JP6403389B2 - Method for producing imide-based porous film and imide-based porous film - Google Patents

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本発明は、耐熱性に優れ、かつ透過性の良好なイミド系多孔質フィルムの製造方法およびイミド系多孔質フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing an imide-based porous film having excellent heat resistance and good permeability, and an imide-based porous film.

イミド系多孔質フィルムは、その優れた耐熱性を利用して、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ、分離膜等の産業用材料、医療材料の素材、光学材料や電子材料等の分野で使用されている。このイミド系多孔質フィルムを製造する方法として、溶媒として良溶媒と貧溶媒とを含有するイミド系高分子溶液を、基材上に塗布して塗膜を形成し、これを乾燥炉中で乾燥することによって、イミド系多孔質フィルムを得る方法(以下、この方法を「乾式多孔化プロセス」と略記することがある)が知られている。(特許文献1〜3) Imide porous films are used in the fields of industrial materials such as lithium secondary battery separators, filters, and separation membranes, medical materials, optical materials, and electronic materials because of their excellent heat resistance. ing. As a method for producing this imide-based porous film, an imide-based polymer solution containing a good solvent and a poor solvent as a solvent is applied onto a substrate to form a coating film, which is then dried in a drying furnace. Thus, there is known a method for obtaining an imide-based porous film (hereinafter, this method may be abbreviated as “dry-type porous process”). (Patent Documents 1 to 3)

乾式多孔化プロセスは、イミド系多孔質フィルムを製造する際に、基材上に形成された塗膜を、貧溶媒を含む凝固液に浸漬し、多孔質化を図る湿式多孔化プロセスとは異なり、多孔質化のための凝固浴を用いる必要がない。そのため、イミド系多孔質フィルムを工業的に製造する際、凝固浴から廃液が発生しないので、環境適合性の良好な優れた方法である。 The dry porous process is different from the wet porous process in which a coating film formed on a substrate is immersed in a coagulating liquid containing a poor solvent to make the porous film when producing an imide-based porous film. It is not necessary to use a coagulation bath for making the pores. Therefore, when an imide-based porous film is produced industrially, no waste liquid is generated from the coagulation bath, and this is an excellent method with good environmental compatibility.

特許第4947989号公報Japanese Patent No. 4947899 特開2013−64122号公報JP2013-64122A 特開2013−216776号公報JP 2013-216776 A

しかしながら、公知の乾式多孔化プロセスにより得られたイミド系多孔質フィルムを、リチウム二次電池用セパレータやフィルタ、分離膜等に適用した場合、これらに要求される液体や気体に対する透過性(以下、単に「透過性」と略記することがある)が不足することがあった。 However, when the imide-based porous film obtained by a known dry porous process is applied to a separator or filter for a lithium secondary battery, a separation membrane, etc., permeability to liquids and gases required for these (hereinafter, In some cases, it was simply abbreviated as “permeability”.

そこで本発明は、上記課題を解決するものであって、耐熱性に優れ、かつ透過性の良好なイミド系多孔質フィルムの製造方法およびこの方法により得られたイミド系多孔質フィルムを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and provides a method for producing an imide-based porous film having excellent heat resistance and good permeability, and an imide-based porous film obtained by this method. With the goal.

本発明者らは、乾式多孔化プロセスにおいて、塗膜を乾燥する際、特定の条件で乾燥を行うことにより上記課題が解決されることを見出し、本発明の完成に至った。 The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by performing drying under specific conditions when drying the coating film in the dry porous process, and the present invention has been completed.

本発明は下記を趣旨とするものである。
<1> 溶媒として良溶媒と貧溶媒とを含有するイミド系高分子溶液を、基材上に塗布して塗膜を形成し、これを乾燥炉中で乾燥することによって、イミド系多孔質フィルムを製造する方法であって、乾燥の際、下記1)〜3)いずれかの方法で、塗膜表面から蒸発する溶媒を乾燥炉内の空間部に籠らせ、加熱することを特徴とするイミド系多孔質フィルムの製造方法。
)乾燥炉から排気された溶媒を循環する。
)塗膜面の端部にスペーサを設けた上で、このスペーサを介して溶媒蒸気透過性の被覆材を積層して加熱する。
)塗膜面に溶媒蒸気透過性の被覆材を直接積層する。
<2> 貧溶媒が、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール、およびトリエチレングリコールからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<1>記載のイミド系多孔質フィルムの製造方法。
<3> 溶媒として良溶媒と、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール、およびトリエチレングリコールからなる群より選ばれる少なくとも1種である貧溶媒とを含有するイミド系高分子溶液を、基材上に塗布して塗膜を形成し、これを乾燥炉中で乾燥炉内の雰囲気における塗膜表面近傍の溶媒蒸気圧を高めつつ加熱乾燥することにより得られるイミド系多孔質フィルムであって、その表面に、30℃に設定された、エチレンカーボネート、エチルメチルカーボネートおよびジメチルカーボネートの混合溶媒(体積比1:1:1)5μLを滴下し、これが完全に浸透するまでの時間が150秒以下であるイミド系多孔質フィルムの、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタまたは分離膜への使用。
The present invention has the following objects.
<1> An imide polymer solution containing a good solvent and a poor solvent as a solvent is applied onto a substrate to form a coating film, and is dried in a drying furnace to thereby obtain an imide porous film. In the drying process, the solvent evaporating from the coating film surface is sprinkled in the space in the drying furnace and heated by any one of the following methods 1) to 3). A method for producing an imide-based porous film.
1 ) Circulate the solvent exhausted from the drying furnace.
2 ) After providing a spacer at the end of the coating film surface, a solvent vapor permeable coating material is laminated and heated through this spacer.
3 ) A solvent vapor permeable coating material is directly laminated on the coating surface.
<2> The imide-based porous material according to <1> , wherein the poor solvent is at least one selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol, and triethylene glycol. Quality film manufacturing method.
<3> An imide polymer solution containing a good solvent as a solvent and a poor solvent selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol, and triethylene glycol. Is coated on a substrate to form a coating film, and this is heated in the drying furnace while increasing the solvent vapor pressure near the coating film surface in the atmosphere in the drying furnace to obtain an imide-based porous film. On the surface, 5 μL of a mixed solvent of ethylene carbonate, ethyl methyl carbonate and dimethyl carbonate (volume ratio 1: 1: 1) set at 30 ° C. was dropped, and the time until this completely penetrated was dropped. Imido porous film that is 150 seconds or less The use of the lithium secondary battery separator, filter or separation membranes.

本発明の製造方法によれば、簡単なプロセスで容易にイミド系多孔質フィルムを得ることができる。得られたイミド系多孔質フィルムは、耐熱性に優れ、かつ透過性が良好である。 According to the production method of the present invention, an imide-based porous film can be easily obtained by a simple process. The obtained imide-based porous film has excellent heat resistance and good permeability.

実施例2のイミド系多孔質フィルム断面のSEM像である。2 is a SEM image of a cross section of an imide-based porous film of Example 2. 実施例2のイミド系多孔質フィルム表面のSEM像である。3 is a SEM image of the surface of an imide-based porous film in Example 2. 比較例2のイミド系多孔質フィルムの表面のSEM像である。4 is a SEM image of the surface of an imide-based porous film of Comparative Example 2. 塗膜の乾燥方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the drying method of a coating film.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明はイミド系多孔質フィルムの製造方法およびこの製造方法により得られるイミド系多孔質フィルムに関するものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention relates to a method for producing an imide-based porous film and an imide-based porous film obtained by this production method.

ここで、イミド系多孔質フィルムを形成するイミド系高分子とは、主鎖にイミド結合を有する高分子もしくはその前駆体のことである。主鎖にイミド結合を有する高分子の代表例としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。しかし、これらに限定されるものではない。 Here, the imide-based polymer forming the imide-based porous film is a polymer having an imide bond in the main chain or a precursor thereof. Typical examples of the polymer having an imide bond in the main chain include polyimide, polyamideimide, and polyesterimide. However, it is not limited to these.

イミド系高分子の中で、例えば、ポリイミドやポリアミドイミドを好ましく用いることができる。ポリイミドとしては、その前駆体としてポリアミック酸を用いた前駆体型ポリイミド(ポリイミドとした時に溶媒に不溶となるポリイミドに適用)や、可溶型ポリイミド(ポリイミドとして溶媒に可溶)を用いることができる。これらイミド系高分子の中でも、力学的特性や耐熱性に優れた芳香族ポリイミドや芳香族ポリアミドイミドが好ましい。芳香族ポリイミドや芳香族ポリアミドイミドは、熱可塑性であっても非熱可塑性であってもよい。なかでも、そのガラス転移温度が200℃以上の芳香族ポリイミドや芳香族ポリアミドイミドを好ましく用いることができる。 Among imide polymers, for example, polyimide and polyamideimide can be preferably used. As the polyimide, a precursor type polyimide using polyamic acid as a precursor (applied to a polyimide that is insoluble in a solvent when used as a polyimide) or a soluble type polyimide (soluble in a solvent as a polyimide) can be used. Among these imide polymers, aromatic polyimides and aromatic polyamideimides excellent in mechanical properties and heat resistance are preferable. The aromatic polyimide or aromatic polyamideimide may be thermoplastic or non-thermoplastic. Of these, aromatic polyimide or aromatic polyamideimide having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher can be preferably used.

本発明のイミド系多孔質フィルムの製造方法においては、まず、基材上に塗布するための溶液として前記イミド系高分子の溶液(以下、「イミド系塗液」と略記することがある)を準備する。このイミド系塗液の溶媒としては、貧溶媒と良溶媒との混合溶媒を用いる。このようにすることにより、塗膜を乾燥して固化させる際に、塗膜中に残存する貧溶媒の作用により、相分離が起こり、溶質であるイミド系高分子を多孔質構造とすることができる。ここで、良溶媒とは、25℃において、イミド系高分子に対する溶解度が1質量%以上の溶媒を言い、貧溶媒とは、25℃において、イミド系高分子に対する溶解度が1質量%未満の溶媒を言う。 貧溶媒は、良溶媒よりも沸点が高いことが好ましく、その沸点差は、5℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましく、50℃以上が更に好ましい。 In the method for producing an imide-based porous film of the present invention, first, a solution of the imide-based polymer (hereinafter sometimes abbreviated as “imide-based coating solution”) is used as a solution for coating on a substrate. prepare. As a solvent for this imide coating solution, a mixed solvent of a poor solvent and a good solvent is used. In this way, when the coating film is dried and solidified, phase separation occurs due to the action of the poor solvent remaining in the coating film, and the imide polymer that is a solute has a porous structure. it can. Here, the good solvent means a solvent having a solubility in an imide polymer of 1% by mass or more at 25 ° C., and the poor solvent means a solvent having a solubility in an imide polymer of less than 1% by mass at 25 ° C. Say. The poor solvent preferably has a boiling point higher than that of the good solvent, and the difference in boiling points is preferably 5 ° C or higher, more preferably 20 ° C or higher, and further preferably 50 ° C or higher.

良溶媒としては、アミド系溶媒が好ましく用いられる。アミド系溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン(NMP 沸点:202℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF 沸点:153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc 沸点:166℃)が挙げられる。これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。貧溶媒としては、エーテル系溶媒が好ましく用いられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:162℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:216℃)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:275℃)、ジエチレングリコール(沸点:244℃)、トリエチレングリコール(沸点:287℃)等の溶媒を挙げることができる。これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。ただし、前記したように、良溶媒よりも5℃以上高沸点でありかつイミド系高分子には貧溶媒となりうる溶媒であれば、制限はない。貧溶媒の配合量は、全溶媒量に対して40〜90質量%であることが好ましく、60〜80質量%であることがより好ましい。 As the good solvent, an amide solvent is preferably used. Examples of the amide solvent include N-methyl-2-pyrrolidone (NMP boiling point: 202 ° C.), N, N-dimethylformamide (DMF boiling point: 153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (DMAc boiling point: 166 ° C.). Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. As the poor solvent, an ether solvent is preferably used. Examples of ether solvents include diethylene glycol dimethyl ether (boiling point: 162 ° C), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point: 216 ° C), tetraethylene glycol dimethyl ether (boiling point: 275 ° C), diethylene glycol (boiling point: 244 ° C), triethylene glycol. And a solvent such as (boiling point: 287 ° C.). These may be used alone or in combination of two or more. However, as described above, there is no limitation as long as the solvent has a boiling point of 5 ° C. or higher than that of the good solvent and can be a poor solvent for the imide polymer. The blending amount of the poor solvent is preferably 40 to 90% by mass and more preferably 60 to 80% by mass with respect to the total amount of the solvent.

ポリアミック酸溶液、可溶型ポリイミド溶液、ポリアミドイミド溶液等イミド系塗液の例としては、ユニチカ株式会社から多孔質形成用として市販されている商品名「UイミドワニスBP」(ポリアミック酸型ポリイミド溶液)、商品名「UイミドワニスSP」(可溶型ポリイミド溶液)、商品名「UイミドワニスIP」(ポリアミドイミド溶液)等を挙げることができる。これらの塗液には、溶媒として、アミド系溶媒とエーテル系溶媒との混合溶媒が用いられている。 Examples of imide-based coating solutions such as polyamic acid solution, soluble polyimide solution, polyamideimide solution, etc., are trade names “Uimide varnish BP” (polyamic acid type polyimide solution) commercially available for porous formation from Unitika Ltd. , Trade name “U imide varnish SP” (soluble polyimide solution), trade name “U imide varnish IP” (polyamide imide solution) and the like. In these coating liquids, a mixed solvent of an amide solvent and an ether solvent is used as a solvent.

前記したポリイミド前駆体ポリアミック酸溶液や可溶型ポリイミド溶液からなるイミド系塗液は、前記した市販品を用いてもよいが、原料であるテトラカルボン酸二無水物およびジアミンを略等モルで配合し、それを前記した混合溶媒中で重合反応させて得られるポリアミック酸溶液や可溶型ポリイミド溶液も好ましく用いられる。また、良溶媒中のみで重合反応して溶液を得た後、これに貧溶媒を加える方法や、貧溶媒中のみで重合反応して懸濁液を得た後、これに良溶媒を加える方法で、イミド系塗液を得ることもできる。 Although the above-mentioned commercially available product may be used as the imide-based coating liquid composed of the polyimide precursor polyamic acid solution and the soluble polyimide solution, the raw material tetracarboxylic dianhydride and diamine are mixed in approximately equimolar amounts. In addition, a polyamic acid solution or a soluble polyimide solution obtained by subjecting it to a polymerization reaction in the mixed solvent described above is also preferably used. In addition, after a polymerization reaction only in a good solvent to obtain a solution, a method of adding a poor solvent thereto, or after a polymerization reaction only in a poor solvent to obtain a suspension, a method of adding a good solvent thereto. Thus, an imide-based coating liquid can also be obtained.

テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、2,3,3′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルメタンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,4,9,10−テトラカルボキシペリレン、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等の二無水物が用いられる。これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、ピロメリット酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸が好ましい。 Examples of the tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid, 3,3 ', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid, 2,3,3', 4'-benzophenone tetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalene Tetracarboxylic acid, 1,4,5,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4,4'-diphenylmethanetetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 3,4,9,10-tetracarboxype Dianhydrides such as len, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane Is used. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, pyromellitic acid and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid are preferable.

ジアミンとしては、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノベンズアニリド、ジアミノベンゾエート、ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,5−ジアミノナフタレン、ジアミノトルエン、ジアミノベンゾトリフルオライド、1,4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、ジアミノアントラキノン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホン、1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1,7−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタンが用いられる。これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、p−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンが好ましい。 Examples of the diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, and 3,3'-dimethyl-4,4. '-Diaminodiphenylmethane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,2-bis (anilino) ethane, diaminodiphenylsulfone, diaminobenzanilide, diaminobenzoate, diaminodiphenyl sulfide, 2, 2-bis (p-aminophenyl) propane, 2,2-bis (p-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,5-diaminonaphthalene, diaminotoluene, diaminobenzotrifluoride, 1,4-bis (p-amino) Phenoxy) benzene, , 4'-bis (p-aminophenoxy) biphenyl, diaminoanthraquinone, 4,4'-bis (3-aminophenoxyphenyl) diphenyl sulfone, 1,3-bis (anilino) hexafluoropropane, 1,4-bis ( Anilino) octafluorobutane, 1,5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-bis (anilino) tetradecafluoroheptane is used. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane are preferable.

ポリイミド前駆体溶液中におけるポリアミック酸の固形分濃度は、1〜50質量%が好ましく、5〜25質量%がより好ましい。ポリイミド前駆体溶液中に含まれるポリアミック酸は、部分的にイミド化されていてもよい。ポリイミド前駆体溶液の30℃における粘度は、1〜150Pa・sが好ましく、5〜100Pa・sがより好ましい。 1-50 mass% is preferable and, as for the solid content density | concentration of the polyamic acid in a polyimide precursor solution, 5-25 mass% is more preferable. The polyamic acid contained in the polyimide precursor solution may be partially imidized. The viscosity at 30 ° C. of the polyimide precursor solution is preferably 1 to 150 Pa · s, and more preferably 5 to 100 Pa · s.

本発明のポリアミドイミド溶液を得るには、前記したような市販品を用いてもよいが、原料であるトリメリット酸成分(無水トリメリット酸クロライドや無水トリメリット酸等)およびジアミン成分(各種ジアミンもしくはそのジイソシアネート誘導体)を略等モルで配合し、それを前記混合溶媒中で重合反応させて得られる溶液も好ましく用いることができる。また、良溶媒中のみで重合反応して溶液を得た後、これにエーテル系溶媒を加える方法や、貧溶媒中のみで重合反応して懸濁液を得た後、これにアミド系溶媒を加える方法で、ポリアミドイミド溶液を得ることもできる。 In order to obtain the polyamideimide solution of the present invention, commercially available products as described above may be used. However, the trimellitic acid component (trimellitic anhydride chloride, trimellitic anhydride, etc.) and the diamine component (various diamines) as raw materials are used. Alternatively, a solution obtained by blending the diisocyanate derivative) in an approximately equimolar amount and subjecting it to a polymerization reaction in the mixed solvent can also be preferably used. In addition, after obtaining a solution by polymerization reaction only in a good solvent, a method of adding an ether solvent to this, or after obtaining a suspension by polymerization reaction only in a poor solvent, an amide solvent is added thereto. The polyamideimide solution can also be obtained by the addition method.

原料であるトリメリット酸成分としては、無水トリメリット酸クロライドが好ましい。また、トリメリット酸成分の一部がピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、またはテレフタル酸等の成分で置換されたものを用いてもよい。 As the trimellitic acid component as a raw material, trimellitic anhydride chloride is preferable. Alternatively, a trimellitic acid component partially substituted with a component such as pyromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or terephthalic acid may be used.

ジアミン成分としては、例えば、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4′−ジフェニルメタンジアミン、4,4′−ジフェニルエーテルジアミン、ジフェニルスルホン−4,4′−ジアミン、ジフェニル−4,4′−ジアミン、o−トリジン、2,4−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ナフタレンジアミンもしくはこれらのジイソシアネート誘導体を用いることができる。これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、4,4′−ジフェニルエーテルジアミンおよびm−フェニレンジアミンが好ましい。 Examples of the diamine component include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4′-diphenylmethanediamine, 4,4′-diphenyletherdiamine, diphenylsulfone-4,4′-diamine, and diphenyl-4,4′-. Diamine, o-tolidine, 2,4-tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine, xylylenediamine, naphthalenediamine or their diisocyanate derivatives can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, 4,4′-diphenyl ether diamine and m-phenylene diamine are preferable.

ポリアミドイミド溶液中におけるポリアミドイミドの固形分濃度は、1〜50質量%が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。 ポリアミドイミド溶液の30℃における粘度は、1〜150Pa・sが好ましく、5〜100Pa・sがより好ましい。 1-50 mass% is preferable and, as for the solid content density | concentration of the polyamide-imide in a polyamide-imide solution, 10-30 mass% is more preferable. The polyamideimide solution has a viscosity at 30 ° C. of preferably 1 to 150 Pa · s, and more preferably 5 to 100 Pa · s.

必要に応じて、イミド系塗液に、各種界面活性剤や有機シランカップリング剤のような公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で添加してもよい。また、必要に応じて、イミド系塗液に、イミド系高分子以外の他のポリマーを、本発明の効果を損なわない範囲で添加してもよい。 If necessary, known additives such as various surfactants and organic silane coupling agents may be added to the imide-based coating liquid as long as the effects of the present invention are not impaired. Moreover, you may add other polymers other than an imide type polymer to the imide-type coating liquid in the range which does not impair the effect of this invention as needed.

本発明のイミド系多孔質フィルムの製造法においては、前記イミド系塗液を、基材の表面に塗布し、100〜150℃で乾燥後、必要に応じ、250〜350℃で熱処理を行うことにより、気孔率が30〜90体積%のイミド系多孔質フィルムを形成することができる。その後、これらの基材から多孔質イミド系フィルムを剥離して多孔質イミド系フィルム単体とすることができる。また、基材上に成形されたイミド系多孔質フィルムは、基材と積層一体化して使用することもできる。このプロセスにおいて、イミド塗液中の溶媒(良溶媒および貧溶媒)の種類や配合量を選ぶことにより、気孔率や気孔径を調整することができる。 In the method for producing an imide-based porous film of the present invention, the imide-based coating solution is applied to the surface of a substrate, dried at 100 to 150 ° C., and then heat-treated at 250 to 350 ° C. as necessary. Thus, an imide-based porous film having a porosity of 30 to 90% by volume can be formed. Thereafter, the porous imide-based film can be peeled from these substrates to form a porous imide-based film alone. Moreover, the imide-type porous film shape | molded on the base material can also be laminated and integrated with a base material, and can be used. In this process, the porosity and pore diameter can be adjusted by selecting the type and amount of the solvent (good solvent and poor solvent) in the imide coating solution.

前記基材としては、例えば、金属箔、金属線、ガラス板、プラスチックフィルム、各種織物、各種不織布等が挙げられ、前記金属としては、金、銀、銅、白金、アルミニウム等を用いることができる。これらは、多孔質であっても非多孔質であっても良い。この基材への塗液の塗布方法としては、ディップコータ、バーコータ、スピンコータ、ダイコータ、スプレーコータ等を用い、連続式またはバッチ式で塗布することができる。 Examples of the substrate include metal foil, metal wire, glass plate, plastic film, various woven fabrics, various non-woven fabrics, etc., and gold, silver, copper, platinum, aluminum and the like can be used as the metal. . These may be porous or non-porous. As a method of applying the coating liquid to the substrate, a dip coater, a bar coater, a spin coater, a die coater, a spray coater, or the like can be used, and the coating can be applied continuously or batchwise.

本発明のイミド系多孔質フィルムの製造方法においては、前記乾燥の際、前記乾燥炉内の雰囲気における塗膜表面近傍の溶媒蒸気圧を高めつつ加熱して、前記塗膜を乾燥することが必須である。これにより塗膜表面に気孔が多数形成され、表面開孔率が増加するので、透過性の良好なイミド系多孔質フィルムを得ることができる。透過性の良否は、例えば、特定の溶媒(例えば、リチウムイオン二次電池を構成する電解液用の溶媒)をイミド系多孔質フィルム表面に滴下した際の、溶媒の浸透時間から判定することができる。その判定方法の詳細は後述する。本発明のイミド系多孔質フィルムにおいては、この浸透時間が300秒以下であることが好ましく、150秒以下であることがより好ましい。 In the method for producing an imide-based porous film of the present invention, at the time of the drying, it is essential to heat the solvent while increasing the solvent vapor pressure in the vicinity of the coating film surface in the drying furnace to dry the coating film. It is. As a result, a large number of pores are formed on the surface of the coating film, and the surface porosity increases, so that an imide-based porous film with good permeability can be obtained. The quality of the permeability can be determined from, for example, the permeation time of a solvent when a specific solvent (for example, a solvent for an electrolyte solution constituting a lithium ion secondary battery) is dropped on the surface of the imide-based porous film. it can. Details of the determination method will be described later. In the imide-based porous film of the present invention, the permeation time is preferably 300 seconds or shorter, and more preferably 150 seconds or shorter.

塗膜内に残存する溶媒濃度と前記乾燥炉内の雰囲気における塗膜表面近傍の溶媒蒸気圧を高めつつ加熱するには、例えば、(1)乾燥炉内の排気速度を、溶媒の蒸発速度よりも遅くする、(2)乾燥炉から排気された溶媒を循環する、等の方法により、塗膜表面から蒸発する溶媒を乾燥炉内の空間部に籠らせ、加熱することにより行うことができる。このような方法は、塗布を連続的に行う場合に好ましい方法である。また、塗布をバッチ式で行う場合は、図4に示す様に、塗膜面の端部にスペーサを設けた上で、このスペーサを介して溶媒蒸気透過性の被覆材(例えば、市販多孔質フィルムや不織布)を積層して加熱する方法や、塗膜面に前記被覆材を直接積層して、蒸発する溶媒を塗膜表面に籠らせることにより行うことができる。この場合、被覆材の溶媒蒸気透過性やスペーサの厚みを選ぶことにより、前記溶媒蒸気圧を調整することができる。バッチ式で行う場合は、このような被覆材を用いて行う方法が好ましい。 In order to heat while increasing the solvent concentration remaining in the coating film and the solvent vapor pressure in the vicinity of the coating film surface in the atmosphere in the drying furnace, for example, (1) (2) By circulating the solvent exhausted from the drying furnace, the solvent evaporating from the coating film surface can be dispersed in the space in the drying furnace and heated. . Such a method is a preferable method when the coating is continuously performed. In addition, when the application is performed in a batch system, as shown in FIG. 4, after providing a spacer at the end of the coating surface, a solvent vapor permeable coating material (for example, a commercially available porous material) A film or a non-woven fabric) may be laminated and heated, or the coating material may be laminated directly on the coating film surface, and the evaporated solvent may be spread over the coating film surface. In this case, the solvent vapor pressure can be adjusted by selecting the solvent vapor permeability of the covering material and the thickness of the spacer. When performing by a batch type, the method performed using such a coating | covering material is preferable.

前記製造方法により得られたイミド系多孔質フィルムの気孔率は、30〜90体積%であることが好ましく、40〜85体積%であることがより好ましく、45〜80体積%であることがより好ましい。気孔率をこのように設定することにより、良好な力学的特性と、透過性とが同時に確保される。イミド系多孔質フィルムの気孔率は、イミド系多孔質フィルムの見掛け密度と、イミド系多孔質フィルムを構成するイミド系高分子の真密度(比重)とから算出される値である。詳細には、気孔率(体積%)は、イミド系多孔質フィルムの見掛け密度がA(g/cm)、イミド系高分子の真密度がB(g/cm)の場合、次式により算出される。
気孔率(体積%) = 100−A*(100/B)
The porosity of the imide-based porous film obtained by the production method is preferably 30 to 90% by volume, more preferably 40 to 85% by volume, and more preferably 45 to 80% by volume. preferable. By setting the porosity in this way, good mechanical properties and permeability can be ensured at the same time. The porosity of the imide-based porous film is a value calculated from the apparent density of the imide-based porous film and the true density (specific gravity) of the imide-based polymer constituting the imide-based porous film. Specifically, the porosity (volume%) is calculated by the following formula when the apparent density of the imide-based porous film is A (g / cm 3 ) and the true density of the imide-based polymer is B (g / cm 3 ). Calculated.
Porosity (volume%) = 100−A * (100 / B)

イミド多孔質層の平均気孔径は、0.1〜10μmが好ましく、0.5〜5μmがより好ましい。平均気孔径をこのように設定することにより、良好な透過性を確保することができる。イミド系多孔質フィルムの厚みは1〜100μmが好ましく、10〜50μmがより好ましい。 The average pore diameter of the imide porous layer is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm. By setting the average pore diameter in this way, good permeability can be ensured. 1-100 micrometers is preferable and, as for the thickness of an imide type porous film, 10-50 micrometers is more preferable.

以上述べた如く、本発明のイミド系多孔質フィルムの製造方法は、乾式多孔化プロセスに基づくので、気孔形成の際、貧溶媒を含む凝固浴からの廃液が発生しない。従い、環境適合性が良好であり、しかも、プロセスが極めて簡単である。得られるイミド系多孔質フィルムは、透過性に優れるので、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ、分離膜等として、好適に使用することができる。 As described above, since the method for producing an imide-based porous film of the present invention is based on a dry-type porous process, waste liquid from a coagulation bath containing a poor solvent is not generated during pore formation. Therefore, the environmental compatibility is good and the process is very simple. Since the obtained imide-based porous film is excellent in permeability, it can be suitably used as a separator for a lithium secondary battery, a filter, a separation membrane or the like.

以下に、実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明する。なお本発明は実施例により限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the examples.

<実施例1>
ユニチカ株式会社製UイミドワニスBP(ポリアミック酸型ポリイミド溶液)を塗液として準備し、これを30cm角のアルミ板上に塗布後、このアルミ板の4辺に厚み2mm、幅2cmのスペーサを設けた。このスペーサを介して、アルミ板上の塗膜全面を、厚みが30μmで、平均孔径が0.5μmである市販のフッ素樹脂製多孔質フィルムで被覆した。 これを130℃に設定された熱風循環式の乾燥炉に投入して30分加熱後、更に300℃で60分加熱し、その後冷却してアルミ板から剥離することにより、厚み55μmで、気孔率が58体積%のポリイミドからなる多孔質フィルム(A−1)を得た。得られた多孔質フィルムの透過性を以下の方法により評価した。 すなわち、フィルム表面にエチレンカーボネート、エチルメチルカーボネートおよびジメチルカーボネートの混合溶媒(体積比1:1:1)であって30℃に設定されたもの5μLを滴下し、これが完全に浸透することを目視で観測してその浸透時間を測定し、表1の基準によって透過性を評価した。
多孔質フィルム(A−1)の透過性評価結果を表2に示す。
<Example 1>
A Uimide varnish BP (polyamic acid type polyimide solution) manufactured by Unitika Co., Ltd. was prepared as a coating solution, and this was coated on a 30 cm square aluminum plate, and then a spacer having a thickness of 2 mm and a width of 2 cm was provided on four sides of the aluminum plate. . Through this spacer, the entire coating film on the aluminum plate was coated with a commercially available fluororesin porous film having a thickness of 30 μm and an average pore diameter of 0.5 μm. This was put into a hot air circulation type drying furnace set at 130 ° C., heated for 30 minutes, further heated at 300 ° C. for 60 minutes, then cooled and peeled from the aluminum plate to obtain a porosity of 55 μm and a porosity of Obtained a porous film (A-1) comprising 58% by volume of polyimide. The permeability of the obtained porous film was evaluated by the following method. That is, 5 μL of a mixed solvent of ethylene carbonate, ethyl methyl carbonate and dimethyl carbonate (volume ratio 1: 1: 1) set at 30 ° C. was dropped on the film surface, and it was visually observed that this completely penetrated. The penetration time was measured and the permeability was evaluated according to the criteria in Table 1.
Table 2 shows the results of evaluating the permeability of the porous film (A-1).

<実施例2>
スペーサの厚みを0.5mmとしたこと以外は、実施例1と同様に多孔質フィルム(A−2)を作成し、評価した結果を表2に示す。
また、このフィルムの断面および表面のSEM像を図1、2に示す。これらの図から、平均孔径が3μm程度の連続気孔が形成されていることが判る。また、表面にも平均孔径が3μm程度の気孔が多数形成されていることが判る。この表面に形成された気孔がこの多孔質フィルム(A−2)の良好な透過性に寄与している。
<Example 2>
A porous film (A-2) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spacer thickness was 0.5 mm.
Moreover, the cross-section of this film and the SEM image of the surface are shown in FIGS. From these figures, it can be seen that continuous pores having an average pore diameter of about 3 μm are formed. It can also be seen that many pores having an average pore diameter of about 3 μm are formed on the surface. The pores formed on the surface contribute to the good permeability of the porous film (A-2).

<実施例3>
フッ素樹脂製多孔質フィルムの平均孔径を0.2μmとしたこと以外は、実施例1と同様に多孔質フィルム(A−3)を作成し、評価した結果を表2に示す。
<Example 3>
A porous film (A-3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the average pore size of the fluororesin porous film was 0.2 μm, and the evaluation results are shown in Table 2.

<実施例4>
ユニチカ株式会社製UイミドワニスIP(ポリアミドイミド溶液)を塗液として準備し、これを30cm角のアルミ板上に塗布後、このアルミ板の4辺に厚み2mm、幅2cmのスペーサを設けた。このスペーサを介して、アルミ板上の塗膜全面を、厚みが30μmで、平均孔径が0.5μmである市販のフッ素樹脂製多孔質フィルムで被覆した。 これを130℃に設定された熱風循環式の乾燥炉に投入して30分加熱後、その後冷却してアルミ板から剥離することにより、厚み30μmで、気孔率が55体積%のポリアミドイミドからなる多孔質フィルム(A−4)を得た。これを、実施例1と同様に評価した結果を表2に示す。
<Example 4>
Unitika Co., Ltd. U imide varnish IP (polyamideimide solution) was prepared as a coating solution, and this was coated on a 30 cm square aluminum plate, and then a spacer having a thickness of 2 mm and a width of 2 cm was provided on four sides of the aluminum plate. Through this spacer, the entire coating film on the aluminum plate was coated with a commercially available fluororesin porous film having a thickness of 30 μm and an average pore diameter of 0.5 μm. This is put into a hot-air circulating drying oven set at 130 ° C., heated for 30 minutes, then cooled and peeled from the aluminum plate, thereby comprising a polyamideimide having a thickness of 30 μm and a porosity of 55% by volume. A porous film (A-4) was obtained. Table 2 shows the results of evaluation in the same manner as in Example 1.

<実施例5>
スペーサの厚みを0.5mmとしたこと以外は、実施例4と同様に多孔質フィルム(A−5)を作成し、評価した結果を表2に示す。
<Example 5>
A porous film (A-5) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 4 except that the thickness of the spacer was 0.5 mm.

<実施例6>
フッ素樹脂製多孔質フィルムの平均孔径を0.2μmとしたこと以外は、実施例4と同様に多孔質フィルム(A−6)を作成し、評価した結果を表2に示す。
<Example 6>
A porous film (A-6) was prepared in the same manner as in Example 4 except that the average pore diameter of the fluororesin porous film was 0.2 μm, and the evaluation results are shown in Table 2.

<比較例1>
スペーサの厚みを50mmとしたこと以外は、実施例1と同様に多孔質フィルム(B−1)を作成し、評価した結果を表2に示す。
<Comparative Example 1>
A porous film (B-1) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the spacer was 50 mm.

<比較例2>
スペーサを用いなかったこと以外は、実施例1と同様に多孔質フィルム(B−2)を作成し、評価した結果を表2に示す。また、このフィルムの表面のSEM像を図3に示すが、表面には、気孔が僅かに認められるが、開孔率としては、低いものであることが判る。
<Comparative Example 2>
A porous film (B-2) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spacer was not used. Moreover, although the SEM image of the surface of this film is shown in FIG. 3, although a pore is recognized slightly on the surface, it turns out that it is a thing with a low porosity.

<比較例3> <Comparative Example 3>

スペーサを用いなかったこと以外は、実施例4と同様に多孔質フィルム(B−3)を作成し、評価した結果を表2に示す。 A porous film (B-3) was prepared in the same manner as in Example 4 except that no spacer was used, and the evaluation results are shown in Table 2.

実施例で示した様に、本発明の製造方法により得られた多孔質イミド系フィルムの溶媒浸透時間は300秒以下と速いものであった。このような良好な透過性は、フィルム表面に形成された多数の気孔が寄与している。この表面の気孔形成は、塗膜表面近傍の溶媒蒸気圧を高めつつ加熱することによる効果であり、溶媒蒸気圧を高めることにより、塗膜表面の貧溶媒濃度が上昇して、表面の気孔形成に寄与する相分離が促進されることに起因するものと考えられる。
これに対し、比較例で示した製造方法により得られた多孔質イミド系フィルムの溶媒浸透時間は、300秒超と遅くなった。これは、フィルム表面の開孔率が低いことに起因している。
As shown in the Examples, the solvent infiltration time of the porous imide film obtained by the production method of the present invention was as fast as 300 seconds or less. Such good permeability is contributed by a large number of pores formed on the film surface. This surface pore formation is the effect of heating while increasing the solvent vapor pressure in the vicinity of the coating film surface. By increasing the solvent vapor pressure, the poor solvent concentration on the coating film surface increases and surface pore formation This is thought to be due to the promotion of phase separation that contributes to the above.
On the other hand, the solvent permeation time of the porous imide film obtained by the production method shown in the comparative example was delayed to over 300 seconds. This is due to the low hole area on the film surface.

乾式多孔化プロセスに基づく、本発明の製造法で容易に得られるイミド系多孔質フィルムは、透過性が良好であるので、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ、分離膜等において好適に使用することができる。 The imide-based porous film that is easily obtained by the production method of the present invention based on the dry porosification process has good permeability and should be suitably used in lithium secondary battery separators, filters, separation membranes, and the like. Can do.

1 基材
2 塗液
3 被覆材
4 スペーサ
1 Base material 2 Coating liquid 3 Coating material 4 Spacer

Claims (3)

溶媒として良溶媒と貧溶媒とを含有するイミド系高分子溶液を、基材上に塗布して塗膜を形成し、これを乾燥炉中で乾燥することによって、イミド系多孔質フィルムを製造する方法であって、乾燥の際、下記1)〜3)いずれかの方法で、塗膜表面から蒸発する溶媒を乾燥炉内の空間部に籠らせ、加熱することを特徴とするイミド系多孔質フィルムの製造方法。
)乾燥炉から排気された溶媒を循環する。
)塗膜面の端部にスペーサを設けた上で、このスペーサを介して溶媒蒸気透過性の被覆材を積層して加熱する。
)塗膜面に溶媒蒸気透過性の被覆材を直接積層する。
An imide-based porous film is produced by applying a imide polymer solution containing a good solvent and a poor solvent as a solvent on a substrate to form a coating film and drying it in a drying furnace. An imide-based porous material characterized in that, during drying, the solvent evaporating from the surface of the coating film is dispersed in a space in the drying furnace and heated by any one of the following methods 1) to 3): Quality film manufacturing method.
1 ) Circulate the solvent exhausted from the drying furnace.
2 ) After providing a spacer at the end of the coating film surface, a solvent vapor permeable coating material is laminated and heated through this spacer.
3 ) A solvent vapor permeable coating material is directly laminated on the coating surface.
貧溶媒が、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール、およびトリエチレングリコールからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載のイミド系多孔質フィルムの製造方法。 The imide-based porous film according to claim 1 , wherein the poor solvent is at least one selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol, and triethylene glycol . Production method. 溶媒として良溶媒と、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール、およびトリエチレングリコールからなる群より選ばれる少なくとも1種である貧溶媒とを含有するイミド系高分子溶液を、基材上に塗布して塗膜を形成し、これを乾燥炉中で乾燥炉内の雰囲気における塗膜表面近傍の溶媒蒸気圧を高めつつ加熱乾燥することにより得られるイミド系多孔質フィルムであって、その表面に、30℃に設定された、エチレンカーボネート、エチルメチルカーボネートおよびジメチルカーボネートの混合溶媒(体積比1:1:1)5μLを滴下し、これが完全に浸透するまでの時間が150秒以下であるイミド系多孔質フィルムの、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタまたは分離膜への使用。 An imide polymer solution containing a good solvent as a solvent and a poor solvent that is at least one selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol, and triethylene glycol , It is an imide-based porous film obtained by coating on a material to form a coating film, and heating and drying this while increasing the solvent vapor pressure in the vicinity of the coating film surface in the atmosphere in the drying furnace. Then, 5 μL of a mixed solvent of ethylene carbonate, ethyl methyl carbonate and dimethyl carbonate (volume ratio 1: 1: 1) set at 30 ° C. is dropped on the surface, and the time until this completely penetrates is 150 seconds or less. Of the imide-based porous film Um secondary battery separator, use of the filter or separator membranes.
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