JP6491654B2 - 金属複合酸化物微粒子およびその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、熱プラズマ炎を用いた、一般式MCuで表される(MはSr、Baのうち少なくとも1つ)、銅を含む金属複合酸化物微粒子およびその製造方法に関し、特に、透明性を有する粒状の金属複合酸化物微粒子を容易かつ確実に製造することができる金属複合酸化物微粒子の製造方法に関する。
現在、各種の微粒子が種々の用途に用いられている。例えば、金属微粒子、酸化物微粒子、窒化物微粒子、炭化物微粒子等の微粒子は、半導体基板、プリント基板、各種電気絶縁部品等の電気絶縁材料、切削工具、ダイス、軸受等の高硬度高精度の機械工作材料、粒界コンデンサ、湿度センサ等の機能性材料、精密焼結成形材料等の焼結体の製造、エンジンバルブ等の高温耐摩耗性が要求される材料等の溶射部品製造、燃料電池の電極、電解質材料および各種触媒等の分野、さらには半導体の分野に用いられている。
上述の微粒子を用いたものとして、例えば、粒子径が0.1nm〜1000nmであって、Cu、Al、Ag、Ni、Co、In、Fe、Zn、Rh、Ga、Sr、Li、Nのいずれかを含むp型無機酸化物半導体からなり、p型無機酸化物半導体の一部がファイバー構造を有する酸化物半導体電極が特許文献1に記載されている。特許文献1のp型無機酸化物半導体電極は沈殿法またはゾルゲル法で作製される。
特開2006−66215号公報
特許文献1において、p型無機酸化物半導体電極は沈殿法またはゾルゲル法で作製されることが記載されているが、その一部がファイバー構造を有する。しかしながら、特許文献1には、分散可能な状態のp型無機酸化物半導体の粒子について何ら開示されておらず、分散可能な状態のp型無機酸化物半導体の粒子の具体的な製造方法が示されていない。また、特許文献1には、p型無機酸化物半導体として、CuO、CuO、CuGaO、ZnRh、NiO、CoO、CuAlO、SrCu、NiO:Li、CuO:Li、CuO:Li、CuO:Li、ZnO:In:N、ZnO:Be:Nが挙げられている。これらのp型無機酸化物半導体には、CuO、NiO、CoOのように透明性がないものも含まれる。透明性を有し、かつ粒状のp型無機酸化物半導体の粒子がないのが現状である。
本発明の目的は、前述の従来技術に基づく問題点を解消し、透明性を有し、かつその粒度分布幅が狭く、均一な粒径を有し、1μm以上の粗大粒子の混入が殆どない粒状のp型無機酸化物半導体の微粒子である金属複合酸化物微粒子、およびこの金属複合酸化物微粒子を容易かつ確実に製造することができる金属複合酸化物微粒子の製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、一般式MCuで表される、銅を含む金属複合酸化物微粒子であって、Mは、SrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属であり、粒子径が1〜100nmであり、かつ透明性を有することを特徴とする金属複合酸化物微粒子を提供するものである。ここで、Mは、さらにMgおよびCaのうち、少なくとも1つの第2族元素を含んでもよい。
本発明は、銅化合物の粉末と、SrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属を含むアルカリ土類金属化合物の粉末とを前処理する前処理工程と、前処理された銅化合物の粉末及びアルカリ土類金属化合物の粉末を、熱プラズマ炎を用いて、透明性を有する粒状の金属複合酸化物微粒子を生成する生成工程と、を有し、熱プラズマ炎は、不活性ガスに由来するものであることを特徴とする金属複合酸化物微粒子の製造方法を提供するものである。
ここで、前処理工程は、銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末を、キャリアガスを用いて分散させる工程を含み、生成工程は、分散された銅化合物の粉末及びアルカリ土類金属化合物の粉末を熱プラズマ炎中に供給する工程を有することが好ましい。
また、前処理工程は、銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末を水に分散させてスラリーにする工程を含み、生成工程は、スラリーを液滴化させて熱プラズマ炎中に供給する工程を有することが好ましい。
例えば、不活性ガスは、ヘリウムガス、アルゴンガスおよび窒素ガスのうち、少なくとも1つである。
また、アルカリ土類金属化合物の粉末は、さらにMgおよびCaのうち、少なくとも1つの第2族元素を含む化合物を含有してもよい。
本発明によれば、透明性を有し、かつその粒度分布幅が狭く、均一な粒径を有し、1μm以上の粗大粒子の混入が殆どない粒状のp型無機酸化物半導体の微粒子である金属複合酸化物微粒子を提供することができる。
また、本発明によれば、透明性を有する粒状の金属複合酸化物微粒子を容易かつ確実に製造することができる。
本発明の実施形態に係る金属複合酸化物微粒子の製造方法に用いられる微粒子製造装置を示す模式図である。 金属複合酸化物微粒子のX線回折法による解析結果を示すグラフである。 金属複合酸化物微粒子を示す図面代用写真である。 金属複合酸化物微粒子のX線回折法による解析結果を示すグラフである。 金属複合酸化物微粒子のX線回折法による解析結果を示すグラフである。 組成の比率が異なる金属複合酸化物微粒子のX線回折法による解析結果を示すグラフである。 組成の比率が異なる金属複合酸化物微粒子のX線回折法による解析結果を示すグラフである。 図7の要部拡大図である。 金属複合酸化物微粒子の光学特性を示すグラフである。
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の金属複合酸化物微粒子およびその製造方法を詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る金属複合酸化物微粒子の製造方法に用いられる微粒子製造装置を示す模式図である。
図1に示す微粒子製造装置(以下、単に製造装置という)10は、金属複合酸化物微粒子の製造に用いられるものである。
製造装置10は、熱プラズマを発生させるプラズマトーチ12と、金属複合酸化物微粒子の製造用材料をプラズマトーチ12内へ供給する材料供給装置14と、亜酸化銅の1次微粒子15を生成させるための冷却槽としての機能を有するチャンバ16と、生成された金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15から任意に規定された粒径以上の粒径を有する粗大粒子を除去するサイクロン19と、サイクロン19により分級された所望の粒径を有する金属複合酸化物微粒子の2次微粒子18を回収する回収部20とを有する。材料供給装置14、チャンバ16、サイクロン19、回収部20については、例えば、特開2007−138287号公報に記載の各種装置を用いることができる。
本実施形態において、金属複合酸化物微粒子の製造には、銅化合物の粉末と、SrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属を含むアルカリ土類金属化合物の粉末が用いられる。
銅化合物の粉末は、熱プラズマ炎中で容易に蒸発するように、その平均粒径が適宜設定されるが、平均粒径は、例えば、100μm以下であり、好ましくは10μm以下、さらに好ましくは3μm以下である。この銅化合物の粉末としては、例えば、酸化第二銅(CuO)、水酸化第二銅(Cu(OH))、硫酸第二銅(CuSO)、硝酸第二銅(Cu(NO)、および過酸化銅(Cu,CuO,CuO)の粉末を用いることができる。
SrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属を含むアルカリ土類金属化合物の粉末としては、例えば、炭酸ストロンチウム(SrCO)、炭酸バリウム(BaCO)が用いられる。
アルカリ土類金属化合物の粉末は、さらにMgおよびCaのうち、少なくとも1つの第2族元素を含む化合物を含有してもよい。具体的には、炭酸マグネシウム(MgCO)、炭酸カルシウム(CaCO)である。
以下では、アルカリ土類金属化合物とは、SrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属を含む化合物、またはこれらのアルカリ土類金属を含む化合物に加え、さらにMgおよびCaのうち、少なくとも1つの第2族元素を含む化合物を言う。
また、このようなアルカリ土類金属化合物の粉末の平均粒径は、例えば、100μm以下であり、好ましくは10μm以下、さらに好ましくは3μm以下である。上述のアルカリ土類金属化合物の粉末の平均粒径は、BET法で測定することができる。
プラズマトーチ12は、石英管12aと、その外側を取り巻く高周波発振用コイル12bとで構成されている。プラズマトーチ12の上部には銅化合物の粉末および上述のアルカリ土類金属化合物の粉末を、粉末またはスラリーの形態でプラズマトーチ12内に供給するための供給管14aがその中央部に設けられている。プラズマガス供給口12cが、供給管14aの周辺部(同一円周上)に形成されており、プラズマガス供給口12cはリング状である。
プラズマガス供給装置22は、プラズマガスをプラズマトーチ12内に供給するものである。このプラズマガス供給装置22は、気体供給部(図示せず)を有し、気体供給部は配管22aを介してプラズマガス供給口12cに接続されている。気体供給部には、それぞれ供給量を調整するためのバルブ等の供給量調整部(図示せず)が設けられている。
プラズマガスは、プラズマガス供給装置22からプラズマガス供給口12cを経てプラズマトーチ12内に供給される。プラズマガスには、不活性ガスが用いられる。不活性ガスとしては、例えば、ヘリウムガス、アルゴンガスおよび窒素ガスのうち、少なくとも1つのガスが用いられる。
例えば、気体供給部に、例えば、ヘリウムガス、アルゴンガスおよび窒素ガスのうち、少なくとも1つのガスが貯蔵される。プラズマガス供給装置22の気体供給部から、プラズマガスとして、ヘリウムガス、アルゴンガスおよび窒素ガスのうち、少なくとも1つのガスが配管22aを介して、リング状のプラズマガス供給口12cを経て、矢印Pで示す方向からプラズマトーチ12内に供給される。そして、高周波発振用コイル12bに高周波電圧が印加されて、プラズマトーチ12内で熱プラズマ炎24が発生する。
なお、プラズマガスは、ヘリウムガス、アルゴンガスおよび窒素ガスのうち、少なくとも1つのガスであればよく、単体に限定されるものではなく、これらを組み合わせて使用してもよい。プラズマガスとして、例えば、アルゴンガスと窒素ガスを組み合わせて使用される。
熱プラズマ炎24の温度は、銅化合物の粉末および上述のアルカリ土類金属化合物の粉末の沸点よりも高い必要がある。一方、熱プラズマ炎24の温度が高いほど、容易に銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末が気相状態となるので好ましいが、特に温度は限定されるものではない。例えば、熱プラズマ炎24の温度を6000℃とすることもできるし、理論上は10000℃程度に達するものと考えられる。
また、プラズマトーチ12内における圧力雰囲気は、大気圧以下であることが好ましい。ここで、大気圧以下の雰囲気については、特に限定されないが、例えば、0.5〜100kPaである。
なお、石英管12aの外側は、同心円状に形成された管(図示されていない)で囲まれており、この管と石英管12aとの間に冷却水を循環させて石英管12aを水冷し、プラズマトーチ12内で発生した熱プラズマ炎24により石英管12aが高温になりすぎるのを防止している。
材料供給装置14は、供給管14aを介してプラズマトーチ12の上部に接続されている。材料供給装置14としては、例えば、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を、粉末の形態で供給するもの、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を含有するスラリーの形態で供給する2通りの方式を用いることができる。
銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を、粉末の形態で供給する材料供給装置14としては、例えば、特開2007−138287号公報に開示されているものを用いることができる。この場合、材料供給装置14は、例えば、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を貯蔵する貯蔵槽(図示せず)と、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を定量搬送するスクリューフィーダ(図示せず)と、スクリューフィーダで搬送された銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末が最終的に散布される前に、これを一次粒子の状態に分散させる分散部(図示せず)と、キャリアガス供給源(図示せず)とを有する。
キャリアガス供給源から押し出し圧力がかけられたキャリアガスとともに銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末は供給管14aを介してプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中へ供給される。
材料供給装置14は、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末の凝集を防止し、分散状態を維持したまま、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末をプラズマトーチ12内に散布することができるものであれば、その構成は特に限定されるものではない。キャリアガスには、例えば、上述のプラズマガスと同様に不活性ガスが用いられる。キャリアガス流量はフロート式流量計を用いて制御することができる。また、キャリアガスの流量値とはこの流量計の目盛り値のことである。
銅化合物の粉末をスラリーの形態で供給する材料供給装置14は、例えば、特開2011−213524号公報に開示されているものを用いることができる。この場合、材料供給装置14は、スラリー(図示せず)を入れる容器(図示せず)と、容器中のスラリーを攪拌する攪拌機(図示せず)と、供給管14aを介してスラリーに高圧をかけプラズマトーチ12内に供給するためのポンプ(図示せず)と、スラリーを液滴化させてプラズマトーチ12内へ供給するための噴霧ガスを供給する噴霧ガス供給源(図示せず)とを有する。噴霧ガス供給源は、キャリアガス供給源に相当するものである。噴霧ガスのことをキャリアガスともいう。
本実施形態において、スラリーの形態で銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を供給する場合、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を水に分散させてスラリーにし、このスラリーを用いて金属複合酸化物微粒子を製造する。
なお、スラリー中の銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末と水との混合比は、特に限定されるものではなく、例えば、質量比で5:5(50%:50%)である。
銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末をスラリーの形態で供給する材料供給装置14を用いた場合、噴霧ガス供給源から押し出し圧力をかけられた噴霧ガスが、スラリーとともに供給管14aを介してプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中へ供給される。供給管14aは、スラリーをプラズマトーチ内の熱プラズマ炎24中に噴霧し液滴化するための二流体ノズル機構を有しており、これにより、スラリーをプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に噴霧する、すなわち、スラリーを液滴化させることができる。噴霧ガスには、キャリアガスと同様に、例えば、上述のプラズマガスと同様に不活性ガスが用いられる。
このように、二流体ノズル機構は、スラリーに高圧をかけ、気体である噴霧ガス(キャリアガス)によりスラリーを噴霧することができ、スラリーを液滴化させるための一つの方法として用いられる。
なお、上述の二流体ノズル機構に限定されるものではなく、一流体ノズル機構を用いてもよい。さらに他の方法として、例えば、回転している円板上にスラリーを一定速度で落下させて遠心力により液滴化する(液滴を形成する)方法、スラリー表面に高い電圧を印加して液滴化する(液滴を発生させる)方法等が挙げられる。
チャンバ16は、プラズマトーチ12の下方に隣接して設けられている。プラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に供給された銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末は、蒸発して気相状態になり、銅化合物とアルカリ土類金属化合物とが反応し、金属複合酸化物微粒子になる。その後、冷却ガスにより、チャンバ16内で急冷されて1次微粒子15(金属複合酸化物微粒子)が生成される。チャンバ16は、冷却槽としての機能も有する。
気体供給装置28は、配管28aを介してチャンバ16に接続されている。気体供給装置28は、チャンバ16内に供給する冷却ガスが貯蔵される気体供給部(図示せず)と、気体供給部からの冷却ガスに押し出し圧力をかけるコンプレッサ、ブロア等の圧力付与手段(図示せず)を有する。また、気体供給装置28には気体供給部からのガス供給量を制御する圧力制御弁28bが設けられている。
冷却ガスとして、例えば、上述のプラズマガスと同様に不活性ガスが用いられる。例えば、気体供給部には、窒素ガスが貯蔵される。
気体供給装置28は、熱プラズマ炎24の尾部、すなわち、プラズマガス供給口12cと反対側の熱プラズマ炎24の端(熱プラズマ炎24の終端部)に向かって、所定の角度で、例えば、矢印Qの方向に、冷却ガスとして、例えば、窒素ガスを供給するとともに、チャンバ16の側壁に沿って上方から下方に向かって、すなわち、図1に示す矢印Rの方向に冷却ガスを供給するものである。この冷却ガスの流量は、例えば、フロート式流量計を用いて制御することができる。冷却ガスの流量値とはこの流量計の目盛り値のことである。
なお、気体供給装置28から供給される冷却ガスは、上述のチャンバ16内で生成される金属複合酸化物微粒子を急冷して1次微粒子15とする作用以外にも、サイクロン19における1次微粒子15の分級に寄与する等の付加的作用を有する。
材料供給装置14が粉末の形態で供給するものである場合、材料供給装置14からプラズマトーチ12内にキャリアガスとともに供給された銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末は、熱プラズマ炎24中で気相状態となる。気体供給装置28から熱プラズマ炎24に向かって矢印Qの方向に供給される窒素ガスにより急冷され、金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15が生成される。この際、矢印Rの方向に供給された窒素ガスにより、1次微粒子15のチャンバ16の内壁への付着が防止される。これにより、生成した1次微粒子15の収率が向上する。
このようなことから、冷却ガスについては、金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15が生成される過程において、得られた金属複合酸化物微粒子を急冷するに十分な供給量が必要であるとともに、1次微粒子15を下流のサイクロン19で任意の分級点で分級できる流速が得られ、かつ、熱プラズマ炎24の安定を妨げない程度の量であることが好ましい。また、熱プラズマ炎24の安定を妨げない限り、冷却ガスの供給方法および供給位置等は、特に限定されない。本実施形態の微粒子製造装置10では、天板17に円周状のスリットを形成して冷却ガスを供給しているが、熱プラズマ炎24からサイクロン19までの経路上で、確実に気体を供給可能な方法または位置であれば、他の方法、位置でも構わない。
矢印Qの方向に供給される窒素ガスおよび矢印Rの方向に供給される窒素ガスの合計の量は、上記熱プラズマ炎24中に供給する気体の200体積%〜5000体積%とするのがよい。ここで、上述の熱プラズマ炎24中に供給する気体とは、熱プラズマ炎24を形成するプラズマガス、プラズマ流を形成するためのセントラルガスおよび噴霧ガスを合わせたものである。
材料供給装置14がスラリーの形態で供給するものである場合、材料供給装置14からプラズマトーチ12内に所定の流量の噴霧ガスを用いて供給された、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を含有する液滴化されたスラリーは、熱プラズマ炎24により、気相状態にされ、銅化合物とアルカリ土類金属化合物とが反応し金属複合酸化物微粒子が生成される。そして、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末から形成された金属複合酸化物微粒子も、熱プラズマ炎24に向かって矢印Qの方向に供給される冷却ガスにより、この金属複合酸化物微粒子はチャンバ16内で急冷され、金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15が生成される。この際、矢印Rの方向に供給されたアルゴンガスにより、1次微粒子15のチャンバ16の内壁への付着が防止される。この場合でも、矢印Rの方向に供給されたアルゴンガスにより、生成した1次微粒子15の収率が向上する。
図1に示すように、チャンバ16の側方下部には、生成された1次微粒子15を所望の粒径で分級するためのサイクロン19が設けられている。このサイクロン19は、チャンバ16から1次微粒子15を供給する入口管19aと、この入口管19aと接続され、サイクロン19の上部に位置する円筒形状の外筒19bと、この外筒19b下部から下側に向かって連続し、かつ、径が漸減する円錐台部19cと、この円錐台部19c下側に接続され、上述の所望の粒径以上の粒径を有する粗大粒子を回収する粗大粒子回収チャンバ19dと、後に詳述する回収部20に接続され、外筒19bに突設される内管19eとを備えている。
チャンバ16内で生成された1次微粒子15は、サイクロン19の入口管19aから、チャンバ16内にて生成された1次微粒子15を含んだ気流が、外筒19b内周壁に沿って吹き込まれ、これにより、この気流が図1中に矢印Tで示すように外筒19bの内周壁から円錐台部19c方向に向かって流れることで、下降する旋回流が形成される。
そして、上述の下降する旋回流が反転し、上昇流になったとき、遠心力と抗力のバランスにより、粗大粒子は、上昇流にのることができず、円錐台部19c側面に沿って下降し、粗大粒子回収チャンバ19dで回収される。また、遠心力よりも抗力の影響をより受けた微粒子は、円錐台部19c内壁での上昇流とともに内管19eから系外に排出される。
また、内管19eを通して、後に詳述する回収部20から負圧(吸引力)が生じるようになっている。そして、この負圧(吸引力)によって、上述の旋回する気流から分離した金属複合酸化物微粒子が、符号Uで示すように吸引され、内管19eを通して回収部20に送られるようになっている。
サイクロン19内の気流の出口である内管19eの延長上には、所望のナノメートルオーダの粒径を有する金属複合酸化物微粒子の2次微粒子18を回収する回収部20が設けられている。この回収部20は、回収室20aと、回収室20a内に設けられたフィルター20bと、回収室20a内下方に設けられた管を介して接続された真空ポンプ(図示せず)とを備えている。サイクロン19から送られた微粒子は、真空ポンプ(図示せず)で吸引されることにより、回収室20a内に引き込まれ、フィルター20bの表面で留まった状態にされて回収される。
以下、上述の製造装置10を用いた金属複合酸化物微粒子の製造方法、およびこの製造方法により生成された金属複合酸化物微粒子について説明する。
本実施形態においては、材料供給に、例えば、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を粉末の形態で供給するもの、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末をスラリーの形態で供給する2通りの方式を用いることができる。各材料供給方式による金属複合酸化物微粒子の製造方法について説明する。
まず、粉末の形態で供給する場合、銅化合物の粉末として、例えば、平均粒径が5μm以下の銅化合物の粉末と、アルカリ土類金属化合物の粉末を、例えば、質量比で5:5で材料供給装置14に投入する。
プラズマガスに、例えば、アルゴンガスと窒素ガスを用いて、高周波発振用コイル12bに高周波電圧を印加し、プラズマトーチ12内に熱プラズマ炎24を発生させる。
また、気体供給装置28から熱プラズマ炎24の尾部、すなわち、熱プラズマ炎24の終端部に、矢印Qの方向に窒素ガスを供給する。このとき、矢印Rの方向にも窒素ガスを供給する。
次に、キャリアガスとして、例えば、アルゴンガスを用いて銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末を気体搬送し、供給管14aを介してプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に供給する。熱プラズマ炎24で銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末を蒸発させて気相状態にし、銅化合物とアルカリ土類金属化合物とが反応して金属複合酸化物微粒子になる。そのとき、チャンバ16内で冷却ガスにより金属複合酸化物微粒子が窒素ガスで急冷されて金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15が生成される。
チャンバ16内で生成された金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15は、サイクロン19の入口管19aから、気流とともに外筒19bの内周壁に沿って吹き込まれ、これにより、この気流が図1の矢印Tに示すように外筒19bの内周壁に沿って流れることにより、旋回流を形成して下降する。そして、上述の下降する旋回流が反転し、上昇流になったとき、遠心力と抗力のバランスにより、粗大粒子は、上昇流にのることができず、円錐台部19c側面に沿って下降し、粗大粒子回収チャンバ19dで回収される。また、遠心力よりも抗力の影響をより受けた微粒子は、円錐台部19c内壁での上昇流とともに内管19eから系外に排出される。
排出された金属複合酸化物微粒子の2次微粒子18は、回収部20からの負圧(吸引力)によって、図1中、符号Uに示す方向に吸引され、内管19eを通して回収部20に送られ、回収部20のフィルター20bで回収される。このときのサイクロン19内の内圧は、大気圧以下であることが好ましい。また、金属複合酸化物微粒子の2次微粒子18の粒径は、目的に応じて、ナノメートルオーダの任意の粒径が規定される。
このようにして、本実施形態においては、ナノメートルオーダの透明性を有する粒状の金属複合酸化物微粒子を、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末をプラズマ処理するだけで容易かつ確実に得ることができる。
なお、金属複合酸化物微粒子として、例えば、SrCu粒子、BaCu粒子を作製することができる。これらは、p型半導体であり、かつ透過率が高い、透明性を有する、いわゆるp型の透明酸化物半導体である。このように、透明性を有する粒状のp型の透明酸化物半導体粒子を得ることができる。
本発明において、透明性を有するとは、波長350〜700nmの可視光領域の平均透過率が、波長300nmを超え350nm未満の紫外線領域の平均透過率よりも高いことをいう。上述の特許文献1に記載のCuO、NiO、CoOのp型無機酸化物半導体では、可視光領域の平均透過率が紫外線領域の平均透過率と同程度であり、紫外線領域の平均透過率よりも高いことはない。
本実施形態の金属複合酸化物微粒子の製造方法により製造される金属複合酸化物微粒子は、その粒度分布幅が狭い、すなわち、均一な粒径を有し、1μm以上の粗大粒子の混入が殆どなく、具体的には、その平均粒径が1〜100nm程度のナノメートルオーダの金属複合酸化物微粒子である。
次に、スラリーの形態で供給する場合について説明する。
この場合、例えば、平均粒径が5μm以下の銅化合物の粉末を用い、アルカリ土類金属化合物の粉末を用い、分散媒として、例えば、水を用いる。銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末との合計と水との混合比を、質量比で5:5(50%:50%)として、スラリーを作製する。
スラリーが、図1に示す材料供給装置14の容器(図示せず)内に入れられ、攪拌機(図示せず)で攪拌される。これにより、水中の銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末が沈殿することを防止し、水中での銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末が分散された状態のスラリーが維持される。なお、材料供給装置14に銅化合物の粉末とアルカリ土類金属化合物の粉末と水とを供給して連続的にスラリーを調製してもよい。
次に、前述の二流体ノズル機構(図示せず)を用いてスラリーを液滴化させ、液滴化されたスラリーを、プラズマトーチ12内に発生している熱プラズマ炎24中に所定の流量の噴霧ガスを用いて供給する。銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末を含有する液滴化されたスラリーは、熱プラズマ炎24により、気相状態にされ、銅化合物とアルカリ土類金属化合物とが反応し金属複合酸化物微粒子が生成される。そのとき、銅化合物の粉末およびアルカリ土類金属化合物の粉末から形成された金属複合酸化物微粒子は、矢印Qの方向に供給される窒素ガスによって急冷されて、チャンバ16内で急冷されることにより、1次微粒子15が得られる。
なお、プラズマトーチ12内における圧力雰囲気は、大気圧以下であることが好ましい。ここで、大気圧以下の雰囲気については、特に限定されないが、例えば、660Pa〜100kPaとすることができる。
最終的にチャンバ16内で生成された金属複合酸化物微粒子の1次微粒子15は、上述の粉末の形態で作製したものと同様の過程を経る。
そして、上述の粉末の形態で作製したものと同様に、排出された金属複合酸化物微粒子の2次微粒子18は、回収部20からの負圧(吸引力)によって、符号Uで示す方向に吸引され、内管19eを通して回収部20に送られ、回収部20のフィルター20bで回収される。このときのサイクロン19内の内圧は、大気圧以下であることが好ましい。また、金属複合酸化物微粒子の2次微粒子18の粒径は、目的に応じてナノメートルオーダの任意の粒径が規定される。
スラリーの形態でも、粉末の形態と同じく、ナノメートルオーダの粒状で透明性を有する金属複合酸化物微粒子、すなわち、粒状のp型の透明酸化物半導体粒子をプラズマ処理するだけで容易かつ確実に得ることができる。
なお、本発明の金属複合酸化物微粒子の製造方法においては、使用するサイクロン19の個数は、1つに限定されず、2つ以上でもよい。
生成直後の微粒子同士が衝突し、凝集体を形成することで粒径の不均一が生じると、品質低下の要因となる。しかしながら、熱プラズマ炎24の尾部(終端部)に向かって矢印Qの方向に供給される冷却ガスが1次微粒子15を希釈することで、微粒子同士が衝突して凝集することが防止される。
ここで、本発明者は、銅化合物の粉末として酸化第二銅(CuO)の粉末を用い、化合物の粉末として炭酸ストロンチウム(SrCO)の粉末を用い、プラズマガスにアルゴンガスと窒素ガスを用いた。酸化第二銅(CuO)の粉末と炭酸ストロンチウム(SrCO)の粉末を熱プラズマ炎に供給することにより、透明性を有する金属複合酸化物微粒子として、図2に示すように、SrCu単相が得られることを確認している。これ以外にも、酸化第二銅(CuO)の粉末と炭酸バリウム(BaCO)の粉末を、アルゴンガスと窒素ガスを用いた熱プラズマ炎24に供給することにより、金属複合酸化物微粒子として、図2に示すように、BaCu単相が得られることを確認している。この場合、組織としては、図3に示す粒状の組織が得られる。
一方、酸化第二銅(CuO)の粉末と炭酸カルシウム(CaCO)の粉末を、プラズマガスにアルゴンガスと窒素ガスを用いた熱プラズマ炎に供給した場合、図4に示すように、CuO(亜酸化銅)とCaO(酸化カルシウム)の混相となり、金属複合酸化物微粒子を得ることができないことを確認している。このように、本発明の銅化合物とSrおよびBaの少なくとも1つのアルカリ土類金属を含むアルカリ土類金属化合物との組み合わせではないと、本発明の金属複合酸化物微粒子を得ることができない。
さらに、本発明者は、酸化第二銅(CuO)の粉末、炭酸ストロンチウム(SrCO)の粉末、炭酸カルシウム(CaCO)の粉末を、プラズマガスにアルゴンガスと窒素ガスを用いた熱プラズマ炎に供給することにより、透明性を有する金属複合酸化物微粒子として、図5に示すように、(Sr、Ca)Cu相が得られることを確認している。なお、図5には比較のためにSrCuのX線回折法による解析結果を併せて示す。
図5に示すように、酸化第二銅(CuO)の粉末、炭酸ストロンチウム(SrCO)の粉末に、さらに炭酸カルシウム(CaCO)を添加しても、SrCu相を得ることができる。
また、本発明者は、酸化第二銅(CuO)の粉末、炭酸ストロンチウム(SrCO)の粉末、炭酸バリウム(BaCO)の粉末を、プラズマガスにアルゴンガスと窒素ガスを用いた熱プラズマ炎に供給することにより、金属複合酸化物微粒子として、図6に示すように、(Sr、Ba)Cu相が得られることを確認している。なお、図6には比較のためにBaCuのX線回折法による解析結果とSrCuのX線回折法による解析結果を併せて示す。
図6に示すように、ストロンチウムとバリウムとが混合した組成の金属複合酸化物微粒子を形成することができる。
また、本発明者は、酸化第二銅(CuO)の粉末、炭酸ストロンチウム(SrCO)の粉末、炭酸カルシウム(CaCO)の粉末を、プラズマガスにアルゴンガスと窒素ガスを用いた熱プラズマ炎に供給することにより、金属複合酸化物微粒子として、図7に示すように、(Sr、Ca)Cu相が得られることを確認している。図7において、複数の(Sr、Ca)Cu相の結果を示しているが、これらはストロンチウムとカルシウムの比率が異なるものである。なお、図7には比較のためにSrCuのX線回折法による解析結果を併せて示す。
図7に示すように、ストロンチウムとカルシウムとが混合した組成の金属複合酸化物微粒子を形成することができ、しかもストロンチウムとカルシウムの比率を変えても金属複合酸化物微粒子を形成することができる。
なお、図8は、図7の要部拡大であり、図8において、CはSrCuのピーク位置を示し、CはSrとCaのうち、Srの方が多い(Sr、Ca)Cuのピーク位置を示し、CはSrとCaのうち、Srの方が多く、かつCよりもCaの比率が高い(Sr、Ca)Cuのピーク位置を示す。図8に示すように、カルシウムの比率が高くなるとピーク位置が高角側にシフトしていることがわかる。
SrCuの組成の金属複合酸化物微粒子と、Sr:Caがモル比で7:3の(Sr、Ca)Cuの組成の金属複合酸化物微粒子を、それぞれエタノール溶媒に超音波を用いて分散させて、光学特性として透過率を測定した。その結果を図9に示す。なお、透過率の測定には分光光度計を用いた。
図9に示すように、ストロンチウムと銅酸化物との金属複合酸化物微粒子とSr:Caがモル比で7:3のストロンチウム、カルシウムと銅酸化物との金属複合酸化物微粒子のいずれも透過率の測定が可能であった。これは、エタノール溶媒中に粒子が分散していることを示す。
また、ストロンチウムにカルシウムを加えることで透過率が向上する。すなわち、透明性が増す。このように、金属複合酸化物微粒子の組成を変えることで光学特性を変えることができる。
図9に示す例でも、(Sr、Ca)Cuの組成の金属複合酸化物微粒子およびSrCuの組成の金属複合酸化物微粒子は、いずれも可視光領域の平均透過率が、紫外線領域の平均透過率よりも高い。このことから、(Sr、Ca)Cuの組成の金属複合酸化物微粒子およびSrCuの組成の金属複合酸化物微粒子が透明性を有することは明らかである。
本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の金属複合酸化物微粒子およびその製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。
10 微粒子製造装置
12 プラズマトーチ
14 材料供給装置
15 1次微粒子
16 チャンバ
18 微粒子(2次微粒子)
19 サイクロン
20 回収部
22 プラズマガス供給装置
24 熱プラズマ炎
28 気体供給装置

Claims (9)

  1. 一般式MCuで表される、銅を含む金属複合酸化物微粒子であって、
    前記Mは、SrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属であり、粒子径が1〜100nmであり、かつ透明性を有し、
    前記透明性は、前記金属複合酸化物微粒子をエタノール溶媒に分散させて測定した、波長350〜700nmの可視光領域の平均透過率が、波長300nmを超え350nm未満の紫外線領域の平均透過率よりも高いことである、ことを特徴とする金属複合酸化物微粒子。
  2. 前記Mは、さらにMgおよびCaのうち、少なくとも1つの第2族元素を含む請求項1に記載の金属複合酸化物微粒子。
  3. 一般式MCu で表され、銅を含み、前記MがSrおよびBaのうち、少なくとも1つのアルカリ土類金属である金属複合酸化物微粒子の製造方法であって、
    銅化合物の粉末と、前記Srおよび前記Baのうち、少なくとも1つの前記アルカリ土類金属を含むアルカリ土類金属化合物の粉末とを前処理する前処理工程と、
    前処理された前記銅化合物の粉末及び前記アルカリ土類金属化合物の粉末を、熱プラズマ炎を用いて、透明性を有する粒状の金属複合酸化物微粒子を生成する生成工程を有し、
    前記熱プラズマ炎は、不活性ガスに由来するものであり、
    前記透明性は、前記金属複合酸化物微粒子をエタノール溶媒に分散させて測定した、波長350〜700nmの可視光領域の平均透過率が、波長300nmを超え350nm未満の紫外線領域の平均透過率よりも高いことである、ことを特徴とする金属複合酸化物微粒子の製造方法。
  4. 前記前処理工程は、前記銅化合物の粉末と前記アルカリ土類金属化合物の粉末とを、キャリアガスを用いて分散させる工程を含み、
    前記生成工程は、分散された前記銅化合物の粉末及び前記アルカリ土類金属化合物の粉末を前記熱プラズマ炎中に供給する工程を有する請求項3に記載の金属複合酸化物微粒子の製造方法。
  5. 前記前処理工程は、
    前記銅化合物の粉末と前記アルカリ土類金属化合物の粉末とを水に分散させてスラリーにする工程を含み、
    前記生成工程は、前記スラリーを液滴化させて前記熱プラズマ炎中に供給する工程を有する請求項3に記載の金属複合酸化物微粒子の製造方法。
  6. 前記銅化合物の粉末は、酸化第二銅の粉末である請求項3〜5のいずれか1項に記載の金属複合酸化物微粒子の製造方法。
  7. 前記生成工程は、さらに、前記熱プラズマ炎の終端部に、冷却ガスを供給する工程を有する請求項3〜6のいずれか1項に記載の金属複合酸化物微粒子の製造方法。
  8. 前記不活性ガスは、ヘリウムガス、アルゴンガスおよび窒素ガスのうち、少なくとも1つである請求項3〜7のいずれか1項に記載の金属複合酸化物微粒子の製造方法。
  9. 前記アルカリ土類金属化合物の粉末は、さらにMgおよびCaのうち、少なくとも1つの第2族元素を含む化合物を含有する請求項3〜8のいずれか1項に記載の金属複合酸化物微粒子の製造方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7194544B2 (ja) * 2017-10-03 2022-12-22 三井金属鉱業株式会社 粒子の製造方法
US20210087404A1 (en) * 2017-12-19 2021-03-25 Nisshin Engineering Inc. Composite particles and method for producing composite particles

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01192705A (ja) * 1988-01-26 1989-08-02 Fujikura Ltd 酸化物超電導原料粉末の製造方法
JPH02199021A (ja) * 1989-01-27 1990-08-07 Nippon Steel Corp 超電導材料の微粒子製造法
CN1123923C (zh) * 1999-07-01 2003-10-08 财团法人工业技术研究院 半导体的欧姆接触层及其制造方法
US7357910B2 (en) * 2002-07-15 2008-04-15 Los Alamos National Security, Llc Method for producing metal oxide nanoparticles
JP3959471B2 (ja) * 2004-08-26 2007-08-15 国立大学法人信州大学 酸化物半導体電極、およびその製造方法
JP5133065B2 (ja) * 2005-01-28 2013-01-30 テクナ・プラズマ・システムズ・インコーポレーテッド ナノ粉末の誘導プラズマ合成
US7629553B2 (en) * 2005-06-08 2009-12-08 Unm.Stc Metal oxide nanoparticles and process for producing the same
JP4963586B2 (ja) * 2005-10-17 2012-06-27 株式会社日清製粉グループ本社 超微粒子の製造方法
US7087526B1 (en) * 2005-10-27 2006-08-08 Sharp Laboratories Of America, Inc. Method of fabricating a p-type CaO-doped SrCu2O2 thin film
KR20110098753A (ko) * 2008-12-08 2011-09-01 유미코르 P-타입 투명 도전성 필름의 제조를 위한 분말의 제조 방법
CN104411634B (zh) * 2012-06-28 2016-10-26 日清工程株式会社 碳化钛微粒子的制造方法

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