JP6439062B2 - Insulated wire manufacturing method - Google Patents

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本発明は、絶縁電線の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an insulated wire.

近年、電子機器、電気機器の小型化に伴い、これらの機器に装着されるコイルの小型化も求められている。コイルの小型化は、断面矩形状のエナメル線(平角エナメル線)を用いることによって実現されている。平角エナメル線は、従来の断面円形状のエナメル線(丸形エナメル線)よりも、コイル状に巻き付けた際のエナメル線同士の隙間を小さくすることができ、エナメル線の占積率を高めることができるので、コイルの小型化を図ることができる。   In recent years, with the miniaturization of electronic devices and electrical devices, there has been a demand for miniaturization of coils to be mounted on these devices. Miniaturization of the coil is realized by using an enameled wire having a rectangular cross section (flat angle enameled wire). The flat enameled wire can reduce the gap between enameled wires when coiled, and increase the space factor of the enameled wire, compared to the conventional enameled wire with a circular cross section (round enameled wire) Therefore, the coil can be reduced in size.

平角エナメル線は、平角導体と、その周囲を覆う絶縁皮膜とを有する。コイルに使用される平角エナメル線の絶縁皮膜は、良好な可とう性と、優れた耐熱性、絶縁性を有することが求められる。例えば、平角導体の周囲に、イミド系又はアミド系のポリマーを含むエマルジョン型電着ワニスの焼付層を有する絶縁電線(特許文献1)や、平角導体の周囲に、第1のポリアミドイミドからなる第1の層、第2のポリアミドイミドからなる第2の層及びポリイミドからなる第3の層を有する絶縁電線が提案されている(特許文献2)。   A flat enameled wire has a flat conductor and an insulating film covering its periphery. The insulation film of the flat enameled wire used for the coil is required to have good flexibility, excellent heat resistance, and insulation. For example, an insulated wire (Patent Document 1) having a seizure layer of an emulsion type electrodeposition varnish containing an imide-based or amide-based polymer around a rectangular conductor, or a first polyamideimide around a rectangular conductor. An insulated wire having a first layer, a second layer made of a second polyamideimide, and a third layer made of polyimide has been proposed (Patent Document 2).

これらの平角エナメル線は、通常、平角導体の周囲を絶縁皮膜で被覆することによって得ることができる。しかしながら、このようにして得られるエナメル線は、平角導体の断面のサイド部とフラット部の絶縁皮膜を均一に形成することが難しく、特にサイド部の膜厚が薄くなる傾向にあった。これに対して、絶縁層及び自己融着層で被覆した丸型導体を圧延し、サイド部とフラット部の絶縁皮膜の厚みが均一な平角エナメル線を得ることが検討されている(例えば特許文献3)。   These rectangular enamel wires can be usually obtained by coating the periphery of a rectangular conductor with an insulating film. However, in the enameled wire thus obtained, it is difficult to uniformly form the insulating film on the side portion and the flat portion of the cross section of the flat conductor, and in particular, the thickness of the side portion tends to be thin. On the other hand, it has been studied to roll a round conductor covered with an insulating layer and a self-bonding layer to obtain a flat enameled wire having a uniform thickness of the insulating film on the side portion and the flat portion (for example, Patent Documents). 3).

特開平4−12407号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-12407 特開2015−135766号公報JP-A-2015-135766 特開昭54−37287号公報JP 54-37287 A

小型化の要望に伴って、平角導体の薄膜化が求められる中、絶縁皮膜の膜厚についても、絶縁性が保たれる範囲内で可能な限り薄い膜厚であることが望まれている。しかしながら、小型化に応じた薄膜の場合、平角エナメル線をコイル状に巻きつけた際、自己融着層で融着されるフラット部に対し、サイド部は自己融着層で融着されずに露出された状態となるため、高温等の過酷な使用環境下に曝されると、絶縁性が不十分となりやすい。一方で、サイド部の絶縁性確保のために、絶縁皮膜全体の膜厚を厚くすると、コイル全体のサイズが大きくなってしまう。従って、絶縁皮膜で覆われた丸導体を、所定の圧延比で圧延することが必要となる。   Along with the demand for miniaturization, thinning of a rectangular conductor is required, and the thickness of the insulating film is also desired to be as thin as possible within the range in which insulation is maintained. However, in the case of a thin film according to miniaturization, when a flat enameled wire is wound in a coil shape, the side part is not fused by the self-bonding layer with respect to the flat part fused by the self-bonding layer. Since it is in an exposed state, when exposed to a severe use environment such as a high temperature, the insulating property tends to be insufficient. On the other hand, when the film thickness of the entire insulating film is increased in order to ensure the insulation of the side portion, the size of the entire coil becomes large. Therefore, it is necessary to roll the round conductor covered with the insulating film at a predetermined rolling ratio.

しかしながら、従来の絶縁皮膜で覆われた丸導体を、従来よりも高い圧延比で圧延すると、絶縁皮膜のフラット部にひび割れが生じるという問題があった。このようなひび割れは、絶縁破壊を生じる原因となりやすい。   However, when a round conductor covered with a conventional insulating film is rolled at a higher rolling ratio than conventional, there is a problem that cracks are generated in the flat portion of the insulating film. Such cracks tend to cause dielectric breakdown.

更に、平角エナメル線の絶縁皮膜には、高温の使用環境でも絶縁性を失わない高い耐熱性が求められる。しかしながら、特許文献3に示される絶縁電線は、ポリアミドイミドからなる層を主に有するため、耐熱性が十分ではなかった。また、絶縁皮膜の耐熱性を高めると、導体との密着性が低下したり、絶縁塗料を複数回塗布して得られる絶縁皮膜では層内に空隙(層内剥離)が生じたりしやすい。このように、耐熱性と、導体との密着性又は層内密着性とは相反する特性であり、両立することが難しかった。   Furthermore, the insulation film of the flat enameled wire is required to have high heat resistance that does not lose the insulation even in a high temperature use environment. However, since the insulated wire shown in Patent Document 3 mainly has a layer made of polyamideimide, the heat resistance is not sufficient. In addition, when the heat resistance of the insulating film is increased, the adhesion to the conductor is lowered, and in the insulating film obtained by applying the insulating coating a plurality of times, voids (in-layer peeling) are likely to occur in the layer. Thus, the heat resistance and the adhesion to the conductor or the in-layer adhesion are contradictory properties, and it has been difficult to achieve both.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、絶縁皮膜のひび割れが抑制され、且つ高い耐熱性と、導体との良好な密着性や層内密着性とを有する絶縁電線を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said subject, The crack of an insulating film is suppressed, and it provides the insulated wire which has high heat resistance, favorable adhesiveness with a conductor, and in-layer adhesiveness. With the goal.

[1] 導体と、その外周上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、軟化温度280℃以下の樹脂を含む自己融着層とを有する絶縁電線であって、
前記絶縁電線は、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向し、それぞれ外側に向かって凸状に湾曲した一対の短辺とを有する断面形状を有し、前記絶縁層は、ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜80モル%と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位10〜50モル%とを含むテトラカルボン酸成分単位(a)と、ジアミン成分単位(b)とを含むポリイミドを含む、絶縁電線。
[2] 前記一対の短辺の間に形成される長軸の長さLと、前記一対の長辺の間に形成される短軸の長さSとの比L/Sが5〜15である、[1]に記載の絶縁電線。
[3] 前記ポリイミドは、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜80モル%と、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位10〜50モル%を含むテトラカルボン酸成分単位(a1)と、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル成分単位を含むジアミン成分単位(b1)とを含む、[1]又は[2]に記載の絶縁電線。
[4] 前記ポリイミドは、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜60モル%と、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位25〜50モル%とからなるテトラカルボン酸成分単位(a2)と、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル成分単位を含むジアミン成分単位(b1)とを含む、[1]〜[3]のいずれかに記載の絶縁電線。
[5] 前記3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位に対する前記3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位の含有比率が、26モル%以上である、[4]に記載の絶縁電線。
[6] 前記比L/Sが8〜10である、[2]に記載の絶縁電線。
[7] 前記導体は、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向し、それぞれ外側に向かって凸状に湾曲した一対の短辺とを有する断面形状を有し、前記導体の断面の、前記一対の短辺間に形成される長軸の長さlが0.10〜2.00mmであり、且つ前記一対の短辺間に形成される短軸の長さsが0.015〜0.50mmである、[1]〜[6]のいずれかに記載の絶縁電線。
[8] [1]〜[7]のいずれかに記載の絶縁電線の製造方法であって、導体と、その外周上に設けられ、ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜80モル%と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位10〜50モル%とを含むテトラカルボン酸成分単位(a)と、ジアミン成分単位(b)とを含むポリイミドを含む絶縁層とを有する被覆導体を得る工程と、前記被覆導体を圧延する工程とを含む、絶縁電線の製造方法。
[9] 圧延された前記被覆導体の外周に、軟化温度280℃以下の樹脂を含む自己融着層を形成する工程をさらに含む、[8]に記載の絶縁電線の製造方法。
[1] An insulated wire having a conductor, an insulating layer provided on the outer periphery thereof, and a self-bonding layer provided on the insulating layer and containing a resin having a softening temperature of 280 ° C. or less,
The insulated wire has a cross-sectional shape having a pair of long sides facing each other and a pair of short sides facing each other and curved outwardly, and the insulating layer is made of biphenyltetracarboxylic acid A tetracarboxylic acid component unit (a) containing 40 to 80 mol% anhydride units, 10 to 20 mol% benzophenonetetracarboxylic anhydride units, and 10 to 50 mol% pyromellitic anhydride units, and a diamine component The insulated wire containing the polyimide containing a unit (b).
[2] The ratio L / S between the length L of the long axis formed between the pair of short sides and the length S of the short axis formed between the pair of long sides is 5-15. The insulated wire according to [1].
[3] The polyimide comprises 40 to 80 mol% of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic anhydride units and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic anhydride units 10 to 10. 20 mol%, a tetracarboxylic acid component unit (a1) containing 10-50 mol% pyromellitic anhydride units, and a diamine component unit (b1) containing 4,4′-diaminodiphenyl ether component units, The insulated wire according to [1] or [2].
[4] The polyimide comprises 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic anhydride units 40-60 mol% and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic anhydride units 10-10. A tetracarboxylic acid component unit (a2) composed of 20 mol% and pyromellitic anhydride units 25 to 50 mol%, and a diamine component unit (b1) containing a 4,4′-diaminodiphenyl ether component unit, The insulated wire according to any one of [1] to [3].
[5] The content ratio of the 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic anhydride unit to the 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic anhydride unit is 26 mol% or more. The insulated wire according to [4].
[6] The insulated wire according to [2], wherein the ratio L / S is 8 to 10.
[7] The conductor has a cross-sectional shape having a pair of long sides facing each other and a pair of short sides facing each other and curved outwardly, and the cross-section of the conductor The length l of the long axis formed between the pair of short sides is 0.10 to 2.00 mm, and the length s of the short axis formed between the pair of short sides is 0.015 to 0.005. The insulated wire according to any one of [1] to [6], which is 50 mm.
[8] A method for producing an insulated wire according to any one of [1] to [7], comprising a conductor, 40-80 mol% of biphenyltetracarboxylic anhydride units provided on the outer periphery thereof, and benzophenone Insulation comprising a polyimide containing a tetracarboxylic acid component unit (a) containing 10 to 20 mol% of tetracarboxylic acid anhydride units and 10 to 50 mol% of pyromellitic anhydride units and a diamine component unit (b) The manufacturing method of an insulated wire including the process of obtaining the covering conductor which has a layer, and the process of rolling the said covering conductor.
[9] The method for manufacturing an insulated wire according to [8], further including a step of forming a self-bonding layer including a resin having a softening temperature of 280 ° C. or less on the outer periphery of the rolled coated conductor.

本発明によれば、絶縁皮膜のひび割れが抑制され、且つ高い耐熱性と、導体との良好な密着性や層内密着性とを有する絶縁電線を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the insulated wire which the crack of an insulating film is suppressed, and has high heat resistance, and the favorable adhesiveness and in-layer adhesiveness with a conductor can be provided.

本発明の絶縁電線の構成の一例を示す断面図Sectional drawing which shows an example of a structure of the insulated wire of this invention

1.絶縁電線
本発明の絶縁電線は、導体と、その外周を覆う絶縁層と、さらにその外周を覆う自己融着層とを有する。
1. Insulated wire The insulated wire of the present invention includes a conductor, an insulating layer covering the outer periphery thereof, and a self-bonding layer covering the outer periphery thereof.

図1は、絶縁電線の構成の一例を示す断面図である。図1に示されるように、絶縁電線10は、導体11と、その外周を覆う絶縁層13と、さらにその外周を覆う自己融着層15とを有する。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of an insulated wire. As shown in FIG. 1, the insulated wire 10 includes a conductor 11, an insulating layer 13 covering the outer periphery thereof, and a self-fusion layer 15 covering the outer periphery thereof.

また、絶縁電線10は、対向する一対の短辺が円弧状に張り出した略矩形状の断面形状;即ち、「互いに対向する一対の長辺」と「互いに対向し、それぞれ外側に向かって凸状に湾曲した短辺」とを有する断面形状を有することが好ましい(図1参照)。長辺部分をフラット部、短辺部分をサイド部ともいう。   The insulated wire 10 has a substantially rectangular cross-sectional shape in which a pair of opposing short sides project in an arc shape; that is, “a pair of long sides facing each other” and “a pair facing each other, convex toward each other” It is preferable to have a cross-sectional shape having a “short side curved in the direction” (see FIG. 1). The long side portion is also called a flat portion, and the short side portion is also called a side portion.

絶縁電線10の断面の、一対の短辺間に形成される長軸の長さLと一対の長辺間で形成される短軸の長さSとの比L/S(アスペクト比)は、5〜15であることが好ましい。比L/Sが5以上であると、一方向(長辺と直交する方向)に圧延したときに、短辺部分(サイド部)の絶縁層13の厚みを十分に増加させやすいので、短辺部分(サイド部)の絶縁層13の絶縁性が損なわれにくい。比L/Sが15以下であると、一方向(長辺と直交する方向)に圧延したときに、絶縁電線10の長辺部分(フラット部)の絶縁層13の厚みが薄くなりすぎないことから、圧延時の長辺部分(フラット部)のひび割れが生じにくい。それにより、融着した絶縁電線同士の絶縁性を十分に保つことができ、導通を高度に抑制できる。一対の短辺間に形成される長軸の長さLは、一対の長辺間の距離の最大値に相当する。一対の長辺間に形成される短軸の長さSは、一対の短辺間の距離に相当する。尚、長軸と短軸は、互いに直交していることが好ましい。比L/Sは、5〜15であることがより好ましく、8〜10であることが更に好ましい。長軸の長さLは、例えば0.10〜2.00mmであることが好ましく、0.20〜1.70mmであることがより好ましい。短軸の長さSは、例えば0.015〜0.50mmであることが好ましく、0.02〜0.20mmであることがより好ましい。   The ratio L / S (aspect ratio) between the length L of the long axis formed between the pair of short sides and the length S of the short axis formed between the pair of long sides in the cross section of the insulated wire 10 is: It is preferable that it is 5-15. When the ratio L / S is 5 or more, the thickness of the insulating layer 13 in the short side portion (side portion) can be sufficiently increased when rolled in one direction (direction orthogonal to the long side). The insulating property of the insulating layer 13 in the part (side part) is not easily impaired. When the ratio L / S is 15 or less, the thickness of the insulating layer 13 of the long side portion (flat portion) of the insulated wire 10 does not become too thin when rolled in one direction (direction orthogonal to the long side). Therefore, the long side portion (flat portion) is not easily cracked during rolling. Thereby, the insulation between the fused insulated wires can be sufficiently maintained, and conduction can be highly suppressed. The length L of the long axis formed between the pair of short sides corresponds to the maximum value of the distance between the pair of long sides. The length S of the short axis formed between the pair of long sides corresponds to the distance between the pair of short sides. The major axis and the minor axis are preferably orthogonal to each other. The ratio L / S is more preferably 5 to 15, and still more preferably 8 to 10. The length L of the major axis is preferably, for example, 0.10 to 2.00 mm, and more preferably 0.20 to 1.70 mm. The length S of the minor axis is preferably 0.015 to 0.50 mm, for example, and more preferably 0.02 to 0.20 mm.

また、十分な絶縁性を得るために、短辺部分(サイド部)の絶縁層13の厚みは、長辺部分(フラット部)の絶縁層13の厚みよりも大きいことが好ましい。これにより、例えば絶縁電線10をコイル状に巻いた状態で高温等の過酷な使用環境下に曝されても、自己融着層が露出している部分の絶縁層13の短辺部分(サイド部)が熱劣化するのを抑制し得る。   In order to obtain sufficient insulation, it is preferable that the thickness of the insulating layer 13 in the short side portion (side portion) is larger than the thickness of the insulating layer 13 in the long side portion (flat portion). Thereby, for example, even if the insulated wire 10 is wound in a coil shape and exposed to a severe use environment such as a high temperature, the short side portion (side portion) of the insulating layer 13 where the self-bonding layer is exposed ) Can be prevented from thermal degradation.

以下、絶縁電線10を構成する各層について説明する。   Hereinafter, each layer which comprises the insulated wire 10 is demonstrated.

1−1.導体11
導体11の材質は、銅、銅合金、アルミニウム、鉄、銀、これらの合金等であり得るが、機械的強度、導電率等の観点から、銅又は銅合金であることが好ましい。
1-1. Conductor 11
The material of the conductor 11 may be copper, copper alloy, aluminum, iron, silver, or an alloy thereof, but is preferably copper or copper alloy from the viewpoint of mechanical strength, conductivity, and the like.

導体11は、圧延された導体である。従って、導体11は、前述の絶縁電線10の断面形状と同様に、「互いに対向する一対の長辺」と「互いに対向し、それぞれ外側に向かって凸状に湾曲した短辺」とを有する断面形状を有し得る(図1参照)。   The conductor 11 is a rolled conductor. Accordingly, the conductor 11 has a cross section having “a pair of long sides facing each other” and “a short side facing each other and curved outwardly,” similarly to the cross-sectional shape of the insulated wire 10 described above. It may have a shape (see FIG. 1).

導体11の断面において、一対の短辺間に形成される長軸の長さlは、0.10〜2.00mmであることが好ましく、0.20〜1.70mmであることがより好ましい。一対の長辺間に形成される短軸の長さsは、0.015〜0.50mmであることが好ましく、0.02〜0.20mmであることがより好ましい。   In the cross section of the conductor 11, the length l of the long axis formed between the pair of short sides is preferably 0.10 to 2.00 mm, and more preferably 0.20 to 1.70 mm. The length s of the short axis formed between the pair of long sides is preferably 0.015 to 0.50 mm, and more preferably 0.02 to 0.20 mm.

1−2.絶縁層13
絶縁層13は、絶縁電線11に耐熱性と絶縁性を付与する機能を有する。絶縁層13は、ポリイミドを含む。
1-2. Insulating layer 13
The insulating layer 13 has a function of imparting heat resistance and insulation to the insulated wire 11. The insulating layer 13 includes polyimide.

ポリイミドは、テトラカルボン酸成分単位(a)と、ジアミン成分単位(b)とを有する。   The polyimide has a tetracarboxylic acid component unit (a) and a diamine component unit (b).

ポリイミドを構成するテトラカルボン酸成分単位(a)は、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位と、ピロメリット酸無水物(PMDA)単位とを含むことが好ましい。具体的には、テトラカルボン酸成分単位(a)は、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位40〜80モル%と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物(PMDA)単位10〜50モル%とを含むことが好ましく;ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位40〜60モル%と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物(BPDA)単位25〜50モル%とを含むことがより好ましい。但し、テトラカルボン酸成分単位の合計(総モル数)を100モル%とする。   The tetracarboxylic acid component unit (a) constituting the polyimide includes a biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) unit, a benzophenonetetracarboxylic anhydride (BTDA) unit, and a pyromellitic anhydride (PMDA) unit. It is preferable. Specifically, the tetracarboxylic acid component unit (a) is composed of 40 to 80 mol% biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) unit, 10 to 20 mol% benzophenonetetracarboxylic anhydride (BTDA) unit, Preferably, it contains 10 to 50 mol% merit anhydride (PMDA) units; 40 to 60 mol% biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) units and 10 to 20 benzophenonetetracarboxylic anhydride (BTDA) units. More preferably, it contains mol% and pyromellitic anhydride (BPDA) units of 25 to 50 mol%. However, the total (total number of moles) of tetracarboxylic acid component units is 100 mol%.

ビフェニルテトラカルボン酸無水物の例には、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物が含まれ、好ましくは3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物である。   Examples of biphenyltetracarboxylic anhydrides include 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic anhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic anhydride, 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic anhydride is included, and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic anhydride is preferable.

ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物の例には、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等が含まれ、好ましくは3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物である。   Examples of the benzophenone tetracarboxylic acid anhydride include 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, and the like. Is 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic anhydride.

ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位は、ポリイミドの耐油性を高めやすい。ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位は、ポリイミドの柔軟性や融着性を高めやすい。ピロメリット酸無水物(PMDA)単位は、ポリイミドの耐熱性を高めやすい。   Biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) units tend to increase the oil resistance of polyimide. A benzophenone tetracarboxylic anhydride (BTDA) unit tends to improve the flexibility and fusing property of polyimide. The pyromellitic anhydride (PMDA) unit tends to increase the heat resistance of the polyimide.

絶縁層13の耐熱性を高めるためには、ポリイミドに含まれるピロメリット酸無水物(PMDA)単位を多くすることが好ましい。一方で、ピロメリット酸無水物(PMDA)単位を多くし過ぎると、ポリイミドの柔軟性が損なわれやすく、導体11との密着性や層内剥離が生じやすい。従って、柔軟性を付与し得るベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位と、適度な耐熱性と柔軟性を付与し得るビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位の含有比率を調整することが好ましい。   In order to increase the heat resistance of the insulating layer 13, it is preferable to increase the number of pyromellitic anhydride (PMDA) units contained in the polyimide. On the other hand, if the pyromellitic anhydride (PMDA) unit is excessively increased, the flexibility of the polyimide is likely to be impaired, and adhesion with the conductor 11 and in-layer peeling are likely to occur. Therefore, it is preferable to adjust the content ratio of the benzophenone tetracarboxylic anhydride (BTDA) unit capable of imparting flexibility and the biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) unit capable of imparting appropriate heat resistance and flexibility. .

即ち、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位の、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位に対する含有比率(BTDA/BPDA)は、12.5〜50モル%であることが好ましく、17〜50モル%であることがより好ましく、26〜35モル%であることがさらに好ましい。含有比率(BTDA/BPDA)が高いほど、ピロメリット酸無水物(PMDA)単位を多く含んでいても可とう性や密着性が損なわれにくい。   That is, the content ratio (BTDA / BPDA) of the benzophenone tetracarboxylic anhydride (BTDA) unit to the biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) unit is preferably 12.5 to 50 mol%, and 17 to 50 It is more preferable that it is mol%, and it is further more preferable that it is 26-35 mol%. The higher the content ratio (BTDA / BPDA), the less likely the flexibility and adhesion are impaired even if more pyromellitic anhydride (PMDA) units are included.

テトラカルボン酸成分単位(a)は、必要に応じて他の芳香族テトラカルボン酸単位や脂肪族テトラカルボン酸単位をさらに含んでもよい。   The tetracarboxylic acid component unit (a) may further contain other aromatic tetracarboxylic acid units or aliphatic tetracarboxylic acid units as necessary.

他の芳香族テトラカルボン酸の例には、オキシジフタル酸、3-フルオロピロメリット酸無水物、3,6-ジフルオロピロメリット酸無水物、3,6-ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸無水物、3オキシ-4,4'-ジフタル酸無水物、2,2'-ジフルオロ-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物、5,5'-ジフルオロ-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物、6,6'-ジフルオロ-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物、2,2',5,5',6,6'-ヘキサフルオロ-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物、5,5'-ビス(トリフルオロメチル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物、6,6'-ビス(トリフルオロメチル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水物等が含まれる。   Examples of other aromatic tetracarboxylic acids include oxydiphthalic acid, 3-fluoropyromellitic anhydride, 3,6-difluoropyromellitic anhydride, 3,6-bis (trifluoromethyl) pyromellitic anhydride 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic anhydride, 3oxy-4,4′-diphthalic anhydride, 2,2′-difluoro-3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid Anhydride, 5,5'-difluoro-3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic anhydride, 6,6'-difluoro-3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic anhydride 2,2 ′, 5,5 ′, 6,6′-hexafluoro-3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic anhydride, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -3, 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic anhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid Acid anhydrides, 6,6′-bis (trifluoromethyl) -3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid anhydride and the like are included.

脂肪族テトラカルボン酸の例には、エタン-1,1,2,2-テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸無水物、シクロヘキサン-1,2,3,4-テトラカルボン酸無水物、シクロヘキサン-1,2,4,5-テトラカルボン酸無水物、3,3',4,4'-ビシクロヘキシルテトラカルボン酸無水物等が含まれる。   Examples of aliphatic tetracarboxylic acids include ethane-1,1,2,2-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic anhydride, cyclohexane-1,2,3,4-tetracarboxylic anhydride Cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic anhydride, 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic anhydride, and the like.

ポリイミドを構成するジアミン成分単位(b)は、芳香族ジアミン単位又は脂肪族ジアミン単位を含む。   The diamine component unit (b) constituting the polyimide includes an aromatic diamine unit or an aliphatic diamine unit.

芳香族ジアミン単位は、炭素原子数6〜30の芳香族ジアミン単位であることが好ましい。芳香族ジアミンの例には、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−1,1’−ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン等が含まれる。   The aromatic diamine unit is preferably an aromatic diamine unit having 6 to 30 carbon atoms. Examples of aromatic diamines include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-1,1′-biphenyl, 4,4 ′. -Diamino-3,3'-dihydroxy-1,1'-biphenyl, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2, -Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone and the like are included.

脂肪族ジアミン単位は、炭素原子数4〜20の脂肪族ジアミン単位であることが好ましい。脂肪族ジアミンの例には、1,6−ヘキサンジアミン、1,7−ヘプタンジアミン、1,8−オクタンジアミン、1,9−ノナンジアミン、1,10−デカンジアミン、1,11−ウンデカンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン、3−メチル−1,5−ペンタンジアミン、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,4,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、5−メチル−1,9−ノナンジアミン等が含まれる。   The aliphatic diamine unit is preferably an aliphatic diamine unit having 4 to 20 carbon atoms. Examples of aliphatic diamines include 1,6-hexanediamine, 1,7-heptanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine, 1,10-decanediamine, 1,11-undecanediamine, , 12-dodecanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, 3-methyl-1,5-pentanediamine, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediamine, 2,4,4-trimethyl -1,6-hexanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, 5-methyl-1,9-nonanediamine and the like are included.

中でも、ポリイミドの耐熱性を高め得ることから、芳香族ジアミン単位が好ましく、適度な柔軟性を併せもつことから、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル単位が好ましい。   Among them, an aromatic diamine unit is preferable because the heat resistance of polyimide can be improved, and a 4,4′-diaminodiphenyl ether unit is preferable because it has appropriate flexibility.

ジアミン成分単位(b)は、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル単位を80モル%以上含むことが好ましく、90モル%以上含むことが好ましく、100モル%含むことがより好ましい。但し、ジアミン成分単位(b)の合計(総モル数)を100モル%とする。   The diamine component unit (b) preferably contains 80 mol% or more, preferably 90 mol% or more, more preferably 100 mol% of 4,4′-diaminodiphenyl ether unit. However, the total (total number of moles) of the diamine component unit (b) is 100 mol%.

ポリイミドは、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜80モル%と、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位10〜50モル%を含むテトラカルボン酸成分単位(a1)と、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル成分単位を含むジアミン成分単位(b1)とを含むことが好ましく;
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜60モル%と、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位25〜50モル%とからなるテトラカルボン酸成分単位(a2)と、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル成分単位を含むジアミン成分単位(b1)とを含むことがより好ましい。
The polyimide is composed of 40 to 80 mol% 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic anhydride units, 10 to 20 mol% 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic anhydride units, It preferably contains a tetracarboxylic acid component unit (a1) containing 10 to 50 mol% of pyromellitic anhydride units and a diamine component unit (b1) containing 4,4′-diaminodiphenyl ether component units;
3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic anhydride units 40-60 mol%, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic anhydride units 10-20 mol%, More preferably, it contains a tetracarboxylic acid component unit (a2) composed of 25 to 50 mol% of an acid anhydride unit and a diamine component unit (b1) containing a 4,4′-diaminodiphenyl ether component unit.

ポリイミドの極限粘度は、1〜20dl/gであることが好ましい。ポリイミドの極限粘度が20dl/g以下であると、ポリイミドワニスの粘度が適度であるため、導体11の外周に塗布する際に、均一な膜厚に形成しやすい。   The intrinsic viscosity of the polyimide is preferably 1 to 20 dl / g. When the intrinsic viscosity of polyimide is 20 dl / g or less, the viscosity of the polyimide varnish is appropriate, so that it is easy to form a uniform film thickness when applied to the outer periphery of the conductor 11.

ポリイミドの極限粘度は、以下の手順で測定することができる。ポリイミドを、濃硫酸に溶解させて試料溶液とする。得られた試料溶液の流下秒数を、ウベローデ粘度計を用いて25℃±0.05℃の条件下で測定し、下記式に当てはめて、極限粘度[η]を算出する。
[η]=ηSP/[C(1+kηSP)]
[η]:極限粘度(dl/g)
ηSP:比粘度
C:試料濃度(g/dl)
t:試料溶液の流下秒数(秒)
t0:溶媒の流下秒数(秒)
k:定数(溶液濃度の異なるサンプル(3点以上)の比粘度を測定し、横軸に溶液濃度、縦軸にηsp/Cをプロットして求めた傾き)
ηSP=(t−t0)/t0
The intrinsic viscosity of polyimide can be measured by the following procedure. A polyimide is dissolved in concentrated sulfuric acid to obtain a sample solution. The flow down time of the obtained sample solution is measured under the condition of 25 ° C. ± 0.05 ° C. using an Ubbelohde viscometer, and is applied to the following formula to calculate the intrinsic viscosity [η].
[Η] = ηSP / [C (1 + kηSP)]
[Η]: Intrinsic viscosity (dl / g)
ηSP: specific viscosity C: sample concentration (g / dl)
t: Number of seconds that the sample solution flows (seconds)
t0: The number of seconds during which the solvent flows (seconds)
k: Constant (slope obtained by measuring the specific viscosity of samples having different solution concentrations (three or more points), plotting the solution concentration on the horizontal axis, and ηsp / C on the vertical axis)
ηSP = (t−t0) / t0

本発明者らは、軟化温度の異なるポリイミドを用いて、焼き付け時の温度(線温)を変えながら複数の絶縁電線を作製し、絶縁層内の層内剥離の有無を比較した。その結果、以下の表1に示される関係を見出した。

Figure 0006439062
The present inventors made a plurality of insulated wires using polyimides having different softening temperatures while changing the temperature (wire temperature) during baking, and compared the presence or absence of delamination within the insulating layer. As a result, the relationship shown in Table 1 below was found.
Figure 0006439062

表1に示されるように、ポリイミドの軟化温度が低いと、層内密着性は得られやすいが、耐熱性が低くなる。一方、ポリイミドの軟化温度が高いと、耐熱性は良好であるが、線温を高くしなければ層内密着性が得られにくい。線温を高くすることは、生産性の低下に繋がる。従って、線温を高くすることなく、良好な耐熱性と層内密着性とを両立できることから、ポリイミドの軟化温度は、350〜500℃であることが好ましく、400〜500℃であることがより好ましい。   As shown in Table 1, when the softening temperature of polyimide is low, in-layer adhesion is easily obtained, but heat resistance is low. On the other hand, when the softening temperature of polyimide is high, the heat resistance is good, but the in-layer adhesion is difficult to obtain unless the linear temperature is increased. Increasing the wire temperature leads to a decrease in productivity. Accordingly, since both good heat resistance and in-layer adhesion can be achieved without increasing the linear temperature, the softening temperature of polyimide is preferably 350 to 500 ° C, more preferably 400 to 500 ° C. preferable.

ポリイミドの軟化温度が350℃、好ましくは400℃以上であると、耐熱性が損なわれにくい。ポリイミドの軟化温度が500℃以下であると、焼き付け時の線温を過剰に高める必要がないため、生産性が低下しにくい。ポリイミドの軟化温度は、JIS C32166−6に準拠して測定できる。   When the softening temperature of the polyimide is 350 ° C., preferably 400 ° C. or higher, the heat resistance is not easily impaired. When the softening temperature of the polyimide is 500 ° C. or lower, it is not necessary to excessively increase the linear temperature during baking, and thus productivity is unlikely to decrease. The softening temperature of polyimide can be measured according to JIS C32166-6.

ポリイミドの含有量は、絶縁層13の全質量に対して50質量%以上であることが好ましい。ポリイミドの含有量が50質量%以上であると、十分な耐熱性と絶縁性が得られやすい。ポリイミドの含有量は、絶縁層13の全質量に対して80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。   The polyimide content is preferably 50% by mass or more based on the total mass of the insulating layer 13. When the content of the polyimide is 50% by mass or more, sufficient heat resistance and insulating properties are easily obtained. The content of the polyimide is preferably 80% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more with respect to the total mass of the insulating layer 13.

絶縁層13は、必要に応じて他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、密着性向上剤等が含まれる。   The insulating layer 13 may further include other components as necessary. Examples of other components include an adhesion improver.

絶縁層13の長辺部分(フラット部)の厚みは、絶縁層13と自己融着層15の長辺部分(フラット部)の厚みの合計に対して50〜90%であることが好ましい。絶縁層13の厚みの比率が50%以上であると、絶縁電線10の耐熱性を十分に高め得る。絶縁層13の厚みの比率が90%以下であると、融着性を損なうことなく、絶縁電線10の体積の増大を抑制し得る。絶縁層13の厚みは、絶縁層13と自己融着層15の厚みの合計に対して60〜70%であることがより好ましい。絶縁層13の厚みは、例えば2.00〜10.00μmとし得る。絶縁層13の厚みは、絶縁電線10の断面を顕微鏡で観察したときに、絶縁層13のフラット部の厚みの平均値から算出される。   The thickness of the long side portion (flat portion) of the insulating layer 13 is preferably 50 to 90% with respect to the total thickness of the long side portion (flat portion) of the insulating layer 13 and the self-bonding layer 15. When the thickness ratio of the insulating layer 13 is 50% or more, the heat resistance of the insulated wire 10 can be sufficiently increased. When the thickness ratio of the insulating layer 13 is 90% or less, an increase in the volume of the insulated wire 10 can be suppressed without impairing the fusibility. The thickness of the insulating layer 13 is more preferably 60 to 70% with respect to the total thickness of the insulating layer 13 and the self-bonding layer 15. The thickness of the insulating layer 13 can be set to, for example, 2.00 to 10.00 μm. The thickness of the insulating layer 13 is calculated from the average value of the thicknesses of the flat portions of the insulating layer 13 when the cross section of the insulated wire 10 is observed with a microscope.

絶縁層13は、テトラカルボン酸成分としてピロメリット酸無水物(PMDA)単位とベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物(BTDA)単位とビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)単位とを所定の比率で有するポリイミドを含むので、高い耐熱性と柔軟性(又は密着性)とを有する。従って、絶縁電線が、高倍率に圧延されたものであっても、絶縁層13(特に長辺部分(フラット部))のひび割れや、導体11との密着性や層内剥離が高度に抑制されている。さらに、絶縁電線は、高い耐熱性も有するので、コイル等の製品に組み込まれる際に高温下に曝されても、絶縁性が損なわれにくい。   The insulating layer 13 is made of polyimide having pyromellitic anhydride (PMDA) units, benzophenonetetracarboxylic anhydride (BTDA) units, and biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA) units in a predetermined ratio as tetracarboxylic acid components. Since it contains, it has high heat resistance and a softness | flexibility (or adhesiveness). Therefore, even if the insulated wire is rolled at a high magnification, cracking of the insulating layer 13 (particularly, the long side portion (flat portion)), adhesion to the conductor 11, and delamination in the layer are highly suppressed. ing. Furthermore, since the insulated wire also has high heat resistance, even if it is exposed to a high temperature when it is incorporated in a product such as a coil, the insulation is not easily impaired.

1−3.自己融着層15
自己融着層15は、絶縁電線10の最表面に設けられ、複数の絶縁電線10同士を熱融着させる機能を有する。従って、自己融着層15は、軟化温度が280℃以下、好ましくは200℃以下の樹脂を含むことが好ましい。樹脂の軟化温度は、前述と同様に、JIS C32166−6に準拠して測定できる。
1-3. Self-bonding layer 15
The self-bonding layer 15 is provided on the outermost surface of the insulated wire 10 and has a function of thermally fusing the plurality of insulated wires 10 together. Therefore, the self-bonding layer 15 preferably contains a resin having a softening temperature of 280 ° C. or lower, preferably 200 ° C. or lower. The softening temperature of the resin can be measured according to JIS C32166-6, as described above.

そのような樹脂の例には、ポリビニルアセタール(例えばポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等)、ポリウレタン、フェノキシ樹脂(例えばビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ビスフェノールS型フェノキシ樹脂等)、ポリアミド(例えばナイロン6、ナイロン66等の脂肪族ポリアミド)、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリスルホン等が含まれる。中でも、耐熱性を損なうことなく低温で融着できることから、ポリアミドが好ましく、脂肪族ポリアミドがより好ましい。   Examples of such resins include polyvinyl acetal (eg, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, etc.), polyurethane, phenoxy resin (eg, bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol S type phenoxy resin), polyamide (eg, nylon 6, nylon 66, etc.) Aliphatic polyamide), polyamideimide, polyetherimide, polyester, polysulfone and the like. Among these, polyamide is preferable and aliphatic polyamide is more preferable because it can be fused at a low temperature without impairing heat resistance.

自己融着層15は、必要に応じて他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、酸化防止剤、潤滑剤等が含まれる。   The self-bonding layer 15 may further include other components as necessary. Examples of other components include an antioxidant and a lubricant.

酸化防止剤は、自己融着層15に含まれる熱可塑性樹脂の熱劣化を防止する機能を有し得る。酸化防止剤の例には、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等が含まれる。   The antioxidant may have a function of preventing thermal deterioration of the thermoplastic resin contained in the self-bonding layer 15. Examples of the antioxidant include phenol-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, amine-based antioxidants, and the like.

潤滑剤の例には、ポリエチレンワックス、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂等の合成系滑剤、蜜蝋、カルナウバ蝋及びキャンデリラワックス等の天然系滑剤が含まれる。   Examples of the lubricant include synthetic lubricants such as polyethylene wax, silicone resin and fluororesin, and natural lubricants such as beeswax, carnauba wax and candelilla wax.

自己融着層15の長辺部分(フラット部)の厚みは、絶縁層13と自己融着層15の長辺部分(フラット部)の厚みの合計に対して10〜50%であることが好ましい。自己融着層15の厚みの比率が10%以上であると、十分な融着性が得られやすい。自己融着層15の厚みの比率が50%以下であると、絶縁性を損なうことなく、絶縁電線10の体積の増大を抑制し得る。自己融着層15の厚みは、導体11を被覆する層全体の厚みに対して30〜40%であることがより好ましい。自己融着層15の厚みは、例えば1.0〜10.0μmとし得る。   The thickness of the long side portion (flat portion) of the self-bonding layer 15 is preferably 10 to 50% with respect to the total thickness of the long side portion (flat portion) of the insulating layer 13 and the self-bonding layer 15. . When the thickness ratio of the self-bonding layer 15 is 10% or more, sufficient fusing property is easily obtained. When the thickness ratio of the self-bonding layer 15 is 50% or less, an increase in the volume of the insulated wire 10 can be suppressed without impairing the insulating properties. The thickness of the self-bonding layer 15 is more preferably 30 to 40% with respect to the thickness of the entire layer covering the conductor 11. The thickness of the self-bonding layer 15 can be set to, for example, 1.0 to 10.0 μm.

本発明の絶縁電線10は、必要に応じて他の層をさらに含んでもよい。   The insulated wire 10 of the present invention may further include other layers as necessary.

本発明の絶縁電線10は、例えば産業用及び自動車用モータ、発電機等の、耐熱性を要求される電機コイルの巻線として好ましく用いることができる。   The insulated wire 10 of the present invention can be preferably used as a winding of an electric coil that requires heat resistance, such as industrial and automobile motors and generators.

2.絶縁電線の製造方法
本発明の絶縁電線の製造方法は、少なくとも1)導体の外周が、前述のポリイミドを含む絶縁層で覆われた被覆導体を得る工程と、2)被覆導体を圧延する工程とを含む。必要に応じて、3)圧延された被覆導体の外周に、自己融着層をさらに形成する工程をさらに実施してもよい。
2. Method for Producing Insulated Wire The method for producing an insulated wire of the present invention includes at least 1) a step of obtaining a coated conductor in which the outer periphery of the conductor is covered with the above-described insulating layer containing polyimide, and 2) a step of rolling the coated conductor, including. If necessary, 3) a step of further forming a self-bonding layer on the outer periphery of the rolled coated conductor may be further performed.

1)の工程について
導体の外周に、前述のポリイミドを含む絶縁層を形成して、被覆導体を得る。
Step 1) An insulating layer containing the aforementioned polyimide is formed on the outer periphery of the conductor to obtain a coated conductor.

絶縁層の形成は、原材料としての導体の外周に、ポリイミド前駆体ワニス又はポリイミドワニスを付与した後、焼き付けして行うことができる。原材料としての導体は、丸導体であってもよいし、平角導体であってもよい。   The insulating layer can be formed by baking after applying a polyimide precursor varnish or a polyimide varnish to the outer periphery of a conductor as a raw material. The conductor as the raw material may be a round conductor or a flat conductor.

ポリイミド前駆体ワニス又はポリイミドワニスの付与は、例えば塗布法、浸漬法、又は電着法等で行うことができる。   The application of the polyimide precursor varnish or the polyimide varnish can be performed by, for example, a coating method, a dipping method, or an electrodeposition method.

ポリイミド前駆体ワニス又はポリイミドワニスを付与した後、焼き付ける操作は、1回だけ行ってもよいし、複数回行ってもよい。上記操作を複数回行う場合、(n−1)回目に形成した塗布層と、n回目に形成した塗布層との間で密着不良が生じることがある。しかしながら、前述のポリイミドを用いることにより、そのような密着不良を良好に抑制し得る。   After applying the polyimide precursor varnish or the polyimide varnish, the baking operation may be performed only once or a plurality of times. When the above operation is performed a plurality of times, adhesion failure may occur between the (n-1) th coating layer and the nth coating layer. However, such poor adhesion can be satisfactorily suppressed by using the aforementioned polyimide.

焼き付け温度は、少なくともワニス中の溶媒を除去できる温度(ポリイミド前駆体ワニスを用いる場合は、ポリイミド前駆体を硬化できる温度)であればよく、例えば200〜500℃、好ましくは300〜400℃とし得る。   The baking temperature may be at least a temperature at which the solvent in the varnish can be removed (when the polyimide precursor varnish is used, the temperature at which the polyimide precursor can be cured), for example, 200 to 500 ° C., preferably 300 to 400 ° C. .

ポリイミド前駆体ワニス又はポリイミドワニスは、ポリイミド前駆体又はポリイミドが溶媒に溶解したものである。これらのワニスは、溶媒中で前述のテトラカルボン酸成分(a)とジアミン成分(b)とを反応させて得ることができる。用いられる溶媒の例には、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド等の非プロトン系極性溶剤、フェノール、クレゾール、キシレノール等のフェノール系溶剤等が含まれる。   The polyimide precursor varnish or polyimide varnish is obtained by dissolving a polyimide precursor or polyimide in a solvent. These varnishes can be obtained by reacting the aforementioned tetracarboxylic acid component (a) with the diamine component (b) in a solvent. Examples of the solvent used include aprotic polar solvents such as 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and N, N-dimethylacetamide, and phenolic solvents such as phenol, cresol and xylenol. It is.

本工程において、絶縁層上に自己融着層をさらに形成してもよいし、2)の工程後に、自己融着層をさらに形成してもよい(前述の3)の工程)。   In this step, a self-bonding layer may be further formed on the insulating layer, or a self-bonding layer may be further formed after the step 2) (the above-mentioned step 3)).

自己融着層の形成は、前述と同様に、自己融着層用組成物を付与した後、焼き付けして行うことができる。自己融着層用組成物は、前述の熱可塑性樹脂と、溶媒とを含み得る。溶媒は、ポリイミド前駆体ワニス又はポリイミドワニスに含まれる溶媒と同様である。   The self-bonding layer can be formed by baking after applying the composition for self-bonding layer, as described above. The composition for self-bonding layers may contain the above-mentioned thermoplastic resin and a solvent. The solvent is the same as the solvent contained in the polyimide precursor varnish or the polyimide varnish.

2)の工程について
得られた被覆導体を、得られる絶縁電線の断面形状が所定の形状となるように圧延する。具体的には、被覆導体の圧延は、得られる絶縁電線10が図1に示されるような断面形状を有し、且つ絶縁電線10の断面の長軸の長さLと短軸の長さSとの比L/Sが1.5〜15、好ましくは5〜15、より好ましくは8〜10となるように行うことが好ましい。
About the process of 2) The obtained coated conductor is rolled so that the cross-sectional shape of the insulated wire obtained may become a predetermined shape. Specifically, in the rolling of the coated conductor, the insulated wire 10 to be obtained has a cross-sectional shape as shown in FIG. 1, and the major axis length L and the minor axis length S of the cross section of the insulated wire 10 are obtained. The ratio L / S is preferably 1.5 to 15, preferably 5 to 15, more preferably 8 to 10.

圧延される被覆導体は、前述のポリイミドを含む絶縁層を含む。前述のポリイミドを含む絶縁層は、良好な耐熱性と柔軟性(又は密着性)とを有する。従って、圧延時の絶縁層のひび割れ(特に長辺部分(フラット部)のひび割れ)を抑制できる。   The coated conductor to be rolled includes an insulating layer containing the aforementioned polyimide. The insulating layer containing polyimide described above has good heat resistance and flexibility (or adhesion). Therefore, the crack (especially the crack of a long side part (flat part)) of the insulating layer at the time of rolling can be suppressed.

3)の工程について
1)の工程において自己融着層を形成しない場合、2)の工程において圧延された被覆導体の外周に、自己融着層をさらに形成してもよい。
Step 3) When the self-bonding layer is not formed in the step 1), a self-bonding layer may be further formed on the outer periphery of the coated conductor rolled in the step 2).

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。   In the following, the invention will be described in more detail with reference to examples. These examples do not limit the scope of the present invention.

1.ポリイミドワニスの調製
(調製例1)
攪拌機、窒素流入管及び加熱冷却装置を備えたフラスコ内に、テトラカルボン酸成分として3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物(BPDA)0.47モル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ニ無水物(BTDA)0.15モル、及び無水ピロメリット酸(PMDA)0.33モル、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DDE)1.02モルを投入した。溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを、テトラカルボン酸成分とジアミン成分の合計100質量部に対し、400質量部投入し、窒素雰囲気下で攪拌しながら2時間反応させた。それにより、樹脂分20質量%のポリイミドワニス(C−1)を得た。
1. Preparation of polyimide varnish (Preparation Example 1)
In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen inflow tube and a heating / cooling device, 3,7 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) 0.47 mol, 3,3 ′ as a tetracarboxylic acid component. , 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) 0.15 mol, pyromellitic anhydride (PMDA) 0.33 mol, 4,4'-diaminodiphenyl ether (DDE) 1.02 as the diamine component Mole was charged. As a solvent, 400 parts by mass of N-methyl-2-pyrrolidone was added to 100 parts by mass of the total of the tetracarboxylic acid component and the diamine component, and reacted for 2 hours while stirring in a nitrogen atmosphere. Thereby, a polyimide varnish (C-1) having a resin content of 20% by mass was obtained.

(調製例2)
攪拌機、窒素流入管及び加熱冷却装置を備えたフラスコ内に、テトラカルボン酸成分として無水ピロメリット酸(PMDA)1.00モル、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DDE)1.02モルを投入した。溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを、テトラカルボン酸成分とジアミン成分の合計100質量部に対し、400質量部投入し、窒素雰囲気下で攪拌しながら2時間反応させた。それにより、樹脂分20質量%のポリイミドワニス(C−2)を得た。
(Preparation Example 2)
In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen inflow pipe and a heating / cooling device, 1.00 mol of pyromellitic anhydride (PMDA) as a tetracarboxylic acid component and 1.02 mol of 4,4′-diaminodiphenyl ether (DDE) as a diamine component Was introduced. As a solvent, 400 parts by mass of N-methyl-2-pyrrolidone was added to 100 parts by mass of the total of the tetracarboxylic acid component and the diamine component, and reacted for 2 hours while stirring in a nitrogen atmosphere. Thereby, a polyimide varnish (C-2) having a resin content of 20% by mass was obtained.

(調整例3)
攪拌機、窒素流入管及び加熱冷却装置を備えたフラスコ内に、テトラカルボン酸成分として3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物(BPDA)0.59モル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ニ無水物(BTDA)0.16モル、及び無水ピロメリット酸(PMDA)0.25モル、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DDE)1.02モルを投入した。溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを、テトラカルボン酸成分とジアミン成分の合計100質量部に対し、400質量部投入し、窒素雰囲気下で攪拌しながら2時間反応させた。それにより、樹脂分20質量%のポリイミドワニス(C−3)を得た。
(Adjustment Example 3)
In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen inflow pipe and a heating / cooling device, 0.59 mol of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) as a tetracarboxylic acid component, 3,3 ′ , 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) 0.16 mol and pyromellitic anhydride (PMDA) 0.25 mol, 4,4'-diaminodiphenyl ether (DDE) 1.02 as the diamine component Mole was charged. As a solvent, 400 parts by mass of N-methyl-2-pyrrolidone was added to 100 parts by mass of the total of the tetracarboxylic acid component and the diamine component, and reacted for 2 hours while stirring in a nitrogen atmosphere. Thereby, a polyimide varnish (C-3) having a resin content of 20% by mass was obtained.

(調整例4)
攪拌機、窒素流入管及び加熱冷却装置を備えたフラスコ内に、テトラカルボン酸成分として3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物(BPDA)0.70モル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ニ無水物(BTDA)0.10モル、及び無水ピロメリット酸(PMDA)0.20モル、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DDE)1.02モルを投入した。溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを、テトラカルボン酸成分とジアミン成分の合計100質量部に対し、400質量部投入し、窒素雰囲気下で攪拌しながら2時間反応させた。それにより、樹脂分20質量%のポリイミドワニス(C−4)を得た。
(Adjustment example 4)
In a flask equipped with a stirrer, a nitrogen inflow pipe and a heating / cooling device, 0.70 mol of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) as a tetracarboxylic acid component, 3,3 ′ , 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) 0.10 mol, pyromellitic anhydride (PMDA) 0.20 mol, 4,4'-diaminodiphenyl ether (DDE) 1.02 as the diamine component Mole was charged. As a solvent, 400 parts by mass of N-methyl-2-pyrrolidone was added to 100 parts by mass of the total of the tetracarboxylic acid component and the diamine component, and reacted for 2 hours while stirring in a nitrogen atmosphere. Thereby, a polyimide varnish (C-4) having a resin content of 20% by mass was obtained.

調整例1〜4で調製したポリイミドのモノマー組成を表2に示す。

Figure 0006439062
Table 2 shows the monomer compositions of the polyimides prepared in Preparation Examples 1 to 4.
Figure 0006439062

2.絶縁電線の作製と評価
(実施例1)
直径0.25mmの丸型銅導体の周囲に、調製例1で調製したポリイミドワニス(C−1)を塗布した後、所定の温度で焼き付けして、厚み4.5μmのポリイミドからなる絶縁層を得た。得られた丸型導体を、一方向のみ圧延した。
この圧延された被覆導体のポリイミド層上に、TCV V1−14改B(東特塗料社製、脂肪族ポリアミド)をさらに塗布した後、乾燥させて、厚み3.0μmの自己融着層を形成し、絶縁電線1を得た。
絶縁電線の断面の長軸の長さLは、1.2mmであり、短軸の長さSは、0.20mmであり、長軸の長さLと短軸の長さSの比L/Sは6であった。
絶縁電線を構成する導線の断面も前述と同様に、長軸の長さlは1141μm、短軸の長さsは192.7μmであった。
2. Production and evaluation of insulated wires (Example 1)
After applying the polyimide varnish (C-1) prepared in Preparation Example 1 around a round copper conductor having a diameter of 0.25 mm, an insulating layer made of polyimide having a thickness of 4.5 μm is baked at a predetermined temperature. Obtained. The obtained round conductor was rolled only in one direction.
On this rolled polyimide layer of the coated conductor, TCV V1-14 modified B (manufactured by Tohoku Paint Co., Ltd., aliphatic polyamide) was further applied and dried to form a self-bonding layer having a thickness of 3.0 μm. The insulated wire 1 was obtained.
The length L of the major axis of the cross section of the insulated wire is 1.2 mm, the length S of the minor axis is 0.20 mm, and the ratio of the length L of the major axis to the length S of the minor axis L / S was 6.
In the same way as described above, the cross section of the conducting wire constituting the insulated wire also had a major axis length l of 1141 μm and a minor axis length s of 192.7 μm.

(実施例2〜3)
得られる絶縁電線の断面の比L/Sが表3に示される値となるように圧延条件を変更した以外は実施例1と同様にして絶縁電線2〜3を得た。
(Examples 2-3)
Insulated wires 2 to 3 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the rolling conditions were changed so that the ratio L / S of the cross section of the obtained insulated wires was a value shown in Table 3.

(実施例4〜5)
ポリイミドワニスの種類が表3に示されるように変更した以外は実施例1と同様にして絶縁電線4〜5を得た。
(Examples 4 to 5)
Insulated wires 4 to 5 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the type of polyimide varnish was changed as shown in Table 3.

(比較例1〜3)
ポリイミドワニスの種類と絶縁電線の断面の比L/Sが表4に示されるように変更した以外は実施例1と同様にして絶縁電線6〜8を得た。
(Comparative Examples 1-3)
Insulated wires 6 to 8 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio L / S of the cross section of the polyimide varnish and the insulated wire was changed as shown in Table 4.

得られた被覆導体の絶縁層及び絶縁電線の自己融着層の軟化温度を、JIS C3216−6(環状交差法)に従って測定した。   The softening temperature of the obtained insulating layer of the coated conductor and the self-bonding layer of the insulated wire was measured according to JIS C3216-6 (circular crossing method).

(軟化温度)
被覆導体を30cmずつ切り取り、2本の試験片を得た。2本の試験片をそれぞれ環状にして交差させて、おもりをつり下げて、恒温槽に入れた。そして、試験片に交流電圧100Vを加え、1分間当たり2℃の割合で温度を上昇させて、短絡する温度を試験片に最も近い部分に固定した熱電対にて測定し、絶縁層の軟化温度とした。短絡電流を、5〜20mAとした。
絶縁電線についても同様の測定を行い、自己融着層の軟化温度を測定した。
(Softening temperature)
The coated conductor was cut 30 cm each to obtain two test pieces. The two test pieces were each made into a ring and crossed, the weight was hung, and placed in a thermostatic bath. Then, an AC voltage of 100 V was applied to the test piece, the temperature was increased at a rate of 2 ° C. per minute, and the temperature at which the short circuit occurred was measured with a thermocouple fixed to the part closest to the test piece, and the softening temperature of the insulating layer It was. The short circuit current was 5 to 20 mA.
The same measurement was performed on the insulated wire, and the softening temperature of the self-bonding layer was measured.

さらに、被覆導体の絶縁層のひび割れや層内剥離の有無を、以下の方法で評価した。   Furthermore, the following methods evaluated the presence or absence of the crack of the insulating layer of a covering conductor, and the peeling in a layer.

(ひび割れ)
圧延後の被覆導体の切断面において、絶縁層の長辺部分(フラット部)のひび割れ(導体に対して略垂直方向に入ったひび割れ)の有無を、SEMにて観察した。そして、以下の基準に基づいて、ひび割れの評価を行った。
◎:ひび割れが全くない
○:ひび割れが若干みられるが、実質的に問題ないレベル
×:ひび割れが多くみられ、実質的に問題となるレベル
なお、◎と○は、ひび割れが少ないことから、絶縁破壊特性が良好であることを意味する。
(crack)
On the cut surface of the coated conductor after rolling, the presence or absence of cracks in the long side portion (flat portion) of the insulating layer (cracks entered in a direction substantially perpendicular to the conductor) was observed with an SEM. And based on the following criteria, the crack was evaluated.
◎: No cracks ○: Slight cracks are observed, but there is no substantial problem ×: Many cracks are observed, which is a substantial problem ◎ and ○ are insulated because there are few cracks Means good fracture characteristics.

(層内剥離)
被覆導体の切断面において、絶縁層の層内剥離(隙間)の有無を、SEMにて観察した。そして、以下の基準で評価した。
◎:層内剥離が全くない
○:層内剥離が若干みられるが、実質的に問題ないレベル
×:層内剥離が多くみられ、実質的に問題となるレベル
(In-layer peeling)
On the cut surface of the coated conductor, the presence or absence of in-layer peeling (gap) of the insulating layer was observed with an SEM. And it evaluated on the following references | standards.
A: There is no delamination in the layer. O: There is a slight delamination within the layer, but there is no substantial problem.

絶縁層の軟化温度(耐熱性)、ひび割れ、及び層内剥離の総合評価を、以下の基準に基づいて行った。
A:軟化温度、ひび割れ、層内剥離の全てが◎
B:軟化温度、ひび割れ、層内剥離のいずれか一つが○、残りが◎
C:軟化温度、ひび割れ、層内剥離のいずれか二つ以上が○
D:軟化温度、ひび割れ、層内剥離のいずれか一つ以上が×
尚、軟化温度(耐熱性)は、400℃以上を◎、350℃以上400℃未満を○、350℃未満を×とした。
The overall evaluation of the softening temperature (heat resistance), cracking, and delamination of the insulating layer was performed based on the following criteria.
A: All of softening temperature, cracks, and delamination
B: One of softening temperature, crack, and delamination is ○, the rest is ◎
C: Two or more of softening temperature, cracking, and delamination are ○
D: One or more of softening temperature, cracking, and delamination in the layer
The softening temperature (heat resistance) was evaluated as 400 when 400 ° C or higher, ◯ when 350 ° C or higher and lower than 400 ° C, and x when lower than 350 ° C.

実施例1〜5の評価結果を表3に、比較例1〜3の評価結果を表4に示す。

Figure 0006439062
Figure 0006439062
Table 3 shows the evaluation results of Examples 1 to 5, and Table 4 shows the evaluation results of Comparative Examples 1 to 3.
Figure 0006439062
Figure 0006439062

表3に示されるように、実施例1〜5の被覆導体は、絶縁層にひび割れはなく、層内剥離もみられなかった。特に、BTDA/BPDA比率が27モル%であるポリイミドC−3を用いた実施例4の被覆導体は、BTDA/BPDA比率が15モル%であるポリイミドC−4を用いた実施例5の被覆導体よりも、軟化温度を低下させることなく、圧延時のひび割れをより少なくできることがわかる。これは、ポリイミドC−3の絶縁層が、ポリイミドC−4の絶縁層よりも柔軟性が高く、靱性が高いからであると考えられる。   As shown in Table 3, in the coated conductors of Examples 1 to 5, there was no crack in the insulating layer, and no delamination was observed. In particular, the coated conductor of Example 4 using polyimide C-3 having a BTDA / BPDA ratio of 27 mol% is the coated conductor of Example 5 using polyimide C-4 having a BTDA / BPDA ratio of 15 mol%. It can be seen that cracking during rolling can be reduced without lowering the softening temperature. This is presumably because the polyimide C-3 insulating layer is more flexible and tougher than the polyimide C-4 insulating layer.

これに対して比較例1〜3の被覆導体は、絶縁層の耐熱性は高いものの、層内剥離が生じ、コイル巻きした時に、平角線同士を融着することができないことがわかる。   On the other hand, the coated conductors of Comparative Examples 1 to 3 show that although the heat resistance of the insulating layer is high, delamination occurs, and the rectangular wires cannot be fused when coiled.

本発明は、絶縁層のひび割れが抑制され、且つ高い耐熱性と、導体との良好な密着性や層内密着性とを有する絶縁電線を提供することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide an insulated wire in which cracking of an insulating layer is suppressed, and has high heat resistance, good adhesion to a conductor, and in-layer adhesion.

10 絶縁電線
11 導体
13 絶縁層
15 自己融着層
10 Insulated wire 11 Conductor 13 Insulating layer 15 Self-bonding layer

Claims (3)

導体と、その外周上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、軟化温度280℃以下の樹脂を含む自己融着層とを有する絶縁電線であって、
前記絶縁電線は、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向し、それぞれ外側に向かって凸状に湾曲した一対の短辺とを有する断面形状を有し、
前記絶縁層は、ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜80モル%と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位10〜50モル%とを含むテトラカルボン酸成分単位(a)と、ジアミン成分単位(b)とを含むポリイミドを含む絶縁電線の製造方法であって、
導体と、その外周上に設けられ、ビフェニルテトラカルボン酸無水物単位40〜80モル%と、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物単位10〜20モル%と、ピロメリット酸無水物単位10〜50モル%とを含むテトラカルボン酸成分単位(a)と、ジアミン成分単位(b)とを含むポリイミドを含む絶縁層とを有する被覆導体を得る工程と、
前記被覆導体を圧延する工程と
を含む、絶縁電線の製造方法。
An insulated wire having a conductor, an insulating layer provided on an outer periphery thereof, and a self-bonding layer provided on the insulating layer and including a resin having a softening temperature of 280 ° C. or less,
The insulated wire has a cross-sectional shape having a pair of long sides facing each other and a pair of short sides facing each other and curved outwardly,
The insulating layer includes tetracarboxylic acid containing 40 to 80 mol% biphenyltetracarboxylic anhydride units, 10 to 20 mol% benzophenonetetracarboxylic anhydride units, and 10 to 50 mol% pyromellitic anhydride units. It is a manufacturing method of the insulated wire containing the polyimide containing a component unit (a) and a diamine component unit (b),
Conductor, provided on the outer periphery thereof, 40-80 mol% biphenyltetracarboxylic anhydride units, 10-20 mol% benzophenonetetracarboxylic anhydride units, 10-50 mol% pyromellitic anhydride units, Obtaining a coated conductor having a tetracarboxylic acid component unit containing (a) and an insulating layer containing polyimide containing a diamine component unit (b);
A method for producing an insulated wire, comprising a step of rolling the coated conductor.
圧延された前記被覆導体の外周に、軟化温度280℃以下の樹脂を含む自己融着層を形成する工程をさらに含む、請求項1に記載の絶縁電線の製造方法。   The manufacturing method of the insulated wire of Claim 1 which further includes the process of forming the self-fusion layer containing resin with a softening temperature of 280 degrees C or less on the outer periphery of the rolled said covered conductor. 前記一対の短辺の間に形成される長軸の長さLと、前記一対の長辺の間に形成される短軸の長さSとの比L/Sが5〜15である、請求項1または2に記載の絶縁電線の製造方法。   The ratio L / S between the length L of the long axis formed between the pair of short sides and the length S of the short axis formed between the pair of long sides is 5 to 15. Item 3. A method for producing an insulated wire according to Item 1 or 2.
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