、C層が最も弾性率が高いことを意味している。より好ましくは、EB120<EA120<EC120である。Condition 2 shows the elastic modulus at 120 ° C., that is, the elastic modulus of layer A, layer B and layer C near the molding temperature of the laminated film, and layer B has the lowest elastic modulus or layer A. Likewise, layer A has a lower modulus than layer C, meaning layer C has the highest modulus. More preferably, E B120 <E A120 <E C120 .
このような構成にすることにより、成型時にB層の弾性率がA層よりも低くなることによって、A層に残留応力を残さず、その後の工程における加熱、使用環境における高温においてもクラックを生じにくいため好ましい。 With such a configuration, the modulus of elasticity of the B layer becomes lower than that of the A layer during molding, so no residual stress is left in the A layer, and cracking occurs even at high temperatures in heating and use environments in the subsequent steps. It is preferable because it is difficult.
この弾性率の順番が入れ替わる、すなわちEA120≦EB120<EC120になると、前述のメカニズムにより、成型時に残留応力が蓄積し、その後の工程における加熱、使用環境における高温においてクラックを生じる場合がある。If the order of the elastic modulus is reversed , that is, E A 120 ≦ E B 120 <E C 120 , residual stress may build up during molding by the above-mentioned mechanism, and cracking may occur at a high temperature in the heating and use environment in the subsequent steps. .
ここで、条件3は、A層の25℃における弾性率(EA25)の好ましい範囲を示している。EA25の値は100MPa以下が好ましく、50MPa以下がより好ましく、20MPa以下が特に好ましい。EA25の値は100MPaを超えると、反復擦過時に弾性回復によるひずみの解放が不十分になる場合がある。またEAの値は小さい分には本課題を達成する上では特に支障はないが、1MPa以下になると表面に粘着性を発生する場合があり、表面保護の観点からは実用的ではない場合がある。Here, the condition 3 indicates a preferable range of the elastic modulus (E A25 ) at 25 ° C. of the layer A. The value of E A25 is preferably at most 100 MPa, more preferably at most 50 MPa, and particularly preferably 20 MPa. When the value of E A 25 exceeds 100 MPa, release of strain due to elastic recovery may be insufficient at repeated abrasion. The small value of E A does not cause any problem in achieving this subject, but when it is 1 MPa or less, the surface may be tacky and may not be practical from the viewpoint of surface protection. is there.
さらに以下の条件4、条件5を満たすことが好ましい。
条件4 0<EC25−EB25<5GPa
条件5 0<EA120−EB120<50MPa。Furthermore, it is preferable to satisfy the following condition 4 and condition 5.
Condition 4 0 <E C25 −E B25 <5 GPa
Condition 50 <E A120 -E B120 <50 MPa.
ここで、条件4は、積層フィルムの実使用環境における温度でのB層とC層の好ましい貯蔵弾性率の差の範囲を示しており、より好ましくは100MPa<EC25−EB25<3GPaである。Here, the condition 4 indicates the range of the difference in preferable storage elastic modulus of the layer B and the layer C at the temperature in the practical use environment of the laminated film, and more preferably 100 MPa <EC 25 −EB 25 <3 GPa .
EC25−EB25が5GPa以上になると、表面層の支持基材に対する密着力が不十分になるため、反復擦過耐性が低下する場合がある。EC25−EB25がゼロになると、結果としてA層とB層の弾性率差が大きくなることによりA層とB層の層間界面での応力集中が大きくなり、硬い材料による擦過で傷が残りやすくなる場合がある。When E C25 -E B25 is 5 GPa or more, the adhesion of the surface layer to the supporting substrate may be insufficient, and thus the repeated abrasion resistance may be reduced. When E C25 -E B25 becomes zero, the difference in elastic modulus between the A layer and the B layer becomes large as a result, stress concentration at the interface between the A layer and the B layer becomes large, and a scratch remains due to abrasion by a hard material It may be easier.
また、条件5は、成型温度におけるA層とB層の好ましい貯蔵弾性率の差の範囲を示しており、より好ましくは0<EA120−EB120<30MPa、さらに好ましくは0<EA120−EB120<10MPaである。Condition 5 indicates the range of the difference in storage modulus between layers A and B at the molding temperature, more preferably 0 < EA120- EB120 <30 MPa, still more preferably 0 < EA120- E. B120 <10 MPa.
EA120−EB120が50MPa以上になると、成型過程において、表面層と支持基材との密着力が不十分になり、皺を生じる場合がある。また、EB120の方がEA120よりも大きくなると、成型時にA層とB層との界面で残留応力が発生し、クラックや剥離を生じやすくなる場合がある。When E A120 -E B120 is 50 MPa or more, the adhesion between the surface layer and the supporting substrate may be insufficient in the molding process, which may cause wrinkles. Further, when the direction of E B 120 is larger than E A 120, residual stress occurs at the interface between the A layer and the B layer during molding, which may easily crack or peel.
さらに、前記表面層は、以下の条件6を満たすことが好ましい。
条件6 60℃≦TgB≦130℃
ここで、条件6は、表面層のなかで支持基材に接する層(B層)のガラス転移温度の好ましい範囲を示しており、より好ましくは、60℃≦TgB≦100℃である。Furthermore, the surface layer preferably satisfies the following condition 6.
Condition 6 60 ° C. ≦ Tg B ≦ 130 ° C.
Here, the condition 6 indicates a preferable range of the glass transition temperature of the layer (B layer) in contact with the support base in the surface layer, and more preferably 60 ° C. ≦ Tg B ≦ 100 ° C.
前記ガラス転移温度は、前述の微小硬度計により測定された貯蔵弾性率と損失弾性率の比(損失正接)の温度分散の極大値から求めた値を示す。測定方法の詳細については後述する。 The said glass transition temperature shows the value calculated | required from the maximum value of the temperature dispersion of ratio (loss tangent) of the storage elastic modulus and loss elastic modulus which were measured by the above-mentioned micro hardness meter. Details of the measurement method will be described later.
B層のガラス転移温度が60℃よりも低くなると、表面層と支持基材間の密着力が低下するため、室温での剥離や、硬い材料による擦過で傷が残りやすくなる場合がある。また、B層のガラス転移温度が130℃よりも高い場合には、条件によっては成型時にクラックや剥離を生じやすくなる場合がある。 When the glass transition temperature of the layer B is lower than 60 ° C., the adhesion between the surface layer and the supporting substrate is reduced, so that the scratch may be easily left by peeling at room temperature or abrasion with a hard material. In addition, when the glass transition temperature of the layer B is higher than 130 ° C., depending on the conditions, cracking and peeling may occur easily during molding.
さらに、前記表面層は、以下の条件7を満たすことが好ましい、
条件7 0.1μm ≦TB≦ 5μm。Furthermore, the surface layer preferably satisfies the following condition 7:
Condition 7 0.1 μm ≦ T B ≦ 5 μm.
ここで条件7は、表面層において支持基材に接する層(B層)の厚み(TB)の好ましい範囲を示しており、より好ましくは0.5μm ≦TB≦ 3μmである。B層の厚みが、0.1μmよりも薄くなると、成型時に表面層と支持基材間で生じる残留応力を吸収する能力がやや弱くなる場合があり、5μmよりも厚くなると、表面層と支持基材間の密着力がやや弱くなる場合がある。Here, Condition 7 indicates a preferable range of the thickness (T B ) of the layer (B layer) in contact with the supporting substrate in the surface layer, and more preferably 0.5 μm ≦ T B ≦ 3 μm. If the thickness of the layer B is smaller than 0.1 μm, the ability to absorb residual stress generated between the surface layer and the support base during molding may become slightly weak, and if the thickness is more than 5 μm, the surface layer and the support base Adhesion between materials may be slightly weak.
本発明の積層フィルムは、図2に示すように支持基材の少なくとも一方の面に、A層とB層とを含む表面層を有する積層フィルムであって、前記表面層の基材に垂直な断面において、表面層の表面から、表面層厚みの10%の位置(以降、位置1とする。図2中の5の位置)、50%(以降、位置2とする。図2中の6の位置)、99%(以降、位置3とする。図2中の7の位置)の各位置における、原子間力顕微鏡による弾性率E1、E2、E3が、以下の条件8、条件9、条件10を満たすことが好ましい。
条件8 E1≦E2<E3
条件9 E1≦100MPa
条件10 E3≧1GPa
条件8は、表面層の厚み方向において表面側から基材側に向かって弾性率が高くなることが好ましいことを意図しており、E1≦E2<E3であることが好ましく、E1<E2<E3であることがより好ましい。The laminated film of the present invention is a laminated film having a surface layer including an A layer and a B layer on at least one surface of a supporting substrate as shown in FIG. 2, which is perpendicular to the substrate of the surface layer. In the cross section, the position of 10% of the surface layer thickness from the surface of the surface layer (hereinafter referred to as position 1; position of 5 in FIG. 2); 50% (hereinafter referred to as position 2). Elastic modulus E1, E2 and E3 by atomic force microscope at each position of 99% (hereinafter referred to as position 3) of position 3 and position 7) are the following condition 8, condition 9, condition 10 It is preferable to satisfy
Condition 8 E1 ≦ E2 <E3
Condition 9 E1 ≦ 100 MPa
Condition 10 E3 1 1 GPa
Condition 8 is intended to preferably increase the elastic modulus in the thickness direction of the surface layer from the surface side toward the substrate side, and preferably E1 ≦ E2 <E3, E1 <E2 <E3. It is more preferable that
この順番が逆、すなわちE1>E2>E3になると、最表面で弾性回復によるひずみ解放ができなくなるため反復擦過に弱く、また、最表面は硬度が高くても下部の弾性率が低いためにひずみが大きくなるので、高い圧力や硬度が高い材料により擦過する場合に、耐擦傷性が低下する場合がある。 If this order is reversed, that is, E1> E2> E3, strain release due to elastic recovery can not be performed on the outermost surface, so it is vulnerable to repeated abrasion, and the outermost surface is strained because the elastic modulus of the lower portion is low even if the hardness is high. In the case of abrasion with a material having high pressure or high hardness, the abrasion resistance may be reduced.
条件9は表面層の表面側の弾性率(E1)の好ましい範囲を示している。E1の値は100MPa以下が好ましく、50MPa以下がより好ましく、20MPa以下が特に好ましい。E1の値は100MPaを超えると、反復擦過時に弾性回復によるひずみの解放が不十分になる場合がある。またE1の値は小さい分には本課題を達成する上では特に支障はないが、1MPa以下になると表面に粘着性を発生する場合があり、表面保護の観点からは実用的ではない場合がある。 Condition 9 indicates a preferable range of the elastic modulus (E1) on the surface side of the surface layer. 100 MPa or less is preferable, 50 MPa or less is more preferable, and 20 MPa or less is especially preferable. If the value of E1 exceeds 100 MPa, release of strain due to elastic recovery may be insufficient at repeated rubbing. In addition, although the value of E1 is not particularly limited in achieving this subject because it is small, the surface may become tacky at 1 MPa or less, which may not be practical from the viewpoint of surface protection. .
条件10は、表面層の支持基材側の弾性率(E3)の好ましい範囲を示している。E3の値は1GPa以上が好ましく、2GPa以上がより好ましく、3GPa以上が特に好ましい。E3の値は1GPaより小さいと表面硬度が不十分になり、硬い材料による擦過に対する耐久性が不十分になる場合がある。E3の値は耐擦傷性については高いほど好ましいが、実用的に耐折性や加工性等の観点から積層フィルム上の表面層として使用可能な材料としては100GPa程度が限度である。 Condition 10 indicates a preferable range of the elastic modulus (E3) of the surface layer on the support substrate side. The value of E3 is preferably 1 GPa or more, more preferably 2 GPa or more, and particularly preferably 3 GPa or more. If the value of E3 is less than 1 GPa, the surface hardness may be insufficient, and the durability against abrasion by a hard material may be insufficient. The value of E3 is preferably as high as possible for scratch resistance, but the limit is about 100 GPa as a material that can be used as a surface layer on a laminated film from the viewpoint of practically bending resistance and processability.
ここで、表面層の貯蔵弾性率、損失弾性率、およびガラス転移温度の測定について述べる。これらの測定は、超微小硬度計(Hysitron 社製Tribo Indenter)を用いてモジュラスマッピング像[貯蔵弾性率(E’)像・損失弾性率(E’’)像]を取得して行うことができる。 Here, measurement of the storage elastic modulus, loss elastic modulus, and glass transition temperature of the surface layer will be described. These measurements can be performed by obtaining a modulus mapping image [storage elastic modulus (E ') image / loss elastic modulus (E' ') image] using an ultra-microhardness tester (Tribo Indenter manufactured by Hysitron) it can.
例えば、積層フィルムを電顕用エポキシ樹脂(日新EM社製Quetol812)で包埋し硬化させた後、ウルトラミクロトーム(ライカ社製Ultracut S)で積層フィルムの表面層の断面の超薄切片を作製し測定サンプルとし、以下の条件で測定し、ヘルツの接触理論を用いて弾性率を算出する。
測定装置:Hysitron社製Tribo Indenter
使用圧子:ダイヤモンド製Cubecorner圧子(曲率半径50nm)
測定視野:約30mm角
測定周波数:200Hz
測定雰囲気:室温・大気中
接触荷重:0.3μN
以下に超微小硬度計による測定原理を説明する。For example, the laminated film is embedded and cured with an epoxy resin for electron microscopy (Quetol 812 manufactured by Nisshin EM Co., Ltd.), and then an ultra-thin section of the cross section of the surface layer of the laminated film is prepared with an ultramicrotome (Ultracut S manufactured by Leica Co.) Measure the sample under the following conditions and calculate the elastic modulus using Hertz's contact theory.
Measuring device: Tribo Indenter manufactured by Hysitron
Working indenter: Diamond Cubecorner indenter (curvature radius of 50 nm)
Measuring field of view: Approximately 30 mm square Measuring frequency: 200 Hz
Measurement atmosphere: room temperature and atmospheric contact load: 0.3μN
The measurement principle by the ultra-microhardness tester is explained below.
軸対称圧子を試料に押し込んだ際の、測定系のスチフネス(K)は式(1)で表される
ことが知られている。It is known that the stiffness (K) of the measurement system when the axisymmetric indenter is pressed into the sample is represented by equation (1).
ここで、Aは、試料と圧子が接触してできる圧痕の投影面積、E*は圧子系と試料系の複合弾性率である。Here, A is the projected area of the indentation formed by the contact of the sample with the indenter, and E * is the combined elastic modulus of the indenter system and the sample system.
一方、圧子が試料のごく表面に接触した際には、圧子先端を球形状とみなし、球形と半無限平板の接触に関するヘルツの接触理論を適用できると考えられる。ヘルツの接触理論では、圧子と試料が接触している際の圧痕投影面の半径aは式(2)で表される。 On the other hand, when the indenter comes in contact with the very surface of the sample, it is considered that the indenter tip can be regarded as a spherical shape, and the Hertzian contact theory for the contact between the spherical and the semi-infinite plate can be applied. In Hertz's contact theory, the radius a of the indentation projection surface when the indenter and the sample are in contact is represented by equation (2).
ここで、Pは荷重、Rは圧子先端の曲率半径である。 Here, P is a load, and R is a radius of curvature of the indenter tip.
よって、試料と圧子が接触してできる圧痕の投影面積Aは式(3)で表され、式(1)〜式(3)を用いて、E*を算出することができる。Therefore, the projected area A of the indentation formed by the contact of the sample and the indenter is represented by the equation (3), and E * can be calculated using the equations (1) to (3).
モジュラスマッピングとは、上記ヘルツの接触理論に基づき、試料のごく表面に圧子を接触させ、試験中に圧子を微小振動させ、振動に対する応答振幅、位相差を時間の関数として取得し、K(測定系スチフネス)およびD(試料ダンピング)を求める方法である。 Modulus mapping is based on the Hertz's contact theory. The indenter is brought into contact with the very surface of the sample, the indenter is micro-oscillated during the test, and the response amplitude to vibration, the phase difference as a function of time is obtained. It is a method of determining system stiffness) and D (sample damping).
この振動が単純調和振動子であると、試料へ圧子が侵入する方向の力の総和(検出荷重成分)F(t)は、式(4)で表される。 If this vibration is a simple harmonic oscillator, the sum (detection load component) F (t) of the force in the direction in which the indenter intrudes into the sample is expressed by equation (4).
ここで、式(4)第1項は圧子軸由来の力(m:圧子軸の質量)、式(4)第2項は試料の粘性的成分由来の力を、式(4)第3項は試料系の剛性を表し、tは時間を表している。式(4)のF(t)は、時間に依存することから、式(5)のように表される。 Here, the first term of the equation (4) is the force derived from the indenter axis (m: the mass of the indenter axis), the second term of the equation (4) is the force derived from the viscous component of the sample, the equation (4) the third term Represents the stiffness of the sample system and t represents time. Since F (t) of Formula (4) is dependent on time, it is represented like Formula (5).
ここで、F0は定数、ωは角振動数である。式(5)を式(4)に代入して、常微分方程式の特別解である式(6)を代入し、方程式を解くと、式(7)〜(10)の関係式を得ることができる。Here, F 0 is a constant, and ω is an angular frequency. By substituting the equation (5) into the equation (4), substituting the equation (6) which is a special solution of the ordinary differential equation, and solving the equation, the relational equations of the equations (7) to (10) can be obtained it can.
ここで、φは位相差である。mは測定時に既知であることから、供試体の測定時に、変位の振動振幅(h0)、位相差(φ)と励起振動振幅(F0)を計測することによって、式(7)〜式(10)より、KおよびDを算出することができる。Here, φ is a phase difference. Since m is known at the time of measurement, the equation (7) to equation can be obtained by measuring the vibration amplitude (h 0 ), the phase difference (φ) and the excitation vibration amplitude (F 0 ) of the displacement at the time of measurement of the specimen. From (10), K and D can be calculated.
E*を貯蔵弾性率(E’)とみなして式(1)〜式(10)をまとめ、測定系スチフネスのうち、試料由来であるKs(=K−mω2)を用いて式(11)から貯蔵弾性率を算出した。Formula (1)-Formula (10) are put together, E * is regarded as storage elastic modulus (E '), and formula (11) is used using Ks (= K-mω 2 ) which is a sample origin among measurement system stiffness The storage modulus was calculated from
本発明中の損失弾性率も前述した貯蔵弾性率の測定と同様に測定でき、前述の式(8)における測定系スチフネスのうち、試料由来であるKsを用い、式(11)とあわせてまとめた式(12)から損失弾性率を算出した。 The loss elastic modulus in the present invention can also be measured in the same manner as the measurement of the storage elastic modulus described above, and among the measurement system stiffnesses in the above equation (8), using Ks derived from the sample and summarized together with the equation (11) The loss elastic modulus was calculated from equation (12).
本発明におけるガラス転移温度も前述した貯蔵弾性率の測定と同様に測定でき、前途で算出された貯蔵弾性率、損失弾性率の比から損失正接(tanδ)を求め、得られた損失正接(tanδ)のピーク値の温度を、ガラス転移温度(Tg)とした。 The glass transition temperature in the present invention can also be measured in the same manner as the measurement of the storage elastic modulus described above, and the loss tangent (tan δ) is determined from the ratio of the storage elastic modulus and loss elastic modulus calculated earlier. The temperature of the peak value of) was taken as the glass transition temperature (Tg).
本発明における原子間力顕微鏡による弾性率測定は、極微小部分の探針による圧縮試験であり、押し付け力による変形度合いであるため、ばね定数が既知のカンチレバーを用いて、表面層の厚み方向の各位置の断面における弾性率を測定する。具体的には積層フィルムを切断し、表面層の厚み方向の各位置の断面における弾性率を原子間力顕微鏡により測定する。詳細は実施例の項で記載するが、下記に示す原子間力顕微鏡を用い、カンチレバー先端の探針を、表面層の断面に接触させ、最大2μNの押し込み荷重によりフォースカーブを測定して求めたカンチレバーの撓み量より測定することができる。詳細については後述する。 The measurement of elastic modulus with an atomic force microscope in the present invention is a compression test with a probe of an extremely small portion, and is a degree of deformation due to a pressing force, so using a cantilever with a known spring constant Measure the elastic modulus at the cross section of each position. Specifically, the laminated film is cut, and the elastic modulus in the cross section at each position in the thickness direction of the surface layer is measured by an atomic force microscope. The details will be described in the section of the example, but using an atomic force microscope shown below, the probe at the tip of the cantilever was brought into contact with the cross section of the surface layer, and the force curve was measured by pressing load of 2 μN at maximum. It can be measured from the amount of deflection of the cantilever. Details will be described later.
原子間力顕微鏡:アサイラムテクノロジー社製 MFP−3DSA−J
カンチレバー:NANOSENSORS製のカンチレバー「R150−NCL−10(材質Si、ばね定数48N/m、先端の曲率半径150nm)。Atomic force microscope: MFP-3DSA-J manufactured by Asylum Technology
Cantilever: A cantilever “R150-NCL-10 (material Si, spring constant 48 N / m, radius of curvature at the tip 150 nm) made by NANOSENSORS.
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
[積層フィルム、および表面層]
本発明の積層フィルムは、前述の物性を示す表面層を有していれば平面状態、または成型された後の3次元形状のいずれであってもよい。ここで本発明における「表面層」は、少なくとも2以上の層から形成されていることが好ましい。[Laminated film and surface layer]
The laminated film of the present invention may be either in a flat state or in a three-dimensional shape after being formed, as long as it has a surface layer exhibiting the aforementioned physical properties. Here, the “surface layer” in the present invention is preferably formed of at least two or more layers.
前記表面層全体の厚みは特に限定はないが、5μm以上200μm以下が好ましく、10μm以上100μm以下がより好ましい。 The thickness of the entire surface layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 100 μm or less.
前述の2以上の層として、少なくとも前記表面層においてB層と接する層(A層)、支持基材に接している層(B層)を有し、A層、B層、支持基材が、前述の関係を満たすことが好ましい。 As the two or more layers described above, at least the surface layer, a layer (A layer) in contact with the B layer, a layer (B layer) in contact with the support base, the A layer, the B layer, the support base, It is preferable to satisfy the above relationship.
前記表面層は本発明の課題としている耐擦傷性、特に反復擦過耐性と成型性の両立のほかに、防汚性、反射防止性、帯電防止性、導電性、熱線反射性、近赤外線吸収性、電磁波遮蔽性、易接着等の他の機能を有してもよい。 The surface layer has anti-scratch properties, anti-reflecting properties, anti-static properties, conductivity, heat ray reflectivity, near-infrared absorptivity, in addition to the scratch resistance, which is the object of the present invention, and in particular the compatibility between repeated scratch resistance and moldability. , And may have other functions such as electromagnetic wave shielding and easy adhesion.
[支持基材]
本発明の積層フィルムに用いられる支持基材を構成する材料は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれでもよく、ホモ樹脂であってもよく、共重合または2種類以上のブレンドであってもよい。より好ましくは、支持基材を構成する樹脂は、成型性が良好であるため、熱可塑性樹脂が好ましい。[Supporting base material]
The material constituting the support base used in the laminated film of the present invention may be any of thermoplastic resin and thermosetting resin, may be homo resin, and may be copolymer or blend of two or more types. Good. More preferably, the resin constituting the support base is preferably a thermoplastic resin because the moldability is good.
熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、脂環族ポリオレフィン樹脂、ナイロン6・ナイロン66などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、4フッ化エチレン樹脂・3フッ化エチレン樹脂・3フッ化塩化エチレン樹脂・4フッ化エチレン−6フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂などを用いることができる。熱可塑性樹脂は、十分な延伸性と追従性を備える樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂は、強度・耐熱性・透明性の観点から、特に、ポリエステル樹脂、もしくはポリカーボネート樹脂、メタクリル樹脂であることが好ましく、ポリエステル樹脂が特に好ましい。 Examples of thermoplastic resins include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as nylon 6 and nylon 66, aramid resins, polyester resins, polycarbonate resins and polyarylate resins , Polyacetal resin, polyphenylene sulfide resin, tetrafluoroethylene resin, trifluoroethylene resin, trifluorochlorinated ethylene resin, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene fluoride resin, and the like, acrylic resin Resin, methacrylic resin, polyacetal resin, polyglycolic acid resin, polylactic acid resin, etc. can be used. The thermoplastic resin is preferably a resin having sufficient stretchability and followability. From the viewpoint of strength, heat resistance and transparency, the thermoplastic resin is particularly preferably a polyester resin, a polycarbonate resin or a methacrylic resin, and a polyester resin is particularly preferable.
本発明におけるポリエステル樹脂とは、エステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子の総称であって、酸成分およびそのエステルとジオール成分の重縮合によって得られる。具体例としてはポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどを挙げることができる。またこれらに酸成分やジオール成分として他のジカルボン酸およびそのエステルやジオール成分を共重合したものであってもよい。これらの中で透明性、寸法安定性、耐熱性などの点でポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートが特に好ましい。 The polyester resin in the present invention is a general term for a polymer having an ester bond as the main bond chain of the main chain, and is obtained by polycondensation of an acid component and its ester and diol component. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, and polybutylene terephthalate. Moreover, what co-polymerized other dicarboxylic acid and its ester and diol component as an acid component and a diol component may be used for these. Among these, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are particularly preferable in view of transparency, dimensional stability, heat resistance and the like.
また、支持基材には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。支持基材は、単層構成、積層構成のいずれであってもよい。 In addition, the supporting substrate includes various additives such as an antioxidant, an antistatic agent, a crystal nucleating agent, an inorganic particle, an organic particle, a viscosity reducing agent, a heat stabilizer, a lubricant, an infrared ray absorbent, an ultraviolet ray absorbent, A dopant for adjusting the refractive index may be added. The supporting substrate may have either a single-layer structure or a laminated structure.
支持基材の表面には、前記表面層を形成する前に各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例としては、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が挙げられる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。 It is also possible to apply various surface treatments to the surface of the supporting substrate before forming the surface layer. Examples of surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferable, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferable.
また、支持基材の表面には、本発明の表面層とは別に易接着層、帯電防止層、アンダーコート層、紫外線吸収層などの機能性層をあらかじめ設けることも可能であり、特に易接着層を設けることが好ましい。 In addition to the surface layer of the present invention, functional layers such as an adhesive layer, an antistatic layer, an undercoat layer, and an ultraviolet ray absorbing layer can be provided in advance on the surface of the supporting substrate, and in particular, adhesion is easy It is preferable to provide a layer.
[塗料組成物]
本発明の積層フィルムは支持基材上に後述する積層フィルムの製造方法を用いて、塗料組成物を塗布、乾燥、硬化することで、前述の物性を達成可能な構造を持つ表面層を形成できる。ここで「塗料組成物」とは、溶媒と溶質からなる液体であり、前述の支持基材上に塗布し、溶媒を乾燥工程で揮発、除去、硬化することにより表面層を形成可能な材料を指す。ここで、塗料組成物の「種類」とは、塗料組成物を構成する溶質の種類が一部でも異なる液体を指す。この溶質は、樹脂もしくは塗布プロセス内でそれらを形成可能な材料(以降これを前駆体と呼ぶ)、粒子、および重合開始剤、硬化剤、触媒、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤からなる。[Coating composition]
The laminated film of the present invention can form a surface layer having a structure capable of achieving the above-mentioned physical properties by applying, drying and curing the coating composition on the supporting substrate using the method for manufacturing the laminated film described later. . Here, “coating composition” is a liquid comprising a solvent and a solute, which is applied on the above-mentioned supporting substrate, and a material which can form a surface layer by volatilizing, removing and curing the solvent in a drying step is used. Point to. Here, the “type” of the coating composition refers to a liquid in which the types of solutes constituting the coating composition are partially different. The solute is a resin or a material capable of forming them in a coating process (hereinafter referred to as a precursor), particles, and a polymerization initiator, a curing agent, a catalyst, a leveling agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, etc. It consists of various additives.
本発明の積層フィルムは、前述のように少なくとも2種類の塗料組成物(以下塗料組成物A、塗料組成物Bとする)を用い、支持基材上に逐次に塗布、または同時塗布することにより形成することが好ましい。 The laminated film of the present invention is applied sequentially or simultaneously on a supporting substrate using at least two types of coating compositions (hereinafter referred to as coating composition A and coating composition B) as described above. It is preferable to form.
ここで塗料組成物Aは、表面層の支持基材側から2層目、すなわち前述のA層を形成するのに適した樹脂、または前駆体を含む液体であり、あらかじめB層が形成された支持基材上に、塗布、乾燥、硬化、もしくは支持基材上にB層の形成と同時に塗布、乾燥、硬化することによりA層を形成できる。 Here, the coating composition A is a second layer from the supporting substrate side of the surface layer, that is, a resin suitable for forming the aforementioned A layer, or a liquid containing a precursor, and the B layer is formed in advance. A layer can be formed on the support substrate by coating, drying, curing, or simultaneously forming, coating, drying and curing the layer B on the support substrate.
塗料組成物Bは、表面層の支持基材と接している層、すなわち前述のB層を形成するのに適した樹脂、または前駆体を含む液体であり、支持基材上に塗布、乾燥、硬化、もしくは表面側にA層と同時に塗布、乾燥、硬化することにより、B層を形成できる。 The coating composition B is a layer in contact with the support substrate of the surface layer, that is, a resin suitable for forming the B layer described above, or a liquid containing a precursor, and is applied onto the support substrate, dried, A layer B can be formed by curing or coating, drying and curing on the surface side simultaneously with layer A.
[塗料組成物A]
塗料組成物Aは、表面層におけるA層を構成するのに適した材料を含む、もしくは形成可能な前駆体を含む液体であり、溶質として次の(1)から(3)のセグメントを含む樹脂もしくは前駆体を含むことが好ましい。
(1)ポリカプロラクトンセグメント、ポリカーボネートセグメントおよびポリアルキレングリコールセグメントからなる群より選ばれる少なくとも一つを含むセグメント
(2)ウレタン結合
(3)フッ素化合物セグメント、ポリシロキサンセグメントおよびポリジメチルシロキサンセグメントからなる群より選ばれる少なくとも一つを含むセグメント。[Coating composition A]
The coating composition A is a liquid containing a material suitable for forming the layer A in the surface layer, or containing a precursor that can be formed, and a resin containing the following segments (1) to (3) as a solute: Or preferably contains a precursor.
(1) Segment containing at least one selected from the group consisting of polycaprolactone segment, polycarbonate segment and polyalkylene glycol segment (2) Urethane bond (3) Fluorine compound segment, polysiloxane segment and polydimethylsiloxane segment A segment containing at least one selected.
この表面層の表面におけるA層を構成する樹脂が含む各セグメントについては、TOF−SIMS、FT−IR等により確認することできる。 About each segment which resin which comprises A layer in the surface of this surface layer contains, TOF-SIMS, FT-IR, etc. can confirm.
また、塗料組成物A中に含まれる前記(1)、(2)、(3)の質量部は、(1)/(2)/(3)= 95/5/1 〜 50/50/15 が好ましく、(1)/(2)/(3)= 90/10/1 〜 60/40/10 がより好ましい。以下、(1)、(2)、(3)の詳細について説明する。 Moreover, the mass part of said (1), (2), (3) contained in the coating composition A is (1) / (2) / (3) = 95/5/1-50/50/15. (1) / (2) / (3) = 90/10/1 to 60/40/10 are more preferable. The details of (1), (2) and (3) will be described below.
前記(1)ポリカプロラクトンセグメント、ポリカーボネートセグメントおよびポリアルキレングリコールセグメントの詳細については後述するが、前記表面層の表面におけるA層を構成する樹脂がこれらのセグメントを有することで、表面層の自己修復性を向上させ、反復擦過性を向上させることができる。 Although the details of the (1) polycaprolactone segment, the polycarbonate segment and the polyalkylene glycol segment will be described later, the resin constituting the A layer on the surface of the surface layer has these segments, so that the self-repairing property of the surface layer Can improve the repetitive abrasion.
前記ウレタン結合の詳細については後述するが、前記表面層の表面におけるA層を構成する樹脂がこの結合を有することで、表面層全体の強靭性を向上させることができる。 Although the detail of the said urethane bond is mentioned later, when the resin which comprises A layer in the surface of the said surface layer has this coupling | bond, the toughness of the whole surface layer can be improved.
前記フルオロポリエーテルセグメントの詳細については後述するが、表面層を構成する樹脂がこれらを含むことにより最表面に低表面エネルギーを示す分子を高密度に存在させることができ、表面の反復擦過性が向上する。 Although the details of the fluoropolyether segment will be described later, when the resin constituting the surface layer contains these, molecules exhibiting low surface energy can be present at a high density on the outermost surface, and the repetitive abrasion of the surface is improves.
[ポリカプロラクトンセグメント、ポリカーボネートセグメント、ポリアルキレングリコールセグメント]
まず、ポリカプロラクトンセグメントとは化学式1で示されるセグメントを指す。ポリカプロラクトンには、カプロラクトンの繰り返し単位が1(モノマー)、2(ダイマー)、3(トライマー)のようなものや、カプロラクトンの繰り返し単位が35までのオリゴマーも含む。[Polycaprolactone Segment, Polycarbonate Segment, Polyalkylene Glycol Segment]
First, a polycaprolactone segment refers to a segment represented by Chemical Formula 1. The polycaprolactone also includes caprolactone having repeating units of 1 (monomer), 2 (dimer), 3 (trimer) and oligomers having caprolactone having up to 35 repeating units.
nは1〜35の整数である。 n is an integer of 1 to 35.
ポリカプロラクトンセグメントを含有する樹脂は、少なくとも1以上の水酸基(ヒドロキシル基)を有することが好ましい。水酸基はポリカプロラクトンセグメントを含有する樹脂の末端にあることが好ましい。 It is preferable that the resin containing a polycaprolactone segment has at least one or more hydroxyl groups (hydroxyl groups). The hydroxyl group is preferably at the end of the resin containing a polycaprolactone segment.
ポリカプロラクトンセグメントを含有する樹脂としては、特に2〜3官能の水酸基を有するポリカプロラクトンが好ましい。具体的には、化学式2で示されるポリカプロラクトンジオール、 As a resin containing a polycaprolactone segment, polycaprolactone having a 2- to 3-functional hydroxyl group is particularly preferable. Specifically, polycaprolactone diol represented by the chemical formula 2,
ここで、m+nは4〜35の整数で、m、nはそれぞれ1〜34の整数、RはC2H4、C2H4OC2H4、C(CH3)3(CH2)2
または化学式3で示されるポリカプロラクトントリオール、Here, m + n is an integer of 4 to 35, m and n each is an integer of 1 to 34, R is C 2 H 4 , C 2 H 4 OC 2 H 4 , C (CH 3 ) 3 (CH 2 ) 2
Or polycaprolactone triol represented by the formula 3
ここで、l+m+nは3〜30の整数で、l、m、nはそれぞれ1〜28の整数、RはCH2CHCH2、CH3C(CH2)3、CH3CH2C(CH2)3
などのポリカプロラクトンポリオールや化学式4で示されるポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートHere, l + m + n is an integer of 3 to 30, l, m and n each is an integer of 1 to 28, R is CH 2 CHCH 2 , CH 3 C (CH 2 ) 3 and CH 3 CH 2 C (CH 2 ) 3
And polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylates represented by the chemical formula 4
ここで、nは1〜25の整数で、RはHまたはCH3などの活性エネルギー線重合性カプロラクトンを用いることができる。他の活性エネルギー線重合性カプロラクトンの例として、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。Here, n is an integer of 1 to 25 and R can be H or active energy ray polymerizable caprolactone such as CH 3 . Examples of other active energy ray polymerizable caprolactone include polycaprolactone modified hydroxypropyl (meth) acrylate, polycaprolactone modified hydroxybutyl (meth) acrylate and the like.
さらに本発明において、ポリカプロラクトンセグメントを含有する樹脂は、ポリカプロラクトンセグメント以外に、他のセグメントやモノマーが含有(あるいは、共重合)されていてもよい。たとえば、後述するポリジメチルシロキサンセグメントやポリシロキサンセグメント、イソシアネート化合物を含有する化合物が含有(あるいは、共重合)されていてもよい。 Furthermore, in the present invention, the resin containing a polycaprolactone segment may contain (or be copolymerized with) other segments and monomers in addition to the polycaprolactone segment. For example, a polydimethylsiloxane segment, a polysiloxane segment described later, or a compound containing an isocyanate compound may be contained (or copolymerized).
また、本発明において、ポリカプロラクトンセグメントを含有する樹脂中の、ポリカプロラクトンセグメントの重量平均分子量は500〜2,500であることが好ましく、より好ましい重量平均分子量は1,000〜1,500である。ポリカプロラクトンセグメントの重量平均分子量が500〜2,500であると、自己修復性の効果がより発現し、また反復擦過性がより向上するため好ましい。 In the present invention, the weight average molecular weight of the polycaprolactone segment in the resin containing the polycaprolactone segment is preferably 500 to 2,500, and more preferably 1,000 to 1,500. . When the weight average molecular weight of the polycaprolactone segment is 500 to 2,500, the self-repairing effect is more exhibited, and the repetitive abrasion is further improved, which is preferable.
次にポリアルキレングリコールセグメントとは、化学式5で示されるセグメントを指す。ポリアルキレングリコールには、アルキレングリコールの繰り返し単位が2(ダイマー)、3(トライマー)のようなものや、アルキレングリコールの繰り返し単位が11までのオリゴマーも含む。 Next, a polyalkylene glycol segment refers to a segment represented by Chemical Formula 5. The polyalkylene glycols include those having 2 (dimers), 3 (trimers) of alkylene glycol repeating units, and oligomers having up to 11 alkylene glycol repeating units.
nは2〜4の整数、mは2〜11の整数である。 n is an integer of 2 to 4, and m is an integer of 2 to 11.
ポリアルキレングリコールセグメントを含有する樹脂は、少なくとも1以上の水酸基(ヒドロキシル基)を有することが好ましい。水酸基はポリアルキレングリコールセグメントを含有する樹脂の末端にあることが好ましい。 It is preferable that the resin containing the polyalkylene glycol segment has at least one or more hydroxyl groups (hydroxyl groups). The hydroxyl group is preferably at the end of the resin containing a polyalkylene glycol segment.
ポリアルキレングリコールセグメントを含有する樹脂としては、弾性を付与するために、末端にアクリレート基を有するポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートであることが好ましい。ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートのアクリレート官能基(またはメタクリレート官能基)数は限定されないが、硬化物の自己修復性の点から単官能であることが最も好ましい。 The resin containing a polyalkylene glycol segment is preferably a polyalkylene glycol (meth) acrylate having an acrylate group at the end in order to impart elasticity. The number of acrylate functional groups (or methacrylate functional groups) of the polyalkylene glycol (meth) acrylate is not limited, but is most preferably monofunctional from the viewpoint of the self-healing property of the cured product.
表面層を形成するために用いる塗料組成物中に含有されるポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートとしては、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(メタ)アクリレートが挙げられる。それぞれ次の化学式6、化学式7、化学式8に代表される構造である。 Examples of polyalkylene glycol (meth) acrylate contained in the coating composition used to form the surface layer include polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate and polybutylene glycol (meth) acrylate . The structures are represented by the following chemical formula 6, chemical formula 7, and chemical formula 8, respectively.
ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート: Polyethylene glycol (meth) acrylate:
ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート: Polypropylene glycol (meth) acrylate:
ポリブチレングリコール(メタ)アクリレート: Polybutylene glycol (meth) acrylate:
化学式6、化学式7、化学式8でRは水素(H)またはメチル基(−CH3)、mは2〜11となる整数である。Formula 6, Formula 7, are R in Formula 8 hydrogen (H) or methyl group (-CH 3), m is an integer comprised between 2 to 11.
本発明では、好ましくは、後述するイソシアネート基を含有する化合物と(ポリ)アルキレングリコール(メタ)アクリレートの水酸基を反応させてウレタン(メタ)アクリレートとして表面層に用いることにより、表面層を構成する樹脂が、(2)ウレタン結合および(3)(ポリ)アルキレングリコールセグメントを有することができ、結果として表面層の強靱性を向上させると共に自己修復性を向上することができて好ましい。 In the present invention, preferably, a resin constituting a surface layer is produced by reacting a compound having an isocyanate group to be described later with a hydroxyl group of (poly) alkylene glycol (meth) acrylate to use as a urethane (meth) acrylate in the surface layer. (2) urethane bond and (3) (poly) alkylene glycol segment, which is preferable because it can improve the toughness of the surface layer and improve the self-repairing property.
イソシアネート基を含有する化合物とポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートとのウレタン化反応の際に同時に配合するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が例示される。 Hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl as hydroxyalkyl (meth) acrylate simultaneously compounded in the urethanization reaction of a compound containing an isocyanate group and a polyalkylene glycol (meth) acrylate Examples are (meth) acrylates and the like.
次に、ポリカーボネートセグメントとは化学式9で示されるセグメントを指す。ポリカーボネートには、カーボネートの繰り返し単位が2(ダイマー)、3(トライマー)のようなものや、カーボネートの繰り返し単位が16までのオリゴマーも含む。 Next, the polycarbonate segment refers to a segment represented by chemical formula 9. Polycarbonates also include those in which the recurring units of the carbonate are such as 2 (dimers), 3 (trimers), and oligomers of up to 16 recurring units of the carbonate.
nは2〜16の整数である。
R4は炭素数1〜8までのアルキレン基またはシクロアルキレン基を指す。n is an integer of 2 to 16;
R 4 refers to an alkylene or cycloalkylene group having 1 to 8 carbon atoms.
ポリカーボネートセグメントを含有する樹脂は、少なくとも1以上の水酸基(ヒドロキシル基)を有することが好ましい。水酸基は、ポリカーボネートセグメントを含有する樹脂の末端にあることが好ましい。 The resin containing a polycarbonate segment preferably has at least one or more hydroxyl groups (hydroxyl groups). The hydroxyl group is preferably at the end of the resin containing a polycarbonate segment.
ポリカーボネートセグメントを含有する樹脂としては、特に2官能の水酸基を有するポリカーボネートジオールが好ましい。具体的には化学式10で示される。
ポリカーボネートジオール:As a resin containing a polycarbonate segment, a polycarbonate diol having a bifunctional hydroxyl group is particularly preferable. Specifically, it is represented by Chemical Formula 10.
Polycarbonate diol:
nは2〜16の整数である。Rは炭素数1〜8までのアルキレン基またはシクロアルキレン基を指す。 n is an integer of 2 to 16; R refers to an alkylene or cycloalkylene group having 1 to 8 carbon atoms.
ポリカーボネートジオールは、カーボネート単位の繰り返し数がいくつであってもよいが、カーボネート単位の繰り返し数が大きすぎるとウレタン(メタ)アクリレートの硬化物の強度が低下するため、繰り返し数は10以下であることが好ましい。なお、ポリカーボネートジオールは、カーボネート単位の繰り返し数が異なる2種以上のポリカーボネートジオールの混合物であってもよい。 The polycarbonate diol may have any number of repeating carbonate units, but if the number of repeating carbonate units is too large, the strength of the cured urethane (meth) acrylate decreases, so the number of repeating is 10 or less. Is preferred. The polycarbonate diol may be a mixture of two or more polycarbonate diols having different numbers of repeating carbonate units.
ポリカーボネートジオールは、数平均分子量が500〜10,000のものが好ましく、1,000〜5,000のものがより好ましい。数平均分子量が500未満になると好適な柔軟性が得難くなる場合があり、また数平均分子量が10,000を超えると耐熱性や耐溶剤性が低下する場合があるので前記程度のものが好適である。 The polycarbonate diol preferably has a number average molecular weight of 500 to 10,000, and more preferably 1,000 to 5,000. When the number average molecular weight is less than 500, it may be difficult to obtain suitable flexibility, and when the number average molecular weight exceeds 10,000, the heat resistance and the solvent resistance may decrease, so the above-mentioned material is preferable. It is.
また、本発明で用いられるポリカーボネートジオールとしては、UH−CARB、UD−CARB、UC−CARB(宇部興産株式会社)、PLACCEL CD−PL、PLACCEL CD−H(ダイセル化学工業株式会社)、クラレポリオールCシリーズ(株式会社クラレ)、デュラノールシリーズ(旭化成ケミカルズ株式会社)のなど製品を好適に例示することができる。これらのポリカーボネートジオールは、単独で、または二種類以上を組合せて用いることもできる。 In addition, as polycarbonate diols used in the present invention, UH-CARB, UD-CARB, UC-CARB (Ube Industries, Ltd.), PLACCEL CD-PL, PLACCEL CD-H (Daicel Chemical Industries, Ltd.), Kuraray polyol C Products such as series (Kuraray Co., Ltd.) and Duranol series (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) can be suitably exemplified. These polycarbonate diols can also be used alone or in combination of two or more.
さらに本発明において、ポリカプロラクトンセグメントを含有する樹脂は、ポリカプロラクトンセグメント以外に、他のセグメントやモノマーが含有(あるいは、共重合)されていてもよい。たとえば、後述するポリジメチルシロキサンセグメントやポリシロキサンセグメント、イソシアネート化合物を含有する化合物が含有(あるいは、共重合)されていてもよい。 Furthermore, in the present invention, the resin containing a polycaprolactone segment may contain (or be copolymerized with) other segments and monomers in addition to the polycaprolactone segment. For example, a polydimethylsiloxane segment, a polysiloxane segment described later, or a compound containing an isocyanate compound may be contained (or copolymerized).
本発明では、好ましくは、後述するイソシアネート基を含有する化合物とポリカーボネートジオールの水酸基を反応させてウレタン(メタ)アクリレートとして、表面層の表面側に用いることにより、表面層の表面側を構成する樹脂が、前述の(2)ウレタン結合および(1)ポリカーボネートジオールセグメントを有することができ、結果として表面層の強靱性を向上させると共に自己修復性を向上することができ、反復擦過性を向上させることができる。 In the present invention, preferably, the resin constituting the surface side of the surface layer is produced by reacting the compound containing an isocyanate group to be described later with the hydroxyl group of polycarbonate diol and using it as urethane (meth) acrylate on the surface side of the surface layer. May have the aforementioned (2) urethane bond and (1) polycarbonate diol segment, and as a result, the toughness of the surface layer can be improved and the self-repairing property can be improved, and the repetitive scratching property can be improved. Can.
[ウレタン結合、イソシアネート基を含有する化合物]
本発明において、「ウレタン結合」とは化学式11で示される結合を指す。[A compound containing a urethane bond and an isocyanate group]
In the present invention, “urethane bond” refers to a bond represented by Chemical Formula 11.
前記表面層の表面側を構成する樹脂がこの結合を有することで、表面層全体の強靭性を向上させることができる。 The resin which comprises the surface side of the said surface layer can improve the toughness of the whole surface layer because it has this coupling | bonding.
塗料組成物Aが市販のウレタン変性樹脂を含むことにより、表面層の表面側を構成する樹脂がウレタン結合を有することが可能となる。また、表面層の表面側を形成する際に前駆体としてイソシアネート基を含有する化合物と水酸基を含有する化合物とを含む塗料組成物Aを塗布、乾燥、硬化することにより、ウレタン結合を生成させて、表面層の表面側にウレタン結合を含有させることもできる。 By the coating composition A containing a commercially available urethane-modified resin, the resin constituting the surface side of the surface layer can have a urethane bond. Further, when forming the surface side of the surface layer, a coating composition A containing a compound containing an isocyanate group and a compound containing a hydroxyl group as a precursor is applied, dried and cured to form a urethane bond. Also, urethane bonds can be contained on the surface side of the surface layer.
本発明ではイソシアネート基と水酸基とを反応させてウレタン結合を生成させることにより、表面層の表面側を構成する樹脂にウレタン結合を導入することが好ましい。イソシアネート基と水酸基とを反応させてウレタン結合を生成させることにより、表面層の強靱性を向上させると共に自己修復性を向上させることで、反復擦過性を向上させることができる。 In the present invention, it is preferable to introduce a urethane bond into the resin constituting the surface side of the surface layer by reacting an isocyanate group and a hydroxyl group to form a urethane bond. By reacting the isocyanate group and the hydroxyl group to form a urethane bond, the toughness of the surface layer can be improved and the self-repairing property can be improved, whereby the repetitive abrasion can be improved.
また、前述したポリカプロラクトンセグメント、ポリカーボネートセグメント、ポリアルキレングリコールセグメントを含有する樹脂や、水酸基を有する場合は、熱などによってこれら樹脂と前駆体としてイソシアネート基を含有する化合物との間にウレタン結合を生成させることも可能である。 In addition, a resin containing a polycaprolactone segment, a polycarbonate segment, or a polyalkylene glycol segment as described above, or, if having a hydroxyl group, generates a urethane bond between these resin and a compound containing an isocyanate group as a precursor by heat or the like. It is also possible to
イソシアネート基を含有する化合物と、後述する水酸基を有するポリシロキサンセグメントを含有する樹脂や、水酸基を有するポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂を用いて表面層を形成すると、表面層の強靱性および自己修復性に加えて、表面のすべり性を高めることができ、反復擦過性の観点からもより好ましい。 When the surface layer is formed using a compound containing an isocyanate group, a resin containing a polysiloxane segment having a hydroxyl group described later, or a resin containing a polydimethylsiloxane segment having a hydroxyl group, the toughness and self-repairing of the surface layer In addition to the nature, the slipperiness of the surface can be enhanced, which is more preferable from the viewpoint of repeated abrasion.
本発明において、イソシアネート基を含有する化合物とは、イソシアネート基を含有する樹脂や、イソシアネート基を含有するモノマーやオリゴマーを指す。イソシアネート基を含有する化合物は、例えば、メチレンビス−4−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンイソシアネートのビューレット体などの(ポリ)イソシアネート、および上記イソシアネートのブロック体などを挙げることができる。 In the present invention, a compound containing an isocyanate group refers to a resin containing an isocyanate group, and a monomer or oligomer containing an isocyanate group. The compound containing an isocyanate group is, for example, methylene bis-4-cyclohexyl isocyanate, trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate. An isocyanurate body, an isocyanurate body of hexamethylene diisocyanate, a (poly) isocyanate such as a biuret body of hexamethylene isocyanate, and a block body of the above isocyanate can be mentioned.
これらのイソシアネート基を含有する化合物の中でも、脂環族や芳香族のイソシアネートに比べて脂肪族のイソシアネートが、自己修復性が高く好ましい。イソシアネート基を含有する化合物は、より好ましくは、ヘキサメチレンジイソシアネートである。また、イソシアネート基を含有する化合物は、イソシアヌレート環を有するイソシアネートが耐熱性の点で特に好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体が最も好ましい。イソシアヌレート環を有するイソシアネートは、自己修復性と耐熱特性を併せ持つ表面層を形成する。 Among these isocyanate group-containing compounds, aliphatic isocyanates are preferable because they have high self-healing properties compared to alicyclic or aromatic isocyanates. The compound containing an isocyanate group is more preferably hexamethylene diisocyanate. Further, as the compound having an isocyanate group, an isocyanate having an isocyanurate ring is particularly preferable in terms of heat resistance, and an isocyanurate of hexamethylene diisocyanate is most preferable. An isocyanate having an isocyanurate ring forms a surface layer having both self-healing properties and heat resistance properties.
[フッ素化合物セグメント、ポリシロキサンセグメント、ポリジメチルシロキサンセグメント]
本発明の積層フィルムにおいて、表面層、もしくは表面層の表面側を構成する樹脂が、フッ素化合物セグメント、ポリシロキサンセグメントおよびポリジメチルシロキサンセグメントからなる群より選ばれる少なくとも一つを含むセグメントを有していることが好ましい。[Fluorinated compound segment, polysiloxane segment, polydimethylsiloxane segment]
In the laminated film of the present invention, the surface layer or the resin constituting the surface side of the surface layer has a segment including at least one selected from the group consisting of a fluorine compound segment, a polysiloxane segment and a polydimethylsiloxane segment Is preferred.
さらに、フッ素化合物セグメント、ポリシロキサンセグメントおよびポリジメチルシロキサンセグメントからなる群より選ばれる少なくとも一つを含むセグメントを含む樹脂、もしくは前駆体を含む塗料組成物Aを、表面層を形成する塗料祖生物の一つに用いることにより、表面層の表面側を構成する樹脂がこれらを有することができる。 Furthermore, a paint composition A comprising a resin containing a segment containing at least one selected from the group consisting of a fluorine compound segment, a polysiloxane segment, and a polydimethylsiloxane segment, or a coating composition A containing a precursor, By using one, the resin which comprises the surface side of a surface layer can have these.
以下、これらフッ素化合物セグメント、ポリシロキサンセグメント、ポリジメチルシロキサンセグメントについて説明する。 Hereinafter, the fluorine compound segment, the polysiloxane segment, and the polydimethylsiloxane segment will be described.
まず、フッ素化合物セグメントは、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つを含むセグメントを指す。 First, a fluorine compound segment refers to a segment including at least one selected from the group consisting of fluoroalkyl group, fluorooxyalkyl group, fluoroalkenyl group, fluoroalkanediyl group and fluorooxyalkanediyl group.
ここで、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、フルオロオキシアルカンジイル基とはアルキル基、オキシアルキル基、アルケニル基、アルカンジイル基、オキシアルカンジイル基が持つ水素の一部、あるいは全てがフッ素に置き換わった置換基であり、いずれも主にフッ素原子と炭素原子から構成される置換基であり、構造中に分岐があってもよく、これらの部位を有する構造が複数連結したダイマー、トリマー、オリゴマー、ポリマー構造を形成していてもよい。 Here, fluoroalkyl group, fluorooxyalkyl group, fluoroalkenyl group, fluoroalkanediyl group, fluorooxyalkanediyl group means hydrogen of alkyl group, oxyalkyl group, alkenyl group, alkanediyl group, oxyalkanediyl group. Part or all is a substituent substituted with fluorine, and each is a substituent mainly composed of a fluorine atom and a carbon atom, and there may be a branch in the structure, and a structure having these portions is A plurality of linked dimers, trimers, oligomers, and polymer structures may be formed.
また、前記フッ素化合物セグメントとしては、フルオロポリエーテルセグメントが好ましく、これはフルオロアルキル基、オキシフルオロアルキル基、オキシフルオロアルカンジイル基などからなる部位で、より好ましくは化学式5、化学式6に代表されるフルオロポリエーテルセグメントであることはすでに述べたとおりである。 Further, as the fluorine compound segment, a fluoropolyether segment is preferable, and this is a site composed of a fluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyl group, an oxyfluoroalkanediyl group, etc., more preferably represented by the chemical formula 5 and the chemical formula 6 It is as already stated that it is a fluoropolyether segment.
前記フルオロポリエーテルセグメントとは、フルオロアルキル基、オキシフルオロアルキル基、オキシフルオロアルカンジイル基などからなるセグメントで、化学式12、化学式13に代表される構造である。 The fluoropolyether segment is a segment composed of a fluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyl group, an oxyfluoroalkanediyl group and the like, and is a structure represented by the chemical formula 12 and the chemical formula 13.
ここで、n1は1〜3の整数、n2〜n5は1または2の整数、k、m、p、sは0以上の整数でかつp+sは1以上である。好ましくは、n1は2以上、n2〜n5は1または2の整数であり、より好ましくは、n1は3、n2とn4は2、n3とn5は1または2の整数である。
このフルオロポリエーテルセグメントの鎖長には好ましい範囲があり、炭素数は4以上12以下が好ましく、4以上10以下がより好ましく、6以上8以下が特に好ましい。炭素数が、3以下では表面エネルギーが十分に低下しないため撥油性が低下する場合があり、13以上では溶媒への溶解性が低下するため、表面層の品位が低下する場合がある。Here, n1 is an integer of 1 to 3, n2 to n5 is an integer of 1 or 2, k, m, p and s are integers of 0 or more, and p + s is 1 or more. Preferably, n1 is 2 or more, n2 to n5 are integers of 1 or 2, more preferably, n1 is 3, n2 and n4 are 2, and n3 and n5 are integers of 1 or 2.
The chain length of this fluoropolyether segment has a preferable range, and the number of carbon atoms is preferably 4 or more and 12 or less, more preferably 4 or more and 10 or less, and particularly preferably 6 or more and 8 or less. If the number of carbon atoms is 3 or less, the surface energy is not sufficiently reduced, so the oil repellency may decrease. If the number of carbon atoms is 13 or more, the solubility in the solvent may decrease, and the quality of the surface layer may decrease.
この表面層に含まれる樹脂がフッ素化合物セグメントを含む場合には、前述の塗料組成物Aが以下のフッ素化合物Dを含むことが好ましい。このフッ素化合物Dは化学式14で示される化合物である。 When the resin contained in the surface layer contains a fluorine compound segment, the coating composition A preferably contains the following fluorine compound D. The fluorine compound D is a compound represented by the chemical formula 14.
ここでRf1はフッ素化合物セグメント、R7はアルカンジイル基、アルカントリイル基、およびそれらから導出されるエステル構造、ウレタン構造、エーテル構造、トリアジン構造を、D1は反応性部位を示す。Here, R f1 represents a fluorine compound segment, R 7 represents an alkanediyl group, an alkanetriyl group, and an ester structure derived therefrom, a urethane structure, an ether structure or a triazine structure, and D 1 represents a reactive site.
この反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部位を指す。このような反応性部位として、反応性の観点からアルコキシシリル基およびアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。なかでも、反応性、ハンドリング性の観点から、ビニル基、アリル基、アルコキシシリル基、シリルエーテル基あるいはシラノール基や、エポキシ基、アクリロイル(メタクリロイル)基が好ましい。 The reactive site refers to a site that reacts with other components by external energy such as heat or light. As such a reactive site, a silanol group in which an alkoxysilyl group and an alkoxysilyl group are hydrolyzed from the viewpoint of reactivity, a carboxyl group, a hydroxyl group, an epoxy group, a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, etc. It can be mentioned. Among them, vinyl, allyl, alkoxysilyl, silyl ether or silanol, an epoxy and acryloyl (methacryloyl) are preferable from the viewpoint of reactivity and handling.
フッ素化合物Dの一例は次に示される化合物である。3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリイソシアネートシラン、2−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、2−パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、2−パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、2−パーフルオロオクチルエチルトリクロロシラン、2−パーフルオロオクチルイソシアネートシラン、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−6−メチルオクチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート、トリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトールなどが挙げられる。 An example of the fluorine compound D is a compound shown below. 3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriisopropoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane 3,3,3-Trifluoropropyltriisocyanate silane, 2-perfluorooctyltrimethoxysilane, 2-perfluorooctylethyltriethoxysilane, 2-perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, 2-perfluorooctylethyltrichloride Chlorosilane, 2-perfluorooctylisocyanate silane, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluoro Butyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- Perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate, 3-perfluoro -5-Methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate Octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadecafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-permer Fluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorodecylethyl methacrylate, 2-perfluoro- 3-Methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methyl methacrylate Hexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-6-methyloctyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoro And pentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyl trifluoroethyl methacrylate, hexafluorobutyl methacrylate, triacryloyl-heptadecafluorononenyl-pentaerythritol and the like.
なお、フッ素化合物Dは1分子あたり複数のフルオロポリエーテル部位を有していてもよい。
上記フッ素化合物Dの市販されている例としては、RS−75(DIC株式会社)、オプツールDAC−HP(ダイキン工業株式会社)、C10GACRY、C8HGOL(油脂製品株式会社)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。The fluorine compound D may have a plurality of fluoropolyether moieties per molecule.
Examples of the commercially available fluorine compound D include RS-75 (DIC Corporation), Optool DAC-HP (Daikin Industries, Ltd.), C10GACRY, C8HGOL (oil and fat product corporation), and the like. You can use the products of
次にポリシロキサンセグメントについて述べる。本発明においてポリシロキサンセグメントとは、後述の化学式15で示されるセグメントを指す。 Next, the polysiloxane segment will be described. In the present invention, the polysiloxane segment refers to a segment represented by chemical formula 15 described later.
ここで、ポリシロキサンには、シロキサンの繰り返し単位が100程度である低分子量のもの(いわゆるオリゴマー)およびシロキサンの繰り返し単位が100を超える高分子量のもの(いわゆるポリマー)の両方が含まれる。 Here, the polysiloxane includes both low molecular weight ones (so-called oligomers) in which the repeating units of the siloxane are about 100 and high molecular weight ones (so-called polymers) in which the repeating units of the siloxanes exceed 100.
R1、R2は、水酸基または炭素数1〜8のアルキル基のいずれかであり、式中においてそれぞれを少なくとも1つ以上有するものであり、nは100〜300の整数である。R 1 and R 2 are either a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, each having at least one or more of them, and n is an integer of 100 to 300.
前記ポリシロキサンセグメント、ポリジメチルシロキサンセグメントの詳細については後述するが、前記表面層を構成する樹脂がこれらのセグメントを有することで耐熱性、耐候性の向上や、表面層の潤滑性による耐擦傷性を向上することができる。より好ましくは後述する化学式16で表されるポリジメチルシロキサンセグメントを含むことが潤滑性の面から好ましい。 Although the details of the polysiloxane segment and the polydimethylsiloxane segment will be described later, when the resin constituting the surface layer has these segments, the heat resistance and the weather resistance are improved, and the scratch resistance due to the lubricity of the surface layer Can be improved. More preferably, it is preferable from the viewpoint of lubricity to include a polydimethylsiloxane segment represented by Chemical Formula 16 described later.
本発明では、加水分解性シリル基を含有するシラン化合物の部分加水分解物、オルガノシリカゾルまたは該オルガノシリカゾルにラジカル重合体を有する加水分解性シラン化合物を付加させた塗料組成物を、ポリシロキサンセグメントを含有する樹脂として用いることができる。 In the present invention, a coating composition obtained by adding a hydrolyzable silane compound having a radical polymer to a partial hydrolyzate of a silane compound containing a hydrolyzable silyl group, an organosilica sol, or the organosilica sol is used as a polysiloxane segment. It can be used as a resin to be contained.
ポリシロキサンセグメントを含有する樹脂は、テトラアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシランなどの加水分解性シリル基を有するシラン化合物の完全もしくは部分加水分解物や有機溶媒に分散させたオルガノシリカゾル、オルガノシリカゾルの表面に加水分解性シリル基の加水分解シラン化合物を付加させたものなどを例示することができる。 Resins containing a polysiloxane segment include tetraalkoxysilane, methyltrialkoxysilane, dimethyldialkoxysilane, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidoxypropylalkyldialkoxysilane, and γ-methacryloxypropyltritriol. Organo silica sol dispersed in a completely or partially hydrolyzate of a silane compound having a hydrolyzable silyl group such as alkoxysilane, γ-methacryloxypropyl alkyl dialkoxysilane, or an organic solvent, hydrolyzable silyl group on the surface of organosilica sol The thing etc. which added the hydrolysis silane compound of these can be illustrated.
また、本発明において、ポリシロキサンセグメントを含有する樹脂は、ポリシロキサンセグメント以外に、他のセグメント等が含有(共重合)されていてもよい。たとえば、ポリカプロラクトンセグメント、ポリジメチルシロキサンセグメントを有するモノマー成分が含有(共重合)されていてもよい。 In the present invention, the resin containing the polysiloxane segment may contain (copolymerize) other segments and the like in addition to the polysiloxane segment. For example, a monomer component having a polycaprolactone segment or a polydimethylsiloxane segment may be contained (copolymerized).
ポリシロキサンセグメントを含有する樹脂が水酸基を有する共重合体である場合、水酸基を有するポリシロキサンセグメントを含有する樹脂(共重合体)とイソシアネート基を含有する化合物とを含む塗料組成物を用いて表面層を形成すると、効率的に、ポリシロキサンセグメントとウレタン結合とを有する表面層とすることができる。 When the resin containing a polysiloxane segment is a copolymer having a hydroxyl group, the surface is obtained using a coating composition containing a resin (copolymer) containing a polysiloxane segment having a hydroxyl group and a compound containing an isocyanate group. By forming the layer, it is possible to efficiently form a surface layer having a polysiloxane segment and a urethane bond.
次にポリジメチルシロキサンセグメントについて述べる。本発明において、ポリジメチルシロキサンセグメントとは、化学式16で示されるセグメントを指す。ポリジメチルシロキサンには、ジメチルシロキサンの繰り返し単位が10〜100である低分子量のもの(いわゆるオリゴマー)およびジメチルシロキサンの繰り返し単位が100を超える高分子量のもの(いわゆるポリマー)の両方が含まれる。 Next, the polydimethylsiloxane segment is described. In the present invention, the polydimethylsiloxane segment refers to a segment represented by Chemical Formula 16. The polydimethylsiloxane includes both low molecular weight ones (so-called oligomers) in which the repeating unit of dimethylsiloxane is 10 to 100 (so-called oligomers) and high molecular weight ones (so-called polymers) in which the repeating units of dimethylsiloxane exceed 100.
mは10〜300の整数である。 m is an integer of 10 to 300.
表面層の表面側を構成する樹脂が、ポリジメチルシロキサンセグメントを有すると、ポリジメチルシロキサンセグメントが表面層の表面に配位することとなる。ポリジメチルシロキサンセグメントが表面層の表面に配位することにより、表面層表面の潤滑性が向上し、摩擦抵抗を低減することができる。この結果、反復擦過性を向上させることができる。 When the resin constituting the surface side of the surface layer has a polydimethylsiloxane segment, the polydimethylsiloxane segment is coordinated to the surface of the surface layer. By coordinating the polydimethylsiloxane segment to the surface of the surface layer, the lubricity of the surface of the surface layer can be improved and the frictional resistance can be reduced. As a result, repetitive abrasion can be improved.
本発明においては、ポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂としては、ポリジメチルシロキサンセグメントにビニルモノマーが共重合された共重合体を用いることが好ましい。 In the present invention, as the resin containing a polydimethylsiloxane segment, it is preferable to use a copolymer in which a vinyl monomer is copolymerized with the polydimethylsiloxane segment.
表面層の強靱性を向上させる目的で、ポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂は、イソシアネート基と反応する水酸基を有するモノマー等が共重合されていることが好ましい。 In order to improve the toughness of the surface layer, it is preferable that the resin containing a polydimethylsiloxane segment is copolymerized with a monomer having a hydroxyl group that reacts with an isocyanate group.
ポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂が水酸基を有する共重合体である場合、水酸基を有するポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂(共重合体)とイソシアネート基を含有する化合物とを含む塗料組成物を用いて表面層を形成すると、効率的にポリジメチルシロキサンセグメントとウレタン結合とを有する表面層とすることができる。 When the resin containing a polydimethylsiloxane segment is a copolymer having a hydroxyl group, a paint composition containing a resin (copolymer) containing a polydimethylsiloxane segment having a hydroxyl group and a compound containing an isocyanate group is used Once the surface layer is formed, the surface layer can be efficiently provided with the polydimethylsiloxane segment and the urethane bond.
ポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂が、ビニルモノマーとの共重合体の場合は、ブロック共重合体、グラフト共重合体、ランダム共重合体のいずれであってもよい。ポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂がビニルモノマーとの共重合体の場合、これを、ポリジメチルシロキサン系共重合体という。ポリジメチルシロキサン系共重合体は、リビング重合法、高分子開始剤法、高分子連鎖移動法などにより製造することができるが、生産性を考慮すると高分子開始剤法、高分子連鎖移動法を用いるのが好ましい。 When the resin containing a polydimethylsiloxane segment is a copolymer with a vinyl monomer, it may be any of a block copolymer, a graft copolymer, and a random copolymer. When the resin containing a polydimethylsiloxane segment is a copolymer with a vinyl monomer, this is referred to as a polydimethylsiloxane copolymer. The polydimethylsiloxane copolymer can be produced by living polymerization method, polymer initiator method, polymer chain transfer method, etc., but considering the productivity, the polymer initiator method, polymer chain transfer method It is preferred to use.
高分子開始剤法を用いる場合には化学式17で示される高分子アゾ系ラジカル重合開始剤を用いて他のビニルモノマーと共重合させることができる。またペルオキシモノマーと不飽和基を有するポリジメチルシロキサンとを低温で共重合させて過酸化物基を側鎖に導入したプレポリマーを合成し、該プレポリマーをビニルモノマーと共重合させる二段階の重合を行うこともできる。 When the polymer initiator method is used, the polymer azo radical polymerization initiator represented by the chemical formula 17 can be used to copolymerize with other vinyl monomers. Also, a two-step polymerization is carried out by copolymerizing a peroxy monomer and a polydimethylsiloxane having an unsaturated group at low temperature to introduce a peroxide group into a side chain, and copolymerizing the prepolymer with a vinyl monomer. You can also do
mは10〜300の整数、nは1〜50の整数である。 m is an integer of 10 to 300 and n is an integer of 1 to 50.
高分子連鎖移動法を用いる場合は、例えば、化学式18に示すシリコーンオイルに、HS−CH2COOHやHS−CH2CH2COOH等を付加してSH基を有する化合物とした後、SH基の連鎖移動を利用して該シリコーン化合物とビニルモノマーとを共重合させることでブロック共重合体を合成することができる。In the case of using a polymer chain transfer method, for example, after adding HS-CH 2 COOH, HS-CH 2 CH 2 COOH, etc. to a silicone oil represented by the chemical formula 18 to obtain a compound having an SH group, A block copolymer can be synthesized by copolymerizing the silicone compound and a vinyl monomer using chain transfer.
mは10〜300の整数である。 m is an integer of 10 to 300.
ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体を合成するには、例えば、化学式19に示す化合物、すなわちポリジメチルシロキサンのメタクリルエステルなどとビニルモノマーとを共重合させることにより容易にグラフト共重合体を得ることができる。 In order to synthesize a polydimethylsiloxane graft copolymer, for example, a graft copolymer can be easily obtained by copolymerizing a compound represented by the chemical formula 19, that is, a methacrylic ester of polydimethylsiloxane with a vinyl monomer. it can.
mは10〜300の整数である。 m is an integer of 10 to 300.
ポリジメチルシロキサンとの共重合体に用いられるビニルモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、オクチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジアセチトンアクリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、アリルアルコールなどを挙げることができる。 As a vinyl monomer used for a copolymer with polydimethylsiloxane, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n -Butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, lauryl methacrylate, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, styrene, α-methyl styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride , Vinyl fluoride, vinylidene fluoride, glycidyl acrylate Glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N, N-dimethyl acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl ester Methacrylates, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, diacetotone acrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, allyl alcohol and the like can be mentioned.
また、ポリジメチルシロキサン系共重合体は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶剤などを単独もしくは混合溶媒中で溶液重合法によって製造されることが好ましい。 In addition, polydimethylsiloxane-based copolymers include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, ethanol, isopropyl alcohol and the like It is preferable to manufacture by the solution-polymerizing method in alcohol solvent etc. of this in an individual or mixed solvent.
必要に応じてベンゾイルパーオキサイド、アゾビスイソブチルニトリルなどの重合開始剤を併用する。重合反応は50〜150℃で3〜12時間行うのが好ましい。 If necessary, a polymerization initiator such as benzoyl peroxide or azobisisobutyl nitrile is used in combination. The polymerization reaction is preferably carried out at 50 to 150 ° C. for 3 to 12 hours.
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体中の、ポリジメチルシロキサンセグメントの量は、表面層の潤滑性や耐汚染性の点で、ポリジメチルシロキサン系共重合体の全成分100質量%において1〜30質量%であるのが好ましい。またポリジメチルシロキサンセグメントの重量平均分子量は1,000〜30,000とするのが好ましい。 The amount of the polydimethylsiloxane segment in the polydimethylsiloxane copolymer in the present invention is 1 to 10% by mass of all components of the polydimethylsiloxane copolymer in terms of the lubricity and the stain resistance of the surface layer. It is preferably 30% by mass. The weight average molecular weight of the polydimethylsiloxane segment is preferably 1,000 to 30,000.
本発明において、表面層を形成するために用いる塗料組成物として、ポリジメチルシロキサンセグメントを含有する樹脂を使用する場合は、ポリジメチルシロキサンセグメント以外に、他のセグメント等が含有(共重合)されていてもよい。たとえば、ポリカプロラクトンセグメントやポリシロキサンセグメントが含有(共重合)されていてもよい。 In the present invention, when a resin containing a polydimethylsiloxane segment is used as a paint composition used to form a surface layer, other segments etc. are contained (copolymerized) in addition to the polydimethylsiloxane segment. May be For example, polycaprolactone segments and polysiloxane segments may be contained (copolymerized).
表面層を形成するために用いる塗料組成物には、ポリカプロラクトンセグメントとポリジメチルシロキサンセグメントの共重合体、ポリカプロラクトンセグメントとポリシロキサンセグメントとの共重合体、ポリカプロラクトンセグメントとポリジメチルシロキサンセグメントとポリシロキサンセグメントとの共重合体などを用いることが可能である。このような塗料組成物を用いて得られる表面層は、ポリカプロラクトンセグメントとポリジメチルシロキサンセグメントおよび/またはポリシロキサンセグメントとを有することが可能となる。 Coating compositions used to form the surface layer include copolymers of polycaprolactone segments and polydimethylsiloxane segments, copolymers of polycaprolactone segments and polysiloxane segments, polycaprolactone segments and polydimethylsiloxane segments, and poly It is possible to use a copolymer with a siloxane segment or the like. The surface layer obtained using such a coating composition can have a polycaprolactone segment and a polydimethylsiloxane segment and / or a polysiloxane segment.
ポリカプロラクトンセグメント、ポリシロキサンセグメントおよびポリジメチルシロキサンセグメントを有する表面層を形成するために用いる塗料組成物中の、ポリジメチルシロキサン系共重合体、ポリカプロラクトン、およびポリシロキサンの反応は、ポリジメチルシロキサン系共重合体合成時に、適宜ポリカプロラクトンセグメントおよびポリシロキサンセグメントを添加して共重合することができる。 The reaction of polydimethylsiloxane-based copolymer, polycaprolactone, and polysiloxane in a coating composition used to form a surface layer having a polycaprolactone segment, a polysiloxane segment and a polydimethylsiloxane segment is a polydimethylsiloxane-based At the time of copolymer synthesis, a polycaprolactone segment and a polysiloxane segment can be appropriately added and copolymerized.
[塗料組成物B]
塗料組成物Bは支持基材上に塗布、乾燥、硬化することにより、A層よりも表面硬度が高く、材料を形成可能な液体で、B層を形成するのに適した樹脂、または前駆体を含む。[Coating composition B]
Coating composition B has a surface hardness higher than that of layer A by being applied, dried and cured on a supporting substrate, and is a liquid capable of forming a material, and a resin or precursor suitable for forming layer B including.
塗料組成物Bは熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂のいずれでもよく、2種類以上のブレンドであってもよい。 The coating composition B may be either a thermosetting resin or an ultraviolet curing resin, or may be a blend of two or more.
本発明における熱硬化型樹脂は、水酸基を含有する樹脂とポリイソシアネート化合物とからなり、水酸基を含有する樹脂としてアクリルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、ポリカーボネートポリオール、ウレタンポリオール等が挙げられ、これらは1種類、もしくは2種類以上のブレンドであってもよい。水酸基を含有する樹脂の水酸基価は1〜200mgKOH/gの範囲であれば、塗膜とした時の耐久性、耐加水分解性、密着性の観点から好ましい。水酸基価が1mgKOH/gより小さい場合は塗膜の硬化がほとんど進まず、耐久性や強度が低下する場合がある。一方、水酸基価が200mgKOH/gより大きい場合は、硬化収縮が大きすぎるために、密着性を低下させる場合がある。 The thermosetting resin in the present invention comprises a hydroxyl group-containing resin and a polyisocyanate compound, and examples of the hydroxyl group-containing resin include acrylic polyol, polyether polyol, polyester polyol, polyolefin polyol, polycarbonate polyol and urethane polyol. And they may be one or more blends. If the hydroxyl value of the resin containing a hydroxyl group is in the range of 1 to 200 mg KOH / g, it is preferable from the viewpoint of durability, hydrolysis resistance and adhesion when it is used as a coating film. When the hydroxyl value is less than 1 mg KOH / g, curing of the coating hardly progresses, and the durability and strength may be reduced. On the other hand, when the hydroxyl value is larger than 200 mg KOH / g, the adhesion may be reduced because the cure shrinkage is too large.
本発明における水酸基を含有するアクリルポリオールとは、例えば、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルを成分として重合して得られる。この様なアクリル樹脂は、例えば、(メタ)アクリル酸エステルを成分として、必要に応じて(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル酸基含有モノマーを共重合することで容易に製造することが出来る。(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。この様な水酸基を含有するアクリルポリオールとしては、例えば、DIC株式会社;(商品名“アクリディック”(登録商標)シリーズなど)、大成ファインケミカル株式会社;(商品名“アクリット”(登録商標)シリーズなど)、株式会社日本触媒;(商品名“アクリセット”(登録商標)シリーズなど)、三井化学株式会社;(商品名“タケラック”(登録商標)UAシリーズ)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 The acrylic polyol containing a hydroxyl group in the present invention is obtained, for example, by polymerizing an acrylic ester or a methacrylic ester as a component. Such an acrylic resin can be easily obtained, for example, by copolymerizing a carboxylic acid group-containing monomer such as (meth) acrylic acid, itaconic acid or maleic anhydride, if necessary, using (meth) acrylic acid ester as a component. It can be manufactured. Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (Meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylhexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate Etc. As such an acrylic polyol containing a hydroxyl group, for example, DIC Corporation; (trade name "Aklidic" (registered trademark) series etc.), Taisei Fine Chemical Co., Ltd. (trade name "Acrit" (registered trademark) series etc.) , Nippon Shokubai Co., Ltd .; (trade name "AkReset" (registered trademark) series etc.), Mitsui Chemical Co., Ltd .; (trade name "Takelac" (registered trademark) UA series) etc., and these products can be mentioned. Can be used.
本発明における水酸基を含有するポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコールあるいはトリオール、ポリプロピレングリコールあるいはトリオール、ポリブチレングリコールあるいはトリオール、ポリテトラメチレングリコールあるいはトリオール、さらには、これら炭素数の異なるオキシアルキレン化合物の付加重合体やブロック共重合体等が挙げられる。この様な水酸基を含有するポリエーテルポリオールとしては、旭硝子株式会社;(商品名“エクセノール”(登録商標)シリーズなど)、三井化学株式会社;(商品名“アクトコール”(登録商標)シリーズなど)を挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 The polyether polyol containing a hydroxyl group in the present invention includes polyethylene glycol or triol, polypropylene glycol or triol, polybutylene glycol or triol, polytetramethylene glycol or triol, and addition weights of oxyalkylene compounds having different carbon numbers. Examples include united and block copolymers. As such polyether polyols containing a hydroxyl group, Asahi Glass Co., Ltd. (trade name "EXENOL" (registered trademark) series etc.), Mitsui Chemicals Co., Ltd. (trade name "ACTOCOL" (registered trademark) series etc) These products can be used.
本発明における水酸基を含有するポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族グリコールと、例えばコハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、スベリン酸、アゼライン酸、1,10−デカメチレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂肪族二塩基酸との必須原料成分として反応させた脂肪族ポリエステルポリオールや、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール等の脂肪族グリコールと、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族二塩基酸とを必須原料成分として反応させた芳香族ポリエステルポリオールが挙げられる。 Examples of the polyester polyol having a hydroxyl group in the present invention include aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, hexanediol, heptanediol, decanediol and cyclohexanedimethanol, for example, succinic acid, adipine Aliphatic polyester polyols reacted as essential raw material components with aliphatic dibasic acids such as acid, sebacic acid, fumaric acid, suberic acid, azelaic acid, 1,10-decamethylene dicarboxylic acid, cyclohexane dicarboxylic acid, ethylene glycol , An aromatic polyester obtained by reacting an aliphatic glycol such as propylene glycol and butanediol with an aromatic dibasic acid such as terephthalic acid, isophthalic acid and naphthalenedicarboxylic acid as essential raw material components Tel polyols.
このような水酸基を含有するポリエステルポリオールとしては、DIC株式会社;(商品名“ポリライト”(登録商標)シリーズなど)、株式会社クラレ;(商品名“クラレポリオール”(登録商標)シリーズなど)、武田薬品工業株式会社;(商品名“タケラック”(登録商標)Uシリーズ)を挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 As polyester polyols containing such a hydroxyl group, DIC Corporation (brand name "Polylite" (registered trademark) series etc.), Kuraray Co., Ltd. (brand name "Kuraray polyol" (registered trademark) series etc.), Takeda Yakuhin Kogyo Co., Ltd. (trade name “Takelac” (registered trademark) U series) can be mentioned, and these products can be used.
本発明における水酸基を含有するポリオレフィン系ポリオールとしては、ブタジエンやイソプレンなどの炭素数4から12個のジオレフィン類の重合体および共重合体、炭素数4から12のジオレフィンと炭素数2から22のα−オレフィン類の共重合体のうち、水酸基を含有している化合物である。水酸基を含有させる方法としては、特に制限されないが、例えば、ジエンモノマーを過酸化水素と反応させる方法がある。さらに、残存する二重結合を水素結合することで、飽和脂肪族化してもよい。このような水酸基を含有するポリオレフィン系ポリオールとしては、日本曹達株式会社;(商品名“NISSO−PB”(登録商標)Gシリーズなど)、出光興産株式会社;(商品名“Poly bd”(登録商標)シリーズ、“エポール”(登録商標)シリーズなど)を挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 The polyolefin-based polyol having a hydroxyl group in the present invention includes polymers and copolymers of diolefins having 4 to 12 carbon atoms such as butadiene and isoprene, and diolefins having 4 to 12 carbon atoms and 2 to 22 carbon atoms. Among the copolymers of α-olefins of the above, it is a compound containing a hydroxyl group. The method for containing a hydroxyl group is not particularly limited, and for example, there is a method of reacting a diene monomer with hydrogen peroxide. Furthermore, the remaining double bond may be saturated aliphatically by hydrogen bonding. As such polyolefin-based polyols containing a hydroxyl group, Nippon Soda Co., Ltd. (trade name "NISSO-PB" (registered trademark) G series etc.), Idemitsu Kosan Co., Ltd .; (trade name "Poly bd" (registered trademark) Series, "Epol" (registered trademark) series etc.) can be mentioned, and these products can be used.
本発明における水酸基を含有するポリカーボネートポリオールとしては、例えば、炭酸ジアルキルと1,6−ヘキサンジオールのみを用いて得たポリカーボネートポリオールを用いることもできるが、より結晶性が低い点で、ジオールとして、1,6−ヘキサンジオールと、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオールまたは1,4−シクロヘキサンジメタノールとを共重合させて得られるポリカーボネートポリオールを用いることが好ましい。 As a polycarbonate polyol containing a hydroxyl group in the present invention, for example, a polycarbonate polyol obtained using only dialkyl carbonate and 1,6-hexanediol can be used, but as a diol having a lower crystallinity, 1 It is preferable to use a polycarbonate polyol obtained by copolymerizing 2,6-hexanediol with 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol or 1,4-cyclohexanedimethanol.
このような水酸基を含有するポリカーボネートポリオールとしては、共重合ポリカーボネートポリオールである旭化成ケミカルズ株式会社;(商品名“T5650J”、“T5652”、“T4671”、“T4672”など)、宇部興産株式会社;(商品名“ETERNACLL”(登録商標)UMシリーズなど)を挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 As a polycarbonate polyol containing such a hydroxyl group, a copolymer polycarbonate polyol, Asahi Kasei Chemicals Corporation (trade names "T5650J", "T5652", "T4671", "T4672", etc.), Ube Industries, Ltd .; It is possible to cite the trade name "ETERNA CLL" (registered trademark) UM series etc., and these products can be used.
本発明における水酸基を含有するウレタンポリオールとは、例えば、ポリイソシアネート化合物と1分子中に少なくとも2個の水酸基を含有する化合物とを、水酸基がイソシアネート基に対して過剰となるような比率で反応させて得られる。その際に使用されるポリイソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。また、1分子中に少なくとも2個の水酸基を含有する化合物としては、多価アルコール類、ポリエステルジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリカーボネートジオール等が挙げられる。 The urethane polyol containing a hydroxyl group in the present invention is obtained, for example, by reacting a polyisocyanate compound and a compound containing at least two hydroxyl groups in one molecule in such a ratio that the hydroxyl group is excessive to the isocyanate group. It is obtained. As a polyisocyanate compound used in that case, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, isophorone diisocyanate etc. are mentioned. Further, as a compound containing at least two hydroxyl groups in one molecule, polyhydric alcohols, polyester diols, polyethylene glycols, polypropylene glycols, polycarbonate diols and the like can be mentioned.
本発明における熱硬化型樹脂に用いられるポリイソシアネート化合物としては、イソシアネート基を含有する樹脂や、イソシアネート基を含有するモノマーやオリゴマーを指す。イソシアネート基を含有する化合物は、例えば、メチレンビス−4−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンイソシアネートのビューレット体などの(ポリ)イソシアネート、および上記イソシアネートのブロック体などを挙げることができる。この様な熱硬化型樹脂に用いられるポリイソシアネート化合物としては、三井化学株式会社;(商品名“タケネート”(登録商標)シリーズなど)、日本ポリウレタン工業株式会社;(商品名“コロネート”(登録商標)シリーズなど)、旭化成ケミカルズ株式会社;(商品名“デュラネート”(登録商標)シリーズなど)、DIC株式会社;(商品名“バーノック”(登録商標)シリーズなど)を挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 The polyisocyanate compound used for the thermosetting resin in the present invention refers to a resin containing an isocyanate group, and a monomer or oligomer containing an isocyanate group. The compound containing an isocyanate group is, for example, methylene bis-4-cyclohexyl isocyanate, trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate. An isocyanurate body, an isocyanurate body of hexamethylene diisocyanate, a (poly) isocyanate such as a biuret body of hexamethylene isocyanate, and a block body of the above isocyanate can be mentioned. As a polyisocyanate compound used for such a thermosetting resin, Mitsui Chemical Co., Ltd .; (trade name "Takenate" (registered trademark) series etc.), Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .; (trade name "Colonate" (registered trademark) (Such as “Duranate” (registered trademark) series), DIC Corporation (such as “branded“ Burnock ”(registered trademark) series); Can be used.
本発明における紫外線硬化型樹脂としては、多官能アクリレートモノマー、オリゴマー、アルコキシシラン、アルコキシシラン加水分解物、アルコキシシランオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマー等が好ましく、多官能アクリレートモノマー、オリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマーがより好ましい。 As the UV curable resin in the present invention, polyfunctional acrylate monomers, oligomers, alkoxysilanes, alkoxysilane hydrolysates, alkoxysilane oligomers, urethane acrylate oligomers and the like are preferable, and polyfunctional acrylate monomers, oligomers, urethane acrylate oligomers are more preferable. .
多官能アクリレートモノマーの例としては、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマー、具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどを用いることができる。これらの単量体は、1種または2種以上を混合して使用することができる。 Examples of polyfunctional acrylate monomers include polyfunctional acrylates having two or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule and modified polymers thereof, and specific examples thereof include pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate And pentaerythritol triacrylate hexane methylene diisocyanate urethane polymer can be used. These monomers can be used alone or in combination of two or more.
また、市販されている多官能アクリル系組成物としては三菱レイヨン株式会社;(商品名“ダイヤビーム”(登録商標)シリーズなど)、日本合成化学工業株式会社;(商品名“SHIKOH”(登録商標)シリーズなど)、長瀬産業株式会社;(商品名“デナコール”(登録商標)シリーズなど)、新中村化学株式会社;(商品名“NKエステル”シリーズなど)、DIC株式会社;(商品名“UNIDIC”(登録商標)など)、東亞合成株式会社;(“アロニックス”(登録商標)シリーズなど)、日油株式会社;(“ブレンマー”(登録商標)シリーズなど)、日本化薬株式会社;(商品名“KAYARAD”(登録商標)シリーズなど)、共栄社化学株式会社;(商品名“ライトエステル”シリーズなど)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。 Moreover, as a polyfunctional acrylic composition marketed, Mitsubishi Rayon Co., Ltd .; (trade name "Dia Beam" (registered trademark) series etc.), Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd .; (trade name "SHIKOH" (registered trademark) ), Nagase & Co., Ltd .; (trade name "Denacole" (registered trademark) series, etc.), Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; (trade name "NK Ester" series, etc.), DIC, Inc .; (“Aronix” (registered trademark) series, etc.), NOF Corporation (“Blenmar” (registered trademark) series, etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd. Name "KAYARAD" (registered trademark) series etc., Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; (trade name "light ester" series etc.) It is possible to use these products.
また、前述の特性を付与するために、アクリルポリマーを用いてもよい。該アクリルポリマーは不飽和基を含有せず、重量平均分子量が5,000〜200,000であり、ガラス転移温度が20〜200℃であることがより好ましい。アクリルポリマーのガラス転移温度が20℃未満では硬度が低下する場合があり、200℃を超えるとの伸度が十分でない場合がある。より好ましいガラス転移温度の範囲は50〜150℃である。 Acrylic polymers may also be used to impart the aforementioned properties. The acrylic polymer contains no unsaturated group, and more preferably has a weight average molecular weight of 5,000 to 200,000, and a glass transition temperature of 20 to 200 ° C. If the glass transition temperature of the acrylic polymer is less than 20 ° C., the hardness may decrease, and if it exceeds 200 ° C., the elongation may not be sufficient. The more preferable range of the glass transition temperature is 50 to 150 ° C.
また、前記アクリルポリマーは親水性官能基を有することで、硬度を付与することができる。具体的には、カルボキシル基を有する(メタ)アクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸等、あるいは水酸基を有する2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の親水性官能基を有する不飽和単量体を前記不飽和単量体と共重合することにより、アクリルポリマーに親水性官能基を導入することができる。 Moreover, the said acrylic polymer can provide hardness by having a hydrophilic functional group. Specifically, hydrophilic functional groups such as (meth) acrylic acid having a carboxyl group, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, etc., or 2-hydroxyethyl (meth) acrylate having a hydroxyl group, hydroxypropyl (meth) acrylate, etc. A hydrophilic functional group can be introduced into the acrylic polymer by copolymerizing the unsaturated monomer having the above with the unsaturated monomer.
前記アクリルポリマーの重量平均分子量は5,000〜200,000であることが好ましい。重量平均分子量が5,000未満である場合、硬度が不十分となる場合があり、重量平均分子量が200,000を超える場合、塗工性を含めた成型性や強靱性が不十分となる場合がある。また、重量平均分子量は重合触媒、連鎖移動剤の配合量および使用する溶媒の種別により調整できる。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 5,000 to 200,000. When the weight-average molecular weight is less than 5,000, the hardness may be insufficient, and when the weight-average molecular weight exceeds 200,000, the moldability including the coatability and the toughness become insufficient. There is. The weight average molecular weight can be adjusted by the blending amount of the polymerization catalyst, the chain transfer agent and the type of the solvent used.
前記アクリルポリマー含有割合は、塗料組成物Bの総固形分中1〜50質量%が好ましく、より好ましくは5〜30質量%である。1質量%以上とすることで伸度が顕著に向上し、50質量%以下にすることで硬度を維持できるため好ましい。 The content of the acrylic polymer is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass in the total solid content of the coating composition B. By setting the content to 1% by mass or more, the elongation is remarkably improved, and by setting the content to 50% by mass or less, the hardness can be maintained, which is preferable.
[溶媒]
前記塗料組成物A、塗料組成物Bは溶媒を含むことが好ましい。溶媒の種類数としては1種類以上20種類以下が好ましく、より好ましくは1種類以上10種類以下、さらに好ましくは1種類以上6種類以下である。ここで「溶媒」とは、塗布後の乾燥工程にて、ほぼ全量を蒸発させ、塗膜から除去することが可能な、常温、常圧で液体である物質を指す。[solvent]
The paint composition A and the paint composition B preferably contain a solvent. The number of types of solvent is preferably one or more and 20 or less, more preferably one or more and ten or less, and still more preferably one or more and six or less. Here, the term "solvent" refers to a substance that is liquid at normal temperature and normal pressure and can be removed from the coating film by evaporating substantially the entire amount in the drying step after application.
ここで、溶媒の種類とは溶媒を構成する分子構造によって決まる。すなわち、同一の元素組成で、かつ官能基の種類と数が同一であっても結合関係が異なるもの(構造異性体)、前記構造異性体ではないが、3次元空間内ではどのような配座をとらせてもぴったりとは重ならないもの(立体異性体)は、種類の異なる溶媒として取り扱う。例えば、2−プロパノールと、n−プロパノールは異なる溶媒として取り扱う。 Here, the type of solvent is determined by the molecular structure constituting the solvent. That is, those having the same elemental composition and different bonding relations even if the number and type of functional groups are the same (structural isomers), which are not the above-mentioned structural isomers but in any three-dimensional space Those that do not overlap properly (stereoisomers) are treated as different types of solvents. For example, 2-propanol and n-propanol are treated as different solvents.
[他の添加剤]
前記塗料組成物Aと塗料組成物Bは、重合開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。重合開始剤および触媒は、表面層の硬化を促進するために用いられる。重合開始剤としては、塗料組成物に含まれる成分をアニオン、カチオン、ラジカル重合反応等による重合、縮合または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。[Other additives]
The paint composition A and the paint composition B preferably contain a polymerization initiator, a curing agent, and a catalyst. Polymerization initiators and catalysts are used to accelerate the curing of the surface layer. As the polymerization initiator, those capable of initiating or promoting the polymerization, condensation or crosslinking reaction of the components contained in the paint composition by anion, cation or radical polymerization reaction are preferable.
重合開始剤、硬化剤および触媒は種々のものを使用できる。また、重合開始剤、硬化剤および触媒はそれぞれ単独で用いてもよく、複数の重合開始剤、硬化剤および触媒を同時に用いてもよい。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用してもよい。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられる。 Various polymerization initiators, curing agents and catalysts can be used. Further, the polymerization initiator, the curing agent and the catalyst may be used alone, respectively, or a plurality of polymerization initiators, curing agents and catalysts may be used simultaneously. Furthermore, an acidic catalyst, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator may be used in combination. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid and the like. Examples of thermal polymerization initiators include peroxides and azo compounds. Moreover, as an example of a photoinitiator, an alkyl phenone type compound, a sulfur-containing type compound, an acyl phosphine oxide type compound, an amine type compound etc. are mentioned.
光重合開始剤としては、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物が好ましい。アルキルフェノン系化合物の具体例としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタン、1−シクロヒキシル−フェニルケトン、2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−エトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、ビス(2−フェニル−2−オキソ酢酸)オキシビスエチレン、およびこれらの材料を高分子量化したものなどが挙げられる。 From the viewpoint of curability, the photopolymerization initiator is preferably an alkylphenone compound. Specific examples of the alkylphenone compound include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl)- 2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-phenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl]- 1- (4-phenyl) -1-butane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) ) Methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butane, 1-cyclohyxyl-phenyl ketone, 2-methyl-1-phenylpropan-1-o , 1- [4- (2-Ethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, bis (2-phenyl-2-oxoacetic acid) oxybisethylene, and materials thereof And the like.
また、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、表面層を形成するために用いる塗料組成物A、塗料組成物Bにレベリング剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を加えてもよい。これにより、表面層はレベリング剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を含有することができる。レベリング剤の例としては、アクリル共重合体またはシリコーン系、フッ素系のレベリング剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シュウ酸アニリド系、トリアジン系およびヒンダードアミン系の紫外線吸収剤が挙げられる。帯電防止剤の例としてはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、セシウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩が挙げられる。 Moreover, if it is a range which does not inhibit the effect of the present invention, you may add a leveling agent, a ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent etc. to paint composition A and paint composition B which are used in order to form a surface layer. . Thus, the surface layer can contain a leveling agent, an ultraviolet light absorber, a lubricant, an antistatic agent, and the like. As an example of a leveling agent, an acrylic copolymer or silicone type and a fluorine type leveling agent are mentioned. Specific examples of the ultraviolet absorber include ultraviolet absorbers of benzophenone type, benzotriazole type, anilide oxalate type, triazine type and hindered amine type. Examples of antistatic agents include metal salts such as lithium salts, sodium salts, potassium salts, rubidium salts, cesium salts, magnesium salts, calcium salts and the like.
[積層フィルムの製造方法]
本発明の積層フィルムの製造方法は、少なくとも前述の塗料組成物Aと塗料組成物Bを、逐次または同時に前述の支持基材上に塗布−乾燥−硬化することにより形成する製造方法を用いることがより好ましい。[Method of producing laminated film]
The method for producing the laminated film of the present invention is to use a production method in which at least the coating composition A and the coating composition B described above are formed by applying, drying and curing on the supporting substrate mentioned above sequentially or simultaneously. More preferable.
ここで「逐次に塗布する」とは、1種類の塗料組成物を塗布−乾燥−硬化後、次いで種類の異なる塗料組成物を、塗布−乾燥−硬化することにより表面層を形成することを意図している。本製造方法において用いる塗料組成物の種類、数を適宜選択することにより、表面層の表面側−基材側の弾性率の大小や勾配、基材と表面層の弾性率の大小を制御することができ、さらに塗料組成物の種類、組成、乾燥条件、硬化条件を適宜選択することにより、表面層内の弾性率分布の形態を段階的、または連続的に制御することができる。 Here, "apply sequentially" is intended to form a surface layer by applying, drying and curing one kind of coating composition, and then applying, drying and curing different kinds of coating composition. doing. By appropriately selecting the type and the number of coating compositions used in the present manufacturing method, the magnitude and gradient of the elastic modulus of the surface side to the substrate side of the surface layer and the magnitude of the elastic modulus of the substrate and the surface layer are controlled. The form of the elastic modulus distribution in the surface layer can be controlled stepwise or continuously by appropriately selecting the type, composition, drying conditions and curing conditions of the coating composition.
もう1つの製造方法としては、2種類以上の塗料組成物を支持基材上に「同時に」塗布、乾燥、硬化することにより形成する方法である。塗料組成物の種類の数は2種類以上であれば特に制約はない。ここで「同時塗布する」とは塗布工程において支持基材上に、2種類以上の液膜を塗布後、乾燥、硬化することを意図している。 Another manufacturing method is a method of forming two or more coating compositions by applying, drying and curing "simultaneously" on a support substrate. The number of types of coating compositions is not particularly limited as long as it is two or more. Here, "simultaneous application" is intended to dry and cure after applying two or more types of liquid films on the support substrate in the application step.
本製造方法において、塗布方法は、前述の塗料組成物を逐次に塗布する場合には、ディップコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法(米国特許第2681294号明細書)などにより支持基材等に塗布することにより表面層を形成することが好ましい
また、前述の2種類以上の塗料組成物を同時塗布する場合には、塗布前の状態で液膜を順に積層後塗布する「多層スライドダイコート」(図3)や、基材上に塗布と同時に積層する「多層スロットダイコート」(図4)、支持基材上に1層の液膜を形成後、未乾燥の状態でもう1層を積層させる「ウェット−オンーウェットコート」(図5)等のいずれでもよい。In the present manufacturing method, when the coating composition described above is applied sequentially, a dip coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or a die coating method (US Pat. No. 2,681,294) It is preferable to form a surface layer by applying to a supporting substrate etc. by the above) etc. Moreover, in the case of simultaneously applying the two or more kinds of coating compositions described above, after laminating the liquid films in order before application. "Multilayer slide die coat" to be applied (Fig. 3), "Multilayer slot die coat" to laminate simultaneously with application on a substrate (Fig. 4), undried state after forming one layer of liquid film on supporting substrate And any one of "wet-on-wet coat" (FIG. 5) or the like in which another layer is laminated.
次いで、支持基材等の上に塗布された液膜を乾燥する。得られる積層フィルム中から完全に溶媒を除去することに加え、乾燥工程では液膜の加熱を伴うことが好ましい。 Then, the liquid film applied on the support substrate or the like is dried. In addition to completely removing the solvent from the resulting laminated film, it is preferable that the drying step be accompanied by heating of the liquid film.
乾燥方法については、伝熱乾燥(高熱物体への密着)、対流伝熱(熱風)、輻射伝熱(赤外線)、その他(マイクロ波、誘導加熱)などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向でも乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱、または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。 As a drying method, heat transfer drying (adhesion to high heat object), convective heat transfer (hot air), radiant heat transfer (infrared ray), others (microwave, induction heating), etc. may be mentioned. Among these, in the manufacturing method of the present invention, a method using convective heat transfer or radiant heat transfer is preferable because it is necessary to precisely make the drying speed uniform even in the width direction.
さらに、熱またはエネルギー線を照射することによるさらなる硬化操作(硬化工程)を行ってもよい。硬化工程において、塗料組成物Aおよび塗料組成物Bを用い、熱で硬化する場合には、室温から200℃以下であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、80℃以上200℃以下がより好ましく、100℃以上200℃以下であることがさらに好ましい。 Furthermore, a further curing operation (curing step) may be performed by irradiating heat or energy rays. In the curing step, when the coating composition A and the coating composition B are cured by heat, the temperature is preferably from room temperature to 200 ° C. or less, and from the viewpoint of activation energy of the curing reaction, 80 ° C. to 200 ° C. The following is more preferable, and 100 ° C. or more and 200 ° C. or less are more preferable.
また、活性エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線(EB線)および/または紫外線(UV線)であることが好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下(窒素パージ)で硬化する方がより好ましい。酸素濃度が高い場合には、最表面の硬化が阻害され、表面の硬化が不十分となり、耐指紋性が不十分となる場合がある。 Moreover, when it hardens | cures with an active energy ray, it is preferable from an versatility point that it is an electron beam (EB beam) and / or an ultraviolet-ray (UV ray). In the case of curing by ultraviolet light, the oxygen concentration is preferably as low as possible because oxygen inhibition can be prevented, and curing under a nitrogen atmosphere (nitrogen purge) is more preferred. When the oxygen concentration is high, the curing of the outermost surface may be inhibited, the curing of the surface may be insufficient, and the fingerprint resistance may be insufficient.
また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が100〜3,000mW/cm2、好ましくは200〜2,000mW/cm2、さらに好ましくは300〜1,500mW/cm2となる条件で紫外線照射を行うことが好ましく、紫外線の積算光量が100〜3,000mJ/cm2、好ましくは200〜2,000mJ/cm2、さらに好ましくは300〜1,500mJ/cm2となる条件で紫外線照射を行うことが好ましい。ここで、紫外線の照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計および被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。Moreover, as a kind of ultraviolet ray lamp used when irradiating an ultraviolet-ray, a discharge lamp system, a flash system, a laser system, an electrodeless lamp system etc. are mentioned, for example. Case of UV cured using a high pressure mercury lamp is a discharge lamp type, illuminance of ultraviolet rays 100~3,000mW / cm 2, preferably 200~2,000mW / cm 2, more preferably 300~1,500mW / cm 2 performing the ultraviolet irradiation is preferred, the accumulated light quantity of ultraviolet 100~3,000mJ / cm 2, preferably 200~2,000mJ / cm 2, more preferably a 300~1,500mJ / cm 2 under the condition that the It is preferable to perform ultraviolet irradiation under the conditions. Here, the illuminance of the ultraviolet light is the irradiation intensity received per unit area, and changes depending on the lamp output, the luminous spectrum efficiency, the diameter of the luminous bulb, the design of the reflecting mirror and the light source distance to the object to be irradiated. However, the illuminance does not change depending on the transport speed. Further, the ultraviolet integrated light quantity is the irradiation energy received per unit area, and is the total amount of photons reaching the surface. The integrated light quantity is inversely proportional to the irradiation speed passing under the light source, and proportional to the number of times of irradiation and the number of lamp lights.
[用途例]
本発明の積層フィルムは、耐擦傷性に優れているため、例えば電化製品や自動車の内装部材、建築部材等に幅広く用いることができる。[Application example]
Since the laminated film of the present invention is excellent in abrasion resistance, it can be widely used, for example, as an interior member of an electric appliance or a car, a building member, and the like.
一例を挙げると、メガネ・サングラス、化粧箱、食品容器などのプラスチック成型品、スマートフォンの筐体、タッチパネル、キーボード、テレビ・エアコンのリモコンなどの家電製品、建築物、ダッシュボード、カーナビ・タッチパネル、ルームミラーなどの車両内装品、および種々の印刷物のそれぞれの表面などに好適に用いることができる。 For example, glasses / sunglasses, cosmetic boxes, plastic molded articles such as food containers, housings for smartphones, touch panels, keyboards, home appliances such as remote controls for TVs and air conditioners, buildings, dashboards, car navigation / touch panels, rooms The present invention can be suitably used for vehicle interior parts such as mirrors, and surfaces of various printed materials.
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。 Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not necessarily limited thereto.
<フッ素化合物D>
[フッ素化合物D1 メチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン溶液]
フッ素化合物D1としてフルオロポリエーテル部位を含むアクリレート化合物(“メガファック”(登録商標) RS−75 DIC株式会社製 固形分濃度40質量%のメチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン溶液)を使用した。<Fluorine compound D>
[Fluorine compound D1 methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone solution]
As the fluorine compound D1, an acrylate compound containing a fluoropolyether moiety ("Megafuck" (registered trademark) RS-75 manufactured by DIC Corporation, a methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone solution having a solid content concentration of 40% by mass) was used.
<ポリシロキサン化合物の合成>
[ポリシロキサン(a)]
攪拌機、温度計、コンデンサおよび窒素ガス導入管を備えた500ml容量のフラスコにエタノール106質量部、テトラエトキシシラン320質量部、脱イオン水21質量部、および1質量%塩酸1質量部を仕込み、85℃で2時間保持した後、昇温しながらエタノールを回収し、180℃で3時間保持した。その後、冷却し、粘調な(ポリ)シロキサン(a)を得た。<Synthesis of Polysiloxane Compound>
[Polysiloxane (a)]
106 parts by mass of ethanol, 320 parts by mass of tetraethoxysilane, 21 parts by mass of deionized water, and 1 part by mass of 1 mass% hydrochloric acid are introduced into a 500 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser and nitrogen gas inlet pipe, After holding at ° C for 2 hours, ethanol was recovered while raising the temperature, and held at 180 ° C for 3 hours. Thereafter, it was cooled to obtain a viscous (poly) siloxane (a).
<ポリジメチルシロキサン化合物の合成>
[ポリジメチルシロキサン系ブロック共重合体(a)トルエン溶液]
ポリシロキサン(a)の合成と同様の装置を用い、トルエン50質量部、およびメチルイソブチルケトン50質量部、(ポリ)ジメチルシロキサン系高分子重合開始剤(和光純薬株式会社製 VPS−0501)20質量部、メタクリル酸メチル18質量部、メタクリル酸ブチル38質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート23質量部、メタクリル酸1重量部および1−チオグリセリン0.5質量部を仕込み、180℃で8時間反応させてポリジメチルシロキサン系ブロック共重合体(a)の固形分濃度50質量%のトルエン溶液を得た。<Synthesis of Polydimethylsiloxane Compound>
[Polydimethyl siloxane block copolymer (a) toluene solution]
50 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of methyl isobutyl ketone, (poly) dimethylsiloxane-based high molecular weight polymerization initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. VPS-0501) 20 using the same apparatus as in the synthesis of the polysiloxane (a) Parts by mass, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 38 parts by mass of butyl methacrylate, 23 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 1 part by mass of methacrylic acid and 0.5 parts by mass of 1-thioglycerin are charged and reacted at 180 ° C. for 8 hours As a result, a toluene solution having a solid content concentration of 50% by mass of the polydimethylsiloxane block copolymer (a) was obtained.
[ポリジメチルシロキサン化合物(b)]
ポリジメチルシロキサン化合物(b)として、ダイセルサイテック株式会社製 EBECRYL350(2官能、シリコーンアクリレート)を用いた。[Polydimethyl siloxane compound (b)]
As the polydimethylsiloxane compound (b), EBECRYL 350 (bifunctional silicone acrylate) manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd. was used.
<ウレタンアクリレートの合成>
[ウレタンアクリレート1のトルエン溶液]
トルエン50質量部、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ(三井化学株式会社製 「タケネート」(登録商標)D−170N)50質量部、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート(ダイセル化学工業株式会社製 プラクセルFA5)76質量部、ジブチル錫ラウレート0.02質量部、およびハイドロキノンモノメチルエーテル0.02質量部を混合し、70℃で5時間保持した。その後、トルエン79質量部を加えて固形分濃度50質量%のウレタンアクリレート1のトルエン溶液を得た。<Synthesis of Urethane Acrylate>
[Toluene solution of urethane acrylate 1]
50 parts by mass of toluene, isocyanurate modified type of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., 50 parts by mass of "Takenate" (registered trademark) D-170N), polycaprolactone modified hydroxyethyl acrylate (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Plaxel FA5) 76 parts by mass, 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate, and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were mixed and maintained at 70 ° C. for 5 hours. Thereafter, 79 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane acrylate 1 having a solid content concentration of 50% by mass.
[ウレタンアクリレート2のトルエン溶液]
トルエン100質量部、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート50質量部、及びポリカーボネートジオール(ダイセル化学工業株式会社製 プラクセルCD−210HL)119質量部を混合し、40℃にまで昇温して8時間保持した。それから、2−ヒドロキシエチルアクリレート28質量部、ジペンタエリストールヘキサアクリレート5質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.02質量部を加えて70℃で30分間保持した後、ジブチル錫ラウレート0.02質量部を加えて80℃で6時間保持した。そして、最後にトルエン97質量部を加えて固形分濃度50質量%のウレタンアクリレート2のトルエン溶液を得た。[Toluene solution of urethane acrylate 2]
Mix 100 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of methyl-2,6-diisocyanatohexanoate, and 119 parts by mass of polycarbonate diol (Plaxel CD-210HL, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and raise the temperature to 40 ° C. I kept it for a while. Then, 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 5 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether are added and maintained at 70 ° C. for 30 minutes, and then 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate In addition, it was kept at 80 ° C. for 6 hours. Finally, 97 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane acrylate 2 having a solid concentration of 50% by mass.
[ウレタンアクリレート3のトルエン溶液]
ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体(三井化学株式会社製 “タケネート”(登録商標)D−170N、イソシアネート基含有量:20.9質量%)50質量部、ポリエチレングリコールモノアクリレート(日油株式会社製 “ブレンマー”(登録商標)AE−150(水酸基価:264(mgKOH/g))53質量部、ジブチル錫ラウレート0.02質量部及びハイドロキノンモノメチルエーテル0.02質量部を仕込んだ。そして、70℃で5時間保持して反応を行った。反応終了後、反応液にメチルエチルケトン(以下、MEKという)102質量部を加え、固形分濃度50質量%のウレタンアクリレート3のトルエン溶液を得た。[Toluene solution of urethane acrylate 3]
50 parts by mass of isocyanurate modified product of hexamethylene diisocyanate (Mitsui Chemical Co., Ltd. “Takenate” (registered trademark) D-170N, isocyanate group content: 20.9 mass%), polyethylene glycol monoacrylate (manufactured by NOF Corporation) 53 parts by mass of "Blenmer" (registered trademark) AE-150 (hydroxyl value: 264 (mg KOH / g)), 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were charged. After completion of the reaction, 102 parts by mass of methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as MEK) was added to the reaction solution to obtain a toluene solution of urethane acrylate 3 having a solid concentration of 50% by mass.
[アクリルポリオール1]
アクリルポリオール1として、水酸基を含有するアクリルポリオール(“タケラック”(登録商標)UA−702 三井化学株式会社製 固形分濃度50質量% 水酸基価:50mgKOH/g)を使用した。[Acrylic Polyol 1]
As the acrylic polyol 1, an acrylic polyol containing a hydroxyl group (“Takelac” (registered trademark) UA-702 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., solid content concentration 50 mass%, hydroxyl value: 50 mg KOH / g) was used.
[アクリルポリオール2]
アクリルポリオール2として、水酸基を含有するアクリルポリオール(“アクリディック”(登録商標)A−823 DIC株式会社製 固形分濃度50質量% 水酸基価30mgKOH/g)を使用した。[Acrylic Polyol 2]
As the acrylic polyol 2, an acrylic polyol containing a hydroxyl group (“Acrydic” (registered trademark) A-823 manufactured by DIC Corporation, solid content concentration 50 mass%, hydroxyl value 30 mg KOH / g) was used.
[イソシアネート化合物1]
イソシアネート化合物として、トリレンジジイソシアネート(“コロネート”(登録商標)コロネートL 日本ポリウレタン工業株式会社 固形分濃度75質量% NCO含有量13.5質量%)を使用した。[Isocyanate Compound 1]
As the isocyanate compound, tolylene diisocyanate ("Coronato" (registered trademark) (C) Coronate L, Japan Polyurethane Industry Co., Ltd., solid content concentration 75% by mass, NCO content 13.5% by mass) was used.
[多官能アクリレート1]
多官能アクリレートモノマー1として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(“KAYARAD”DPHA 日本化薬株式会社製、固形分濃度100質量%)を使用した。[Multifunctional acrylate 1]
As the polyfunctional acrylate monomer 1, dipentaerythritol hexaacrylate ("KAYARAD" DPHA Nippon Kayaku Co., Ltd. make, solid content concentration 100 mass%) was used.
[多官能アクリレート2]
多官能アクリレート2として、ウレタンアクリレートオリゴマー(“SHIKOH”(登録商標)UV−3310B 日本合成化学工業株式会社製、固形分濃度100質量%)を使用した。[Polyfunctional acrylate 2]
As the polyfunctional acrylate 2, a urethane acrylate oligomer ("SHIKOH" (registered trademark) UV-3310B, manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., solid content concentration 100% by mass) was used.
[多官能アクリレート3]
多官能アクリレート3として、ウレタンアクリレートオリゴマー(“SHIKOH”(登録商標)UV−1700B 日本合成化学工業株式会社製、固形分濃度100質量%)を使用した。[Polyfunctional acrylate 3]
As the polyfunctional acrylate 3, a urethane acrylate oligomer ("SHIKOH" (registered trademark) UV-1700B, manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., solid content concentration 100% by mass) was used.
[多官能アクリレート4]
多官能アクリレート4として、ウレタンアクリレートオリゴマー(“SHIKOH”(登録商標)UV−2750B 日本合成化学工業株式会社製、固形分濃度100質量%)を使用した。[Multifunctional acrylate 4]
As the polyfunctional acrylate 4, a urethane acrylate oligomer ("SHIKOH" (registered trademark) UV-2750B, manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., solid content concentration 100 mass%) was used.
[アクリルポリマー1の合成]
ジラウロイルパーオキサイド(パーロイルL 日油株式会社製)24質量部をメチルエチルケトン495質量部に加えて70℃で30分間加温して溶解させ、メタクリル酸50質量部、ブチルアクリレート90質量部、メチルメタクリレート100質量部および4−メチル−2,4−ジフェニルペンテン−1(ノフマーMSD 日油株式会社製)2.4質量部を混合した溶液を4時間かけて滴下して撹拌重合させた。その後、さらに80℃で2時間撹拌を行い、親水性官能基を含有した固形分濃度35質量%のアクリルポリマー1のメチルエチルケトン溶液(重量平均分子量6,000)を得た。[Synthesis of Acrylic Polymer 1]
24 parts by mass of dilauroyl peroxide (Perroyl L made by Nippon Oil Co., Ltd.) is added to 495 parts by mass of methyl ethyl ketone and dissolved by heating at 70 ° C. for 30 minutes to dissolve 50 parts by mass of methacrylic acid, 90 parts by mass of butyl acrylate, methyl methacrylate A solution obtained by mixing 100 parts by mass and 2.4 parts by mass of 4-methyl-2,4-diphenylpentene-1 (manufactured by NOFMER MSD manufactured by NOF Co., Ltd.) was added dropwise over 4 hours, and was stirred and polymerized. Then, the mixture was further stirred at 80 ° C. for 2 hours to obtain a methyl ethyl ketone solution (weight average molecular weight 6,000) of an acrylic polymer 1 having a solid content concentration of 35 mass% containing a hydrophilic functional group.
<塗料組成物Aの調合>
[塗料組成物A1]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度40質量%の塗料組成物A1を得た。
・フッ素化合物D1の固形分濃度40質量%−メチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン溶液 3.8質量部
・ウレタンアクリレート1の固形分濃度50質量%−トルエン溶液 50質量部
・ウレタンアクリレート3の固形分濃度50質量%−トルエン溶液 50質量部
・エチレングリコールモノブチルエーテル 10質量部
・光ラジカル重合開始剤 1.5質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。<Preparation of Coating Composition A>
[Coating composition A1]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1 having a solid content concentration of 40% by mass.
Solid content 40% by mass of fluorine compound D1-3.8 parts by mass of methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone solution-Solid content 50% by mass of urethane acrylate 1-50 parts by mass of toluene solution 50 parts by mass of urethane acrylate 3 % -Toluene solution 50 parts by mass ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass photoradical polymerization initiator 1.5 parts by mass ("IRGACURE" (registered trademark) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物A2]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度40質量%の塗料組成物A2を得た。[Coating composition A2]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A2 having a solid content concentration of 40% by mass.
・フッ素化合物D1の固形分濃度40質量%−メチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン溶液 3.8質量部
・ウレタンアクリレート1の固形分濃度50質量%−トルエン溶液 25質量部
・ウレタンアクリレート3の固形分濃度50質量%−トルエン溶液 75質量部
・エチレングリコールモノブチルエーテル 10質量部
・光ラジカル重合開始剤 1.5質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。Solid content 40% by mass of fluorine compound D1-3.8 parts by mass of methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone solution Solid content 50% by mass of urethane acrylate 1-25 parts by mass of toluene solution 50 parts by mass of urethane acrylate 3 % -Toluene solution 75 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass Photoradical polymerization initiator 1.5 parts by mass ("IRGACURE" (registered trademark) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物A3]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度40質量%の塗料組成物A3を得た。
・フッ素化合物D1の固形分濃度40質量%−メチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン溶液 3.8質量部
・ウレタンアクリレート2の固形分濃度50質量%−トルエン溶液 75質量部
・ウレタンアクリレート3の固形分濃度50質量%−トルエン溶液 25質量部
・エチレングリコールモノブチルエーテル 10質量部
・光ラジカル重合開始剤 1.5質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。[Coating composition A3]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A3 having a solid content concentration of 40% by mass.
Solid content 40% by mass of fluorine compound D1-3.8 parts by mass of methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone solution Solid content 50% by mass of urethane acrylate 2-toluene 75 parts by mass solid content concentration of urethane acrylate 3 % -Toluene solution 25 parts by mass ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass photoradical polymerization initiator 1.5 parts by mass ("IRGACURE" (registered trademark) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物A4]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度40質量%の塗料組成物A4を得た。
・多官能アクリレート1 100質量部
・光ラジカル重合開始剤 0.75質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。[Coating composition A4]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A4 having a solid content concentration of 40% by mass.
-Multifunctional acrylate 1 100 parts by mass-0.75 parts by mass of a radical photopolymerization initiator ("IRGACURE" (registered trademark) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物B1]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度20質量%の塗料組成物B1を得た。
・アクリルポリオール1 100質量部
・イソシアネート化合物 18.8質量部
・多官能アクリレート2 22.9質量部
・アクリルポリマー1 13質量部
・光ラジカル重合開始剤 0.69質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。[Coating composition B1]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B1 having a solid content concentration of 20% by mass.
-Acrylic polyol 1 100 parts by mass-Isocyanate compound 18.8 parts by mass-Multifunctional acrylate 2 22.9 parts by mass-Acrylic polymer 1 13 parts by mass-Photoradical polymerization initiator 0.69 parts by mass ("IRGACURE" (registered trademark) ) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物B2]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度20質量%の塗料組成物B2を得た。
・アクリルポリオール1 100質量部
・イソシアネート化合物 18.8質量部
・アクリルポリマー1 9.6質量部。[Coating composition B2]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B2 having a solid content concentration of 20% by mass.
-Acrylic polyol 1 100 parts by mass-Isocyanate compound 18.8 parts by mass-Acrylic polymer 1 9.6 parts by mass.
[塗料組成物B3]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度20質量%の塗料組成物B3を得た。
・アクリルポリオール2 100質量部
・イソシアネート化合物 11.8質量部
・アクリルポリマー1 8.8質量部。[Coating composition B3]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B3 having a solid content concentration of 20% by mass.
-Acrylic polyol 2 100 parts by mass-Isocyanate compound 11.8 parts by mass-Acrylic polymer 1 8.8 parts by mass.
[塗料組成物B4]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度20質量%の塗料組成物B4を得た。
・アクリルポリオール1 100質量部
・イソシアネート化合物 18.8質量部
・多官能アクリレート3 12質量部
・アクリルポリマー1 11.4質量部
・光ラジカル重合開始剤 0.36質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。[Coating composition B4]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B4 having a solid content concentration of 20% by mass.
-Acrylic polyol 1 100 parts by mass-Isocyanate compound 18.8 parts by mass-Multifunctional acrylate 3 12 parts by mass-Acrylic polymer 1 11.4 parts by mass-Photoradical polymerization initiator 0.36 parts by mass ("IRGACURE" (registered trademark) ) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物B5]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度20質量%の塗料組成物B5を得た。
・多官能アクリレート4 100質量部
・アクリルポリマー1 15質量部
・光ラジカル重合開始剤 3質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。[Coating composition B5]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B5 having a solid content concentration of 20% by mass.
-Multifunctional acrylate 4 100 parts by mass-Acrylic polymer 1 15 parts by mass-Photoradical polymerization initiator 3 parts by mass ("IRGACURE" (registered trademark) 184 BASF Japan Ltd.).
[塗料組成物B6]
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度20質量%の塗料組成物B6を得た。
・アクリルポリオール1 100質量部
・イソシアネート化合物 18.8質量部
・多官能アクリレート3 3.6質量部
・アクリルポリマー1 10.1質量部
・光ラジカル重合開始剤 0.11質量部
(“イルガキュア”(登録商標)184 BASFジャパン株式会社)。[Coating composition B6]
The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B6 having a solid content concentration of 20% by mass.
-Acrylic polyol 1 100 parts by mass-Isocyanate compound 18.8 parts by mass-Multifunctional acrylate 3 3.6 parts by mass-Acrylic polymer 1 10.1 parts by mass-Photo radical polymerization initiator 0.11 parts by mass ("IRGACURE" Registered trademark) 184 BASF Japan Ltd.).
<積層フィルムの製造方法>
[積層フィルムの作成方法1]
支持基材(C層となる層)としてPET樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗布されている厚み100μmの“ルミラー”(登録商標)U48(東レ株式会社製)を用いた。支持基材上に塗料組成物Bをスロットダイコーターによる連続塗布装置を用い、乾燥後の表面層の厚みが指定の膜厚になるようにスロットからの吐出流量を調整して塗布し、次いで下記の条件で乾燥工程、硬化工程を行い、支持基材上にB層を形成した。
「乾燥工程」
送風温湿度 : 温度:80℃
風速 : 塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向 : 塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間 : 2分間
「硬化工程」
積算光量 : 120mJ/cm2
酸素濃度 : 大気雰囲気。<Method of manufacturing laminated film>
[Method 1 for producing laminated film]
A 100 μm thick “Lumirror” (registered trademark) U48 (manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as a supporting substrate (a layer to be a C layer) in which an easily adhesive coating was applied on a PET resin film. Paint composition B is applied onto a supporting substrate using a continuous coating apparatus with a slot die coater, adjusting the discharge flow rate from the slot so that the thickness of the surface layer after drying becomes a specified film thickness, and then The drying step and the curing step were carried out under the conditions of to form a B layer on the supporting substrate.
"Drying process"
Air temperature and humidity: Temperature: 80 ° C
Wind speed: coated side: 5 m / sec, anti coated side: 5 m / sec Wind direction: coated side: parallel to the surface of the substrate, anti coated side: residence time perpendicular to the surface of the substrate: 2 Minute "hardening process"
Integrated light quantity: 120mJ / cm 2
Oxygen concentration: Atmosphere.
さらに、同装置を用い、上記で得られたB層上に塗料組成物Aを、乾燥後の表面層の厚みが指定の膜厚になるようにスロットからの吐出流量を調整して塗布し、次いで下記の条件で乾燥工程、硬化工程を行い、積層フィルムを得た。
「乾燥工程」
送風温湿度 : 温度:80℃
風速 : 塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向 : 塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間 : 2分間
「硬化工程」
積算光量 : 120mJ/cm2
酸素濃度 : 200ppm(体積比率)以下。Furthermore, using the same apparatus, the coating composition A is applied onto the B layer obtained above by adjusting the discharge flow rate from the slot so that the thickness of the surface layer after drying becomes the specified thickness, Subsequently, the drying process and the curing process were performed under the following conditions to obtain a laminated film.
"Drying process"
Air temperature and humidity: Temperature: 80 ° C
Wind speed: coated side: 5 m / sec, anti coated side: 5 m / sec Wind direction: coated side: parallel to the surface of the substrate, anti coated side: residence time perpendicular to the surface of the substrate: 2 Minute "hardening process"
Integrated light quantity: 120mJ / cm 2
Oxygen concentration: 200 ppm (volume ratio) or less.
[積層フィルムの作成方法2]
支持基材(C層となる層)としてPET樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗布されている厚み100μmの“ルミラー”(登録商標)U48(東レ株式会社製)を用いた。支持基材上に塗料組成物Bをスロットダイコーターによる連続塗布装置を用い、乾燥後の表面層の厚みが指定の膜厚になるようにスロットからの吐出流量を調整して塗布し、次いで下記の条件で乾燥工程、硬化工程を行い、支持基材上にB層を形成した。
「乾燥工程」
送風温湿度 : 温度:80℃
風速 : 塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向 : 塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間 : 2分間
さらに、同装置を用い、上記で得られたB層上に塗料組成物Aを、乾燥後の表面層の厚みが指定の膜厚になるようにスロットからの吐出流量を調整して塗布し、次いで下記の条件で乾燥工程、硬化工程を行い、積層フィルムを得た。
「乾燥工程」
送風温湿度 : 温度:80℃
風速 : 塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向 : 塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間 : 2分間
「硬化工程」
積算光量 : 120mJ/cm2
酸素濃度 : 200ppm(体積比率)以下。[Method 2 for producing laminated film]
A 100 μm thick “Lumirror” (registered trademark) U48 (manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as a supporting substrate (a layer to be a C layer) in which an easily adhesive coating was applied on a PET resin film. Paint composition B is applied onto a supporting substrate using a continuous coating apparatus with a slot die coater, adjusting the discharge flow rate from the slot so that the thickness of the surface layer after drying becomes a specified film thickness, and then The drying step and the curing step were carried out under the conditions of to form a B layer on the supporting substrate.
"Drying process"
Air temperature and humidity: Temperature: 80 ° C
Wind speed: coated side: 5 m / sec, anti coated side: 5 m / sec Wind direction: coated side: parallel to the surface of the substrate, anti coated side: residence time perpendicular to the surface of the substrate: 2 Further, using the same apparatus, the coating composition A was applied onto the B layer obtained above by adjusting the discharge flow rate from the slot so that the thickness of the surface layer after drying becomes the specified thickness. Then, the drying step and the curing step were performed under the following conditions to obtain a laminated film.
"Drying process"
Air temperature and humidity: Temperature: 80 ° C
Wind speed: coated side: 5 m / sec, anti coated side: 5 m / sec Wind direction: coated side: parallel to the surface of the substrate, anti coated side: residence time perpendicular to the surface of the substrate: 2 Minute "hardening process"
Integrated light quantity: 120mJ / cm 2
Oxygen concentration: 200 ppm (volume ratio) or less.
[積層フィルムの作成方法3]
支持基材(C層となる層)としてPET樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗布されている厚み100μmの“ルミラー”(登録商標)U48(東レ株式会社製)を用いた。支持基材上に塗料組成物Aをスロットダイコーターによる連続塗布装置を用い、乾燥後の表面層の厚みが指定の膜厚になるようにスロットからの吐出流量を調整して塗布し、次いで下記の条件で乾燥工程、硬化工程を行い、支持基材上にA層を形成した。
「乾燥工程」
送風温湿度 : 温度:80℃
風速 : 塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向 : 塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間 : 2分間
「硬化工程」
積算光量 : 120mJ/cm2
酸素濃度 : 200ppm(体積比率)以下。[Method 3 for producing laminated film]
A 100 μm thick “Lumirror” (registered trademark) U48 (manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as a supporting substrate (a layer to be a C layer) in which an easily adhesive coating was applied on a PET resin film. Paint composition A is applied onto a supporting substrate using a continuous coating apparatus with a slot die coater, adjusting the discharge flow rate from the slot so that the thickness of the surface layer after drying becomes a specified thickness, and then The drying step and the curing step were performed under the conditions of to form an A layer on the supporting substrate.
"Drying process"
Air temperature and humidity: Temperature: 80 ° C
Wind speed: coated side: 5 m / sec, anti coated side: 5 m / sec Wind direction: coated side: parallel to the surface of the substrate, anti coated side: residence time perpendicular to the surface of the substrate: 2 Minute "hardening process"
Integrated light quantity: 120mJ / cm 2
Oxygen concentration: 200 ppm (volume ratio) or less.
以上の方法により実施例1〜13、比較例1〜2の積層フィルムを作成した。各実施例・比較例に対応する上記積層フィルムの作成方法、使用する塗料組成物、各層の膜厚を表1に記載した。 The laminated film of Examples 1-13 and Comparative Examples 1-2 was created by the above method. The method for producing the above-mentioned laminated film corresponding to each example and comparative example, the paint composition to be used, and the film thickness of each layer are described in Table 1.
<積層フィルムの評価>
作成した積層フィルムについて、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表2に示す。特に断らない場合を除き、測定は各実施例・比較例において1つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。<Evaluation of laminated film>
The performance evaluation shown below is implemented about the produced lamination film, and the obtained result is shown in Table 2. Unless otherwise specified, measurement was carried out three times at different locations for one sample in each example and comparative example, and the average value was used.
[貯蔵弾性率、ガラス転移温度の測定]
A.積層フィルム断面の確認
積層フィルムをカッターで切り出し、電顕用エポキシ樹脂(日新EM社製Quetol812)で包埋し、60℃のオーブン中で48時間かけて該エポキシ樹脂を硬化させた後、ウルトラミクロトーム(ライカ社製Ultracut S)で厚さ約100nmの超薄切片を作製した。[Measurement of storage modulus, glass transition temperature]
A. Confirmation of cross section of laminated film The laminated film is cut out with a cutter, embedded with an epoxy resin for electron microscope (Quetol 812 manufactured by Nisshin EM Co., Ltd.), and after curing the epoxy resin in an oven at 60 ° C. for 48 hours, Ultra Ultra-thin sections of about 100 nm in thickness were produced with a microtome (Ultracut S, manufactured by Leica).
作製した超薄切片を応研商事社製100メッシュのCuグリッドに搭載して、日立製透過型電子顕微鏡(TEM)H−7100FAを使用し加速電圧100kVでTEM観察を行い、積層フィルム断面の観察を行い、表面層と支持基材の場所を確認した。 The prepared ultra-thin section is mounted on a 100 mesh Cu grid made by Soken Shoji Co., and TEM observation is performed at an accelerating voltage of 100 kV using a Hitachi transmission electron microscope (TEM) H-7100 FA to observe the cross section of the laminated film The location of the surface layer and the supporting substrate was confirmed.
B.超微小硬度計による測定
上記、超薄切片をサンプルとし、超微小硬度計(Hysitron社製Tribo Indenter)を用いて、表面層と支持基材のモジュラスマッピング像を取得し、貯蔵弾性率、損失弾性率を算出し、貯蔵弾性率と損失弾性率の比から損失正接(tanδ)を求め、得られた損失正接(tanδ)のピーク値の温度を、ガラス転移温度(Tg)とした。
測定条件は下記に示す。
測定装置: Hysitron社製Tribo Indenter
使用圧子: ダイヤモンド製Cubecorner圧子(曲率半径50nm)
測定視野: 約30mm角
測定周波数:10Hz
測定雰囲気:−20℃〜120℃・大気中
接触荷重: 0.3μN。B. Measurement using an ultra-microhardness tester Above, using the ultra-thin section as a sample, using an ultra-microhardness tester (Tribo Indenter manufactured by Hysitron), obtain a modulus mapping image of the surface layer and the support base material, and storage elastic modulus, The loss elastic modulus was calculated, the loss tangent (tan δ) was determined from the ratio of the storage elastic modulus to the loss elastic modulus, and the temperature at the peak value of the obtained loss tangent (tan δ) was taken as the glass transition temperature (Tg).
The measurement conditions are shown below.
Measuring device: Hybotron Tribo Indenter
Usage indenter: Diamond Cubecorner indenter (curvature radius of 50 nm)
Measuring field of view: Approximately 30 mm square Measuring frequency: 10 Hz
Measurement atmosphere: −20 ° C. to 120 ° C. Contact load in air: 0.3 μN.
[原子間力顕微鏡による弾性率の測定]
実施例1〜13、比較例1〜2の積層フィルムを凍結ミクロトーム法により断面を切り出し、当該断面を測定面として専用のサンプル固定台に固定し、アサイラムテクノロジー製の原子間力顕微鏡(AFM)「MFP−3DSA−J」とNANOSENSORS製のカンチレバー「R150−NCL−10(材質Si、ばね定数48N/m、先端の曲率半径150nm)」を用い、表面層の厚み方向に垂直にContactモードでフォースカーブ (カンチレバーの移動速度2μm/s、最大押し込み荷重2μN)を測定した。[Measurement of elastic modulus by atomic force microscope]
Cross sections of the laminated films of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 2 are cut out by a freezing microtome method, and the cross sections are fixed as a measurement surface to a dedicated sample fixing base, and atomic force microscope (AFM) manufactured by Asylum Technology "AFM" Using MFP-3DSA-J and NANOSENSORS cantilever “R150-NCL-10 (material Si, spring constant 48 N / m, tip radius of curvature 150 nm)”, force curve in Contact mode perpendicular to the thickness direction of the surface layer (Cantilever movement speed 2 μm / s, maximum indentation load 2 μN) was measured.
上記測定方法に基づき、表面層の厚み方向に対し、表面層の表面から10%の位置(位置1)の弾性率(E1)、50%の位置(位置2)の弾性率(E2)、99%の位置(位置3)の弾性率(E3)を求めた。具体的には積層フィルムを切断し、表面層断面における厚み方向の各位置の弾性率を測定した。 Based on the above measurement method, the elastic modulus (E1) at a position 10% (Position 1) from the surface of the surface layer in the thickness direction of the surface layer, the elastic modulus (E2) 99% at a position (position 2) 50% The elastic modulus (E3) of the% position (position 3) was determined. Specifically, the laminated film was cut, and the elastic modulus at each position in the thickness direction in the surface layer cross section was measured.
[クラック伸度]
積層フィルムを長手方向および幅方向に長さ150mm×幅10mmの短形に切り出し、サンプルとした。引張試験機(オリエンテック製テンシロンUCT−100)を用いて、初期引張チャック間距離50mmとし、引張速度を10mm/分として引張試験を行った。この時の測定雰囲気は23℃・65RH%である。伸張する際に、伸張中のサンプルを観察しておき、サンプルのいずれかの箇所に目視でクラック(亀裂)が生じたら停止する(停止するときの伸度は5の整数となるように調整する)。次から測定するサンプルは、停止時の伸度より、5%単位で伸張伸度を低くしていったサンプルを順次採取し、最終的にサンプルのいずれかの箇所に目視にてクラックが入らなくなる伸度まで行った。[Crack elongation]
The laminated film was cut into short pieces of length 150 mm × width 10 mm in the longitudinal direction and width direction, and used as a sample. Using a tensile tester (Tensilon UCT-100 manufactured by ORIENTEC Co., Ltd.), a tensile test was performed with an initial tensile chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 10 mm / min. The measurement atmosphere at this time is 23 ° C. and 65 RH%. When stretching, observe the sample during stretching and stop when a crack (crack) occurs visually in any part of the sample (Adjust the elongation when stopping to be an integer of 5) ). As for the sample to be measured from the next time, the sample whose elongation elongation was lowered by 5% from the elongation at the time of stopping is sequentially taken, and finally the crack does not enter visually in any part of the sample I went to elongation.
採取したサンプルのクラック部分の薄膜断面を切り出し、断面を透過型電子顕微鏡にて倍率3,000倍で観察し、表面層の平均厚みの50%以上のクラックが発生している場合をクラック有り(表面層の破壊有り)として、クラック有りとされたサンプルの中で、最も低い伸度を有するサンプルの伸度値をクラック伸度とした。 The thin film cross section of the crack portion of the sample collected is cut out, the cross section is observed with a transmission electron microscope at a magnification of 3,000 times, and a crack is present if 50% or more of the average thickness of the surface layer is generated ( Among the samples in which it was determined that the surface layer was broken, the elongation value of the sample having the lowest elongation was taken as the crack elongation.
そして、同一の水準の異なる箇所から切り出した3サンプルで測定を行い、それらのクラック伸度の平均値を採用した。 And it measured with three samples cut out from a different place of the same level, and adopted the average value of those crack growth.
[熱成型性]
得られた積層フィルムを、真空成型機「FORMECH300X」(成光産業株式会社製)を用いて、遠赤外線ヒーターを用いて、フィルム表面温度が所定の温度になるように1分間加熱し円柱状の金型(底面直径50mm)を用いて真空成型を行い積層フィルムを成型した。また、その後、硬化を完全に終わらせるために、温度を180〜200℃にして引き続き1分間加熱を行った。金型に沿って成型できた状態を成型度合い(絞り比:成型高さ/底面直径)を用いて以下の基準で評価した。
A級:絞り比1.0以上で成型できた。
B級:絞り比0.6以上、1.0未満で成型できたが、1.0以上では成型できなかった。
C級:絞り比0.3以上、0.6未満で成型できたが、0.6以上では成型できなかった。
D級:絞り比0.3未満の曲面成型のみ可能であり、0.3以上では成型できなかった。
E級:わずかに折り曲げるだけでも、フィルム破れ・クラックが発生した。Thermoforming
The obtained laminated film is heated for 1 minute so that the film surface temperature reaches a predetermined temperature using a vacuum forming machine “FORMECH 300X” (manufactured by Shiromitsu Sangyo Co., Ltd.) using a far-infrared heater, and cylindrical Vacuum molding was performed using a mold (bottom diameter 50 mm) to form a laminated film. In addition, heating was subsequently performed at a temperature of 180 to 200 ° C. for 1 minute to complete curing completely. The state of being able to be molded along the mold was evaluated based on the following criteria using the degree of molding (a drawing ratio: molding height / bottom diameter).
A grade: It could be molded at a drawing ratio of 1.0 or more.
B-class: It could be molded at a drawing ratio of 0.6 or more and less than 1.0, but could not be molded at 1.0 or more.
C grade: It could be molded at a drawing ratio of 0.3 or more, less than 0.6, but could not be molded at 0.6 or more.
Class D: Only curved surface molding with a drawing ratio of less than 0.3 was possible, and molding was not possible with 0.3 or more.
Class E: Even if slightly bent, the film was broken or cracked.
[表面層の低硬度材料による反復擦過耐性]
積層フィルムを温度20℃で12時間放置した後、同環境にて本光製作所製消しゴム摩耗試験機の先端(先端部面積1cm2)に、白ネル生地〔600番 興和(株)製〕を取り付け、500gの荷重をかけて積層フィルム上を5cm、5,000回往復、及び1,000g荷重をかけて、積層フィルム上を5cm、200回往復摩擦し、下記のクラス分けを行った。なお、同一の水準の異なる箇所から切り出した3サンプルで測定を行い、以下のクラス分けを行った。クラス分けを行った3サンプルの値の平均値を採用した。
10点: 傷なし
7点: 1〜10本の傷
4点: 11〜20本の傷
1点: 試験部分の表面層が全面剥離。Repeated abrasion resistance due to low hardness material of surface layer
After leaving the laminated film to stand at a temperature of 20 ° C for 12 hours, attach the whitenel cloth (made by No. 600 Kowa Co., Ltd.) to the tip (tip area of 1 cm 2 ) of the eraser abrasion tester manufactured by Komitsu Seisakusho in the same environment. Then, the laminated film was subjected to a load of 500 g and reciprocated on the laminated film by 5 cm and reciprocation of 5,000 times and a load of 1,000 g, respectively, and reciprocated by 5 cm and 200 times to perform the following classification. In addition, it measured with three samples cut out from the location which the same level differs, and performed the following classification. The average value of the values of three samples subjected to classification was adopted.
10 points: no scratch 7 points: 1 to 10 flaws 4 points: 11 to 20 flaws 1 point: The surface layer of the test part is completely peeled off.
[表面層の自己修復性]
温度20℃で12時間放置した後、同環境にて表面層表面を、真鍮ブラシ(TRUSCO製)に下記の荷重をかけて、水平に5回引っ掻いたのち、5分間放置後の傷の回復状態を、下記の基準に則り目視で判定を行った。なお、同一の水準の異なる箇所から切り出した3サンプルで測定を行い、それらの平均値を採用した。
10点: 荷重1kgで傷が残らない
7点: 荷重1kgでは傷が残るが、700gでは傷が残らない
4点: 荷重700gでは傷が残るが、500gでは傷が残らない
1点: 荷重500gで傷が残る。Self-healing property of surface layer
After leaving it to stand for 12 hours at a temperature of 20 ° C, apply the following load to a brass brush (made by TRUSCO) under the same load in the same environment, scratch it horizontally 5 times, and then recover the scratch after leaving for 5 minutes The judgment was made visually according to the following criteria. In addition, it measured with three samples cut out from the different location of the same level, and those average values were employ | adopted.
10 points: no damage remains at 1 kg load 7 points scratch remains at 1 kg load but 4 points do not leave a scratch at 700 g: scratch remains at 700 g load but 1 point does not leave a scratch at 500 g: load 500 g The wound will be left.
1 表面層でB層と接する層(A層)
2 支持基材に接している層(B層)
3 支持基材(C層)
4 A層とB層を含む表面層
5 表面層の表面から、表面層厚みの10%の位置(位置1)
6 表面層の表面から、表面層厚みの50%の位置(位置2)
7 表面層の表面から、表面層厚みの99%の位置(位置3)
8 多層スライドダイ
9 多層スロットダイ
10 単層スロットダイ1 Layer in contact with layer B on surface layer (layer A)
2 Layer in contact with the support substrate (B layer)
3 Support base (C layer)
4 surface layer 5 including A layer and B layer From the surface of the surface layer, 10% of the surface layer thickness (position 1)
6 50% of the surface layer thickness from the surface of the surface layer (Position 2)
7 99% of the surface layer thickness from the surface of the surface layer (Position 3)
8 Multilayer Slide Die 9 Multilayer Slot Die 10 Single Layer Slot Die
本発明に係る積層フィルムは、プラスチック成型品、家電製品、建築物や車両内装品および種々の印刷物のそれぞれの表面に耐擦傷性、特に反復擦過性と成型性とを両立した機能を付与するために用いることができる。 The laminated film according to the present invention is to impart scratch resistance, in particular, a function having both repeated abrasion resistance and moldability on the surface of each of plastic molded articles, home appliances, buildings, vehicle interiors and various printed matter. It can be used for
Claims (7)
条件1 EA25<EB25≦EC25
条件2 EB120≦EA120<EC120
条件3 EA25≦100MPaA laminated film having a surface layer including an A layer and a B layer on at least one surface of a supporting substrate, wherein the B layer and the A layer are in contact in this order from the supporting substrate side, A layer, B Storage elastic modulus of the support substrate measured by a microhardness tester at 25 ° C (hereinafter, E A25 , E B25 , E C25 ), 120 ° C. storage elastic modulus (hereinafter, E A120 , E B120 , E C120 ) However, the laminated film characterized by satisfying the following conditions.
Condition 1 E A 25 <E B 25 ≦ E C 25
Condition 2 E B120 ≦ E A 120 <E C 120
Condition 3 E A 25 ≦ 100 MPa
条件4 0<EC25−EB25<5GPa
条件5 0<EA120−EB120<50MPaThe laminated film according to claim 1, wherein the layer A, the layer B, and the supporting substrate satisfy the following conditions.
Condition 4 0 <E C25 −E B25 <5 GPa
Condition 5 0 <E A120 -E B120 <50 MPa
条件6 60℃≦TgB≦130℃The laminated film according to claim 1 or 2, wherein the glass transition temperature (hereinafter, Tg B ) of the layer B satisfies the following condition.
Condition 6 60 ° C. ≦ Tg B ≦ 130 ° C.
条件7 0.1μm≦TB≦5μmThe laminated film according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the layer B (hereinafter referred to as T B ) satisfies the following conditions.
Condition 7 0.1 μm ≦ T B ≦ 5 μm
条件8 E1≦E2<E3
条件9 E1≦100MPa
条件10 E3≧1GPaIn a cross section perpendicular to the substrate of the surface layer, 10% of the surface layer thickness (hereinafter referred to as position 1), 50% (hereinafter referred to as position 2), 99% (hereinafter referred to as position 2) from the surface of the surface layer The elastic modulus E1, E2, E3 by an atomic force microscope at each position of positions 3 and 4 satisfies the following condition, and the laminated film according to any one of claims 1 to 4 .
Condition 8 E1 ≦ E2 <E3
Condition 9 E1 ≦ 100 MPa
Condition 10 E3 1 1 GPa
Applications Claiming Priority (5)
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