JP6424332B2 - マイクロ波加熱装置 - Google Patents
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- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/707—Feed lines using waveguides
- H05B6/708—Feed lines using waveguides in particular slotted waveguides
Description
る方向それぞれに対してマイクロ波放射範囲を拡げることが出来ることから、加熱室内への均一なマイクロ波放射ができる。
る伝送方向と反対方向に発生する強電界領域を少なくすることが可能となる。
の少なくとも1つの長孔の長軸方向と導波手段の伝送方向の交差角度を45°より小さい構成とすることで、導波手段の進行波領域において導波手段の伝送及び電界方向に直交する方向に複数配置される各マイクロ波放射部から放射されるマイクロ波による干渉で発生する導波手段の伝送方向と反対方向への強電界領域を減らすことができ、被加熱物の加熱均一化を図ることが出来る。
図1〜図6は、本発明の実施の形態1におけるマイクロ波加熱装置の説明図である。
図2は、円偏波を放射するマイクロ波放射部215の配置位置の説明図である。図2において、マイクロ波はマイクロ波発生手段202により発生し、導波手段201内を伝送され円偏波を放射するマイクロ波放射部102から放射される。また、終端部203で反射して導波手段201内で定在波を形成する。マイクロ波放射部102の長孔は、長孔の長軸方向204、長孔の長軸方向と導波手段の管軸の交差角度205、マイクロ波の伝送方向207、マイクロ波の伝送方向と反対方向208、伝送及び電界方向に直交する方向209を有している。図3は導波手段201の一つである矩形導波管301の概略図である。図4は導波手段201の伝送モードと電界、磁界及び電流や定在波について説明した図である。図5は、導波手段201においてマイクロ波の進行波が支配的な領域に配置された各マイクロ波放射部102から放射されるマイクロ波の干渉により発生する強電界領域501の説明図である。図5(a)については、マイクロ波放射部周辺の電界強度の時間変化をコンター図で表しており、図5(b)はマイクロ波加熱装置101を導波手段の管軸211に沿った平面で鉛直方向にきった断面において、電界強度をコンター図で表現している。これらの結果は電磁界解析による結果である。解析条件としては、加熱室壁面の境界条件を吸収境界、マイクロ波放射部の数は8、進行波領域に配置されたマイクロ波放射部の端部間の最短距離212は12mmとしている。図6も図5(b)と同様に、マイクロ波加熱装置101を導波手段の管軸211に沿った平面で鉛直方向にきった断面において、電界強度をコンター図で表現している。
波長をλとしたときに、導波管の幅a(マイクロ波の波長λ>a>λ/2)、高さb(<λ/2)の範囲に選ぶことにより、TE10モードでマイクロ波を伝送することが知られている。
おり、位相はπ/2ずれている。よって、定在波404が発生している矩形導波管301内の電界401と磁界402の関係は図4のようになる。これは、定在波404の場合は、進行波が導波手段201の終端部203で反射する際に、電界401の位相がπ/2ずれることが主な原因である。なお、電流403は導波手段201の表面を磁界402に直交する方向に流れる。
たマイクロ波放射部102の端部間の最短距離212は12mmであるが、図6(b)の解析条件は端部間の最短距離212は15mmに拡げたものである。図の結果をみるとマイクロ波放射部の端部間の最短距離をマイクロ波の波長λ(=120mm)の1/8(=15mm)以上にすることで、強電界領域501の範囲が減り、加熱室全体での電界強度の均一化が得られていることが表されている。このように、マイクロ波放射部の端部間の最短距離212を拡げることによって、マイクロ波の干渉を減らすことができ、均一加熱性を向上することができる。
以下に、本実施の形態における具体的な構成および作用、効果を説明する。
ることができ、マイクロ波の干渉による伝送方向と反対方向に発生する強電界領域501を減らすことになり、加熱室103内の被加熱物を均一に加熱することが可能となる。
以下に、本実施の形態における具体的な構成および作用、効果を説明する。
ロ波加熱と比較して、広範囲にわたってマイクロ波が分散放射されて、被加熱物を均一に加熱することができるようになる。特に、円偏波の周方向に対して均一加熱の傾向が強い。
ある場合や、マイクロ波放射部102が長孔以外の形状である場合や、全てのマイクロ波放射部102が同一形状でない場合においても本発明に含まれる。
102 マイクロ波放射部
103 加熱室
104 載置台
105 ドア
201 導波手段
202 マイクロ波発生手段
203 終端部
204 長孔の長軸方向
205 長孔の長軸方向と導波手段の管軸の交差角度
207 伝送方向
208 伝送方向と反対方向
209 伝送及び電界方向に直交する方向
210 加熱室の中央
211 導波手段の管軸
212 各マイクロ波放射部の端部間の最短距離
215 円偏波を放射するマイクロ波放射部
220 マイクロ波放射部の端部
301 矩形導波管
302 H面
303 E面
401 電界
402 磁界
403 電流
404 定在波
405 概腹位置
406 概節位置
407 電界方向
501 強電界領域
Claims (7)
- 被加熱物を収納する加熱室と、
マイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、
マイクロ波を伝送する導波手段と、
前記加熱室内にマイクロ波を放射する、開口形状および大きさが各々同じである複数のマイクロ波放射部と、を備え、
前記複数のマイクロ波放射部は、前記導波手段の伝送及び電界方向に直交する方向と、前記導波手段の伝送方向と、に沿って略格子状に配置され、
前記マイクロ波発生手段から伝送されるマイクロ波の進行波が支配的な領域に配置された前記複数のマイクロ波放射部は、前記導波手段の伝送及び電界方向に直交する方向における各々の端部の間の最短距離が、
マイクロ波の波長の1/8以上の長さになるような構成とし、かつ、
前記導波手段の伝送方向側に配置された他の前記複数のマイクロ波放射部の、前記導波手段の伝送及び電界方向に直交する方向における各々の端部の間の最短距離よりも広い構成としたマイクロ波加熱装置。 - マイクロ波を伝送する導波手段が、TE10モードを伝送する矩形導波管であり、マイクロ波放射部は前記矩形導波管の幅方向に複数配置する構成とした請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。
- マイクロ波放射部が導波手段の伝送方向にも複数配置され、進行波が支配的な領域とは、最もマイクロ波発生手段に近いマイクロ波放射部が配置される領域とした請求項1または2に記載のマイクロ波加熱装置。
- 導波手段の伝送方向に複数配置されたマイクロ波放射部において、進行波が支配的な領域に配置された複数マイクロ波放射部の端部間の距離が、進行波の支配的でない領域に配置されたマイクロ波放射部の端部間の距離と比べて最も長い構成とした請求項3に記載のマイクロ波加熱装置。
- マイクロ波放射部の少なくとも1つが、少なくとも1つの長孔で構成され、マイクロ波発
生手段から伝送されるマイクロ波の進行波が支配的な領域に配置されたマイクロ波放射部の少なくとも1つの長孔の長軸方向と導波手段の伝送方向の交差角度を45°より小さい構成とした請求項1ないし4のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。 - 進行波の支配的な領域に配置される少なくとも1つのマイクロ波放射部の少なくとも1つの長孔の長軸方向と導波手段の伝送方向の交差角度が、進行波の支配的でない領域に配置されるマイクロ波放射部の前記交差角度に比べて最も小さい構成とした請求項5に記載のマイクロ波加熱装置。
- マイクロ波発生手段から伝送されるマイクロ波の進行波が支配的な領域に配置されたマイクロ波放射部において、少なくとも1つの長孔の長軸方向の長さがマイクロ波波長の1/2以下になるように構成された請求項1ないし6のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。
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JP2012196942 | 2012-09-07 | ||
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2013
- 2013-08-02 JP JP2013160940A patent/JP6424332B2/ja active Active
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---|---|
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