JP6521735B2 - Inspection apparatus, inspection method and program used in inspection apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、生産ラインで製造された基板の良否を検査する検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラムに関する。 The present invention relates to an inspection apparatus, an inspection method, and a program used in the inspection apparatus for inspecting the quality of a substrate manufactured in a production line.
生産ラインに配置される検査装置として、生産ラインの工程別に全ての基板を撮像して不良解析するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の検査装置では、工程毎の撮像画像から基板の良否が検査され、工程毎に良品画像と不良品画像に選別されて不良解析に用いられている。また、検査装置として、基板の検査結果を統計処理して不良解析するものが知られている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2に記載の検査装置では、基板の検査結果と識別情報が関連付けられてデータベースに格納され、データベース内の格納情報の統計結果が不良解析に用いられている。 As an inspection apparatus disposed in a production line, one is known that picks up an image of all substrates for each process of the production line and analyzes the defects (see, for example, Patent Document 1). In the inspection apparatus described in Patent Document 1, the quality of the substrate is inspected from the captured image in each process, and a non-defective product image and a defective product image are selected in each process and used for defect analysis. Moreover, what carries out the statistical analysis of the test result of a board | substrate and carries out defect analysis as an inspection apparatus is known (for example, refer patent document 2). In the inspection apparatus described in Patent Document 2, the inspection result of the substrate and the identification information are associated and stored in the database, and the statistical result of the stored information in the database is used for failure analysis.
ところで、良品として判定された基板については工場から市場に出荷されるが、市場にて基板に対して何らかの不具合が発見されることがある。特許文献1、2に記載の検査装置では、出荷前の基板を用いて不良解析することができるが、良品として出荷された基板について不良の原因を突き止めることまではできない。良品として判定された基板の不具合を検証するためには、検査装置の製造元で検査ロジックを組み直さなければならなかった。生産現場のオペレータで目視にて基板の不具合を検証することも考えられるが、オペレータの負担が重くなるという問題があった。 By the way, although the board | substrate determined as non-defective goods is shipped to a market from a factory, a certain malfunction may be discovered with respect to a board | substrate in a market. The inspection apparatuses described in Patent Documents 1 and 2 can analyze defects using a substrate before shipping, but can not find the cause of defects in a substrate shipped as a non-defective product. In order to verify the failure of the board determined to be non-defective, the manufacturer of the inspection apparatus had to restructure the inspection logic. Although it is conceivable to visually inspect the substrate for defects by an operator at a production site, there was a problem that the load on the operator became heavy.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、市場に出荷された良品基板の不具合を生産現場で検証することができる検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an inspection apparatus, an inspection method, and a program used in the inspection apparatus capable of verifying defects of non-defective substrates shipped to the market at a production site. I assume.
本発明の検査装置は、生産ラインの稼働中に基板に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした前記基板の不良を検証可能な検査装置であって、検査プロセスの一覧が記憶された記憶部と、前記基板の検査位置を特定する特定部と、前記検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける受付部と、前記受付部で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行する実行部とを備えることを特徴とする。 The inspection apparatus according to the present invention is an inspection apparatus capable of performing a normal inspection on a substrate while the production line is in operation and verifying a defect of the substrate missed by the normal inspection, in which a list of inspection processes is stored. A storage unit, a specification unit that specifies the inspection position of the substrate, a reception unit that receives an inspection process selection for each inspection position of the substrate from the list of inspection processes, and the inspection process selected by the reception unit And an execution unit that executes an inspection logic at an inspection position of the substrate.
本発明の検査方法は、生産ラインの稼働中に基板に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした前記基板の不良を検証可能な検査装置による検査方法であって、前記基板の検査位置を特定するステップと、記憶部に記憶された検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスを選択するステップと、選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行するステップとを有することを特徴とする。 The inspection method of the present invention is an inspection method using an inspection apparatus capable of performing a normal inspection on a substrate while the production line is in operation and verifying a defect of the substrate missed in the normal inspection, wherein the inspection position of the substrate Executing an inspection logic on the inspection position of the substrate, which comprises the steps of identifying the inspection process, selecting the inspection process for each inspection position of the substrate from the inspection process list stored in the storage unit, and selecting the inspection process And a step.
これらの構成によれば、基板の不良に応じて生産現場のオペレータが検査プロセスを自由に選択して、新たに検査ロジックを組むことができる。オペレータが自ら組んだ検査ロジックを使うことで、検査装置の製造元に頼ることなく、検査装置の通常検査で見落とされた基板の不良に対して再検査することができ、基板の不具合の原因をオペレータが検証することができる。また、検査プロセスを選択するだけで検査ロジックを組むことができるため、オペレータに負担をかけることなく、不良の内容に応じて柔軟に検証することができる。 According to these configurations, the operator at the production site can freely select the inspection process according to the failure of the substrate, and can newly form an inspection logic. By using the inspection logic that the operator has assembled himself, it is possible to re-inspect a defect of a substrate missed in the ordinary inspection of the inspection device without relying on the manufacturer of the inspection device, and the operator is the cause of the substrate failure. Can be verified. In addition, since the inspection logic can be constructed only by selecting the inspection process, it is possible to flexibly verify according to the contents of the defect without putting a burden on the operator.
上記の検査装置において、前記受付部は、検査プロセスのパラメータの調整を受け付ける。この構成によれば、検査プロセスの検査の感度を調整することができ、基板の不良に対してより柔軟に検証することができる。 In the above inspection apparatus, the receiving unit receives adjustment of parameters of the inspection process. According to this configuration, the sensitivity of the inspection of the inspection process can be adjusted, and the failure of the substrate can be more flexibly verified.
上記の検査装置において、前記実行部は、前記検査ロジックに加えて、前記通常検査に使用された既存の検査ロジックを実行可能である。この構成によれば、検査装置の通常検査で見落とされた基板の不良を、既存の検査ロジックを使用して再検査することができる。 In the above-described inspection apparatus, the execution unit can execute the existing inspection logic used for the normal inspection in addition to the inspection logic. According to this configuration, it is possible to re-inspect a defect in a substrate missed in the normal inspection of the inspection apparatus using the existing inspection logic.
上記の検査装置において、前記生産ラインの稼働中に前記基板を撮像する撮像部を備え、前記記憶部は、前記基板の撮像画像に対する検査プロセスの一覧を記憶し、前記特定部は、前記基板の撮像画像における検査位置を特定し、前記実行部は、前記検査ロジックを前記基板の撮像画像の検査位置に対して実行する。この構成によれば、基板の撮像画像を用いて基板の不良を再検査することができるため、基板が無くても基板の不具合を検証することができる。 In the inspection apparatus described above, an imaging unit that images the substrate while the production line is in operation is provided, the storage unit stores a list of inspection processes for the captured image of the substrate, and the identification unit is The inspection position in the captured image is specified, and the execution unit executes the inspection logic on the inspection position of the captured image of the substrate. According to this configuration, since the defect of the substrate can be re-inspected using the captured image of the substrate, the defect of the substrate can be verified even without the substrate.
上記の検査装置において、前記基板のトレーサビリティ情報から当該基板の撮像画像を抽出する抽出部を備え、前記生産ラインの稼働中に前記撮像部に撮像された全ての基板の撮像画像が、当該基板のトレーサビリティ情報にそれぞれ関連付けられて保存される。この構成によれば、生産ラインの稼働中に生じた基板の不良を後で検証するための客観的な証拠として、全ての基板の撮像画像を残すことができる。また、トレーサビリティ情報から再検査が必要な基板の撮像画像を抽出することができる。 The inspection apparatus described above includes an extraction unit that extracts a captured image of the substrate from the traceability information of the substrate, and the captured images of all the substrates captured by the imaging unit during operation of the production line are the substrates. The traceability information is stored in association with each other. According to this configuration, it is possible to leave captured images of all the substrates as objective evidence for later verifying the defects of the substrates generated during the operation of the production line. In addition, it is possible to extract a captured image of a substrate that needs to be re-inspected from traceability information.
上記の検査装置において、前記基板のトレーサビリティ情報は、当該基板の種別と当該基板に対する通常検査の検査日時とを含む。この構成によれば、基板の種別と通常検査の検査日時から、再検査が必要な基板の撮像画像を容易に抽出することができる。 In the above inspection apparatus, the traceability information of the substrate includes the type of the substrate and the inspection date and time of the normal inspection of the substrate. According to this configuration, it is possible to easily extract a captured image of a substrate requiring reinspection from the type of the substrate and the inspection date and time of the normal inspection.
本発明のプログラムは、上記の検査方法を検査装置、又は検査プログラム作成パソコンに実行させることを特徴とする。この構成によれば、検査装置、又は検査プログラム作成パソコンにプログラムをインストールすることで、検査装置に対して自由度の高い検証機能を追加することができる。 A program according to the present invention is characterized in that the inspection method or the inspection program creation personal computer executes the above-described inspection method. According to this configuration, by installing the program in the inspection apparatus or the inspection program creation personal computer, it is possible to add a highly flexible verification function to the inspection apparatus.
本発明によれば、生産現場で基板の不良に応じて検査プロセスを自由に選択して新たに検査ロジックを組むことで、検査装置の製造元に頼ることなく、検査装置の通常検査で見落とされた基板の不良の原因をオペレータ側で検証することができる。 According to the present invention, by freely selecting the inspection process according to the defect of the substrate at the production site and newly constructing the inspection logic, the inspection was overlooked in the normal inspection of the inspection device without relying on the manufacturer of the inspection device. The operator can verify the cause of the substrate failure.
以下、添付図面を参照して本実施の形態に係る生産システムについて説明する。図1は、本実施の形態に係る生産システムの模式図である。なお、本実施の形態に係る生産システムは一例に過ぎず、適宜変更が可能である。 Hereinafter, a production system according to the present embodiment will be described with reference to the attached drawings. FIG. 1 is a schematic view of a production system according to the present embodiment. The production system according to the present embodiment is merely an example, and can be changed as appropriate.
図1に示すように、本実施の形態に係る生産システム1の生産ラインは、印刷工程、印刷後の検査工程、実装工程、実装後の検査工程、リフロー工程、リフロー後の検査工程の工程を経て基板Wを生産している。印刷工程では、印刷装置11により基板W上の所定位置にペースト状の半田が印刷され、印刷後の検査工程では、検査装置14aにより基板W上の半田の印刷状態が画像処理等によって検査される。実装工程では、実装装置12により基板Wの所定位置に部品が実装され、実装後の検査工程では、検査装置14bにより基板W上の部品の実装状態が画像処理等によって検査される。
As shown in FIG. 1, the production line of the production system 1 according to the present embodiment includes a printing process, an inspection process after printing, a mounting process, an inspection process after mounting, a reflow process, and an inspection process after reflow. Then, the substrate W is produced. In the printing process, paste-like solder is printed at a predetermined position on the substrate W by the printing apparatus 11. In the inspection process after printing, the printing state of the solder on the substrate W is inspected by image processing or the like by the
リフロー工程では、リフロー装置13により所定位置の半田を溶かして基板Wに部品が半田付けされ、リフロー後の検査工程では、検査装置14cにより基板W上の部品の半田付け状態が画像処理等によって検査される。また、生産システム1には、画像保存サーバー15と検査情報保存サーバー16が設けられている。画像保存サーバー15には、各検査工程で撮像された基板Wの撮像画像が保存され、検査情報保存サーバー16には、各検査工程における基板Wの検査結果等の検査情報が保存されている。なお、基板Wは、複数の単位基板からなる集合基板でもよいし、単一の基板でもよい。
In the reflow process, the solder at a predetermined position is melted by the
ところで、生産ラインを経て良品と判定された市場に出荷された基板Wは、市場にて不良が発見される場合がある。この場合、手元に検査対象の基板Wがないことが多く、基板Wに対して再検査を行うことができない。また、検査対象の基板Wが手元にあったとしても再検査を行うために手間がかかっていた。そこで、本実施の形態に係る生産システム1では、生産ラインの稼働中に生じた基板Wの不良を後で検証するための客観的な証拠として撮像し、各検査工程の基板Wの撮像画像を各基板Wのトレーサビリティ情報に関連付けて保存するようにしている。 By the way, the substrate W shipped to the market determined to be non-defective through the production line may have a defect found in the market. In this case, the substrate W to be inspected is often not at hand, and the substrate W can not be re-inspected. In addition, even if the substrate W to be inspected is at hand, it takes time to perform the inspection again. Therefore, in the production system 1 according to the present embodiment, an image of the substrate W in each inspection step is imaged as an objective evidence for later verifying the defect of the substrate W generated during the operation of the production line. The traceability information of each substrate W is stored in association with it.
しかしながら、基板Wの撮像画像を保存していたとしても、生産ラインの現場では市場で発見された基板Wの不良を検証することが難しい。一般に、検査装置の製造元によって検査ロジックが開示されていないことが多く、生産現場のオペレータは生産ラインの通常検査で基板Wの不良を見落とした原因を把握することができないからである。このため、検査装置の製造元に不具合の検証を依頼して、新たな検査ロジックを組み直してもらわなければならない。オペレータが基板Wの撮像画像から目視で基板Wの不良を確認することも可能であるが、確認作業に膨大な時間を費やさなければならなかった。 However, even if a captured image of the substrate W is stored, it is difficult to verify defects of the substrate W found in the market at the production line site. Generally, the manufacturer of the inspection apparatus often does not disclose the inspection logic, and the operator at the production site can not grasp the cause of the failure of the substrate W in the general inspection of the production line. For this reason, it is necessary to request the manufacturer of the inspection apparatus to verify the defect and to have new inspection logic reassembled. It is possible for the operator to visually confirm the defect of the substrate W from the captured image of the substrate W, but a large amount of time has to be spent on the confirmation operation.
このため、本実施の形態に係る各検査装置14a−14cでは、基板Wの不良に応じて生産現場のオペレータ側で容易に検査ロジックを組むことができるようにしている。オペレータが自ら組んだ検査ロジックを基板Wの撮像画像に使うことで、各検査装置14a−14cの通常検査で見落とされた基板Wの不良に対してオペレータが自ら検証することが可能になっている。なお、本実施の形態では、市場で不具合が発見された基板Wの撮像画像を用いて、基板Wの不良を検証する構成にしているが、実際の基板Wを取り寄せて検査装置14a−14cで再検査することで不良を検証することも可能である。
Therefore, in each of the
以下、図2を参照して、検査装置の詳細構成について説明する。図2は、本実施の形態に係る検査装置のブロック図である。なお、以下の説明では、実装後の検査工程における検査装置を例示して説明するが、印刷後の検査工程、リフロー後の検査工程の検査装置も同様に構成されている。また、図2に示す検査装置のブロック図は、本発明を説明するために簡略化したものであり、検査装置が通常備える構成については備えているものとする。 The detailed configuration of the inspection apparatus will be described below with reference to FIG. FIG. 2 is a block diagram of an inspection apparatus according to the present embodiment. In the following description, the inspection device in the inspection step after mounting is described as an example, but the inspection device in the inspection step after printing and the inspection device in the inspection step after reflow are configured in the same manner. Further, the block diagram of the inspection apparatus shown in FIG. 2 is simplified to explain the present invention, and it is assumed that the configuration usually provided in the inspection apparatus is provided.
図2に示すように、検査装置14は、生産ラインの稼働中に全ての基板Wを撮像する撮像部21と、生産ラインの稼働中に全ての基板Wに対して通常検査を実施する通常検査部22と、通常検査で不良が見落とされた基板Wに対して再検査を実施する再検査部23とを備えている。撮像部21は、各基板W上の複数個所を真上から撮像して、各基板Wの撮像画像を通常検査部22に出力する。通常検査部22は、各基板Wの撮像画像に対して既存の検査ロジックを用いて画像処理を施して、各基板Wに適切に部品が実装されているか否かを検査する。部品の実装状態が悪い基板Wについては不良と判定されて出荷されることがない。
As shown in FIG. 2, the
通常検査時の各基板Wの撮像画像は画像保存サーバー15に保存され、各基板Wの検査情報は検査情報保存サーバー16に保存される。画像保存サーバー15には、各基板Wの撮像画像が記憶媒体の所定の番地に保存されている。検査情報保存サーバー16には、検査情報として各基板Wのトレーサビリティ情報が画像保存サーバー15における各基板Wの撮像画像の保存先の番地に関連付けられて保存されている。トレーサビリティ情報としては、例えば、基板Wの種別、通常検査の検査日時、通常検査による判定結果、オペレータの目視による判定結果が含まれている。なお、通常検査部22は、圧縮画像を作成して画像保存サーバー15に送信されても良く、この場合、画像を保存するためのサーバー容量を抑えることが出来る。
The captured image of each substrate W at the time of the normal inspection is stored in the
再検査部23は、市場で不具合が発見された基板Wの撮像画像を用いて再検査するものであり、抽出部24、特定部25、記憶部26、受付部27、実行部28を有している。抽出部24は、オペレータに検査日時等のトレーサビリティ情報が抽出条件として設定されることで、検査情報保存サーバー16と画像保存サーバー15にアクセスして抽出条件を満たす撮像画像を抽出する。この場合、検査情報保存サーバー16にて、抽出条件を満たすトレーサビリティ情報に関連付いた撮像画像の番地が特定され、画像保存サーバー15にて、この番地に保存された撮像画像が抽出される。
The
このように、検査情報保存サーバー16のトレーサビリティ情報が画像保存サーバー15の撮像画像に関連付けられており、抽出部24においてオペレータから指定されたトレーサビリティ情報に基づいて撮像画像が抽出される。これにより、オペレータの手元に検査対象の基板Wがない場合であっても、トレーサビリティ情報から検査対象の基板Wの撮像画像を抽出して再検査することが可能になっている。なお、トレーサビリティ情報と撮像画像は同一の外部サーバーに保存されてもよいし、別々の外部サーバーに保存されてもよい。
As described above, the traceability information of the inspection
特定部25は、抽出部24で抽出された基板Wの撮像画像における検査位置を特定する。この場合、検査装置14には基板W上の部品の位置情報や座標軸が設定されており、部品名や特定座標等の位置情報の入力によって撮像画像における検査位置が特定される。記憶部26には、検査ロジックを構築するための処理単位となる検査プロセスの一覧が記憶されている。検査プロセスの一覧には、長さ測定、面積測定、体積測定、輝度測定、色認識、文字認識、重み付けフィルタ設定、2値化処理、判定処理等の複数種類の検査プロセスが含まれている。
The identifying
受付部27は、検査プロセスの一覧から撮像画像の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付けている。この場合、検査位置毎にオペレータによって検査プロセスの一覧から所望の検査プロセスが選択され、選択された検査プロセスが実行フィールド31(図4C参照)に実行順に並べられて検査ロジックが組み立てられる。すなわち、受付部27は、検査ロジックの組み立て画面を形成している(図4C参照)。また、受付部27は、各検査プロセスのパラメータの調整を受け付けている。パラメータとしては、例えば、重み付けフィルタの係数、2値化処理や判定処理の閾値等が設定される。このように、検査プロセスの選択によって容易に検査ロジックを組むことが可能になっている。
The receiving
実行部28は、受付部27で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを撮像画像の検査位置に対して実行する。この場合、受付部27の実行フィールド31に並べられた順に検査プロセスが実行されて、抽出部24に抽出された撮像画像の検査位置が再検査される。このように、基板Wの不良に応じてオペレータが検査プロセスを自由に選択した検査ロジックにより再検査することができ、オペレータが通常検査で見落とされた基板Wの不良の原因を突き止めることができる。なお、実行部28は、通常検査時に使用された既存の検査ロジックを実行することも可能である。
The
印刷装置11の通常検査部22及び再検査部23の各部は、各部の各種処理を実行するプロセッサやメモリ等により構成されている。メモリは、用途に応じてROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等の一つ又は複数の記憶媒体で構成されており、メモリには本実施の形態に係る印刷装置の通常検査用のプログラムの他、撮像画像の抽出処理用のプログラム、再検査処理用のプログラム、後述する検査ロジックの組み立て画面等が記憶されている。
The respective units of the
図3及び図4を参照して、撮像画像の抽出処理及び撮像画像に対する再検査処理について説明する。図3は、本実施の形態に係る撮像画像の抽出処理の一例を示す図である。図4は、本実施の形態に係る撮像画像に対する再検査処理の一例を示す図である。 With reference to FIG.3 and FIG.4, the extraction process of a captured image and the reexamination process with respect to a captured image are demonstrated. FIG. 3 is a diagram showing an example of a process of extracting a captured image according to the present embodiment. FIG. 4 is a diagram showing an example of re-examination processing on a captured image according to the present embodiment.
図3Aに示すように、検査装置14(図3B参照)において1/1の0:00−0:50までの間に、MODEL:A、Bの2種類の基板Wa−Wfに対して通常検査が実施されている。通常検査では、これら全ての基板Wa−Wfに対して既存の検査ロジックが実行され、基板Wa−Wfの撮像画像が画像保存サーバー15(図3B参照)に保存され、基板Wa−Wfのトレーサビリティ情報が検査情報保存サーバー16(図3B参照)に保存される。この通常検査においては、基板Wa−Wfが全て良品として出荷されたが、1/1の0:30−1:00に検査されたMODEL:Bの基板に不具合が発見され、抽出部24(図2参照)による検査対象の基板Wの抽出処理が実施される。 As shown in FIG. 3A, in the inspection apparatus 14 (see FIG. 3B), normal inspection is performed on two types of substrates Wa-Wf of MODEL: A and B between 0: 00-0: 50 of 1/1. Has been implemented. In the normal inspection, the existing inspection logic is executed on all these substrates Wa-Wf, and the captured images of the substrates Wa-Wf are stored in the image storage server 15 (see FIG. 3B), and the traceability information of the substrates Wa-Wf Are stored in the examination information storage server 16 (see FIG. 3B). In this normal inspection, although all the substrates Wa-Wf were shipped as non-defective products, a defect was found in the substrate of MODEL: B which was inspected at 1/130: 1:30, and the extraction unit 24 (figure An extraction process of the substrate W to be inspected according to 2) is performed.
この場合、図3Bに示すように、基板Wの種別MODEL:B、検査日時1/1の0:30−1:00が抽出条件として検査装置14から検査情報保存サーバー16に送信される(ステップS01)。検査情報保存サーバー16では、抽出条件を満たすトレーサビリティ情報が検索され、1/1の0:30に検査されたMODEL:Bの基板Wdが検査対象として特定される(ステップS02)。基板Wdの保存先となる番地が検査情報保存サーバー16から検査装置14に送信される(ステップS03)。そして、検査装置14によって画像保存サーバー15の基板Wdの番地に保存された撮像画像が読み込まれる(ステップS04)。
In this case, as shown in FIG. 3B, 0:30 to 1:00 of the classification MODEL: B of the substrate W and inspection date and time 1/1 is transmitted from the
次に、基板Wdに対する再検査処理が実施される。図4Aに示すように、通常検査では撮像部21(図2参照)によって各基板Wの複数の箇所が撮像されている。このため、基板Wdの複数の撮像画像の中から、特定部25(図2参照)によって不良個所を含む撮像画像Iが検査対象として特定される。さらに、図4Bに示すように、撮像画像I内には複数の部品が含まれており、特定部25によって複数の部品の中から不良個所となる部品Pが検査対象として特定される。上記したように、各部品には位置情報が関連付けられているため、部品名の入力によって検査位置を特定することできる。また、検査位置の座標入力によって、部品に限らず直接的に検査位置を特定することも可能である。
Next, a reinspection process is performed on the substrate Wd. As shown to FIG. 4A, the several location of each board | substrate W is imaged by the imaging part 21 (refer FIG. 2) in a normal test | inspection. Therefore, from among the plurality of captured images of the substrate Wd, the identifying unit 25 (see FIG. 2) identifies the captured image I including the defective portion as the inspection target. Furthermore, as shown in FIG. 4B, a plurality of parts are included in the captured image I, and the part P to be a defective part is specified as an inspection target from among the plurality of parts by the specifying
図4Cに示すように、検査ロジックの組み立て画面において、記憶部26(図2参照)の検査プロセスの一覧33から任意の検査プロセスが選択され、各検査プロセスが実行順に実行フィールド31に設定される。図の例では、撮像画像Iの部品Pに対して輝度測定、2値化処理、長さ測定、判定処理が選択され、これらの検査プロセスが実行順に実行フィールド31に設定されて1つの検査ロジックが組み上げられる。これにより、撮像画像Iの部品Pの輝度から輪郭が抽出されて、部品Pが適切な長さであるか否かの判定ロジックが生成される。なお、パラメータフィールド32には何も設定されていないため、2値化処理や判定処理の閾値として規定値が設定されている。 As shown in FIG. 4C, in the inspection logic assembly screen, an arbitrary inspection process is selected from the inspection process list 33 of the storage unit 26 (see FIG. 2), and each inspection process is set in the execution field 31 in order of execution. . In the example shown in the figure, luminance measurement, binarization processing, length measurement, and determination processing are selected for the part P of the captured image I, and these inspection processes are set in the execution field 31 in the order of execution and one inspection logic Will be assembled. Thereby, an outline is extracted from the luminance of the part P of the captured image I, and a determination logic as to whether the part P has an appropriate length is generated. In addition, since nothing is set in the parameter field 32, a specified value is set as a threshold value of the binarization process or the determination process.
そして、実行フィールド31に設定された複数の検査プロセスから成る検査ロジックが実行部28(図2参照)によって実行され、撮像画像Iの部品Pに対して輝度測定、2値化処理、長さ測定、判定処理が順番に実施される。これにより、検査対象の基板Wがない場合であっても、通常検査時に保存した撮像画像から基板Wの部品Pに対して再検査が実施される。また、オペレータは、実行フィールドに検査プロセスを自由に設定することができるため、基板Wの不良に応じて柔軟に検査ロジックを組むことができ、オペレータが不良を検証することが可能になっている。 Then, inspection logic composed of a plurality of inspection processes set in the execution field 31 is executed by the execution unit 28 (see FIG. 2), and luminance measurement, binarization processing, and length measurement on the component P of the captured image I The determination process is performed in order. Thereby, even if there is no substrate W to be inspected, re-inspection is performed on the component P of the substrate W from the captured image stored at the time of the normal inspection. In addition, since the operator can freely set the inspection process in the execution field, the inspection logic can be flexibly constructed according to the defect of the substrate W, and the operator can verify the defect. .
また、基板Wの生産現場では、必要に応じて再検査時に組み上げた検査ロジックを生産ラインの稼働時の通常検査に組み入れることも可能である。これにより、通常検査時で基板Wの不良を見つけ出すことができ、不良が生じる可能性がある基板Wが市場に出荷されることを未然に防ぐことができる。この場合、基板Wの種別に応じて別々のプログラムが設定されているが、基板Wの種別が変わっても同一の部品に対しては同じ検査ロジックが適用されるようにプログラムが自動的に変更されてもよい。再検査時の撮像画像としては、通常検査で使用した生画像が使用されてもよいし、圧縮画像が使用されてもよい。 In addition, at the production site of the substrate W, it is possible to incorporate the inspection logic assembled at the time of reinspection as necessary into the normal inspection at the time of operation of the production line. Thereby, defects in the substrate W can be found out at the time of normal inspection, and it is possible to prevent in advance the substrate W that may have defects from being shipped to the market. In this case, different programs are set according to the type of the substrate W. However, even if the type of the substrate W changes, the program is automatically changed so that the same inspection logic is applied to the same parts. It may be done. As a captured image at the time of reexamination, a raw image usually used in an examination may be used, or a compressed image may be used.
また、検査装置14は基板Wに対する再検査以外にも使用することが可能である。例えば、新たな部品に対する検査ロジックを組んだ場合に、この新たな部品に似た過去の部品の撮像画像に検査ロジックを試すことができる。過去の部品にトラブルが生じていた場合には、事前に検査を実施することで新たな部品のトラブルを事前に回避することができる。この場合、オペレータが検査ロジックを使用し易いように、部品の種類又は系統毎に検査ロジックが管理されている。さらに、過去の撮像画像や検査ロジックを用いることで、経験が未熟なオペレータに対して特定部品の不良を見極めさせるための教育にも使用することができる。
In addition, the
以上のように、本実施の形態に係る検査装置14は、基板Wの不良に応じて生産現場のオペレータで検査プロセスを自由に選択して、新たに検査ロジックを組むことができる。オペレータが自ら組んだ検査ロジックを使うことで、検査装置14の製造元に頼ることなく、検査装置14の通常検査で見落とされた基板の不良に対して再検査することができ、基板Wの不具合の原因をオペレータが検証することができる。また、検査プロセスを選択するだけで検査ロジックを組むことができるため、オペレータに負担をかけることなく、不良の内容に応じて柔軟に検証することができる。
As described above, the
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with various modifications. In the above embodiment, the size, shape, and the like illustrated in the attached drawings are not limited thereto, and can be appropriately changed within the range in which the effects of the present invention are exhibited. In addition, without departing from the scope of the object of the present invention, it is possible to appropriately change and implement.
例えば、本実施の形態において、検査装置14の記憶部26には、検査プロセスの一覧に撮像画像に対する検査プロセス、すなわち画像処理が記憶される構成にしたが、この構成に限定されない。記憶部26には、検査プロセスとしてレーザー測長等の画像処理以外の検査プロセスが記憶されていてもよい。これにより、検査対象の基板Wが手元にある場合には、基板Wに対してレーザー測長等の検査プロセスを含む検査ロジックを実行することが可能である。
For example, in the present embodiment, the
また、本実施の形態において、特定部25が基板Wの撮像画像における検査位置を特定する構成にしたが、この構成に限定されない。特定部25は、基板Wの検査位置を特定可能な構成であればよく、検査対象の基板Wが手元にある場合には、実際の基板Wの検査位置を特定する構成でもよい。
Moreover, in this Embodiment, although it was set as the structure which specifies the test | inspection position in the captured image of the board | substrate W in the
また、本実施の形態において、受付部27は、基板Wの撮像画像における検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける構成にしたが、この構成に限定されない。受付部27は、基板Wの検査位置毎に検査プロセスを受け付ける構成であればよく、検査対象の基板Wが手元にある場合には、実際の基板Wの検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける構成でもよい。また、受付部27は、検査プロセスのパラメータの調整を受け付けない構成にしてもよい。さらに、パラメータは、各検査プロセスの閾値を設定するものに限定されず、検査感度を調整するものであればよい。
Further, in the present embodiment, the receiving
また、本実施の形態において、実行部28が基板Wの撮像画像における検査位置に検査ロジックを実行する構成にしたが、この構成に限定されない。実行部28は、基板Wの検査位置毎に検査ロジックを実行可能な構成であればよく、検査対象の基板Wが手元にある場合には、実際の基板Wの検査位置毎に検査ロジックを実行する構成でもよい。
Further, in the present embodiment, the
また、本実施の形態において、基板Wは、プリント基板に限定されず、治具基板上に載せられたフレキシブル基板であってもよい。 Further, in the present embodiment, the substrate W is not limited to a printed circuit board, and may be a flexible substrate mounted on a jig substrate.
また、本実施の形態において、通常検査を実施する検査装置14で、通常検査で見落とした基板Wの不良を検証する構成にしたが、この構成に限定されない。検査装置14は、通常検査で使用される装置とは別の、再検査用の装置でもよい。
Further, in the present embodiment, the
また、本実施の形態において、撮像部21が全ての基板Wを撮像する構成にしたが、この構成に限定されない。撮像部21は、一部の基板Wだけを撮像するように構成されてもよい。 Moreover, although it was set as the structure which the imaging part 21 images all the board | substrates W in this Embodiment, it is not limited to this structure. The imaging unit 21 may be configured to image only a part of the substrate W.
また、本実施の形態において、検査装置に本発明の検査方法を実行するプログラムを記憶させる構成にしたが、検査装置とは別の検査プログラム作成パソコンに検査方法を実行するプログラムを記憶させてもよい。 In the present embodiment, the inspection apparatus is configured to store the program for executing the inspection method of the present invention. However, even if the inspection program is created in the personal computer different from the inspection apparatus, the program for executing the inspection method is stored. Good.
以上説明したように、本発明は、市場に出荷された良品基板の不具合を生産現場のオペレータで検証することができるという効果を有し、特に、生産ラインで製造された基板の良否を検査する検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラムに有用である。 As described above, the present invention has the effect of being able to verify the defects of the non-defective substrates shipped to the market by an operator at the production site, and in particular, inspects the quality of the substrates manufactured in the production line. The present invention is useful for an inspection apparatus, an inspection method, and a program used in the inspection apparatus.
1 生産システム
14 検査装置
15 画像保存サーバー
16 検査情報保存サーバー
21 撮像部
22 通常検査部
23 再検査部
24 抽出部
25 特定部
26 記憶部
27 受付部
28 実行部
31 実行フィールド
32 パラメータフィールド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (8)
検査プロセスの一覧が記憶された記憶部と、
前記基板の検査位置を特定する特定部と、
前記検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける受付部と、
前記受付部で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行する実行部とを備えることを特徴とする検査装置。 An inspection apparatus capable of performing normal inspection on a substrate while the production line is in operation, and verifying defects of the substrate that are missed in the normal inspection,
A storage unit in which a list of inspection processes is stored;
An identifying unit that identifies an inspection position of the substrate;
A receiving unit that receives a selection of an inspection process for each inspection position of the substrate from the list of the inspection processes;
An inspection unit that executes inspection logic including an inspection process selected by the reception unit at an inspection position of the substrate.
前記記憶部は、前記基板の撮像画像に対する検査プロセスの一覧を記憶し、
前記特定部は、前記基板の撮像画像における検査位置を特定し、
前記実行部は、前記検査ロジックを前記基板の撮像画像の検査位置に対して実行することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の検査装置。 An imaging unit for imaging the substrate while the production line is in operation;
The storage unit stores a list of inspection processes for the captured image of the substrate,
The specifying unit specifies an inspection position in a captured image of the substrate,
The said execution part performs the said test | inspection logic with respect to the test | inspection position of the captured image of the said board | substrate, The inspection apparatus in any one of the Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
前記生産ラインの稼働中に前記撮像部に撮像された全ての基板の撮像画像が、当該基板のトレーサビリティ情報にそれぞれ関連付けられて保存されることを特徴とする請求項4に記載の検査装置。 An extraction unit that extracts a captured image of the substrate from the traceability information of the substrate;
5. The inspection apparatus according to claim 4, wherein captured images of all the substrates captured by the imaging unit during operation of the production line are stored in association with traceability information of the substrates.
前記基板の検査位置を特定するステップと、
記憶部に記憶された検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスを選択するステップと、
選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行するステップとを有することを特徴とする検査方法。 An inspection method using an inspection apparatus capable of performing normal inspection on a substrate while the production line is in operation, and verifying a defect of the substrate missed in the normal inspection,
Identifying an inspection position of the substrate;
Selecting an inspection process for each inspection position of the substrate from a list of inspection processes stored in a storage unit;
Performing an inspection logic consisting of the selected inspection process at the inspection position of the substrate.
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