JP6443836B2 - Retardation film - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示装置等の画像表示装置に有用な位相差フィルム、これを用いた液晶表示セル及び液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a retardation film useful for an image display device such as a liquid crystal display device, a liquid crystal display cell using the same, and a liquid crystal display device.

表示装置は、これまでCRT(Cathode Ray Tube)が主に使われてきたが、近年、パソコンモニター、テレビ、携帯電話、車載用モニター等で液晶表示装置が、さまざまな環境で広く使用されている。また、表示装置の性能として、高コントラストや広視野角特性や更なる高耐久性が要求されている。   Until now, CRT (Cathode Ray Tube) has been mainly used as a display device, but in recent years, liquid crystal display devices are widely used in various environments such as personal computer monitors, televisions, mobile phones, and in-vehicle monitors. . In addition, the display device is required to have high contrast, wide viewing angle characteristics, and higher durability.

通常の液晶表示装置では、液晶セルと偏光板に加えて、位相差フィルムが用いられている。液晶表示装置では、異方性をもつ液晶材料及び偏光板だけでは正面から見た場合には良好な表示が得られても、斜めから見ると表示性能が低下するという視野角依存性の問題があるので、その改善のため、位相差フィルムが用いられている。   In a normal liquid crystal display device, a retardation film is used in addition to a liquid crystal cell and a polarizing plate. In a liquid crystal display device, there is a problem of viewing angle dependency that even if a liquid crystal material having anisotropy and a polarizing plate alone can provide a good display when viewed from the front, the display performance is degraded when viewed from an oblique direction. Therefore, a retardation film is used for the improvement.

位相差フィルムは、直線偏光を楕円偏光や円偏光に変換したり、ある方向にある直線偏光を別の方向に変換(旋光)したりすることができる機能を有しており、これらの機能を利用することにより、例えば液晶表示装置の視野角やコントラスト等を改善することができる。この位相差フィルムは、通常ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン等のプラスチックフィルムを一軸または二軸延伸することによって得られる。このとき、延伸によって発生する屈折率の異方性によって複屈折が発生し、位相差フィルムとして機能する。位相差フィルムの光学的性能は、例えば、ある波長における位相差フィルム正面方向での遅相軸方向(面内で屈折率が最大となる方向)の屈折率と進相軸方向(面内で遅相軸方向と直交する方向)の屈折率の差と位相差フィルムの厚さの積によって求められる位相差値によって決めることができる。しかしながら、この位相差値にはいわゆる波長依存性(波長分散特性)と視野角依存性(視野角特性)があり、位相差フィルムはこれら諸特性を含めた総合的な性能を考慮して種々のディスプレイに使用される。   The retardation film has functions that can convert linearly polarized light into elliptically polarized light and circularly polarized light, or convert linearly polarized light in one direction into another direction (rotation). By using it, for example, the viewing angle and contrast of the liquid crystal display device can be improved. This retardation film is usually obtained by uniaxially or biaxially stretching a plastic film such as polycarbonate, polyarylate, or polyethersulfone. At this time, birefringence is generated by the anisotropy of the refractive index generated by stretching, and functions as a retardation film. The optical performance of the retardation film is, for example, the refractive index in the slow axis direction in the front direction of the retardation film at a certain wavelength (the direction in which the refractive index is maximum in the plane) and the fast axis direction (slow in the plane) It can be determined by the retardation value obtained by the product of the refractive index difference in the direction perpendicular to the phase axis direction) and the thickness of the retardation film. However, this retardation value has a so-called wavelength dependency (wavelength dispersion characteristic) and viewing angle dependency (viewing angle characteristic), and the retardation film has various properties in consideration of comprehensive performance including these various characteristics. Used for display.

このうち、視野角特性は、位相差値の角度依存性であり、一般的に位相差フィルムの延伸方法によって制御される。延伸によって延伸方向の屈折率nxとそれとフィルム面内で直交する方向の屈折率nyと厚さ方向の屈折率nzが発生し、その値によって、位相差フィルムの視野角特性が決まる。一軸延伸においては通常nx>ny=nzの関係となるため、いわゆる一軸性を有する位相差フィルムとなる。これに対し、二軸性は例えば、nx>ny>nzあるいはnz≧ny>nxあるいはny>nz>nxとなる場合等が挙げられるが、通常の一軸延伸ではそのような屈折率を有する位相差フィルムを得ることは容易ではなかった。   Among these, the viewing angle characteristic is the angle dependency of the retardation value, and is generally controlled by the stretching method of the retardation film. Stretching generates a refractive index nx in the stretching direction, a refractive index ny in a direction perpendicular to the film in the film plane, and a refractive index nz in the thickness direction, and the values determine the viewing angle characteristics of the retardation film. In uniaxial stretching, the relationship is usually nx> ny = nz, so that the retardation film has a so-called uniaxial property. On the other hand, biaxiality includes, for example, a case where nx> ny> nz or nz ≧ ny> nx or ny> nz> nx, and the phase difference having such a refractive index in normal uniaxial stretching. It was not easy to obtain a film.

例えばポリカーボネートなどのような高分子フィルムを一軸延伸して得られる一般的な位相差フィルムの場合、遅相軸方向に傾斜した場合は、正面方向からの傾斜角が大きくなるほど位相差値は小さくなり、逆に進相軸方向に傾斜した場合は、正面方向からの傾斜角が大きくなるほど位相差値は大きくなる。この傾向はポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、ゼオノア(日本ゼオン製)やアートン(JSR製)といったシクロオレフィン系ポリマー等、一軸延伸した他の一般的な位相差フィルムに共通して見られる傾向である。位相差フィルムの使用には、このように傾斜に伴い位相差値が変化する特性を利用する場合と、傾斜に伴う位相差値変化が極力無い特性を利用する場合とが有り、どちらの特性の位相差フィルムを用いるかは目的によって適宜使い分けられている。   For example, in the case of a general retardation film obtained by uniaxially stretching a polymer film such as polycarbonate, the retardation value decreases as the inclination angle from the front direction increases when the film is inclined in the slow axis direction. On the contrary, when tilted in the fast axis direction, the phase difference value increases as the tilt angle from the front direction increases. This tendency is common to other uniaxially stretched general retardation films such as polyarylate, polyethersulfone, cycloolefin polymers such as ZEONOR (manufactured by Nippon Zeon) and ARTON (manufactured by JSR). . There are two types of use of the retardation film: the case where the characteristic that the retardation value changes with the inclination as described above is used, and the case where the characteristic that the retardation value changes with the inclination as much as possible is used. Whether to use a retardation film is appropriately selected depending on the purpose.

傾斜に伴う位相差値変化を極力抑えた位相差フィルムとして、特許文献3には、延伸されるフィルムに収縮性フィルムを貼り合わせ、これを一軸延伸することにより、実質的に二軸延伸を行い、傾斜に伴う位相差値の変化を抑制した位相差フィルムの製造方法が開示されている。しかしながら、収縮性フィルムを貼り合わせて実質的な二軸延伸を行う方法では、収縮性フィルムの貼り合せや、延伸後の剥離といった工程の増加があり、それに伴うコストアップの問題を引き起こしていた。   As a retardation film that suppresses a change in retardation value associated with an inclination as much as possible, Patent Document 3 substantially performs biaxial stretching by bonding a shrinkable film to a stretched film and stretching it uniaxially. A method for producing a retardation film in which a change in retardation value associated with inclination is suppressed is disclosed. However, in the method in which the shrinkable film is pasted and substantially biaxially stretched, there are an increase in the steps of pasting the shrinkable film and peeling after stretching, which causes a problem of cost increase.

一方、液晶表示装置の高画質化を達成するために、位相差フィルムの面内遅延(Re)だけでなく、厚み方向遅延(Rth)も制御したいという要求がある。
例えば、近年注目されている水平電界(IPS)方式の液晶表示装置に関しても、特定の斜め方向から見た場合に、階調反転、着色、コントラストの低下が生じ、その方向では視野角が小さくなることがあるため、他の液晶表示方式と同様に、位相差フィルムを用いて光学補償を行い、視野角を拡大することが必要となるIPS方式の液晶表示装置用の位相差フィルムとしては、厚み方向遅延が負の値であることが好ましい。しかし、セルローストリアセテートやポリカーボネートからなるフィルムは、厚み方向遅延は正の値を有する。そのため、光弾性係数の絶対値が小さいことに加え、厚み方向遅延が負である位相差フィルムが求められている。
On the other hand, in order to achieve high image quality of the liquid crystal display device, there is a demand for controlling not only the in-plane delay (Re) of the retardation film but also the thickness direction delay (Rth).
For example, in a horizontal electric field (IPS) type liquid crystal display device that has been attracting attention in recent years, gradation inversion, coloring, and a decrease in contrast occur when viewed from a specific oblique direction, and the viewing angle decreases in that direction. Therefore, as with other liquid crystal display systems, a retardation film for an IPS liquid crystal display device that requires optical compensation by using a retardation film and needs to expand the viewing angle has a thickness. The direction delay is preferably a negative value. However, a film made of cellulose triacetate or polycarbonate has a positive value in the thickness direction retardation. Therefore, in addition to a small absolute value of the photoelastic coefficient, a retardation film having a negative thickness direction delay is required.

さらに、IPS方式の液晶表示装置では、液晶分子が基板面に対して略平行なホモジニアス配向を有するために、その光学補償には基板面に対して垂直な方向の屈折率の高いフィルムを用いることが有効とされている。そのため、IPS方式の液晶表示装置に用いる位相差フィルムにおいては、nzの値や位相差(Re、Rth)を制御することについても着目されており、負の固有複屈折値を有する材料を用いたり、正の固有複屈折値を有する材料に特殊な処理を施すことにより、基板面に対して垂直な方向の屈折率を高める工夫がなされている。     Further, in the IPS liquid crystal display device, since the liquid crystal molecules have a homogeneous alignment substantially parallel to the substrate surface, a film having a high refractive index in a direction perpendicular to the substrate surface is used for optical compensation. Is valid. Therefore, in the retardation film used in the IPS liquid crystal display device, attention is also paid to controlling the nz value and the retardation (Re, Rth), and a material having a negative intrinsic birefringence value is used. In order to increase the refractive index in the direction perpendicular to the substrate surface, a special treatment is applied to a material having a positive intrinsic birefringence value.

具体的には、IPS方式の液晶表示装置用位相差フィルムの場合、ネガティブAプレートと呼ばれるnx=nz>nyを満足するフィルムや、ポジティブCプレートと呼ばれるnx=ny<nzを満足するフィルムを用いることが画質の向上に有効であることが知られている。   Specifically, in the case of a retardation film for an IPS liquid crystal display device, a film satisfying nx = nz> ny called a negative A plate or a film satisfying nx = ny <nz called a positive C plate is used. Is known to be effective in improving image quality.

例えば、特許文献4には、負の固有複屈折を有する材料を用いたネガティブAプレートにより液晶表示装置の光学補償を行うことが記載されている。しかし、負の固有複屈折を有する材料として従来知られているポリスチレンやポリメチルメタクリレートは、耐熱性が十分ではなく、光弾性係数が大きいという問題があった。
特許文献5には、ポジティブCプレートによるIPS方式の液晶表示装置の光学補償の概念が開示されている。しかし、特許文献3には、シュミレーションによる構成実施例が記載されているのみで、そのようなフィルムを製造するための材料については記載されていない。
また、特許文献6には、IPS方式の液晶表示装置に適した位相差フィルムとして、熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下に延伸処理及び/又は収縮処理して傾斜配向させたポリカーボネートフィルムやノルボルネンなどのシクロオレフィン系フィルム等の正の固有複屈折を有するフィルムが開示されている。しかしながら、このフィルムの製造には、熱収縮フィルムの接着工程や剥離工程が含まれ、生産性に問題がある。
For example, Patent Document 4 describes that a liquid crystal display device is optically compensated by a negative A plate using a material having negative intrinsic birefringence. However, polystyrene and polymethyl methacrylate, which are conventionally known as materials having negative intrinsic birefringence, have a problem that heat resistance is not sufficient and a photoelastic coefficient is large.
Patent Document 5 discloses the concept of optical compensation of an IPS liquid crystal display device using a positive C plate. However, Patent Document 3 only describes a configuration example by simulation, and does not describe a material for manufacturing such a film.
In Patent Document 6, as a retardation film suitable for an IPS liquid crystal display device, a heat-shrink film is bonded, and the film is stretched and / or shrunk under the action of the shrinkage force by heating to be tilted. A film having positive intrinsic birefringence such as a polycarbonate film or a cycloolefin film such as norbornene is disclosed. However, the production of this film includes a heat shrink film bonding step and a peeling step, and there is a problem in productivity.

通常、フィルムの製膜直後におけるポリマーの屈折率楕円体は球形をしているが、フィルムを延伸するとポリマー鎖は延伸方向に配向するため、通常はフィルム面に水平な屈折率楕円体となる、従って、フィルム面内に対して垂直の方向に立ったコイン形状の屈折率楕円体を得ることは非常に困難であると考えられている。   Usually, the refractive index ellipsoid of the polymer immediately after film formation is spherical, but when the film is stretched, the polymer chain is oriented in the stretching direction, so it usually becomes a refractive index ellipsoid horizontal to the film surface. Therefore, it is considered very difficult to obtain a coin-shaped refractive index ellipsoid standing in a direction perpendicular to the film plane.

このように、IPS方式の液晶表示装置に適した位相差フィルム、あるいは、ネガティブAプレートを製造するのに適した位相差フィルムは未だ知られていない。   Thus, a retardation film suitable for an IPS liquid crystal display device or a retardation film suitable for producing a negative A plate is not yet known.

特許第3174367号公報Japanese Patent No. 3174367 特許第3459779号公報Japanese Patent No. 345779 特許第2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 米国特許第5612801号明細書US Pat. No. 5,612,801 特開平11−133408号公報JP 11-133408 A 特開2006−106180号公報JP 2006-106180 A

本発明は、液晶セルや液晶表示装置に用いた場合に、視野角特性に優れる位相差フィルムを提供することを目的とする。
また、本発明は、二軸延伸ではなく一軸延伸のみでネガティブAプレートとしての光学特性を発現することが可能な位相差フィルムを提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a retardation film having excellent viewing angle characteristics when used in a liquid crystal cell or a liquid crystal display device.
Another object of the present invention is to provide a retardation film capable of expressing optical characteristics as a negative A plate only by uniaxial stretching rather than biaxial stretching.

本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意研究の結果、特定の構造を有する乳酸由来ポリマーからなるフィルムを一軸延伸してなる位相差フィルムは、二軸延伸することなしに特定の3次元屈折率を示すことから、液晶セルや液晶表示装置の視野角特性の問題を解決しうることを見出した。更に、本発明者等は、かかる位相差フィルムは特にIPS液晶セルの補償に有用なネガティブAプレートとしての光学特性を発現できることを見出した。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have obtained a specific three-dimensional retardation film that is uniaxially stretched from a lactic acid-derived polymer film having a specific structure without being biaxially stretched. Since it shows a refractive index, it discovered that the problem of the viewing angle characteristic of a liquid crystal cell or a liquid crystal display device could be solved. Furthermore, the present inventors have found that such a retardation film can exhibit optical characteristics as a negative A plate particularly useful for compensation of an IPS liquid crystal cell.

即ち、本発明は、下記[1]〜[6]に記載の発明に関するものである。
[1]測定波長590nmにおける三次元屈折率が下記式(1)または(2):
nx≧nz>ny (1)
nz≧nx>ny (2)
(式(1)及び(2)において、nxは位相差フィルム面内における延伸方向の屈折率であり、nyは位相差フィルム面内における延伸方向と直行方向の屈折率であり、nzは厚さ方向の屈折率である。)を満たし、
一般式(3):

Figure 0006443836
(式中、R及びRは異なっており、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示し、或いはR及びRは互いに結合して隣接する不斉炭素(C*)とともに非対称な環を形成してもよい。*は不斉炭素を示す。)
で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーであり、該ポリマー中のメソ二連子(m)とラセモ二連子(r)の比(m:r)が60:40〜100:0であるポリマーからなるフィルムを延伸して成る位相差フィルム。
[2]
前記ポリマーが下記式(4):
Figure 0006443836
(式中、R、R及び*は、式(3)で定義される通りである。)
で表される化合物を含むモノマーをラジカル重合して得られる、[1]に記載の位相差フィルム。
[3]式(4)で表される化合物を含むモノマーまたは、当該モノマーの溶液をキャストし、ラジカル重合処理を施して得られたフィルムを、さらに延伸処理して得られる[2]に記載の位相差フィルム。
[4]式(4)で表される化合物を含むモノマーにラジカル重合処理を施したポリマーを用いて、押し出し法にて得られたフィルムを、さらに延伸処理して得られる[2]請求項1に記載の位相差フィルム。
[5][1]〜[4]のいずれか1項に記載の位相差フィルムを備える液晶セル。
[6][1]〜[4]のいずれか1項に記載の位相差フィルムを備える液晶表示装置。 That is, the present invention relates to the inventions described in [1] to [6] below.
[1] The three-dimensional refractive index at a measurement wavelength of 590 nm is the following formula (1) or (2):
nx ≧ nz> ny (1)
nz ≧ nx> ny (2)
(In the formulas (1) and (2), nx is the refractive index in the stretching direction in the retardation film plane, ny is the refractive index in the stretching direction and the orthogonal direction in the retardation film plane, and nz is the thickness. Is the refractive index in the direction)
General formula (3):
Figure 0006443836
(In the formula, R 1 and R 2 are different and each independently has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. Or R 1 and R 2 may be bonded to each other to form an asymmetric ring with the adjacent asymmetric carbon (C *). * Represents an asymmetric carbon.)
In the polymer, the ratio (m: r) of the meso duplex (m) to the racemo duplex (r) in the polymer is 60:40 to 100: 0. A retardation film formed by stretching a film made of a polymer.
[2]
The polymer is represented by the following formula (4):
Figure 0006443836
(Wherein R 1 , R 2 and * are as defined in formula (3).)
The retardation film according to [1], obtained by radical polymerization of a monomer containing a compound represented by the formula:
[3] The monomer according to [2], obtained by casting a monomer containing the compound represented by formula (4) or a solution of the monomer and subjecting it to radical polymerization treatment, and further stretching treatment Retardation film.
[4] A film obtained by an extrusion method using a polymer obtained by subjecting a monomer containing a compound represented by formula (4) to radical polymerization treatment, and obtained by further stretching treatment. [2] Claim 1 The retardation film described in 1.
[5] A liquid crystal cell comprising the retardation film according to any one of [1] to [4].
[6] A liquid crystal display device comprising the retardation film according to any one of [1] to [4].

本発明により、液晶セルや液晶表示装置の視野角特性の問題を解決することができる位相差フィルムを提供することができる。
また、本発明の位相差フィルムは、3次元屈折率を任意に制御できる特性を有する。
更に、本発明により、実質的な二軸延伸を行うことなしに、一軸延伸のみで二軸性が発現し、視野角特性をも制御した位相差フィルムが得られ、かかる位相差フィルムはネガティブAプレートとしての光学特性を発現することができる。
According to the present invention, a retardation film that can solve the problem of viewing angle characteristics of a liquid crystal cell or a liquid crystal display device can be provided.
In addition, the retardation film of the present invention has a characteristic that the three-dimensional refractive index can be arbitrarily controlled.
Furthermore, according to the present invention, there can be obtained a retardation film in which biaxiality is manifested only by uniaxial stretching and the viewing angle characteristics are controlled without performing substantial biaxial stretching. Optical characteristics as a plate can be expressed.

本発明の1つの態様は、測定波長590nmにおける三次元屈折率が下記式(1)または(2):
nx≧nz>ny (1)
nz≧nx>ny (2)
を満たし、
一般式(3):

Figure 0006443836
(式(3)において、R及びRは異なっており、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示し、或いはR及びRは互いに結合して隣接する不斉炭素(C*)とともに非対称な環を形成してもよい。*は不斉炭素を示す。またR及びRは同じ置換基を有していても良く、RおよびRには水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示し、或いはR及びRは互いに結合して隣接する炭素とともに対称な環を形成してもよい。)
で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーであり、該ポリマー中のメソ二連子(m)とラセモ二連子(r)の比(m:r)が60:40〜100:0であるポリマーからなるフィルムを延伸して成る位相差フィルムである。 In one embodiment of the present invention, the three-dimensional refractive index at a measurement wavelength of 590 nm is represented by the following formula (1) or (2):
nx ≧ nz> ny (1)
nz ≧ nx> ny (2)
The filling,
General formula (3):
Figure 0006443836
(In Formula (3), R 1 and R 2 are different, and each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. R 1 and R 2 may be bonded to each other to form an asymmetric ring with the adjacent asymmetric carbon (C *), and * represents an asymmetric carbon. R 1 and R 2 may have the same substituent, and R 1 and R 2 may be a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, Or a heteroaryl group which may have a substituent, or R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a symmetric ring with adjacent carbons.)
In the polymer, the ratio (m: r) of the meso duplex (m) to the racemo duplex (r) in the polymer is 60:40 to 100: 0. It is a retardation film formed by stretching a film made of a certain polymer.

式(1)及び(2)において、nxは位相差フィルム面内における延伸方向の屈折率であり、nyは位相差フィルム面内における延伸方向と直行方向の屈折率であり、nzは厚さ方向の屈折率である。   In the formulas (1) and (2), nx is the refractive index in the stretching direction in the retardation film plane, ny is the refractive index in the stretching direction and the orthogonal direction in the retardation film plane, and nz is the thickness direction. Is the refractive index.

即ち、本発明の位相差フィルムは、一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーからなるフィルムを延伸して成るフィルムであって、測定波長590nmにおける三次元屈折率がnx≧nz>ny又はnz≧nx>nyの関係を満たすものである。ここで、nx、ny、nzの大きさを判定する際には、小数点4桁目で差があれば屈折率に有意差があるものとして判断する。   That is, the retardation film of the present invention is a film formed by stretching a film made of a polymer having a repeating unit represented by the general formula (3) in the molecule, and the three-dimensional refractive index at a measurement wavelength of 590 nm is nx. The relationship of ≧ nz> ny or nz ≧ nx> ny is satisfied. Here, when determining the sizes of nx, ny, and nz, if there is a difference in the fourth digit of the decimal point, it is determined that there is a significant difference in refractive index.

及びRで示される置換基を有してもよいアルキル基のアルキル基としては、例えば、直鎖、分岐又は環状のC1〜10のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、イソヘキシル等のC1〜6のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくはエチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基であり、より好ましくはイソプロピル基である。該アルキル基は、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素等)、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等の置換基を1〜3個有していてもよい。また、R及びRで示される置換基を有してもよいアルキル基は、互いに違う置換基でもまた同じ置換基でもよい。 Examples of the alkyl group of the alkyl group which may have a substituent represented by R 1 and R 2 include a linear, branched, or cyclic C 1-10 alkyl group. Specific examples include C1-6 alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, cyclopentyl, hexyl, cyclohexyl, and isohexyl. Among these, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group are preferable, and an isopropyl group is more preferable. The alkyl group may have 1 to 3 substituents such as a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, etc.), a carboxyl group, an ester group, an amide group, an optionally protected hydroxyl group, and the like. Good. Further, the alkyl group which may have a substituent represented by R 1 and R 2 may be a different substituent or the same substituent.

及びRで示される置換基を有してもよいアリール基のアリール基としては、例えば、単環又は2環以上のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル、トルイル、キシリル、ナフチル、アンスリル、フェナンスリル等が挙げられる。該アリール基は、例えば、アルキル基(例えば、C1〜6アルキル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素等)、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等の置換基を1〜3個有していてもよい。 Examples of the aryl group of the aryl group which may have a substituent represented by R 1 and R 2 include monocyclic or bicyclic or more aryl groups, and specifically include phenyl, toluyl, xylyl, naphthyl. , Anthryl, phenanthryl and the like. Examples of the aryl group include an alkyl group (for example, C1-6 alkyl group), a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, etc.), a carboxyl group, an ester group, an amide group, an optionally protected hydroxyl group, and the like. 1 to 3 substituents may be included.

及びRで示される置換基を有してもよいヘテロアリール基のヘテロアリール基としては、例えば、酸素、窒素及び/又は硫黄原子を環内に含むヘテロアリール基であり、例えば、フリル、チエニル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソキサゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、チアゾリル等が挙げられる。該ヘテロアリール基は、例えば、アルキル基(例えば、C1〜6アルキル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素等)、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等の置換基を1〜3個有していてもよい。 The heteroaryl group of the heteroaryl group which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is, for example, a heteroaryl group containing an oxygen, nitrogen and / or sulfur atom in the ring, such as furyl , Thienyl, imidazolyl, pyrazolyl, isoxazolyl, pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, indolyl, quinolyl, isoquinolyl, thiazolyl and the like. The heteroaryl group includes, for example, an alkyl group (for example, C1-6 alkyl group), a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, etc.), a carboxyl group, an ester group, an amide group, and an optionally protected hydroxyl group. 1 to 3 substituents may be included.

及びRは互いに結合して隣接する不斉炭素(C*)とともに非対称な環を形成してもよい。例えば、3〜8員環の環状炭化水素を形成し、該環状炭化水素には、非対称となるように、例えば、アルキル基(例えば、C1〜6アルキル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素等)、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等の置換基を1〜4個有している。 R 1 and R 2 may combine with each other to form an asymmetric ring with the adjacent asymmetric carbon (C *). For example, a 3- to 8-membered cyclic hydrocarbon is formed, and the cyclic hydrocarbon is, for example, an alkyl group (for example, a C1-6 alkyl group) or a halogen atom (for example, fluorine, Chlorine, bromine, etc.), carboxyl groups, ester groups, amide groups, 1 to 4 substituents such as optionally protected hydroxyl groups.

及びRとして、好ましくは、Rに水素、Rにエチル、イソプロピル基又はtert−ブチル基であり、RとRは入れ替わっていても良く、特に好ましくはRに水素、Rにイソプロピル基であり、RとRは入れ替わっても良い。また、R及びRは互いに違う置換基でもまた同じ置換基でも良い。 As R 1 and R 2, preferably, ethyl R 1 hydrogen, the R 2, isopropyl group or a tert- butyl group, R 1 and R 2 may be interchanged, particularly preferably hydrogen R 1, R 2 is an isopropyl group, and R 1 and R 2 may be interchanged. R 1 and R 2 may be different from each other or the same substituent.

本発明においては、好ましくは、一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーは、下記式(4):

Figure 0006443836
で表される化合物を含むモノマーをラジカル重合して得られるポリマーである。
ここで、式(4)中、R、R及び*は、式(3)で定義される通りである。 In the present invention, the polymer having the repeating unit represented by the general formula (3) in the molecule is preferably the following formula (4):
Figure 0006443836
Is a polymer obtained by radical polymerization of a monomer containing a compound represented by the formula:
Here, in formula (4), R 1 , R 2 and * are as defined in formula (3).

ここで、R及びRは異なっているため、R及びRが結合する炭素原子は不斉炭素(C*)となる。該不斉炭素における立体構造は、R体及びS体で表記することができるが、本発明で用いる式(4)で表される化合物は、R体とS体のモル比が、R体(S体):S体(R体)=70:30〜100:0、好ましくは75:25〜100:0、より好ましくは80:20〜100:0である。 Here, since R 1 and R 2 are different, the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded is an asymmetric carbon (C *). The steric structure of the asymmetric carbon can be represented by R-form and S-form, but the compound represented by the formula (4) used in the present invention has a molar ratio of R-form and S-form with R-form ( S-form): S-form (R-form) = 70: 30 to 100: 0, preferably 75:25 to 100: 0, and more preferably 80:20 to 100: 0.

式(4)で表されるモノマーは、種々の方法で製造される。例えば、MaGee,D.I.et al.Tetrahedron,62,4153−61(2006)の記載に準じて製造することができる。具体的な製造スキームを説明する。   The monomer represented by the formula (4) is produced by various methods. For example, MaGee, D .; I. et al. It can be produced according to the description of Tetrahedron, 62, 4153-61 (2006). A specific production scheme will be described.

Figure 0006443836
(式中、Xはハロゲン原子を示す。R、R及び*は前記に同じ。)
Figure 0006443836
(In the formula, X represents a halogen atom. R 1 , R 2 and * are the same as above.)

一般式(6)で表される乳酸は、例えば、L−乳酸、D−乳酸、発酵乳酸等が挙げられる。上記のスキームは便宜上、L−乳酸を用いているが、そのエナンチオマーであるD−乳酸を用いた場合も同様にして製造することができる。この場合、上記のスキーム中の化合物は不斉炭素の立体配置が反転したものとなる。また、原料として、発酵乳酸を使用することができる(グリーンケミストリー)。特に、発酵乳酸はL−乳酸をリッチに含むため、エナンチオマーの分離過程を省略することができる。即ち、発酵乳酸由来のモノマーからラジカル重合して得られるポリマーは、十分に高い立体規則性(アイソタクチック)が得られる。これは、実際に工業化する上で非常に重要である。
一般式(5)で表されるカルボニル化合物(例えば、イソブチルアルデヒド等)、一般式(6)で表されるL−乳酸を、溶媒(例えば、n−ペンタン等の炭化水素系溶媒等)中、酸触媒(例えば、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等)の存在下で、Dean−Stark分留器を備えた還流冷却器を用いて水を共沸して除きながら還流する。
Examples of the lactic acid represented by the general formula (6) include L-lactic acid, D-lactic acid, and fermented lactic acid. In the above scheme, L-lactic acid is used for the sake of convenience, but it can also be produced in the same manner when D-lactic acid, which is the enantiomer, is used. In this case, the compounds in the above scheme are those in which the configuration of the asymmetric carbon is reversed. Moreover, fermented lactic acid can be used as a raw material (green chemistry). In particular, since fermented lactic acid contains L-lactic acid in a rich manner, the separation process of enantiomers can be omitted. That is, a polymer obtained by radical polymerization from a monomer derived from fermented lactic acid has sufficiently high stereoregularity (isotactic). This is very important for practical industrialization.
A carbonyl compound represented by the general formula (5) (for example, isobutyraldehyde) and L-lactic acid represented by the general formula (6) in a solvent (for example, a hydrocarbon solvent such as n-pentane) In the presence of an acid catalyst (for example, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid, etc.), reflux is performed while removing water azeotropically using a reflux condenser equipped with a Dean-Stark fractionator.

一般式(5)で表されるカルボニル化合物は、公知のアルデヒドおよびケトンを広く使用できる。このようなアルデヒドとしては、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ピバルアルデヒド、バレルアルデヒド、トリフルオロエタナール、クロラール、スクシンアルデヒド、クロロフルオロアセトアルデヒド、メントン、シクロヘキサンカルバルデヒド、2−ピロールカルバルデヒド、3−ピリジンカルバルデヒド、2−フルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ベンゼンアセトアルデヒド、バニリン、ピペロナール、シトロネラ−ル等が挙げられる。また、ケトンとしては、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルsec−ブチルケトン、メチルtert−ブチルケトン、アセトフェノン、2−フリルメチルケトン、2−アセトナフトン、2(3H)−ピラジノン、ピロリドン等が挙げられる。このうち、好ましくはアセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ピバルアルデヒド等であり、より好ましくはイソブチルアルデヒドである。   Known aldehydes and ketones can be widely used as the carbonyl compound represented by the general formula (5). Such aldehydes include acetaldehyde, propionaldehyde, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, pivalaldehyde, valeraldehyde, trifluoroethanal, chloral, succinaldehyde, chlorofluoroacetaldehyde, menthone, cyclohexanecarbaldehyde, 2- Examples include pyrrole carbaldehyde, 3-pyridinecarbaldehyde, 2-furaldehyde, benzaldehyde, benzeneacetaldehyde, vanillin, piperonal, citronellal and the like. Examples of the ketone include methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 2-hexanone, methyl sec-butyl ketone, methyl tert-butyl ketone, acetophenone, 2-furylmethyl ketone, 2-acetonaphthone, 2 (3H) -pyrazinone, pyrrolidone and the like. . Of these, acetaldehyde, propionaldehyde, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, pivalaldehyde and the like are preferable, and isobutyraldehyde is more preferable.

縮合反応における生成物は、通常、一般式(7a)及び/又は(7b)で表される2つのジアステレオマーの混合物となる。これらは、例えば、常圧あるいは減圧下で蒸留したり、カラムクロマトグラフィー等により単離及び精製することができる。一般式(7a)及び(7b)で表される化合物の混合物となる場合は、上記の単離及び精製の方法を用いて分離することができる。   The product in the condensation reaction is usually a mixture of two diastereomers represented by the general formula (7a) and / or (7b). These can be isolated and purified, for example, by distillation under normal pressure or reduced pressure, or by column chromatography. When it becomes a mixture of the compounds represented by the general formulas (7a) and (7b), they can be separated by using the isolation and purification methods described above.

縮合反応の温度および時間は、例えば、試薬の種類により適宜調節すればよいが、反応温度は、通常、0〜180℃程度、好ましくは0〜80℃、より好ましくは0〜60℃であり、また、反応時間は、通常、0.5〜100時間、好ましくは0.5〜30時間、より好ましくは0.5〜10時間である。縮合反応の温度及び時間の条件は、(7a)と(7b)の生成比に大きな影響を及ぼし、通常、温度が低く、反応時間が短いとその生成比は高くなる。特に、0〜60℃、0.5〜10時間の条件で撹拌することにより、高いジアステレオ比が達成される。   The temperature and time of the condensation reaction may be appropriately adjusted depending on, for example, the type of reagent, but the reaction temperature is usually about 0 to 180 ° C, preferably 0 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C. Moreover, reaction time is 0.5 to 100 hours normally, Preferably it is 0.5 to 30 hours, More preferably, it is 0.5 to 10 hours. The conditions of the temperature and time of the condensation reaction have a great influence on the production ratio of (7a) and (7b). Usually, the temperature is low, and the reaction ratio is high when the reaction time is short. In particular, a high diastereo ratio is achieved by stirring under conditions of 0 to 60 ° C. and 0.5 to 10 hours.

一般式(7a)で表される化合物及び(7b)で表される化合物が混合物の場合には、重合後のポリマーの立体規則性の向上を考慮すると、一方の化合物が高純度で(高いジアステレオ比で)含まれていることが好ましい。例えば、一般式(7a)で表される化合物:一般式(7b)で表される化合物のモル比が70:30〜100:0、好ましくは80:20〜100:0、より好ましくは90:10〜100:0、特に好ましくは95:5〜100:0である。また、一般式(11b)で表される化合物:一般式(7a)で表される化合物のモル比が70:30〜100:0、好ましくは80:20〜100:0、より好ましくは90:10〜100:0、特に好ましくは95:5〜100:0である。   In the case where the compound represented by the general formula (7a) and the compound represented by (7b) are a mixture, one compound has a high purity (high dia Preferably in stereo ratio). For example, the molar ratio of the compound represented by the general formula (7a): the compound represented by the general formula (7b) is 70:30 to 100: 0, preferably 80:20 to 100: 0, and more preferably 90: It is 10-100: 0, Most preferably, it is 95: 5-100: 0. The molar ratio of the compound represented by the general formula (11b): the compound represented by the general formula (7a) is 70:30 to 100: 0, preferably 80:20 to 100: 0, and more preferably 90: It is 10-100: 0, Most preferably, it is 95: 5-100: 0.

ついで、上記で得た一般式(7)で表される化合物(一般式(7a)及び/又は(7b)で表される化合物の総称とする)を、例えば、溶媒(例えば、四塩化炭素等)の存在下、ハロゲン化剤(例えば、N−ブロモスクシンイミド(NBS)、N−クロロスクシンイミド(NCS)、N−ヨードスクシンイミド(NIS)、N,N−ジブロモヒダントイン(NDBH)、N−ブロモサッカリン(NBSA)、臭素、塩素、ヨウ素等)及びラジカル開始剤(例えば、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN)等)を反応させる。通常、還流冷却器を備えたフラスコ中で一定時間還流する。反応後、常法により処理して一般式(8)で表される化合物(一般式(8a)及び/又は(8b)で表される化合物の総称とする)を得る。   Next, the compound represented by the general formula (7) obtained above (referred to as a generic name of the compound represented by the general formula (7a) and / or (7b)) is used, for example, as a solvent (for example, carbon tetrachloride, etc. ) In the presence of halogenating agents (for example, N-bromosuccinimide (NBS), N-chlorosuccinimide (NCS), N-iodosuccinimide (NIS), N, N-dibromohydantoin (NDDBH), N-bromosaccharin ( NBSA), bromine, chlorine, iodine etc.) and a radical initiator (eg 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN) etc.) are reacted. Usually refluxed for a period of time in a flask equipped with a reflux condenser. After the reaction, the compound is treated by a conventional method to obtain a compound represented by the general formula (8) (collectively a compound represented by the general formula (8a) and / or (8b)).

その後、一般式(8)で表される化合物に、溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等)中、塩基(例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ピペリジン、DBU、NaCO、NaOH等)を作用させる。通常、一般式(8)で表される化合物の溶液に塩基を加えて一定時間還流する。反応後、溶媒を留去した後、蒸留により単離及び精製して、一般式(4)で表される化合物(一般式(4a)及び/又は(4b)で表される化合物の総称とする)を得る。
また、得られた化合物の保管時あるいは使用時の安定性向上のために、合成時あるいは合成後にハイドロキノン、p−メトキシフェノール、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、3−ヒドロキシチオフェノール、p−ベンゾキノン、2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゾキノン、フェノチアジン等の重合禁止剤を必要に応じて添加しても良い。その使用量は化合物に対し0.01〜1質量%である。
Thereafter, the compound represented by the general formula (8) is added to a base (eg, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, piperidine, DBU, Na 2 ) in a solvent (eg, benzene, toluene, xylene, etc.). CO 3 , NaOH, etc.) are allowed to act. Usually, a base is added to the solution of the compound represented by the general formula (8) and refluxed for a certain time. After the reaction, after distilling off the solvent, the product is isolated and purified by distillation, and is a compound represented by the general formula (4) (generic name of the compound represented by the general formula (4a) and / or (4b)). )
In addition, in order to improve stability during storage or use of the obtained compound, hydroquinone, p-methoxyphenol, 2,4-dimethyl-6-t-butylphenol, 3-hydroxythiophenol, during synthesis or after synthesis, A polymerization inhibitor such as p-benzoquinone, 2,5-dihydroxy-p-benzoquinone, or phenothiazine may be added as necessary. The amount of its use is 0.01-1 mass% with respect to a compound.

得られた一般式(4)で表される化合物(モノマー)は、R及びRが結合する不斉炭素(C*)のエナンチオ比(即ち、R体とS体のモル比)が、R体(S体):S体(R体)=70:30〜100:0、好ましくは80:20〜100:0、より好ましくは90:10〜100:0、特に好ましくは95:5〜100:0である。
特に、一般式(4)で表されるモノマーとしては、ラジカル重合後のポリマーの立体規則性の観点より、以下の一般式(4c)で示される化合物が好ましい。R11としてはイソプロピル基が好ましい。
The compound (monomer) represented by the general formula (4) thus obtained has an enantio-ratio of the asymmetric carbon (C *) to which R 1 and R 2 are bonded (that is, the molar ratio of R-form to S-form). R-form (S-form): S-form (R-form) = 70: 30 to 100: 0, preferably 80:20 to 100: 0, more preferably 90:10 to 100: 0, and particularly preferably 95: 5 100: 0.
In particular, the monomer represented by the general formula (4) is preferably a compound represented by the following general formula (4c) from the viewpoint of the stereoregularity of the polymer after radical polymerization. R 11 is preferably an isopropyl group.

Figure 0006443836
Figure 0006443836

本発明の1つの態様において、本発明の位相差フィルムは、式(4)で表される化合物を含むモノマーまたは、モノマーの溶液をキャストし、ラジカル重合処理を施してフィルム状に成形して得ることができる。(以下「本発明の製造方法1」ともいう。)   In one embodiment of the present invention, the retardation film of the present invention is obtained by casting a monomer containing a compound represented by formula (4) or a solution of the monomer, performing radical polymerization treatment, and forming into a film shape. be able to. (Hereinafter also referred to as “Production Method 1 of the Present Invention”)

また、本発明の1つの態様において、本発明の位相差フィルムは、式(4)で表される化合物を含むモノマーまたは、モノマーの溶液をキャストし、ラジカル重合処理を施して得られたフィルムを、さらに延伸処理して得ることができる。   In one embodiment of the present invention, the retardation film of the present invention is a film obtained by casting a monomer containing a compound represented by formula (4) or a solution of the monomer, and subjecting it to radical polymerization treatment. Further, it can be obtained by stretching.

式(4)で表される化合物を含むモノマーの溶液をキャストする場合は、まず該モノマーを溶剤に溶解する。使用しうる溶剤としては、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メチルのような酢酸エステル類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコールのようなアルコール類、2−ブタノン、アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンのようなケトン類、ベンジルアミン、トリエチルアミン、ピリジンのような塩基系溶媒、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール、ヘキサン、ヘプタンのような非極性溶媒が挙げられる。
式(4)で表される化合物を含むモノマーの重量濃度は、通常1%〜99%、好ましくは2.5%〜80%、より好ましくは5%〜50%である。これらのモノマーは1種類のみ配合しても良いし、複数種を配合しても良い。さらに必要に応じて上述した各溶剤や可塑剤を加えても良い。可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレートのようなフタル酸エステル、トリス(2−エチルヘキシル)トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、セバシン酸−ジ−n−ブチル等のセバシン酸エステル、グリセルトリアセテート又は2−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。これらの化合物は1種類のみ配合しても良いし、複数種を配合しても良い。
When casting a monomer solution containing the compound represented by formula (4), the monomer is first dissolved in a solvent. Solvents that can be used include halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform, acetates such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol and benzyl alcohol, Non-polar solvents such as ketones such as 2-butanone, acetone, cyclopentanone and cyclohexanone, basic solvents such as benzylamine, triethylamine and pyridine, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, anisole, hexane and heptane. Can be mentioned.
The weight concentration of the monomer containing the compound represented by the formula (4) is usually 1% to 99%, preferably 2.5% to 80%, more preferably 5% to 50%. Only one kind of these monomers may be blended or a plurality of kinds may be blended. Furthermore, you may add each solvent and plasticizer which were mentioned above as needed. Plasticizers include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, and ethyl phthalyl ethyl glycolate, trimellitic esters such as tris (2-ethylhexyl) trimellitate, and aliphatic dibasic acids such as dimethyl adipate and dibutyl adipate Examples include esters, orthophosphates such as tributyl phosphate and triphenyl phosphate, sebacic acid esters such as sebacic acid-di-n-butyl, and acetic acid esters such as glyceryl triacetate or 2-ethylhexyl acetate. Only one kind of these compounds may be blended or a plurality of kinds may be blended.

次に、得られたモノマー溶液を表面の平坦な離形性のある基板の上にキャスト(塗布)した後、ラジカル重合処理を施してフィルム状に加工する。
また、式(4)で表される化合物を含むモノマーを溶剤に溶解せずにそのまま使用することもできる。この場合、上記と同様に、モノマーを表面の平坦な離形性のある基板の上に塗布した後、ラジカル重合処理を施してフィルム状に加工する。
Next, the obtained monomer solution is cast (applied) onto a substrate having a flat surface and a release property, and then subjected to radical polymerization treatment to be processed into a film.
Moreover, the monomer containing the compound represented by Formula (4) can also be used as it is, without melt | dissolving in a solvent. In this case, in the same manner as described above, the monomer is applied onto a substrate having a flat surface having a releasability and then subjected to radical polymerization to be processed into a film.

ラジカル重合処理は、ラジカル重合開始剤の存在下又は不存在下で実施することができる。具体的には、ラジカル重合開始剤の不在下に自然熱重合したり、ラジカル重合開始剤の存在下又は不在下に光照射によりラジカル重合することができる。光照射によるラジカル重合の場合、通常、水銀灯、キセノンランプ等の光源を使用して重合する。光源は、ビニルモノマーの種類、重合開始剤の種類等により適宜選択できる。   The radical polymerization treatment can be carried out in the presence or absence of a radical polymerization initiator. Specifically, natural thermal polymerization can be performed in the absence of a radical polymerization initiator, or radical polymerization can be performed by light irradiation in the presence or absence of a radical polymerization initiator. In the case of radical polymerization by light irradiation, polymerization is usually performed using a light source such as a mercury lamp or a xenon lamp. The light source can be appropriately selected depending on the type of vinyl monomer, the type of polymerization initiator, and the like.

光照射として、たとえば、紫外線の照射量は、式(4)で表される化合物を含むモノマーの種類、膜厚によって異なるが、1回の照射量は、100〜1000mJ/cm程度がよい。また、紫外線照射時の雰囲気は空気中でも窒素などの不活性ガス中でもよいが、膜厚が薄くなると、酸素障害により十分に硬化しないため、そのような場合は不活性ガス中で紫外線を照射して硬化させるのが好ましい。 As light irradiation, for example, the irradiation amount of ultraviolet rays varies depending on the type and thickness of the monomer containing the compound represented by the formula (4), but the irradiation amount per time is preferably about 100 to 1000 mJ / cm 2 . In addition, the atmosphere during ultraviolet irradiation may be air or an inert gas such as nitrogen. However, when the film thickness is reduced, it does not cure sufficiently due to oxygen damage. In such a case, ultraviolet light is irradiated in an inert gas. It is preferable to cure.

ラジカル重合開始剤は、一般にラジカル重合で使用できるものであれば良く、例えば、アゾ系重合開始剤、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物、レドックス系重合開始剤等の他、ベンゾイン類、アセトフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、ケタール類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキサイド類等の光重合開始剤等を挙げることができる。また、上記の開始剤に加えて、有機ハロゲン物質(例えば、エチル2−ブロモイソブチレート)、ニトロキシド誘導体、チオカルボニル物質、有機テルル物質等を開始剤あるいは添加剤としたリビングラジカル重合開始剤系を挙げることができる。
ラジカル重合の開始剤のうち好ましくはアゾ系重合開始剤であり、具体的には、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロパン)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、2,2’−アゾビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロライド等が挙げられる。また、アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン−1−オン、オリゴ[2−ヒドロキシー2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]等のアセトフェノン類や、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキシド等のホスフィンオキサイド類等の光重合開始剤も好ましく、これらを単独あるいは混合して添加し、紫外線を照射することでポリマーを形成することができる。
The radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be generally used for radical polymerization. For example, azo polymerization initiators, peroxides such as benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, redox polymerization In addition to initiators, photopolymerization initiators such as benzoins, acetophenones, anthraquinones, thioxanthones, ketals, benzophenones, and phosphine oxides can be used. In addition to the above initiator, a living radical polymerization initiator system using an organic halogen substance (for example, ethyl 2-bromoisobutyrate), a nitroxide derivative, a thiocarbonyl substance, an organic tellurium substance or the like as an initiator or additive. Can be mentioned.
Of the radical polymerization initiators, an azo polymerization initiator is preferred, and specifically, 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN), 2,2′-azobis (2-methylbutyro). Nitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1- Carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylpropane), 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane), 2,2′-azobis [2- (3,4,5, 6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride and the like. Also, acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxy Acetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1- Acetophenones such as methylvinyl) phenyl] propanone], 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, diphenyl- (2,4,6- Trimethylbenzoyl) phosphineoxy Photopolymerization initiators such as phosphine oxides such as phosphine oxides are also preferable, and these can be added alone or in admixture and irradiated with ultraviolet rays to form a polymer.

ラジカル重合処理を施した後、必要により溶媒を除去し、基板から剥離して、透明なフィルムとする。   After performing radical polymerization treatment, the solvent is removed if necessary, and the film is peeled off from the substrate to obtain a transparent film.

本発明の製造方法1で得られたフィルムを更に一軸延伸することにより、本発明の位相差フィルムを得ることができる。延伸処理は、一般的な一軸延伸を用いることができ、例えば、フィルムの両端を固定して加温しながら一方向に延伸する。または、フィルムが長尺のロール状である場合には、例えばニップロールにてフィルムの両端を固定し、両ロールの回転数の差により連続的に延伸する。延伸する際の温度は、一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーの種類によって最適な延伸温度は異なる。   By further uniaxially stretching the film obtained by the production method 1 of the present invention, the retardation film of the present invention can be obtained. The stretching process can use general uniaxial stretching. For example, the film is stretched in one direction while fixing both ends of the film and heating. Or when a film is a long roll shape, the both ends of a film are fixed, for example with a nip roll, and it extends | stretches continuously by the difference in the rotation speed of both rolls. The optimum stretching temperature varies depending on the polymer having the repeating unit represented by the general formula (3) in the molecule.

本発明の位相差フィルムを作製するための延伸温度は、50℃〜300℃、より好ましくは150℃〜250℃程度が良い。   The stretching temperature for producing the retardation film of the present invention is 50 ° C to 300 ° C, more preferably about 150 ° C to 250 ° C.

延伸倍率は一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーの種類、厚さ、所望とする位相差値によって異なるが、1.1倍から10倍、より好ましくは1.5倍から5倍程度が良い。例えば、式(3)においてRが水素、Rがi−プロピル基であるモノマーを用いる場合は、1.5倍〜2.5倍程度である。
延伸速度も延伸温度と同様、一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーの種類によって最適延伸速度は異なるが、通常10倍延伸/分以下、好ましくは5倍延伸/分以下、より好ましくは2.5倍延伸/分以下である。
The draw ratio varies depending on the type, thickness, and desired retardation value of the polymer having the repeating unit represented by formula (3) in the molecule, but is 1.1 to 10 times, more preferably 1.5. About 5 to 5 times is good. For example, when using a monomer in which R 1 is hydrogen and R 2 is an i-propyl group in Formula (3), the ratio is about 1.5 to 2.5 times.
The stretching speed is the same as the stretching temperature, and the optimum stretching speed varies depending on the type of polymer having the repeating unit represented by the general formula (3) in the molecule, but it is usually 10 times stretching / min or less, preferably 5 times stretching / min. Hereinafter, it is more preferably 2.5 times stretching / min or less.

また、本発明の製造方法1で得られる位相差フィルムの厚さは10〜500μm、好ましくは20〜300μm、より好ましくは30〜150μm程度が良い。     The thickness of the retardation film obtained by the production method 1 of the present invention is 10 to 500 μm, preferably 20 to 300 μm, more preferably about 30 to 150 μm.

また、本発明の1つの態様において、本発明の位相差フィルムは、式(4)で表される化合物を含むモノマーにラジカル重合処理を施して得られたポリマーを、押し出し法にてフィルム状に成形して得ることができる。(以下「本発明の製造方法2」とも言う。)   In one embodiment of the present invention, the retardation film of the present invention is a film obtained by subjecting a polymer obtained by subjecting a monomer containing a compound represented by formula (4) to radical polymerization treatment to a film form by an extrusion method. It can be obtained by molding. (Hereinafter also referred to as “Production Method 2 of the Present Invention”)

また、本発明の1つの態様において、本発明の位相差フィルムは、式(4)で表される化合物を含むモノマーにラジカル重合処理を施したポリマーを用いて、押し出し法にて得られたフィルムを、さらに延伸処理して得ることができる。   In one embodiment of the present invention, the retardation film of the present invention is a film obtained by an extrusion method using a polymer obtained by subjecting a monomer containing a compound represented by formula (4) to radical polymerization treatment. Can be obtained by further stretching treatment.

ラジカル重合は、通常、不活性ガスで置換した容器あるいは真空脱気した容器で、式(4)で表されるモノマーと必要に応じラジカル重合開始剤を混合し撹拌して行われる。   The radical polymerization is usually carried out by mixing the monomer represented by the formula (4) and, if necessary, a radical polymerization initiator in a container replaced with an inert gas or a vacuum deaerated container and stirring.

ラジカル重合反応は、無溶媒、或いはラジカル重合で一般に使用される溶媒(有機溶媒又は水性溶媒)を使用することができる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン(THF)、酢酸エチル、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、アニソール等が挙げられる。また、水性溶媒としては、水、必要に応じメタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチルセロソルブ、ブチロセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール等を含む溶媒が挙げられる。
溶媒を使用する場合、溶媒の使用量としては、適宜調節すればよいが、例えば、式(4)で表されるモノマー1molに対して、又は共重合の場合には式(4)で表されるモノマーを含む全モノマー1molに対して、一般に0.1〜20リットル、好ましくは0.2〜5リットルである。
In the radical polymerization reaction, no solvent or a solvent (organic solvent or aqueous solvent) generally used in radical polymerization can be used. Examples of the organic solvent include benzene, toluene, N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetone, chloroform, carbon tetrachloride, tetrahydrofuran (THF), ethyl acetate, chlorobenzene, dichlorobenzene, and trifluoro. Examples include methylbenzene and anisole. In addition, examples of the aqueous solvent include water and solvents containing methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethyl cellosolve, butyrocellosolve, 1-methoxy-2-propanol and the like as necessary.
In the case of using a solvent, the amount of the solvent used may be adjusted as appropriate. The amount is generally 0.1 to 20 liters, preferably 0.2 to 5 liters per 1 mol of all monomers including the monomer.

ラジカル重合反応は、ラジカル重合開始剤の存在下又は不存在下で実施することができる。通常、ラジカル重合開始剤の存在下で実施することが好ましい。もちろん、ラジカル重合開始剤の不在下に自然熱重合したり、ラジカル重合開始剤の存在下又は不在下に光照射によりラジカル重合することも可能である。光照射によるラジカル重合の場合、通常、水銀灯、キセノンランプ等の光源を使用して重合する。光源は、ビニルモノマーの種類、重合開始剤の種類等により適宜選択できる。   The radical polymerization reaction can be carried out in the presence or absence of a radical polymerization initiator. Usually, it is preferable to carry out in the presence of a radical polymerization initiator. Of course, it is also possible to perform spontaneous thermal polymerization in the absence of a radical polymerization initiator, or radical polymerization by light irradiation in the presence or absence of a radical polymerization initiator. In the case of radical polymerization by light irradiation, polymerization is usually performed using a light source such as a mercury lamp or a xenon lamp. The light source can be appropriately selected depending on the type of vinyl monomer, the type of polymerization initiator, and the like.

ラジカル重合反応は、式(4)で表されるモノマーのラジカル単独重合以外に、ラジカル共重合も含まれる。ラジカル共重合、特にリビングラジカル共重合の場合は、ジブロックおよびトリブロック共重合が可能である。ラジカル共重合し得るモノマーとしては、式(4)で表されるモノマーのうち異なった構造のモノマーや、式(4)で表されるモノマー以外にラジカル重合可能なモノマーを制限なく使用することができる。   The radical polymerization reaction includes radical copolymerization in addition to radical homopolymerization of the monomer represented by the formula (4). In the case of radical copolymerization, particularly living radical copolymerization, diblock and triblock copolymerization is possible. As monomers capable of radical copolymerization, monomers having different structures among the monomers represented by formula (4) and monomers capable of radical polymerization other than the monomers represented by formula (4) can be used without limitation. it can.

式(4)で表されるモノマー以外にラジカル重合可能なモノマー(以下、「併用モノマー」とも呼ぶ)としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸メンチル等の(メタ)アクリル酸エステル;α−アセトキシアクリル酸、α−アセトキシアクリル酸メチル、α−アセトキシアクリル酸メンチル、α−アセトアミドアクリル酸、α−アセトアミドアクリル酸メチル、α−アセトアミドアクリル酸メンチル、α−メトキシアクリル酸メチル、α−メトキシアクリル酸メンチル等のキャプトデイティブ置換モノマー(α位が電子供与性基及び電子受容性基で同時に置換されたモノマー);(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル等のシクロアルキル基含有不飽和モノマー(シクロアルキル基含有(メタ)アクリル酸エステル));マレイン酸、フマル酸、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル、イタコン酸、イタコン酸エチル、無水マレイン酸、マレインイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド等2以上のカルボキシル基含有不飽和モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等のアミン含有不飽和モノマー((メタ)アクリル酸アミド);スチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、α−メトキシ−2−メトキシスチレン、2−メチルスチレン、4−メチルスチレン、4−tert−ブトキシスチレン、4−クロロスチレン、2,4−ジクロロスチレン、1−ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、4−スチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩等)等の芳香族不飽和モノマー;2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、2−ビニルチオフェン、1−ビニル−2−ピロリドン、ビニルカルバゾール等のヘテロ環含有不飽和モノマー;N−ビニルアセトアミド、N−ビニルベンゾイルアミド等のビニルアミド;エチレン、プロピレン、1−ヘキセン等のα−オレフィン;ブタジエン、イソプレン等のジエンモノマー;ジビニルベンゼン、4,4’−ジビニルビフェニル、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等アクリロイル基を2つ有する2官能(メタ)アクリレートモノマー、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3つ以上のアクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートモノマー等の多官能性モノマー;ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー、(メタ)アクリロニトリル、メチルビニルケトン、メチルイソプロペニルケトン、エチルビニルスルフィド、安息香酸ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、α‐シアノアクリル酸エチル、クマリン、インデン、インドン等が挙げられる。   Examples of the monomer capable of radical polymerization other than the monomer represented by the formula (4) (hereinafter also referred to as “combined monomer”) include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. , (Meth) acrylic esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate; α-acetoxyacrylic acid, α-acetoxymethyl acrylate, α-acetoxymethacrylate menthyl, α-acetamide Captitive substitution monomers such as acrylic acid, methyl α-acetamidoacrylate, menthyl α-acetamidoacrylate, methyl α-methoxyacrylate, menthyl α-methoxyacrylate (α-position is an electron donating group and an electron accepting group) Monomer substituted simultaneously with; cyclohexyl (meth) acrylate, (meth Cycloalkyl group-containing unsaturated monomers such as isobornyl acrylate and adamantyl (meth) acrylate (cycloalkyl group-containing (meth) acrylic acid ester)); maleic acid, fumaric acid, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, itaconic acid, 2 or more carboxyl group-containing unsaturated monomers such as ethyl itaconate, maleic anhydride, maleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide; (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl Amine-containing unsaturated monomers such as (meth) acrylamide ((meth) acrylic acid amide); styrene, α-methylstyrene, α-methoxystyrene, α-methoxy-2-methoxystyrene, 2-methylstyrene, 4-methylstyrene , 4-tert Aromatic unsaturated monomers such as butoxystyrene, 4-chlorostyrene, 2,4-dichlorostyrene, 1-vinylnaphthalene, divinylbenzene, 4-styrenesulfonic acid or alkali metal salts thereof (sodium salt, potassium salt, etc.); 2 -Heterocyclic-containing unsaturated monomers such as vinylpyridine, 4-vinylpyridine, 2-vinylthiophene, 1-vinyl-2-pyrrolidone and vinylcarbazole; Vinylamides such as N-vinylacetamide and N-vinylbenzoylamide; Ethylene and propylene Α-olefin such as 1-hexene; diene monomer such as butadiene and isoprene; bifunctional having two acryloyl groups such as divinylbenzene, 4,4′-divinylbiphenyl, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate ( (Meth) acrylate monomers, Polyfunctional monomers such as polyfunctional (meth) acrylate monomers having three or more acryloyl groups such as pentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; urethane (Meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, (meth) acrylate oligomers such as polyester (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, methyl vinyl ketone, methyl isopropenyl ketone, ethyl vinyl sulfide, vinyl benzoate, vinyl acetate, chloride Examples include vinyl, vinylidene chloride, ethyl α-cyanoacrylate, coumarin, indene, indone and the like.

式(4)で表されるモノマーに加えて併用モノマーを用いる場合、全モノマー中の併用モノマーの仕込割合は、一般に40モル%以下、好ましくは30モル%以下、より好ましくは20モル%以下である。また、ラジカル重合反応により得られる式(3)で表される繰り返し単位を有するポリマーは、併用モノマーに由来する単位のモル分率は、通常20モル%以下、好ましくは15モル%以下、より好ましくは12モル%以下である。   When using a combination monomer in addition to the monomer represented by formula (4), the charge ratio of the combination monomer in all monomers is generally 40 mol% or less, preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less. is there. The polymer having a repeating unit represented by the formula (3) obtained by radical polymerization reaction has a molar fraction of units derived from the combined monomer of usually 20 mol% or less, preferably 15 mol% or less, more preferably Is 12 mol% or less.

ラジカル重合開始剤は、一般にラジカル重合で使用できるものであれば良く、その種類については、本発明の製造方法1について記載したものと同様のものを用いることができる。   Any radical polymerization initiator may be used as long as it can generally be used in radical polymerization, and the same kind of radical polymerization initiator as that described for production method 1 of the present invention can be used.

ラジカル重合開始剤の使用量としては、得られるポリマーにより適宜調節すればよいが、式(4)で表されるモノマー1molに対して、又は共重合の場合には式(4)で表されるモノマーを含む全モノマー1molに対して、通常、1×10−6〜1mol、好ましくは1×10−4〜1×10−1、更に好ましくは1×10−3〜1×10−2である。
上記のラジカル重合法のうち、特にリビングラジカル重合法を採用することにより、分子量、分子量分布、立体構造等がより高度に制御されたポリマーを製造することができるため好適である。
The amount of the radical polymerization initiator used may be appropriately adjusted depending on the polymer to be obtained, but is represented by the formula (4) with respect to 1 mol of the monomer represented by the formula (4) or in the case of copolymerization. It is usually 1 × 10 −6 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 1 × 10 −1 , more preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −2 with respect to 1 mol of all monomers including the monomer. .
Among the above radical polymerization methods, the living radical polymerization method is particularly preferable because a polymer in which molecular weight, molecular weight distribution, steric structure and the like are more highly controlled can be produced.

リビングラジカル重合開始剤の好ましいものとしては、有機テルル媒介リビングラジカル重合開始剤系が挙げられ、具体的には、AIBN/ジ−n−ブチルジテルリド(DBT)、AIBN/ジフェニルジテルリド、AIBN/エチル2−メチル−2−メチルテラニル−プロピオネート、AIBN/エチル2−メチル−2−ブチルテラニル−プロピオネート(EMBTP)、AIBN/エチル2−メチル−2−フェニルテラニル−プロピオネート、AIBN/DBT/EMBTP等が挙げられる。
この場合AIBNの使用量としては、得られるポリマーにより適宜調節すればよいが、式(4)で表されるモノマー1molに対して、又は共重合の場合には式(4)で表されるモノマーを含む全モノマー1molに対して、通常、1×10−6〜1mol、好ましくは1×10−4〜1×10−1、更に好ましくは1×10−3〜1×10−2である。有機テルリウムの使用量は、式(4)で表されるモノマー1molに対して、又は共重合の場合には式(4)で表されるモノマーを含む全モノマー1molに対して、通常、1×10−6〜1mol、好ましくは1×10−4〜1×10−1、更に好ましくは1×10−3〜1×10−2である。
Preferred living radical polymerization initiators include organic tellurium mediated living radical polymerization initiator systems, specifically AIBN / di-n-butyl ditelluride (DBT), AIBN / diphenyl ditelluride, AIBN / ethyl. Examples include 2-methyl-2-methylterranyl-propionate, AIBN / ethyl 2-methyl-2-butylterranyl-propionate (EMBTP), AIBN / ethyl 2-methyl-2-phenylterranyl-propionate, AIBN / DBT / EMBTP, and the like. .
In this case, the amount of AIBN used may be appropriately adjusted depending on the polymer to be obtained. However, the monomer represented by the formula (4) in the case of copolymerization with respect to 1 mol of the monomer represented by the formula (4). The amount is usually 1 × 10 −6 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 1 × 10 −1 , more preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −2 with respect to 1 mol of all monomers including The amount of organic tellurium used is usually 1 × based on 1 mol of the monomer represented by the formula (4) or 1 mol of all monomers including the monomer represented by the formula (4) in the case of copolymerization. 10 −6 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 1 × 10 −1 , more preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −2 .

リビングラジカル重合のうち、特にブロック共重合体の製造方法は以下の通りである。本共重合は、少なくとも式(4)で表されるモノマーを1種含むもので、他に上記併用モノマーを使用することができる。AB型のジブロック共重合の場合、例えば、窒素置換したグローブボックスあるいは脱気した容器内で、式(4)で表されるモノマーを、溶媒の存在下又は不在下に、上記ラジカル開始剤を添加して反応して、式(3)で表される繰り返し単位を有するポリマーを得る。その後、第2のモノマー(異種の式(4)で表されるモノマー又は併用モノマー)を混合して共重合体を得る。また、モノマーの添加順序を逆にして、先に第2のモノマーを反応させた後、式(4)で表されるモノマーを反応させてもよい。さらに、ABA型、ABC型等のトリブロック共重合体も、上記のジブロック共重合体を製造後、順次モノマーを混合することにより製造することができる。   In the living radical polymerization, the production method of the block copolymer is as follows. This copolymerization contains at least one monomer represented by the formula (4), and the above combination monomers can be used in addition. In the case of AB-type diblock copolymerization, for example, in a nitrogen-substituted glove box or a degassed container, the monomer represented by formula (4) is added to the radical initiator in the presence or absence of a solvent. By adding and reacting, a polymer having a repeating unit represented by the formula (3) is obtained. Thereafter, a second monomer (a monomer represented by different formula (4) or a combined monomer) is mixed to obtain a copolymer. Further, the order of addition of the monomers may be reversed, and the monomer represented by the formula (4) may be reacted after the second monomer is reacted first. Furthermore, triblock copolymers such as ABA type and ABC type can also be produced by sequentially mixing the monomers after producing the above diblock copolymer.

反応温度および反応時間は、該ビニルモノマーの種類、重合開始剤の種類により適宜調節すればよいが、通常、0〜180℃程度、0.5〜100時間程度撹拌すればよい。好ましくは、それぞれ30〜100℃、1〜30時間撹拌する。この時、圧力は、通常、常圧で行われるが、加圧或いは減圧しても構わない。この時、不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム等を挙げることができる。好ましくは、アルゴン、窒素が良い。特に好ましくは、窒素が良い。
重合反応により、分子内に式(3)で表される繰り返し単位を有する立体規則性を有するポリマーが得られる。該ポリマー中のメソ二連子(m)とラセモ二連子(r)の比(m:r)は60:40〜100:0であり、(m:r)は65:35〜100:0が好ましく、70:30〜100:0がより好ましく、75:25〜100:0がより好ましく、80:20〜100:0が特に好ましい。この比率は、開環反応により得られる繰り返し単位を有するポリマーの13C−NMR分析により確認することができる。
一般式(3)で表される繰り返し単位を有するポリマーは、一般に、m(メソ)の割合が増加するに従って有機溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン等)に対する溶解性も低下する傾向がある。
ラジカル重合反応で得られるポリマーの重合度は、反応時間、開始剤濃度、反応温度、溶媒等により適宜調整可能であるが、数平均重合度10〜20,000、特に50〜5,000のポリマーである。また、数平均分子量(Mn)は、1,000〜4,000,000程度、更に5,000〜1,000,000程度である。Mnおよび重量平均分子量(Mw)の測定方法は、実施例に記載されるGPC法が採用される。本発明では、通常、分子量分布(PDI=Mw/Mn)が1.01〜4.0、特に1.05〜2.5のラジカルポリマーが得られる。ここで中でも、リビングラジカルポリマーの分子量分布(PDI=Mw/Mn)は狭く、1.01〜1.5の間で制御され、さらに1.05〜1.30、特に1.1〜1.25の範囲に制御することができる。
The reaction temperature and reaction time may be appropriately adjusted depending on the type of the vinyl monomer and the type of the polymerization initiator. Preferably, each is stirred at 30 to 100 ° C. for 1 to 30 hours. At this time, the pressure is usually a normal pressure, but may be increased or decreased. At this time, examples of the inert gas include nitrogen, argon, helium, and the like. Argon and nitrogen are preferable. Nitrogen is particularly preferable.
By the polymerization reaction, a polymer having stereoregularity having a repeating unit represented by the formula (3) in the molecule is obtained. The ratio (m: r) of the meso duplex (m) to the racemo duplex (r) in the polymer is 60:40 to 100: 0, and (m: r) is 65:35 to 100: 0. Is preferable, 70:30 to 100: 0 is more preferable, 75:25 to 100: 0 is more preferable, and 80:20 to 100: 0 is particularly preferable. This ratio can be confirmed by 13 C-NMR analysis of a polymer having a repeating unit obtained by a ring-opening reaction.
In general, a polymer having a repeating unit represented by the general formula (3) tends to decrease in solubility in an organic solvent (for example, benzene, toluene, etc.) as the ratio of m (meso) increases.
The degree of polymerization of the polymer obtained by the radical polymerization reaction can be appropriately adjusted depending on the reaction time, initiator concentration, reaction temperature, solvent, etc., but the number average degree of polymerization is 10 to 20,000, particularly 50 to 5,000. It is. Further, the number average molecular weight (Mn) is about 1,000 to 4,000,000, and further about 5,000 to 1,000,000. As a method for measuring Mn and the weight average molecular weight (Mw), the GPC method described in Examples is adopted. In the present invention, a radical polymer having a molecular weight distribution (PDI = Mw / Mn) of 1.01 to 4.0, particularly 1.05 to 2.5 is usually obtained. Among these, the molecular weight distribution (PDI = Mw / Mn) of the living radical polymer is narrow and is controlled between 1.01 and 1.5, and further 1.05 to 1.30, particularly 1.1 to 1.25. Can be controlled within the range.

式(4)で表される化合物を含むモノマーにラジカル重合処理を施したポリマーを用いて、押し出し法にてフィルム状に成形される。押出し法は、公知の押出し成形法を使用することができ、一軸押出し成形又は二軸押出し成形等が挙げられる。   Using a polymer obtained by subjecting a monomer containing the compound represented by formula (4) to radical polymerization treatment, it is formed into a film by an extrusion method. As the extrusion method, a known extrusion molding method can be used, and examples thereof include uniaxial extrusion molding and biaxial extrusion molding.

本発明の製造方法2で得られたフィルムを更に延伸処理して本発明の位相差フィルムを得ることができる。延伸処理は、一般的な一軸延伸を用いることができ、例えば、フィルムの両端を固定して加温しながら一方向に延伸する。または、フィルムが長尺のロール状である場合には、例えばニップロールにてフィルムの両端を固定し、両ロールの回転数の差により連続的に延伸する。延伸する際の温度は、一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーの種類によって最適な延伸温度は異なる。   The film obtained by the production method 2 of the present invention can be further stretched to obtain the retardation film of the present invention. The stretching process can use general uniaxial stretching. For example, the film is stretched in one direction while fixing both ends of the film and heating. Or when a film is a long roll shape, the both ends of a film are fixed, for example with a nip roll, and it extends | stretches continuously by the difference in the rotation speed of both rolls. The optimum stretching temperature varies depending on the polymer having the repeating unit represented by the general formula (3) in the molecule.

延伸温度は、50℃〜300℃、より好ましくは150℃〜250℃程度が良い。   The stretching temperature is 50 ° C to 300 ° C, more preferably about 150 ° C to 250 ° C.

延伸倍率は一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーの種類、厚さ、所望とする位相差値によって異なるが、1.1倍から10倍、より好ましくは1.2倍から5倍程度が良い。例えば、式(3)においてRが水素、Rがi−プロピル基であるモノマーを用いる場合は、1.5倍〜2.5倍程度である。
延伸速度も延伸温度と同様、一般式(3)で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーの種類によって最適延伸速度は異なるが、通常10倍延伸/分以下、好ましくは5倍延伸/分以下、より好ましくは2.5倍延伸/分以下である。
The draw ratio varies depending on the type, thickness, and desired retardation value of the polymer having the repeating unit represented by formula (3) in the molecule, but is 1.1 to 10 times, more preferably 1.2. About 5 to 5 times is good. For example, when using a monomer in which R 1 is hydrogen and R 2 is an i-propyl group in Formula (3), the ratio is about 1.5 to 2.5 times.
The stretching speed is the same as the stretching temperature, and the optimum stretching speed varies depending on the type of polymer having the repeating unit represented by the general formula (3) in the molecule, but it is usually 10 times stretching / min or less, preferably 5 times stretching / min. Hereinafter, it is more preferably 2.5 times stretching / min or less.

また、本発明の製造方法2で得られる位相差フィルムの厚さは10〜500μm、好ましくは20〜300μm、より好ましくは30〜150μm程度が良い。   The thickness of the retardation film obtained by the production method 2 of the present invention is 10 to 500 μm, preferably 20 to 300 μm, more preferably about 30 to 150 μm.

本発明の位相差フィルムは、他の位相差フィルムや、偏光フィルムと組み合わせて用いることにより、種々の機能を付与できる。例えば、フィルム面内の最大屈折率をna、それとフィルム面内で直交する方向の屈折率をnb、厚さ方向の屈折率をncとするとき、na>nb>nc、na>nb=nc、na=nb>nc、na=nb<nc、na>nc>nbであるような他の位相差フィルムと、本発明の位相差フィルムとを各々の遅相軸が所望の角度になるよう積層することにより、本発明の複合位相差フィルムが得られる。この複合位相差フィルムは波長分散や視野角特性が各位相差フィルム単独とは異なるため、さらなる高機能化が可能となる。具体的には、例えば、本発明の位相差フィルムとna>nb>ncまたはna>nb=ncまたはna=nb>ncである位相差フィルムとを各々の遅相軸が平行または直交するように積層することにより得られた複合位相差フィルムは、各々の持つ視野角依存性よりも改良されている。なお、積層する方法としては例えば、アクリル系粘着剤や接着剤によって貼り合せる方法が挙げられる。積層する際の粘着剤としてはアクリル系粘着剤が好適に用いられ、接着剤としてはポリビニルアルコール系、ウレタン系、イソシアネート系、アクリル系又はエポキシ系等種々の接着剤を適宜用いることができる。他の位相差フィルムとしては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、ノルボルネン誘導体、シクロオレフィン系ポリマー又は特許文献2や特開2002−131539号公報に記載のセルロース誘導体等を一軸または二軸延伸して得られる位相差フィルム等が挙げられる。   The retardation film of the present invention can be provided with various functions by being used in combination with other retardation films or polarizing films. For example, when the maximum refractive index in the film plane is na, the refractive index in the direction orthogonal to the film plane is nb, and the refractive index in the thickness direction is nc, na> nb> nc, na> nb = nc, Laminate another retardation film such that na = nb> nc, na = nb <nc, na> nc> nb and the retardation film of the present invention so that each slow axis has a desired angle. Thus, the composite retardation film of the present invention is obtained. Since this composite retardation film is different in wavelength dispersion and viewing angle characteristics from each retardation film alone, it is possible to further enhance the functions. Specifically, for example, the retardation film of the present invention and the retardation film satisfying na> nb> nc or na> nb = nc or na = nb> nc are set so that the slow axes thereof are parallel or orthogonal to each other. The composite retardation film obtained by laminating is improved than the viewing angle dependency of each. In addition, as a method of laminating | stacking, the method of bonding with an acrylic adhesive or an adhesive agent is mentioned, for example. An acrylic pressure-sensitive adhesive is suitably used as the pressure-sensitive adhesive when laminating, and various adhesives such as polyvinyl alcohol, urethane, isocyanate, acrylic, and epoxy can be appropriately used as the adhesive. Other retardation films include polycarbonate, polyarylate, polyethersulfone, norbornene derivatives, cycloolefin polymers, or cellulose derivatives described in Patent Document 2 and JP-A No. 2002-131539, which are uniaxially or biaxially stretched. The retardation film etc. which are obtained by these are mentioned.

本発明のもう1つの態様は、本発明の位相差フィルムを備える液晶セルである。
また、本発明のもう1つの態様は、本発明の位相差フィルムを備える液晶表示装置である。
本発明の位相差フィルムは二軸延伸することなしに一軸延伸のみでネガティブAプレートとしての光学特性を発現することができる位相差フィルムであり、本発明の位相差フィルムを備える液晶表示セル、及び本発明の位相差フィルムを備える液晶表示装置は、従来の液晶表示装置に比べて視野角特性が向上するといった優れた特性を持つ。
Another aspect of the present invention is a liquid crystal cell comprising the retardation film of the present invention.
Another aspect of the present invention is a liquid crystal display device including the retardation film of the present invention.
The retardation film of the present invention is a retardation film capable of expressing optical characteristics as a negative A plate only by uniaxial stretching without being biaxially stretched, and a liquid crystal display cell comprising the retardation film of the present invention, and A liquid crystal display device provided with the retardation film of the present invention has excellent characteristics such as improved viewing angle characteristics as compared with conventional liquid crystal display devices.

以下、本発明を、実施例を用いて更に詳述するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is explained in full detail using an Example, the scope of the present invention is not limited to this.

[測定機器]
実施例および比較例において、各種物性測定は以下の機器により測定した。
1H−NMRおよび13C−NMR:JEOL EX−400(400MHz)
IR:JASCO FT/IR−230
旋光度:JASCO P−1030
分離、精製:Tosoh HLC−8020
分子量(数平均分子量Mn、重量平均分子量Mw)および分子量分布(Mw/Mn):GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー):Tosoh HLC−8220(カラム−TSKgel G7000HHR+G5000HHR+G3000)ポリスチレン標準
[measuring equipment]
In Examples and Comparative Examples, various physical properties were measured with the following equipment.
1H-NMR and 13C-NMR: JEOL EX-400 (400 MHz)
IR: JASCO FT / IR-230
Optical rotation: JASCO P-1030
Separation, purification: Tosoh HLC-8020
Molecular weight (number average molecular weight Mn, weight average molecular weight Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn): GPC (gel permeation chromatography): Tosoh HLC-8220 (column-TSKgel G7000HHR + G5000HHR + G3000) polystyrene standard

[モノマーの製造]
合成例1(ラセミモノマー)
(5−メチレン−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オンの合成)
イソブチルアルデヒド 600.0g(5.99mol)、D−乳酸とL−乳酸のラセミ混合物432.0g(5.99mol)、p−トルエンスルホン酸 1.0g(0.05mmol)をトルエン 300mlに溶解し、Dean−Stark分留器を備えた還流冷却器を500mlのフラスコに取り付け5時間還流する。反応後、反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和、洗浄し、エーテルで抽出後、抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、エーテルを留去し、5−メチル−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オン710.0g(収率:82.2%)を得た。
目的物の生成は、IR、1H−NMRにより確認した。この方法により得られた5−メチレン−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オンの旋光度は、[α]D=0(CHCl3)であった。
上記で得た5−メチル−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オン60.0g(0.41mol)、N−ブロモスクシンイミド73.8g(0.41mol)、2,2’−アゾビス(イソブチロにトリル)(AIBN)180mg(1.1mmol)を四塩化炭素 180mlに溶解し、還流冷却器を備えたフラスコ中で4時間還流した。反応後、濾過により析出した塩を除き、濾液中の四塩化炭素を留去し、5−ブロモ−5−メチル−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オン83.0g(0.36mol)を得た。
上記のブロモ体と脱水ベンゼン 350mlを滴下ロート、還流冷却器を備えたフラスコに入れ、窒素雰囲気のもと氷冷下で脱水ベンゼン150mlと混合させたトリエチルアミン46.5g(0.46mol)を1時間かけてゆっくり滴下した後、さらに1時間還流した。反応後、濾過により析出した塩を除き、濾液中のドライベンゼンを留去した後、蒸留(bp=65℃/7mmHg)により単離、精製することにより5−メチレン−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オン 20.0g(収率:38.9%)を製造した。
5−メチレン−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オン:
IR(neat、cm−1)1668(C=C)、1798(C=O)、2883〜2974(isopropyl)
1H−NMR(CDCl3、ppm)1.00(d,J=0.8Hz,3H)、1.02(d,J=0.8Hz,3H)、2.04(m,1H)、4.86(d,J=2.8Hz,1H)、5.15(d,J=2.8Hz,1H)、5.60(d,J=4.4Hz,1H)
[α]D=0(CHCl3)
得られた化合物は無色透明の液体であり、その粘度をE型粘度計(TV−20:東機産業(株)製)を用い、25℃にて測定したところ、5.4mPa・sであった。
[Manufacture of monomers]
Synthesis example 1 (racemic monomer)
(Synthesis of 5-methylene-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one)
600.0 g (5.99 mol) of isobutyraldehyde, 432.0 g (5.99 mol) of a racemic mixture of D-lactic acid and L-lactic acid, and 1.0 g (0.05 mmol) of p-toluenesulfonic acid were dissolved in 300 ml of toluene. A reflux condenser equipped with a Dean-Stark fractionator is attached to a 500 ml flask and refluxed for 5 hours. After the reaction, the reaction mixture was neutralized and washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, extracted with ether, and then the extract was dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, ether was distilled off to obtain 710.0 g (yield: 82.2%) of 5-methyl-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one.
Formation of the target product was confirmed by IR, 1H-NMR. The optical rotation of 5-methylene-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one obtained by this method was [α] D = 0 (CHCl 3).
5-methyl-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one obtained above (60.0 g, 0.41 mol), N-bromosuccinimide, 73.8 g (0.41 mol), 2,2′-azobis ( 180 mg (1.1 mmol) of tolyl in isobutyro (AIBN) was dissolved in 180 ml of carbon tetrachloride and refluxed in a flask equipped with a reflux condenser for 4 hours. After the reaction, the salt precipitated by filtration was removed, and carbon tetrachloride in the filtrate was distilled off to obtain 83.0 g (0.36 mol) of 5-bromo-5-methyl-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one. )
350 ml of the bromo compound and 350 ml of dehydrated benzene were placed in a dropping funnel and a flask equipped with a reflux condenser. The solution was slowly added dropwise and then refluxed for an additional hour. After the reaction, the salt precipitated by filtration is removed, and the dry benzene in the filtrate is distilled off. -20.0 g (yield: 38.9%) of dioxolan-4-one was produced.
5-Methylene-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one:
IR (neat, cm-1) 1668 (C = C), 1798 (C = O), 2883-2974 (isopropyl)
1H-NMR (CDCl3, ppm) 1.00 (d, J = 0.8 Hz, 3H), 1.02 (d, J = 0.8 Hz, 3H), 2.04 (m, 1H), 4.86 (D, J = 2.8 Hz, 1H), 5.15 (d, J = 2.8 Hz, 1H), 5.60 (d, J = 4.4 Hz, 1H)
[Α] D = 0 (CHCl 3)
The obtained compound was a colorless and transparent liquid, and its viscosity was 5.4 mPa · s when measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-20: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). It was.

合成例2(キラルモノマー)
(5−メチレン−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オンの合成)
イソブチルアルデヒド435.2g(6.04mol)、L−乳酸548.2g(6.09mol)、p−トルエンスルホン酸2.0g(0.1mmol)をn−ペンタン300mlに溶解し、Dean−Stark分留器を備えた還流冷却器を500mlのフラスコに取り付け5時間還流した。反応後、反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和、洗浄し、エーテルで抽出後、抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、エーテルを留去し、ジアステレオマー混合物の5−メチル−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オンを得た。この目的物は、シス体/トランス体=85/15のジアステレオマー混合物からなり、光学分割することなく、次の反応に供した。
以下の工程はモノマー合成の製造例1に準じて行った。
目的物の生成は、IR、1H−NMRにより確認した。この方法により得られた5−メチレン−2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−4−オンの旋光度は、[α]D=−5.6(CHCl3)であった。
得られた化合物は無色透明の液体であり、その粘度をE型粘度計(TV−20:東機産業(株)製)を用い、25℃にて測定したところ、2.4mPa・sであった。
Synthesis example 2 (chiral monomer)
(Synthesis of 5-methylene-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one)
435.2 g (6.04 mol) of isobutyraldehyde, 548.2 g (6.09 mol) of L-lactic acid, and 2.0 g (0.1 mmol) of p-toluenesulfonic acid were dissolved in 300 ml of n-pentane and subjected to Dean-Stark fractional distillation. A reflux condenser equipped with a vessel was attached to a 500 ml flask and refluxed for 5 hours. After the reaction, the reaction mixture was neutralized and washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, extracted with ether, and then the extract was dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, ether was distilled off to obtain a diastereomeric mixture of 5-methyl-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one. This target product consisted of a diastereomeric mixture of cis / trans = 85/15 and was subjected to the next reaction without optical resolution.
The following steps were performed according to Production Example 1 for monomer synthesis.
Formation of the target product was confirmed by IR, 1H-NMR. The optical rotation of 5-methylene-2-isopropyl-1,3-dioxolan-4-one obtained by this method was [α] D = −5.6 (CHCl 3).
The obtained compound was a colorless and transparent liquid, and its viscosity was 2.4 mPa · s when measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-20: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). It was.

[実施例1]
ガラス基板上に耐熱離型テープで20mm×50mm×深さ0.2mmの型を作成し、その中に合成例1で得られた化合物を滴下して、高圧水銀ランプで3000mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して硬化させた後、型からはがしてシート状の硬化物を得た。得られた硬化物は膜厚約200μmの無色透明の膜であった。JIS K5600−5−4に準じ、鉛筆硬度を測定したところ、2Hの鉛筆で傷は生じなかった。
[Example 1]
A 20 mm × 50 mm × 0.2 mm deep mold is made on a glass substrate with a heat-resistant release tape, and the compound obtained in Synthesis Example 1 is dropped into it, and irradiated with 3000 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. After curing by irradiating an amount of ultraviolet rays, the sheet was removed from the mold to obtain a sheet-like cured product. The obtained cured product was a colorless and transparent film having a film thickness of about 200 μm. When pencil hardness was measured according to JIS K5600-5-4, the 2H pencil did not cause scratches.

[実施例2]
ガラス基板上に耐熱離型テープで20mm×50mm×深さ0.2mmの型を作成し、その中に合成例1で得られた化合物を滴下して、100℃、3時間で加熱硬化させ、型からはがしてシート状の硬化物を得た。得られた硬化物は膜厚約200μmの無色透明の膜であった。JIS K5600−5−4に準じ、鉛筆硬度を測定したところ、2Hの鉛筆で傷は生じなかった。
[Example 2]
Create a 20 mm x 50 mm x 0.2 mm deep mold with heat-resistant release tape on a glass substrate, drop the compound obtained in Synthesis Example 1 into it, heat cure at 100 ° C for 3 hours, It peeled from the type | mold and the sheet-like hardened | cured material was obtained. The obtained cured product was a colorless and transparent film having a film thickness of about 200 μm. When pencil hardness was measured according to JIS K5600-5-4, the 2H pencil did not cause scratches.

[実施例3]
実施例2と同様の方法でシート状の硬化物を得た。得られた硬化物は膜厚約200〜300μmの無色透明の膜であった。これを1.5cm×5cmほどの大きさに裁断して延伸用のバルクフィルムとして用い、160℃に加熱したホットプレートで炙りながら1.5倍に延伸し、膜厚198μmの位相差フィルム1を得た。
[Example 3]
A sheet-like cured product was obtained in the same manner as in Example 2. The obtained cured product was a colorless and transparent film having a film thickness of about 200 to 300 μm. This is cut into a size of about 1.5 cm × 5 cm and used as a bulk film for stretching. The film is stretched 1.5 times while rolling on a hot plate heated to 160 ° C., and a retardation film 1 having a film thickness of 198 μm is obtained. Obtained.

[実施例4]
実施例2と同様の方法でシート状の硬化物を得た。得られた硬化物は膜厚約200〜300μmの無色透明の膜であった。これを1.5cm×5cmほどの大きさに裁断して延伸用のバルクフィルムとして用い、200℃に加熱したホットプレートで炙りながら2倍に延伸し、膜厚150μmの位相差フィルム2を得た。
[Example 4]
A sheet-like cured product was obtained in the same manner as in Example 2. The obtained cured product was a colorless and transparent film having a film thickness of about 200 to 300 μm. This was cut into a size of about 1.5 cm × 5 cm, used as a bulk film for stretching, and stretched twice while rolling on a hot plate heated to 200 ° C. to obtain a retardation film 2 having a thickness of 150 μm. .

[実施例5]
合成例1で得られた化合物の代わりに合成例2で得られた化合物を使用する以外は実施例4と同様の方法でシート状の硬化物を得た。得られた硬化物は膜厚約200〜300μmの無色透明の膜であった。これを実施例4と同様の方法で延伸し、膜厚236μmの位相差フィルム3を得た。
[Example 5]
A sheet-like cured product was obtained in the same manner as in Example 4 except that the compound obtained in Synthesis Example 2 was used instead of the compound obtained in Synthesis Example 1. The obtained cured product was a colorless and transparent film having a film thickness of about 200 to 300 μm. This was stretched in the same manner as in Example 4 to obtain a retardation film 3 having a film thickness of 236 μm.

実施例3〜5で得られた本発明の位相差フィルム、二軸延伸ゼオノア(積水化学製エスシーナ)C−Plate(比較例1)、一軸延伸位相差フィルム(PCR140)A−−Plate(比較例2)について、自動複屈折計(王子計測機器製KOBRA−WPR))を用いて三次元屈折率を測定した。その結果を表1に示す。   Retardation film of the present invention obtained in Examples 3 to 5, biaxially stretched ZEONOR (Essina manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) C-Plate (Comparative Example 1), uniaxially stretched retardation film (PCR140) A-Plate (Comparative Example) For 2), the three-dimensional refractive index was measured using an automatic birefringence meter (KOBRA-WPR manufactured by Oji Scientific Instruments). The results are shown in Table 1.

Figure 0006443836
Figure 0006443836

表1に示すように、実施例3〜5で得られた本発明の位相差フィルムは、三次元複屈折率が、nx≧nz>nyの関係を有しており、ネガティブAプレートとしての光学特性を発現できることが確認された。
このように、本発明により、二軸延伸ではなく一軸延伸のみでネガティブAプレートとしての光学特性を発現することが可能な位相差フィルムを提供することができるものである。
As shown in Table 1, the retardation films of the present invention obtained in Examples 3 to 5 have a three-dimensional birefringence relationship of nx ≧ nz> ny, and are optical as a negative A plate. It was confirmed that the characteristics can be expressed.
Thus, according to the present invention, a retardation film capable of expressing optical characteristics as a negative A plate only by uniaxial stretching rather than biaxial stretching can be provided.

Claims (7)

測定波長590nmにおける三次元屈折率が下記式(1)または(2):
nx≧nz>ny (1)
nz≧nx>ny (2)
(式(1)及び(2)において、nxは位相差フィルム面内における延伸方向の屈折率であり、nyは位相差フィルム面内における延伸方向と直行方向の屈折率であり、nzは厚さ方向の屈折率である。)を満たし、
一般式(3):
Figure 0006443836

(式中、R及びRは異なっており、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示し、或いはR及びRは互いに結合して隣接する不斉炭素(C*)とともに非対称な環を形成してもよい。*は不斉炭素を示す。)
で表される繰り返し単位を分子内に有するポリマーからなるフィルムを延伸して成る位相差フィルム。
The three-dimensional refractive index at a measurement wavelength of 590 nm is the following formula (1) or (2):
nx ≧ nz> ny (1)
nz ≧ nx> ny (2)
(In the formulas (1) and (2), nx is the refractive index in the stretching direction in the retardation film plane, ny is the refractive index in the stretching direction and the orthogonal direction in the retardation film plane, and nz is the thickness. Is the refractive index in the direction)
General formula (3):
Figure 0006443836

(In the formula, R 1 and R 2 are different and each independently has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. Or R 1 and R 2 may be bonded to each other to form an asymmetric ring with the adjacent asymmetric carbon (C *). * Represents an asymmetric carbon.)
A retardation film formed by stretching a film made of a polymer having a repeating unit represented by
前記ポリマーが下記式(4):
Figure 0006443836

(式中、R、R及び*は、式(3)で定義される通りである。)
で表される化合物を含むモノマーをラジカル重合して得られる、請求項1に記載の位相差フィルム。
The polymer is represented by the following formula (4):
Figure 0006443836

(Wherein R 1 , R 2 and * are as defined in formula (3).)
The retardation film of Claim 1 obtained by radical-polymerizing the monomer containing the compound represented by these.
下記式(4)
Figure 0006443836

(式中、R 及びR は異なっており、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示し、或いはR 及びR は互いに結合して隣接する不斉炭素(C*)とともに非対称な環を形成してもよい。*は不斉炭素を示す。)
で表される化合物を含むモノマーまたは、当該モノマーの溶液をキャストし、ラジカル重合処理を施して得られたフィルムを、さらに延伸処理することを含む、測定波長590nmにおける三次元屈折率が下記式(1)または(2)を満たす位相差フィルムの製造方法。
nx≧nz>ny (1)
nz≧nx>ny (2)
(式(1)及び(2)において、nxは位相差フィルム面内における延伸方向の屈折率であり、nyは位相差フィルム面内における延伸方向と直行方向の屈折率であり、nzは厚さ方向の屈折率である。)
Following formula (4) :
Figure 0006443836

(In the formula, R 1 and R 2 are different and each independently has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. Or R 1 and R 2 may be bonded to each other to form an asymmetric ring with the adjacent asymmetric carbon (C *). * Represents an asymmetric carbon.)
A three-dimensional refractive index at a measurement wavelength of 590 nm, which includes further stretching treatment of a monomer containing a compound represented by formula (1) or a film obtained by casting a solution of the monomer and subjecting it to radical polymerization treatment, A method for producing a retardation film satisfying 1) or (2).
nx ≧ nz> ny (1)
nz ≧ nx> ny (2)
(In the formulas (1) and (2), nx is the refractive index in the stretching direction in the retardation film plane, ny is the refractive index in the stretching direction and the orthogonal direction in the retardation film plane, and nz is the thickness. The refractive index in the direction.)
下記式(4)
Figure 0006443836

(式中、R 及びR は異なっており、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示し、或いはR 及びR は互いに結合して隣接する不斉炭素(C*)とともに非対称な環を形成してもよい。*は不斉炭素を示す。)
で表される化合物を含むモノマーにラジカル重合処理を施したポリマーを用いて、押し出し法にて得られたフィルムを、さらに延伸処理することを含む、測定波長590nmにおける三次元屈折率が下記式(1)または(2)を満たす位相差フィルムの製造方法。
nx≧nz>ny (1)
nz≧nx>ny (2)
(式(1)及び(2)において、nxは位相差フィルム面内における延伸方向の屈折率であり、nyは位相差フィルム面内における延伸方向と直行方向の屈折率であり、nzは厚さ方向の屈折率である。)
Following formula (4) :
Figure 0006443836

(In the formula, R 1 and R 2 are different and each independently has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. Or R 1 and R 2 may be bonded to each other to form an asymmetric ring with the adjacent asymmetric carbon (C *). * Represents an asymmetric carbon.)
A three-dimensional refractive index at a measurement wavelength of 590 nm including further stretching the film obtained by the extrusion method using a polymer obtained by subjecting a monomer containing a compound represented by radical polymerization treatment to the following formula ( A method for producing a retardation film satisfying 1) or (2).
nx ≧ nz> ny (1)
nz ≧ nx> ny (2)
(In the formulas (1) and (2), nx is the refractive index in the stretching direction in the retardation film plane, ny is the refractive index in the stretching direction and the orthogonal direction in the retardation film plane, and nz is the thickness. The refractive index in the direction.)
前記延伸が、一軸延伸である、請求項3又は4に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 3 or 4, wherein the stretching is uniaxial stretching. 請求項1又は2に記載の位相差フィルムを備える液晶セル。   A liquid crystal cell comprising the retardation film according to claim 1. 請求項1又は2に記載の位相差フィルムを備える液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the retardation film according to claim 1.
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