JP6469736B2 - センサ回路およびセンシング方法 - Google Patents
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Description
S1=A0・cos(ωt) 数式1
S2=A1・cos(ωt+θ1) 数式2
S3=A2・cos(ωt+θ2) 数式3
S4=A1・cos(ωt+θ1)×A2・cos(ωt+θ2)
=0.5・A1・A2・{cos(θ1−θ2)+A2・cos(2ωt+θ1+θ2)} 数式4
S5=0.5・A1・A2・cos(θ1−θ2) 数式5
基準周波数f0 :2.45GHz
移相器20の移相量:−25°
移相器22の移相量:+50°
信号S3−S2の位相差:+75°
周波数f1 :2.44GHz
移相器20の移相量:+5°
移相器22の移相量:+50°
信号S3−S2の位相差:+45°
共振器として圧電薄膜共振器を用いる例を説明する。図6(a)は、実施例1における共振器の例を示す平面図、図6(b)は、図6(a)のA−A断面図である。図6(a)および図6(b)に示すように、基板40上に圧電膜42が設けられている。圧電膜42を挟むように下部電極41および上部電極43が設けられている。下部電極41と基板40との間に空隙46が形成されている。共振領域48は、圧電膜42の少なくとも一部を挟み下部電極41と上部電極43とが対向する領域である。共振領域48において、下部電極41および上部電極43は圧電膜42内に厚み縦振動モードの弾性波を励振する。基板40上に下部電極41、圧電膜42および上部電極43を覆うように保護膜44が設けられている。保護膜44上に感応膜45が設けられている。平面視において感応膜45は共振領域48を含んでいる。基板40の下面には電極51が設けられている。基板40および圧電膜42を貫通する貫通電極50が設けられている。貫通電極50は、下部電極41および上部電極43を電極51に接続する。
図7は、実施例1における発振回路の例を示す回路図である。図7に示すように、発振回路10は、共振器12および増幅器14を有している。共振器12は、弾性波共振器11および可変キャパシタVC1を有している。弾性波共振器11は、例えば図6(a)および図6(b)に示した圧電薄膜共振器である。弾性波共振器11および可変キャパシタVC1は出力端子T1とグランドとの間に並列に接続されている。
図10(a)から図10(c)は、実施例1における移相器の例を示す回路図である。図10(a)の移相器20では、信号S1aが入力する端子T2と信号S2が出力する端子T3の間に弾性波共振器21がシャント接続されている。図10(b)の移相器20では、端子T2とT3との間に弾性波共振器21とキャパシタC4がシャント接続されている。図10(c)の移相器20では、端子T2とT3との間に弾性波共振器21とキャパシタC4とが並列に接続されている。
図13(a)は、実施例1における移相器22の回路図、図13(b)は、移相器の周波数に対する移相量を示す図である。図13(a)に示すように、移相器22では、信号S1bが入力する端子T4と信号S3が出力する端子T5の間にキャパシタC5が直列に接続されている。
実施例1および2に用いる共振器12の弾性波共振器11の別の例を説明する。図16(a)から図17(b)は、実施例1および2における共振器の弾性波共振器の別の例である。図16(a)に示すように、貫通電極50および電極52を設けず、保護膜44に開口を設け開口内に端子54を設ける。端子54はそれぞれ下部電極41および上部電極43に電気的に接続されている。これにより、端子54にボンディングワイヤを接合させる、またはバンプによりフィリップチップ実装を行うことが可能となる。その他の構成は図6(a)および図6(b)と同じであり説明を省略する。
図18は、実施例1および2における共振器および移相器の弾性波共振器の例を示す平面図である。図19(a)および図19(b)は、それぞれ図18のA−AおよびB−B断面図である。図18から図19(b)に示すように、同じ基板40上に弾性波共振器11および21が設けられている。弾性波共振器11は保護膜44上の共振領域48内に感応膜45を有し、付加膜47を有していない。弾性波共振器21は上部電極43と保護膜44の間の共振領域48内に付加膜47を有し、感応膜45を有していない。下部電極41、圧電膜42および上部電極43の材料および膜厚は弾性波共振器11と21とでほぼ同じである。その他の構成は図6(a)および図6(b)と同じであり説明を省略する。
図22(a)および図22(b)は、実施例1および2におけるセンサ回路の断面図である。図22(a)に示すように、基板40の上面に弾性波共振器11、21および配線62が設けられている。配線62は、それぞれ弾性波共振器11および21の下部電極41および上部電極43に接続されている。基板40の下面に電極52が設けられている。貫通電極50は配線62と電極52とを電気的に接続する。基板56は例えばシリコン基板等の半導体基板である。基板56には、弾性波共振器11および21以外の回路素子が設けられている。基板56の上面に電極58が設けられている。基板40は基板56上にフェースアップ実装されている。電極58と52とはバンプ60により接合されている。その他の構成は、図18から図20(b)と同様である。
11、21 弾性波共振器
12 共振器
14 増幅器
16 分岐回路
18 移相回路
20、22 移相器
24 ミキサ
26 LPF
28、30 増幅回路
32 制御部
40 基板
41 下部電極
42 圧電膜
43 上部電極
44 保護膜
45 感応膜
46 空隙
48 共振領域
Claims (11)
- 感応部の質量が変化することで共振周波数および/または反共振周波数が変化する共振器と、
前記共振周波数または前記反共振周波数に対応する発振信号を出力する増幅器と、
前記発振信号が分岐された第1信号および第2信号の位相差を前記発振信号の周波数の変化に対応して変化させる移相回路と、
前記移相回路が位相差を変化させた前記第1信号と前記第2信号とをミキシングすることで前記共振器の前記共振周波数または反共振周波数の変化に対応する信号を出力するミキサと、
を具備するセンサ回路。 - 前記移相回路は、前記第1信号の位相を第1移相量で変化させる第1移相器と、前記第2信号の位相を第2移相量で変化させ、前記第2信号の周波数の変化に対する前記第2移相量の変化量は前記第1信号の周波数の変化に対する第1移相量の変化量と異なる第2移相器と、を有する請求項1記載のセンサ回路。
- 前記第1移相器は、第1弾性波共振器を有する請求項2記載のセンサ回路。
- 前記第1弾性波共振器は、前記第1信号が伝送する伝送線路にシャント接続されている請求項3記載のセンサ回路。
- 前記第1移相器は、前記第1弾性波共振器に並列に、前記伝送線路にシャント接続されたキャパシタを有する請求項4記載のセンサ回路。
- 前記第1信号の周波数は、前記第1弾性波共振器の反共振周波数近傍に位置する請求項4または5記載のセンサ回路。
- 前記共振器は第2弾性波共振器を含む請求項1から6のいずれか一項記載のセンサ回路。
- 前記第2弾性波共振器は、
圧電層と、
前記圧電層の少なくとも一部を挟む第1電極および第2電極と、
前記第2電極の前記圧電層と反対側に設けられ、前記感応部である感応膜と、
を有する請求項7記載のセンサ回路。 - 前記ミキサの出力端子に接続され、前記発振信号の周波数のより低い遮断周波数を有するローパスフィルタを具備する請求項1から8のいずれか一項記載のセンサ回路。
- センシング前に前記共振器の共振周波数および/または反共振周波数を調整する制御部を具備する請求項1から9のいずれか一項記載のセンサ回路。
- 感応部の質量が変化することで変化する共振器の共振周波数または反共振周波数に対応する発振信号を出力するステップと、
前記発振信号が分岐された第1信号および第2信号の位相差を前記発振信号の周波数の変化に対応して変化させるステップと、
前記位相差を変化させた前記第1信号と前記第2信号とをミキシングすることで前記共振器の前記共振周波数または前記反共振周波数の変化に対応する信号を出力するステップと、
を含むセンシング方法。
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