JP6376850B2 - 表面処理剤 - Google Patents
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Description
しかし、撥水化処理を施した粉体は、化粧もちは向上するが、洗浄時に水で洗い落としにくくなるため、専用のクレンジング剤を使用したり、何度も洗浄を繰り返さなければ、洗い落とすことができない。
粉体を親水化処理すれば、洗い流し性は向上するが、親水性の粉体は化粧もちが悪化するため、頻繁に化粧直しをしなければならない。すなわち、疎水性が要求される化粧もちと、親水性が要求される洗い流し性とを両立させることは困難である。
特許文献1には、シリコーンからなる表面処理剤、特許文献2には、アクリル酸類および/またはそのエステルのコポリマーからなる表面処理剤、特許文献3には、アルキルフッ素変性シリコーン油からなる表面処理剤が記載されている。また、特許文献4には、メタクリルアミドウンデカン酸とアクリルアミドメチルスルホン酸ナトリウムからなる耐水性と洗い流し易さを両立させる表面処理剤が記載されている。
1.下記一般式(1)で表される第1のブロック共重合体を含有する表面処理剤。
2.前記第1のブロック共重合体の、R1、R2が炭素数1〜4のアルキル基、またはフェニル基であることを特徴とする、1.に記載の表面処理剤。
3.前記第1のブロック共重合体の、R1、R2がともにメチル基であることを特徴とする、2.に記載の表面処理剤。
4.下記一般式(2)で表される第2のブロック共重合体を含有する表面処理剤。
5.前記第2のブロック共重合体の、R3、R4が水素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜4のエーテル基であることを特徴とする、4.に記載の表面処理剤。
6.前記第2のブロック共重合体の、R3、R4がともに水素であることを特徴とする、5.に記載の表面処理剤。
7.4.〜6.のいずれかに記載の第2のブロック共重合体を含有することを特徴とする、1.〜3.のいずれかに記載の表面処理剤。
8.前記第1のブロック共重合体と前記第2のブロック共重合体との重量比が80:20〜20:80であることを特徴とする、7.に記載の表面処理剤。
一般に、異なる種類の高分子は相溶しないため、混合すると分離するが、ブロック共重合体は、異なる種類の高分子鎖が共有結合により繋がれているため、マクロスケールで分離することができない。そのため、ブロック共重合体は、異なる繰り返し単位を有するセグメント同士ができる限り離れようとして、分子鎖の大きさ程度で分離するミクロ相分離を起こす。
ブロック共重合体は、高分子鎖が流動性を有するガラス転移温度以上では、外部環境に応じて、より表面エネルギーが低くなるように一方のセグメントが表面へと移行する。すなわち、周囲の環境に応じてセグメントの再配向が生じ、一方のセグメントが表面に偏在する表面偏析を起こす。ブロック共重合体の表面偏析は、X線光電子分光法、エネルギー分散型X線分析法、フーリエ変換赤外分光計−減衰全反射法や、透過型電子顕微鏡等で観察できる。
ここで、本発明のブロック共重合体を形成するセグメントは、親水性と疎水性である必要はなく、相対的に親水性の程度に差があればよい。すなわち、疎水性セグメントと疎水性セグメントからなるブロック共重合であってもよい。
本発明において使用する第1のブロック共重合体は、下記一般式(1)で表される。
Xは、隣接しない炭素が酸素に置換されてエーテルを形成してもよい、炭素数1〜18のアルキル鎖を表す。アルキル鎖が長いと結晶性が高まり、分子鎖の運動性が低下するため、炭素数は1〜12であることがより好ましく、1〜8であることがさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、2−プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、オクチル基等が挙げられる。
Z1は水素、又はメチル基を表す。
PTMCセグメント2は、ポリトリメチレンカーボネート薄膜の純水接触角が約68度であるように、疎水性である。しかし、ポリジメチルシロキサン薄膜の純水接触角は100〜110度であるから、Qセグメント1と比較すると、PTMCセグメント2はより親水的である。第1のブロック共重合体からなる薄膜は、乾燥環境下では、より疎水的であるQセグメント1が表面に偏在している。この薄膜が水と接触等して湿潤環境下になると、水との界面での表面エネルギーを下げるために、Qセグメント1が薄膜内部に潜り込み、薄膜表面でのPTMCセグメント2の比率が高まるため、親水性が高まる。すなわち、第1のブロック共重合体からなる薄膜は、環境応答性を示し、乾燥環境下では疎水性であるが、湿潤環境下では疎水性が弱まり親水的になる。なお、この応答は可逆性であり、繰り返し応答させることができる。
溶媒をゆっくりと揮発させると、Qセグメントが空気界面に、PTMCセグメントが膜内部に、それぞれ高密度に配向する。PTMCセグメントが膜内部に緻密に配向すると、Qセグメントが膜内部に潜り込みにくくなるため、水と接触させた際の接触角の低下は緩やかとなり、また、その最終的な接触角もポリトリメチレンカーボネートの接触角である68度と比べて大きくなる。
溶媒が揮発する時間が短いと、PTMCセグメントが高密度に配向する前に溶媒が揮発するため、膜内部の構造が疎となる。膜構造が疎らなため、Qセグメントが膜内部に容易に潜り込め、水に接触させた際に接触角が速やかに低下し、また、最終的な接触角も68度に近くなる。
本発明において使用する第2のブロック共重合体は、下記一般式(2)で表される。
第2のブロック共重合体からなる薄膜は、乾燥環境下では疎水性であるD−PTMCセグメント4が表面偏析しており、滴下直後の接触角は65〜68度であるが、この薄膜が水と接触等して湿潤環境下になると、親水性であるPEGセグメント3が表面偏析するため、滴下20秒後の接触角は30〜40度まで低下する。なお、第1のブロック共重合体と同じくこの応答は可逆性であり、繰り返し応答させることができる。
乾燥環境下と湿潤環境下での接触角が変化する幅をより大きく、すなわち、乾燥時にはより疎水性、湿潤時にはより親水性とするためには、第1のブロック共重合体と第2のブロック共重合体とを混合すればよい。両者を混合することにより、乾燥環境下ではより疎水性、湿潤環境下ではより親水性とすることができ、最適な表面処理が可能となる。
「合成例1」
一方の末端にブチル基、他の末端に−C3H6OC2H4OH基を有する、数平均分子量5,000のポリジメチルシロキサン(JNC株式会社製、商品名:サイラプレーンFM0421、以下、PDMSという。)の水酸基1当量に対して、TMCを50当量(モル比)となるようにジクロロメタンに溶解させて、10wt/v%の溶液を得た。PDMSに対して、塩基性触媒である1,8−ジアザビシクロウンデセン(DBU)を2当量(モル比)となるように加え、窒素雰囲気下にて室温で72時間反応させた後、安息香酸を添加して、反応を停止した。反応停止後に、メタノール、2−プロパノール、ヘキサン(10:1:10(体積比))からなる混合溶媒に再沈殿させて回収し、50℃で減圧乾燥させて、ブロック共重合体1を得た。
PDMSの末端水酸基1当量に対して、TMCを100当量(モル比)となるようにした以外は合成例1と同様にしてブロック共重合体2を得た。
「合成例3」
PDMSの末端水酸基1当量に対して、TMCを300当量(モル比)となるようにした以外は合成例1と同様にしてブロック共重合体3を得た。
「合成例4」
片末端がメトキシ基で保護されている数平均分子量5000のポリエチレングリコールモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ ジャパン株式会社製、商品名:Poly(ethylene glycol) methyl ether、以下、mPEGという。)の末端水酸基1当量に対して、TMCを150当量(モル比)となるようにジクロロメタンに溶解させて、10wt/v%の溶液を得た。mPEG1当量に対して、塩基性触媒であるDBUを3当量(モル比)となるように加え、窒素雰囲気下にて室温で72時間反応させた後、安息香酸を添加して、反応を停止した。反応停止後に、ヘキサンと2−プロパノール(7:3(体積比))からなる混合溶媒に再沈殿させて回収し、50℃で減圧乾燥させて、ブロック共重合体4を得た。
1.1H−NMR測定
得られたブロック共重合体の重合度は1H−NMRにより解析した。一例として、ブロック共重合体1の1H−NMRのスペクトルを図4に示す。
ポリジメチルシロキサンに帰属されるシグナル(0.3ppm付近)とポリトリメチレンカーボネートに帰属されるシグナル(2.1ppm、4.2ppm付近)との積分強度比から第1のブロック共重合体のトリメチレンカーボネートの重合度を算出した。
同様にして、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルに帰属されるシグナル(3.6ppm付近)と、ポリトリメチレンカーボネートに帰属されるシグナルとの積分強度比からブロック共重合体4のトリメチレンカーボネートの重合度を算出した。
ブロック共重合体を、テトラヒドロフランに溶解させて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定を行った。GPCは、高速液体クロマトグラフ(GPCカラム KF−804(昭和電工株式会社製)、溶離液:テトラヒドロフラン)を用いて行い、そのクロマトグラフィーの結果から、ポリスチレンを標準物質として算出することにより、ポリスチレン換算として求めた。
各ブロック共重合体の分析結果を表1に示す。
ポリエチレンテレフタレートからなる、直径14mmの円盤状シートを、ブロック共重合体1の0.5wt/v%ジクロロメタン溶液に浸し、ゆっくりと垂直に引き上げてディップコーティングした。溶媒雰囲気下、隙間を開けてフラットシャーレのフタを被せて徐々に溶媒を揮発させた後、真空乾燥を行い完全に溶媒を留去して表面処理膜1を作製した。ジクロロメタン溶液から完全に引き上げてから、溶媒が揮発するまでの時間は30秒であった。
ブロック共重合体2〜4をそれぞれ使用した以外は実施例1と同様にして、表面処理膜2〜4を作製した。
表面処理膜の接触角変化を、接触角計(協和界面科学株式会社製、装置名:Drop Master 700)を用い、25℃、55%RHの条件下、純水7μLを滴下して、θ/2法により測定した。測定は10回行い、その相加平均値を求めた。
表面処理膜1〜3は、乾燥環境下である初期の接触角は、93度から97度であり疎水性を示していた。接触角の測定を60秒間継続したところ、表面処理膜1は10秒程度で接触角が85度まで低下したものの、その後はほとんど親水化が見られなかった。一方、PTMCセグメントの鎖長が長いブロック共重合体からなる表面処理膜2、3では、60秒間連続して接触角が低下し、最終的には69度程度となった。ポリトリメチレンカーボネートホモポリマーの接触角が68度程度であるため、この挙動は第1のブロック共重合体のうち、Qセグメントが膜内部にもぐり込んでいることに由来する。このような自発的なポリマー鎖の偏析は、第1のブロック共重合体を構成しているQセグメントおよびPTMCセグメントのガラス転移温度が室温より低いため、外部環境の変化に応答して各セグメントが自由に運動できるためであると推測される。すなわち、水と接触し続けるような湿潤下では、固液界面の表面自由エネルギーを低下させるために、乾燥環境下で表面偏析していたQセグメントが薄膜内部に潜り込み、PTMCセグメントが表面偏析したため、接触角が徐々に低下したと考えられる。
溶媒を揮発させる際に、シャーレのフタを被せる際の隙間を狭めた以外は、実施例2と同様にして表面処理膜5を得た。ジクロロメタン溶液から完全に引き上げてから、溶媒が揮発するまでの時間は210秒であった。
「実施例6」
溶媒をアセトンとし、溶媒を揮発させる際にシャーレのフタを被せる際の隙間を狭めた以外は、実施例5と同様にして表面処理膜6を得た。アセトン溶液から完全に引き上げてから、溶媒が揮発するまでの時間は210秒であった。
表面処理膜5、6の接触角変化を、接触角計(協和界面科学株式会社製、装置名:Drop Master 700)を用い、25℃、55%RHの環境下、純水7μLを滴下して、θ/2法により測定した。測定は10回行い、その相加平均値を求めた。
実施例2と5は、初期の接触角が93度程度とほぼ同じであったにもかかわらず、60秒経過後の接触角は、それぞれ68度、76度であった。溶媒の揮発時間の短い実施例2の方がより親水化し、ポリトリメチレンカーボネートの接触角である68度となった。このような親水化の違いは、溶媒揮発時にQセグメントが表面偏析する程度が異なっていることが原因であると考えられる。溶媒が揮発するのにかかる時間が長いとQセグメント、PTMCセグメントが高密度に配向するため、水との接触後に膜内部にQセグメントがもぐり込みにくくなっていると考えられる。溶媒が揮発するのにかかる時間が短いと、膜内部でPTMCセグメントが高密度に配向する前に溶媒が消失してしまう。このため、水と接触後に膜内部にQセグメントがもぐり込みやすく、結果として60秒間で68度まで親水化したと推察できる。
第1のブロック共重合体であるブロック共重合体2と、第2のブロック共重合体であるブロック共重合体4とを、50:50の重量比で混合した混合物を用いた以外は実施例1と同様にして、表面処理膜7を作製した。溶媒が揮発するまでの時間は210秒であった。
ブロック共重合体2とブロック共重合体4との重量比を、33:67とした以外は実施例5と同様にして、表面処理膜8を作製した。
「実施例9」
ブロック共重合体2とブロック共重合体4との重量比を、25:75とした以外は実施例5と同様にして、表面処理膜9を作製した。
「実施例10〜12」
溶媒をアセトンとした以外は、それぞれ実施例7〜9と同様にして表面処理膜10〜12を得た。アセトン溶液から完全に引き上げてから、溶媒が揮発するまでの時間は210秒であった。
表面処理膜の接触角変化を、接触角計(協和界面科学株式会社製、装置名:Drop Master 700)を用い、25℃、55%RHの環境下、純水7μLを滴下して、θ/2法により測定した。測定は10回行い、その相加平均値を求めた。
表面処理膜7〜12は、初期の接触角は88〜92度程度であり、Qセグメントの表面偏析に由来すると考えられる、乾燥環境下での疎水性を示し、第1のブロック共重合体の重量比が50以下でも、乾燥環境下での疎水性が発揮されることが確認できた。
ジクロロメタンを用いた表面処理膜7〜9の20秒経過後の接触角はそれぞれ70度、66度、66度、アセトンを用いた表面処理膜10〜12の20秒経過後の接触角はそれぞれ、65度、53度、50度であり、第2のブロック共重合体の混合比が増加するほど、湿潤環境下における親水性が向上して、接触角が低下する傾向が確かめられた。すなわち、PEGセグメントを多く含むほど、湿潤環境下での親水性が強く発現した。
2.PTMCセグメント
3.PEGセグメント
4.D−PTMCセグメント
Claims (8)
- 下記一般式(1)で表される第1のブロック共重合体を含有し、
前記第1のブロック共重合体のシリコーンセグメントの数平均分子量が3,000〜20,000、ポリトリメチレンカーボネートセグメントの数平均分子量が5,000〜30,000であることを特徴とする粉体用表面処理剤。
- 前記第1のブロック共重合体の、R1、R2が炭素数1〜4のアルキル基、またはフェニル基であることを特徴とする、請求項1に記載の粉体用表面処理剤。
- 前記第1のブロック共重合体の、R1、R2がともにメチル基であることを特徴とする、請求項2に記載の粉体用表面処理剤。
- 下記一般式(2)で表される第2のブロック共重合体を含有し、
前記第2のブロック共重合体のポリエチレングリコールセグメントの数平均分子量が500〜10,000、ポリトリメチレンカーボネートセグメントの数平均分子量が5,000〜30,000であることを特徴とする粉体用表面処理剤。
- 前記第2のブロック共重合体の、R3、R4が水素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜4のエーテル基であることを特徴とする、請求項4に記載の粉体用表面処理剤。
- 前記第2のブロック共重合体の、R3、R4がともに水素であることを特徴とする、請求項5に記載の粉体用表面処理剤。
- 請求項4〜6のいずれかに記載の第2のブロック共重合体を含有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の粉体用表面処理剤。
- 前記第1のブロック共重合体と前記第2のブロック共重合体との重量比が80:20〜20:80であることを特徴とする、請求項7に記載の粉体用表面処理剤。
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