JP6492216B1 - Aluminum alloy substrate for magnetic disk, method of manufacturing the same, and magnetic disk using the aluminum alloy substrate for magnetic disk - Google Patents

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Abstract

【課題】良好なフラッタリング特性と強度を有する磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、この磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクを提供する。
【解決手段】Fe:0.05〜3.00mass%、Zr:0.01〜0.50mass%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなるアルミニウム合金からなり、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度が1個/mm以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、無電解Ni−Pめっき処理層とその上の磁性体層が設けられている磁気ディスク。
【選択図】図1
An aluminum alloy substrate for a magnetic disk having good fluttering characteristics and strength, a method of manufacturing the same, and a magnetic disk using the aluminum alloy substrate for the magnetic disk are provided.
An aluminum alloy comprising Fe: 0.05 to 3.00 mass%, Zr: 0.01 to 0.50 mass%, and an aluminum alloy composed of the balance Al and unavoidable impurities, and having a longest diameter of 1 μm or more An aluminum alloy substrate for a magnetic disk characterized in that the distribution density of the Zr-based intermetallic compound is 1 / mm 2 or less, a method of manufacturing the same, and an electroless Ni—on the surface of the aluminum alloy substrate for the magnetic disk. A magnetic disk provided with a P-plated layer and a magnetic layer thereon.
[Selected figure] Figure 1

Description

本発明は、良好なフラッタリング特性と強度を有する磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、この磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクに関する。   The present invention relates to an aluminum alloy substrate for a magnetic disk having good fluttering characteristics and strength, a method of manufacturing the same, and a magnetic disk using the aluminum alloy substrate for the magnetic disk.

コンピュータの記憶装置に用いられる磁気ディスクは、良好なめっき性を有するとともに機械的特性や加工性が優れる基板を用いて製造される。例えば、JIS5086(Mg:3.5〜4.5mass%、Fe:0.50mass%以下、Si:0.40mass%以下、Mn:0.20〜0.70mass%、Cr:0.05〜0.25mass%、Cu:0.10mass%以下、Ti:0.15mass%以下及びZn:0.25mass%以下を含有し、残部Al及び不可避的不純物からなる)によるアルミニウム合金を基本とした基板などから製造されている。   A magnetic disk used for a storage device of a computer is manufactured using a substrate having excellent plating properties and excellent mechanical characteristics and processability. For example, JIS 5086 (Mg: 3.5 to 4.5 mass%, Fe: 0.50 mass% or less, Si: 0.40 mass% or less, Mn: 0.20 to 0.70 mass%, Cr: 0.05 to 0. Manufactured from a substrate based on an aluminum alloy containing 25 mass%, Cu: 0.10 mass% or less, Ti: 0.15 mass% or less, Zn: 0.25 mass% or less, the balance being Al and unavoidable impurities) It is done.

一般的な磁気ディスクの製造は、まず円環状アルミニウム合金基板を作製し、該アルミニウム合金基板にめっきを施し、次いで該アルミニウム合金基板の表面に磁性体を付着させることにより行われている。   A common magnetic disk is manufactured by first producing an annular aluminum alloy substrate, plating the aluminum alloy substrate, and then depositing a magnetic material on the surface of the aluminum alloy substrate.

例えば、前記JIS5086合金によるアルミニウム合金製磁気ディスクは以下の製造工程により製造される。まず、所定の化学成分としたアルミニウム合金素材を鋳造し、その鋳塊を熱間圧延し、次いで冷間圧延を施し、磁気ディスクとして必要な厚さを有する圧延材を作製する。この圧延材には、必要に応じて冷間圧延の途中等に焼鈍を施すことが好ましい。次に、この圧延材を円環状に打抜き、前記製造工程により生じた歪み等を除去するため、円環状としたアルミニウム合金板を積層し、両端部の両面から加圧しつつ焼鈍を施して平坦化する加圧焼鈍を行って、円環状アルミニウム合金基板が作製される。   For example, the aluminum alloy magnetic disk made of the JIS 5086 alloy is manufactured by the following manufacturing process. First, an aluminum alloy material having a predetermined chemical component is cast, the ingot is hot-rolled, and then cold-rolled to produce a rolled material having a thickness necessary for a magnetic disk. The rolled material is preferably annealed during cold rolling as needed. Next, this rolled material is punched into an annular shape, and in order to remove distortion and the like generated in the manufacturing process, an annular aluminum alloy sheet is laminated, and annealing is performed while pressing from both surfaces of both ends for flattening. Pressure annealing is performed to produce an annular aluminum alloy substrate.

このようにして作製された円環状アルミニウム合金基板に、前処理として切削加工、研削加工、脱脂、エッチング及びジンケート処理(Zn置換処理)を施し、次いで下地処理として硬質非磁性金属であるNi−Pを無電解めっきし、該めっき表面にポリッシングを施した後に、Ni−P無電解めっき表面に磁性体をスパッタリングしてアルミニウム合金製磁気ディスクが製造される。   The annular aluminum alloy substrate thus produced is subjected to cutting, grinding, degreasing, etching, and zincate treatment (Zn substitution treatment) as pretreatment, and then Ni-P which is a hard nonmagnetic metal as an undercoating treatment Is electrolessly plated, and the plated surface is polished, and then a magnetic material is sputtered onto the Ni-P electrolessly plated surface to produce an aluminum alloy magnetic disk.

ところで、近年、磁気ディスクには、マルチメディア等のニーズから大容量化及び高密度化、更に高速化が求められている。大容量化のため、記憶装置に搭載される磁気ディスクの枚数が増加しており、それに伴い磁気ディスクの薄肉化も求められている。   By the way, in recent years, from the needs of multimedia and the like, the magnetic disk has been required to have a large capacity, high density, and high speed. In order to increase the capacity, the number of magnetic disks mounted in storage devices is increasing, and along with this, thinning of the magnetic disks is also required.

しかしながら、薄肉化、高速化に伴い剛性の低下や高速回転による流体力の増加に伴う励振力が増加し、ディスク・フラッタが発生し易くなる。これは、磁気ディスクを高速で回転させると不安定な気流がディスク間に発生し、その気流により磁気ディスクの振動(フラッタリング)が発生することに起因する。このような現象は、基板の剛性が低いと磁気ディスクの振動が大きくなり、ヘッドがその変化に追従できないために発生するものと考えられる。フラッタリングが起きると、読み取り部であるヘッドの位置決め誤差が増加する。そのためディスク・フラッタの減少が強く求められている。   However, as the thickness is reduced and the speed is increased, the excitation force is increased along with the decrease in rigidity and the increase in fluid force due to high speed rotation, and disk flutter is likely to occur. This is because when the magnetic disk is rotated at high speed, an unstable air flow is generated between the disks, and the air flow causes vibration (fluttering) of the magnetic disk. Such a phenomenon is considered to occur because when the rigidity of the substrate is low, the vibration of the magnetic disk becomes large and the head can not follow the change. When fluttering occurs, the positioning error of the head which is the reading unit increases. Therefore, there is a strong demand for reduction of disk flutter.

また、磁気ディスクの高密度化により、1ビット当たりの磁気領域が益々微細化されることになる。この微細化に伴い、ヘッドの位置決め誤差のズレによる読み取りエラーが発生し易くなっており、ヘッドの位置決め誤差の主要因であるディスク・フラッタの減少が強く求められている。   In addition, as the density of the magnetic disk increases, the magnetic area per bit is further miniaturized. Along with this miniaturization, read errors due to misalignment of head positioning errors are likely to occur, and reduction of disk flutter, which is a main factor of head positioning errors, is strongly demanded.

更に、磁気ディスク用アルミニウム合金基板を薄肉化すると強度が低下してしまうため、アルミニウム合金基板の高強度化も求められている。また、記憶装置の分野は激しいコスト競争にさらされており、生産性等の向上によるコストダウンも強く求められている。   Furthermore, since the strength decreases when the aluminum alloy substrate for magnetic disks is thinned, there is also a demand for higher strength of the aluminum alloy substrate. In addition, the field of storage devices is exposed to intense cost competition, and cost reduction due to improvement of productivity etc. is strongly demanded.

このような実情から、近年では、ディスク・フラッタが小さい特性を有する磁気ディスク用アルミニウム合金基板が強く望まれ、検討がなされている。例えば、ハードディスクドライブ内に、ディスクと対向するプレートを有する気流抑制部品を実装することが提案されている。特許文献1には、アクチュエータの上流側にエア・スポイラを設置した磁気ディスク装置が提案されている。このエア・スポイラは、磁気ディスク上のアクチュエータに向かう空気流を弱めて、磁気ヘッドの風乱振動を低減するものである。また、エア・スポイラは、磁気ディスク上の気流を弱めることで、ディスク・フラッタを抑制する。更に、特許文献2では、アルミニウム合金板の剛性向上に寄与するSiを多く含有させて、剛性を向上させる方法が提案されている。   Under such circumstances, in recent years, an aluminum alloy substrate for a magnetic disk having a characteristic of small disk flutter is strongly desired and studied. For example, it has been proposed to mount an air flow suppressing component having a plate facing the disk in a hard disk drive. Patent Document 1 proposes a magnetic disk drive in which an air spoiler is installed on the upstream side of an actuator. The air spoiler reduces the air flow toward the actuator on the magnetic disk to reduce wind noise from the magnetic head. The air spoiler also suppresses disk flutter by weakening the air flow over the magnetic disk. Further, Patent Document 2 proposes a method of improving the rigidity by containing a large amount of Si which contributes to the improvement of the rigidity of the aluminum alloy plate.

特開2002−313061号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-313061 WO2016/068293号公報WO 2016/068293 gazette

しかしながら、特許文献1に開示されている方法では、設置したエア・スポイラと磁気ディスク用基板との間隔の違いによりフラッタリング抑制効果が異なり、部品の高精度を必要とするため部品コストの増大を招いている。   However, in the method disclosed in Patent Document 1, the fluttering suppression effect is different due to the difference between the installed air spoiler and the magnetic disk substrate, and high accuracy of the parts is required, thus increasing the cost of parts. I am invited.

また、特許文献2に示すSiを多く含有させる方法は、剛性向上には効果的であるが、硬度が高いSi粒子が多数存在するため、JIS5086合金に比べ研削性が低下し、製造コストの増大を招いている。また、Siのみでは十分な強度を得ることが出来ないのが現状であった。   Further, the method of containing a large amount of Si shown in Patent Document 2 is effective for rigidity improvement, but since a large number of Si particles having high hardness are present, the grinding property is reduced compared to JIS 5086 alloy, and the manufacturing cost is increased. Are invited. In addition, at present, sufficient strength can not be obtained with Si alone.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、ディスクのフラッタリング特性と強度に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板、ならびに、これを用いた磁気ディスクの提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and an object thereof is to provide an aluminum alloy substrate for a magnetic disk excellent in fluttering characteristics and strength of the disk, and a magnetic disk using the same.

すなわち、本発明は請求項1において、Fe:0.05〜3.00mass%、Zr:0.01〜0.50mass%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなるアルミニウム合金からなり、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度が1個/mm以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板とした。 That is, the present invention comprises an aluminum alloy according to claim 1, containing Fe: 0.05 to 3.00 mass%, Zr: 0.01 to 0.50 mass%, and the balance Al and inevitable impurities, A distribution density of the Al-Zr based intermetallic compound having the longest diameter is 1 piece / mm 2 or less.

本発明は請求項2では請求項1において、前記アルミニウム合金が、Mn:0.1〜3.0mass%、Si:0.1〜0.4mass%、Mg:0.1〜0.4mass%、Cu:0.005〜0.500mass%、Ni:0.1〜3.0mass%及びCr:0.01〜1.00mass%からなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有するものとした。   In the present invention according to claim 2, the aluminum alloy according to claim 1 comprises Mn: 0.1 to 3.0 mass%, Si: 0.1 to 0.4 mass%, Mg: 0.1 to 0.4 mass%, Containing one or more selected from the group consisting of Cu: 0.005 to 0.500 mass%, Ni: 0.1 to 3.0 mass%, and Cr: 0.01 to 1.00 mass% And

本発明は請求項3では請求項1又は2において、前記アルミニウム合金が、Zn:0.005〜1.000massを更に含有するものとした。   In the present invention according to claim 3 according to claim 1 or 2, the aluminum alloy further contains Zn: 0.005 to 1.000 mass.

本発明は請求項4では請求項1〜3のいずれか一項において、前記アルミニウム合金が、含有量の合計が0.005〜0.500mass%のTi、B及びVからなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有するものとした。   The present invention according to claim 4 in any one of claims 1 to 3 wherein the aluminum alloy is selected from the group consisting of Ti, B and V, the total content of which is 0.005 to 0.500 mass%. It further contains one or two or more.

本発明は請求項5において、請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、無電解Ni−Pめっき処理層とその上の磁性体層が設けられていることを特徴とする磁気ディスクとした。   In the present invention according to claim 5, an electroless Ni-P plated layer and a magnetic layer thereon are provided on the surface of the aluminum alloy substrate for magnetic disk according to any one of claims 1 to 4. The magnetic disk is characterized by

本発明は請求項6において、請求項1〜4のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて半連続鋳造法によって鋳塊を鋳造する半連続鋳造工程と、半連続鋳造した鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削工程とを含み、前記鋳造工程において、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を5分以下とすることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法とした。   The present invention is the method for producing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 4 in claim 6, wherein the ingot is cast by a semi-continuous casting method using the aluminum alloy. Semi-continuous casting process, hot-rolling process for hot-rolling semi-continuous-cast ingot, cold-rolling process for cold-rolling hot-rolled plate, and disc blank for punching cold-rolled plate into an annular shape A punching process, a pressure annealing process for pressure annealing the punched disk blank, and a cutting and grinding process for cutting and grinding the pressure annealed disk blank, wherein the casting process is performed at 660 to 680 ° C. The molten metal holding time in the temperature range of 5 minutes or less is set to 5 minutes or less.

本発明は請求項7では請求項6において、前記半連続鋳造工程と熱間圧延工程の間に、半連続鋳造した鋳塊を280〜620℃で0.5〜60時間加熱処理する均質化熱処理工程を更に含むものとした。   The present invention according to claim 7 is a homogenization heat treatment according to claim 6, wherein the semicontinuously cast ingot is heat treated at 280 to 620 ° C. for 0.5 to 60 hours between the semicontinuous casting step and the hot rolling step. The process was further included.

本発明は請求項8では請求項6又は7において、前記熱間圧延工程の開始温度が250〜600℃であり、終了温度が230〜450℃であるものとした。   The eighth aspect of the present invention is that in the sixth or seventh aspect, the start temperature of the hot rolling step is 250 to 600 ° C., and the end temperature is 230 to 450 ° C.

本発明は請求項9では請求項6〜8のいずれか一項において、前記冷間圧延の前又は途中において、圧延板を焼鈍する焼鈍処理工程であって、300〜500℃で0.1〜30時間のバッチ焼鈍処理工程、又は400〜600℃で0〜60秒の連続焼鈍処理工程を更に含むものとした。   The present invention according to claim 9 is an annealing treatment step according to any one of claims 6 to 8 in which the rolled sheet is annealed before or during the cold rolling, and is 0.1 to 300 ° C. to 500 ° C. It further included a 30-hour batch annealing step or a continuous annealing step at 400-600 ° C. for 0-60 seconds.

本発明は請求項10において、請求項1〜4のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて連続鋳造法によって鋳造板を鋳造する連続鋳造工程と、連続鋳造した鋳造板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削工程とを含み、前記鋳造工程において、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を5分以下とすることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法とした。   The present invention according to claim 10 is a method of manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 4, wherein a cast sheet is cast by a continuous casting method using the aluminum alloy. A continuous casting process, a cold rolling process for cold rolling a continuously cast cast plate, a disk blank punching process for punching the cold rolled plate in an annular shape, and a pressure annealing process for pressure annealing the punched disk blank A cutting / grinding step of subjecting the pressure-annealed disk blank to cutting and grinding; and in the casting step, the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. is 5 minutes or less. The method of manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk is described.

本発明は請求項11では請求項10において、前記冷間圧延の前又は途中において、鋳造板又は冷間圧延板を焼鈍する焼鈍処理工程であって、300〜500℃で0.1〜30時間のバッチ焼鈍処理工程、又は400〜600℃で0〜60秒の連続焼鈍処理工程を更に含むものとした。   The present invention according to claim 11 is an annealing treatment step of annealing a cast sheet or cold rolled sheet before or during the cold rolling according to claim 10 in claim 10, wherein the annealing step is performed at 300 to 500 ° C. for 0.1 to 30 hours. Or a continuous annealing process at 400 to 600 ° C. for 0 to 60 seconds.

本発明により、ディスクのフラッタリング特性と強度に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクを提供することができる。   The present invention can provide an aluminum alloy substrate for a magnetic disk excellent in fluttering characteristics and strength of the disk, a method of manufacturing the same, and a magnetic disk using the aluminum alloy substrate for the magnetic disk.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板及び磁気ディスクの製造方法を示すフロー図であり、(a)では鋳造工程において半連続鋳造法が用いられ、(b)では鋳造工程において連続鋳造法が用いられる。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the aluminum alloy substrate for magnetic discs concerning this invention, and a magnetic disc, A semicontinuous casting method is used in a casting process in (a), A continuous casting method is used in a casting process in (b) Be

本発明者らは、基板のフラッタリング特性と基板の素材との関係に着目し、これら特性と基板(磁気ディスク材料)の特性との関係について鋭意調査研究した。この結果、Fe含有量とZr含有量及びAl−Zr系金属間化合物のサイズ分布がフラッタリング特性と強度に大きな影響を与えることを見出した。この結果、本発明者らは、Fe含有量が0.05〜3.00mass%(以下、「%」と略記する)、Zr含有量が0.01〜0.50%の範囲で、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度が1個/mm以下である磁気ディスク用アルミニウム合金基板において、フラッタリング特性と強度が向上することを見出した。これらの知見に基づいて、本発明者らは本発明を完成するに至ったものである。 The present inventors focused on the relationship between the fluttering characteristics of the substrate and the material of the substrate and conducted intensive research on the relationship between these characteristics and the characteristics of the substrate (magnetic disk material). As a result, it has been found that the Fe content, the Zr content, and the size distribution of the Al-Zr based intermetallic compound greatly affect the fluttering characteristics and the strength. As a result, the inventors of the present invention have an Fe content of 0.05 to 3.00 mass% (hereinafter abbreviated as "%") and a Zr content of 1 μm or more within a range of 0.01 to 0.50%. It has been found that the fluttering characteristics and the strength are improved in the aluminum alloy substrate for a magnetic disk in which the distribution density of the Al-Zr based intermetallic compound having the longest diameter of 1 is 1 piece / mm 2 or less. Based on these findings, the present inventors have completed the present invention.

A.磁気ディスク用アルミニウム合金基板
以下、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板(以下、「本発明に係るアルミニウム合金基板」又は、単に「アルミニウム合金基板」と略記する)について詳細に説明する。
A. Aluminum Alloy Substrate for Magnetic Disk Hereinafter, an aluminum alloy substrate for magnetic disk according to the present invention (hereinafter, simply referred to as “aluminum alloy substrate according to the present invention” or simply “aluminum alloy substrate”) will be described in detail.

1.合金組成
以下、本発明に係るAl−Fe−Zr系合金を用いた磁気ディスク用アルミニウム合金基板のアルミニウム合金成分及びその含有量について説明する。
1. Alloy Composition The aluminum alloy component of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk using the Al-Fe-Zr alloy according to the present invention and the content thereof will be described below.

Fe:
Feは必須元素であり、主として第二相粒子(Al−Fe系金属間化合物等)として、一部はマトリックスに固溶して存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のFe含有量が0.05%未満では、十分な強度とフラッタリング特性が得られない。一方、Fe含有量が3.00%を超えると、粗大なAl−Fe系金属間化合物粒子が多数生成する。Al−Fe系金属間化合物は、アルミニウムマトリックスに比べて硬度が高いため、削り難く、研削加工時の研削レート低下の原因となり、生産コストの増大を招く。また、このような粗大なAl−Fe系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時において脱落して大きな窪みが発生し、めっきピット発生によるめっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離を発生させる。また、圧延工程における加工性低下も生じる。そのため、アルミニウム合金中のFe含有量は、0.05〜3.00%の範囲とする。Fe含有量は、好ましくは0.10〜1.80%、より好ましくは0.20〜1.50%の範囲である。
Fe:
Fe is an essential element, and is mainly present as second phase particles (Al-Fe based intermetallic compounds etc.), partially existing in solid solution in the matrix, and improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate. Demonstrate. When vibration is applied to such a material, the viscous energy at the interface between the second phase particles and the matrix causes the vibration energy to be absorbed rapidly, resulting in very good fluttering characteristics. If the Fe content in the aluminum alloy is less than 0.05%, sufficient strength and fluttering characteristics can not be obtained. On the other hand, when the Fe content exceeds 3.00%, a large number of coarse Al-Fe based intermetallic compound particles are generated. Since the Al-Fe based intermetallic compound has a hardness higher than that of the aluminum matrix, it is difficult to cut, which causes a reduction in the grinding rate at the time of grinding, resulting in an increase in production cost. In addition, such coarse Al-Fe based intermetallic compound particles fall off during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing and a large dent is generated, resulting in the smoothness of the plated surface due to the occurrence of plating pits. And the peeling of plating. Moreover, the processability fall in a rolling process also arises. Therefore, the Fe content in the aluminum alloy is in the range of 0.05 to 3.00%. The Fe content is preferably in the range of 0.10 to 1.80%, more preferably 0.20 to 1.50%.

Zr:
Zrは必須元素であり、主として第二相粒子(Al−Zr系金属間化合物)として、一部はマトリックスに固溶して存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のZr含有量が0.01%未満では、十分な強度が得られない。一方、Zr含有量が0.50%を超えると、粗大なAl−Zr系金属間化合物粒子が多数生成する。Al−Zr系金属間化合物は、アルミニウムマトリックスに比べて硬度が高いため、削り難く、研削加工時の研削レート低下の原因となり、生産コストの増大を招く。また、このような粗大なAl−Zr系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時において脱落して大きな窪みが発生し、めっきピット発生によるめっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離を発生させる。また、圧延工程における加工性低下も生じる。そのため、アルミニウム合金中のZr含有量は、0.01〜0.50%の範囲とする。Zr含有量は、好ましくは0.02〜0.30%、より好ましくは0.03〜0.30%の範囲である。
Zr:
Zr is an essential element and is mainly present as second phase particles (Al-Zr based intermetallic compounds), partially existing in solid solution in the matrix, and exerts the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate Do. When vibration is applied to such a material, the viscous energy at the interface between the second phase particles and the matrix causes the vibration energy to be absorbed rapidly, resulting in very good fluttering characteristics. If the Zr content in the aluminum alloy is less than 0.01%, sufficient strength can not be obtained. On the other hand, when the Zr content exceeds 0.50%, a large number of coarse Al-Zr based intermetallic compound particles are generated. Since the Al-Zr based intermetallic compound has a hardness higher than that of an aluminum matrix, it is difficult to shave, which causes a reduction in the grinding rate at the time of grinding and causes an increase in production cost. In addition, such coarse Al-Zr based intermetallic compound particles fall off during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing and a large depression is generated, and the smoothness of the plating surface due to the occurrence of plating pits And the peeling of plating. Moreover, the processability fall in a rolling process also arises. Therefore, the Zr content in the aluminum alloy is in the range of 0.01 to 0.50%. The Zr content is preferably in the range of 0.02 to 0.30%, more preferably 0.03 to 0.30%.

磁気ディスク用アルミニウム合金基板のフラッタリング特性及び強度、更にはめっき性をより向上させるために、第1の選択的元素として、Mn:0.1〜3.0%、Si:0.1〜0.4%、Mg:0.1〜0.4%、Cu:0.005〜0.500mass%、Ni:0.1〜3.0%及びCr:0.01〜1.00%からなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有させてもよい。また、第2の選択的元素として、Zn:0.005〜1.000massを更に含有させてもよい。更に、第3の選択的元素として、含有量の合計が0.005〜0.500%のTi、B及びVからなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有させてもよい。以下に、これらの選択元素について説明する。   Mn: 0.1 to 3.0%, Si: 0.1 to 0 as a first selective element to further improve the fluttering characteristics and strength of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk, and further, the plating property. .4%, Mg: 0.1 to 0.4%, Cu: 0.005 to 0.500 mass%, Ni: 0.1 to 3.0% and Cr: 0.01 to 1.00% It may further contain one or more selected from Further, Zn: 0.005 to 1.000 mass may be further contained as a second selective element. Furthermore, as the third selective element, one or more selected from the group consisting of Ti, B, and V having a total content of 0.005 to 0.500% may be further contained. These selected elements are described below.

Mn:
Mnは、主として第二相粒子(Al−Mn系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のMn含有量が0.1%以上であることによって、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のMn含有量が3.0%以下であることによって、粗大なAl−Mn系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。これにより、金属間化合物が多数生成することに起因する研削レート低下による生産コストの増大を一層抑制することができる。また、このような粗大なAl−Mn系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のMn含有量は、0.1〜3.0%の範囲とするのが好ましく、0.1〜1.0%の範囲とするのがより好ましい。
Mn:
Mn is mainly present as second phase particles (such as Al-Mn based intermetallic compounds), and exhibits an effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate. When vibration is applied to such a material, the viscous energy at the interface between the second phase particles and the matrix causes the vibration energy to be absorbed rapidly, resulting in very good fluttering characteristics. When the Mn content in the aluminum alloy is 0.1% or more, the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate can be further enhanced. In addition, when the Mn content in the aluminum alloy is 3.0% or less, the formation of a large number of coarse Al-Mn based intermetallic compound particles is suppressed. As a result, it is possible to further suppress an increase in production cost due to a reduction in the grinding rate caused by the formation of a large number of intermetallic compounds. In addition, such coarse Al-Mn based intermetallic compound particles are prevented from falling off and forming a large depression during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing, and the smoothness of the plating surface is improved. It is possible to further suppress the occurrence of reduction and peeling of plating. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the Mn content in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.1 to 3.0%, and more preferably in the range of 0.1 to 1.0%.

Si:
Siは、主に第二相粒子(Si粒子やMg−Si系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のSi含有量が0.1%以上であることによって、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のSi含有量が0.4%以下であることによって、粗大な第二相粒子が多数生成することを抑制する。これにより、金属間化合物が多数生成することに起因する研削レート低下による生産コストの増大を一層抑制することができる。また、このような粗大な第二相粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のSi含有量は、0.1〜0.4%の範囲とするのが好ましく、0.1〜0.3%の範囲とするのがより好ましい。
Si:
Si is mainly present as second phase particles (Si particles, Mg-Si based intermetallic compounds, etc.), and exhibits the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate. When vibration is applied to such a material, the viscous energy at the interface between the second phase particles and the matrix causes the vibration energy to be absorbed rapidly, resulting in very good fluttering characteristics. When the Si content in the aluminum alloy is 0.1% or more, the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate can be further enhanced. In addition, when the Si content in the aluminum alloy is 0.4% or less, the formation of a large number of coarse second phase particles is suppressed. As a result, it is possible to further suppress an increase in production cost due to a reduction in the grinding rate caused by the formation of a large number of intermetallic compounds. In addition, such coarse second phase particles are prevented from falling off and forming a large depression during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing, thereby reducing the smoothness of the plating surface and peeling of plating. Can be further suppressed. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the Si content in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.1 to 0.4%, and more preferably in the range of 0.1 to 0.3%.

Mg:
Mgは、マトリックス中に固溶して、又は、第二相粒子(Mg−Si系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のMg含有量が0.1%以上であることによって、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のMg含有量が0.4%以下であることによって、粗大な第二相粒子が多数生成することを抑制する。これにより、金属間化合物が多数生成することに起因する研削レート低下による生産コストの増大を一層抑制することができる。また、このような粗大な第二相粒子がエッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のMg含有量は、0.1〜0.4%の範囲とするのが好ましく、0.1%以上0.3%以下の範囲とするのがより好ましい。
Mg:
Mg forms a solid solution in the matrix or exists as second phase particles (such as Mg-Si based intermetallic compounds), and exhibits the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate. When the Mg content in the aluminum alloy is 0.1% or more, the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate can be further enhanced. In addition, when the Mg content in the aluminum alloy is 0.4% or less, the formation of a large number of coarse second phase particles is suppressed. As a result, it is possible to further suppress an increase in production cost due to a reduction in the grinding rate caused by the formation of a large number of intermetallic compounds. In addition, such coarse second phase particles are prevented from falling off and generating a large depression during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing, and the surface of the plated surface is reduced in smoothness and plating peeling. The occurrence can be further suppressed. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the content of Mg in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.1 to 0.4%, and more preferably in the range of 0.1% to 0.3%.

Ni:
Niは、主として第二相粒子(Al−Ni系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のNi含有量が0.1%以上であることによって、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のNi含有量が3.0%以下であることによって、粗大なAl−Ni系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。これにより、金属間化合物が多数生成することに起因する研削レート低下による生産コストの増大を一層抑制することができる。また、このような粗大なAl−Ni系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のNi含有量は、0.1〜3.0%の範囲とするのが好ましく、0.1〜1.0%の範囲とするのがより好ましい。
Ni:
Ni is mainly present as second phase particles (Al--Ni-based intermetallic compound etc.) and exhibits an effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate. When vibration is applied to such a material, the viscous energy at the interface between the second phase particles and the matrix causes the vibration energy to be absorbed rapidly, resulting in very good fluttering characteristics. When the Ni content in the aluminum alloy is 0.1% or more, the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate can be further enhanced. In addition, when the Ni content in the aluminum alloy is 3.0% or less, the formation of a large number of coarse Al-Ni-based intermetallic compound particles is suppressed. As a result, it is possible to further suppress an increase in production cost due to a reduction in the grinding rate caused by the formation of a large number of intermetallic compounds. In addition, such coarse Al-Ni-based intermetallic compound particles are prevented from falling off and forming a large depression during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing, and the smoothness of the plating surface is improved. It is possible to further suppress the occurrence of reduction and peeling of plating. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the content of Ni in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.1 to 3.0%, and more preferably in the range of 0.1 to 1.0%.

Cu:
Cuは、主として第二相粒子(Al−Cu系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とヤング率を向上させる効果を発揮する。また、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させる。更に、ジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程のめっき工程での平滑性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のCu含有量が0.005%以上であることによって、アルミニウム合金基板のヤング率と強度を向上させる効果及び平滑生を向上させる効果とを一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のCu含有量が0.500%以下であることによって、粗大なAl−Cu系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。これにより、金属間化合物が多数生成することに起因する研削レート低下による生産コストの増大を一層抑制することができる。また、このような粗大なAl−Cu系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時において脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性を向上させる効果を一層高めることができ、また、めっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のCu含有量は、0.005〜0.500%の範囲とするのが好ましく、0.005〜0.300%の範囲とするのがより好ましい。
Cu:
Cu is mainly present as second phase particles (Al--Cu based intermetallic compounds etc.), and exhibits the effect of improving the strength and Young's modulus of the aluminum alloy substrate. In addition, the amount of Al dissolved during zincate treatment is reduced. Furthermore, the zincate film is uniformly, thinly and precisely attached, and the effect of improving the smoothness in the plating step of the next step is exhibited. When the Cu content in the aluminum alloy is 0.005% or more, the effect of improving the Young's modulus and the strength of the aluminum alloy substrate and the effect of improving the smoothness can be further enhanced. In addition, when the Cu content in the aluminum alloy is 0.500% or less, the formation of a large number of coarse Al-Cu-based intermetallic compound particles is suppressed. As a result, it is possible to further suppress an increase in production cost due to a reduction in the grinding rate caused by the formation of a large number of intermetallic compounds. In addition, such coarse Al-Cu based intermetallic compound particles are prevented from falling off and forming a large depression during etching, zincate treatment, cutting or grinding, and the smoothness of the plating surface It is possible to further enhance the effect of improving the corrosion resistance and to further suppress the occurrence of plating peeling. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the Cu content in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.005 to 0.500%, and more preferably in the range of 0.005 to 0.300%.

Cr:
Crは、主として第二相粒子(Al−Cr系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のCr含有量が0.01%以上であることによって、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のCr含有量が1.00%以下であることによって、粗大なAl−Cr系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。これにより、金属間化合物が多数生成することに起因する研削レート低下による生産コストの増大を一層抑制することができる。また、このような粗大なAl−Cr系金属間化合物粒子がエッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のCr含有量は、0.01〜1.00%の範囲とするのが好ましく、0.10〜0.50%の範囲とするのがより好ましい。
Cr:
Cr is mainly present as second phase particles (Al-Cr-based intermetallic compound etc.), and exhibits the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate. When the Cr content in the aluminum alloy is 0.01% or more, the effect of improving the strength and fluttering characteristics of the aluminum alloy substrate can be further enhanced. Further, when the Cr content in the aluminum alloy is 1.00% or less, the formation of a large number of coarse Al-Cr based intermetallic compound particles is suppressed. As a result, it is possible to further suppress an increase in production cost due to a reduction in the grinding rate caused by the formation of a large number of intermetallic compounds. In addition, such coarse Al-Cr based intermetallic compound particles are prevented from falling off and forming a large depression during etching, zincate processing, cutting processing or grinding processing, and the smoothness of the plated surface is lowered. And the occurrence of plating peeling can be further suppressed. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the Cr content in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.01 to 1.00%, and more preferably in the range of 0.10 to 0.50%.

Zn:
Znは、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程のめっき工程での平滑性及び密着性を向上させる効果を発揮する。また、他の添加元素と第二相粒子を形成し、ヤング率と強度を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のZn含有量が0.005%以上であることによって、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、めっきの平滑性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のZn含有量が1.000%以下であることによって、ジンケート皮膜が均一となりめっき表面の平滑性が低下することを一層抑制することができ、また、めっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のZn含有量は、0.005〜1.000%の範囲とするのが好ましく、0.100〜0.700の範囲とするのがより好ましい。
Zn:
Zn has the effect of reducing the amount of Al dissolved during zincate treatment, and causing the zincate coating to adhere uniformly, thinly and precisely, and improving the smoothness and adhesion in the plating step of the next step. In addition, it forms second phase particles with other additive elements and exhibits the effect of improving Young's modulus and strength. When the Zn content in the aluminum alloy is 0.005% or more, the Al dissolution amount at the time of zincate treatment is reduced, and the zincate film is uniformly, thinly and precisely attached to improve the plating smoothness. The effect can be further enhanced. In addition, when the Zn content in the aluminum alloy is 1.000% or less, it is possible to further suppress the zincate coating from becoming uniform and to reduce the smoothness of the plating surface, and to cause plating peeling. It can be further suppressed. Moreover, the workability fall in a rolling process can be suppressed further. Therefore, the Zn content in the aluminum alloy is preferably in the range of 0.005 to 1.000%, and more preferably in the range of 0.100 to 0.700.

Ti、B、V
Ti、B及びVは、鋳造時の凝固過程において、第二相粒子(TiBなどのホウ化物、或いは、AlTiやTi−V−B粒子等)を形成し、これらが結晶粒核となるため、結晶粒を微細化することが可能となる。その結果、めっき性が改善する。また、結晶粒が微細化することで、第二相粒子のサイズの不均一性を小さくし、アルミニウム合金基板中の強度とフラッタリング特性のバラツキを低減させる効果を発揮する。但し、Ti、B及びVの含有量の合計が0.005%未満では、上記の効果が得られない。一方、Ti、B及びVの含有量の合計が0.500%を超えてもその効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。そのため、Ti、B及びVを添加する場合のTi、B及びVの含有量の合計は、0.005〜0.500%の範囲とするのが好ましく、0.005〜0.100%の範囲とするのがより好ましい。なお、合計量とは、Ti、B及びVのいずれか1種のみを含有する場合にはこの1種の量であり、いずれか2種を含有する場合にはこれら2種の合計量であり、3種全てを含有する場合にはこれら3種の合計量である。
Ti, B, V
Ti, B and V form second phase particles (a boride such as TiB 2 or Al 3 Ti or Ti-V-B particles, etc.) in the solidification process at the time of casting, and these form crystal nuclei Therefore, it is possible to refine the crystal grains. As a result, the plating property is improved. In addition, as the crystal grains become finer, the nonuniformity of the size of the second phase particles is reduced, and the effect of reducing the variation in strength and fluttering characteristics in the aluminum alloy substrate is exhibited. However, if the total content of Ti, B and V is less than 0.005%, the above effect can not be obtained. On the other hand, even if the total content of Ti, B and V exceeds 0.500%, the effect is saturated and no further remarkable improvement effect can not be obtained. Therefore, the total content of Ti, B and V when adding Ti, B and V is preferably in the range of 0.005 to 0.500%, and in the range of 0.005 to 0.100%. It is more preferable to The total amount is the amount of one of Ti, B and V when it contains only one of them, and the total amount of these two when it contains two of them. When it contains all three types, it is a total amount of these three types.

その他の元素:
また、本発明に用いるアルミニウム合金の残部は、Al及び不可避的不純物からなる。ここで、不可避的不純物としてはGa、Snなどが挙げられ、各々が0.10%未満で、かつ合計で0.20%未満であれば、本発明で得られるアルミニウム合金基板としての特性を損なうことはない。
Other elements:
Moreover, the remainder of the aluminum alloy used in the present invention consists of Al and unavoidable impurities. Here, the unavoidable impurities include Ga, Sn, etc., and if each is less than 0.10% and the total is less than 0.20%, the characteristics as the aluminum alloy substrate obtained in the present invention are impaired. There is nothing to do.

2.Al−Zr系金属間化合物の分布状態
次に、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板における金属間化合物の分布状態について説明する。
2. Next, the distribution of intermetallic compounds in the aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to the present invention will be described.

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板では、金属組織において、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度を1個/mm以下に規定する。 In the aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to the present invention, the distribution density of the Al-Zr based intermetallic compound having the longest diameter of 1 μm or more in the metal structure is defined to 1 / mm 2 or less.

ここで、本発明で規定するAl−Zr系金属間化合物とは、電子線マイクロアナライザ(EPMA)のWDS分析によりアルミニウム(Al)とジルコニウム(Zr)を含有することが確認できる化合物をいう。また、本発明において最長径とは、電子線マイクロアナライザ(EPMA)の波長分散型X線分光器(WDS)による分析により得られるAl−Zr系金属間化合物の平面画像において、まず、輪郭線上における一点と輪郭線上の他の点との距離の最大値を計測し、次に、この最大値を輪郭線上における全ての点について計測し、最後に、これら全最大値のうちから選択される最も大きなものをいう。
→分布密度の測定方法?
Here, the Al-Zr-based intermetallic compound defined in the present invention refers to a compound which can be confirmed to contain aluminum (Al) and zirconium (Zr) by WDS analysis of an electron beam microanalyzer (EPMA). Further, in the present invention, the longest diameter means, first, in an outline of an Al-Zr-based intermetallic compound obtained by analysis with a wavelength dispersive X-ray spectrometer (WDS) of an electron beam microanalyzer (EPMA). The maximum value of the distance between one point and another point on the outline is measured, and then this maximum value is measured for all points on the outline, and finally, the largest value selected from among these all maximum values I say something.
→ How to measure distribution density?

本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板では、金属組織において、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度が1個/mm以下とすることで強度の向上が図られる。 In the aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to the present invention, the strength can be improved by setting the distribution density of the Al-Zr based intermetallic compound having the longest diameter of 1 μm or more in the metal structure to 1 piece / mm 2 or less. .

Al−Zr系金属間化合物については、微細な化合物であれば転位との相互作用により強度向上に寄与するが、最長径が1μm以上の粗大な化合物は、転位との相互作用が少なく強度向上にほとんど寄与しない。また、粗大な化合物が多数存在すると、Zr固溶量が少なくなり、強度向上が図れない。1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度が1個/mmを超える場合には、Zr固溶量が少なくなり強度が低下する。強度が低下すると、研削加工時やめっき処理後の研磨加工時等に基板が変形して、磁気ディスクとし不適である。そのため、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度を1個/mm以下に規定する。また、この分布密度は、0個/mmとするのが好ましい。 With regard to Al-Zr-based intermetallic compounds, if it is a fine compound, it contributes to the strength improvement by the interaction with the dislocation, but a coarse compound having a longest diameter of 1 μm or more does not have the interaction with the dislocation and improves the strength. It hardly contributes. In addition, when a large number of coarse compounds exist, the Zr solid solution amount decreases, and the strength can not be improved. When the distribution density of the Al-Zr-based intermetallic compound having the longest diameter of 1 μm or more exceeds 1 piece / mm 2 , the Zr solid solution amount decreases and the strength decreases. If the strength is lowered, the substrate is deformed at the time of grinding or at the time of polishing after plating and the like, which is unsuitable as a magnetic disk. Therefore, the distribution density of the Al-Zr based intermetallic compound having the longest diameter of 1 μm or more is defined to 1 / mm 2 or less. Moreover, it is preferable to make this distribution density into 0 piece / mm < 2 >.

3.フラッタリング特性
次にフラッタリング特性であるが、フラッタリング特性は、ハードディスクドライブのモーター特性によっても影響を受ける。本発明においては、フラッタリング特性は、空気中では、50nm以下であることが好ましく、30nm以下であることがより好ましい。50nm以下であれば一般的なHDD向けの使用に耐え得ると判断される。50nmを超える場合は、読み取り部であるヘッドの位置決め誤差が増加する。
3. Fluttering Characteristics Next, fluttering characteristics are also affected by motor characteristics of the hard disk drive. In the present invention, the fluttering property in air is preferably 50 nm or less, and more preferably 30 nm or less. If it is 50 nm or less, it is judged that it can withstand the use for general HDD. When it exceeds 50 nm, the positioning error of the head which is a reading unit increases.

また、フラッタリング特性は、ヘリウム中では、30nm以下であることが好ましく、20nm以下であることがより好ましい。30nm以下であれば一般的なHDD向けの使用に耐え得ると判断される。30nmを超える場合は、読み取り部であるヘッドの位置決め誤差が増加する。   In addition, the fluttering property is preferably 30 nm or less in helium, and more preferably 20 nm or less. If it is 30 nm or less, it is judged that it can withstand the use for general HDD. When it exceeds 30 nm, the positioning error of the head which is a reading unit increases.

ここで、使用するハードディスクドライブによって必要なフラッタリング特性が異なるため、このフラッタリング特性に対して、適宜、金属間化合物の分布状態を決定すれば良い。これらは、添加元素の含有量、ならびに、以下に述べる鋳造時の冷却速度を含めた鋳造方法、その後の熱処理と加工による熱履歴及び加工履歴、をそれぞれ適正に調整することによって得られる。   Here, since the required fluttering characteristics differ depending on the hard disk drive to be used, the distribution state of the intermetallic compound may be determined appropriately for the fluttering characteristics. These can be obtained by appropriately adjusting the content of the additive element, the casting method including the cooling rate at the time of casting described below, and the heat history and processing history of the subsequent heat treatment and processing.

本発明の実施態様においては、アルミニウム合金基板の厚さは、0.35mm以上であることが好ましい。アルミニウム合金基板の厚さが0.35mm未満であると、ハードディスクドライブの取り付け時などに発生する落下などによる加速力により基板が変形する虞がある。但し、耐力を更に増加することによって変形が抑制できればこの限りではない。なお、アルミニウム合金基板の厚さが1.30mmを超えると、フラッタリング特性は改善するがハードディスク内に搭載できるディスク枚数が減ってしまうため好適ではない。従って、アルミニウム合金基板の厚さは、0.35〜1.30mmとするのがより好ましく、0.50〜1.00mmとするのが更に好ましい。   In the embodiment of the present invention, the thickness of the aluminum alloy substrate is preferably 0.35 mm or more. If the thickness of the aluminum alloy substrate is less than 0.35 mm, the substrate may be deformed due to an acceleration force due to a drop or the like generated when attaching a hard disk drive. However, it is not this limitation if deformation can be suppressed by further increasing the proof stress. If the thickness of the aluminum alloy substrate exceeds 1.30 mm, although fluttering characteristics are improved, the number of disks that can be mounted in the hard disk decreases, which is not preferable. Therefore, the thickness of the aluminum alloy substrate is more preferably 0.35 to 1.30 mm, and still more preferably 0.50 to 1.00 mm.

なお、ハードディスク内にヘリウムを充填することで流体力を下げることができる。これは、ヘリウムのガス粘度が空気と比べるとその約1/8と小さいためである。ハードディスクの回転に伴うガスの流れによって発生するフラッタリングを、ガスの流体力を小さくすることによって低減するものである。   The fluid force can be reduced by filling the hard disk with helium. This is because the gas viscosity of helium is as small as about 1/8 that of air. The fluttering generated by the flow of gas accompanying the rotation of the hard disk is reduced by reducing the fluid force of the gas.

4.基板の耐力
次に、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の耐力について説明する。本発明に係るアルミニウム合金基板は、図1(a)、(b)に示すS108までのステップで作製されるが、その後のS111までのステップにおいて加熱処理される。このような加熱によって機械的強度が変化するが、最終的に得られる磁気ディスクとして必要な機械的強度を、大気中における270℃で3時間の加熱後の耐力として規定するものである。なお、以下において、ステップの番号は特に断らない限り図1の(a)と(b)の両方を指すものとする。
4. Next, the yield strength of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to the present invention will be described. The aluminum alloy substrate according to the present invention is manufactured in the steps up to S108 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), but is heat-treated in the subsequent steps up to S111. Such heating changes the mechanical strength, but the mechanical strength necessary for the finally obtained magnetic disk is defined as the resistance after heating at 270 ° C. in the atmosphere for 3 hours. In the following, the step numbers refer to both (a) and (b) of FIG. 1 unless otherwise specified.

本発明に係るアルミニウム合金基板では、大気中において270℃で3時間の加熱後の耐力が80MPa以上であることが好ましい。この場合には、磁気ディスク製造時の基板の変形をより一層抑制する効果が発揮される。アルミニウム合金基板の耐力が80MPa未満では、搬送時や取付け時等において外力が加わることで変形する虞がある。そのため、大気中における270℃で3時間の加熱後のアルミニウム合金基板の耐力が80MPa以上であるのが好ましく、90MPa以上であるのがより好ましく、100MPa以上が更に好ましい。   In the aluminum alloy substrate according to the present invention, the proof stress after heating at 270 ° C. for 3 hours in the atmosphere is preferably 80 MPa or more. In this case, the effect of further suppressing the deformation of the substrate at the time of manufacturing the magnetic disk is exhibited. When the proof stress of the aluminum alloy substrate is less than 80 MPa, there is a possibility that the aluminum alloy substrate may be deformed due to the application of an external force at the time of conveyance, attachment or the like. Therefore, the yield strength of the aluminum alloy substrate after heating at 270 ° C. in the atmosphere for 3 hours is preferably 80 MPa or more, more preferably 90 MPa or more, and still more preferably 100 MPa or more.

上記耐力を示す加熱温度を270℃としたのは、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の作製(図1のステップS108)から磁性体の付着(図1のステップS111)までの工程において実施される加熱処理では、その温度が最高でも270℃程度のため、270℃で加熱した際における耐力として規定するものである。なお、上記耐力の上限は特に限定されるものではないが、合金組成や製造条件によって自ずと決まるものであり、本発明においては、300MPa程度である。   The heating temperature indicating the proof stress is set to 270 ° C. because the heat treatment is performed in the steps from the preparation of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk (step S108 in FIG. 1) to the adhesion of the magnetic body (step S111 in FIG. 1). Then, since the temperature is at most about 270 ° C., it is specified as a proof stress when heated at 270 ° C. The upper limit of the proof stress is not particularly limited, but is naturally determined by the alloy composition and manufacturing conditions, and is about 300 MPa in the present invention.

B.磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法
以下に、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造工程の各工程及びプロセス条件を詳細に説明する。
B. Method of Manufacturing Aluminum Alloy Substrate for Magnetic Disk Hereinafter, each process and process condition of the manufacturing process of the aluminum alloy substrate for magnetic disk according to the present invention will be described in detail.

アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの製造方法を、図1のフローに従って説明する。ここで、(a)のアルミニウム合金溶湯の溶製(ステップS101)〜冷間圧延(ステップS105)、ならびに、(b)のアルミニウム合金溶湯の溶製(ステップS101)、アルミニウム合金の連続鋳造(ステップS102)及び冷間圧延(ステップS105)は、アルミニウム合金板を製造する工程であり、ディスクブランクの作製(ステップS106)〜磁性体の付着(ステップS111)は、製造されたアルミニウム合金板を磁気ディスクとする工程である。いずれのステップもAl−Zr系金属間化合物の分布状態に影響を与えるが、本発明者らは、(a)におけるステップS102の半連続鋳造工程、ならびに、(b)におけるステップS102の連続鋳造工程における保持時間と温度に特に注目した。   A method of manufacturing a magnetic disk using an aluminum alloy substrate will be described according to the flow of FIG. Here, (a) melting of aluminum alloy melt (step S101) to cold rolling (step S105), and (b) melting of aluminum alloy melt (step S101), continuous casting of aluminum alloy (step S101) S102) and cold rolling (step S105) are steps for producing an aluminum alloy plate, and the production of a disk blank (step S106) to the attachment of a magnetic body (step S111) are performed on the produced aluminum alloy plate as a magnetic disk It is a process to Although any of the steps affects the distribution of the Al-Zr based intermetallic compound, the present inventors have found that the semi-continuous casting process of step S102 in (a) and the continuous casting process of step S102 in (b) Particular attention was paid to the retention time and temperature in

最初に、アルミニウム合金板を製造する工程について説明する。まず、上述の成分組成を有するアルミニウム合金素材の溶湯を、常法に従って加熱・溶融によって溶製する(ステップS101)。次に、溶製されたアルミニウム合金素材の溶湯から半連続鋳造(DC鋳造)法又は連続鋳造(CC鋳造)法によりアルミニウム合金を鋳造する(ステップS102)。ここで、DC鋳造法とCC鋳造法は、以下の通りである。   First, the process of manufacturing an aluminum alloy sheet will be described. First, a molten metal of an aluminum alloy material having the above-described component composition is melted and produced by heating and melting according to a conventional method (step S101). Next, an aluminum alloy is cast from the molten aluminum alloy material by a semi-continuous casting (DC casting) method or a continuous casting (CC casting) method (step S102). Here, the DC casting method and the CC casting method are as follows.

DC鋳造法においては、スパウトを通して注がれた溶湯が、ボトムブロックと、水冷されたモールドの壁、ならびに、インゴット(鋳塊)の外周部に直接吐出される冷却水で熱を奪われ、凝固し、鋳塊として下方に引き出される。   In the DC casting method, the molten metal poured through the spout is deprived of heat by the bottom block, the wall of the water-cooled mold, and the cooling water discharged directly to the outer peripheral portion of the ingot (ingot), thereby solidifying. And drawn downward as an ingot.

CC鋳造法では、一対のロール(又は、ベルトキャスタ、ブロックキャスタ)の間に鋳造ノズルを通して溶湯を供給し、ロールからの抜熱で薄板を直接鋳造する。   In the CC casting method, molten metal is supplied through a casting nozzle between a pair of rolls (or belt casters, block casters), and thin sheets are directly cast by heat removal from the rolls.

DC鋳造法とCC鋳造法の大きな相違点は、鋳造時の冷却速度にある。冷却速度が大きいCC鋳造法では、第二相粒子のサイズがDC鋳造に比べ小さいのが特徴である。   The major difference between the DC casting method and the CC casting method is the cooling rate at the time of casting. The CC casting method, which has a high cooling rate, is characterized in that the size of the second phase particles is smaller than that of DC casting.

本発明では、鋳造工程において、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を5分以下とすることを特徴とする。Al−Zr系金属間化合物は、660〜680℃の温度範囲で生成し易く、長時間保持した場合は粗大化する。そのため、粗大なAl−Zr系金属間化合物の生成を抑制するには、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を短くすることが有効で、鋳造工程の開始から終了までにおいて、溶湯が上記温度範囲にある時間が5分以下になるように温度管理を行い制御している。これによって、粗大なAl−Zr系金属間化合物の生成を抑制することが出来る。溶湯温度が660℃未満では、原料が完全に溶解しないため、磁気ディスクとして不適である。従って、溶湯温度は660〜680℃の温度範囲とする必要がある。また、溶湯温度が660〜680℃の場合において、保持温度が5分を超えると粗大なAl−Zr系金属間化合物が生成し易くなる。その結果、Zr固溶量が少なくなり強度が低下する。強度が低下すると、研削加工時やめっき処理後の研磨加工時等に基板が変形し、磁気ディスクとし不適である。従って、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を5分以下に規定する。660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間は、好ましくは3分以下である。下限は特に限定されるものではないが、本発明においては、1分程度である。   In the present invention, in the casting step, the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. is set to 5 minutes or less. Al-Zr-based intermetallic compounds are easily formed in a temperature range of 660 to 680 ° C., and coarsened when held for a long time. Therefore, in order to suppress the formation of coarse Al-Zr based intermetallic compounds, it is effective to shorten the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C, and the molten metal is effective from the start to the end of the casting process. Temperature control is performed and controlled so that the time in the above temperature range is 5 minutes or less. This can suppress the formation of coarse Al-Zr based intermetallic compounds. If the temperature of the molten metal is less than 660 ° C., the raw material is not completely melted, which is unsuitable as a magnetic disk. Therefore, the molten metal temperature needs to be in the temperature range of 660 to 680 ° C. Moreover, in the case where the temperature of the molten metal is 660 to 680 ° C., when the holding temperature exceeds 5 minutes, coarse Al-Zr based intermetallic compounds are easily generated. As a result, the solid solution amount of Zr decreases and the strength decreases. If the strength is lowered, the substrate is deformed at the time of grinding or at the time of polishing after plating and the like, which is unsuitable as a magnetic disk. Therefore, the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. is specified to be 5 minutes or less. The molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. is preferably 3 minutes or less. The lower limit is not particularly limited, but in the present invention, it is about 1 minute.

図1(a)に示すように、DC鋳造されたアルミニウム合金鋳塊については、必要に応じて均質化処理を実施する(ステップS103)。均質化処理を行う場合は、280〜620℃で0.5〜60時間の加熱処理を行うことが好ましく、300〜620℃で1〜24時間の加熱処理を行うことがより好ましい。均質化処理時の加熱温度が280℃未満又は加熱時間が0.5時間未満の場合は、均質化処理が不十分で、アルミニウム合金基板毎の減衰比のバラツキが大きくなり、フラッタリング特性のバラつきも大きくなる虞がある。均質化処理時の加熱温度が620℃を超えると、アルミニウム合金鋳塊に溶融が発生する虞がある。均質化処理時の加熱時間が60時間を超えてもその効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。   As shown in FIG. 1 (a), a homogenization process is carried out on the DC-cast aluminum alloy ingot as required (step S103). When performing a homogenization process, it is preferable to perform the heat processing at 280-620 degreeC for 0.5 to 60 hours, and it is more preferable to perform the heat processing at 300-620 degreeC for 1 to 24 hours. When the heating temperature during homogenization is less than 280 ° C. or the heating time is less than 0.5 hours, the homogenization is insufficient, and the variation in attenuation ratio among the aluminum alloy substrates becomes large, and the fluttering characteristics vary. There is also a risk that If the heating temperature at the time of the homogenization treatment exceeds 620 ° C., melting may occur in the aluminum alloy ingot. Even if the heating time at the time of homogenization treatment exceeds 60 hours, the effect is saturated and no further remarkable improvement effect can be obtained.

次に、DC鋳造されたアルミニウム合金鋳塊では、必要に応じて均質化処理を施した、或いは、均質化処理を施していない鋳塊を、熱間圧延工程によって板材とする(図1(a)のステップS104)。熱間圧延するに当たっては、特にその条件は特に限定されるものではないが、熱間圧延開始温度を好ましくは250〜600℃とし、熱間圧延終了温度を好ましくは230〜450℃とする。   Next, in the case of DC cast aluminum alloy ingots, ingots which have been subjected to homogenization treatment or non-homogenization treatment as required are made into sheet materials by a hot rolling process (FIG. 1 (a Step S104)). The conditions for hot rolling are not particularly limited, but the hot rolling start temperature is preferably 250 to 600 ° C., and the hot rolling finish temperature is preferably 230 to 450 ° C.

次に、上記のようにDC鋳造で鋳造した鋳塊を熱間圧延した圧延板、又は、CC鋳造法で鋳造した鋳造板を、冷間圧延によって1.3mmから0.35mm程度のアルミニウム合金板とする(ステップS105)。冷間圧延によって、所要の製品板厚に仕上げる。冷間圧延の条件は特に限定されるものではなく、必要な製品板強度や板厚に応じて定めれば良く、圧延率を10〜95%とするのが好ましい。冷間圧延の前、或いは、冷間圧延の途中において、冷間圧延加工性を確保するために焼鈍処理を施してもよい。焼鈍処理を実施する場合には、例えばバッチ式の加熱ならば、300〜500℃で0.1〜30時間の条件で行うことが好ましく、連続式の加熱ならば、400〜600℃で0〜60秒間保持の条件で行うことが好ましい。ここで、保持時間が0秒とは、所望の保持温度に到達後直ちに冷却することを意味する。   Next, a rolled sheet obtained by hot rolling an ingot cast by DC casting as described above, or a cast sheet cast by CC casting method is cold rolled to an aluminum alloy sheet of about 1.3 mm to 0.35 mm (Step S105). Finish the required product thickness by cold rolling. The conditions for cold rolling are not particularly limited, and may be determined according to the required product plate strength and plate thickness, and it is preferable to set the rolling reduction to 10 to 95%. Before cold rolling or in the middle of cold rolling, annealing may be performed to secure cold rolling workability. In the case of carrying out the annealing treatment, for example, in the case of batch type heating, it is preferable to carry out under conditions of 300 to 500 ° C. for 0.1 to 30 hours, and in the case of continuous type heating, 0 to 400 ° C. to 600 ° C. It is preferable to carry out under the condition of holding for 60 seconds. Here, the holding time of 0 seconds means cooling immediately after reaching the desired holding temperature.

次に、上述のようにして製造されたアルミニウム合金板を磁気ディスクに製造する工程について説明する。アルミニウム合金板を磁気ディスク用として加工するには、アルミニウム合金板を円環状に打ち抜き、ディスクブランクを作製する(ステップS106)。次に、ディスクブランクを大気中にて、例えば100〜380℃で30分以上の加圧焼鈍を行い平坦化したブランクを作製する(ステップS107)。次に、ブランクに切削加工、研削加工、ならびに、好ましくは、250〜400℃の温度で5〜15分の歪取り加熱処理をこの順序で施して、アルミニウム合金基板を作製する(ステップS108)。次に、アルミニウム合金基板表面に脱脂、酸エッチング処理、デスマット処理を施した後に、ジンケート処理(Zn置換処理)を施す(ステップS109)。   Next, a process of manufacturing the aluminum alloy plate manufactured as described above into a magnetic disk will be described. In order to process the aluminum alloy plate for a magnetic disk, the aluminum alloy plate is punched into an annular shape, and a disk blank is manufactured (step S106). Next, the disk blank is subjected to pressure annealing at, for example, 100 to 380 ° C. for 30 minutes or more in the atmosphere to prepare a flattened blank (step S107). Next, the blank is subjected to cutting, grinding, and preferably heat treatment for strain removal at a temperature of 250 to 400 ° C. for 5 to 15 minutes in this order to produce an aluminum alloy substrate (step S108). Next, after the surface of the aluminum alloy substrate is subjected to degreasing, acid etching, and desmutting, zincate (Zn substitution) is performed (step S109).

脱脂処理段階は市販のAD−68F(上村工業製)脱脂液等を用い、温度40〜70℃、処理時間3〜10分、濃度200〜800mL/Lの条件で脱脂を行うことが好ましい。酸エッチング処理段階は、市販のAD−107F(上村工業製)エッチング液等を用い、温度50〜75℃、処理時間0.5〜5分、濃度20〜100mL/Lの条件で酸エッチングを行うことが好ましい。酸エッチング処理の後、化合物除去工程が既に適用された場合では、通常のデスマット処理として、HNOを用い、温度15〜40℃、処理時間10〜120秒、濃度:10〜60%の条件でデスマット処理を行うことが好ましい。化合物除去工程が適用されていない場合には、デスマット処理に代えて、又は、これに加えて上述の化合物除去処理を実施しても良い。 In the degreasing step, it is preferable to carry out degreasing under the conditions of a temperature of 40 to 70 ° C., a treatment time of 3 to 10 minutes, and a concentration of 200 to 800 mL / L using a commercially available AD-68F (manufactured by Kamimura Kogyo) degreasing solution or the like. In the acid etching process step, acid etching is performed at a temperature of 50 to 75 ° C., a treatment time of 0.5 to 5 minutes, and a concentration of 20 to 100 mL / L using a commercially available AD-107F (made by Kamimura Kogyo) etching solution or the like. Is preferred. In the case where the compound removal step has already been applied after the acid etching treatment, HNO 3 is used as a normal desmutting treatment at a temperature of 15 to 40 ° C., a treatment time of 10 to 120 seconds, and a concentration of 10 to 60%. Desmutting is preferably performed. When the compound removal step is not applied, the above-mentioned compound removal treatment may be performed instead of or in addition to the desmutting treatment.

1stジンケート処理段階は市販のAD−301F−3X(上村工業製)のジンケート処理液等を用い、温度10〜35℃、処理時間0.1〜5分、濃度100〜500mL/Lの条件で行うことが好ましい。1stジンケート処理段階の後、HNOを用い、温度15〜40℃、処理時間10〜120秒、濃度:10〜60%の条件でZn剥離処理を行うことが好ましい。その後、1stジンケート処理と同じ条件で2ndジンケート処理段階を実施する。 The 1st zincate treatment step is carried out under conditions of a temperature of 10 to 35 ° C., a treatment time of 0.1 to 5 minutes, and a concentration of 100 to 500 mL / L using a zincate treatment solution of AD-301F-3X (made by Kamimura Kogyo) commercially available. Is preferred. After the 1st zincate treatment step, it is preferable to perform Zn peeling treatment using HNO 3 under conditions of a temperature of 15 to 40 ° C., a treatment time of 10 to 120 seconds, and a concentration of 10 to 60%. Thereafter, the 2nd zincate treatment step is carried out under the same conditions as the 1st zincate treatment.

2ndジンケート処理したアルミニウム合金基材表面に、下地めっき処理として無電解でのNi−Pめっき処理工程が施される(図1(a)、(b)のS110)。無電解でのNi−Pめっき処理は、市販のニムデンHDX(上村工業製)めっき液等を用い、温度80〜95℃、処理時間30〜180分、Ni濃度3〜10g/Lの条件でめっき処理を行うことが好ましい。このような無電解でのNi−Pめっき処理工程によって、下地めっき処理した磁気ディスク用のアルミニウム合金基盤が得られる。   An electroless Ni-P plating process step is performed as a base plating process on the surface of the 2nd zincate-treated aluminum alloy substrate (S110 in FIGS. 1A and 1B). Electroless Ni-P plating treatment is carried out using a commercially available Nimden HDX (made by Uemura Kogyo) plating solution, etc., under conditions of temperature 80-95 ° C., treatment time 30-180 minutes, Ni concentration 3-10 g / L It is preferred to carry out the treatment. By such an electroless Ni-P plating process, an aluminum alloy substrate for a base plated magnetic disk can be obtained.

C.磁気ディスク
最後に、下地めっき処理した磁気ディスク用のアルミニウム合金基盤の表面を研磨により平滑し、表面に下地層、磁性層、保護膜及び潤滑層等からなる磁性媒体をスパッタリングにより付着させ磁気ディスクとする(ステップS111)。
C. Magnetic disk Finally, the surface of the aluminum alloy base for the base plating treated magnetic disk is smoothed by polishing, and a magnetic medium consisting of a base layer, a magnetic layer, a protective film, a lubricating layer, etc. is attached to the surface by sputtering. (Step S111).

なお、アルミニウム合金板(S105)とした後は、冷間圧延のように組織が変化する工程はないため、化合物の分布や成分が変化することはない。従って、アルミニウム合金基板(S108)の代わりに、アルミニウム合金板(S105)やディスクブランク(ステップS106)、アルミニウム合金基盤(ステップS110)、磁気ディスク(ステップS111)を用いて化合物の分布や成分等の評価を行ってもよい。   In addition, after setting it as an aluminum alloy plate (S105), since there is no process which a structure | tissue changes like cold rolling, distribution and a component of a compound do not change. Therefore, instead of the aluminum alloy substrate (S108), an aluminum alloy plate (S105), a disk blank (step S106), an aluminum alloy substrate (step S110), a magnetic disk (step S111), etc. You may make an evaluation.

以下に、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The present invention will be described in more detail based on examples given below, but the invention is not meant to be limited by these.

磁気ディスク用アルミニウム合金基板の実施例について説明する。表1〜3に示す成分組成の各合金素材を常法に従って溶解し、アルミニウム合金溶湯を溶製した(ステップS101)。表1〜3中「−」は、測定限界値未満を示す。   An embodiment of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk will be described. Each alloy raw material of the component composition shown to Tables 1-3 was fuse | melted according to a conventional method, and the aluminum alloy molten metal was melted (step S101). "-" In Tables 1-3 shows less than a measurement limit value.

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次に、表4〜6の条件でNo.A40〜42及びAC14以外は、アルミニウム合金溶湯をDC法により鋳造し、厚さ230mmの鋳塊を作製してその両面を15mm面削した(図1(a)のステップS102)。No.A40〜42及びAC14は、アルミニウム合金溶湯をCC法により鋳造し、厚さ8mmの鋳造板を作製した(図1(b)のステップS102)。次に、No.A3〜5とA40〜42及びAC14以外は、380℃で2時間の均質化熱処理を施した(図1(a)のステップS103)。次に、A40〜42及びAC14以外は、熱間圧延開始温度380℃とし、熱間圧延終了温度を300℃とする熱間圧延を行ない、熱間圧延板とした(図1(a)のステップS104)。   Next, under the conditions of Tables 4 to 6, No. Except for A40 to 42 and AC14, a molten aluminum alloy was cast by a DC method, an ingot with a thickness of 230 mm was produced, and both faces were surface-cut by 15 mm (step S102 in FIG. 1A). No. A40-42 and AC14 cast the aluminum alloy molten metal by CC method, and produced the cast plate of thickness 8 mm (step S102 of FIG.1 (b)). Next, No. Except A3-5, A40-42, and AC14, the homogenization heat processing for 2 hours was performed at 380 degreeC (step S103 of Fig.1 (a)). Next, except for A40 to 42 and AC14, hot rolling was performed at a hot rolling start temperature of 380 ° C. and a hot rolling finish temperature of 300 ° C. to obtain a hot-rolled sheet (step of FIG. 1A) S104).

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No.A1、A3の合金については熱間圧延後に、A40の合金についてはCC鋳造後に、360℃で2時間の条件で焼鈍(バッチ式)処理を施した。以上のようにして作製したA1〜A39、A43〜A48、AC1〜AC13、AC15及びAC16の熱間圧延板、ならびに、A40〜A42及びAC14のCC鋳造板は、冷間圧延により最終板厚の0.8mmまで圧延し、アルミニウム合金板とした(ステップS105)。このアルミニウム合金板から外径96mm、内径24mmの円環状のものを打抜き、ディスクブランクを作製した(ステップS106)。   No. After hot rolling for the alloys A1 and A3, and after CC casting for the alloy A40, annealing (batch processing) was performed at 360 ° C. for 2 hours. The hot-rolled sheets of A1 to A39, A43 to A48, AC1 to AC13, AC15 and AC16, and CC cast sheets of A40 to A42 and AC14 prepared as described above have a final thickness of 0 by cold rolling. It rolled to .8 mm and was set as the aluminum alloy board (Step S105). An annular member having an outer diameter of 96 mm and an inner diameter of 24 mm was punched out of the aluminum alloy sheet to prepare a disk blank (step S106).

このようにして作製したディスクブランクに、0.5MPaの圧力下において270℃で3時間の加圧平坦化処理を施した(ステップS107)。次いで、加圧平坦化処理したディスクブランクに端面加工を行い外径95mm、内径25mmとし、グラインディング加工(表面50μm研削)を行ってアルミニウム合金基板を作製した(ステップS108)。その後、AD−68F(商品名、上村工業製)により60℃で5分の脱脂を行った後、AD−107F(商品名、上村工業製)により65℃で1分の酸エッチングを行い、さらに30%HNO水溶液(室温)で20秒間デスマットした(ステップS109)。 The disk blank thus produced was subjected to pressure flattening treatment at 270 ° C. for 3 hours under a pressure of 0.5 MPa (step S107). Next, end face processing was performed on the pressure-flattened disk blank to make the outer diameter 95 mm and the inner diameter 25 mm, and grinding (surface 50 μm grinding) was performed to produce an aluminum alloy substrate (step S108). After degreasing at 60 ° C. for 5 minutes with AD-68F (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo), acid etching is then performed at 65 ° C. for 1 minute by AD-107F (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo), and further It was desmutted with a 30% aqueous HNO 3 solution (room temperature) for 20 seconds (step S109).

このようにして表面状態を整えた後に、ディスクブランクをAD−301F−3X(商品名、上村工業製)の20℃のジンケート処理液に0.5分間浸漬して表面にジンケート処理を施した(ステップS109)。なお、ジンケート処理は合計2回行い、ジンケート処理の間に室温の30%HNO水溶液に20秒間浸漬して表面を剥離処理した。ジンケート処理した表面に無電解Ni−Pめっき処理液(ニムデンHDX(商品名、上村工業製))を用いてNi−Pを11.5μm厚さに無電解めっきした後、羽布により仕上げ研磨(研磨量1.5μm))を行って磁気ディスク基板ディスク用のアルミニウム合金基盤とした(ステップS110)。 After adjusting the surface condition in this manner, the disk blank was dipped in an AD-301F-3X (trade name, manufactured by Kamimura Kogyo Co., Ltd.) zincate treatment solution at 20 ° C. for 0.5 minutes to subject the surface to zincate treatment ( Step S109). The zincate treatment was performed twice in total, and the surface was peeled off by being immersed in a 30% aqueous solution of HNO 3 at room temperature for 20 seconds during the zincate treatment. After electroless plating Ni-P to 11.5μm thickness using electroless Ni-P plating solution (Nimden HDX (trade name, manufactured by Uemura Kogyo)) on the zincate-treated surface, finish polishing with feather cloth ( The polishing amount is 1.5 μm)) to form an aluminum alloy substrate for a magnetic disk substrate disk (step S110).

冷間圧延(ステップS105)後のアルミニウム合金板、加圧平坦化処理(ステップS107)工程後のディスクブランク、研削加工(ステップS108)工程後のアルミニウム合金基板、ならびに、めっき処理研磨(ステップS110)工程後のアルミニウム合金基盤について以下の評価を行った。なお、各試料については、3枚のディスクをめっき処理まで実施しているが、比較例4〜12のディスクでは、3枚全てでめっき剥離が生じていたため、これら比較例ではディスク・フラッタの測定を行うことが出来なかった。   Aluminum alloy plate after cold rolling (step S105), disk blank after pressure flattening process (step S107) process, aluminum alloy substrate after grinding process (step S108) process, and plating process polishing (step S110) The following evaluation was performed on the aluminum alloy base after the process. In addition, although the plating process was implemented to three discs about each sample, in the disc of Comparative Examples 4-12, since plating peeling had arisen by all three sheets, measurement of disc flutter was carried out in these comparative examples. Could not do.

〔1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度〕
研削加工(ステップS108)後のアルミニウム合金基板表面を10μm研磨し、SEMにより、倍率1000倍にて撮影すると同時に化合物の成分分析を行い、最長径が1μm以上のAl−Zr系金属間化合物の分布密度を算出した。なお、撮影は、合計が1.0mmとなる複数の撮影視野について行ない、各視野における個数を合計して分布密度とした。
[Distributed density of Al-Zr based intermetallic compound having longest diameter of 1 μm or more]
The surface of the aluminum alloy substrate after grinding (step S108) is polished by 10 μm, and the compound is analyzed at the same time by SEM with a magnification of 1000 times, and the distribution of Al-Zr based intermetallic compounds having a longest diameter of 1 μm or more The density was calculated. Incidentally, shooting, total performed for a plurality of the field of view as a 1.0 mm 2, and the distribution density by summing the number in each field.

〔ディスク・フラッタの測定〕
めっき処理研磨(ステップS110)工程後のアルミニウム合金基盤を用いディスク・フラッタの測定を行った。ディスク・フラッタの測定は、市販のハードディスクドライブに空気の存在下、アルミニウム合金基盤を設置して測定を行った。ドライブはSeagate製ST2000(商品名)を用いて、モーター駆動はテクノアライブ製SLD102(商品名)をモーターに直結することにより駆動させた。回転数は7200rpmとし、ディスクは常に複数枚設置してその上部の磁気ディスクの表面にレーザードップラー計である小野測器製LV1800(商品名)によって表面の振動を観察した。観察した振動は、小野測器製FFT解析装置DS3200(商品名)によってスペクトル分析した。観察はハードディスクドライブの蓋に孔を開けることにより、その穴からディスク表面を観察して行った。また、市販のハードディスクに設置されていたスクイーズプレートは外して評価を行った。
[Measurement of disk flutter]
Disk flutter was measured using the aluminum alloy substrate after the plating treatment and polishing (step S110) step. Disk flutter was measured by installing an aluminum alloy base in the presence of air on a commercially available hard disk drive. The drive was driven by using Seagate ST2000 (trade name), and the motor was driven by directly connecting Techno Alive SLD 102 (trade name) to the motor. The rotational speed was 7200 rpm, and a plurality of disks were always installed, and the vibration of the surface was observed on the surface of the upper magnetic disk by Ono Sokki LV1800 (trade name) which is a laser Doppler meter. The observed vibration was spectrally analyzed by Ono Sokki FFT analyzer DS3200 (trade name). The observation was made by observing the disk surface from the hole by making a hole in the lid of the hard disk drive. Moreover, the squeeze plate installed in the commercially available hard disk was removed for evaluation.

フラッタリング特性の評価は、フラッタリングが現れる300〜1500Hzの付近のブロードなピークの最大変位(ディスクフラッタリング(nm))によって行った。このブロードなピークはNRRO(Non−Repeatable Run Out)と呼ばれ、ヘッドの位置決め誤差に対して大きな影響があることがわかっている。フラッタリング特性の評価は、空気中にて、30nm以下の場合をA(優)、30nmを超えて40nm以下をB(良)、40nmを超えて50nm以下をC(可)、50nmより大きい場合はD(劣)とした。   The fluttering characteristics were evaluated by the maximum displacement of the broad peak (disk fluttering (nm)) around 300 to 1500 Hz where the fluttering appeared. This broad peak is called NRRO (Non-Repeatable Run Out) and has been found to have a significant effect on head positioning error. Evaluation of fluttering characteristics is as follows: in the air, if A is 30 nm or less, A (excellent), more than 30 nm to 40 nm or less B (good), greater than 40 nm to 50 nm or less C (acceptable), larger than 50 nm Was D (less).

〔耐力〕
耐力は、JISZ2241に準拠し、冷間圧延(ステップS105)後のアルミニウム合金板を280℃で3時間の焼鈍(加圧焼鈍模擬加熱)を行った後、270℃で3時間の大気中加熱を行い、圧延方向に沿ってJIS5号試験片を採取してn=2にて測定した。強度の評価は、耐力が100MPa以上の場合をA(優)、90MPa以上100MPa未満をB(良)、80MPa以上90MPa未満をC(可)、80MPa未満はD(劣)とした。
[Force resistance]
With regard to the proof stress, according to JIS Z 2241, after annealing (pressure annealing simulation heating) for 3 hours at 280 ° C., the aluminum alloy plate after cold rolling (step S105) is heated in the atmosphere for 3 hours at 270 ° C. Conducted, JIS No. 5 test pieces were collected along the rolling direction and measured at n = 2. As for evaluation of strength, when the yield strength is 100 MPa or more, A (excellent), 90 MPa or more and less than 100 MPa is B (good), 80 MPa or more and less than 90 MPa is C (good), and less than 80 MPa is D (poor).

なお、研削加工後のアルミニウム合金基板や磁気ディスクのめっきを剥離し、表面を10μm研削した基板から試験片を採取し、270℃で3時間の大気中加熱を行い、耐力を評価することも可能である。その際の試験片の寸法は、平行部の幅5±0.14mm、試験片の原標点距離10mm、肩部の半径2.5mm、平行部長さ15mmとする。   It is also possible to peel off the plating of the aluminum alloy substrate or magnetic disk after grinding processing, extract a test piece from the substrate whose surface is ground by 10 μm, heat it in the air at 270 ° C for 3 hours, and evaluate the proof stress. It is. The dimensions of the test piece at this time are: width of the parallel part 5 ± 0.14 mm, original standard distance of the test piece 10 mm, radius of the shoulder 2.5 mm, and length of the parallel part 15 mm.

以上の評価結果を、表7〜9に示す。   The above evaluation results are shown in Tables 7-9.

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表7、8に示すように、実施例1〜48では金属間化合物の分布密度が本発明で規定する範囲を満たし、良好なフラッタリング特性及び強度を得ることが出来た。   As shown in Tables 7 and 8, in Examples 1 to 48, the distribution density of the intermetallic compound satisfied the range specified in the present invention, and it was possible to obtain good fluttering characteristics and strength.

これに対して、比較例1では、アルミニウム合金のFe含有量が少な過ぎたために、フラッタリング特性と強度が劣った。   On the other hand, in Comparative Example 1, the fluttering characteristics and the strength were inferior because the Fe content of the aluminum alloy was too low.

比較例2では、アルミニウム合金のZrが含有されていないために、強度が劣った。   In Comparative Example 2, the strength was inferior because Zr of the aluminum alloy was not contained.

比較例3では、アルミニウム合金のFe含有量が少な過ぎ、Zrが含有されていないために、フラッタリング特性と強度が劣った。   In Comparative Example 3, since the Fe content of the aluminum alloy was too low and Zr was not contained, the fluttering characteristics and the strength were inferior.

比較例4では、アルミニウム合金のFe含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 4, since the Fe content of the aluminum alloy was too large, plating peeling occurred as described above, and the fluttering characteristics could not be evaluated, so that it was unsuitable as a magnetic disk.

比較例5では、アルミニウム合金のZr含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。また、Al−Zr系金属間化合物の分布密度も多過ぎた。   In Comparative Example 5, since the Zr content of the aluminum alloy was too large, the plating peeling occurred as described above, the fluttering characteristics could not be evaluated, and the magnetic disk was unsuitable as a magnetic disk. In addition, the distribution density of the Al-Zr based intermetallic compound was too large.

比較例6では、アルミニウム合金のMn含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 6, since the Mn content of the aluminum alloy was too large, plating peeling occurred as described above, and the fluttering characteristics could not be evaluated, so that it was not suitable as a magnetic disk.

比較例7では、アルミニウム合金のSi含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 7, the plating peeling occurred as described above because the Si content of the aluminum alloy was too large, and the fluttering characteristics could not be evaluated, which was unsuitable as a magnetic disk.

比較例8では、アルミニウム合金のNi含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 8, since the aluminum content of the aluminum alloy was too large, plating peeling occurred as described above, and the fluttering characteristics could not be evaluated, which was unsuitable as a magnetic disk.

比較例9では、アルミニウム合金のCu含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 9, since the Cu content of the aluminum alloy was too large, plating peeling occurred as described above, and the fluttering characteristics could not be evaluated, so that it was not suitable as a magnetic disk.

比較例10では、アルミニウム合金のMg含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 10, the plating peeling occurred as described above because the Mg content of the aluminum alloy was too large, and the fluttering characteristics could not be evaluated, which was unsuitable as a magnetic disk.

比較例11では、アルミニウム合金のCr含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 11, the plating peeling occurred as described above because the Cr content of the aluminum alloy was too large, and the fluttering characteristics could not be evaluated, which was unsuitable as a magnetic disk.

比較例12では、アルミニウム合金のZn含有量が多過ぎたために先述の通りめっき剥離が生じ、フラッタリング特性が評価できず磁気ディスクとして不適であった。   In Comparative Example 12, the plating peeling occurred as described above because the Zn content of the aluminum alloy was too large, and the fluttering characteristics could not be evaluated, which was unsuitable as a magnetic disk.

比較例13〜16では、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間が長過ぎたため、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物が多数生成し、強度が劣った。   In Comparative Examples 13 to 16, since the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. was too long, many Al-Zr based intermetallic compounds having the longest diameter of 1 μm or more were generated, and the strength was inferior.

本発明により、良好なフラッタリング特性と強度を有する磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、これを用いた磁気ディスクが得られる。   According to the present invention, an aluminum alloy substrate for a magnetic disk having good fluttering characteristics and strength, a method of manufacturing the same, and a magnetic disk using the same can be obtained.

Claims (11)

Fe:0.05〜3.00mass%、Zr:0.01〜0.50mass%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなるアルミニウム合金からなり、1μm以上の最長径を有するAl−Zr系金属間化合物の分布密度が1個/mm以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板。 Fe--0.05 to 3.00 mass%, Zr: 0.01 to 0.50 mass%, and it consists of an aluminum alloy consisting of the balance Al and unavoidable impurities, and has an longest diameter of 1 μm or more. An aluminum alloy substrate for a magnetic disk, wherein a distribution density of the compound is 1 piece / mm 2 or less. 前記アルミニウム合金が、Mn:0.1〜3.0mass%、Si:0.1〜0.4mass%、Mg:0.1〜0.4mass%、Cu:0.005〜0.500mass%、Ni:0.1〜3.0mass%及びCr:0.01〜1.00mass%からなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。   The said aluminum alloy is Mn: 0.1-3.0 mass%, Si: 0.1-0.4 mass%, Mg: 0.1-0.4 mass%, Cu: 0.005-0.500 mass%, Ni The aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to claim 1, further comprising one or more selected from the group consisting of: 0.1 to 3.0 mass% and Cr: 0.01 to 1.00 mass%. . 前記アルミニウム合金が、Zn:0.005〜1.000massを更に含有する、請求項1又は2に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。   The aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to claim 1 or 2, wherein the aluminum alloy further contains Zn: 0.005 to 1.000 mass. 前記アルミニウム合金が、含有量の合計が0.005〜0.500mass%のTi、B及びVからなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。   The said aluminum alloy further contains 1 type, or 2 or more types selected from the group which consists of Ti, B, and V whose sum total of content is 0.005-0.500 mass%. The aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of the above. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、無電解Ni−Pめっき処理層とその上の磁性体層が設けられていることを特徴とする磁気ディスク。   A magnetic disk characterized in that an electroless Ni-P plated layer and a magnetic layer thereon are provided on the surface of the aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 4. . 請求項1〜4のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて半連続鋳造法によって鋳塊を鋳造する半連続鋳造工程と、半連続鋳造した鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削工程とを含み、前記鋳造工程において、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を5分以下とすることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。   A method for manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 4, comprising: a semicontinuous casting step of casting an ingot by a semicontinuous casting method using the aluminum alloy; Hot rolling process of hot rolling continuously cast ingot, cold rolling process of cold rolling hot rolled sheet, disc blank punching process of stamping cold rolled sheet in annular shape, stamped disc blank And a cutting / grinding step of cutting and grinding the disk blank subjected to pressure annealing, and in the casting step, the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. A method of manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk, wherein the time is 5 minutes or less. 前記半連続鋳造工程と熱間圧延工程の間に、半連続鋳造した鋳塊を280〜620℃で0.5〜60時間加熱処理する均質化熱処理工程を更に含む、請求項6に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。   The magnetic treatment process according to claim 6, further comprising a homogenizing heat treatment step of heat treating the semicontinuously cast ingot at 280 to 620 ° C. for 0.5 to 60 hours between the semi continuous casting step and the hot rolling step. Method of manufacturing aluminum alloy substrate for disc. 前記熱間圧延工程の開始温度が250〜600℃であり、終了温度が230〜450℃である、請求項6又は7に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。   The method for manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to claim 6 or 7, wherein the start temperature of the hot rolling step is 250 to 600 ° C and the end temperature is 230 to 450 ° C. 前記冷間圧延の前又は途中において、圧延板を焼鈍する焼鈍処理工程であって、300〜500℃で0.1〜30時間のバッチ焼鈍処理工程、又は400〜600℃で0〜60秒の連続焼鈍処理工程を更に含む、請求項6〜8のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。   Before or during the cold rolling, it is an annealing treatment step of annealing a rolled sheet, and is a batch annealing treatment step at 300 to 500 ° C. for 0.1 to 30 hours, or at 400 to 600 ° C. for 0 to 60 seconds The method for producing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of claims 6 to 8, further comprising a continuous annealing treatment step. 請求項1〜4のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて連続鋳造法によって鋳造板を鋳造する連続鋳造工程と、連続鋳造した鋳造板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削工程とを含み、前記鋳造工程において、660〜680℃の温度範囲での溶湯保持時間を5分以下とすることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。   A method of manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 4, wherein the continuous casting step of casting a cast plate by a continuous casting method using the aluminum alloy, and continuous casting A cold rolling step of cold rolling a cast plate, a disk blank punching step of punching the cold rolled plate into an annular shape, a pressure annealing step of pressure annealing the punched disk blank, and a pressure annealed disk blank An aluminum alloy substrate for a magnetic disk, characterized by including a cutting and grinding step of cutting and grinding, wherein the molten metal holding time in the temperature range of 660 to 680 ° C. is 5 minutes or less in the casting step. Production method. 前記冷間圧延の前又は途中において、鋳造板又は冷間圧延板を焼鈍する焼鈍処理工程であって、300〜500℃で0.1〜30時間のバッチ焼鈍処理工程、又は400〜600℃で0〜60秒の連続焼鈍処理工程を更に含む、請求項10に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。   Before or during the cold rolling, it is an annealing treatment step of annealing a cast plate or a cold rolled plate, and is a batch annealing treatment step at 300 to 500 ° C. for 0.1 to 30 hours, or at 400 to 600 ° C. The method of manufacturing an aluminum alloy substrate for a magnetic disk according to claim 10, further comprising a continuous annealing process step of 0 to 60 seconds.
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